JP2022022911A - 結像光学系、露光装置、および物品製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】収差の補正精度の向上に有利な技術を提供する。【解決手段】複数のミラーを含み、物体面から発した光束を前記複数のミラーの反射面を介して像面上に結像させる結像光学系が提供される。結像光学系は、前記複数のミラーのうちの少なくとも２つのミラーの裏面に力を加えて該少なくとも２つのミラーの反射面の形状を調整する複数の調整部を有する。前記複数の調整部による力の作用点を当該反射面に対して規定される光軸の方向に射影した点を補正点と定義するとき、前記物体面の一点から発した光束内の第１光線と第２光線が第１反射面と第２反射面で反射する際、前記第１光線は、前記第１反射面の補正点に入射し、前記第２反射面の補正点には入射することはなく、かつ、前記第２光線は、前記第１反射面の補正点に入射することなく前記第２反射面の補正点に入射するように、前記作用点が設定される。【選択図】 図１

Description

本発明は、結像光学系、露光装置、および物品製造方法に関する。

露光装置は、半導体デバイスや液晶表示装置等の製造工程であるリソグラフィ工程において、原版（レチクル又はマスク）のパターンを、投影光学系を介して感光性の基板（表面にレジスト層が形成されたウエハやガラスプレート等）に転写する装置である。露光装置の投影光学系には、一般に、略同心状に配置された凹面鏡と凸面鏡を有し、光軸外の輪帯状良像域を用いてマスクのパターンを基板上に結像する反射型投影光学系が使用される。そのような光学系において、収差補正のために、大口径の凹面鏡を可変鏡とすることが提案されている（例えば、特許文献１，２）。可変鏡には凹面鏡の面形状を補正するために力を加える複数の補正点が配置される。光学性能的には、光束内にできるだけ多くの補正点を設けることが望ましい。

特開２０１９－２８３５２号公報 特開２０１７－２１１４９３号公報

反射型投影光学系に可変鏡を適用する場合、マスク上の一点から発した光束は、基板上に結像するまでに、ミラーで複数回反射される。特に、大口径の凹面鏡ではその中心線に対して対称の領域で２回反射される。従来の可変鏡においては、複数の補正点が点対称に配置されていた。これでは、マスク上の一点から発した光束は、その広がりの中で、同じ点が２回重複して補正されることになる。このことは、光束内で補正できる点数が実質的には増えていないことを意味する。

また、複数の補正点のそれぞれは複雑なメカ部材で構成されており、しかも、駆動時に熱を発生するために、隣り合う補正点の間隔を容易に近づけることができない。そのため、１つの反射面に多くの補正点を配置することは困難である。

以上のことから、光束に対して、より効果的な面形状補正点の配置が必要とされている。本発明は、上記の課題を鑑み、収差の補正精度の向上に有利な技術を提供する。

本発明の一側面によれば、光を反射する反射面および該反射面の反対側の面である裏面を有する複数のミラーを含み、物体面から発した光束を前記複数のミラーの前記反射面を介して像面上に結像させる結像光学系であって、前記複数のミラーのうちの少なくとも２つのミラーの前記裏面に力を加えて該少なくとも２つのミラーの前記反射面の形状を調整する複数の調整部を有し、前記複数の調整部による力の作用点を当該反射面に対して規定される光軸の方向に射影した点を補正点と定義するとき、前記物体面の一点から発した光束内の第１光線と第２光線が第１反射面と第２反射面で反射する際、前記第１光線は、前記第１反射面の補正点に入射し、前記第２反射面の補正点には入射することはなく、かつ、前記第２光線は、前記第１反射面の補正点に入射することなく前記第２反射面の補正点に入射するように、前記作用点が設定される、ことを特徴とする結像光学系が提供される。

本発明によれば、収差の補正精度の向上に有利な技術が提供される。

第１実施例の投影光学系の光路図。 従来例における可変鏡のアクチュエータの配置図。 マスク面上の円弧状露光領域を示す図。 従来の凹面鏡上の有効光束領域を示す模式図。 従来の凹面鏡上の有効光束領域と補正点との位置関係を示す図。 第１実施例における凹面鏡上の有効光束領域を示す光学トレース図。 第１実施例における凹面鏡上の有効光束領域を示す模式図。 第１実施例における有効光束領域と補正点との位置関係を示す図。 第１実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図。 第２実施例における有効光束領域と補正点との位置関係を示す図。 第２実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図。 第３実施例における平面鏡上の有効光束領域と補正点との位置関係を示す図。 第３実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図。 第４実施例における平面鏡上の有効光束領域と補正点との位置関係を示す図。 第４実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図。 第５実施例の投影光学系の光路図。 第５実施例における第１および第２凹面鏡上の有効光束領域と補正点との位置関係を示す模式図。 第５実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図。 第６実施例における第１および第２平面面鏡上の有効光束領域と補正点との位置関係を示す模式図。 第６実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図。 第７実施例における第１平面鏡上の有効光束領域と補正点との位置関係を示す図。 第７実施例における凸鏡上の有効光束領域と補正点との位置関係を示す図。 第７実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図。 第８実施例における凸鏡上の有効光束領域と補正点との位置関係を示す図。 第８実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図。 第１、第２実施例における露光装置の構成を示す図。 第３、第４実施例における露光装置の構成を示す図。 第５実施例における露光装置の構成を示す図。 第６実施例における露光装置の構成を示す図。 第７実施例における露光装置の構成を示す図。

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

図２８は、実施形態における露光装置の構成を示す図である。本明細書において、水平面をＸＹ平面とするＸＹＺ座標系において方向が示される。一般には、基板Ｐはその表面が水平面（ＸＹ平面）と平行になるように基板ステージ４０１の上に置かれる。よって以下では、基板Ｐの表面に沿う平面内で互いに直交する方向をＸ軸およびＹ軸とし、Ｘ軸およびＹ軸に垂直な方向をＺ軸とする。ただし、露光装置の構成上、Ｚ軸とＹ軸との関係は折り曲げミラーによって相互に変換されうるため、参照する図面に応じてＺ軸とＹ軸との関係が入れ替わる場合がある。

照明光学系１は、光源１０１、ＮＤフィルタ１０２、オプティカルインテグレータ１０３、絞り１０４、コンデンサレンズ１０５、スリット１０６、レンズ１０７、ミラー１０８、レンズ１０９を含みうる。光源１０１は、高圧水銀ランプ等の紫外線の光を発する。ＮＤフィルタ１０２は、所定の透過率を有し、光源１０１から発せられた光の強度を調整する。オプティカルインテグレータ１０３は、例えばフライアイレンズで構成される。フライアイレンズは、複数の微小レンズの集合からなり、その光射出面近傍に複数の２次光源が形成される。絞り１０４は、オプティカルインテグレータ１０３により形成された２次光源の集合の総体的な形状を決定するための絞りである。２次光源の集合の総体的な形状は照明形状と呼ばれる。コンデンサレンズ１０５は、オプティカルインテグレータ１０３からの光でスリット１０６をケーラー照明している。スリット１０６は、光源からの光を整形する。スリット１０６の開口部は、マスキングブレードによってマスク上を照射する形状に形成されている。スリット１０６を通過した光はレンズ１０７、ミラー１０８、レンズ１０９を介しマスクＭを照射する。

マスクステージ２０１は、マスクＭを保持して、Ｙ軸方向に移動可能である。レーザ干渉計２０２は、マスクステージ２０１の位置を計測する。

投影光学系３は、光を反射する反射面および該反射面の反対側の面である裏面を有する複数のミラーを含み、物体面から発した光束を複数のミラーの反射面を介して像面上に結像させる結像光学系である。具体的には、投影光学系３は、マスクＭに描画されたパターン（例えば回路パターン）を、感光材が塗布された基板である基板Ｐ上に投影する。投影光学系３は、いわゆるオフナー（Ｏｆｆｎｅｒ）型光学系である。オフナー光学系の場合、良好な像領域を確保するためにマスクＭには円弧形状の光が照射される。そのためにスリット１０６の光透過部（開口部）の形状、基板Ｐへ到達する露光光の照射形状も円弧形状となっている。マスクＭのパターンを透過した光は、第１平面鏡Ｔ１、凹面鏡Ｍｏの第１反射領域Ｍｏａ、凸面鏡Ｍｔ、凹面鏡Ｍｏの第２反射領域Ｍｏｂ、第２平面鏡Ｔ２の順に反射した後に基板Ｐに到達する。これにより、マスクＭのパターンが基板Ｐ上に転写される。

なお、ここでは、凹面鏡Ｍｏは第１反射領域Ｍｏａおよび第２反射領域Ｍｏｂを含む１つのミラーとして記載されている。しかし、第１反射領域Ｍｏａと第２反射領域Ｍｏｂにおいて２回反射されることから、実質的には凹面鏡Ｍｏは、第１反射領域Ｍｏａを有する第１凹面鏡と、第２反射領域Ｍｏｂを有する第２凹面鏡とに分かれて構成されているものと実質的に同じである。もっとも、図２６の投影光学系は等倍結像することを志向しており別体構成とする必要がないため、ここでは第１凹面鏡と第２凹面鏡は同一の光学部材として構成され、それゆえ凹面鏡Ｍｏが１つのミラーとして記載されている。拡大系や縮小系を志向して凹面鏡Ｍｏを２つに分割した構成については後述する。

基板ステージ４０１は、基板Ｐを保持し、少なくともＸ方向およびＹ方向に移動可能である。基板ステージ４０１が基板Ｐを保持してマスクステージ２０１と同期してＹ方向に駆動することにより、基板Ｐの走査露光が行われうる。制御部５は、例えば、ＣＰＵおよびメモリを含むコンピュータで構成され、走査露光を含む露光装置の動作を統括的に制御する。

ユーザは、操作部６を介して、露光装置の各種パラメータの設定を行うことができる。入力されたパラメータの値は制御部５に送信され、制御部５によって露光装置内の各部が調整されうる。

本実施形態では、光軸外の輪帯状良像域を用いてパターンの投影を行う投影光学系３において、複数のミラーのうち少なくとも２つのミラーを可変鏡とする。そして、その面形状を効果的に補正することで、画面内での倍率やディストーション、フォーカス、非点収差等の光学収差が改善される。例えば、投影光学系３は、実質的に第１凹面鏡と第２凹面鏡とを含む凹面鏡Ｍｏを可変鏡とし、凹面鏡Ｍｏの裏面の複数箇所に力を加える複数の調整部７を備える。複数の調整部７のそれぞれは、ボイスコイルモータ等のアクチュエータによって構成されうる。

本明細書において、可変鏡における複数の調整部７による力の作用点を調整点ともいう。また、調整点を可変鏡（例えば、凹面鏡）に対して規定される光軸の方向に可変鏡の反射面上に射影した点を、補正点と定義する。なお、ここでいう「点」とは、面積を持たない仮想上の点のことである。

図２は、特許文献１（特開２０１９－２８３５２号公報）に開示されている投影光学系に使用される凹面鏡を可変鏡とした際のアクチュエータの配置例である。図２において、一対のアクチュエータ要素ａｃ１（例えば磁石）とａｃ２（例えばコイル）とで構成された調整点Ａｃが、反射鏡の裏面側に、光軸断面内で、円周方向と径方向（動径が延びる方向）に複数配列されている。図２の例においては、これらは光軸に対して点対称に配置されていて、特許文献２（特開２０１７－２１１４９３号公報）で示されるように、光学収差や面変位量に基づく補正指令値を受け駆動される。このような構成によって反射面側の面形状の変形がなされる。

次に、凹面鏡上での光束広がりと補正点との位置関係について述べる。図３、図４を参照して、凹面鏡上の有効光束について説明する。図３は、マスク面Ｍ上の円弧状露光領域を示す図である。上記したように、照明光学系１の内部にあるスリット１０６の開口部は円弧状の形状を持つ。このスリット１０６によって、投影光学系３の持つ軸外の輪帯状良像域のみが選択的に照明される。図３は、その領域を示しており、Ｘ軸方向に露光幅Ｗ、Ｙ軸方向にスリット幅Ｓｗの照明領域が形成されている。図３において、マスク面Ｍ上のＹ方向は、後述する投影光学系３の光線図である図１における紙面内横方向に対応していて、この方向に、マスクと基板が同期走査されて、基板全面を露光する。図３において、Ｒは、輪帯状露光領域を形成する円弧の最外半径であり、円弧の中心は本投影光学系の光軸ｏに一致する構成をとる。この円弧をＹ方向（走査方向）にＳｗだけずらした位置に最内円弧が存在する。

このような照明領域を設けることによって、マスクと基板が走査露光される際に、露光幅全域（Ｘ方向）にわたり均一な積算露光量を得ることが可能となる。なお、均一な積算露光量を得るためには、図３と異なり、円弧の最内半径の中心を光軸ｏに一致させて、最内半径をＹ方向にＳｗだけずらした位置に最外円弧を形成することも可能である。図３中、点Ｃ１は、Ｙ軸上で円弧の最高点を示し、点Ｃ２は、最低点を示している。また、点Ｒ２、Ｌ２は、円弧領域内で、Ｙ軸からＸ方向に最も離れた左右の円弧最低点を示している。マスク上の一点から発した光束は、基板上に結像するまでに、ミラーで複数回反射される。大口径の凹面鏡ではその中心に対して点対称の領域で２回反射される。

図４は、凹面鏡Ｍｏ上の有効光束領域を示す模式図である。厳密には、投影光学系３の光軸（Ｚ軸方向に延びる）に垂直で凹面鏡Ｍｏの光軸を通る面に光束を投影した図であり、したがって、図４のＹ軸は図１のＺ軸に対応する。図１の詳細については、後述の実施例１において述べる。二点鎖線で囲まれた領域ＥＡ１は、凹面鏡で１回目に反射する際の有効光束領域であり、破線で囲まれた領域ＥＡ２は、凹面鏡で２回目に反射する際の有効光束領域である。ここで、円弧中央部の点Ｃ２から発し、凹面鏡で１回目に反射する光束（Ｃ２を中心とするφ２）と、凹面鏡で２回目に反射する光束（Ｃ２２を中心とするφ２２）が図示されている。また、円弧右端部の点Ｒ２から発し、凹面鏡で１回目に反射する光束（Ｒ２を中心とするφｒ）と、凹面鏡で２回目に反射する光束（Ｒ２２を中心とするφｒ２）も図示されている。

図５は、図２と図４を重ね合わせた図であり、補正点列の配置状態と凹面鏡上の有効光束領域の関係を示す図である。図５のＹ軸は、図４と同様、図１のＺ軸に対応する。円弧上の点Ｃ２やＲ２から発した光束内に面形状を補正する点列が存在しているのが分かる。ここで注目すべき点は、凹面鏡上で１回目に反射する光束と２回目に反射する光束は、光軸に対して点対称の配置関係にあるのに加えて、図２のように、凹面鏡上の補正点列も点対称に配置されている点である。これでは、マスク上の一点から発した光束は、その広がりの中で、同じ点を２回重複して補正されることになる。これは実効的な補正点数が少ないことを意味し、以下の課題を有する。光学性能的には、光束内にできるだけ多くの補正点を設けて、Zernike展開項に代表される高次収差を補正する必要がある。今後、高ＮＡ化が進むと、益々、この要求が強まってゆく。また一方では、夫々の補正点は複雑なメカ部材で構成されており、しかも、駆動時に熱を発生するために、隣り合う補正点の間隔を容易に近づけることができない。換言すれば、１つの反射面に多くの補正点を配置できない。したがって、光束に対して、より効果的な面形状補正点列の配置が必要となってくる。このような課題を解決するための構成例を以下の実施例において説明する。

（第１実施例）
図１は、第１実施例における投影光学系３の光線図である。マスク面Ｍ上の点、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｒ２、Ｌ２は、図３に示されていて、これらの点から発した光束は、マスク面直下の光学部材Ｇ１を通過後、第１平面鏡Ｔ１の作用で光路を直角に曲げられ、凹面鏡Ｍｏに入射する。凹面鏡Ｍｏで反射された光束は、光軸ｏｏ’近傍にある光学部材Ｇ２を通過後、凸面鏡Ｍｔに入射する。凸面鏡Ｍｔは投影光学系３の絞り面に位置する。凸面鏡Ｍｔで反射した光束は、再び、光学部材Ｇ２を通過後、凹面鏡Ｍｏに入射する。凹面鏡Ｍｏで、再度、反射した光束は、第２平面鏡Ｔ２に進行し、この作用で光路を直角に曲げられ、基板Ｐ直上の光学部材Ｇ３を通過し、基板Ｐ上に結像する。上記の、マスクの近傍と基板の近傍のそれぞれに配置された光学部材Ｇ１，Ｇ３は、屈折力を持つ光学部材であり、それぞれ例えば非球面形状を有するレンズを含みうる。

図１において、マスク面上の点Ｒ２，Ｌ２から発した光束のうち、凹面鏡Ｍｏ上で光軸ｏｏ’に最も近い点と光軸ｏｏ’との距離Ｄが示されている。なお、この投影光学系３は等倍系であるため、投影光学系３の絞り面に位置する凸面鏡Ｍｔに対して光学系や光路は上下対称となる。よって、光軸ｏｏ’からの距離は上下ともＤに等しい。本実施例の結像倍率は等倍であり、一例において、開口数（ＮＡ）は０．１３５、露光幅は８２０ｍｍである。円弧半径は６００ｍｍで、スリット幅は６０ｍｍである。また、露光波長としては、３００ｎｍから３６５ｎｍの帯域のＤＵＶ光を用い、これらに対して収差補正が行われる。これらを実現するための各光学部材の曲率半径Ｒ、間隔Ｄ、硝子部材の光学屈折率Ｎ、および対応する光学部材の参照符号が、下の表１にまとめられている。なお、光学部材のいくつかは非球面で構成されていて、非球面形状を定義する式は、以下の式１で与えられる。各係数の例は下の表２に示されている。

z＝rh²／(1+(1-(1+k)r²h²)^1/2)
＋Ah⁴＋Bh⁶＋Ch⁸＋Dh¹⁰＋Eh¹²＋Fh¹⁴＋Gh¹⁶＋Hh¹⁸＋Jh²⁰ …（式１）
ここで、rは表１における1/Rである。

ここで、図６および図７を用いて、凹面鏡Ｍｏ上の有効光束について説明する。図６は、本実施例における凹面鏡Ｍｏ上の有効光束領域を示す光学トレース図である。図６のＹ軸は図１のＺ軸に対応する。この図から、図３におけるマスク面Ｍ上の円弧領域内で、Ｘ方向に５点、Ｙ方向に３点、計１５点から発した結像光束が、凹面鏡Ｍｏ上で円の集合を形成しているのがわかる。図６において、φは、マスク上の１点から発した光束の凹面鏡Ｍｏ上での有効光束の直径であり、Ｄは、図１で示したように、有効光束群とＸ軸との最小接近距離である。

図７は、図１の光学系における凹面鏡Ｍｏ上の有効光束領域を示す模式図である。厳密には、図７は、光軸ｏｏ’に垂直で、凹面鏡Ｍｏの光軸を通る面に光束を投影した図である。したがって、図７のＹ軸は図１のＺ軸に対応する。図１において、第１平面鏡Ｔ１で折り曲げられた光束は、凹面鏡Ｍｏに入射する。本実施例の場合、マスク面と基板面では主光線が概テレセントリックになるように設計されているため、マスク面Ｍ上の各点（Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｒ２、Ｌ２）から発した結像光束の各主光線は、光軸ｏｏ’に概平行に進行し、凹面鏡Ｍｏに入射する。したがって、凹面鏡Ｍｏ上では、図３の円弧領域がそのまま投影され、かつ、結像光束の広がった分が加算されて、光束の有効領域が決定される。図７において、一点鎖線の円弧領域が、図３で示されるマスク面上の円弧領域に等しく、ｒは各点で広がった光束の半径を示している。具体的には、ｒはマスク面Ｍから凹面鏡Ｍｏに至る光学距離と結像光束の開口数（ＮＡ）との積に概ね等しい。図７において、円弧のそり量Ａｎは次式で定義される。

Ａｎ ＝ Ｒ－ √（Ｒ＊Ｒ－（Ｗ／２）＊（Ｗ／２））
したがって、凹面鏡Ｍｏ上での有効光束領域は、図７において二点鎖線で示されているが、そのＹ方向への広がり幅は、これまで定義した数値を用いると、Ｓｗ＋２ｒ＋Ａｎで表される。また、Ｘ方向への広がり幅は、Ｗ＋２ｒである。ここで、本実施例においては、有効光束領域内で、Ｘ軸に最も近い点ＫとＨに着目し、これらとＸ軸との距離Ｄを規定する。点ＫとＨは、図３において、マスク面上の点Ｒ２とＬ２から発した光束のうち、最も光軸に近い点である。ここで、光軸ｏに対して上半円内の円群ＥＡ１は、マスク面から発して凹面鏡Ｍｏで１回目に反射される光束群であり、図１で示した最短距離Ｄも図示されている。また、光軸ｏに対して下半円内の円群ＥＡ２は、凹面鏡Ｍｏで２回目に反射される光束群である。本光学系は等倍系であるため、ＥＡ１とＥＡ２は光軸ｏに対して、点対称な配置になっている。

先に図６において示した円の集合領域が、図７で示した二点鎖線で囲まれた領域に対応している。また、図６には、最短距離Ｄも正の数として示されていて、上下の光束が十分乖離した状態であることを示している。本実施例において、凹面鏡上の１点当たりの有効光束の直径（φ＝２ｒ）は、６４５ｍｍであり、最短距離Ｄの値は、＋５７ｍｍである。

本実施例では、マスク上の一点から発した光束内の第１光線と第２光線が第１凹面鏡と第２凹面鏡で反射する際に、以下の（ａ）および（ｂ）の２つの条件を満たすように、複数の調整部７による力の作用点が設定される。
（ａ）第１光線は、第１凹面鏡（凹面鏡Ｍｏの第１反射領域Ｍｏａ）の補正点に入射し、第２凹面鏡（凹面鏡Ｍｏの第２反射領域Ｍｏｂ）の補正点に入射することはない。
（ｂ）第２光線は、第１凹面鏡（凹面鏡Ｍｏの第１反射領域Ｍｏａ）の補正点に入射することなく第２凹面鏡（凹面鏡Ｍｏの第２反射領域Ｍｏｂ）の補正点に入射する。

これを実現するため、例えば、複数の調整部７による力の作用点が凸面鏡Ｍｔの光軸と直交する水平線（Ｘ軸）に関して非線対称になるように、複数の調整部７が配置される。このような作用点（調整点）の設定の具体例を、図８および図９を参照して以下に説明する。

図８は、本実施例における有効光束領域と補正点との関係を示す図であり、図２と図７を重ね合わせた図である。したがって、図７のＹ軸は図１のＺ軸に対応する。図８は、従来例を示した図５に対応する図であるが、図５とは以下の点で異なっている。すなわち、図８において、Ｘ軸に関してＹ座標が正の領域（第１および第２象限であり、以下、北半球と称する。）と、Ｘ軸に関してＹ座標が負の領域（第３および第４象限であり、以下、南半球と称する。）とで、補正点の配置がずれていることが示されている。北半球においては、全ての補正点（図中、黒点）が、円周方向および径方向（動径が延びる方向）に区分された線上に配置される。すなわち、北半球においては、全ての補正点が、光軸ｏを中心とする複数の同心円と、光軸ｏを中心とする複数の放射状に延びる動径線との交点に配置される。これに対して、南半球においては、全ての補正点（図中、白点）が、径方向に、複数の同心円の間隔の半ピッチ分シフトされた位置に配置されている。なお、図８において、６つの光束夫々の中心に、星印が表示されているが、これらは、図３におけるマスク上３点（Ｃ２，Ｒ２，Ｌ２）から発した光束の主光線が凹面鏡Ｍｏで２回反射する位置を各光束の中心点として示している。このように本実施形態では、凹面鏡Ｍｏの第２反射領域Ｍｏｂ（すなわち第２凹面鏡）の補正点が凹面鏡Ｍｏの第１反射領域Ｍｏａ（すなわち第１凹面鏡）の補正点に対して光軸ｏを中心とする径方向にシフトした位置になるように、調整点が設定される。

図９は、本実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図である。図８において、マスク上の点Ｃ２から発した光束は、凹面鏡Ｍｏ上で２回反射する時に、φ２とφ２２を形成し、これらの領域に存在する補正点群の作用を受ける。しかし、図８の構成によれば、２つの光束内での補正点群は相対的に径方向にずれている。そのため、基板上に到達する光束内には、図９に示すように、実質的に従来例の２倍の補正点群が存在し、これらの作用を受けることになる。マスク上の他の点（Ｒ２，Ｌ２）から発した光束に関しても同様な作用が得られる。

（第２実施例）
図１０は、第２実施例における有効光束領域と配置点との関係を示す図であり、図２と図７を重ね合わせた図である。したがって、図１０のＹ軸は図１のＺ軸に対応する。図１０は第１実施例の図８に対応する図であるが、南半球における補正点の配置態様が図８とは異なっている。北半球において、全ての補正点（図中、黒点）が、光軸ｏを中心とする複数の同心円と、光軸ｏを中心とする複数の放射状に延びる動径線との交点に配置されているのは、図８と図１０とで同じである。一方、図１０に示された南半球においては、全ての補正点（図中、白点）が、円周方向に、複数の動径線の間隔の半ピッチ分シフトされた位置に配置されている。

図１１は、本実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図である。図１０において、マスク上の点Ｃ２から発した光束は、凹面鏡Ｍｏ上で２回反射する時に、φ２とφ２２を形成し、これらの領域に存在する補正点群の作用を受ける。しかし、図８の構成によれば、２つの光束内での補正点群は相対的に円周方向にずれている。そのため、基板上に到達する光束内には、図１１に示すように、実質的に従来例の２倍の補正点群が存在し、これらの作用を受けることになる。マスク上の他の点（Ｒ２，Ｌ２）から発した光束に関しても同様な作用が得られる。

（第３実施例）
図２７は、第３実施例における露光装置の構成を示す図である。図２６との違いは、凹面鏡Ｍｏではなく第１平面鏡Ｔ１および第２平面鏡Ｔ２を可変鏡とした点である。したがって、複数の調整部７は、第１平面鏡Ｔ１および第２平面鏡Ｔ２の裏面に配置されている。

本実施例では、第１平面鏡Ｔ１における複数の調整部７による力の作用点を第１平面鏡Ｔ１と直交する方向に射影した点と、第２平面鏡Ｔ２における複数の調整部７による力の作用点を第２平面鏡Ｔ２と直交する方向に射影した点とを、補正点と定義する。

本実施例では、マスク上の一点から発した光束内の第１光線と第２光線が第１平面鏡Ｔ１と第２平面鏡Ｔ２で反射する際に、以下の（ａ）および（ｂ）の２つの条件を満たすように、複数の調整部７による力の作用点が設定される。
（ａ）第１光線は、第１平面鏡Ｔ１の補正点に入射し、第２平面鏡Ｔ２の補正点に入射することはない。
（ｂ）第２光線は、第１平面鏡Ｔ１の補正点に入射することなく第２平面鏡Ｔ２の補正点に入射する。

これを実現するため、例えば、複数の調整部７による力の作用点が凸面鏡Ｍｔの光軸と直交する水平線（Ｘ軸）に関して非線対称になるように、複数の調整部７が配置される。このような作用点（調整点）の設定の具体例を、図１２および図１３を参照して以下に説明する。

図１２は、第３実施例における第１および第２平面鏡上の有効光束領域と補正点との関係を示す図である。第１平面鏡Ｔ１を垂線方向（図中、ｐ１ｐ２の方向）から見た面においては、全ての補正点（図中、黒点）が、Ｘ方向に等区分された複数の線の上に配置されている。これに対して、第２平面鏡Ｔ２の補正点は第１平面鏡Ｔ１の補正点に対して並進方向にシフトした位置になるように作用点が設定される。例えば、第２平面鏡Ｔ２を垂線方向（図中、ｑ１ｑ２の方向）から見た面においては、全ての補正点（図中、白点）が、Ｘ方向に等区分された線から半ピッチ分シフトした位置に配置されている。

図１３は、本実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図である。図１２において、マスク上の点Ｃ２から発した光束は、凹面鏡Ｍｏ上で２回反射する時に、φ２とφ２２を形成し、これらの領域に存在する補正点群の作用を受ける。しかし、図１２の構成によれば、２つの光束内での補正点群は相対的にＸ方向にずれている。そのため、基板上に到達する光束内には、図１３に示すように、実質的に従来例の２倍の補正点群が存在し、これらの作用を受けることになる。マスク上の他の点（Ｒ２，Ｌ２）に関しても同様な作用が得られる。

本実施例は、２回目に反射する時の補正点を並進方向としてＸ方向にシフトさせた例であるが、これを並進方向としてＹ方向にシフトさせても同様な作用を得ることができる。また、ＸＹ両方向にシフトさせてもよい。

（第４実施例）
第４実施例では、第３実施例と同様に、第１平面鏡Ｔ１および第２平面鏡Ｔ２を可変鏡としている。図１４は、第４実施例における第１および第２平面鏡上の有効光束領域と補正点との関係を示す図である。図１４において、第１平面鏡Ｔ１を垂線方向（図中、ｐ１ｐ２の方向）から見た面においては、全ての補正点（図中、黒点）が、Ｘ方向に等区分された複数の線の１つおきに配置されている。これに対して、第２平面鏡Ｔ２を垂線方向（図中、ｑ１ｑ２の方向）から見た面においては、全ての補正点（図中、白点）が、Ｘ方向に等区分された複数の線のうち黒点が配置されていない１つおきの線の上に配置されている。

図１５は、本実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図である。図１４において、マスク上の点Ｃ２から発した光束は、凹面鏡Ｍｏ上で２回反射する時に、φ２とφ２２を形成し、これらの領域に存在する補正点群の作用を受ける。しかし、図１４の構成によれば、２つの光束内での補正点群は相対的にＸ方向にずれている。そのため、基板上に到達する光束内には、図１５に示すように、実質的に間引く前と同数の補正点群が存在し、これらの作用を受けることになる。マスク上の他の点（Ｒ２，Ｌ２）から発した光束に関しても同様な作用が得られる。

このような構成をとることによって、夫々の平面鏡での補正点を半数に削減できる。その結果、補正点からの発熱を低減でき、露光中の熱による空気揺らぎも抑えられ、像性能の安定化が図られる。加えて、コストダウンの効果も大きい。本実施例は、Ｘ方向に２回目に反射する時の補正点をシフトさせた例であるが、これをＹ方向にシフトさせても同様な作用を得ることができる。また、ＸＹ両方向にシフトさせてもよい。

（第５実施例）
図２８は、第５実施例における露光装置の構成を示す図である。図２６との違いは、投影光学系３が拡大系であることである。拡大系の場合、凹面鏡Ｍｏは第１凹面鏡Ｍｏ１と第２凹面鏡Ｍｏ２に分割されて、互いに異なる曲率を持つ。複数の調整部７は、第１凹面鏡Ｍｏ１および第２凹面鏡Ｍｏ２の裏面に配置される。

図１６は、第５実施例における投影光学系３の光路図であり、上記のとおり、拡大系が構成されている。マスク面Ｍ上の図示された点、Ｃ１，Ｃ２、及び、Ｒ２，Ｌ２から発した光束は、マスク面直下の光学部材Ｇ１、Ｇ２を通過後、第１平面鏡Ｔ１の作用で、光路を直角に曲げられ、第１凹面鏡Ｍｏ１に入射する。マスク面上のこれらの点の位置関係については、既に、図３で説明した。第１凹面鏡Ｍｏ１で反射された光束は、光軸ｏｏ’近傍にある屈折光学部材Ｇ３を通過後、凸面鏡Ｍｔに入射する。凸面鏡Ｍｔはこの結像光学系の絞り面に位置する。凸面鏡Ｍｔで反射した光束は、再び、屈折光学部材Ｇ３を通過後、第２凹面鏡Ｍｏ２に入射する。第２凹面鏡Ｍｏ２で反射した光束は、第２平面鏡Ｔ２に進行し、この作用で、光路を直角に曲げられ、基板Ｐ直上の光学部材Ｇ４、Ｇ５を通過し、基板Ｐ上に結像する。上記の、マスクの近傍と基板の近傍のそれぞれに配置された光学部材Ｇ１，Ｇ２，Ｇ４，Ｇ５は、屈折力を持つ光学部材であり、それぞれ例えば非球面形状を有するレンズを含みうる。

図１６において、マスク面上の点Ｒ２，Ｌ２から発した光束のうち、第１凹面鏡Ｍｏ１や第２凹面鏡Ｍｏ２上で光軸ｏｏ’に最も近い点と光軸ｏｏ’との距離Ｄｕ，Ｄｌが示されている。これらは図７で示したＤに相当する値であり、図７の光学系は等倍系であったのに対して、図１６の光学系は拡大系であるため、図７におけるＥＡ１とＥＡ２は等しくならず、そのため、ＤｕとＤｌも異なる値となる。本実施例の結像倍率は、１．１５倍であり、開口数（ＮＡ）は０．１０５、露光幅は７５０ｍｍである。いずれも、マスク面での値である。また、露光波長としては、ｉ、ｈ、ｇ線を用い、これらに対して収差補正が行われる。これらを実現するための各光学部材の曲率半径Ｒ、間隔Ｄ、硝子部材の光学屈折率Ｎ、および対応する光学部材の参照符号が、下の表３にまとめられている。なお、光学部材のいくつかは非球面で構成されていて、非球面形状を定義する式は、先に示した式１で与えられる。各係数の例は下の表４に示されている。

図１７（ａ）は、本実施例における第１凹面鏡上の有効光束領域と配置点との関係を示す模式図であり、図１７（ｂ）は、同実施例における第２凹面鏡上の有効光束領域と配置点との関係を示す模式図である。図１７（ａ）および（ｂ）のＹ軸は図１６のＺ軸に対応する。図１７（ａ）および（ｂ）における補正点の位置関係は、図１０において、円周方向にずらしたものと同じ関係になっている。ただし、本実施例の場合、光学系が拡大系であるため、第１凹面鏡Ｍｏ１と第２凹面鏡Ｍｏ２とは曲率半径も有効光束径も異なっている。つまり、図１７（ａ）におけるφ２と図１７（ｂ）におけるφ２２の大きさは異なっている。同様に、φｒとφｒ2、φｌとφｌ２も夫々異なっている。一般には、これらの光束径の間には、光学系の拡大倍率、或いは、所定の比例関係が存在し、両者は相似形状となっている。

図１８は、本実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図である。前述した光束の関係から、基板上に到達する光束内には、図１８に示すように、実質的に円周方向に倍の数の補正点群が存在し、これらの作用を受けることになる。マスク上の他の点（Ｒ２，Ｌ２）から発した光束に関しても同様な作用が得られる。

（第６実施例）
図２９は、第６実施例における露光装置の構成を示す図である。図２８との違いは、第１凹面鏡Ｍｏ１および第２凹面鏡Ｍｏ２ではなく第１平面鏡Ｔ１および第２平面鏡Ｔ２を可変鏡とした点である。したがって、複数の調整部７は、第１平面鏡Ｔ１および第２平面鏡Ｔ２の裏面に配置されている。

図１９（ａ）は、第６実施例における第１平面鏡Ｔ１上の有効光束領域と配置点との関係を示す模式図であり、図１９（ｂ）は、第６実施例における第２平面鏡Ｔ２上の有効光束領域と配置点との関係を示す模式図である。両図における補正点の位置関係は、図１２において、Ｘ方向にずらしたものと同じ関係になっている。ただし、本実施例の場合、光学系が拡大系であるため、第１平面鏡Ｔ１上の有効光束（φ２）と第２平面鏡Ｔ２上の有効光束径（φ２２）が異なっている。同様に、φｒとφｒ2、φｌとφｌ２も夫々異なっている。一般には、これらの光束径には、光学系の拡大倍率、或いは、所定の比例関係が存在し、両者は相似形状となっている。

図２０は、本実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図である。前述の関係から、基板上に到達する光束内には、図２０に示すように、実質的にＸ方向に倍の数の補正点群が存在し、これらの作用を受けることになる。マスク上の他の点（Ｒ２，Ｌ２）から発した光束に関しても同様な作用が得られる。

本実施例は、Ｘ方向に２回目に反射する時の補正点をシフトさせた例であるが、これをＹ方向にシフトさせても同様な作用を得ることができる。また、ＸＹ両方向にシフトさせてもよい。

なお、第５実施例および第６実施例では拡大系の投影光学系を例示したが、本発明は縮小系の投影光学系にも同様に適用できる。

（第７実施例）
図３０は、第７実施例における露光装置の構成を示す図である。図２６との違いは、凹面鏡Ｍｏではなく第１平面鏡Ｔ１および凸面鏡Ｍｔを可変鏡とした点である。したがって、複数の調整部７は、第１平面鏡Ｔ１および凸面鏡Ｍｔの裏面に配置されている。

本実施例では、第１平面鏡Ｔ１における複数の調整部７による力の作用点を第１平面鏡Ｔ１と直交する方向に射影した点と、凸面鏡Ｍｔにおける複数の調整部７による力の作用点を凸面鏡Ｍｔの光軸と平行な方向に射影した点とを、補正点と定義する。

本実施例では、マスク上の一点から発した光束内の第１光線と第２光線が第１平面鏡Ｔ１と凸面鏡Ｍｔで反射する際に、以下の（ａ）および（ｂ）の２つの条件を満たすように、複数の調整部７による力の作用点が設定される。
（ａ）第１光線は、第１平面鏡Ｔ１の補正点に入射し、凸面鏡Ｍｔの補正点に入射することはない。
（ｂ）第２光線は、第１平面鏡Ｔ１の補正点に入射することなく凸面鏡Ｍｔの補正点に入射する。

ここで、次の領域および位置の重ね合わせを考える。
（１）第１平面鏡Ｔ１の有効光束領域である第１有効光束領域。
（２）第１有効光束領域に射影される複数の調整部７による力の作用点の位置。
（３）凸面鏡Ｍｔの有効光束領域である第２有効光束領域。
（４）第２有効光束領域に射影される複数の調整部７による力の作用点の位置。

一例において、この重ね合わせをしたときに、第１有効光束領域に射影される複数の調整部７による力の作用点の位置と、第２有効光束領域に射影される複数の調整部７による力の作用点の位置とが異なるように、複数の調整部７が配置される。このような作用点（調整点）の設定の具体例を、図２１～図２３を参照して以下に説明する。

図２１は、第１平面鏡Ｔ１上の有効光束領域と配置点との関係を示す模式図であり、図２２は、凸面鏡Ｍｔ上の有効光束領域と配置点との関係を示す模式図である。図２１は図１９（ａ）と実質的に同じであるが、図２２では、凸面鏡Ｍｔの略全面（図中、最外周の破線）が有効光束領域となっている。これは、凸面鏡Ｍｔが光学系全体の絞り面に位置しているためである。

図２３は、本実施例における一光束内の実効的補正点の配列を示す図である。図中、凸面鏡Ｍｔ上の補正点群が回転対称に配列された黒点で示され、第１平面鏡Ｔ１上の補正点群がＹ軸方向に配列された白点で示されている。両者は、光束内で、異なる点に位置しているので、本発明の目的である補正点数の増加を達成しているとみなせる。一部で、両者（黒点と白点）が重なっている個所があるが、これは本発明と矛盾しない。

マスク上の他の点（Ｒ２，Ｌ２）から発した光束に関しても同様な作用が得られる。本実施例の場合、回転対称な収差のみならず、一次元状に変化する収差も補正可能であることを示している。

（第８実施例）
図２４は、第８実施例に係り、特許第３７２４５１７号公報に開示されているように、中間結像面を有し、その前後に絞り面を複数配置している光学系の絞り面に本発明を適用した例である。図２２に示される補正点群を第１の絞り面に配置すると共に、図２４に示される補正点群を第２の絞り面に配置する。図２４の補正点群は図２２の補正点群に対して円周方向に半ピッチだけ回転している。これらの補正点群が形成する一光束内の実効的補正点の配列は図２５によって示される。

本実施例では、可変鏡となる２つの面が共に絞り面であるため、光学的には、画面全体共通の収差（フォーカス、非点収差、コマ収差等）を高精度で補正することが可能となる。また、本実施例を適用する光学系としては、特許第３７２４５１７号公報のようにダイソン光学系を連結したタイプに限定されない。例えば、図１に示したような凹凸二枚鏡を同様に直列に連結した光学系を構成し、２つの凸面鏡Ｍｔを可変鏡とする場合にも本発明を適用可能である。

（まとめ）
以上、種々の実施例を示した。なお、上述の実施例が適宜組み合わされてもよい。これらの実施例を総合的に見れば、次のようにまとめられる。上述の各実施例においては、光を反射する反射面および該反射面の反対側の面である裏面を有する複数のミラーを含み、物体面から発した光束を複数のミラーの反射面を介して像面上に結像させる結像光学系が示される。結像光学系は、複数のミラーのうちの少なくとも２つのミラーの裏面に力を加えて該少なくとも２つのミラーの反射面の形状を調整する複数の調整部を有する。ここで、複数の調整部による力の作用点を当該反射面に対して規定される光軸の方向に射影した点を補正点と定義する。このとき、物体面の一点から発した光束内の第１光線と第２光線が第１反射面と第２反射面で反射する際、第１光線は、第１反射面の補正点に入射し、第２反射面の補正点には入射することはない。なおかつ、第２光線は、第１反射面の補正点に入射することなく第２反射面の補正点に入射する。このように、複数の調整部の作用点が設定される。

これらの実施例によれば、光束に対して、より効果的な面形状補正点列の配置が実現される。これにより、反射面上に補正点を点対称に配置した場合と同じ補正点数でも、光学的には１つの光束をより多くの補正点数で収差補正できる。その分、収差の補正精度が向上する。

あるいは、より少ない補正点数でも、従来のように点対称に配置した場合と同等の補正点数で、１つの光束を収差補正できる。その分、補正点数を減らせるため、駆動時に発生する熱の分散が行われ、補正精度の向上と安定性が図られる。

また、各実施例で示されたように、本発明は絞り面を含めた任意の反射面に適用できるため、画面内で均一な収差補正だけでなく、画面内でばらつくフォーカスや非点収差のみならず倍率やディストーション補正も行うことができる。さらに、広い露光領域を一括露光する際に、高いフォーカス精度と位置合わせ精度を確保できる。

以上の効果により、露光中でも高解像力が維持され、高精細なパネルを高生産性で露光することが可能となる。

＜物品製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態に係る物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

Ｍ：マスク、Ｔ１：第１平面鏡、Ｔ２：第２平面鏡、Ｍｔ：凸面鏡、Ｍｏ：凹面鏡、Ｐ：基板

Claims (15)

1. 光を反射する反射面および該反射面の反対側の面である裏面を有する複数のミラーを含み、物体面から発した光束を前記複数のミラーの前記反射面を介して像面上に結像させる結像光学系であって、
   前記複数のミラーのうちの少なくとも２つのミラーの前記裏面に力を加えて該少なくとも２つのミラーの前記反射面の形状を調整する複数の調整部を有し、
   前記複数の調整部による力の作用点を当該反射面に対して規定される光軸の方向に射影した点を補正点と定義するとき、
   前記物体面の一点から発した光束内の第１光線と第２光線が第１反射面と第２反射面で反射する際、前記第１光線は、前記第１反射面の補正点に入射し、前記第２反射面の補正点には入射することはなく、かつ、前記第２光線は、前記第１反射面の補正点に入射することなく前記第２反射面の補正点に入射するように、前記作用点が設定される、
   ことを特徴とする結像光学系。
2. マスクと基板を走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、
   光軸外の輪帯状良像域を用いて、前記マスクのパターンから発した光束が、第１平面鏡、第１凹面鏡、凸面鏡、第２凹面鏡、第２平面鏡の順に反射した後、前記基板上に結像する投影光学系と、
   前記第１凹面鏡および前記第２凹面鏡の裏面に力を加えて前記第１凹面鏡および前記第２凹面鏡の形状を調整する複数の調整部と、を有し、
   前記第１凹面鏡および前記第２凹面鏡における前記複数の調整部による力の作用点を前記凸面鏡の光軸と平行な方向に射影した点を補正点と定義するとき、
   前記マスク上の一点から発した光束内の第１光線と第２光線が前記第１凹面鏡と前記第２凹面鏡で反射する際、前記第１光線は、前記第１凹面鏡の補正点に入射し、前記第２凹面鏡の補正点には入射することはなく、かつ、前記第２光線は、前記第１凹面鏡の補正点に入射することなく前記第２凹面鏡の補正点に入射するように、前記作用点が設定される、
   ことを特徴とする露光装置。
3. マスクと基板を走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、
   光軸外の輪帯状良像域を用いて、前記マスクのパターンから発した光束が、第１平面鏡、第１凹面鏡、凸面鏡、第２凹面鏡、第２平面鏡の順に反射した後、前記基板上に結像する投影光学系と、
   前記第１平面鏡および前記第２平面鏡の裏面に力を加えて前記第１平面鏡および前記第２平面鏡の形状を調整する複数の調整部と、を有し、
   前記第１平面鏡における前記複数の調整部による力の作用点を前記第１平面鏡と直交する方向に射影した点と、前記第２平面鏡における前記複数の調整部による力の作用点を前記第２平面鏡と直交する方向に射影した点とを補正点と定義するとき、
   前記マスク上の一点から発した光束内の第１光線と第２光線が前記第１平面鏡と前記第２平面鏡で反射する際、前記第１光線は、前記第１平面鏡の補正点に入射し、前記第２平面鏡の補正点には入射することはなく、かつ、前記第２光線は、前記第１平面鏡の補正点に入射することなく前記第２平面鏡の補正点に入射するように、前記作用点が設定される、
   ことを特徴とする露光装置。
4. マスクと基板を走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、
   光軸外の輪帯状良像域を用いて、前記マスクのパターンから発した光束が、第１平面鏡、第１凹面鏡、凸面鏡、第２凹面鏡、第２平面鏡の順に反射した後、前記基板上に結像する投影光学系と、
   前記第１平面鏡および前記凸面鏡の裏面に力を加えて前記第１平面鏡および前記凸面鏡の形状を調整する複数の調整部と、を有し、
   前記第１平面鏡における前記複数の調整部による力の作用点を前記第１平面鏡と直交する方向に射影した点と、前記凸面鏡における前記複数の調整部による力の作用点を前記凸面鏡の光軸と平行な方向に射影した点とを補正点と定義するとき、
   前記マスク上の一点から発した光束内の第１光線と第２光線が前記第１平面鏡と前記凸面鏡で反射する際、前記第１光線は、前記第１平面鏡の補正点に入射し、前記凸面鏡の補正点に入射することはなく、かつ、前記第２光線は、前記第１平面鏡の補正点に入射することなく前記凸面鏡の補正点に入射するように、前記作用点が設定される、
   ことを特徴とする露光装置。
5. 前記第２凹面鏡の前記補正点が前記第１凹面鏡の前記補正点に対して前記光軸を中心とする径方向にシフトした位置になるように前記作用点が設定される、ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
6. 前記第２凹面鏡の前記補正点が前記第１凹面鏡の前記補正点に対して前記光軸を中心とする円周方向にシフトした位置になるように前記作用点が設定される、ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
7. 前記第２平面鏡の前記補正点が前記第１平面鏡の前記補正点に対して並進方向にシフトした位置になるように前記作用点が設定される、ことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
8. 前記投影光学系は、拡大系であることを特徴とする請求項２乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
9. 前記投影光学系は、縮小系であることを特徴とする請求項２乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
10. 前記第１凹面鏡と前記第２凹面鏡は同一の光学部材として構成され、前記投影光学系は等倍結像することを特徴とする請求項２乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
11. 前記投影光学系は、前記マスクの近傍と前記基板の近傍のそれぞれに配置された、屈折力を持つ光学部材を有し、該光学部材は、非球面形状を有するレンズを含む、ことを特徴とする請求項２乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置。
12. マスクおよび基板を走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、
    前記マスクのパターンを前記基板に投影する投影光学系を有し、
    前記投影光学系は、第１凹面鏡、凸面鏡、および第２凹面鏡を含み、前記マスクのパターンを透過した光が前記第１凹面鏡、前記凸面鏡、前記第２凹面鏡の順に光が反射するように構成され、
    前記投影光学系は、更に、前記第１凹面鏡および前記第２凹面鏡の形状を調整するために前記第１凹面鏡および前記第２凹面鏡の裏面に力を加える複数の調整部を含み、
    前記第１凹面鏡および前記第２凹面鏡における前記複数の調整部による力の作用点が前記凸面鏡の光軸と直交する水平線に関して非線対称になるように、前記複数の調整部が配置される、
    ことを特徴とする露光装置。
13. マスクおよび基板を走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、
    前記マスクのパターンを前記基板に投影する投影光学系を有し、
    前記投影光学系は、第１平面鏡、第１凹面鏡、凸面鏡、第２凹面鏡、および第２平面鏡を含み、前記マスクのパターンを透過した光が前記第１平面鏡、前記第１凹面鏡、前記凸面鏡、前記第２凹面鏡、前記第２平面鏡の順に光が反射するように構成され、
    前記投影光学系は、更に、前記第１平面鏡および前記第２平面鏡の形状を調整するために前記第１平面鏡および前記第２平面鏡の裏面に力を加える複数の調整部を含み、
    前記第１平面鏡および前記第２平面鏡における前記複数の調整部による力の作用点が前記凸面鏡の光軸と直交する水平線に関して非線対称になるように、前記複数の調整部が配置される、
    ことを特徴とする露光装置。
14. マスクおよび基板を走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、
    前記マスクのパターンを前記基板に投影する投影光学系を有し、
    前記投影光学系は、第１平面鏡、第１凹面鏡、凸面鏡、第２凹面鏡、および第２平面鏡を含み、前記マスクのパターンを透過した光が前記第１平面鏡、前記第１凹面鏡、前記凸面鏡、前記第２凹面鏡、前記第２平面鏡の順に光が反射するように構成され、
    前記投影光学系は、更に、前記第１平面鏡および前記凸面鏡の形状を調整するために前記第１平面鏡および前記凸面鏡の裏面に力を加える複数の調整部を含み、
    前記第１平面鏡の有効光束領域である第１有効光束領域と、前記第１有効光束領域に射影される前記複数の調整部による力の作用点の位置と、前記凸面鏡の有効光束領域である第２有効光束領域と、前記第２有効光束領域に射影される前記複数の調整部による力の作用点の位置と、を重ね合わせたときに、前記第１有効光束領域に射影される前記複数の調整部による力の作用点の位置と、前記第２有効光束領域に射影される前記複数の調整部による力の作用点の位置とが異なるように、前記複数の調整部が配置される、
    ことを特徴とする露光装置。
15. 請求項２乃至１４のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    前記露光された基板を現像する工程と、
    を含み、前記現像された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。

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