JP2021511649A - 表示パネル、ディスプレイ及び表示端末 - Google Patents
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 597
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 130
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 102
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 51
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 24
- 229920001621 AMOLED Polymers 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 16
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 14
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 9
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 3
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 8
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 abstract 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 67
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 10
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 8
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 206010024796 Logorrhoea Diseases 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- -1 conductive wire Substances 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/124—Insulating layers formed between TFT elements and OLED elements
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- H10K50/00—Organic light-emitting devices
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- H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
- H10K59/179—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/50—OLEDs integrated with light modulating elements, e.g. with electrochromic elements, photochromic elements or liquid crystal elements
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K59/879—Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/351—Thickness
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
- H10K59/173—Passive-matrix OLED displays comprising banks or shadow masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/805—Electrodes
- H10K59/8051—Anodes
- H10K59/80515—Anodes characterised by their shape
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/805—Electrodes
- H10K59/8052—Cathodes
- H10K59/80521—Cathodes characterised by their shape
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/873—Encapsulations
- H10K59/8731—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
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Abstract
Description
L1=d1*n1+d2*n2+…+di*ni、
L2=D1*N1+D2*N2+…+Dj*Nj、
(m−δ)λ≦L1−L2≦(m+δ)λ、
(ここで、n1、n2…niはそれぞれ前記第1の位置に前記表示パネルの厚さ方向に沿って通過するフィルム層に対応するフィルム層係数であり、N1、N2…Niはそれぞれ前記第2の位置に前記表示パネルの厚さ方向に沿って通過するフィルム層に対応するフィルム層係数であり、n1、n2…ni、N1、N2…Njは1〜2の定数であり、λは380〜780nmの定数であり、mは自然数であり、δは0〜0.2の定数である)という条件を満たす。
前記第1の位置又は第2の位置を通過するフィルム層は、それぞれ第1の経路、第2の経路又は第3の経路であり、
前記第1の経路は、封止層、第2の電極層、発光層、第1の電極層、及び基板を含み
前記第2の経路は、封止層、第2の電極層、画素定義層、第1の電極層、及び基板を含み、
前記第3の経路は、封止層、第2の電極層、画素定義層、及び基板を含む。
前記第1の位置又は第2の位置を通過するフィルム層は、第4の経路を更に含み、前記第4の経路は、封止層、第2の電極層、画素定義層、導電線、及び基板を含む。
又は、前記導電線は多層線路であり、前記導電線における少なくとも一層は前記第1の電極層と同じ層に設けられ、且つ前記導電線と前記第1の電極層との材料は同じまたは異なる。
前記支持層は透明な構造であり、前記第2の経路、前記第3の経路、及び前記第4の経路の少なくとも1つは支持層及び/又はTFT構造層を更に含む。
前記第1の表示領域に上記実施例のいずれか1つに記載の表示パネルが設けられ、前記少なくとも1つの表示領域の各表示領域はいずれも動的又は静的画像を表示することに用いられる。
デバイス領域を有する機器本体と、
前記機器本体上に覆われた上記実施例に記載のディスプレイと、を含み、
前記デバイス領域は前記第1の表示領域の下方に位置し、且つ前記デバイス領域内に、前記第1の表示領域を透過して光線を収集する感光性デバイスが設けられる。
(m−0.2)λ<L<(m+0.2)λ
(ここで、mは自然数で、λは距離係数で、値の範囲は380〜780nmである)という条件を満たす。
L1=d1*n1+d2*n2+…+di*ni、
L2=D1*N1+D2*N2+…+Dj*Nj、
(m−0.2)λ<L1−L2<(m+0.2)λ、
(ここで、n1、n2…niはそれぞれ前記第1の位置に前記表示パネルの厚さ方向に沿って通過するフィルム層に対応するフィルム層係数であり、N1、N2…Niはそれぞれ前記第2の位置に前記表示パネルの厚さ方向に沿って通過するフィルム層に対応するフィルム層係数であり、n1、n2…ni、N1、N2…Niの値の範囲は1〜2であり、λは距離係数であり、値の範囲は380〜780nmであり、mは自然数である。上記n1、n2…ni、N1、N2…Niの値の範囲は1〜2であり、透明な画面の各フィルム層の屈折率の値の範囲に対応し、距離係数λは可視光の波長に対応する。第1の位置を通過する光の光路はL1で、第2の位置を通過する光の光路はL2であり、即ち、第1の位置及び第2の位置からパネルを通過する光の光路間の差はL1−L2であり、上記条件において、該光路間の差と波長の整数倍との誤差は予め設定された範囲内にあり、光が第1の位置及び第2の位置からパネルを通過した後、位相の違いは小さく、引き起こした回折現象は明らかではない。
(m−δ)λ<LA−LB<(m+δ)λ
(ここで、mは整数で、λは光の波長で、δは0〜0.2の定数であり、例えば0、0.1、0.15、0.2などの適切な値を選択することができる。選択したδが小さいほど、光線が2つの経路を通過した後の位相差が小さくなる。)ようにする。
L=d1*n1+d2*n2+…+di*ni(ここで、Lは光路で、iは、光が通過する経路の構造層の数で、di、d2、…、diは、光が通過する経路の各構造層の厚さで、n1、n2、…、niは、前記光が通過する経路の各構造層の屈折率である)。
Claims (20)
- 基板と、前記基板上に順次設けられた複数のフィルム層と、を含み、少なくとも1つの前記フィルム層はパターン化構造を有する表示パネルであって、前記表示パネルは、少なくとも第1の位置と、前記第1の位置とは異なる第2の位置とを有し、前記第1の位置及び前記第2の位置に前記表示パネルの厚さ方向に沿って通過するフィルム層は異なり、前記第1の位置に前記表示パネルの厚さ方向に沿って通過するフィルム層の数はiであり、各フィルム層の厚さはそれぞれd1、d2……diであり、前記第2の位置に前記表示パネルの厚さ方向に沿って通過するフィルム層の数はjであり、各フィルム層の厚さはそれぞれD1、D2……Djであり、i、jは自然数であり、前記第1の位置及び前記第2の位置は、
L1=d1*n1+d2*n2+…+di*ni、
L2=D1*N1+D2*N2+…+Dj*Nj、
(m−δ)λ≦L1−L2≦(m+δ)λ、
(ここで、n1、n2…niはそれぞれ前記第1の位置に前記表示パネルの厚さ方向に沿って通過するフィルム層に対応するフィルム層係数であり、N1、N2…Niはそれぞれ前記第2の位置に前記表示パネルの厚さ方向に沿って通過するフィルム層に対応するフィルム層係数であり、n1、n2…ni、N1、N2…Njは1〜2の定数であり、λは380〜780nmの定数であり、mは自然数であり、δは0〜0.2の定数である)という条件を満たすことを特徴とする表示パネル。 - 前記λは可視光の波長であり、前記n1、n2…ni、N1、N2…Njは前記可視光の波長で対応するフィルム層の屈折率であることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
- 前記L1−L2の値は0であることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
- 前記表示パネルは、アクティブマトリクス有機発光ダイオード表示パネル又はパッシブマトリクス有機発光ダイオード表示パネルであり、前記フィルム層は、封止層、第2の電極層、発光層、第1の電極層、及び画素定義層を含み、
前記第1の位置又は第2の位置に通過するフィルム層は、それぞれ第1の経路、第2の経路又は第3の経路であり、
前記第1の経路は、封止層、第2の電極層、発光層、第1の電極層、及び基板を含み
前記第2の経路は、封止層、第2の電極層、画素定義層、第1の電極層、及び基板を含み、
前記第3の経路は、封止層、第2の電極層、画素定義層、及び基板を含むことを特徴とする請求項1又は2又は3に記載の表示パネル。 - 前記表示パネルは、薄膜封止方式を採用したフレキシブルディスプレイ又はハードディスプレイであり、前記封止層は薄膜封止層を含み、前記薄膜封止層は有機材料封止層を含み、前記第1の経路の有機材料封止層の厚さは、他の経路の有機材料封止層の厚さよりも大きいことを特徴とする請求項4に記載の表示パネル。
- 前記表示パネルは、ガラス粉封止方式を採用したハードディスプレイであり、前記封止層は、真空ギャップ層及び封止基板を含み、前記第1の経路の真空ギャップ層の厚さは、他の経路の真空ギャップ層の厚さよりも大きいことを特徴とする請求項4に記載の表示パネル。
- 前記表示パネルはアクティブマトリクス有機発光ダイオード表示パネルであり、前記フィルム層は導電線を更に含み、
前記第1の位置又は第2の位置を通過するフィルム層は、第4の経路を更に含み、前記第4の経路は、封止層、第2の電極層、画素定義層、導電線、及び基板を含むことを特徴とする請求項4に記載の表示パネル。 - 前記導電線は単層線路であり、前記導電線は前記第1の電極層と同じ層に設けられ、且つ前記導電線と前記第1の電極層との材料は同じであり、前記第4の経路と前記第2の経路に含まれるフィルム層及びフィルム層の厚さは同じであり、
又は、前記導電線は多層線路であり、前記導電線における少なくとも一層は前記第1の電極層と同じ層に設けられ、且つ前記導電線と前記第1の電極層との材料は同じまたは異なることを特徴とする請求項7に記載の表示パネル。 - 前記導電線は二層線路であり、第1の導電線路及び第2の導電線路を含み、前記第1の導電線路は前記第1の電極層と同じ層に設けられ、前記フィルム層は平坦化層を更に含み、前記第2の導電線路は、平坦化層と前記基板との間に設けられ、前記第1の導電線路及び前記第2の導電線路と前記第1の電極層との材料は同じであり、前記第4の経路は、封止層、第2の電極層、画素定義層、前記第1の導電線路及び/又は前記第2の導電線路、基板を含むことを特徴とする請求項8に記載の表示パネル。
- 前記基板上の前記導電線の投影が前記基板上の前記第1の電極層の投影と部分的に重なる場合、前記経路は第5の経路を更に含み、前記第5の経路は、封止層、第2の電極層、発光層、第1の電極層、第2の導電線路、及び基板を含むことを特徴とする請求項9に記載の表示パネル。
- 前記表示パネルはアクティブマトリクス有機発光ダイオード表示パネルであり、前記フィルム層は、画素定義層上に設けられた支持層と、画素回路を製造するための薄膜トランジスタ構造層とを更に含み、
前記支持層は透明な構造であり、前記第2の経路、前記第3の経路、及び前記第4の経路の少なくとも1つは、支持層及び/又は薄膜トランジスタ構造層を更に含むことを特徴とする請求項7に記載の表示パネル。 - 前記表示パネルはアクティブマトリクス有機発光ダイオード表示パネルであり、前記フィルム層は、画素定義層上に設けられた支持層と、画素回路を製造するための薄膜トランジスタ構造層とを更に含み、前記支持層は不透明な構造であり、前記薄膜トランジスタ構造層は前記支持層の下方に設けられることを特徴とする請求項4に記載の表示パネル。
- 前記画素定義層上に画素開口が形成され、前記画素開口は、第1タイプの画素開口を含み、前記基板上の前記第1タイプの画素開口の投影の各辺はいずれも曲線であり、且つ各辺が互いに平行ではないことを特徴とする請求項4に記載の表示パネル。
- 前記導電線は延伸方向に湾曲して設けられ、前記第1の電極の周りに前記導電線が設けられ、前記導電線は前記第1の電極の縁に円弧状に延びることを特徴とする請求項8に記載の表示パネル。
- 前記表示パネルはパッシブマトリクス有機発光ダイオード表示パネルであり、前記フィルム層は画素定義層上に設けられた分離カラムを更に含み、前記経路は第6の経路を更に含み、前記第6の経路は、第2の電極層、分離カラム、画素定義層、及び基板を含み、前記分離カラムの材料は透明な材料であることを特徴とする請求項4に記載の表示パネル。
- 前記分離層は複数の第1タイプの分離カラムを含み、前記第1タイプの分離カラムの延伸方向に、前記第1タイプの分離カラムの幅は連続的又は断続的に変化し、前記延伸方向は前記基板に平行であり、前記幅は、前記延伸方向に垂直な方向での、前記基板上に形成された前記第1タイプの分離カラムの投影のサイズであることを特徴とする請求項15に記載の表示パネル。
- 前記表示パネルはパッシブマトリクス有機発光ダイオード表示パネルであり、延伸方向での前記第1の電極又は第2の電極の2つの辺はいずれも波状であり、前記2つの辺のピークは対向して設置され、且つトラフは対向し、隣接する第1の電極又は第2の電極のピーク及びトラフは、ピークがずれているように設けられることを特徴とする請求項4に記載の表示パネル。
- 前記フィルム層は導電線を更に含み、前記導電線は単層線路又は多層線路であり、前記導電線は、走査線、データ線、電源線、リセット線のうちの少なくとも1つを含み、
前記導電線が単層線路である場合、前記導電線は前記第1の電極層と同じ層に設けられ、
前記導電線が多層線路である場合、前記導電線の少なくとも一層は前記第1の電極層と同じ層に設けられ、前記導電線と前記第1の電極層との材料は同じまたは異なり、
前記基板上の前記導電線の投影が、前記基板上の前記第1の電極層の投影と部分的に重なる場合、前記第1の位置又は第2の位置を通過するフィルム層は第7の経路を更に含み、前記第7の経路は、封止層、第2の電極層、発光構造層、第1の電極層、導電線、及び基板を含むことを特徴とする請求項17に記載の表示パネル。 - ディスプレイであって、少なくとも1つの表示領域を有し、前記少なくとも1つの表示領域は第1の表示領域を含み、前記第1の表示領域の下方に感光性デバイスを設けることができ、
前記第1の表示領域に請求項1〜18のいずれか一項に記載の表示パネルが設けられ、前記少なくとも1つの表示領域の各表示領域はいずれも動的又は静的画像を表示することに用いられることを特徴とするディスプレイ。 - 前記少なくとも1つの表示領域は第2の表示領域を更に含み、前記第1の表示領域に設けられた表示パネルはパッシブマトリクス有機発光ダイオード表示パネル又はアクティブマトリクス有機発光ダイオード表示パネルであり、前記第2の表示領域に設けられた表示パネルはアクティブマトリクス有機発光ダイオード表示パネルであることを特徴とする請求項19に記載のディスプレイ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811077014.8 | 2018-09-14 | ||
CN201811077014.8A CN110911440B (zh) | 2018-09-14 | 2018-09-14 | 显示面板、显示屏和显示终端 |
PCT/CN2019/073884 WO2020052192A1 (zh) | 2018-09-14 | 2019-01-30 | 显示面板、显示屏和显示终端 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021511649A true JP2021511649A (ja) | 2021-05-06 |
JP2021511649A5 JP2021511649A5 (ja) | 2021-06-17 |
JP6963124B2 JP6963124B2 (ja) | 2021-11-05 |
Family
ID=68049137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020562823A Active JP6963124B2 (ja) | 2018-09-14 | 2019-01-30 | 表示パネル、ディスプレイ及び表示端末 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11362146B2 (ja) |
EP (1) | EP3734662B1 (ja) |
JP (1) | JP6963124B2 (ja) |
KR (1) | KR102437633B1 (ja) |
CN (1) | CN110911440B (ja) |
TW (1) | TWI677090B (ja) |
WO (1) | WO2020052192A1 (ja) |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108496260B (zh) | 2015-10-26 | 2020-05-19 | Oti照明公司 | 用于图案化表面上覆层的方法和包括图案化覆层的装置 |
CN118215324A (zh) | 2016-12-02 | 2024-06-18 | Oti照明公司 | 包括设置在发射区域上面的导电涂层的器件及其方法 |
KR102563713B1 (ko) | 2017-04-26 | 2023-08-07 | 오티아이 루미오닉스 인크. | 표면의 코팅을 패턴화하는 방법 및 패턴화된 코팅을 포함하는 장치 |
CN110832660B (zh) | 2017-05-17 | 2023-07-28 | Oti照明公司 | 在图案化涂层上选择性沉积传导性涂层的方法和包括传导性涂层的装置 |
US11751415B2 (en) | 2018-02-02 | 2023-09-05 | Oti Lumionics Inc. | Materials for forming a nucleation-inhibiting coating and devices incorporating same |
WO2019215591A1 (en) | 2018-05-07 | 2019-11-14 | Oti Lumionics Inc. | Method for providing an auxiliary electrode and device including an auxiliary electrode |
EP3907556B1 (en) * | 2019-02-01 | 2024-04-03 | Guangdong Oppo Mobile Telecommunications Corp., Ltd. | Electronic device and display apparatus |
KR20210149058A (ko) | 2019-03-07 | 2021-12-08 | 오티아이 루미오닉스 인크. | 핵생성 억제 코팅물 형성용 재료 및 이를 포함하는 디바이스 |
CN109950285B (zh) * | 2019-03-28 | 2021-05-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板及其制作方法、显示装置 |
CN110767835B (zh) | 2019-03-29 | 2021-01-26 | 昆山国显光电有限公司 | 透明显示面板、显示屏、显示装置及掩膜板 |
CN113950630A (zh) | 2019-04-18 | 2022-01-18 | Oti照明公司 | 用于形成成核抑制涂层的材料和结合所述成核抑制涂层的装置 |
JP7576337B2 (ja) | 2019-05-08 | 2024-11-01 | オーティーアイ ルミオニクス インコーポレーテッド | 核生成抑制コーティングを形成するための材料およびそれを組み込んだデバイス |
KR102700970B1 (ko) | 2019-06-26 | 2024-09-02 | 오티아이 루미오닉스 인크. | 광 회절 특성을 갖는 광 투과 영역을 포함하는 광전자 디바이스 |
US11832473B2 (en) | 2019-06-26 | 2023-11-28 | Oti Lumionics Inc. | Optoelectronic device including light transmissive regions, with light diffraction characteristics |
CN110401746B (zh) * | 2019-07-19 | 2021-08-31 | Oppo广东移动通信有限公司 | 终端 |
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CN107505767A (zh) | 2017-10-16 | 2017-12-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光转换结构、背光模组、彩膜基板以及显示装置 |
WO2020052232A1 (zh) * | 2018-09-14 | 2020-03-19 | 昆山国显光电有限公司 | 显示面板、显示屏和显示终端 |
-
2018
- 2018-09-14 CN CN201811077014.8A patent/CN110911440B/zh active Active
-
2019
- 2019-01-30 EP EP19860678.2A patent/EP3734662B1/en active Active
- 2019-01-30 JP JP2020562823A patent/JP6963124B2/ja active Active
- 2019-01-30 KR KR1020207021968A patent/KR102437633B1/ko active IP Right Grant
- 2019-01-30 WO PCT/CN2019/073884 patent/WO2020052192A1/zh active Application Filing
- 2019-01-31 TW TW108103909A patent/TWI677090B/zh active
-
2020
- 2020-06-09 US US16/896,221 patent/US11362146B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003528421A (ja) * | 1999-06-02 | 2003-09-24 | セイコーエプソン株式会社 | 複数波長発光素子、電子機器および干渉ミラー |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201929219A (zh) | 2019-07-16 |
EP3734662B1 (en) | 2023-02-01 |
CN110911440A (zh) | 2020-03-24 |
WO2020052192A1 (zh) | 2020-03-19 |
EP3734662A1 (en) | 2020-11-04 |
EP3734662A4 (en) | 2021-03-03 |
KR20200100182A (ko) | 2020-08-25 |
US11362146B2 (en) | 2022-06-14 |
TWI677090B (zh) | 2019-11-11 |
KR102437633B1 (ko) | 2022-08-29 |
CN110911440B (zh) | 2020-10-16 |
US20200303472A1 (en) | 2020-09-24 |
JP6963124B2 (ja) | 2021-11-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200729 |
|
A621 | Written request for application examination |
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|
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|
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |