JP2023051483A - 光学ユニット及びスマートフォン - Google Patents

Abstract

【課題】磁石及び磁性体の少なくとも一方の位置が公差でずれることを抑制可能な光学ユニット及びスマートフォンを提供する。【解決手段】第１方向の一方側に進行する光を第１方向に対して交差する第２方向の一方側に反射する光学要素が搭載されるホルダと、ホルダを支持する支持体と、支持体を支持する固定体と、固定体に対して第１揺動軸線を中心として支持体を揺動する第１揺動機構と、ホルダ、支持体および固定体の３つのうちのいずれか１つに配置される第１磁石と、ホルダ、支持体および固定体の３つのうちの残りの２つのいずれかに配置される第１磁性体とを有する。第１方向、第２方向、および、第１方向および前記第２方向のそれぞれに対して交差する第３方向のいずれかからみて、第１磁石および第１磁性体の少なくとも一部は重なる。第１磁石および第１磁性体の少なくとも一方は、支持体および固定体の少なくとも一方に設けられた貫通孔に位置する。【選択図】図５Ｃ

Description

本発明は、光学ユニット及びスマートフォンに関する。

カメラによって静止画又は動画を撮影する際に手振れに起因して像ブレが生じることがある。そして、像ブレを抑制して鮮明な撮影を可能にするための手振れ補正装置が実用化されている。

例えば、特許文献１には、反射部材と、ホルダと、第１のハウジングとを有する反射モジュールが記載されている。ホルダには、反射部材が取り付けられる。第１のハウジングは、ホルダを収容する。ホルダは、第１のハウジング内で第１の軸及び第２の軸に対して自由に回転する。また、ホルダと第１のハウジングとの対向面には、互いに磁気的に引き付けられる第１ヨークと磁石とがそれぞれ配置される。第１ヨークは、磁性材料として提供される。磁石は、ホルダの表面に取り付けられる。第１ヨークは、第１のハウジングの表面に取り付けられる。

米国特許出願公開第２０１８／０１０９６６０号明細書

ところで、特許文献１のような反射モジュールでは、通常、磁石はホルダの窪みに取り付けられ、ヨークはハウジングの窪みに取り付けられる。

しかしながら、磁石及びヨークをホルダ及びハウジングの窪みに取り付けた場合、磁石及びヨークがホルダ及びハウジングの窪み内で所定の位置からずれることがある。特に、ホルダ及びハウジングの微小な窪みを樹脂成型で形成する場合、窪みに公差が生じるため、窪み内に取り付けられる磁石及びヨークの位置が公差でずれることがある。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、磁石及磁性体の少なくとも一方の位置が公差でずれることを抑制可能な光学ユニット及びスマートフォンを提供することにある。

本発明の例示的な光学ユニットは、第１方向の一方側に進行する光を前記第１方向に対して交差する第２方向の一方側に反射する光学要素が搭載されるホルダと、前記ホルダを支持する支持体と、前記支持体を支持する固定体と、前記固定体に対して第１揺動軸線を中心として前記支持体を揺動する第１揺動機構と、前記ホルダ、前記支持体および前記固定体の３つのうちのいずれか１つに配置される第１磁石と、前記ホルダ、前記支持体および前記固定体の３つのうちの残りの２つのいずれかに配置される第１磁性体とを有する。前記第１方向、前記第２方向、および、前記第１方向および前記第２方向のそれぞれに対して交差する第３方向のいずれかからみて、前記第１磁石および前記第１磁性体の少なくとも一部は重なる。前記第１磁石および前記第１磁性体の少なくとも一方は、前記支持体および前記固定体の少なくとも一方に設けられた貫通孔に位置する。

本発明の他の例示的なスマートフォンは、上記に記載の光学ユニットを備える。

例示的な本発明によれば、磁石及磁性体の少なくとも一方の位置が公差でずれることを抑制可能な光学ユニット及びスマートフォンを提供できる。

図１は、本発明の実施形態に係る光学ユニットを備えたスマートフォンを模式的に示す斜視図である。 図２は、本実施形態に係る光学ユニットを示す斜視図である。 図３は、本実施形態に係る光学ユニットを可動体と支持体とに分解した分解斜視図である。 図４は、本実施形態に係る光学ユニットの可動体の分解斜視図である。 図５Ａは、図２のＶＡ－ＶＡ線に沿った断面図である。 図５Ｂは、図２のＶＢ－ＶＢ線に沿った断面図である。 図５Ｃは、図２のＶＣ－ＶＣ線に沿った断面図である。 図５Ｄは、図２のＶＤ－ＶＤ線に沿った断面図である。 図６は、本実施形態に係る光学ユニットの光学要素及びホルダの分解斜視図である。 図７は、本実施形態に係る光学ユニットの光学要素、ホルダ及び予圧部を示す分解斜視図である。 図８は、本実施形態に係る光学ユニットの光学要素、ホルダ、予圧部、第１支持体及び第２磁石を示す分解斜視図である。 図９は、本実施形態に係る光学ユニットの可動体を示す斜視図である。 図１０は、本実施形態に係る光学ユニットの第１支持体を第１方向Ｘの一方側Ｘ１から示す図である。 図１１は、本実施形態に係る光学ユニットの支持体の分解斜視図である。 図１２は、本実施形態に係る光学ユニットの第２支持体周辺を示す斜視図である。 図１３は、本実施形態に係る光学ユニットの第２支持体を第１方向Ｘの他方側Ｘ２から示す図である。 図１４は、本実施形態に係る光学ユニットの固定体の組み立てを示す図である。 図１５は、本実施形態に係る光学ユニットの固定体の組み立てを示す図である。 図１６は、本実施形態に係る光学ユニットの断面を示す図である。 図１７は、本実施形態に係る光学ユニットの断面を示す図である。 図１８は、本実施形態に係る光学ユニットの断面を示す図である。 図１９Ａは、本実施形態に係る光学ユニットの固定体を治具を用いて組み立てる際の分解斜視図である。 図１９Ｂは、本実施形態に係る光学ユニットの固定体を治具を用いて組み立てる際の分解斜視図である。 図２０は、本実施形態に係る光学ユニットの断面を示す図である。 図２１は、本実施形態に係る光学ユニットの断面を示す図である。 図２２は、本実施形態に係る光学ユニットの断面を示す図である。

以下、本発明の例示的な実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。

本明細書では、理解の容易のため、互いに交差する第１方向Ｘ、第２方向Ｙ及び第３方向Ｚを適宜記載している。また、本明細書では、第１方向Ｘ、第２方向Ｙ及び第３方向Ｚは互いに直交しているが、直交していなくてもよい。また、第１方向の一方側を第１方向Ｘの一方側Ｘ１と記載し、第１方向の他方側を第１方向Ｘの他方側Ｘ２と記載する。また、第２方向の一方側を第２方向Ｙの一方側Ｙ１と記載し、第２方向の他方側を第２方向Ｙの他方側Ｙ２と記載する。また、第３方向の一方側を第３方向Ｚの一方側Ｚ１と記載し、第３方向の他方側を第３方向Ｚの他方側Ｚ２と記載する。また、便宜上、第１方向Ｘを上下方向として説明する場合がある。第１方向Ｘの一方側Ｘ１は下方向を示し、第１方向Ｘの他方側Ｘ２は上方向を示す。ただし、上下方向、上方向、及び下方向は、説明の便宜上定めるものであり、鉛直方向に一致する必要はない。また、あくまで説明の便宜のために上下方向を定義したに過ぎず、本発明に係る光学ユニットの使用時及び組立時の向きを限定しない。

なお、本明細書において、方位、線および面のうちのいずれかと他のいずれかとの位置関係において、「平行」は、両者がどこまで延長しても全く交わらない状態のみならず、実質的に平行である状態を含む。また、「垂直」及び「直交」はそれぞれ、両者が互いに９０度で交わる状態のみならず、実質的に垂直である状態及び実質的に直交する状態を含む。つまり、「平行」、「垂直」及び「直交」はそれぞれ、両者の位置関係に本発明の効果を奏する程度の角度ずれがある状態を含み得ることは言うまでもない。

まず、図１を参照して、光学ユニット１の用途の一例について説明する。図１は、本発明の実施形態に係る光学ユニット１を備えたスマートフォン２００を模式的に示す斜視図である。スマートフォン２００は、光学ユニット１を有する。光学ユニット１は、入射した光を特定の方向に反射する。図１に示すように、光学ユニット１は、例えばスマートフォン２００の光学部品として好適に用いられる。なお、光学ユニット１の用途は、スマートフォン２００に限定されず、デジタルカメラ及びビデオカメラなどの種々の装置に使用できる。

スマートフォン２００は、光の入射するレンズ２０２を有する。スマートフォン２００では、光学ユニット１は、レンズ２０２よりも内側に配置される。光Ｌがレンズ２０２を介してスマートフォン２００の内部に入射すると、光Ｌは光学ユニット１によって進行方向が変更される。そして、光Ｌは、レンズユニット（図示せず）を介して撮像素子（図示せず）で撮像される。

次に、図２から図１３を参照して、光学ユニット１について説明する。図２は、本実施形態に係る光学ユニット１を示す斜視図である。図３は、本実施形態に係る光学ユニット１を可動体２と固定体３とに分解した分解斜視図である。

図２及び図３に示すように、光学ユニット１は、可動体２と、固定体３と、揺動機構１２０とを少なくとも有する。可動体２は、固定体３に対して揺動可能に支持される。本実施形態では、光学ユニット１は、磁石１５１と、磁性体１５２（図４）とを有する。また、本実施形態では、光学ユニット１は、揺動機構１１０をさらに有する。また、本実施形態では、光学ユニット１は、予圧部４０をさらに有する。なお、揺動機構１２０は、本発明の「揺動機構」の一例である。本明細書において、揺動機構１２０を第１揺動機構と記載することがあり、揺動機構１１０を第２揺動機構と記載することがある。以下、詳細に説明する。

図４は、本実施形態に係る光学ユニット１の可動体２の分解斜視図である。図２から図４に示すように、光学ユニット１は、可動体２と、固定体３とを有する。固定体３は、揺動軸線Ａ２を中心として揺動可能に、可動体２を支持する。なお、揺動軸線Ａ２は、本発明の「第１揺動軸線」の一例である。

可動体２は、光学要素１０を有する。また、可動体２は、ホルダ２０と、第１支持体３０とを有する。第１支持体３０は、「支持体」の一例である。また、可動体２は、予圧部４０を有する。光学要素１０は、光の進行方向を変える。ホルダ２０は、光学要素１０を保持する。第１支持体３０は、揺動軸線Ａ２と交差する揺動軸線Ａ１を中心として揺動可能に、ホルダ２０及び光学要素１０を支持する。なお、揺動軸線Ａ１は、本発明の「第２揺動軸線」の一例である。また、第１支持体３０は、揺動軸線Ａ２を中心として揺動可能に、固定体３に支持される。より具体的には、第１支持体３０は、揺動軸線Ａ２を中心として揺動可能に、固定体３の第２支持体６０に支持される。

つまり、ホルダ２０は第１支持体３０に対して揺動可能であり、第１支持体３０は第２支持体６０に対して揺動可能である。従って、揺動軸線Ａ１及び揺動軸線Ａ２のそれぞれを中心として光学要素１０を揺動できるため、揺動軸線Ａ１及び揺動軸線Ａ２のそれぞれを中心として光学要素１０の姿勢を補正できる。よって、２つの方向において像ブレを抑制できる。その結果、１つの揺動軸線のみを中心として光学要素１０を揺動させる場合に比べて、補正精度を向上できる。なお、揺動軸線Ａ１は、ピッチング軸とも呼ばれる。揺動軸線Ａ２は、ロール軸とも呼ばれる。

本実施形態では、上述したように、第１支持体３０は、ホルダ２０及び光学要素１０を支持する。また、第１支持体３０は、第２支持体６０に支持される。すなわち、ホルダ２０及び光学要素１０は、第１支持体３０を介して、間接的に固定体３の第２支持体６０に支持される。なお、ホルダ２０及び光学要素１０は、第１支持体３０を介さずに、直接的に固定体３の第２支持体６０に支持されてもよい。すなわち、可動体２は、第１支持体３０を有しなくてもよい。

揺動軸線Ａ１は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに対して交差する第３方向Ｚに沿って延びる軸線である。また、揺動軸線Ａ２は、第１方向Ｘに沿って延びる軸線である。従って、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する揺動軸線Ａ１を中心として光学要素１０を揺動できる。また、第１方向Ｘに沿って延びる揺動軸線Ａ２を中心として光学要素１０を揺動できる。よって、光学要素１０の姿勢を適切に補正できる。また、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、光Ｌ（図５Ａ）の進行方向に沿った方向である。つまり、光の進行方向である第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する揺動軸線Ａ１を中心として光学要素１０を揺動できる。従って、光学要素１０の姿勢をより適切に補正できる。

また、第１支持体３０は、第３方向Ｚにホルダ２０を支持する。従って、第１支持体３０を、第３方向Ｚに沿って延びる揺動軸線Ａ１を中心として容易に揺動できる。具体的には、本実施形態では、第１支持体３０は、予圧部４０を介して第３方向Ｚにホルダ２０を支持する。

図５Ａは、図２のＶＡ－ＶＡ線に沿った断面図である。図５Ｂは、図２のＶＢ－ＶＢ線に沿った断面図である。図５Ｃは、図２のＶＣ－ＶＣ線に沿った断面図である。図５Ｄは、図２のＶＤ－ＶＤ線に沿った断面図である。図６は、本実施形態に係る光学ユニット１の光学要素１０及びホルダ２０の分解斜視図である。図５Ａから図５Ｄ及び図６に示すように、光学要素１０は、プリズムからなる。プリズムは、空気よりも屈折率の高い透明な材料から形成される。なお、光学要素１０は、例えば、板状の鏡であってもよい。本実施形態では、光学要素１０は、略三角柱形状を有する。具体的には、光学要素１０は、光入射面１１と、光出射面１２と、反射面１３と、一対の側面１４とを有する。光入射面１１には、光Ｌが入射される。光出射面１２は、光入射面１１に接続する。光出射面１２は、光入射面１１に対して垂直に配置される。反射面１３は、光入射面１１及び光出射面１２に接続する。反射面１３は、光入射面１１及び光出射面１２のそれぞれに対して約４５度傾斜する。反射面１３は、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に進行する光Ｌを、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙの一方側Ｙ１に反射する。すなわち、光学要素１０は、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に進行する光Ｌを、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙの一方側Ｙ１に反射する。一対の側面１４は、光入射面１１、光出射面１２及び反射面１３に接続する。

また、光学要素１０の光軸Ｌ１０と揺動軸線Ａ２とは、重なって配置される。なお、本明細書において、光学要素１０の光軸Ｌ１０とは、光学要素１０の光入射面１１に対して垂直で且つ反射面１３の中心を通過する軸線、又は光の入射するレンズ２０２の光軸、又は反射先にあるレンズユニットの光軸と反射面１３との交点を通り、レンズユニットの光軸に対して垂直な方向に延びる軸線、又は、撮像素子の中心を通る直線と反射面１３との交点を通り、撮像素子の中心を通る直線に対して垂直な方向に延びる軸線の少なくともいずれかと一致する軸線を意味する。典型的には、光学要素１０の光入射面１１に対して垂直で且つ反射面１３の中心を通過する軸線と、光の入射するレンズ２０２の光軸と、反射先にあるレンズユニットの光軸と反射面１３との交点を通り、レンズユニットの光軸に対して垂直な方向に延びる軸線と、撮像素子の中心を通る直線と反射面１３との交点を通り、撮像素子の中心を通る直線に対して垂直な方向に延びる軸線とは全て一致する。

ホルダ２０及び第１支持体３０の少なくとも一方は、予圧部４０とは反対側に窪む凹部、又は、予圧部４０に向かって突出する凸部を有する。本実施形態では、ホルダ２０は、予圧部４０とは反対側に窪む軸上凹部２２ｂを有する。

具体的には、ホルダ２０は、例えば樹脂からなる。ホルダ２０は、ホルダ本体２１と、一対の側面部２２とを有する。また、ホルダ２０は、一対の対向側面２２ａと、軸上凹部２２ｂとを有する。

ホルダ本体２１は、第３方向Ｚに延びる。ホルダ本体２１は、支持面２１ａと、複数の凹部２１ｄとを有する。本実施形態では、ホルダ本体２１は、３つの凹部２１ｄを有する。支持面２１ａは、光学要素１０を支持する。支持面２１ａは、光学要素１０の反射面１３に面し、一対の側面部２２に接続される面である。支持面２１ａは、光Ｌの入射方向に対して約４５度傾斜した傾斜面であり、傾斜面の略全域にわたって光学要素１０の反射面１３と接触する。光Ｌの入射方向は、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に向かう方向である。凹部２１ｄは、支持面２１ａに配置される。凹部２１ｄは、光学要素１０とは反対側に窪む。なお、ホルダ本体２１は、凹部２１ｄを有しなくてもよい。

また、ホルダ本体２１は、背面２１ｂと、下面２１ｃとを有する。背面２１ｂは、支持面２１ａのうち光Ｌの出射方向とは反対側の端部に接続する。なお、「光Ｌの出射方向」は、第２方向Ｙの一方側Ｙ１である。また、「光Ｌの出射方向とは反対側の端部」は、第２方向Ｙの他方側Ｙ２の端部である。下面２１ｃは、支持面２１ａ及び背面２１ｂに接続する。

一対の側面部２２は、ホルダ本体２１から第３方向Ｚと交差する交差方向に延びる。交差方向は、例えば、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙを含む。一対の側面部２２は、ホルダ本体２１の第３方向Ｚの両端に配置される。一対の側面部２２は、第３方向Ｚに互いに対称な形状を有する。一対の対向側面２２ａは、一対の側面部２２のそれぞれに配置される。一対の対向側面２２ａは、一対の予圧部４０にそれぞれ対向する。予圧部４０の詳細構造については、後述する。軸上凹部２２ｂは、対向側面２２ａに配置される。軸上凹部２２ｂは、揺動軸線Ａ１上においてホルダ２０の内側に向かって窪む。軸上凹部２２ｂは、予圧部４０の軸上凸部４５の少なくとも一部を収容する。軸上凹部２２ｂは、凹状の球面の少なくとも一部を有する。

また、ホルダ２０及び第１支持体３０の一方は、制限凹部２２ｃを有する。制限凹部２２ｃは、揺動軸線Ａ１と交差する方向に予圧部４０の突出部４６が移動することを制限する。

本実施形態では、ホルダ２０は、制限凹部２２ｃを有する。具体的には、制限凹部２２ｃは、対向側面２２ａに配置される。制限凹部２２ｃは、予圧部４０が側面部２２に沿って所定距離以上移動することを制限する。より具体的には、制限凹部２２ｃは、第３方向Ｚにおいてホルダ２０の内側に向かって窪む。制限凹部２２ｃは、内面２２ｄを有する。例えば、制限凹部２２ｃは、第１方向Ｘの両側、及び、第２方向Ｙの両側が閉じた凹部であってもよい。また、例えば、制限凹部２２ｃは、第１方向Ｘの片側が開放した凹部であってもよいし、第２方向Ｙの片側が開放した凹部であってもよい。

制限凹部２２ｃの内部には、予圧部４０の突出部４６が配置される。予圧部４０の突出部４６は、軸上凸部４５が軸上凹部２２ｂに嵌った状態で、制限凹部２２ｃの内面２２ｄから所定距離をおいて離隔する。その一方、光学ユニット１に衝撃等が加わってホルダ２０が例えば第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに所定距離以上移動しそうになった場合、予圧部４０の突出部４６が制限凹部２２ｃの内面２２ｄに接触する。従って、ホルダ２０が予圧部４０から外れることを抑制できる。制限凹部２２ｃは、本実施形態では、例えば４つ設けられている。制限凹部２２ｃの数は、１つであってもよいが、複数であることが好ましい。

光学ユニット１は、予圧部４０を有する。予圧部４０は、ホルダ２０と第１支持体３０とを接続する。予圧部４０は、弾性変形可能である。また、予圧部４０は、ホルダ２０及び第１支持体３０の少なくとも一方に配置される。予圧部４０は、ホルダ２０及び第１支持体３０の少なくとも他方に対して、揺動軸線Ａ１の軸線方向に予圧を付与する。従って、ホルダ２０が第１支持体３０に対して揺動軸線Ａ１の軸線方向に位置ズレすることを抑制できる。また、各部材の寸法に製造誤差が生じた場合であっても、揺動軸線Ａ１の軸線方向にがたつき等が生じることを抑制できる。言い換えると、例えば、揺動軸線Ａ１の軸線方向にホルダ２０の位置が変位することを抑制できる。揺動軸線Ａ１の軸線方向は、第３方向Ｚに沿った方向である。なお、本明細書において「予圧を付与する」とは、予め荷重を与えることを意味する。

次に、図７及び図８を参照して、予圧部４０の詳細構造について説明する。図７は、本実施形態に係る光学ユニット１の光学要素１０、ホルダ２０及び予圧部４０を示す分解斜視図である。図８は、本実施形態に係る光学ユニット１の光学要素１０、ホルダ２０、予圧部４０、第１支持体３０及び第２磁石１２１を示す分解斜視図である。図７及び図８に示すように、予圧部４０は、ホルダ２０と第１支持体３０との間に配置される。予圧部４０は、ホルダ２０に対して揺動軸線Ａ１の軸線方向に予圧を付与する。

具体的には、本実施形態では、各予圧部４０は、単一の部材である。予圧部４０は、１枚の板部材を折り曲げることによって形成されている。予圧部４０は、本実施形態では板バネである。予圧部４０は、第１支持体３０に配置される。

予圧部４０は、ホルダ２０側に位置する第１面部４１と、第１支持体３０側に位置する第２面部４２と、第１面部４１及び第２面部４２を接続する湾曲部４３とを有する。従って、予圧部４０を揺動軸線Ａ１の軸線方向に容易に変形できる。その結果、湾曲部４３のたわみにより弾性力が生じるため、簡素な構成で、ホルダ２０に対して軸線方向に容易に予圧を付与できる。

具体的には、第１面部４１は、揺動軸線Ａ１の軸線方向においてホルダ２０に対向する。第１面部４１は、ホルダ２０の側面部２２に対向する。第１面部４１は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに沿って延びる。第１面部４１は、側面部２２に沿って配置される。第２面部４２は、揺動軸線Ａ１の軸線方向において第１支持体３０に対向する。第２面部４２は、第１支持体３０の側面部３２に対向する。第２面部４２は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに沿って延びる。第２面部４２は、側面部３２に沿って配置される。

湾曲部４３は、弾性変形可能である。よって、第１面部４１及び第２面部４２は、互いに接近又は離隔する方向に移動可能である。本実施形態では、予圧部４０がホルダ２０と第１支持体３０との間に配置された状態で、第１面部４１及び第２面部４２が互いに接近するように、予圧部４０は揺動軸線Ａ１の軸線方向に圧縮変形される。従って、予圧部４０は、変形量に応じた反力によってホルダ２０に予圧を付与する。

予圧部４０は、ホルダ２０及び第１支持体３０の少なくとも一方に向かって突出する凸部、又は、ホルダ２０及び第１支持体３０の少なくとも一方とは反対側に窪む凹部を有する。予圧部４０の凸部又は凹部は、ホルダ２０及び第１支持体３０の少なくとも一方の凹部又は凸部に接触する。本実施形態では、予圧部４０は、軸上凸部４５を有する。軸上凸部４５は、ホルダ２０に向かって突出する。予圧部４０の軸上凸部４５は、ホルダ２０の軸上凹部２２ｂに接触する。

また、本実施形態では、軸上凸部４５は、第１面部４１に配置される。軸上凸部４５は、揺動軸線Ａ１上においてホルダ２０に向かって突出する。軸上凸部４５は、球面の少なくとも一部を有する。軸上凸部４５の一部は、軸上凹部２２ｂに収容される。従って、軸上凸部４５と軸上凹部２２ｂとが点接触するので、予圧部４０によってホルダ２０を安定して支持できる。

また、本実施形態では、予圧部４０は一対設けられている。つまり、光学ユニット１は、予圧部４０を一対有する。一対の予圧部４０は、ホルダ２０に対して揺動軸線Ａ１の軸線方向の両側に配置される。従って、予圧部４０をホルダ２０の片側のみに配置する場合に比べて、ホルダ２０をより安定して支持できる。

具体的には、一対の予圧部４０の軸上凸部４５は、ホルダ２０の一対の軸上凹部２２ｂにそれぞれ接触する。ホルダ２０は、軸上凸部４５と接触する２つの接点で予圧部４０によって、揺動軸線Ａ１の軸線方向の両側から支持される。従って、ホルダ２０は、２つの接点を通過する揺動軸線Ａ１を中心として揺動可能である。

また、予圧部４０は、突出部４６をさらに有する。突出部４６は、第１面部４１及び第２面部４２の一方に配置されるとともに、ホルダ２０及び第１支持体３０の一方に向かって突出する。本実施形態では、突出部４６は、軸上凸部４５と同様、第１面部４１に配置される。突出部４６は、揺動軸線Ａ１に沿った方向において、ホルダ２０に向かって突出する。突出部４６は、制限凹部２２ｃに対応して設けられる。突出部４６は、各予圧部４０に例えば４つ設けられる。突出部４６の一部は、制限凹部２２ｃに収容される。突出部４６は、軸上凸部４５を囲うように配置される。言い換えると、軸上凸部４５は、４つの突出部４６を含む領域の内部に配置される。なお、突出部４６の数は、例えば、１つ～３つ、又は、５つ以上であってもよい。また、突出部４６は、第１面部４１の端部を折り曲げることによって形成されている。

予圧部４０は、取付部４７を有する。取付部４７は、例えば第２面部４２に配置される。取付部４７は、第２面部４２の上端に配置される。取付部４７は、第１支持体３０の側面部３２の上端に取り付けられる。取付部４７は、例えば、側面部３２の上端を第１方向Ｘに挟み込むことにより、側面部３２に取り付けられる。なお、予圧部４０は、取付部４７を有しなくてもよく、例えば、接着剤等を用いて第１支持体３０に固定されてもよい。

図９は、本実施形態に係る光学ユニット１の可動体２を示す斜視図である。図１０は、本実施形態に係る光学ユニット１の第１支持体３０を第１方向Ｘの一方側Ｘ１から示す図である。図１１は、本実施形態に係る光学ユニット１の固定体３の分解斜視図である。図１２は、本実施形態に係る光学ユニット１の第２支持体６０周辺を示す斜視図である。

図９から図１２に示すように、可動体２及び固定体３の一方は、可動体２及び固定体３の他方に向かって突出する第１凸部７１を有する。具体的には、第１支持体３０及び第２支持体６０の一方は、第１支持体３０及び第２支持体６０の他方に向かって突出する第１凸部７１を有する。可動体２及び固定体３の他方は、第１凸部７１に接触する。第１凸部７１は、揺動軸線Ａ２上に配置される。従って、可動体２は、第１凸部７１を中心として揺動する。よって、可動体２と固定体３との接触位置から揺動中心までの長さを小さくできる。可動体２を揺動させる際に必要な力は、接触位置から揺動中心までの長さと摩擦力との積であるので、第１凸部７１を揺動軸線Ａ２上に配置することによって、可動体２を揺動させる際に必要な力を低減できる。つまり、光学ユニット１の駆動に必要な力を低減できる。なお、第１凸部７１の材質は、特に限定されるものではないが、第１凸部７１は、例えばセラミック、樹脂又は金属により形成される。

また、第１凸部７１が揺動軸線Ａ２上に配置されることによって、可動体２と固定体３との接触位置は、第１凸部７１に対して移動しない。従って、例えば、可動体２が揺動する際に可動体２及び固定体３の他方が第１凸部７１に対して摺動する場合に比べて、可動体２及び固定体３の他方と第１凸部７１との間の摩擦力を小さくできる。また、光軸Ｌ１０と揺動軸線Ａ２とが重なって配置されるため、可動体２を揺動させた際に光軸Ｌ１０が揺動軸線Ａ２からずれることを抑制できる。

また、本実施形態では、固定体３が、第１凸部７１を有する。従って、可動体２が揺動する際に第１凸部７１が回転することを抑制できる。よって、第１凸部７１によって可動体２を安定して支持できる。その結果、可動体２の揺動が安定する。

また、可動体２及び固定体３の一方は、可動体２及び固定体３の他方に向かって突出する複数の第２凸部７２を有する。具体的には、第１支持体３０及び第２支持体６０の一方は、第１支持体３０及び第２支持体６０の他方に向かって突出する複数の第２凸部７２を有する。複数の第２凸部７２は、揺動軸線Ａ２から離隔した位置に配置される。可動体２及び固定体３の他方は、複数の第２凸部７２に接触する。第１凸部７１及び複数の第２凸部７２は、揺動軸線Ａ２と交差する同一平面上に配置される。従って、同一平面上に配置される第１凸部７１及び複数の第２凸部７２によって、可動体２を支持できる。その結果、可動体２を安定して支持できる。なお、第１凸部７１及び複数の第２凸部７２が配置される同一平面としては、例えば、対向面６１ａを含む平面、又は、下面３１ｅを含む平面が挙げられる。また、第２凸部７２の材質は、特に限定されるものではないが、第２凸部７２は、例えばセラミック、樹脂又は金属により形成される。

また、第２凸部７２の位置は、一定である。言い換えると、第２凸部７２は、可動体２及び固定体３の一方に対して移動しない。本実施形態では、第２凸部７２は、固定体３に対して移動しない。言い換えると、本実施形態では、可動体２が揺動した場合も、固定体３に対する第２凸部７２の位置は、一定である。従って、可動体２をより安定して支持できる。

また、本実施形態では、第２凸部７２の数は、２つである。従って、３つの凸部（第１凸部７１及び第２凸部７２）で可動体２を支持するため、４つ以上の凸部によって可動体２を支持する場合に比べて、可動体２をより安定して支持できる。また、本実施形態では、３点で可動体２に対して点接触するため、可動体２をさらに安定して支持できる。

可動体２及び固定体３の他方は、第１凸部７１とは反対方向に窪む第１凹部３１ｆを有する。第１凹部３１ｆは、第１凸部７１に接触する。従って、凹状の第１凹部３１ｆで第１凸部７１を受けることによって、第１凸部７１の中心が第１凹部３１ｆの中心軸からずれることを抑制できる。その結果、回転中心がずれることに起因する像ブレを抑制できる。また、回転中心がずれることに起因して可動体２の揺動が不安定になることを、抑制できる。その結果、例えば、揺動に必要な電流値が変動することを抑制できる。

また、本実施形態では、可動体２は第１凹部３１ｆを有し、固定体３は第１凸部７１を有する。従って、第１凸部７１が球体である場合、球体を第２支持体６０に配置した状態で可動体２を固定体３に組み付けることができるため、組立作業を容易にできる。

次に、図８及び図９を参照して、第１支持体３０周辺の構造について詳細に説明する。図８及び図９に示すように、第１支持体３０は、支持本体３１と、一対の側面部３２とを有する。一対の側面部３２は、揺動軸線Ａ１の軸線方向においてホルダ２０の両側に配置される。支持本体３１は、一対の側面部３２を接続する。

支持本体３１は、上面３１ａを有する。上面３１ａは、ホルダ２０に対して第１方向Ｘに対向する。なお、上面３１ａは、ホルダ２０の底面に対して離隔する。

一対の側面部３２は、支持本体３１の第３方向Ｚの両端に配置される。一対の側面部３２は、第３方向Ｚに互いに対称な形状を有する。側面部３２は、内側面３２ａを有する。内側面３２ａは、ホルダ２０に対して第３方向Ｚに対向する。

第１支持体３０及びホルダ２０の一方は、溝３２ｂを有する。溝３２ｂは、揺動軸線Ａ１上において第１支持体３０及びホルダ２０の他方とは反対側に窪む。従って、予圧部４０を溝３２ｂに沿って移動させることによって、ホルダ２０及び予圧部４０を容易に第１支持体３０に取り付けることができる。本実施形態では、第１支持体３０は、溝３２ｂを有する。溝３２ｂは、揺動軸線Ａ１上においてホルダ２０とは反対側に窪む。溝３２ｂは、予圧部４０の少なくとも一部を収容するとともに、揺動軸線Ａ１と交差する方向に延びる。

本実施形態では、溝３２ｂは、内側面３２ａに配置される。溝３２ｂは、予圧部４０の一部を収容する。溝３２ｂは、第１方向Ｘに延びる。

各側面部３２は、一対の支柱部３２ｃと、接続部３２ｄとを有する。一対の支柱部３２ｃは、第２方向Ｙに互いに離隔する。支柱部３２ｃは、第１方向Ｘに延びる。接続部３２ｄは、支柱部３２ｃの上部同士を接続する。接続部３２ｄの第３方向Ｚの長さは、支柱部３２ｃの第３方向Ｚの長さよりも短い。そして、一対の支柱部３２ｃと接続部３２ｄとによって、溝３２ｂが構成される。

また、予圧部４０は、溝３２ｂに沿って移動可能である。本実施形態では、予圧部４０は、溝３２ｂに沿って第１方向Ｘに移動可能である。予圧部４０を溝３２ｂに沿って移動させることによって、予圧部４０の取付部４７が接続部３２ｄを第３方向Ｚに挟む。よって、予圧部４０が第１支持体３０に固定される。

また、側面部３２は、外側面３２ｅと、収容凹部３２ｆとを有する。外側面３２ｅは、第３方向Ｚの外側を向く。収容凹部３２ｆは、外側面３２ｅに配置される。収容凹部３２ｆは、揺動機構１２０の第２磁石１２１の少なくとも一部を収容する。また、側面部３２は、一対の切欠き部３２ｇを有する。切欠き部３２ｇは、収容凹部３２ｆの第２方向Ｙの端部に配置される。切欠き部３２ｇには、磁石支持板１２２の突起１２２ａが配置される。磁石支持板１２２は、第２磁石１２１を支持する。切欠き部３２ｇは、磁石支持板１２２を支持する。磁石支持板１２２の材質は、特に限定されないが、例えば磁性体を用いてもよい。この場合、磁石支持板１２２は、バックヨークとも呼ばれる。磁性体からなる磁石支持板１２２を用いることによって、磁気漏れを抑制できる。

また、可動体２及び固定体３の他方は、第２凹部３１ｇを有する。本実施形態では、可動体２は、第２凹部３１ｇを有する。具体的には、支持本体３１は、下面３１ｅと、第１凹部３１ｆと、第２凹部３１ｇとを有する。下面３１ｅは、固定体３に対して第１方向Ｘに対向する。第１凹部３１ｆ及び第２凹部３１ｇは、下面３１ｅに配置される。

第１凹部３１ｆは、揺動軸線Ａ２上に配置される。第１凹部３１ｆは、凹状の球面の一部を有する。従って、凹状の球面によって第１凸部７１を受けるため、例えば、第１凸部７１が第１凹部３１ｆ内で横ずれしにくくなる。その結果、可動体２を安定して支持できる。その一方、例えば、第１凹部３１ｆを断面矩形状にした場合、第１凸部７１は第１凹部３１ｆに対して横ずれしやすい。また、本実施形態では、例えば、第１凸部７１及び第１凹部３１ｆを断面矩形状にする場合と異なり、第１凸部７１と第１凹部３１ｆとを容易に点接触させることができる。

第２凹部３１ｇは、第２凸部７２とは反対方向に窪む。第２凹部３１ｇは、第１凹部３１ｆから離隔する。すなわち、第２凹部３１ｇは、揺動軸線Ａ２から離隔する。第２凹部３１ｇは、複数設けられる。本実施形態では、第２凹部３１ｇは、２つ設けられる。２つの第２凹部３１ｇは、揺動軸線Ａ２までの距離が等しい位置に配置される。第２凹部３１ｇは、摺動面３１ｈと、内側面３１ｉとを有する。

また、第２凹部３１ｇは、第２凸部７２に接触する。具体的には、第２凹部３１ｇの摺動面３１ｈは、第２凸部７２に接触する。摺動面３１ｈは、下面３１ｅと略平行に配置される。すなわち、第２凹部３１ｇの深さは略一定である。

また、図１０に示すように、光軸方向から見て、第２凹部３１ｇの輪郭は、第２凸部７２の外側に配置される。従って、第２凸部７２が第２凹部３１ｇの内側面３１ｉに接触することを抑制できる。その結果、第２凸部７２と第２凹部３１ｇとの間の摩擦を抑制できる。具体的には、内側面３１ｉは、摺動面３１ｈを囲う。内側面３１ｉは、第２凸部７２から離隔する。すなわち、光軸方向から見て、第２凹部３１ｇの輪郭は、第２凸部７２に対して離隔する。また、内側面３１ｉは、第１支持体３０が揺動軸線Ａ２を中心として揺動機構１２０によって揺動された場合に、第２凸部７２が接触しない位置に配置される。

また、図３及び図５Ａに示すように、第２凸部７２は、第１凹部３１ｆよりも第２方向Ｙの他方側Ｙ２に配置される。従って、光学要素１０の反射面１３に第２凸部７２が接触することを抑制できる。その結果、光学要素１０を配置するスペースを容易に確保できる。また、より大きい光学要素１０を搭載することもできる。具体的には、反射面１３の一部は、下面３１ｅに対して、第１方向Ｘの一方側Ｘ１及び第２方向Ｙの一方側Ｙ１に突出する。従って、第１支持体３０のうち第２凸部７２が配置された部分に光学要素１０が接触することを抑制できる。その結果、光学要素１０を配置するスペースを確保できる。

図１１及び図１２に示すように、固定体３は、第２支持体６０と、第１凸部７１と、第２凸部７２とを有する。固定体３は、対向面６１ａを有することが好ましい。

具体的には、第２支持体６０は、揺動軸線Ａ１と交差する揺動軸線Ａ２を中心として揺動可能に、第１支持体３０を支持する。また、第２支持体６０は、第１方向Ｘに第１支持体３０を支持する。つまり、第２支持体６０は、可動体２を第１方向Ｘに支持する。従って、光学要素１０の第１方向Ｘの位置が変化することを抑制できるため、反射光（光学要素１０から出射する光Ｌ）の第１方向Ｘの位置が変化することを抑制できる。

図１３は、本実施形態に係る光学ユニット１の第２支持体６０を第１方向Ｘの他方側Ｘ２から示す図である。図１１から図１３に示すように、第２支持体６０は、支持本体６１と、一対の側面部６２と、背面部６３とを有する。支持本体６１は、対向面６１ａと、第１収容凹部６１ｂと、少なくとも２つの第２収容凹部６１ｃとを有する。本実施形態では、支持本体６１は、１つの第１収容凹部６１ｂと、２つの第２収容凹部６１ｃとを有する。なお、本実施形態では、第２支持体６０が第１収容凹部６１ｂ及び第２収容凹部６１ｃを有する例について説明するが、可動体２及び固定体３の一方が、可動体２及び固定体３の他方とは反対方向に窪む第１収容凹部及び第２収容凹部を有してもよい。また、例えば、可動体２及び固定体３の一方が第１収容凹部を有し、可動体２及び固定体３の他方が第２収容凹部を有してもよい。

対向面６１ａは、第１支持体３０の下面３１ｅに対して第１方向Ｘに対向する。第１収容凹部６１ｂ及び第２収容凹部６１ｃは、対向面６１ａに配置される。第１収容凹部６１ｂ及び第２収容凹部６１ｃは、第１方向Ｘにおいて可動体２とは反対方向に窪む。つまり、第１収容凹部６１ｂ及び第２収容凹部６１ｃは、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に窪む。第１収容凹部６１ｂは、第１支持体３０の第１凹部３１ｆに対して第１方向Ｘに対向する。第１収容凹部６１ｂは、揺動軸線Ａ２を中心とする同一円周Ｃ（図１３参照）上に配置される。第１収容凹部６１ｂは、第１凸部７１の一部を収容する。従って、第１凸部７１は、揺動軸線Ａ２上に配置される。

また、第２収容凹部６１ｃは、第１収容凹部６１ｂから離隔する。従って、第２収容凹部６１ｃは、揺動軸線Ａ２から離隔する。また、本実施形態では、第２収容凹部６１ｃは、第１収容凹部６１ｂからの距離を隔てて離隔する。また、第２収容凹部６１ｃは、第２凸部７２の一部を収容する。従って、複数の第２凸部７２は、揺動軸線Ａ２を中心とする同一円周Ｃ上に配置される。従って、第１凸部７１からの距離が等しい位置で可動体２を支持できる。その結果、可動体２をより安定して支持できる。なお、揺動軸線Ａ２の軸線方向は、第１方向Ｘに沿った方向である。

また、２つの第２収容凹部６１ｃは、第３方向Ｚに並んだ状態で、第１収容凹部６１ｂよりも光学要素１０に遠い位置に配置される。

第１収容凹部６１ｂは、第１凸部７１の一部を保持する。本実施形態では、第１凸部７１の下半分が第１収容凹部６１ｂ内に配置される。第１凸部７１は、球面の少なくとも一部を有する。従って、第１凸部７１が可動体２及び固定体３の他方に点接触するため、第１凸部７１と可動体２及び固定体３の他方との間の摩擦力をより小さくできる。本実施形態では、第１凸部７１が可動体２に点接触するため、第１凸部７１と可動体２との間の摩擦力をより小さくできる。

また、本実施形態では、第１凸部７１は、球体である。従って、第１凸部７１と第１凹部３１ｆとの間の摩擦は転がり摩擦になる。その結果、第１凸部７１と第１凹部３１ｆとの間の摩擦力が大きくなることを抑制できる。具体的には、第１凸部７１は、第１収容凹部６１ｂ内で回転可能である。従って、第１凸部７１と第１凹部３１ｆとの間の摩擦は、転がり摩擦になる。なお、第１凸部７１は、第１凹部３１ｆに対して例えば接着剤を用いて固定されていてもよい。

第２収容凹部６１ｃは、第２凸部７２の一部を保持する。本実施形態では、第２凸部７２の下半分が第２収容凹部６１ｃ内に配置される。第２凸部７２は、球面の少なくとも一部を有する。従って、第２凸部７２が可動体２及び固定体３の他方に点接触するため、第２凸部７２と可動体２及び固定体３の他方との間の摩擦力を小さくできる。本実施形態では、第２凸部７２が可動体２に対して点接触するため、第２凸部７２と可動体２との間の摩擦力を小さくできる。

また、本実施形態では、第２凸部７２は、球体である。従って、第２凸部７２と可動体２及び固定体３の他方との間の摩擦が転がり摩擦になるため、摩擦力を抑制できる。本実施形態では、第２凸部７２と可動体２との間の摩擦が転がり摩擦になる。具体的には、第２凸部７２は、第２収容凹部６１ｃ内で回転可能である。従って、第２凸部７２と第１支持体３０の第２凹部３１ｇとの間の摩擦は転がり摩擦になる。なお、第２凸部７２は、第２凹部３１ｇに対して例えば接着剤を用いて固定されていてもよい。

また、図５Ｃ及び図１３に示すように、第１収容凹部６１ｂは、中心凹部６１１を有してもよい。中心凹部６１１は、第１収容凹部６１ｂと同心円状に配置される。中心凹部６１１の縁に第１凸部７１が接触する。中心凹部６１１の直径は、第１凸部７１の直径よりも小さい。従って、例えば、第１凸部７１の外周面と第１収容凹部６１ｂの内周面との間に隙間が生じている場合であっても、中心凹部６１１によって第１凸部７１を位置決めできる。すなわち、第１凸部７１の中心を中心凹部６１１の中心軸上に配置できる。その結果、第１凸部７１の中心を第１収容凹部６１ｂの中心軸上に容易に配置できる。

また、図５Ｄ及び図１３に示すように、第２収容凹部６１ｃは、中心凹部６１１を有してもよい。中心凹部６１１は、第２収容凹部６１ｃと同心円状に配置される。中心凹部６１１の縁に第２凸部７２が接触する。中心凹部６１１の直径は、第２凸部７２の直径よりも小さい。従って、例えば、第２凸部７２の外周面と第２収容凹部６１ｃの内周面との間に隙間が生じている場合であっても、中心凹部６１１によって第２凸部７２を位置決めできる。すなわち、第２凸部７２の中心を中心凹部６１１の中心軸上に配置できる。その結果、第２凸部７２の中心を第２収容凹部６１ｃの中心軸上に容易に配置できる。

また、第１凸部７１及び第２凸部７２の材質は、セラミックである。従って、第１凸部７１及び第２凸部７２が摩耗することを抑制できる。なお、第１凸部７１及び第２凸部７２の材質は、金属であってもよい。この場合も、第１凸部７１及び第２凸部７２が摩耗することを抑制できる。また、第１凸部７１及び第２凸部７２の全体が金属によって形成されていてもよいし、例えばメッキ処理により第１凸部７１及び第２凸部７２の表面のみが金属によって形成されていてもよい。また、第１凸部７１及び第２凸部７２は、樹脂によって形成されていてもよい。

また、第１凸部７１は、光学要素１０の反射面１３（図５Ａ参照）に対して第１方向Ｘの一方側Ｘ１に配置される。従って、光路を遮断することなく、第１凸部７１を配置することができる。

図５Ｃ、図８及び図１１に示すように、光学ユニット１は、可動体２及び固定体３の一方に配置される磁石１５１と、可動体２及び固定体３の他方に配置される磁性体１５２とを有する。磁性体１５２は、磁性体からなる板状の部材である。磁石１５１は、取付板１５３に取り付けられる。そして、磁石１５１と磁性体１５２とは重なる。具体的には、固定体３が可動体２を支持する方向（第１方向Ｘ）から見て、磁石１５１と磁性体１５２とは重なる。従って、固定体３が可動体２を支持する方向において、磁石１５１と磁性体１５２との間に互いに引き合う力（以下、引力とも記載する）を生じさせることができる。

ここでは、磁石１５１は、第１磁石１５１ｐと、第２磁石１５１ｑとを含む。第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑは、第３方向Ｚに沿って配列される。第１磁石１５１ｐは第３方向の他方側Ｚ２に位置し、第２磁石１５１ｑは第３方向の一方側Ｚ１に位置する。本明細書において、第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑを総称して磁石１５１と記載することがある。ここでは、第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑは、取付板１５３に取り付けられる。

ここでは、磁性体１５２は、第１磁性体１５２ｐと、第２磁性体１５２ｂとを含む。第１磁性体１５２ｐおよび第２磁性体１５２ｂは、第３方向Ｚに沿って配列される。第１磁性体１５２ｐは第３方向の他方側Ｚ２に位置し、第２磁性体１５２ｂは第３方向の一方側Ｚ１に位置する。本明細書において、第１磁性体１５２ｐおよび第２磁性体１５２ｂを総称して磁性体１５２と記載することがある。

固定体３には、貫通孔６１ｄおよび、貫通孔６１ｄと繋がる窪み６１ｅ（図５Ｃ）が設けられる。貫通孔６１ｄは、固定体３の底部をＸ方向に貫通する。窪み６１ｅは、固定体３の第１方向の一方側Ｘ１から窪む。

固定体３が可動体２を支持する方向（第１方向Ｘ）から見て、第１磁石１５１ｐと第１磁性体１５２ｐとは重なる。また、固定体３が可動体２を支持する方向（第１方向Ｘ）から見て、第２磁石１５１ｑと第２磁性体１５２ｂとは重なる。

このように、磁石１５１と磁性体１５２は重なるため、可動体２と固定体３との間には、互いに近づく方向に力が作用する。言い換えると、可動体２及び固定体３には、引力が作用する。従って、揺動機構１１０及び揺動機構１２０を駆動しない場合、磁石１５１と磁性体１５２との間の引力によって、可動体２は基準位置に保持される。基準位置は、図５Ｂに示すように、第１支持体３０の側面部３２と第２支持体６０の側面部６２とが平行になる位置である。また、磁石１５１と磁性体１５２との間に引力が生じることによって、第１方向Ｘの他方側Ｘ２に可動体２が移動することを抑制できる。

また、図５Ｃ、図８及び図１１に示すように、可動体２及び固定体３の少なくとも一方は、磁石１５１と磁性体１５２との間に配置される被覆部３０１を有してもよい。被覆部３０１は、磁石１５１及び磁性体１５２の一方の輪郭の少なくとも一部を被覆する。従って、磁石１５１及び磁性体１５２の一方が剥がれたり位置ずれしたりすることを被覆部３０１によって抑制できる。被覆部３０１は、例えば、磁石１５１及び磁性体１５２の一方の輪郭の全部を被覆してもよい。

被覆部３０１の材質は、特に限定されるものではなく、例えば樹脂又は金属を用いることができる。本実施形態では、被覆部３０１は、例えば、非磁性体である樹脂により形成される。

また、磁石１５１及び磁性体１５２の一方の少なくとも一部は、可動体２及び固定体３の少なくとも一方の内部に配置される。本実施形態では、磁石１５１及び磁性体１５２の一方は、全体が可動体２及び固定体３の少なくとも一方の内部に配置される。従って、磁石１５１及び磁性体１５２の一方を、例えば可動体２及び固定体３の少なくとも一方の外部に配置する場合と異なり、可動体２及び固定体３の少なくとも一方が大型化することを抑制できる。

本実施形態では、磁石１５１は、固定体３に配置される。磁性体１５２は、可動体２に配置される。また、本実施形態では、可動体２は、磁石１５１と磁性体１５２との間に配置される被覆部３０１を有する。被覆部３０１は、磁性体１５２のうち、磁石１５１側の表面（以下、下面１５２ａと記載することがある）の全域を被覆する。本実施形態では、磁性体１５２は、全体が可動体２の内部に配置される。

また、可動体２及び固定体３の少なくとも一方は、磁石１５１及び磁性体１５２の一方が配置される収容部３０３ａを有する第１部材と、被覆部３０１とを有する。第１部材と被覆部３０１とは、単一の部材である。従って、例えば第１部材と被覆部３０１とを別部材で形成する場合に比べて、部品点数を削減できる。なお、後述するように、第１部材と被覆部３０１とは、互いに異なる部材であってもよい。本実施形態では、可動体２は、磁石１５１及び磁性体１５２の一方が配置される収容部３０３ａを有する支持本体３１を有する。なお、支持本体３１は、本発明の「第１部材」の一例である。また、本実施形態では、可動体２は、磁性体１５２が配置される収容部３０３ａを有する支持本体３１と、被覆部３０１とを有する。

また、第１部材は、可動体２及び固定体３の少なくとも他方とは反対側を向く反対面を有する。収容部３０３ａは、反対面から可動体２及び固定体３の少なくとも他方に向かって窪む。従って、第１部材と被覆部３０１とを容易に単一の部材で形成できる。本実施形態では、支持本体３１は、固定体３とは反対側を向く上面３１ａを有する。すなわち、本実施形態では、支持本体３１は、第１方向Ｘにおいて下面３１ｅとは反対の位置に、第１方向Ｘの他方側Ｘ２を向く上面３１ａを有する。下面３１ｅは、固定体３の対向面６１ａに対して第１方向Ｘの他方側Ｘ２に対向する。収容部３０３ａは、上面３１ａから固定体３に向かって窪む。なお、上面３１ａは、本発明の「反対面」の一例である。

磁性体１５２は、収容部３０３ａに嵌っている。従って、磁性体１５２は、収容部３０３ａに固定される。例えば、磁性体１５２は、接着剤又は圧入によって、収容部３０３ａに固定される。

磁石１５１及び磁性体１５２は、それぞれ複数設けられていてもよい。言い換えると、光学ユニット１は、複数の磁石１５１及び複数の磁性体１５２を有してもよい。本実施形態では、光学ユニット１は、２つの磁石１５１及び２つの磁性体１５２を有する。

本実施形態では、磁石１５１及び磁性体１５２の各々は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する第３方向Ｚにおいて、揺動軸線Ａ２を中心として対称に配置される。従って、揺動軸線Ａ２を中心として対称に引力が作用するため、可動体２の揺動が安定する。

磁石１５１及び磁性体１５２の他方は、可動体２及び固定体３の他方の内部に配置される。本実施形態では、磁石１５１は、固定体３の内部に配置される。具体的には、固定体３は、貫通孔６１ｄを有する。固定体３は、複数の貫通孔６１ｄを有する。本実施形態では、固定体３は、２つの貫通孔６１ｄを有する。

ここでは、貫通孔６１ｄは、貫通孔６１ｄｐと、貫通孔６１ｄｑとを含む。例えば、貫通孔６１ｄｐには第１磁石１５１ｐが配置され、貫通孔６１ｄｑには第２磁石１５１ｑが配置される。貫通孔６１ｄｐおよび貫通孔６１ｄｑは、第３方向Ｚに沿って配列される。貫通孔６１ｄｐは第３方向の他方側Ｚ２に位置し、貫通孔６１ｄｑは第３方向の一方側Ｚ１に位置する。本明細書において、貫通孔６１ｄｐおよび貫通孔６１ｄｑを総称して貫通孔６１ｄと記載することがある。ここでは、窪み６１ｅは、貫通孔６１ｄｐおよび貫通孔６１ｄｑのそれぞれと繋がる。

貫通孔６１ｄは、支持本体６１の対向面６１ａに配置される。貫通孔６１ｄは、第１方向Ｘにおいて可動体２とは反対方向に窪む。つまり、貫通孔６１ｄは、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に窪む。貫通孔６１ｄは、磁性体１５２に対して第１方向Ｘに対向する。つまり、第１方向Ｘから見て、貫通孔６１ｄと磁性体１５２とが重なる。

磁石１５１は、貫通孔６１ｄに嵌っている。従って、磁石１５１は、貫通孔６１ｄに固定される。例えば、磁石１５１は、接着剤又は圧入によって、貫通孔６１ｄに固定される。

本実施形態では、磁石１５１は、接着剤によって貫通孔６１ｄに固定される。磁石１５１を貫通孔６１ｄに固定する場合、貫通孔６１ｄ内に接着剤（図示せず）を配置した後、磁石１５１を貫通孔６１ｄの内部に配置する。これにより、接着剤（図示せず）によって、磁石１５１が貫通孔６１ｄに固定される。

また、本実施形態では、磁石１５１と揺動機構１２０の後述する第２磁石１２１とは、別の部材である。従って、磁石１５１が揺動機構１２０を構成する場合と異なり、磁石１５１を磁性体１５２との間で引力を生じさせる専用の磁石とすることができるため、磁石１５１を磁性体１５２に接近した位置に配置できる。よって、磁石１５１及び磁性体１５２を小さくした場合であっても、磁石１５１と磁性体１５２との間で十分に引力を生じさせることができる。

図１２及び図１３に示すように、第２支持体６０において、一対の側面部６２は、支持本体６１の第３方向Ｚの両端に配置される。一対の側面部６２は、第３方向Ｚに互いに対称な形状を有する。側面部６２は、揺動機構１２０の第２コイル１２５が配置される収容穴６２ａを有する。収容穴６２ａは、側面部６２を厚み方向に貫通する。つまり、収容穴６２ａは、側面部６２を第３方向Ｚに貫通する。

背面部６３は、支持本体６１の第２方向Ｙの他方側Ｙ２の端部に配置される。背面部６３は、揺動機構１１０の第１コイル１１５が配置される収容穴６３ａを有する。収容穴６３ａは、背面部６３を厚み方向に貫通する。つまり、収容穴６３ａは、背面部６３を第２方向Ｙに貫通する。

ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）８０は、一対の側面部６２の外側及び背面部６３の外側を覆うように配置される。ＦＰＣ８０は、例えば、半導体素子、接続端子及び配線を有する。ＦＰＣ８０は、揺動機構１１０の第１コイル１１５及び揺動機構１２０の第２コイル１２５に対して、所定のタイミングで電力を供給する。

具体的には、図１１に示すように、ＦＰＣ８０は、基板８１、接続端子８２、補強板８３及び磁性体８４を有する。基板８１は、例えばポリイミド基板からなる。基板８１は、可撓性を有する。基板８１は、複数のピン挿入孔８１ａを有する。ピン挿入孔８１ａは、第１コイル１１５に対向する。各ピン挿入孔８１ａには、第１コイル１１５のコイルピン（図示せず）が配置される。

接続端子８２は、基板８１に配置される。接続端子８２は、揺動機構１１０及び揺動機構１２０に対向する。接続端子８２は、図示しないホール素子の端子に電気的に接続される。なお、１つのホール素子に対して例えば４つの接続端子８２が配置される。補強板８３は、基板８１に３つ配置される。補強板８３は、揺動機構１１０及び揺動機構１２０に対向する。補強板８３は、基板８１が撓むことを抑制する。

磁性体８４は、基板８１に３つ配置される。２つの磁性体８４は、揺動機構１２０の第２磁石１２１に対向する。第２コイル１２５に通電しない状態において、第２磁石１２１及び磁性体８４の間には引力が生じる。よって、可動体２は、揺動軸線Ａ２を中心とする回転方向において、基準位置に配置される。また、残り１つの磁性体８４は、揺動機構１１０の第１磁石１１１に対向する。第１コイル１１５に通電しない状態において、第１磁石１１１及び磁性体８４の間には引力が生じる。よって、可動体２は、揺動軸線Ａ１を中心とする回転方向において、基準位置に配置される。また、第１磁石１１１及び磁性体８４の間に引力が生じることによって、第２方向Ｙの一方側Ｙ１にホルダ２０が抜け出ることを抑制できる。

図５Ａ及び図５Ｂに示すように、光学ユニット１は、揺動機構１１０をさらに有する。揺動機構１１０は、揺動軸線Ａ１を中心としてホルダ２０を第１支持体３０に対して揺動する。従って、２つの揺動軸線（揺動軸線Ａ１及び揺動軸線Ａ２）のそれぞれを中心として光学要素１０を容易に揺動できる。揺動機構１１０は、第１磁石１１１と、第１コイル１１５とを有する。第１コイル１１５は、第１磁石１１１に対して第２方向Ｙに対向する。

第１磁石１１１は、ホルダ２０及び第２支持体６０の一方に配置される。一方、第１コイル１１５は、ホルダ２０及び第２支持体６０の他方に配置される。従って、第１コイル１１５に電流を流した際に生じる磁場に起因して、第１磁石１１１に力が作用する。そして、ホルダ２０は、第１支持体３０に対して揺動する。よって、第１磁石１１１及び第１コイル１１５を用いた簡素な構成でホルダ２０を揺動できる。本実施形態では、第１磁石１１１は、ホルダ２０に配置される。第１コイル１１５は、第２支持体６０に配置される。第１コイル１１５を第２支持体６０に配置することによって、第１コイル１１５は第２支持体６０に対して揺動しない。従って、第１コイル１１５を例えば第１支持体３０に配置する場合と比較して、第１コイル１１５に対して容易に配線できる。

具体的には、第１磁石１１１は、ホルダ２０の背面２１ｂに配置される。すなわち、第１磁石１１１は、ホルダ２０のうち第２方向Ｙの他方側Ｙ２の端部２０ａに配置される。第１磁石１１１は、ｎ極からなるｎ極部１１１ａと、ｓ極からなるｓ極部１１１ｂとを有する。第１磁石１１１は、第１方向Ｘに分極されている。

第１コイル１１５は、第２支持体６０の背面部６３の収容穴６３ａに配置される。すなわち、第１コイル１１５は、第２支持体６０のうち第２方向Ｙの他方側Ｙ２の端部６０ａに配置される。従って、第１コイル１１５及び第１磁石１１１が光路上に配置されることを抑制できる。よって、第１コイル１１５及び第１磁石１１１によって光路が遮断されることを抑制できる。

第１コイル１１５に通電することによって、第１コイル１１５の周辺に磁場が生じる。そして、第１磁石１１１には磁場に起因する力が作用する。その結果、ホルダ２０及び光学要素１０は、揺動軸線Ａ１を中心として、第１支持体３０及び第２支持体６０に対して揺動する。

揺動機構１２０は、揺動軸線Ａ２を中心として可動体２を揺動する。具体的には、揺動機構１２０は、揺動軸線Ａ２を中心として第１支持体３０を第２支持体６０に対して揺動する。揺動機構１２０は、第２磁石１２１と、第２磁石１２１に対向する第２コイル１２５とを有する。なお、第２磁石１２１は、本発明の「揺動磁石」の一例である。また、第２コイル１２５は、本発明の「揺動コイル」の一例である。第２磁石１２１は、可動体２又は固定体３に配置される。第２コイル１２５は、固定体３又は可動体２に配置される。本実施形態では、第２磁石１２１は、第１支持体３０及び第２支持体６０の一方に配置される。一方、第２コイル１２５は、第１支持体３０及び第２支持体６０の他方に配置される。従って、第２コイル１２５に電流を流した際に生じる磁場により、第１支持体３０は第２支持体６０に対して揺動する。よって、第２磁石１２１及び第２コイル１２５を用いた簡素な構成で第１支持体３０を揺動できる。本実施形態では、第２磁石１２１は、第１支持体３０に配置される。第２コイル１２５は、第２支持体６０に配置される。第２コイル１２５を第２支持体６０に配置することによって、第２コイル１２５は第２支持体６０に対して揺動しない。従って、第２コイル１２５を例えば第１支持体３０に配置する場合と比較して、第２コイル１２５に対して容易に配線できる。

具体的には、第２磁石１２１は、第１支持体３０の側面部３２の収容凹部３２ｆ（図８参照）に配置される。すなわち、第２磁石１２１は、第１支持体３０のうち第１方向Ｘと交差する方向の端部３０ａに配置される。本実施形態では、第２磁石１２１は、第３方向Ｚの端部３０ａに配置される。第２磁石１２１は、ｎ極からなるｎ極部１２１ａと、ｓ極からなるｓ極部１２１ｂとを有する。第２磁石１２１は、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙに分極されている。従って、光の入射方向に沿った揺動軸線Ａ２を中心として、可動体２を揺動できる。

第２コイル１２５は、第２磁石１２１に対して第３方向Ｚに対向する。第２コイル１２５は、第２支持体６０の側面部６２の収容穴６２ａ（図１２参照）に配置される。すなわち、第２コイル１２５は、第２支持体６０のうち第３方向Ｚの端部６０ｂに配置される。

第２コイル１２５に通電することによって、第２コイル１２５の周辺に磁場が生じる。そして、第２磁石１２１には磁場に起因する力が作用する。その結果、第１支持体３０、ホルダ２０及び光学要素１０は、揺動軸線Ａ２を中心として、第２支持体６０に対して揺動する。

光学ユニット１の固定体３は、第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑの配置された取付板１５３を取り付けることによって作製される。

図１４は、本実施形態に係る光学ユニット１の固定体３の組み立てを示す図である。図１４に示すように、取付板１５３には、第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑが取り付けられる。取付板１５３は、第１方向の一方側Ｘ１から第１方向の他方側Ｘ２に向けて固定体３に取り付けられる。これにより、第１磁石１５１ｐは、第２支持体６０の貫通孔６１ｄｐに挿入され、第２磁石１５１ｑは、第２支持体６０の貫通孔６１ｄｑに挿入される。

本実施形態の光学ユニット１は、第１方向の一方側Ｘ１に進行する光を第１方向Ｘに対して交差する第２方向の一方側Ｙ１に反射する光学要素１０が搭載されるホルダ２０と、ホルダ２０を支持する第１支持体３０と、第１支持体３０を支持する固定体３と、固定体３に対して揺動軸線Ａ２を中心として第１支持体３０を揺動する揺動機構１２０と、固定体３に配置される第１磁石１５１ｐと、第１支持体３０に配置される第１磁性体１５２ｐとを有する。第１方向Ｘからみて、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一部は重なる。第１磁石１５１ｐは、第１支持体３０に設けられた貫通孔６１ｄｐに位置する。

なお、ここでは、第１磁石１５１ｐは、固定体３に配置され、第１磁性体１５２ｐは、第１支持体３０に配置されたが、第１磁石１５１ｐは、ホルダ２０、第１支持体３０および固定体３の３つのうちのいずれか１つに配置されてもよく、第１磁性体１５２ｐは、第１支持体３０および固定体３の３つのうちの残りの２つのいずれかに配置されてもよい。

また、ここでは、第１方向Ｘからみて、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一部は重なるが、第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、および、第３方向Ｚのいずれかからみて、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一部は重なってもよい。

また、ここでは、第１磁石１５１ｐが、固定体３に設けられた貫通孔６１ｄに位置したが、第１磁石１５１ｐが、固定体３に設けられた貫通孔６１ｄに位置したが、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一方が貫通孔に位置してもよい。この場合、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一方は、第１支持体３０および固定体３の少なくとも一方に設けられた貫通孔に位置してもよい。

上述したように、本実施形態の光学ユニット１は、第１方向の一方側Ｘ１に進行する光を第１方向Ｘに対して交差する第２方向の一方側Ｙ１に反射する光学要素１０が搭載されるホルダ２０と、ホルダ２０を支持する第１支持体３０と、第１支持体３０を支持する固定体３と、固定体３に対して揺動軸線Ａ２を中心として第１支持体３０を揺動する揺動機構１２０と、ホルダ２０、第１支持体３０および固定体３の３つのうちのいずれか１つに配置される第１磁石１５１ｐと、ホルダ２０、第１支持体３０および固定体３の３つのうちの残りの２つのいずれかに配置される第１磁性体１５２ｐとを有する。第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、および、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙのそれぞれに対して交差する第３方向Ｚのいずれかからみて、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一部は重なる。第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一方は、第１支持体３０および固定体３の少なくとも一方に設けられた貫通孔に位置する。

光学要素１０に光が進行する第１方向Ｘ、光学要素１０が光を反射する第２方向Ｙおよび、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙのそれぞれに対して交差する第３方向のいずれかからみて少なくとも一部が重なる第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐにおいて、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一方の位置が公差でずれることを抑制できる。

固定体３が第１支持体３０を支持する支持方向からみて、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一部は重なる。これにより、固定体３が第１支持体３０を支持する支持方向からみて少なくとも一部が重なる第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐにおいて、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一方の位置が公差でずれることを抑制できる。

本実施形態では、第１磁石１５１ｐは、第１支持体３０に配置され、第１磁性体１５２ｐは、固定体３に配置される。第１方向～第３方向のいずれかからみて少なくとも一部が重なる第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐにおいて、第１支持体３０および固定体３に設けられた第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一方の位置が公差でずれることを抑制できる。

なお、ここでは、第１磁石１５１ｐは、固定体３に配置され、第１磁性体１５２ｐは、第１支持体３０に配置されたが、第１磁石１５１ｐは、第１支持体３０および固定体３の一方に配置されてもよく、第１磁性体１５２ｐは、第１支持体３０および固定体３の他方に配置されてもよい。

このように、第１磁石１５１ｐは、第１支持体３０および固定体３の一方に配置される。第１磁性体１５２ｐは、第１支持体３０および固定体３の他方に配置される。第１方向～第３方向のいずれかからみて少なくとも一部が重なる第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐにおいて、第１支持体３０および固定体３に設けられた第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一方の位置が公差でずれることを抑制できる。

第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一方と揺動機構１２０とは、異なる面に配置される。第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一方が揺動機構１２０と磁気的に干渉することを抑制できる。

第１磁石１５１ｐは、貫通孔６１ｄに配置される。貫通孔６１ｄは、第１磁性体１５２ｐ側に位置する一端の開口部６１ｄａと、第１磁性体１５２ｐに対して一端の開口部６１ｄａよりも遠くに位置する他端の開口部６１ｄｂとを有する。貫通孔６１ｄにおける第１磁石１５１ｐと一端の開口部６１ｄａとの間の距離は、貫通孔６１ｄにおける第１磁石１５１ｐの一方と他端の開口部６１ｄｂとの間の距離よりも小さい。第１磁石１５１ｐを貫通孔６１ｄ内で第１磁性体１５２ｐの他方の近くに配置することより、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐとの間の吸引力を増大できる。

なお、ここでは、第１磁石１５１ｐが貫通孔６１ｄに配置されたが、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方が、貫通孔６１ｄに配置されてもよい。

第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方は、貫通孔６１ｄに配置される。貫通孔６１ｄは、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方側に位置する一端の開口部６１ｄａと、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方に対して一端の開口部６１ｄａよりも遠くに位置する他端の開口部６１ｄｂとを有する。貫通孔６１ｄにおける第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方と一端の開口部６１ｄａとの間の距離は、貫通孔６１ｄにおける第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方と他端の開口部６１ｄｂとの間の距離よりも小さくてもよい。第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方を貫通孔６１ｄ内で第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方の近くに配置することより、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐとの間の吸引力を増大できる。

上述した実施形態では、第１磁石１５１ｐは、貫通孔６１ｄに配置される。貫通孔６１ｄは、第１磁性体１５２ｐ側に位置する一端の開口部６１ｄａと、第１磁性体１５２ｐに対して一端の開口部６１ｄａよりも遠くに位置する他端の開口部６１ｄｂとを有する。光学ユニット１は、貫通孔６１ｄ内において、第１磁石１５１ｐに対して他端の開口部６１ｄｂ側に位置し、第１磁石１５１ｐが取り付けられた取付板１５３をさらに備える。第１磁石１５１ｐが取り付けられた取付板１５３により、第１磁石１５１ｐを容易に挿入できる。

ここでは、第１磁石１５１ｐは、貫通孔６１ｄに配置される。貫通孔６１ｄは、第１磁性体１５２ｐ側に位置する一端の開口部６１ｄａと、第１磁性体１５２ｐに対して一端の開口部６１ｄａよりも遠くに位置する他端の開口部６１ｄｂとを有する。光学ユニット１は、貫通孔６１ｄ内において、第１磁石１５１ｐに対して他端の開口部６１ｄｂ側に位置し、第１磁石１５１ｐが取り付けられた取付板１５３をさらに備える。第１磁石１５１ｐが取り付けられた取付板１５３により、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方を容易に挿入できる。

固定体３は、貫通孔６１ｄに位置する接着剤をさらに有する。接着剤により、第１磁石１５１ｐが貫通孔６１ｄ内でずれることを抑制できる。さらに、接着剤により、第１磁石１５１ｐが錆びることを抑制できる。

第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一方が貫通孔６１ｄに位置してもよい。光学ユニット１は、貫通孔６１ｄに位置する接着剤をさらに有する。接着剤により、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの少なくとも一方が貫通孔６１ｄ内でずれることを抑制できる。さらに、接着剤により、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐが錆びることを抑制できる。

このように、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方は、貫通孔６１ｄに配置される。貫通孔６１ｄは、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方側に位置する一端の開口部６１ｄａと、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方に対して一端の開口部６１ｄａよりも遠くに位置する他端の開口部６１ｄｂとを有する。光学ユニット１は、貫通孔６１ｄ内において、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方に対して他端の開口部６１ｄｂ側に位置し、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方が取り付けられた取付板１５３をさらに備える。第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方が取り付けられた取付板１５３により、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方を容易に挿入できる。

貫通孔６１ｄは、固定体３に位置する。第１支持体３０よりも外側に位置する固定体３に貫通孔６１ｄが設けられることにより、貫通孔６１ｄに第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方を容易に挿入できる。

第１磁石１５１ｐは、固定体３に位置する。第１支持体３０に対してホルダ２０を揺動する際に磁石を用いる場合でも、第１磁石１５１ｐに影響することを抑制できる。

光学ユニット１は、ホルダ２０、第１支持体３０および固定体３の３つのうちのいずれか１つに配置される第２磁石１５１ｑと、ホルダ２０、第１支持体３０および固定体３の３つのうちの残りの２つのいずれかに配置される第２磁性体１５２ｑとをさらに有する。第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、および、第３方向Ｚのいずれかからみて、第２磁石１５１ｑおよび第２磁性体１５２ｑの少なくとも一部が重なる。第２磁石１５１ｑおよび第２磁性体１５２ｑの少なくとも一方は、第１支持体３０および固定体３の少なくとも一方に設けられた貫通孔に位置する。複数の磁気ばねによって固定体に対して第１支持体３０を安定的に支持できる。

第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方が配置された貫通孔６１ｄは、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方側に位置する一端の開口部と、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方に対して一端の開口部６１ｄａよりも遠くに位置する他端の開口部とを有する。第２磁石１５１ｑおよび第２磁性体１５２ｑの一方が配置された貫通孔は、第２磁石１５１ｑおよび第２磁性体１５２ｑの他方側に位置する一端の開口部と、第２磁石１５１ｑおよび第２磁性体１５２ｑの他方に対して一端の開口部６１ｄａよりも遠くに位置する他端の開口部とを有する。

第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方と貫通孔６１ｄｐの一端の開口部６１ｄａとの間の距離は、第２磁石１５１ｑおよび第２磁性体１５２ｑの一方と貫通孔６１ｄｑの一端の開口部６１ｄａとの間の距離と等しい。貫通孔６１ｄｐ内の磁石１５１および磁性体１５２と貫通孔の一端の開口部６１ｄａまで距離を等しくすることにより、２以上の箇所において均等に磁力を付与できる。

光学ユニット１は、第１支持体３０に対して揺動軸線Ａ２に対して交差する揺動軸線Ａ１を中心としてホルダ２０を揺動する揺動機構１１０をさらに有する。揺動機構１２０により、揺動軸線Ａ２に対して交差する揺動軸線Ａ１を中心にホルダ２０を揺動できる。

第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑは、第１方向Ｘから見て、揺動軸線Ａ２に直交する方向（揺動軸線Ａ１）に対して対称に位置する。第１磁性体１５２ｐおよび第２磁性体１５２ｑは、第１方向Ｘから見て、揺動軸線Ａ２に直交する方向（揺動軸線Ａ１）に対してに対称に位置する。これにより、固定体３に対して第１支持体３０を揺動軸線Ａ１上に対称に配置できる。

なお、図１に示したように光学ユニット１をスマートフォン２００に用いる場合、スマートフォン２００は、上記に記載の光学ユニット１を備える。これにより、光学ユニット１をスマートフォン２００に利用できる。

スマートフォン２００内のホール素子（図示せず）がスマートフォン２００の姿勢を検知する。そして、揺動機構１１０及び揺動機構１２０は、スマートフォン２００の姿勢に応じて制御される。また、光学ユニット１は、第２支持体６０に対するホルダ２０の姿勢を検知可能であることが好ましい。この場合、第２支持体６０に対するホルダ２０の姿勢を高精度に制御できる。なお、スマートフォン２００の姿勢を検知するセンサとして、例えばジャイロセンサを用いてもよい。

以下、図１５から図２２を参照して、本実施形態の変形例について説明する。以下では、図１から図１４で示した本実施形態と異なる点を主に説明する。

（変形例）
まず、図１５を参照して、本発明の実施形態の変形例を説明する。図１５は、本実施形態の変形例に係る光学ユニット１の固定体３の作製を示す断面図である。

図１５に示すように、固定体３は、治具Ｊｇを用いて作製してもよい。治具Ｊｇは、平坦部Ｊ１と、突起部Ｊ２とを有する。平坦部Ｊ１は、ＸＹ平面に広がる平板部材である。突起部Ｊ２は、平坦部Ｊ１から第１方向Ｘの他方側Ｘ２に向かって突起する。突起部Ｊ２は、突起部Ｊ２ｐおよび突起部Ｊ２ｑを含む。突起部Ｊ２ｐおよび突起部Ｊ２ｑは、それぞれ直方体形状である。突起部Ｊ２ｐおよび突起部Ｊ２ｑは、第１方向Ｘから見て、揺動軸線Ａ１上に対称に位置する。

突起部Ｊ２ｐの第１方向Ｘの他方側Ｘ２には、第１磁石１５１ｐが配置される。突起部Ｊ２ｑの第１方向Ｘの他方側Ｘ２には、第２磁石１５１ｑが配置される。

例えば、突起部Ｊ２ｐおよび第１磁石１５１ｐの第１方向Ｘの長さは、貫通孔６１ｄｐの第１方向Ｘの長さとほぼ等しい。ただし、突起部Ｊ２ｐおよび第１磁石１５１ｐの第１方向Ｘの長さは、貫通孔６１ｄｐの第１方向Ｘの長さよりも短くてもよい。

同様に、突起部Ｊ２ｑおよび第２磁石１５１ｑの第１方向Ｘの長さは、貫通孔６１ｄｑの第１方向Ｘの長さとほぼ等しい。ただし、突起部Ｊ２ｑおよび第１磁石１５１ｐの第１方向Ｘの長さは、貫通孔６１ｄｑの第１方向Ｘの長さよりも短くてもよい。

突起部Ｊ２ｐに第１磁石１５１ｐが配置されるととｍに突起部Ｊ２ｑに第２磁石１５１ｑが配置された状態で、治具Ｊｇは第２支持体６０に挿入される。これにより、第１磁石１５１ｐが貫通孔６１ｄｐに挿入され、第２磁石１５１ｑが貫通孔６１ｄｑに挿入される。

第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑは、貫通孔６１ｄｐおよび貫通孔６１ｄｑに挿入された状態で貫通孔６１ｄｐおよび貫通孔６１ｄｑに固定される。例えば、第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑが貫通孔６１ｄｐおよび貫通孔６１ｄｑに挿入された状態で接着剤を注入することにより、第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑを貫通孔６１ｄｐおよび貫通孔６１ｄｑに固定する。

その後、治具Ｊｇを第２支持体６０から抜き取る。これにより、第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑが貫通孔６１ｄｐおよび貫通孔６１ｄｑに挿入された固定体３を作製できる。

図１６は、本実施形態の変形例に係る光学ユニット１の構造を示す断面図である。図１６に示すように、貫通孔６１ｄ内において、第１磁石１５１ｐと他端の開口部６１ｄｂとの間に空隙Ｖが設けられる。第１磁石１５１ｐが位置する貫通孔６１ｄ内において第１磁石１５１ｐに対して広い空間に空隙Ｖが設けられる。このような空隙Ｖは、治具Ｊｇを用いて第１磁石１５１ｐを貫通孔６１ｄに配置する場合に好適に形成される。

なお、貫通孔６１ｄには、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方が配置されてもよい。貫通孔６１ｄ内において、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方と他端の開口部６１ｄｂとの間に空隙Ｖが設けられる。第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方が位置する貫通孔６１ｄ内において第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方に対して広い空間に空隙Ｖが設けられる。このような空隙Ｖは、治具Ｊｇを用いて第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方を貫通孔６１ｄに配置する場合に好適に形成される。

同様に、貫通孔６１ｄ内において、第２磁石１５１ｑおよび第２磁性体１５２ｑの一方と他端の開口部６１ｄｂとの間に空隙Ｖが設けられる。第２磁石１５１ｑおよび第２磁性体１５２ｑの一方が位置する貫通孔６１ｄ内において第２磁石１５１ｑおよび第２磁性体１５２ｑの一方に対して広い空間に空隙Ｖが設けられる。このような空隙Ｖは、治具Ｊｇを用いて第２磁石１５１ｑおよび第２磁性体１５２ｑの一方を貫通孔６１ｄに配置する場合に好適に形成される。

なお、図１６に示した光学ユニット１では、第１磁石１５１ｐは、第２支持体６０の底面と略同一面に位置し、第２磁石１５１ｑは、第２支持体６０の底面と略同一面に位置したが、本実施形態はこれに限定されない。第１磁石１５１ｐは貫通孔６１ｄｐの一端の開口部６１ｄａから離れて位置し、第２磁石１５１ｑは貫通孔６１ｄｐの一端の開口部６１ｄａから離れて位置してもよい。この場合でも、貫通孔６１ｄにおける第１磁石１５１ｐと一端の開口部６１ｄａとの間の距離は、貫通孔６１ｄにおける第１磁石１５１ｐと他端の開口部６１ｄｂとの間の距離よりも小さいことが好ましい。第１磁石１５１ｐを貫通孔６１ｄ内で第１磁性体１５２ｐの近くに配置することより、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐとの間の吸引力を増大できる。

このように、貫通孔６１ｄにおける第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方と一端の開口部６１ｄａとの間の距離は、貫通孔６１ｄにおける第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方と他端の開口部６１ｄｂとの間の距離よりも小さことが好ましい。第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方を貫通孔６１ｄ内で第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方の近くに配置することより、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐとの間の吸引力を増大できる。

なお、図１６に示した固定体３では、貫通孔６１ｄ内において、第２磁石１５１ｑと他端の開口部６１ｄｂとの間に空隙Ｖが設けられたが、空隙Ｖは、充填されてもよい。例えば、空隙Ｖに接着剤から構成された接着層が配置されてもよい。

図１７は、本実施形態の変形例に係る光学ユニット１の構造を示す断面図である。図１７に示すように、第１磁石１５１ｐは、貫通孔６１ｄに配置される。貫通孔６１ｄは、第１磁性体１５２ｐ側に位置する一端の開口部６１ｄａと、第１磁性体１５２ｐに対して一端の開口部６１ｄａよりも遠くに位置する他端の開口部６１ｄｂとを有する。固定体３は、貫通孔６１ｄ内において、第１磁石１５１ｐと他端の開口部６１ｄｂとの間に位置する接着層１５４をさらに備える。接着層１５４は、接着剤から構成される。

なお、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方が、貫通孔６１ｄに配置されてもよい。第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方は、貫通孔６１ｄに配置される。貫通孔６１ｄは、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方側に位置する一端の開口部６１ｄａと、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方に対して一端の開口部６１ｄａよりも遠くに位置する他端の開口部６１ｄｂとを有する。貫通孔６１ｄ内において、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方と他端の開口部６１ｄｂとの間に位置する接着層１５４をさらに備える。

第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方が位置する貫通孔６１ｄｐ内において第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方に対して広い空間に接着層１５４が設けられる。このような接着層１５４は、治具を用いて第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方を貫通孔６１ｄｐに配置した後で、空隙を接着剤で埋めることによって好適に形成される。

なお、図１７では、第１磁石１５１ｐと貫通孔６１ｄの他端の開口部６１ｄｂとの間に接着層１５４が設けられたが、接着層は別の位置に設けられてもよい。

図１８は、本実施形態に係る光学ユニット１の断面を示す図である。図１８に示すように、光学ユニット１は、貫通孔６１ｄ内において、第１磁石１５１ｐと取付板１５３との間に位置する接着層１５５をさらに備える。接着層１５５により、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方と取付板１５３とを接着できる。

光学ユニット１は、貫通孔６１ｄ内において、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方と取付板１５３との間に位置する接着層１５５をさらに備える。接着層１５５により、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方と取付板１５３とを接着できる。

次に、図１９Ａおよび図１９Ｂを参照して、本発明の実施形態の変形例を説明する。図１９Ａおよび図１９Ｂは、本実施形態の変形例に係る光学ユニット１の固定体３の作製を示す断面図である。

図１９Ａおよび図１９Ｂに示すように、固定体３は、治具Ｊｇを用いて作製してもよい。治具Ｊｇは、平坦部Ｊ１と、突起部Ｊ３とを有する。平坦部Ｊ１は、ＸＹ平面に広がる平板部材である。突起部Ｊ３は、平坦部Ｊ１から第１方向Ｘの一方側Ｘ１に向かって突起する。突起部Ｊ３は、突起部Ｊ３ｐおよび突起部Ｊ３ｑを含む。突起部Ｊ３ｐおよび突起部Ｊ３ｑは、それぞれ一端の開口した中空箱形状である。突起部Ｊ３ｐおよび突起部Ｊ３ｑは、第１方向Ｘから見て、揺動軸線Ａ１上に対称に位置する。

取付板１５３には、第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑが取り付けられる。取付板１５３は、第１方向の一方側Ｘ１から第１方向の他方側Ｘ２に向けて固定体３に取り付けられる。磁石１５１は、第１磁石１５１ｐと、第２磁石１５１ｑとを含む。第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑは、第３方向Ｚに沿って配列される。これにより、第１磁石１５１ｐは、第２支持体６０の貫通孔６１ｄｐに挿入され、第２磁石１５１ｑは、第２支持体６０の貫通孔６１ｄｑに挿入される。

突起部Ｊ３ｐの外径は、第２支持体６０の貫通孔６１ｄｐの内径とほぼ等しい。突起部Ｊ３ｐの内径は、第１磁石１５１ｐの外径とほぼ等しい。同様に、突起部Ｊ３ｑの外径は、第２支持体６０の貫通孔６１ｄｑの内径とほぼ等しい。突起部Ｊ３ｑの内径は、第２磁石１５１ｑの外径とほぼ等しい。

このため、治具Ｊｇの突起部Ｊ３ｐおよび突起部Ｊ３ｑを第２支持体６０の貫通孔６１ｄｐおよび貫通孔６１ｄｑに挿入した状態で、取付板１５３に取り付けられた第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑを突起部Ｊ３ｐおよび突起部Ｊ３ｑに挿入することにより、第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑを高精度に位置決めできる。

この場合、第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑを挿入する前に第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑの周囲に接着剤を付すことが好ましい。これにより、第１磁石１５１ｐおよび第２磁石１５１ｑを第２支持体６０の貫通孔６１ｄｐおよび貫通孔６１ｄｑに高精度に位置決めできる。

なお、磁石１５１は、ヨークとともに用いることが好ましい。これにより、磁石１５１の磁力を増大できる。

図２０は、本実施形態の変形例に係る光学ユニット１における固定体３の構造を示す断面図である。

図２０に示すように、光学ユニット１は、第１磁石１５１ｐに対して第１磁性体１５２ｐが位置する側とは反対側において第１磁石１５１ｐと接触するヨーク１５６をさらに有する。ヨーク１５６により、第１磁石１５１ｐの磁力を増大できる。ヨーク１５６は、窪み６１ｅに配置される。

同様に、第２磁石１５１ｑに対して第２磁性体１５２ｑが位置する側とは反対側において第２磁石１５１ｑと接触するヨーク１５６をさらに有する。ヨーク１５６により、第２磁石１５１ｑの磁力を増大できる。ヨーク１５６は、窪み６１ｅに配置される。

貫通孔６１ｄが延びる長手方向（第１方向Ｘ）に対して直交する孔径方向（例えば、第３方向Ｚ）に沿ったヨーク１５６の長さは、孔径方向に沿った第１磁石１５１ｐの長さよりも大きい。貫通孔６１ｄの内径は、孔径方向に沿った第１磁石１５１ｐの長さよりも大きく、孔径方向に沿ったヨーク１５６の長さよりも小さい。第１磁石およびヨークを貫通孔６１ｄの一方側から挿入する一方で、第１磁石１５１ｐおよびヨーク１５６が貫通孔６１ｄの他方側から出ることを抑制できる。

また、固定体３には、第１磁石１５１ｐが位置する貫通孔６１ｄ、および、貫通孔６１ｄと繋がる窪み６１ｅが設けられる。窪み６１ｅの内径は、孔径方向に沿ったヨーク１５６の長さよりも大きい。第１磁石１５１ｐを貫通孔６１ｄに配置し、ヨーク１５６を窪み６１ｅに配置できる。

なお、第１磁石１５１ｐは、第１支持体３０および固定体３の一方に配置されてもよい。第１支持体３０および固定体３の一方には、第１磁石１５１ｐが位置する貫通孔６１ｄ、および、貫通孔６１ｄと繋がる窪み６１ｅが設けられる。窪み６１ｅの内径は、孔径方向に沿ったヨーク１５６の長さよりも大きい。第１磁石１５１ｐを貫通孔６１ｄに配置し、ヨーク１５６を窪みに配置できる。

なお、図２０に示した光学ユニット１では、四角注形状の第１磁石１５１ｐおよび第１磁石１５１ｐよりも幅広のヨーク１５６が一体化されたフランジ構造を有したが、本実施形態はこれに限定されない。第１磁石１５１ｐ自身がフランジ構造を有してもよい。

なお、貫通孔６１ｄは、磁石１５１または磁性体１５２が通過できないように構成されてもよい。

図２１は、本実施形態に係る光学ユニット１の断面を示す図である。

図２１に示すように、第１磁石１５１ｐの一方は、貫通孔６１ｄに配置される。貫通孔６１ｄは、第１磁性体１５２ｐ側に位置する一端の開口部６１ｄａと、第１磁性体１５２ｐに対して一端の開口部６１ｄａよりも遠くに位置する他端の開口部６１ｄｂとを有する。貫通孔６１ｄにおいて一端の開口部６１ｄａの内径は、貫通孔６１ｄが延びる長手方向（第１方向Ｘ）に対して直交する孔径方向（第２方向Ｙまたは第３方向Ｚ）に沿った第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方の長さよりも小さい。貫通孔６１ｄにおいて他端の開口部６１ｄｂの内径は、孔径方向（第２方向Ｙまたは第３方向Ｚ）に沿った第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方の長さよりも大きい。

第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方は、貫通孔６１ｄに配置される。貫通孔６１ｄは、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方側に位置する一端の開口部と、第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの他方に対して一端の開口部６１ｄａよりも遠くに位置する他端の開口部とを有する。貫通孔６１ｄにおいて一端の開口部６１ｄａの内径は、貫通孔６１ｄが延びる長手方向（第１方向Ｘ）に対して直交する孔径方向（第２方向Ｙまたは第３方向Ｚ）に沿った第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方の長さよりも小さい。貫通孔６１ｄにおいて他端の開口部６１ｄｂの内径は、孔径方向（第２方向Ｙまたは第３方向Ｚ）に沿った第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方の長さよりも大きい。第１磁石１５１ｐおよび第１磁性体１５２ｐの一方が貫通孔６１ｄから内側に飛び出すことを抑制できる。

なお、図１～図２１に示した光学ユニット１では、貫通孔６１ｄは、固定体３に配置されたが、本実施形態はこれに限定されない。

図２２は、本実施形態に係る光学ユニット１の断面を示す図である。図２２に示すように、第１支持体３０は、貫通孔３１ｄを有する。第１支持体３０は、複数の貫通孔３１ｄを有する。本実施形態では、固定体３は、２つの貫通孔３１ｄを有する。貫通孔３１ｄには、磁性体１５２が配置されてもよい。

以上、図面を参照しながら本発明の実施形態（変形例を含む。）について説明した。但し、本発明は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施することが可能である。また、上記の実施形態に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることによって、種々の発明の形成が可能である。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。例えば、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。図面は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚み、長さ、個数、間隔等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合もある。また、上記の実施形態で示す各構成要素の材質、形状、寸法等は一例であって、特に限定されるものではなく、本発明の効果から実質的に逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

例えば、上記した実施形態では、磁性体１５２を可動体２に配置し、磁石１５１を固定体３に配置する例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、磁性体１５２を固定体３に配置し、磁石１５１を可動体２に配置してもよい。

また、上記した実施形態では、磁性体１５２全体を収容部３０３ａの内部に配置する例について示したが、本発明はこれに限らない。磁性体１５２の一部を収容部３０３ａの内部に配置してもよい。

また、上記した実施形態では、磁石１５１と磁性体１５２とを、固定体３が可動体２を支持する方向から見て重なるように配置する例について示したが、本発明はこれに限らない。磁石１５１と磁性体１５２とを、固定体３が可動体２を支持する方向に対して交差する方向から見て重なるように配置してもよい。

また、上記した実施形態では、光Ｌが光学要素１０に入射する方向に沿った方向（第１方向Ｘ）に、固定体３が可動体２を支持する例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、光Ｌが光学要素１０から出射する方向に沿った方向（第２方向Ｙ）に、固定体３が可動体２を支持してもよい。また、光Ｌが光学要素１０に入射する方向及び光学要素１０から出射する方向に対して交差する方向（第３方向Ｚ）に、固定体３が可動体２を支持してもよい。

また、例えば上記した実施形態では、被覆部３０１が磁性体１５２の輪郭の全域を被覆する例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、被覆部３０１が磁性体１５２の輪郭の一部を被覆してもよい。この場合、例えば、磁性体１５２の輪郭を等間隔に被覆する複数の被覆部３０１を配置してもよい。

また、上記した実施形態では、磁性体１５２は、いわゆる強磁性体からなる例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、磁性体１５２は、磁石であってもよい。すなわち、磁性体１５２は、永久磁石であってもよい。

本発明は、例えば、光学ユニット及び光学ユニットの製造方法に利用できる。

１ ：光学ユニット
２ ：可動体
３ ：支持体
１０ ：光学要素
３１ ：支持本体（第１部材）
３１ａ ：上面（反対面）
６１ ：支持本体（第１部材）
１２０ ：揺動機構
１２１ ：第２磁石（揺動磁石）
１２５ ：第２コイル（揺動コイル）
１５１ ：磁石
１５２ ：磁性体
３０１ ：被覆部
３０３ａ ：収容部
６１２ ：収容部
６１５ ：被覆部
６１６ ：下面（反対面）
Ａ２ ：第２揺動軸線（揺動軸線）
Ｌ ：光
Ｘ ：第１方向
Ｘ１ ：一方側
Ｙ ：第２方向
Ｙ１ ：一方側
Ｚ ：第３方向

Claims (21)

1. 第１方向の一方側に進行する光を前記第１方向に対して交差する第２方向の一方側に反射する光学要素が搭載されるホルダと、
   前記ホルダを支持する支持体と、
   前記支持体を支持する固定体と、
   前記固定体に対して第１揺動軸線を中心として前記支持体を揺動する第１揺動機構と、
   前記ホルダ、前記支持体および前記固定体の３つのうちのいずれか１つに配置される第１磁石と、
   前記ホルダ、前記支持体および前記固定体の３つのうちの残りの２つのいずれかに配置される第１磁性体と
   を有し、
   前記第１方向、前記第２方向、および、前記第１方向および前記第２方向のそれぞれに対して交差する第３方向のいずれかからみて、前記第１磁石および前記第１磁性体の少なくとも一部は重なり、
   前記第１磁石および前記第１磁性体の少なくとも一方は、前記支持体および前記固定体の少なくとも一方に設けられた貫通孔に位置する、光学ユニット。
2. 前記固定体が前記支持体を支持する支持方向からみて、前記第１磁石および前記第１磁性体の少なくとも一部は重なる、請求項１に記載の光学ユニット。
3. 前記第１磁石は、前記支持体および前記固定体の一方に配置され、
   前記第１磁性体は、前記支持体および前記固定体の他方に配置される、請求項１または２に記載の光学ユニット。
4. 前記第１磁石および前記第１磁性体の少なくとも一方と前記第１揺動機構とは、異なる面に配置される、請求項１から３のいずれかに記載の光学ユニット。
5. 前記第１磁石および前記第１磁性体の一方は、前記貫通孔に配置され、
   前記貫通孔は、
   前記第１磁石および前記第１磁性体の他方側に位置する一端の開口部と、
   前記第１磁石および前記第１磁性体の他方に対して前記一端の開口部よりも遠くに位置する他端の開口部と
   を有し、
   前記貫通孔における前記第１磁石および前記第１磁性体の一方と前記一端の開口部との間の距離は、前記貫通孔における前記第１磁石および前記第１磁性体の一方と前記他端の開口部との間の距離よりも小さい、請求項１から４のいずれかに記載の光学ユニット。
6. 前記貫通孔内において、前記第１磁石および前記第１磁性体の一方と前記他端の開口部との間に空隙が設けられる、請求項５に記載の光学ユニット。
7. 前記貫通孔に位置する接着剤をさらに有する、請求項１から６のいずれかに記載の光学ユニット。
8. 前記第１磁石および前記第１磁性体の一方は、前記貫通孔に配置され、
   前記貫通孔は、
   前記第１磁石および前記第１磁性体の他方側に位置する一端の開口部と、
   前記第１磁石および前記第１磁性体の他方に対して前記一端の開口部よりも遠くに位置する他端の開口部と
   を有し、
   前記貫通孔内において、前記第１磁石および前記第１磁性体の一方と前記他端の開口部との間に位置する接着層をさらに備える、請求項１から４のいずれかに記載の光学ユニット。
9. 前記第１磁石および前記第１磁性体の一方は、前記貫通孔に配置され、
   前記貫通孔は、
   前記第１磁石および前記第１磁性体の他方側に位置する一端の開口部と、
   前記第１磁石および前記第１磁性体の他方に対して前記一端の開口部よりも遠くに位置する他端の開口部と
   を有し、
   前記貫通孔内において、前記第１磁石および前記第１磁性体の一方に対して前記他端の開口部側に位置し、前記第１磁石および前記第１磁性体の一方が取り付けられた取付板をさらに備える、請求項１から４のいずれかに記載の光学ユニット。
10. 前記貫通孔内において、前記第１磁石および前記第１磁性体の一方と前記取付板との間に位置する接着層をさらに備える、請求項９に記載の光学ユニット。
11. 前記貫通孔は、前記固定体に位置する、請求項１から１０のいずれかに記載の光学ユニット。
12. 前記第１磁石は、前記固定体に位置する、請求項１から１１のいずれかに記載の光学ユニット。
13. 前記第１磁石および前記第１磁性体の一方は、前記貫通孔に配置され、
    前記貫通孔は、
    前記第１磁石および前記第１磁性体の他方側に位置する一端の開口部と、
    前記第１磁石および前記第１磁性体の他方に対して前記一端の開口部よりも遠くに位置する他端の開口部と
    を有し、
    前記貫通孔において前記一端の開口部の内径は、前記貫通孔が延びる長手方向に対して直交する孔径方向に沿った前記第１磁石および前記第１磁性体の一方の長さよりも小さく、
    前記貫通孔において前記他端の開口部の内径は、前記孔径方向に沿った前記第１磁石および前記第１磁性体の一方の長さよりも大きい、請求項１から４のいずれかに記載の光学ユニット。
14. 前記第１磁石に対して前記第１磁性体が位置する側とは反対側において前記第１磁石と接触するヨークをさらに有する、請求項１から１３のいずれかに記載の光学ユニット。
15. 前記貫通孔が延びる長手方向に対して直交する孔径方向に沿った前記ヨークの長さは、前記孔径方向に沿った前記第１磁石の長さよりも大きく、
    前記貫通孔の内径は、前記孔径方向に沿った前記第１磁石の長さよりも大きく、前記孔径方向に沿った前記ヨークの長さよりも小さい、請求項１４に記載の光学ユニット。
16. 前記支持体および前記固定体の一方には、前記第１磁石が位置する前記貫通孔、および、前記貫通孔と繋がる窪みが設けられ、
    前記窪みの内径は、前記孔径方向に沿った前記ヨークの長さよりも大きい、請求項１５に記載の光学ユニット。
17. 前記ホルダ、前記支持体および前記固定体の３つのうちのいずれか１つに配置される第２磁石と、
    前記ホルダ、前記支持体および前記固定体の３つのうちの残りの２つのいずれかに配置される第２磁性体と
    をさらに有し、
    前記第１方向、前記第２方向、および、前記第３方向のいずれかからみて、前記第２磁石および前記第２磁性体の少なくとも一部が重なり、
    前記第２磁石および前記第２磁性体の少なくとも一方は、前記支持体および前記固定体の少なくとも一方に設けられた貫通孔に位置する、請求項１から１６のいずれかに記載の光学ユニット。
18. 前記第１磁石および前記第１磁性体の一方が配置された貫通孔は、
    前記第１磁石および前記第１磁性体の他方側に位置する一端の開口部と、
    前記第１磁石および前記第１磁性体の他方に対して前記一端の開口部よりも遠くに位置する他端の開口部と
    を有し、
    前記第２磁石および前記第２磁性体の一方が配置された貫通孔は、
    前記第２磁石および前記第２磁性体の他方側に位置する一端の開口部と、
    前記第２磁石および前記第２磁性体の他方に対して前記一端の開口部よりも遠くに位置する他端の開口部と
    を有し、
    前記第１磁石および前記第１磁性体の一方と前記貫通孔の前記一端の開口部との間の距離は、前記第２磁石および前記第２磁性体の一方と前記貫通孔の前記一端の開口部との間の距離と等しい、請求項１７に記載の光学ユニット。
19. 前記第１磁石および前記第２磁石は、前記第１方向から見て、前記第１揺動軸線に直交する方向に対して対称に位置し、
    前記第１磁性体および前記第２磁性体は、前記第１方向から見て、前記第１揺動軸線に直交する方向に対して対称に位置する、請求項１７または１８に記載の光学ユニット。
20. 前記支持体に対して前記第１揺動軸線に対して交差する第２揺動軸線を中心として前記ホルダを揺動する第２揺動機構をさらに有する、請求項１から１９のいずれかに記載の光学ユニット。
21. 請求項１から２０のいずれかに記載の光学ユニットを備えたスマートフォン。

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