JP2021505562A - ホスホノ−ホスフェート及びアニオン性基含有ポリマーを含む口腔ケア組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
εは、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖の炭素原子への結合部位であり、
R1は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式2;
θは、式1への結合部位であり、
R4及びR5は、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される〉の構造からなる群から選択され、
R2は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式3:
θは、式1への結合部位であり、
R6及びR7は、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
nは、1〜22の整数である〉の構造からなる群から選択され、
R3は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される]、の構造を有し、
当該アニオン性基は、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつホスフェート、ホスホネート、ホスフィネート、サルフェート、スルホネート、スルフィナート、メルカプト、カルボキシレート、ヒドロキシアミノ、アミンオキシド及びヒドロキサメートからなる化学基から選択される。
R9は、−H、アルキル(C1〜8)、ホスホノアルキル及びホスホノ(ホスフェート)アルキルからなる群から選択される)の構造からなる群から選択され、
Yは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造からなる群から選択される]の構造を有する。
R12は、−H及びアルキル(C1〜8)からなる群から選択される)の構造から選択され、
Vは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造からなる群から選択されるiである]の構造のアルケニル基を更に含む。
「部位」又は「結合部位」又は「結合点」という用語は全て、化学基内の開放原子価を有する原子、あるいは単純な破線(−)又はギリシア文字の小文字に続く破線若しくは線(例えば、α−、β−等)などの記号で指定され、そのように指定された原子が化学結合を介して別の化学基内の別の原子に接続することを示す、定義された構造的実体内の開放原子価を有する原子を意味する。
本発明は、ホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を含む新規ポリマーを目的とする。ホスホノ−ホスフェート基は、その上の置換基及びそれが配置される環境に応じて、本質的にアニオン性であり得ることが認識される。明確にするために、本出願におけるアニオン性基は、ホスホノ−ホスフェート以外のアニオン性基を指す。
εは、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖の炭素原子への結合部位であり、
R1は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式2:
θは、式1への結合部位であり、
R4及びR5は、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される〉の構造からなる群から選択され、
R2は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式3:
θは、式1への結合部位であり、
R6及びR7は、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
nは、1〜22の整数である〉の構造からなる群から選択され、
R3は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される]の構造を有し、
当該アニオン性基は、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつホスフェート、ホスホネート、ホスフィネート、サルフェート、スルホネート、スルフィナート、メルカプト、カルボキシレート、ヒドロキシアミノ、アミンオキシド及びヒドロキサメートからなる化学基から選択される。
R9は、−H、アルキル(C1〜8)、ホスホノアルキル及びホスホノ(ホスフェート)アルキルからなる群から選択される)の構造からなる群から選択され、
Yは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造からなる群から選択される]の構造を有する。
R12は、−H及びアルキル(C1〜8)からなる群から選択される)の構造から選択され、
Vが、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル、又はアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造から選択される]の構造のアルケニル基を更に含む。
θは、式23への結合部位であり、
R4及びR5は、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される〉の構造からなる群から選択され、
R2は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式3:
θは、式23への結合部位であり、
R6及びR7は、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
nは、1〜22の整数である〉の構造からなる群から選択され、
R3は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
当該アニオン性基は、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつホスフェート、ホスホネート、ホスフィネート、サルフェート、スルホネート、スルフィナート、メルカプト、カルボキシレート、ヒドロキシアミノ、アミンオキシド及びヒドロキサメートからなる化学基から選択され、
R8は、−H及び−CH3からなる群から選択され、
L1は、化学結合、アレーンジイル及び式5:
R9は、−H、アルキル(C1〜8)、ホスホノアルキル及びホスホノ(ホスフェート)アルキルからなる群から選択される)の構造からなる群から選択され、
Yは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造からなる群から選択され、
R11は、−H及び−CH3からなる群から選択され、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
L3は、化学結合、アレーンジイル及び式15:
R12は、−H及びアルキル(C1〜8)からなる群から選択される)の構造から選択され、
Vは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル、又はアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造から選択され、
R13は、ポリマー開始から得られる化学基であり、
R14は、連鎖停止により得られる化学基であり、
mは、2〜450の整数であり、
pは、2〜450の整数である]の構造を有するアニオン性基を含む。
R15は、−H、Na、K、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
τは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
Qは、重合に使用されるモノマーの非オレフィン残基である)の構造から選択される。
本発明の実施形態は、これらの一般的な以下の方法を使用して作製され得る。本発明のポリマーは、バルク、溶液、乳化、又は懸濁重合を含む広範な技術によって製造することができる。重合方法及び重合技術は、概して、参照により本明細書に援用されるEncyclopedia of Polymer Science and Technology,Interscience Publishers(New York),Vol.7,pp.361−431(1967)及びKirk−Othmer Encyclopedia of Chemical Technology,3rd edition,Vol 18,pp.740−744,John Wiley&Sons(New York),1982に記載されている。Sorenson,W.P.and Campbell,T.W.,Preparative Methods of Polymer Chemistryも参照されたい。2nd edition,Interscience Publishers(New York),1968,pp.248−251も参照されたい。一例では、ポリマーは、水溶性反応開始剤を用いて、フリーラジカル共重合によって製造される。好適なフリーラジカル反応開始剤としては、熱反応開始剤、酸化還元対、及び光化学反応開始剤が挙げられるが、これらに限定されない。酸化還元及び光化学反応開始剤は、約30℃未満の温度で開始される重合プロセスに使用することができる。このような反応開始剤は、一般的に、参照により本明細書に援用されるKirk−Othmer Encyclopedia of Chemical Technology,3rd edition,John Wiley&Sons(New York),Vol.13,pp.355−373(1981)に記載されている。30℃以下でラジカルを提供し得る典型的な水溶性反応開始剤としては、過硫酸カリウム/硝酸銀、及びアスコルビン酸/過酸化水素等の酸化還元対が挙げられる。一実施例では、方法は、40℃超で実施される重合プロセスにおいて熱反応開始剤を利用する。40℃以上でラジカルを提供し得る水溶性反応開始剤が使用され得る。これらとしては、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、及び2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジヒドロクロリドが挙げられるが、これらに限定されない。一実施例では、水溶性出発モノマーは、開始剤として過硫酸アンモニウムを使用して、60℃の水中で重合される。
本発明によるホスホノ−ホスフェート含有ポリマーは、様々な組成物に組み込むことができる。これらの組成物は、水性組成物及び非水性組成物の両方を含む。組成物は、歯、毛髪、身体、布地、紙、不織布、及び硬質表面を処理するのに有用である。組成物は、水処理、ボイラー処理、船舶の処理、油の坑井、電池、ベーキング、膨張、セラミック、プラスチック安定剤、ガラス製造、チーズ製造、食品中緩衝剤、歯磨剤中の砥粒剤、肉中のバインダー、コーヒークリーム、凍結防止剤、塗料液体石鹸中の分散剤、金属洗浄剤合成ゴム、織物及び難燃剤において有用性を見出す。組成物はまた、カルシウム、スズ、マグネシウム、及び鉄を含むがこれらに限定されない多価金属カチオンを含有する材料を処理するためにも有用である。そのような材料の例としては、ヒドロキシアパタイト、炭酸カルシウム(非晶質、カルサイト、アラゴナイト)、リン酸カルシウム、水酸化カルシウム、炭酸マグネシウム、リン酸マグネシウム、石鹸かす(ステアリン酸及び炭酸塩のカルシウム、マグネシウム、及び鉄塩の混合物)、並びに硬水の着色汚れが挙げられる。ある特定の実施形態では、ホスホノ−ホスフェート含有ポリマーを含む組成物は、非水性である。別の実施形態では、組成物は水性である。
本発明は更に、ホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を含む本発明のポリマーを含む口腔ケア組成物に関する。本発明の口腔ケア組成物は、高分子ミネラル表面剤、金属イオン塩、水、保湿剤、フッ化物源、緩衝剤、抗結石剤、砥粒研磨物質、増粘剤、界面活性剤、二酸化チタン、着色剤、風味剤、抗菌剤、及びこれらの混合物などの追加成分を更に含むことができる。
XO(XPO3)nX
(式中、Xは、ナトリウム又はカリウムであり、nの平均は、約3〜約125である)を有する直鎖状「ガラス質」ポリホスフェートが好ましい。好ましいポリホスフェートは、FMC Corporationにより製造されるもの、並びにSodaphos(n≒6)、Hexaphos(n≒13)、及びGlass H(n≒21)として商業的に既知のものなどの、平均約6〜約21のnを有するものである。特に好ましいポリホスフェートは、Glass Hなどの約21の平均nを有する。これらのポリホスフェートは、単独で、又はこれらの組み合わせで使用されてもよい。
粉末汚れ防止モデル(PSPM)は、ヒドロキシアパタイト粉末(HAP)が汚れの蓄積のための基材として使用されるスクリーニング技法である。この技法の一般的な目的は、口腔ケアで使用される化学剤の汚れ防止能又は着色汚れの可能性を例示し、定量化することである。ヒドロキシアパタイト粉末は、紅茶色原体が吸着する大きな表面積を提供する。リンス又は歯磨剤の形態のいずれかで、口腔ケア活性物質によるHAPの前処理は、活性物質がこれらの色原体のHAP表面への結合を遮断又は強化する能力に応じて、異なるレベルの汚れ蓄積をもたらす。次いで、着色汚れの程度を画像解析によって定量化することができる。PSPMに関与する工程を以下に記載する。
200mg〜210mgのHAP粉末(BioGel(登録商標)HTP−Gelカタログ#130−0421、Bio−Rad Laboratories(Hercules,Calif.)を計量して50mlの遠心管に入れる。各管に20mlの処理液を加える。単純なポリマーの場合、処理液は、2重量%のポリマーであるか、又は100%活性主成分での対照が使用される。歯磨剤配合物の場合、8gの練り歯磨きの各々を量り、ラベル付けした50gの丸底遠心管に入れる。24gの脱イオン水を管に加える(スラリー比が1:3になるように)。1分間ボルテックスしてよく混合して、練り歯磨きの塊を含まないスラリーを調製する。遠心分離器を使用して、スラリーを15,000rpmで15分間遠心分離し、20mLの上清を処理液として使用する。管を30秒間ボルテックスして、処理液中にHAPを完全に懸濁させ、続いて15,000rpmで15分間遠心分離する。遠心分離後、上清をデカントし、25mlの水を加え、ボルテックスし、15,000rpmで15分間遠心分離し、デカントすることによってペレットを再分配し、ボルテックス中にペレットを確実に破壊する。この洗浄サイクルを更に2回繰り返す。
最終的な水洗浄後、20mlの濾過した紅茶(100mlのお湯に1つのLiptonティーバッグを5分間浸し、濾過し、50℃で使用)を各ペレットに加え、30秒間ボルテックスして、紅茶中にHAPを完全に懸濁する。粉末懸濁液を15,000rpmで15分間遠心分離し、デカントする。約25mlの水を管に加え、ボルテックスし、次いで15,000rpmで15分間遠心分離する。液体をデカントし、洗浄サイクルを更に2回繰り返す。
ペレットを、およそ10mlの水中で完全に懸濁するまでボルテックスし、続いて真空下でMilliporeフィルタディスク(膜フィルタ4.5tm、47mmカタログ番号HAWPO4700、Millipore Corporation,Bedford,Mass.)上に濾過する。−200mgの未処理、未着色のHAPを使用して、対照ディスクを調製する。次いで、フィルタディスクを平らな位置で一晩乾燥させ、次いで積層する。
Whitelight系:HAPディスク(未処理のHAP対照及びHAP処理液)を安定化した試料ホルダに入れる。偏光フィルタを装着したレンズを有するデジタルカメラ(アダプタ付きNIKON55mmマイクロNIKKORレンズ搭載、Canon Inc.,(Melville,NY)からの、カメラモデル番号CANON EOS 70D)を使用して、色を測定する。光系は、(それを通して光が外部へと出る、ガラスレンズのうち1つの外側円形表面の中央から測定して)約30cm離れて配置された、150ワット、24V電球モデル番号(Xenophotモデル番号HL X64640)を装着し、45度にて照準される、Dedoライト(モデル番号DLH2)によって提供され、それにより光路が、HAPディスク上で合流する。画像解析は、Ultragrab、Optimas、及びGiant Imagingソフトウェアと共にWhitelightを使用して実施される。
単一のポリマーPSPMの通常の対照は、続いて紅茶に曝露される処理液としての水、及び紅茶への曝露がない水である。加えて、ピロホスフェート及びポリホスフェートは、内部対照として実行される。
L*(輝度)、a*(赤色(+)/緑色(−))、b*(黄色(−)/青(+))、及びE(合計色)の変化を次のように計算する。
粉末着色汚れ除去モデル(PSRM)は、ヒドロキシアパタイト粉末(HAP)が着色汚れ蓄積のための基材として使用されるスクリーニング技法である。この技法の目的は、口腔ケアで使用される化学剤の着色汚れ除去特性を説明し、定量化することである。ヒドロキシアパタイト粉末は、紅茶色原体が吸着する大きな表面積を提供する。リンス又は歯磨剤の形態のいずれかで、口腔ケア活性物質による着色されたHAPの処理は、活性物質がこれらの色原体のHAP表面への結合を妨害する能力に応じて、異なるレベルの着色汚れ除去をもたらす。次いで、着色汚れ除去の程度を画像解析によって定量化することができる。このモデルのトライアルは、3日目に完了することができる。PSRMに関与する工程を以下に記載する。
10gのHAP粉末を200mlの濾過した紅茶中で5分間撹拌することによって、紅茶着色汚れHAPの大きなバッチを調製する。遠心管に分割し、15,000rpmで15分間遠心分離する。25mlの水に加え、ボルテックスし、15,000rpmで15分間遠心分離し、液体をピペットで取り出すことによってペレットを洗浄する。ボルテックス中にペレットが破壊されることを確認する。洗浄を繰り返す。
200mg〜210mgのHAP粉末(BioGel(登録商標)HTP−Gelカタログ#130−0421、Bio−Rad Laboratories(Hercules,Calif.)を計量して50mlの遠心管に入れる。各管に20mlの処理液を加える。単純なポリマーの場合、処理液は、2重量%のポリマーであるか、又は100%活性主成分での対照が使用される。歯磨剤配合物の場合、8gの練り歯磨きの各々を量り、ラベル付けした50gの丸底遠心管に入れる。24gの脱イオン水を管に加える(スラリー比が1:3になるように)。1分間ボルテックスしてよく混合して、練り歯磨きの塊を含まないスラリーを調製する。遠心分離器を使用して、スラリーを15,000rpmで15分間遠心分離し、20mLの上清を処理液として使用する。管を1分間ボルテックスして、処理液中にHAPを完全に懸濁させ、続いて15,000rpmで15分間遠心分離する。遠心分離後、上清をデカントし、25mlの水を加え、ボルテックスし、15,000rpmで15分間遠心分離し、デカントすることによってペレットを再分配し、ボルテックス中にペレットを確実に破壊する。この洗浄サイクルをもう1回繰り返す。
ペレットを、およそ10mlの水中で完全に懸濁するまでボルテックスし、続いて真空下でMilliporeフィルタディスク(膜フィルタ4.5tm、47mmカタログ番号HAWPO4700、Millipore Corporation,Bedford,Mass.)上に濾過する。約200mgの未処理の着色されたHAPを使用して、対照ディスクを調製する。次いで、フィルタディスクを平らな位置で一晩乾燥させ、次いで積層する。
Whitelight系:HAPディスク(未処理のHAP対照及びHAP処理液)を安定化した試料ホルダに入れる。偏光フィルタを装着したレンズを有するデジタルカメラカメラ(アダプタ付きNIKON55mmマイクロNIKKORレンズ搭載、Canon Inc.,(Melville,NY)からの、カメラモデル番号CANON EOS 70D)を使用して、色を測定する。光系は、(それを通して光が外部へと出る、ガラスレンズのうち1つの外側円形表面の中央から測定して)約30cm離れて配置された、150ワット、24V電球モデル番号(Xenophotモデル番号HL X64640)を装着し、45度にて照準される、Dedoライト(モデル番号DLH2)によって提供され、それにより光路が、HAPディスク上で合流する。画像解析は、Ultragrab、Optimas、及びGiant Imagingソフトウェアと共にWhitelightを使用して実施される。
単一のポリマーPSRMの通常の対照は、続いて紅茶に曝露される処理液としての水、及び紅茶への曝露がない水である。加えて、ピロホスフェート及びポリホスフェートは、内部対照として実行される。
L*(輝度)、a*(赤色(+)/緑色(−))、b*(黄色(−)/青(+))、及びE(合計色)の変化を次のように計算する。
歯の着色汚れはフッ化第一スズ組成物の使用に共通する望ましくない副作用である。本明細書に記載の改良されたフッ化第一スズ歯磨剤は、重合ミネラル表面活性剤に結合した第一スズからの、より効率的な第一スズの送達により生じる歯の着色汚れ形成の低減をもたらす。一般的に第一スズによって引き起こされる歯表面の着色汚れは、臨床的状況において、文献に記載されているロベーネ(Lobene)又はメッケル(Meckel)指数のような着色汚れ指数を用いて測定される。第一スズ誘発性の着色汚れを軽減するのを助ける技術の迅速なスクリーニングのために、フッ化第一スズ製剤の着色汚れ防止能の定量的推定を提供するインビトロ実験室法が使用される。この方法は、iPTSM(インビトロ薄膜着色汚れモデル)と呼ばれ、臨床観察と良好に相関することが示されている。
240、320、400、及び600グリットの炭化ケイ素紙を連続して使用して、旋盤上で非テーパ状の端部からおよそ25mmだけ新しいガラス棒(5mm×90mm)を研磨する。初期研磨後、各試験の前にだけ、600グリット紙で棒を研磨する。
パラフィン刺激によって5〜10人のパネルから唾液を毎日収集し、必要になるまで4℃で冷蔵する。唾液を慎重にプールし(したがって、ワックス/粘液に注がないように)、十分に混合する。
着色汚れの可能性(%)=((試験製品Abs/バイオマス−非第一スズ対照Abs/バイオマス)/(高第一スズ対照Abs/バイオマス−非第一スズ対照Abs/バイオマス))*100
VSA及びVPAの異なる出発比について、実施例16の手順を繰り返した。実施例16を含む、異なる出発比から得られたポリマー組成物及び全収率を以下の表1に示す。Polymer Standards Service(PSS)MCX 1000Aカラム、並びにWyatt HELEOS II光散乱検出器及びWyatt Optilab Differential屈折率検出器の両方を使用する、Wyattゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)システムを、内部Wyatt Astra 6ソフトウェアを使用するポリマー分子量の計算に使用した。
VSA及びVPPの異なる出発比について、実施例19の手順を繰り返した。実施例19を含む、異なる出発比から得られたポリマー組成物及び全収率を以下の表2に示す。
実施例32と同様の手順に従い、磁気的に撹拌して乾燥させた丸底フラスコに、ポリメチルビニルホスホネート、DMFを入れ、窒素でパージする。次に、トリブチルアミン(Pモノマーに対して2.0当量)を加え、室温で一晩撹拌し、均質な溶液を得る。CDI(Pモノマーに対して1.25当量)及びDMFを予混合し、溶液に加えて、これを一晩撹拌する。H3PO4(3当量)、トリブチルアミン(3.5等量)及びDMFを混合し、音波処理した後、ポリマー含有溶液に加える。得られた溶液を室温で一晩撹拌する。得られた溶液を真空下(9トール)でおよそ60℃の最終温度まで溶媒を取り除き、ホスホノ−ホスフェート含有ポリマーを得る。
ホスホン酸化ポリエチレンは、Anbar(M.Anbar,G.A.St.John and A.C Scott,J Dent Res Vol 53,No 4,pp 867−878,1974)又はSchroeder and Sopchak(J,P.Schroeder and W.P.Sopchak,Journal of Polymer Science Volume 47 Issue 149 p 417(1960))の説明に従って合成される。簡潔に述べると、10gのポリエチレンを、ポリマーが溶解するまで、還流で200gのPCl3を含む乾燥フラスコ内で反応させる。次に、溶解した溶液を通して乾燥酸素を流す。得られた溶液を蒸留して全体体積を半分低減し、氷チップ上に注ぎ、ホスホン酸化ポリエチレンを生成する。このホスホン酸化ポリエチレンを、実施例36の手順に従って反応させる。
ポリ(ビニルベンジルホスホン酸)は、Anbarらによって記載されているようにメタノール中の熱を使用して(4−ビニルベンジル)ホスホン酸を重合することによって、又はモノマーに対する5〜10%負荷での過硫酸アンモニウムなどの開始剤を使用することによって合成される。得られたポリマーを、実施例36の手順に従って反応させる。
実施例17からのポリマーを、PolySciences Incから購入したポリビニルスルホネート及びポリビニルホスホネートのホモポリマーと共に、PSPMモデルに従って試験した。結果を、ピロホスフェート及びポリホスフェートと共に図1及び表3(以下)に示す。
実施例17からのポリマーを、PolySciences Incから購入したポリビニルスルホネート及びポリビニルホスホネートのホモポリマーと共に、PSRMモデルに従って試験した。結果を、ピロホスフェート、ポリホスフェート、及び水処理液と共に図2及び表4(以下)に示す。
実施例20からのポリマーを、PSPMモデルに従って試験した。結果を、ピロホスフェート及びポリホスフェートと共に図3及び表5(以下)に示す。
実施例20からのポリマーを、PSRMモデルに従って試験した。結果を、ピロホスフェート、ポリホスフェート、及び水処理液と共に図4及び表6(以下)に示す。
下記の前述の実施例からのポリマーを、PSRM及びPSPMモデルに従って試験した。結果を、ピロホスフェート、ポリホスフェート、及び水処理液と共に表7(以下)に示す。
以下の化学スキームは、所望の一次生成物、VPP、及びVPPPを形成するために使用される実施例48〜52の一般的な反応スキームを示し、いくつかの他の生成物は、以下の実験の全てではないが一部で観察された。最終的に特定された生成物分布の個々の例を参照されたい。
磁気撹拌器及び中央ネックに短経路蒸留ヘッドを備えた50mLの三口丸底フラスコに、1グラムのビニルホスホン酸(VPA)及び2.72g(3当量)の99%リン酸(PA)を入れた。1つの側頸部を停止させ、窒素を他の側頸部を通して蒸留ヘッドから掃出させた。フラスコを105℃に加熱した油浴に入れ、その温度で27時間撹拌した。試料(約1滴)を所望の時点で除去し、1mLのD7−DMFに0.25mLのトリブチルアミンを溶解し、P−NMRによって評価した。最終生成物は、VPA、ビニル−ホスホノ−モノホスフェート(VPP)、ビニル−ホスホノ−ピロホスフェート(VPPP)、ビニル−ホスホン酸無水物(VPPV)、リン酸(PA)、ピロリン酸(PP)、及び三リン酸(PPP)を含有することが見出された。種の同定は、LCMSを使用して確認した。加えて、反応中に重合が生じなかったと判定された最終的な27時間の試料でH−NMRを行った。
以下の変更を行い、実施例48の手順に従った。短経路蒸留ヘッドを、大気に通気するのではなく、Buchi真空ポンプに接続した。丸底フラスコを、1つの側頸部から一定の窒素流を有する実験の持続時間にわたって50〜60トールに排気した。32及び48時間でのサンプリングは、31〜32% VPA、40〜41% VPP、14% VPPP、及び13〜14% VPPVのビニル含有分布での時点間の変化をほとんど示さなかった。VPPPVに対応するシグナルもまた、P−NMRで観察されたが、他のピークと重複するため定量化しなかった。
VPAに対して6等量のPAを用いて、実施例49の手順に従った。72時間におけるビニル含有種の分布は、31% VPA、40% VPP、21% VPPP、及び8% VPPVであった。VPPPVに対応するシグナルもまた、P−NMRで観察されたが、他のピークと重複するため定量化しなかった。
磁気的に撹拌した20mLのシンチレーションバイアルに、2.24gの水中85重量%のリン酸、1.01gの90%ビニルホスホン酸、及び2.5五酸化リンを(その順序で)加えた。6としてのビニルホスホネートと全ホスフェートのモル比(ホスフェートのモル数とP2Oのモル数の2倍の総和として計算)。バイアルを175℃に加熱し、実施例Xの手順を使用して1時間でP NMRのために試料採取した。特定されたビニル含有種のモル組成は、34% VPA、41% VPP、19% VPPP、及び5% VPPVであった。更なるビニルピークは、P NMRで可視であり、VPPPP及びVPPPPPを含むより大きい種に対応する可能性が高い。LCMSにより、全て陰イオンモードで可視である、VPP、VPPP、VPPPP、VPPPPP、VPPPPPP、及びVPPPPPPPのピークを有するより高次のホスホノ−ホスフェートの存在が確認された。
材料全体を5倍増加させて、実施例49の手順に従った。32時間での試料採取は、35% VPA、37% VPP、12% VPPP、12% VPPV、及び4% VPPPVのビニル含有種の分布を示した。
49% VPP、26% PA、6% PP、15% VPPP、及び3% VPAを含有する実施例52の白色粉末を、白色VPPP含有粉末(8.6mmolビニル基)及びSVS(8.6mmolビニル基)の50/50混合物を使用して、実施例19及び20の手順に従って重合した。透析及び凍結乾燥後、3.6gのポリマーを収集し、SVSに基づいて57%モノマー、及びホスホネートに基づいて43%を含有することが見出された。ホスホネート分布は、VPAから3%、VPPから78%、及びVPPPから18%であった。ポリマーは、22%の不純物/水と共に、重量ベースで78%活性であった。このポリマーを、それぞれ5.5及び11.0のΔLの値を有するPSPM及びPSRMモデルで試験した。PSPMの対照は、水28.0、HAPブランク0.0、ピロホスフェート18.0、ポリホスフェート4.0であり、PSRMの対照は、水24.2、HAPブランク0.0、ピロホスフェート12.4、ポリホスフェート8.6であった。
以下の実施例は、ホスホノ−ホスフェートを含有するポリマーの、歯摩剤への配合、及びその後の着色汚れモデルの試験を示す。
実施例19及び20の手順を、96.7mmolのVPP及び96.7mmolのVSAを使用して、他の試薬及び溶媒の等価増加と共にスケールアップした。透析及び凍結乾燥後、27.1gのポリマーを収集し、SVSに基づいて59%モノマー、VPPに基づいて40%、及びVPAに基づいて2%を含有することが見出された。ポリマーは、17%の不純物/水と共に、重量ベースで83%活性であった。
実施例16及び17の手順を、148mmolのVPP及び122mmolのVSAを使用して、他の試薬及び溶媒の等価な増加と共にスケールアップした。透析及び凍結乾燥後、26.8gのポリマーを収集し、SVSに基づいて54%のモノマー、VPAに基づいて46%を含有することが見出された。ポリマーは、10%の不純物/水と共に、重量ベースで90%活性であった。このポリマーを、それぞれ10.2及び20.2のΔLの値を有するPSPM及びPSRMモデルで試験した。PSPMの対照は、水28.0、HAPブランク0.0、ピロホスフェート14.3、ポリホスフェート3.1であり、PSRMの対照は、水25.0、HAPブランク0.0、ピロホスフェート13.5、ポリホスフェート10.7であった。
実施例19及び20の手順を、354.5mmolのVPP及び433mmolのVSAを使用して、他の試薬及び溶媒の等価な増加と共にスケールアップした。中和後、バルク溶液を水で9819gにして、1N NaOHでpHを10に調整した。Tami Industries 1000 MWCOカラム(E190613N001)を使用して、タンジェンシャルフロー濾過(Tangential Flow Filtration(TFF))によって、得られた溶液中で低MW不純物を減少させた。溶液をリザーバからカラムを通して汲み上げ、リザーバに戻した。カラムの細孔を通過した流出液を、秤上のフラスコ内に収集した。第1の実施では、3.5kgの流出液が収集されるまで溶液を汲み上げた。次いで、リザーバ中の残留溶液を最大約9kgまで戻した。4.8kgを除去してこの手順を繰り返し、リザーバを11kgにした。最終の実施では、6kgの流出液を除去した。最終TFFの後、濃縮溶液を0.22μmフィルタ(Stericup 500ml Filter Unit,Aldrich)を通して濾過した。
この実施例における全ての百分率は、特に指定のない限り、重量による。
組成物1は、市販のCrest Cavity Protection Regular Flavorであった。
本実施例の全ての試料について、以下の一般的な手順に従った。
1)室温から110℃まで15分間かけて上昇させる。
2)110℃で3時間保持する。
3)110℃から150℃まで15分間かけて上昇させる。
4)以下の表に記載されるように、150℃で15分間又は60分間保持する。
5)室温まで冷却し、一晩放置する。
1)室温から110℃まで15分間かけて上昇させる。
2)110℃で3時間保持する。
3)110℃から150℃まで15分間かけて上昇させる。
4)150℃で15分間保持する。
5)室温まで冷却し、一晩放置する。
分画1〜3及び4〜6で更なる精製を行った。水中の15重量%のポリマー溶液を、組み合わせた分画1〜3から生成した。これに、水分画全体の質量の20%と等しいメタノールの質量を撹拌しながら60分間加えた。撹拌を停止し、溶液相を分離して、粘性のポリマー豊富な下部層を得た。この分画を収集し、乾燥させた。この手順を、毎回加えた溶液の開始質量に対して、追加の10%メタノールで更に3回繰り返した。全ての試料を、以下の表に記録された元の質量パーセントでオーブン乾燥した。分画1〜4は、77〜81%活性であり、0.5%未満のホスフェート、0.2%未満のビニルホスフェート、又はビニルホスホノ−ホスフェートを有し、検出可能なビニルスルホネートは存在しなかった。
実施例61の再分画試料のHNMRは、6.5〜5ppmのオレフィン領域における幅広いポリマーピークを示した。4.0〜1.0ppmのこれらのピーク対非オレフィンピークの積分を使用して、オレフィンがどれだけ存在するかを概算することができる。オレフィン領域を、ビニル様基を仮定して2で除算したが、非オレフィンは、CH2−CHX(XはP又はSである)を仮定して3で除算した。内部標準HNMR及びPNMRの組み合わせで計算した各分画の組成物から、全てのオレフィンが末端基に対応すると仮定してMnを概算することができる。次いで、Mnの光散乱(LS)結果を用いるこの計算の接近度を使用して、各ポリマーが終端位置にオレフィンを有するかどうかを測定することができる。比較結果を表7に示す。
Claims (30)
- ホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を含むポリマーを含む口腔ケア組成物であって、前記ホスホノ−ホスフェート基が、式1:
εは、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖の炭素原子への結合部位であり、
R1は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式2:
θは、式1への結合部位であり、
R4及びR5は、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される〉
の構造からなる群から選択され、
R2は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式3:
θは、式1への結合部位であり、
R6及びR7は、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
nは、1〜22の整数である〉
の構造からなる群から選択され、
R3は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される]
の構造を有し、
前記アニオン性基が、前記ポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつホスフェート、ホスホネート、ホスフィネート、サルフェート、スルホネート、スルフィナート、メルカプト、カルボキシレート、ヒドロキシアミノ、アミンオキシド及びヒドロキサメートからなる化学基から選択される、口腔ケア組成物。 - 前記ポリマーがモノマーを使用して生成され、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが前記ホスホノ−ホスフェート基を含む、請求項1に記載の口腔ケア組成物。
- 前記ポリマーがモノマーを使用して生成され、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが前記アニオン性基を含む、請求項1に記載の口腔ケア組成物。
- 前記ポリマーがモノマーを使用して生成され、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが前記アニオン性基を含み、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが前記ホスホノ−ホスフェート基を含む、請求項1に記載の口腔ケア組成物。
- 前記ホスホノ−ホスフェート基が、重合後修飾の間に加えられる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
- 前記少なくとも1つのモノマーが、式4:
βは、式1のホスホノ−ホスフェート基への結合部位であり、
R8は、−H及び−CH3からなる群から選択され、
L1は、化学結合、アレーンジイル及び式5:
αは、式4のアルケニル基への結合部位であり、
βは、式1のホスホノ−ホスフェート基への結合部位であり、
Xは、式6〜12:
の構造からなる群から選択され、
Yは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉
の構造からなる群から選択される]
の構造を有する、請求項2に記載の口腔ケア組成物。 - L1が共有結合である、請求項6に記載の口腔ケア組成物。
- L1が式5の構造を有する、請求項6に記載の口腔ケア組成物。
- Xの構造が、式6、式9及び式11からなる群から選択される、請求項8に記載の口腔ケア組成物。
- 前記アニオン性基が、ホスフェート、ホスホネート、サルフェート、スルホネート及びカルボキシレートからなる群から選択される、請求項1〜9のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
- 前記少なくとも1つのモノマーが、ビニルホスホネート、ビニルスルホネート、アクリレート、メチルビニルホスホネート、メチルビニルスルホネート、メタクリレート、スチレンホスホネート、スチレンスルホネート、ビニルベンゼンホスホネート、ビニルベンゼンスルホネート、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホネート(AMPS)及び2−スルホプロピルアクリレート(SPA)からなる群から選択される、請求項3に記載の口腔ケア組成物。
- 前記ホスホノ−ホスフェート基を含む前記少なくとも1つのモノマーと、前記アニオン性基を含む前記少なくとも1つのモノマーとの比が、それぞれ、99.9:0.1〜0.1:99.9、好ましくは99:1〜1:99、より好ましくは90:10〜10:90、より好ましくは70:30〜30:70の範囲である、請求項4に記載の口腔ケア組成物。
- ホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を含むポリマーを含む口腔ケア組成物であって、前記ポリマーが:
R1は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式2:
θは、式23への結合部位であり、
R4及びR5は、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される〉
の構造からなる群から選択され、
R2は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式3:
θは、式23への結合部位であり、
R6及びR7は、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
nが、1〜22の整数である〉
の構造からなる群から選択され、
R3は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
アニオン性基は、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつホスフェート、ホスホネート、ホスフィネート、サルフェート、スルホネート、スルフィナート、メルカプト、カルボキシレート、ヒドロキシアミノ、アミンオキシド及びヒドロキサメートからなる化学基から選択され、
R8は、−H及び−CH3からなる群から選択され、
L1は、化学結合、アレーンジイル及び式5:
αは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
βは、ホスホノ−ホスフェートへの結合部位であり、
Xは、式6〜12:
の構造からなる群から選択され、
Yは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉
の構造からなる群から選択され、
R11は、−H及び−CH3からなる群から選択され、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
L3は、化学結合、アレーンジイル及び式15:
γは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
Wは、式16〜22:
の構造から選択され、
Vは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル又はアルケンジイルからなる群から選択される〉
の構造から選択され、
R13は、ポリマー開始から得られる化学基であり、
R14は、連鎖停止により得られる化学基であり、
mは、2〜450の整数であり、
pは、2〜450の整数である]
の構造を有する、口腔ケア組成物。 - R8がHである、請求項15又は16に記載の口腔ケア組成物。
- 前記アニオン性基が、ホスフェート、ホスホネート、サルフェート、スルホネート及びカルボキシレートからなる群から選択される、請求項15〜18のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
- R11がHである、請求項15〜19のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
- R14が−Hである、請求項15〜24のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
- R14が、頭部−頭部結合を有する別のポリマー鎖である、請求項15〜24のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
- 前記組成物が、前記組成物の約5重量%〜約70重量%の水を更に含む、請求項1〜27のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
- 前記組成物が、前記組成物の約0.1重量%〜約11重量%の金属イオン塩を更に含む、請求項1〜28のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
- 前記金属イオン塩がフッ化第一スズである、請求項29に記載の口腔ケア組成物。
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