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JP2024056339A - Communication wave reflector and method for manufacturing the communication wave reflector - Google Patents

Communication wave reflector and method for manufacturing the communication wave reflector Download PDF

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JP2024056339A JP2022163141A JP2022163141A JP2024056339A JP 2024056339 A JP2024056339 A JP 2024056339A JP 2022163141 A JP2022163141 A JP 2022163141A JP 2022163141 A JP2022163141 A JP 2022163141A JP 2024056339 A JP2024056339 A JP 2024056339A
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wave reflector
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真一郎 鈴木
Shinichiro Suzuki
純也 笠原
Junya Kasahara
邦浩 武井
Kunihiro Takei
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Fujimori Kogyo Co Ltd
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Abstract

Figure 2024056339000001

【課題】電波の反射性能を向上させるための積層構成の実現を可能とし、特に反射効率の高い通信波用反射板および通信波用反射板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも金属層11、基材層13、金属パターン14、保護層15をこの順で含む積層体からなり、金属パターン14が複数の幾何学的模様が繰り返しからなり回路として導通していないパターンであり、金属層11と、基材層13との間に厚さが0.1~25μmの接着剤層12を含む。
【選択図】図1

Figure 2024056339000001

The present invention provides a communication wave reflector that enables the realization of a layered structure for improving the reflection performance of radio waves and has particularly high reflection efficiency, and a method for manufacturing the communication wave reflector.
[Solution] The laminate includes at least a metal layer 11, a base layer 13, a metal pattern 14, and a protective layer 15 in this order, the metal pattern 14 being a pattern consisting of a plurality of repeated geometric patterns that are not conductive as a circuit, and an adhesive layer 12 having a thickness of 0.1 to 25 μm is included between the metal layer 11 and the base layer 13.
[Selected Figure] Figure 1

Description

本発明は、通信波用反射板および通信波用反射板の製造方法に関する。 The present invention relates to a communication wave reflector and a method for manufacturing a communication wave reflector.

近年、入射角に対して所望の反射角が得られるように設計することが可能なメタサーフェス反射板が提案されている(例えば、特許文献1~3を参照)。 In recent years, metasurface reflectors have been proposed that can be designed to obtain a desired reflection angle for a given angle of incidence (see, for example, Patent Documents 1 to 3).

特開2021-048465号公報JP 2021-048465 A 特開2021-141359号公報JP 2021-141359 A 特開2021-175054号公報JP 2021-175054 A

通常の金属板を反射板に用いると、金属板は電波を鏡面反射するので反射方向が限られる。このため、従来の電波よりも直進性が高い高周波数の電波は、遮蔽物があると端末に届にくい問題がある。メタサーフェス反射板は、電波のビーム方向の制御を行える反射板として注目されている。 When a normal metal plate is used as a reflector, the metal plate reflects radio waves specularly, limiting the direction of reflection. For this reason, high-frequency radio waves, which tend to travel in a more directional direction than conventional radio waves, have difficulty reaching the terminal if there is an obstruction. Metasurface reflectors have attracted attention as reflectors that can control the direction of the radio wave beam.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、電波の反射性能を向上させるための積層構成の実現を可能とし、特に反射効率の高い通信波用反射板および通信波用反射板の製造方法を提供することを課題とする。 The present invention was made in consideration of the above circumstances, and aims to provide a communication wave reflector and a method for manufacturing a communication wave reflector that enables the realization of a layered structure for improving the reflection performance of radio waves and has particularly high reflection efficiency.

本発明は、下記の態様を含む。 The present invention includes the following aspects:

本発明の第1の態様は、少なくとも金属層、基材層、金属パターン、保護層をこの順で含む積層体からなり、前記金属パターンが複数の幾何学的模様が繰り返しからなり回路として導通していないパターンであり、前記金属層と、前記基材層との間に厚さが0.1~25μmの接着剤層を含むことを特徴とする通信波用反射板である。 The first aspect of the present invention is a communication wave reflector that is made up of a laminate including at least a metal layer, a base layer, a metal pattern, and a protective layer in this order, the metal pattern being a pattern that is made up of multiple repeated geometric patterns and is not conductive as a circuit, and that includes an adhesive layer having a thickness of 0.1 to 25 μm between the metal layer and the base layer.

本発明の第2の態様は、前記接着剤層の誘電正接(Df)が0.02以下であることを特徴とする第1の態様の通信波用反射板である。
本発明の第3の態様は、前記接着剤層の比誘電率(Dk)が3.0以下であることを特徴とする第1または第2の態様の通信波用反射板である。
A second aspect of the present invention is the communication wave reflector of the first aspect, characterized in that the adhesive layer has a dielectric loss tangent (Df) of 0.02 or less.
A third aspect of the present invention is the communication wave reflector according to the first or second aspect, characterized in that the adhesive layer has a relative dielectric constant (Dk) of 3.0 or less.

本発明の第4の態様は、前記接着剤層がポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、酸変性ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、スチレン系エラストマーのいずれかから選択される接着剤を含むことを特徴とする第1~3のいずれか1の態様の通信波用反射板である。 The fourth aspect of the present invention is a communication wave reflector according to any one of the first to third aspects, characterized in that the adhesive layer contains an adhesive selected from the group consisting of polyimide resin, maleimide resin, epoxy resin, polyolefin resin, acid-modified polyolefin resin, acrylic resin, and styrene-based elastomer.

本発明の第5の態様は、前記基材層が、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ナイロン、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、ポリイミド(PI)、変性ポリイミド(MPI)、シクロオレフィンポリマー(COP)、液晶ポリマー(LCP)のいずれかから選択される樹脂からなることを特徴とする第1~4のいずれか1の態様の通信波用反射板である。 The fifth aspect of the present invention is a communication wave reflector according to any one of the first to fourth aspects, characterized in that the base layer is made of a resin selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PET), nylon, polypropylene (PP), polyethylene (PE), polyimide (PI), modified polyimide (MPI), cycloolefin polymer (COP), and liquid crystal polymer (LCP).

本発明の第6の態様は、前記金属層が、銅、アルミニウム、ステンレスのいずれかから選択される金属からなることを特徴とする第1~5のいずれか1の態様の通信波用反射板である。 The sixth aspect of the present invention is a communication wave reflector according to any one of the first to fifth aspects, characterized in that the metal layer is made of a metal selected from the group consisting of copper, aluminum, and stainless steel.

本発明の第7の態様は、前記金属パターンが、アルミニウム、銅、金、銀のいずれかから選択される金属からなることを特徴とする第1~6のいずれか1の態様の通信波用反射板である。
本発明の第8の態様は、前記金属パターンの前記幾何学的模様を構成する各パターンの大きさが、0.01~8mmの範囲内であることを特徴とする第1~7のいずれか1の態様の通信波用反射板である。
A seventh aspect of the present invention is a communication wave reflector according to any one of the first to sixth aspects, characterized in that the metal pattern is made of a metal selected from the group consisting of aluminum, copper, gold, and silver.
An eighth aspect of the present invention is a communication wave reflector of any one of the first to seventh aspects, characterized in that the size of each pattern constituting the geometric pattern of the metal pattern is within the range of 0.01 to 8 mm.

本発明の第9の態様は、前記保護層が、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂のいずれかから選択される樹脂からなることを特徴とする第1~8のいずれか1の態様の通信波用反射板である。 The ninth aspect of the present invention is a communication wave reflector according to any one of the first to eighth aspects, characterized in that the protective layer is made of a resin selected from the group consisting of polyethylene resin, polypropylene resin, polybutylene resin, polyester resin, and polyamide resin.

本発明の第10の態様は、第1~9のいずれか1の態様の通信波用反射板の製造方法であって、ロールtoロールにより前記積層体を製造することを特徴とする通信波用反射板の製造方法である。 The tenth aspect of the present invention is a method for manufacturing a communication wave reflector according to any one of the first to ninth aspects, characterized in that the laminate is manufactured by roll-to-roll.

本発明によれば、電波の反射性能を向上させるための積層構成の実現を可能とし、特に反射効率の高い通信波用反射板することができる。 The present invention makes it possible to realize a layered structure that improves the reflection performance of radio waves, resulting in a communication wave reflector with particularly high reflection efficiency.

通信波用反射板の実施形態を示す分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view showing an embodiment of a communication wave reflector. 通信波用反射板の実施形態を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment of a communication wave reflector. 通信波用反射板の改変例を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a modified example of a communication wave reflector.

以下、好適な実施形態に基づいて、図面を参照して、本発明を説明する。これらの図面は、概念を表す説明図であって、各部の形状、寸法、個数、比率などの詳細は、実際と異なる場合がある。 The present invention will be described below based on a preferred embodiment with reference to the drawings. These drawings are explanatory diagrams that show the concept, and details such as the shape, dimensions, number, and ratio of each part may differ from the actual ones.

図1および図2に、実施形態の通信波用反射板を例示する。図1は、保護層15が基材層13および金属パターン14から分離したように示す分解斜視図である。図2は、厚さ方向に沿う断面図である。 Figures 1 and 2 show an example of a communication wave reflector according to an embodiment. Figure 1 is an exploded perspective view showing the protective layer 15 separated from the base layer 13 and the metal pattern 14. Figure 2 is a cross-sectional view along the thickness direction.

実施形態の通信波用反射板10は、少なくとも金属層11、接着剤層12、基材層13、金属パターン14、保護層15をこの順で含む積層体からなる。 The communication wave reflector 10 of the embodiment is made of a laminate including at least a metal layer 11, an adhesive layer 12, a substrate layer 13, a metal pattern 14, and a protective layer 15 in this order.

金属パターン14は、複数の幾何学的模様が繰り返しからなり回路として導通していないパターンである。金属層11と、基材層13との間には、厚さが0.1~25μmの接着剤層12を含む。 The metal pattern 14 is a pattern that consists of multiple repeated geometric patterns and does not form a conductive circuit. Between the metal layer 11 and the base layer 13, an adhesive layer 12 having a thickness of 0.1 to 25 μm is included.

金属パターン14は、例えば、メタサーフェス反射板に関する技術を用いて、複数の幾何学的模様が繰り返しからなり回路として導通していないパターンとして設計される。金属パターン14の周期、間隔、寸法等は、所望の方向へ指向する反射波が発生するように、決定される。 The metal pattern 14 is designed, for example, using technology related to metasurface reflectors, as a pattern consisting of multiple repeated geometric patterns that do not form a conductive circuit. The period, spacing, dimensions, etc. of the metal pattern 14 are determined so as to generate a reflected wave that is directed in the desired direction.

例えば建造物の壁面などに反射板を設置する場合、鏡面反射の特性を有する金属板を用いると、反射面に垂直な法線方向に対して、入射方向と反射方向とが対称には配置される必要がある。このため、反射板を設置するのに制約が生じ、壁面に沿って設置することが困難になる場合がある。これに対して、メタサーフェス反射板の場合は、壁面に沿って反射板を設置しながら、反射方向が入射方向と非対称でも反射が可能になる。 For example, when installing a reflector on the wall of a building, if a metal plate with specular reflection properties is used, the incident and reflected directions must be arranged symmetrically with respect to the normal direction perpendicular to the reflective surface. This places restrictions on the installation of the reflector, and it may be difficult to install it along the wall. In contrast, a metasurface reflector can be installed along the wall, and reflection is possible even if the reflection direction is asymmetric with the incident direction.

金属パターン14を形成する材質は、電気伝導体であれば特に限定されないが、アルミニウム、銅、金、銀のいずれかから選択される金属が好ましい。これらの金属を主成分とする合金を用いて金属パターン14を形成してもよい。加工性の観点やコストの観点からは、金属パターン14の材質が銅であることが好ましい。 The material from which the metal pattern 14 is formed is not particularly limited as long as it is an electrical conductor, but a metal selected from aluminum, copper, gold, and silver is preferred. The metal pattern 14 may be formed using an alloy containing these metals as the main component. From the standpoint of workability and cost, it is preferred that the material of the metal pattern 14 is copper.

金属パターン14は、基材層13上に2種以上の金属層を積層して形成してもよい。この場合、少なくとも1種の金属層が、アルミニウム、銅、金、銀のいずれかから選択される金属からなることが好ましい。他の金属層としては、特に限定されないが、ニッケル、クロム、チタン、スズ、あるいは、これらの1種以上を含む合金などが挙げられる。 The metal pattern 14 may be formed by laminating two or more metal layers on the base layer 13. In this case, it is preferable that at least one of the metal layers is made of a metal selected from aluminum, copper, gold, and silver. Other metal layers include, but are not limited to, nickel, chromium, titanium, tin, or an alloy containing one or more of these.

金属パターン14の幾何学的模様は、正方形、長方形などの凸多角形(凹角を有しない多角形)、十字形などの凹多角形(凹角を有する多角形)、円形、楕円形などの曲線を含む形状、ループ形状など内部に空隙を有する形状等が挙げられる。 The geometric pattern of the metal pattern 14 can be a convex polygon (a polygon with no concave angles) such as a square or a rectangle, a concave polygon (a polygon with concave angles) such as a cross, a shape including curves such as a circle or an ellipse, or a shape with an internal gap such as a loop.

金属パターン14の幾何学的模様を構成する各パターンの大きさが、0.01~8mmの範囲内であることが好ましい。各パターンの大きさとしては、特に限定されないが、直径、長径、短径、長さ、幅等が挙げられる。各パターンの大きさの最小値および最大値が、上述の数値範囲に含まれることが好ましい。 It is preferable that the size of each pattern constituting the geometric pattern of the metal pattern 14 is within the range of 0.01 to 8 mm. The size of each pattern is not particularly limited, but may include the diameter, major axis, minor axis, length, width, etc. It is preferable that the minimum and maximum values of the size of each pattern are included in the above-mentioned numerical range.

例えば、第5世代移動通信システム(5G)に用いられる3~30GHz程度の周波数の場合、各パターンの大きさが、6~8mm程度であってもよい。ミリ波とされる30~300GHzの周波数の場合、各パターンの大きさが、1~2mm程度であってもよい。第6世代移動通信システム(6G)に用いられると想定される100GHz程度を超える周波数の場合、各パターンの大きさが、0.01~0.2mm程度であってもよい。 For example, for frequencies of about 3 to 30 GHz used in fifth generation mobile communication systems (5G), the size of each pattern may be about 6 to 8 mm. For frequencies of 30 to 300 GHz, which are considered millimeter waves, the size of each pattern may be about 1 to 2 mm. For frequencies of over 100 GHz, which are expected to be used in sixth generation mobile communication systems (6G), the size of each pattern may be about 0.01 to 0.2 mm.

金属パターン14により反射される電磁波の周波数帯は、特に限定されないが、空中を伝搬して通信に使用される周波数帯が挙げられる。通信波用反射板10は、例えば電波、マイクロ波、ミリ波、サブミリ波などの通信波を反射する用途に設計されてもよい。周波数帯の具体例としては、例えば3.0~3000GHzの範囲内から適宜設定されてもよい。中でも第5世代移動通信システム(5G)に用いられる3~30GHz程度の周波数や、ミリ波とされる30~300GHzの周波数用途に設計されることが好ましい。 The frequency band of the electromagnetic waves reflected by the metal pattern 14 is not particularly limited, but may be a frequency band that propagates through the air and is used for communication. The communication wave reflector 10 may be designed for use in reflecting communication waves such as radio waves, microwaves, millimeter waves, and submillimeter waves. Specific examples of the frequency band may be appropriately set within the range of, for example, 3.0 to 3000 GHz. In particular, it is preferable to design it for use in frequencies of about 3 to 30 GHz used in the fifth generation mobile communication system (5G), or frequencies of 30 to 300 GHz, which are considered millimeter waves.

金属パターン14を形成する方法は特に限定されないが、蒸着、メッキ、塗布、ナノインプリント、インクジェット、フォトリソグラフィー、パターニング塗工などが挙げられる。 The method for forming the metal pattern 14 is not particularly limited, but examples include vapor deposition, plating, coating, nanoimprinting, inkjet, photolithography, patterning coating, etc.

基材層13の上に金属等の導体を付与する際に、所定のパターン形状となるようにして金属パターン14が形成されてもよい。例えば、塗布パターンの制御、レジスト、マスク等を用いて、所定の領域のみに金属材料が付着されるようにすることで、所望のパターン形状を得ることができる。 When a conductor such as a metal is applied onto the base layer 13, the metal pattern 14 may be formed in a predetermined pattern shape. For example, the desired pattern shape can be obtained by controlling the application pattern, using a resist, a mask, etc., so that the metal material is applied only to predetermined areas.

基材層13の上の所定領域に金属等の導体を付与した後で、不要な部分を除去することで金属パターン14が形成されてもよい。例えば、エッチング、打ち抜き、トリミング等を用いて、所定の領域以外の金属材料が除去されるようにすることで、所望のパターン形状を得ることができる。 The metal pattern 14 may be formed by applying a conductor such as a metal to a predetermined area on the base layer 13 and then removing unnecessary portions. For example, the desired pattern shape can be obtained by removing the metal material from areas other than the predetermined area using etching, punching, trimming, etc.

基材層13は、金属パターン14の基材となる部材である。基材層13は、樹脂、ガラス、セラミックスなどの電気絶縁体から形成されることが好ましい。取り扱い性の観点からは、基材層13の樹脂フィルム、樹脂シート、樹脂板などの樹脂材料を用いることが好ましい。 The substrate layer 13 is a member that serves as the substrate for the metal pattern 14. The substrate layer 13 is preferably formed from an electrical insulator such as resin, glass, or ceramics. From the viewpoint of ease of handling, it is preferable to use a resin material such as a resin film, resin sheet, or resin plate for the substrate layer 13.

基材層13に用いられる樹脂材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などが挙げられる。基材層13に用いられる熱可塑性樹脂としては、芳香族または脂肪族のポリエステル系樹脂、芳香族または脂肪族のポリアミド系樹脂、環状または非環状のポリオレフィン系樹脂、芳香族または脂肪族のポリアミド系樹脂、芳香族または脂肪族のポリイミド系樹脂などが挙げられる。 The resin material used for the base layer 13 may be a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, etc. The thermoplastic resin used for the base layer 13 may be an aromatic or aliphatic polyester resin, an aromatic or aliphatic polyamide resin, a cyclic or non-cyclic polyolefin resin, an aromatic or aliphatic polyamide resin, an aromatic or aliphatic polyimide resin, etc.

基材層13は、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ナイロン、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、ポリイミド(PI)、変性ポリイミド(MPI)、シクロオレフィンポリマー(COP)、液晶ポリマー(LCP)のいずれかから選択される樹脂からなることが好ましい。これらの樹脂を主成分とする混合物、共重合体、変性樹脂などを基材層13に用いてもよい。 The base layer 13 is preferably made of a resin selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PET), nylon, polypropylene (PP), polyethylene (PE), polyimide (PI), modified polyimide (MPI), cycloolefin polymer (COP), and liquid crystal polymer (LCP). Mixtures, copolymers, modified resins, etc. that contain these resins as the main components may also be used for the base layer 13.

コストの観点からは、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)等の汎用樹脂を用いて、基材層13を形成してもよい。 From a cost perspective, the base layer 13 may be formed using a general-purpose resin such as polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP), or polyethylene (PE).

高周波信号に対して低誘電性となる観点からは、ポリエチレン(PE)、シクロオレフィンポリマー(COP)、液晶ポリマー(LCP)等を用いて、基材層13を形成してもよい。これにより、高周波信号の損失を抑制し、反射効率を一層高めることができる。 From the viewpoint of low dielectric constant for high-frequency signals, the base layer 13 may be formed using polyethylene (PE), cycloolefin polymer (COP), liquid crystal polymer (LCP), etc. This can suppress loss of high-frequency signals and further increase reflection efficiency.

基材層13の厚さは特に限定されないが、50~500μm程度であってもよく、100~300μm程度がより好ましい。 The thickness of the base layer 13 is not particularly limited, but may be approximately 50 to 500 μm, and is more preferably approximately 100 to 300 μm.

基材層13の可視光領域における光学特性は特に限定されないが、基材層13が透明であると、金属パターン14の形成、点検などにおける作業性に優れるので、好ましい。基材層13は、金属パターン14と直接に接してもよく、基材層13と金属パターン14との間に他の層が介在してもよい。 The optical properties of the substrate layer 13 in the visible light region are not particularly limited, but it is preferable that the substrate layer 13 is transparent, since this improves workability in forming and inspecting the metal pattern 14. The substrate layer 13 may be in direct contact with the metal pattern 14, or another layer may be interposed between the substrate layer 13 and the metal pattern 14.

基材層13は、1層の材料から構成されてもよく、2層以上の材料から構成されてもよい。基材層13と金属パターン14の積層構造が、積層体の厚さ方向に2回以上繰り返されてもよい。 The substrate layer 13 may be composed of one layer of material, or may be composed of two or more layers of material. The laminated structure of the substrate layer 13 and the metal pattern 14 may be repeated two or more times in the thickness direction of the laminate.

特に図示しないが、通信波用反射板10は、例えば、金属層11、接着剤層12、基材層13、第1の金属パターン14、基材層13、第2の金属パターン14、保護層15をこの順で含む積層体であってもよい。第1の金属パターン14と第2の金属パターン14とが、異なる周波数に対する反射特性を有してもよい。第1の金属パターン14と、基材層13との間には、接着剤層12が設けられてもよい。 Although not specifically shown, the communication wave reflector 10 may be, for example, a laminate including a metal layer 11, an adhesive layer 12, a substrate layer 13, a first metal pattern 14, a substrate layer 13, a second metal pattern 14, and a protective layer 15 in this order. The first metal pattern 14 and the second metal pattern 14 may have reflection characteristics for different frequencies. An adhesive layer 12 may be provided between the first metal pattern 14 and the substrate layer 13.

金属層11は、金属パターン14を通過した電波を消去するためのグランド層として利用される。基材層13は、金属層11と金属パターン14との間を電気的に絶縁している。積層体がメタサーフェス反射板となるには、少なくとも金属層11、基材層13、金属パターン14をこの順で含むことが好ましい。 The metal layer 11 is used as a ground layer to eliminate radio waves that have passed through the metal pattern 14. The base layer 13 provides electrical insulation between the metal layer 11 and the metal pattern 14. For the laminate to become a metasurface reflector, it is preferable that it contains at least the metal layer 11, the base layer 13, and the metal pattern 14 in this order.

金属層11を形成する材質は、電気伝導体であれば特に限定されないが、銅、アルミニウム、ステンレスのいずれかから選択される金属が好ましい。これらの金属を主成分とする合金を用いて金属層11を形成してもよい。 The material forming the metal layer 11 is not particularly limited as long as it is an electrical conductor, but a metal selected from copper, aluminum, and stainless steel is preferable. The metal layer 11 may be formed using an alloy containing these metals as the main component.

金属層11を形成する方法は特に限定されないが、蒸着、メッキ、塗布、ナノインプリント、インクジェット、金属箔の貼付などが挙げられる。金属層11は、金属パターン14のように複数の幾何学的模様が繰り返しからなるパターン形状は不要である。 The method for forming the metal layer 11 is not particularly limited, but examples include vapor deposition, plating, coating, nanoimprinting, inkjet, and attaching metal foil. The metal layer 11 does not need to have a pattern shape consisting of multiple repeated geometric patterns, such as the metal pattern 14.

金属層11は、基材層13の金属パターン14が積層された側とは反対側の面に、均一に連続したベタ状であってもよい。生産性の観点からは、金属層11が金属箔から構成されることが好ましい。 The metal layer 11 may be uniformly continuous and solid on the surface of the base layer 13 opposite to the side on which the metal pattern 14 is laminated. From the viewpoint of productivity, it is preferable that the metal layer 11 is made of metal foil.

金属層11に用いられる金属箔としては、銅箔、アルミニウム箔、ステンレス箔のいずれかから選択される金属箔が好ましい。銅、アルミニウム、ステンレスのいずれかを主成分とする合金箔を用いて金属層11を形成してもよい。 The metal foil used for the metal layer 11 is preferably a metal foil selected from copper foil, aluminum foil, and stainless steel foil. The metal layer 11 may be formed using an alloy foil whose main component is copper, aluminum, or stainless steel.

実施形態では、金属層11と基材層13との間に接着剤層12が含まれる。これにより、金属層11と基材層13との接着性を向上し、金属パターン14の反射効率を高めることができる。また、金属層11と基材層13との積層に際し、生産性を向上することができる。 In the embodiment, an adhesive layer 12 is included between the metal layer 11 and the base layer 13. This improves the adhesion between the metal layer 11 and the base layer 13, and increases the reflection efficiency of the metal pattern 14. In addition, productivity can be improved when laminating the metal layer 11 and the base layer 13.

接着剤層12は、金属層11と基材層13との間に積層される。接着剤層12が金属層11と直接に接してもよく、接着剤層12と金属層11との間に他の層が介在してもよい。接着剤層12が基材層13と直接に接してもよく、接着剤層12と基材層13との間に他の層が介在してもよい。 The adhesive layer 12 is laminated between the metal layer 11 and the base layer 13. The adhesive layer 12 may be in direct contact with the metal layer 11, or another layer may be interposed between the adhesive layer 12 and the metal layer 11. The adhesive layer 12 may be in direct contact with the base layer 13, or another layer may be interposed between the adhesive layer 12 and the base layer 13.

接着剤層12と、金属層11または基材層13との間に他の層が介在する場合、他の層は、接着剤層12による接着力を妨げないことが好ましく、接着剤層12による接着力を向上する層であってもよい。他の層としては、特に限定されないが、表面処理層、アンチブロッキング層、自然酸化膜などが挙げられる。 When another layer is interposed between the adhesive layer 12 and the metal layer 11 or the substrate layer 13, it is preferable that the other layer does not interfere with the adhesive strength of the adhesive layer 12, and may be a layer that improves the adhesive strength of the adhesive layer 12. Examples of the other layer include, but are not limited to, a surface treatment layer, an anti-blocking layer, a natural oxide film, etc.

接着剤層12は、金属層11と基材層13との間を接着する接着剤から形成されることが好ましい。この場合、接着剤層12が、金属層11の少なくとも一部の領域に接着していてもよい。さらに、接着剤層12が、基材層13の少なくとも一部の領域に接着していてもよい。 The adhesive layer 12 is preferably formed from an adhesive that bonds the metal layer 11 and the base layer 13. In this case, the adhesive layer 12 may be adhered to at least a portion of the metal layer 11. Furthermore, the adhesive layer 12 may be adhered to at least a portion of the base layer 13.

接着剤層12に用いられる接着剤としては、特に限定されないが、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、酸変性ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、スチレン系エラストマーのいずれかから選択される接着剤を含むことが好ましい。変性ポリフェニレンエーテル(m-PPE)等の変性ポリフェニレン樹脂を接着剤に用いてもよい。 The adhesive used in the adhesive layer 12 is not particularly limited, but preferably includes an adhesive selected from polyimide resin, maleimide resin, epoxy resin, polyolefin resin, acid-modified polyolefin resin, acrylic resin, and styrene-based elastomer. Modified polyphenylene resin such as modified polyphenylene ether (m-PPE) may also be used as the adhesive.

接着剤層12は、1種の接着剤を含んでもよく、2種以上の接着剤を含んでもよい。接着剤層12には、金属に対する接着性と、樹脂に対する接着性とを兼ね備えた接着剤を用いることが好ましい。 The adhesive layer 12 may contain one type of adhesive, or may contain two or more types of adhesive. It is preferable to use an adhesive that has both adhesion to metals and adhesion to resins for the adhesive layer 12.

接着剤層12の厚さは、0.1~25μmの範囲内であることが好ましく、0.5~10μmがより好ましく、1~5μmがさらに好ましい。接着剤層12が薄すぎると、金属層11と基材層13との間の接着性が低下するおそれがある。接着剤層12は均一な厚さで形成されることが好ましい。接着剤層12が厚すぎると、電波の反射性が悪化するおそれがある。 The thickness of the adhesive layer 12 is preferably within the range of 0.1 to 25 μm, more preferably 0.5 to 10 μm, and even more preferably 1 to 5 μm. If the adhesive layer 12 is too thin, the adhesion between the metal layer 11 and the base layer 13 may decrease. The adhesive layer 12 is preferably formed with a uniform thickness. If the adhesive layer 12 is too thick, the radio wave reflectivity may decrease.

接着剤層12は、反射を必要とする帯域の電波に対して、優れた誘電特性を有することが好ましい。接着剤層12の誘電正接(Df)は、0.02以下であることが好ましい。接着剤層12の比誘電率(Dk)は、3.0以下であることが好ましい。 The adhesive layer 12 preferably has excellent dielectric properties with respect to radio waves in the band requiring reflection. The dielectric tangent (Df) of the adhesive layer 12 is preferably 0.02 or less. The relative dielectric constant (Dk) of the adhesive layer 12 is preferably 3.0 or less.

接着剤層12と基材層13の誘電正接(Df)の差や、接着剤層12と基材層13の比誘電率(Dk)の差が小さいと、接着剤層12と基材層13の界面による電波への悪影響が出にくいものと考えられ、反射率も良くなる。
接着剤層12の誘電正接(Df)と基材層13の誘電正接(Df)の差は0.005以下であることが好ましく、更に好ましくは0.001以下、特に好ましくは0.0005以下である。
接着剤層12の比誘電率(Dk)と基材層13の比誘電率(Dk)の差は0.6以下であることが好ましく、更に好ましくは0.3以下である。
When the difference in the dielectric tangent (Df) between the adhesive layer 12 and the base material layer 13 or the difference in the relative dielectric constant (Dk) between the adhesive layer 12 and the base material layer 13 is small, it is considered that the interface between the adhesive layer 12 and the base material layer 13 is less likely to adversely affect radio waves, and the reflectance is also improved.
The difference between the dielectric tangent (Df) of the adhesive layer 12 and the dielectric tangent (Df) of the base layer 13 is preferably 0.005 or less, more preferably 0.001 or less, and particularly preferably 0.0005 or less.
The difference between the relative dielectric constant (Dk) of the adhesive layer 12 and the relative dielectric constant (Dk) of the base material layer 13 is preferably 0.6 or less, and more preferably 0.3 or less.

誘電正接(Df)および比誘電率(Dk)が周波数に依存する場合、これらの値は、通信波用反射板10により反射される設計周波数における測定値であってもよい。高周波における誘電特性を測定する場合の代表例として、例えば、1MHz、10GHz、30GHz等の特定の周波数を選択して、DfまたはDkの値を測定してもよい。 When the dielectric loss tangent (Df) and the relative dielectric constant (Dk) depend on the frequency, these values may be measured at the design frequency reflected by the communication wave reflector 10. As a representative example of measuring the dielectric properties at high frequencies, the value of Df or Dk may be measured by selecting a specific frequency such as 1 MHz, 10 GHz, or 30 GHz.

通信波用反射板10は、最表面が金属パターン14となると接触や帯電によりパターンが欠落することがあることがあり、屋外に設置される場合もある。金属パターン14を保護するため、通信波用反射板10は、基材層13の金属パターン14が積層された側の面に保護層15を有することが好ましい。保護層15は、取り扱い性の観点からは、樹脂フィルム、樹脂シート、樹脂板などの樹脂材料を用いることが好ましい。 When the communication wave reflector 10 has a metal pattern 14 on the outermost surface, the pattern may be chipped due to contact or static electricity, and therefore the communication wave reflector 10 may be installed outdoors. To protect the metal pattern 14, the communication wave reflector 10 preferably has a protective layer 15 on the surface of the base layer 13 on which the metal pattern 14 is laminated. From the viewpoint of ease of handling, the protective layer 15 is preferably made of a resin material such as a resin film, resin sheet, or resin plate.

金属パターン14の上に保護層15が積層されていることにより、通信波用反射板10の耐久性が向上し、耐候性がよくなる。
保護層15があると、通信波用反射板10の製造時や運搬時にロール状に巻き取る際に金属パターン14が欠落を起こさないといった利点もある。
また、実施形態の通信波用反射板10を設置する際には保護層15の更に表面側に化粧板、壁紙、床材、木材、板などの保護部材を、通信波用反射板10とは別部材にして、設置することもできる。
By laminating the protective layer 15 on the metal pattern 14, the durability of the communication wave reflector 10 is improved, and the weather resistance is improved.
The protective layer 15 has the advantage that the metal pattern 14 is not chipped when the communication wave reflector 10 is manufactured or wound into a roll for transportation.
Furthermore, when installing the communication wave reflector 10 of the embodiment, a protective member such as decorative board, wallpaper, flooring, wood, or board can be installed on the surface side of the protective layer 15 as a separate member from the communication wave reflector 10.

保護層15に用いられる樹脂材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などが挙げられる。保護層15に用いられる熱可塑性樹脂としては、芳香族または脂肪族のポリエステル系樹脂、芳香族または脂肪族のポリアミド系樹脂、環状または非環状のポリオレフィン系樹脂、芳香族または脂肪族のポリアミド系樹脂、芳香族または脂肪族のポリイミド系樹脂などが挙げられる。 The resin material used for the protective layer 15 may be a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, etc. The thermoplastic resin used for the protective layer 15 may be an aromatic or aliphatic polyester resin, an aromatic or aliphatic polyamide resin, a cyclic or acyclic polyolefin resin, an aromatic or aliphatic polyamide resin, an aromatic or aliphatic polyimide resin, etc.

保護層15が、ポリオレフィン樹脂(例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブチレン樹脂)、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂のいずれかから選択される樹脂からなることが好ましい。これらの樹脂を主成分とする混合物、共重合体、変性樹脂などを保護層15に用いてもよい。 It is preferable that the protective layer 15 is made of a resin selected from the group consisting of polyolefin resins (e.g., polyethylene resins, polypropylene resins, polybutylene resins), polyester resins, and polyamide resins. Mixtures, copolymers, modified resins, etc. that contain these resins as the main components may also be used for the protective layer 15.

保護層15の厚さとしては、特に限定されないが、20~200μm程度が挙げられる。保護層15は、1層の材料から構成されてもよく、2層以上の材料から構成されてもよい。特に図示しないが、保護層15が2層以上の材料から構成される場合、各層が異なる機能を有してもよい。 The thickness of the protective layer 15 is not particularly limited, but may be about 20 to 200 μm. The protective layer 15 may be made of one layer of material, or may be made of two or more layers of material. Although not specifically shown, when the protective layer 15 is made of two or more layers of material, each layer may have a different function.

コストの観点からは、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)等の汎用樹脂の単層フィルムを用いて、保護層15を形成してもよい。また、これらの単層フィルムを支持体として、塗工、ラミネートにより適宜の機能層を積層することで、多層の保護層15を作製してもよい。 From the viewpoint of cost, the protective layer 15 may be formed using a single-layer film of a general-purpose resin such as polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP), or polyethylene (PE). Alternatively, the protective layer 15 may be made of multiple layers by using such a single-layer film as a support and layering appropriate functional layers by coating or laminating.

保護層15は、金属パターン14を有する基材層13に対して、熱圧着性を有する材料であってもよい。例えば、基材層13として、ポリエチレン(PE)やポリプロピレン(PP)のポリオレフィン樹脂を用いる場合、保護層15にもポリエチレン(PE)やポリプロピレン(PP)のポリオレフィン樹脂を用いることができる。 The protective layer 15 may be a material that is thermocompression bondable to the base layer 13 having the metal pattern 14. For example, if a polyolefin resin such as polyethylene (PE) or polypropylene (PP) is used as the base layer 13, the protective layer 15 may also be made of a polyolefin resin such as polyethylene (PE) or polypropylene (PP).

基材層13と保護層15とがいずれもポリエチレン(PE)からなる場合、金属パターン14が介在しても、基材層13と保護層15とが接触する領域の熱圧着によって、保護層15を良好に密着させることができる。基材層13と保護層15とがいずれもポリプロピレン(PP)からなる場合も同様に、熱圧着によって、保護層15を良好に密着させることができる。 When both the base layer 13 and the protective layer 15 are made of polyethylene (PE), the protective layer 15 can be well adhered by thermocompression bonding of the area where the base layer 13 and the protective layer 15 contact each other, even if the metal pattern 14 is interposed. Similarly, when both the base layer 13 and the protective layer 15 are made of polypropylene (PP), the protective layer 15 can be well adhered by thermocompression bonding.

金属パターン14を有する基材層13に対して、熱圧着で保護層15を積層する場合、ゴム板、ゴム台、ゴムロール等の柔軟な材質からなる部材を用いて加圧することが好ましい。これにより、基材層13上に金属パターン14による凹凸があっても、均等な加圧が可能になる。加圧部材に一対のゴムロールを用い、その間に熱圧着される材料を通過させると、長尺の材料を効率的に処理することができる。 When laminating the protective layer 15 onto the base layer 13 having the metal pattern 14 by thermocompression bonding, it is preferable to apply pressure using a member made of a flexible material such as a rubber plate, rubber stand, or rubber roll. This allows for uniform pressure to be applied even if there are irregularities on the base layer 13 due to the metal pattern 14. If a pair of rubber rolls is used as the pressure member and the material to be thermocompression bonded is passed between them, long materials can be processed efficiently.

基材層13に保護層15を熱圧着する場合には、少なくとも基材層13、金属パターン14、保護層15を含む材料を処理することが好ましい。熱圧着する前の基材層13に金属層11が接着されている場合は、金属層11から金属パターン14までを含む材料と、保護層15とを熱圧着処理することが好ましい。 When the protective layer 15 is thermocompression bonded to the base layer 13, it is preferable to process the material including at least the base layer 13, the metal pattern 14, and the protective layer 15. When the metal layer 11 is adhered to the base layer 13 before the thermocompression bonding, it is preferable to thermocompress the material including the metal layer 11 to the metal pattern 14 and the protective layer 15.

金属パターン14を有する基材層13に対して、接着剤または粘着剤を用いて保護層15を接着してもよい。保護層15の支持体が樹脂フィルムから構成される場合、接着剤または粘着剤からなる接着層は、基材層13に対向する側で層状に形成される。 The protective layer 15 may be adhered to the base layer 13 having the metal pattern 14 using an adhesive or pressure-sensitive adhesive. When the support of the protective layer 15 is composed of a resin film, an adhesive layer made of the adhesive or pressure-sensitive adhesive is formed in a layer shape on the side facing the base layer 13.

保護層15の接着に用いる接着剤または粘着剤としては、特に限定されないが、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、酸変性ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、スチレン系エラストマーのいずれかから選択される接着剤を含んでもよい。 The adhesive or pressure sensitive adhesive used to adhere the protective layer 15 is not particularly limited, but may include an adhesive selected from the group consisting of polyimide resin, maleimide resin, epoxy resin, polyolefin resin, acid-modified polyolefin resin, acrylic resin, and styrene-based elastomer.

例えば、凹凸への追従性に優れたアクリル系粘着剤を用いて保護層15を接着してもよい。これにより、基材層13上に金属パターン14による凹凸があっても、均等な接着が可能になる。 For example, the protective layer 15 may be adhered using an acrylic adhesive that has excellent conformability to uneven surfaces. This allows for uniform adhesion even if the base layer 13 has uneven surfaces due to the metal pattern 14.

保護層15は、ハードコート層を有してもよい。ハードコート層の材質は、特に限定されないが、熱硬化、光硬化などにより硬化する樹脂組成物を用いてもよい。ハードコート層に用いられる樹脂としては、アクリル樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。 The protective layer 15 may have a hard coat layer. The material of the hard coat layer is not particularly limited, but a resin composition that is cured by heat curing, photocuring, or the like may be used. Examples of resins used in the hard coat layer include acrylic resins, fluororesins, and silicone resins.

保護層15の支持体が樹脂フィルムから構成される場合、ハードコート層は、基材層13とは反対側の外表面に形成されることが好ましい。保護層15のハードコート層と金属パターン14との間に樹脂フィルムが介在する場合、樹脂フィルムが緩衝層として機能することにより、ハードコート層に作用した外力が直接に金属パターン14に加わることを抑制することができる。 When the support of the protective layer 15 is composed of a resin film, the hard coat layer is preferably formed on the outer surface opposite the base layer 13. When a resin film is interposed between the hard coat layer of the protective layer 15 and the metal pattern 14, the resin film functions as a buffer layer, thereby preventing an external force acting on the hard coat layer from being directly applied to the metal pattern 14.

保護層15は、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤などの耐候性向上剤を含有する層を1層以上有してもよい。例えば、支持体フィルムに耐候性向上剤を添加してもよく、接着層に耐候性向上剤を添加してもよく、ハードコート層に耐候性向上剤を添加してもよい。 The protective layer 15 may have one or more layers containing a weather resistance improver such as an ultraviolet absorber, an infrared absorber, or an antioxidant. For example, a weather resistance improver may be added to the support film, a weather resistance improver may be added to the adhesive layer, or a weather resistance improver may be added to the hard coat layer.

保護層15は、導電性粒子、イオン性化合物、界面活性剤、導電性高分子等の帯電防止剤を含有する帯電防止層を有してもよい。
帯電防止層に用いられる導電性粒子としては、特に限定されないが、銅、アルミニウム、スズ等の金属粒子やカーボン粒子などが挙げられる。
The protective layer 15 may have an antistatic layer containing an antistatic agent such as conductive particles, an ionic compound, a surfactant, or a conductive polymer.
The conductive particles used in the antistatic layer are not particularly limited, but examples thereof include metal particles such as copper, aluminum, and tin, and carbon particles.

帯電防止層に用いられるイオン性化合物としては、特に限定されないが、アルカリ金属塩等の金属塩;アンモニウム塩、ピリジニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩等の有機または無機オニウム塩;イオン性液体などが挙げられる。
帯電防止層に用いられる界面活性剤としては、特に限定されないが、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤などが挙げられる。
The ionic compound used in the antistatic layer is not particularly limited, but examples thereof include metal salts such as alkali metal salts; organic or inorganic onium salts such as ammonium salts, pyridinium salts, phosphonium salts, and sulfonium salts; and ionic liquids.
The surfactant used in the antistatic layer is not particularly limited, but examples thereof include cationic surfactants, nonionic surfactants, and amphoteric surfactants.

カチオン性界面活性剤としては、アルキル基等の有機基Rで置換されてもよいアンモニウム基(R-)、ホスホニウム基(R-)、スルホニウム基(R-)等のカチオン性官能基を有する化合物が挙げられる。
アニオン性界面活性剤としては、スルホン酸塩基(-SO )、硫酸エステル塩基(-OSO )、リン酸エステル塩基(-OPO 2-)、ホスホン酸塩基(-PO 2-)、カルボン酸塩基(-COO)等のアニオン性官能基を有する化合物が挙げられる。
Examples of the cationic surfactant include compounds having a cationic functional group, such as an ammonium group (R 3 N + --), a phosphonium group (R 3 P + --), or a sulfonium group (R 2 S + --), which may be substituted with an organic group R such as an alkyl group.
Examples of anionic surfactants include compounds having an anionic functional group such as a sulfonate group (-SO 3 - ), a sulfate group (-OSO 3 - ), a phosphate group (-OPO 3 2- ), a phosphonate group (-PO 3 2- ), or a carboxylate group (-COO - ).

ノニオン性界面活性剤としては、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性官能基を有する化合物が挙げられる。
両性界面活性剤としては、同一分子中にカチオン性官能基およびアニオン性官能基を有する化合物が挙げられる。
Examples of the nonionic surfactant include compounds having a nonionic functional group, such as amino alcohols, glycerin, and polyethylene glycols.
Amphoteric surfactants include compounds having a cationic functional group and an anionic functional group in the same molecule.

帯電防止層に用いられる導電性高分子としては、上述したカチオン性官能基、アニオン性官能基、ノニオン性官能基などの少なくとも1種を有する高分子化合物が挙げられる。 The conductive polymer used in the antistatic layer may be a polymer compound having at least one of the above-mentioned cationic functional groups, anionic functional groups, and nonionic functional groups.

帯電防止層は、金属パターン14に接しないように、保護層15のうち基材層13とは反対側の外表面に形成されることが好ましい。保護層15の中間層に帯電防止層が形成されてもよく、保護層15に含まれる樹脂層に帯電防止剤が練り込まれてもよい。 The antistatic layer is preferably formed on the outer surface of the protective layer 15 opposite the base layer 13 so as not to come into contact with the metal pattern 14. The antistatic layer may be formed in an intermediate layer of the protective layer 15, or an antistatic agent may be kneaded into the resin layer contained in the protective layer 15.

帯電防止層に含まれる帯電防止剤は、1種でも2種以上でもよい。帯電防止層は、バインダー樹脂を含有してもよい。バインダー樹脂としては、特に限定されないが、帯電防止剤との親和性が高い樹脂が好ましく、例えば、アクリル樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。 The antistatic layer may contain one or more types of antistatic agents. The antistatic layer may contain a binder resin. There are no particular limitations on the binder resin, but it is preferable to use a resin that has a high affinity with the antistatic agent, such as an acrylic resin, a fluororesin, a silicone resin, a polyimide resin, a maleimide resin, or an epoxy resin.

図3に、改変例の通信波用反射板20を例示する。通信波用反射板20は、基材層13と金属パターン14との間に密着層16を含むこと以外は、上述した実施形態の通信波用反射板10と同様にすることができる。 Figure 3 shows an example of a modified communication wave reflector 20. The communication wave reflector 20 can be the same as the communication wave reflector 10 of the above-mentioned embodiment, except that it includes an adhesive layer 16 between the base layer 13 and the metal pattern 14.

通信波用反射板20に含まれる金属層11、接着剤層12、基材層13、金属パターン14、保護層15には、同一の符号を付して、重複する説明を省略する場合がある。 The metal layer 11, adhesive layer 12, base layer 13, metal pattern 14, and protective layer 15 contained in the communication wave reflector 20 may be given the same reference numerals, and duplicate descriptions may be omitted.

密着層16は、金属パターン14と基材層13との間を接着する接着剤から形成されてもよい。この場合、密着層16が、金属パターン14の少なくとも一部の領域に接着していてもよい。さらに、密着層16が、基材層13の少なくとも一部の領域に接着していてもよい。 The adhesion layer 16 may be formed from an adhesive that bonds the metal pattern 14 and the base layer 13. In this case, the adhesion layer 16 may be adhered to at least a portion of the metal pattern 14. Furthermore, the adhesion layer 16 may be adhered to at least a portion of the base layer 13.

密着層16に用いられる接着剤としては、特に限定されないが、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、酸変性ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、スチレン系エラストマーのいずれかから選択される接着剤を含むことが好ましい。変性ポリフェニレンエーテル(m-PPE)等の変性ポリフェニレン樹脂を密着層16に用いてもよい。 The adhesive used in the adhesion layer 16 is not particularly limited, but preferably includes an adhesive selected from polyimide resin, maleimide resin, epoxy resin, polyolefin resin, acid-modified polyolefin resin, acrylic resin, and styrene-based elastomer. Modified polyphenylene resin such as modified polyphenylene ether (m-PPE) may be used in the adhesion layer 16.

密着層16は、1種の接着剤を含んでもよく、2種以上の接着剤を含んでもよい。密着層16には、金属に対する接着性と、樹脂に対する接着性とを兼ね備えた接着剤を用いることが好ましい。 The adhesion layer 16 may contain one type of adhesive, or may contain two or more types of adhesive. It is preferable to use an adhesive that has both adhesion to metals and adhesion to resins for the adhesion layer 16.

密着層16の厚さは、特に限定されないが、0.1~25μmの範囲内であることが好ましく、0.5~10μmがより好ましく、1~5μmがさらに好ましい。 The thickness of the adhesion layer 16 is not particularly limited, but is preferably within the range of 0.1 to 25 μm, more preferably 0.5 to 10 μm, and even more preferably 1 to 5 μm.

密着層16は、反射を必要とする帯域の電波に対して、優れた誘電特性を有することが好ましい。密着層16の誘電正接(Df)は、0.02以下であることが好ましい。密着層16の比誘電率(Dk)は、3.0以下であることが好ましい。 The adhesive layer 16 preferably has excellent dielectric properties with respect to radio waves in the band requiring reflection. The dielectric tangent (Df) of the adhesive layer 16 is preferably 0.02 or less. The relative dielectric constant (Dk) of the adhesive layer 16 is preferably 3.0 or less.

通信波用反射板10,20は、ロールtoロールにより積層体を製造することが好ましい。例えば、基材層13の樹脂フィルム、樹脂シート等をロールtoロールにより搬送し、基材層13に他の層を適宜の順序で積層することにより、通信波用反射板10,20を製造してもよい。 It is preferable to manufacture the communication wave reflectors 10 and 20 as a laminate by roll-to-roll. For example, the communication wave reflectors 10 and 20 may be manufactured by transporting the base layer 13, such as a resin film or resin sheet, by roll-to-roll and laminating other layers on the base layer 13 in an appropriate order.

積層体を製造する際、基材層13の片面に接着剤層12を介して金属層11を積層した後に、金属パターン14を形成し、さらに保護層15を積層してもよい。
基材層13の片面に金属パターン14を形成し、さらに保護層15を積層した後に、基材層13の反対側に接着剤層12を介して金属層11を積層してもよい。
基材層13の片面に金属パターン14を形成し、その反対側に接着剤層12を介して金属層11を積層した後で、金属パターン14の上に保護層15を積層してもよい。
When producing the laminate, the metal layer 11 may be laminated on one side of the base layer 13 via the adhesive layer 12, the metal pattern 14 may be formed, and then the protective layer 15 may be laminated.
The metal pattern 14 may be formed on one side of the base layer 13 , and then a protective layer 15 may be laminated thereon, and then a metal layer 11 may be laminated on the opposite side of the base layer 13 via an adhesive layer 12 .
The metal pattern 14 may be formed on one side of the base layer 13 , and the metal layer 11 may be laminated on the opposite side via the adhesive layer 12 , and then the protective layer 15 may be laminated on the metal pattern 14 .

ロールtoロールによる積層工程としては、ラミネート、塗布、熱圧着、蒸着、メッキ、塗布、ナノインプリント、インクジェット、フォトリソグラフィー、パターニング塗工などの1種または2種以上が挙げられる。 Roll-to-roll lamination processes include one or more of the following: lamination, coating, thermocompression bonding, vapor deposition, plating, coating, nanoimprinting, inkjet, photolithography, and patterning coating.

金属層11については、例えば、ロールtoロールにより搬送される基材層13に対し、接着剤層12を介して、金属層11の金属箔をラミネートしてもよい。接着剤層12は、基材層13または金属層11の少なくとも一方に接着剤を塗布することで形成することができる。 For example, the metal layer 11 may be formed by laminating the metal foil of the metal layer 11 to the base layer 13, which is transported by roll-to-roll, via the adhesive layer 12. The adhesive layer 12 can be formed by applying an adhesive to at least one of the base layer 13 or the metal layer 11.

金属パターン14については、例えば、ロールtoロールにより搬送される基材層13に対し、蒸着、メッキ、塗布、ナノインプリント、インクジェット、フォトリソグラフィー、パターニング塗工などにより、金属パターン14を積層してもよい。 The metal pattern 14 may be laminated on the substrate layer 13 transported by roll-to-roll, for example, by vapor deposition, plating, coating, nanoimprinting, inkjet, photolithography, patterning coating, or the like.

保護層15については、例えば、ロールtoロールにより搬送される基材層13に対し、熱圧着、接着剤、粘着剤などを用いて、保護層15の樹脂フィルムまたは樹脂シートをラミネートしてもよい。 For the protective layer 15, for example, a resin film or resin sheet of the protective layer 15 may be laminated to the base layer 13 transported by roll-to-roll, using thermocompression, adhesive, pressure sensitive adhesive, etc.

接着剤、導電材等を塗工で積層する場合、塗工には適宜の塗布装置を用いることができる。塗布装置としては、特に限定されないが、グラビアコーター、ナイフコーター、リバースコーター、バーコーター、スプレーコーター、スピンコーター、ダイコーター、スリットコーター、ロールコーター、ディップコーター等が挙げられる。 When the adhesive, conductive material, etc. are laminated by coating, an appropriate coating device can be used for coating. Coating devices are not particularly limited, but include gravure coaters, knife coaters, reverse coaters, bar coaters, spray coaters, spin coaters, die coaters, slit coaters, roll coaters, dip coaters, etc.

塗工に用いる材料は、無溶剤でもよく、溶剤を含む溶液または分散液でもよい。溶剤としては、メタノール、エタノール、2-プロパノール等のアルコール系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤;2-メトキシエタノール、ジメトキシエタン等のグリコールエーテル系溶剤;酢酸エチル等のエステル系溶剤;トルエン、キシレン等の芳香族溶剤;ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等のアミド系溶剤などが挙げられる。溶剤は1種でもよく、2種以上の混合溶剤でもよい。 The material used for coating may be solvent-free or may be a solution or dispersion containing a solvent. Examples of solvents include alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, and 2-propanol; ketone-based solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; glycol ether-based solvents such as 2-methoxyethanol and dimethoxyethane; ester-based solvents such as ethyl acetate; aromatic solvents such as toluene and xylene; and amide-based solvents such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone. The solvent may be one type or a mixture of two or more types.

実施形態の通信波用反射板10,20は、可撓性を有するフィルム状またはシート状でもよく、一定の寸法に裁断したときに剛性を有する板状であってもよい。通信波用反射板10,20が剛性を有する場合、壁面等に設置するときに、入射方向と反射方向を合わせる作業が容易になる。 The communication wave reflectors 10 and 20 of the embodiment may be in the form of a flexible film or sheet, or may be in the form of a plate that has rigidity when cut to a certain size. If the communication wave reflectors 10 and 20 have rigidity, it becomes easier to align the incident direction with the reflection direction when installing them on a wall surface, etc.

通信波用反射板10,20が可撓性を有する場合、長尺でもロール状に巻き取ることができ、輸送や保管が容易になる。可撓性を有する通信波用反射板10,20を壁面等に設置するときは、金属板、樹脂板等の支持板に貼り合わせて法線方向を固定してもよい。 If the communication wave reflectors 10 and 20 are flexible, they can be wound up in a roll even if they are long, making them easy to transport and store. When installing the flexible communication wave reflectors 10 and 20 on a wall surface or the like, the normal direction may be fixed by attaching them to a support plate such as a metal plate or a resin plate.

以上、本発明を好適な実施形態に基づいて説明してきたが、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。改変としては、各実施形態における構成要素の追加、置換、省略、その他の変更が挙げられる。 The present invention has been described above based on a preferred embodiment, but the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications are possible without departing from the gist of the present invention. Modifications include addition, substitution, omission, and other changes to components in each embodiment.

以下、実施例をもって本発明を具体的に説明する。 The present invention will now be described in detail with reference to examples.

表1の「金属層」、「接着剤層」、「基材層」、「金属パターン」、「保護層」に示す材料を用い、「積層方法」に示すように、積層体を作製して、実施例1~12および比較例1~4の通信波用反射板を得た。
得られた通信波用反射板を用いて、「反射率」、「浮き」、「耐候性」を評価した。
Using the materials shown in Table 1 for "metal layer,""adhesivelayer,""substratelayer,""metalpattern," and "protective layer," laminates were produced as shown in "lamination method," to obtain communication wave reflectors of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 4.
The obtained communication wave reflector was evaluated for "reflectance,""floating," and "weather resistance."

金属層に用いた材料の種類は、次の略記号を用いて表示した。
Al箔:アルミニウム箔
Cu箔:銅箔
Cuメッキ:銅メッキ
The types of materials used in the metal layers are indicated using the following abbreviations.
Al foil: aluminum foil Cu foil: copper foil Cu plating: copper plating

接着剤層に用いた接着剤の種類は、次の略記号を用いて表示した。
AP:酸変性ポリオレフィン樹脂
EP:エポキシ樹脂
IM:イミド系接着剤
MI:マレイミド樹脂
PE:ポリエチレン樹脂
UR:ウレタン系接着剤
The types of adhesives used in the adhesive layers are indicated using the following abbreviations.
AP: Acid-modified polyolefin resin EP: Epoxy resin IM: Imide-based adhesive MI: Maleimide resin PE: Polyethylene resin UR: Urethane-based adhesive

基材層に用いた樹脂の種類は、次の略記号を用いて表示した。
COP:シクロオレフィンポリマー
PE:ポリエチレン
PI:ポリイミド
The types of resins used in the base layer are indicated using the following abbreviations.
COP: Cycloolefin polymer PE: Polyethylene PI: Polyimide

金属パターンの形成方法および金属の種類は、次の略記号を用いて表示した。
Ph:フォトリソグラフィー
Cu:銅
The methods for forming metal patterns and the types of metals are indicated using the following abbreviations.
Ph: Photolithography Cu: Copper

保護層に用いた材料の種類は、次の略記号を用いて表示した。
PE:ポリエチレン
SPF:表面保護フィルム(粘着剤層+樹脂フィルムの積層体)
The types of materials used in the protective layers are indicated by the following abbreviations.
PE: polyethylene SPF: surface protection film (laminate of adhesive layer + resin film)

保護層が帯電防止層を有する場合、表1では帯電防止ありとした。帯電防止ありの場合、帯電防止層は、基材層および金属パターンから遠い側に積層されている。例えば、ポリエチレンに帯電防止ありの場合の保護層は、ポリエチレン+帯電防止層の構成である。また、表面保護フィルムに帯電防止ありの場合の保護層は、粘着剤層+樹脂フィルム+帯電防止層の構成である。 When the protective layer has an antistatic layer, it is marked as having antistatic properties in Table 1. When having antistatic properties, the antistatic layer is laminated on the side farther from the base layer and the metal pattern. For example, when polyethylene has antistatic properties, the protective layer is made up of polyethylene + antistatic layer. Also, when the surface protective film has antistatic properties, the protective layer is made up of adhesive layer + resin film + antistatic layer.

保護層が2層以上の場合、保護層の厚さは、基材層および金属パターンに近い側から順に各層の厚さ(μm)をプラス符号(+)で連結して表示した。 When the protective layer has two or more layers, the thickness of the protective layer is indicated by connecting the thickness (μm) of each layer with a plus sign (+) in order from the side closest to the base layer and metal pattern.

積層方法は、次の略記号を用いて表示した。
RTR:ロールtoロールによる積層
枚葉:枚葉で作製
The lamination method was indicated using the following abbreviations.
RTR: Roll-to-roll stacking Sheet: Made from sheets

「反射率」の評価は、後述する耐久性試験を実施する前のサンプルの反射率(%)をn=10で測定した。 The "reflectance" was evaluated by measuring the reflectance (%) of the sample before conducting the durability test described below, n=10.

「浮き」の評価は、10cm角で切り出したサンプルの耐久性(耐候性)試験として、サンプルを40℃、90%RHの高温高湿条件に設定された恒温恒湿槽に100時間投入し、恒温恒湿槽から取り出した後の浮きの発生を目視にて確認し、次の基準で評価した。 To evaluate "floating," samples were cut into 10 cm squares and placed in a thermo-hygrostat set at high temperature and humidity conditions of 40°C and 90% RH for 100 hours as a durability (weather resistance) test. After removing the samples from the thermo-hygrostat, the samples were visually inspected for the occurrence of floating and rated according to the following criteria.

◎:面内で浮きが発生していなかった。
○:若干の平面性の劣化は見られるものの面内で浮きが発生していなかった。
△:面内いずれかの層間で浮きまたは剥がれが見られた。
×:面内いずれかの層間で激しい剥がれが見られた。
⊚: No lifting occurred within the surface.
◯: Although some deterioration in flatness was observed, no floating occurred within the surface.
Δ: Lifting or peeling was observed between any of the layers within the plane.
×: Severe peeling was observed between any of the layers within the surface.

「耐候性」の評価は、10cm角で切り出したサンプルの耐久性(耐候性)試験として、サンプルを40℃、90%RHの高温高湿条件に設定された恒温恒湿槽に100時間投入し、恒温恒湿槽から取り出した後の反射率(%)をn=10で測定し、反射率の劣化の程度から、次の基準で評価した。 To evaluate "weatherability," samples cut into 10 cm squares were placed in a thermo-hygrostat chamber set at high temperature and humidity conditions of 40°C and 90% RH for 100 hours as a durability (weatherability) test, and the samples were then taken out of the chamber and the reflectance (%) was measured (n=10). The degree of deterioration in reflectance was used to evaluate the sample according to the following criteria.

◎:耐久性評価後の反射率の劣化が見られなかった。
○:耐久性評価後の反射率の劣化が10%未満であった。
△:耐久性評価後の反射率の劣化が10%以上30%未満であった。
×:耐久性評価後の反射率の劣化が30%以上であった。
⊚: No deterioration in reflectance was observed after the durability evaluation.
A: The deterioration of the reflectance after the durability evaluation was less than 10%.
Δ: The deterioration of the reflectance after the durability evaluation was 10% or more and less than 30%.
x: The reflectance after the durability evaluation was deteriorated by 30% or more.

以上の結果を表1にまとめて示す。 The above results are summarized in Table 1.

Figure 2024056339000002
Figure 2024056339000002

表1に示すように、金属層と基材層との間に厚さが0.1~25μmの接着剤層を含む実施例1~12では、反射効率の高い通信波用反射板が得られた。 As shown in Table 1, in Examples 1 to 12, which included an adhesive layer with a thickness of 0.1 to 25 μm between the metal layer and the substrate layer, communication wave reflectors with high reflection efficiency were obtained.

厚さ0.04μmの接着剤層を用いて金属箔を積層した比較例1では、通信波用反射板の反射効率が低く、高温高湿条件で浮きが発生した。
接着剤層を用いないで金属箔を積層した比較例2では、通信波用反射板の反射効率が低く、高温高湿条件で浮きが発生し、高温高湿条件で放置した後の反射率も劣化した。
In Comparative Example 1, in which the metal foil was laminated using an adhesive layer having a thickness of 0.04 μm, the reflection efficiency of the communication wave reflector was low, and lifting occurred under high temperature and high humidity conditions.
In comparison example 2, in which metal foil was laminated without using an adhesive layer, the reflection efficiency of the communication wave reflector was low, lifting occurred under high temperature and high humidity conditions, and the reflectivity also deteriorated after being left under high temperature and high humidity conditions.

接着剤層を用いないでメッキにより金属層を積層した比較例3では、通信波用反射板の反射効率が低く、高温高湿条件で放置した後の反射率も劣化した。
保護層を用いないで作製した比較例4では、通信波用反射板の反射効率が低く、高温高湿条件で浮きが発生し、高温高湿条件で放置した後の反射率も劣化した。
In Comparative Example 3, in which the metal layer was laminated by plating without using an adhesive layer, the reflection efficiency of the communication wave reflector was low, and the reflectance also deteriorated after being left under high temperature and high humidity conditions.
In Comparative Example 4, which was produced without using a protective layer, the reflection efficiency of the communication wave reflector was low, lifting occurred under high temperature and high humidity conditions, and the reflectance also deteriorated after being left under high temperature and high humidity conditions.

10,20…通信波用反射板、11…金属層、12…接着剤層、13…基材層、14…金属パターン、15…保護層、16…密着層。 10, 20... communication wave reflector, 11... metal layer, 12... adhesive layer, 13... substrate layer, 14... metal pattern, 15... protective layer, 16... adhesion layer.

Claims (10)

少なくとも金属層、基材層、金属パターン、保護層をこの順で含む積層体からなり、
前記金属パターンが複数の幾何学的模様が繰り返しからなり回路として導通していないパターンであり、
前記金属層と、前記基材層との間に厚さが0.1~25μmの接着剤層を含むことを特徴とする通信波用反射板。
The laminate includes at least a metal layer, a base layer, a metal pattern, and a protective layer in this order.
The metal pattern is a pattern that is made up of a plurality of repeated geometric patterns and is not electrically connected as a circuit,
A communication wave reflector comprising an adhesive layer having a thickness of 0.1 to 25 μm between the metal layer and the base layer.
前記接着剤層の誘電正接(Df)が0.02以下であることを特徴とする請求項1に記載の通信波用反射板。 The communication wave reflector according to claim 1, characterized in that the dielectric tangent (Df) of the adhesive layer is 0.02 or less. 前記接着剤層の比誘電率(Dk)が3.0以下であることを特徴とする請求項1に記載の通信波用反射板。 The communication wave reflector according to claim 1, characterized in that the relative dielectric constant (Dk) of the adhesive layer is 3.0 or less. 前記接着剤層がポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、酸変性ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、スチレン系エラストマーのいずれかから選択される接着剤を含むことを特徴とする請求項1に記載の通信波用反射板。 The communication wave reflector according to claim 1, characterized in that the adhesive layer contains an adhesive selected from the group consisting of polyimide resin, maleimide resin, epoxy resin, polyolefin resin, acid-modified polyolefin resin, acrylic resin, and styrene-based elastomer. 前記基材層が、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ナイロン、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、ポリイミド(PI)、変性ポリイミド(MPI)、シクロオレフィンポリマー(COP)、液晶ポリマー(LCP)のいずれかから選択される樹脂からなることを特徴とする請求項1に記載の通信波用反射板。 The communication wave reflector according to claim 1, characterized in that the base layer is made of a resin selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PET), nylon, polypropylene (PP), polyethylene (PE), polyimide (PI), modified polyimide (MPI), cycloolefin polymer (COP), and liquid crystal polymer (LCP). 前記金属層が、銅、アルミニウム、ステンレスのいずれかから選択される金属からなることを特徴とする請求項1に記載の通信波用反射板。 The communication wave reflector according to claim 1, characterized in that the metal layer is made of a metal selected from the group consisting of copper, aluminum, and stainless steel. 前記金属パターンが、アルミニウム、銅、金、銀のいずれかから選択される金属からなることを特徴とする請求項1に記載の通信波用反射板。 The communication wave reflector according to claim 1, characterized in that the metal pattern is made of a metal selected from the group consisting of aluminum, copper, gold, and silver. 前記金属パターンの前記幾何学的模様を構成する各パターンの大きさが、0.01~8mmの範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の通信波用反射板。 The communication wave reflector according to claim 1, characterized in that the size of each pattern constituting the geometric pattern of the metal pattern is within the range of 0.01 to 8 mm. 前記保護層が、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂のいずれかから選択される樹脂からなることを特徴とする請求項1に記載の通信波用反射板。 The communication wave reflector according to claim 1, characterized in that the protective layer is made of a resin selected from the group consisting of polyethylene resin, polypropylene resin, polybutylene resin, polyester resin, and polyamide resin. 請求項1~9のいずれか1項に記載の通信波用反射板の製造方法であって、
ロールtoロールにより前記積層体を製造することを特徴とする通信波用反射板の製造方法。
A method for producing a communication wave reflector according to any one of claims 1 to 9,
A method for producing a communication wave reflector, comprising the steps of: producing the laminate by roll-to-roll processing.
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