JP2024069631A - ペタライト及びリチウムシリケート構造を有する高強度ガラスセラミック - Google Patents
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Abstract
【課題】迅速なイオン交換可能性、及び高い破壊靭性を有する、透明又は半透明ガラスセラミック材料を提供する。【解決手段】約55重量%から約80重量%のSiO2;約5重量%から約20重量%のAl2O3;約5重量%から約20重量%のLi2O;約2重量%から約4重量%のP2O5;及び約0.2重量%から約15重量%のZrO2を含む前駆体ガラス。【選択図】図2
Description
本出願は、米国特許法第119条の下で、2014年10月8日出願の米国仮特許出願第62/061385号、及び2015年8月14日出願の米国仮特許出願第62/205120号の優先権の利益を主張するものであり、上記仮特許出願それぞれの内容は信頼できるものであり、またその全体が参照によって本出願に援用される。
実施形態は、ガラス及びガラスセラミック組成物に関し、特にペタライト相とリチウムシリケート相との組み合わせを有する高強度ガラスセラミック組成物に関する。
SiO2‐Li2O‐K2O‐ZnO‐P2O5‐Al2O3‐ZrO2系のリチウムジシリケートガラスセラミックは、歯科用クラウン、ブリッジ及びオーバレイとしての使用のために開発及び販売されている。上記ガラスセラミックの、相互に連結した平板状結晶の微細構造は、高い機械的強度及び破壊靭性、並びに優れた耐化学性を提供する。この分野の組成物は、コーニング社において発明され、Beallらによって特許文献1(「799特許」)として特許取得された。
更に、公知のガラス系材料は、固有の脆性、又は割れの伝播に対する低い耐性を示すことが多い。例えば固有の低い破壊靭性(例えば酸化物ガラス及びガラスセラミックに関して0.5~1.0MPa・m1/2)により、酸化物ガラスは、小さな欠陥及び傷に対する感受性を有する。比較点として、市販の単結晶基材は、約2.4~約4.5MPa・m1/2の破壊靭性値を示す。例えばイオン交換プロセスによる化学的強化は、ガラス又はガラスセラミックに、表面からある深さ(例えば50~100μm)まで、圧縮応力層を付与することにより、上記ガラス又はガラスセラミックの上記表面における割れの貫入に対するある程度の耐性を提供できるが、割れ貫入耐性は限定される場合があり、割れが上記圧縮応力層を通ってガラス又はガラスセラミックの体積内に貫入した後ではもはや有効でなくなる。上記強化は、割れの貫入に対するある程度の耐性を提供するものの、材料の固有の特性(k1c)はイオン交換によって影響を受けない。特に損傷耐性及び破壊靭性に関する、ガラス系材料の機械的特性の改善には、焦点が当てられ続けている。従って、改善された損傷耐性及び破壊靭性を材料に提供することが必要とされている。
イオン交換可能な、βスポジュメン類のリチウム含有アルミノシリケートガラスセラミック物品が公知であり、これらは損傷耐性及び破壊靭性を提供する。しかしながら、βスポジュメン系ガラスセラミックは一般に不透明であり、これにより、上記ガラスセラミックは、ディスプレイ関連用途、又は透明性若しくは半透明性を必要とするその他の用途について制約を有する。従って、迅速なイオン交換可能性、及び高い破壊靭性を有する、透明又は半透明ガラスセラミック材料に対する需要が存在する。
第1の態様は、ペタライト結晶質相及びリチウムシリケート結晶質相を有するガラスセラミック物品を含み、上記ペタライト結晶質相及び上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品中に存在する他の結晶質相よりも高い重量百分率を有する。いくつかの実施形態では、上記ペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~70重量%を構成し、また上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~60重量%を構成する。いくつかの実施形態では、上記ペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の45~70重量%を構成し、また上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~50重量%を構成する。いくつかの実施形態では、上記ペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の40~60重量%を構成し、また上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~50重量%を構成する。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は透明である。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は、400nm~1000nmの波長範囲の光に関して少なくとも85%の透過率を有する。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は、400nm~1000nmの波長範囲の光に関して少なくとも90%の透過率を有する。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は透明である。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は、500nm以下又は100nm以下の最長寸法を有する粒子を含む。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は、重量%で以下を含む組成を有する:
SiO2:55‐80%;
Al2O3:2‐20%;
Li2O:5‐20%;
B2O3:0‐10%;
Na2O:0‐5%;
ZnO:0‐10%;
P2O5:0.5‐6%;及び
ZrO2:0.2‐15%。
SiO2:55‐80%;
Al2O3:2‐20%;
Li2O:5‐20%;
B2O3:0‐10%;
Na2O:0‐5%;
ZnO:0‐10%;
P2O5:0.5‐6%;及び
ZrO2:0.2‐15%。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は、重量%で以下の任意の追加の成分を更に含む組成を有する:
K2O:0‐4%;
MgO:0‐8%;
TiO2:0‐5%;
CeO2:0‐0.4%;及び
SnO2:0.05‐0.5%。
K2O:0‐4%;
MgO:0‐8%;
TiO2:0‐5%;
CeO2:0‐0.4%;及び
SnO2:0.05‐0.5%。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は、重量%で以下を含む組成を有する:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
B2O3:0‐2%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%。
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
B2O3:0‐2%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は、重量%で以下を含む組成を有する:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
Na2O:1‐2%;
K2O:1‐2%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%。
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
Na2O:1‐2%;
K2O:1‐2%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は、重量%で以下を含む組成を有する:
SiO2:65‐80%;
Al2O3:5‐16%;
Li2O:8‐15%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐2%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐6%。
SiO2:65‐80%;
Al2O3:5‐16%;
Li2O:8‐15%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐2%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐6%。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は、重量%で以下を含む組成を有する:
SiO2:60‐80%;
Al2O3:5‐20%;
Li2O:5‐20%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐4%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐8%。
SiO2:60‐80%;
Al2O3:5‐20%;
Li2O:5‐20%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐4%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐8%。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック組成物中のP2O5及びZrO2の重量百分率の合計は、3超である。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は、以下のうちの1つ以上を備える:1MPa・m1/2以上の破壊靭性;約600kgf/mm2(約5884N/mm2)以上のビッカース硬度;又は少なくとも300MPaのリング・オン・リング強度。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック物品は、少なくとも約30μmの層深さ(depth of layer:DOL)を有する、イオン交換によって形成された圧縮応力層を有する。いくつかの実施形態では、上記イオン交換されたガラスセラミック物品は脆性でない。
第2の態様は、ガラスセラミック物品を形成する方法を含み、上記方法は、重量%で以下:
SiO2:55‐80%;
Al2O3:2‐20%;
Li2O:5‐20%;
B2O3:0‐10%;
Na2O:0‐5%;
ZnO:0‐10%;
P2O5:0.5‐6%;及び
ZrO2:0.2‐15%
を含むガラス組成物を形成するステップ;並びに
上記ガラス組成物をセラミック化(ceramming)して、ペタライト結晶質相及びリチウムシリケート結晶質相を含むガラスセラミック物品を形成するステップ
を含み、
上記ペタライト結晶質相及び上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品中に存在する他の結晶質相よりも高い重量百分率を有する。
SiO2:55‐80%;
Al2O3:2‐20%;
Li2O:5‐20%;
B2O3:0‐10%;
Na2O:0‐5%;
ZnO:0‐10%;
P2O5:0.5‐6%;及び
ZrO2:0.2‐15%
を含むガラス組成物を形成するステップ;並びに
上記ガラス組成物をセラミック化(ceramming)して、ペタライト結晶質相及びリチウムシリケート結晶質相を含むガラスセラミック物品を形成するステップ
を含み、
上記ペタライト結晶質相及び上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品中に存在する他の結晶質相よりも高い重量百分率を有する。
いくつかの実施形態では、上記方法は、重量百分率で以下を更に含むガラス組成物を形成するステップを含む:
K2O:0‐4%;
MgO:0‐8%;
TiO2:0‐5%;
CeO2:0‐0.4%;及び
SnO2:0.05‐0.5%。
K2O:0‐4%;
MgO:0‐8%;
TiO2:0‐5%;
CeO2:0‐0.4%;及び
SnO2:0.05‐0.5%。
いくつかの実施形態では、上記方法は、重量百分率で以下を更に含むガラス組成物を形成するステップを含む:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
B2O3:0‐2%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%。
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
B2O3:0‐2%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%。
いくつかの実施形態では、上記方法は、重量百分率で以下を更に含むガラス組成物を形成するステップを含む:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
Na2O:1‐2%;
K2O:1‐2%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%。
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
Na2O:1‐2%;
K2O:1‐2%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%。
いくつかの実施形態では、上記方法は、重量百分率で以下を更に含むガラス組成物を形成するステップを含む:
SiO2:65‐80%;
Al2O3:5‐16%;
Li2O:8‐15%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐2%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐6%。
SiO2:65‐80%;
Al2O3:5‐16%;
Li2O:8‐15%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐2%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐6%。
いくつかの実施形態では、上記方法は、重量百分率で以下を更に含むガラス組成物を形成するステップを含む:
SiO2:60‐80%;
Al2O3:5‐20%;
Li2O:5‐20%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐4%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐8%。
SiO2:60‐80%;
Al2O3:5‐20%;
Li2O:5‐20%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐4%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐8%。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック組成物中のP2O5及びZrO2の重量百分率の合計は、3超である。
いくつかの実施形態では、上記方法は、上記ガラスセラミック物品をイオン交換して、少なくとも30μmの層深さを有する圧縮応力層を生成するステップを更に含む。いくつかの実施形態では、上記イオン交換されたガラスセラミック物品は脆性でない。
いくつかの実施形態では、上記セラミック化するステップは、以下の連続するステップ:上記ガラス組成物をガラス予備核形成温度まで加熱するステップ;上記ガラス予備核形成温度を所定の期間に亘って維持するステップ;上記組成物を核形成温度まで加熱するステップ;上記核形成温度を所定の期間に亘って維持するステップ;上記組成物を結晶化温度まで加熱するステップ;及び上記結晶化温度を所定の期間に亘って維持するステップを含む。
いくつかの実施形態では、上記セラミック化するステップは、以下の連続するステップ:上記組成物を核形成温度まで加熱するステップ;上記核形成温度を所定の期間に亘って維持するステップ;上記組成物を結晶化温度まで加熱するステップ;及び上記結晶化温度を所定の期間に亘って維持するステップを含む。
いくつかの実施形態では、上記方法は、ガラスセラミック物品を形成し、ここでペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~70重量%を構成し、またリチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~60重量%を構成する。
本発明の他の特徴及び利点は、添付の図面を参照して以下の詳細な説明を読むことにより明らかになるであろう。
以下の詳細な説明では、本明細書に記載の実施形態の完全な理解を提供するために、多数の具体的詳細が記載され得る。しかしながら、これらの具体的詳細の一部又は全てを用いずに実施形態を実践してよいことは、当業者には明らかであろう。他の例では、公知の特徴又はプロセスについては、本開示を不必要に不明瞭にしないために、詳細には説明しない場合がある。更に、共通の又は同様の要素を識別するために、同様の又は同一の参照番号を使用する場合がある。更に、そうでないことが定義されていない限り、本明細書において使用される全ての技術的及び化学的用語は、本開示が属する分野における当業者が一般的に理解するものと同一の意味を有する。意味の衝突が生じる場合は、その定義を含む本明細書がそれを支配することになる。
実施形態の実践又は試験においてその他の方法及び材料も使用できるものの、本明細書では特定の好適な方法及び材料について説明する。
開示されるのは、本開示の方法及び組成物と共に使用できる、本開示の方法及び組成物の準備に使用できる、又は本開示の方法及び組成物の実施形態である、材料、化合物、組成物及び成分である。これらの及びその他の材料が本明細書において開示され、これらの材料の組み合わせ、サブセット、相互作用、グループ等が開示されている場合、これらの化合物の様々な個別の及び集合的な組み合わせ並びに順列それぞれが明示的に言及されない場合があるものの、これらそれぞれが本明細書において具体的に考慮され、説明されることを理解されたい。
従って、置換基A、B及びCが、置換基のクラスD、E及びFと共に開示され、組み合わせ実施形態の例A‐Dが開示されている場合、それぞれが個別に及び集合的に考慮される。従ってこの例では、A、B及び/又はC;D、E及び/又はF;並びに例示的な組み合わせA‐Dの開示から、組み合わせA‐E、A‐F、B‐D、B‐E、B‐F、C‐D、C‐E及びC‐Fが具体的に考慮され、開示されているものと見做されるものとする。同様に、これらのいずれのサブセット又は組み合わせも具体的に考慮され、開示される。従って例えば、A、B及び/又はC;D、E及び/又はF;並びに例示的な組み合わせA‐Dの開示から、サブグループA‐E、B‐F及びC‐Eも具体的に考慮され、開示されているものと見做されるものとする。この概念は、上記組成物のいずれの成分、並びに本開示の組成物を作製及び使用する方法のステップを含むがこれらに限定されない、本開示の全ての態様に適用される。より具体的には、本明細書において挙げられる例示的な組成範囲は、本明細書の一部であると見做され、また更に、例示的な数的範囲の端点を、それらが本文に具体的に含まれることとあらゆる点で同等なものとして提供するものと見做され、全ての組み合わせが具体的に考慮され、開示される。更に、実施可能な多様な追加のステップが存在する場合、これら追加のステップはそれぞれ、本開示の方法のいずれの具体的な実施形態又は実施形態の組み合わせと共に実施できること、及び上記組み合わせのそれぞれが具体的に考慮され、開示されているものと見做されるものとすることを理解されたい。
更に、本明細書において上限値及び下限値を含むある数値の範囲が挙げられている場合、特定の状況下でそうでないことが明記されていない限り、上記範囲はその端点、並びに上記範囲内の全ての整数及び分数を含むことを意図したものである。ある範囲が定義されている場合、本開示の範囲を、挙げられている具体的な値に限定することは意図されていない。更に、量、濃度又は他の値若しくはパラメータが、範囲、1つ以上の好ましい範囲、又は好ましい上限値及び好ましい下限値のリストとして与えられている場合、これは、いずれの範囲上限又は好ましい値といずれの範囲下限又は好ましい値とのいずれのペアから形成される全ての範囲を、このようなペアが個々に開示されているかどうかにかかわらず、具体的に開示するものとして理解されたい。最後に、値又は範囲の端点を記載する際に用語「約(about)」が使用されている場合、本開示は、言及されている上記具体的な値又は端点を含むものとして理解されるものとする。
本明細書において使用される場合、用語「約(about)」は、量、サイズ、処方、パラメータ、並びに他の量及び特徴が正確ではなく、かつ正確である必要がないものの、許容誤差、換算係数、丸め、測定誤差等、及び当業者に公知のその他の因子を反映して、おおよそのもの、及び/又は必要に応じて大きい若しくは小さいものであってよいことを意味している。一般に、量、サイズ、処方、パラメータ、又は他の量若しくは特徴は、そのように明記されているかいないかにかかわらず、「約」又は「おおよそ(approximate)」のものである。
本明細書において使用される場合、用語「又は(or)」は、包含的なものであり;より具体的には、句「A又はB」は、「A、B又はA及びBの両方」を意味する。排他的な「又は」は、本明細書では例えば用語「A又はBのいずれか(either A or B)」及び「A又はBのうちの一方(one of A or B)」によって示される。
不定冠詞「a」及び「an」は、本開示の要素及び成分を説明するために使用される。これらの冠詞の使用は、1つ又は少なくとも1つのこれらの要素又は成分が存在することを意味している。これらの冠詞は従来、修飾されている名詞が単数名詞であることを意味するために使用されているが、本明細書において使用される場合、冠詞「a」及び「an」は、具体例においてそうでないことが明記されていない限り、複数も含む。同様に、本明細書において使用される場合、定冠詞「the」もまた、ここでも具体例においてそうでないことが明記されていない限り、修飾されている名詞が単数又は複数であり得ることを意味する。
実施形態を説明する目的で、本明細書における、ある変数があるパラメータ又は別の変数の「関数(function)」であるという言及は、上記変数が挙げられているパラメータ又は変数ののみの関数であることを示すことを意図したものではないことに留意されたい。寧ろ、挙げられているパラメータの「関数」である変数に関する言及は、非制限的なものであることを意図しており、従って上記変数は、単一のパラメータ又は複数のパラメータの関数であり得る。
本明細書において使用される場合、「好ましくは(preferably)」、「一般的に(commonly)」及び「典型的には(typically)」等の用語は、本開示の範囲を限定するために、又は本開示の構造若しくは機能にとって特定の特徴が決定的である、必須である、若しくは更に重要であることを暗示するために、使用されるのではないことに留意されたい。寧ろこれらの用語は単に、本開示のある実施形態の特定の態様を識別すること、又は本開示のある特定の実施形態において使用してもしなくてもよい代替的な若しくは追加の特徴を強調することを意図したものである。
請求項のうちの1つ以上は、用語「ここで(wherein)」を、移行句として使用し得る。本開示を定義する目的のために、この用語は、構造の一連の特徴の列挙を導入するために使用される、非限定的な移行句として、請求項に導入されるものであり、より一般的に使用される非限定的な前提部分用語「…を含む/備える(comprising)」と同様の様式で解釈するべきものであることに留意されたい。
本開示のガラス又はガラスセラミック組成物を製造するために使用される原材料及び/又は設備に起因するものとして、故意に添加されたものではない特定の不純物又は成分が、最終的なガラス又はガラスセラミック組成物中に存在し得る。このような材料は、上記ガラス又はガラスセラミック組成物中に微量存在し、本明細書中では「混入物(tramp material)」と呼ぶ。
本明細書において使用される場合、ある化合物を0重量%有するガラス又はガラスセラミック組成物は、上記化合物、分子又は元素は上記組成物に意図的に添加されなかったものの、それでもなお上記組成物が上記化合物を、典型的には微量又は僅かな量で含み得ることを意味するものとして定義される。同様に、「鉄非含有(iron‐free)」、「ナトリウム非含有(sodium‐free)」、「リチウム非含有(lithium‐free)」、「ジルコニウム非含有(zirconium‐free)」、「アルカリ土類金属非含有(alkali earth metal‐free)」、又は「重金属非含有(heavy metal‐free)」等は、上記化合物、分子又は元素は上記組成物に意図的に添加されなかったものの、それでもなお上記組成物が鉄、ナトリウム、リチウム、ジルコニウム、アルカリ土類金属又は重金属等を、ただしおおよそ微量又は僅かな量で、含み得ることを意味するものとして定義される。
そうでないことが明記されていない限り、本明細書に記載される全ての成分の濃度は、重量パーセント(重量%)で表される。
ガラス及びガラスセラミック
上述のように、ペタライト及びリチウムシリケートを一次結晶相として有する、透明又は半透明リチウム含有アルミノシリケートガラスセラミック組成物を得ることが望ましい。上記リチウムシリケート結晶相は、リチウムジシリケート又はリチウムメタシリケートであってよい。本明細書に開示されている上記ガラス及びガラスセラミック組成物の改善された特性としては、以下が挙げられる:1)上記ガラスは低融点(1500℃未満)を保持しながら、比較的高い液相粘度(>2000ポアズ)、並びに従来の圧延、成形及びフロートプロセスに適合可能な幅広い加工範囲を提供する;2)リチウムシリケートは主要な結晶相として保持され、これは上記ガラスセラミックに、固有の高い機械的強度及び破壊靭性をもたらす;並びに3)ペタライトは、第2の主要な結晶相であり、ガラスセラミックの透明性又は半透明性に寄与する微細な粒径を有し、また、更なる機械的強度のためにイオン交換できる。更に上記材料は、ある形状へと最小の変形でセラミック化でき、正確な形状へと容易に機械加工でき、従来のセラミック機械加工工具を用いて切断、穿孔、面取り、タップ、優れた光沢への研磨が可能であり、更には組成及び熱処理に応じて様々な度合いの半透明性を呈することができる。これらの特性により、上記ガラスセラミックは:カウンタートップ及び他の表面;手持ちタイプ、デスクトップタイプ及び壁設置タイプの消費者向け電子デバイスのカバー;家庭用器具のドア及び外装;床のタイル;壁のパネル;天井のパネル;ホワイトボード;飲料ボトル等の材料貯蔵コンテナ(ホローウェア類);食料販売及び貯蔵容器;軽量性、良好な耐摩耗性及び正確な寸法を必要とする機械部品といった、幅広い多数の用途に使用できる。上記ガラスセラミックは、その比較的低い粘度により、様々な方法を用いて3次元物品に形成できる。
上述のように、ペタライト及びリチウムシリケートを一次結晶相として有する、透明又は半透明リチウム含有アルミノシリケートガラスセラミック組成物を得ることが望ましい。上記リチウムシリケート結晶相は、リチウムジシリケート又はリチウムメタシリケートであってよい。本明細書に開示されている上記ガラス及びガラスセラミック組成物の改善された特性としては、以下が挙げられる:1)上記ガラスは低融点(1500℃未満)を保持しながら、比較的高い液相粘度(>2000ポアズ)、並びに従来の圧延、成形及びフロートプロセスに適合可能な幅広い加工範囲を提供する;2)リチウムシリケートは主要な結晶相として保持され、これは上記ガラスセラミックに、固有の高い機械的強度及び破壊靭性をもたらす;並びに3)ペタライトは、第2の主要な結晶相であり、ガラスセラミックの透明性又は半透明性に寄与する微細な粒径を有し、また、更なる機械的強度のためにイオン交換できる。更に上記材料は、ある形状へと最小の変形でセラミック化でき、正確な形状へと容易に機械加工でき、従来のセラミック機械加工工具を用いて切断、穿孔、面取り、タップ、優れた光沢への研磨が可能であり、更には組成及び熱処理に応じて様々な度合いの半透明性を呈することができる。これらの特性により、上記ガラスセラミックは:カウンタートップ及び他の表面;手持ちタイプ、デスクトップタイプ及び壁設置タイプの消費者向け電子デバイスのカバー;家庭用器具のドア及び外装;床のタイル;壁のパネル;天井のパネル;ホワイトボード;飲料ボトル等の材料貯蔵コンテナ(ホローウェア類);食料販売及び貯蔵容器;軽量性、良好な耐摩耗性及び正確な寸法を必要とする機械部品といった、幅広い多数の用途に使用できる。上記ガラスセラミックは、その比較的低い粘度により、様々な方法を用いて3次元物品に形成できる。
ペタライト、即ちLiAlSi4O10は、Li及びAlの四面体で連結された、折り畳まれたSi2O5層を有する層状構造の三次元骨格構造を有する、単斜晶である。無機物ペタライトはリチウム源であり、ガラスセラミック又はセラミック部品の熱衝撃耐性を改善するために、低熱膨張相として使用される。更に、ペタライト相をベースとするガラスセラミック物品は、塩浴中で化学的に強化でき、その間にNa+(及び/又はK+)がペタライト構造中のLi+を置換し、これが表面の圧縮及び強化を引き起こす。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック組成物中の上記ペタライト結晶質相の重量百分率は、約20~約70重量%、約20~約65重量%、約20~約60重量%、約20~約55重量%、約20~約50重量%、約20~約45重量%、約20~約40重量%、約20~約35重量%、約20~約30重量%、約20~約25重量%、約25~約70重量%、約25~約65重量%、約25~約60重量%、約25~約55重量%、約25~約50重量%、約25~約45重量%、約25~約40重量%、約25~約35重量%、約25~約30重量%、約30~約70重量%、約30~約65重量%、約30~約60重量%、約30~約55重量%、約30~約50重量%、約30~約45重量%、約30~約40重量%、約30~約35重量%、約35~約70重量%、約35~約65重量%、約35~約60重量%、約35~約55重量%、約35~約50重量%、約35~約45重量%、約35~約40重量%、約40~約70重量%、約40~約65重量%、約40~約60重量%、約40~約55重量%、約40~約50重量%、約40~約45重量%、約45~約70重量%、約45~約65重量%、約45~約60重量%、約45~約55重量%、約45~約50重量%、約50~約70重量%、約50~約65重量%、約50~約60重量%、約50~約55重量%、約55~約70重量%、約55~約65重量%、約55~約60重量%、約60~約70重量%、約60~約65重量%、又は約65~約70重量%の範囲内とすることができる。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミックは、約20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32、33、34、35、36、37、38、39、40、41、42、43、44、45、46、47、48、49、50、51、52、53、54、55、56、57、58、59、60、61、62、63、64、65、66、67、68、69、又は70重量%のペタライト結晶質相を有する。
上述のように、上記リチウムシリケート結晶質相は、リチウムジシリケート又はリチウムメタシリケートであってよい。リチウムジシリケート、即ちLi2Si2O5は、{Si2O5}四面体アレイの波状シートをベースとする斜方晶である。上記結晶は、典型的には板状又はラス状の形状であり、顕著なへき開面を有する。リチウムジシリケートをベースとするガラスセラミックは、そのランダムに配向された相互に連結した結晶の微小構造‐即ちこれらの結晶の周囲の曲がりくねった経路を介して材料に割れを伝播させる結晶構造により、高い本体強度及び破壊靭性を含む極めて望ましい機械的特性を提供する。リチウムメタシリケート、即ちLi2SiO3は、斜方晶対称性を有し、(Si2O6)鎖がc軸に平行に走行し、かつリチウムイオンによって一体に連結されている。リチウムメタシリケート結晶は、ガラスセラミックから希釈されたフッ化水素酸中に容易に溶解できる。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック組成物中の上記リチウムシリケート結晶質相の重量百分率は、約20~約60重量%、約20~約55重量%、約20~約50重量%、約20~約45重量%、約20~約40重量%、約20~約35重量%、約20~約30重量%、約20~約25重量%、約25~約60重量%、約25~約55重量%、約25~約50重量%、約25~約45重量%、約25~約40重量%、約25~約35重量%、約25~約30重量%、約30~約60重量%、約30~約55重量%、約30~約50重量%、約30~約45重量%、約30~約40重量%、約30~約35重量%、約35~約60重量%、約35~約55重量%、約35~約50重量%、約35~約45重量%、約35~約40重量%、約40~約60重量%、約40~約55重量%、約40~約50重量%、約40~約45重量%、約45~約60重量%、約45~約55重量%、約45~約50重量%、約50~約60重量%、約50~約55重量%、又は約55~約60重量%の範囲内とすることができる。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミックは、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32、33、34、35、36、37、38、39、40、41、42、43、44、45、46、47、48、49、50、51、52、53、54、55、56、57、58、59、又は60重量%のリチウムシリケート結晶質相を有する。
リチウムジシリケートガラスセラミックの、2つの広範なファミリーが存在する。第1のグループは、セリア、及び銀等の貴金属でドープされたものを含む。これらはUV光による光感受性の核形成が可能であり、またその後の熱処理によって、Fotoceram(登録商標)のような強靭なガラスセラミックを製造できる。リチウムジシリケートガラスセラミックの第2のファミリーは、P2O5の添加によって核形成され、ここで核形成相はLi3PO4である。P2O5‐核形成リチウムジシリケートガラスセラミックは、高温封止材料、コンピュータハードドライブ用ディスク、透明防護服、及び歯科用途といった幅広い用途のために開発されてきた。
本明細書に記載のガラス及びガラスセラミックは、概してリチウム含有アルミノシリケートガラス又はガラスセラミックとして記載される場合が多く、またSiO2、Al2O3及び Li2Oを含む。SiO2、Al2O3及びLi2Oに加えて、本明細書に記載のガラス及びガラスセラミックは、Na2O、K2O、Rb2O又はCs2Oといったアルカリ塩、並びにP2O5及びZrO2、及び以下に記載の多数の他の成分を更に含有してよい。1つ以上の実施形態では、上記主要な結晶質相は、ペタライト及びリチウムシリケートを含むが、βスポジュメンss、β石英ss、リチウムホスフェート、クリストバライト及びルチルも、前駆体ガラスの組成に応じて少量の相として存在してよい。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック組成物は、約5~約30重量%、約5~約25重量%、約5~約20重量%、約5~約15重量%、約5~約10重量%、約10~約30重量%、約10~約25重量%、約10~約20重量%、約10~約15重量%、約15~約30重量%、約15~約25重量%、約15~約20重量%、約20~約30重量%、約20~約25重量%、又は約25~約30重量%の残留ガラス含量を有する。いくつかの実施形態では、残留ガラス含量は5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、又は30重量%とすることができる。
ガラスの形成に関与する酸化物であるSiO2は、ガラス及びガラスセラミックのネットワーク構造を安定させるよう機能できる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約55~約80重量%のSiO2を含む。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は69~約80重量%のSiO2を含む。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約55~約80重量%、約55~約77重量%、約55~約75重量%、約55~約73重量%、60~約80重量%、約60~約77重量%、約60~約75重量%、約60~約73重量%、65~約80重量%、約65~約77重量%、約65~約75重量%、約65~約73重量%、69~約80重量%、約69~約77重量%、約69~約75重量%、約69~約73重量%、約70~約80重量%、約70~約77重量%、約70~約75重量%、約70~約73重量%、約73~約80重量%、約73~約77重量%、約73~約75重量%、約75~約80重量%、約75~約77重量%、又は約77~約80重量%のSiO2を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約55、56、57、58、59、60、61、62、63、64、65、66、67、68、69、70、71、72、73、74、75、76、77、78、79、又は80重量%のSiO2を含む。
粘度及び機械的性能に関して、粘度及び機械的性能はガラス組成に影響される。上記ガラス及びガラスセラミックにおいて、SiO2は、前駆体ガラスのための一次ガラス形成用酸化物として作用し、上記ガラス及びガラスセラミックのネットワーク構造を安定させるよう機能できる。SiO2の濃度は、前駆体ガラスを熱処理してガラスセラミックに変換する際にペタライト結晶相が形成されるよう、十分に高くなくてはならない。純粋なSiO2又は高SiO2ガラスの融点は望ましくないほど高いため、SiO2の量を制限することによって、融点(200ポアズ温度)を制御できる。
Al2O3もまた、ネットワークに安定性をもたらすことができ、また改善された機械的特性及び耐化学性を提供する。しかしながら、Al2O3の量が多過ぎると、リチウムシリケート結晶の割合が、場合によっては相互連結構造を形成できない程度にまで、低下し得る。Al2O3の量を適合させることによって、粘度を制御できる。更に、Al2O3の量が多過ぎると、溶融物の粘度も一般に上昇する。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約2~約20重量%のAl2O3を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約6~約9重量%のAl2O3を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約2~約20%、約2~約18重量%、約2~約15重量%、約2~約12重量%、約2~約10重量%、約2~約9重量%、約2~約8重量%、約2~約5重量%、約5~約20%、約5~約18重量%、約5~約15重量%、約5~約12重量%、約5~約10重量%、約5~約9重量%、約5~約8重量%、約6~約20%、約6~約18重量%、約6~約15重量%、約6~約12重量%、約6~約10重量%、約6~約9重量%、約8~約20%、約8~約18重量%、約8~約15重量%、約8~約12重量%、約8~約10重量%、約10~約20%、約10~約18重量%、約10~約15重量%、約10~約12重量%、約12~約20%、約12~約18重量%、又は約12~約15重量%のAl2O3を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、又は20重量%のAl2O3を含むことができる。
本明細書に記載のガラス及びガラスセラミックにおいて、Li2Oは、ペタライト結晶相及びリチウムシリケート結晶相の両方の形成を支援する。実際には、ペタライト及びリチウムシリケートを優勢な結晶相として得るために、上記組成物中に少なくとも約7重量%のLi2Oを有することが望ましい。更に、一度Li2Oが多くなり過ぎる‐約15重量%‐と、上記組成物は高い流動性を有するようになることが分かった。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミックは、約5重量%~約20重量%のLi2Oを含むことができる。他の実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミックは、約10重量%~約14重量%のLi2Oを含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約5~約20重量%、約5~約18重量%、約5~約16重量%、約5~約14重量%、約5~約12重量%、約5~約10重量%、約5~約8重量%、7~約20重量%、約7~約18重量%、約7~約16重量%、約7~約14重量%、約7~約12重量%、約7~約10重量%、10~約20重量%、約10~約18重量%、約10~約16重量%、約10~約14重量%、約10~約12重量%、12~約20重量%、約12~約18重量%、約12~約16重量%、約12~約14重量%、14~約20重量%、約14~約18重量%、約14~約16重量%、約16~約20重量%、約16~約18重量%、又は約18~約20重量%のLi2Oを含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、又は20重量%のLi2Oを含むことができる。
上述のように、Li2Oは一般に、実施形態のガラスセラミックを形成するために有用であるが、他のアルカリ酸化物は、ガラスセラミック形成を低下させ、上記ガラスセラミック中にアルミノシリケート残留ガラスを形成する傾向を有する。約5重量%超のNa2O若しくはK2O、又はこれらの組み合わせは、望ましくない量の残留ガラスをもたらし、これは、結晶化中の変形、及び機械的特性に関して望ましくない微小構造につながり得ることが分かっている。上記残留ガラスの組成を適合させることによって、結晶化中の粘度を制御でき、変形若しくは望ましくない熱膨張を最小化でき、又は微小構造の特性を制御できる。従って一般に、本明細書に記載の組成物は、少量の非リチウムアルカリ酸化物を有する。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0~約5重量%のR2Oを含むことができ、ここでRは、アルカリカチオンNa及びKのうちの1つ以上である。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約1~約3重量%のR2Oを含むことができ、ここでRは、アルカリカチオンNa及びKのうちの1つ以上である。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、0~約5重量%、0~4重量%、0~3重量%、0~約2重量%、0~約1重量%、>0~約5重量%、>0~約4重量%、>0~約3重量%、>0~約2重量%、>0~約1重量%、約1~約5重量%、約1~約4重量%、約1~約3重量%、約1~約2重量%、約2~約5重量%、約2~約4重量%、約2~約3重量%、約3~約5重量%、約3~約4重量%、又は約4~約5重量%のNa2O若しくはK2O、又はこれらの組み合わせを含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0、>0、1、2、3、4、又は5重量%のR2Oを含むことができる。
上記ガラス及びガラスセラミック組成物は、P2O5を含むことができる。P2O5は、バルク核形成を生成するための核形成材として機能できる。P2O5の濃度が低過ぎる場合、前駆体ガラスは結晶化するものの、それは(低い粘度により)高温において表面から内向きにのみであり、脆弱で場合によっては変形した物体が得られる。しかしながら、P2O5が高過ぎる場合、前駆体ガラス形成中の冷却後の失透は制御が困難になり得る。実施形態は、>0~約6重量%のP2O5を含むことができる。他の実施形態は、約2~約4重量%のP2O5を含むことができる。更に他の実施形態は、約1.5~約2.5重量%のP2O5を含むことができる。実施形態の組成物は、0~約6重量%、0~約5.5重量%、0~約5重量%、0~約4.5重量%、0~約4重量%、0~約3.5重量%、0~約3重量%、0~約2.5重量%、0~約2重量%、0~約1.5重量%、0~約1重量%、>0~約6重量%、>0~約5.5重量%、>0~約5重量%、>0~約4.5重量%、>0~約4重量%、>0~約3.5重量%、>0~約3重量%、>0~約2.5重量%、>0~約2重量%、>0~約1.5重量%、>0~約1重量%、約0.5~約6重量%、約0.5~約5.5重量%、約0.5~約5重量%、約0.5~約4.5重量%、約0.5~約4重量%、約0.5~約3.5重量%、約0.5~約3重量%、約0.5~約2.5重量%、約0.5~約2重量%、約0.5~約1.5重量%、約0.5~約1重量%、約1~約6重量%、約1~約5.5重量%、約1~約5重量%、約1~約4.5重量%、約1~約4重量%、約1~約3.5重量%、約1~約3重量%、約1~約2.5重量%、約1~約2重量%、約1~約1.5重量%、約1.5~約6重量%、約1.5~約5.5重量%、約1.5~約5重量%、約1.5~約4.5重量%、約1.5~約4重量%、約1.5~約3.5重量%、約1.5~約3重量%、約1.5~約2.5重量%、約1.5~約2重量%、約2~約6重量%、約2~約5.5重量%、約2~約5重量%、約2~約4.5重量%、約2~約4重量%、約2~約3.5重量%、約2~約3重量%、約2~約2.5重量%、約2.5~約6重量%、約2.5~約5.5重量%、約2.5~約5重量%、約2.5~約4.5重量%、約2.5~約4重量%、約2.5~約3.5重量%、約2.5~約3重量%、約3~約6重量%、約3~約5.5重量%、約3~約5重量%、約3~約4.5重量%、約3~約4重量%、約3~約3.5重量%、約3.5~約6重量%、約3.5~約5.5重量%、約3.5~約5重量%、約3.5~約4.5重量%、約3.5~約4重量%、約4~約6重量%、約4~約5.5重量%、約4~約5重量%、約4~約4.5重量%、約4.5~約6重量%、約4.5~約5.5重量%、約4.5~約5重量%、約5~約6重量%、約5~約5.5重量%、又は約5.5~約6重量%のP2O5を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0、>0、0.5、1、1.5、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、5.5、又は6重量%のP2O5を含むことができる。
本明細書に記載のガラス及びガラスセラミックにおいて、一般に、ZrO2が、形成中のガラスの失透を有意に低減して液相線温度を低下させることによって、Li2O‐Al2O3‐SiO2‐P2O5ガラスの安定性を改善できることが分かっている。8重量%超の濃度において、ZrSiO4は、高温において一次液相を形成でき、これにより液相粘度が大幅に低下する。ガラスが2重量%を超えるZrO2を含有する場合、透明なガラスを形成できる。ZrO2の添加はまた、ベタライト粒径の低減を補助でき、これは、透明なガラスセラミックの形成を支援する。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0.2~約15重量%のZrO2を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約2~約4重量%のZrO2を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0.2~約15重量%、約0.2~約12重量%、約0.2~約10重量%、約0.2~約8重量%、約0.2~6重量%、約0.2~約4重量%、0.5~約15重量%、約0.5~約12重量%、約0.5~約10重量%、約0.5~約8重量%、約0.5~6重量%、約0.5~約4重量%、1~約15重量%、約1~約12重量%、約1~約10重量%、約1~約8重量%、約1~6重量%、約1~約4重量%、2~約15重量%、約2~約12重量%、約2~約10重量%、約2~約8重量%、約2~6重量%、約2~約4重量%、約3~約15重量%、約3~約12重量%、約3~約10重量%、約3~約8重量%、約3~6重量%、約3~約4重量%、約4~約15重量%、約4~約12重量%、約4~約10重量%、約4~約8重量%、約4~6重量%、約8~約15重量%、約8~約12重量%、約8~約10重量%、約10~約15重量%、約10~約12重量%、又は約12~約15重量%のZrO2を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0.2、0.5、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、又は15重量%のZrO2を含むことができる。
B2O3は、前駆体ガラスに低い融点をもたらすことに寄与する。更に、前駆体ガラス、従ってガラスセラミックへの、B2O3の添加は、相互に連結した結晶微小構造の達成を補助し、上記ガラスセラミックの損傷耐性も改善できる。残留ガラス中のホウ素が、アルカリ酸化物又は2価カチオン酸化物と電荷平衡状態となっていない場合、上記ホウ素は三方配位状態(即ち三配位ホウ素)であり、これはガラスの構造を開放する。これらの三配位ホウ素の周囲のネットワークは、四方配位状態の(即ち四配位)ホウ素ほど剛性ではない。理論によって束縛されるものではないが、三配位ホウ素を含む前駆体ガラス及びガラスセラミックは、割れが形成されるまでに、ある程度の変形に耐えることができると考えられる。ある程度の変形に耐えることにより、ビッカース圧子割れ開始値は上昇する。三配位ホウ素を含む前駆体ガラス及びガラスセラミックの破壊靭性もまた上昇し得る。理論によって束縛されるものではないが、ガラスセラミックの残留ガラス(及び前駆体ガラス)中のホウ素の存在により、残留ガラス(又は前駆体ガラス)の粘度は低下し、これによって、リチウムシリケート結晶、特に高いアスペクト比を有する大型の結晶の成長が促進されると考えられる。三配位ホウ素の量が(四配位ホウ素に対して)多くなると、より高いビッカース圧子割れ開始荷重を示すガラスセラミックが得られると考えられる。いくつかの実施形態では、(総B2O3の百分率としての)三配位ホウ素の量は、約40%以上、50%以上、75%以上、約85%以上、又は95%以上でさえあってよい。一般に、セラミック化されたバルクガラスセラミックの耐化学性及び機械的強度を維持するために、ホウ素の量を制御しなければならない。
1つ以上の実施形態では、本明細書に記載のガラス及びガラスセラミックは、0~約10重量%又は0~約2重量%のB2O3を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、0~約10重量%、0~約9重量%、0~約8重量%、0~約7重量%、0~約6重量%、0~約5重量%、0~約4重量%、0~約3重量%、0~約2重量%、0~約1重量%、>0~約10重量%、>0~約9重量%、>0~約8重量%、>0~約7重量%、>0~約6重量%、>0~約5重量%、>0~約4重量%、>0~約3重量%、>0~約2重量%、>0~約1重量%、約1~約10重量%、約1~約8重量%、約1~約6重量%、約1~約5重量%、約1~約4重量%、約1~約2重量%、約2~約10重量%、約2~約8重量%、約2~約6重量%、約2~約4重量%、約3~約10重量%、約3~約8重量%、約3~約6重量%、約3~約4重量%、約4~約5重量%、約5重量%~約8重量%、約5重量%~約7.5重量%、約5重量%~約6重量%、又は約5重量%~約5.5重量%のB2O3を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0、>0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、又は10重量%のB2O3を含むことができる。
MgOは、部分固溶体においてペタライト結晶に入ることができる。1つ以上の実施形態では、本明細書に記載のガラス及びガラスセラミックは、0~約8重量%のMgOを含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、0~約8重量%、0~約7重量%、0~約6重量%、0~約5重量%、0~約4重量%、0~約3重量%、0~約2重量%、0~約1重量%、約1~約8重量%、約1~約7重量%、約1~約6重量%、約1~約5重量%、約1~約4重量%、約1~約3重量%、約1~約2重量%、約2~約8重量%、約2~約7重量%、約2~約6重量%、約2~約5重量%、約2~約4重量%、約2~約3重量%、約3~約8重量%、約3~約7重量%、約3~約6重量%、約3~約5重量%、約3~約4重量%、約4~約8重量%、約4~約7重量%、約4~約6重量%、約4~約5重量%、約5~約8重量%、約5~約7重量%、約5~約6重量%、約6~約8重量%、約6~約7重量%、又は約7重量%~約8重量%のMgOを含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0、>0、1、2、3、4、5、6、7、又は8重量%のMgOを含むことができる。
ZnOは、部分固溶体においてペタライト結晶に入ることができる。1つ以上の実施形態では、本明細書に記載のガラス及びガラスセラミックは、0~約10重量%のZnOを含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、0~約10重量%、0~約9重量%、0~約8重量%、0~約7重量%、0~約6重量%、0~約5重量%、0~約4重量%、0~約3重量%、0~約2重量%、0~約1重量%、約1~約10重量%、約1~約9重量%、約1~約8重量%、約1~約7重量%、約1~約6重量%、約1~約5重量%、約1~約4重量%、約1~約3重量%、約1~約2重量%、約2~約10重量%、約2~約9重量%、約2~約8重量%、約2~約7重量%、約2~約6重量%、約2~約5重量%、約2~約4重量%、約2~約3重量%、約3~約10重量%、約3~約9重量%、約3~約8重量%、約3~約7重量%、約3~約6重量%、約3~約5重量%、約3~約4重量%、約4~約10重量%、約4~約9重量%、約4~約8重量%、約4~約7重量%、約4~約6重量%、約4~約5重量%、約5~約10重量%、約5~約9重量%、約5~約8重量%、約5~約7重量%、約5~約6重量%、約6~約10重量%、約6~約9重量%、約6~約8重量%、約6~約7重量%、約7~約10重量%、約7~約9重量%、約7重量%~約8重量%、約8~約10重量%、約8~約9重量%、又は約9~約10重量%のZnOを含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0、>0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、又は10重量%のZnOを含むことができる。
1つ以上の実施形態では、本明細書に記載のガラス及びガラスセラミックは、0~約5重量%のTiO2を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、0~約5重量%、0~約4重量%、0~約3重量%、0~約2重量%、0~約1重量%、約1~約5重量%、約1~約4重量%、約1~約3重量%、約1~約2重量%、約2~約5重量%、約2~約4重量%、約2~約3重量%、約3~約5重量%、約3~約4重量%、又は約4~約5重量%のTiO2を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0、>0、1、2、3、4、又は5重量%のTiO2を含むことができる。
1つ以上の実施形態では、本明細書に記載のガラス及びガラスセラミックは、0~約0.4重量%のCeO2を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、0~約0.4重量%、0~約0.3重量%、0~約0.2重量%、0~約0.1重量%、約0.1~約0.4重量%、約1~約0.3重量%、約1~約0.2重量%、約0.2~約0.4重量%、約0.2~約0.3重量%、又は約0.3~約0.4重量%のCeO2を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0、>0、0.1、0.2、0.3、又は0.4重量%のCeO2を含むことができる。
1つ以上の実施形態では、本明細書に記載のガラス及びガラスセラミックは、0~約0.5重量%のSnO2を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、0~約0.5重量%、0~約0.4重量%、0~約0.3重量%、0~約0.2重量%、0~約0.1重量%、約0.05~約0.5重量%、0.05~約0.4重量%、0.05~約0.3重量%、0.05~約0.2重量%、0.05~約0.1重量%、約0.1~約0.5重量%、約0.1~約0.4重量%、約0.1~約0.3重量%、約0.1~約0.2重量%、約0.2~約0.5重量%、約0.2~約0.4重量%、約0.2~約0.3重量%、約0.3~約0.5重量%、約0.3~約0.4重量%、又は約0.4~約0.5重量%のSnO2を含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミック組成物は、約0、>0、0.05、0.1、0.2、0.3、0.4、又は0.5重量%のSnO2を含むことができる。
いくつかの実施形態では、本明細書において開示されるガラス及びガラスセラミック中のP2O5及びZrO2の重量百分率の合計は、約3重量%、4重量%、又は5重量%以上とすることができ、これによって核形成が増大する。核形成の増大は、より微小な粒子の生成をもたらし得る。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミックは、可視光範囲に亘って透明性を示す(即ち上記ガラスセラミックは透明である)。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミックの透明性は、光のインタロゲート(interrogating)波長の波長よりも小さい結晶を生成することによって、並びに残留ガラスの屈折率をペタライトの屈折率(1.51)及びリチウムジシリケートの屈折率(1.55)と適合させることによって、達成できる。いくつかの実施形態では、厚さ1mmの上記透明ガラスセラミックは、約400nm~約1000nmの波長範囲に亘る光の≧90%(表面反射損失を含む)の透過率を有することができる。1つ以上の実施形態では、透明ガラスセラミック物品に関する平均透過率は、厚さ1mmのガラスセラミック物品に関して、約400nm~約1000nmの波長範囲に亘る光の約85%以上、約86%以上、約87%以上、約88%以上、約89%以上、約90%以上、約91%以上、約92%以上、約93%以上(表面反射損失を含む)である。他の実施形態では、ガラスセラミックは、可視光範囲に亘って半透明であってよい。いくつかの実施形態では、半透明ガラスセラミックは、厚さ1mmのガラスセラミック物品に関して、約400nm~約1000nmの波長範囲に亘る光の約20%~約85%未満の範囲の平均透過率を有することができる。ガラスセラミックが半透明である実施形態では、上記ガラスセラミックは白色を有することができる。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミック中の粒子のサイズが、透明性又は半透明性に影響し得る。いくつかの実施形態では、透明ガラスセラミックの粒子は、約100nm未満の最長寸法を有してよい。いくつかの実施形態では、半透明ガラスセラミックの粒子は、約100nm~約500nmの範囲の最長寸法を有してよい。いくつかの実施形態では、透明ガラスセラミックの粒子は、約2以上のアスペクト比を有してよい。いくつかの実施形態では、半透明ガラスセラミックの粒子は、約2以下のアスペクト比を有してよい。
本開示のガラス又はガラスセラミック組成物を製造するために使用される原材料及び/又は設備に起因するものとして、故意に添加されたものではない特定の不純物又は成分が、最終的なガラス又はガラスセラミック組成物中に存在し得る。このような材料は、上記ガラス又はガラスセラミック組成物中に微量存在し、本明細書中では「混入物」と呼ぶ。
本明細書において使用される場合、ある化合物を0重量%有するガラス又はガラスセラミック組成物は、上記化合物、分子又は元素は上記組成物に意図的に添加されなかったものの、それでもなお上記組成物が上記化合物を、典型的には微量又は僅かな量で含み得ることを意味するものとして定義される。同様に、「鉄非含有(iron‐free)」、「ナトリウム非含有(sodium‐free)」、「リチウム非含有(lithium‐free)」、「ジルコニウム非含有(zirconium‐free)」、「アルカリ土類金属非含有(alkali earth metal‐free)」、又は「重金属非含有(heavy metal‐free)」等は、上記化合物、分子又は元素は上記組成物に意図的に添加されなかったものの、それでもなお上記組成物が鉄、ナトリウム、リチウム、ジルコニウム、アルカリ土類金属又は重金属等を、ただしおおよそ微量又は僅かな量で、含み得ることを意味するものとして定義される。本明細書中の実施形態のガラス又はガラスセラミック中に見られる場合がある微量化合物としては、限定するものではないが、Na2O、TiO2、MnO、ZnO、Nb2O5、MoO3、Ta2O5、WO3、ZrO2、Y2O3、La2O3、HfO2、CdO、SnO2、Fe2O3、CeO2、As2O3、Sb2O3、硫酸等の硫黄系化合物、ハロゲン、又はこれらの組み合わせが挙げられる。
いくつかの実施形態では、抗菌成分を、上記ガラス又はガラスセラミック組成物に添加してよい。本明細書の実施形態のガラスセラミックは、台所又は食卓のカウンタートップといった、有害なバクテリアへの曝露が発生し得る用途において使用できるため、これは特に有利である。上記ガラス又はガラスセラミックに添加できる抗菌成分としては、限定するものではないが、Ag、AgO、Cu、CuO、Cu2O等が挙げられる。いくつかの実施形態では、抗菌成分の濃度は、約3、2、1、又は0.5、>0重量%のレベルに維持される。いくつかの実施形態では、上記抗菌成分は>0~約3重量%である。いくつかの実施形態では、上記抗菌成分は>0~約1重量%である。
いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミックは更に、化学清澄剤を含んでよい。このような清澄剤としては、限定するものではないが、SnO2、As2O3、Sb2O3、F、Cl及びBrが挙げられる。いくつかの実施形態では、化学清澄剤の濃度は、3、2、1、又は0.5、>0重量%のレベルに維持される。いくつかの実施形態では、上記清澄剤の量は、>0~約3重量%である。化学清澄剤としては、CeO2、Fe2O3、及びMnO2等の他の遷移金属の酸化物も挙げられる。これらの酸化物は、ガラス中での1つ以上の最終的な原子価状態における可視光吸収によって、上記ガラス又はガラスセラミックに望ましくない色を導入する場合があるため、上記酸化物が存在する場合、その濃度は通常、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1又は>0重量%のレベルに維持される。
上記ガラス又はガラスセラミックはまた、例えばSnO2、SnO、SnCO3、SnC2O2等のスズ含有材料のバッチ化による、スズ酸化物電極を用いたジュール熱溶融の結果として、又は様々な物理的属性、溶融属性、着色属性若しくは形成属性の調整のための作用剤としてSnO2を添加することによって、SnO2を含有し得る。上記ガラス又はガラスセラミックは、0~約3重量%、0~約2重量%、0~約1重量%、0~0.5重量%、又は0~0.1重量%のSnO2を含むことができる。
いくつかの実施形態では、上記ガラス又はガラスセラミックは、Sb2O3、As2O3又はこれらの組み合わせを実質的に含まないものとすることができる。例えば、上記ガラス又はガラスセラミックは、0.05重量パーセント以下のSb2O3若しくはAs2O3若しくはこれらの組み合わせを含むことができ、上記ガラス若しくはガラスセラミックは、0重量%のSb2O3若しくはAs2O3若しくはこれらの組み合わせを含むことができ、又は上記ガラス又はガラスセラミックは例えば、いずれの意図的に添加されたSb2O3若しくはAs2O3若しくはこれらの組み合わせを含まないものとすることができる。
追加の成分をガラス組成物に導入することによって、更なる便益を提供でき、あるいは、上記追加の成分は、市販用に調製されたガラス中に典型的に見られる汚染物質を更に含み得る。例えば、追加の成分を添加することによって、様々な物理的属性、溶融属性、及び形成属性を調整できる。いくつかの実施形態によると、上記ガラスはまた、バッチ材料に関連する並びに/又は上記ガラスの製造に使用される溶融、清澄及び/若しくは形成設備によって上記ガラスに導入される、汚染物質(例えばZrO2)を含み得る。いくつかの実施形態では、上記ガラスは、紫外線放射吸収剤として有用な1つ以上の化合物を含んでよい。いくつかの実施形態では、上記ガラスは、3重量%以下のTiO2、MnO、ZnO、Nb2O5、MoO3、Ta2O5、WO3、ZrO2、Y2O3、La2O3、HfO2、CdO、Fe2O3、CeO2、又はこれらの組み合わせを含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラスは、0~約3重量%、0~約2重量%、0~約1重量%、0~0.5重量%、0~0.1重量%、0~0.05重量%、又は0~0.01重量%の、TiO2、MnO、ZnO、Nb2O5、MoO3、Ta2O5、WO3、ZrO2、Y2O3、La2O3、HfO2、CdO、SnO2、Fe2O3、CeO2、As2O3、Sb2O3又はこれらの組み合わせを含むことができる。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のガラスは、スロットドロー、フロート、圧延、及び当業者に公知の他のシート形成プロセスを含むがこれらに限定されないプロセスによって、シート状に製作できる。あるいはガラス組成物を、当該技術分野において公知のフロート又は圧延プロセスによって形成してよい。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のガラス組成物を、液相粘度の調整によって、フロートタイプ形成プロセスに適合させてよい。いくつかの実施形態では、上記ガラス組成物は、約1500P(150Pa・s)~約3000P(300Pa・s)の液相粘度を有することができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス組成物は、約1000、1200、1500、2000、2500、又は3000P(約100、120、150、200、250、又は300Pa・s)の液相粘度を有することができる。
いくつかの実施形態では、上記ガラスは、約50×10‐7/K以上、約50×10‐7/K以上、約60×10‐7/K以上、約61×10‐7/K以上、約62×10‐7/K以上、約63×10‐7/K以上、約64×10‐7/K以上、約65×10‐7/K以上、約66×10‐7/K以上、約67×10‐7/K以上、約68×10‐7/K以上、約69×10‐7/K以上、約70×10‐7/K以上、約71×10‐7/K以上、約72×10‐7/K以上、約73×10‐7/K以上、約74×10‐7/K以上、約75×10‐7/K以上、約76×10‐7/K以上、約77×10‐7/K以上、約78×10‐7/K以上、約79×10‐7/K以上、又は約80×10‐7/K以上の熱膨張係数を有することができる。
いくつかの実施形態では、上記ガラスは、約50×10‐7/K以上、約50×10‐7/K以上、約60×10‐7/K以上、約61×10‐7/K以上、約62×10‐7/K以上、約63×10‐7/K以上、約64×10‐7/K以上、約65×10‐7/K以上、約66×10‐7/K以上、約67×10‐7/K以上、約68×10‐7/K以上、約69×10‐7/K以上、約70×10‐7/K以上、約71×10‐7/K以上、約72×10‐7/K以上、約73×10‐7/K以上、約74×10‐7/K以上、約75×10‐7/K以上、約76×10‐7/K以上、約77×10‐7/K以上、約78×10‐7/K以上、約79×10‐7/K以上、又は約80×10‐7/K以上の熱膨張係数を有することができる。
本明細書に記載のガラス及びガラスセラミックから形成される物品は、合理的に使用できるいずれの厚さのものとすることができる。ガラスシート及び/又はガラスセラミック実施形態は、約0.8mm~約10mmのいずれの厚さを有してよい。いくつかの実施形態は、約6mm以下、約5mm以下、約3mm以下、約1.0mm以下、約750μm以下、約500μm以下、又は約250μm以下の厚さを有する。いくつかのガラス又はラスセラミックシート実施形態は、約200μm~約5mm、約500μm~約5mm、約200μm~約4mm、約200μm~約2mm、約400μm~約5mm、又は約400μm~約2mmの厚さを有してよい。いくつかの実施形態では、上記厚さは、約3mm~約6mm又は約0.8mm~約3mmであってよい。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミックは、1mm厚のガラスセラミックにおいて、約300MPa以上、約325MPa以上、約350MPa以上、約375MPa以上、約400MPa以上、約425MPa以上、又は約450MPa以上の等二軸曲げ強度を有する。等二軸曲げ強度は、リング・オン・リング(RoR)強度と呼ぶこともでき、これは、米国公開特許第2013/0045375号明細書の段落[0027](参照により本出願に援用される)に概説されているように、試験装置及び試験条件に若干の改変を加えて、ASTM:C1499‐05に記載の手順に従って測定される。上記ガラスセラミックが初めに、典型的にはシリコンカーバイド粒子を用いた摩擦に供される場合、摩耗リング・オン・リング(aRoR)強度もまた、上述の手順を用いて測定できる。いくつかの実施形態は、曲げ強度の上昇をもたらすペタライト相を有する、化学強化可能なガラスセラミックも含む。このような実施形態では、RoR強度は約500MPa以上、約550MPa以上、約600MPa以上、約650MPa以上、約700MPa以上、約750MPa以上、又は約800MPa以上となり得る。
ガラスセラミックのいくつかの実施形態は、高い破壊靭性及び固有の損傷耐性を示す。上述のように、ガラスセラミックのいくつかの実施形態は、相互に連結したリチウムシリケート結晶を含み、これは高い破壊靭性をもたらす。1つ以上の実施形態のガラスセラミックは、ホウ素を含んでよく、これは上記ガラスセラミックの残留ガラス相中に三配位ホウ素として存在し得る。このような実施形態では、上記三配位ホウ素は、前駆体ガラスにB2O3を含めることによって提供される。上記三配位ホウ素は、上記ガラス又はガラスセラミックを圧子荷重に供した場合の高密度化機序を提供する。
1つ以上の実施形態では、上記ガラスセラミックは、約1.0MPa・m1/2以上、約1.1MPa・m1/2以上、1.2MPa・m1/2以上、1.3MPa・m1/2以上、1.4MPa・m1/2以上、1.5MPa・m1/2以上、1.6MPa・m1/2以上、1.7MPa・m1/2以上、1.8MPa・m1/2以上、1.9MPa・m1/2以上、又は2.0MPa・m1/2の破壊靭性を示す。いくつかの実施形態では、上記破壊靭性は約1~約2MPa・m1/2の範囲である。上記破壊靭性は、当該技術分野において公知の方法を用いて、例えばASTMC1421―10「環境温度におけるファインセラミックの破壊靭性の決定のための標準試験方法」に従ってシェブロン切欠き試験片を用いて、測定してよい。
1つ以上の実施形態では、上記ガラスセラミックは、あるビッカース硬度を示すことにより、高い割れ及び引っ掻き耐性を有する。いくつかの実施形態では、非イオン交換ガラスセラミックは、約600~約900kgf/mm2(約5884~約8826N/mm2)、約600~約875kgf/mm2(約5884~約8581N/mm2)、約600~約850kgf/mm2(約5884~約8335N/mm2)、約600~約825kgf/mm2(約5884~約8090N/mm2)、約600~約800kgf/mm2(約5884~約7845N/mm2)、約600~約775kgf/mm2(約5884~約7600N/mm2)、約600~約750kgf/mm2(約5884~約7355N/mm2)、約600~約725kgf/mm2(約5884~約7110N/mm2)、約600~約700kgf/mm2(約5884~約6865N/mm2)、約700~約900kgf/mm2(約6865~約8826N/mm2)、約700~約875kgf/mm2(約6865~約8581N/mm2)、約700~約850kgf/mm2(約6865~約8335N/mm2)、約700~約825kgf/mm2(約6865~約8090N/mm2)、又は約700~約800kgf/mm2(約6865~約7845N/mm2)のビッカース硬度を示す。いくつかの実施形態では、ビッカース硬度は、600kgf/mm2(約5884N/mm2)以上、625kgf/mm2(約6129N/mm2)以上、650kgf/mm2(約6374N/mm2)以上、675kgf/mm2(約6619N/mm2)以上、700kgf/mm2(約6865N/mm2)以上、725kgf/mm2(約7110N/mm2)以上、750kgf/mm2(約7355N/mm2)以上、775kgf/mm2(約7600N/mm2)以上、800kgf/mm2(約7845N/mm2)以上、825kgf/mm2(約8090N/mm2)以上、850kgf/mm2(約8335N/mm2)以上、875kgf/mm2(約8581N/mm2)以上、又は900kgf/mm2(約8826N/mm2)以上である。ビッカース硬度は、ASTM C1326及びC1327(及びその従属項;これらは全て参照により本出願に援用される)「ファインセラミックのビッカース圧子硬度のための標準試験方法」(ASTM International、米国ペンシルバニア州コンショホッケン)を用いて測定してよい。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミックは、イオン交換による化学強化後に、このようなビッカース圧子割れ開始荷重値を示す。
いくつかの実施形態では、本明細書において開示されるガラスセラミックは、イオン交換後に脆性でない。本明細書において使用される場合、用語「脆性の(frangible)」及び「脆性(frangibilty)」は、ガラスセラミック板又はシートの、物体による点衝撃、又は上記ガラスセラミック板を複数の小片に破断するために十分な力での硬い表面への落下を受けた場合の、エネルギ的破壊(energetic fracture)を指し、これは:上記ガラス中の複数の割れ分岐(即ち初期割れからの5つ以上の割れ分岐);片の原位置から少なくとも2インチ(約5cm)の突出;上記板の、約5つ以上の断片/cm2という断片化密度;又はこれら3つの条件のいずれの組み合わせのうちのいずれかを伴う。反対に、ガラスセラミック板は、物体による点衝撃、又は上記ガラスセラミック板を複数の小片に破壊するために十分な力での固体表面への落下を受けた場合に、破断しないか、又は初期割れからの割れ分岐が5つ未満の状態で、片がその原位置から2インチ(約5cm)未満突出して破断するかのいずれかであれば、脆性でないと見做される。
それぞれ厚さ0.5mmの5cm×5cmガラスセラミック板に関して観察される、脆性及び非脆性挙動を、図10に示す。ガラスセラミック板aは、2インチ(約5cm)超突出する複数の小片、及び上記小片を生成する、程度の高い初期割れからの割れ分岐を証拠とする、脆性挙動を示す。ガラスセラミック板aとは対照的に、ガラスセラミック板b、c、及びdは脆性挙動を示さない。これらの例において、上記ガラスセラミック板は、原位置から2インチ(約5cm)鋭く突出しない少数の大型片へと破断する(「X」は、破砕前のガラス板のおおよその中心である)。ガラスセラミック板bは、割れ分岐を伴わずに2つの大型の片へと破断され;ガラスセラミック板cは、初期割れからの2つの割れ分岐を伴って4つの片へと破断され、ガラスセラミック板dは、初期割れからの2つの割れ分岐を伴って4つの片へと破断される。
更に、全ての組成物並びにガラス及び/又はガラスセラミック組成物は、当該技術分野で広く知られた方法によってイオン交換可能である。典型的なイオン交換プロセスでは、ガラス中の比較的小さな金属イオンを、上記ガラス及び/又はガラスセラミックの外側表面付近の層内の同原子価の比較的大きな金属イオンによって置換又は「交換(exchange)」する。比較的大きな金属イオンによる比較的小さな金属イオンの置換は、上記ガラス及び/又はガラスセラミックの上記層内に圧縮応力を生成する。一実施形態では、これらの金属イオンは、1価アルカリ金属イオン(例えばNa+、K+、Rb+、Cs+等)であり、イオン交換は、上記ガラス及び/又はガラスセラミックを、上記ガラス中の上記比較的小さな金属イオンを置換することになる上記比較的大きな金属イオンの少なくとも1つの溶融塩を含む浴に浸漬することによって達成される。あるいは、1価イオンをAg+、Tl+、Cu+等の他の1価イオンに取り替えてもよい。上記ガラス及び/又はガラスセラミックを強化するために使用される1つ以上のイオン交換プロセスとしては、限定するものではないが、浸漬と浸漬との間の洗浄及び/又はアニーリングステップを伴う、同様の又は異なる複数の組成物の単一の浴又は複数の浴への浸漬を挙げることができる。1つ以上の実施形態では、上記ガラス及び/又はガラスセラミックは、約430℃の溶融NaNO3への曝露によってイオン交換してよい。このような実施形態では、Na+イオンが、上記ガラスセラミック中のLiイオンの一部を置換して、表面圧縮層を成長させ、高い割れ耐性を示す。得られた圧縮応力層は、約2時間で上記ガラスの表面に少なくとも100μmの深さ(「層深さ」とも呼ぶ)を有し得る。このような実施形態では、層深さは、Na2O濃度プロファイルから決定できる。他の例では、実施形態は、2時間に亘る410℃の溶融KNO3への曝露によってイオン交換してよく、これによって、少なくとも約100μmの層深さを有する圧縮応力層が生成される。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミックは、約30μm以上、約40μm以上、約50μm以上、約60μm以上、約70μm以上、約80μm以上、約90μm以上、又は約100μm以上の層深さを達成するようイオン交換してよい。他の実施形態では、上記ガラスをイオン交換することによって、少なくとも10MPaの中央張力が達成される。この表面圧縮層の成長は、非イオン交換材料に比べて良好な割れ耐性及び高い曲げ強度を達成するために有益である。上記表面圧縮層は、ガラスセラミック物品の本体(即ち表面圧縮層を含まない領域)に関してガラスセラミック物品内へと交換されたイオンの濃度に比べて、ガラスセラミック物品内へと交換されたイオンの濃度が高い。
いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミックは、約100MPa~約500MPa、約100MPa~約450MPa、約100MPa~約400MPa、約100MPa~約350MPa、約100MPa~約300MPa、約100MPa~約250MPa、約100MPa~約200MPa、約100MPa~約150MPa、150MPa~約500MPa、約150MPa~約450MPa、約150MPa~約400MPa、約150MPa~約350MPa、約150MPa~約300MPa、約150MPa~約250MPa、約150MPa~約200MPa、200MPa~約500MPa、約200MPa~約450MPa、約200MPa~約400MPa、約200MPa~約350MPa、約200MPa~約300MPa、約200MPa~約250MPa、250MPa~約500MPa、約250MPa~約450MPa、約250MPa~約400MPa、約250MPa~約350MPa、約250MPa~約300MPa、300MPa~約500MPa、約300MPa~約450MPa、約300MPa~約400MPa、約300MPa~約350MPa、350MPa~約500MPa、約350MPa~約450MPa、約350MPa~約400MPa、400MPa~約500MPa、約400MPa~約450MPa、又は約450MPa~約500MPaの範囲の表面圧縮応力を有することができる。いくつかの実施形態では、上記ガラスセラミックは、約100MPa以上、約150MPa以上、約200MPa以上、約250MPa以上、約300MPa以上、約350MPa以上、約400MPa以上、約450MPa以上、又は500MPa以上の表面圧縮応力を有することができる。圧縮応力層の圧縮応力及び深さ(「DOL」)は、当該技術分野において公知の手段を用いて測定される。DOLは、株式会社ルケオ(日本、東京)製のFSM‐6000等の市販の機器等を用いて、表面応力メータ(FSM)によって決定され、またCS及び層深さの測定方法は、ASTM 1422C‐99「化学強化平板ガラスに関する標準仕様」、及びASTM 1279.19779「アニーリングされ、熱強化され、完全に強化された平板ガラスの縁部及び表面応力の非破壊光弾性測定のための標準試験方法」に記載されており、これらの内容は参照によりその全体が本出願に援用される。表面応力測定は、応力光係数(stress optical coefficient:SOC)の正確な測定に依存し、これはガラスの複屈折に関連する。SOCは、ASTM規格C770‐98(2008年)「ガラスの応力光係数の測定のための標準試験方法」(その内容は参照によりその全体が本出願に援用される)に記載のファイバ法及び4点曲げ法、並びにバルクシリンダ法といった、当該技術分野において公知の方法によって測定される。
1つ以上の実施形態では、上記ガラスセラミックを作製するためのプロセスは、ガラスの均質化、並びに(例えば1つ以上の組成、量、形態、サイズ又はサイズ分布等を有する)1つ以上の結晶質相の結晶化(即ち核形成及び成長)を誘発するための、1つ以上の事前に選択された時間に亘る、1つ以上の事前に選択された温度における前駆体ガラスの熱処理を含む。いくつかの実施形態では、上記熱処理は:(i)前駆体ガラスを1‐10℃/分の速度でガラス予備核形成温度まで加熱するステップ;(ii)結晶化性ガラスを、約1/4時間~約4時間の時間に亘って上記ガラス予備核形成温度に維持することにより、予備核形成済みの結晶化性ガラスを生成するステップ;(iii)上記予備核形成済みの結晶化性ガラスを、1‐10℃/分の速度で核形成温度(Tn)まで加熱するステップ;(iv)上記結晶化性ガラスを、約1/4時間~約4時間の時間に亘って上記核形成温度に維持することにより、核形成済みの結晶化性ガラスを生成するステップ;(v)上記核形成済みの結晶化性ガラスを、約1℃/分~約10℃/分の速度で結晶化温度(Tc)まで加熱するステップ;(vi)上記核形成済みの結晶化性ガラスを、約1/4時間~約4時間の時間に亘って上記結晶化温度に維持することにより、本明細書に記載のガラスセラミックを生成するステップ;及び(vii)形成された上記ガラスセラミックを室温まで冷却するステップを含むことができる。本明細書において使用される場合、用語「結晶化温度は、セラミック化温度と相互交換可能なものとして使用され得る。更に、これらの実施形態において、用語「セラミック化」は、ステップ(v)、(vi)及び任意に(vii)を集合的に指すために使用され得る。いくつかの実施形態では、上記ガラス予備核形成温度は540℃であってよく、上記核形成温度は600℃であってよく、上記結晶化温度は630℃~730℃の範囲内であってよい。他の実施形態では、上記熱処理は、上記結晶化性ガラスをガラス予備核形成温度に維持するステップを含まない。従って、上記熱処理は:(i)前駆体ガラスを1‐10℃/分の速度で核形成温度(Tn)まで加熱するステップ;(ii)上記結晶化性ガラスを、約1/4時間~約4時間の時間に亘って上記核形成温度に維持することにより、核形成済みの結晶化性ガラスを生成するステップ;(iii)上記核形成済みの結晶化性ガラスを、約1℃/分~約10℃/分の速度で結晶化温度(Tc)まで加熱するステップ;(iv)上記核形成済みの結晶化性ガラスを、約1/4時間~約4時間の時間に亘って上記結晶化温度に維持することにより、本明細書に記載のガラスセラミックを生成するステップ;及び(v)形成された上記ガラスセラミックを室温まで冷却するステップを含んでよい。以上の実施形態において、用語「セラミック化」は、ステップ(iii)、(iv)及び任意に(v)を集合的に指すために使用され得る。いくつかの実施形態では、上記核形成温度は約700℃であってよく、上記結晶化温度は約800℃であってよい。いくつかの実施形態では、結晶化温度が高いほど、少量の結晶質相として、より多くのβスポジュメンssが生成される。
前駆体ガラス組成物に加えて、結晶化温度への加熱及び結晶化温度における温度の維持という熱処理ステップの温度‐時間的プロファイルを慎重に処方することにより、以下の所望の属性のうちの1つ以上を生成する:上記ガラスセラミックの1つ以上の結晶質相;1つ以上の主要な結晶質相及び/又は1つ以上の少量の結晶質相並びに残留ガラスの割合;1つ以上の優勢な結晶質相及び/又は1つ以上の少量の結晶質相並びに残留ガラスの結晶相の構成;並びに1つ以上の主要な結晶質相及び/又は1つ以上の少量の結晶質相の粒径又は粒径分布。これらは、結果として形成されるガラスセラミックの最終的な完全性、品質、色及び/又は不透明度に影響を及ぼし得る。
結果として得られるガラスセラミックは、シートとして提供でき、これは続いて、プレス、ブローイング、曲げ、サギング、真空成形、又は他の手段によって、均一な厚さの湾曲又は屈曲した片へと再形成できる。再形成は熱処理前に実施でき、又は成形ステップは、形成及び熱処理を略同時に実施する熱処理ステップとしても作用し得る。
更に他の実施形態では、上記ガラスセラミックを形成するために使用される前駆体ガラス組成物は例えば、1つ以上のイオン交換技法を用いて上記ガラスセラミックを化学強化できるように、処方できる。これらの実施形態では、イオン交換は、上記ガラスセラミックの1つ以上の表面を、特定の組成及び温度を有する1つ以上のイオン交換浴に、指定された期間に亘って供することによって実施でき、これにより、上記1つ以上の表面に1つ以上の圧縮応力層が付与される。上記圧縮応力層は、1つ以上の平均表面圧縮応力(compressive stress:CS)、及び/又は1つ以上の層深さを含むことができる。
数(例えば量、温度等)に関して精度を保証するための努力は行われているが、多少の誤差及び偏差は含まれるものとする。そうでないことが示されていない限り、温度は℃で表されるか、又は環境温度であり、圧力は大気圧又は大気圧付近である。組成自体は、酸化物ベースの重量%で与えられ、100%に標準化されている。反応条件、例えば成分濃度、温度、圧力、並びに本明細書に記載のプロセスから得られる製品の純度及び収率を最適化するために使用できる他の反応範囲及び条件の多数の変形例及び組み合わせが存在する。このようなプロセス条件の最適化には、合理的かつ慣用の実験しか必要とされない。
実施例1
透明ガラスセラミックを得るための例示的なガラス及びガラスセラミックの組成(重量%)及び特性を表1に記載する。これらは、ガラス分野において慣用の技法に従って決定された。表1に列挙した組成1~16を有する前駆体ガラスを形成した。次にこれらの前駆体ガラスをセラミック化サイクルに供し、ここでは、ガラス均質化のために4時間に亘って540℃に保持し、核形成のために4時間に亘って600℃に保持し、結晶化のために4時間に亘って630~730℃の温度範囲に保持した。表1では、上記セラミック化サイクルを説明するために以下の術語を用いた:ガラス均質化温度‐保持時間/核形成温度‐保持時間/結晶化温度‐保持時間。
透明ガラスセラミックを得るための例示的なガラス及びガラスセラミックの組成(重量%)及び特性を表1に記載する。これらは、ガラス分野において慣用の技法に従って決定された。表1に列挙した組成1~16を有する前駆体ガラスを形成した。次にこれらの前駆体ガラスをセラミック化サイクルに供し、ここでは、ガラス均質化のために4時間に亘って540℃に保持し、核形成のために4時間に亘って600℃に保持し、結晶化のために4時間に亘って630~730℃の温度範囲に保持した。表1では、上記セラミック化サイクルを説明するために以下の術語を用いた:ガラス均質化温度‐保持時間/核形成温度‐保持時間/結晶化温度‐保持時間。
液相温度とは、標準勾配ボート液相線測定(ASTM C829‐81及びその従属項)において最初の結晶が観察される温度である。これは、白金製ボート内に粉砕したガラス粒子を置くステップ、ある領域の勾配温度を有する炉内に上記ボートを置くステップ、上記ボートを24又は72時間に亘って適切な温度領域で加熱するステップ、及び上記ガラスの内部に結晶が現れる最高温度を、微視的検査によって決定するステップを伴う。より詳細には、ガラス試料をPtボートから1片取り出し、偏光顕微鏡を用いて検査して、Ptと空気との境界に対して、及び試料の内部において形成された結晶の位置及び性質を識別する。炉の勾配は十分に公知であるため、温度対位置は、5~10℃以内で十分に推定可能である。試料の内部に結晶が観察される温度を、(対応する試験期間に関して)ガラスの液相線を表すものとして理解する。場合によっては、よりゆっくりと成長する相を観察するために、試験をより長時間(例えば72時間)実施する。液相粘度(ポアズ)を、上記液相線温度及びフルヒャーの式の係数から決定した。
セラミック化後の組成2に対して複数回の試験を実施して、組成2のガラスセラミックに関する様々な特性を決定した。図1に示すように、組成2に関して示差走査熱量測定(DSC)トレースを実施し、DSC/(mW/mg)対温度(℃)をプロットした。このトレースを用いて、結晶化温度に対して低温でのセラミック化によって、微粒子化された微小構造を達成できることが示された。
厚さ1mmのガラスセラミック組成2の透過率を、400nm~1000nmの光に関して測定した。図2に示すように、可視光波長におけるガラスセラミック組成2の平均透過率は90%超である。
走査電子顕微鏡(SEM)を用いてガラスセラミック組成2の試料を観察し、ペタライトの粒径を決定した。図3Aは200nmスケールでのSEMを示し、図3Bは100nmスケールでのSEMを示す。ペタライト粒子は、50~100nmのオーダーである。粒子の細かさは、図2において証明されるガラスセラミックの透明度に寄与すると考えられる。
ガラスセラミック組成2の2つの50mm×50mm×1mm試料を、上述のようなリング・オン・リング試験に供して、試料の強度を決定した。一方の試料を摩耗(15psi(103421.4Pa))に供し、もう一方の試料は摩耗に供しなかった。図4は、このリング・オン・リング試験の結果を示す。上記リング・オン・リング試験に関して、514MPaの強度が達成された。
ガラスセラミック組成2の試料の破壊靭性を、シェブロン切欠き試験片測定を用いて測定した。破壊靭性は1.13MPa・m1/2であった。
ガラスセラミック組成物の試料の硬度を測定し、Instron社から入手可能なModel5948 MicroTesterを用いて、上述のようにビッカース硬度を決定した。ビッカース硬度はおよそ750kgf/mm2(約7355N/mm2)であった。
組成2のガラスセラミックをイオン交換プロセスに供した。ここでは上記試料を、2時間、4時間、8時間及び16時間に亘って、430℃の溶融NaNO3浴中に置いた。図5に示すように、100μm超の層深さが達成された。図5はまた、各イオン交換処理に関して、Na2Oの濃度(モルパーセント)対試料の厚さのプロットも示す。確認できるように、層深さは、イオン交換処理の期間が増大するに従って増大した。また、16時間に亘るイオン交換後、放物線状のNa2Oが達成された。
組成2のガラスセラミックの2つの50mm×50mm×1mm試料を、イオン交換した。一方の試料を、2時間に亘って430℃の溶融NaNO3浴中でイオン交換し、もう一方の試料を、2時間に亘って430℃の溶融KNO3浴中でイオン交換した。これら2つのイオン交換された組成2のガラスセラミックの50mm×50mm×1mm試料を、上述のようなリング・オン・リング試験に供した。結果を図6に示す。このガラスセラミックの強度は、NaNO3を用いたイオン交換後におよそ30%増大し、またKNO3を用いたイオン交換後におよそ2倍になった。KNO3浴を用いたイオン交換では、イオン交換中に試料表面に形成される圧縮応力層の層深さ(DOL)がより大きいと考えられる。
組成2のガラスセラミックの50mm×50mm×1mm試料を、2時間に亘って430℃の溶融NaNO3浴中でイオン交換した。ガラスAの50mm×50mm×1mm試料を、5.5時間に亘って420℃の溶融KNO3浴中でイオン交換した。ガラスBの50mm×50mm×1mm試料を、8時間に亘って540℃の32%KNO3溶融浴中でイオン交換した後、15分に亘って390℃の100%KNO3溶融浴中でイオン交換した。これらの試料を全て15psi(103421.4Pa)で摩耗し、上述のような摩耗リング・オン・リング試験に供した。結果を図7に示す。上記ガラスセラミックは、ガラスAより高い強度を有し、ガラスBに近い強度を有していた。従って、このイオン交換ガラスセラミックは、イオン交換ガラスと全く同等の、又は若干高い強度を有することができる。
組成2のガラスセラミックの50mm×50mm×1mm試料を、2時間、4時間、8時間及び16時間に亘って430℃の溶融NaNO3浴中でイオン交換した。次に、イオン交換した試料と、イオン交換していない組成2のガラスセラミック試料とを、上述のようなリング・オン・リング試験に供した。結果を図8に示す。上記ガラスセラミックの強度は、イオン交換の期間に基づいて増大した。
組成2のガラスセラミックの50mm×50mm×1mm試料を、16時間に亘って430℃の溶融NaNO3浴中でイオン交換した。試料を15psi(103421.4Pa)、25psi(172369Pa)又は45psi(310264.2Pa)で摩耗し、上述のような摩耗リング・オン・リング試験に供した。結果を図9に示す。15psi(103421.4Pa)で摩耗した試料は、約253MPaの荷重による破壊を示し、25psi(172369Pa)で摩耗した試料は、約240MPaの荷重による破壊を示し、45psi(310264.2Pa)で摩耗した試料は、約201MPaの荷重による破壊を示した。
実施例2
半透明ガラスセラミックを得るための例示的なガラス及びガラスセラミックの組成(重量%)及び特性を表2に記載する。これらは、ガラス分野において慣用の技法に従って決定された。表2に列挙した組成17~29を有する前駆体ガラスを形成した。次にこれらの前駆体ガラスを、以下の表2に示すセラミック化サイクルに供した。
半透明ガラスセラミックを得るための例示的なガラス及びガラスセラミックの組成(重量%)及び特性を表2に記載する。これらは、ガラス分野において慣用の技法に従って決定された。表2に列挙した組成17~29を有する前駆体ガラスを形成した。次にこれらの前駆体ガラスを、以下の表2に示すセラミック化サイクルに供した。
ガラスセラミック組成17、18及び22の試料の破壊靭性を、シェブロン切欠き試験片測定を用いて測定した。破壊靭性はそれぞれ1.2MPa・m1/2、1.13MPa・m1/2、及び1.2MPa・m1/2であった。
図11に示すように、組成18に関して示差走査熱量測定(DSC)トレースを実施し、DSC/(mW/mg)対温度(℃)をプロットした。図12は、組成18中に形成される結晶質相のX線回折(XRD)スペクトルである。このXRDスペクトルから、ペタライト及びリチウムジシリケートが主要な結晶質相であることが確認できる。
ガラスセラミック組成19、20、及び21の50mm×50mm×1mm試料を、上述のようなリング・オン・リング試験に供し、試料の強度を決定した。図13は、このリング・オン・リング試験の結果を示す。上記リング・オン・リング試験に関して、それぞれ352MPa、304MPa、及び313MPaの強度が達成された。従って、本明細書において開示される半透明ガラスセラミックに関して、300MPa超の強度を達成できる。
濃度1.4モル%のNa2Oをバルクガラス中にバッチ化することによって形成された、組成18のガラスセラミックを、イオン交換プロセスに供した。ここでは試料を、4時間に亘って430℃の溶融NaNO3浴中に置いた。図14に示すように、100μm超の層深さが達成された。図14はまた、Na2Oの濃度(重量パーセント)対試料の厚さのプロットも示す。
例示を目的として複数の実施形態及び実施例を挙げたが、以上の説明を、本開示又は添付の請求項の範囲に対する限定と見做してはならない。従って、当業者は、本開示又は添付の請求項の精神及び範囲から逸脱することなく、様々な修正例、適合例及び代替例を想起できる。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態1
ペタライト結晶質相;及び
リチウムシリケート結晶質相
を含む、ガラスセラミック物品であって、
上記ペタライト結晶質相及び上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品中に存在する他の結晶質相よりも高い重量百分率を有する、ガラスセラミック物品。
ペタライト結晶質相;及び
リチウムシリケート結晶質相
を含む、ガラスセラミック物品であって、
上記ペタライト結晶質相及び上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品中に存在する他の結晶質相よりも高い重量百分率を有する、ガラスセラミック物品。
実施形態2
上記ペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~70重量%を構成し、また上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~60重量%を構成する、実施形態1に記載のガラスセラミック物品。
上記ペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~70重量%を構成し、また上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~60重量%を構成する、実施形態1に記載のガラスセラミック物品。
実施形態3
上記ペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の45~70重量%を構成し、また上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~50重量%を構成する、実施形態2に記載のガラスセラミック物品。
上記ペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の45~70重量%を構成し、また上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~50重量%を構成する、実施形態2に記載のガラスセラミック物品。
実施形態4
上記ペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の40~60重量%を構成し、また上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~50重量%を構成する、実施形態2に記載のガラスセラミック物品。
上記ペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の40~60重量%を構成し、また上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~50重量%を構成する、実施形態2に記載のガラスセラミック物品。
実施形態5
上記リチウムシリケート結晶質相は、リチウムジシリケート結晶質相又はリチウムメタシリケート結晶質相である、実施形態1~4のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
上記リチウムシリケート結晶質相は、リチウムジシリケート結晶質相又はリチウムメタシリケート結晶質相である、実施形態1~4のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
実施形態6
上記物品は透明である、実施形態1~5のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
上記物品は透明である、実施形態1~5のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
実施形態7
上記物品は、厚さ1mmにおいて、400nm~1000nmの波長範囲の光に関して少なくとも85%の透過率を有する、実施形態6に記載のガラスセラミック物品。
上記物品は、厚さ1mmにおいて、400nm~1000nmの波長範囲の光に関して少なくとも85%の透過率を有する、実施形態6に記載のガラスセラミック物品。
実施形態8
上記物品は、厚さ1mmにおいて、400nm~1000nmの波長範囲の光に関して少なくとも90%の透過率を有する、実施形態6に記載のガラスセラミック物品。
上記物品は、厚さ1mmにおいて、400nm~1000nmの波長範囲の光に関して少なくとも90%の透過率を有する、実施形態6に記載のガラスセラミック物品。
実施形態9
上記物品は半透明であり、厚さ1mmにおいて、400nm~1000nmの波長範囲の光に関して20~85%未満の範囲の透過率を有する、実施形態1~5のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
上記物品は半透明であり、厚さ1mmにおいて、400nm~1000nmの波長範囲の光に関して20~85%未満の範囲の透過率を有する、実施形態1~5のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
実施形態10
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
SiO2:55‐80%;
Al2O3:2‐20%;
Li2O:5‐20%;
B2O3:0‐10%;
Na2O:0‐5%;
ZnO:0‐10%;
P2O5:0.5‐6%;及び
ZrO2:0.2‐15%
を含む組成を有する、実施形態1~9のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
SiO2:55‐80%;
Al2O3:2‐20%;
Li2O:5‐20%;
B2O3:0‐10%;
Na2O:0‐5%;
ZnO:0‐10%;
P2O5:0.5‐6%;及び
ZrO2:0.2‐15%
を含む組成を有する、実施形態1~9のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
実施形態11
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
K2O:0‐4%;
MgO:0‐8%;
TiO2:0‐5%;
CeO2:0‐0.4%;及び
SnO2:0.05‐0.5%
を更に含む組成を有する、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
K2O:0‐4%;
MgO:0‐8%;
TiO2:0‐5%;
CeO2:0‐0.4%;及び
SnO2:0.05‐0.5%
を更に含む組成を有する、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
実施形態12
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%
を含む組成を有する、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%
を含む組成を有する、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
実施形態13
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
Na2O:1‐2%;
K2O:1‐2%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%
を含む組成を有する、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
Na2O:1‐2%;
K2O:1‐2%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%
を含む組成を有する、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
実施形態14
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
SiO2:65‐80%;
Al2O3:5‐16%;
Li2O:8‐15%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐2%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐6%
を含む組成を有する、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
SiO2:65‐80%;
Al2O3:5‐16%;
Li2O:8‐15%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐2%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐6%
を含む組成を有する、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
実施形態15
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
SiO2:60‐80%;
Al2O3:5‐20%;
Li2O:5‐20%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐4%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐8%
を含む組成を有する、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
上記ガラスセラミック物品は、重量%で:
SiO2:60‐80%;
Al2O3:5‐20%;
Li2O:5‐20%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐4%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐8%
を含む組成を有する、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
実施形態16
P2O5及びZrO2の重量百分率の合計は、3超である、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
P2O5及びZrO2の重量百分率の合計は、3超である、実施形態10に記載のガラスセラミック物品。
実施形態17
上記ガラスセラミック物品は、1MPa・m1/2以上の破壊靭性を有する、実施形態1~16のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
上記ガラスセラミック物品は、1MPa・m1/2以上の破壊靭性を有する、実施形態1~16のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
実施形態18
上記ガラスセラミック物品は、約600kgf/mm2(約5884N/mm2)以上のビッカース硬度を有する、実施形態1~17のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
上記ガラスセラミック物品は、約600kgf/mm2(約5884N/mm2)以上のビッカース硬度を有する、実施形態1~17のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
実施形態19
上記ガラスセラミック物品は、約100MPa~約500MPaの範囲の表面圧縮応力を有する、実施形態1~18のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
上記ガラスセラミック物品は、約100MPa~約500MPaの範囲の表面圧縮応力を有する、実施形態1~18のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
実施形態20
少なくとも約30μmの層深さ(depth of layer:DOL)を有する圧縮応力層を更に備える、実施形態1~19のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
少なくとも約30μmの層深さ(depth of layer:DOL)を有する圧縮応力層を更に備える、実施形態1~19のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
実施形態21
上記ガラスセラミック物品は脆性でない、実施形態20に記載のガラスセラミック物品。
上記ガラスセラミック物品は脆性でない、実施形態20に記載のガラスセラミック物品。
実施形態22
最長寸法500nm以下の粒子を更に含む、実施形態1~21のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
最長寸法500nm以下の粒子を更に含む、実施形態1~21のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
実施形態23
最長寸法100nm以下の粒子を更に含む、実施形態1~22のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
最長寸法100nm以下の粒子を更に含む、実施形態1~22のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
実施形態24
上記ガラスセラミック物品は、少なくとも300MPaのリング・オン・リング強度を有する、実施形態1~23のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
上記ガラスセラミック物品は、少なくとも300MPaのリング・オン・リング強度を有する、実施形態1~23のいずれか1つに記載のガラスセラミック物品。
実施形態25
ガラスセラミック物品を形成する方法であって、
上記方法は:
重量%で:
SiO2:55‐80%;
Al2O3:2‐20%;
Li2O:5‐20%;
B2O3:0‐10%;
Na2O:0‐5%;
ZnO:0‐10%;
P2O5:0.5‐6%;及び
ZrO2:0.2‐15%
を含むガラス組成物を形成するステップ;並びに
上記ガラス組成物をセラミック化して、ペタライト結晶質相及びリチウムシリケート結晶質相を含むガラスセラミック物品を形成するステップ
を含み、
上記ペタライト結晶質相及び上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品中に存在する他の結晶質相よりも高い重量百分率を有する、方法。
ガラスセラミック物品を形成する方法であって、
上記方法は:
重量%で:
SiO2:55‐80%;
Al2O3:2‐20%;
Li2O:5‐20%;
B2O3:0‐10%;
Na2O:0‐5%;
ZnO:0‐10%;
P2O5:0.5‐6%;及び
ZrO2:0.2‐15%
を含むガラス組成物を形成するステップ;並びに
上記ガラス組成物をセラミック化して、ペタライト結晶質相及びリチウムシリケート結晶質相を含むガラスセラミック物品を形成するステップ
を含み、
上記ペタライト結晶質相及び上記リチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品中に存在する他の結晶質相よりも高い重量百分率を有する、方法。
実施形態26
上記ガラス組成物は、重量%で:
K2O:0‐4%;
MgO:0‐8%;
TiO2:0‐5%;
CeO2:0‐0.4%;及び
SnO2:0.05‐0.5%
を更に含む、実施形態25に記載の方法。
上記ガラス組成物は、重量%で:
K2O:0‐4%;
MgO:0‐8%;
TiO2:0‐5%;
CeO2:0‐0.4%;及び
SnO2:0.05‐0.5%
を更に含む、実施形態25に記載の方法。
実施形態27
上記ガラス組成物は、重量%で:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%
を含む、実施形態25に記載の方法。
上記ガラス組成物は、重量%で:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%
を含む、実施形態25に記載の方法。
実施形態28
上記ガラス組成物は、重量%で:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
Na2O:1‐2%;
K2O:1‐2%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%
を含む、実施形態25に記載の方法。
上記ガラス組成物は、重量%で:
SiO2:69‐80%;
Al2O3:6‐9%;
Li2O:10‐14%;
Na2O:1‐2%;
K2O:1‐2%;
B2O3:0‐12%;
P2O5:1.5‐2.5%;及び
ZrO2:2‐4%
を含む、実施形態25に記載の方法。
実施形態29
上記ガラス組成物は、重量%で:
SiO2:65‐80%;
Al2O3:5‐16%;
Li2O:8‐15%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐2%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐6%
を含む、実施形態25に記載の方法。
上記ガラス組成物は、重量%で:
SiO2:65‐80%;
Al2O3:5‐16%;
Li2O:8‐15%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐2%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐6%
を含む、実施形態25に記載の方法。
実施形態30
上記ガラス組成物は、重量%で:
SiO2:60‐80%;
Al2O3:5‐20%;
Li2O:5‐20%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐4%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐8%
を含む、実施形態25に記載の方法。
上記ガラス組成物は、重量%で:
SiO2:60‐80%;
Al2O3:5‐20%;
Li2O:5‐20%;
Na2O:0‐3%;
K2O:0‐3%;
B2O3:0‐6%;
ZnO:0‐4%;
P2O5:0.5‐4%;及び
ZrO2:0.2‐8%
を含む、実施形態25に記載の方法。
実施形態31
P2O5及びZrO2の重量百分率の合計は、3超である、実施形態25~30のいずれか1つに記載の方法。
P2O5及びZrO2の重量百分率の合計は、3超である、実施形態25~30のいずれか1つに記載の方法。
実施形態32
上記ガラスセラミック物品をイオン交換して、少なくとも30μmの層深さを有する圧縮応力層を生成するステップを更に含む、実施形態25~31のいずれか1つに記載の方法。
上記ガラスセラミック物品をイオン交換して、少なくとも30μmの層深さを有する圧縮応力層を生成するステップを更に含む、実施形態25~31のいずれか1つに記載の方法。
実施形態33
上記セラミック化するステップは、以下の連続するステップ:
上記ガラス組成物をガラス予備核形成温度まで加熱するステップ;
上記ガラス予備核形成温度を所定の期間に亘って維持するステップ;
上記組成物を核形成温度まで加熱するステップ;
上記核形成温度を所定の期間に亘って維持するステップ;
上記組成物を結晶化温度まで加熱するステップ;及び
上記結晶化温度を所定の期間に亘って維持するステップ
を含む、実施形態25~32のいずれか1つに記載の方法。
上記セラミック化するステップは、以下の連続するステップ:
上記ガラス組成物をガラス予備核形成温度まで加熱するステップ;
上記ガラス予備核形成温度を所定の期間に亘って維持するステップ;
上記組成物を核形成温度まで加熱するステップ;
上記核形成温度を所定の期間に亘って維持するステップ;
上記組成物を結晶化温度まで加熱するステップ;及び
上記結晶化温度を所定の期間に亘って維持するステップ
を含む、実施形態25~32のいずれか1つに記載の方法。
実施形態34
上記セラミック化するステップは、以下の連続するステップ:
上記組成物を核形成温度まで加熱するステップ;
上記核形成温度を所定の期間に亘って維持するステップ;
上記組成物を結晶化温度まで加熱するステップ;及び
上記結晶化温度を所定の期間に亘って維持するステップ
を含む、実施形態25~30のいずれか1つに記載の方法。
上記セラミック化するステップは、以下の連続するステップ:
上記組成物を核形成温度まで加熱するステップ;
上記核形成温度を所定の期間に亘って維持するステップ;
上記組成物を結晶化温度まで加熱するステップ;及び
上記結晶化温度を所定の期間に亘って維持するステップ
を含む、実施形態25~30のいずれか1つに記載の方法。
実施形態35
上記ペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~70重量%を構成し、またリチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~60重量%を構成する、実施形態25~33のいずれか1つに記載の方法。
上記ペタライト結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~70重量%を構成し、またリチウムシリケート結晶質相は、上記ガラスセラミック物品の20~60重量%を構成する、実施形態25~33のいずれか1つに記載の方法。
Claims (19)
- 55重量%から80重量%のSiO2;
6重量%から20重量%のAl2O3;
10重量%より多く20重量%までのLi2O;
2重量%から4重量%のP2O5;及び
0.2重量%から15重量%のZrO2を含むガラスセラミック物品であって、前記ガラスセラミック物品は粒子を含み、前記粒子は100nm未満の最長寸法を有するガラスセラミック物品であって、
前記ガラスセラミック物品は、5重量%~30重量%の残留ガラスを含み、
厚さ1mmのガラスセラミック物品において、400nm~700nmの波長範囲の光に対して90%以上の平均透過率を有する、ガラスセラミック物品。 - 55重量%から80重量%のSiO2;
6重量%から20重量%のAl2O3;
10重量%より多く20重量%までのLi2O;
0重量%から1重量%までのNa2O+K2O;
超ゼロから4重量%以下のP2O5;及び
0.2重量%から15重量%のZrO2を含むガラスセラミック物品であって、前記ガラスセラミック物品は粒子を含み、前記粒子は100nm未満の最長寸法を有するガラスセラミック物品であって、
前記ガラスセラミック物品は5重量%~30重量%の残留ガラスを含み、
厚さ1mmのガラスセラミック物品において、400nm~700nmの波長範囲の光に対して90%以上の平均透過率を有するガラスセラミック物品。 - 1重量%から4重量%のP2O5を含む、請求項2記載のガラスセラミック物品。
- 2重量%から3.5重量%のP2O5を含む、請求項1~2のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- ZrO2(重量%)+P2O5(重量%)は、3よりも大きい、請求項1~2のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- 0重量%より多いNa2Oを含む、請求項1~2のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- Na2O(重量%)+K2O(重量%)は、0より大きい、請求項1~2のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- 0.8mmから10mmの厚さを有する、請求項1~7のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- 6mm以下の厚さを有する、請求項1~8のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- ペタライト;
リチウムジシリケート;及び
前記残留ガラスを含む相の組み合わせを有する、請求項1~9のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。 - 600kgf/mm2から900kgf/mm2までの非イオン交換におけるビッカース硬度を有する、請求項1~10のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- 1.0MPa・m1/2以上の破壊靭性を有する、請求項1~11のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- 70重量%から80重量%のSiO2を含む、請求項1~12のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- 6重量%から18重量%のAl2O3を含む、請求項1~13のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- 10重量%より多く18重量%までのLi2Oを含む、請求項1~14のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- 10重量%より多く16重量%までのLi2Oを含む、請求項1~15のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- 0.5重量%から8重量%のZrO2を含む、請求項1~16のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- 3重量%以下のTiO2, MnO, ZnO, Nb2O5, MoO3, Ta2O5, WO3, ZrO2, Y2O3, La2O3, HfO2, CdO, Fe2O3, CeO2, 又はそれらの組み合わせを含む、請求項1~17のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
- 3重量%以下のNb2O5, Ta2O5, Y2O3, La2O3, HfO2, 又はそれらの組み合わせを含む、請求項1~18のいずれか一項に記載のガラスセラミック物品。
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FR3066489B1 (fr) * | 2017-05-18 | 2020-09-25 | Eurokera | Procede de fabrication d'un produit verrier d'aluminosilicate de lithium pour produit vitroceramique |
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US20210155538A1 (en) * | 2018-02-05 | 2021-05-27 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari Anonim Sirketi | Chambered thin glass product with complex shape and with increased resistance and the production method of said glass product |
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DE112018007900T5 (de) * | 2018-08-09 | 2021-04-22 | Ohara Inc. | Kristallisiertes glassubstrat |
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KR102690496B1 (ko) * | 2018-08-20 | 2024-07-31 | 코닝 인코포레이티드 | 개선된 응력 프로파일을 갖는 유리-세라믹 물품 |
KR102657561B1 (ko) * | 2018-09-03 | 2024-04-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유리 기판 및 유리 기판의 제조 방법 |
US11130705B2 (en) * | 2018-09-11 | 2021-09-28 | Corning Incorporated | Glass-based articles with improved fracture resistance |
US10481097B1 (en) * | 2018-10-01 | 2019-11-19 | Guardian Glass, LLC | Method and system for detecting inclusions in float glass based on spectral reflectance analysis |
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WO2020092122A1 (en) * | 2018-10-31 | 2020-05-07 | Corning Incorporated | Methods and systems for chemically strengthening lithium-containing glass |
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FR3088321B1 (fr) * | 2018-11-09 | 2021-09-10 | Eurokera | Vitroceramiques transparentes de quartz-beta a basse teneur en lithium |
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CN113402172B (zh) * | 2021-08-06 | 2023-09-22 | 成都光明光电有限责任公司 | 玻璃陶瓷和玻璃陶瓷制品 |
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WO2023027972A1 (en) | 2021-08-25 | 2023-03-02 | Corning Incorporated | Methods for etching glass-based substrates |
WO2023027932A1 (en) | 2021-08-25 | 2023-03-02 | Corning Incorporated | Textured glass-based articles |
CN117715878A (zh) | 2021-09-02 | 2024-03-15 | Agc株式会社 | 结晶玻璃及其制造方法、化学强化玻璃以及电子设备 |
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WO2023032935A1 (ja) | 2021-09-02 | 2023-03-09 | Agc株式会社 | 結晶化ガラス、化学強化ガラス及び電子デバイス |
CN113754289B (zh) * | 2021-09-18 | 2023-06-06 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 一种低翘曲的强化微晶玻璃、及其制备方法和用途 |
CN114262156A (zh) * | 2021-11-11 | 2022-04-01 | 深圳旭安光学有限公司 | 一种结晶玻璃、强化结晶玻璃及其制备方法 |
US20230150869A1 (en) | 2021-11-12 | 2023-05-18 | Corning Incorporated | Glass-ceramic articles with improved mechanical properties and low haze |
JPWO2023090177A1 (ja) * | 2021-11-19 | 2023-05-25 | ||
WO2023095454A1 (ja) * | 2021-11-26 | 2023-06-01 | 株式会社オハラ | 無機組成物物品 |
WO2023101842A1 (en) | 2021-11-30 | 2023-06-08 | Corning Incorporated | Localized polishing fixture and processes of using the same |
CN116239314A (zh) * | 2021-12-07 | 2023-06-09 | 大金工业株式会社 | 防污基材 |
DE102021132738A1 (de) | 2021-12-10 | 2023-06-15 | Schott Ag | Glaskeramische Deckscheibe, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung und digitales Anzeigegerät umfassend eine solche Deckscheibe |
WO2023113041A1 (ja) * | 2021-12-17 | 2023-06-22 | Agc株式会社 | 結晶化ガラス、3次元形状の結晶化ガラスおよびその製造方法 |
KR20230095145A (ko) * | 2021-12-21 | 2023-06-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유리 제품 및 이를 포함하는 표시 장치 |
CN114195394B (zh) * | 2021-12-24 | 2022-09-09 | 深圳市新旗滨科技有限公司 | 一种玻璃组合物、微晶玻璃及其制备方法和应用 |
JPWO2023145965A1 (ja) | 2022-01-31 | 2023-08-03 | ||
US11964907B2 (en) | 2022-02-14 | 2024-04-23 | Corning Incorporated | Glasses and glass-ceramics, and method of making the same |
US11851367B1 (en) | 2022-02-14 | 2023-12-26 | Corning Incorporated | Precursor glasses and glass-ceramics comprising a crystalline phase having a jeffbenite crystalline structure |
WO2023154506A1 (en) * | 2022-02-14 | 2023-08-17 | Corning Incorporated | Glasses and glass-ceramics, and method of making the same |
WO2023206002A1 (zh) * | 2022-04-25 | 2023-11-02 | 清远南玻节能新材料有限公司 | 微晶玻璃、强化玻璃及其制备方法与应用 |
CN115180829A (zh) * | 2022-06-07 | 2022-10-14 | 兆虹精密(北京)科技有限公司 | 具有顺磁性的高透光微晶玻璃及其制备原料组合物、制备方法和应用 |
CN114907016B (zh) * | 2022-06-24 | 2023-08-01 | 成都光明光电股份有限公司 | 微晶玻璃、微晶玻璃制品及其制造方法 |
CN114988706A (zh) * | 2022-06-25 | 2022-09-02 | 湖北戈碧迦光电科技股份有限公司 | 含Li2Si2O3和Li2Si2O5晶体的Li-Al-Si微晶玻璃及其制备方法 |
CN117430333A (zh) * | 2022-07-22 | 2024-01-23 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 一种强化微晶玻璃和玻璃器件以及电子设备 |
WO2024086021A1 (en) | 2022-10-14 | 2024-04-25 | Corning Incorporated | 3d forming of lithium silicate glass ceramics with residual glass phase |
CN115724440B (zh) * | 2022-11-14 | 2024-08-09 | 攀钢集团攀枝花钢铁研究院有限公司 | 一种含氨浸出浆料固液分离及氨回收的方法 |
WO2024118373A1 (en) | 2022-11-30 | 2024-06-06 | Corning Incorporated | Textured articles and methods for making the same |
WO2024162064A1 (ja) | 2023-02-01 | 2024-08-08 | 株式会社オハラ | 結晶相を含むガラス |
CN118164683A (zh) * | 2023-02-21 | 2024-06-11 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 一种透明微晶玻璃和化学强化微晶玻璃 |
CN116874190A (zh) * | 2023-06-29 | 2023-10-13 | 彩虹集团(邵阳)特种玻璃有限公司 | 一种高强度透明微晶玻璃及其制备方法 |
Family Cites Families (93)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE262851C (ja) | ||||
US3246972A (en) * | 1961-08-18 | 1966-04-19 | Corning Glass Works | Method of making ceramic article |
US4074992A (en) | 1964-05-05 | 1978-02-21 | Corning Glass Works | Sodium ion-exchange on surface of beta-spodumene |
US3681097A (en) | 1970-08-19 | 1972-08-01 | Corning Glass Works | Low expansion zinc petalite-beta quartz glass-ceramic articles |
US4707458A (en) | 1985-06-03 | 1987-11-17 | Corning Glass Works | Glass-ceramics suitable for ring laser gyros |
CA1288264C (en) * | 1986-10-22 | 1991-09-03 | Robert D. Deluca | Orthodontic brackets made from ion exchange strengthened glass |
DD262851A1 (de) * | 1987-08-07 | 1988-12-14 | Univ Schiller Jena | Petalittypmischkristalle enthaltende glaskeramik mit geringer waermedehnung |
US4940674A (en) | 1989-11-13 | 1990-07-10 | Corning Incorporated | High strength, haze-free, transparent glass-ceramics |
US5219799A (en) | 1991-10-07 | 1993-06-15 | Corning Incorporated | Lithium disilicate-containing glass-ceramics some of which are self-glazing |
GB9319450D0 (en) | 1993-09-21 | 1995-03-08 | Gec Alsthom Ltd | Transparent glass ceramic |
DE69623240T2 (de) | 1995-06-21 | 2003-03-27 | Ngk Insulators, Ltd. | Magnetplattenträger, magnetische platte und verfahren zur herstellung des magnetplattenträgers |
JPH10226532A (ja) * | 1995-12-28 | 1998-08-25 | Yamamura Glass Co Ltd | 磁気ディスク基板用ガラス組成物及び磁気ディスク基板 |
JPH10212132A (ja) | 1996-11-27 | 1998-08-11 | Hoya Corp | チップパッケージ用基板 |
JP3140702B2 (ja) * | 1996-12-20 | 2001-03-05 | 日本碍子株式会社 | 磁気ディスク基板用結晶化ガラス、磁気ディスク基板および磁気ディスク |
JP3366830B2 (ja) | 1997-06-11 | 2003-01-14 | 小橋工業株式会社 | ロータリ作業機のゲージホイール上下調節装置 |
JP2897954B2 (ja) | 1997-06-11 | 1999-05-31 | 義人 安久津 | トラクターに積載する牽引作業機用コントローラ装置 |
US6420286B1 (en) | 1998-03-23 | 2002-07-16 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramics |
US6383645B1 (en) * | 1998-03-23 | 2002-05-07 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramic substrate for an information storage medium |
US6517623B1 (en) | 1998-12-11 | 2003-02-11 | Jeneric/Pentron, Inc. | Lithium disilicate glass ceramics |
US6802894B2 (en) | 1998-12-11 | 2004-10-12 | Jeneric/Pentron Incorporated | Lithium disilicate glass-ceramics |
JP2000143290A (ja) * | 1998-11-09 | 2000-05-23 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板、磁気ディスクおよび結晶化ガラスの製造方法 |
WO2000034196A2 (en) | 1998-12-11 | 2000-06-15 | Jeneric/Pentron Incorporated | Pressable lithium disilicate glass ceramics |
DE19917921C1 (de) | 1999-04-20 | 2000-06-29 | Schott Glas | Gläser und Glaskeramiken mit hohem spezifischen E-Modul und deren Verwendung |
DK1114803T3 (da) | 1999-05-28 | 2006-02-06 | Nippon Electric Glass Co | Transparent, krystalliseret og krystallinsk glas af typen L12-A12O3-SIO2 |
JP4831854B2 (ja) | 1999-07-06 | 2011-12-07 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
JP2001019478A (ja) * | 1999-07-06 | 2001-01-23 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
JP4849702B2 (ja) | 1999-07-06 | 2012-01-11 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス |
JP4337176B2 (ja) | 1999-07-06 | 2009-09-30 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成 |
JP4158282B2 (ja) | 1999-07-06 | 2008-10-01 | コニカミノルタオプト株式会社 | 磁気ディスク用結晶化ガラス基板 |
JP2001035417A (ja) | 1999-07-21 | 2001-02-09 | Ohara Inc | Crt用ガラスセラミックス |
US6677259B2 (en) | 1999-08-10 | 2004-01-13 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramics for a light filter |
AU7316500A (en) | 1999-09-21 | 2001-04-24 | Kabushiki Kaisha Ohara | Holding member for information storage disk and information storage disk drive device |
JP2001097739A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-10 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラスの製造方法 |
JP2001097740A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-10 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板および磁気ディスク |
JP2001126236A (ja) * | 1999-10-25 | 2001-05-11 | Ngk Insulators Ltd | 磁気ディスク用基板および磁気ディスク |
US6426311B1 (en) * | 2000-02-01 | 2002-07-30 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramics |
US6770605B1 (en) | 2000-09-11 | 2004-08-03 | The Lubrizol Corporation | Modified polyisobutylene succinimide dispersants having improved seal, sludge, and deposit performance |
US6555232B1 (en) | 2001-11-28 | 2003-04-29 | Corning, Incorporated | High strain point glasses |
JP4726400B2 (ja) | 2003-05-29 | 2011-07-20 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス基板の製造方法 |
JP4647256B2 (ja) * | 2003-07-28 | 2011-03-09 | 株式会社オハラ | ガラスセラミックス |
JP2005062832A (ja) * | 2003-07-28 | 2005-03-10 | Nippon Electric Glass Co Ltd | マイクロレンズ及びマイクロレンズアレイ |
US8444756B2 (en) | 2003-08-07 | 2013-05-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithium silicate materials |
CN100355685C (zh) * | 2003-09-19 | 2007-12-19 | 日本碍子株式会社 | 氧化锌—氧化铝—二氧化硅基晶化玻璃及使用其的反射体基材 |
DE10346197B4 (de) * | 2003-09-30 | 2006-02-16 | Schott Ag | Glaskeramik, Verfahren zur Herstellung einer solchen und Verwendung |
WO2005066086A2 (de) | 2004-01-05 | 2005-07-21 | Schott Ag | Verwendung von glaskeramikscheiben |
DE102004059728A1 (de) * | 2004-12-11 | 2006-06-22 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von Glas- oder Glaskeramik und insbesondere Glas- oder Glaskeramik-Artikel |
TW200724506A (en) | 2005-10-07 | 2007-07-01 | Ohara Kk | Inorganic composition |
JP4933863B2 (ja) * | 2005-10-25 | 2012-05-16 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラスおよび結晶化ガラスの製造方法 |
JP4977406B2 (ja) * | 2006-06-06 | 2012-07-18 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラス及び結晶化ガラスの製造方法 |
FR2909373B1 (fr) * | 2006-11-30 | 2009-02-27 | Snc Eurokera Soc En Nom Collec | Vitroceramiques de beta-quartz, transparentes et incolores, exemptes de tio2 ; articles en lesdites vitroceramiques ; verres precurseurs, procedes d'elaboration. |
JP4467597B2 (ja) * | 2007-04-06 | 2010-05-26 | 株式会社オハラ | 無機組成物物品 |
JP5435394B2 (ja) | 2007-06-08 | 2014-03-05 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板及びその製造方法 |
JP5070006B2 (ja) | 2007-11-02 | 2012-11-07 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラス |
JP5053948B2 (ja) | 2007-12-21 | 2012-10-24 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラス |
FR2926544B1 (fr) | 2008-01-18 | 2011-04-22 | Eurokera | Article vitroceramique et email adapte pour son revetement |
US20110092353A1 (en) * | 2008-07-03 | 2011-04-21 | Corning Incorporated | Durable glass-ceramic housings/enclosures for electronic device |
CN103043900A (zh) | 2008-08-08 | 2013-04-17 | 康宁股份有限公司 | 强化的玻璃制品及其制造方法 |
DE102009011850B3 (de) | 2009-03-05 | 2010-11-25 | Schott Ag | Verfahren zum umweltfreundlichen Schmelzen und Läutern einer Glasschmelze für ein Ausgangsglas einer Lithium-Aluminium-Silikat(LAS)-Glaskeramik sowie deren Verwendung |
DE102010006232B4 (de) | 2009-07-20 | 2016-09-15 | Schott Ag | Hochleistungsglaskeramik und Verfahren zur Herstellung einer Hochleistungskeramik sowie ihre Verwendung |
DE202009019061U1 (de) | 2009-12-23 | 2016-02-23 | Degudent Gmbh | Lithiummetasilicat-Glaskeramik und deren Verwendung |
EP2364957A1 (en) | 2010-02-26 | 2011-09-14 | Corning Incorporated | Glass ceramics with bulk scattering properties and methods of making them |
DE102010027461B4 (de) | 2010-07-17 | 2019-08-22 | Schott Ag | Lithiumhaltige, transparente Glaskeramik mit geringer Wärmedehnung, einer weitestgehend amorphen, an Lithium verarmten, überwiegend glasigen Oberflächenzone und hoher Transmission, ihre Herstellung und Verwendung |
DE202010014361U1 (de) * | 2010-07-23 | 2010-12-30 | Schott Ag | Glaskeramik als Kochfläche für Induktionsbeheizung mit verbesserter farbiger Anzeigefähigkeit und Wärmeabschirmung |
DE102010032113B9 (de) * | 2010-07-23 | 2017-06-22 | Schott Ag | Transparente oder transparente eingefärbte Lithiumaluminiumsilikat-Glaskeramik mit einstellbarer thermischer Ausdehnung und deren Verwendung |
JP5762707B2 (ja) | 2010-09-08 | 2015-08-12 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラスの製造方法および結晶化ガラス物品 |
US8883663B2 (en) | 2010-11-30 | 2014-11-11 | Corning Incorporated | Fusion formed and ion exchanged glass-ceramics |
JPWO2012121116A1 (ja) * | 2011-03-04 | 2014-07-17 | 旭硝子株式会社 | ディスプレイ装置用結晶化ガラス |
CN102690059B (zh) | 2011-03-23 | 2016-08-03 | 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 | 用于化学钢化的铝硅酸盐玻璃和玻璃陶瓷 |
CA2833580C (en) * | 2011-04-20 | 2016-06-28 | Straumann Holding Ag | Process for preparing a glass-ceramic body |
CN103648467B (zh) * | 2011-06-22 | 2016-01-20 | 维塔假牙制造厂H·劳特有限责任两合公司 | 牙科修复物、其制造方法以及玻璃陶瓷 |
JP5599474B2 (ja) | 2011-07-15 | 2014-10-01 | 旭硝子株式会社 | 結晶化ガラス筐体 |
US10280112B2 (en) | 2011-08-19 | 2019-05-07 | Corning Incorporated | Ion exchanged glass with high resistance to sharp contact failure and articles made therefrom |
BR112014017265B1 (pt) * | 2012-01-20 | 2021-11-09 | Straumann Holding Ag | Processo para a preparação de um elemento protético que compreende um corpo de vidro cerâmico |
JP2013249221A (ja) | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法 |
DE102012105572B4 (de) | 2012-06-26 | 2019-05-29 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit vorbestimmter Transmission |
JP2014040353A (ja) | 2012-08-23 | 2014-03-06 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 化学強化結晶化ガラス物品 |
WO2014042200A1 (ja) | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 旭硝子株式会社 | ガラスおよび化学強化ガラス |
US9604871B2 (en) * | 2012-11-08 | 2017-03-28 | Corning Incorporated | Durable glass ceramic cover glass for electronic devices |
TWI647200B (zh) | 2013-01-31 | 2019-01-11 | 康寧公司 | 虛擬化(fictivated)玻璃及其製造方法 |
US9340451B2 (en) | 2013-02-28 | 2016-05-17 | Corning Incorporated | Machining of fusion-drawn glass laminate structures containing a photomachinable layer |
CN103265188A (zh) * | 2013-06-07 | 2013-08-28 | 苏州百纳思光学科技有限公司 | 一种抗划伤盖板玻璃 |
JPWO2015033826A1 (ja) | 2013-09-04 | 2017-03-02 | Hoya株式会社 | ケイ酸塩セラミックス、板状基板および板状基板の製造方法 |
US9701573B2 (en) | 2013-09-06 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | High strength glass-ceramics having lithium disilicate and beta-spodumene structures |
US9701574B2 (en) | 2013-10-09 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | Crack-resistant glass-ceramic articles and methods for making the same |
GB201409883D0 (en) | 2014-06-03 | 2014-07-16 | Ocado Ltd | Methods, systems, and apparatus for controlling movement of transporting devices |
US9751798B2 (en) | 2014-06-30 | 2017-09-05 | Corning Incorporated | White, opaque,β-spodumene glass-ceramic articles with inherent damage resistance and methods for making the same |
CN104108883B (zh) | 2014-08-11 | 2019-03-08 | 中国地质大学(北京) | 一种高强度二硅酸锂玻璃陶瓷及其制备方法 |
CN106999833A (zh) | 2014-10-06 | 2017-08-01 | 康宁股份有限公司 | 蜂窝体过滤器制品及其制造方法 |
CN107001120B (zh) | 2014-10-08 | 2020-03-03 | 康宁股份有限公司 | 具有透锂长石和硅酸锂结构的高强玻璃-陶瓷 |
US10723649B2 (en) | 2017-11-30 | 2020-07-28 | Corning Incorporated | Black lithium silicate glass ceramics |
JP2019212062A (ja) | 2018-06-05 | 2019-12-12 | 株式会社セガゲームス | 情報処理装置及びプログラム |
JP6464544B1 (ja) | 2018-06-05 | 2019-02-06 | デジタルア−ツ株式会社 | 情報処理装置、情報処理方法、情報処理プログラム、及び情報処理システム |
CN113788621B (zh) | 2019-02-08 | 2023-07-25 | Agc株式会社 | 微晶玻璃、化学强化玻璃和半导体支撑基板 |
-
2015
- 2015-10-08 CN CN201580065414.5A patent/CN107001120B/zh active Active
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