JP2023040681A - Base material laminate body, optical laminate body, method for manufacturing base material laminate body, and method for manufacturing polarizer - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、基材積層体、光学積層体、基材積層体の製造方法、及び偏光板の製造方法に関する。 The present disclosure relates to a substrate laminate, an optical laminate, a method for producing a substrate laminate, and a method for producing a polarizing plate.
偏光板は、テレビ、コンピュータ、スマートフォン、スマートウォッチ、携帯ゲーム機又は車両の計器パネル等の画像表示装置(液晶ディスプレイ、又は有機ELディスプレイ等)に用いられる。偏光板は、保護層(保護フィルム)、偏光子層、接着剤層及び位相差層等の複数の層を積層することによって製造される。(下記特許文献1~4参照。)
Polarizing plates are used in image display devices (liquid crystal displays, organic EL displays, etc.) such as televisions, computers, smart phones, smart watches, mobile game machines, and instrument panels of vehicles. A polarizing plate is manufactured by laminating a plurality of layers such as a protective layer (protective film), a polarizer layer, an adhesive layer and a retardation layer. (See
偏光板の製造方法は、例えば、表面処理層(ハードコート層等)を、基材層(PETフィルム等)に直接積層して基材積層体を得る工程と、偏光子層を、基材積層体に含まれる表面処理層に直接又は間接的に積層する工程と、他の樹脂層(位相差層等)を、接着剤層を介して偏光子層に直接又は間接的に積層する工程と、を備える。少なくともこれらの工程によって光学積層体が作製される。そして基材層を光学積層体から剥離することにより、偏光板が得られる。 A method for producing a polarizing plate includes, for example, a step of directly laminating a surface treatment layer (hard coat layer, etc.) on a substrate layer (PET film, etc.) to obtain a substrate laminate, and a step of laminating a polarizer layer on a substrate. A step of directly or indirectly laminating a surface treatment layer contained in the body, and a step of directly or indirectly laminating another resin layer (such as a retardation layer) on the polarizer layer via an adhesive layer; Prepare. An optical layered body is produced by at least these steps. Then, the polarizing plate is obtained by peeling the base layer from the optical layered body.
接着剤層は、接着剤層が直接積層される被接着層(例えば、偏光子層、偏光子層を覆うオーバーコート層、又は位相差層)の表面全体を覆うことが望ましい。しかし、被接着層の表面の端部は接着剤層で覆われ難い傾向がある。被接着層の表面の端部において接着剤層で覆われない部分は、「未被覆部」と表記される。接着剤層と基材層との間に積層された複数の層(例えば、表面処理層及び偏光子層)其々の端部において未被覆部と間接的に重なる部分は、未被覆部と共に「端部片」を構成する。換言すれば、端部片とは、偏光板の製造過程で作製される上記の光学積層体の端部において、接着剤層によって直接又は間接的に固定されていない部分である。端部片は、接着剤層によって固定されていないので、偏光板の製造過程において、上記の光学積層体から脱落し易い。重合性液晶化合物の重合体及び二色性色素を含む偏光子層は、ポリビニルアルコールを含む従来の偏光子層(延伸フィルム)に比べて、薄くて破損し易い。したがって、光学積層体に含まれる偏光子層が、重合性液晶化合物の重合体及び二色性色素を含む場合、端部片は光学積層体から脱落し易い。光学積層体から脱落した端部片は、偏光板の製造ラインを汚染する。その結果、端部片が異物として偏光板へ混入され易く、偏光板の品質が低下する。基材層を光学積層体から剥離する前に光学積層体の端部を切除することにより、端部片を光学積層体から除去することができる。しかし、光学積層体の端部が切除される場合、偏光板の製造に要する工数が増加し、偏光板の生産性が低下する。更に、光学積層体の端部が切除される場合、切除する必要のない正常な端部が端部片と共に切除され易く、光学積層体の端部を構成する原料が無駄になる。その結果、偏光板の生産性が低下する。 The adhesive layer desirably covers the entire surface of the adherend layer (for example, the polarizer layer, the overcoat layer covering the polarizer layer, or the retardation layer) on which the adhesive layer is directly laminated. However, the edge of the surface of the adherend layer tends to be difficult to cover with the adhesive layer. A portion not covered with the adhesive layer at the edge of the surface of the adherend layer is referred to as an "uncovered portion". A plurality of layers (e.g., a surface treatment layer and a polarizer layer) laminated between the adhesive layer and the base layer, and the portions indirectly overlapping with the uncovered portions at the ends of each are called " constitute an "end piece". In other words, the end piece is a portion that is not directly or indirectly fixed by an adhesive layer at the end of the above optical layered body produced in the manufacturing process of the polarizing plate. Since the end piece is not fixed by the adhesive layer, it is likely to fall off from the optical laminate during the manufacturing process of the polarizing plate. A polarizer layer containing a polymer of a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye is thinner and more easily damaged than a conventional polarizer layer (stretched film) containing polyvinyl alcohol. Therefore, when the polarizer layer included in the optical layered body contains the polymer of the polymerizable liquid crystal compound and the dichroic dye, the end pieces are likely to fall off from the optical layered body. The edge pieces that fall off the optical laminate contaminate the polarizer production line. As a result, the end pieces are likely to be mixed into the polarizing plate as foreign matter, degrading the quality of the polarizing plate. By cutting the ends of the optical stack prior to peeling the substrate layer from the optical stack, the edge pieces can be removed from the optical stack. However, when the end portion of the optical layered body is cut off, the number of man-hours required for manufacturing the polarizing plate increases, and the productivity of the polarizing plate decreases. Furthermore, when the ends of the optical stack are cut off, the normal ends that do not need to be cut are likely to be cut off along with the end piece, thus wasting the raw material that makes up the ends of the optical stack. As a result, the productivity of the polarizing plate is lowered.
本発明の一側面の目的は、偏光板の製造過程で作製される光学積層体の端部片を容易に除去することができる基材積層体、光学積層体、基材積層体の製造方法、及び偏光板の製造方法を提供することである。 An object of one aspect of the present invention is to provide a substrate laminate capable of easily removing an end piece of an optical laminate produced in the manufacturing process of a polarizing plate, an optical laminate, a method for producing the substrate laminate, and to provide a method for manufacturing a polarizing plate.
本発明の一側面に係る基材積層体は、基材層と、基材層の表面に直接積層された表面処理層と、を備える。基材積層体は、基材層の表面に略平行な方向において対向する一対の端部と、一対の端部の間に位置する中央部と、を含む。基材積層体の少なくとも一方の端部における表面処理層に対する基材層の剥離強度は、Ieと表される。基材積層体の中央部における表面処理層に対する基材層の剥離強度は、Icと表される。Ieは、Icよりも高い。 A substrate laminate according to one aspect of the present invention includes a substrate layer and a surface treatment layer directly laminated on the surface of the substrate layer. The substrate laminate includes a pair of end portions facing each other in a direction substantially parallel to the surface of the substrate layer, and a center portion positioned between the pair of end portions. The peel strength of the base material layer to the surface treatment layer at at least one end of the base material laminate is expressed as Ie. The peel strength of the substrate layer to the surface treatment layer in the central portion of the substrate laminate is represented by Ic. Ie is higher than Ic.
Ieは、Icよりも高く、且つ0.40N/25mm以上であってよい。Icは、Ieよりも低く、且つ0.55N/25mm以下であってよい。 Ie may be higher than Ic and equal to or greater than 0.40 N/25 mm. Ic may be lower than Ie and no greater than 0.55N/25mm.
本発明の一側面に係る光学積層体は、上記の基材積層体と、偏光子層と、を備える。偏光子層は、基材積層体に含まれる表面処理層の表面に直接又は間接的に積層されている。偏光子層は、重合性液晶化合物の重合体、及び二色性色素を含む。 An optical layered body according to one aspect of the present invention includes the substrate layered body described above and a polarizer layer. The polarizer layer is laminated directly or indirectly on the surface of the surface treatment layer included in the substrate laminate. The polarizer layer contains a polymer of a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye.
表面処理層の表面に略平行な方向において、基材積層体の少なくとも一方の端部は、偏光子層の外周で囲まれた領域の外側に位置してよい。 In a direction substantially parallel to the surface of the surface treatment layer, at least one end of the substrate laminate may be positioned outside the region surrounded by the outer periphery of the polarizer layer.
本発明の一側面に係る光学積層体は、接着剤層と、他の樹脂層と、を備えてよい。接着剤層は、偏光子層の表面に直接又は間接的に積層されていてよい。他の樹脂層は、接着剤層の表面に直接積層されていてよい。 An optical laminate according to one aspect of the present invention may include an adhesive layer and another resin layer. The adhesive layer may be laminated directly or indirectly on the surface of the polarizer layer. Another resin layer may be laminated directly on the surface of the adhesive layer.
本発明の一側面に係る光学積層体において、他の樹脂層は、位相差層であってよい。 In the optical laminate according to one aspect of the present invention, the other resin layer may be a retardation layer.
表面処理層の表面に平行な方向において、基材積層体の少なくとも一方の端部が、接着剤層の外周で囲まれた領域の外側に位置してよい。 In a direction parallel to the surface of the surface treatment layer, at least one end of the substrate laminate may be located outside the area surrounded by the outer periphery of the adhesive layer.
表面処理層の表面に略平行であり、且つ接着剤層の外周に略垂直な方向において、基材積層体の少なくとも一方の端部の幅は、0.1mm以上55mm未満であってよい。 The width of at least one end of the substrate laminate may be 0.1 mm or more and less than 55 mm in a direction substantially parallel to the surface of the surface treatment layer and substantially perpendicular to the outer periphery of the adhesive layer.
表面処理層の表面に平行な方向において、偏光子層の少なくとも一方の端部は、接着剤層の外周で囲まれた領域の外側に位置してよい。 At least one end of the polarizer layer may be positioned outside the area surrounded by the outer periphery of the adhesive layer in a direction parallel to the surface of the surface treatment layer.
本発明の一側面に係る基材積層体の製造方法は、上記の基材積層体を製造する方法であり、表面処理層を基材層の表面に直接積層して積層体を得る工程と、積層体を巻回してロールを得る工程と、ロールの対向する一対の端面のうち少なくとも一方の端面を加熱する工程と、を備える。 A method for producing a substrate laminate according to one aspect of the present invention is a method for producing the above-described substrate laminate, comprising a step of directly laminating a surface treatment layer on the surface of the substrate layer to obtain a laminate; A step of winding a laminate to obtain a roll, and a step of heating at least one of a pair of opposing end faces of the roll.
本発明の他の一側面に係る基材積層体の製造方法は、上記の基材積層体を製造する方法であり、基材層の対向する一対の端部のうち少なくとも一方の端部においてコロナ処理を行う工程と、コロナ処理後、表面処理層を基材層の表面に直接積層する工程と、を備える。 A method for manufacturing a substrate laminate according to another aspect of the present invention is a method for manufacturing the above-described substrate laminate, wherein at least one of the pair of opposing ends of the substrate layer has a corona and a step of directly laminating the surface-treated layer on the surface of the substrate layer after the corona treatment.
本発明の一側面に係る偏光板の製造方法は、上記の光学積層体から、基材層を剥離する工程を備える。 A method for manufacturing a polarizing plate according to one aspect of the present invention includes a step of peeling off a substrate layer from the optical layered body.
本発明の他の一側面に係る偏光板の製造方法は、表面処理層を基材層の表面に直接積層する工程と、偏光子層を、表面処理層の表面に直接又は間接的に積層する工程と、他の樹脂層を、接着剤層を介して、偏光子層の表面に直接又は間接的に積層する工程と、他の樹脂層を、接着剤層を介して、偏光子層の表面に直接又は間接的に積層する工程後、基材層及び表面処理層其々の端部を同時に加熱する工程と、基材層及び表面処理層其々の端部を同時に加熱する工程後、基材層を剥離する工程と、を備える。基材層及び表面処理層其々の端部を同時に加熱する工程により、表面処理層の端部に対する基材層の端部の剥離強度は高まる。偏光子層は、重合性液晶化合物の重合体、及び二色性色素を含む。 A method for producing a polarizing plate according to another aspect of the present invention includes a step of directly laminating a surface treatment layer on the surface of a substrate layer, and a step of directly or indirectly laminating a polarizer layer on the surface of the surface treatment layer. a step of directly or indirectly laminating another resin layer on the surface of the polarizer layer through the adhesive layer; and laminating the other resin layer onto the surface of the polarizer layer through the adhesive layer. After the step of directly or indirectly laminating the base layer and the surface treatment layer, after the step of simultaneously heating the ends of the base layer and the surface treatment layer, and the step of heating the ends of the base layer and the surface treatment layer at the same time, the base and detaching the material layer. The step of simultaneously heating the ends of the base layer and the surface treatment layer increases the peel strength of the ends of the base layer with respect to the ends of the surface treatment layer. The polarizer layer contains a polymer of a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye.
本発明の他の一側面に係る偏光板の製造方法において、他の樹脂層は、位相差層であってよい。 In the method for manufacturing a polarizing plate according to another aspect of the present invention, the other resin layer may be a retardation layer.
本発明の一側面によれば、偏光板の製造過程で作製される光学積層体の端部片を容易に除去することができる基材積層体、光学積層体、基材積層体の製造方法、及び偏光板の製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, there are provided a substrate laminate capable of easily removing an end piece of an optical laminate produced in the manufacturing process of a polarizing plate, an optical laminate, a method for producing the substrate laminate, And a method for manufacturing a polarizing plate is provided.
以下、図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態(第一実施形態)が説明される。図面において、同等の構成要素には同等の符号が付される。本発明は下記実施形態に限定されるものではない。各図に示すX,Y及びZは、互いに直交する3つの座標軸を意味する。各図中のXYZ座標軸其々が示す方向は各図に共通する。X軸方向は、基材積層体、光学積層体及び偏光板其々に含まれる各層の幅方向と言い換えられてよい。Y軸方向は、基材積層体、光学積層体及び偏光板其々に含まれる各層の長手方向又は搬送方向と言い換えられてよい。Z軸方向は、基材積層体、光学積層体及び偏光板其々の積層方向と言い換えられてよい。 A preferred embodiment (first embodiment) of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, similar components are provided with similar reference numerals. The present invention is not limited to the following embodiments. X, Y and Z shown in each figure mean three coordinate axes orthogonal to each other. The directions indicated by the XYZ coordinate axes in each figure are common to each figure. The X-axis direction can be rephrased as the width direction of each layer included in each of the substrate laminate, the optical laminate, and the polarizing plate. The Y-axis direction may be rephrased as the longitudinal direction or the transport direction of each layer included in the substrate laminate, the optical laminate, and the polarizing plate. The Z-axis direction may be rephrased as the lamination direction of the substrate laminate, the optical laminate, and the polarizing plate.
(基材積層体、光学積層体、偏光板、及び偏光板の製造方法)
図1に示されるように、第一実施形態に係る基材積層体Aは、少なくとも基材層2と、基材層2の表面に直接積層された表面処理層3と、を備える。基材層2及び表面処理層3其々は、後述される樹脂(高分子化合物)を含む層であってよい。表面処理層3は、第一保護層、又はハードコート層と言い換えられてよい。表面処理層3は基材層2の表面全体を覆っていてよい。表面処理層3が積層された表面の裏に位置する基材層2の表面には、基材用保護層1(基材用保護フィルム)が直接積層されていてよい。基材積層体Aは、基材層2の表面に略平行な方向(X軸方向)において対向する一対の端部AEと、一対の端部AEの間に位置する中央部ACと、を含む。中央部ACとは、基材層2の表面に略垂直な基材積層体Aの断面において、基材積層体Aの一対の端部AEの間に位置する部分と言い換えられてよい。基材積層体Aの少なくとも一方の端部AEにおける表面処理層3に対する基材層2の剥離強度は、Ieと表される。基材積層体Aの両方の端部AE其々における表面処理層3に対する基材層2の剥離強度が、Ieと表されてもよい。基材積層体Aの中央部ACにおける表面処理層3に対する基材層2の剥離強度は、Icと表される。Ieは、Icよりも高い。基材積層体Aの一方の端部AEにおける表面処理層3に対する基材層2の剥離強度は、基材積層体Aの他方の端部AEにおける表面処理層3に対する基材層2の剥離強度と等しくてよい。基材積層体Aの一方の端部AEにおける表面処理層3に対する基材層2の剥離強度は、基材積層体Aの他方の端部AEにおける表面処理層3に対する基材層2の剥離強度と異なってもよい。剥離強度の単位は、N/25mmである。例えば、剥離強度は、日本産業規格(JIS Z 0237)に準拠する180度剥離試験によって測定される。基材層2は、基材積層体Aの中央部ACに位置する表面処理層3から容易に剥離することができる。基材積層体Aの中央部ACに位置する表面処理層3は、基材層2の剥離に伴って破損し難い。
(Base material laminate, optical laminate, polarizing plate, and method for producing polarizing plate)
As shown in FIG. 1 , the substrate laminate A according to the first embodiment includes at least a
第一実施形態に係る光学積層体は、少なくとも基材積層体Aと、偏光子層と、を備える。偏光子層は、基材積層体に含まれる表面処理層の表面に直接又は間接的に積層される。偏光子層は、重合性液晶化合物の重合体、及び二色性色素を含む。 The optical layered body according to the first embodiment includes at least a substrate layered body A and a polarizer layer. A polarizer layer is laminated|stacked directly or indirectly on the surface of the surface treatment layer contained in a base-material laminated body. The polarizer layer contains a polymer of a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye.
光学積層体は、基材積層体A及び偏光子層に加えて、接着剤層と、他の樹脂層と、を更に備えてよい。接着剤層(後述される第一接着剤層)は、偏光子層の表面に直接又は間接的に積層される。他の樹脂層は、接着剤層の表面に直接積層される。換言すれば、他の樹脂層は、接着剤層を介して偏光子層の表面に直接又は間接的に積層される。例えば、他の樹脂層は、位相差層、光学補償層又は保護層(後述される第三保護層)であってよい。
光学積層体を構成する任意の2つの層がA層及びB層と表記される場合、A層に直接積層されたB層とは、他の層を介することなくA層に積層されたB層を意味する。A層に間接的に積層されたB層とは、他の層を介してA層に積層されたB層を意味する。
The optical layered body may further include an adhesive layer and another resin layer in addition to the substrate layered body A and the polarizer layer. An adhesive layer (first adhesive layer described later) is laminated directly or indirectly on the surface of the polarizer layer. Another resin layer is laminated directly on the surface of the adhesive layer. In other words, the other resin layer is laminated directly or indirectly on the surface of the polarizer layer via the adhesive layer. For example, the other resin layer may be a retardation layer, an optical compensation layer, or a protective layer (third protective layer to be described later).
When arbitrary two layers constituting the optical laminate are denoted as A layer and B layer, the B layer directly laminated on the A layer is the B layer laminated on the A layer without interposing another layer. means The B layer indirectly laminated on the A layer means the B layer laminated on the A layer via another layer.
図2は、光学積層体の積層構造の一例を示す。ただし、第一実施形態に係る光学積層体の積層構造は、図2に示される構造に限定されない。図2に示される光学積層体Bは、基材積層体Aと、基材積層体Aに含まれる表面処理層3(第一保護層)の表面に直接積層された配向層4と、配向層4の表面に直接積層された偏光子層5と、偏光子層5の表面に直接積層された第二保護層6(オーバーコート層)と、第二保護層6の表面に直接積層された第一接着剤層7と、第一接着剤層7の表面に直接積層された位相差層8(他の樹脂層)と、位相差層8の表面に直接積層された第二接着剤層9と、第二接着剤層9の表面に直接積層された光学補償層10と、光学補償層10の表面に積層された第三保護層11と、を備える。光学積層体に含まれる各層の厚みは、略均一であってよい。光学積層体Bの積層方向(偏光子層5の厚み方向)に略垂直な方向における光学積層体B及び各層の形状は、画像表示装置の画面の形状と略同じであってよい。例えば、光学積層体Bの積層方向(偏光子層5の厚み方向)に略垂直な方向における光学積層体B及び各層の形状は、矩形(長方形又は正方形)であってよい。ただし、光学積層体Bの積層方向(偏光子層5の厚み方向)に略垂直な方向における光学積層体B及び各層の形状は限定されない。一つ以上の切欠き部(ノッチ)が光学積層体Bの端部に形成されていてよい。一つ以上の貫通穴が光学積層体Bに形成されていてもよい。
FIG. 2 shows an example of the layered structure of the optical layered body. However, the laminated structure of the optical laminated body according to the first embodiment is not limited to the structure shown in FIG. The optical layered body B shown in FIG. A
図2及び図3に示されるように、表面処理層3の表面に略平行な方向(X軸方向)において、基材積層体Aの一方の端部AEの一部又は全部が、第一接着剤層7の外周7cで囲まれた領域の外側に位置してよい。つまり、表面処理層3の表面に略平行な方向において、基材積層体Aの少なくとも一方の端部AEは、第一接着剤層7の端部よりも突出していてよい。表面処理層3の表面に略平行な方向において、基材積層体Aの両方の端部AE其々の一部又は全部が、第一接着剤層7の外周7cで囲まれた領域の外側に位置してよい。
As shown in FIGS. 2 and 3, in a direction (X-axis direction) substantially parallel to the surface of the
図2及び図3に示されるように、表面処理層3の表面に略平行な方向において、基材積層体Aの少なくとも一方の端部AEは、偏光子層5の外周5cで囲まれた領域の外側に位置してよい。つまり、表面処理層3の表面に略平行な方向において、基材積層体Aの少なくとも一方の端部AEは、偏光子層5の端部よりも突出していてよい。表面処理層3の表面に略平行な方向において、基材積層体Aの両方の端部AE其々の一部又は全部が、偏光子層5の外周5cで囲まれた領域の外側に位置してよい。
As shown in FIGS. 2 and 3, in the direction substantially parallel to the surface of the
図2及び図3に示されるように、表面処理層3の表面に略平行な方向において、偏光子層5の少なくとも一方の端部の一部又は全部は、第一接着剤層7の外周7cで囲まれた領域の外側に位置してよい。つまり、表面処理層3の表面に略平行な方向において、偏光子層5の少なくとも一方の端部は、第一接着剤層7の端部よりも突出していてよい。表面処理層3の表面に略平行な方向において、偏光子層5の両方の端部其々の一部又は全部が第一接着剤層7の外周7cで囲まれた領域の外側に位置してよい。
As shown in FIGS. 2 and 3 , in the direction substantially parallel to the surface of the
図2に示されるように、表面処理層3の表面に略平行な方向において、配向層4の少なくとも一方の端部は、第一接着剤層7の端部よりも突出してよい。表面処理層3の表面に略平行な方向において、配向層4の両方の端部が、第一接着剤層7の端部よりも突出してよい。
As shown in FIG. 2 , at least one end of the
図2に示されるように、表面処理層3の表面に略平行な方向において、第二保護層6の少なくとも一方の端部は、第一接着剤層7の端部よりも突出してよい。表面処理層3の表面に略平行な方向において、第二保護層6の両方の端部が、第一接着剤層7の端部よりも突出していてよい。
As shown in FIG. 2 , at least one end of the second
表面処理層3の表面に平行な方向において第一接着剤層7の端部よりも突出する第二保護層6の両端部は、第一接着剤層7で覆われていない一対の未被覆部である。第一接着剤層7と基材層2との間に積層された表面処理層3(第一保護層)、配向層4、及び偏光子層5其々の両端部は、一対の未被覆部(第二保護層6の両端部)と間接的に重なる。換言すれば、表面処理層3、配向層4、偏光子層5及び第二保護層6其々の両端部は、表面処理層3の表面に平行な方向において第一接着剤層7の端部よりも突出している。したがって、表面処理層3、配向層4、及び偏光子層5其々の両端部は、一対の未被覆部と共に一対の端部片Eを構成する。一対の端部片Eは、第一接着剤層7によって固定されていないので、偏光板の製造過程において、光学積層体Bから脱落し易い。
Both ends of the second
図4に示されるように、偏光板Cの製造方法は、上記の光学積層体Bから、基材層2(及び基材用保護層1)を剥離する工程を備える。 As shown in FIG. 4, the method for manufacturing the polarizing plate C includes a step of peeling off the substrate layer 2 (and the substrate protective layer 1) from the optical layered body B described above.
第一接着剤層7と基材層2との間において互いに接する一対の層(つまり、表面処理層3及び配向層4、配向層4及び偏光子層5、並びに偏光子層5及び第二保護層6)は、これらの積層過程において互いに強固に密着している。つまり、第一接着剤層7と基材層2との間において互いに接する一対の層は、互いに剥離し難い。対照的に、基材積層体Aの中央部ACにおける表面処理層3に対する基材層2の剥離強度Icは十分に低い。つまり、基材層2の中央部は表面処理層3から容易に剥離される。
一方、基材積層体Aの両端部AE其々における表面処理層3に対する基材層2の剥離強度IeはIcよりも高い。つまり、基材層2の両端部は、基材層2の中央部に比べてより強固に表面処理層3に密着している。つまり、基材層2の両端部は表面処理層3から剥離され難い。したがって、基材層2の中央部を表面処理層3から剥離することに伴って、基材層2の両端部に密着した一対の端部片Eを、基材層2と共に光学積層体Bの端部から容易に分離することができる。
光学積層体Bからの基材層2(及び基材用保護層1)の剥離によって得られる偏光板Cの積層構造は、基材層2、基材用保護層1及び端部片Eを除いて、光学積層体Bの上記積層構造と同じであってよい。
A pair of layers in contact with each other between the first
On the other hand, the peel strength Ie of the
The laminate structure of the polarizing plate C obtained by peeling the substrate layer 2 (and the substrate protective layer 1) from the optical laminate B is the
第一実施形態によれば、光学積層体Bからの基材層2の剥離によって、基材層2の両端部に密着した一対の端部片Eを光学積層体Bの端部から容易に除去できる。その結果、偏光板の製造過程における光学積層体Bからの端部片Eの脱落を抑制することができる。光学積層体Bからの端部片Eの脱落を抑制することにより、端部片Eによる偏光板Cの製造ラインの汚染が抑制され、偏光板Cへの端部片Eの混入が抑制される。その結果、偏光板Cの品質が向上する。
According to the first embodiment, by peeling the
第一実施形態によれば、端部片Eを光学積層体Bから除去するために、基材層2が隔離される前の光学積層体Bの端部を切除する従来の工程は不要である。その結果、偏光板Cの製造に要する工数が減少し、偏光板Cの生産性が向上する。第一実施形態によれば、切除する必要のない正常な端部を端部片と共に光学積層体Bから切除する必要がないので、端部片の除去後に偏光板Cとして利用可能な部分が光学積層体Bに残存し易く、偏光板用の原料の無駄が抑制される。その結果、偏光板Cの生産性が向上する。
According to the first embodiment, in order to remove the end piece E from the optical stack B, the conventional step of cutting the end of the optical stack B before the
Ieは、Icよりも高く、且つ0.40N/25mm以上1.80N/25mm以下であってよい。Icは、Ieよりも低く、且つ0.05N/25mm以上0.55N/25mm以下であってよい。Ieが高いほど、基材層2の端部に端部片Eが密着し易く、基材層2の剥離によって端部片Eが光学積層体Bから除去され易い。Icが低いほど、基材積層体Aの中央部において、基材層2を表面処理層3から剥離し易く、基材層2の剥離に伴う表面処理層3の破損が抑制される。
Ie may be higher than Ic and between 0.40 N/25 mm and 1.80 N/25 mm. Ic may be lower than Ie and between 0.05 N/25 mm and 0.55 N/25 mm. The higher Ie is, the easier it is for the edge piece E to adhere to the edge of the
図3に示されるように、表面処理層3の表面に略平行であり、且つ第一接着剤層7の外周7cに略垂直な方向(X軸方向)において、基材積層体Aの少なくとも一方の端部AEの幅WAEは、0.1mm以上55mm未満であってよい。基材積層体Aの少なくとも両方の端部AE其々の幅WAEが、0.1mm以上55mm未満であってもよい。端部AEの幅WAEが0.1mm以上である場合、端部片Eの全体が基材層2の端部に付着し易く、端部片Eの全体を光学積層体Bから確実に除去し易い。端部AEの幅WAEが55mm未満である場合、端部片Eと共に光学積層体Bから除去される正常な端部が十分に少なく、端部片Eの除去後に偏光板Cとして利用可能な部分が残存し易い。
As shown in FIG. 3, in a direction (X-axis direction) substantially parallel to the surface of the
例えば、基材用保護層1の厚みは、5μm以上100μm以下であってよい。
例えば、基材層2の厚みは、5μm以上100μm以下であってよい。
例えば、表面処理層3(第一保護層)の厚みは、0.1μm以上13μm以下、0.3μm以上8μm以下、又は0.5μm以上5μm以下であってよい。
例えば、配向層4の厚みは、10nm以上5000nm以下、10nm以上1000nm以下、10nm以上500nm以下、又は10nm以上300nm以下であってよい。
例えば、偏光子層5の厚みは、0.5μm以上10μm以下、0.5μm以上8μm以下、又は1μm以上5μm以下であってよい。
例えば、第二保護層6の厚みは、0.1μm以上13μm以下、0.3μm以上8μm以下、又は0.5μm以上5μm以下であってよい。
例えば、第一接着剤層7の厚みは、0.1μm以上15μm以下、0.5μm以上10μm以下、又は1μm以上5μm以下であってよい。
例えば、位相差層8(他の樹脂層)の厚みは、0.1μm以上10μm以下、0.5μm以上8μm以下、又は1μm以上6μm以下であってよい。
例えば、第二接着剤層9の厚みは、0.1μm以上15μm以下、0.5μm以上10μm以下、又は1μm以上5μm以下であってよい。
例えば、光学補償層10の厚みは、0.1μm以上10μm以下、0.5μm以上8μm以下、又は1μm以上6μm以下であってよい。
例えば、第三保護層11の厚みは、5μm以上100μm以下であってよい。
表面処理層3、配向層4、偏光子層5及び第二保護層6其々の厚みが上記の範囲である場合、各層が十分に薄く、基材層2の剥離に伴って各層が各層の端部において破断し易い。その結果、表面処理層3、配向層4、偏光子層5及び第二保護層6其々の端部から構成される端部片Eを光学積層体Bから除去し易い。
For example, the thickness of the substrate
For example, the thickness of the
For example, the thickness of the surface treatment layer 3 (first protective layer) may be 0.1 μm or more and 13 μm or less, 0.3 μm or more and 8 μm or less, or 0.5 μm or more and 5 μm or less.
For example, the thickness of the
For example, the thickness of the
For example, the thickness of the second
For example, the thickness of the first
For example, the thickness of the retardation layer 8 (another resin layer) may be 0.1 μm or more and 10 μm or less, 0.5 μm or more and 8 μm or less, or 1 μm or more and 6 μm or less.
For example, the thickness of the second
For example, the thickness of the
For example, the thickness of the third
When the thickness of each of the
(基材積層体Aの製造方法)
基材積層体Aの製造方法の一例は、表面処理層3を基材層2の表面に直接積層して積層体を得る工程と、積層体を巻回してロールを得る工程と、ロールの対向する一対の端面のうち少なくとも一方の端面を加熱する工程と、を備える。ロールの対向する一対の端面の両方を加熱してもよい。ロールの端面の加熱により、ロールの端面に位置する基材層2及び表面処理層3其々の端部が互いに強固に融着する。その結果、IeがIcよりも高い基材積層体Aが得られる。ロールの端面を加熱する手段は、火炎(例えばガスバーナー)又は輻射熱(例えば赤外線ヒーター)であってよい。
(Manufacturing method of base material laminate A)
An example of the method for producing the substrate laminate A includes a step of directly laminating the
基材積層体Aの製造方法の他の一例は、基材層2の対向する一対の端部のうち少なくとも一方の端部においてコロナ処理を行う工程と、コロナ処理後、表面処理層3を基材層2の表面に直接積層する工程と、を備える。コロナ処理は、基材層2の対向する一対の端部の両方において行われてもよい。コロナ処理により、基材層2の端部の表面が改質される。端部の表面が改質された基材層2に表面処理層3を積層することにより、表面処理層3が基材層2の端部に強固に密着する。その結果、IeがIcよりも高い基材積層体Aが得られる。
Another example of the method for producing the substrate laminate A includes a step of subjecting at least one end of a pair of opposing ends of the
(基材用保護層1、基材層2及び第三保護層11)
例えば、基材用保護層1、基材層2及び第三保護層11其々は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート及びポリブチレンテレフタレート等の樹脂を含むポリエステル系樹脂フィルム;シクロポリオレフィン系樹脂フィルム;トリアセチルセルロース及びジアセチルセルロース等の樹脂を含む酢酸セルロース系樹脂フィルム;ポリカーボネート系樹脂フィルム;アクリル系樹脂フィルム;メタクリル系樹脂フィルム;並びにポリプロピレン系樹脂フィルムからなる群より選ばれる一種の熱可塑性樹脂フィルムであってよい。基材用保護層1の一対の表面のうち基材層2を向く表面には、粘着剤層が形成されていてよい。
(
For example, the substrate
(表面処理層3)
表面処理層3(第一保護層)は、光学積層体B及び偏光板C其々において偏光子層5(及び配向層4)を保護し、偏光子層5からの二色性色素の拡散を抑制する。例えば、表面処理層3は、紫外線硬化性樹脂の硬化物であってよい。例えば、紫外線硬化性樹脂は、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、及びエポキシ系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種であってよい。表面処理層3の機械的強度を向上させるために、無機系微粒子、有機系微粒子、又はこれらの混合物が表面処理層3に添加されてよい。表面処理層3は、転写法によって基材層2の表面に積層されてよい。例えば、表面処理層3の形成方法は、未硬化の紫外線硬化性樹脂を含む塗膜を、離型剤で覆われた基材フィルムの表面に形成する工程と、塗膜を基材フィルムから基材層2の表面へ転写する工程と、基材層2の表面へ転写された塗膜を紫外線の照射によって硬化する工程を含んでよい。
(Surface treatment layer 3)
The surface treatment layer 3 (first protective layer) protects the polarizer layer 5 (and the alignment layer 4) in each of the optical laminate B and the polarizing plate C, and prevents diffusion of the dichroic dye from the
表面処理層3が、紫外線の照射により硬化されたアクリル系樹脂からなり、基材層2がポリエチレンテレフタレート(PET)からなる場合、IeがIcよりも高い基材積層体Aが形成され易く、Ie及びIc其々が上述された数値範囲内に制御され易い。
When the
(配向層4)
配向層4は、高分子化合物を含む膜であり、偏光子層5を構成する重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる機能を有する。例えば、配向層4は、配向性ポリマーからなる配向膜、光配向膜及びグルブ(groove)配向膜からなる群より選ばれる一種の配向膜であってよい。
(Orientation layer 4)
The
配向性ポリマーは、分子内にアミド結合を有するポリアミド、分子内にアミド結合を有するゼラチン、分子内にイミド結合を有するポリイミド、当該ポリイミドの加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも一種の高分子化合物であってよい。 The oriented polymer includes polyamide having an amide bond in the molecule, gelatin having an amide bond in the molecule, polyimide having an imide bond in the molecule, polyamic acid which is a hydrolyzate of the polyimide, polyvinyl alcohol, and alkyl-modified polyvinyl alcohol. , polyacrylamide, polyoxazole, polyethyleneimine, polystyrene, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid and polyacrylic acid ester.
例えば、配向層4の形成方法は、配向性ポリマー及び溶剤を含む塗膜を表面処理層3の表面に形成する工程と、溶剤を塗膜から除去する工程と、溶剤から除去された塗膜をラビング(rubbing)法によって処理する工程を含んでよい。
For example, the method of forming the
配向層4の形成に用いられる溶剤は、水;メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤;トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶剤;並びにクロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素置換炭化水素溶剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の溶剤であってよい。
Solvents used for forming the
光配向膜は、光反応性基を有するポリマーを含む。光配向膜の形成方法は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと上記溶剤を含む塗膜を表面処理層3の表面に形成する工程と、偏光(好ましくは、偏光紫外線)を塗膜に照射す工程と、を含んでよい。
The photo-alignment film contains a polymer having photoreactive groups. The method of forming the photo-alignment film includes a step of forming a coating film containing a polymer or monomer having a photoreactive group and the solvent on the surface of the
光反応性基は、光を照射することにより液晶配向能を発現する官能基である。例えば、光反応性基は、光の照射により分子の配向を誘起する官能基であってよい。光反応性基は、液晶配向能の起源となる光反応(異性化反応、二量化反応、光架橋反応、又は光分解反応)を起こす官能基であってもよい。例えば、光反応性基は、炭素-炭素二重結合(C=C結合)、炭素-窒素二重結合(C=N結合)、窒素-窒素二重結合(N=N結合)、及び炭素-酸素二重結合(C=O結合)からなる群より選ばれる少なくとも一つの結合構造を有する官能基であってよい。 A photoreactive group is a functional group that develops liquid crystal alignment ability by irradiating with light. For example, the photoreactive group may be a functional group that induces orientation of molecules upon exposure to light. The photoreactive group may be a functional group that causes a photoreaction (isomerization reaction, dimerization reaction, photocrosslinking reaction, or photodecomposition reaction) that is the origin of liquid crystal alignment ability. For example, photoreactive groups include carbon-carbon double bonds (C=C bonds), carbon-nitrogen double bonds (C=N bonds), nitrogen-nitrogen double bonds (N=N bonds), and carbon- It may be a functional group having at least one bond structure selected from the group consisting of oxygen double bonds (C═O bonds).
C=C結合を有する光反応性基は、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ-ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基からなる群より選ばれる少なくとも一種であってよい。C=N結合を有する光反応性基は、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾンからなる群より選ばれる少なくとも一種であってよい。N=N結合を有する光反応性基は、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及びアゾキシベンゼン型構造からなる群より選ばれる少なくとも一種であってよい。C=O結合を有する光反応性基は、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基からなる群より選ばれる少なくとも一種であってよい。光反応性基を有するポリマーは、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有していてもよい。 The photoreactive group having a C═C bond may be at least one selected from the group consisting of vinyl groups, polyene groups, stilbene groups, stilbazole groups, stilbazolium groups, chalcone groups and cinnamoyl groups. The photoreactive group having a C═N bond may be at least one selected from the group consisting of aromatic Schiff bases and aromatic hydrazones. The photoreactive group having an N=N bond may be at least one selected from the group consisting of an azobenzene group, an azonaphthalene group, an aromatic heterocyclic azo group, a bisazo group, a formazan group, and an azoxybenzene type structure. . The photoreactive group having a C=O bond may be at least one selected from the group consisting of a benzophenone group, a coumarin group, an anthraquinone group and a maleimide group. The polymer having a photoreactive group has at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an allyloxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group and a halogenated alkyl group. may have
グルブ(groove)配向膜は、表面に複数の凹凸パターン又は複数のグルブ(溝)が形成された膜である。偏光子層5を構成する重合性液晶化合物が、凹凸パターン又は複数のグルブに沿って所定の方向に配向される。
A groove alignment film is a film having a plurality of uneven patterns or a plurality of grooves formed on its surface. A polymerizable liquid crystal compound constituting the
グルブ配向膜の形成方法は、複数のスリットが形成された露光用マスクを用いた感光性ポリイミド膜の表面の露光と、露光に続く現像及びリンス処理によって、凹凸パターンを感光性ポリイミド膜の表面に形成する工程を含んでよい。グルブ配向膜の形成方法は、未硬化の紫外線硬化性樹脂を含む塗膜を、溝が形成された板状の原盤の表面に形成する工程と、塗膜を原盤から表面処理層3の表面へ転写する工程と、表面処理層3の表面に転写された塗膜を紫外線の照射によって硬化する工程とを含んでよい。グルブ配向膜の形成方法は、未硬化の紫外線硬化性樹脂を含む塗膜を、表面処理層3の表面に形成する工程と、複数の溝を有するロールの表面を塗膜の表面に押し当てる工程と、表面に溝が形成された塗膜を紫外線の照射によって硬化する工程とを含んでよい。
The groove alignment film is formed by exposing the surface of the photosensitive polyimide film using an exposure mask having a plurality of slits, and developing and rinsing the film after exposure to form an uneven pattern on the surface of the photosensitive polyimide film. A forming step may be included. The method of forming the groove alignment film includes a step of forming a coating film containing an uncured ultraviolet curable resin on the surface of a plate-shaped master plate in which grooves are formed, and a step of applying the coating film from the master plate to the surface of the
(偏光子層5)
偏光子層5は、重合性液晶化合物の重合体、及び二色性色素を含む。偏光子層5の形成方法は、重合性液晶化合物、二色性色素及び溶媒を含む偏光子層用原料を配向層4の表面に塗布して、塗膜を形成する工程と、塗膜中の重合性液晶化合物を重合させる工程と、を含んでよい。例えば、特開2017-83843号公報に記載の「偏光膜形成用組成物」が、偏光子層用原料として用いられてよい。
(Polarizer layer 5)
The
重合性液晶化合物は、重合性基を有し、且つ、液晶性を示す化合物である。重合性基は、重合反応に関与する基である。例えば、重合性基は、光重合性基であってよい。光重合性基は、光重合開始剤から発生した活性ラジカル又は酸等によって重合反応に関与する基であってよい。例えば、重合性基は、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の官能基であってよい。重合性液晶化合物は、サーモトロピック液晶又はリオトロピック液晶であってよい。 A polymerizable liquid crystal compound is a compound having a polymerizable group and exhibiting liquid crystallinity. A polymerizable group is a group that participates in a polymerization reaction. For example, the polymerizable group can be a photopolymerizable group. The photopolymerizable group may be a group that participates in a polymerization reaction by an active radical generated from a photopolymerization initiator, an acid, or the like. For example, the polymerizable group is at least one selected from the group consisting of a vinyl group, a vinyloxy group, a 1-chlorovinyl group, an isopropenyl group, a 4-vinylphenyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an oxiranyl group and an oxetanyl group. may be a functional group of The polymerizable liquid crystal compound may be a thermotropic liquid crystal or a lyotropic liquid crystal.
重合性液晶化合物は、ネマチック液晶相を形成するサーモトロピック性液晶化合物、スメクチック液晶相を形成するサーモトロピック性液晶化合物、又は高次スメクチック液晶相を形成するサーモトロピック性液晶化合物であってよい。重合性液晶化合物は、スメクチックB相、スメクチックD相、スメクチックE相、スメクチックF相、スメクチックG相、スメクチックH相、スメクチックI相、スメクチックJ相、スメクチックK相又はスメクチックL相を形成するサーモトロピック性液晶化合物であってよい。偏光性能に優れた偏光子層5のX線回折パターンは、ヘキサチック相及びクリスタル相等の高次構造に由来する回折X線のピークを含む。高次構造に由来する回折X線のピークは、分子配向の周期構造に由来するピークであってよい。分子配向の周期間隔が3~6Åであってよい。
The polymerizable liquid crystal compound may be a thermotropic liquid crystal compound that forms a nematic liquid crystal phase, a thermotropic liquid crystal compound that forms a smectic liquid crystal phase, or a thermotropic liquid crystal compound that forms a high-order smectic liquid crystal phase. The polymerizable liquid crystal compound is a thermotropic that forms smectic B phase, smectic D phase, smectic E phase, smectic F phase, smectic G phase, smectic H phase, smectic I phase, smectic J phase, smectic K phase or smectic L phase. It may be a liquid crystal compound. The X-ray diffraction pattern of the
重合性液晶化合物は、下記化学式Aで表される少なくとも一種の化合物であってよい。
U1-V1-W1-X1-Y1-X2-Y2-X3-W2-V2-U2 (A)
X1、X2及びX3其々は独立に、置換基を有していてもよい1,4-フェニレン基、又は置換基を有していてもよいシクロヘキサン-1,4-ジイル基を表す。ただし、X1、X2及びX3のうち少なくとも一つは、置換基を有していてもよい1,4-フェニレン基である。シクロへキサン-1,4-ジイル基を構成する-CH2-は、-O-、-S-又は-NR-で置換されていてもよい。Rは、炭素数が1~6であるアルキル基又はフェニル基を表す。
Y1及びY2其々は独立に、-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCOO-、単結合、-N=N-、-CRa=CRb-、-C≡C-又は-CRa=N-を表す。Ra及びRb其々は独立に、水素原子、又は炭素数が1~4であるアルキル基を表す。
U1は、水素原子、又は重合性基を表す。
U2は、重合性基を表す。
W1及びW2其々は独立に、単結合、-O-、-S-、-COO-又は-OCOO-を表す。
V1及びV2其々は独立に、炭素数が1~20であり、且つ置換基を有していてもよいアルカンジイル基を表す。該アルカンジイル基を構成する-CH2-は、-O-、-S-又は-NH-で置換されていてもよい。
The polymerizable liquid crystal compound may be at least one compound represented by the chemical formula A below.
U 1 -V 1 -W 1 -X 1 -Y 1 -X 2 -Y 2 -X 3 -W 2 -V 2 -U 2 (A)
X 1 , X 2 and X 3 each independently represent an optionally substituted 1,4-phenylene group or an optionally substituted cyclohexane-1,4-diyl group . However, at least one of X 1 , X 2 and X 3 is an optionally substituted 1,4-phenylene group. —CH 2 — constituting a cyclohexane-1,4-diyl group may be substituted with —O—, —S— or —NR—. R represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.
Y 1 and Y 2 are each independently -CH 2 CH 2 -, -CH 2 O-, -COO-, -OCOO-, single bond, -N=N-, -CR a =CR b -, - represents C≡C- or -CR a =N-; R a and R b each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
U1 represents a hydrogen atom or a polymerizable group.
U2 represents a polymerizable group.
W 1 and W 2 each independently represents a single bond, -O-, -S-, -COO- or -OCOO-.
Each of V 1 and V 2 independently represents an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms and optionally having a substituent. —CH 2 — constituting the alkanediyl group may be substituted with —O—, —S— or —NH—.
二色性色素は、300~700nmである範囲に吸収極大波長(λMAX)を有する色素であってよい。例えば、二色性色素は、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素及びアントラキノン色素からなる群より選ばれる少なくとも一種の色素であってよい。例えば、アゾ色素は、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素及びスチルベンアゾ色素からなる群より選ばれる少なくとも一種の色素であってよい。偏光子層5は、2種以上の二色性色素(特にアゾ色素)、又は3種以上の二色性色素(特にアゾ色素)を含んでよい。
A dichroic dye may be a dye that has an absorption maximum wavelength (λ MAX ) in the range that is 300-700 nm. For example, the dichroic dye may be at least one dye selected from the group consisting of acridine dyes, oxazine dyes, cyanine dyes, naphthalene dyes, azo dyes and anthraquinone dyes. For example, the azo dye may be at least one dye selected from the group consisting of monoazo dyes, bisazo dyes, trisazo dyes, tetrakis azo dyes and stilbene azo dyes. The
例えば、アゾ色素は、下記化学式Bで表される化合物であってよい。
A1(-N=N-A2)p-N=N-A3 (B)
A1及びA3其々は独立に、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、又は置換基を有していてもよい1価の複素環基を表す。
A2は、置換基を有していてもよい1,4-フェニレン基、置換基を有していてもよいナフタレン-1,4-ジイル基、又は置換基を有していてもよい2価の複素環基を表す。
pは1~4の整数を表す。pが2以上である場合、複数のA2は互いに同一でもよく、複数のA2は互いに異なっていてもよい。
For example, the azo dye may be a compound represented by the chemical formula B below.
A 1 (-N=NA 2 ) p -N=NA 3 (B)
A 1 and A 3 are each independently a phenyl group optionally having substituent(s), a naphthyl group optionally having substituent(s), or a monovalent heterocyclic ring optionally having substituent(s) represents a group.
A 2 is an optionally substituted 1,4-phenylene group, an optionally substituted naphthalene-1,4-diyl group, or an optionally substituted divalent represents a heterocyclic group.
p represents an integer of 1 to 4; When p is 2 or more, the plurality of A 2 may be the same as each other, or the plurality of A 2 may be different from each other.
偏光子層用原料に用いられる溶剤は、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤;トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶剤;並びに、クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の溶剤であってよい。 Solvents used as raw materials for the polarizer layer include alcohol solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, and propylene glycol monomethyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol. ester solvents such as methyl ether acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate and ethyl lactate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone and methyl isobutyl ketone; pentane, hexane and heptane At least one selected from the group consisting of aliphatic hydrocarbon solvents; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; and chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene. may be a solvent of
偏光子層用原料は、重合開始剤(光重合開始剤等)を含んでよい。例えば、重合開始剤は、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物であってよい。 The raw material for the polarizer layer may contain a polymerization initiator (such as a photopolymerization initiator). For example, the polymerization initiator may be at least one compound selected from the group consisting of benzoin compounds, benzophenone compounds, alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, triazine compounds, iodonium salts and sulfonium salts.
偏光子層用原料は、重合性液晶化合物、二色性色素、溶剤、及び重合開始剤に加えて、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤、及び反応性添加剤を更に含んでよい。 In addition to the polymerizable liquid crystal compound, dichroic dye, solvent, and polymerization initiator, the polarizer layer raw material may further contain a sensitizer, a polymerization inhibitor, a leveling agent, and a reactive additive.
国際公開第2020/122117号に記載の「光配向層」を、配向層4として用いてよく、同文献に記載の「液晶層」を、偏光子層5として用いてよい。国際公開第2020/179864号に記載の「光配向膜」を、配向層4として用いてよく、同文献に記載の「偏光層」を、偏光子層5として用いてよい。
A “photo-alignment layer” described in WO 2020/122117 may be used as the
(第二保護層6)
例えば、第二保護層6は、ポリビニルアルコール系樹脂を含んでよい。例えば、ポリビニルアルコール系樹脂は、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及びアミノ基変性ポリビニルアルコールからなる群より選ばれる少なくとも一種のポリビニルアルコールであってよい。第二保護層6の形成方法は、ポリビニルアルコール系樹脂及び水を含む塗膜を偏光子層5の表面に形成する工程と、塗膜の加熱により、塗膜を乾燥する工程と、を含んでよい。
(Second protective layer 6)
For example, the second
第二保護層6は、エポキシ化合物、オキセタン化合物及びビニル化合物等のカチオン重合性化合物の硬化物を含んでよい。第二保護層6は、ラジカル重合性化合物の硬化物を含んでもよい。
The second
(第一接着剤層7及び第二接着剤層9)
第一接着剤層7及び第二接着剤層9其々は、多官能アクリレート化合物及び多官能メタクリレート化合物などの(メタ)アクリレート化合物;多官能ウレタンアクリレート化合物及び多官能ウレタンメタクリレート化合物などのウレタン(メタ)アクリレート化合物;多官能エポキシアクリレート化合物及び多官能エポキシメタクリレート化合物などのエポキシ(メタ)アクリレート化合物;カルボキシル基変性エポキシアクリレート化合物、ポカルボキシル基変性エポキシメタクリレート化合物、ポリエステルアクリレート化合物、ポリエステルメタクリレート化合物、エポキシ基を有するエポキシ化合物、オキセタニル基を有するオキセタン化合物、及びビニル化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の重合性化合物の重合体(硬化物)を含んでよい。重合性化合物の重合方法(硬化方法)は、光(紫外線等)の照射、又は加熱であってよい。
重合性化合物及び溶剤を含む未硬化の第一接着剤層7が、第二保護層6又は位相差層8の表面に形成されてよく、位相差層8が未硬化の第一接着剤層7を介して第二保護層6の表面に貼合されてよく、位相差層8の貼合直後に第一接着剤層7が硬化されてよい。
重合性化合物及び溶剤を含む未硬化の第二接着剤層9が、位相差層8又は光学補償層10の表面に形成されてよく、光学補償層10が未硬化の第二接着剤層9を介して位相差層8の表面に貼合されてよく、光学補償層10の貼合直後に第二接着剤層9が硬化されてよい。
第一接着剤層7の組成は、第二接着剤層9の組成と同じであってよい。第一接着剤層7の組成は、第二接着剤層9の組成と異なってもよい。
(First
Each of the first
An uncured first
An uncured second
The composition of the first
(位相差層8及び光学補償層10)
光学補償層10は、位相差層8とは別の位相差層と言い換えられてよい。例えば、位相差層8及び光学補償層10其々は、λ/4板及びλ/2板等のポジティブAプレート、並びにポジティブCプレート(光配向材垂直配向フィルム)からなる群より選ばれる少なくとも一種であってよい。位相差層8及び光学補償層10其々は、上記の重合性液晶化合物を上記配向層4とは別の配向層へ塗布することによって形成されてよい。位相差層8及び光学補償層10其々を形成するための配向層の形成方法は、偏光子層5用の上記配向層4と同様であってよい。
(
The
本発明は必ずしも上述された実施形態に限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、本発明の種々の変更が可能であり、これ等の変更例も本発明に含まれる。 The invention is not necessarily limited to the embodiments described above. Various modifications of the present invention are possible without departing from the gist of the present invention, and these modifications are also included in the present invention.
例えば、本発明の第二実施形態に係る偏光板Cの製造方法は、表面処理層3を基材層2の表面に直接積層する第一工程と、偏光子層5を、表面処理層3の表面に直接又は間接的に積層する第二工程と、他の樹脂層を、第一接着剤層7を介して、偏光子層5の表面に直接又は間接的に積層する第三工程と、第三工程後、基材層2及び表面処理層3其々の端部を同時に加熱する第四工程と、第四工程後、基材層2を剥離する第五工程と、を備える。
第二実施形態において、偏光子層5は、重合性液晶化合物の重合体、及び二色性色素を含む。第二実施形態において、他の樹脂層は、位相差層8、光学補償層10又は第三保護層11であってよい。
基材層2及び表面処理層3其々の端部を同時に加熱する第四工程により、基材層2及び表面処理層3其々の端部が互いに融着する。その結果、表面処理層3の端部に対する基材層2の端部の剥離強度が高まる。一方、基材層2及び表面処理層3其々の端部以外の部分においては、表面処理層3に対する基材層2の剥離強度は変化しない。したがって、第四工程により、上述された第一実施形態と同様に、IeがIcよりも高い基材積層体Aが得られる。換言すれば、第二実施形態では、第五工程以前に実施される諸工程により、第一実施形態と同様に、光学積層体Bから得られる。したがって、第一実施形態と同様に、第二実施形態においても、基材層2を剥離する第五工程により、基材層2の端部に密着した端部片Eを光学積層体Bの端部から容易に除去することができる。
For example, the method for manufacturing the polarizing plate C according to the second embodiment of the present invention includes a first step of directly laminating the
In the second embodiment, the
By the fourth step of simultaneously heating the ends of the
本発明に係る偏光板は、一つ以上の位相差層を備える円偏光板又は楕円偏光板であってよい。本発明に係る偏光板は位相差層を備えない直線偏光板であってもよい。 A polarizer according to the present invention may be a circular polarizer or an elliptically polarizer with one or more retardation layers. The polarizing plate according to the present invention may be a linear polarizing plate having no retardation layer.
例えば、本発明の一側面に係る基材積層体及び光学積層体は、偏光板の製造に用いられてよい。 For example, the substrate layered product and the optical layered product according to one aspect of the present invention may be used for manufacturing a polarizing plate.
1…基材用保護層、2…基材層、3…表面処理層(第一保護層)、4…配向層、5…偏光子層、6…第二保護層、7…第一接着剤層、8…位相差層(他の樹脂層)、9…第二接着剤層、10…光学補償層(別の位相差層)、11…第三保護層、A…基材積層体、B…光学積層体、C…偏光板。
DESCRIPTION OF
Claims (14)
前記基材積層体は、前記基材層の前記表面に略平行な方向において対向する一対の端部と、前記一対の前記端部の間に位置する中央部と、を含み、
少なくとも一方の前記端部における前記表面処理層に対する前記基材層の剥離強度は、Ieと表され、
前記中央部における前記表面処理層に対する前記基材層の剥離強度は、Icと表され、
Ieは、Icよりも高い、
基材積層体。 A substrate laminate comprising a substrate layer and a surface-treated layer directly laminated on the surface of the substrate layer,
The substrate laminate includes a pair of ends facing each other in a direction substantially parallel to the surface of the substrate layer, and a central portion located between the pair of ends,
The peel strength of the base layer with respect to the surface treatment layer at least one of the ends is represented as Ie,
The peel strength of the base layer with respect to the surface treatment layer in the central portion is represented as Ic,
Ie is higher than Ic;
Base material laminate.
前記Icは、前記Ieよりも低く、且つ0.55N/25mm以下である、
請求項1に記載の基材積層体。 The Ie is higher than the Ic and is 0.40 N/25 mm or more,
The Ic is lower than the Ie and 0.55 N/25 mm or less,
The substrate laminate according to claim 1.
前記偏光子層は、前記基材積層体に含まれる前記表面処理層の表面に直接又は間接的に積層されており、
前記偏光子層は、重合性液晶化合物の重合体、及び二色性色素を含む、
光学積層体。 A substrate laminate according to claim 1 or 2, and a polarizer layer,
The polarizer layer is laminated directly or indirectly on the surface of the surface treatment layer included in the substrate laminate,
The polarizer layer contains a polymer of a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye,
Optical laminate.
請求項3に記載の光学積層体。 At least one end of the substrate laminate is located outside a region surrounded by the outer periphery of the polarizer layer in a direction substantially parallel to the surface of the surface treatment layer,
The optical laminate according to claim 3.
前記接着剤層は、前記偏光子層の表面に直接又は間接的に積層されており、
前記他の樹脂層は、前記接着剤層の表面に直接積層されている、
請求項3又は4に記載の光学積層体。 comprising an adhesive layer and another resin layer,
The adhesive layer is laminated directly or indirectly on the surface of the polarizer layer,
The other resin layer is laminated directly on the surface of the adhesive layer,
The optical laminate according to claim 3 or 4.
請求項5に記載の光学積層体。 The other resin layer is a retardation layer,
The optical laminate according to claim 5.
請求項5又は6に記載の光学積層体。 In a direction substantially parallel to the surface of the surface treatment layer, at least one end of the substrate laminate is positioned outside a region surrounded by the outer periphery of the adhesive layer,
The optical laminate according to claim 5 or 6.
請求項7に記載の光学積層体。 In a direction substantially parallel to the surface of the surface treatment layer and substantially perpendicular to the outer periphery of the adhesive layer, the width of at least one end of the substrate laminate is 0.1 mm or more and less than 55 mm. be,
The optical laminate according to claim 7.
請求項5~8のいずれか一項に記載の光学積層体。 At least one end of the polarizer layer is located outside the area surrounded by the outer periphery of the adhesive layer in a direction substantially parallel to the surface of the surface treatment layer,
The optical layered body according to any one of claims 5 to 8.
前記表面処理層を前記基材層の表面に直接積層して積層体を得る工程と、
前記積層体を巻回してロールを得る工程と、
前記ロールの対向する一対の端面のうち少なくとも一方の前記端面を加熱する工程と、
を備える、
基材積層体の製造方法。 A method for producing the substrate laminate according to claim 1 or 2,
a step of directly laminating the surface treatment layer on the surface of the base material layer to obtain a laminate;
A step of winding the laminate to obtain a roll;
a step of heating at least one end face of a pair of facing end faces of the roll;
comprising
A method for producing a substrate laminate.
前記基材層の対向する一対の端部のうち少なくとも一方の前記端部においてコロナ処理を行う工程と、
前記コロナ処理後、前記表面処理層を前記基材層の表面に直接積層する工程と、
を備える、
基材積層体の製造方法。 A method for producing the substrate laminate according to claim 1 or 2,
a step of performing a corona treatment on at least one of a pair of opposing ends of the base material layer;
After the corona treatment, directly laminating the surface treatment layer on the surface of the base material layer;
comprising
A method for producing a substrate laminate.
偏光板の製造方法。 A step of peeling off the base layer from the optical laminate according to any one of claims 3 to 9,
A method for manufacturing a polarizing plate.
偏光子層を、前記表面処理層の表面に直接又は間接的に積層する工程と、
他の樹脂層を、接着剤層を介して、前記偏光子層の表面に直接又は間接的に積層する工程と、
前記他の樹脂層を、前記接着剤層を介して、前記偏光子層の前記表面に直接又は間接的に積層する前記工程後、前記基材層及び前記表面処理層其々の端部を同時に加熱する工程と、
前記基材層及び前記表面処理層其々の前記端部を同時に加熱する前記工程後、前記基材層を剥離する工程と、
を備え、
前記基材層及び前記表面処理層其々の前記端部を同時に加熱する前記工程により、前記表面処理層の前記端部に対する前記基材層の前記端部の剥離強度は高まり、
前記偏光子層は、重合性液晶化合物の重合体、及び二色性色素を含む、
偏光板の製造方法。 A step of directly laminating the surface treatment layer on the surface of the base material layer;
a step of directly or indirectly laminating a polarizer layer on the surface of the surface treatment layer;
a step of directly or indirectly laminating another resin layer on the surface of the polarizer layer via an adhesive layer;
After the step of directly or indirectly laminating the other resin layer on the surface of the polarizer layer through the adhesive layer, the end portions of the base layer and the surface treatment layer are simultaneously attached. a step of heating;
After the step of simultaneously heating the ends of the base layer and the surface treatment layer, the step of peeling off the base layer;
with
By the step of simultaneously heating the ends of the base material layer and the surface treatment layer, the peel strength of the ends of the base layer with respect to the edges of the surface treatment layer is increased,
The polarizer layer contains a polymer of a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye,
A method for manufacturing a polarizing plate.
請求項13に記載の偏光板の製造方法。 The other resin layer is a retardation layer,
14. The method for producing a polarizing plate according to claim 13.
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