JP2022171731A - 開口部に適応するデータ線を有するディスプレイ - Google Patents

Abstract

【課題】開口部に適応するデータ線を有するディスプレイを提供する。【解決手段】アクティブ領域（ＡＡ）内の開口部（５２）の周囲にある非発光の境界区域の幅を最小化するために、境界領域内にデータ線（Ｄ）を積層してもよい。境界区域内の３つの異なる平面で３つの金属層を使用してデータ線部分が形成されてもよい。アクティブ領域内で正の電力信号分配経路を形成する金属層が、境界区域内のデータ線部分として機能してもよい。境界区域に金属層を追加して、境界区域内のデータ線部分として機能させてもよい。補助データ線経路（１０６）を使用して、アクティブ領域内の開口部の両側の画素にデータ線信号が供給されてもよい。補助データ線経路をディスプレイのアクティブ領域（ＡＡ）を通って配線することで、ディスプレイ内の開口部の両側のデータ線区画を電気接続してもよい。【選択図】図１

Description

本発明は概してディスプレイに関し、より具体的には、非アクティブ領域を有するディスプレイに関する。
（関連出願の相互参照）
本出願は、２０１９年７月８日付出願の米国特許出願第１６／５０５，５３２号、及び２０１８年８月２１日付出願の米国仮特許出願第６２／７２０，７０５号に対する優先権を主張するものであり、それらの全体が参照により本明細書に組み込まれる。

電子デバイスは、多くの場合、ディスプレイを含む。例えば、セルラー電話機及びポータブルコンピュータは、ユーザに情報を提示するためのディスプレイを含む。有機発光ダイオードディスプレイ及び液晶ディスプレイなどのディスプレイは、発光するアクティブ領域と、発光しない非アクティブ領域とを有する。注意が払われなければ、ディスプレイの非アクティブ領域は所望されるよりも大きくなることがある。

ディスプレイは、アクティブ領域に画素のアレイを有してもよい。ディスプレイは、アクティブ領域を取り囲む第１の非アクティブ領域を含んでもよい。ディスプレイはまた、アクティブ領域内に形成される第２の非アクティブ領域を含んでもよい。第２の非アクティブ領域は、ディスプレイ基板内の、電子コンポーネントを収容する物理的開口部によって形成されてもよい。

ディスプレイは、ディスプレイ内の画素に信号を供給する、データ線及びゲート線を含んでもよい。データ線及びゲート線は、ディスプレイのアクティブ領域内に形成された非アクティブ領域の周りで再配線が必要になることがある。

アクティブ領域内の開口部周りの非発光境界区域の幅を最小化するために、データ線を境界区域内に積層してもよい。例えば、境界区域内に、３つの異なる平面内に３つの金属層を使用してデータ線部分が形成されてもよい。アクティブ領域内で正の電力信号分配経路を形成する金属層が、境界区域内のデータ線部分として機能してもよい。境界区域に金属層を追加して、境界区域内のデータ線部分として機能させてもよい。

補助データ線経路を使用して、アクティブ領域内の開口部の両側の画素にデータ線信号が供給されてもよい。補助データ線経路をディスプレイのアクティブ領域を通って配線して、ディスプレイ内の開口部の両側のデータ線区画を電気接続してもよい。データ線区画への補助データ線の電気接続部は、どちらもディスプレイの非アクティブ領域内にあってもよい。あるいは、代わりに、補助データ線からデータ線区画への電気接続部が、どちらもディスプレイのアクティブ領域内にあってもよい。更に別の構成では、補助データ線と１つのデータ線区画との間の電気接続部がディスプレイのアクティブ領域内にあってもよく、補助データ線と他方のデータ線区画との間の電気接続部がディスプレイの非アクティブ領域内にあってもよい。

一実施形態に係る、ディスプレイを有する例示的な電子デバイスの概略図である。 一実施形態に係る、例示的なディスプレイの概略図である。 一実施形態に係る、例示的な画素回路の図である。 第１の非アクティブ領域によって取り囲まれるアクティブ領域を有し、そのアクティブ領域内に含まれる第２の非アクティブ領域を有する、一実施形態に係る例示的なディスプレイの平面図である。 一実施形態に係る、アクティブ領域内に開口部を有し、かつその開口部の境界区域を通って配線された信号線を有する、例示的なディスプレイの平面図である。 一実施形態に係る、金属層から形成された信号経路を示す例示的なディスプレイのアクティブ領域の側断面図である。 一実施形態に係る、金属層から形成されたデータ線が積層され得る様式を示す、例示的なディスプレイのアクティブ領域の側断面図である。 一実施形態に係る、アクティブ領域内の開口部の両側にある第１及び第２のデータ線区画と、ディスプレイの非アクティブ領域内の第１及び第２のデータ線区画の両方に電気接続されている補助データ線とをデータ線が含み得る様子を示す、例示的なディスプレイの平面図である。 一実施形態に係る、図８の補助データ線を示す、例示的なディスプレイの側断面図である。 一実施形態に係る、アクティブ領域内の開口部の両側にある第１及び第２のデータ線区画と、ディスプレイのアクティブ領域内で第１及び第２のデータ線区画の両方に電気接続されている補助データ線とをデータ線が含み得る様子を示す、例示的なディスプレイの平面図である。 一実施形態に係る、アクティブ領域内の開口部の両側にある第１及び第２のデータ線区画と、ディスプレイのアクティブ領域内でデータ線区画のうちの１つに電気接続され、ディスプレイの非アクティブ領域内で他方のデータ線区画に電気接続された補助データ線とを、データ線が含み得る様子を示す、例示的なディスプレイの平面図である。

電子デバイスは、ディスプレイを備えることができる。ディスプレイをもつ例示的な電子デバイスの概略図が図１に示されている。図１のデバイス１０は、ラップトップコンピュータ、組込み型コンピュータを含むコンピュータ用モニタ、タブレットコンピュータ、セルラー電話機、メディアプレーヤ、又は他のハンドヘルド若しくはポータブル電子デバイスなどのコンピューティングデバイス、腕時計型デバイス（例えば、リストストラップをもつウォッチ）、ペンダント型デバイス、ヘッドホン型若しくはイヤホン型デバイス、眼鏡に埋め込まれたデバイス若しくはユーザの頭部に装着する他の機器、又は他の着用可能な若しくはミニチュアデバイスなどのより小さいデバイス、テレビ、組込み型コンピュータを含まないコンピュータ用ディスプレイ、ゲーミングデバイス、ナビゲーションデバイス、ディスプレイをもつ電子機器がキオスク若しくは自動車に搭載されるシステムなどの組込みシステム、これらのデバイスのうちの２つ以上の機能を実装する機器、あるいは他の電子機器であり得る。

図１に示すように、電子デバイス１０は、制御回路１６を有することができる。制御回路１６は、デバイス１０の動作をサポートする、記憶及び処理の回路を含んでもよい。記憶及び処理回路は、ハードディスクドライブ記憶装置、不揮発性メモリ（例えば、ソリッドステートドライブを形成するように構成されたフラッシュメモリ、又は他の電気的にプログラム可能な読み出し専用メモリ）、揮発性メモリ（例えば、静的又は動的なランダムアクセスメモリ）などの記憶装置を含むことができる。制御回路１６内の処理回路を使用してデバイス１０の動作を制御することができる。処理回路は、１つ以上のマイクロプロセッサ、マイクロコントローラ、デジタル信号プロセッサ、ベースバンドプロセッサ、電力管理ユニット、オーディオチップ、特定用途向け集積回路などに基づいてもよい。

入出力デバイス１８などのデバイス１０中の入出力回路を使用して、デバイス１０へデータを供給できるようにし、デバイス１０から外部デバイスへデータを提供できるようにしてもよい。入出力デバイス１８は、ボタン、ジョイスティック、スクロールホイール、タッチパッド、キーパッド、キーボード、マイクロフォン、スピーカ、トーンジェネレータ、バイブレータ、カメラ、センサ、発光ダイオード及びその他の状態インジケータ、データポートなどを含んでもよい。ユーザは、入出力デバイス１８を通じてコマンドを提供することによってデバイス１０の動作を制御することができ、また、入出力デバイス１８の出力リソースを使用して、デバイス１０から状態情報及びその他の出力を受け取ってもよい。

入出力デバイス１８は、ディスプレイ１４などの１つ以上のディスプレイを含んでもよい。ディスプレイ１４は、ユーザからのタッチ入力を蓄積するタッチセンサを含むタッチスクリーンディスプレイとすることができ、又はディスプレイ１４は、タッチセンシティブでなくてもよい。ディスプレイ１４に対するタッチセンサは、容量性タッチセンサ電極のアレイ、音響タッチセンサ構造体、抵抗性タッチコンポーネント、力ベースのタッチセンサ構造体、光ベースのタッチセンサ、又は他の好適なタッチセンサの配置に基づくものとすることができる。

制御回路１６を用いて、オペレーティングシステムコード及びアプリケーションなどのソフトウェアをデバイス１０で実行することができる。デバイス１０の動作中、制御回路１６上で実行中のソフトウェアは、ディスプレイ１４上に画像を表示することができる。

ディスプレイ１４は、有機発光ダイオードディスプレイ、結晶性半導体ダイからそれぞれ形成される個別の発光ダイオードのアレイから形成されるディスプレイ、又は任意の他の好適なタイプのディスプレイであり得る。本明細書では一例として、ディスプレイ１４のピクセルが発光ダイオードを含む構成について時々説明する。しかし、これは単なる例示である。所望される場合、デバイス１０について任意の好適なタイプのディスプレイが使用され得る。

図２は、例示的なディスプレイの図である。図２に示すように、ディスプレイ１４は、基板層２６などの層を含んでもよい。層２６などの基板層は、矩形で平坦な材料層あるいは他の形状（例えば、１つ以上の曲線状及び／又は直線状のエッジをもつ円形形状又は他の形状）をもつ材料層で形成され得る。ディスプレイ１４の基板層は、ガラス層、ポリマー層、ポリマー及び無機材料を含む複合膜、金属箔などを含み得る。

ディスプレイ１４は、ユーザに画像を表示するための画素２２のアレイ、例えば画素アレイ２８などを有することができる。アレイ２８中の画素２２は、行及び列で配置され得る。アレイ２８のエッジは、直線状又は曲線状であり得る（すなわち、アレイ２８中の画素２２の各行及び／又は画素２２の各列は、同じ長さを有し得るか又は異なる長さを有し得る）。アレイ２８には、任意の好適な数の行及び列（例えば、１０以上、１００以上、又は１０００以上など）が存在し得る。ディスプレイ１４は、色の異なる画素２２を含んでもよい。一例として、ディスプレイ１４は、赤色画素、緑色画素、及び青色画素を含むことができる。所望される場合、バックライトユニットが、ディスプレイ１４にバックライト照明を提供し得る。

ディスプレイドライバ回路２０を使用して、画素２２の動作を制御してもよい。ディスプレイドライバ回路２０は、集積回路、薄膜トランジスタ回路、及び／又は他の好適な回路で形成され得る。図２の例示的なディスプレイドライバ回路２０は、ディスプレイドライバ回路２０Ａと、ゲートドライバ回路２０Ｂなどの追加のディスプレイドライバ回路とを含む。ゲートドライバ回路２０Ｂは、ディスプレイ１４の１つ以上のエッジに沿って形成され得る。例えば、ゲートドライバ回路２０Ｂは、図２に示されているようにディスプレイ１４の左側及び右側に沿って配置され得る。

図２に示されているように、ディスプレイドライバ回路２０Ａ（例えば、１つ以上のディスプレイドライバ集積回路、薄膜トランジスタ回路など）は、信号経路２４を介してシステム制御回路と通信する通信回路を含んでもよい。経路２４は、フレキシブルプリント回路又は他のケーブル上のトレースで形成してもよい。制御回路は、電子デバイス１０中の１つ以上のプリント回路上に位置し得る。動作中に、制御回路（例えば、図１の制御回路１６）は、ディスプレイ１４上に表示される画像の画像データを回路２０中のディスプレイドライバ集積回路などの回路に供給し得る。図２のディスプレイドライバ回路２０Ａはディスプレイ１４の上部に位置する。これは単なる例示にすぎない。ディスプレイドライバ回路２０Ａは、ディスプレイ１４の下部エッジに沿って、ディスプレイ１４の上部及び下部に、又はデバイス１０の他の部分に位置し得る。

画素２２上に画像を表示するために、ディスプレイドライバ回路２０Ａは、信号経路３０を介してゲートドライバ回路２０Ｂなどのサポートディスプレイドライバ回路に制御信号を発行しながら、対応する画像データをデータ線Ｄに供給し得る。図２の例示的な配置では、データ線Ｄは、ディスプレイ１４を通って垂直方向に走り、画素２２のそれぞれの列に関連付けられる。

ゲートドライバ回路２０Ｂ（ゲート線ドライバ回路又は水平制御信号回路と呼ばれることがある）は、１つ以上の集積回路を使用して、及び／又は基板２６上の薄膜トランジスタ回路を使用して実現できる。水平制御ラインＧ（ゲート線、走査線、発出制御線などと呼ばれることがある）は、ディスプレイ１４を通って水平方向に走行している。各ゲート線Ｇは、画素２２のそれぞれの行に関連付けられる。所望される場合、ピクセルの各行に関連付けられたゲート線Ｇなどの複数の水平制御ライン（例えば、第１のゲート線信号ＧＩ及び第２のゲート線信号ＧＷ、１つ以上の発出制御信号など）が存在し得る。他の信号（例えば、電源信号など）を分配するために、ディスプレイ１４中の個々に制御される及び／又はグローバル信号経路も使用され得る。

ゲートドライバ回路２０Ｂは、ディスプレイ１４中のゲート線Ｇ上で制御信号をアサートし得る。例えば、ゲートドライバ回路２０Ｂは、経路３０上で回路２０Ａからクロック信号及び他の制御信号を受信でき、受信された信号に応じて、アレイ２８中の画素２２の第１の行内のゲート線信号Ｇから開始して、ゲート線Ｇ上でゲート線信号を順にアサートしていくことができる。各ゲート線がアサートされると、データ線Ｄからのデータは、画素の対応する行にロードされ得る。このようにして、ディスプレイドライバ回路２０Ａ及び２０Ｂなどの制御回路は、ディスプレイ１４上に所望の画像を表示するように画素２２に指示する信号を画素２２に提供できる。各画素２２は、ディスプレイドライバ回路２０からの制御及びデータ信号に応答する発光ダイオード及び回路（例えば、基板２６上の薄膜回路）を設けてよい。

アレイ２８中の各ピクセル２２について使用され得るタイプの例示的なピクセル回路が図３に示されている。図３の例では、ピクセル回路２２は、７つのトランジスタＴ１、Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４、Ｔ５、Ｔ６、及びＴＤと、１つのキャパシタＣｓｔとを有し、したがって、ピクセル回路２２は７Ｔ１Ｃピクセル回路と呼ばれることがある。所望される場合、ピクセル２２中で他の数のトランジスタ及びキャパシタ（例えば、より少ないトランジスタ、より多くのトランジスタ、より多くのキャパシタなど）が使用され得る。トランジスタは、ｐチャネルトランジスタ（例えば、図３に示すｐチャネル金属酸化物半導体トランジスタ）であり得、及び／又はｎチャネルトランジスタ若しくは他のタイプのトランジスタであり得る。ディスプレイ１４のピクセル回路２２の薄膜トランジスタのアクティブ領域及び他の部分は、シリコン（例えば、ポリシリコンチャネル領域）、半導体酸化物（例えば、インジウムガリウム酸化亜鉛チャネル領域）、又は他の好適な半導体薄膜層から形成され得る。

図３に示すように、ピクセル回路２２は、発光ダイオード４４（例えば、有機発光ダイオード、結晶性マイクロ発光ダイオードダイなど）を含む。発光ダイオード４４は、トランジスタＴＤによって発光ダイオード４４を通って駆動された電流Ｉの量に比例して光４６を発出し得る。トランジスタＴＤ、トランジスタＴ４、トランジスタＴ５、及び発光ダイオード４４は、それぞれの電源端子間に直列に結合され得る（例えば、正電源端子ＥＬＶＤＤ及び接地電源端子ＥＬＶＳＳを参照されたい）。トランジスタＴＤは、ノードＮｂに結合されたソース端子と、トランジスタＴ５に結合されたドレイン端子と、ノードＮａに結合されたゲート端子とを有し得る。トランジスタＴＤのゲートにおけるノードＮａ上の電圧は、トランジスタＴＤによって生成される電流Ｉの量を制御する。この電流は発光ダイオード４４を通して駆動され、したがって、トランジスタＴＤは駆動トランジスタと呼ばれることがある。

トランジスタＴ４及びＴ５は、トランジスタＴＤとダイオード４４との間の電流の流れを遮断するためにオフにされ得、トランジスタＴ４及びＴ５は、トランジスタＴＤとダイオード４４との間の電流の流れを可能にするためにオンにされ得る。発出イネーブル制御信号ＥＭが、共有ゲート線からトランジスタＴ４及びＴ５のゲートに印加され得る。動作中に、トランジスタＴ４及びＴ５は発出イネーブル制御信号ＥＭによって制御され、したがって、発出トランジスタ又は発出イネーブルトランジスタと呼ばれることがある。スイッチングトランジスタ制御信号、走査信号又はゲート線信号（例えば、ゲート初期化及びゲート書込み信号、ゲート信号など）と呼ばれることがある制御信号ＧＷ及びＧＩは、スイッチングトランジスタＴ１、Ｔ２、Ｔ３、及びＴ６のゲートに印加され、トランジスタＴ１、Ｔ２、Ｔ３、及びＴ６の動作を制御する。

制御信号ＥＭ、ＧＩ、及びＧＷは、ディスプレイ１４の動作中にディスプレイ１４のピクセル２２を様々な状態に置くようにディスプレイドライバ回路２０によって制御され得る。これらの様々な状態中に、画像データがピクセル２２にローディングされ、ピクセル２２は、発光ダイオード４４を使用して、ローディングされたピクセルデータに比例する光４６を発出する。トランジスタ履歴（例えば、履歴Ｖｇｓ値）の差に起因するしきい値電圧ばらつきを最小限に抑えるために、ピクセルの各々は、トランジスタＴＤを駆動するために（オンバイアスストレスと呼ばれることがある）既知の電圧ストレスを意図的に印加することによって調整され得る。各画素を形成するために使用されるこの回路の例は、単なる例示である。一般に、各画素は、任意の所望する回路から形成され得る。

図４は、ディスプレイのアクティブ領域によって囲まれた非アクティブ領域部分を有する、例示的なディスプレイの平面図である。図４に示すように、基板２６は、アクティブ領域ＡＡと、非アクティブ領域ＩＡ１及びＩＡ２とを有する。基板２６は、アクティブ領域内に、画像を表示するために発光する画素（例えば、図３に示すタイプの画素）を含んでいる。非アクティブエリアは、いかなる画素をも含まず、画像を表示しない。非アクティブ領域は、例えば、図２のディスプレイドライバ回路２０Ａ及びゲートドライバ回路２０Ｂなどの表示回路を含んでもよい。この表示回路は、ディスプレイ１４の第１の非アクティブ領域ＩＡ１内に形成されてもよい。非アクティブ領域ＩＡ１は、アクティブ領域と境を接し、アクティブ領域の外縁に延在する。

ディスプレイはまた、アクティブ領域の開口部内に形成された、孤立した非アクティブ領域ＩＡ２を含んでもよい。換言すれば、非アクティブ領域ＩＡ２は、アクティブ領域ＡＡ内に包含される。非アクティブ領域ＩＡ２は、アクティブ領域ＡＡによって横方向に（例えば、ＸＹ平面内）完全に取り囲まれている。非アクティブ領域ＩＡ２は、島状の非アクティブ領域と呼ばれることもある。非アクティブ領域ＩＡ２内で基板２６に物理的な穴があってもよいし、又は、非アクティブ領域ＩＡ２内で基板２６が透明（非アクティブ領域ＩＡ２で、画素コンポーネントが省かれている）であってもよい。スピーカ、カメラ、発光ダイオード（例えば、状態インジケータ）、光センサ、近接センサ、歪みゲージ、磁気センサ、圧力センサ、力センサ、温度センサ若しくは他のセンサ、ボタン、タッチ感応式コンポーネント、マイクロフォン若しくは他オーディオコンポーネントなどの電気コンポーネント、又は、出力を生成し、かつ／若しくは入力を収集する、他の電気デバイスなどが、非アクティブ領域に搭載されてもよい。

ディスプレイのアクティブ領域内に非アクティブ領域を組み込むには、ディスプレイ内の信号線の再配線が必要になることがある。図５は、アクティブ領域内の開口部と、開口部の周りに再配線された信号とを有する、例示的なディスプレイの平面図である。図５に示すように、非アクティブ領域ＩＡ２は（ＩＡ２が全ての側部を画素２２によって取り囲まれた状態で）、ディスプレイのアクティブ領域内に形成される。非アクティブ領域ＩＡ２は、物理的開口部５２を含んでもよい。開口部５２は、例えば、ディスプレイ基板の物理的な穴であってもよい。この例は単なる例示であり、代わりに、開口部５２は、表示画素又は表示信号配線コンポーネントを一切含まない、ディスプレイ内の透明な窓であってもよい。開口部５２は、１つ以上の電子コンポーネント５４を収容してもよい。コンポーネント５４は、スピーカ、カメラ、発光ダイオード（例えば、状態インジケータ）、光センサ、近接センサ、歪みゲージ、磁気センサ、圧力センサ、力センサ、温度センサ及び他のセンサ、ボタン、タッチ感応式コンポーネント、マイクロフォン及び他のオーディオコンポーネント、又は、出力を生成し、かつ／若しくは入力を収集する、他の電気デバイスなどであってもよい。一例では、コンポーネント５４は、物理的な穴５２によって空けられた空間を占有してもよい。別の例では、コンポーネント５４は、開口部５２を有するディスプレイ基板の下方に配置され、開口部５２を通して外部の刺激（例えば、光）を受けてもよい。開口部５２の代わりに透明の窓が形成される実施形態では、一例として、コンポーネント５４は、透明の窓の下に形成され、この窓を通して光を受けてもよい。

ディスプレイ内の非発光面積の総計を最小化するために、物理的開口部５２の寸法が非アクティブ領域ＩＡ２の寸法を画定することが望ましい。ただし、ディスプレイ内の信号線の配線の余地を得るために、物理的開口部５２の周囲に非発光の境界５６が形成されていてもよい。例えば、データ線Ｄ１などのいくつかのデータ線は、非アクティブ領域ＩＡ２によって遮られることはない。これらのデータ線は、物理的開口部５２の周りで再配線する必要なく、ディスプレイを垂直に横切って延びていてもよい。同様に、ゲート線Ｇ１などのいくつかのゲート線は、非アクティブ領域ＩＡ２によって遮られることはない。これらのゲート線は、物理的開口部５２の周りで再配線する必要なく、ディスプレイを水平に横切って延びていてもよい。しかし、データ線及びゲート線のいくつかは物理的開口部５２によって遮られるため、物理的開口部５２の周りに再配線することが必要になる。

図５では、データ線Ｄ２が物理的開口部５２によって遮られている。データ線Ｄ２は、ディスプレイ内の所与の画素列内の個々の画素に結合する、垂直に延びた部分を有していてもよい。データ線Ｄ２はまた、物理的開口部５２の周囲で湾曲して、所与の画素列内の画素２２－１を、物理的開口部の反対側の所与の画素列内の画素２２－２に接続する、再配線部分Ｄ２－Ｒを有する。再配線部分Ｄ２－Ｒは、データ線Ｄ２の垂直部分とは別の平面内に（かつ、別の金属層から）形成されてもよい。ゲート線Ｇ２もまた、物理的開口部５２によって遮られている。ゲート線Ｇ２は、ディスプレイ内の所与の画素行の個々の画素に結合する、水平に延びた部分を有していてもよい。ゲート線Ｇ２はまた、物理的開口部５２の周囲で湾曲して、所与の画素行内の画素２２－３を、物理的開口部の反対側の所与の画素行内の画素２２－４に接続する、再配線部分Ｇ２－Ｒを有する。再配線部分Ｇ２－Ｒは、ゲート線Ｇ２の水平部分とは別個の平面内に（かつ、別の金属層から）形成されてもよい。

信号線の再配線部分は、物理的開口部５２の周囲の非発光の境界５６内に形成されてもよい。物理的開口部５２のサイズが大きいほど、物理的開口部の周りで境界５６内に再配線する必要のある信号線が多くなる。これにより、境界５６の幅５８は望ましくなく増加し得る。幅５８の最小化を助けるため、信号線を境界区域５６内に積層してもよい（それにより、再配線された信号線を全て収容するために必要な横方向の面積が低減される）。

図６は、物理的開口部の周りで境界５６内に積層されたデータ線を有する（図５に示すものと同様の）ディスプレイの一部分の側断面図である。図６に示すディスプレイの部分はアクティブ領域内（物理的開口部から離れて）に配置されており、データ線の再配線が必要なく、したがって、データ線を積層する必要がないことを意味する。図６に示すように、ディスプレイ１４は、基板層２６上に形成された複数の層を含む。バッファ層６４及びゲート絶縁層６６などの誘電体層が、基板２６上に形成されてもよい。バッファ層６４は、例えば、無機バッファ層であってもよい。追加の層間誘電体層６８及び７０が、ゲート絶縁層６６の上に形成されてもよい。第１の金属層７８がゲート絶縁体６６上に形成され、層間誘電体層６８で覆われてもよい。金属層７８は、ディスプレイ１４のゲート線（例えば、図２のゲート線Ｇ）として機能してもよい。第２の金属層８０が層間誘電体層６８上に形成され、層間誘電体層７０で覆われてもよい。金属層８０は、ディスプレイ１４のゲート線（例えば、図２のゲート線Ｇ）として機能してもよい。金属層７８及び８０はどちらも、ディスプレイ内の単一の画素行のゲート線として機能してもよい。例えば、金属層７８は、行内の画素に信号ＧＷ（図３参照）を供給してもよく、金属層８０は、行内の画素に信号ＧＩ（図３参照）を供給してもよい。

層間誘電体層７０の上に、追加の金属層（金属層８２）が形成されてもよい。金属層８２（ＳＤ１）は、ディスプレイ１４のデータ線（例えば、図２のデータ線Ｄ）として機能してもよい。金属層８２は、パッシベーション層７２で覆われてもよい。パッシベーション層７２は、窒化ケイ素又は二酸化ケイ素などの無機材料から形成されてもよい。パッシベーション層７２は、他の任意の所望の絶縁材料で形成されてもよい。パッシベーション層７２の上に有機平坦化層７４及び７６が形成されてもよい。有機平坦化層７４及び７６は、任意の所望の材料から形成されてもよい。有機平坦化層７４及び７６は同じ材料から形成されてもよいし、異なる材料から形成されてもよい。

有機平坦化層７４と７６との間に金属層８４（ＳＤ２）が形成されてもよい。ディスプレイの、基板の物理的な穴の境界以外の部分では、金属層８４は、ディスプレイ１４の電源配線として機能してもよい。例えば、金属層８４は、（図３に示すように）正の電源配線ＥＬＶＤＤを形成してもよいし、（図３に示すように）接地電源配線ＥＬＶＳＳを形成してもよい。

前述したように、開口部５２の周囲にある境界区域５６の幅を最小化するために（図５参照）、境界区域５６内にデータ線を積層してもよい。図６に示すように、ディスプレイのアクティブ領域では、データ線は、金属層８２によって形成されてもよい。境界区域５６内にデータ線を積層できるようにするために、金属層８２（データ線信号を有する）をディスプレイ内の追加の金属層にビアで電気接続してもよい。したがって、データ線は、金属層８２によって形成された第１の部分と、ディスプレイ内の追加の金属層から形成された追加の部分とを有してもよい。

図７は、データ線が積層されている、ディスプレイの境界区域５６の側断面図である。図７は、図６と同様に、基板２６を、バッファ層６４、ゲート絶縁体６６、層間絶縁層６８及び７０、パッシベーション層７２、並びに有機平坦化層７４及び７６を有して示している。金属層７８及び８０は、図６と同様に形成される。ただし、図７は、基板２６内の開口部５２を示す。図７の実施形態では、開口部５２は、基板内の物理的開口部であり、この開口部内に入出力コンポーネント５４が形成される。代替的な実施形態では、開口部５２は代わりに透明の窓であってもよく、入出力コンポーネント５４はその透明の窓の下に形成されてもよい。

境界区域５６内で、金属層８２は、それぞれが異なるデータ線信号を保持する複数の部分を有してもよい。例えば、部分８２－１は第１のデータ線信号を保持し、部分８２－２は第２のデータ線信号を保持し、部分８２－３は第３のデータ線信号を保持する。換言すれば、各部分は、それぞれのデータ線Ｄの一部を形成する。金属層８２－１は、層間誘電体層７０の上方にとどまっていてもよい。一方、金属層８２－２及び８２－３は、ビアを使用して追加の金属層に電気接続されてもよい。例えば、金属層８２－２は、導電性ビア８６を使用して金属層８４に電気接続されてもよい。このようにして、データ線信号は、金属層８２－２から金属層８４に電気接続される。したがって、ディスプレイのこの部分では、金属層８４は、図６に示すように正の電源配線ＥＬＶＤＤとしてではなく、データ線部分として機能する。導電性ビア８６は、所望される場合、金属層８４と同じ材料から（かつ、同じ堆積工程で）形成されてもよい。

金属層８２及び８４の両方を境界区域５６内のデータ線に使用することは、境界区域５６の幅を縮小するために役立ち得る。ところが、境界区域５６内でデータ線部分として機能する追加の金属層を組み込むことによって、更に、境界区域の最小化が達成され得る。図７に示すように、ゲート絶縁体６６とバッファ層６４の間に金属層８８が形成されてもよい。金属層８２－３は、導電性ビア９０を使用して金属層８８に電気接続されてもよい。このようにして、データ線信号は金属層８２－３から金属層８８に電気接続される。したがって、ディスプレイのこの部分では、金属層８８はデータ線部分として機能する。図７に示す実施形態では、導電性ビア９０は、金属層８２と同じ材料から（かつ、同じ堆積工程で）形成された第１の部分と、金属層７８と同じ材料から（かつ、同じ堆積工程で）形成された第２の部分を有する。この実施例は単なる例示であり、導電性ビア９０は、望ましい任意の数及び種類の金属層から形成されてもよい。

境界区域５６内でデータ線として機能する金属層８８を組み込むことにより、境界区域５６の幅が更に縮小される。所望される場合、重なり合ったデータ線（例えば、全てデータ線として機能する、図７の金属層８４、金属層８２－１、及び金属層８８）間のクロストークを回避するために、データ線のうちの２つ以上が、データ線の重なり合いの面積が低減されるインターレース経路をとってもよい。ただし、金属層８８と金属層８４とを分離すれば、これらのデータ線をクロストークから保護するのに十分であり得る。したがって、金属層８８と金属層８４は境界区域５６内で完全に重なり合っていてもよい。したがって、追加のデータ線として金属層８８を組み込んでも、更に境界幅が必要になることはない。

ディスプレイ１４の境界区域５６はまた、ダム構造９２を含んでもよい。ダム構造９２は、有機平坦化層７６の一部分、追加の誘電体層９４、及びスペーサ層９６を含んでもよい。追加の誘電体層９４は、ディスプレイの画素画定層（ＰＤＬ）と同じ材料から（かつ、同じ堆積工程で）形成されてもよい。スペーサ層９６は、フォトスペーサ層であってもよい。ダム構造９２のこれらの例は、単なる例示である。所望される場合、ダム構造９２は、任意選択で省略されてもよい。ダム構造９２はまた、任意選択で、境界区域５６の内縁上に形成されてもよい。例えば、図７では、ダム構造９２は、境界区域５６の外縁上に形成され、金属層８４、８２－１、及び８８はダム構造９２と開口部５２の間に挟まれている。あるいは、ダム構造９２は、境界区域５６の内縁上に形成されてもよく、開口部５２と金属層８４、８２－１、及び８８との間に挟まれていてもよい。

データ線が物理的開口部５２の周囲に再配線される（かつ、物理的開口部５２の周囲にある境界区域５６内に積層される）図５～図７の例は、物理的開口部の全ての側部にある画素にデータ線信号及びゲート線信号を供給するための１つの選択肢である。図８は１つの代替構成を示し、この構成では、補助データ線経路を使用して、物理的開口部の反対側の画素にデータ線信号を供給する。

図８は、物理的開口部５２をもつ基板２６を有する、例示的なディスプレイの平面図である。図８に示すように、ディスプレイ１４は、ディスプレイ内の画素列に信号を供給するいくつかのデータ線Ｄを有してもよい。データ線Ｄ１などのデータ線の一部は、物理的開口部５２によって遮られていない。したがって、これらのデータ線は、ディスプレイを横切って延びて、列内の個々の画素に信号を供給してもよい（例えば、図２に示すものと同様）。

データ線Ｄ２などのデータ線の一部は、物理的開口部５２によって遮られていてもよい。必要なデータ線信号を物理的開口部５２の両側の画素に供給するために、データ線Ｄ２のそれぞれは、物理的開口部の第１の側に第１のデータ線区画１０２（データ線部分と呼ばれることもある）と、物理的開口部の反対側の第２の側に第２のデータ線区画１０４（データ線部分と呼ばれることもある）とを有してもよい。データ線区画１０２と１０４は、図５のように、物理的開口部の境界の周囲でデータ線の一部分を再配線することによって電気接続されるのではない。代わりに、補助データ線１０６（補助データ線経路１０６、補助データ線区画１０６などと呼ばれることもある）が備わっている。

補助データ線１０６は、ディスプレイの非アクティブ領域（ＩＡ１）内のデータ線区画１０２に、電気接続部１０８で電気接続されている。次に、補助データ線１０６は、ディスプレイのアクティブ領域（ＡＡ）を通って（例えば、画素と画素との間）、ディスプレイの反対側にあるディスプレイの非アクティブ領域まで配線されている。補助データ線１０６はそこで、ディスプレイの非アクティブ領域内のデータ線区画１０４に、電気接続部１１０で電気接続されている。このようにして、データ線区画１０２からの信号は、物理的開口部５２の境界内でのデータ線の再配線を必要とせずに、データ線区画１０４に供給される。したがって、図８では、物理的開口部５２は、非常に小さい境界区域を有することができる（データ線が境界区域を通って再配線されていないため）。それでも、任意選択で、ディスプレイ内のゲート線は物理的開口部の境界区域を通して再配線されてもよい。別の考え得る実施形態では、ディスプレイの両側にデートドライバ回路を設けて、物理的開口部の周りにゲート線を配線する必要性をなくすこともできる。

図９は、補助データ線１０６を示した、図８のディスプレイの非アクティブ領域の側断面図である。図９に示すように、基板層２６上に形成される層には、バッファ層６４及びゲート絶縁層６６などの誘電体層が含まれる。ゲート絶縁層６６の上には、追加の層間誘電体層６８及び７０が形成されてもよい。ゲート絶縁体６６上に第１の金属層７８を形成し、層間誘電体層６８で覆ってもよい。層間誘電体層６８上に第２の金属層８０を形成し、層間誘電体層７０で覆ってもよい。図６に示すように、ディスプレイのアクティブ領域では、金属層７８及び８０がディスプレイ１４のゲート線（Ｇ）として機能する。一方、図９に示すように、ディスプレイの非アクティブ領域では、金属層７８及び８０は、データ線信号の信号経路として機能してもよい（例えば、金属層７８及び８０が、ディスプレイドライバ回路からデータ線Ｄへの信号供給を支援する）。

層間誘電体層７０の上に、追加の金属層（金属層８２）を形成してもよい。図６に関連して示すように、ディスプレイのアクティブ領域では、金属層８２（ＳＤ１）は、ディスプレイ１４のデータ線（例えば、図２のデータ線Ｄ）として機能してもよい。一方、図９に示すように、ディスプレイの非アクティブ領域では、金属層８２は、ディスプレイ１４の電源配線として機能してもよい。例えば、金属層８２は、（図３に示すように）正の電源配線ＥＬＶＤＤを形成してもよいし、（図３に示すように）接地電源配線ＥＬＶＳＳを形成してもよい。金属層８２は、パッシベーション層７２で覆われてもよい。パッシベーション層７２は、窒化ケイ素又は二酸化ケイ素などの無機材料から形成されてもよい。パッシベーション層７２は、他の任意の所望の絶縁材料で形成されてもよい。パッシベーション層７２の上に有機平坦化層７４及び７６が形成されてもよい。有機平坦化層７４及び７６は、任意の所望の材料から形成されてもよい。有機平坦化層７４及び７６は、同じ材料から形成されてもよいし、異なる材料から形成されてもよい。

有機平坦化層７４と７６との間に金属層８４（ＳＤ２）が形成されてもよい。図９に示すように、ディスプレイの非アクティブ領域では、金属層８２は、ディスプレイ１４の電源配線として機能してもよい（図６に示すアクティブ領域と同様）。例えば、金属層８２は、（図３に示すように）正の電源配線ＥＬＶＤＤを形成してもよいし、（図３に示すように）接地電源配線ＥＬＶＳＳを形成してもよい。考え得る一実施形態では、金属層８２及び８４の両方が、図９に示される非アクティブ領域内に正の電源配線ＥＬＶＤＤを形成する。

補助データ線１０６は、パッシベーション層７２の上に形成された金属層から形成されてもよい。補助データ線１０６の上に、有機平坦化層７４が形成されてもよい。補助データ線１０６は、（データ線信号を供給する）金属層８０に、ビア１１２を使用して電気接続されてもよい。換言すれば、導電性ビア１１２は、補助データ線１０６とデータ線区画１０２との間に電気接続部１０８を形成する。図９では、導電性ビア１１２は、補助データ線１０６と同じ材料から（かつ、同じ堆積工程で）形成される。この実施例は単なる例示であり、導電性ビア１１２は、望ましい任意の数及び種類の金属層で形成されてもよい。

補助データ線１０６（例えば、パッシベーション層７２と有機平坦化層７４との間の金属層）は、ディスプレイのアクティブ領域を通って配線されてもよい。ディスプレイの他方の側では、別の電気接続部（１１０）が補助データ線をデータ線区画１０４に電気接続してもよい。

パッシベーション層７２と有機平坦化層７４との間の、補助データ線１０６を形成するために使用される金属層のこの例は、単なる例示である。所望される場合、補助データ線１０６は、ディスプレイ内の別の金属層から形成されてもよいし、ディスプレイ内の複数の金属層から形成されてもよい。しかしながら、パッシベーション層７２と有機平坦化層７４との間（かつ、金属層８２及び８４によって形成されたＥＬＶＤＤ信号経路の間）の金属層を使用することにより、クロストークを防止することができる。

図８の実施例では、ディスプレイのアクティブ領域を通って補助データ線が配線されて、ディスプレイ内の開口部の両側のデータ線区画を電気接続する。図８では、データ線区画への補助データ線の電気接続部は、どちらもディスプレイの非アクティブ領域内にある。しかしながら、この実施例は単なる例示に過ぎない。代わりに、データ線区画への補助データ線の電気接続部が、どちらもディスプレイのアクティブ領域内にあってもよい（図１０のように）。更に別の実施形態では、補助データ線と一方のデータ線区画の電気接続部は、ディスプレイのアクティブ領域内にあってもよく、補助データ線と他方のデータ線区画の電気接続部は、ディスプレイの非アクティブ領域内にあってもよい（図１１のように）。

図１０は、物理的開口部５２をもつ基板２６を有する、例示的なディスプレイの平面図である。図１０に示すように、ディスプレイ１４は、ディスプレイ内の画素列に信号を供給するいくつかのデータ線Ｄを有してもよい。データ線Ｄ１などのデータ線の一部は、物理的開口部５２によって遮られていない。したがって、これらのデータ線は、ディスプレイを横切って延びて、列内の個々の画素に信号を供給してもよい（例えば、図２に示すものと同様）。

データ線Ｄ２などのデータ線の一部は、物理的開口部５２によって遮られていてもよい。必要なデータ線信号を物理的開口部５２の両側の画素に供給するために、データ線Ｄ２のそれぞれは、物理的開口部の第１の側に第１のデータ線区画１０２（データ線部分と呼ばれることもある）と、物理的開口部の反対側の第２の側に第２のデータ線区画１０４（データ線部分と呼ばれることもある）とを有してもよい。データ線区画１０２と１０４は、図５のように、物理的開口部の境界の周囲でデータ線の一部分を再配線することによって電気接続されるのではない。代わりに、補助データ線１０６が設けられている。

補助データ線１０６は、ディスプレイのアクティブ領域（ＡＡ）内のデータ線区画１０２に、電気接続部１０８で電気接続されている。次に、補助データ線１０６は、ディスプレイのアクティブ領域を通って配線されて、ディスプレイのアクティブ領域内のデータ線区画１０４に電気接続部１１０で電気接続されている。このようにして、データ線区画１０２からの信号は、物理的開口部５２の境界内でのデータ線の再配線を必要とせずに、データ線区画１０４に供給される。したがって、図１０では、物理的開口部５２は、非常に小さい境界区域を有することができる（データ線が境界区域を通って再配線されていないため）。それでも、任意選択で、ディスプレイ内のゲート線は、物理的開口部の境界区域を通して再配線されてもよい。別の考え得る実施形態では、ディスプレイの両側にデートドライバ回路を設けて、物理的開口部の周りにゲート線を配線する必要性をなくすこともできる。

図１０では、補助データ線１０６は、パッシベーション層７２と有機平坦化層７４との間の金属層から（図９に示すように）、又は別の所望の金属層から形成されてもよい。水平部分１１４などの、補助データ線１０６の水平部分は、発出イネーブル制御信号ＥＭを画素に供給する信号線の上方に配線されてもよい（発出イネーブル制御信号ＥＭがトランジスタＴ４とＴ５に加えられている、図３を参照）。発出イネーブル制御信号ＥＭを供給する信号線は、ゲート線又は発出線と呼ばれることもある。発出イネーブル制御信号ＥＭを供給するゲート線の上方に補助データ線１０６の水平部分を配線することにより、クロストークが緩和され得る。垂直部分１１６などの、補助データ線１０６の垂直部分は、クロストークを緩和するために、（図９に示されるものと同様の）金属層８２及び８４から形成された正の電力信号供給経路（例えば、ＥＬＶＤＤ供給線）の間に配線されてもよい。

いくつかの実施形態では、ディスプレイのアクティブ領域内で、補助データ線と両方のデータ線区画との間に電気接続部を形成すること（図１０に示すように）が困難なことがある。例えば、物理的開口部５２が大きい場合（多数のデータ線が遮られ、よって、多数の補助データ線が必要となる）、及び／又は物理的開口部がアクティブ領域の縁部に近接して配置されている場合（補助データ線を配線して電気接続部１１０を作るための空間が制限されることを意味する）には、ディスプレイの非アクティブ領域内に、補助データ線とデータ線区画のうちの１つとの間に電気的接続を形成することが望ましいことがある。図１１は、この種類の実施形態を示す。

図１１は、物理的開口部５２をもつ基板２６を有する、例示的なディスプレイの平面図である。図１１に示すように、ディスプレイ１４は、ディスプレイ内の画素列に信号を供給するいくつかのデータ線Ｄを有してもよい。データ線Ｄ１などのデータ線の一部は、物理的開口部５２によって遮られていない。データ線Ｄ２などのデータ線の一部は、物理的開口部５２によって遮られていてもよい。必要なデータ線信号を物理的開口部５２の両側の画素に供給するために、データ線Ｄ２のそれぞれは、物理的開口部の第１の側に第１のデータ線区画１０２と、物理的開口部の反対側の第２の側に第２のデータ線区画１０４とを有してもよい。データ線区画１０２と１０４は、図５のように、物理的開口部の境界の周囲でデータ線の一部分を再配線することによって電気接続されるのではない。代わりに、補助データ線１０６が設けられている。

補助データ線１０６は、ディスプレイのアクティブ領域（ＡＡ）内のデータ線区画１０２に、電気接続部１０８で電気接続されている。次に、補助データ線１０６は、ディスプレイのアクティブ領域を通って配線されて、ディスプレイの非アクティブ領域内のデータ線区画１０４に電気接続部１１０で電気接続されている。このようにして、データ線区画１０２からの信号は、物理的開口部５２の境界内でのデータ線の再配線を必要とせずに、データ線区画１０４に供給される。したがって、図１１では、物理的開口部５２は、非常に小さい境界区域を有することができる（データ線が境界区域を通って再配線されていないため）。それでも、任意選択で、ディスプレイ内のゲート線は、物理的開口部の境界区域を通して再配線されてもよい。別の考え得る実施形態では、ディスプレイの両側にデートドライバ回路を設けて、物理的開口部の周りにゲート線を配線する必要性をなくすこともできる。

図１１では、補助データ線１０６は、パッシベーション層７２と有機平坦化層７４との間の金属層から（図９に示すように）、又は別の所望の金属層から形成されてもよい。図１０に関連して説明したように、水平部分１１４などの、補助データ線１０６の水平部分は、発出イネーブル制御信号ＥＭを画素に供給する信号線の上方に配線されてもよい。垂直部分１１６などの、補助データ線１０６の垂直部分は、（図９に示されるものと同様の）金属層８２及び８４から形成された正の電力信号供給経路（例えば、ＥＬＶＤＤ供給ライン）の間に配線されてもよい。

所望される場合、単一のディスプレイ内のデータ線に、前述の構成のうちの２つ以上を使用してもよい。各データ線は、アクティブ領域内の物理的開口部の両側の画素にデータ信号を供給するために、前述の構成のいずれを使用してもよい。

一実施形態によれば、ディスプレイが提供され、そのディスプレイは、画素のアレイを含むアクティブ領域とアクティブ領域内の開口部とを有する基板を含み、開口部は、対向する第１及び第２の側部を有して境界区域によって囲まれており、複数のゲート線が画素のアレイに結合され、複数のデータ線が画素のアレイに結合されており、複数のデータ線のサブセットが境界区域内で第１の側部から第２の側部へ再配線され、複数のデータ線の当該サブセットが、第１の平面内に形成された第１の金属層と、第１の平面より低い第２の平面内に形成された第２の金属層と、第２の平面より低い第３の平面内に形成された第３の金属層とから形成された部分を境界領域内に有する。

別の実施形態によれば、複数のゲート線は、少なくとも部分的に、第２の平面と第３の平面との間に挟まれた第４の平面内に形成された第４の金属層から形成される。

別の実施形態によれば、複数のゲート線は、少なくとも部分的に、第４の平面とは異なり、かつ、第２の平面と第３の平面との間に挟まれた第５の平面内に形成された第５の金属層から形成される。

別の実施形態によれば、ディスプレイは、第１の金属層と第２の金属層との間に挟まれた少なくとも備わる第１の誘電体層と、第２の金属層と第３の金属層との間に挟まれた少なくとも備わる第２の誘電体層とを含む。

別の実施形態によれば、少なくとも備わる第１の誘電体層は、有機平坦化層と無機パッシベーション層とを含む。

別の実施形態によれば、少なくとも備わる第２の誘電体層は、層間絶縁層とゲート絶縁層とを含む。

別の実施形態によれば、ディスプレイは、第３の金属層と基板との間に挟まれたバッファ層を含む。

別の実施形態によれば、ディスプレイは、第３の金属層を第２の金属層の第１の部分に電気接続する第１の導電性ビアと、第１の金属層を第２の金属層の第２部分に電気接続する第２の導電性ビアとを含む。

別の実施形態によれば、第１の金属層は、境界区域に形成された第１の部分と、第１の部分に電気接続されていない、アクティブ領域内に形成された第２の部分とを有し、第１の金属層の第１の部分は複数のデータ線の当該サブセットのうちのいくつかを形成し、第１の金属層の第２の部分は正の電源配線を形成する。

別の実施形態によれば、第２の金属層は、境界区域に形成された第１の部分と、アクティブ領域内に形成された第２の部分とを有し、第２の金属層の第１の部分は複数のデータ線の当該サブセットのうちのいくつかを形成し、第２の金属層の第２の部分は、複数のデータ線のうちの、アクティブ領域内にある部分を形成する。

別の実施形態によれば、第３の金属層はアクティブ領域上にない。

別の実施形態によれば、ディスプレイは、基板上に形成された無機バッファ層と、無機バッファ層上に形成されたゲート絶縁層とを含み、第３の金属層はゲート絶縁層と無機バッファ層との間に挟まれている。

別の実施形態によれば、ディスプレイは、第１及び第２の層間誘電体層と、第１の層間誘電体層で覆われた第４の金属層と、第２の層間誘電体層で覆われた第５の金属層とを含む。

別の実施形態によれば、ディスプレイは、第２の層間誘電体層上に形成された無機パッシベーション層を含み、第２の金属層は無機パッシベーション層と第２層間誘電体層との間に挟まれ、第１の有機平坦化層が無機パッシベーション層上に形成され、第２の有機平坦化層が第１の有機平坦化層上に形成され、第３金属層は第１の有機平坦化層と第２の有機平坦化層との間に挟まれている。

一実施形態によれば、ディスプレイが提供され、そのディスプレイは、画素のアレイを含むアクティブ領域とアクティブ領域内の開口部とを有する基板を含み、開口部は対向する第１及び第２の側部を有し、複数のゲート線が画素のアレイに結合され、複数のデータ線が画素のアレイに結合されており、複数のデータ線のうちの第１の部分は開口部によって遮られておらず、複数のデータ線のうちの第２の部分は開口部によって遮られており、複数のデータ線のうちの第２の部分の各データ線は、開口部の第１の側部の第１のデータ線区画と、開口部の第２の側部の第２のデータ線区画と、アクティブ領域を通って配線され、かつ、第１のデータ線区画及び第２のデータ線区画に電気接続された補助データ線経路とを有する。

別の実施形態によれば、基板は、アクティブ領域を取り囲む非アクティブ領域を有し、非アクティブ領域は対向する第１及び第２の側部を有し、各補助データ線経路は非アクティブ領域の第１の側部のそれぞれの第１のデータ線区画に電気接続され、また、各補助データ線経路は非アクティブ領域の第２の側部のそれぞれの第２のデータ線区画に電気接続される。

別の実施形態によれば、基板は、アクティブ領域を取り囲む非アクティブ領域を有し、各補助データ線経路はアクティブ領域内のそれぞれの第１のデータ線区画に電気接続され、また、各補助データ線経路は非アクティブ領域内のそれぞれの第２のデータ線区画に電気接続される。

別の実施形態によれば、各補助データ線経路はアクティブ領域内のそれぞれの第１のデータ線区画に電気接続され、また、各補助データ線経路はアクティブ領域内のそれぞれの第２のデータ線区画に電気接続される。

別の実施形態によれば、各補助データ線経路は、少なくとも部分的には第１の金属層によって形成され、第１の金属層は、正の電源配線を形成する第２の金属層と第３の金属層との間に挟まれる。

別の実施形態によれば、補助データ線経路のうちの第１の補助データ線経路は、発出イネーブル制御信号を保持する発出線の上方に配線された第１の金属層から形成された水平部分を有し、第１の補助データ線経路は水平部分に電気接続された垂直部分を有し、垂直部分は正の電源分配経路の上方に配線された第２の金属層から形成される。

一実施形態によれば、画素のアレイを含むアクティブ領域及びアクティブ領域内の開口部を有するディスプレイが提供され、そのディスプレイは、アクティブ領域内の物理的開口部と、複数のデータ線の少なくとも一部を形成する第１の金属層と、第１の金属層の上方に形成された第２の金属層であって、正の電源分配経路を形成する、アクティブ領域内の第１の部分、及び、複数のデータ線のうちの第１のサブセットの追加部分を形成する、物理的開口部の周囲にある境界区域内の第２の部分を有する第２の金属層と、物理的開口部の周囲にある境界区域内の第１の金属層の下に形成される第３の金属層であって、複数のデータ線のうちの第２のサブセットの追加部分を形成する、第３の金属層と、を含んで提供される。

別の実施形態によれば、第２の金属層は、物理的開口部の周囲にある境界区域内の第３の金属層と重なり合う。

前述は単なる例示であり、当業者は、記載された実施形態の範囲及び精神から逸脱することなく、様々な修正を行うことができる。前述の実施形態は、個別に又は任意の組み合わせで実装することができる。

Claims (22)

1. 画素のアレイを含むアクティブ領域と前記アクティブ領域内の開口部とを有する基板であって、前記開口部が対向する第１及び第２の側部を有して境界区域によって囲まれている、基板と、
   前記画素のアレイに結合された複数のゲート線と、
   前記画素のアレイに結合された複数のデータ線であって、前記複数のデータ線のサブセットが前記境界区域内で前記第１の側部から前記第２の側部へ再配線され、前記複数のデータ線の前記サブセットが、第１の平面内に形成された第１の金属層と、前記第１の平面より低い第２の平面内に形成された第２の金属層と、前記第２の平面より低い第３の平面内に形成された第３の金属層と、から形成された部分を前記境界領域内に有する、複数のデータ線と、
   を備える、ディスプレイ。
2. 前記複数のゲート線が、少なくとも部分的に、前記第２の平面と前記第３の平面との間に挟まれた第４の平面内に形成された第４の金属層から形成されている、請求項１に記載のディスプレイ。
3. 前記複数のゲート線が、少なくとも部分的に、前記第４の平面とは異なり、かつ、前記第２の平面と前記第３の平面との間に挟まれた、第５の平面内に形成された第５の金属層から形成されている、請求項２に記載のディスプレイ。
4. 前記第１の金属層と前記第２の金属層との間に挟まれた、少なくとも備わる第１の誘電体層と、
   前記第２の金属層と前記第３の金属層との間に挟まれた、少なくとも備わる第２の誘電体層と、
   を更に備える、請求項１に記載のディスプレイ。
5. 前記少なくとも備わる前記第１の誘電体層が、有機平坦化層と無機パッシベーション層とを含む、請求項４に記載のディスプレイ。
6. 前記少なくとも備わる前記第２の誘電体層が、層間絶縁層とゲート絶縁層とを含む、請求項４に記載のディスプレイ。
7. 前記第３の金属層と前記基板との間に挟まれたバッファ層を更に備える、
   請求項４に記載のディスプレイ。
8. 前記第３の金属層を前記第２の金属層の第１の部分に電気接続する第１の導電性ビアと、
   前記第１の金属層を前記第２の金属層の第２の部分に電気接続する第２の導電性ビアと、
   を更に備える、請求項４に記載のディスプレイ。
9. 前記第１の金属層が、前記境界区域に形成された第１の部分と、前記第１の部分に電気接続されていない、前記アクティブ領域内に形成された第２の部分とを有し、前記第１の金属層の前記第１の部分が前記複数のデータ線の前記サブセットのうちいくつかを形成し、前記第１の金属層の前記第２の部分が正の電源配線を形成する、請求項１に記載の方法。
10. 前記第２の金属層が、前記境界区域に形成された第１の部分と、前記アクティブ領域内に形成された第２の部分とを有し、前記第２の金属層の前記第１の部分が前記複数のデータ線の前記サブセットのうちいくつかを形成し、前記第２の金属層の前記第２の部分が、前記複数のデータ線のうちの、前記アクティブ領域内にある部分を形成する、請求項９に記載のディスプレイ。
11. 前記第３の金属層が前記アクティブ領域上にない、請求項１０に記載のディスプレイ。
12. 前記基板上に形成された無機バッファ層と、
    前記無機バッファ層上に形成されたゲート絶縁層であって、前記ゲート絶縁層と前記無機バッファ層との間に前記第３の金属層が挟まれている、ゲート絶縁層と、
    を更に備える、請求項１に記載のディスプレイ。
13. 第１及び第２の層間誘電体層と、
    前記第１の層間誘電体層で覆われた第４の金属層と、
    前記第２の層間誘電体層で覆われた第５の金属層と、
    を更に備える、請求項１２に記載のディスプレイ。
14. 前記第２の層間誘電体層上に形成された無機パッシベーション層であって、前記無機パッシベーション層と前記第２層間誘電体層との間に前記第２の金属層が挟まれている、無機パッシベーション層と、
    前記無機パッシベーション層上に形成された第１の有機平坦化層と、
    前記第１の有機平坦化層上に形成された第２の有機平坦化層であって、前記第１の有機平坦化層と前記第２の有機平坦化層との間に前記第３の金属層が挟まれている、第２の有機平坦化層と、
    を更に備える、請求項１３に記載のディスプレイ。
15. 画素のアレイを含むアクティブ領域と前記アクティブ領域内の開口部とを有する基板であって、前記開口部が対向する第１及び第２の側部を有する、基板と、
    前記画素のアレイに結合された複数のゲート線と、
    前記画素のアレイに結合された複数のデータ線であって、前記複数のデータ線のうちの第１の部分は前記開口部によって遮られておらず、前記複数のデータ線のうちの第２の部分は前記開口部によって遮られており、前記複数のデータ線のうちの前記第２の部分の各データ線は、前記開口部の前記第１の側部の第１のデータ線区画と、前記開口部の前記第２の側部の第２のデータ線区画と、前記アクティブ領域を通って配線され、かつ、前記第１のデータ線区画及び前記第２のデータ線区画に電気接続された補助データ線経路とを有する、複数のデータ線と、
    を備える、ディスプレイ。
16. 前記基板が前記アクティブ領域を取り囲む非アクティブ領域を有し、前記非アクティブ領域が対向する第１及び第２の側部を有し、前記各補助データ線経路が前記非アクティブ領域の前記第１の側部のそれぞれの第１のデータ線区画に電気接続され、また、前記各補助データ線経路が前記非アクティブ領域の前記第２の側部のそれぞれの第２のデータ線区画に電気接続されている、請求項１５に記載のディスプレイ。
17. 前記基板が、前記アクティブ領域を取り囲む非アクティブ領域を有し、前記各補助データ線経路が前記アクティブ領域内のそれぞれの第１のデータ線区画に電気接続され、また、前記各補助データ線経路が前記非アクティブ領域内のそれぞれの第２のデータ線区画に電気接続されている、請求項１５に記載のディスプレイ。
18. 前記各補助データ線経路が前記アクティブ領域内のそれぞれの第１のデータ線区画に電気接続され、前記各補助データ線経路が前記アクティブ領域内のそれぞれの第２のデータ線区画に電気接続されている、請求項１５に記載のディスプレイ。
19. 前記各補助データ線経路が、少なくとも部分的に第１の金属層によって形成され、前記第１の金属層が、正の電源配線を形成する第２の金属層と第３の金属層との間に挟まれる、請求項１５に記載のディスプレイ。
20. 前記補助データ線経路のうちの第１の補助データ線経路は、発出イネーブル制御信号を保持する発出線の上方に配線された第１の金属層から形成された水平部分を有し、前記第１の補助データ線経路が前記水平部分に電気接続された垂直部分を有し、前記垂直部分が正の電源分配経路の上方に配線された第２の金属層から形成されている、請求項１５に記載のディスプレイ。
21. 画素のアレイを含むアクティブ領域と前記アクティブ領域を取り囲む非アクティブ領域とを有するディスプレイであって、
    前記アクティブ領域内に物理的開口部を有する基板と、
    複数のデータ線の少なくとも一部分を形成する第１の金属層と、
    前記第１の金属層の上に形成された第２の金属層であって、正の電源分配経路を形成する、前記アクティブ領域内の第１の部分、及び、前記複数のデータ線のうちの第１のサブセットの追加部分を形成する、前記物理的開口部の周囲にある境界区域内の第２の部分を有する、第２の金属層と、
    前記物理的開口部の周囲にある前記境界区域内の前記第１の金属層の下に形成される第３の金属層であって、前記複数のデータ線のうちの第２のサブセットの追加部分を形成する、第３の金属層と、
    を備える、ディスプレイ。
22. 前記第２の金属層が、前記物理的開口部の周囲にある前記境界区域内の前記第３の金属層と重なり合う、請求項２１に記載のディスプレイ。

Images