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JP2023526950A - 配向された小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を作製するための磁気アセンブリ及び方法 - Google Patents

配向された小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を作製するための磁気アセンブリ及び方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、たとえば紙幣及び身分証明書などのセキュリティ文書を偽造及び違法複製から保護する分野に関する。特に、本発明は、基板に光学効果層（ＯＥＬ）を作製するための磁気アセンブリ及び方法を提供し、前記方法は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸線方向に配向するように、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物を磁気アセンブリの磁場に晒すステップを含む。【選択図】図２Ａ

Description

発明の分野
[001]本発明は、磁気的に配向された小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を作製するための磁気アセンブリ及び方法の分野に関する。詳細には、本発明は、コーティング層内で小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を磁気的に配向してＯＥＬを作製するための磁気アセンブリ及び方法、並びにセキュリティ文書又はセキュリティ物品に対する偽造防止手段及び装飾目的としての前記ＯＥＬの使用を提供する。
発明の背景
[002]たとえばセキュリティ文書の分野において、セキュリティ要素を作製するために、配向された磁性又は磁化可能顔料粒子を含有し、特に光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子も含有するインク、組成物、コーティング、又は層を使用することが、当技術分野では知られている。配向された磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング又は層は、たとえば米国特許第２，５７０，８５６号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第３，７９１，８６４号、米国特許第５，６３０，８７７号、及び米国特許第５，３６４，６８９号に開示されている。セキュリティ文書の保護に有用な光学効果を特に訴求している配向された磁性の変色顔料粒子を含むコーティング又は層が、国際公開第２００２／０９０００２号及び国際公開第２００５／００２８６６号に開示されている。
[003]概して、たとえばセキュリティ文書のためのセキュリティ特徴は、一方では「秘密」セキュリティ特徴に、他方では「公開」セキュリティ特徴に、分類することができる。秘密セキュリティ特徴によって提供される保護は、そのような特徴を検出することが困難であり、典型的には検出のための特殊な機器及び知識を必要とするという原理に依拠するのに対して、「公開」セキュリティ特徴は、援助なしの人間の感覚によって容易に検出可能であるという概念に依拠し、たとえばそのような特徴は、可視及び／又は触覚により検出可能でありうるが、作製及び／又は複製することは依然として困難である。しかし、公開セキュリティ特徴の有効性は、セキュリティ特徴として容易に認識できることに大いに依存する。
[004]印刷インク又はコーティング中の磁性又は磁化可能顔料粒子は、対応する構造の磁場を印加して、まだ固められていない（すなわち、湿っている）コーティング内で磁性又は磁化可能顔料粒子の局所的な配向を誘起し、それに続いてコーティングを固めることによって、磁気的に誘起された画像、デザイン、及び／又はパターンの作製を可能にする。その結果、固定されて安定した磁気的に誘起された画像、デザイン、又はパターンが得られる。コーティング組成物における磁性又は磁化可能顔料粒子の配向のための材料及び技術は、たとえば米国特許第２，４１８，４７９号、米国特許第２，５７０，８５６号、米国特許第３，７９１，８６４号、独国特許出願公開第２００６８４８号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第５，３６４，６８９号、米国特許第６，１０３，３６１号、欧州特許第０４０６６６７号、米国特許出願公開第２００２／０１６０１９４号、米国特許出願公開第２００４／０００９３０８号、欧州特許第０７１０５０８号、国際公開第２００２／０９００２号、国際公開第２００３／０００８０１号、国際公開第２００５／００２８６６号、国際公開第２００６／０６１３０１号に開示されている。そのような方法では、高い耐偽造性を有する磁気的に誘起されるパターンを作製することができる。当該セキュリティ要素は、磁性若しくは磁化可能顔料粒子又は対応するインクと、前記インクを印刷して印刷されたインク内の前記顔料を配向するために用いられる特定の技術との両方へのアクセスを有することによってのみ作製することができる。
[005]上述した方法及びデバイスは、磁気アセンブリを使用して、小板状の磁性顔料粒子を１軸線方向に配向する。磁性顔料粒子の１軸線方向の配向の結果、隣り合う粒子の長軸線は、互いに対して且つ磁場に対して平行になるが、顔料粒子の面内の短軸線は、互いに対しても磁場に対しても平行ではなく、又は印加磁場によってほとんど束縛されない。
[006]２軸線方向に配向された磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング又は層を作製する目的で、時間依存性の方向可変磁場を生成する方法が開発され、したがって磁性又は磁化可能顔料粒子の２軸線方向の配向が可能になっている。
[007]国際公開第２０１５／０８６２５７号は、基板に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を開示しており、前記プロセスは、２つの磁性配向ステップを含み、前記ステップは、ｉ）小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸線方向に配向するように、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物を、第１の磁場生成デバイスの動磁場、すなわち方向を変化させる磁場に晒すステップと、ｉｉ）コーティング組成物を第２の磁場生成デバイスの静磁場に晒すステップであり、以て前記第２の磁場生成デバイスによって伝達される設計に従って、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を１軸線方向に再配向する、ステップとからなる。
[008]欧州特許出願公開第２１５７１４１号は、互い違い又はジグザグに配置された少なくとも３つの磁石の線形の配置を備える磁場生成デバイスを開示しており、前記３つの磁石の各々の磁軸線は、基板表面に実質的に直交しており、前記少なくとも３つの磁石は、供給経路の同じ側に同じ極性を有し、この極性は、互い違いに供給経路の反対に位置する磁石（複数可）の極性とは反対である。少なくとも３つの磁石の配置は、コーティング組成物内の小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子が磁石を越えて動くにつれて（動きの方向が矢印として示されている）、磁場方向の予め定められた変化を提供する。しかし当業者には知られているように、磁場は磁石とサンプルとの間の距離とともに急速に減少し、したがって欧州特許出願公開第２１５７１４１号における磁場生成デバイスの供給経路は幅が制限され、したがって大きいサイズの光学効果層の作製が制限される。さらに、欧州特許出願公開第２１５７１４１号に記載されているプロセスは、長い供給経路を必要とするはずであり、その結果、多数の磁石が互い違いに配置され、前記長い供給経路は、産業用のプレス機における制限された利用可能な空間に適合していない。
[009]国際公開第２０１５／０８６２５７号、国際公開第２０１８／０１９５９４号、及び欧州特許第３２２４０５５号は、磁気的に２軸線方向に配向された小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を作製するためのデバイス及びプロセスを開示している。このプロセスは、Ｈａｌｂａｃｈシリンダアセンブリを構成する磁気アセンブリの動磁場に顔料粒子を晒すステップを開示しており、前記Ｈａｌｂａｃｈアセンブリはそれぞれ、国際公開第２０１５／０８６２５７号及び国際公開第２０１８／０１９５９４号における配向可能な顔料粒子を保持する基板の一方の側に配置された線形のＨａｌｂａｃｈアレイ、並びに欧州特許第３２２４０５５号におけるＨａｌｂａｃｈシリンダアセンブリである。国際公開第２０１５／０８６２５７号及び国際公開第２０１８／０１９５９４号は、欧州特許出願公開第２１５７１４１号及び欧州特許第３２２４０５５号に関して記載されているものと同じ欠点を有する可能性があり、シリンダアセンブリ内で層の硬化を実施する必要があり、したがって磁性又は磁化可能顔料粒子の潜在的な再配向ステップが不可能になる。
[010]米国特許出願公開第２００７／０１７２２６１号は、径方向に対称の時間可変磁場を生成する回転磁石又は磁気アセンブリを開示しており、前記磁石又は磁気アセンブリは、外部モータに接続されたシャフト（又はスピンドル）によって駆動される。ＣＮ１０２５２９３２６Ｂは、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸線方向に配向するのに好適となりうる回転磁石を備えるデバイスの例を開示している。国際公開第２０１５／０８２３４４号、国際公開第２０１６／０２６８９６号、及び国際公開第２０１８／１４１５４７号は、シャフトのない回転磁石又は磁気アセンブリを開示しており、この磁石又は磁気アセンブリは、非磁気体から作られたハウジング内に束縛されて、ハウジングに巻き付けられた１つ又は複数の磁石ワイアコイルによって駆動される。しかし、回転磁石又は磁気アセンブリは、たとえば欧州特許第１６４８７０２号又は欧州特許出願公開第１９６１５５９号に開示されているような産業用の印刷プレス機で使用困難又は使用不可能となる可能性がある。困難は、回転磁石のモータを実行するために電力及び制御信号を提供することを含めて、既存の産業印刷プレス機の重要な再設計の必要を含みうる。
[011]したがって、コーティング層内に含まれる小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の均質の２軸線方向の磁性配向を生じさせて光学効果層（ＯＥＬ）を形成するための改善された磁気アセンブリ及び方法が引き続き必要とされており、前記方法は、機械的に頑強であり、産業用の高速印刷機器、特に回転磁性シリンダに実装することが容易であり、前記機器の非常に厄介な退屈で高価な修正を用いない。特に、広い供給経路／使用可能な作業区域を有する小型の磁気アセンブリ、並びに広い印刷区域及び前記磁気アセンブリから最大２０ｍｍの距離をあけて配置された印刷区域にわたって磁性又は磁化可能顔料粒子を配向するのにも好適な方法が必要とされている。
[012]したがって、本発明の目的は、従来技術の欠陥を克服することである。これは、
ａ］基板（ｘ２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製するための磁気アセンブリ（ｘ００）の提供によって実現され、前記磁気アセンブリ（ｘ００）は、第１の面に実質的に平行な配向で第１の面の上に基板（ｘ２０）を受け取るように構成され、前記第１の面が、２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の最上面の上に位置し、
ａ）少なくとも第１の集合（Ｓ１）及び第２の集合（Ｓ２）をさらに備え、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の各々が、
ｉ）１つの第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）であり、
第１の厚さ（Ｌ１）、第１の長さ（Ｌ４）、及び第１の幅（Ｌ５）を有し、
第１の面に実質的に平行になるように配向された磁軸線を有する１つの第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と、
ｉｉ）２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）であり、
第２の厚さ（Ｌ２）、第２の長さ（Ｌ６）、及び第２の幅（Ｌ７）を有し、
互いに同一面上に位置する最上面を有し、
第１の面に実質的に直交するように配向された磁軸線を有する２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）とを含み、
第１の集合（Ｓ１）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が、第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の磁気方向とは反対の磁気方向を有し、
第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が、第１の距離（ｄ１）だけ隔置され、
第１の集合（Ｓ１）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が、第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と実質的に同じ第１の長さ（Ｌ４）及び第１の幅（Ｌ５）を有し、
第１の集合（Ｓ１）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）が、第２の集合（Ｓ２）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）と実質的に同じ第２の長さ（Ｌ６）及び第２の幅（Ｌ７）を有し、
第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の各々の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）及び第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）が列を形成するように位置合わせされ、この列においては、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）がそれぞれ第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）間に配置され、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）から第２の距離（ｄ２）だけ隔置されており、
第１の幅（Ｌ５）及び第２の長さ（Ｌ６）が実質的に同じであり、
第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の各々の一方の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のＮ極は、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極が前記一方を指すときに第１の面を指し、
第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の各々の他方の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のＳ極は第１の面を指し、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＳ極は前記他方を指し、磁気アセンブリ（ｘ００）が
ｂ）第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）をさらに備え、第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）が、
第３の厚さ（Ｌ３）、第３の長さ（Ｌ８）、及び第３の幅（Ｌ９）を有し、
第１の面に実質的に平行になるように配向された磁軸線を有し、
第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の第２の幅（Ｌ７）が、第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の第３の幅（Ｌ９）と実質的に同じ値を有し、
第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の各々が、第１の集合（Ｓ１）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）及び第２の集合（Ｓ２）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）と位置合わせされて２本の線を形成し、第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）が、それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）間に配置され、それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）から第３の距離（ｄ３）だけ隔置され、
第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＮ極がそれぞれ、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＮ極が、第１の面を指し、又は第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＳ極がそれぞれ、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＳ極が、第１の面を指し、
第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）、並びに第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）が、非磁性支持マトリックスに少なくとも部分的に埋め込まれている。
[013]本明細書に記載する基板（ｘ２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製するための本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）の使用もまた、本明細書に記載される。
[014]チェーン、ベルト、シリンダ、及びこれらの組合せからなる群から選択されることが好ましい移送デバイスの近傍に取り付けられた本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）を備える印刷装置もまた、本明細書に記載される。
[015]本明細書に記載する基板（ｘ２０）に本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法、及びそこから得られる光学効果層（ＯＥＬ）もまた、本明細書に記載され、前記方法は、
ｉ）基板（ｘ２０）表面に放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップであり、
放射線硬化性コーティング組成物が小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、Ｘ軸線及びＹ軸線が、粒子の主延長面を画定し、前記放射線硬化性コーティング組成物が、コーティング層（ｘ１０）を形成するように第１の液体状態である、ステップと、
ｉｉ）小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸線方向に配向するように、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、
ｉｉｉ）小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の固体状態にするステップとを含む。
[016]本明細書に記載する方法によって得られる光学効果層（ＯＥＬ）、及び／又は本明細書に記載する印刷装置を使用することによって得られる光学効果層（ＯＥＬ）、並びに文書及び物品に対する偽造防止手段（言い換えれば、文書及び物品を保護及び認証するため）並びに装飾目的としての光学効果層（ＯＥＬ）の使用もまた、本明細書に記載される。
[017]本発明によって提供される磁気アセンブリ及び方法は、機械的に頑強であり、産業用の高速印刷機器に実装することが容易であり、前記機器の非常に厄介な退屈で高価な修正を用いない。さらに、本発明の磁気アセンブリ及び方法は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を均質に２軸線方向に配向することを可能にし、大きい印刷区域及び前記磁気アセンブリから最大２０ｍｍの距離をあけて配置された印刷区域にわたって光学効果層を作製するのにも好適である。
[018]本明細書に記載する基板（ｘ２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製するための本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）及び方法について、次に図面及び特定の実施形態を参照してより詳細に説明する。
小板状の顔料粒子を概略的に示す図である。 本発明による基板（２２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に示す図であり、小板状の顔料粒子を含むコーティング層（図２Ａには図示せず）が、磁気アセンブリ（２００）の近傍及び頂部で動き（矢印参照）、前記磁気アセンブリ（２００）の磁場に晒され、次いで硬化ユニット（２５０）によって少なくとも部分的に硬化される。磁気アセンブリ（２００）は、第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む第１の集合（Ｓ１）と、第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む第２の集合（Ｓ２）と、第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（２３３ａ及び２３３ｂ）とを備える。 第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む集合（Ｓｘ）の概略断面図であり、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面が、２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面と同一面上にあり、図２Ｂ２は、基板（２２０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示し、図２Ｂ３は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（２１０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示す。 第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む集合（Ｓｘ）の概略断面図であり、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面が、２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面と同一面上にあり、図２Ｂ２は、基板（２２０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示し、図２Ｂ３は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（２１０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示す。 第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む集合（Ｓｘ）の概略断面図であり、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面が、２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面と同一面上にあり、図２Ｂ２は、基板（２２０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示し、図２Ｂ３は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（２１０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示す。 第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む集合（Ｓｘ）の概略断面図であり、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面が、２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面と同一面上にはなく、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面と２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面との間に第４の距離（ｄ４）が存在する。図２Ｃ２及び図２Ｄ２は、基板（２２０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示し、図２Ｃ３及び図２Ｄ３は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（２１０）が磁気アセンブリの集合（Ｓｘ）に対向する方法を示す。 第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む集合（Ｓｘ）の概略断面図であり、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面が、２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面と同一面上にはなく、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面と２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面との間に第４の距離（ｄ４）が存在する。図２Ｃ２及び図２Ｄ２は、基板（２２０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示し、図２Ｃ３及び図２Ｄ３は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（２１０）が磁気アセンブリの集合（Ｓｘ）に対向する方法を示す。 第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む集合（Ｓｘ）の概略断面図であり、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面が、２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面と同一面上にはなく、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面と２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面との間に第４の距離（ｄ４）が存在する。図２Ｃ２及び図２Ｄ２は、基板（２２０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示し、図２Ｃ３及び図２Ｄ３は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（２１０）が磁気アセンブリの集合（Ｓｘ）に対向する方法を示す。 第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む集合（Ｓｘ）の概略断面図であり、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面が、２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面と同一面上にはなく、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面と２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面との間に第４の距離（ｄ４）が存在する。図２Ｃ２及び図２Ｄ２は、基板（２２０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示し、図２Ｃ３及び図２Ｄ３は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（２１０）が磁気アセンブリの集合（Ｓｘ）に対向する方法を示す。 第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む集合（Ｓｘ）の概略断面図であり、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面が、２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面と同一面上にはなく、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面と２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面との間に第４の距離（ｄ４）が存在する。図２Ｃ２及び図２Ｄ２は、基板（２２０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示し、図２Ｃ３及び図２Ｄ３は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（２１０）が磁気アセンブリの集合（Ｓｘ）に対向する方法を示す。 第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む集合（Ｓｘ）の概略断面図であり、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面が、２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面と同一面上にはなく、第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面と２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面との間に第４の距離（ｄ４）が存在する。図２Ｃ２及び図２Ｄ２は、基板（２２０）が集合（Ｓｘ）に対向する方法を示し、図２Ｃ３及び図２Ｄ３は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（２１０）が磁気アセンブリの集合（Ｓｘ）に対向する方法を示す。 第１の棒状双極子磁石（３３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（３３２ａ及び３３２ｂ）を含む第１の集合（Ｓ１）と、第１の棒状双極子磁石（３３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（３３２ａ及び３３２ｂ）を含む第２の集合（Ｓ２）と、第１の棒状双極子磁石（３３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（３３２ａ及び３３２ｂ）を含む第３の集合（Ｓ３）と、第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（３３３ａ及び３３３ｂ）と、第２の対（Ｐ２）の第３の棒状双極子磁石（３３３ａ及び３３３ｂ）とを備える磁気アセンブリ（３００）の概略上面図である。 シリンダの近傍にある図３Ａの磁気アセンブリ（３００）の概略断面図であり、磁気アセンブリ（３００）が、シリンダの湾曲に一致するように屈曲されている。 シリンダの近傍にある図３Ａ～図３Ｂの磁気アセンブリ（３００）の概略図であり、磁気アセンブリ（３００）が、シリンダの湾曲に一致するように屈曲されている。 第１の棒状双極子磁石（４３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（４３２ａ及び４３２ｂ）を含む第１の集合（Ｓ１）と、第１の棒状双極子磁石（４３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（４３２ａ及び４３２ｂ）を含む第２の集合（Ｓ２）と、第１の棒状双極子磁石（４３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（４３２ａ及び４３２ｂ）を含む第３の集合（Ｓ３）と、第１の棒状双極子磁石（４３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（４３２ａ及び４３２ｂ）を含む第４の集合（Ｓ４）と、第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（４３３ａ及び４３３ｂ）と、第２の対（Ｐ２）の第３の棒状双極子磁石（４３３ａ及び４３３ｂ）と、第３の対（Ｐ３）の第３の棒状双極子磁石（４３３ａ及び４３３ｂ）とを備える磁気アセンブリ（４００）の概略上面図である。 本発明による基板（５２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に示す図である。この方法は、磁気アセンブリ（５００）の磁場にコーティング層を晒すステップｉｉ）と、次に回転磁性シリンダ（５６０）に取り付けられた１つ又は複数の磁石（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場にコーティング層を晒すさらなるステップと、硬化ユニット（５５０）によって放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）とを含む。図５Ａ～図５Ｃに示すように、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）のコーティング層の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、任意選択的なステップ（選択的硬化ユニット（５８０）を括弧内に示す）が、１つ又は複数の第２の区域内で小板状の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を再配向するように１つ又は複数の磁石（Ｍ１）の磁場にコーティング層を晒すステップの前に実施されてもよい。 本発明による基板（５２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に示す図である。この方法は、磁気アセンブリ（５００）の磁場にコーティング層を晒すステップｉｉ）と、次に回転磁性シリンダ（５６０）に取り付けられた１つ又は複数の磁石（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場にコーティング層を晒すさらなるステップと、硬化ユニット（５５０）によって放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）とを含む。図５Ａ～図５Ｃに示すように、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）のコーティング層の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、任意選択的なステップ（選択的硬化ユニット（５８０）を括弧内に示す）が、１つ又は複数の第２の区域内で小板状の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を再配向するように１つ又は複数の磁石（Ｍ１）の磁場にコーティング層を晒すステップの前に実施されてもよい。 本発明による基板（５２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に示す図である。この方法は、磁気アセンブリ（５００）の磁場にコーティング層を晒すステップｉｉ）と、次に回転磁性シリンダ（５６０）に取り付けられた１つ又は複数の磁石（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場にコーティング層を晒すさらなるステップと、硬化ユニット（５５０）によって放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）とを含む。図５Ａ～図５Ｃに示すように、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）のコーティング層の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、任意選択的なステップ（選択的硬化ユニット（５８０）を括弧内に示す）が、１つ又は複数の第２の区域内で小板状の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を再配向するように１つ又は複数の磁石（Ｍ１）の磁場にコーティング層を晒すステップの前に実施されてもよい。 本発明による基板（５２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に示す図である。この方法は、単一のステップで、本明細書に記載する磁気アセンブリ（５００）の磁場と、１つ若しくは複数の硬磁性磁石（Ｍ１）又は空隙及び／若しくはくぼみ及び／若しくは突起の形態で１つ若しくは複数の印を保持する１つ若しくは複数の軟磁性板（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、放射線硬化性コーティング組成物を晒すステップｉｉ）であり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石又は軟磁性板（Ｍ１）が回転磁性シリンダ（５６０）に取り付けられている、ステップｉｉ）と、硬化ユニット（５５０）によって放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）とを含む。 本発明による基板（５２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に示す図である。この方法は、ａ）本明細書に記載する第１の磁気アセンブリ（５００ａ）の磁場に放射線硬化性コーティング組成物を晒し、次いでｂ）単一のステップで、本明細書に記載する磁気アセンブリ（５００ｂ）の磁場と、１つ若しくは複数の硬磁性磁石（Ｍ１）又は空隙及び／若しくはくぼみ及び／若しくは突起の形態で１つ若しくは複数の印を保持する１つ若しくは複数の軟磁性板（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスとの磁場の相互作用に、放射線硬化性コーティング組成物を晒すステップｉｉ）であり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石又は軟磁性板（Ｍ１）が回転磁性シリンダ（５６０）に取り付けられている、ステップｉｉ）と、硬化ユニット（５５０）によって放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）とを含む。図５Ｅに示すように、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）のコーティング層の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、任意選択的なステップ（選択的硬化ユニット（５８０）を括弧内に示す）が、１つ又は複数の第２の区域内で小板状の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を再配向するように、磁気アセンブリ（５００ｂ）の磁場と、磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、放射線硬化性コーティング組成物を晒す単一のステップの前に実施されてもよい。 本発明による基板（５２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に示す図である。この方法は、単一のステップで、本明細書に記載する第１の磁気アセンブリ（５００ａ）の磁場と、１つ若しくは複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）又は空隙及び／若しくはくぼみ及び／若しくは突起の形態で１つ若しくは複数の印を保持する１つ若しくは複数の軟磁性板（Ｍ１ａ）を備える第１の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、放射線硬化性コーティング組成物を晒すステップｉｉ）であり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石又は軟磁性板（Ｍ１ａ）が回転磁性シリンダ（５６０ａ）に取り付けられている、ステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）のコーティング層の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、ステップｉｉｉ）（選択的硬化ユニット（５８０）で示す）と、本明細書に記載する第２の磁気アセンブリ（５００ｂ）の磁場にコーティング層を晒して、コーティング層の１つ又は複数の第２の（まだ硬化されていない）区域に含まれる非球形の磁性又は磁化可能粒子を２軸線方向に再配向するステップｉｖ）と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスの磁場に、放射線硬化性コーティング組成物を晒すステップｖ）であり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）が回転磁性シリンダ（５６０ｂ）に取り付けられている、ステップｖ）と、硬化ユニット（５５０）によって放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｖｉ）とを含む。 本発明による基板（５２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に示す図である。この方法は、単一のステップで、本明細書に記載する第１の磁気アセンブリ（５００ａ）の磁場と、１つ若しくは複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）又は空隙及び／若しくはくぼみ及び／若しくは突起の形態で１つ若しくは複数の印を保持する１つ若しくは複数の軟磁性板（Ｍ１ａ）を備える第１の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、放射線硬化性コーティング組成物を晒すステップｉｉ）であり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石又は軟磁性板（Ｍ１ａ）が回転磁性シリンダ（５６０ａ）に取り付けられている、ステップｉｉ）と、コーティング層の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されないように、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）のコーティング層の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）（選択的硬化ユニット（５８０）で示す）と、コーティング層の１つ又は複数の第２の（まだ硬化されていない）区域に含まれる非球形の磁性又は磁化可能粒子を２軸線方向に再配向するように、本明細書に記載する第２の磁気アセンブリ（５００ｂ）の磁場にコーティング層を晒すステップｉｖ）と、単一のステップで、本明細書に記載する第３の磁気アセンブリ（５００ｃ）の磁場と、１つ若しくは複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）又は空隙及び／若しくはくぼみ及び／若しくは突起の形態で１つ若しくは複数の印を保持する１つ若しくは複数の軟磁性板（Ｍ１ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、放射線硬化性コーティング組成物を晒すステップｖ）であり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石又は軟磁性板（Ｍ１ｂ）が回転磁性シリンダ（５６０）に取り付けられている、ステップｖ）と、硬化ユニット（５５０）によって放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｖｉ）とを含む。 本発明による基板（５２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に示す図である。この方法は、ａ）本明細書に記載する第１の磁気アセンブリ（５００ａ）の磁場に放射線硬化性コーティング組成物を晒し、次いでｂ）単一のステップで、本明細書に記載する第２の磁気アセンブリ（５００ｂ）の磁場と、１つ若しくは複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）又は空隙及び／若しくはくぼみ及び／若しくは突起の形態で１つ若しくは複数の印を保持する１つ若しくは複数の軟磁性板（Ｍ１ａ）を備える第１の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、放射線硬化性コーティング組成物を晒すステップｉｉ）であり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石又は軟磁性板（Ｍ１ａ）が回転磁性シリンダ（５６０ａ）に取り付けられている、ステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）のコーティング層の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、ステップｉｉｉ）（選択的硬化ユニット（５８０）で示す）と、コーティング層の１つ又は複数の第２の（まだ硬化されていない）区域に含まれる非球形の磁性又は磁化可能粒子を２軸線方向に再配向するように、本明細書に記載する第３の磁気アセンブリ（５００ｃ）の磁場にコーティング層を晒すステップｉｖ）と、単一のステップで、本明細書に記載する第４の磁気アセンブリ（５００ｄ）の磁場と、１つ若しくは複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）又は空隙及び／若しくはくぼみ及び／若しくは突起の形態で１つ若しくは複数の印を保持する１つ若しくは複数の軟磁性板（Ｍ１ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、放射線硬化性コーティング組成物を晒すステップｖ）であり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石又は軟磁性板（Ｍ１ｂ）が回転磁性シリンダ（５６０）に取り付けられている、ステップｖ）と、硬化ユニット（５５０）によって放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｖｉ）とを含む。 基板（６２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する比較方法を概略する的に示す図である。 基板（６２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する比較方法を概略する的に示す図である。 本発明による方法（左のＥ１、Ｅ２、及びＥ３）及び比較方法（右のＣ１、Ｃ２、及びＣ３）によって準備されたＯＥＬの図である。 本発明による方法（左のＥ１、Ｅ２、及びＥ３）及び比較方法（右のＣ１、Ｃ２、及びＣ３）によって準備されたＯＥＬの図である。 本発明による方法（左のＥ１、Ｅ２、及びＥ３）及び比較方法（右のＣ１、Ｃ２、及びＣ３）によって準備されたＯＥＬの図である。
詳細な説明
定義
[019]以下の定義は、説明で議論し且つ特許請求の範囲に記載する用語の意味を解釈するために使用されるものである。
[020]本明細書では、「少なくとも」という用語は、１つ又は２つ以上、たとえば１つ又は２つ又は３つを定義することを意味する。
[021]本明細書では、「約」及び「実質的」という用語は、当該の量又は値が、指定された特有の値又はその近傍の何らかの他の値となりうることを意味する。概して、特定の値を指す「約」及び「実質的」という用語は、値の±５％の範囲を指すことが意図される。一例として、「約１００」という句は、１００±５の範囲、すなわち９５～１０５の範囲を指す。概して、「約」及び「実質的」という用語が使用されるとき、示されている値の±５％の範囲内で、本発明による類似の結果又は効果を得ることができることを予期することができる。
[022]「実質的に平行」という用語は、平行の位置合わせから１０°以下だけ逸脱することを指し、「実質的に直交」という用語は、直交の位置合わせから１０°以下だけ逸脱することを指す。
[023]本明細書では、「及び／又は」という用語は、記載されている群の要素のうちのすべて又は１つのみが存在しうることを意味する。たとえば、「Ａ及び／又はＢ」は、「Ａのみ、又はＢのみ、又はＡ及びＢの両方」を意味するものとする。「Ａのみ」の場合、この用語はまた、Ｂが存在しない可能性、すなわち「ＢではなくＡのみ」も包含する。
[024]本明細書では、「含む、備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という用語は、非排他的であり且つオープンエンドであることが意図される。したがって、たとえば化合物Ａを含むコーティング組成物は、Ａ以外の他の化合物も含むことができる。しかし、「含む、備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という用語はまた、その特定の実施形態として、「本質的に～からなる」及び「～からなる」のより制限的な意味を包含し、したがってたとえば「Ａ、Ｂ、及び任意選択でＣを含む湿し水」はまた、（本質的に）Ａ及びＢからなることができ、又は（本質的に）Ａ、Ｂ、及びＣからなることができる。
[025]本明細書では、「光学効果層（ＯＥＬ）」という用語は、配向された小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子及び接着剤を含むコーティング層を指し、前記小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は磁場によって配向され、配向された小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子をその配向及び位置で固定／凍結して（すなわち、固めた後／硬化させた後）、磁気的に誘起された画像を形成する。
[026]「コーティング組成物」という用語は、固体の基板に光学効果層（ＯＥＬ）を形成することが可能であり、排他的ではないが印刷方法によって塗布することができることが好ましい任意の組成物を指す。コーティング組成物は、本明細書に記載する小板状の磁性若しくは磁化可能顔料粒子及び本明細書に記載する接着剤を含む。
[027]本明細書では、「湿った」という用語は、まだ硬化されていないコーティング層、たとえば小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子が、それらの顔料粒子に作用する外力の影響を受けて、まだその位置及び配向を変化させることが可能であるコーティングを指す。
[028]本明細書では、「印」という用語は、限定ではないが、記号、英数記号、モチーフ、文字、単語、数字、ロゴ、及び図面を含むパターンなどの不連続層を意味するものとする。
[029]「固める」という用語は、まだ固められていない（すなわち、湿った）第１の物理的状態にあるコーティング組成物の粘性が増大されて、コーティング組成物を第２の物理的状態、すなわち固められた状態又は固体状態に変換し、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子がその現在の位置及び配向で固定／凍結され、動くことも回転することもできなくなるプロセスを指すために使用される。
[030]「セキュリティ文書」という用語は、通常は少なくとも１つのセキュリティ特徴による偽造又は詐欺から保護された文書を指す。セキュリティ文書の例には、限定ではないが、有価文書及び有価商品が含まれる。
[031]「セキュリティ特徴」という用語は、認証目的で使用することができる画像、パターン、又はグラフィック要素を指すために使用される。
[032]本説明が「好ましい」実施形態／特徴を参照する場合、これらの「好ましい」実施形態／特徴の組合せに技術的な意味がある限り、「好ましい」実施形態／特徴のこの組合せも開示されていると考えられるものとする。
[033]本明細書の文脈では、「面」という用語は、平坦な面のみを包含するのではなく、シリンダの円周面などの湾曲した面も包含する。この点において、湾曲した面に対して「平行」になるように配向された「面」もまた湾曲しており、したがって２つの面に対する局所的な接線が互いに平行になる。同様に、湾曲した面に直交するように配向された方向は、面に交差する点において、面に対する接線に直交する。
[034]言い換えれば、基板が湾曲した第１の面に実質的に平行に配向され、且つ第１の面の上に位置する場合、その基板は、その第１の点における基板に対する局所的な接線が、その第２の点における湾曲した第１の面に対する局所的な接線に対して平行になるように形成され、第１及び第２の点は相対的に、第１及び第２の点で局所的な接線に直交する方向に沿って互いに対して配置される。
[035]本発明は、基板（ｘ２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製するのに好適な磁気アセンブリ（ｘ００）を提供し、前記ＯＥＬは、磁気的に配向された小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子に基づいている。１次元の粒子として考慮することができる針状の顔料粒子とは対照的に、小板状の顔料粒子は、粒子の主延長部の面を画定するＸ軸線及びＹ軸線を有する。言い換えれば、小板状の顔料粒子は、図１に見ることができるように、そのような顔料粒子の寸法の縦横比が大きいため、２次元の粒子であると考慮することができる。図１に示すように、小板状の顔料粒子は２次元構造であると考慮することができ、寸法Ｘ及びＹは寸法Ｚより実質的に大きい。小板状の顔料粒子は、当技術分野で偏球粒子又は薄片とも呼ばれる。そのような顔料粒子は、最長寸法に対応する長軸線Ｘが顔料粒子に交差し、第２の軸線Ｙが同じく前記顔料粒子内に位置するＸに直交するものとして説明することができる。
[036]小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子が、長軸線のみが磁場によって束縛されるように配向される１軸線方向の配向とは対照的に、２軸線方向の配向を実施することは、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子が、２つの長軸線が束縛されるように配向するようになされることを意味する。すなわち、各々の小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、顔料粒子の面内の長軸線と、顔料粒子の面内の直交する短軸線とを有すると考慮することができる。小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の長軸線及び短軸線は各々、磁場に従って配向させられる。事実上、この結果、空間内で互いに近接している隣り合う小板状の磁性顔料粒子が、互いに本質的に平行になる。言い換えると、２軸線方向の配向により、顔料粒子の面が、隣り合う（すべての方向）小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の面に対して本質的に平行に配向されるように、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の面が位置合わせされる。本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸線方向に配向することを可能にする。小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）のみに晒すことによって（すなわち、追加の磁場生成デバイスへの同時曝露及び／又は再配向ステップなし）、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、シート状の構造を形成し、Ｘ及びＹ軸線が基板（ｘ２０）表面に実質的に平行になり、前記２つの寸法において平坦化される。
[037]本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法中に、本明細書に記載する基板（ｘ２０）を第１の面に実質的に平行且つ基板（ｘ２０）に実質的に平行な配向で受け取るように構成される。本明細書に記載する第１の面は、本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）に実質的に平行であり、２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の最上面の上に位置する第１の面である（図に示す）。
[038]本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は、ａ）少なくとも第１の集合（Ｓ１）及び第２の集合（Ｓ２）を備え、各集合（Ｓ１、Ｓ２）が本明細書に記載する第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）及び第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）を含み、ｂ）本明細書に記載する第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）をさらに備え、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）、及び第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）が、本明細書に記載する非磁性支持マトリックスに少なくとも部分的に埋め込まれている。
[039]たとえば図２Ａに示すように、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の各々は、ｉ）本明細書に記載する第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と、本明細書に記載する２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）とを備える。第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第１の厚さ（Ｌ１）、第１の長さ（Ｌ４）、及び第１の幅（Ｌ５）を有し、第１の面に実質的に平行になり、長さ（Ｌ４）に実質的に平行になる（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）に実質的に平行になる）ように配向された磁軸線を有する。第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、実質的に同じ第１の長さ（Ｌ４）及び第１の幅（Ｌ５）を有する。第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と実質的に同じ第１の厚さ（Ｌ１）を有するがこと好ましい。第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第１の距離（ｄ１）だけ隔置される。第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）間の第１の距離（ｄ１）は、好ましくは第１の長さ（Ｌ４）の１５％以上且つ第１の長さ（Ｌ４）の１５０％以下（すなわち、０．１５＊Ｌ４≦ｄ１≦１．５＊Ｌ４）であり、より好ましくは第１の長さ（Ｌ４）の２５％以上且つ第１の長さ（Ｌ４）の１２０％以下（すなわち、０．２５＊Ｌ４≦ｄ１≦１．２＊Ｌ４）であり、さらにより好ましくは第１の長さ（Ｌ４）の２５％以上且つ第１の長さ（Ｌ４）の８０％以下（すなわち、０．２５＊Ｌ４≦ｄ１≦０．８＊Ｌ４）である。
[040]第１の集合（Ｓ１）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の磁気方向とは反対の磁気方向を有する。
[041]第１の集合（Ｓ１）及び第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、単体であってもよく、又は第１の幅（Ｌ５）、第１の厚さ（Ｌ１）を有する２つ以上の隣り合う棒状双極子磁石（ｘ３１ｉ）によって形成されてもよく、本明細書に記載する第１の長さ（Ｌ４）は、前記２つ以上の隣り合う棒状双極子磁石（ｘ３１ｉ）のすべての和である。
[042]第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）は、第２の厚さ（Ｌ２）、第２の長さ（Ｌ６）、及び第２の幅（Ｌ７）を有し、互いに同一面上に位置する最上面を有する。第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）は、第１の面に実質的に直交し、厚さ（Ｌ２）に実質的に平行になる（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）に実質的に直交する）ように配向された磁軸線を有する。第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）は、実質的に同じ第２の長さ（Ｌ６）及び実質的に同じ第２の幅（Ｌ７）を有する。第１の集合（Ｓ１）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）は、第２の集合（Ｓ２）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）と実質的に同じ第２の厚さ（Ｌ２）を有することが好ましい。
[043]第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の各集合に対して、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）及び第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）は列を形成するように位置合わせされ、この列においては、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の各々の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）がそれぞれ、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）間に配置され、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）から第２の距離（ｄ２）だけ隔置されており、前記第２の距離（ｄ２）が第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）に対して実質的に同じである。
[044]各集合（Ｓ１、Ｓ２）に対して、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）のうちの一方のＮ極は、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極がその第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）を指すときに第１の面を指し（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）のうちの他方のＳ極は、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＳ極がその第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）を指すときに第１の面を指す（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）。
[045]たとえば図２Ａに示すように、本明細書に記載する第１の対（Ｐ１）は、本明細書に記載する第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）を含み、前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、第３の厚さ（Ｌ３）、第３の長さ（Ｌ８）、及び第３の幅（Ｌ９）を有し、第１の面に実質的に平行になる（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）に実質的に平行になる）ように配向された磁軸線を有する。
[046]第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の第２の幅（Ｌ７）は、第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の第３の幅（Ｌ９）と実質的に同じ値を有する。
[047]第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の各々は、第１の集合（Ｓ１）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）及び第２の集合（Ｓ２）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）と位置合わせされて２本の線を形成し、第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）間に配置され、それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）から第３の距離（ｄ３）だけ隔置され、前記第３の距離（ｄ３）が２本の線に対して実質的に同じである。
[048]第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＮ極はそれぞれ、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＮ極は、第１の面を指し（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）、又は第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＳ極はそれぞれ、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＳ極は、第１の面を指す（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）。
[049]たとえば図２Ａ、図３、及び図４に示す好ましい実施形態によれば、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は、上面から観察したとき、方形の形状、特に正方形の形状である。したがって、方形の形状、特に正方形の形状の磁気アセンブリ（ｘ００）は、図２Ａでは第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）によって形成された２つの列と２本の線とによって区切られ、又は図３では第１及び第３の集合（Ｓ１、Ｓ３）の２つの列と２本の線とによって区切られ、又は図４では第１及び第４の集合（Ｓ１、Ｓ４）の２つの列と２本の線とによって区切られる。
[050]第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の第１の厚さ（Ｌ１）は、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の第２の厚さ（Ｌ２）以下であることが好ましい。第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の第１の厚さ（Ｌ１）に対する第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の第２の厚さ（Ｌ２）の比（Ｌ２／Ｌ１）は、より好ましくは３以下且つ１以上（すなわち、１≦Ｌ２／Ｌ１≦３）であり、さらにより好ましくは２．５以下且つ１．５以上（すなわち、１．５≦Ｌ２／Ｌ１≦２．５）である。
[051]第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の第１の厚さ（Ｌ１）は、第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の第３の厚さ（Ｌ３）以下であることが好ましい。第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の第１の厚さ（Ｌ１）に対する第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の第３の厚さ（Ｌ３）の比（Ｌ３／Ｌ１）は、より好ましくは３以下且つ１以上（すなわち、１≦Ｌ３／Ｌ１≦３）であり、さらにより好ましくは２．５以下且つ１．５以上（すなわち、１．５≦Ｌ３／Ｌ１≦２．５）である。
[052]第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）との間の第２の距離（ｄ２）は、０以上且つ第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の第１の厚さ（Ｌ１）の１／２以下（すなわち、０≦ｄ２≦（１／２）Ｌ１）である。
[053]第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）と第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）との間の第３の距離（ｄ３）は、０以上且つ第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の第１の厚さ（Ｌ１）の１／２以下（すなわち、０≦ｄ３≦（１／２）Ｌ１）である。
[054]図２Ａに示すように、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）間の第１の距離（ｄ１）は、第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のうちの１つの第３の長さ（Ｌ８）と、第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）と第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）との間の２つの第３の距離（ｄ３）との和からなる。
[055]たとえば図２Ａ及び図２Ｂ１～図２Ｂ３に示す一実施形態によれば、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の最上面は、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の最上面と同一面上に位置する。第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の最上面は、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の最上面と同一面上に位置することが好ましく、さらに第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の最上面とも同一面上に位置する。
[056]たとえば図２Ｃ１～図２Ｄ３に示す別の実施形態によれば、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の最上面は、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の最上面と同一面上に位置せず、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の最上面と、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）との間には、第４の距離（ｄ４）が存在する。この実施形態によれば、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の最上面と、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）との間の第４の距離（ｄ４）の絶対値は、０より大きく、且つ第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の第１の厚さ（Ｌ１）の２分の１以下（すなわち、０＜｜ｄ４｜≦（１／２）Ｌ１）である。
[057]一実施形態によれば、磁気アセンブリ（ｘ００）は、ｉ）第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）に関して説明したものなどの第（２＋ｉ）の集合（Ｓ（２＋ｉ））、並びに対応するｉｉ）追加の第（１＋ｉ）の対（Ｐ１＋ｉ）（本明細書に記載するものなど）を含む１つ又は複数の組合せをさらに備えてもよく、ここでｉ＝１、２などである。
[058]本明細書に記載する各々の組合せに対して、第（２＋ｉ）の集合（Ｓ（２＋ｉ））は、第１の厚さ（Ｌ１）、第１の長さ（Ｌ４）、及び第１の幅（Ｌ５）を有し、第１の面に実質的に平行になるように配向された磁軸線を有する１つのさらなる第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と、第２の厚さ（Ｌ２）、第２の長さ（Ｌ６）、及び第２の幅（Ｌ７）を有し、互いに同一面上に位置する最上面を有し、第１の面に実質的に直交するように配向された磁軸線を有する２つのさらなる第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）とを含み、第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第（２＋ｉ－１）の集合（Ｓ２＋ｉ－１）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の磁気方向とは反対の磁気方向を有し、第（２＋ｉ）及び第（２＋ｉ－１）の集合（Ｓ２＋ｉ、Ｓ２＋ｉ－１）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第１の距離（ｄ１）だけ隔置され、第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第（２＋ｉ－１）の集合（Ｓ２＋ｉ－１）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と実質的に同じ長さ（Ｌ５）及び幅（Ｌ４）を有し、第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）は、第（２＋ｉ－１）の集合（Ｓ２＋ｉ－１）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）と実質的に同じ長さ（Ｌ６）及び幅（Ｌ７）を有し、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）及び第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）は列を形成するように位置合わせされ、この列においては、第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）間に配置され、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）から第２の距離（ｄ２）だけ隔置されており、第１及び第２の長さ（Ｌ４及びＬ６）は実質的に同じであり、第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）のうちの一方のＮ極は、第１の面を指し、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極は、その第２の棒状双極子磁石を指し、第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）のうちの他方のＳ極は、第１の面を指し、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＳ極は、その第２の棒状双極子磁石を指す。
[059]本明細書に記載する各々の組合せに対して、第（１＋ｉ）の対（Ｐ１＋ｉ）は、第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）を含み、第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、第３の厚さ（Ｌ３）、第３の長さ（Ｌ９）、及び第３の幅（Ｌ８）を有し、第（１＋ｉ－１）の対（Ｐ１＋ｉ－１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の磁軸線に実質的に平行になるように配向された磁軸線を有する。
[060]図３に示すように、磁気アセンブリ（ｘ００）は、ｃ）本明細書に記載するものなどの第３の集合（Ｓ３）（すなわち、第（２＋ｉ）の集合、ｉ＝１）、及びｄ）本明細書に記載するものなどの追加の第２の対（Ｐ２）（すなわち、第（１＋ｉ）の対、ｉ＝１）を含む１つ又は複数の組合せをさらに備えてもよい。たとえば図３に示すように、磁気アセンブリ（ｘ００）は、ｃ）ｉ）さらなる第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）及びｉｉ）２つのさらなる第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）を含む第３の集合（Ｓ３）、並びにｄ）２つのさらなる第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）を含む第２の対（Ｐ２）をさらに備えてもよく、第３の集合（Ｓ３）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、第３の集合（Ｓ３）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）、及び第２の対（Ｐ２）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、本明細書に記載する非磁性支持マトリックス（図３には図示せず）に少なくとも部分的に埋め込まれている。
[061]第３の集合（Ｓ３）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第１の厚さ（Ｌ１）、第１の長さ（Ｌ４）、及び第１の幅（Ｌ５）を有する。第３の集合（Ｓ３）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）は、第２の厚さ（Ｌ２）、第２の長さ（Ｌ６）、及び第２の幅（Ｌ７）を有し、互いに同一面上に位置する最上面を有する。
[062]第３の集合（Ｓ３）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第１の面に実質的に平行になる（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）に実質的に平行になる）ように配向された磁軸線を有する。第３の集合（Ｓ３）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の磁気方向とは反対の磁気方向を有する。第３の集合（Ｓ３）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）は、第１の面に直交する（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）に実質的に直交する）ように配向された磁軸線を有する。
[063]第３及び第２の集合（Ｓ３、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第１の距離（ｄ１）だけ隔置され、前記第１の距離（ｄ１）は、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）に対する第１の距離（ｄ１）と実質的に同じである。
[064]第３の集合（Ｓ３）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と実質的に同じ第１の長さ（Ｌ４）及び第１の幅（Ｌ５）を有し、第３の集合（Ｓ３）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）は、第２の集合（Ｓ２）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）と実質的に同じ第２の長さ（Ｌ６）及び第２の幅（Ｌ７）を有する。第３の集合（Ｓ３）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の第１の幅（Ｌ５）及び第３の集合（Ｓ３）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の第２の長さ（Ｌ６）は、実質的に同じである。
[065]第３の集合（Ｓ３）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）及び第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）は列を形成するように位置合わせされ、この列においては、第３の集合（Ｓ３）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が、第３の集合（Ｓ３）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）間に配置され、第３の集合（Ｓ３）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）から第２の距離（ｄ２）だけ隔置されており、前記第２の距離（ｄ２）は、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）に対する第２の距離（ｄ２）と実質的に同じである。
[066]第３の集合（Ｓ３）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）のうちの一方のＮ極は、第１の面を指し（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極は、その第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）を指す。第３の集合（Ｓ３）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）のうちの他方のＳ極は、第１の面を指し（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＳ極は、その第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）を指す。
[067]第２の対（Ｐ２）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、第３の厚さ（Ｌ３）、第３の長さ（Ｌ８）、及び第３の幅（Ｌ９）を有し、第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の磁軸線に平行になる（且つ本明細書に記載する方法中に第１の面及び基板（ｘ２０）に実質的に平行になる）ように配向された磁軸線を有する。
[068]第２の対（Ｐ２）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の各々は、第３の集合（Ｓ３）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）及び第２の集合（Ｓ２）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）と位置合わせされて２本の線を形成し、第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）間に配置され、それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）から第３の距離（ｄ３）だけ隔置され、第３の距離（ｄ３）は本明細書に記載する第３の距離（ｄ３）と実質的に同じである。
[069]第２の対（Ｐ２）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＮ極はそれぞれ、第３及び第２の集合（Ｓ３、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＮ極は、第１の面を指し（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）、又は第２の対（Ｐ２）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＳ極はそれぞれ、第３及び第２の集合（Ｓ３、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＳ極は、第１の面を指す（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）。
[070]図４に示すように、磁気アセンブリ（ｘ００）は、ｉ）本明細書に記載するものなどの第４の集合（Ｓ４）（すなわち、第（２＋ｉ）の集合、ｉ＝２）、及び本明細書に記載するものなどの追加の第３の対（Ｐ３）（すなわち、第（１＋ｉ）の対、ｉ＝２）を含む１つ又は複数の組合せをさらに備えてもよい。たとえば図４に示すように、磁気アセンブリ（ｘ００）は、ｃ）上述した第３の集合（Ｓ３）、並びにｉ）さらなる第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）及びｉｉ）２つのさらなる第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）を含む第４の集合（Ｓ４）と、ｄ）本明細書に記載する第２の対（Ｐ２）、並びに第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）を含む第３の対（Ｐ３）とをさらに備えてもよく、第４の集合（Ｓ４）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、第４の集合（Ｓ４）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）、及び第３の対（Ｐ３）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、本明細書に記載する非磁性支持マトリックス（図４には図示せず）に少なくとも部分的に埋め込まれている。
[071]第４の集合（Ｓ４）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第１の厚さ（Ｌ１）、第１の長さ（Ｌ４）、及び第１の幅（Ｌ５）を有する。第４の集合（Ｓ４）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）は、第２の厚さ（Ｌ２）、第２の長さ（Ｌ６）、及び第２の幅（Ｌ７）を有し、互いに同一面上に位置する最上面を有する。
[072]第４の集合（Ｓ４）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第１の面に実質的に平行になる（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）に実質的に平行になる）ように配向された磁軸線を有する。第４の集合（Ｓ４）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第３の集合（Ｓ３）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の磁気方向とは反対の磁気方向を有する。第４の集合（Ｓ４）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）は、第１の面に直交する（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）に実質的に直交する）ように配向された磁軸線を有する。
[073]第４及び第３の集合（Ｓ４、Ｓ３）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第１の距離（ｄ１）だけ隔置され、前記第１の距離（ｄ１）は、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）に対する第１の距離（ｄ１）と実質的に同じであり、第２及び第３の集合（Ｓ２、Ｓ３）に対する第１の距離（ｄ１）と実質的に同じである。
[074]第４の集合（Ｓ４）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第４の集合（Ｓ４）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の第２の長さ（Ｌ６）、並びに第３の集合（Ｓ３）、第２の集合（Ｓ２）、及び第１の集合（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の第２の長さ（Ｌ６）と実質的に同じ第１の長さ（Ｌ４）を有する。
[075]第４の集合（Ｓ４）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、第３の集合（Ｓ３）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、及び第１の集合（Ｓ１）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と実質的に同じ第１の長さ（Ｌ４）及び第１の幅（Ｌ５）を有する。
[076]第４の集合（Ｓ４）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）は、第３の集合（Ｓ３）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）、第２の集合（Ｓ２）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）、及び第１の集合（Ｓ１）の２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）と実質的に同じ第２の長さ（Ｌ６）及び第２の幅（Ｌ７）を有する。
[077]第４の集合（Ｓ４）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の第１の幅（Ｌ５）及び第４の集合（Ｓ４）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の第２の長さ（Ｌ６）は、実質的に同じである。
[078]第４の集合（Ｓ４）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）及び第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）は列を形成するように位置合わせされ、この列においては、第４の集合（Ｓ４）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）間に配置され、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）から第２の距離（ｄ２）だけ隔置されており、前記第２の距離（ｄ２）は、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）並びに第２及び第３の集合（Ｓ２、Ｓ３）に対する第２の距離（ｄ２）と実質的に同じである。
[079]第４の集合（Ｓ４）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）のうちの一方のＮ極は、第１の面を指し（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極は、その第２の棒状双極子磁石を指す。第４の集合（Ｓ４）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）のうちの他方のＳ極は、第１の面を指し（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）、第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＳ極は、その第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）を指す。
[080]第３の対（Ｐ３）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、第３の厚さ（Ｌ３）、第３の長さ（Ｌ８）、及び第３の幅（Ｌ９）を有し、第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の磁軸線に実質的に平行になり、且つ第２の対（Ｐ２）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の磁軸線に実質的に平行になる（且つ本明細書に記載する方法中に第１の面及び基板（ｘ２０）に実質的に平行になる）ように配向された磁軸線を有する。
[081]第３の対（Ｐ３）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の各々は、第４の集合（Ｓ４）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）及び第３の集合（Ｓ３）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）と位置合わせされて２本の線を形成し、第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）間に配置され、それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）から第３の距離（ｄ３）だけ隔置され、第３の距離（ｄ３）は本明細書に記載する第３の距離（ｄ３）と実質的に同じである。
[082]第３の対（Ｐ３）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＮ極はそれぞれ、第４及び第３の集合（Ｓ４、Ｓ３）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、第３の対（Ｐ３）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＮ極は、第１の面を指し（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）、又は第３の対（Ｐ３）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＳ極はそれぞれ、第４及び第３の集合（Ｓ４、Ｓ３）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＳ極は、第１の面を指す（且つ本明細書に記載する方法中に基板（ｘ２０）を指す）。
[083]本明細書に記載する第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）、及び第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）を備える本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）の頂面は、平坦であってもよく、湾曲してしてもよい。磁気アセンブリ（ｘ００）がシリンダの近傍で使用される実施形態の場合（たとえば、図５Ｂ～図５Ｇ参照）、前記アセンブリ（ｘ００）の頂面は、シリンダの湾曲及びコーティング層（ｘ１０）を保持する基板（ｘ２０）の湾曲に整合するように湾曲しており（たとえば、図３Ｂ及び図３Ｃ参照）、磁気アセンブリ（ｘ００）の湾曲は、前記アセンブリを屈曲させることによって得られる。アセンブリ（ｘ００）の頂面が湾曲している実施形態の場合、本明細書に記載する第１の面及び本明細書に記載する磁軸線（第１の面に実質的に平行／直交）の配向を対象とする参照はすべて、平坦化された磁気アセンブリ（すなわち、その屈曲前の構成）に対応する。アセンブリ（ｘ００）の頂面が湾曲している実施形態の場合、磁気アセンブリ（ｘ００）は、棒状双極子磁石（ｘ３１）の第１の幅（Ｌ５）、２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の第２の長さ（Ｌ６）、及び第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の第３の長さ（Ｌ８）がシリンダの回転軸線に本質的に直交し、（Ｌ５）、（Ｌ６）、及び（Ｌ８）の中心が円筒面に対して本質的に接線方向になるように、第１の円筒面の周りに配置される。これらの実施形態では、磁気アセンブリ（ｘ００）は、湾曲した第１の面及びシリンダの周りに多面体面を形成する。これらの実施形態では、距離ｄ３は、２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ又はｘ３２ｂ）及び第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ又はｘ３３ｂ）のそれぞれの側同士の間の最小距離に対応する。
[084]本明細書に記載する集合（Ｓ１、Ｓ２など）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の材料、本明細書に記載する集合（Ｓ１、Ｓ２など）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の材料、本明細書に記載する対（複数可）（Ｐ１など）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の材料、並びに第１の距離（ｄ１）、第２の距離（ｄ２）、第３の距離（ｄ３）、第４の距離（ｄ４）、及び距離（ｈ）は、Ｘ軸線及びＹ軸線の両方を基板表面に対して実質的に平行にするために、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）によってもたらされる磁場に起因する磁場が、本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸線方向に配向するのに好適となるように選択される。
[085]本明細書に記載する集合（Ｓ１、Ｓ２など）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、本明細書に記載する集合（Ｓ１、Ｓ２など）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）、本明細書に記載する対（複数可）（Ｐ１など）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、高保磁力材料（強磁性材料とも呼ばれる）から独立して作られることが好ましい。好適な高保磁力材料は、少なくとも２０ｋＪ／ｍ３、好ましくは少なくとも５０ｋＪ／ｍ３、より好ましくは少なくとも１００ｋＪ／ｍ３、さらにより好ましくは少なくとも２００ｋＪ／ｍ３のエネルギー積の最大値（ＢＨ）ｍａｘを有する材料である。これらの材料は、Ａｌｎｉｃｏ、たとえばＡｌｎｉｃｏ ５（Ｒ１－１－１）、Ａｌｎｉｃｏ ５ ＤＧ（Ｒ１－１－２）、Ａｌｎｉｃｏ ５－７（Ｒ１－１－３）、Ａｌｎｉｃｏ ６（Ｒ１－１－４）、Ａｌｎｉｃｏ ８（Ｒ１－１－５）、Ａｌｎｉｃｏ ８ ＨＣ（Ｒ１－１－７）、及びＡｌｎｉｃｏ ９（Ｒ１－１－６）、化学式ＭＦｅ１２Ｏ１９のヘキサフェライト（たとえば、ストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＯ＊６Ｆｅ２Ｏ３）又はバリウムヘキサフェライト（ＢａＯ＊６Ｆｅ２Ｏ３））、化学式ＭＦｅ２０４のハードフェライト（たとえば、コバルトフェライト（ＣｏＦｅ２Ｏ４）又は磁鉄鉱（Ｆｅ３Ｏ４）（Ｍは二価金属イオン）、セラミック８（ＳＩ－１－５）、ＲＥＣｏ５（ＲＥ＝Ｓｍ又はＰｒ）、ＲＥ２ＴＭ１７（ＲＥ＝Ｓｍ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｈｆ）、ＲＥ２ＴＭ１４Ｂ（ＲＥ＝Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｏ）を含む群から選択された希土類磁性材料、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏの異方性合金、ＰｔＣｏ、ＭｎＡｌＣ、ＲＥコバルト５／１６、ＲＥコバルト１４の群から選択された材料からなる群から選択される１つ又は複数の焼結又はポリマー結合磁性材料から作られることが好ましい。棒状双極子磁石の高保磁力材料は、好ましくは希土類磁性材料からなる群から、より好ましくはＮｄ２Ｆｅ１４Ｂ及びＳｍＣｏ５からなる群から選択される。プラスチック又はゴム状のマトリックス中のストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＦｅ１２Ｏ１９）又はネオジム－鉄－ホウ素（Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ）粉末など、永久磁性充填剤を含む容易に加工可能な永久磁性複合材料が特に好ましい。第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）、及び第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、１つ若しくは複数の異なる材料から作られてもよく、又は同じ材料から作られてもよい。
[086]本明細書に記載する集合（Ｓ１、Ｓ２など）の第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、本明細書に記載する集合（Ｓ１、Ｓ２など）の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）、及び本明細書に記載する対（複数可）（Ｐ１など）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）は、本明細書に記載する非磁性支持マトリックスに少なくとも部分的に埋め込まれており、前記支持マトリックスは、本明細書に記載する棒状双極子磁石（ｘ３１、ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ、ｘ３３ａ、ｘ３３ｂ）をともに保持するために使用される。本明細書に記載する非磁性支持マトリックスは、１つ又は複数の非磁性材料から作られる。非磁性材料は、非磁性金属並びにエンジニアリングプラスチック及びポリマーからなる群から選択されることが好ましい。非磁性金属には、限定ではないが、アルミニウム、アルミニウム合金、真鍮（銅及び亜鉛の合金）、チタン、チタン合金、及びオーステナイト鋼（すなわち、非磁性鋼）が含まれる。エンジニアリングプラスチック及びポリマーには、限定ではないが、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）及びその誘導体、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）、並びにポリエーテルケトンエーテルケトンケトン（ＰＥＫＥＫＫ）、ポリアセタール、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、コポリエーテルエステル、ポリイミド、ポリエーテルイミド、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリプロピレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）共重合体、フッ素化及びペルフルオロポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ）、並びに液晶ポリマーが含まれる。好ましい材料としては、アルミニウム合金、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ナイロン（Ｎｙｌｏｎ）（登録商標）（ポリアミド）、及びＰＰＳが挙げられる。
[087]本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）及び移送デバイス（ｘ７０）を備える印刷装置もまた、本明細書に記載され、前記移送デバイスは、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸線方向に配向するために、本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を備えた基板（ｘ２０）を本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）の近傍及び上へ伝達又は運搬することを可能にし、また基板（ｘ２０）と磁気アセンブリ（ｘ００）との間に一定の距離を提供する。
[088]本明細書に記載する移送デバイスは基板案内システムからなり、基板案内システムは、チェーン、ベルト、シリンダ、及びこれらの組合せからなる群から選択されることが好ましい。本明細書に記載するベルトは、ベルトに取り付けられた磁石を備えてもよい（当技術分野では、線形磁気移送デバイスと呼ばれる）。本明細書に記載するベルトは、把持部を備えることが好ましい。本明細書に記載するシリンダは回転シリンダ（ｘ６０、ｘ７０）であり、シリンダに取り付けられた硬磁性磁石（Ｍ１）（当技術分野では、回転磁性配向シリンダと呼ばれる）、又は空隙及び／若しくはくぼみ及び／若しくは突起の形態で１つ又は複数の印を保持する軟磁性板（Ｍ１）を備えてもよい。
[089]たとえば図５Ａ～図５Ｄに示すように単一の磁気アセンブリ（ｘ００）が使用される方法の実施形態の場合、本明細書の前記磁気アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する移送デバイスの近傍に取り付けられてもよく、前記移送デバイスは、把持部を備えるベルトであること（たとえば、図５Ａ参照）、又は本明細書に記載する移送デバイスの近傍に取り付けられることが好ましく、前記移送デバイスは、回転シリンダ（ｘ６０、ｘ７０、及びｘ７０－ｂ）であること（図５Ｂ～図５Ｄ参照）が好ましい。
[090]たとえば図５Ｅ～図５Ｈに示すように、いくつかの磁気アセンブリ（ｘ００ａ、ｘ００ｂなど）、すなわち第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）、第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）などが独立して使用される方法の実施形態の場合、本明細書に記載する第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）は、本明細書に記載する移送デバイスの近傍に取り付けられており、前記移送デバイスは、把持部を備えるベルトであること（図５Ｅ及び図５Ｈ参照）、又は回転シリンダ（ｘ６０）の近傍に取り付けられること（図５Ｆ及び図５Ｇ参照）が好ましく、さらなる磁気アセンブリ（ｘ００ｂ、ｘ００ｃなど）が、本明細書に記載するものなどの移送デバイスの近傍に取り付けられており、前記移送デバイスは、回転シリンダ（ｘ７０）（図５Ｆ、図５Ｇ、及び図５Ｈ参照）又は回転磁性シリンダ（ｘ６０）（図５Ｅ、図５Ｇ、及び図５Ｈ参照）であることが好ましい。
[091]磁気アセンブリ（ｘ００）が回転シリンダの近傍で使用される実施形態の場合（たとえば、図５Ｂ～図５Ｈ参照）、前記アセンブリ（ｘ００）の頂面は、シリンダの湾曲（たとえば、図３Ｂ及び図３Ｃ参照）及びコーティング層（ｘ１０）を保持する基板（ｘ２０）の湾曲に整合するように湾曲していることが好ましく、シリンダの直径と第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の第１の幅（Ｌ４）との間の比は、約５以上であることが好ましい。
[092]たとえば図２Ａ及び図５Ａ～図５Ｈに示すように、本明細書に記載する印刷装置は、硬化ユニット（ｘ５０）をさらに備えてもよい。好適な硬化ユニットには、化学線源として高出力の発光ダイオード（ＬＥＤ）ランプ又はアーク放電ランプ、たとえば中圧水銀アーク（ＭＰＭＡ）又は金属蒸気アークランプを備えるＵＶ可視硬化ユニットのための機器が含まれる。
[093]たとえば図５Ａ～図５Ｃ及び図５Ｅ～図５Ｈに示すように、本明細書に記載する印刷装置は、１つ又は複数の選択的硬化ユニット（ｘ８０）をさらに備えてもよい。選択的な硬化は、少なくとも２つの区域から作られるモチーフを呈する光学効果層（ＯＥＬ）の作製を可能にし、前記２つの区域は、２つの異なる磁性配向パターンを有する。１つ又は複数の選択的硬化ユニット（ｘ８０）は、１つ又は複数の固定された又は取外し可能なフォトマスクを備えてもよく、そのようなフォトマスクは、コーティング層の一部として形成されるパターンに対応する１つ又は複数の空隙を含む。１つ又は複数の選択的硬化ユニット（ｘ８０）は、欧州特許出願公開第２４６８４２３号に開示されている走査レーザビーム、国際公開第２０１７／０２１５０４号に開示されている発光ダイオード（ＬＥＤ）のアレイ、又は同時係属の国際出願ＰＣＴ／ＥＰ２０１９／０８７０７２に開示されている個々にアドレス可能な化学線エミッタのアレイを備える化学線ＬＥＤ源（ｘ４１）などのように、アドレス可能であってもよい。
[094]本明細書に記載する印刷装置は、本明細書に記載する非球形の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載する基板に塗布するためのコーティング又は印刷ユニットをさらに備えてもよい。印刷ユニットは、スクリーン印刷ユニット、輪転グラビア印刷ユニット、フレキソ印刷ユニット、インクジェット印刷ユニット、凹版印刷ユニット（当技術分野では、凹刻銅板印刷及び凹刻鋼製金型印刷とも呼ばれる）、又はこれらの組合せであってもよい。
[095]本明細書に記載する印刷装置は、基板フィーダをさらに備えてもよく、したがって基板（ｘ２０）は、前記基板フィーダによってシート又はウエブの形状で供給される。
[096]本発明は、基板に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を提供する。本明細書に記載する方法は、本明細書に記載する基板（ｘ２０）表面に本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布して、本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）を形成するステップｉ）を含み、前記組成物は、まだ硬化されていない（すなわち、湿った）状態の層として塗布することが可能な第１の液体状態であり、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、組成物内を移動及び回転することができる。本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物は基板（ｘ２０）表面に提供されるため、放射線硬化性コーティング組成物は、少なくとも、本明細書に記載するものなどの接着材料と、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子とを含み、前記組成物は、所望の印刷又はコーティング機器で処理することが可能な形状である。前記ステップｉ）は、印刷プロセスによって実施されることが好ましく、印刷プロセスは、好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、及び凹版印刷（当技術分野では、凹刻銅板印刷及び凹刻鋼製金型印刷とも呼ばれる）からなる群から選択され、より好ましくは凹版印刷、スクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択され、さらにより好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される。
[097]本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物並びに本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）は、本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、そのような顔料粒子は、好ましくは約５重量％～約４０重量％、より好ましくは約１０重量％～約３０重量％の量であり、重量パーセントは、放射線硬化性コーティング組成物又はコーティング組成物の総重量に基づいている。
[098]本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、非球形の形状のため、固められた／硬化された接着材料が少なくとも部分的に透過性を有する入射電磁放射に対して非等方性反射率を有する。本明細書では、「非等方性反射率」という用語は、第１の角度からの入射放射のうち粒子によって特定の（視野）方向（第２の角度）へ反射される割合が粒子の配向の関数であること、すなわち第１の角度に対する粒子の配向の変化により視野方向に対する反射の大きさが異なりうることを指す。
[099]本明細書に記載するＯＥＬは、形状のために非等方性反射率を有する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む。本明細書に記載するＯＥＬにおいて、本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、硬化された接着材料を含むコーティング組成物内に分散しており、そのような接着材料は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を固定する。接着材料は、少なくとも硬化又は固体状態（本明細書では第２の状態とも呼ぶ）であり、２００ｎｍ～２５００ｎｍに含まれる波長範囲、すなわち典型的に「光スペクトル」と呼ばれる電磁スペクトルの赤外、可視、及びＵＶ部分を含む波長範囲内の電磁放射に対して少なくとも部分的に透過性を有する。したがって、この範囲内のいくつかの波長では、接着材料によって、硬化又は固体状態で接着材料に含まれる粒子及びその配向依存反射率を認識することができる。硬化された接着材料は、好ましくは２００ｎｍ～８００ｎｍ、より好ましくは４００ｎｍ～７００ｎｍに含まれる波長範囲の電磁放射に対して少なくとも部分的に透過性を有する。本明細書では、「透過性」という用語は、ＯＥＬ（小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は含まないが、存在する場合はＯＥＬの他の任意選択的な成分をすべて含む）に存在する固められた接着材料の２０μｍの層を通る電磁放射の透過が、該当する波長（複数可）において少なくとも５０％、より好ましくは少なくとも６０％、さらにより好ましくは少なくとも７０％であることを指す。これはたとえば、確立された試験方法、たとえばＤＩＮ５０３６－３（１９７９－１１）に従って、固められた接着材料（小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含まない）の試験片の透過率を測定することによって判定することができる。ＯＥＬが秘密セキュリティ特徴として働く場合、典型的には、選択された非可視波長を含むそれぞれの照明条件下でＯＥＬによって生成される（完全な）光学効果を検出するための技術的手段が必要になり、前記検出は、入射放射波長が可視範囲外、たとえば近ＵＶ範囲内で選択される必要がある。
[0100]本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の好適な例には、限定ではないが、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、及びニッケル（Ｎｉ）からなる群から選択される磁性金属、鉄、マンガン、コバルト、ニッケルの磁性合金若しくはこれらの２つ以上の混合物、クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケルの磁性酸化物若しくはこれらの２つ以上の混合物、又はこれらの２つ以上の混合物を含む顔料粒子が含まれる。金属、合金、及び酸化物に関連する「磁性」という用語は、強磁性又はフェリ磁性の金属、合金、及び酸化物を対象とする。クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、又はこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物は、純粋な酸化物であっても混合酸化物であってもよい。磁性酸化物の例には、限定ではないが、赤鉄鉱（Ｆｅ２Ｏ３）、磁鉄鉱（Ｆｅ３Ｏ４）、二酸化クロム（ＣｒＯ２）、磁性フェライト（ＭＦｅ２Ｏ４）、磁性スピネル（ＭＲ２Ｏ４）、磁性ヘキサフェライト（ＭＦｅ１２Ｏ１９）、磁性オルソフェライト（ＲＦｅＯ３）、磁性ガーネット（Ｍ３Ｒ２（ＡＯ４）３）などの酸化鉄が含まれ、ここでＭは２価金属を表し、Ｒは３価金属を表し、Ａは４価金属を表す。
[0101]本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の例には、限定ではないが、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、又はニッケル（Ｎｉ）などの磁性金属、及び鉄、コバルト、又はニッケルの磁性合金のうちの１つ又は複数から作られた磁性層Ｍを含む顔料粒子が含まれ、前記磁性又は磁化可能顔料粒子は、１つ又は複数の追加の層を含む多層構造であってもよい。１つ又は複数の追加の層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、及び酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）などの金属フッ化物からなる群から選択される１つ若しくは複数、より好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）から独立して作られる層Ａ、又は好ましくは反射性金属及び反射性金属合金からなる群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、及びニッケル（Ｎｉ）からなる群から選択される金属及び金属合金からなる群から選択される１つ若しくは複数、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）から独立して作られる層Ｂ、又は上述したものなどの１つ若しくは複数の層Ａ及び上述したものなどの１つ若しくは複数の層Ｂの組合せである。上述した多層構造である小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の典型的な例には、限定ではないが、Ａ／Ｍ多層構造、Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ／多層構造、Ｂ／Ｍ多層構造、Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ／Ａ／多層構造が含まれ、層Ａ、磁性層Ｍ、及び層Ｂは、上述したものから選択される。
[0102]本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物は、小板状の光学的に可変の磁性若しくは磁化可能顔料粒子、及び／又は光学的に可変の特性を有していない小板状の磁性若しくは磁化可能顔料粒子を含んでもよい。本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、小板状の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されることが好ましい。援助なしの人間の感覚を使用して、本明細書に記載する光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むインク、コーティング組成物、又はコーティング層を保持する物品又はセキュリティ文書を考えられる偽造から容易に検出、認識、及び／又は区別することを可能にする光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子の変色特性によって提供される公開セキュリティに加えて、光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性はまた、ＯＥＬの認識のための機械可読ツールとして使用されてもよい。したがって、光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性は、顔料粒子の光学（たとえば、スペクトル）特性が分析される認証プロセスにおいて、秘密又は準秘密セキュリティ特徴として同時に使用されてもよい。
[0103]ＯＥＬを作製するためのコーティング層における小板状の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子の使用は、そのような材料がセキュリティ文書印刷産業に留保され、一般に市販されないため、セキュリティ文書の応用例におけるセキュリティ特徴としてのＯＥＬの重要性を強化する。
[0104]上述したように、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、小板状の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されることが好ましい。これらは、磁性材料及びこれらの２つ以上の混合物を含む磁性薄膜干渉顔料粒子、磁性コレステリック液晶顔料粒子、干渉被覆顔料粒子からなる群から選択されることがより好ましい。
[0105]磁性薄膜干渉顔料粒子は、当業者には知られており、たとえば米国特許第４，８３８，６４８号、国際公開第２００２／０７３２５０号、欧州特許第０６８６６７５号、国際公開第２００３／０００８０１号、米国特許第６，８３８，１６６号、国際公開第２００７／１３１８３３号、欧州特許第２４０２４０１号、国際公開第２０１９／１０３９３７号、国際公開第２０２０／００６２８６号、及びこれらに引用される文書に開示されている。磁性薄膜干渉顔料粒子は、５層ファブリ・ペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は６層ファブリ・ペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は７層ファブリ・ペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は１つ若しくは複数の多層ファブリ・ペロー構造を組み合わせた多層構造を有する顔料粒子を含むことが好ましい。
[0106]好ましい５層ファブリ・ペロー多層構造は、吸収材／誘電体／反射材／誘電体／吸収材の多層構造からなり、反射材及び／又は吸収材は磁性層でもあり、反射材及び／又は吸収材は、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルト、並びに／又はニッケル、鉄、及び／若しくはコバルトを含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁性層であることが好ましい。
[0107]好ましい６層ファブリ・ペロー多層構造は、吸収材／誘電体／反射材／磁性体／誘電体／吸収材の多層構造からなる。
[0108]好ましい７層ファブリ・ペロー多層構造は、米国特許第４，８３８，６４８号に開示されているものなどの吸収材／誘電体／反射材／磁性体／反射材／誘電体／吸収材の多層構造からなる。
[0109]１つ又は複数のファブリ・ペロー構造を組み合わせた多層構造を有する好ましい顔料粒子は、国際公開第２０１９／１０３９３７号に記載されているものであり、少なくとも２つのファブリ・ペロー構造の組合せからなり、前記２つのファブリ・ペロー構造は、反射材層、誘電体層、及び吸収材層を独立して含み、反射材及び／若しくは吸収材層は各々１つ若しくは複数の磁性材料を独立して含むことができ、及び／又は磁性層は２つの構造間に挟まれる。国際公開第２０２０／００６２８６号及び欧州特許出願公開第３５８７５００号は、多層構造を有するさらに好ましい顔料粒子を開示している。
[0110]本明細書に記載する反射材層は、金属及び金属合金からなる群から選択された１つ又は複数から独立して作られることが好ましく、そのような金属及び金属合金は、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金からなる群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金からなる群から選択され、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金からなる群から選択され、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）である。誘電体層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ３）、フッ化ランタン（ＬａＦ３）、フッ化アルミニウムナトリウム（たとえば、Ｎａ３ＡｌＦ６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ３）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）などの金属フッ化物、及び酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）などの金属酸化物からなる群から選択され、より好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなる群から選択される１つ又は複数、さらにより好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）から独立して作られる。吸収材層は、好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、これらの金属硫化物、これらの金属炭化物、及びこれらの金属合金からなる群から選択され、より好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、及びこられの金属合金からなる群から選択され、さらにより好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの金属合金からなる群から選択される１つ又は複数から独立して作られる。磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含むことが好ましい。７層ファブリ・ペロー構造を含む磁性薄膜干渉顔料粒子が好ましいとき、磁性薄膜干渉顔料粒子は、Ｃｒ／ＭｇＦ２／Ａｌ／Ｎｉ／Ａｌ／ＭｇＦ２／Ｃｒの多層構造からなる７層ファブリ・ペロー吸収材／誘電体／反射材／磁気／反射材／誘電体／吸収材の多層構造を含むことが特に好ましい。
[0111]本明細書に記載する磁性薄膜干渉顔料粒子は、人間の健康及び環境安全であると考えられる、たとえば５層ファブリ・ペロー多層構造、６層ファブリ・ペロー多層構造、及び７層ファブリ・ペロー多層構造に基づく多層顔料粒子であってもよく、前記顔料粒子は、約４０重量％～約９０重量％の鉄、約１０重量％～約５０重量％のクロム、及び約０重量％～約３０重量％のアルミニウムを含む実質的にニッケルを含まない組成物を有する磁性合金を含む１つ又は複数の磁性層を含む。人間の健康及び環境にとって安全であると考えられる多層顔料粒子の典型的な例は、内容が全体として参照により本明細書に組み込まれている欧州特許第２４０２４０１号に見ることができる。
[0112]本明細書に記載する磁性薄膜干渉顔料粒子は、典型的には、異なる必要な層のウエブへの従来の堆積技法によって製造される。たとえば物理気相成長（ＰＶＤ）、化学気相成長（ＣＶＤ）、又は電解析出による所望の数の層の堆積後、好適な溶剤中に剥離層を溶解することによって、又はウエブから材料を剥がすことによって、層の積層体がウエブから除去される。次いで、そのようにして得られた材料は薄片に分解され、それらの薄片は、必要とされるサイズの顔料粒子を得るために、研削、ミリング（たとえば、ジェットミリングプロセスなど）、又は任意の好適な方法によってさらに処理されなければならない。その結果得られる生成物は、破損した縁部、不規則な形状、及び異なる縦横比を有する平坦な薄片からなる。好適な磁性薄膜干渉顔料粒子の準備に関するさらなる情報は、たとえば、内容が参照により本明細書に組み込まれている欧州特許出願公開第１７１０７５６号及び欧州特許出願公開第１６６６５４６号に見ることができる。
[0113]光学的に可変の特性を呈する好適な磁性コレステリック液晶顔料粒子には、限定ではないが、磁性単分子層コレステリック液晶顔料粒子及び磁性多層コレステリック液晶顔料粒子が含まれる。そのような顔料粒子は、たとえば国際公開第２００６／０６３９２６号、米国特許第６，５８２，７８１号、及び米国特許第６、５３１、２２１号に開示されている。国際公開第２００６／０６３９２６号は、磁化可能性などの追加の特定の特性とともに高い輝度及び変色特性を有する単分子層及びそこから得られる顔料粒子を開示する。開示されている単分子層及び前記単分子層を粉砕することによってそこから得られる顔料粒子は、３次元に架橋されたコレステリック液晶混合物及び磁性ナノ粒子を含む。米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，４１０，１３０号は、配列Ａ１／Ｂ／Ａ２を含む小板状のコレステリック多層顔料粒子を開示しており、ここでＡ１及びＡ２は、同一であっても異なってもよく、各々少なくとも１つのコレステリック層を含み、Ｂは中間層であり、前記中間層に磁性を与える層Ａ１及びＡ２によって透過される光のすべて又は一部を吸収する。米国特許第６、５３１、２２１号は、配列Ａ／Ｂ及び任意選択でＣを含む小板状のコレステリック多層顔料粒子を開示しており、ここでＡ及びＣは磁性を与える顔料粒子を含む吸収層であり、Ｂはコレステリック層である。
[0114]１つ又は複数の磁性材料を含む好適な干渉被覆顔料は、限定ではないが、１つ又は複数の層で被覆されたコアからなる群から選択される基板からなる構造を含み、コア又は１つ又は複数の層のうちの少なくとも１つが磁性を有する。たとえば、好適な干渉被覆顔料は、上述したものなどの磁性材料から作られたコアを含み、前記コアは１つ若しくは複数の金属酸化物から作られた１つ若しくは複数の層で被覆され、又は好適な干渉被覆顔料は、合成若しくは天然の雲母、層状ケイ酸塩（たとえば、タルク、カオリン、及び絹雲母）、ガラス（たとえば、ホウケイ酸ガラス）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、グラファイト、及びこれらの２つ以上の混合物から作られたコアからなる構造を有する。さらに、着色層などの１つ又は複数の追加の層が存在してもよい。
[0115]本明細書に記載する磁性又は磁化可能顔料粒子は、コーティング組成物及びコーティング層内に生じうるあらゆる劣化からそれらの粒子を保護するために、並びに／又は前記コーティング組成物及びコーティング層内に組み込むことを容易にするために、表面処理されてもよく、典型的には、腐食防止材料及び／又は湿潤剤が使用されてもよい。
[0116]本明細書に記載する方法は、Ｘ軸線及びＹ軸線の両方を基板（ｘ２０）表面に対して実質的に平行にするために、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸線方向に配向するように、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態にするステップｉｉｉ）とをさらに含む。本明細書では、「放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させる」とは、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子が採用された位置及び配向で固定／凍結され、どこへも移動及び回転することができないことを意味する（当技術分野では、粒子の「ピンニング」とも呼ばれる）。
[0117]本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）の集合（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３など）の棒状双極子磁石（ｘ３１）の最上面から前記磁気アセンブリの方を向いている基板（ｘ２０）の最下面までの距離（ｈ）（たとえば、図２に示す）は、好ましくは約２０ｍｍ未満且つ約２ｍｍ以上、より好ましくは約１０ｍｍ以下且つ約４ｍｍ以上、さらにより好ましくは約７ｍｍ以下且つ約２ｍｍ以上である。
[0118]一実施形態によれば、磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）を含む本明細書に記載する方法は、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）を使用する単一のステップからなる。本明細書に記載する方法は、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定することを可能にするステップｉｉｉ）を含み、少なくとも部分的に硬化させる前記ステップは、ステップｉｉ）と部分的に同時に実施されてもよく、又はステップｉｉ）に続いて実施されてもよい。本明細書に記載する方法中、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は、静止デバイスであることが好ましい。本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する移送デバイスの近傍に取り付けられており、前記移送デバイスは、把持部を備えるベルト又は１つ若しくは複数の回転シリンダであることが好ましい。
[0119]たとえば図５Ａ～図５Ｃに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、次に小板状の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を１軸線方向に再配向するように１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すさらなるステップとを含み、前記１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）は、回転磁性シリンダ（ｘ６０）に取り付けられることが好ましく、前記さらなるステップは、ステップｉｉ）に続いて実施される。本明細書に記載する方法は、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）を含み、前記ステップは、小板状の磁性又は磁化可能粒子を１軸線方向に再配向するステップと部分的に同時に実施されてもよく、又は小板状の磁性又は磁化可能粒子を１軸線方向に再配向するステップに続いて実施されてもよいが、再配向する前記ステップと部分的に同時に実施されることが好ましい。国際公開第２０１５／０８６２５７号は、小板状の磁性又は磁化可能粒子を１軸線方向に再配向する次のステップも実施されるプロセスを開示している。本明細書に記載する方法中、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は、静止デバイスであることが好ましい。図５Ａ～図５Ｃは前記方法を示し、磁場生成デバイスの１つ又は複数の磁石（Ｍ１）は、本明細書に記載する回転磁性シリンダ（５６０）に取り付けられており、コーティング層（５１０、図５Ａには図示せず）を保持する基板（５２０）は、前記回転磁性シリンダ（５６０）に付随して動く。図５Ａに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する磁気アセンブリ（５００）は、本明細書に記載する移送デバイスの近傍に取り付けられており、前記移送デバイスは、把持部を備えるベルトであることが好ましい。図５Ｂ～図５Ｃに示す別の実施形態によれば、本明細書に記載する磁気アセンブリ（５００）は、本明細書に記載する移送デバイスの近傍に取り付けられており、前記移送デバイスは、１つ又は複数のシリンダ（５７０－ａ及び５７０－ｂ）からなることが好ましい。
[0120]図５Ａに示す方法は、基板（５２０）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施することができるが、同じ方法が、コーティング層（５１０、図５Ａには図示せず）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施されてもよい。
[0121]たとえば図５Ｄに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、単一のステップで、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）を含み、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）は、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０）に取り付けられることが好ましい。本明細書に記載する方法は、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）を含み、前記ステップは、ステップｉｉ）と部分的に同時に実施されてもよく、又はステップｉｉ）に続いて実施されてもよい。本明細書に記載する方法中、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は静止デバイスであることが好ましく、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）は、コーティング層（ｘ１０）を保持する基板（ｘ２０）に付随して動く。図５Ｄは前記方法を示し、磁場生成デバイスの磁石（Ｍ１）は、本明細書に記載する回転磁性シリンダ（５６０）に取り付けられており、コーティング層（５１０）を保持する基板（５２０）は、本明細書に記載する静止磁気アセンブリ（５００）の近傍で前記回転磁性シリンダ（５６０）に付随して動く。前記実施形態によれば、本明細書に記載する磁気アセンブリ（５００）は、本明細書に記載する回転磁性シリンダ（５６０）の近傍に取り付けられる。国際公開第２０１９／１４１４５２号及び国際公開第２０１９／１４１４５３号の図４は、硬磁性磁石（前記ＰＣＴ出願のｘ３０）が磁場生成デバイス（前記ＰＣＴ出願のｘ４０）と同時に使用されるプロセスを開示している。たとえば、図５Ｅに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、本明細書に記載する第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、（選択的硬化ユニット（ｘ８０）で示す）任意選択的なさらなるステップと、さらに続いて、単一のステップで、本明細書に記載する第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップとを含み、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）は、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０）に取り付けられることが好ましい。本明細書に記載する方法は、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）を含み、前記ステップは、ステップｉｉ）と部分的に同時に実施されてもよく、又はステップｉｉ）に続いて実施されてもよい。本明細書に記載する方法中、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００ａ及びｘ００ｂ）は静止デバイスであることが好ましく、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）は、コーティング層（ｘ１０）を保持する基板（ｘ２０）に付随して動く。図５Ｅに示す方法は、基板（５２０）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施することができるが、同じ方法が、コーティング層（５１０、図５Ｅには図示せず）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施されてもよい。
[0122]たとえば図５Ｄに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、単一のステップで、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場と、空隙及び／又はくぼみ及び／又は突起の形態で１つ又は複数の印を保持する１つ又は複数の軟磁性板（Ｍ１）の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）を含み、前記軟磁性板は、回転磁性シリンダに取り付けられること、又は基板（ｘ２０）の下の可動デバイスに配置されることが好ましい。本明細書に記載する方法は、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定することを可能にするステップｉｉｉ）を含み、少なくとも部分的に硬化させる前記ステップは、ステップｉｉ）と部分的に同時に実施されてもよく、又はステップｉｉ）に続いて実施されてもよい。本明細書に記載する方法中、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は静止デバイスであることが好ましく、１つ又は複数の軟磁性板（Ｍ１）は、コーティング層（ｘ１０）を保持する基板（ｘ２０）に付随して動く。空隙及び／又はくぼみ及び／又は突起の形態で１つ又は複数の印を保持する好適な軟磁性板は、高い透磁率の１つ若しくは複数の金属、合金、若しくは化合物から作られ、又は非磁性材料中に分散した約２５重量％～約９５重量％の軟磁性粒子を含む複合物から作られ、重量パーセントは、軟磁性板の総重量に基づいており、国際公開第２０１８／０３３５１２号及び国際公開第２０１８／０１９５９４号に開示されている。国際公開第２０１８／０３３５１２号の図３は、磁場生成デバイス（前記ＰＣＴ出願のｘ４０）に加えて軟磁性板（前記ＰＣＴ出願のｘ１０）も使用されるプロセスを開示している。国際公開第２０１８／０１９５９４号の図４は、磁場生成デバイス（前記ＰＣＴ出願のｘ６０）に加えて軟磁性板（前記ＰＣＴ出願のｘ５０）も使用されるプロセスを開示している。前記実施形態によれば、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する移送デバイスの近傍に取り付けられており、前記移送デバイスは、１つ又は複数の回転シリンダであることが好ましい。たとえば図５Ｅに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、本明細書に記載する第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、（選択的硬化ユニット（ｘ８０）で示す）任意選択的なさらなるステップと、さらに続いて、単一のステップで、本明細書に記載する第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場と、空隙及び／又はくぼみ及び／又は突起の形態で１つ又は複数の印を保持する１つ又は複数の軟磁性板（Ｍ１）の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップとを含み、前記軟磁性板は、回転磁性シリンダに取り付けられること、又は基板（ｘ２０）の下の可動デバイスに配置されることが好ましい。本明細書に記載する方法は、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定することを可能にするステップｉｉｉ）を含み、少なくとも部分的に硬化させる前記ステップは、ステップｉｉ）と部分的に同時に実施されてもよく、又はステップｉｉ）に続いて実施されてもよい。本明細書に記載する方法中、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００及びｘ００ｂ）は静止デバイスであることが好ましく、１つ又は複数の硬軟磁性板（Ｍ１）は、コーティング層（ｘ１０）を保持する基板（ｘ２０）に付随して動く。図５Ｅに示す方法は、基板（５２０）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施することができるが、同じ方法が、コーティング層（５１０、図５Ｅには図示せず）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施されてもよい。
[0123]たとえば図５Ａ～図５Ｃに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、このステップｉｉ）に続いて、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、（選択的硬化ユニット（５８０）で示す）、さらなるステップと、さらに続いて、１つ又は複数の第２の区域内の小板状の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を１軸線方向に再配向するように１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップとを含み、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）は、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０）に取り付けられることが好ましい。本明細書に記載する方法は、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）を含み、前記ステップは、小板状の磁性又は磁化可能粒子を再配向するステップと部分的に同時に実施されてもよく、又は小板状の磁性又は磁化可能粒子を再配向するステップに続いて実施されてもよいが、再配向する前記ステップと部分的に同時に実施されることが好ましい。本明細書に記載する方法中、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は静止デバイスであることが好ましく、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）は、コーティング層（ｘ１０）を保持する基板（ｘ２０）に付随して動く。図５Ａ～図５Ｃは前記方法を示し、磁場生成デバイスの１つ又は複数の磁石（Ｍ１）は、本明細書に記載する回転磁性シリンダ（５６０）に取り付けられており、コーティング層（５１０、図５Ａには図示せず）を保持する基板（５２０）は、本明細書に記載する静止磁気アセンブリ（５００）の近傍で前記回転磁性シリンダ（５６０）に付随して動く。図５Ａに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する磁気アセンブリ（５００）は、本明細書に記載する移送デバイスの近傍に取り付けられており、前記移送デバイスは、把持部を備えるベルトであることが好ましい。図５Ｂ～図５Ｃに示す別の実施形態によれば、本明細書に記載する磁気アセンブリ（５００）は、本明細書に記載する移送デバイスの近傍に取り付けられており、前記移送デバイスは、１つ又は複数のシリンダ（５７０－ａ及び５７０－ｂ）であることが好ましい。
[0124]一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、次に小板状の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を１軸線方向に再配向するように１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）を備える第１の磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すさらなるステップであり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０ａ）に取り付けられることが好ましく、前記さらなるステップがステップｉｉ）に続いて実施される、１軸線方向に再配向するさらなるステップと、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、（選択的硬化ユニット（ｘ８０）で示す）、さらなるステップと、さらに続いて、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップであり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０ｂ）に取り付けられることが好ましい、ステップとを含む。１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）を備える第２の磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。
[0125]一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、次に小板状の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を１軸線方向に再配向するように１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）を備える第１の磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すさらなるステップであり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０ａ）に取り付けられることが好ましく、前記さらなるステップがステップｉｉ）に続いて実施される、１軸線方向に再配向するさらなるステップと、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、（選択的硬化ユニット（ｘ８０）で示す）、さらなるステップと、さらに続いて、第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、さらに続いて、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップであり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０ｂ）に取り付けられることが好ましい、ステップとを含む。１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。
[0126]一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、本明細書に記載するものなどの第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、このステップｉｉ）に続いて、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、本明細書に記載するものなどの第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒す単一のステップとを含み、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）は、回転磁性シリンダ（ｘ６０）に取り付けられることが好ましい。第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場と磁場生成デバイスの磁場との相互作用にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。本明細書に記載する方法中、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）は静止デバイスであることが好ましく、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）を含む磁場生成デバイスは、コーティング層（ｘ１０）を保持する基板（ｘ２０）に付随して動き、コーティング層（ｘ１０）を保持する基板（ｘ２０）は、本明細書に記載する静止磁気アセンブリ（ｘ００）の近傍で前記回転磁性シリンダに付随して動く。
[0127]一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、本明細書に記載するものなどの第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、このステップｉｉ）に続いて、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、本明細書に記載するものなどの第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場と、本明細書に記載するものなどの１つ又は複数の軟磁性板の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒す単一のステップとを含む。磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場と軟磁性板の磁場との相互作用にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。
[0128]たとえば図５Ｆに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）を備える第１の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）であり、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０ａ）に取り付けられることが好ましい、ステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、さらに続いて、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップであり、前記１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０ｂ）に取り付けられることが好ましい、ステップとを含む。１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。
[0129]たとえば図５Ｆに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場と、本明細書に記載するものなどの１つ又は複数の軟磁性板（Ｍ１ａ）の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、さらに続いて、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）を備える磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップとを含み、前記１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）は、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０）に取り付けられることが好ましい。１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）を備える磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。
[0130]たとえば図５Ｇに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）を備える第１の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）であり、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０ａ）に取り付けられることが好ましい、ステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、さらに続いて、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第３の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップであり、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０ｂ）に取り付けられることが好ましい、ステップとを含む。第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場と第２の磁場生成デバイスの磁場との相互作用にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。
[0131]たとえば図５Ｇに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）を備える第１の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）であり、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０ａ）に取り付けられることが好ましい、ステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、さらに続いて、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第３の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場と、本明細書に記載するものなどの１つ又は複数の軟磁性板（Ｍ１ｂ）の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップとを含む。第３の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場と１つ又は複数の軟磁性板の磁場との相互作用にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。
[0132]たとえば図５Ｇに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場と、本明細書に記載するものなどの１つ又は複数の軟磁性板（Ｍ１ａ）の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、さらに続いて、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第３の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）を備える磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップとを含み、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）は、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０）に取り付けられることが好ましい。第３の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場と第２の磁場生成デバイスの磁場との相互作用にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。
[0133]たとえば図５Ｇに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場と、本明細書に記載するものなどの１つ又は複数の第１の軟磁性板（Ｍ１ａ）の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、さらに続いて、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第３の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場と、本明細書に記載するものなどの１つ又は複数の第２の軟磁性板（Ｍ１ｂ）の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップとを含む。第３の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場と第２の軟磁性板の磁場との相互作用にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。
[0134]たとえば図５Ｈに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、ａ）本明細書に記載する第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場の相互作用に放射線硬化性コーティング組成物を晒し、次いでｂ）単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）を備える第１の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）であり、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０ａ）に取り付けられることが好ましい、ステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、第３の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、さらに続いて、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第４の磁気アセンブリ（ｘ００ｄ）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）を備える第２の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップであり、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ｂ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０ｂ）に取り付けられることが好ましい、ステップとを含む。第４の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場と第２の磁場生成デバイスの磁場との相互作用にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。図５Ｈに示す方法は、基板（５２０）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施することができるが、同じ方法が、コーティング層（５１０、図５Ｈには図示せず）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施されてもよい。
[0135]たとえば図５Ｈに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、ａ）本明細書に記載する第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場の相互作用に放射線硬化性コーティング組成物を晒し、次いでｂ）単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）を備える第１の磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）であり、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１ａ）が、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０）に取り付けられることが好ましい、ステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、第３の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、さらに続いて、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第４の磁気アセンブリ（ｘ００ｄ）の磁場と、本明細書に記載するものなどの１つ又は複数の軟磁性板（Ｍ１ｂ）の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップとを含む。第４の磁気アセンブリ（ｘ００ｄ）の磁場と１つ又は複数の軟磁性板（Ｍ１ｂ）の磁場との相互作用にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。この実施形態は図５Ｈに示されており、第２の磁場生成デバイスの磁石（Ｍ１ｂ）が軟磁性板に置き換えられている。図５Ｈに示す方法は、基板（５２０）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施することができるが、同じ方法が、コーティング層（５１０、図５Ｈには図示せず）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施されてもよい。
[0136]たとえば図５Ｈに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、ａ）本明細書に記載する第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場の相互作用に放射線硬化性コーティング組成物を晒し、次いでｂ）単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場と、本明細書に記載するものなどの１つ又は複数の軟磁性板（Ｍ１ａ）の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、第３の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、さらに続いて、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第４の磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップとを含み、１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）は、移送デバイスとしても作用する回転磁性シリンダ（ｘ６０）に取り付けられることが好ましい。第４の磁気アセンブリ（ｘ００ｄ）の磁場と第２の磁場生成デバイスの磁場との相互作用にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。図５Ｈに示す方法は、基板（５２０）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施することができるが、同じ方法が、コーティング層（５１０、図５Ｈには図示せず）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施されてもよい。
[0137]たとえば図５Ｈに示す一実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、ａ）本明細書に記載する第１の磁気アセンブリ（ｘ００ａ）の磁場の相互作用に放射線硬化性コーティング組成物を晒し、次いでｂ）単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第２の磁気アセンブリ（ｘ００ｂ）の磁場と、本明細書に記載するものなどの１つ又は複数の第１の軟磁性板（Ｍ１ａ）の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップｉｉ）と、非球形の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させて、その結果、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されない、さらなるステップと、さらに続いて、第３の磁気アセンブリ（ｘ００ｃ）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、さらに続いて、単一のステップで、本明細書に記載するものなどの第４の磁気アセンブリ（ｘ００ｄ）の磁場と、本明細書に記載するものなどの１つ又は複数の第２の軟磁性板（Ｍ１ｂ）の磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒すステップとを含む。第４の磁気アセンブリ（ｘ００ｄ）の磁場と１つ又は複数の第２の軟磁性板（Ｍ１ｂ）の磁場との相互作用にコーティング層（ｘ１０）を配向するステップと部分的に同時に、又はこのステップに続いて、本明細書に記載する方法は、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップを含む。この実施形態は図５Ｇに示されており、第１の磁場生成デバイスの磁石（Ｍ１ａ）及び第２の磁場生成デバイスの磁石（Ｍ１ｂ）が軟磁性板に置き換えられている。図５Ｈに示す方法は、基板（５２０）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施することができるが、同じ方法が、コーティング層（５１０、図５Ｈには図示せず）が磁気アセンブリ（５００）の方を向いた状態で実施されてもよい。
[0138]本明細書に記載する１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１、Ｍ１ａ、Ｍ１ｂ）は限定されるものではなく、たとえば双極子磁石、四重極磁石、及びこれらの組合せを含む。以下の硬磁性磁石は、例示として本明細書に提供される。
[0139]フリップフロップ効果として知られている光学効果（当技術分野では、スイッチング効果とも呼ばれる）は、遷移部によって分離された第１の印刷部分及び第２の印刷部分を含み、顔料粒子は、第１の部分内で第１の面に平行に位置合わせされ、第２の部分内の顔料粒子は、第２の面に平行に位置合わせされる。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば米国特許出願公開第２００５／０１０６３６７号及び欧州特許第１８１９５２５号に開示されている。
[0140]米国特許出願公開第２００５／０１０６３６７号に開示されているローリングバー効果として知られている光学効果がもたらされてもよい。「ローリングバー」効果は、コーティングにおいて湾曲面を模倣する顔料粒子の配向に基づいている。観察者は、画像が傾斜しているとき、観察者から離れる方又は観察者に向かう方へ動く鏡面反射区間を見る。顔料粒子は、湾曲して位置合わせされ、凸状の湾曲（当技術分野では、負の湾曲配向とも呼ばれる）又は凹状の湾曲（当技術分野では、正の湾曲配向とも呼ばれる）をたどる。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば欧州特許出願公開第２２６３８０６号、欧州特許第１６７４２８２号、欧州特許出願公開第２２６３８０７号、国際公開第２００４／００７０９５号、国際公開第２０１２／１０４０９８号、及び国際公開第２０１４／１９８９０５号に開示されている。
[0141]ベネチアンブラインド効果として知られている光学効果がもたらされてもよい。ベネチアンブラインド効果は、特有の観察方向に沿って下にある基板表面に可視性を与え、別の観察方向に沿って可視性を妨害しながら、基板表面に存在する印又は他の特徴が観察者に明らかになるように、顔料粒子が配向されることを含む。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば米国特許第８，０２５，９５２号及び欧州特許第１８１９５２５号に開示されている。
[0142]ムービングリング効果として知られている光学効果がもたらされてもよい。ムービングリング効果は、前記光学効果層の傾斜角に応じていずれかのｘｙ方向に動くように見える漏斗、円錐、ボウル、円、長円、及び半球などの物体の光学的に錯覚の画像からなる。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば欧州特許出願公開第１７１０７５６号、米国特許第８，３４３，６１５号、欧州特許出願公開第２３０６２２２号、欧州特許出願公開第２３２５６７７号、国際公開第２０１１／０９２５０２号、米国特許出願公開第２０１３／０８４４１１号、国際公開第２０１４／１０８４０４号、及び国際公開第２０１４／１０８３０３号に開示されている。
[0143]前記効果を傾斜させると明るい区域及び暗い区域のパターンが動く光学的印象を提供する光学効果がもたらされてもよい。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば国際公開第２０１３／１６７４２５号に開示されている。
[0144]前記効果を傾斜させるとループ状体のサイズが変動する光学的印象を提供する光学効果がもたらされてもよい。これらの光学効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば国際公開第２０１７／０６４０５２号、国際公開第２０１７／０８０６９８号、及び国際公開第２０１７／１４８７８９号に開示されている。
[0145]光学効果層を傾斜させると１つ又は複数のループ状体の形状が変動する光学的印象を提供する光学効果がもたらされてもよい。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば国際公開第２０１８／０５４８１９号に開示されている。
[0146]傾斜させると三日月が移動及び回転する光学的印象を提供する光学効果がもたらされてもよい。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば国際公開第２０１９／２１５１４８号に開示されている。
[0147]傾斜させるとループ状体のサイズ及び形状が変動する光学的印象を提供する光学効果がもたらされてもよい。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば同時係属の国際出願ＰＣＴ２０２０／０５２８６２に開示されている。
[0148]直交視差効果の光学的印象を提供する光学効果がもたらされてもよく、すなわちこの場合、基板が水平／緯度軸線の周りを傾斜しているときは、明るい反射性の縦棒が長手方向に動き、又は基板が長手方向軸線の周りを傾斜しているときは、水平／緯度方向に動く。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば同時係属の国際出願ＰＣＴ／ＥＰ２０２０／０５２２６５に開示されている。
[0149]１つのループ状体が１つ又は複数のループ状体によって取り囲まれる光学的印象を提供する光学効果がもたらされてもよく、傾斜させると前記１つ又は複数のループ状体の形状及び／又は明るさが変動する。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば同時係属の国際出願ＰＣＴ／ＥＰ２０２０／０５４０４２に開示されている。
[0150]基板が垂直／長手方向軸線の周りを傾斜しているときに、複数の暗いスポット及び複数の明るいスポットが斜め方向に移動及び／又は出現及び／又は消滅するだけでなく、基板が傾斜しているときにも、斜め方向に移動及び／又は出現及び／又は消滅する光学的印象を提供する光学効果がもたらされてもよい。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、たとえば同時係属の欧州特許第１９２０５７１５．６号及び欧州特許第１９２０５７１６．４号に開示されている。
[0151]本明細書に記載する方法の実施形態の場合、本明細書に記載する磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場と、本明細書に記載する１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場との相互作用に、コーティング層（ｘ１０）を晒す単一のステップにおいて、非回転式磁場生成デバイスを使用することが好ましい。本明細書に記載する方法の実施形態の場合、本明細書に記載する１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）を備える磁場生成デバイスの磁場にコーティング層（ｘ１０）を晒す独立したステップにおいて、非回転式磁場生成デバイスが使用されても、回転式磁場生成デバイスが使用されてもよい。回転式磁場生成デバイスによって得られるムービングリング効果として知られている光学効果は、国際公開第２０１４／１０８４０４号及び国際公開第２０１４／１０８３０３号に開示されている。傾斜されると少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの彗星状のスポットが前記回転中心の周りを回転する光学的印象を提供する、回転式磁場生成デバイスによって得られる光学効果は、たとえば国際公開第２０１９／０３８３７１号、国際公開第２０１９／０６３７７８号、及び国際公開第２０１９／０３８３６９号に開示されている。
[0152]本明細書に記載する１つ又は複数の硬磁性磁石（Ｍ１）は、１つ又は複数の浮彫り、彫刻、又は切抜きを保持する磁性板を備えてもよい。国際公開第２００５／００２８６６号及び国際公開第２００８／０４６７０２号は、そのような凹刻磁性板の例である。
[0153]本明細書に記載する方法は、第１の液体状態にある放射線硬化性コーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態にし、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定／凍結するステップｉｉｉ）を含む。本明細書に記載する少なくとも部分的な硬化ステップｉｉｉ）は、本明細書に記載する硬化ユニット（ｘ５０）を使用することによって実施される。本明細書に記載する実施形態の場合、コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されないようにコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させるステップは、本明細書に記載する選択的硬化ユニット（ｘ８０）を使用することによって実施される。
[0154]したがって、本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物が、コーティング組成物がまだ硬化しておらず湿っており、又は十分に柔らかく、したがって磁場に晒されると組成物及びコーティング層中に分散された小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子が自由に可動、回転可能、及び配向可能になる第１の状態、すなわち液体又はペースト状態と、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれの位置及び配向で固定又は凍結される第２の硬化（たとえば、固体又は固体状の）状態とを有していなければならないことは注目に値する。
[0155]そのような第１及び第２の状態は、特定のタイプのコーティング組成物を使用することによって提供されることが好ましい。たとえば、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子以外の放射線硬化性コーティング組成物の構成要素は、セキュリティの用途で、たとえば紙幣の印刷に使用されるものなどのインク又はコーティング組成物の形態をとってもよい。上述した第１及び第２の状態は、たとえば電磁放射への曝露などの刺激に反応して粘性の増大を示す材料を使用することによって提供することができる。すなわち、流体接着材料が固められ又は固体化されるとき、前記接着材料は、第２の状態、すなわち固められた状態又は固体状態に変わり、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、現在の位置及び配向で固定され、接着材料内を移動又は回転することができなくなる。当業者には知られているように、基板などの表面に塗布されるインク又はコーティング組成物に含まれる成分及び前記インク又はコーティング組成物の物理特性は、インク又はコーティング組成物を基板表面へ転写するために使用されるプロセスの要件を満たさなければならない。その結果、本明細書に記載するコーティング組成物に含まれる接着材料は、典型的に、当技術分野で知られているものの中から選択され、インク又はコーティング組成物を塗布するために使用されるコーティング又は印刷プロセス及び選択された固めるプロセスに依存する。
[0156]少なくとも部分的な硬化ステップｉｉｉ）は、放射線硬化性コーティング組成物に含まれる接着剤並びに任意選択的な開始剤化合物及び／又は任意選択的な架橋化合物の化学反応を含む。そのような化学反応は、限定ではないが、紫外－可視光放射硬化（以下、ＵＶ－Ｖｉｓ硬化と呼ぶ）及び電子ビーム放射硬化（Ｅビーム硬化）を含む放射機構による化学反応の開始を含み、熱又はＩＲ照射によって開始されてもよい。
[0157]これらの技術は、非常に速い硬化プロセスをもたらすことが有利であり、したがって本明細書に記載するＯＥＬを含む物品の準備時間を劇的に減少させるため、放射硬化は本明細書に記載する方法中に実施され、ＵＶ－Ｖｉｓ光放射硬化がより好ましい。さらに、放射硬化には、硬化放射への曝露後にコーティング組成物の粘性のほぼ瞬時の増大をもたらし、したがって粒子のさらなる動きを最小にするという利点がある。その結果、磁性配向ステップ後の配向の損失を本質的に回避することができる。電磁スペクトルのＵＶ又は青色部分の波長成分（典型的には、２００ｎｍ～６５０ｎｍ、より好ましくは２００ｎｍ～４２０ｎｍ）を有する化学線の影響下での光重合による放射硬化が特に好ましい。ＵＶ可視硬化のための機器は、化学線源として高出力発光ダイオード（ＬＥＤ）ランプ又はアーク放電ランプ、たとえば中圧水銀アーク（ＭＰＭＡ）又は金属蒸気アークランプを備えてもよい。
[0158]したがって、本発明にとって好適な放射線硬化性コーティング組成物は、ＵＶ可視光放射によって硬化されうる放射線硬化性組成物（以下、ＵＶ－Ｖｉｓ硬化性と呼ぶ）又はＥビーム放射によって硬化されうる放射線硬化性組成物（以下、ＥＢと呼ぶ）を含む。本発明の１つの特に好ましい実施形態によれば、本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物は、ＵＶ－Ｖｉｓ硬化性のコーティング組成物である。
[0159]本明細書に記載するＵＶ－Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物は、ラジカル硬化性化合物及びカチオン硬化性化合物からなる群から選択される１つ又は複数の化合物を含むことが好ましい。本明細書に記載するＵＶ－Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物は、複合システムであってもよく、１つ又は複数のカチオン硬化性化合物及び１つ又は複数のラジカル硬化性化合物の混合物を含んでもよい。カチオン硬化性化合物は、典型的には酸などのカチオン種を遊離させる１つ又は複数の光開始剤の放射による活性化を含むカチオン機構によって硬化され、それにより硬化を開始してモノマー及び／又はオリゴマーを反応及び／又は架橋させ、以てコーティング組成物を固める。ラジカル硬化性化合物は、典型的には１つ又は複数の光開始剤の放射による活性化を含むフリーラジカル機構によって硬化され、以てラジカルを生成し、それにより重合を開始してコーティング組成物を固める。本明細書に記載するＵＶ－Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物に含まれる接着剤を準備するために使用されるモノマー、オリゴマー、又はプレポリマーに応じて、異なる光開始剤が使用されてもよい。フリーラジカル光開始剤の好適な例は、当業者には知られており、限定ではないが、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール、α－アミノケトン、α－ヒドロキシケトン、ホスフィンオキシド、及びホスフィンオキシド誘導体、並びにこれらの２つ以上の混合物が含まれる。カチオン光開始剤の好適な例は、当業者には知られており、限定ではないが、オニウム塩、たとえば有機ヨードニウム塩（たとえば、ジアリールヨードニウム塩）、オキソニウム（たとえば、トリアリールオキソニウム塩）、及びスルホニウム塩（たとえば、トリアリールスルホニウム塩）、並びにこれらの２つ以上の混合物が含まれる。有用な光開始剤の他の例は、標準的な教本に見ることができる。効率的な硬化を実現するために、１つ又は複数の光開始剤とともに増感剤を含むことも有利となりうる。好適な光増感剤の典型的な例には、限定ではないが、イソプロピル－チオキサントン（ＩＴＸ）、１－クロロ－２－プロポキシ－チオキサントン（ＣＰＴＸ）、２－クロロ－チオキサントン（ＣＴＸ）、及び２，４－ジエチル－チオキサントン（ＤＥＴＸ）、並びにこれらの２つ以上の混合物が含まれる。ＵＶ－Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物に含まれる１つ又は複数の光開始剤は、好ましくは約０．１重量％～約２０重量％、より好ましくは約１重量％～約１５重量％の総量で存在し、重量パーセントは、ＵＶ－Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物の総重量に基づいている。
[0160]本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物は、有機顔料粒子、無機顔料粒子、及び有機染料、及び／又は１つ若しくは複数の添加物からなる群から選択される１つ又は複数の着色成分をさらに含んでもよい。そのような添加物には、限定ではないが、粘性（たとえば、溶剤、増粘剤、及び界面活性剤）、粘稠性（たとえば、沈降防止剤、充填剤、及び可塑剤）、発泡特性（たとえば、消泡剤）、潤滑特性（ワックス、オイル）、ＵＶ安定性（光安定剤）、接着特性、帯電防止特性、貯蔵安定性（重合抑制剤）など、コーティング組成物の物理的、流動学的、及び化学的パラメータを調整するために使用される化合物及び材料が含まれる。本明細書に記載する添加物は、添加物の寸法のうちの少なくとも１つが１～１０００ｎｍの範囲内であるいわゆるナノ材料を含む、当技術分野で知られている量及び形状で、コーティング組成物に存在することができる。
[0161]本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物は、限定ではないが、粘性（たとえば、溶剤及び界面活性剤）、粘稠性（たとえば、沈降防止剤、充填剤、及び可塑剤）、発泡特性（たとえば、消泡剤）、潤滑特性（ワックス）、ＵＶ反応性及び安定性（光増感剤及び光安定剤）、及び接着特性など、組成物の物理的、流動学的、及び化学的パラメータを調整するために使用される化合物及び材料を含む、１つ又は複数の添加物をさらに含んでもよい。本明細書に記載する添加物は、粒子の寸法のうちの少なくとも１つが１～１０００ｎｍの範囲内であるいわゆるナノ材料の形状を含む、当技術分野で知られている量及び形状で、本明細書に記載するコーティング組成物に存在することができる。
[0162]本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物は、磁性材料（本明細書に記載する磁性又は磁化可能顔料粒子とは異なる）、発光性材料、導電性材料、及び赤外線吸収材料からなる群から選択される１つ若しくは複数のマーカ物質若しくはタガント及び／又は１つ若しくは複数の機械可読材料をさらに含んでもよい。本明細書では、「機械可読材料」という用語は、デバイス又は機械によって検出可能な少なくとも１つの特徴的な特性を呈する材料を指し、そのような材料は、その検出及び／又は認証のために特定の機器の使用によって前記コーティング又は前記コーティングを含む物品を認証するための方法を与えるように、コーティングに含むことができる。
[0163]本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物は、本明細書に記載する接着材料の存在下で存在するとき、本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子及び１つ又は複数の添加物を分散又は混合させ、したがって液体組成物を形成することによって準備されてもよい。存在するとき、１つ又は複数の光開始剤は、すべての他の成分の分散若しくは混合ステップ中に組成物に添加されてもよく、又は後の段階で、すなわち液体コーティング組成物の形成後に添加されてもよい。
[0164]本発明は、本明細書に記載する基板（ｘ２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製するための本明細書に記載する方法及び本明細書に記載する印刷装置を提供する。
[0165]本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）のコーティング層（ｘ１０）の形状は、連続であっても不連続であってもよい。一実施形態によれば、コーティング層（ｘ１０）の形状は、１つ又は複数の印、ドット、及び／又は線を表す。コーティング層（ｘ１０）の形状は、空いた区域によって互いから隔置された線、ドット、及び／又は印からなってもよい。
[0166]本明細書に記載する基板（ｘ２０）は、紙又は他の繊維性材料（織布及び不織布の繊維性材料を含む）、たとえばセルロース、紙含有材料、ガラス、金属、セラミック、プラスチック及びポリマー、金属化プラスチック又はポリマー、複合材料、並びにこれらの２つ以上の混合物又は組合せからなる群から選択されることが好ましい。典型的な紙、紙状、又は他の繊維性材料は、限定ではないがアバカ、綿、リネン、木材パルプ、及びこれらの混合物を含む様々な繊維から作られる。当業者にはよく知られているように、綿及び綿／リネン混合物は紙幣に好ましく、木材パルプは紙幣以外のセキュリティ文書で一般に使用される。プラスチック及びポリマーの典型的な例には、ポリオレフィン、たとえばポリエチレン（ＰＥ）及びポリプロピレン（ＰＰ）が含まれ、これには２軸線方向に配向されたポリプロピレン（ＢＯＰＰ）、ポリアミド、ポリエステル、たとえばポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリ（１，４－ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）、ポリ（エチレン２，６－ナフトエート）（ＰＥＮ）、及びポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）が含まれる。タイベック（Ｔｙｖｅｋ）（登録商標）の商標で販売されているものなどのスパンボンドオレフィン繊維が、基板として使用されてもよい。金属化プラスチック又はポリマーの典型的な例には、表面上に金属が連続して又は不連続に配置されている上述したプラスチック又はポリマー材料が含まれる。金属の典型的な例には、限定ではないが、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、これらの合金、及び上述した金属の２つ以上の組合せが含まれる。上述したプラスチック又はポリマー材料の金属化は、電着プロセス、高真空コーティングプロセス、又はスパッタリングプロセスによって行われてもよい。複合材料の典型的な例には、限定ではないが、上述したものなどの紙及び少なくとも１つのプラスチック又はポリマー材料の多層構造又は積層体、並びに上述したものなどの紙状又は繊維性材料に組み込まれたプラスチック及び／又はポリマー繊維が含まれる。当然ながら、基板は、充填剤、のり剤、漂白剤、加工助剤、強化剤、又は湿潤補強剤など、当業者には知られているさらなる添加物を含むことができる。本発明によって作製されるＯＥＬが、たとえばフィンガーネイルラッカーを含む装飾又は美容の目的で使用されるとき、前記ＯＥＬは、動物又は人間の爪、人工爪、又は他の部分を含む他のタイプの基板にもたらされてもよい。
[0167]本発明によって作製されたＯＥＬがセキュリティ文書上に位置する場合、前記セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び抵抗をさらに増大させる目的で、基板は、印刷、コーティング、又はレーザマーク、又はレーザ穿孔された印、透かし、セキュリティスレッド、ファイバ、プランシェット、発光性化合物、窓、箔、デカール、及びこれらの２つ以上の組合せを備えてもよい。セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び抵抗をさらに増大させるという同じ目的で、基板は、１つ又は複数のマーカ物質若しくはタガント及び／又は機械可読物質（たとえば、発光性物質、ＵＶ／可視光／ＩＲ吸収物質、磁性物質、及びこれらの組合せ）を備えてもよい。
[0168]所望される場合、ステップａ）の前に基板にプライマー層を付加してもよい。これにより、本明細書に記載するＯＥＬの品質を強化し、又は接着性を高めることができる。そのようなプライマー層の例は、国際公開第２０１０／０５８０２６号に見ることができる。
[0169]汚損に対する耐久性又は耐薬品性及び清浄性、したがって本明細書に記載する方法によって得られるＯＥＬを備える物品、セキュリティ文書、又は装飾用要素若しくは物品の循環寿命を増大させる目的で、或いは審美的な外観（たとえば、光沢）を修正する目的で、ＯＥＬの上に１つ又は複数の保護層を付加してもよい。存在するとき、１つ又は複数の保護層は、典型的に、保護ワニスから作られる。保護ワニスは、放射線硬化性組成物、熱乾燥組成物、又はこれらの任意の組合せとしてもよい。１つ又は複数の保護層は、好ましくは放射線硬化性組成物、より好ましくはＵＶ－Ｖｉｓ硬化性組成物である。保護層は、典型的に、ＯＥＬの形成後に付加される。
[0170]本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）又は１つ若しくは複数の光学効果層（ＯＥＬ）を備える基板（ｘ２０）は、たとえば圧力を加えることによってさらにエンボス加工されてもよい。
[0171]本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）は、本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップに続いて、１つ又は複数の印刷パターン又はセキュリティ特徴を形成するために、１つ又は複数のインク又はコーティング組成物によって少なくとも部分的にさらに重ね刷りされてもよい。
[0172]本発明は、本明細書に記載する方法及び／又は本明細書に記載する印刷装置の使用によって作製される光学効果層（ＯＥＬ）をさらに提供する。文書及び物品における偽造防止手段（言い換えれば、文書及び物品の保護及び認証）並びに装飾目的のための本明細書に記載するＯＥＬの使用もまた、本明細書に記載される。
[0173]本明細書に記載するＯＥＬは、基板に直接設けられてもよく、基板上に恒久的に留まるものとする（紙幣用途など）。別法として、光学効果層は、作製目的で一時的な基板に設けられてもよく、後にＯＥＬは基板から除去される。たとえばこれにより、特に接着材料が依然として流体状態にある間でも、光学効果層（ＯＥＬ）の作製を容易にすることができる。その後、ＯＥＬの作製のためにコーティング組成物を固めた後、一時的な基板がＯＥＬから除去されてもよい。
[0174]別法として、別の実施形態では、接着剤層がＯＥＬに存在してもよく、又はＯＥＬを含む基板に存在してもよく、前記接着剤層は、基板のうちＯＥＬが設けられている側とは反対側に位置しても、ＯＥＬと同じ側でＯＥＬの上に位置してもよい。したがって、接着剤層は、ＯＥＬに付加されても基板に付加されてもよく、前記接着剤層は、硬化ステップが完了した後に付加される。そのような物品は、機械及び非常に大きな労力を必要とする印刷又は他のプロセスなしに、あらゆる種類の文書又は他の物品又は品物に取り付けられてもよい。別法として、本明細書に記載するＯＥＬを含む本明細書に記載する基板は、別個の転写ステップで文書又は物品に付加することができる転写箔の形態であってもよい。この目的で、基板に剥離コーティングが提供され、その剥離コーティング上に、本明細書に記載するようにＯＥＬが作製される。そのように作製された光学効果層の上に１つ又は複数の接着剤層が付加されてもよい。
[0175]本明細書に記載する方法によって得られる２つ以上、すなわち２つ、３つ、４つなどの光学効果層（ＯＥＬ）を備える基板もまた、本明細書に記載される。
[0176]本発明によって作製された光学効果層（ＯＥＬ）を備える物品、特にセキュリティ文書、装飾用要素又は物体もまた、本明細書に記載される。物品、特にセキュリティ文書、装飾用要素又は物体は、本発明によって作製される２つ以上（たとえば、２つ、３つなど）のＯＥＬを備えてもよい。
[0177]上述したように、本発明によって作製されるＯＥＬは、装飾目的並びにセキュリティ文書の保護及び認証のために使用されてもよい。
[0178]装飾用要素又は物体の典型的な例には、限定ではないが贅沢品、化粧品の包装、自動車部品、電子／電気機器、家具、及びフィンガーネイル物品が含まれる。
[0179]セキュリティ文書には、限定ではないが、有価文書及び有価商品が含まれる。有価文書の典型的な例には、限定ではないが、紙幣、証書、チケット、小切手、商品券、収入印紙及び税額ラベル、合意書など、身分証明書、たとえばパスポート、身分証明カード、ビザ、運転免許証、銀行カード、クレジットカード、トランザクションカード、アクセス文書又はカード、入場券、公共輸送機関の切符、大学卒業証書又は称号など、好ましくは紙幣、身分証明書、権利付与文書、運転免許証、及びクレジットカードが含まれる。「有価商品」という用語は、特に化粧品、機能性食品、医薬品、アルコール、タバコ物品、飲料又は食品、電気／電子物品、布、又は宝石類向けの包装材料、すなわちたとえば本物の薬物などの包装の内容を保証するために偽造及び／又は違法複製から保護する物品を指す。これらの包装材料の例には、限定ではないが、ラベル、たとえば認証ブランドラベル、改ざん保護ラベル及びシールが含まれる。開示する基板、有価文書、及び有価商品は、本発明の範囲を限定するものではなく、例示のみを目的として与えられることが指摘される。
[0180]別法として、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）は、たとえばセキュリティスレッド、セキュリティストリップ、箔、デカール、窓、又はラベルなどの補助基板に作製されてもよく、その結果、別個のステップでセキュリティ文書に転写されてもよい。
[0181]本発明の精神から逸脱することなく、上述した特有の実施形態に対するいくつかの修正が、当業者には想到されよう。そのような修正も本発明に包含される。
[0182]さらに、本明細書全体にわたって参照したすべての文献は、本明細書に完全に記載された場合と同様に、全体が参照により本明細書に組み込まれる。
[0183]実施例及び比較例は、表１に示す化学式のＵＶ－Ｖｉｓ硬化性スクリーン印刷インク並びに後述する第１及び第２の磁気アセンブリを使用することによって実施した。
Figure 2023526950000002
本発明による磁気アセンブリ（図２Ａ）
[0184]第１の面に実質的に平行な配向で基板（２２０）を受け取るように構成された磁気アセンブリ（２００）を使用して、本発明による顔料粒子を２軸線方向に配向した。磁気アセンブリ（２００）は、ａ）第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む第１の集合（Ｓ１）、並びに第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を含む第２の集合（Ｓ２）と、ｂ）第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（２３３ａ及び２３３ｂ）とを備えていた。
[0185]第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（２３１）の最上面、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の最上面、並びに第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（２３３ａ及び２３３ｂ）の最上面が、互いに同一面上に位置した。
[0186]第３の棒状双極子磁石（２３３ａ）は、１本の線を形成するように、第１の集合（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ）及び第２の集合（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ）と位置合わせした。第３の棒状双極子磁石（２３３ｂ）は、１本の線を形成するように、第１の集合（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（２３２ｂ）及び第２の集合（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（２３２ｂ）と位置合わせした。本明細書に記載する各線に対して、第３の棒状双極子磁石（２３３ａ及び２３３ｂ）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ）は、２ｍｍの第３の距離（ｄ３）だけ隔置させた。
[0187]第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（２３１）は、５ｍｍの第１の厚さ（Ｌ１）、６０ｍｍの第１の長さ（Ｌ４）、及び４０ｍｍの第１の幅（Ｌ５）という寸法を有した。第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）の各々は、１０ｍｍの第２の厚さ（Ｌ２）、４０ｍｍの第２の長さ（Ｌ６）、及び１０ｍｍの第２の幅（Ｌ７）という寸法を有した。第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（２３３ａ及び２３３ｂ）の各々は、１０ｍｍの第３の厚さ（Ｌ３）、２０ｍｍの第３の長さ（Ｌ８）、及び１０ｍｍの第３の幅（Ｌ９）という寸法を有した。
[0188]第１の集合（Ｓ１）の第１の棒状双極子磁石（２３１）及び第１の集合（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を、列を形成するように位置合わせし、第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（２３１）及び第２の集合（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）を、列を形成するように位置合わせした。本明細書に記載する各集合（Ｓ１、Ｓ２）及び各列に対して、第１の棒状双極子磁石（２３１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）は、２ｍｍの第２の距離（ｄ２）だけ隔置させた。
[0189]第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（２３１）は、第１の面及び基板（２２０）に実質的に平行になるように配向された磁軸線を有し、第１の集合（Ｓ１）の第１の棒状双極子磁石（２３１）は、第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（２３１）の磁気方向とは反対の磁気方向を有し、２４ｍｍの第１の距離（ｄ１）（第３の長さ（Ｌ８）及び２つの第３の距離（ｄ３）の和に対応する）だけ隔置させた。
[0190]第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の２つの第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）は、第１の面及び基板（２２０）に実質的に直交するように配向された磁軸線を有した。第１の集合（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ）のＳ極は、第１の面及び基板（２２０）を指し、第１の集合（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（２３２ｂ）のＮ極は、第１の面及び基板（２２０）を指し、第１の集合（Ｓ１）の第１の棒状双極子磁石（２３１）のＮ極は、第１の集合（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（２３２ｂ）を指した。第２の集合（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ）のＮ極は、第１の面及び基板（２２０）を指し、第２の集合（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（２３２ｂ）のＳ極は、第１の面及び基板（２２０）を指し、第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（２３１）のＮ極は、第２の集合（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ）を指した。
[0191]第３の棒状双極子磁石（２３３ａ）のＳ極は、第１の集合（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ）を指し、前記第２の棒状双極子磁石（２３２ａ）のＳ極は、基板（２２０）を指し、第３の棒状双極子磁石（２３３ｂ）のＮ極は、第１の集合（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（２３２ｂ）を指し、前記第２の棒状双極子磁石（２３２ｂ）のＮ極は、基板（２２０）を指した。
[0192]第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（２３１）、第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）、及び第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（２３３ａ及び２３３ｂ）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４２から作られ、１１５ｍｍ×１１５ｍｍ×１２ｍｍという寸法を有するポリオキシメチレン（ＰＯＭ）から作られた非磁性支持マトリックス（図示せず）に埋め込まれた。
[0193]第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（２３１）は、第１の面及び基板（２２０）に実質的に平行になるように配向された磁軸線を有し、第１の集合（Ｓ１）の第１の棒状双極子磁石（２３１）は、第２の集合（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（２３１）の磁気方向とは反対の磁気方向を有し、２４ｍｍの第１の距離（ｄ１）だけ隔置させた。
従来技術による磁気アセンブリ（図６Ａ～図６Ｂ）
[0194]第１の面に実質的に平行な配向で基板（６２０）を受け取るように構成された比較磁気アセンブリ（６００）を使用して、顔料粒子を２軸線方向に配向した。前記比較磁気アセンブリ（６００）は、欧州特許出願公開第２１５７１４１号の図５による互い違いに配置された４つの棒状双極子磁石（６３２ａ～ｄ）を備えていた。４つの棒状双極子磁石（６３２ａ～ｄ）は、上述した第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（２３２ａ及び２３２ｂ）と同一であり、互い違いに配置され、距離（ｅ１）は６０ｍｍであり、距離（ｅ２）は約４０ｍｍであった。
サンプルＥ１及び比較サンプルＣ１（図７Ａ）
[0195]各サンプルに対して、表１のＵＶ－Ｖｉｓ硬化性スクリーン印刷インクを１枚の信用紙幣（ＬｏｕｉｓｅｎｔｈａｌからのＢＮＰ紙、１００ｇ／ｍ２、６０ｍｍ×６０ｍｍ）に塗布してコーティング層（４０ｍｍ×４０ｍｍ）を形成し、前記塗布ステップは、Ｔ９０スクリーンを使用する実験用スクリーン印刷デバイスによって実施し、約２０μｍの厚さを有するコーティング層を形成した。
[0196]コーティング層が依然として湿っておりまだ硬化していない状態にある間、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）から作られた支持板（１００ｍｍ×１００ｍｍ）の中心に基板（２２０、６２０）を配置した。基板（２２０、６２０）及びコーティング層を保持する支持板を、
ｉ）サンプルＥ１に関して図２Ａに示す磁気アセンブリ（２００）、
ｉｉ）比較サンプルＣ１に関して図６Ａに示す磁気アセンブリ（６００）
の上において約５０ｃｍ／秒の速度で独立して動かし、基板（２２０、６２０）は磁気アセンブリ（２００、６００）に面しており、磁気アセンブリ（２００、６００）の最上面と基板（２２０、６２０）との間の距離（ｈ）は２ｍｍであった。
[0197]磁気アセンブリ（２００、６００）から約２０ｃｍの距離（ｄ５）をあけて基板（２２０、６２０）及びコーティング層を保持する支持板を動かした後、ＰｈｏｓｅｏｎからのＵＶ－ＬＥＤランプ（２５０、６５０）（Ｔｙｐｅ ＦｉｒｅＦｌｅｘ ５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ２）に約０．５秒間曝露させて、コーティング層を独立して硬化させた。
[0198]本発明による磁気アセンブリ（２００）によって得られたその結果の光学効果層を図７Ａ（左）に示し、比較磁気アセンブリ（６００）によって得られたその結果の光学効果層を図７Ａ（右）に示す。図７Ａに示すように、本発明のプロセスによって準備されたサンプルは均質な層から構成されたのに対して、比較サンプルには、基板（６２０）の運動に平行にサンプルの縁部に沿って、より明るい帯域及びより暗い帯域（破線の長方形内の区域）が存在した。
サンプルＥ２及び比較サンプルＣ２（図７Ｂ）
[0199]サンプルＥ２及び比較サンプルＣ２は、基板（２２０、６２０）及びコーティング層を保持する支持板を硬化ステップ前に磁気アセンブリ（２００、６００）の上で３回（前／後ろ／前）動かしたことを除いて、Ｅ１及びＣ１に関して上述した方法によって準備した。
[0200]本発明による磁気アセンブリ（２００）によって得られたその結果の光学効果層を図７Ｂ（左）に示し、比較磁気アセンブリ（６００）によって得られたその結果の光学効果層を図７Ｂ（右）に示す。図７Ｂに示すように、本発明のプロセスによって準備されたサンプルは均質な層から構成されたのに対して、比較サンプルには、基板（６２０）の運動に平行にサンプルの縁部に沿って、より明るい帯域及びより暗い帯域（破線の長方形内の区域）が存在した。
サンプルＥ３及び比較サンプルＣ３（図７Ｃ）
[0201]サンプルＥ３及び比較サンプルＣ３は、磁気アセンブリ（２００、６００）の最上面と基板（２２０、６２０）との間の距離（ｈ）が２ｍｍではなく５ｍｍであったことを除いて、Ｅ２及びＣ２に関して上述した方法によって準備した。距離（ｈ）の増大を使用して産業プロセスを模倣しており、産業プロセスでは従来、前記産業プロセス中に基板のシート又はウエブを定位置で保持するために把持部が使用される。
[0202]本発明による磁気アセンブリ（２００）によって得られたその結果の光学効果層を図７Ｃ（左）に示し、比較磁気アセンブリ（６００）によって得られるその結果の光学効果層を図７Ｃ（右）に示す。図７Ｃに示すように、本発明のプロセスによって準備されたサンプルは均質な層から構成されたのに対して、比較サンプルには、基板（６２０）の運動に平行にサンプルの縁部に沿って２つのより明るい帯域及び２つのより暗い帯域（破線の長方形内の区域）が存在した。
[0203]図７Ａ～図７Ｃ（左）に示すように、本発明による磁気アセンブリ（２００）を用いて本発明の方法によって準備された光学効果層（ＯＥＬ）（Ｅ１～Ｅ３）は、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の最適の２軸線方向の配向のために、均質な態様を呈した。特に、Ｘ軸線及びＹ軸線の両方を基板表面に実質的に平行にするための小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の改善された２軸線方向の配向により、表面全体にわたってシート状の表面を呈する光学効果層を作製することが可能になった。図７Ａ～図７Ｃ（右）に示すように、比較磁気アセンブリ（６００）を用いて従来技術の比較方法によって準備された光学効果層（Ｃ１～Ｃ３）は、均質でない態様を呈した。
[0204]図７Ａ（左）に示すように、本発明の磁気アセンブリ（２００）上の単一の通過は、均質な光学効果層の準備を可能にした。図７Ｂ（左）に示すように、本発明の磁気アセンブリ（２００）上の通過の増大もまた、均質な光学効果層の準備を可能にした。図７Ｃ（左）に示すように、磁気アセンブリ（２００）と基板（２２０）との間の距離（ｈ）の増大はそれでもなお、均質な光学効果層の準備を可能にしたが、同じ距離（ｈ）の増大は、比較磁気アセンブリを使用する比較方法によって得られた光学効果層の光学的外観にさらなる負の影響を与えた。

Claims (14)

  1. 基板（ｘ２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製するための磁気アセンブリ（ｘ００）であって、前記磁気アセンブリ（ｘ００）が、第１の面に実質的に平行な配向で前記第１の面の上に前記基板（ｘ２０）を受け取るように構成され、前記磁気アセンブリ（ｘ００）が、
    ａ）少なくとも第１の集合（Ｓ１）及び第２の集合（Ｓ２）をさらに備え、前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の各々が、
    ｉ．１つの第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）であり、
    第１の厚さ（Ｌ１）、第１の長さ（Ｌ４）、及び第１の幅（Ｌ５）を有し、
    前記第１の面に実質的に平行になるように配向された磁軸線を有する１つの第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と、
    ｉｉ．２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）であり、前記２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）が、
    第２の厚さ（Ｌ２）、第２の長さ（Ｌ６）、及び第２の幅（Ｌ７）を有し、
    互いに同一面上に位置する最上面を有し、
    前記第１の面に実質的に直交するように配向された磁軸線を有し、
    前記第１の面が、前記２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の前記最上面の上に位置する、２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）と、
    を含み、
    前記第１の集合（Ｓ１）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が、前記第２の集合（Ｓ２）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の磁気方向とは反対の磁気方向を有し、
    前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が、第１の距離（ｄ１）だけ隔置され、
    前記第１の集合（Ｓ１）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が、前記第２の集合（Ｓ２）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と実質的に同じ第１の長さ（Ｌ４）及び第１の幅（Ｌ５）を有し、
    前記第１の集合（Ｓ１）の前記２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）が、前記第２の集合（Ｓ２）の前記２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）と実質的に同じ第２の長さ（Ｌ６）及び第２の幅（Ｌ７）を有し、
    前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の各々の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）及び前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）が列を形成するように位置合わせされ、前記列においては、前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）がそれぞれ、前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）間に配置され、前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）から第２の距離（ｄ２）だけ隔置されており、
    前記第１の幅（Ｌ５）及び前記第２の長さ（Ｌ６）が実質的に同じであり、
    前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の各々の一方の第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のＮ極は、前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極が前記一方を指すときに前記第１の面を指し、前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の各々の他方の前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のＳ極が前記第１の面を指し、前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＳ極が前記他方を指し、
    前記磁気アセンブリ（ｘ００）が、
    ｂ）第１の対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）をさらに備え、前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）が、
    第３の厚さ（Ｌ３）、第３の長さ（Ｌ８）、及び第３の幅（Ｌ９）を有し、
    前記第１の面に実質的に平行になるように配向された磁軸線を有し、
    前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の前記第２の幅（Ｌ７）が、前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の前記第３の幅（Ｌ９）と実質的に同じ値を有し、
    前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の各々が、前記第１の集合（Ｓ１）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）及び前記第２の集合（Ｓ２）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）と位置合わせされて２本の線を形成し、前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）が、前記それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）間に配置され、前記それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）から第３の距離（ｄ３）だけ隔置され、
    前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＮ極がそれぞれ、前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＮ極が、前記第１の面を指し、又は前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＳ極がそれぞれ、前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＳ極が、前記第１の面を指し、
    前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）、並びに前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）が、非磁性支持マトリックスに少なくとも部分的に埋め込まれている、磁気アセンブリ（ｘ００）。
  2. 前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の前記第１の厚さ（Ｌ１）が、前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の前記第２の厚さ（Ｌ２）以下であることが好ましく、前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の前記第１の厚さ（Ｌ１）に対する前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の前記第２の厚さ（Ｌ２）の比（Ｌ２／Ｌ１）が、３以下且つ１以上（すなわち、１≦Ｌ２／Ｌ１≦３）であることが好ましく、
    前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の前記第１の厚さ（Ｌ１）が、前記第１の対（Ｐ１）の前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の前記第３の厚さ（Ｌ３）以下であることが好ましく、前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の前記第１の厚さ（Ｌ１）に対する前記第１の対（Ｐ１）の前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の前記第３の厚さ（Ｌ３）の比（Ｌ３／Ｌ１）が、３以下且つ１以上（１≦Ｌ３／Ｌ１≦３）であることが好ましく、
    前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）との間の前記第２の距離（ｄ２）が、０以上且つ前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の前記第１の厚さ（Ｌ１）の１／２以下（０≦ｄ２≦（１／２）Ｌ１）であり、
    前記第１の対（Ｐ１）の前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）と前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）との間の前記第３の距離（ｄ３）が、０以上且つ前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の前記第１の厚さ（Ｌ１）の１／２以下（０≦ｄ３≦（１／２）Ｌ１）である、
    請求項１に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
  3. 前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）の前記最上面が、前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の最上面と同一面上に位置する、請求項１又は２に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
  4. 前記第１及び第２の集合（Ｓ１、Ｓ２）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）間の前記第１の距離（ｄ１）が、前記第１の長さ（Ｌ４）の１５％以上且つ前記第１の長さ（Ｌ４）の１５０％以下（すなわち、０．１５＊Ｌ４≦ｄ１≦１．５＊Ｌ４）であり、好ましくは前記第１の長さ（Ｌ４）の２５％以上且つ前記第１の長さ（Ｌ４）の１２０％以下（すなわち、０．２５＊Ｌ４≦ｄ１≦１．２＊Ｌ４）であり、さらにより好ましくは前記第１の長さ（Ｌ４）の２５％以上且つ前記第１の長さ（Ｌ４）のの８０％以下（すなわち、０．２５＊Ｌ４≦ｄ１≦０．８＊Ｌ４）である、請求項１～３のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
  5. １つ又は複数の組合せをさらに備え、前記１つ又は複数の組合せは、
    ｉ）第（２＋ｉ）の集合（Ｓ（２＋ｉ））（ｉ＝１、２など）であって、前記第（２＋ｉ）の集合（Ｓ（２＋ｉ））が、
    前記第１の厚さ（Ｌ１）、前記第１の長さ（Ｌ４）、及び前記第１の幅（Ｌ５）を有し、前記第１の面に実質的に平行になるように配向された磁軸線を有する１つのさらなる第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、並びに
    前記第２の厚さ（Ｌ２）、前記第２の長さ（Ｌ６）、及び前記第２の幅（Ｌ７）を有し、互いに同一面上に位置する最上面を有し、前記第１の面に実質的に直交するように配向された磁軸線を有する２つのさらなる第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）を含み、
    前記第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が、第（２＋ｉ－１）の集合（Ｓ２＋ｉ－１）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の前記磁気方向とは反対の磁気方向を有し、
    前記第（２＋ｉ）及び第（２＋ｉ－１）の集合（Ｓ２＋ｉ、Ｓ２＋ｉ－１）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が、前記第１の距離（ｄ１）だけ隔置され、
    前記第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が、前記第（２＋ｉ－１）の集合（Ｓ２＋ｉ－１）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）と実質的に同じ長さ（Ｌ５）及び幅（Ｌ４）を有し、
    前記第（２＋ｉ）の集合（Ｓ（２＋ｉ））の前記２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）が、前記第（２＋ｉ－１）の集合（Ｓ２＋ｉ－１）の前記２つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）と実質的に同じ長さ（Ｌ６）及び幅（Ｌ７）を有し、
    前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）及び前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）が列を形成するように位置合わせされ、前記列においては、前記第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）が前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）間に配置され、前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）から前記第２の距離（ｄ２）だけ隔置されており、
    前記第１及び第２の長さ（Ｌ４及びＬ６）が実質的に同じであり、
    前記第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ、ｘ３２ｂ）のうちの一方のＮ極が、前記第１の面を指し、前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極が、前記第２の棒状双極子磁石を指す、第（２＋ｉ）の集合（Ｓ（２＋ｉ））と、
    ｉｉ）第（１＋ｉ）の対（Ｐｉ＋１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）であって、前記第（１＋ｉ）の対（Ｐｉ＋１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）が、前記第３の厚さ（Ｌ３）、前記第３の長さ（Ｌ９）、及び前記第３の幅（Ｌ８）を有し、第（１＋ｉ－１）の対（Ｐ１＋ｉ－１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の磁軸線に実質的に平行になるように配向された磁軸線を有し、
    前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）の各々が、前記第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）及び前記第（２＋ｉ－１）の集合（Ｓ２＋ｉ－１）の１つの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）と位置合わせされて２本の線を形成し、前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）が、前記それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）間に配置され、前記それぞれの第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）から前記第３の距離（ｄ３）だけ隔置され、
    前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＮ極がそれぞれ、前記第（２＋ｉ）及び第（２＋ｉ－１）の集合（Ｓ２＋ｉ、Ｓ２＋ｉ－１）の前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＮ極が、前記第１の面を指し、又は前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）のＳ極がそれぞれ、前記第（２＋ｉ）及び第（２＋ｉ－１）の集合（Ｓ２＋ｉ、Ｓ２＋ｉ－１）の前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの一方を指し、前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）のうちの前記一方のＳ極が、前記第１の面を指す、第（１＋ｉ）の対（Ｐｉ＋１）の第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）と、
    を含み、
    前記第（２＋ｉ）の集合（Ｓ２＋ｉ）の前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）、前記第（２＋ｉ）の集合（Ｓ（２＋ｉ））の前記第２の棒状双極子磁石（ｘ３２ａ及びｘ３２ｂ）、及び前記第（１＋ｉ）の対（Ｐ１＋ｉ）の前記第３の棒状双極子磁石（ｘ３３ａ及びｘ３３ｂ）が、前記非磁性支持マトリックスに少なくとも部分的に埋め込まれている、請求項１～４のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
  6. チェーン、ベルト、シリンダ、及びこれらの組合せからなる群から選択されることが好ましい移送デバイスの近傍に取り付けられた請求項１～５のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）を備える、印刷装置。
  7. 基板（ｘ２０）に光学効果層（ＯＥＬ）を作製するための方法であって、
    ｉ）基板（ｘ２０）表面に、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップであり、Ｘ軸線及びＹ軸線が前記粒子の主延長面を画定し、前記放射線硬化性コーティング組成物が、コーティング層（ｘ１０）を形成するように第１の液体状態である、ステップと、
    ｉｉ）前記小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸線方向に配向するように、請求項１～５のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場に前記コーティング層（ｘ１０）を晒すステップと、
    ｉｉｉ）前記小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定するように、ステップｉｉ）の前記放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の固体状態にするステップと、
    を含む、方法。
  8. 前記小板状の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を再配向するように磁場生成デバイスの磁場に前記コーティング層（ｘ１０）を晒すさらなるステップをさらに含み、前記さらなるステップがステップｉｉ）に続いて実施される、請求項７に記載の方法。
  9. ステップｉｉ）の前記放射線硬化性コーティング組成物の前記コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の区域を選択的に少なくとも部分的に硬化させるステップが、前記小板状の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部を採用された位置及び配向で固定するように実施され、その結果、前記コーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第２の区域が照射に晒されず、前記ステップが、前記磁場生成デバイスの前記磁場に前記コーティング層（ｘ１０）をさらに晒す請求項９に記載のステップの前に、部分的に同時に、又は後に実施される、請求項８に記載の方法。
  10. 前記コーティング層（ｘ１０）が、単一のステップで、請求項１～７のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場と、１つ又は複数の硬磁性磁石を備える磁場生成デバイスの磁場との相互作用に晒され、前記磁場生成デバイスが、回転磁性シリンダ（ｘ６０）に取り付けられているか、又は可動の磁場生成デバイスである、請求項７に記載の方法。
  11. 前記コーティング層（ｘ１０）が、単一のステップで、請求項１～６のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）の磁場と、空隙及び／又はくぼみ及び／又は突起の形態で１つ又は複数の印を保持する１つ又は複数の軟磁性板の磁場との相互作用に晒され、前記１つ又は複数の軟磁性板が、回転磁性シリンダ（ｘ６０）に配置されているか、又は前記基板（ｘ２０）の下の可動デバイスに配置されている、請求項７に記載の方法。
  12. 前記第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）の最上面と前記基板との間の距離（ｈ）が、０より大きく且つ約２０ｍｍ以下であり、好ましくは約１０ｍｍ以下であり且つ約２ｍｍより大きい、請求項７～１１のいずれか一項に記載の方法。
  13. ステップｉｉｉ）が、ＵＶ－Ｖｉｓ光放射硬化によって実施される、請求項７～１２のいずれか一項に記載の方法。
  14. 前記小板状の磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部が、小板状の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成され、前記小板状の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子が、磁性薄膜干渉顔料、磁性コレステリック液晶顔料、及びこれらの混合物からなる群から選択されることが好ましい、請求項７～１３のいずれか一項に記載の方法。
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