JP2022067371A - Transfer mold and wiring formation method - Google Patents
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Abstract
Description
特許法第30条第2項適用申請有り (1)2020年3月4日 「WekoPa Resort & Conference Center」で開催された「The International Microelectronics Assembly and Packaging Society(IMAPS)」主催の学会「16th International Conference and Exhibition on DEVICE PACKAGING」において公開(発表) (2)2020年9月28日~10月23日 インターネット(Virtual)で開催された「Surface Mount Technology Association(SMTA)」主催の学会「SMTA International」において公開(発表)Application for application of Article 30,
本発明は、転写型及びこの転写型を用いた配線形成方法に関するものである。 The present invention relates to a transfer type and a wiring forming method using this transfer type.
導電性ペーストを用いた配線形成は、従来の銅配線やハンダ等の金属による配線形成に比べて低温でプロセスを行うことができるため、これまで行えなかったプラスチック等のフィルム上への配線形成やチップ実装が可能である。 Wiring formation using conductive paste can be performed at a lower temperature than conventional wiring formation using copper wiring or metal such as solder, so wiring formation on film such as plastic, which was not possible until now, can be performed. Chip mounting is possible.
従来、この導電性ペーストを用いた配線形成は、一般的に印刷法を用いて行われている。しかしながら、印刷法では形成可能な配線の最小線幅に限界があり、例えば、代表的なスクリーン印刷では約30μm幅の配線印刷が限界とされている。加えて、印刷法ではペースト又はインク状の導電性部材を用いるが、基板に印刷後、直ちに硬化しないため、厚い配線(アスペクト比の高い配線)を形成した場合、配線がにじむ等して寸法精度が低下し、また、ペースト又はインク状の導電性部材が有する一定の粘度の流動性により形状だれが発生してしまう。よって、現状、印刷法で形成可能な配線のアスペクト比の上限はせいぜい0.5程度である。 Conventionally, wiring formation using this conductive paste is generally performed by using a printing method. However, in the printing method, there is a limit to the minimum line width of the wiring that can be formed. For example, in a typical screen printing, the wiring printing having a width of about 30 μm is the limit. In addition, although a paste or ink-like conductive member is used in the printing method, it does not cure immediately after printing on the substrate. Therefore, when thick wiring (wiring with a high aspect ratio) is formed, the wiring bleeds and the dimensional accuracy is correct. In addition, shape sagging occurs due to the fluidity of a certain viscosity of the paste or ink-like conductive member. Therefore, at present, the upper limit of the aspect ratio of the wiring that can be formed by the printing method is about 0.5 at most.
一方、転写型を用いた転写配線形成法(インプリント法)では、ナノレベルサイズまでの配線微細化が可能であり、また、導電性ペーストを硬化させて転写するからアスペクト比1以上の配線形成も可能である。 On the other hand, in the transfer wiring formation method (imprint method) using a transfer type, wiring miniaturization up to nano-level size is possible, and since the conductive paste is cured and transferred, wiring formation with an aspect ratio of 1 or more is formed. Is also possible.
この転写型を用いた転写配線形成法に関し、本出願人は特開2016-58664号に開示される導電部を有する基板の製造方法(以下、従来例という。)を提案している。 Regarding the transfer wiring forming method using this transfer type, the present applicant has proposed a method for manufacturing a substrate having a conductive portion disclosed in JP-A-2016-58664 (hereinafter referred to as a conventional example).
この従来例は、基板上に形成する配線パターンと同様のパターンに形成される凹部を備える転写型(特開2016-58664号では印刷版と表記)の前記凹部に導電性部材(導電性ペースト)を充填し、この凹部に導電性部材が充填された転写型を基板に重ね合わせて圧接することで、この転写型の凹部に充填された導電性部材を基板に転写して基板上に所定パターンの配線を形成するものである。 In this conventional example, a conductive member (conductive paste) is provided in the recess of a transfer type (denoted as a printing plate in Japanese Patent Laid-Open No. 2016-58664) having a recess formed in a pattern similar to the wiring pattern formed on the substrate. By superimposing the transfer mold filled with the concave portion of the transfer mold on the substrate and pressing it against the substrate, the conductive member filled in the concave portion of the transfer mold is transferred to the substrate and a predetermined pattern is applied on the substrate. It forms the wiring of.
この転写配線形成法において、転写型の凹部に導電性部材を充填する際、凹部内のみに導電性部材が充填されるように、スキージと称される掻き取り具を用いて、凹部からはみ出している導電性部材や凹部以外の転写型の表面上にある余分な導電性部材を除去している。 In this transfer wiring forming method, when the transfer type recess is filled with the conductive member, it protrudes from the recess by using a scraper called a squeegee so that the conductive member is filled only in the recess. Excessive conductive members on the surface of the transfer type other than the conductive members and recesses are removed.
しかしながら、従来、この掻き取り具を用いた余分な導電性部材の掻き取り除去処理後に、図6に示すように、余分な導電性部材が適正に除去されず導電性部材の残りが生じたり、凹部内の導電性部材をえぐり取ってしまう不具合が生じることがあり、導電性部材の残りが生じた場合、残った導電性部材が凹部に充填された導電性部材と共に基板に転写され、転写形成された配線をショートさせるおそれがあり、また、えぐれが生じた場合、導電性部材の基板への転写が適正に行われなかったり、転写形成された配線の基板に対する密着性が低下し配線が剥がれてしまうおそれがあり、また、えぐれが大きい場合は、転写形成された配線の配線抵抗が増大したり断線が生じたりするおそれもある。 However, conventionally, after the scraping removal treatment of the excess conductive member using this scraper, as shown in FIG. 6, the excess conductive member is not properly removed and the remaining conductive member is generated. There may be a problem that the conductive member in the recess is scooped out, and when the remaining conductive member is left, the remaining conductive member is transferred to the substrate together with the conductive member filled in the recess to form a transfer. There is a risk of short-circuiting the wiring that has been made, and if gouge occurs, the conductive member will not be transferred properly to the substrate, or the adhesion of the transferred wiring to the substrate will decrease and the wiring will come off. In addition, if the gouge is large, the wiring resistance of the transfer-formed wiring may increase or disconnection may occur.
本発明はこのような現状に鑑みなされたものであり、転写型の表面上の余分な導電性部材を容易に且つきれいに掻き取り除去することができ、導電性部材の残りや凹部内の導電性部材のえぐれが起こりにくい転写型及びこの転写型を用いた配線形成方法を提供する。 The present invention has been made in view of the current situation, and the excess conductive member on the surface of the transfer mold can be easily and cleanly scraped off, and the residue of the conductive member and the conductivity in the recess can be removed. A transfer type in which members are less likely to be gouged and a wiring forming method using this transfer type are provided.
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。 The gist of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
基板1の表面に導電性部材2を転写して該基板1の表面に配線部3を形成する場合に用いる転写型であって、前記配線部3を転写形成するための所定パターンの凹部4aが形成されており、この凹部4aが形成される面にして前記導電性部材2を前記基板1に転写する際に該基板1の表面に重ね合わせる基板重合面4bにはフッ素樹脂層6が設けられていることを特徴とする転写型に係るものである。
A transfer type used when the
また、請求項1記載の転写型において、前記凹部4aの内面にも前記フッ素樹脂層6が設けられていることを特徴とする転写型に係るものである。
Further, in the transfer type according to claim 1, the transfer type is characterized in that the
また、請求項1,2いずれか1項に記載の転写型において、前記フッ素樹脂層6は耐紫外線性を有することを特徴とする転写型に係るものである。
Further, in the transfer type according to any one of
また、請求項1~3いずれか1項に記載の転写型において、前記フッ素樹脂層6は厚さ10nm以下に設定されていることを特徴とする転写型に係るものである。
Further, in the transfer type according to any one of claims 1 to 3, the
また、所定パターンの凹部4aが形成された転写型4の該凹部4aに導電性部材2を充填し、この導電性部材2が充填された前記転写型4を基板1の表面に重ね合わせ、前記導電性部材2を前記基板1の表面に転写して該導電性部材2により該基板1の表面上に配線部3を形成する方法であって、前記基板1と重ね合わせる基板重合面4b及び該基板重合面4bに形成された前記凹部4aの内面にフッ素樹脂層6が設けられた前記転写型4を用意し、続いて、このフッ素樹層6が設けられた前記基板重合面4b上及び前記凹部4aの内面に前記導電性部材2を供給し、続いて、前記基板重合面4b上の前記導電性部材2を適宜な手段で掻き取り該導電性部材2を前記凹部4aに充填することを特徴とする配線形成方法に係るものである。
Further, the
また、請求項5記載の配線形成方法において、前記フッ素樹脂層6は耐紫外線性を有するものであることを特徴とする配線形成方法に係るものである。
Further, in the wiring forming method according to
また、請求項5,6いずれか1項に記載の配線形成方法において、前記適宜な手段は掻き取り具5であり、この掻き取り具5はフッ素樹脂膜7で被覆されていることを特徴とする配線形成方法に係るものである。
Further, in the wiring forming method according to any one of
また、請求項7記載の配線形成方法において、前記フッ素樹脂膜7はポリテトラフルオロエチレン膜であることを特徴とする配線形成方法に係るものである。
Further, in the wiring forming method according to
本発明は上述のように構成したから、転写型の表面上の余分な導電性部材を容易に且つきれいに掻き取り除去することができ、導電性部材の残りや凹部内の導電性部材のえぐれが起こりにくい転写型及びこの転写型を用いた配線形成方法となる。 Since the present invention is configured as described above, the excess conductive member on the surface of the transfer mold can be easily and cleanly scraped off, and the residue of the conductive member and the gouge of the conductive member in the recess can be removed. It is a transfer type that is unlikely to occur and a wiring forming method using this transfer type.
好適と考える本発明の実施形態を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。 An embodiment of the present invention which is considered to be suitable will be briefly described by showing the operation of the present invention based on the drawings.
本発明の転写型4は、導電性部材2を基板1に転写する際に基板1の表面に重ね合わせる基板重合面4bにフッ素樹脂層6が設けられている。
In the
例えば、転写型4がシリコーン樹脂を主成分とする素材で形成されている場合、導電性部材2のシリコーン樹脂に対する濡れ性とフッ素樹脂に対する濡れ性とを比較すると、フッ素樹脂に対する濡れ性の方が低いから、この基板重合面4bにフッ素樹脂層6を設けることで導電性部材2の基板重合面4bに対する濡れ性が低下する(導電性部材2の基板重合面4bに対する接触角が大きくなる。)。
For example, when the
これにより、導電性部材2の基板重合面4bに対する離型性が向上し、例えば、基板重合面4b上の導電性部材2を掻き取る場合、掻き取り易くなり、導電性部材の残りが起こりにくくなる。
As a result, the releasability of the
また、導電性部材2の掻き取り性が向上することにより、例えば、掻き取り具5による掻き取り処理時に凹部4a内の導電性部材2のえぐり取りが抑制され、えぐれが起こりにくくなる。
Further, by improving the scraping property of the
このように、本発明は、基板重合面4b上の余分な導電性部材2を容易に且つ適正に掻き取り除去することができ、導電性部材の残りや凹部4内の導電性部材2のえぐれが起こりにくい転写型及びこの転写型を用いた配線形成方法となる。
As described above, according to the present invention, the excess
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。 Specific examples of the present invention will be described with reference to the drawings.
本実施例は、基板1の表面に導電性部材2を転写して該基板1の表面に配線部3を形成する場合、すなわち、インプリント法により基板1に配線部3を転写形成する場合に用いる転写型4である。
In this embodiment, the
以下、本実施例の転写型4について詳述する。
Hereinafter, the
本実施例の転写型4は、所定パターンの凸部が形成された原版(マスターモールド)上に樹脂材料を滴下し、支持基板で加圧し成形した後、硬化処理を行うことで得られる配線部3を転写形成するための前記所定パターンの凹部4aが形成されている、一般的にレプリカモールドと称されるものである。
The
具体的には、本実施例の転写型4は、シリコーン系高分子化合物を主成分とする主剤に硬化剤を混合した樹脂材料を硬化させてなるシリコーン樹脂製であり、且つ軟質性である一般的にソフトレプリカモールドと称されるものである。
Specifically, the
また、図示していないが、この転写型4に形成された凹部4aは、基板1に転写形成される配線部3が順テーパー形状となるように、テーパー形状(基板1に重ね合わせた際に順テーパー形状となる形状)に形成されている。
Further, although not shown, the
また、本実施例の転写型4は、図1に示すように、凹部4aの内面及びこの凹部4aが形成される面にして導電性部材2を基板1に転写する際に基板1の表面に重ね合わせる面でもある基板重合面4bにフッ素樹脂層6が設けられている。
Further, as shown in FIG. 1, the
なお、本実施例では、このフッ素樹脂層6は1分子層(単分子層)であり、厚さは10nm以下(数nm程度)に設定されている。
In this embodiment, the
また、本実施例においては、後述するこの転写型4を用いた配線形成方法において、導電性部材2を硬化させる際に紫外線照射が行われることから、耐紫外線性を有するフッ素樹脂層6が設けられており、具体的には、本実施例のフッ素樹脂層6は、フロロサーフFG-5080(フロロテクノロジー社製)を用いて形成されたものである。
Further, in this embodiment, in the wiring forming method using the
なお、紫外線照射を行わない場合や、配線間の絶縁性がそれほど高くないデジタル回路用の配線形成に用いる場合は、例えば、フロロサーフFG-5084(フロロテクノロジー社製)、Gaurd Surf AZ-1001T03(ハーベス社製)、Dura Surf(ハーべス社製)を用いて形成したフッ素樹脂層6でも良い。
When not irradiating with ultraviolet rays or when using it for wiring formation for digital circuits where the insulation between wirings is not so high, for example, Fluorosurf FG-5084 (manufactured by Fluorotechnology), Garden Surf AZ-1001T03 (Harves). The
また、転写型4にフッ素樹脂層6を設ける手段は適宜なもので良く、本実施例のフッ素樹脂層6は、スピンコータを用いて塗布されたものである。具体的には、上記フロロサーフFG-5080(フロロテクノロジー社製)をスピンコータにより塗布し常温で乾燥した後、再度、塗布し常温乾燥する二度塗り処理で塗布されたものである。
Further, the means for providing the
以上のように構成される本実施例の転写型の作用効果について以下に説明する。 The effects of the transcription type of this example configured as described above will be described below.
導電性部材2のシリコーン樹脂に対する濡れ性とフッ素樹脂に対する濡れ性とでは、フッ素樹脂に対する濡れ性の方が低く、本実施例の転写型4は、シリコーン樹脂製であり、その表面の基板重合面4bにフッ素樹脂層6が設けられているから、転写型4に供給された導電性部材2は転写型4の基板重合面4bに直接的に接せずフッ素樹脂層6と接することになり、フッ素樹脂層6を設けない場合、すなわち、シリコーン樹脂の基板重合面4bに直接的に接する場合比べて基板重合面4bに対する導電性部材2の濡れ性が低下する(導電性部材2の基板重合面4b(フッ素樹脂層6)に対する接触角が大きくなる。)。
In terms of the wettability of the
これにより、本実施例の転写型4は、導電性部材2の基板重合面4bに対する離型性が向上し、基板重合面4b上の導電性部材2を掻き取る場合、掻き取り易くなり、図5に示すように、導電性部材充填処理後に基板重合面4bに導電性部材の残りが起こりにくくなり、さらに、導電性部材2の掻き取り性が向上することにより、掻き取り処理時に掻き取り具5を基板重合面4bに押し付ける押圧を軽減することができ、掻き取り具5による凹部4a内の導電性部材2のえぐり取りが抑制され、えぐれが起こりにくいものとなる。
As a result, in the
次に、本実施例の転写型4を用いた配線形成方法について説明する。
Next, a wiring forming method using the
本実施例の配線形成方法は、図3(a)~(e)に示すように、転写型4の凹部4に導電性部材2を充填し、この導電性部材2が充填された転写型4を基板1の表面に重ね合わせ、凹部4a内で硬化させた導電性部材2を基板1の表面に転写して該導電性部材2により該基板1の表面上に配線部3を形成する配線形成方法、すなわち、転写型4を用いて基板1に配線部3を転写形成するインプリント配線形成方法(インプリント法)である。
In the wiring forming method of this embodiment, as shown in FIGS. 3A to 3E, the
具体的には、図4に示すように、転写型4の凹部4aに導電性部材2を充填する導電性部材充填処理工程と、導電性部材2が充填された転写型4を基板1に重ね合わせる転写型重ね合わせ処理工程と、転写型4の凹部4aに充填された導電性部材2を硬化させる導電性部材硬化処理工程と、転写型4の凹部4a内で硬化させた導電性部材2を基板1に転写して基板1上に所定パターンの配線部3を形成する導電性部材転写処理工程とを有し、この順で処理が行われる。
Specifically, as shown in FIG. 4, a step of filling the
なお、本実施例では、導電性部材2として導電性ペーストに活性光線硬化型樹脂が含有されてなる活性光線硬化型樹脂含有導電性ペーストを用いた場合について説明する。
In this embodiment, a case where an active ray-curable resin-containing conductive paste in which the active ray-curable resin is contained in the conductive paste is used as the
導電性部材充填処理工程は、転写型4を凹部4aの開口部が上向きになるようにセットし、上方から導電性部材2を凹部4aに充填した後、転写型4の表面や凹部4aから溢れ出ている導電性部材2を、掻き取り具5(スキージ)を用いて掻き取り除去し、凹部4aにみに導電性部材2を充填する処理を行う工程である。
In the conductive member filling processing step, the
具体的には、転写型4の凹部4aに充填する導電性部材2は、Agペースト(ナノペースト含む)、Cuペースト(ナノペースト含む)、Auペースト(ナノペースト含む)、Ptペースト(ナノペースト含む)、Pdペースト(ナノペースト含む)、Ruペースト(ナノペースト含む)、Cペースト(ナノペースト含む)から選択される導電性ペーストに紫外線硬化型樹脂が含有された紫外線硬化型樹脂含有導電性ペーストであり、本実施例においては、Agペーストに紫外線硬化型樹脂が含有された紫外線硬化型樹脂含有Agペーストを用いている。
Specifically, the
また、上記導電性ペーストは、平均粒子径が基板1に形成される配線部3の最小線幅の1/5~1/10に設定されている導電性ペーストである。すなわち、例えば、最小L/S(ライン&スペース)=5μm/5μmの配線パターンを形成する場合、平均粒子径が0.5μm~1.0μmに設定されているものである。
Further, the conductive paste is a conductive paste in which the average particle diameter is set to 1/5 to 1/10 of the minimum line width of the
また、本実施例の導電性部材2は、導電性ベーストと紫外線硬化型樹脂との体積比が6:4~8:2に設定されているものである。
Further, in the
この導電性部材充填処理工程において、本実施例では、上述したように基板1と重ね合わせる基板重合面4bにフッ素樹層6が設けられた転写型4を用いると共に、導電性部材2を掻き取る掻き取り具5(スキージ)に、図2に示すような、転写型4の基板重合面4bに当接させる当接面がフッ素樹脂膜7(具体的には、ポリテトラフルオロエチレン膜)で被覆されている掻き取り具5を用いている。
In this conductive member filling treatment step, in this embodiment, as described above, the
従来の掻き取り具は、SUS製であり、レーザーによる切断により形成されており、レーザー切断面が掻き取り面(転写型の基板重合面に当接させる当接面)になっている。そのため、掻き取り面に凹凸が存在する場合があり、この凹凸の存在により掻き取り方向に沿って筋状に導電性部材の残り(掻き取り残り)が発生することがある。 The conventional scraping tool is made of SUS and is formed by cutting with a laser, and the laser cutting surface is a scraping surface (a contact surface that abuts on a transfer type substrate polymerization surface). Therefore, the scraped surface may have irregularities, and the presence of the irregularities may cause residual conductive members (residual scraping) in a streak shape along the scraping direction.
本実施例は、上述のように、掻き取り具5の当接面(掻き取り面)にフッ素樹脂膜7(ポリテトラフルオロエチレン膜)が被覆され、当接面が平坦化されているから、当接面が基板重合面4bに均一に当接し基板重合面4b上の導電性部材2を残さず一様に掻き取ることができる。
In this embodiment, as described above, the contact surface (scraping surface) of the
しかも、本実施例に用いる掻き取り具5は上記のとおり、フッ素樹脂膜7(ポリテトラフルオロエチレン膜)が被覆しているから、導電性部材2に対する濡れ性が低下し、基板重合面4bに対する滑り性が向上し、スムーズな掻き取り操作を行うことができる。
Moreover, since the
このように、本実施例の導電性部材充填処理工程では、基板1と重ね合わせる基板重合面4bにフッ素樹層6が設けられた転写型4を用いると共に、転写型4の基板重合面4bに当接させる当接面がフッ素樹脂膜7(ポリテトラフルオロエチレン膜)で被覆されている掻き取り具5を用いて、導電性部材2の転写型4(基板重合面4b)に対する離型性を向上させると共に、掻き取り具5の掻き取り性能を向上させて、基板重合面4b上の余分な導電性部材2を容易に且つ適正に掻き取り除去して、導電性部材の残りや凹部4内の導電性部材2のえぐれが生じないようにしている。
As described above, in the conductive member filling treatment step of this embodiment, the
また、転写型重ね合わせ処理工程は、凹部4aに導電性部材2が充填された転写型4を基板1に重ね合わせ、加圧により転写型4を基板1に圧接させる工程である。
Further, the transfer type superposition processing step is a step of superimposing the
また、導電性部材硬化処理工程は、転写型4の凹部4aに充填された導電性部材2を硬化させ、導電性部材2の転写型4に対する離型性を向上させる工程である。
Further, the conductive member curing treatment step is a step of curing the
本実施例は、前述のとおり、導電性部材2として活性光線硬化型樹脂含有導電性ペースト、具体的には、紫外線硬化型樹脂を含有するAgペーストを用いているから、この導電性部材硬化処理工程においては、活性光線、具体的には、紫外線の照射により導電性部材2を硬化させている。
As described above, in this embodiment, since the active light curable resin-containing conductive paste, specifically, the Ag paste containing the ultraviolet curable resin is used as the
具体的には、紫外線を転写型4の凹部4aの底側から照射し、この転写型4の凹部4aに充填された導電性部材2の凹部内面との接触界面部分を硬化させている。
Specifically, ultraviolet rays are irradiated from the bottom side of the
本実施例のように、導電性部材2を紫外線照射により硬化させることにより、加熱により硬化させる場合に比べて処理時間が大幅に短縮されることとなる。
By curing the
なお、この導電性部材硬化処理工程は、転写型4を基板1に重ね合わせる前、すなわち、転写型重ね合わせ処理工程の前に行っても良い。
The conductive member curing treatment step may be performed before the
また、本実施例は、この導電性部材硬化処理工程において、転写型4も紫外線照射されることとなるが、本実施例の転写型4の基板重合面4bに設けられるフッ素樹脂層6は、耐紫外線性を有しているから、この導電性部材硬化処理工程における紫外線照射でのフッ素樹脂層6の劣化が防止され、長期的に上述した効果が発揮される。
Further, in this embodiment, the
また、導電性部材転写処理工程は、基板1と重ね合わせた転写型4を基板1から離脱させ、転写型4の凹部4a内の導電性部材2を基板1に転写し、基板1上に所定パターンの配線部3を形成する工程である。
Further, in the conductive member transfer processing step, the
本実施例は、転写型4の凹部4aの内面にもフッ素樹脂層6が設けられているから、硬化処理とフッ素樹脂層6による相乗効果で導電性部材2の転写型4からの離型性が向上し、導電性部材2のスムーズな転写が行われる。
In this embodiment, since the
以上の工程で処理する本実施例の配線形成方法は、導電性部材充填処理工程での導電性部材2の掻き取り作業の作業性が向上すると共に、導電性部材の残りや凹部4内の導電性部材2のえぐれの発生が抑制され、歩留り向上の効果を発揮する画期的な配線形成方法となる。
The wiring forming method of the present embodiment processed in the above steps improves the workability of the scraping work of the
なお、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。 The present invention is not limited to the present embodiment, and the specific configuration of each constituent requirement can be appropriately designed.
1 基板
2 導電性部材
3 配線部
4 転写型
4a 凹部
4b 基板重合面
5 掻き取り具
6 フッ素樹脂層
7 フッ素樹脂膜
1
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