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JP2022055892A - Coating device and ink jet printer - Google Patents

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JP2022055892A
JP2022055892A JP2020163585A JP2020163585A JP2022055892A JP 2022055892 A JP2022055892 A JP 2022055892A JP 2020163585 A JP2020163585 A JP 2020163585A JP 2020163585 A JP2020163585 A JP 2020163585A JP 2022055892 A JP2022055892 A JP 2022055892A
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liquid
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洋明 北條
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Fujifilm Corp
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Abstract

To provide a coating device and an ink jet printer which can secure evenness of a coating liquid on a base material from a timing of coating the base material.SOLUTION: A coating device includes: a discharge port (22) which discharges a coating liquid and has a long plane shape in which the length in a first direction is longer than the length in a second direction orthogonal to the first direction; a liquid flow channel (24) which is connected to the discharge port and has a length in the first direction corresponding to the length of the discharge port in the first direction; and a liquid storage part (26) in which the coating liquid is stored and which is connected to the liquid flow channel and has a supply port of the coating liquid formed on a one end side in the first direction. The liquid flow channel has a structure in which flow channel resistance in a position on one end (26A) side in the first direction is larger than flow channel resistance in a position on the other end (26B) side in the first direction.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は塗布装置及びインクジェット印刷装置に関する。 The present invention relates to a coating device and an inkjet printing device.

高画質のインクジェット印刷を実現するには、基材に対する水性インクのドットの短期間の固定を目的として、酸性の下塗り液を基材に対して、薄く、かつ、均一に塗布する必要がある。基材へ塗布された下塗り液の不均一は、濃度ムラを誘発し、印刷画像の画質に違和感を与える一因となり得る。 In order to realize high-quality inkjet printing, it is necessary to apply an acidic undercoat liquid to the substrate thinly and evenly for the purpose of fixing the dots of the water-based ink to the substrate for a short period of time. The non-uniformity of the undercoat liquid applied to the substrate can induce uneven density and contribute to the discomfort in the image quality of the printed image.

一方、近年、ユーザから生産性の向上が要求され、下塗り液の塗布における高速塗布適性も重要となる。すなわち、下塗り液の塗布は、薄層の均一塗布及び高速塗布の両立が要求される。ここでいう高速塗布とは、相対的に短い期間が適用される塗布及び相対的に短い周期が適用される連続塗布などを意味する。 On the other hand, in recent years, the improvement of productivity has been demanded by users, and the suitability for high-speed application in the application of the undercoat liquid is also important. That is, the application of the undercoat liquid is required to achieve both uniform application of a thin layer and high-speed application. The high-speed coating here means a coating in which a relatively short period is applied and a continuous coating in which a relatively short cycle is applied.

グラビアコータ及びキスリバースコータなど、グラビア方式の塗布は、ブレード等を用いて、グラビアロールへ付与された余剰な塗布液が除去されるので、塗布液が基材へ塗布される直前のグラビアロールは、セル及び溝等の中のみに液が存在し、塗布液が不連続な状態となっている。そうすると、基材へ塗布された塗布液の薄膜化及び均一塗布の確保が難しい。 In the gravure method coating such as gravure coater and kiss reverse coater, the excess coating liquid applied to the gravure roll is removed by using a blade or the like, so that the gravure roll immediately before the coating liquid is applied to the substrate is used. , The liquid is present only in the cells, grooves, etc., and the coating liquid is in a discontinuous state. Then, it is difficult to reduce the thickness of the coating liquid applied to the substrate and secure uniform coating.

バー塗布方式の塗布装置は、バーコータの余剰な塗布液がかき取られないので、塗布液が基材へ塗布される直前のバーコータは、塗布液が連続する状態となっている。基材へ塗布された直後の塗布液は速やかにレベリングが行われ、高速塗布においてもある程度の均一性を有する塗布膜を形成し得る。 In the bar coating type coating device, the excess coating liquid of the bar coater is not scraped off, so that the bar coater immediately before the coating liquid is applied to the substrate is in a state where the coating liquid is continuous. Immediately after being applied to the substrate, the coating liquid is rapidly leveled, and a coating film having a certain degree of uniformity can be formed even in high-speed coating.

特許文献1は、バー塗布方式が適用される塗布装置が記載される。同文献に記載の装置は、円柱形状のバーの表面に複数のらせん溝が形成される塗布バーを備え、被塗布部材であるウェブを連続走行させ、塗布バーをウェブへ接触させ、塗布液がウェブへ塗布される。 Patent Document 1 describes a coating device to which the bar coating method is applied. The device described in the same document is provided with a coating bar in which a plurality of spiral grooves are formed on the surface of a cylindrical bar, the web as a member to be coated is continuously run, the coating bar is brought into contact with the web, and the coating liquid is applied. Applied to the web.

特許文献2は、芯金へワイヤーを巻回させたワイヤーバーを備えた塗布装置が記載される。同文献に記載の装置は、回転させたワイヤーバーを走行するウェブへ接触させ、ワイヤーバーからウェブへ塗布液が塗布される。 Patent Document 2 describes a coating device including a wire bar in which a wire is wound around a core metal. In the device described in the same document, the rotated wire bar is brought into contact with the traveling web, and the coating liquid is applied from the wire bar to the web.

特許文献3は、インクジェット印刷装置に具備される中間転写ローラへ、下塗り液を塗布する塗布装置が記載される。同文献に記載の塗布装置は、中間転写ローラへ塗布される下塗り液の厚みを均一、かつ、高精度に制御する部材としてスクイズローラを備える。 Patent Document 3 describes a coating device for applying an undercoat liquid to an intermediate transfer roller provided in an inkjet printing device. The coating apparatus described in the same document includes a squeeze roller as a member for controlling the thickness of the undercoat liquid applied to the intermediate transfer roller uniformly and with high accuracy.

特開2009-226371号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-226371 特開2006-82059号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-82059 特開2015-139971号公報JP-A-2015-139971

しかしながら、バー塗布方式では、バーコータに付与された塗布液に、ある程度の分布が存在し、塗布液が基材へ塗布されたタイミングから、基材における塗布液の均一性を得ることは難しい。特許文献1に記載の装置及び特許文献2に記載の装置は、上記のバー塗布方式の課題が存在する。 However, in the bar coating method, the coating liquid applied to the bar coater has a certain distribution, and it is difficult to obtain the uniformity of the coating liquid on the base material from the timing when the coating liquid is applied to the base material. The apparatus described in Patent Document 1 and the apparatus described in Patent Document 2 have the problem of the bar coating method described above.

特許文献3に記載の装置は、塗布ムラが少なく、かつ、薄い膜厚の塗布を実現するための部材としてスクイズローラを備えている。同文献には、高精度の部品精度が要求されるため、振れ精度は10マイクロメートル以下が好ましい旨が記載されている。 The apparatus described in Patent Document 3 includes a squeeze roller as a member for realizing coating with less uneven coating and a thin film thickness. The document describes that the runout accuracy is preferably 10 micrometers or less because high precision component accuracy is required.

しかし、相対的に剛性が小さいフィルム状の基材へ液を塗布する場合、基材における塗布液の膜厚について、例えば、数マイクロメートル以下の薄膜とし、かつ、一定の膜厚の均一性の確保は現実的でない。更に、スクイズローラの摩耗等の劣化に起因して、塗布膜の膜厚の精度が損なわれ、塗布の安定性に懸念がある。 However, when the liquid is applied to a film-like base material having relatively low rigidity, the film thickness of the coating liquid on the base material is, for example, a thin film of several micrometers or less and a constant film thickness uniformity. Securing is not realistic. Further, due to deterioration such as wear of the squeeze roller, the accuracy of the film thickness of the coating film is impaired, and there is a concern about the stability of the coating.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、基材へ塗布されるタイミングから基材における塗布液の均一性を確保し得る、塗布装置及びインクジェット印刷装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a coating apparatus and an inkjet printing apparatus capable of ensuring the uniformity of a coating liquid on a substrate from the timing of coating on the substrate. ..

上記目的を達成するために、次の発明態様を提供する。 In order to achieve the above object, the following aspects of the invention are provided.

本開示に係る塗布装置は、塗布液を吐出させる吐出口であり、第一方向の長さが第一方向と直交する第二方向の長さよりも長い平面形状を有する吐出口と、吐出口と接続される液流路であり、第一方向における吐出口の長さに対応する第一方向の長さを有する液流路と、塗布液が貯留され、液流路と接続される液貯留部であり、第一方向の一方の端の側に塗布液の供給口が形成される液貯留部と、を備え、液流路は、第一方向の一方の端の側の位置における流路抵抗が、第一方向の他方の端の側における位置の流路抵抗よりも大きい構造を有する塗布装置である。 The coating apparatus according to the present disclosure is a discharge port for discharging a coating liquid, and has a planar shape whose length in the first direction is longer than the length in the second direction orthogonal to the first direction, and a discharge port. A liquid flow path that is connected and has a length in the first direction corresponding to the length of the discharge port in the first direction, and a liquid storage unit that stores the coating liquid and is connected to the liquid flow path. The liquid flow path is provided with a liquid storage portion in which a coating liquid supply port is formed on the side of one end in the first direction, and the liquid flow path has a flow path resistance at a position on the side of one end in the first direction. Is a coating device having a structure larger than the flow path resistance at the position on the side of the other end in the first direction.

本開示に係る塗布装置によれば、液流路の第一方向における一方の端の側の位置は、第一方向における他方の端の側の位置よりも、流路抵抗が大きい。これにより、第一方向について塗布液に付与される圧力の分布が均一化され、第一方向について吐出口から均一に塗布液を吐出させることができる。これにより、基材へ塗布されたタイミングから塗布液の均一性を確保し得る。 According to the coating apparatus according to the present disclosure, the position on the side of one end of the liquid flow path in the first direction has a larger flow path resistance than the position on the side of the other end in the first direction. As a result, the distribution of the pressure applied to the coating liquid in the first direction is made uniform, and the coating liquid can be uniformly discharged from the discharge port in the first direction. As a result, the uniformity of the coating liquid can be ensured from the timing of application to the substrate.

液流路の流路抵抗を変える例として、第三方向における長さを変える態様、液流路の第三方向と交差する面の断面積を変える態様、液流路の内部の表面粗さを変える態様が挙げられる。 As an example of changing the flow path resistance of the liquid flow path, the mode of changing the length in the third direction, the mode of changing the cross-sectional area of the surface intersecting the third direction of the liquid flow path, and the surface roughness inside the liquid flow path are described. A mode of change can be mentioned.

他の態様に係る塗布装置において、吐出口の第一方向に沿う複数の領域のそれぞれについて、第二方向の長さを調整する幅調整装置を備える。 In the coating device according to another aspect, a width adjusting device for adjusting the length in the second direction is provided for each of a plurality of regions along the first direction of the discharge port.

かかる態様によれば、吐出口における第一方向に沿う領域ごとに、第二方向の長さが調整される。これにより、第一方向における塗布液の吐出量を均一化し得る。 According to this aspect, the length in the second direction is adjusted for each region along the first direction in the discharge port. Thereby, the discharge amount of the coating liquid in the first direction can be made uniform.

他の態様に係る塗布装置において、基材へ塗布される塗布液の厚みを測定する厚み測定装置と、一以上のプロセッサと、を備え、プロセッサは、厚み測定装置の測定結果に応じて、幅調整装置を動作させて吐出口の第二方向の長さを調整する。 The coating apparatus according to another aspect includes a thickness measuring apparatus for measuring the thickness of the coating liquid applied to the substrate, and one or more processors, and the processor has a width according to the measurement result of the thickness measuring apparatus. Operate the adjusting device to adjust the length of the discharge port in the second direction.

かかる態様によれば、基材へ塗布される塗布液の厚みの測定結果に応じて、吐出口の第二方向における長さを、吐出口の領域ごとに調整し得る。これにより、吐出口から吐出させる塗布液の第一方向における吐出量の分布を抑制し得る。 According to such an embodiment, the length of the discharge port in the second direction can be adjusted for each region of the discharge port according to the measurement result of the thickness of the coating liquid applied to the substrate. As a result, the distribution of the discharge amount in the first direction of the coating liquid discharged from the discharge port can be suppressed.

他の態様に係る塗布装置において、基材へ塗布された塗布液の一部を除去する塗布液除去装置を備える。 The coating device according to another aspect includes a coating liquid removing device that removes a part of the coating liquid coated on the substrate.

かかる態様によれば、基材へ塗布された塗布液の余剰分が除去される。これにより、基材へ多めに塗布された塗布液のレベリングの促進が可能となり、かつ、基材へ塗布された塗布液を薄膜化し得る。 According to such an embodiment, the excess of the coating liquid applied to the substrate is removed. As a result, it is possible to promote the leveling of the coating liquid applied to the base material in a large amount, and the coating liquid applied to the base material can be thinned.

他の態様に係る塗布装置において、吐出口から吐出させた塗布液を回収する回収装置を備える。 In the coating device according to another aspect, a recovery device for collecting the coating liquid discharged from the discharge port is provided.

かかる態様によれば、吐出口から吐出させた塗布液の余剰分が回収される。これにより、基材へ塗布される塗布液の厚膜化が抑制される。 According to this aspect, the surplus of the coating liquid discharged from the discharge port is recovered. As a result, the thickening of the coating liquid applied to the substrate is suppressed.

他の態様に係る塗布装置において、吐出口の位置において第二方向に平行となる基材搬送方向ついて基材を搬送する搬送装置を備える。 The coating device according to another aspect includes a transport device for transporting the base material in a base material transport direction parallel to the second direction at the position of the discharge port.

かかる態様によれば、基材の搬送方向と直交する基材の幅方向について、塗布液の塗布量を均一化し得る。 According to this aspect, the coating amount of the coating liquid can be made uniform in the width direction of the substrate orthogonal to the transport direction of the substrate.

他の態様に係る塗布装置において、吐出口は、基材の塗布液が塗布される領域の第一方向における全長に対応する第一方向の長さを有する。 In the coating apparatus according to the other aspect, the discharge port has a length in the first direction corresponding to the total length in the first direction of the region to which the coating liquid of the base material is applied.

かかる態様によれば、基材の幅方向の全長について、塗布液の塗布量を均一化し得る。 According to such an aspect, the coating amount of the coating liquid can be made uniform with respect to the total length in the width direction of the base material.

他の態様に係る塗布装置において、塗布液は、0.5ミリパスカル秒以上5.0ミリパスカル秒以下の粘度を有する。 In the coating apparatus according to the other aspect, the coating liquid has a viscosity of 0.5 millipascals or more and 5.0 millipascals or less.

かかる態様によれば、基材へ塗布された塗布液の好ましい流動性が確保され、かつ、レベリングが促進される。 According to such an embodiment, favorable fluidity of the coating liquid applied to the substrate is ensured, and leveling is promoted.

他の態様に係る塗布装置において、塗布液は、30ミリニュートン毎メートル以上45ミリニュートン毎メートル以下の表面張力を有する。 In the coating apparatus according to another aspect, the coating liquid has a surface tension of 30 millinewtons per meter or more and 45 millinewtons per meter or less.

かかる態様によれば、基材における塗布液のスジの発生が抑制され、基材に対する塗布液の一定の濡れ性を確保し得る。 According to such an embodiment, the generation of streaks in the coating liquid on the base material can be suppressed, and a certain wettability of the coating liquid on the base material can be ensured.

他の態様に係る塗布装置において、塗布液が塗布される基材の面は、30ミリニュートン毎メートル以上60ミリニュートン毎メートル以下の表面張力を有する。 In the coating apparatus according to another aspect, the surface of the base material to which the coating liquid is applied has a surface tension of 30 millinewtons per meter or more and 60 millinewtons per meter or less.

かかる態様によれば、基材へ塗布される塗布液のハジキが抑制され、塗布液の厚みのバラつきを抑制し得る。 According to such an embodiment, the repelling of the coating liquid applied to the substrate can be suppressed, and the variation in the thickness of the coating liquid can be suppressed.

他の態様に係る塗布装置において、塗布液が塗布される基材の面の表面張力をγとし、塗布液の表面張力γpcとする場合に、γ-γpc≧5.0ミリニュートン毎メートルを満たす。 In the coating apparatus according to another embodiment, when the surface tension of the surface of the base material to which the coating liquid is applied is γ s and the surface tension of the coating liquid is γ pc , γ s −γ pc ≧ 5.0 millinewtons. Fill every meter.

かかる態様によれば、基材と塗布液との密着性を確保し得る。 According to such an embodiment, the adhesion between the base material and the coating liquid can be ensured.

本開示に係るインクジェット印刷装置は、印刷媒体へインクを凝集させる塗布液を塗布する塗布装置と、塗布液が塗布される印刷媒体へインクを吐出させるインクジェットヘッドと、を備え、塗布装置は、塗布液を吐出させる吐出口であり、第一方向の長さが第一方向と直交する第二方向の長さよりも長い平面形状を有する吐出口と、吐出口と接続される液流路であり、第一方向における吐出口の長さに対応する第一方向の長さを有する液流路と、塗布液が貯留され、液流路と接続される液貯留部であり、第一方向の一方の端の側に塗布液の供給口が形成される液貯留部と、を備え、液流路は、第一方向の一方の端の側の位置における流路抵抗が、第一方向の他方の端の側における位置の流路抵抗よりも大きい構造を有するインクジェット印刷装置である。 The inkjet printing apparatus according to the present disclosure includes a coating device that applies a coating liquid that agglomerates ink to a printing medium, and an inkjet head that ejects ink to a printing medium to which the coating liquid is applied. A discharge port for discharging liquid, a discharge port having a planar shape whose length in the first direction is longer than the length in the second direction orthogonal to the first direction, and a liquid flow path connected to the discharge port. A liquid flow path having a length in the first direction corresponding to the length of the discharge port in the first direction, and a liquid storage unit in which the coating liquid is stored and connected to the liquid flow path, and is one of the first directions. The liquid flow path is provided with a liquid storage portion in which a supply port for a coating liquid is formed on the end side, and the liquid flow path has a flow path resistance at a position on the side of one end in the first direction and the other end in the first direction. It is an ink jet printing apparatus having a structure larger than the flow path resistance at the position on the side of.

本開示に係るインクジェット印刷装置によれば、本開示に係る塗布装置と同様の作用効果を得ることが可能である。他の態様に係る塗布装置の構成要件は、他の態様に係るインクジェット印刷装置の構成要件へ適用し得る。 According to the inkjet printing apparatus according to the present disclosure, it is possible to obtain the same operation and effect as the coating apparatus according to the present disclosure. The constituent requirements of the coating apparatus according to the other embodiment may be applied to the constituent requirements of the inkjet printing apparatus according to the other embodiment.

本発明によれば、液流路の第一方向における一方の端の側の位置は、第一方向における他方の端の側の位置よりも、流路抵抗が大きい。これにより、第一方向について塗布液に付与される圧力の分布が均一化され、第一方向について吐出口から均一に塗布液を吐出させることができる。これにより、基材へ塗布されたタイミングから塗布液の均一性を確保し得る。 According to the present invention, the position on the side of one end of the liquid flow path in the first direction has a greater flow path resistance than the position on the side of the other end in the first direction. As a result, the distribution of the pressure applied to the coating liquid in the first direction is made uniform, and the coating liquid can be uniformly discharged from the discharge port in the first direction. As a result, the uniformity of the coating liquid can be ensured from the timing of application to the substrate.

図1は第一実施形態に係る塗布装置の全体構成図である。FIG. 1 is an overall configuration diagram of a coating device according to the first embodiment. 図2は図1に示すダイブロックの斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the die block shown in FIG. 図3は図2に示すダイブロックの内部構造を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing the internal structure of the die block shown in FIG. 図4は図1に示す塗布装置の機能ブロック図である。FIG. 4 is a functional block diagram of the coating device shown in FIG. 図5は第二実施形態に係る塗布装置の全体構成図である。FIG. 5 is an overall configuration diagram of the coating device according to the second embodiment. 図6は図5に示すダイブロックに適用される幅調整装置の模式図である。FIG. 6 is a schematic view of a width adjusting device applied to the die block shown in FIG. 図7は図5に示す塗布装置の機能ブロック図である。FIG. 7 is a functional block diagram of the coating device shown in FIG. 図8は第三実施形態に係る塗布装置の全体構成図である。FIG. 8 is an overall configuration diagram of the coating device according to the third embodiment. 図9は図8に示す塗布装置の機能ブロック図である。FIG. 9 is a functional block diagram of the coating device shown in FIG. 図10は第四実施形態に係る塗布装置の全体構成図である。FIG. 10 is an overall configuration diagram of the coating device according to the fourth embodiment. 図11は他の塗布方式との効果の違いを説明する表である。FIG. 11 is a table for explaining the difference in effect from other coating methods. 図12は他の塗布方式との性能の違いを説明する説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram illustrating a difference in performance from other coating methods. 図13は基材及び塗布液における表面張力の評価試験の結果を示す表である。FIG. 13 is a table showing the results of the evaluation test of the surface tension of the base material and the coating liquid. 図14は実施形態に係る塗布装置が適用されるインクジェット印刷装置の全体構成図である。FIG. 14 is an overall configuration diagram of an inkjet printing apparatus to which the coating apparatus according to the embodiment is applied.

以下、添付図面に従って本発明の実施の形態について詳説する。本明細書では、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明は適宜省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the present specification, the same components are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted as appropriate.

[第一実施形態に係る塗布装置]
〔全体構成〕
図1は第一実施形態に係る塗布装置の全体構成図である。同図に示す塗布装置10は、塗布液を吐出させるダイコータ12及び基材Sを搬送する搬送装置14を備える。塗布装置10は、ダイコータ12のダイブロック20に形成されるスリット22へ、スロット24を介して液プール26から塗布液を供給し、基材Sをスリット22へ接触させ、基材Sへ塗布液を塗布する。
[Applying device according to the first embodiment]
〔overall structure〕
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a coating device according to the first embodiment. The coating device 10 shown in the figure includes a die coater 12 for discharging the coating liquid and a transport device 14 for transporting the base material S. The coating device 10 supplies the coating liquid from the liquid pool 26 to the slit 22 formed in the die block 20 of the die coater 12 through the slot 24, brings the base material S into contact with the slit 22, and applies the coating liquid to the base material S. Is applied.

なお、基材Sとスリット22との接触は、スリット22から塗布液が吐出され、基材Sとスリット22との間に塗布液が存在する状態が含まれる。 The contact between the base material S and the slit 22 includes a state in which the coating liquid is discharged from the slit 22 and the coating liquid is present between the base material S and the slit 22.

〔ダイコータの構成例〕
ダイコータ12は、ダイブロック20、ベース40及び塗布液供給装置50を備える。ダイブロック20はスリット22、スロット24、液プール26及び液供給口28が形成される。
[Example of die coater configuration]
The die coater 12 includes a die block 20, a base 40, and a coating liquid supply device 50. The die block 20 is formed with a slit 22, a slot 24, a liquid pool 26, and a liquid supply port 28.

スリット22の平面形状は、第一方向の長さが第二方向の長さよりも長い長方形形状を有する。スリット22はスロット24の一方の端と接続される。スロット24は、第一方向の長さが、スリット22の第一方向の長さに対応する。 The planar shape of the slit 22 has a rectangular shape in which the length in the first direction is longer than the length in the second direction. The slit 22 is connected to one end of the slot 24. The length of the slot 24 in the first direction corresponds to the length of the slit 22 in the first direction.

スロット24の他方の端は液プール26と接続される。液プール26の第一方向の一方の端は、液供給口28が形成される。第一方向は、図1の紙面を貫く方向であり、液プール26の長手方向を表す。図2等に図示した符号xを用いて第一方向を示す。 The other end of slot 24 is connected to the liquid pool 26. A liquid supply port 28 is formed at one end of the liquid pool 26 in the first direction. The first direction is a direction penetrating the paper surface of FIG. 1 and represents a longitudinal direction of the liquid pool 26. The first direction is shown by using the reference numeral x shown in FIG. 2 and the like.

液供給口28から供給される塗布液は液プール26へ貯留される。液プール26へ貯留される塗布液は、スロット24を介してスリット22へ供給され、スリット22から吐出される。 The coating liquid supplied from the liquid supply port 28 is stored in the liquid pool 26. The coating liquid stored in the liquid pool 26 is supplied to the slit 22 via the slot 24 and discharged from the slit 22.

ダイブロック20の底面20Aは、ベース40を用いて支持される。ベース40は、基材搬送方向について水平面に対する角度を表す水平度を調整する機構を備える。 The bottom surface 20A of the die block 20 is supported by the base 40. The base 40 includes a mechanism for adjusting the levelness representing the angle with respect to the horizontal plane in the substrate transport direction.

ベース40の水平度を調整し、基材Sとスリット22の開口面との角度を調整して、基材Sに対してスリット22を平行に接触させる。これにより、スリット22に対する基材Sの接触ムラに起因する、ラップ幅のばらつき及び塗布液と基材Sとの間に生じる圧力のばらつきを抑制し得る。なお、ラップ幅は、スリット22が形成されるダイブロック20の先端部へ基材Sが接触している領域の第二方向における長さである。なお、符号yを用いて第二方向を表す。 The levelness of the base 40 is adjusted, the angle between the base material S and the opening surface of the slit 22 is adjusted, and the slit 22 is brought into contact with the base material S in parallel. Thereby, it is possible to suppress the variation in the lap width and the variation in the pressure generated between the coating liquid and the substrate S due to the uneven contact of the substrate S with respect to the slit 22. The lap width is the length in the second direction of the region where the base material S is in contact with the tip of the die block 20 in which the slit 22 is formed. The reference numeral y is used to indicate the second direction.

ダイブロック20は、清掃及び部品交換等のメンテナンスが定期的に実施される。ダイブロック20のメンテナンスを実施する際、ダイブロック20はベース40から取り外される。また、メンテナンスが実施されたダイブロック20は、ベース40へ装着される。 Maintenance such as cleaning and parts replacement is regularly carried out on the die block 20. When performing maintenance on the die block 20, the die block 20 is removed from the base 40. Further, the die block 20 that has undergone maintenance is attached to the base 40.

すなわち、ベース40は、ダイブロック20を着脱可能に構成される。また、ベース40は、ダイブロック20の設置位置の再現性が高い構造が採用される。これにより、ダイブロック20のメンテナンス効率の向上及びメンテナンスの前後における塗布性能の維持の両立が実現される。 That is, the base 40 is configured so that the die block 20 can be attached and detached. Further, the base 40 adopts a structure having high reproducibility of the installation position of the die block 20. This makes it possible to improve the maintenance efficiency of the die block 20 and maintain the coating performance before and after the maintenance.

塗布液供給装置50は、塗布液流路52、送液ポンプ54及び塗布液タンク56を備える。塗布液タンク56へ貯留される塗布液は、送液ポンプ54及び塗布液流路52を介してダイブロック20の液プール26へ供給される。 The coating liquid supply device 50 includes a coating liquid flow path 52, a liquid feeding pump 54, and a coating liquid tank 56. The coating liquid stored in the coating liquid tank 56 is supplied to the liquid pool 26 of the die block 20 via the liquid feeding pump 54 and the coating liquid flow path 52.

ダイコータ12は、液プール26への送液量を制御して、スリット22から吐出させる塗布液の吐出量の精密な制御が可能である。送液ポンプ54は、送液の際の脈動が抑制される方式が好ましい。 The die coater 12 can control the amount of liquid to be sent to the liquid pool 26 to precisely control the amount of the coating liquid to be discharged from the slit 22. The liquid feed pump 54 preferably has a method in which pulsation during liquid feed is suppressed.

なお、実施形態に記載のスリット22は吐出口の一例である。実施形態に記載のスロット24は液流路の一例である。実施形態に記載の液プール26は液貯留部の一例である。 The slit 22 described in the embodiment is an example of a discharge port. The slot 24 described in the embodiment is an example of a liquid flow path. The liquid pool 26 described in the embodiment is an example of a liquid storage unit.

〔搬送装置の構成例〕
搬送装置14は、基材Sの搬送方向について基材Sを搬送する搬送機構60を備える。なお、以下の説明において、基材Sの搬送方向を基材搬送方向と記載することがある。
[Configuration example of transport device]
The transport device 14 includes a transport mechanism 60 that transports the base material S in the transport direction of the base material S. In the following description, the transport direction of the base material S may be described as the base material transport direction.

図1には、基材Sの一例として、ロールツーロール方式の搬送が適用される、連続体を例示する。なお、図1では基材Sの繰り出し側のロール及び基材Sの巻き取り側のロールの図示を省略する。 FIG. 1 illustrates, as an example of the base material S, a continuum to which roll-to-roll transfer is applied. In FIG. 1, the roll on the feeding side of the base material S and the roll on the winding side of the base material S are not shown.

搬送機構60は、第一リフトローラ62、第二リフトローラ64及び駆動ローラ66を備える。駆動ローラ66はモータが連結される。駆動ローラ66はモータの動作に応じて回転し、基材Sを支持し、かつ、基材Sを搬送する。 The transport mechanism 60 includes a first lift roller 62, a second lift roller 64, and a drive roller 66. A motor is connected to the drive roller 66. The drive roller 66 rotates according to the operation of the motor, supports the base material S, and conveys the base material S.

搬送機構60は、一つ以上の支持ローラを備える。支持ローラは、搬送機構60における基材搬送経路の任意の位置に配置され、基材搬送経路において基材Sを支持する。なお、支持ローラの図示を省略する。 The transport mechanism 60 includes one or more support rollers. The support roller is arranged at an arbitrary position in the base material transport path in the transport mechanism 60, and supports the base material S in the base material transport path. The illustration of the support roller is omitted.

第一リフトローラ62及び第二リフトローラ64は、ダイブロック20から基材Sへ塗布液が塗布される領域において、基材Sを支持し、かつ、スリット22に対する基材Sのラップ角の大きさ及び基材Sとスリット22との距離を調整する。 The first lift roller 62 and the second lift roller 64 support the base material S in the region where the coating liquid is applied from the die block 20 to the base material S, and the large lap angle of the base material S with respect to the slit 22. The distance between the base material S and the slit 22 is adjusted.

第一リフトローラ62及び第二リフトローラ64は、それぞれが個別に移動可能に構成される。第一リフトローラ62へ付した矢印線は、第一リフトローラ62の移動方向であり、第一リフトローラ62を用いて基材Sへ付与される押圧力の方向を表す。第一リフトローラ62は、第二方向及び第三方向に移動し得る。 The first lift roller 62 and the second lift roller 64 are configured to be individually movable. The arrow line attached to the first lift roller 62 is the moving direction of the first lift roller 62, and represents the direction of the pressing force applied to the base material S by using the first lift roller 62. The first lift roller 62 may move in the second and third directions.

第二リフトローラ64へ付した矢印線は、第二リフトローラ64の移動方向であり、第二リフトローラ64を用いて基材Sへ付与される押圧力の方向を表す。第二リフトローラ64は、第二方向及び第三方向に移動し得る。なお、符号zを用いて第三方向を表す。 The arrow line attached to the second lift roller 64 is the moving direction of the second lift roller 64, and represents the direction of the pressing force applied to the base material S by using the second lift roller 64. The second lift roller 64 may move in the second and third directions. The reference numeral z is used to indicate the third direction.

スリット22に対する基材Sのラップ角の大きさは、一次側と二次側とで個別に調整し得る。基材Sとスリット22との距離についても同様である。ここで、一次側は、スリット22における基材搬送方向の上流側であり、図1におけるスリット22の左側である。二次側は、スリット22における基材搬送方向の下流側であり、同図におけるスリット22の右側である。 The size of the lap angle of the base material S with respect to the slit 22 can be adjusted individually on the primary side and the secondary side. The same applies to the distance between the base material S and the slit 22. Here, the primary side is the upstream side of the slit 22 in the substrate transport direction, and is the left side of the slit 22 in FIG. The secondary side is the downstream side of the slit 22 in the substrate transport direction, and is the right side of the slit 22 in the figure.

スリット22に対する基材Sのラップ角は、2度以上30度以下の範囲が好ましい。スリット22に対する基材Sのラップ角が2度未満の場合は、スリット22と基材Sとの接触面が安定せず、基材Sにおける塗布液の塗布ムラが生じ得る。 The lap angle of the base material S with respect to the slit 22 is preferably in the range of 2 degrees or more and 30 degrees or less. When the lap angle of the base material S with respect to the slit 22 is less than 2 degrees, the contact surface between the slit 22 and the base material S is not stable, and uneven coating of the coating liquid on the base material S may occur.

また、スリット22に対する基材Sのラップ角が30度を超える場合は、スリット22と基材Sと間に生じる摩擦力に起因する、基材Sにおける塗布液の段状の塗布ムラが生じ得る。スリット22に対する基材Sのラップ角のより好ましい範囲は、5度以上20度以下である。 Further, when the lap angle of the base material S with respect to the slit 22 exceeds 30 degrees, stepwise coating unevenness of the coating liquid in the base material S may occur due to the frictional force generated between the slit 22 and the base material S. .. A more preferable range of the lap angle of the base material S with respect to the slit 22 is 5 degrees or more and 20 degrees or less.

基材Sを搬送させる際に基材Sへ付与されるテンションは、1メートルあたり10ニュートン以上200ニュートン以下が好ましい。基材Sへ付与されるテンションが1メートルあたり20ニュートン未満の場合は、基材Sにツレシワが発生し、塗布液の塗布ムラが生じ得る。 The tension applied to the base material S when the base material S is conveyed is preferably 10 newtons or more and 200 newtons or less per meter. When the tension applied to the base material S is less than 20 Newtons per meter, wrinkles may occur on the base material S, and uneven coating of the coating liquid may occur.

一方、基材Sへ付与されるテンションが1メートルあたり200ニュートンを超える場合は、ダイブロック20の先端部と基材Sとの摩擦力に起因する塗布液の段ムラが生じ得る。 On the other hand, when the tension applied to the base material S exceeds 200 Newtons per meter, step unevenness of the coating liquid due to the frictional force between the tip portion of the die block 20 and the base material S may occur.

搬送装置14は、昇降装置68を備える。昇降装置68は、第三方向について搬送機構60を移動させ、基材Sとダイブロック20との第三方向における距離を調整する。第一方向及び第二方向が水平面と平行の場合、第三方向は鉛直上下方向となる。 The transport device 14 includes an elevating device 68. The elevating device 68 moves the transport mechanism 60 in the third direction to adjust the distance between the base material S and the die block 20 in the third direction. When the first direction and the second direction are parallel to the horizontal plane, the third direction is the vertical vertical direction.

基材Sへ塗布液を塗布する際に、昇降装置68は搬送機構60を下降させて基材Sをダイブロック20の先端部へ押圧させる。一方、基材Sへ塗布液を塗布しない場合は、昇降装置68は搬送機構60を上昇させて基材Sをダイブロック20の先端部から離間させる。 When the coating liquid is applied to the base material S, the elevating device 68 lowers the transport mechanism 60 to press the base material S against the tip of the die block 20. On the other hand, when the coating liquid is not applied to the base material S, the elevating device 68 raises the transport mechanism 60 to separate the base material S from the tip of the die block 20.

〔ダイブロックの構成例〕
図2は図1に示すダイブロックの斜視図である。図2に示すスロット部30は、第一ブロック32及び第二ブロック34から構成される。スロット部30は、第一ブロック32の平坦部32Aと第二ブロック34の平坦部34Aとの間に段差を設ける先端リップ形状を採用し得る。
[Die block configuration example]
FIG. 2 is a perspective view of the die block shown in FIG. The slot portion 30 shown in FIG. 2 is composed of a first block 32 and a second block 34. The slot portion 30 may adopt a tip lip shape in which a step is provided between the flat portion 32A of the first block 32 and the flat portion 34A of the second block 34.

スロット部30は、第一ブロック32の平坦部32Aの第二方向における長さと、第二ブロック34の平坦部34Aの第二方向における長さとを、塗布液の種類に応じて調整可能に構成してもよい。 The slot portion 30 is configured so that the length of the flat portion 32A of the first block 32 in the second direction and the length of the flat portion 34A of the second block 34 in the second direction can be adjusted according to the type of the coating liquid. You may.

スロット部30は、第一ブロック32の傾斜部32Bの第三方向に対する傾斜と、第二ブロック34の傾斜部34Bの第三方向に対する傾斜とを、塗布液の種類に応じて調整可能に構成してもよい。 The slot portion 30 is configured so that the inclination of the inclined portion 32B of the first block 32 with respect to the third direction and the inclination of the inclined portion 34B of the second block 34 with respect to the third direction can be adjusted according to the type of the coating liquid. You may.

ダイブロック20の材料は、ステンレス鋼などの金属材料が適用される。塗布液に対する腐食性の観点から、ステンレス鋼として、SUS304及びSUS316L等が好ましい。なお、SUSはSteel Use Stainlessの省略語である。 As the material of the die block 20, a metal material such as stainless steel is applied. From the viewpoint of corrosiveness to the coating liquid, SUS304, SUS316L and the like are preferable as the stainless steel. SUS is an abbreviation for Steel Use Stainless.

ダイブロック20の材料は、先端リップ形状の精度確保の観点から、ステンレス鋼と比較して更に硬質の金属の採用が好ましい。ステンレス鋼と比較して更に硬質の金属の例として、チタン及びタングステンと炭化物結晶子とを結合させた超硬合金等が挙げられる。 As the material of the die block 20, it is preferable to use a metal that is harder than stainless steel from the viewpoint of ensuring the accuracy of the tip lip shape. Examples of metals that are harder than stainless steel include cemented carbide in which titanium and tungsten are bonded to carbide crystals.

ダイブロック20に形成される液プール26は、第一方向の一方の端に液供給口28が形成される。液供給口28は、図1に示す塗布液流路52が接続される。送液ポンプ54の動作に応じて、塗布液タンク56から送液ポンプ54及び塗布液流路52を経由して、液供給口28へ塗布液が供給される。なお、図2では液プール26の符号の図示を省略する。 The liquid pool 26 formed in the die block 20 has a liquid supply port 28 formed at one end in the first direction. The liquid supply port 28 is connected to the coating liquid flow path 52 shown in FIG. Depending on the operation of the liquid feed pump 54, the coating liquid is supplied from the coating liquid tank 56 to the liquid supply port 28 via the liquid feeding pump 54 and the coating liquid flow path 52. In FIG. 2, the reference numeral of the liquid pool 26 is not shown.

液供給口28を介して液プール26へ供給される塗布液は、送液ポンプ54の動作に応じて、スロット24を介してスリット22へ供給され、スリット22から基材Sへ塗布される。液プール26へ送液された塗布液は全量が基材Sへ塗布されるので、グラビア塗布方式などの塗布液をかき取る方式と比較して、液プール26の容量が小さくて済む。なお、液プール26の容量は、液プール26の体積及び液プール26の容積と同義である。 The coating liquid supplied to the liquid pool 26 via the liquid supply port 28 is supplied to the slit 22 via the slot 24 according to the operation of the liquid feeding pump 54, and is applied from the slit 22 to the base material S. Since the entire amount of the coating liquid sent to the liquid pool 26 is applied to the base material S, the capacity of the liquid pool 26 can be smaller than that of a method of scraping the coating liquid such as a gravure coating method. The capacity of the liquid pool 26 is synonymous with the volume of the liquid pool 26 and the volume of the liquid pool 26.

また、液プール26へ供給される塗布液は、スリット22の他に空気と触れることがなく、溶媒の揮発を考慮する必要性が低い。 Further, the coating liquid supplied to the liquid pool 26 does not come into contact with air other than the slit 22, and there is little need to consider the volatilization of the solvent.

〔スロットの構造例〕
図3は図2に示すダイブロックの内部構造を示す模式図である。同図に示す模式図は、ダイブロック20の断面であり、スリット22及びスロット24の内部を通り、第一方向及び第三方向と平行な断面を表す。なお、同図に図示する矢印線は塗布液の供給方向を示す。
[Slot structure example]
FIG. 3 is a schematic diagram showing the internal structure of the die block shown in FIG. The schematic diagram shown in the figure is a cross section of the die block 20, and represents a cross section that passes through the inside of the slit 22 and the slot 24 and is parallel to the first direction and the third direction. The arrow line shown in the figure indicates the supply direction of the coating liquid.

ダイブロック20の内部に形成されるスロット24は、第一方向の反給液側の位置と比較して、第一方向の給液側の位置における第三方向の長さが長い。例えば、スロット24の第一方向における液供給口28の側の端26Aである、スロット24の一方の端における第三方向に沿う長さLAは、スロット24の第一方向における液供給口28の反対の側の端26Bである、スロット24の他方の端における第三方向に沿う長さLBよりも長い。 The slot 24 formed inside the die block 20 has a longer length in the third direction at the position on the liquid supply side in the first direction as compared with the position on the anti-liquid supply side in the first direction. For example, the length LA along the third direction at one end of the slot 24, which is the end 26A on the side of the liquid supply port 28 in the first direction of the slot 24, is the liquid supply port 28 in the first direction of the slot 24. It is longer than the length LB along the third direction at the other end of the slot 24, which is the opposite end 26B.

図3には、第一方向の供給側の端から第一方向の反供給側の端に向かい、第三方向における流路長が長くなる構造を有し、第一方向について反供給側から供給側へ向かい第三方向における流路抵抗が増加するスロット24の構造例を示す。 FIG. 3 has a structure in which the flow path length in the third direction becomes longer from the end on the supply side in the first direction to the end on the non-supply side in the first direction, and the supply is supplied from the non-supply side in the first direction. An example of the structure of the slot 24 in which the flow path resistance in the third direction increases toward the side is shown.

なお、スロット24の第一方向の供給側の端は、第一方向における液供給口28の側の端26Aである。スロット24の第一方向の反供給側の端は、第一方向における液供給口28の反対の側の端26Bである。 The end of the slot 24 on the supply side in the first direction is the end 26A on the side of the liquid supply port 28 in the first direction. The opposite end of the slot 24 in the first direction is the opposite end 26B of the liquid supply port 28 in the first direction.

スロット24は、第一方向の全長について、第三方向おける流路抵抗を同一とした場合に、第一方向の反供給側の位置は、供給側の位置と比較して大きな圧力損失が生じる。そうすると、スリット22の第一方向における反供給側の位置は、供給側の位置と比較して吐出量が相対的に減少してしまう。 When the flow path resistance in the third direction is the same for the entire length of the slot 24 in the first direction, the position on the non-supply side in the first direction causes a large pressure loss as compared with the position on the supply side. Then, the discharge amount of the slit 22 at the position on the non-supply side in the first direction is relatively smaller than the position on the supply side.

これに対して、図3に示すスロット24は、第一方向について圧力損失の差の発生が抑制され、スリット22から吐出される塗布液の第一方向における吐出量が均一化される。 On the other hand, in the slot 24 shown in FIG. 3, the generation of a difference in pressure loss in the first direction is suppressed, and the discharge amount of the coating liquid discharged from the slit 22 in the first direction is made uniform.

本実施形態では、スロット24の第三方向の流路抵抗を第一方向について連続的に変える態様を例示したが、スロット24の第三方向の流路抵抗を第一方向について段階的に変えてもよい。 In the present embodiment, an embodiment in which the flow path resistance in the third direction of the slot 24 is continuously changed in the first direction is exemplified, but the flow path resistance in the third direction of the slot 24 is changed stepwise in the first direction. May be good.

スロット24における第三方向の流路抵抗を変える態様として、第一方向及び第二方向と平行となるスロット24の断面など、第三方向と交差するスロット24の断面の断面積を変えてもよい。 As an embodiment for changing the flow path resistance in the third direction in the slot 24, the cross-sectional area of the cross section of the slot 24 intersecting the third direction, such as the cross section of the slot 24 parallel to the first direction and the second direction, may be changed. ..

また、スロット24における第三方向の流路抵抗を変える他の態様として、スロット24の内壁面の表面粗さを変えてもよい。スロット24の内壁面の表面粗さは表面処理を変えてもよいし、材料を変えてよい。スロット24は、流路長、断面積及び表面粗さの二つ以上を適宜併用して、流路抵抗値を変えてもよい。なお、図3では、第二方向を表す符号yの図示を省略する。 Further, as another aspect of changing the flow path resistance in the third direction in the slot 24, the surface roughness of the inner wall surface of the slot 24 may be changed. The surface roughness of the inner wall surface of the slot 24 may be changed by changing the surface treatment or changing the material. The slot 24 may change the flow path resistance value by appropriately using two or more of the flow path length, the cross-sectional area, and the surface roughness. In FIG. 3, the reference numeral y representing the second direction is not shown.

〔塗布装置の機能ブロック〕
図4は図1に示す塗布装置の機能ブロック図である。塗布装置10は一以上のプロセッサ100及び一以上のメモリ102を備える。
[Functional block of coating device]
FIG. 4 is a functional block diagram of the coating device shown in FIG. The coating device 10 includes one or more processors 100 and one or more memories 102.

プロセッサ100は、搬送制御部110、昇降制御部112及び送液制御部114を備える。プロセッサ100に具備される各部は、プロセッサ100を用いて実現される塗布装置10の機能に対応している。 The processor 100 includes a transport control unit 110, an elevating control unit 112, and a liquid feed control unit 114. Each part provided in the processor 100 corresponds to the function of the coating device 10 realized by using the processor 100.

搬送制御部110は、搬送装置14へ指令信号を送信し、搬送装置14の動作を制御し、基材Sの搬送を制御する。搬送制御部110は、搬送装置14に具備される駆動ローラ66と連結されるモータの動作を制御する。搬送制御部110は、第一リフトローラ62及び第二リフトローラ64を移動させるリフトローラ移動機構と連結されるモータの動作を制御する。また、搬送制御部110は、基材Sの繰り出し及び基材Sの巻き取りを制御する。 The transfer control unit 110 transmits a command signal to the transfer device 14, controls the operation of the transfer device 14, and controls the transfer of the base material S. The transfer control unit 110 controls the operation of the motor connected to the drive roller 66 provided in the transfer device 14. The transport control unit 110 controls the operation of the motor connected to the lift roller moving mechanism that moves the first lift roller 62 and the second lift roller 64. Further, the transport control unit 110 controls the feeding of the base material S and the winding of the base material S.

昇降制御部112は、昇降装置68へ指令信号を送信し、昇降装置68の動作を制御する。昇降制御部112は、塗布液の塗布期間の開始タイミングにおいて、搬送機構60を退避位置から降下させ、搬送機構60を塗布位置へ移動させる。昇降制御部112は、塗布液の塗布期間の終了タイミングにおいて、搬送機構60を塗布位置から上昇させ、搬送機構60を退避位置へ移動させる。 The elevating control unit 112 transmits a command signal to the elevating device 68 to control the operation of the elevating device 68. The elevating control unit 112 lowers the transport mechanism 60 from the retracted position and moves the transport mechanism 60 to the coating position at the start timing of the coating period of the coating liquid. The elevating control unit 112 raises the transport mechanism 60 from the coating position and moves the transport mechanism 60 to the retracted position at the end timing of the coating period of the coating liquid.

送液制御部114は、送液ポンプ54へ指令信号を送信し、送液ポンプ54の動作を制御する。送液制御部114は、送液ポンプ54からダイブロック20へ送られる塗布液の送液量を制御する。 The liquid feed control unit 114 transmits a command signal to the liquid feed pump 54 to control the operation of the liquid feed pump 54. The liquid feed control unit 114 controls the liquid feed amount of the coating liquid sent from the liquid feed pump 54 to the die block 20.

メモリ102は、プロセッサ100を用いて実行される各種のプログラム、塗布装置10の各種の制御に適用される制御パラメータが記憶される。メモリ102は、各種のデータが記憶されてもよい。メモリ102は、プロセッサ100を用いて実行される演算の領域に適用されてもよい。 The memory 102 stores various programs executed by the processor 100 and control parameters applied to various controls of the coating device 10. Various types of data may be stored in the memory 102. The memory 102 may be applied to an area of computation performed using the processor 100.

塗布装置10は、ディスプレイ装置120及び入力装置130を備える。ディスプレイ装置120はディスプレイドライバー122から送信される表示信号に基づき、塗布装置10に適用される各種の情報を表示する。 The coating device 10 includes a display device 120 and an input device 130. The display device 120 displays various information applied to the coating device 10 based on the display signal transmitted from the display driver 122.

入力装置130は、キーボード及びマウス等が適用される。入力装置130はユーザの操作に応じた入力信号をプロセッサ100へ送信する。プロセッサ100は入力信号に応じた各種の処理を実施する。 A keyboard, mouse, and the like are applied to the input device 130. The input device 130 transmits an input signal according to the user's operation to the processor 100. The processor 100 performs various processes according to the input signal.

塗布装置10は、入出力インターフェース140を備える。入出力インターフェース140は、USB(Universal Serial Bus)などの各種の通信規格を適用し得る。複数の通信規格のそれぞれについて、入出力インターフェース140を備えてもよい。 The coating device 10 includes an input / output interface 140. Various communication standards such as USB (Universal Serial Bus) can be applied to the input / output interface 140. An input / output interface 140 may be provided for each of the plurality of communication standards.

[各種の処理部及び各種の制御部のハードウェア構成]
各種の処理を実施する処理部のハードウェアは、各種のプロセッサを適用し得る。なお、処理部はprocessing unitと呼ばれる場合があり得る。各種のプロセッサには、CPU(Central Processing Unit)、PLD(Programmable Logic Device)及びASIC(Application Specific Integrated Circuit)等が含まれる。
[Hardware configuration of various processing units and various control units]
Various processors can be applied to the hardware of the processing unit that performs various processes. The processing unit may be called a processing unit. Various processors include a CPU (Central Processing Unit), a PLD (Programmable Logic Device), an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), and the like.

CPUは、プログラムを実行して各種の処理部として機能する汎用的なプロセッサである。PLDは、製造後に回路構成を変更可能なプロセッサである。PLDの例として、FPGA(Field Programmable Gate Array)が挙げられる。ASICは、特定の処理を実施させるために専用に設計された回路構成を有する専用電気回路である。 The CPU is a general-purpose processor that executes a program and functions as various processing units. The PLD is a processor whose circuit configuration can be changed after manufacturing. An example of PLD is FPGA (Field Programmable Gate Array). An ASIC is a dedicated electrical circuit having a circuit configuration specifically designed to perform a particular process.

一つの処理部は、これら各種のプロセッサのうちの一つで構成されていてもよいし、同種又は異種の2つ以上のプロセッサで構成されてもよい。例えば、一つの処理部は、複数のFPGA等を用いて構成されてもよい。一つの処理部は、一つ以上のFPGA及び一つ以上のCPUを組み合わせて構成されてもよい。 One processing unit may be composed of one of these various processors, or may be composed of two or more processors of the same type or different types. For example, one processing unit may be configured by using a plurality of FPGAs and the like. One processing unit may be configured by combining one or more FPGAs and one or more CPUs.

また、一つのプロセッサを用いて複数の処理部を構成してもよい。一つのプロセッサを用いて複数の処理部を構成する例として、一つ以上のCPUとソフトウェアとを組み合わせて一つのプロセッサを構成し、一つプロセッサが複数の処理部として機能する形態がある。かかる形態は、クライアント端末装置及びサーバ装置等のコンピュータに代表される。 Further, a plurality of processing units may be configured by using one processor. As an example of configuring a plurality of processing units using one processor, there is a form in which one processor is configured by combining one or more CPUs and software, and one processor functions as a plurality of processing units. Such a form is represented by a computer such as a client terminal device and a server device.

他の構成例として。複数の処理部を含むシステム全体の機能を一つのICチップを用いて実現するプロセッサを使用する形態が挙げられる。かかる形態は、システムオンチップ(System On Chip)などに代表される。なお、ICはIntegrated Circuitの省略語である。また、システムオンチップは、System On Chipの省略語を用いてSoCと記載される場合がある。 As another configuration example. An example is a mode in which a processor that realizes the functions of the entire system including a plurality of processing units by using one IC chip is used. Such a form is typified by a system on chip and the like. IC is an abbreviation for Integrated Circuit. Further, the system on chip may be described as SoC by using the abbreviation of System On Chip.

このように、各種の処理部は、ハードウェア的な構造として、上記した各種のプロセッサを一つ以上用いて構成される。更に、各種のプロセッサのハードウェア的な構造は、より具体的には、半導体素子などの回路素子を組み合わせた電気回路(circuitry)である。 As described above, the various processing units are configured by using one or more of the above-mentioned various processors as a hardware-like structure. Further, the hardware-like structure of various processors is, more specifically, an electric circuit (circuitry) in which circuit elements such as semiconductor elements are combined.

[第一実施形態に係る塗布装置の作用効果]
第一実施形態に係る塗布装置10によれば、以下の作用効果を得ることが可能である。
[Operation and effect of the coating device according to the first embodiment]
According to the coating device 10 according to the first embodiment, the following effects can be obtained.

〔1〕
スロット24は、第一方向における反供給側の位置よりも、第一方向における供給側の位置は、第三方向の流路抵抗が大きくされる。これにより、第一方向についてスリット22から吐出させる塗布液の吐出量が均一化される。
[1]
In the slot 24, the flow path resistance in the third direction is larger at the position on the supply side in the first direction than at the position on the non-supply side in the first direction. As a result, the discharge amount of the coating liquid discharged from the slit 22 in the first direction is made uniform.

〔2〕
スロット24は、第一方向における反供給側の位置よりも、第一方向における供給側の位置は、第三方向の流路長が長くされる。これにより、第一方向についてスリット22から吐出させる塗布液の吐出量が均一化される。
[2]
The slot 24 has a longer flow path length in the third direction at the position on the supply side in the first direction than at the position on the non-supply side in the first direction. As a result, the discharge amount of the coating liquid discharged from the slit 22 in the first direction is made uniform.

〔3〕
スロット24は、第一方向の反供給側の端から供給側の端に向かい、第三方向の流路抵抗が連続的に大きくなる。これにより、第一方向について、スリット22から吐出させる塗布液の局所的な吐出量のムラが抑制される。
[3]
In the slot 24, the flow path resistance in the third direction continuously increases from the end on the non-supply side in the first direction to the end on the supply side. As a result, unevenness in the local discharge amount of the coating liquid discharged from the slit 22 is suppressed in the first direction.

[第二実施形態に係る塗布装置]
〔全体構成〕
図5は第二実施形態に係る塗布装置の全体構成図である。同図に示す塗布装置200は、基材Sへ塗布された塗布液の厚みを検出する膜厚計202を備える。膜厚計202は、ダイブロック210の基材搬送方向における下流側の位置に配置される。
[Applying device according to the second embodiment]
〔overall structure〕
FIG. 5 is an overall configuration diagram of the coating device according to the second embodiment. The coating device 200 shown in the figure includes a film thickness meter 202 that detects the thickness of the coating liquid coated on the base material S. The film thickness meter 202 is arranged at a position on the downstream side of the die block 210 in the substrate transport direction.

膜厚計202は、第一方向について、基材Sの複数の位置について塗布液の厚みを測定する。塗布装置200は、膜厚計202の測定結果に応じて、第一方向における塗布液の厚みの分布を検出し得る。膜厚計202は、塗布液へ接触させて塗布液の厚みを測定する接触方式でもよいし、塗布液と非接触で塗布液の厚みを測定する非接触方式でもよい。なお、実施形態に記載の膜厚計202は厚み測定装置の一例である。 The film thickness meter 202 measures the thickness of the coating liquid at a plurality of positions of the base material S in the first direction. The coating device 200 can detect the distribution of the thickness of the coating liquid in the first direction according to the measurement result of the film thickness meter 202. The film thickness meter 202 may be a contact method in which the thickness of the coating liquid is measured by contacting the coating liquid, or a non-contact method in which the thickness of the coating liquid is measured in a non-contact manner with the coating liquid. The film thickness meter 202 described in the embodiment is an example of a thickness measuring device.

ダイブロック210は、スリット22の第二方向の長さである、スリット22の幅を調整する幅調整装置を備える。なお、図5では幅調整装置の図示を省略するは、幅調整装置は符号230を用いて図6に図示する。 The die block 210 includes a width adjusting device for adjusting the width of the slit 22, which is the length of the slit 22 in the second direction. Although the width adjusting device is not shown in FIG. 5, the width adjusting device is shown in FIG. 6 using reference numeral 230.

〔ダイブロックの構成例〕
図6は図5に示すダイブロックに適用される幅調整装置の模式図である。スリット22は第一方向について複数の領域22Aが規定される。幅調整装置230は、領域22Aごとにスリット22の幅を調整する。
[Die block configuration example]
FIG. 6 is a schematic view of a width adjusting device applied to the die block shown in FIG. The slit 22 defines a plurality of regions 22A in the first direction. The width adjusting device 230 adjusts the width of the slit 22 for each region 22A.

図6には、領域22Aごとに具備される遮蔽板232の第二方向の位置を移動させる態様を例示する。幅調整装置230は、遮蔽板232と連結する遮蔽板移動機構及び遮蔽板移動機構と連結する遮蔽板移動モータを備える。なお、遮蔽板移動機構及び遮蔽板移動モータの図示を省略する。 FIG. 6 illustrates an embodiment in which the position of the shielding plate 232 provided for each region 22A is moved in the second direction. The width adjusting device 230 includes a shielding plate moving mechanism connected to the shielding plate 232 and a shielding plate moving motor connected to the shielding plate moving mechanism. It should be noted that the illustration of the shielding plate moving mechanism and the shielding plate moving motor is omitted.

幅調整装置230は、膜厚計202の測定結果に基づき、遮蔽板232の位置を調整する。スロット24の第一方向の位置ごとの第三方向における流路長の違いに起因して、第一方向について、スリット22から吐出させる塗布液の吐出量に差が生じ得る。幅調整装置230は、第一方向における吐出量の差に応じてスリット22の幅を調整する。これにより、第一方向における吐出量の差が抑制される。 The width adjusting device 230 adjusts the position of the shielding plate 232 based on the measurement result of the film thickness meter 202. Due to the difference in the flow path length in the third direction for each position of the slot 24 in the first direction, there may be a difference in the discharge amount of the coating liquid discharged from the slit 22 in the first direction. The width adjusting device 230 adjusts the width of the slit 22 according to the difference in the discharge amount in the first direction. As a result, the difference in the discharge amount in the first direction is suppressed.

幅調整装置230は、目標の塗布液の厚みの情報を取得し、目標の塗布液の厚みの情報に基づきスリット22の幅を調整し得る。幅調整装置230は、塗布液の物性値を取得し、塗布液の物性値に基づきスリット22の幅を調整し得る。幅調整装置230に適用されるスリット22の幅の調整範囲は、5マイクロメートル以上500マイクロメートル以下とし得る。 The width adjusting device 230 can acquire information on the thickness of the target coating liquid and adjust the width of the slit 22 based on the information on the thickness of the target coating liquid. The width adjusting device 230 can acquire the physical property value of the coating liquid and adjust the width of the slit 22 based on the physical property value of the coating liquid. The width adjustment range of the slit 22 applied to the width adjusting device 230 may be 5 micrometers or more and 500 micrometers or less.

〔塗布装置の機能ブロック〕
図7は図5に示す塗布装置の機能ブロック図である。塗布装置200に具備されるプロセッサ101は、幅調整制御部234及び情報取得部236を備える。幅調整制御部234は、幅調整装置230を制御する。幅調整制御部234は、膜厚計202の測定結果を取得し、測定結果に応じて幅調整装置230を動作させて、スリット22の幅を領域22Aごとに調整する。
[Functional block of coating device]
FIG. 7 is a functional block diagram of the coating device shown in FIG. The processor 101 included in the coating device 200 includes a width adjustment control unit 234 and an information acquisition unit 236. The width adjustment control unit 234 controls the width adjustment device 230. The width adjustment control unit 234 acquires the measurement result of the film thickness meter 202, operates the width adjustment device 230 according to the measurement result, and adjusts the width of the slit 22 for each region 22A.

プロセッサ101は、膜厚計202の測定結果をディスプレイ装置120へ表示させ、膜厚計202の測定結果を見たユーザが入力装置130を用いて入力したスリット22の幅に応じて、幅調整装置230を制御してもよい。 The processor 101 displays the measurement result of the film thickness meter 202 on the display device 120, and the width adjusting device according to the width of the slit 22 input by the user who saw the measurement result of the film thickness meter 202 using the input device 130. 230 may be controlled.

情報取得部236は、目標とする塗布液の厚みの情報及び塗布液の物性値等の情報を取得する。幅調整制御部234は、情報取得部236を用いて取得した各種の情報に基づき、幅調整装置230を制御する。 The information acquisition unit 236 acquires information such as information on the thickness of the target coating liquid and information on the physical property values of the coating liquid. The width adjustment control unit 234 controls the width adjustment device 230 based on various information acquired by using the information acquisition unit 236.

[第二実施形態に係る塗布装置の作用効果]
第二実施形態に係る塗布装置200によれば、以下の作用効果を得ることが可能である。
[Operation and effect of the coating device according to the second embodiment]
According to the coating device 200 according to the second embodiment, the following effects can be obtained.

〔1〕
第一方向についてスリット22に規定される領域22Aごとに、スリット22の幅が調整される。これにより、基材Sに塗布される塗布液の第一方向における塗布量の分布を抑制し得る。
[1]
The width of the slit 22 is adjusted for each region 22A defined in the slit 22 in the first direction. Thereby, the distribution of the coating amount in the first direction of the coating liquid applied to the base material S can be suppressed.

〔2〕
基材Sに塗布される塗布液の厚みを測定する膜厚計202を備え、膜厚計202は第一方向における複数の位置の塗布液の厚みを測定する。膜厚計202の測定結果は幅調整制御部234へ送信される。これにより、幅調整制御部234は膜厚計202の測定結果に基づきスリット22の幅を調整し得る。
[2]
A film thickness meter 202 for measuring the thickness of the coating liquid applied to the base material S is provided, and the film thickness meter 202 measures the thickness of the coating liquid at a plurality of positions in the first direction. The measurement result of the film thickness meter 202 is transmitted to the width adjustment control unit 234. As a result, the width adjustment control unit 234 can adjust the width of the slit 22 based on the measurement result of the film thickness meter 202.

〔3〕
目標の塗布液の厚みの情報を取得する情報取得部236を備える。これにより、幅調整制御部234は目標の塗布液の厚みの情報に基づきスリット22の幅を調整し得る。
[3]
An information acquisition unit 236 for acquiring information on the thickness of the target coating liquid is provided. As a result, the width adjustment control unit 234 can adjust the width of the slit 22 based on the information on the thickness of the target coating liquid.

〔4〕
塗布液の物性値の情報を取得する情報取得部236を備える。これにより、幅調整制御部234は塗布液の物性値の情報に基づきスリット22の幅を調整し得る。
[4]
An information acquisition unit 236 for acquiring information on the physical property values of the coating liquid is provided. As a result, the width adjustment control unit 234 can adjust the width of the slit 22 based on the information on the physical property values of the coating liquid.

[第三実施形態に係る塗布装置]
〔全体構成〕
図8は第三実施形態に係る塗布装置の全体構成図である。同図に示す塗布装置300は、基材Sへ塗布された塗布液をかき取るブレード302を備える。ブレード302は、基材搬送方向におけるダイブロック20の下流側の位置であり、基材搬送方向における膜厚計202の上流側の位置に配置される。
[Applying device according to the third embodiment]
〔overall structure〕
FIG. 8 is an overall configuration diagram of the coating device according to the third embodiment. The coating device 300 shown in the figure includes a blade 302 that scrapes off the coating liquid applied to the base material S. The blade 302 is a position on the downstream side of the die block 20 in the substrate transport direction, and is arranged at a position on the upstream side of the film thickness meter 202 in the substrate transport direction.

ブレード302は、第一方向について基材Sの全長に対応する長さを有する。ブレード302は、第一方向について、基材Sの全長に対応する長さに渡って、複数の短尺のブレードを並べた構成を採用し得る。 The blade 302 has a length corresponding to the total length of the base material S in the first direction. The blade 302 may adopt a configuration in which a plurality of short blades are arranged side by side in the first direction over a length corresponding to the total length of the base material S.

ブレード302は、ブレード302の第三方向における位置を調整するブレード位置調整装置を用いて支持される。図8ではブレード位置調整装置の図示を省略する。ブレード位置調整装置は符号310を用いて図9に図示する。 The blade 302 is supported by using a blade position adjusting device that adjusts the position of the blade 302 in the third direction. In FIG. 8, the blade position adjusting device is not shown. The blade position adjusting device is illustrated in FIG. 9 using reference numeral 310.

ブレード位置調整装置は、ブレード位置調整機構及びブレード位置調整モータを備える。ブレード位置調整機構はブレード位置調整モータと連結される。なお、ブレード位置調整機構及びブレード位置調整モータの図示を省略する。なお、実施形態に記載のブレードは塗布液除去装置の構成要素の一例である。 The blade position adjusting device includes a blade position adjusting mechanism and a blade position adjusting motor. The blade position adjusting mechanism is connected to the blade position adjusting motor. The blade position adjustment mechanism and the blade position adjustment motor are not shown. The blade described in the embodiment is an example of a component of the coating liquid removing device.

〔塗布装置の機能ブロック〕
図9は図8に示す塗布装置の機能ブロック図である。塗布装置300に具備されるプロセッサ103は、ブレード位置調整制御部312を備える。ブレード位置調整制御部312は、情報取得部236を介して目標の塗布液の厚みの情報を取得し、ブレード位置調整装置310の動作を制御して、目標の塗布液の厚みに応じてブレード302の位置を調整し得る。
[Functional block of coating device]
FIG. 9 is a functional block diagram of the coating device shown in FIG. The processor 103 provided in the coating device 300 includes a blade position adjustment control unit 312. The blade position adjustment control unit 312 acquires information on the thickness of the target coating liquid via the information acquisition unit 236, controls the operation of the blade position adjustment device 310, and the blade 302 according to the thickness of the target coating liquid. The position of can be adjusted.

ブレード位置調整制御部312は、ブレード位置調整装置310の動作を制御して、膜厚計202を用いて測定された基材Sにおける塗布液の厚みに応じて、ブレード302の位置を調整し得る。 The blade position adjustment control unit 312 can control the operation of the blade position adjustment device 310 to adjust the position of the blade 302 according to the thickness of the coating liquid on the base material S measured using the film thickness meter 202. ..

本実施形態では、基材Sへ塗布された塗布液をかき取る部材としてブレードを例示したが、ブレードに代わり、円筒形状を有し、中心軸を回転可能に支持されるバー等の他の部材を適用してもよい。バーが適用される態様では、バーの回転速度はより低速で回転させるとよい。 In the present embodiment, the blade is exemplified as a member for scraping the coating liquid applied to the base material S, but instead of the blade, another member such as a bar having a cylindrical shape and rotatably supported by the central axis. May be applied. In the embodiment in which the bar is applied, the rotation speed of the bar may be slower.

[第三実施形態に係る塗布装置の作用効果]
第三実施形態に係る塗布装置300によれば、以下の作用効果を得ることが可能である。
[Operation and effect of the coating device according to the third embodiment]
According to the coating device 300 according to the third embodiment, the following effects can be obtained.

〔1〕
基材Sへ塗布される塗布液をかき取るブレード302を備える。ブレード302はダイブロック20の基材搬送方向の下流側の位置に配置される。これにより、基材Sに対して規定の塗布量よりも多めに塗布液を塗布し、レベリングを促進させた後に、規定の塗布量に応じた塗布液の薄層化を実施し得る。
[1]
A blade 302 for scraping the coating liquid applied to the base material S is provided. The blade 302 is arranged at a position on the downstream side of the die block 20 in the substrate transport direction. As a result, the coating liquid can be applied to the base material S in a larger amount than the specified coating amount to promote leveling, and then the coating liquid can be thinned according to the specified coating amount.

〔2〕
基材搬送方向におけるブレード302の下流側の位置に配置される膜厚計202を備える。膜厚計202の測定結果に応じて、ブレード302の第三方向の位置が調整される。これにより、塗布液の厚みの情報に応じてブレード302を用いた塗布液のかき取りが可能となる。
[2]
A film thickness meter 202 arranged at a position on the downstream side of the blade 302 in the substrate transport direction is provided. The position of the blade 302 in the third direction is adjusted according to the measurement result of the film thickness meter 202. This makes it possible to scrape the coating liquid using the blade 302 according to the information on the thickness of the coating liquid.

[第四実施形態に係る塗布装置]
図10は第四実施形態に係る塗布装置の全体構成図である。図10にはダイブロック420の一部を拡大して図示する。同図に示す塗布装置400に具備されるダイブロック420は、回収スリット423及び回収流路425を備える。
[Applying device according to the fourth embodiment]
FIG. 10 is an overall configuration diagram of the coating device according to the fourth embodiment. In FIG. 10, a part of the die block 420 is enlarged and shown. The die block 420 provided in the coating device 400 shown in the figure includes a recovery slit 423 and a recovery flow path 425.

回収スリット423は、基材搬送方向におけるスリット22の下流側の位置に形成される。回収流路425の一方の端は、回収スリット423と接続される。回収流路425の他方の端は、回収用の液プールと接続される。回収用の液プールは回収用の流路及び回収用のポンプを介して回収用のタンクと接続される。なお、回収用の液プール、回収用の流路、回収用のポンプ及び回収用のタンクの図示を省略する。 The recovery slit 423 is formed at a position on the downstream side of the slit 22 in the substrate transport direction. One end of the recovery channel 425 is connected to the recovery slit 423. The other end of the recovery channel 425 is connected to the recovery liquid pool. The recovery liquid pool is connected to the recovery tank via a recovery channel and a recovery pump. It should be noted that the illustration of the liquid pool for recovery, the flow path for recovery, the pump for recovery, and the tank for recovery is omitted.

ダイブロック420は、規定量よりも多めの塗布液を基材Sへ塗布し、回収スリット423から余剰の塗布液を回収する。これにより、基材Sに塗布される塗布液が薄膜化される。また、ダイブロック420は、塗布液を回収する際に塗布液と同伴するエアを塗布液から除去し得る。これにより、基材Sへ塗布される塗布液の薄膜化及びエアの排除の両立が可能となる。なお、実施形態に記載の回収スリット423及び回収流路425は回収装置の構成要素の一例である。 The die block 420 applies a coating liquid larger than the specified amount to the base material S, and recovers the excess coating liquid from the recovery slit 423. As a result, the coating liquid applied to the base material S is thinned. Further, the die block 420 can remove the air accompanying the coating liquid from the coating liquid when collecting the coating liquid. This makes it possible to reduce the thickness of the coating liquid applied to the base material S and eliminate air. The recovery slit 423 and the recovery flow path 425 described in the embodiment are examples of the components of the recovery device.

[第四実施形態に係る塗布装置の作用効果]
第四実施形態に係る塗布装置400によれば、基材Sへ規定量よりも多めに塗布液を塗布し、基材Sにおける余剰の塗布液が回収される。これにより、基材Sへ塗布される塗布液の薄膜化及び塗布液と同伴するエアの排除の両立が可能となる。
[Operation and effect of the coating device according to the fourth embodiment]
According to the coating apparatus 400 according to the fourth embodiment, the coating liquid is applied to the base material S in a larger amount than the specified amount, and the excess coating liquid in the base material S is recovered. This makes it possible to reduce the thickness of the coating liquid applied to the base material S and to eliminate the air accompanying the coating liquid.

[塗布方式が異なる塗布装置の比較]
図11は他の塗布方式との効果の違いを説明する表である。図11には、グラビア方式、バーコータ方式及びスロットダイコータ方式のそれぞれについて、セル形状、ブレード等の液かき取り部材の有無、模式的な転写直前の液膜状態及び模式的な転写後の液膜状態を示す。
[Comparison of coating devices with different coating methods]
FIG. 11 is a table for explaining the difference in effect from other coating methods. In FIG. 11, for each of the gravure method, the bar coater method, and the slot die coater method, the cell shape, the presence or absence of a liquid scraping member such as a blade, the liquid film state immediately before the typical transfer, and the liquid film state after the typical transfer are shown. Is shown.

図11にはグラビア方式の例として、ダイレクト方式、キスリバース方式及びオフセット方式を例示する。また、図11に示すスロットダイコータは、ダイコータ方式に対応する。 FIG. 11 illustrates a direct method, a kiss reverse method, and an offset method as examples of the gravure method. Further, the slot die coater shown in FIG. 11 corresponds to the die coater method.

基材Sへ塗布される塗布液の均一化及び薄膜化を実現するには、基材Sへ塗布液を転写する直前で、塗布部材上の液膜の状態は三次元の連続な膜を成すことが好ましい。転写される直前の連続な膜において、基材幅方向ついて膜厚を一定とし、かつ、基材搬送方向について膜厚を一定とし、基材Sへ塗布される塗布液に対して、高速、かつ、均一に薄膜塗布適性を付与し得る。 In order to achieve homogenization and thinning of the coating liquid applied to the base material S, the state of the liquid film on the coating member forms a three-dimensional continuous film immediately before the coating liquid is transferred to the base material S. Is preferable. In the continuous film immediately before transfer, the film thickness is constant in the width direction of the substrate and constant in the transport direction of the substrate, and the film thickness is high with respect to the coating liquid applied to the substrate S. , The film thickness coating suitability can be imparted uniformly.

ここでいう転写は塗布と同義である。液膜とは薄膜状態の塗布液を意味する。膜厚は塗布液の厚みを意味する。また、基材幅方向は、基材搬送方向と直交し、かつ、基材Sの塗布面と平行な方向である。 Transcription here is synonymous with coating. The liquid film means a coating liquid in a thin film state. The film thickness means the thickness of the coating liquid. Further, the base material width direction is orthogonal to the base material transport direction and parallel to the coating surface of the base material S.

グラビア方式は、グラビアロール等の計量ローラの余剰な塗布液が、ブレード等のかき取り部材を用いてかき取られ、基材Sへ塗布液が塗布される直前において、塗布液はセル及び溝の内部のみに存在し、塗布液が非連続な状態となっている。 In the gravure method, the excess coating liquid of the measuring roller such as the gravure roll is scraped off by using a scraping member such as a blade, and the coating liquid is applied to the cell and the groove immediately before the coating liquid is applied to the base material S. It exists only inside, and the coating liquid is in a discontinuous state.

グラビア方式では、非連続な状態のままの塗布液が基材Sへ塗布される。高速の塗布が実施される場合、塗布液の物性値に起因して塗布液のレベリングが十分に進まず、基材Sへの塗布液の均一な塗布は困難である。 In the gravure method, the coating liquid in a discontinuous state is applied to the base material S. When high-speed coating is performed, the leveling of the coating liquid does not proceed sufficiently due to the physical characteristics of the coating liquid, and it is difficult to uniformly apply the coating liquid to the base material S.

孤立していない斜線状の溝が適用される計量ローラが適用されるグラビア方式であっても、セルが具備されるグラビアロールを備える態様と同様に、基材Sへの塗布液の均一な塗布は困難である。また、グラビア方式は、計量ローラへかき取り部材を当接させる方式であり、計量ローラの摩耗に起因して塗布量が安定しないという課題が存在する。 Even in the gravure method in which a measuring roller to which a non-isolated diagonal groove is applied is applied, uniform application of the coating liquid to the substrate S is performed as in the embodiment provided with the gravure roll provided with the cell. It is difficult. Further, the gravure method is a method in which the scraping member is brought into contact with the measuring roller, and there is a problem that the coating amount is not stable due to the wear of the measuring roller.

バーコータ方式は、斜線状の溝が形成されるバーコーターが用いられるが、余剰な塗布液のかき取りが行われないので、基材Sへ塗布液が塗布される直前において、塗布液が連続している。そうすると、基材Sへ塗布液が塗布された直後に、速やかに塗布液がレベリングされ、高速の塗布が実施される場合であっても、塗布液のある程度の均一性を確保し得る。しかし、基材Sへ塗布された直後の塗布液における、厚みの均一性の確保は困難である。 In the bar coater method, a bar coater in which diagonal grooves are formed is used, but since excess coating liquid is not scraped off, the coating liquid is continuously applied immediately before the coating liquid is applied to the base material S. ing. Then, immediately after the coating liquid is applied to the base material S, the coating liquid is immediately leveled, and even when high-speed coating is performed, a certain degree of uniformity of the coating liquid can be ensured. However, it is difficult to ensure the uniformity of thickness in the coating liquid immediately after being applied to the base material S.

これに対して、スリット22から塗布液を吐出させて、基材Sへ塗布液が直接塗布されるダイコータ方式の塗布装置は、セル及び溝等が形成される計量ローラを使用しないので、基材Sへ塗布液が塗布された直後に、基材Sへ塗布された直後の塗布液における、厚みの均一性を確保し得る。 On the other hand, the die coater type coating device in which the coating liquid is discharged from the slit 22 and the coating liquid is directly applied to the base material S does not use a measuring roller in which cells, grooves and the like are formed, so that the base material is used. Immediately after the coating liquid is applied to S, the uniformity of the thickness in the coating liquid immediately after being applied to the base material S can be ensured.

また、塗布液のレベリングそのものが不要であり、薄膜化及び厚みの均一化の実現は、塗布液の表面張力、粘度及び揮発性等の塗布液の物性及び基材Sの塗布液に対する濡れ性に左右されない。 In addition, leveling of the coating liquid itself is not required, and the realization of thinning and uniform thickness is due to the physical properties of the coating liquid such as surface tension, viscosity and volatility of the coating liquid, and the wettability of the base material S to the coating liquid. It doesn't depend on it.

図12は他の塗布方式との性能の違いを説明する説明図である。図12には、グラフ形式を用いて、グラビア方式、バーコータ方式及びダイコータ方式について、相互の性能の違いを図示する。 FIG. 12 is an explanatory diagram illustrating a difference in performance from other coating methods. FIG. 12 illustrates the difference in performance between the gravure method, the bar coater method, and the die coater method using a graph format.

図12では、各方式の性能として、塗布液の厚みの均一性を縦軸とし、塗布液の薄膜化性能及び高速塗布適性を横軸とするグラフを示す。なお、図12では、塗布液の厚みの均一性を膜厚均一性と記載する。厚膜は相対的に塗布液の厚みが厚い状態を表し、薄膜は相対的に塗布液の厚みが薄い状態を表す。また、グラビアコータはグラビア方式に対応し、バーコータはバーコータ方式に対応し、スロットダイコータはダイコータ方式に対応する。 FIG. 12 shows a graph in which the uniformity of the thickness of the coating liquid is on the vertical axis and the thinning performance of the coating liquid and the suitability for high-speed coating are on the horizontal axis as the performance of each method. In FIG. 12, the uniformity of the thickness of the coating liquid is described as the uniformity of the film thickness. The thick film represents a state in which the thickness of the coating liquid is relatively thick, and the thin film represents a state in which the thickness of the coating liquid is relatively thin. In addition, the gravure coater corresponds to the gravure method, the bar coater corresponds to the bar coater method, and the slot die coater corresponds to the die coater method.

グラビア方式は、バーコータ方式及びダイコータ方式と比較して、塗布液の厚みの均一性の確保が困難であり、かつ、塗布液の薄膜化及び高速塗布適性もバーコータ方式及びダイコータ方式に劣る。バーコータ方式は、グラビア方式と比較して塗布液の厚みの均一性の確保は優れているが、ダイコータ方式と比較して塗布液の厚みの均一性の確保は劣る。 Compared with the bar coater method and the die coater method, it is difficult to secure the uniformity of the thickness of the coating liquid in the gravure method, and the thinning of the coating liquid and the suitability for high-speed coating are also inferior to the bar coater method and the die coater method. The bar coater method is superior to the gravure method in ensuring the uniformity of the thickness of the coating liquid, but the bar coater method is inferior in ensuring the uniformity of the thickness of the coating liquid as compared with the die coater method.

また、バーコータ方式は、グラビア方式と比較して、塗布液の薄膜化及び高速塗布適性は優れており、かつ、塗布液の薄膜化及び高速塗布適性はダイコータ方式と同程度である。一方、バーコータ方式は、ダイコータ方式と比較して塗布液の厚みの均一性の確保は劣る。 Further, the bar coater method is superior to the gravure method in thinning and high-speed coating suitability of the coating liquid, and the thin-filming and high-speed coating suitability of the coating liquid is about the same as that of the die coater method. On the other hand, the bar coater method is inferior in ensuring the uniformity of the thickness of the coating liquid as compared with the die coater method.

これに対して、ダイコータ方式は、グラビア方式及びバーコータ方式と比較して、塗布液の厚みの均一性、塗布液の薄膜化及び高速塗布適性のいずれも優れている。 On the other hand, the die coater method is superior to the gravure method and the bar coater method in terms of the uniformity of the thickness of the coating liquid, the thinning of the coating liquid, and the suitability for high-speed coating.

[塗布液]
〔粘度〕
塗布液の粘度は、0.5ミリパスカル秒以上5.0ミリパスカル秒以下の範囲が好ましい。塗布液の粘度が0.5ミリパスカル未満の場合は、塗布液の流動性が高過ぎて、塗布液の飛散生じ得る。一方、塗布液の粘度が5.0ミリパスカル秒を超える場合は、塗布液の流動性が低過ぎてレベリングが困難となり、塗布液の面形状の悪化が生じ得る。
[Coating liquid]
〔viscosity〕
The viscosity of the coating liquid is preferably in the range of 0.5 millipascals or more and 5.0 millipascals or less. If the viscosity of the coating liquid is less than 0.5 millipascals, the fluidity of the coating liquid is too high and the coating liquid may scatter. On the other hand, when the viscosity of the coating liquid exceeds 5.0 millipascal seconds, the fluidity of the coating liquid is too low, leveling becomes difficult, and the surface shape of the coating liquid may deteriorate.

〔表面張力〕
図13は基材及び塗布液における表面張力の評価試験の結果を示す表である。評価試験では、同図に示す基材Sの表面張力及び塗布液の表面張力について評価をした。評価の観点は、塗布液ハジキ及び塗布膜厚のムラとした。
〔surface tension〕
FIG. 13 is a table showing the results of the evaluation test of the surface tension of the base material and the coating liquid. In the evaluation test, the surface tension of the base material S and the surface tension of the coating liquid shown in the figure were evaluated. From the viewpoint of evaluation, the coating liquid repellent and the coating film thickness were uneven.

基材Sは、表面に対してコロナ放電処理を施し、27ミリニュートン毎メートルから65ミリニュートン毎メートルの範囲について、段階的に表面張力γを調整した。基材Sの表面張力γは、ISO8296に規定されるプラスチック-フィルム及びシートぬれ張力試験方法に準拠する測定方法を適用して測定した。 The surface of the base material S was subjected to a corona discharge treatment, and the surface tension γ s was adjusted stepwise in the range of 27 millinewtons per meter to 65 millinewtons per meter. The surface tension γ s of the base material S was measured by applying a measuring method based on the plastic-film and sheet wetting tension test method specified in ISO 8296.

塗布液は、界面活性剤の種類及び添加量を調整して、25ミリニュートン毎メートルから50ミリニュートン毎メートルの範囲について、段階的に表面張力γpcを調整した。塗布液の表面張力γpcは、表面張力計を用いて測定した。 The surface tension γ pc of the coating liquid was adjusted stepwise in the range of 25 millinewtons per meter to 50 millinewtons per meter by adjusting the type and amount of the surfactant added. The surface tension γ pc of the coating liquid was measured using a surface tension meter.

ハジキの評価試験では、基材Sへ塗布された塗布液のハジキの状態を目視にて観察した。ハジキの評価結果における+はハジキの非発生を表す。また、ハジキの評価結果における-はハジキの発生を表す。 In the evaluation test of repellent, the state of repellent of the coating liquid applied to the base material S was visually observed. + In the evaluation result of repellent indicates non-occurrence of repellent. In addition,-in the evaluation result of repellent indicates the occurrence of repellent.

塗布膜厚ムラの評価試験では、幅方向の長さが580ミリメートルの基材Sへ塗布液を塗布し、幅方向に並ぶ複数の膜厚測定位置における測定値Mから評価値Eを算出した。膜厚の測定位置は九か所とした。なお、iは1から9までの整数である。 In the evaluation test of coating film thickness unevenness, the coating liquid was applied to the base material S having a length of 580 mm in the width direction, and the evaluation value E was calculated from the measured values Mi at a plurality of film thickness measurement positions arranged in the width direction. .. The film thickness was measured at nine locations. Note that i is an integer from 1 to 9.

評価値Eは以下の手順を適用して算出した。全ての測定位置における測定値Mの平均値Maveを算出する。全ての測定値Mのうち、平均値Maveとの差の絶対値|M-Mave|が最大となる測定値Mmax及び平均値Maveとの差の絶対値|M-Mave|が最小となる測定値Mminを算出する。測定値Mmaxから測定値Mminを減算した値の平均値Maveに対する比率(Mmax-Mmin)/Mave×100を算出し、これを評価値Eとした。 The evaluation value E was calculated by applying the following procedure. The average value Mave of the measured values Mi at all the measurement positions is calculated. Of all the measured values Mi , the absolute value of the difference from the mean value M ave | M i -M ave | is the maximum measured value M max and the absolute value of the difference from the mean value M ave | Calculate the measured value M min that minimizes ave |. The ratio (M max −M min ) / Mave × 100 of the value obtained by subtracting the measured value M min from the measured value M max to the average value M ave was calculated, and this was used as the evaluation value E.

図13に示す塗布膜厚ムラの評価欄に記載のAは、評価値Eがプラスマイナス5パーセント未満の場合を表す。同欄に記載Bは、評価値Eがプラスマイナス5パーセント以上10パーセント未満の場合を表す。同欄に記載Cは、評価値Eがプラスマイナス10パーセント以上20パーセント未満の場合を表す。同欄に記載Dは、評価値Eがプラスマイナス20パーセント以上の場合を表す。 A described in the evaluation column of coating film thickness unevenness shown in FIG. 13 represents a case where the evaluation value E is less than plus or minus 5%. B described in the same column represents a case where the evaluation value E is plus or minus 5% or more and less than 10%. C described in the same column represents a case where the evaluation value E is plus or minus 10% or more and less than 20%. The D described in the same column represents the case where the evaluation value E is plus or minus 20% or more.

上記の評価観点に基づく、好ましい基材S及び塗布液の表面張力の条件は、塗布液のハジキの評価が+であり、塗布膜厚ムラの評価がA又はBとなる基材S及び塗布液の表面張力の範囲である。 Based on the above evaluation viewpoint, the preferable conditions for the surface tension of the base material S and the coating liquid are that the evaluation of the repellent of the coating liquid is + and the evaluation of the coating film thickness unevenness is A or B. Is the range of surface tension.

具体的には、塗布液の表面張力は、30ミリニュートン毎メートル以上45ミリニュートン毎メートル以下の範囲が好ましい。塗布液の表面張力が30ミリニュートン毎メートル未満の場合は、基材Sに塗布された塗布液にすじ状の塗布ムラが生じ得る。一方、塗布液の表面張力が45ミリニュートン毎メートルを超える場合は、基材Sに対する濡れ性が不足し得る。 Specifically, the surface tension of the coating liquid is preferably in the range of 30 millinewtons per meter or more and 45 millinewtons per meter or less. When the surface tension of the coating liquid is less than 30 millinewtons per meter, streak-like coating unevenness may occur in the coating liquid coated on the base material S. On the other hand, when the surface tension of the coating liquid exceeds 45 millinewtons per meter, the wettability to the base material S may be insufficient.

また、塗布液の表面張力が上記した範囲の場合に、基材Sの表面張力は30リニュートン毎メートル以上60ミリニュートン毎メートル以下の範囲が好ましい。これにより、塗布液が基材Sの表面において濡れ広がり、塗布液のレベリングが促進される。 Further, when the surface tension of the coating liquid is in the above range, the surface tension of the base material S is preferably in the range of 30 renewtons per meter or more and 60 millinewtons per meter or less. As a result, the coating liquid wets and spreads on the surface of the base material S, and the leveling of the coating liquid is promoted.

更に、インクジェット印刷装置に適用される塗布装置であり、インクと反応する処理液を塗布する塗布装置について、基材Sに対するインクの密着性の観点で、基材Sの表面張力及び塗布液の表面張力を評価した。 Further, regarding the coating device applied to the inkjet printing device and for applying the treatment liquid that reacts with the ink, the surface tension of the base material S and the surface of the coating liquid are obtained from the viewpoint of the adhesion of the ink to the base material S. Tension was evaluated.

基材Sに対するインクの密着性の評価試験では、基材SをOPP(Oriented Poly Propylene)とし、基材Sの厚みを20マイクロメートルとした。塗布液として水性インクの色材粒子を凝集させる凝集処理液を塗布した。塗布液の膜厚は1.5マイクロメートルとした。塗布液の膜厚は非接触式の膜厚計を用いて測定した。 In the evaluation test of the adhesion of the ink to the base material S, the base material S was set to OPP (Oriented Poly Propylene) and the thickness of the base material S was set to 20 micrometers. As a coating liquid, a coagulation treatment liquid that agglomerates the color material particles of the water-based ink was applied. The film thickness of the coating liquid was 1.5 micrometers. The film thickness of the coating liquid was measured using a non-contact film thickness meter.

基材の塗布液が塗布された面に対して、印刷解像度を1200ドット毎インチに設定し、平均6.0ピコリットル毎ピクセルのインクを打滴し、インクを乾燥させ、印刷物を生成した。 The print resolution was set to 1200 dots per inch on the surface coated with the coating liquid of the base material, and ink of 6.0 picolitres per pixel on average was dropped to dry the ink to produce a printed matter.

印刷物の印刷膜に対して粘着剤付きのセロハン製のテープを貼り、一秒後にセロハン製のテープを剥がし、印刷膜の剥離状態を目視にて観察した。図13の密着性評価欄のAは、印刷膜の剥離が発生していないことを表す。同欄のBは、許容範囲の印刷膜の剥離が発生することを表す。 A cellophane tape with an adhesive was attached to the printed film, and one second later, the cellophane tape was peeled off, and the peeled state of the printed film was visually observed. A in the adhesion evaluation column of FIG. 13 indicates that peeling of the printed film has not occurred. B in the same column indicates that peeling of the printing film within an allowable range occurs.

基材Sに対するインクの密着性の評価に基づく塗布液の表面張力γの範囲及び基材Sの表面張力γpcの範囲は、γ-γpc≧5.0ミリニュートン毎メートルである。これにより、基材Sに対するインクの密着性を確保し得る。 The range of the surface tension γ s of the coating liquid and the range of the surface tension γ pc of the substrate S based on the evaluation of the adhesion of the ink to the substrate S are γ s −γ pc ≧ 5.0 millinewtons per meter. As a result, the adhesion of the ink to the base material S can be ensured.

基材Sに対するインクの密着性は、基材Sに対する塗布液の密着性に依存する。したがって、上記した塗布液の表面張力γの範囲及び基材Sの表面張力γpcの範囲は、基材Sに対する塗布液の密着性を確保する条件である。 The adhesion of the ink to the base material S depends on the adhesion of the coating liquid to the base material S. Therefore, the range of the surface tension γ s of the coating liquid and the range of the surface tension γ pc of the base material S described above are conditions for ensuring the adhesion of the coating liquid to the base material S.

〔塗布液の具体例〕
塗布液は、インクジェット方式の印刷装置に適用される水性インクの色材成分を凝集させる成分が含まれ得る。水性インクの色材成分を凝集させる成分の例として、有機酸、無機酸、多価金属イオン及びカチオンポリマー等が挙げられる。
[Specific example of coating liquid]
The coating liquid may contain a component that aggregates the color material component of the water-based ink applied to the inkjet printing apparatus. Examples of the component that aggregates the color material component of the water-based ink include organic acids, inorganic acids, polyvalent metal ions, cationic polymers, and the like.

塗布液は、基材Sとの密着性の確保の観点から樹脂成分を含有する。樹脂成分は、塗布液における分散均一性の観点から、ラテックス粒子として塗布液に分散させる含有形態が好ましい。塗布液に含有するラテックスの平均粒子径は、30ナノメートル以上500ナノメートル以下の範囲が好ましい。 The coating liquid contains a resin component from the viewpoint of ensuring adhesion to the base material S. From the viewpoint of dispersion uniformity in the coating liquid, the resin component is preferably contained as latex particles in the coating liquid. The average particle size of the latex contained in the coating liquid is preferably in the range of 30 nanometers or more and 500 nanometers or less.

ラテックスの平均粒子径が30ナノメートル未満の場合、塗布液を膜化させた際に連続膜として強固になり過ぎ、図1等に示すスリット22及びスロット24に詰まった場合の清掃が困難である。一方、ラテックスの平均粒子径が500ナノメートルを超える場合、塗布液におけるラテックスの分散性が不足し、ラテックスの軟凝集に起因する詰まりが生じ得る。 When the average particle size of the latex is less than 30 nanometers, it becomes too strong as a continuous film when the coating liquid is formed into a film, and it is difficult to clean the slit 22 and the slot 24 shown in FIG. 1 and the like. .. On the other hand, when the average particle size of the latex exceeds 500 nanometers, the dispersibility of the latex in the coating liquid is insufficient, and clogging due to soft aggregation of the latex may occur.

塗布液におけるラテックスの固形分濃度は、5.0パーセント以上30パーセント以下の範囲が好ましい。固形成分濃度が5.0パーセント未満の場合、基材Sに対する塗布液の密着性が不足し得る。一方、固形成分濃度が30パーセントを超える場合、塗布液の粘度が高くなり過ぎ、基材Sに対する塗布液の塗布量の増加が生じ得る。 The solid content concentration of the latex in the coating liquid is preferably in the range of 5.0% or more and 30% or less. When the solid component concentration is less than 5.0%, the adhesion of the coating liquid to the base material S may be insufficient. On the other hand, when the solid component concentration exceeds 30%, the viscosity of the coating liquid becomes too high, and the coating amount of the coating liquid on the base material S may increase.

塗布液は界面活性剤が添加される。これにより、塗布液の潤滑性が向上し、更に、スリット22から吐出させる際のせん断力の低下が見込まれる。界面活性剤の添加量は0.1重量パーセント以上1.0重量パーセント以下の範囲が好ましい。界面活性剤の添加量が0.1重量パーセント未満の場合は、上記の効果を得ることが困難である。 A surfactant is added to the coating liquid. As a result, the lubricity of the coating liquid is improved, and further, the shearing force when the coating liquid is discharged from the slit 22 is expected to decrease. The amount of the surfactant added is preferably in the range of 0.1% by weight or more and 1.0% by weight or less. When the amount of the surfactant added is less than 0.1% by weight, it is difficult to obtain the above effect.

酸性の塗布液に適用される好ましい界面活性剤の種類の例として、ノニオン性及びアニオン性が挙げられる。なお、界面活性剤の種類は上記の例に限定されない。 Examples of preferred types of surfactants applied to acidic coatings include nonionic and anionic properties. The type of surfactant is not limited to the above example.

[インクジェット印刷装置への適用例]
図14は実施形態に係る塗布装置が適用されるインクジェット印刷装置の全体構成図である。印刷装置500は、水性インクの色材成分を凝集させるプレコート液を基材512へ塗布するプレコート部530を備える。プレコート部530は、実施形態に係る塗布装置が適用される。
[Example of application to inkjet printing equipment]
FIG. 14 is an overall configuration diagram of an inkjet printing apparatus to which the coating apparatus according to the embodiment is applied. The printing apparatus 500 includes a precoat portion 530 that applies a precoat liquid that aggregates the color material components of the water-based ink to the base material 512. The coating device according to the embodiment is applied to the precoat portion 530.

印刷装置500は、連続媒体である基材512へシングルパス方式で画像を印刷するロールツーロール方式のインクジェット印刷装置である。基材512は、軟包装に用いられる透明のフィルム基材等の非浸透媒体を適用し得る。なお、実施形態に記載の基材512は印刷媒体の一例である。 The printing device 500 is a roll-to-roll inkjet printing device that prints an image on a substrate 512, which is a continuous medium, by a single-pass method. As the base material 512, a non-penetrating medium such as a transparent film base material used for flexible packaging can be applied. The base material 512 described in the embodiment is an example of a printing medium.

印刷装置500は、巻出部520、プレコート部530、プレコート乾燥部532、第一サクションドラム540、第二サクションドラム542、ジェッティング部550、イメージセンサ560及び巻取部570を備える。 The printing apparatus 500 includes a winding unit 520, a precoat unit 530, a precoat drying unit 532, a first suction drum 540, a second suction drum 542, a jetting unit 550, an image sensor 560, and a winding unit 570.

巻出部520から巻取部570までの基材512の搬送経路を基材搬送経路という。基材搬送経路に沿った基材搬送方向を基材搬送方向という。基材搬送経路について上流側とは巻出部520に近い側を意味し、下流側とは巻取部570に近い側を意味する。 The transport path of the base material 512 from the unwinding section 520 to the take-up section 570 is referred to as a base material transport path. The base material transporting direction along the base material transport path is called the base material transport direction. Regarding the substrate transport path, the upstream side means the side close to the unwinding portion 520, and the downstream side means the side close to the winding portion 570.

巻出部520から基材搬送経路に沿って、プレコート部530、プレコート乾燥部532、第一サクションドラム540、第二サクションドラム542、ジェッティング部550、イメージセンサ560及び巻取部570が、この順序で配置される。 Along the substrate transport path from the unwinding section 520, the precoat section 530, the precoat drying section 532, the first suction drum 540, the second suction drum 542, the jetting section 550, the image sensor 560 and the winding section 570 are Arranged in order.

巻出部520から巻き出された基材512を基材搬送経路に沿って巻取部570へと搬送する基材搬送装置580は、第一サクションドラム540及び第二サクションドラム542を備えるロールツーロール搬送機構である。基材搬送装置580は、巻出部520及び巻取部570を含んで構成されてもよい。 The base material transfer device 580 that conveys the base material 512 unwound from the unwinding unit 520 to the take-up unit 570 along the base material transfer path is a roll-to-roll device including a first suction drum 540 and a second suction drum 542. It is a roll transfer mechanism. The base material transfer device 580 may be configured to include a winding unit 520 and a winding unit 570.

巻出部520は、巻出ロール522が配置される。巻出ロール522は、未印刷の基材512がロール状に巻かれているロールである。巻出部520は、巻出ロール522のコア524を回転可能に支持する巻出装置を備える。 The unwinding roll 522 is arranged in the unwinding portion 520. The unwinding roll 522 is a roll in which an unprinted base material 512 is wound in a roll shape. The unwinding unit 520 includes an unwinding device that rotatably supports the core 524 of the unwinding roll 522.

巻取部570は、巻取ロール572が配置される。巻取ロール572は、ジェッティング部550を用いて印刷が行われた印刷済みの基材512がロール状に巻き取られたロールである。巻取部570は巻取装置を備える。巻取装置に保持された巻取リールは巻出部520から巻き出された基材512の一端が接続される。 A take-up roll 572 is arranged in the take-up portion 570. The take-up roll 572 is a roll in which the printed base material 512 printed using the jetting portion 550 is wound into a roll shape. The take-up unit 570 includes a take-up device. The take-up reel held by the take-up device is connected to one end of the base material 512 unwound from the unwinding portion 520.

印刷装置500は、ジェッティング部550における印刷の前に、プレコート部530において基材512の印刷面512Aにプレコート液が塗布される。プレコート部530は、ジェッティング部550よりも基材搬送経路の上流側の位置に配置される。 In the printing apparatus 500, the precoating liquid is applied to the printing surface 512A of the base material 512 in the precoating section 530 before printing in the jetting section 550. The precoat portion 530 is arranged at a position on the upstream side of the substrate transport path with respect to the jetting portion 550.

プレコート液は、基材512へインク液滴が着弾した際の濃度ムラ及び基材512とインク液滴との密着ムラの発生を抑制する。印刷装置500は、水性インク及びプレコート液を用いて、インクジェット印刷の高速化を実現し、高速印刷においても濃度及び解像度の高い描画性、例えば細線や微細部分の再現性に優れた画像が得られる。 The precoat liquid suppresses the occurrence of uneven density when the ink droplets land on the base material 512 and uneven adhesion between the base material 512 and the ink droplets. The printing apparatus 500 realizes high-speed inkjet printing by using a water-based ink and a precoat liquid, and can obtain an image having high density and high resolution drawing performance, for example, reproducibility of fine lines and fine portions even in high-speed printing. ..

プレコート部530は、プレコート液として水性プライマーを塗布する。水性プライマーは、水及び水性インク中の色材成分を凝集又は不溶化させる成分を含む。水性プライマーは、水及びインクを増粘させる成分を含む態様を適用してもよい。 The precoat portion 530 is coated with an aqueous primer as a precoat liquid. Aqueous primers include components that aggregate or insolubilize the colorant components in water and water-based inks. As the aqueous primer, an embodiment containing a component that thickens water and ink may be applied.

プレコート乾燥部532は、プレコート部530を用いて基材512の印刷面512Aに塗布された水性プライマーを乾燥させる処理を行う。プレコート乾燥部532は、温風ヒータを備える。温風ヒータの例として、基材512の幅全体に渡るスリットノズルを備える態様が挙げられる。 The precoat drying unit 532 uses the precoating unit 530 to dry the aqueous primer applied to the printed surface 512A of the base material 512. The precoat drying section 532 includes a warm air heater. As an example of the hot air heater, there is an embodiment provided with a slit nozzle over the entire width of the base material 512.

プレコート液のレベリングの促進の観点から、基材512の表面張力は、30ミリニュートン毎メートル以上60ミリニュートン毎メートル以下が好ましい。 From the viewpoint of promoting the leveling of the precoat liquid, the surface tension of the base material 512 is preferably 30 millinewtons per meter or more and 60 millinewtons per meter or less.

また、基材512の表面張力をγとし、プレコート液の表面張力をγpcとする場合に、基材512の表面張力をγとプレコート液の表面張力をγpcとの関係は、γ-γpc≧5ミリニュートン毎メートルを満たすことが好ましい。これにより、インクの基材512への密着性を確保し得る。 When the surface tension of the base material 512 is γ s and the surface tension of the precoat liquid is γ pc , the relationship between the surface tension of the base material 512 is γ s and the surface tension of the precoat liquid is γ pc . It is preferable to satisfy s −γ pc ≧ 5 millinewtons per meter. Thereby, the adhesion of the ink to the base material 512 can be ensured.

プレコート乾燥部532は、基材512の印刷面512Aに向けて温風を吹き付け、水性プライマーを乾燥させる。プレコート乾燥部532の構成例として、温風ヒータのスリットノズルから温風を噴射させる態様が挙げられる。 The precoat drying unit 532 blows warm air toward the printed surface 512A of the base material 512 to dry the aqueous primer. As a configuration example of the precoat drying unit 532, there is an embodiment in which warm air is ejected from a slit nozzle of a hot air heater.

プレコート液を乾燥させた基材512は、第一サクションドラム540及び第二サクションドラム542を経由してジェッティング部550に搬送される。第一サクションドラム540及び第二サクションドラム542は、基材512に対してエアを吹き出して浮上搬送を行い、基材512の印刷面512Aに接触することなく、基材512の進行方向を基材512の印刷面512Aの側の方向に曲げる方向変換を行う無接触搬送部を適用し得る。 The base material 512 on which the precoat liquid has been dried is conveyed to the jetting unit 550 via the first suction drum 540 and the second suction drum 542. The first suction drum 540 and the second suction drum 542 blow out air to the base material 512 to carry out floating transport, and the base material 512 travels in the traveling direction without contacting the printed surface 512A of the base material 512. A non-contact transfer unit that changes the direction of bending toward the printing surface 512A of 512 may be applied.

ジェッティング部550は、インクジェットヘッド552K、インクジェットヘッド552C、インクジェットヘッド552M、インクジェットヘッド552Y及びインクジェットヘッド552Wを備える。 The jetting unit 550 includes an inkjet head 552K, an inkjet head 552C, an inkjet head 552M, an inkjet head 552Y, and an inkjet head 552W.

以下、インクジェットヘッド552K、インクジェットヘッド552C、インクジェットヘッド552M、インクジェットヘッド552Y及びインクジェットヘッド552Wを総称してインクジェットヘッド552と記載する場合がある。 Hereinafter, the inkjet head 552K, the inkjet head 552C, the inkjet head 552M, the inkjet head 552Y, and the inkjet head 552W may be collectively referred to as the inkjet head 552.

インクジェットヘッド552は、それぞれブラック、シアン、マゼンタ、イエロー及びホワイトの水性インクを吐出するプリントヘッドである。水性インクとは、水と水に可溶な溶媒に、染料及び顔料等の色材成分を溶解又は分散させたインクをいう。 The inkjet head 552 is a print head that ejects black, cyan, magenta, yellow, and white water-based inks, respectively. The water-based ink refers to an ink in which coloring material components such as dyes and pigments are dissolved or dispersed in water and a solvent soluble in water.

本実施形態において、水性インクとして水性顔料インクが適用される態様を例示する。ブラック、シアン、マゼンタ及びイエローの各水性インクの顔料は有機系の顔料が適用される。水性ホワイトインクの顔料は酸化チタンが適用される。各水性インクの粘度は、0.5ミリパスカル秒以上5.0ミリパスカル秒以下である。水性インクは水性プライマーと反応することにより増粘する。 In this embodiment, an embodiment in which a water-based pigment ink is applied as a water-based ink is illustrated. Organic pigments are applied to the pigments of the black, cyan, magenta and yellow water-based inks. Titanium oxide is applied as the pigment of the water-based white ink. The viscosity of each water-based ink is 0.5 millipascals or more and 5.0 millipascals or less. The water-based ink thickens by reacting with the water-based primer.

インクジェットヘッド552のそれぞれには、対応する色のインクタンクから配管経路を経由して、水性インクが供給される。なお、インクタンク及び配管経路の図示を省略する。 Water-based ink is supplied to each of the inkjet heads 552 from ink tanks of corresponding colors via a piping path. The illustration of the ink tank and the piping route is omitted.

インクジェットヘッド552は、基材搬送装置580を用いて搬送される基材512に対して、一回の走査を行い、印刷を行うシングルパス印刷が可能なライン型ヘッドが適用される。インクジェットヘッド552は、シリアル型ヘッドを適用してもよい。インクジェットヘッド552のノズル面には、インクを吐出させる複数のノズルが形成される。複数のノズルは二次元配置を適用し得る。また、インクジェットヘッド552の各ノズル面には、撥水膜が形成される。 As the inkjet head 552, a line-type head capable of single-pass printing is applied, in which the substrate 512 transported by the substrate transport device 580 is scanned once and printed. A serial type head may be applied to the inkjet head 552. A plurality of nozzles for ejecting ink are formed on the nozzle surface of the inkjet head 552. Multiple nozzles may apply a two-dimensional arrangement. Further, a water-repellent film is formed on each nozzle surface of the inkjet head 552.

インクジェットヘッド552は、それぞれ複数のヘッドモジュールを基材512の幅方向に繋ぎ合わせて構成することができる。なお、ノズル面、ノズル及び撥水膜の図示を省略する。なお、基材512の幅方向は、基材搬送方向と直交する方向であり、基材512の印刷面512Aに平行な方向を表す。以下、基材512の幅方向は基材幅方向と記載される場合がある。 The inkjet head 552 can be configured by connecting a plurality of head modules, respectively, in the width direction of the base material 512. The nozzle surface, the nozzle, and the water-repellent film are not shown. The width direction of the base material 512 is a direction orthogonal to the base material transport direction, and represents a direction parallel to the printing surface 512A of the base material 512. Hereinafter, the width direction of the base material 512 may be described as the base material width direction.

基材搬送装置580を用いて搬送される基材512の印刷面512Aに向けて、インクジェットヘッド552からインクの液滴が吐出される。吐出されたインクの液滴が基材512に付着し、基材512の印刷面512Aに画像が印刷される。ジェッティング部550において基材512の印刷面512Aに付与されたインクは、プレコート部530において基材512の印刷面512Aに塗布された水性プライマーによって凝縮増粘反応する。 Droplets of ink are ejected from the inkjet head 552 toward the printing surface 512A of the base material 512 to be conveyed by using the base material transfer device 580. Droplets of the ejected ink adhere to the base material 512, and an image is printed on the printing surface 512A of the base material 512. The ink applied to the printed surface 512A of the base material 512 in the jetting portion 550 undergoes a condensation thickening reaction by the aqueous primer applied to the printed surface 512A of the base material 512 in the precoat portion 530.

本実施形態では、ブラック、シアン、マゼンタ及びイエローの四色のカラーインク及びホワイトインクを用いる態様を例示したが、インク色と色数については本実施形態に限定されない。 In the present embodiment, an embodiment in which four color inks of black, cyan, magenta, and yellow and white ink are used is exemplified, but the ink color and the number of colors are not limited to the present embodiment.

例えば、ライトマゼンタ及びライトシアン等の淡色インクを用いる態様、グリーン、オレンジ、バイオレット、クリアインク及びメタリックインク等の特色インクを用いる態様を適用してもよい。また、同じ色のインクを吐出する複数のインクジェットヘッド552を配置してもよい。 For example, an embodiment using light color inks such as light magenta and light cyan, and an embodiment using special color inks such as green, orange, violet, clear ink and metallic ink may be applied. Further, a plurality of inkjet heads 552 that eject ink of the same color may be arranged.

各色のインクジェットヘッド552の配置順序についても特に限定されないが、ホワイトインクは白色背景画像を印刷する際に使用することから、インクジェットヘッド552Wは、非白色インクを吐出するインクジェットヘッド552Y等よりも下流側の位置に配置されることが好ましい。非透明の基材512が適用される態様では、インクジェットヘッド552Wを非具備としてもよい。 The arrangement order of the inkjet heads 552 of each color is not particularly limited, but since the white ink is used when printing a white background image, the inkjet head 552W is on the downstream side of the inkjet head 552Y or the like that ejects non-white ink. It is preferable to be arranged at the position of. In the embodiment to which the non-transparent base material 512 is applied, the inkjet head 552W may not be provided.

ジェッティング部550は、基材512の印刷面512Aにインクジェットヘッド552ごとの吐出状態監視パターンを印刷する。印刷装置500は、ジェッティング部550の基材搬送方向における下流側の位置に、基材512の印刷面512Aに対して乾燥処理を施すインク乾燥部を備え得る。 The jetting unit 550 prints a ejection state monitoring pattern for each inkjet head 552 on the printing surface 512A of the base material 512. The printing apparatus 500 may include an ink drying unit that performs a drying process on the printing surface 512A of the substrate 512 at a position downstream of the jetting unit 550 in the substrate transport direction.

イメージセンサ560は、基材512に印刷される吐出状態監視パターンを読み取る。印刷装置500は吐出状態監視パターンの読取データを解析して、インクジェットヘッド552の吐出状態を判定する。 The image sensor 560 reads the ejection condition monitoring pattern printed on the base material 512. The printing device 500 analyzes the reading data of the ejection state monitoring pattern and determines the ejection state of the inkjet head 552.

イメージセンサ560は、複数の光電変換素子が一列に配置されるCCDラインセンサを適用してもよいし、複数の光電変換素子が二次元状に配置されるCCDエリアセンサを適用してもよい。 As the image sensor 560, a CCD line sensor in which a plurality of photoelectric conversion elements are arranged in a row may be applied, or a CCD area sensor in which a plurality of photoelectric conversion elements are arranged two-dimensionally may be applied.

イメージセンサ560は、基材512の印刷面512Aに印刷される画像の全幅に対応する長さを有する態様を適用してもよいし、基材幅方向に沿って走査して、基材512の印刷面512Aに印刷される画像の全幅の読み取りを実施する態様を適用してもよい。 The image sensor 560 may apply an embodiment having a length corresponding to the entire width of the image printed on the printed surface 512A of the base material 512, or scan along the base material width direction to scan the base material 512. An embodiment in which the full width of the image printed on the print surface 512A is read may be applied.

インクジェット方式の印刷における各工程が実施され、印刷データに基づく画像が印刷された基材512は、巻取部570へ回収される。本実施形態では、ロールツーロール方式の基材512の搬送を例示したが、搬送ベルト及び搬送ドラム等を備える基材搬送装置を用いて枚葉の基材512を搬送する方式など、基材512の搬送は種々の搬送方式を適用し得る。 Each step in the inkjet printing is carried out, and the base material 512 on which the image based on the print data is printed is collected in the winding unit 570. In the present embodiment, the transfer of the base material 512 of the roll-to-roll method is exemplified, but the base material 512 such as a method of transporting the single-leaf base material 512 by using a base material transfer device provided with a transfer belt, a transfer drum, or the like. Various transport methods can be applied to the transport.

[インクジェット印刷装置の電気的構成の例]
印刷装置500は、プロセッサを用いて各種のプログラムを実施して、各種の制御及び各種の処理を実施する。各種の制御は、基材512の搬送制御、プレコート液の塗布制御、プレコート液の乾燥制御、インクジェットヘッド552の吐出制御及び印刷画像のスキャン制御等が含まれる。各種の処理は、色変換処理、色分解処理、補正処理、ハーフトーン機能、駆動電圧生成処理及びスキャン画像に対する画像処理等が含まれる。
[Example of electrical configuration of inkjet printing equipment]
The printing apparatus 500 executes various programs using a processor to perform various controls and various processes. Various controls include transport control of the base material 512, application control of the precoat liquid, drying control of the precoat liquid, ejection control of the inkjet head 552, scan control of the printed image, and the like. The various processes include a color conversion process, a color separation process, a correction process, a halftone function, a drive voltage generation process, an image process for a scanned image, and the like.

印刷装置500は、各種のデータ、各種のパラメータ及び各種のプログラムが記憶されるメモリを備える。プロセッサは、各種のデータ及び各種のパラメータを参照して、各種のプログラムを実行する。 The printing apparatus 500 includes a memory for storing various data, various parameters, and various programs. The processor executes various programs with reference to various data and various parameters.

[プレコート液の具体例]
図14に示す印刷装置500に適用されるプレコートの組成例は以下のとおりである。
[Specific example of precoat liquid]
An example of the composition of the precoat applied to the printing apparatus 500 shown in FIG. 14 is as follows.

マロン酸(富士フイルム和光純薬社製):4.0質量パーセント
トリイソプロパノールアミン(富士フイルム和光純薬社製):0.5質量パーセント
アクリル樹脂粒子A1:樹脂粒子の量として8.0質量パーセント
1,2-プロパンジオール(富士フイルム和光純薬社製):10質量パーセント
消泡剤TSA-739(品番)(モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製、エマルジョン型シリコーン消泡剤):15.0質量パーセント(消泡剤の固形分量として0.01質量パーセント)
水:全体として100質量パーセントとなる残部
プレコート液の調製は以下のとおりである。
Malonic acid (manufactured by Fujifilm Wako Junyaku Co., Ltd.): 4.0% by mass Triisopropanolamine (manufactured by Fujifilm Wako Junyaku Co., Ltd.): 0.5% by mass Acrylic resin particles A1: 8.0% by mass as the amount of resin particles 1,2-Propanediol (manufactured by Fujifilm Wako Junyaku Co., Ltd.): 10% by mass Defoamer TSA-739 (product number) (Momentive Performance Materials Japan GK, manufactured by Emulsion Type Silicone Defoamer): 15.0% by mass Percent (0.01% by mass as the solid content of defoamer)
Water: The preparation of the residual precoat solution, which is 100% by mass as a whole, is as follows.

アクリル樹脂粒子A1の水分散物を用いることにより、プレコート液中に樹脂粒子(C)の量として8質量%のアクリル樹脂粒子A1を含有させた。アクリル樹脂粒子A1の水分散物は、以下のようにして調製した。 By using the aqueous dispersion of the acrylic resin particles A1, the precoat liquid contained 8% by mass of the acrylic resin particles A1 as the amount of the resin particles (C). The aqueous dispersion of the acrylic resin particles A1 was prepared as follows.

攪拌機及び冷却管を備えた1000ミリリットルの三口フラスコに、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの62質量パーセント水溶液(東京化成工業社製)3.0グラム及び水376グラムを加え、窒素雰囲気下で90℃に加熱した。 To a 1000 ml three-necked flask equipped with a stirrer and a cooling tube, 3.0 g of a 62 mass percent aqueous solution of sodium dodecylbenzene sulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 376 grams of water were added and heated to 90 ° C. under a nitrogen atmosphere. bottom.

加熱された三口フラスコ中の混合溶液に、下記の溶液A、溶液B及び溶液Cを、3時間かけて同時に滴下した。滴下終了後、更に3時間反応させ、アクリル樹脂粒子A1の水分散液500グラムを得た。アクリル樹脂粒子A1の水分散液は、アクリル樹脂粒子A1の量である固形分量が10.1質量パーセントである。 The following solutions A, B and C were simultaneously added dropwise to the mixed solution in the heated three-necked flask over 3 hours. After completion of the dropping, the reaction was further carried out for 3 hours to obtain 500 grams of an aqueous dispersion of acrylic resin particles A1. The aqueous dispersion of the acrylic resin particles A1 has a solid content of 10.1% by mass, which is the amount of the acrylic resin particles A1.

溶液Aは、水20グラムに対して、2-アクリルアミド-2-メチルプ ロパンスルホン酸ナトリウムの50質量パーセント水溶液(Aldrich社製)11.0グラムを溶解した溶液である。 Solution A is a solution in which 11.0 g of a 50 mass% aqueous solution (manufactured by Aldrich) of sodium 2-acrylamide-2-methylpropansulfonate is dissolved in 20 g of water.

溶液Bは、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル(富士フイルム和光純薬工業社製)12.5グラム、アクリル酸2-(2-エトキシ)エチル(東京化成工業社製)5.0グラム、アクリル酸ベンジル(東京化成工業社製)17.0グラム及びスチレン(富士フイルム和光純薬工業社製)10.0グラムを混合した溶液である。 Solution B contains 12.5 grams of 2-hydroxyethyl methacrylate (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 5.0 grams of 2- (2-ethoxy) ethyl acrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and benzyl acrylate. It is a mixed solution of 17.0 grams (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 10.0 grams of styrene (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).

溶液Cは、水40グラムに過硫酸ナトリウム(富士フイルム和光純薬工業社製)6.0グラムを溶解した溶液である。アクリル樹脂粒子A1のガラス転移温度は26℃であった。また、アクリル樹脂粒子A1の重量平均分子量は、69000であった。 Solution C is a solution in which 6.0 grams of sodium persulfate (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is dissolved in 40 grams of water. The glass transition temperature of the acrylic resin particles A1 was 26 ° C. The weight average molecular weight of the acrylic resin particles A1 was 69000.

なお、上記したプレコート液の組成及び調整は一例であり、図14に示す印刷装置は、他の組成及を有し、かつ、他の調製を経て生成されたプレコート液を適用し得る。 The composition and adjustment of the precoat liquid described above is an example, and the printing apparatus shown in FIG. 14 can apply a precoat liquid having another composition and produced through other preparations.

[用語について]
プレコート液という用語は、前処理液及び処理液などの用語と同義であり、印刷の前に塗布される液体の総称である。プレコート液は塗布液の一例である。
[Terminology]
The term precoat liquid is synonymous with terms such as pretreatment liquid and treatment liquid, and is a general term for liquids applied before printing. The precoat liquid is an example of a coating liquid.

印刷装置という用語は、印刷機、プリンタ、印字装置、画像記録装置、画像形成装置、画像出力装置及び描画装置等の用語と同義である。画像は広義に解釈するものとし、カラー画像、白黒画像、単一色画像、グラデーション画像及び均一濃度画像等も含まれる。 The term printing device is synonymous with terms such as a printing machine, a printer, a printing device, an image recording device, an image forming device, an image output device, and a drawing device. The image shall be interpreted in a broad sense, and includes a color image, a black-and-white image, a single-color image, a gradation image, a uniform density image, and the like.

印刷という用語は、画像の記録、画像の形成、印字、描画及びプリント等の用語の概念を含む。装置という用語は、システムの概念を含み得る。 The term printing includes the concepts of terms such as image recording, image formation, printing, drawing and printing. The term device can include the concept of a system.

画像は、写真画像に限らず、図柄、文字、記号、線画、モザイクパターン、色の塗り分け模様及びその他の各種パターン等、並びにこれらの適宜の組み合わせを含む包括的な用語として用いる。また、画像という用語は、画像を表す画像信号及び画像データの意味を含み得る。 The image is not limited to a photographic image, but is used as a comprehensive term including a pattern, a character, a symbol, a line drawing, a mosaic pattern, a color-coded pattern and various other patterns, and an appropriate combination thereof. Further, the term image may include the meaning of an image signal and image data representing an image.

以上説明した本発明の実施形態は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜構成要件を変更、追加、削除することが可能である。本発明は以上説明した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で当該分野の通常の知識を有する者により、多くの変形が可能である。また、実施形態、変形例及び応用例は適宜組み合わせて実施してもよい。 In the embodiment of the present invention described above, the constituent requirements can be appropriately changed, added, or deleted without departing from the spirit of the present invention. The present invention is not limited to the embodiments described above, and many modifications can be made by a person having ordinary knowledge in the art within the technical idea of the present invention. Further, the embodiments, modifications, and applications may be combined as appropriate.

10 塗布装置
12 ダイコータ
14 搬送装置
20 ダイブロック
20A 底面
22 スリット
22A 領域
24 スロット
26 液プール
26A 供給口の側の端
26B 供給口の反対の側の端
28 液供給口
30 スロット部
32 第一ブロック
32A 平坦部
32B 傾斜部
34 第二ブロック
34A 平坦部
34B 傾斜部
40 ベース
50 塗布液供給装置
52 塗布液流路
54 送液ポンプ
56 塗布液タンク
60 搬送機構
62 第一リフトローラ
64 第二リフトローラ
66 駆動ローラ
68 昇降装置
100 プロセッサ
101 プロセッサ
102 メモリ
103 プロセッサ
110 搬送制御部
112 昇降制御部
120 ディスプレイ装置
122 ディスプレイドライバー
130 入力装置
140 入出力インターフェース
200 塗布装置
202 膜厚計
210 ダイブロック
230 幅調整装置
232 遮蔽板
234 幅調整制御部
236 情報取得部
300 塗布装置
302 ブレード
310 ブレード位置調整装置
312 ブレード位置調整制御部
400 塗布装置
420 ダイブロック
423 回収スリット
425 回収流路
500 印刷装置
512 基材
512A 印刷面
520 巻出部
522 巻出ロール
524 コア
530 プレコート部
532 プレコート乾燥部
540 第一サクションドラム
542 第二サクションドラム
550 ジェッティング部
552 インクジェットヘッド
552C インクジェットヘッド
552K インクジェットヘッド
552M インクジェットヘッド
552W インクジェットヘッド
552Y インクジェットヘッド
560 イメージセンサ
570 巻取部
572 巻取ロール
580 基材搬送装置
10 Applying device 12 Die coater 14 Conveying device 20 Die block 20A Bottom 22 Slit 22A Area 24 Slot 26 Liquid pool 26A Supply port side end 26B Supply port opposite end 28 Liquid supply port 30 Slot part 32 First block 32A Flat portion 32B Inclined portion 34 Second block 34A Flat portion 34B Inclined portion 40 Base 50 Coating liquid supply device 52 Coating liquid flow path 54 Liquid feeding pump 56 Coating liquid tank 60 Conveying mechanism 62 First lift roller 64 Second lift roller 66 Drive Roller 68 Elevating device 100 Processor 101 Processor 102 Memory 103 Processor 110 Transfer control unit 112 Elevating control unit 120 Display device 122 Display driver 130 Input device 140 Input / output interface 200 Coating device 202 Film thickness meter 210 Die block 230 Width adjustment device 232 Shielding plate 234 Width adjustment control unit 236 Information acquisition unit 300 Coating device 302 Blade 310 Blade position adjustment device 312 Blade position adjustment control unit 400 Coating device 420 Die block 423 Recovery slit 425 Recovery flow path 500 Printing device 512 Base material 512A Printing surface 520 Unwinding Part 522 Unwinding roll 524 Core 530 Pre-coat part 532 Pre-coat drying part 540 First suction drum 542 Second suction drum 550 Jetting part 552 Inkjet head 552C Inkjet head 552K Inkjet head 552M Inkjet head 552W Inkjet head 552Y Inkjet head 560 Image sensor 570 Winding part 572 Winding roll 580 Base material transfer device

Claims (12)

塗布液を吐出させる吐出口であり、第一方向の長さが前記第一方向と直交する第二方向の長さよりも長い平面形状を有する吐出口と、
前記吐出口と接続される液流路であり、前記第一方向における前記吐出口の長さに対応する前記第一方向の長さを有する液流路と、
塗布液が貯留され、前記液流路と接続される液貯留部であり、第一方向の一方の端の側に塗布液の供給口が形成される液貯留部と、
を備え、
前記液流路は、前記第一方向の一方の端の側の位置における流路抵抗が、前記第一方向の他方の端の側における位置の流路抵抗よりも大きい構造を有する塗布装置。
A discharge port for discharging the coating liquid, which has a planar shape whose length in the first direction is longer than the length in the second direction orthogonal to the first direction.
A liquid flow path connected to the discharge port and having a length in the first direction corresponding to the length of the discharge port in the first direction.
A liquid storage unit in which the coating liquid is stored and connected to the liquid flow path, and a liquid storage unit in which a coating liquid supply port is formed on one end side in the first direction.
Equipped with
The liquid flow path is a coating device having a structure in which the flow path resistance at the position on the side of one end in the first direction is larger than the flow path resistance at the position on the side of the other end in the first direction.
前記吐出口の前記第一方向に沿う複数の領域のそれぞれについて、前記第二方向の長さを調整する幅調整装置を備えた請求項1に記載の塗布装置。 The coating device according to claim 1, further comprising a width adjusting device for adjusting the length in the second direction for each of the plurality of regions of the discharge port along the first direction. 基材へ塗布される塗布液の厚みを測定する厚み測定装置と、
一以上のプロセッサと、
を備え、
前記プロセッサは、前記厚み測定装置の測定結果に応じて、前記幅調整装置を動作させて前記吐出口の前記第二方向の長さを調整する請求項2に記載の塗布装置。
A thickness measuring device that measures the thickness of the coating liquid applied to the substrate,
With one or more processors
Equipped with
The coating device according to claim 2, wherein the processor operates the width adjusting device to adjust the length of the discharge port in the second direction according to the measurement result of the thickness measuring device.
基材へ塗布された塗布液の一部を除去する塗布液除去装置を備えた請求項1から3のいずれか一項に記載の塗布装置。 The coating device according to any one of claims 1 to 3, further comprising a coating liquid removing device for removing a part of the coating liquid coated on the substrate. 前記吐出口から吐出させた塗布液を回収する回収装置を備えた請求項1から4のいずれか一項に記載の塗布装置。 The coating device according to any one of claims 1 to 4, further comprising a recovery device for recovering the coating liquid discharged from the discharge port. 前記吐出口の位置において前記第二方向に平行となる基材搬送方向ついて基材を搬送する搬送装置を備えた請求項1から5のいずれか一項に記載の塗布装置。 The coating device according to any one of claims 1 to 5, further comprising a transport device for transporting the substrate in a substrate transport direction parallel to the second direction at the position of the discharge port. 前記吐出口は、前記基材の塗布液が塗布される領域の前記第一方向における全長に対応する前記第一方向の長さを有する請求項6に記載の塗布装置。 The coating device according to claim 6, wherein the discharge port has a length in the first direction corresponding to a total length in the first direction of a region to which the coating liquid of the base material is applied. 前記塗布液は、0.5ミリパスカル秒以上5.0ミリパスカル秒以下の粘度を有する請求項1から7のいずれか一項に記載の塗布装置。 The coating apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein the coating liquid has a viscosity of 0.5 millipascals or more and 5.0 millipascals or less. 前記塗布液は、30ミリニュートン毎メートル以上45ミリニュートン毎メートル以下の表面張力を有する請求項1から8のいずれか一項に記載の塗布装置。 The coating device according to any one of claims 1 to 8, wherein the coating liquid has a surface tension of 30 millinewtons per meter or more and 45 millinewtons per meter or less. 前記塗布液が塗布される基材の面は、30ミリニュートン毎メートル以上60ミリニュートン毎メートル以下の表面張力を有する請求項1から9のいずれか一項に記載の塗布装置。 The coating device according to any one of claims 1 to 9, wherein the surface of the base material to which the coating liquid is applied has a surface tension of 30 millinewtons per meter or more and 60 millinewtons per meter or less. 前記塗布液が塗布される基材の面の表面張力をγとし、前記塗布液の表面張力γpcとする場合に、γ-γpc≧5.0ミリニュートン毎メートルを満たす請求項1から9のいずれか一項に記載の塗布装置。 Claim 1 that satisfies γ s −γ pc ≧ 5.0 millinewtons per meter when the surface tension of the surface of the substrate to which the coating liquid is applied is γ s and the surface tension of the coating liquid is γ pc . 9. The coating apparatus according to any one of 9. 印刷媒体へインクを凝集させる塗布液を塗布する塗布装置と、
前記塗布液が塗布される印刷媒体へインクを吐出させるインクジェットヘッドと、
を備え、
前記塗布装置は、
塗布液を吐出させる吐出口であり、第一方向の長さが前記第一方向と直交する第二方向の長さよりも長い平面形状を有する吐出口と、
前記吐出口と接続される液流路であり、前記第一方向における前記吐出口の長さに対応する前記第一方向の長さを有する液流路と、
塗布液が貯留され、前記液流路と接続される液貯留部であり、第一方向の一方の端の側に塗布液の供給口が形成される液貯留部と、
を備え、
前記液流路は、前記第一方向の一方の端の側の位置における流路抵抗が、前記第一方向の他方の端の側における位置の流路抵抗よりも大きい構造を有するインクジェット印刷装置。
A coating device that applies a coating liquid that aggregates ink on a print medium,
An inkjet head that ejects ink to the print medium to which the coating liquid is applied, and
Equipped with
The coating device is
A discharge port for discharging the coating liquid, which has a planar shape whose length in the first direction is longer than the length in the second direction orthogonal to the first direction.
A liquid flow path connected to the discharge port and having a length in the first direction corresponding to the length of the discharge port in the first direction.
A liquid storage unit in which the coating liquid is stored and connected to the liquid flow path, and a liquid storage unit in which a coating liquid supply port is formed on one end side in the first direction.
Equipped with
The liquid flow path is an inkjet printing apparatus having a structure in which the flow path resistance at a position on the side of one end in the first direction is larger than the flow path resistance at a position on the side of the other end in the first direction.
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