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JP2021505562A - ホスホノ−ホスフェート及びアニオン性基含有ポリマーを含む口腔ケア組成物 - Google Patents

ホスホノ−ホスフェート及びアニオン性基含有ポリマーを含む口腔ケア組成物 Download PDF

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JP2021505562A
JP2021505562A JP2020530366A JP2020530366A JP2021505562A JP 2021505562 A JP2021505562 A JP 2021505562A JP 2020530366 A JP2020530366 A JP 2020530366A JP 2020530366 A JP2020530366 A JP 2020530366A JP 2021505562 A JP2021505562 A JP 2021505562A
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JP
Japan
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group
formula
polymer
phosphate
phosphono
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JP2020530366A
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ライアン、マイケル、ウエスト
スコット、リロイ、クロン
ジン、インクン
ウィリアム、マイケル、グランドルフ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Procter and Gamble Co
Original Assignee
Procter and Gamble Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Abstract

二価カチオン及び二価カチオンを有する表面を用いた目的の用途を有する、新規のホスホノ−ホスフェート及びアニオン性基を含有するポリマー組成物の口腔ケア組成物が開示される。これらの化合物を使用して、口腔ケア用途での使用のために、カルシウムヒドロキシアパタイトなどのアニオン性特性を表面に送達することができる。

Description

本発明は、新規ホスホノ−ホスフェート及びアニオン性基含有ポリマーに関する。本発明は更に、新規ポリマーを含む口腔ケア組成物を使用することに関する。
多価カチオンと相互作用し、多価カチオンを含有する表面と相互作用する化学構造は、これらの系の操作に有用である。例えば、ポリホスフェート及びピロホスフェートは、カルシウムを制御するために洗濯及び食器用配合物中で、また沈殿を防止するために掘削泥中でビルダーとして使用されてきた。それらはまた、歯石を制御し、歯上のペリクル層の厚さを低減して、歯のつるつるした感触をもたらすのを助けるために、口腔ケア産業において使用されてきた。同様に、ビスホスホネート及びヒドロキシ−ビスホスホネートは、カルシウムヒドロキシアパタイト表面との強い相互作用により、骨粗鬆症医薬品中の活性成分であり、食器洗い用液体及びボイラーシステムにおける結晶成長阻害剤としても使用される。これらの実施例の各々は、固有の制限に悩まされる。ポリホスフェートは、全てのpHの水溶液中で経時的に分解しやすく、最終的には、溶液中のオルトホスフェートの増加につながる。ポリホスフェートはまた、本質的に非常にアニオン性であり、非極性有機系には可溶性ではない。しかしながら、ポリホスフェートは、一般に、消費に安全であり、異なる食品製品での使用が見出される。ビスホスホネート及びヒドロキシ−ビスホスホネートは、反対に、長期間にわたって水で安定であり、ビスホスホネート炭素に結合した有機基の性質に応じて、有機系に非常に可溶性にすることができる。しかしながら、ビスホスホネートは、骨表面に活性であるため、それらの強力な薬理学に起因して偶発的に消費され得る食品又は他の系では使用することができない。腸壁を通過しないために十分な分子量のビスホスホネートを含有するポリマーは、骨活性ではない可能性があるが、腸壁を通過し得る任意の低分子量の残留モノマー又はオリゴマーは、そのようなポリマーの使用が潜在的な消費可能な状況では禁止される。加えて、ビスホスホネートは容易に分解しないため、それらの活性は、使用後に環境中に持続することができる。
したがって、容易に分解せず、ヒトの消費に安全である、ホスフェート組成物が依然として必要とされている。
驚くべきことに、ホスホノ−ホスフェート化学基は、類似の系における有用性を見出しながら、ポリホスフェート及びビスホスホネートの懸念を改善することが見出された。特に、ホスホノ−ホスフェート基を含有するポリマーは、ホスホノ−ホスフェート基を含有するモノマーを組み込むことによって、又はホスホノ−ホスフェート基を加えるための重合後修飾によって、アニオン性基と共に、ポリホスフェート及びビスホスホネート含有構造が使用される多数の用途で使用することができる。そのような用途としては、一般に、結合相互作用が、溶液中及び二価カチオンを含有する表面上の両方における多価カチオンに関与するものが挙げられる。ホスホノ−ホスフェート及びアニオン性含有ポリマーはまた、ポリホスフェート及びビスホスホネートの使用が制限される用途で使用することができる。ホスホノ−ホスフェート基は条件付きで安定であり、酸性条件下又は触媒条件下でのみホスフェートを放出する。したがって、ホスホノ−ホスフェート基は、ポリホスフェートよりも安定であるが、ビスホスホネートほど安定ではない。これにより、アニオン性含有ポリマーが有益性を提供し、消費及び水安定性の効果が有害でないことが必須である系への配合を可能にする。
ある特定の実施形態では、本発明は、ホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を含む新規ポリマーを含む口腔ケア組成物を目的とし、当該ホスホノ−ホスフェート基は、式1:
Figure 2021505562
[式中、
εは、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖の炭素原子への結合部位であり、
は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式2;
Figure 2021505562
〈式中、
θは、式1への結合部位であり、
及びRは、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される〉の構造からなる群から選択され、
は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式3:
Figure 2021505562
〈式中、
θは、式1への結合部位であり、
及びRは、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
nは、1〜22の整数である〉の構造からなる群から選択され、
は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される]、の構造を有し、
当該アニオン性基は、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつホスフェート、ホスホネート、ホスフィネート、サルフェート、スルホネート、スルフィナート、メルカプト、カルボキシレート、ヒドロキシアミノ、アミンオキシド及びヒドロキサメートからなる化学基から選択される。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーは、ホスホノ−ホスフェート基を含む。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーは、アニオン性基を含む。別の実施形態では、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーは、当該アニオン性基を含み、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーは、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む。別の実施形態では、ホスホノ−ホスフェート基は、重合後修飾の間に加えられる。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該少なくとも1つのモノマーは、式4:
Figure 2021505562
[式中、
βは、式1のホスホノ−ホスフェート基への結合部位であり、
は、−H及び−CHからなる群から選択され、
は、化学結合、アレーンジイル及び式5:
Figure 2021505562
〈式中、
αは、式4のアルケニル基への結合部位であり、
βは、式1のホスホノ−ホスフェート基への結合部位であり、
Xは、式6〜12:
Figure 2021505562
(式中、
は、−H、アルキル(C1〜8)、ホスホノアルキル及びホスホノ(ホスフェート)アルキルからなる群から選択される)の構造からなる群から選択され、
Yは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造からなる群から選択される]の構造を有する。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有する場合、Lは、共有結合である。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーがホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有する場合、Lは、式5の構造を有する。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有し、Lが、式5の構造を有する場合、Xの構造は、式6、式9及び式11からなる群から選択される。
ある特定の実施形態では、当該アニオン性基は、ホスフェート、ホスホネート、サルフェート、スルホネート、又はカルボキシレートから選択される。別の実施形態では、当該アニオン性基は、スルホネートである。別の実施形態では、当該アニオン性基は、カルボキシレートである。別の実施形態では、当該アニオン性基は、ホスホネートである。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含む場合、当該少なくとも1つのモノマーは、式13:
Figure 2021505562
[式中、
10は、H又はCHからなる群から選択され、Lは、アニオン性基への連結基である]の構造のアルケニル基を更に含む。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含む場合、当該少なくとも1つのモノマーは、式14:
Figure 2021505562
[式中、
11は、H及びアルキルからなる群から選択され、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
は、化学結合、アレーンジイル及び式15:
Figure 2021505562
〈式中、
γは、アルケニル基への結合部位であり、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
Wは、式16〜22:
Figure 2021505562
(式中、
12は、−H及びアルキル(C1〜8)からなる群から選択される)の構造から選択され、
Vは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造からなる群から選択されるiである]の構造のアルケニル基を更に含む。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含む場合、当該少なくとも1つのモノマーは、ビニルホスホネート、ビニルスルホネート、アクリレート、メチルビニルホスホネート、メチルビニルスルホネート、メタクリレート、スチレンホスホネート、スチレンスルホネート、ビニルベンゼンホスホネート、ビニルベンゼンスルホネート、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホネート(AMPS)及び2−スルホプロピルアクリレート(SPA)からなる群から選択される。
ある特定の実施形態では、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該アニオン性基を含み、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む当該少なくとも1つのモノマーと、当該アニオン性基を含む当該少なくとも1つのモノマーとの比は、それぞれ99.9:0.1〜0.1:99.9の範囲である。
ある特定の実施形態では、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該アニオン性基を含み、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む当該少なくとも1つのモノマーと、当該アニオン性基を含む当該少なくとも1つのモノマーとの比は、それぞれ99:1〜1:99の範囲である。
ある特定の実施形態では、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該アニオン性基を含み、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む当該少なくとも1つのモノマーと、当該アニオン性基を含む当該少なくとも1つのモノマーとの比は、それぞれ90:10〜10:90の範囲である。
ある特定の実施形態では、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該アニオン性基を含み、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む当該少なくとも1つのモノマーと、当該アニオン性基を含む当該少なくとも1つのモノマーとの比は、それぞれ70:30〜30:70の範囲である。
前述の概要は、本発明の態様の全てを定めることを意図するものではなく、更なる態様が、発明を実施するための形態などの他のセクションで記載される。加えて、本発明は、本明細書に記載される特定の段落で定めた変更形態から、いずれかの方法で範囲を限定した本発明の全ての実施形態を、更なる態様として含む。例えば、ある属について記載された本発明の特定の態様は、属の全ての成員が、独立して本発明の態様となるものと理解されるべきである。また、ある属について記載されるか、又はある属の成員を選択する態様は、その属の2種類以上の成員の組み合わせをも包含するものと理解されるべきである。
本発明のこれら及び他の特徴、態様、及び利点は、本開示を読むことにより当業者に明らかとなるであろう。
ポリマー性能を示すチャートである。 ポリマー性能を示すチャートである。 ポリマー性能を示すチャートである。 ポリマー性能を示すチャートである。 ポリマー分析から得られるGPCトレースプロットである。 ポリマー分析から得られるGPCトレースプロットである。
本明細書は、本発明を具体的に指摘しかつ明確に請求する「特許請求の範囲」を結論とするが、以下の記述により、本発明がより深く理解されると考えられる。
本明細書における全ての百分率は、特に指示がない限り、組成物のモルによる。
特に指示がない限り、全ての比はモル比である。
本明細書で言及される成分の全ての百分率、比、及び濃度は、特に指示がない限り、成分の実際の重量に基づき、市販製品として上記の成分と組み合わせられ得る溶媒、充填剤、又は他の材料を含まない。
本明細書で使用するとき、「含む」とは、最終結果に影響を及ぼさない他の工程及び他の成分を加えることができることを意味する。この用語は、「からなる」及び「から本質的になる」という用語を包含する。
引用する参照文献は全て、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。いかなる参照文献の引用も、特許請求される本発明に対する先行技術としての利用可能性の決定に関する容認ではない。
定義
「部位」又は「結合部位」又は「結合点」という用語は全て、化学基内の開放原子価を有する原子、あるいは単純な破線(−)又はギリシア文字の小文字に続く破線若しくは線(例えば、α−、β−等)などの記号で指定され、そのように指定された原子が化学結合を介して別の化学基内の別の原子に接続することを示す、定義された構造的実体内の開放原子価を有する原子を意味する。
Figure 2021505562
という記号はまた、結合部全体にわたって垂直に引かれたときに、
Figure 2021505562
化学基の結合点も示す。結合点は、典型的には、結合が延在する原子への結合点を特定する際に、読み手を明確に補助するために、より大きい化学基についてはこの方法ででのみ特定されることに留意されたい。第1の化学基又は定義された構造的実体上の結合部位又は結合点は、接続された原子の正常な価数を満たすために、単一、二重、若しくは三重の共有結合のいずれかを介して、第2の化学基又は定義された構造的実体上の結合部位又は結合点に接続する。
「ラジカル」という用語は、化学基と共に使用されるとき、メチル基、カルボキシル基、又はより大きな分子の一部であるホスホノ−ホスフェート基などの、任意の接続された原子群を示す。
化学基の文脈において使用されるとき、「水素」は、−Hを意味し、「ヒドロキシ」は、−OHを意味し、「オキソ」は、=Oを意味し、「カルボニル」は、−C(=O)−を意味し、「カルボキシ」及び「カルボキシレート」は、−C(=O)OH(−COOH又は−CO2Hとしても記載される)又はその脱プロトン化形態を意味し、「アミノ」は、−NH2を意味し、「ヒドロキシアミノ」は、−NHOHを意味し、「ニトロ」は、−NO2を意味し、「イミノ」は、=NHを意味し、「アミンオキシド」は、N(式中、Nは、O以外の原子に対する3つの共有結合を有する)を意味し、「ヒドロキサム」又は「ヒドロキサメート」は、−C(O)NHOH又はその脱プロトン化形態を意味し、一価の文脈において、「ホスフェート」は、−OP(O)(OH)又はその脱プロトン化形態を意味し、二価の文脈において、「ホスフェート」は、−OP(O)(OH)O−又はその脱プロトン化形態を意味し、「ホスホネート」は、C−P(O)(OH)又はその脱プロトン化形態を意味し、式中、Cは、P以外の原子に対する4つ及び3つの共有結合の正常な価数を有し、「ホスホノ−ホスフェート」は、共有酸素原子を介して、限定されないが、ホスホノ−ホスフェートC−P(O)(OH)OP(O)(OH)、ホスホノジホスフェートC−P(O)(OP(O)(OH))OP(O)(OH)、ホスホノ−シクロジホスフェート
Figure 2021505562
ホスホノ−ピロホスフェートC−P(O)(OH)OP(O)(OH)OP(O)(OH)、及びホスホノ−ポリホスフェートC−P(O)(OH)(OP(O)(OH))OP(O)(OH)(式中、nは、1〜100の整数である)又はその脱プロトン化形態(式中、Cは、P以外の原子に対する4つ及び3つの共有結合の正常な価数を有する)などの少なくとも1つのホスフェートに化学的に結合されたホスフェートを意味し、「ホスフィネート」は、C−P(O)(OH)(C)又はその脱プロトン化形態を意味し、両方のCは、P以外の原子に対する4つ及び3つの追加の結合の正常な価数を有し、「サルフェート」は、−OS(O)OH又はその脱プロトン化形態を意味し、「スルホネート」は、CS(O)OH又はその脱プロトン化形態を意味し、式中、Cは、S以外の原子に対する4つ及び3つの追加の結合の正常な価数を有し、「スルフィナート」は、CS(O)OH又はその脱プロトン化形態を意味し、式中、Cは、S以外の原子に対する4つ及び3つの追加の結合の正常な価数を有し、「メルカプト」は、−SHを意味し、「チオ」は、=Sを意味し、「スルホニル」は、−S(O)2−を意味し、「スルフィニル」は、−S(O)−を意味する。
以下の化学基及びクラスに関して、以下の括弧付きの下付き文字は、化学基/クラスを以下のように更に定義する:「(Cn)」は、化学基/クラス中の炭素原子の正確な数(n)を定義する。「(C≦n)」は、化学基/クラス内であり得る炭素原子の最大数(n)と共に、問題の化学基に関して可能な限り小さい最小数を定義し、例えば、化学基「アルケニル(C≦8)」又は化学分類「アルケン(C≦8)」における炭素原子の最小数は2であることが理解される。例えば、「アルコキシ(C≦8)」は、1〜8個の炭素原子を有するアルコキシ基を示す。(Cn−n’)は、化学基中の炭素原子の最小(n)及び最大数(n’)の両方を定義する。同様に、アルキル(C2〜8)は、包括的に2〜8個の炭素原子を有するアルキル基を示す。
「カチオン」という用語は、単一及び複数の荷電種を含む正味の正電荷を有する原子、分子、又は化学基を指す。カチオンは、金属などの個々の原子であってもよく、非限定的な例としては、Na又はCa+2、個々の分子が挙げられ、非限定的な例としては、(CH、又は化学基が挙げられ、非限定的な例としては、−N(CH が挙げられる。「アミンカチオン」という用語は、形態NR の特定の分子カチオンを指し、ここで4つの置換R部分は、H及びアルキルから独立して選択することができ、非限定的な例としては、NH (アンモニウム)、CHNH (メチルアンモニウム)、CHCHNH− (エチルアンモニウム)、(CHNH− (ジメチルアンモニウム)、(CHNH(トリメチルアンモニウム)、及び(CH(テトラメチルアンモニウム)が挙げられる。
「アニオン」という用語は、単一及び複数の荷電種を含む正味の負電荷を有する原子、分子、又は化学基を指す。アニオンは、個々の原子、例えば限定されないが、ハロゲン化物、F、Cl、Br、個々の分子であり得、非限定的な例としては、CO −2、HPO 、HPO −2、PO −3、HSO 、SO −2、又は化学基が挙げられ、非限定的な例としては、サルフェート、ホスフェート、スルホネート、ホスホネート、ホスフィネート、スルホネート、メルカプト、カルボキシレート、アミンオキシド、ヒドロキサメート、及びヒドロキシルアミノが挙げられる。プロトンの除去が正味の負電荷をもたらす場合、予め定義された化学基の脱プロトン化形態は、アニオン性基であると考えられる。溶液中、化学基はプロトンを失うことができ、Henderson−Hasselbach式(pH=pKa+log10([A]/[HA]に従い、pHの機能としてアニオン性になり、式中、[HA]は解離していない酸のモル濃度であり、[A]は、この酸の共役塩基のモル濃度である)。溶液のpHが、官能基のpKa値に等しい場合、官能基の50%はアニオン性であり、残りの50%はプロトンを有する。典型的には、pHが官能基のpKa以上である場合、溶液中の官能基は、アニオン性であると考えることができる。
「塩(salt)」又は「塩(salts)」は、1つ以上のアニオン及びカチオンの電荷中性の組み合わせを指す。例えば、Rがカルボン酸基の塩、−COORとして示される場合、カルボキシレート(−COO−)は、負電荷−1を有するアニオンであり、Rは、正電荷+1を有するカチオンであり、電荷−1の1つのアニオンを有する電荷中性実体を形成するか、又はRは、+2の正電荷を有するカチオンであり、両方が−1電荷の2つのアニオンを有する電荷中性実体を形成することが理解される。
本明細書で使用される場合、「飽和」という用語は、そのように修飾された化学化合物又は基が、後述されるものを除いて、炭素−炭素二重結合も炭素−炭素三重結合も有しないことを意味する。飽和化学基の置換バージョンの場合、1つ以上の炭素酸素二重結合又は炭素窒素二重結合が存在し得る。そのような結合が存在する場合、ケト−エノール互変異性又はイミン/エナミン互変異性の一部として生じ得る炭素−炭素二重結合は除外されない。
「脂肪族」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、そのように修飾された化学化合物/基が非環式又は環式であるが、非芳香族炭化水素化学化合物又は基であることを意味する。脂肪族化合物/基では、炭素原子は、直鎖、分枝鎖、又は非芳香環(脂環式)で一緒に結合することができる。脂肪族化学化合物/基は、飽和であり得、単結合(アルカン/アルキル)によって結合されるか、又は不飽和であり得、1つ以上の二重結合(アルケン/アルケニル)又は1つ以上の三重結合(アルキニル/アルキニル)を有する。
「アルキル」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、結合点としての炭素原子、直鎖又は分枝鎖、シクロ、環式、又は非環式構造を有し、炭素及び水素以外の原子を有しない一価飽和脂肪族基を指す。したがって、本明細書で使用される場合、シクロアルキルは、アルキルのサブセットであり、結合点を形成する炭素原子はまた、1つ以上の非芳香環構造の成員であり、シクロアルキル基は、炭素及び水素以外の原子で構成されない。本明細書で使用される場合、この用語は、環又は環系に結合した(炭素数制限を許可する)1つ以上のアルキル基の存在を除外するものではない。基−CH(Me)、−CHCH(Et)、−CHCHCH(n−Pr又はプロピル)、−CH(CH(i−Pr、’Pr、又はイソプロピル)、−CH(CH(シクロプロピル)、−CHCHCHCH(n−Bu)、−CH(CH)CHCH(sec−ブチル)、−CHCH(CH(イソブチル)、−C(CH(tertブチル、t−ブチル、t−Bu、又はtBu)、−CHC(CH(ネオペンチル)、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、及びシクロヘキシルメチルは、アルキル基の非限定的な例である。「アルカンジイル」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、二価の飽和脂肪族基を指し、結合点(複数可)としての1つ又は2つの飽和炭素原子(複数可)、直鎖又は分枝鎖、シクロ、環式又は非環式構造を有し、炭素−炭素二重結合又は三重結合がなく、炭素及び水素以外の原子がない。基−CH−(メチレン)、−CHCH−、−CHC(CHCH−、及び−CHCHCH−は、アルカンジイル基の非限定的な例である。「アルキリデン」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、R及びR’が、独立して、水素、アルキルであるか、又はR及びR’が一緒になって、少なくとも2個の炭素原子を有するアルカンジイルを表す、二価の基=CRR’を指す。アルキリデン基の非限定的な例としては、=CH、=CH(CHCH)、及び=C(CHが挙げられる。「アルカン」は、この用語が上記に定義されるように、化合物H−Rを指し、式中、Rは、アルキルである。これらの用語のうちのいずれかが、「置換」という修飾語と共に使用される場合、1つ以上の水素原子は、独立して、−OH、−F、−Cl、−Br、−I、−NH、−NO、−COH、−COCH、−CN、−SH、−OCH、−OCHCH、−C(O)CH、−NHCH、−NHCHCH、−N(CH、−C(O)NH、−OC(O)NH、−S(O)NH、−P(O)(OH)、−P(O)(OH)OP(O)(OH)、−OP(O)(OH)、−OP(O)(OH)OP(O)(OH)、−S(O)(OH)、又は−OS(O)(OH)によって置換されている。以下の基は、置換アルキル基の非限定的な例である:−CHOH、−CHCl、−CF、−CHCN、−CHC(O)OH、−CHC(O)OCH、−CHC(O)NH、−CHC(O)CH、−CHOCH、−CHOC(O)CH、−CHNH、−CHN(CH、−CHCHCl、−CHP(O)(OH)、−CHP(O)(OH)OP(O)(OH)、−CHS(O)(OH)、及び−CHOS(O)(OH)。「ハロアルキル」という用語は、1つ以上の水素原子がハロ基で置換されており、炭素、水素、及びハロゲン以外の他の原子が存在しない、置換アルキルのサブセットである。基−CHClは、ハロアルキルの非限定的な例である。「フルオロアルキル」という用語は、1つ以上の水素がフルオロ基で置換されており、炭素、水素、及びフッ素以外の他の原子が存在しない、置換アルキルのサブセットである。基−CHF、−CF、及び−CHCFは、フルオロアルキル基の非限定的な例である。
「ホスホノアルキル」という用語は、水素のうちの1つ以上が、ホスホネート基で置換されており、炭素、水素、リン、及び酸素以外の他の原子が存在しない、置換アルキルのサブセットである。基−CHP(O)(OH)及び−CHCHP(O)(OH)、並びにそれらの対応する脱プロトン化形態は、ホスホノアルキルの非限定的な例である。
「ホスホノ(ホスフェート)アルキル」という用語は、水素のうちの1つ以上が、ホスホノ−ホスフェート基で置換されており、炭素、水素、リン、及び酸素以外の他の原子が存在しない、置換アルキルのサブセットである。基−CHP(O)(OH)OP(O)(OH)及び−CHCHP(O)(OH)OP(O)(OH)、並びにそれらの対応する脱プロトン化形態は、ホスホノ(ホスフェート)アルキルの非限定的な例である。
「スルホノアルキル」という用語は、水素のうちの1つ以上が、スルホネート基で置換されており、炭素、水素、硫黄、及び酸素以外の他の原子が存在しない、置換アルキルのサブセットである。基−CHS(O)OH及び−CHCHS(O)OH、並びにそれらの対応する脱プロトン化形態は、スルホノアルキルの非限定的な例である。
「アルケニル」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、結合点としての炭素原子、直鎖又は分枝鎖、シクロ、環式又は非環式構造、少なくとも1つの非芳香族炭素−炭素二重結合を有し、炭素−炭素三重結合がなく、炭素及び水素以外の原子がない、一価不飽和脂肪族基を指す。アルケニル基の非限定的な例としては、−CH=CH(ビニル)、−C(CH)=CH(メチル−ビニル)、−CH=CHCH、−CH=CHCHCH、−CHCH=CH(アリル)、−CHCH=CHCH、及び−CH=CHCH=CHが挙げられる。「アルケンジイル」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、結合点としての2つの炭素原子、直鎖又は分枝鎖、シクロ、環式又は非環式構造、少なくとも1つの非芳香族炭素−炭素二重結合を有し、炭素−炭素三重結合がなく、炭素及び水素以外の原子がない、二価不飽和脂肪族基を指す。基>C=CH(ビニリジン)、−CH=CH−、−CH=C(CH)CH−、及び−CH=CHCH−は、アルケンジイル基の非限定的な例である。アルケンジイル基は脂肪族であるが、両端で接続されると、この基は、芳香族構造の形成部分から除外されないことに留意されたい。「アルケン」又は「オレフィン」という用語は同義であり、この用語が上記に定義されるように、式H−Rを有する化合物を指し、式中、Rは、アルケニルである。「末端アルケン」は、1つの炭素−炭素二重結合を有するアルケンを指し、結合は分子の一端にビニル基を形成する。これらの用語のうちのいずれかが、「置換」という修飾語と共に使用される場合、1つ以上の水素原子は、独立して、−OH、−F、−Cl、−Br、−I、−NH、−NO、−COH、−COCH、−CN、−SH、−OCH、−OCHCH、−C(O)CH、−NHCH、−NHCHCH、−N(CH、−C(O)NH、−OC(O)CH、又は−S(O)NHによって置換されている。基−CH=CHF、−CH=CHCl、及び−CH=CHBrは、置換アルケニル基の非限定的な例である。
「アルキニル」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、結合点としての炭素原子、直鎖又は分枝鎖、シクロ、環式又は非環式構造、少なくとも1つの炭素−炭素三重結合を有し、炭素及び水素以外の原子がない、一価不飽和脂肪族基を指す。本明細書で使用される場合、アルキニルという用語は、1つ以上の非芳香族炭素−炭素二重結合の存在を除外しない。基−C≡CH、−C≡CCH、及び−CHC≡CCHは、アルキニル基の非限定的な例である。「アルキン」は、化合物H−Rを指し、式中、Rはアルキニルである。これらの用語のうちのいずれかが、「置換」という修飾語と共に使用される場合、1つ以上の水素原子は、独立して、−OH、−F、−Cl、−Br、−I、−NH、−NO、−COH、−COCH、−CN、−SH、−OCH、−OCHCH、−C(O)CH、−NHCH、−NHCHCH、−N(CH、−C(O)NH、−OC(O)CH、又は−S(O)NHによって置換されている。「アリール」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、結合点として芳香族炭素原子を有する一価不飽和芳香族基を指し、当該炭素原子は、1つ以上の6員芳香族環構造の一部を形成し、環原子は全て炭素であり、基は炭素及び水素以外の原子で構成されない。2つ以上の環が存在する場合、環は、縮合又は非縮合であってもよい。本明細書で使用される場合、この用語は、存在する第1の芳香族環又は任意の追加の芳香族環に結合した1つ以上のアルキル基又はアラルキル基(炭素数制限を許可する)の存在を除外するものではない。アリール基の非限定的な例としては、フェニル(−Ph)、メチルフェニル、(ジメチル)フェニル、−CCHCH(エチルフェニル)、ナフチル、及びビフェニル由来の一価基が挙げられる。「アレーンジイル」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、結合点として2個の芳香族炭素原子を有する二価芳香族基を指し、当該炭素原子は、1つ以上の6員芳香族環構造(複数可)の一部を形成し、環原子は全て炭素であり、一価基は炭素及び水素以外の原子で構成されない。本明細書で使用される場合、この用語は、存在する第1の芳香族環又は任意の追加の芳香族環に結合した1つ以上のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基(炭素数制限を許可する)の存在を除外するものではない。2つ以上の環が存在する場合、環は、縮合又は非縮合であってもよい。非縮合環は、共有結合、アルカンジイル、又はアルケンジイル基(炭素数制限を許可する)のうちの1つ以上を介して接続されてもよい。アレーンジイル基の非限定的な例としては、以下が挙げられる。
Figure 2021505562
「アレーン」は、その用語が上記に定義されるように、化合物H−Rを指し、式中、Rは、アリールである。ベンゼン及びトルエンは、アレーンの非限定的な例である。これらの用語のうちのいずれかが、「置換」という修飾語と共に使用される場合、1つ以上の水素原子は、独立して、−OH、−F、−Cl、−Br、−I、−NH、−NO、−COH、−COCH、−CN、−SH、−OCH、−OCHCH、−C(O)CH、−NHCH、−NHCHCH、−N(CH、−C(O)NH、−OC(O)CH、又は−S(O)NHによって置換されている。
「アシル」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、それらの用語が上記に定義されるように、基−C(O)Rを指し、式中、Rは、水素、アルキル、アリール、アラルキル、又はヘテロアリールである。基−CHO(ホルミル)、−C(O)CH(アセチル、Ac)、−C(O)CHCH、−C(O)CHCHCH、−C(O)CH(CH、−C(O)CH(CH、−C(O)C、−C(O)CCH、−C(O)CH、−C(O)(イミダゾリル)は、アシル基の非限定的な例である。「チオアシル」は、基−C(O)Rの酸素原子が硫黄原子、−C(S)Rで置換されていることを除いて、類似の方法で定義される。「アルデヒド」という用語は、上記に定義したアルカンに対応し、水素原子のうちの少なくとも1つは、−CHO基で置換されている。これらの用語のうちのいずれかが、「置換」という修飾語と共に使用される場合、1つ以上の水素原子(もしあるなら、カルボニル又はチオカルボニル基に直接結合した水素原子を含む)は、独立して、−OH、−F、−Cl、−Br、−I、−NH2、−NO、−COH、−COCH、−CN−SH、−OCH、−OCHCH、−C(O)CH、−NHCH、−NHCHCH、−N(CH、−C(O)NH、−OC(O)CH、又は−S(O)NHによって置換されている。基−C(O)CHCF、−COH(カルボキシル)、−COCH(メチルカルボキシル)、−COCHCH、−C(O)NH(カルバモイル)、及び−CON(CHは、置換アシル基の非限定的な例である。
「アルコキシ」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、その用語が上記に定義されるように、基−ORを指し、式中、Rは、アルキルである。アルコキシ基の非限定的な例としては、−OCH(メトキシ)、−OCHCH(エトキシ)、−OCHCHCH、−OCH(CH(イソプロポキシ)、−O(CH(tert−ブトキシ)、−OCH(CH、−O−シクロペンチル、及び−O−シクロヘキシルが挙げられる。「アルケニルオキシ」、「アルキニルオキシ」、「アリールオキシ」、「アラルコキシ」、「ヘテロアリールオキシ」、「ヘテロシクロアルコキシ」、及び「アシルオキシ」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、−ORとして定義される基を指し、式中、Rは、それぞれアルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、及びアシルである。「アルコキシジイル」という用語は、二価基−O−アルカンジイル−、−O−アルカンジイル−O−−、又は−アルカンジイル−O−アルカンジイル−を指す。「アルカンジイル−アルコキシ」という用語は、−アルカンジイル−O−アルキルを指す。アルカンジイル−アルコキシの非限定的な例は、CH−CH−O−CH−CHである。「アルキルチオ」及び「アシルチオ」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、基−SRを指し、式中、Rは、それぞれアルキル及びアシルである。「アルコール」という用語は、上記に定義したアルカンに対応し、水素原子のうちの少なくとも1つは、ヒドロキシ基で置換されている。「エーテル」という用語は、上記に定義したアルカンに相当し、水素原子のうちの少なくとも1つは、アルコキシ基で置換されている。これらの用語のうちのいずれかが、「置換」という修飾語と共に使用される場合、1つ以上の水素原子は、独立して、−OH、−F、−Cl、−Br、−I、−NH、−NO、−COH、−COCH、−CN、−SH、−OCH、−OCHCH、−C(O)CH、−NHCH、−NHCHCH、−N(CH、−C(O)NH、−OC(O)CH、又は−S(O)NHによって置換されている。
「アルキルアミノ」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、その用語が上記に定義されるように、基−NHRを指し、式中、Rは、アルキルである。アルキルアミノ基の非限定的な例としては、−−NHCH及び−NHCHCHが挙げられる。「ジアルキルアミノ」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、基−NRR’を指し、式中、R及びR’は、同じ若しくは異なるアルキル基であり得るか、又はR及びR’が一緒になってアルカンジイルを表すことができる。ジアルキルアミノ基の非限定的な例としては、−N(CH、−N(CH)(CHCH)、及びN−ピロリジニルが挙げられる。「アルコキシアミノ」、「アルケニルアミノ」、「アルキニルアミノ」、「アリールアミノ」、「アラルキルアミノ」、「ヘテロアリールアミノ」、「ヘテロシクロアルキルアミノ」、及び「アルキルスルホニルアミノ」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、−NHRとして定義される基を指し、式中、Rは、それぞれアルコキシ、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、及びアルキルスルホニルである。アリールアミノ基の非限定的な例は、−−NHCである。「アミド」(アシルアミノ)という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、その用語が上記に定義されるように、基−−NHRを指し、式中、Rは、アシルである。アミド基の非限定的な例は、−−NHC(O)CHである。「アルキルイミノ」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、その用語が上記に定義されるように、二価基=NRを指し、式中、Rは、アルキルである。「アルキルアミノジイル」という用語は、二価基−NH−アルカンジイル−、−NH−アルカンジイル−NH−、又は−アルカンジイル−NH−−アルカンジイル−を指す。これらの用語のうちのいずれかが、「置換」という修飾語と共に使用される場合、1つ以上の水素原子は、独立して、−OH、−F、−Cl、−Br、−I、−NH、−NO、−COH、−COCH、−CN、−SH、−OCH、−OCHCH、−C(O)CH、−NHCH、−NHCHCH、−N(CH、−C(O)NH、−OC(O)CH、又は−S(O)NHによって置換されている。基−NHC(O)OCH及び−NHC(O)NHCHは、置換アミド基の非限定的な例である。
「アルキルスルホニル」及び「アルキルスルフィニル」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、その用語が上記に定義されるように、それぞれ基−S(O)R及び−S(O)Rを指し、式中、Rは、アルキルである。「アルケニルスルホニル」、「アルキニルスルホニル」、「アリールスルホニル」、「アラルキルスルホニル」、「ヘテロアリールスルホニル」、及び「ヘテロシクロアルキルスルホニル」という用語は、類似の方法で定義される。これらの用語のうちのいずれかが、「置換」という修飾語と共に使用される場合、1つ以上の水素原子は、独立して、−OH、−F、−Cl、−Br、−I、−NH2、−NO、−COH、−COCH、−CN、−SH、−OCH、−OCHCH、−C(O)CH、−NHCH、−NHCHCH、−N(CH、−C(O)NH、−OC(O)CH、又は−S(O)NHによって置換されている。
「アルキルホスフェート」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、その用語が上記に定義されるように、基−−OP(O)(OH)(OR)又はその脱プロトン化形態を指し、式中、Rは、アルキルである。アルキルホスフェート基の非限定的な例としては、−OP(O)(OH)(OMe)及び−OP(O)(OH)(OEt)が挙げられる。「ジアルキルホスフェート」という用語は、「置換」という修飾語を伴わずに使用される場合、基−−OP(O)(OR)(OR’)を指し、式中、R及びR’は、同じ若しくは異なるアルキル基であり得るか、又はR及びR’が一緒になってアルカンジイルを表すことができる。ジアルキルホスフェート基の非限定的な例としては、−−OP(O)(OMe)、−OP(O)(OEt)(OMe)及び−OP(O)(OEt)が挙げられる。これらの用語のうちのいずれかが、「置換」という修飾語と共に使用される場合、1つ以上の水素原子は、独立して、−OH、−F、−Cl、−Br、−I、−NH、−NO、−COH、−COCH、−CN、−SH、−OCH、−OCHCH、−C(O)CH、−NHCH、−NHCHCH、−N(CH、−C(O)NH、−OC(O)CH、又は−S(O)NHによって置換されている。
連結基は、2つの他の定義された基間の共有結合、又は2つの他の定義された基を接続する一連の共有結合した原子のいずれかを意味し、この一連の共有結合された原子中に、2つの他の定義された基への結合部位以外の自由原子価を有しない。連結基の非限定的な例としては、共有結合、アルカンジイル、アルケンジイル、アレーンジイル、アルコキシジイル及びアルキルアミノジイルが挙げられる。
本明細書で使用される場合、「キラル補助」とは、反応の立体選択性に影響を与えることができる、リムーバブルキラル基を指す。当業者は、そのような化合物に精通しており、多くは市販されている。
本明細書で使用される他の略語は、以下のとおりである。DMSO、ジメチルスルホキシド;DMF、ジメチルホルムアミド;MeCN、アセトニトリル;MeOH、メタノール;EtOH、エタノール;EtOAc、酢酸エチル;tBuOH、tert−ブタノール;iPrOH、イソプロパノール;cHexOH、シクロヘキサノール;AcO、無水酢酸;AcOOH、過酢酸;HCOEt、ギ酸エチル;THF、テトラヒドロフラン;MTBE、メチルtert−ブチルエーテル;DME、ジメトキシエタン;NBS、N−ブロモスクシンイミド;CDI、カルボニルジイミダゾール;DIEA、ジイソプロピルエチルアミン;TEA/トリエチルアミン;DMAP、ジメチルアミノピリジン;NaOH、水酸化ナトリウム;AAPH、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)ジヒドロクロリド;CTA、1−オクタンチオール;APS、過硫酸アンモニウム;TMP、トリメチルホスフェート;VPA、ビニルホスホン酸;VPP、ビニルホスホノ−モノホスフェート;VPPP、ビニルホスホノ−ピロホスフェート;MVPP、メチル−ビニルホスホノ−モノホスフェート;SVS、ビニルスルホン酸ナトリウム;AMPS、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム;SPA、3−スルホプロピルアクリレートカリウム塩;22A2MPA2HCl、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)ジヒドロクロリド;VBPP、(4−ビニルベンジル)モノホスホノ−ホスフェート;VSME、ビニルスルホン酸メチルエステル;NaOMe、ナトリウムメトキシド;NaCl、塩化ナトリウム;DMVP、ビニルホスホン酸ジメチル
「モノマー分子」は、国際純正・応用化学連合(International Union of Pure and Applied Chemistry(IUPAC))によって、「重合を受けることができ、それによって構成単位を巨大分子の必須構造に寄与する分子」として定義されている。ポリマーは、巨大分子である。
「ポリマー主鎖」又は「主鎖」は、IUPACによって、「全ての他の鎖、長鎖若しくは短鎖、又はその両方がペンダントであるとみなされ得る直鎖」として定義されているが、「2つ以上の鎖が、等しく主鎖であると考慮され得る場合、分子の最も単純な表現をもたらすものが選択される」ことに留意されたい。骨格は、それらが作製される出発物質に応じて、異なる化学組成物であり得る。化学的及び生物学的に合成されたポリマーからの一般的な骨格としては、アルカン、典型的にはビニル又はメチルビニル重合又はカチオン重合及びアニオン重合、縮合重合からのポリエステル、アミド化反応を伴う重合からのポリペプチドなどのポリアミド、並びにエポキシド環開口部からのポリエトキシレートが挙げられる。
「ペンダント基」又は「側基」は、IUPACによって、「鎖からのオリゴマーでもポリマーでもないオフシュート」として定義されている。そのような側基は、線形繰り返し単位を含まない。
「ポリマー側鎖」又は「ペンダント鎖」は、IUPACによって、「巨大分子鎖からのオリゴマー又はポリマーのオフシュート」として定義されているが、「オリゴマー分岐を短鎖分岐と呼ぶことができること」及び「ポリマー分岐を長鎖分岐と呼ぶことができること」に更に留意されたい。
「重合後修飾」は、重合に続いて行われるポリマーの任意の反応又は処理として定義される。重合後修飾は、ポリマー主鎖、ペンダント基、若しくはポリマー側鎖内、又はそれに結合した化学基への反応を含む。
「パーソナルケア組成物」とは、通常の使用過程において、身体表面への適用により又は身体表面との接触により有益な効果を提供する、製品を意味する。身体表面には、皮膚、例えば、真皮又は粘膜が含まれる。身体表面にはまた、身体表面と関連付けられる構造、例えば、毛髪、歯、又は爪が含まれる。パーソナルケア組成物の例としては、外観の改善、洗浄、及び悪臭抑制、又は一般美容のために人体に適用される製品が挙げられる。パーソナルケア組成物の非限定的な例としては、歯磨剤、口内洗浄剤、ムース、発泡体、マウススプレー、トローチ、咀しゃく錠、チューイングガム、歯科用ホワイトニングストリップ、フロス、及びフロスコーティング、口臭消臭溶解性ストリップ、入れ歯ケア製品、義歯粘着剤製品などの口腔ケア組成物、アフターシェービングジェル及びクリーム、プレシェービング製造品、シェービンングジェル、クリーム、又は発泡体、保湿剤及びローション、咳及び冷たい組成物、ゲル、ゲルキャップ、スロートスプレー;リーブオンスキンローション及びクリーム、シャンプー、ボディーソープ、Vicks Vaporubなどのボディー用塗り薬、ヘアコンディショナー、染毛及び毛髪脱色組成物、ムース、シャワージェル、固形石鹸、制汗剤、脱臭剤、脱毛剤、リップスティック、ファンデーション、マスカラ、サンレスタンナー、及び日焼け止めローション、吸収性物品を対象としたローション及びローション組成物などの女性用ケア組成物、吸収性物品又は使い捨て物品を対象としたベビーケア組成物、並びに犬及び猫などの動物用口内洗浄組成物が挙げられる。
本明細書で使用するとき、用語「歯磨剤」は、特に指示がない限り、歯用又は歯肉縁下用ペースト、ゲル、又は液体配合物を包含する。歯磨剤組成物は、単相組成物であってもよく、又は2つ以上の別個の歯磨剤組成物の組み合わせであってもよい。歯磨剤組成物は、深い縞状、表面的な縞状、多層状、ペーストをゲルで包囲した状態、又はこれらのいずれかの組み合わせなど、任意の所望の形態であってもよい。2つ以上の別個の歯磨剤組成物を含む歯磨剤中の各歯磨剤組成物は、ディスペンサの物理的に分離された区画内に収容され、同時に分注されてもよい。
本明細書で使用するとき、用語「ディスペンサ」とは、歯磨剤などの組成物を分注するのに好適なあらゆるポンプ、チューブ、又は容器を意味する。
本明細書で使用するとき、「歯」という用語は、天然歯、並びに人工歯又は歯科補綴物を指す。
用語「経口で受容可能なキャリア又は賦形剤」とは、フッ化物イオン源、抗結石又は抗歯石剤、緩衝剤、シリカなどの砥粒剤、アルカリ金属重炭酸塩、増粘物質、保湿剤、水、界面活性剤、二酸化チタン、香味料、甘味剤、キシリトール、着色剤、及びこれらの混合物が挙げられるがこれらに限定されない、口腔ケア組成物に使用される安全かつ有効な物質及び従来の添加剤を含む。
本明細書において、用語「歯石(tartar)」及び「歯石(calculus)」とは、同じ意味で用いられ、石化した歯垢バイオフィルムを指す。
本発明で使用する場合、用語「又は」とは、2つ以上の要素の接続詞として使用される場合に、要素を個々に、及び組み合わせで含むことを意味し、例えば、X又はYは、X若しくはY、又はこれら両方を意味する。
「a」又は「an」という語の使用は、特許請求の範囲において「含む(comprising)」という用語と併せて使用される場合、「1つ」を意味し得るが、「1つ以上」、「少なくとも1つ」、及び「1つ又は2つ以上」の意味とも一致する。
本出願全体を通して、「約」という用語は、値が装置に固有の誤差の変動を含むことを示すために使用され、この方法は、その値、又は試験対象間に存在する変動を決定するために用いられる。
「含む(comprise)」、「有する(have)」、及び「含む(include)」は、オープンエンド型連結動詞である。「含む(comprises)」、「含む(comprising)」、「有する(has)」、「有する(having)」、「含む(includes)」、及び「含む(including)」などの、これらの動詞のうちの1つ以上の任意の形態又は時制もまた、オープンエンドである。例えば、1つ以上の工程を「含む(comprises)」、「有する(has)」、又は「含む(includes)」任意の方法は、それらの1つ以上の工程のみを有することに限定されず、また他の列挙されていない工程を網羅する。
上記の定義は、参照により本明細書に組み込まれる任意の参考文献における任意の相反する定義に取って代わる。しかしながら、ある特定の用語が定義されるという事実は、定義されていない任意の用語が不定形であることを示すものと見なされるべきではない。むしろ、使用される全ての用語は、当業者が本発明の範囲及び実践を理解することができるように、本発明を説明すると考えられる。
ホスホノ−ホスフェート及びアニオン性含有ポリマー
本発明は、ホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を含む新規ポリマーを目的とする。ホスホノ−ホスフェート基は、その上の置換基及びそれが配置される環境に応じて、本質的にアニオン性であり得ることが認識される。明確にするために、本出願におけるアニオン性基は、ホスホノ−ホスフェート以外のアニオン性基を指す。
ある特定の実施形態では、本発明は、ホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を含む新規ポリマーを目的とし、当該ホスホノ−ホスフェート基は、式1:
Figure 2021505562
[式中、
εは、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖の炭素原子への結合部位であり、
は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式2:
Figure 2021505562
〈式中、
θは、式1への結合部位であり、
及びRは、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される〉の構造からなる群から選択され、
は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式3:
Figure 2021505562
〈式中、
θは、式1への結合部位であり、
及びRは、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
nは、1〜22の整数である〉の構造からなる群から選択され、
は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される]の構造を有し、
当該アニオン性基は、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつホスフェート、ホスホネート、ホスフィネート、サルフェート、スルホネート、スルフィナート、メルカプト、カルボキシレート、ヒドロキシアミノ、アミンオキシド及びヒドロキサメートからなる化学基から選択される。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーは、ホスホノ−ホスフェート基を含む。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーは、アニオン性基を含む。別の実施形態では、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーは、当該アニオン性基を含み、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーは、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む。別の実施形態では、ホスホノ−ホスフェート基は、重合後修飾の間に加えられる。
ポリマーのある特定の実施形態では、R、R、及びRは、独立して、H、Na塩、及びK塩からなる群から選択される。ポリマーのある特定の実施形態では、R、R、及びRは、独立して、H、Na塩、K塩、Zn塩、Ca塩、Sn塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される。
ポリマーの別の実施形態では、Rは、式2の構造を有する。ポリマーの更なる実施形態では、Rは、式2の構造を有し、R及びRは、独立して、H、Na塩、及びK塩から選択される。ポリマーの更なる実施形態では、Rは、式2の構造を有し、R及びRは、独立して、H、Na塩、K塩、Zn塩、Ca塩、Sn塩、及びアミンカチオン塩から選択される。
ポリマーの別の実施形態では、Rは、式3の構造を有する。ポリマーの別の実施形態では、Rは、式3の構造を有し、nは、1〜3の整数である。ポリマーの別の実施形態では、Rは、式3の構造を有し、nは、1である。ポリマーの別の実施形態では、Rは、式3の構造を有し、R及びRは、独立して、H、Na塩、及びK塩からなる群から選択される。ポリマーの別の実施形態では、Rは、式3の構造を有し、R及びRは、独立して、H、Na塩、K塩、Zn塩、Ca塩、Sn塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される。化合物の別の実施形態では、Rは、式3の構造を有し、R及びRは、独立して、H、Na塩、K塩、Zn塩、Ca塩、Sn塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、nは、1である。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該少なくとも1つのモノマーは、式4:
Figure 2021505562
[式中、
βは、式1のホスホノ−ホスフェート基への結合部位であり、
は、−H及び−CHからなる群から選択され、
は、化学結合、アレーンジイル及び式5:
Figure 2021505562
〈式中、
αは、式4のアルケニル基への結合部位であり、
βは、式1のホスホノ−ホスフェート基への結合部位であり、
Xは、式6〜12:
Figure 2021505562
(式中、
は、−H、アルキル(C1〜8)、ホスホノアルキル及びホスホノ(ホスフェート)アルキルからなる群から選択される)の構造からなる群から選択され、
Yは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造からなる群から選択される]の構造を有する。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含み、式4の構造を有する場合、式4のRは、Hである。ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含み、式4の構造を有する場合、式4のRは、CHである。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有する場合、Lは、共有結合である。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーがホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有する場合、Lは、式5の構造を有する。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有し、Lが、式5の構造を有する場合、Xの構造は、式6、式9及び式11からなる群から選択される。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーがホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有し、Lが、式5の構造を有する場合、Xは、式6の構造を有する。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有し、Lが、式5の構造を有する場合、Xは、式7の構造を有する。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有し、Lが、式5の構造を有する場合、Xは、式9の構造を有する。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーがホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有し、Lが、式5の構造を有する場合、Xは、式11の構造を有する。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーがホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有し、Lが、式5の構造を有する場合、Xは、式6の構造を有し、Yは、アルカンジイルである。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有し、Lが、式5の構造を有する場合、Xは、式7の構造を有し、Yは、アルカンジイル及びアルコキシジイルからなる群から選択される。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有し、Lが、式5の構造を有する場合、Xは、式9の構造を有し、Yは、アルカンジイルである。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーがホスホノ−ホスフェート基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式4の構造を有し、Lが、式5の構造を有する場合、Xは、式11の構造を有し、Yは、アルカンジイルである。
ある特定の実施形態では、当該アニオン性基は、ホスフェート、ホスホネート、サルフェート、スルホネート、又はカルボキシレートからなる群から選択される。別の実施形態では、当該アニオン性基は、スルホネートである。別の実施形態では、当該アニオン性基は、カルボキシレートである。別の実施形態では、当該アニオン性基は、ホスホネートである。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含む場合、当該少なくとも1つのモノマーは、式13:
Figure 2021505562
[式中、
10は、H又はCHからなる群から選択され、Lは、アニオン性基への連結基である]の構造のアルケニル基を更に含む。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式13の構造のアルケニル基を更に含む場合、R10は、Hである。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式13の構造のアルケニル基を更に含む場合、R10は、CHである。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含む場合、当該少なくとも1つのモノマーは、式14:
Figure 2021505562
[式中、
11は、H及びアルキルからなる群から選択され、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
は、化学結合、アレーンジイル及び式15:
Figure 2021505562
〈式中、
γは、アルケニル基への結合部位であり、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
Wは、式16〜22:
Figure 2021505562
(式中、
12は、−H及びアルキル(C1〜8)からなる群から選択される)の構造から選択され、
Vが、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル、又はアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造から選択される]の構造のアルケニル基を更に含む。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式14の構造のアルケニル基を更に含む場合、R11は、Hである。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式14の構造のアルケニル基を更に含む場合、R11は、CHである。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式14の構造のアルケニル基を更に含む場合、Lは、共有結合である。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式14の構造のアルケニル基を更に含む場合、R11は、Hであり、Lは、共有結合である。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式14の構造のアルケニル基を更に含む場合、R11は、CHであり、Lは、共有結合である。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式14の構造のアルケニル基を更に含む場合、Lは、式15の構造を有し、Wは、式16の構造を有する。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式14の構造のアルケニル基を更に含む場合、Lは、式15の構造を有し、Wは、式19の構造を有する。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式14の構造のアルケニル基を更に含む場合、Lは、式15の構造を有し、Wは、式21の構造を有する。ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式14の構造のアルケニル基を更に含む場合、Lは、式15の構造を有し、Wは、式16の構造を有し、Vは、アルカンジイルである。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式14の構造のアルケニル基を更に含む場合、Lは、式15の構造を有し、Wは、式19の構造を有し、Vは、アルカンジイルである。別の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含み、当該少なくとも1つのモノマーが、式14の構造のアルケニル基を更に含む場合、Lは、式15の構造を有し、Wは、式21の構造を有し、Vは、アルカンジイルである。
ある特定の実施形態では、ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、アニオン性基を含む場合、当該少なくとも1つのモノマーは、ビニルホスホネート、ビニルスルホネート、アクリレート、メチルビニルホスホネート、メチルビニルスルホネート、メタクリレート、スチレンホスホネート、スチレンスルホネート、ビニルベンゼンホスホネート、ビニルベンゼンスルホネート、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホネート(AMPS)及び2−スルホプロピルアクリレート(SPA)からなる群から選択される。
ある特定の実施形態では、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該アニオン性基を含み、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む当該少なくとも1つのモノマーと、当該アニオン性基を含む当該少なくとも1つのモノマーとの比は、それぞれ99.9:0.1〜0.1:99.9の範囲である。
ある特定の実施形態では、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該アニオン性基を含み、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む当該少なくとも1つのモノマーと、当該アニオン性基を含む当該少なくとも1つのモノマーとの比は、それぞれ99:1〜1:99の範囲である。
ある特定の実施形態では、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該アニオン性基を含み、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む当該少なくとも1つのモノマーと、当該アニオン性基を含む当該少なくとも1つのモノマーとの比は、それぞれ90:10〜10:90の範囲である。
ある特定の実施形態では、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該アニオン性基を含み、当該ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む場合、当該ホスホノ−ホスフェート基を含む当該少なくとも1つのモノマーと、当該アニオン性基を含む当該少なくとも1つのモノマーとの比は、それぞれ70:30〜30:70の範囲である。
本発明の別の実施形態は、この文脈において、ダイマー、トリマー、及びテトラマーなどのオリゴマーを含むことを意味するポリマーを含む、口腔ケア組成物である。ポリマーは、ホスホノ−ホスフェート基及び式23:
Figure 2021505562
[式中、
は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式2:
Figure 2021505562
〈式中、
θは、式23への結合部位であり、
及びRは、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される〉の構造からなる群から選択され、
は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式3:
Figure 2021505562
〈式中、
θは、式23への結合部位であり、
及びRは、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
nは、1〜22の整数である〉の構造からなる群から選択され、
は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
当該アニオン性基は、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつホスフェート、ホスホネート、ホスフィネート、サルフェート、スルホネート、スルフィナート、メルカプト、カルボキシレート、ヒドロキシアミノ、アミンオキシド及びヒドロキサメートからなる化学基から選択され、
は、−H及び−CHからなる群から選択され、
は、化学結合、アレーンジイル及び式5:
Figure 2021505562
〈式中、
αは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
βは、ホスホノ−ホスフェートへの結合部位であり、
Xは、式6〜12:
Figure 2021505562
(式中、
は、−H、アルキル(C1〜8)、ホスホノアルキル及びホスホノ(ホスフェート)アルキルからなる群から選択される)の構造からなる群から選択され、
Yは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造からなる群から選択され、
11は、−H及び−CHからなる群から選択され、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
は、化学結合、アレーンジイル及び式15:
Figure 2021505562
〈式中、
γは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
δは、アニオン性基への結合部位であり、
Wは、式16〜22:
Figure 2021505562
(式中、
12は、−H及びアルキル(C1〜8)からなる群から選択される)の構造から選択され、
Vは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル、又はアルケンジイルからなる群から選択される〉の構造から選択され、
13は、ポリマー開始から得られる化学基であり、
14は、連鎖停止により得られる化学基であり、
mは、2〜450の整数であり、
pは、2〜450の整数である]の構造を有するアニオン性基を含む。
ポリマーの一実施形態では、R、R、及びRは、独立して、H、Na塩、及びK塩からなる群から選択される。ポリマーの一実施形態では、R、R、及びRは、独立して、H、Na塩、K塩、Zn塩、Ca塩、Sn塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される。
ポリマーの別の実施形態では、Rは、式2の構造を有する。ポリマーの更なる実施形態では、Rは、式2の構造を有し、R及びRは、独立して、H、Na塩、及びK塩からなる群から選択される。ポリマーの更なる実施形態では、Rは、式2の構造を有し、R及びRは、独立して、H、Na塩、K塩、Zn塩、Ca塩、Sn塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される。
ポリマーの別の実施形態では、Rは、式3の構造を有する。ポリマーの別の実施形態では、Rは、式3の構造を有し、nは、1〜3の整数である。ポリマーの別の実施形態では、Rは、式3の構造を有し、nは、1である。ポリマーの別の実施形態では、Rは、式3の構造を有し、R及びRは、独立して、H、Na塩、及びK塩からなる群から選択される。ポリマーの別の実施形態では、Rは、式3の構造を有し、R及びRは、独立して、H、Na塩、K塩、Zn塩、Ca塩、Sn塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される。化合物の別の実施形態では、Rは、式3の構造を有し、R及びRは、独立して、H、Na塩、K塩、Zn塩、Ca塩、Sn塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、nは、1である。
ポリマーの一実施形態では、Rは、Hである。別の実施形態では、Rは、CHである。
ポリマーの一実施形態では、Lは、共有結合である。別の実施形態では、Lは、式5の構造を有する。別の実施形態では、Lは、式5の構造を有し、Xの構造は、式6、式9及び式11からなる群から選択される。別の実施形態では、Lは、式5の構造を有し、Xは、式6の構造を有する。別の実施形態では、Lは、式5の構造を有し、Xは、式7の構造を有する。別の実施形態では、Lは、式5の構造を有し、Xは、式9の構造を有する。別の実施形態では、Lは、式5の構造を有し、Xは、式11の構造を有する。別の実施形態では、Lは、式5の構造を有し、Xは、式6の構造を有し、Yは、アルカンジイルである。別の実施形態では、Lは、式5の構造を有し、Xは、式7の構造を有し、Yは、アルカンジイル及びアルコキシジイルからなる群から選択される。別の実施形態では、Lは、式5の構造を有し、Xは、式9の構造を有し、Yは、アルカンジイルである。別の実施形態では、Lは、式5の構造を有し、Xは、式11の構造を有し、Yは、アルカンジイルである。
ポリマーの一実施形態では、当該アニオン性基は、ホスフェート、ホスホネート、サルフェート、スルホネート、又はカルボキシレートからなる群から選択される。別の実施形態では、当該アニオン性基は、スルホネートである。別の実施形態では、当該アニオン性基は、カルボキシレートである。別の実施形態では、当該アニオン性基は、ホスホネートである。
ポリマーの一実施形態では、R11は、Hである。別の実施形態では、R11は、CHである。別の実施形態では、Lは、共有結合である。別の実施形態では、R11は、Hであり、Lは、共有結合である。別の実施形態では、R11は、CHであり、Lは、共有結合である。
一実施形態では、Lは、式15の構造を有し、Wは、式16の構造を有する。別の実施形態では、Lは、式15の構造を有し、Wは、式19の構造を有する。別の実施形態では、Lは、式15の構造を有し、Wは、式21の構造を有する。一実施形態では、Lは、式15の構造を有し、Wは、式16の構造を有し、Vは、アルカンジイルである。別の実施形態では、Lは、式15の構造を有し、Wは、式19の構造を有し、Vは、アルカンジイルである。別の実施形態では、Lは、式15の構造を有し、Wは、式21の構造を有し、Vは、アルカンジイルである。
ポリマーの一実施形態では、ポリマー開始から得られる化学基R13は、式24〜28:
Figure 2021505562
(式中、
15は、−H、Na、K、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
τは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
Qは、重合に使用されるモノマーの非オレフィン残基である)の構造から選択される。
更なる実施形態では、Qは、式29:
Figure 2021505562
(式中、L、R、R、及びRは、前述のとおりであり、κは、式28への結合部位を示す)の構造を有する。
ポリマーの更なる実施形態では、Qは、式30:
Figure 2021505562
(式中、L及びδは、前述のとおりであり、κは、式28への結合部位を示す)の構造を有する。
更なる実施形態では、Qは、ホスホノ−ホスフェートである。更なる実施形態では、Qは、スルホネートである。更なる実施形態では、Qは、ホスホネートである。
ポリマーの一実施形態では、ポリマー終端から得られる化学基R14は、−Hからなる群から選択される。化合物の一実施形態では、ポリマー終端から得られる化学基R14は、頭部−頭部(head to head)結合を有する別のポリマー鎖である。
ポリマーの好ましい一実施形態では、R、R、及びRは、独立して、H、Na塩、K塩及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、Rは、Hであり、Lは、共有結合であり、Lは、共有結合であり、アニオン性基は、スルホネートであり、R13は、式28の構造であり、Qは、式29又は式30の構造であり、R14は、Hである。
ポリマーを作製する方法
本発明の実施形態は、これらの一般的な以下の方法を使用して作製され得る。本発明のポリマーは、バルク、溶液、乳化、又は懸濁重合を含む広範な技術によって製造することができる。重合方法及び重合技術は、概して、参照により本明細書に援用されるEncyclopedia of Polymer Science and Technology,Interscience Publishers(New York),Vol.7,pp.361−431(1967)及びKirk−Othmer Encyclopedia of Chemical Technology,3rd edition,Vol 18,pp.740−744,John Wiley&Sons(New York),1982に記載されている。Sorenson,W.P.and Campbell,T.W.,Preparative Methods of Polymer Chemistryも参照されたい。2nd edition,Interscience Publishers(New York),1968,pp.248−251も参照されたい。一例では、ポリマーは、水溶性反応開始剤を用いて、フリーラジカル共重合によって製造される。好適なフリーラジカル反応開始剤としては、熱反応開始剤、酸化還元対、及び光化学反応開始剤が挙げられるが、これらに限定されない。酸化還元及び光化学反応開始剤は、約30℃未満の温度で開始される重合プロセスに使用することができる。このような反応開始剤は、一般的に、参照により本明細書に援用されるKirk−Othmer Encyclopedia of Chemical Technology,3rd edition,John Wiley&Sons(New York),Vol.13,pp.355−373(1981)に記載されている。30℃以下でラジカルを提供し得る典型的な水溶性反応開始剤としては、過硫酸カリウム/硝酸銀、及びアスコルビン酸/過酸化水素等の酸化還元対が挙げられる。一実施例では、方法は、40℃超で実施される重合プロセスにおいて熱反応開始剤を利用する。40℃以上でラジカルを提供し得る水溶性反応開始剤が使用され得る。これらとしては、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、及び2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジヒドロクロリドが挙げられるが、これらに限定されない。一実施例では、水溶性出発モノマーは、開始剤として過硫酸アンモニウムを使用して、60℃の水中で重合される。
直鎖状ポリマーの終端部における化学官能基の同一性は、そのポリマー鎖の重合が、どのように開始され、終了したかに依存する。フリーラジカル重合の場合、システム中の任意のフリーラジカルは、新しい鎖を開始することができる。このフリーラジカルは、過硫酸塩からの硫酸ラジカル、又はアゾ型開始剤(2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジヒドロクロリドなどであるがこれらに限定されない)からのアルキルラジカルなどの開始剤の直接誘導体であり得る。フリーラジカルはまた、例えば、ヒドロキシルラジカルを生成する水と別のラジカルとの間の移動反応、又はホスフェートラジカルを生成するホスフェートと別のラジカルとの間の移動反応の結果であり得る。これらの結果として得られる構造の非限定的な例が以下に示され、式中、Rは、Na、K、又はアミンなどのH又は適切な対イオンを表し、τは、ポリマーへの結合部位を表す。
Figure 2021505562
フリーラジカルはまた、連鎖移動反応の結果であり得、ラジカルは、成長ポリマー鎖から移動して新しい鎖を開始する。連鎖移動は、ビニルホスホネートモノマーの重合に明確に記載されている。参照により本明細書に組み込まれる、Bingol et al.Macromolecules 2008、41,1634−1639は、ビニルホスホネートのアルキルエステルの重合がアルキル基上での連鎖移動をもたらす方法を記載している。この移動は、最終的に、開始端上のオレフィン含有化学基で新しいポリマー鎖を開始する。同様の現象が、ビニルホスホノ−ホスフェート系重合で起こると思われる。連鎖移動は、1つの鎖の成長を停止し、新しい鎖を開始する。
ホスホノ−ホスフェート含有ポリマーでは、最終ポリマー組成物中にビニルCH基が観察された。これらのビニル基は、2つの機構のうちの1つから形成されると仮定される。第1の機構は、Bingolによって観察される現象と同様の現象であるが、Bingolとは異なり、オレフィンは、ホスホネートのアルキルエステルからではなく、潜在的に、新たに開始された鎖上のビニルモノマーに由来する。理論に束縛されるものではないが、以下のスキームは、連鎖移動が、一般的なフリーラジカル重合性モノマーの開始部位でオレフィンをもたらし得る可能性のある経路として与えられ、明確にするために、モノマーの非オレフィン部分は、単にQとして示される。Qは、任意の数の化学官能基を表すことができ、単一の化学物質に限定されない。ビニルホスホネート及びビニルホスホノ−ホスフェートに基づくオレフィン末端基が観察されている。
Figure 2021505562
ビニル基を導入する第2の機構は、バックバイティング(backbiting)反応及びβ切断を伴う。この機構は、文献においてアクリレートポリマーについて広範囲に記されている。β切断後のビニル基及び一次ラジカルの結果。
Figure 2021505562
ポリマーへの結合部位を表すために、以前に使用されたτを使用する命名法を使用して、初期官能基を以下のように書くことができる。連鎖移動及びバックバイティングの両方に続くβ切断機構が、同じ炭素原子上に2つのプロトンを有するビニル基を生成することに留意されたい。
Figure 2021505562
ポリマー鎖の終端部上の化学基は、鎖がどのように終端するかに依存する。最も一般的な用語は、前述の連鎖移動、及びバックバイティング反応、並びに組み合わせ及び不均化である。連鎖移動及びバックバイティングにおいて、終端基は、典型的には水素である。組み合わせて、2つの鎖上の伝搬ラジカルが反応して新しい鎖を形成する。この反応により、結合点において「頭部−頭部」構成が生じる。
Figure 2021505562
不均化では、水素は、1つのラジカル鎖から別のラジカル鎖に交換される。結果は、1つの鎖が不飽和であり、他方が飽和している。注目すべきことに、得られる不飽和基は、ビニル基ではない。不飽和における各炭素は、1つの水素のみを有する。
Figure 2021505562
ホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を含むポリマーは、ポリマー主鎖から直接結合したホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を、側基上又は側鎖上に有し得る。このホスホノ−ホスフェート基を、ホスホノ−ホスフェート基を有するモノマーの重合、又はホスホノ−ホスフェート基を有しないモノマーの重合及び得られるポリマーのその後の重合後修飾のいずれかによってポリマーに組み込み、ホスホノ−ホスフェート基を付加することができる。同様に、アニオン性基を、アニオン性基を有するモノマーの重合、又はアニオン性基を有しないモノマーの重合及び得られるポリマーのその後の重合後修飾のいずれかによってポリマーに組み込み、アニオン性基を付加することができる。その後の段落の実施例は、ホスホノ−ホスフェート基をポリマー上に組み込む異なる方法を示し、アニオン性基は、コモノマーとして導入されるか、又はホスホノ−ホスフェート基を形成しようと試みるときにホスホネートの不完全な反応の結果として導入される。このセクションは、全ての可能なアニオン性モノマーを示さず、当業者には周知であるため、重合後にアニオン性基をポリマー上に導入する様々な方法も示さないであろう。
ポリマー主鎖に結合したホスホノ−ホスフェート基を含むポリマーの例として、モノマービニルホスホネート又はメチル−ビニルホスホネートから作製されたポリマーを考慮する。ビニルホスホネート又はメチル−ビニルホスホネートを化学反応させて、スキーム1の反応1に示されるように、ホスホノ−リン酸モノマーを形成することができる。次いで、これらのホスホノ−ホスフェート含有モノマーを、同じスキームの反応2に示されるようにアニオン性基を含有するモノマーと共重合して、ポリマー主鎖に直接結合したホスホノ−ホスフェート基を有するホスホノ−ホスフェート含有ポリマーを得ることができる。あるいは、ビニルホスホネート又はメチル−ビニルホスホネートは、反応3に示されるように最初に共重合してポリマーを得ることができる。重合後、ホスホノ−ホスフェート基を、反応4に示されるように、結合したホスホネート部分を反応させることによって、重合後修飾により生成することができ、したがって、ポリマー主鎖に直接結合したホスホノ−ホスフェート基が生成される。
Figure 2021505562
重合後修飾によって主鎖に直接結合したホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を生成する第2の方法は、ポリエチレンで開始することによって例示することができる。そのような修飾における第1の反応の例については、M.Anbar,G.A.St.John and A.C Scott,J Dent Res Vol 53,No4,pp867−878,1974を参照されたい。スキーム2に示されるように、ポリエチレンを、最初に酸素及びPClで酸化的にリン酸化して、ランダムにホスホン酸化ポリマーを形成する。次いで、このホスホン酸化ポリマーを修飾して、ランダムに置換されたホスホノ−ホスフェート/ホスホネートポリマーを生成することができる。示される反応生成物は、得られるポリマーのホスホネート及びホスホノ−ホスフェート基の結合点のランダムな性質を示すことを意味する。ホスホネート基は、アニオン性である。
Figure 2021505562
側基に結合したホスホノ−ホスフェート基を有するポリマーの生成の例として、スキーム3に示されるビニルベンジル化学を考慮する。4−ビニルベンジルクロリドをジエチルホスファイトと反応させて、スキーム3の反応1に示されるビニルベンジルホスホネートを形成することができる。この反応の例については、Frantz,Richard;Durand,Jean−Olivier;Carre,Francis;Lanneau,Gerard F.;Le Bideau,Jean;Alonso,Bruno;Massiot,Dominique,Chemistry−A European Journal,Volume 9,Issue 3,pp.770−775,2003を参照されたい。ビニルベンジルホスホネートを反応させて、以下の実施例のセクションに記載されるように、反応2に示されるビニルベンジルホスホノ−ホスフェートを形成することができる。次いで、このモノマーを共重合させて、反応5によって示されるホスホノ−ホスフェート及びアニオン性含有ポリマーを形成することができ、ここでホスホノ−ホスフェート基は、ポリマー上の側基に結合している。あるいは、第1の中間体、ビニルベンジルホスホネートは、反応4に示されるように重合されて、ビニルベンジルホスホネートを有するポリマーを作製することができる。この反応の例として、M.Anbar,G.A.St.John and A.C Scott,J Dent Res Vol 53,No4,pp867−878,1974を参照されたい。次いで、ビニルベンジルホスホネートを有するポリマーを、反応7に示されるように反応させて、ホスホノ−ホスフェート及びアニオン性含有ポリマーを生成することができ、ここでホスホノ−ホスフェート基は、重合後修飾によってポリマー上の側基に結合する。重合後修飾を伴う第2の経路もまた、同じスキームで示される。4−ビニルベンジルクロリドを共重合して、反応3に示されるビニルベンジルクロリドを有するポリマーを提供することができる。このポリマーは、反応6(例えば、Sang Hun Kim,Young Chul Park,Gui Hyun Jung,and Chang Gi Cho,Macromolecular Research Vol 15 No 6 pp 587−597,2007を参照)、次いで得られたポリマービニルベンジルホスホネートを反応させて、反応7に示されるホスホノ−ホスフェート及びアニオン性含有ポリマーを生成することができる。
Figure 2021505562
側鎖に結合したホスホノ−ホスフェート基を含むポリマーの第1の例として、スキーム4に示されるポリエチレングリコール(PEG)側鎖を考慮する。PEG鎖を含有するホスホネートを塩化アクリルと反応させて、PEG終端ホスホネートを有するアクリル酸エステルを生成することができる。ホスホノ−ホスフェートを生成する反応後、ホスホノ−ホスフェートモノマーをアニオン性含有モノマーと共重合して、ホスホノ−ホスフェート及びアニオン性含有ポリマーを生成することができ、ここでホスホノ−ホスフェートは、ポリマーの側鎖に結合している。
Figure 2021505562
側鎖に結合したホスホノ−ホスフェート基を含むポリマーの第2の例として、スキーム5に示されるポリビニルアルコールを考察する。ヒドロキシル基をエチレンオキシドと反応させて、PEG側鎖を有するポリマーを生成することができる。側鎖上の終端ヒドロキシをビニルホスホネートと反応させ、次いで部分的に反応させてホスホノ−ホスフェート/ホスホネートポリマーを形成することができる。したがって、この実施例は、ホスホノ−ホスフェートがポリマーの側鎖に結合し、重合後修飾を介して付加されるホスホノ−ホスフェート含有ポリマーを示す。ホスホネートは、アニオン性基である。
Figure 2021505562
図示されるスキームは、本質的に網羅的であることを意味するものではなく、ホスホノ−ホスフェート及びアニオン性含有ポリマーが生成され得る様々な方法を伝達することを意味する。実施例は、合成のための技術的詳細、並びにポリマー主鎖に直接結合したホスホノ−ホスフェート基を有するポリマー、及び側基に結合したホスホノ−ホスフェート基を有するポリマーを含む、ホスホノ−ホスフェート及びアニオン性基を含有するポリマーの多くの変形の両方を提供する。ホスホノ−ホスホネート含有モノマー及びポリマーに変換することができるホスホネート含有モノマー及びポリマーの更なる例については、Sophie Monge,Benjamin Canniccioni,Ghislain David and Jean−Jacques Robin,RSC Polymer Chemistry Series No.11,Phosphorus−Based Polymers:From Synthesis to Applications,Edited by Sophie Monge and Ghislain David,The Royal Society of Chemistry 2014,Published by the Royal Society of Chemistry、www.rsc.orgを参照されたい。
ホスホノ−ホスフェート含有ポリマーの使用
本発明によるホスホノ−ホスフェート含有ポリマーは、様々な組成物に組み込むことができる。これらの組成物は、水性組成物及び非水性組成物の両方を含む。組成物は、歯、毛髪、身体、布地、紙、不織布、及び硬質表面を処理するのに有用である。組成物は、水処理、ボイラー処理、船舶の処理、油の坑井、電池、ベーキング、膨張、セラミック、プラスチック安定剤、ガラス製造、チーズ製造、食品中緩衝剤、歯磨剤中の砥粒剤、肉中のバインダー、コーヒークリーム、凍結防止剤、塗料液体石鹸中の分散剤、金属洗浄剤合成ゴム、織物及び難燃剤において有用性を見出す。組成物はまた、カルシウム、スズ、マグネシウム、及び鉄を含むがこれらに限定されない多価金属カチオンを含有する材料を処理するためにも有用である。そのような材料の例としては、ヒドロキシアパタイト、炭酸カルシウム(非晶質、カルサイト、アラゴナイト)、リン酸カルシウム、水酸化カルシウム、炭酸マグネシウム、リン酸マグネシウム、石鹸かす(ステアリン酸及び炭酸塩のカルシウム、マグネシウム、及び鉄塩の混合物)、並びに硬水の着色汚れが挙げられる。ある特定の実施形態では、ホスホノ−ホスフェート含有ポリマーを含む組成物は、非水性である。別の実施形態では、組成物は水性である。
ホスホノ−ホスフェート含有化合物及びポリマーは、様々な基材に適用することができる。基材の実施形態としては、生物学的材料、布地、不織布材料、紙製品、及び硬質表面材料が挙げられる。ある特定の実施形態では、生物学的材料は、歯を含む。別の実施形態では、生物学的材料は、毛髪又は皮膚などのケラチンを含む。
口腔ケア組成物
本発明は更に、ホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を含む本発明のポリマーを含む口腔ケア組成物に関する。本発明の口腔ケア組成物は、高分子ミネラル表面剤、金属イオン塩、水、保湿剤、フッ化物源、緩衝剤、抗結石剤、砥粒研磨物質、増粘剤、界面活性剤、二酸化チタン、着色剤、風味剤、抗菌剤、及びこれらの混合物などの追加成分を更に含むことができる。
好ましい高分子ミネラル界面活性剤は、ポリホスフェートである。ポリホスフェートは一般に、主に直鎖構造に配置された2つ以上のリン酸分子からなると理解されているが、いくつかの環状誘導体が存在する場合もある。ピロホスフェートは理論的にはポリホスフェートであるが、所望のポリホスフェートは、有効濃度での表面吸着により十分な非結合のホスフェート官能基を生成し、これがアニオン性表面電荷並びに表面の親水性特徴を強化するように、およそ3以上のホスフェート分子を有するものである。ピロホスフェートは、追加の抗結石剤の下で別途論じられる。所望の無機ポリホスフェート類としては、特に、トリポリホスフェート、テトラポリホスフェート、及びヘキサメタホスフェートが挙げられる。非晶質ガラス状材料として、通常、テトラポリホスフェートより大きいポリホスフェートが発生する。本発明では、次式:
XO(XPO
(式中、Xは、ナトリウム又はカリウムであり、nの平均は、約3〜約125である)を有する直鎖状「ガラス質」ポリホスフェートが好ましい。好ましいポリホスフェートは、FMC Corporationにより製造されるもの、並びにSodaphos(n≒6)、Hexaphos(n≒13)、及びGlass H(n≒21)として商業的に既知のものなどの、平均約6〜約21のnを有するものである。特に好ましいポリホスフェートは、Glass Hなどの約21の平均nを有する。これらのポリホスフェートは、単独で、又はこれらの組み合わせで使用されてもよい。
ポリホスフェートを含む口腔用組成物は、例えば、全てThe Procter&Gamble Coに譲渡された米国特許第5,939,052号、同第6,190,644号、同第6,187,295号、及び同第6,350,436号に開示されている。これらの組成物では、ポリホスフェートは、歯石抑制、並びに、第一スズなどの他の活性物質によって引き起こされる渋味及び着色汚れなどの審美的欠点を低減することを含む利益を提供するために開示されている。歯科腐食を防止するためのポリホスフェートの使用は、開示されていない。ポリリン酸源はまた、Kirk−Othmer Encyclopedia of Chemical Technology,Fourth Edition,Volume 18,Wiley−Interscience Publishers(1996)においてより詳細に記載されている。重合ミネラル表面活性剤の有効量は、典型的には、全口腔用組成物の約1重量%〜約35重量%、好ましくは約2重量%〜約30重量%、より好ましくは約5重量%〜約25重量%、最も好ましくは約6重量%〜約20重量%であろう。
本発明で使用するのに好適な金属イオンは、エナメル表面に対して強い親和性を有し、第一スズイオン、銅イオン、及び亜鉛イオンを含む。これらのイオンは、表面上に高度に不溶性の化合物を生成するために、歯表面イオン及び/又は組成物の他の成分と反応させることによって表面保護効果をもたらす。加えて、これらの金属イオンは、唾液pH条件下で酸化及び加水分解を受け、歯表面上に不溶性沈着物を生成する。本組成物は、第一スズイオン、亜鉛イオン、銅イオン、又はそれらの混合物を提供する、金属イオン源を含んでもよい。金属イオン供給源は、無機若しくは有機対イオンを有する、第一スズ、亜鉛、又は銅の可溶性又は難溶性化合物であり得る。例としては、第一スズ、亜鉛、及び銅のフッ化物、塩化物、塩化フッ化物、アセテート、ヘキサフルオロジルコニウム酸、サルフェート、タルタレート、グルコネート、シトレート、マレート、グリシナート、ピロホスフェート、メタホスフェート、オキサレート、ホスフェート、カーボネート、及び酸化物が挙げられる。フッ化第一スズ又は塩化第一スズなどの第一スズ塩が好ましい。
第一スズ、亜鉛及び銅イオンは、歯肉炎、歯垢、過敏の低減、及び改善された呼気効果に役立つことが示されている。第一スズ塩、特にフッ化第一スズ及び塩化第一スズを含有する歯磨剤は、Majetiらの米国特許第5,004,597号に説明される。第一スズ塩の他の説明は、Prencipeらに発行された米国特許第5,578,293号、及びLukacovicらに発行された米国特許第5,281,410号に記載されている。
複合金属イオン源(複数可)は、最終組成物の約0.1重量%〜約11重量%の量で存在する。好ましくは、金属イオン源は、約0.5〜約7%、より好ましくは約1%〜約5%の量で存在する。好ましくは、第一スズ塩は、合計組成物の約0.1〜約7重量%、より好ましくは約1重量%〜約5重量%、及び最も好ましくは約1.5重量%〜約3重量%の量で存在し得る。
本発明の組成物の調製において、水及び/又は湿潤剤を組成物に加えることが望ましい。本明細書で望ましい組成物の別の任意構成成分は、湿潤剤である。保湿剤は練り歯磨き剤組成物の空気中への曝露による硬化を回避するのに役立ち、特定の保湿剤はまた練り歯磨き剤組成物に所望の甘味風味を付与することができる。本発明に用いるのに適した湿潤剤には、グリセリン、ソルビトール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、及び他の食用多価アルコールが挙げられる。湿潤剤は、一般に、組成物の約0重量%〜70重量%、好ましくは約15重量%〜55重量%を構成する。
水は、一般に、本明細書の組成物の約5重量%〜約70重量%、好ましくは約10重量%〜約50重量%を構成する。一般に、水のレベルは、口腔用組成物の最大約50重量%、好ましくは約5重量%〜約30重量%、より好ましくは約10重量%〜約25重量%である。水の量は、加えられた遊離水に加えて、ソルビトール、シリカ、界面活性剤溶液及び/又は着色溶液のような他の材料に伴って導入された遊離水を包含する。
本発明の口腔用組成物は、遊離フッ化物イオンを提供することができる可溶性フッ化物源を組み込んでもよい。フッ化物イオン源は、好ましくは、安定性を補助するために、ポリマー表面活性剤とは別個の相中にあってもよい。好ましい可溶性フッ化物イオン源としては、フッ化ナトリウム、フッ化第一スズ、フッ化インジウム、フッ化アミン、及びモノフルオロリン酸ナトリウムが挙げられる。フッ化ナトリウム及びフッ化第一スズが、最も好ましい可溶性フッ化物源である。フッ化第一スズ及び安定化方法は、Majetiらに発行された米国特許第5,004,597号、及びPrencipeらに発行された米国特許第5,578,293号に記載されており、他の源に加えて、1960年7月26日に発行されたNorrisらの米国特許第2,946,725号及び1972年7月18日に発行された米国特許第3,678,154号は、そのようなフッ化イオン源並びに他を開示する。
本組成物は緩衝剤を含有してもよい。本明細書で使用される場合、緩衝剤とは、組成物のpHをpH約4〜pH約10の範囲に調整するために使用することができる剤を指す。重合ミネラル表面活性剤を含有する口腔用組成物は、典型的には、約4〜約10、好ましくは約4.5〜約8、より好ましくは約5.5〜約7のスラリーpHを有するであろう。緩衝剤としては、アルカリ金属水酸化物、カーボネート、セスキカーボネート、ボレート、シリケート、ホスフェート、イミダゾール、及びこれらの混合物が挙げられる。具体的な緩衝剤としては、リン酸一ナトリウム、リン酸三ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アルカリ金属炭酸塩、炭酸ナトリウム、イミダゾール、ピロホスフェート、クエン酸、及びクエン酸ナトリウムが挙げられる。緩衝剤は、本組成物の約0.1重量%〜約30重量%、好ましくは約1重量%〜約10重量%、及びより好ましくは約1.5重量%〜約3重量%の濃度で用いられる。
ピロホスフェート塩は、抗結石剤として本発明において使用され得る。本発明の組成物で有用なピロホスフェート塩としては、ジアルカリ金属ピロホスフェート塩、テトラアルカリ金属ピロホスフェート塩、及びこれらの混合物が挙げられる。非水和形態及び水和形態のピロリン酸二水素二ナトリウム(Na)、ピロリン酸四ナトリウム(Na)、及びピロリン酸四カリウム(K)が好ましい化学種である。これらの組成物の製造に有用なピロホスフェート塩の量は、歯石抑制に有効な任意の量であり、一般に、組成物の約1.5重量%〜約15重量%、好ましくは約2重量%〜約10重量%、最も好ましくは約2.5重量%〜約8重量%である。ピロホスフェート塩は、Kirk−Othmer Encyclopedia of Chemical Technology,Third Edition,Volume 17,Wiley−Interscience Publishers(1982)により詳細に記載されている。
砥粒研磨物質も、口腔用組成物中に含まれてよい。本発明の組成物への使用が考えられる砥粒研磨物質は、象牙質を過度に磨耗しない任意の物質であることができる。砥粒研磨物質は、フッ化第一スズなどの任意の成分の安定性を損なわないように口腔用組成物に配合されるべきである。典型的な砥粒研磨物質としては、シリカゲル及び沈殿物、アルミナ、オルトリン酸塩、ポリメタリン酸塩、及びピロリン酸塩を含むリン酸塩、並びにこれらの混合物が挙げられる。具体的な例としては、ジカルシウムオルトリン酸二水和物、ピロリン酸カルシウム、リン酸三カルシウム、ポリメタリン酸カルシウム、不溶性ポリメタリン酸ナトリウム、水和アルミナ、βピロリン酸カルシウム、炭酸カルシウム、並びに尿素及びホルムアルデヒドの粒子状縮合生成物などの樹脂性砥粒剤物質、並びに米国特許第3,070,510号(Cooleyら、1962年12月25日発行)に開示されるような他のものが挙げられる。砥粒剤の混合物が使用されてもよい。様々な種類のシリカ歯科用砥粒剤は、歯のエナメル質又は象牙質を過度に砥粒せずに優れた歯の洗浄及び艶出性能という独特の効果があるので好ましい。本明細書に説明されている練り歯磨き組成物中の砥粒剤は、通常、組成物の約6重量%〜約70重量%の濃度で存在する。好ましくは、練り歯磨きは、歯磨剤組成物の約10重量%〜約50重量%の砥粒剤を含有する。
本発明はアルカリ金属重炭酸塩もまた包含してよい。アルカリ金属重炭酸塩類は水溶性であり、安定化されていない限り、水溶液系で二酸化炭素を放出する傾向がある。重炭酸ナトリウムは、重曹としても知られ、好ましいアルカリ金属重炭酸塩である。アルカリ金属重炭酸塩は、緩衝剤としても機能する。本発明の組成物は、歯磨剤組成物の約0.5重量%〜約50重量%、好ましくは約0.5重量%〜約30重量%、より好ましくは約2重量%〜約20重量%、最も好ましくは約5重量%〜約18重量%のアルカリ金属重炭酸塩を含有してもよい。
本発明は、練り歯磨き、歯磨剤、歯磨き粉、局所口腔用ゲル、口内洗浄剤、義歯製品、マウススプレー、トローチ、経口錠剤、及びチューイングガムの形態の組成物を提供する。典型的には、これらの組成物は、所望の稠度を提供するために、いくつかの増粘材料又は結合剤を含有する。好ましい増粘剤は、カルボキシビニルポリマー、カラギーナン、ヒドロキシエチルセルロース、並びにカルボキシメチルセルロースナトリウム及びヒドロキシエチルセルロースナトリウムのようなセルロースエーテルの水溶性塩である。カラヤゴム、キサンタンガム、アラビアゴム、及びトラガカントゴムのような、天然ゴムも使用することができる。更に質感を改善するために、コロイド状ケイ酸アルミニウムマグネシウム、又は超微粒子状シリカを、増粘剤の一部として使用できる。増粘剤は、歯磨剤組成物の約0.1重量%〜約15重量%の量で使用できる。
本組成物はまた、一般的に起泡剤とも呼ばれる界面活性剤を含んでもよい。好適な界面活性剤は、広いpH範囲にわたって、適度に安定かつ発泡性であるものである。界面活性剤は、アニオン性、非イオン性、両性、双極性、カチオン性、又はこれらの混合物であってよい。本明細書で有用なアニオン性界面活性剤としては、アルキル基中に8個〜20個の炭素原子を有するアルキルサルフェートの水溶性塩(例えば、アルキル硫酸ナトリウム)、及び8個〜20個の炭素原子を有する脂肪酸のスルホン化モノグリセリドの水溶性塩が挙げられる。ラウリル硫酸ナトリウム及びココナツモノグリセリドスルホン酸ナトリウムは、この種類のアニオン性界面活性剤の例である。他の好適なアニオン性界面活性剤は、ラウロイルサルコシン酸ナトリウム、タウレート、ラウリルスルホ酢酸ナトリウム、ラウロイルイセチオン酸ナトリウム、ラウレスカルボン酸ナトリウム及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどのサルコシネートである。アニオン性界面活性剤の混合物も使用することができる。多数の好適なアニオン性界面活性剤が、米国特許第3,959,458号(Agricolaら、1976年5月25日発行)に開示されている。本発明の組成物に用いることができる非イオン性界面活性剤は、アルキレンオキシド基(本質的には親水性)と、本質的には脂肪族又はアルキル−芳香族であってもよい有機疎水性化合物との縮合によって生成される化合物として広く定義できる。好適な非イオン性界面活性剤の例としては、ポロキサマー(商品名Pluronicとして販売)、ポリオキシエチレン、ポリオキシエチレンソルビタンエステル(商標名Tweensとして販売)、脂肪族アルコールエトキシレート、アルキルフェノールのポリエチレンオキシド縮合物、プロピレンオキシド及びエチレンジアミンの反応生成物とエチレンオキシドとの縮合から得られる生成物、脂肪族アルコールのエチレンオキシド縮合物、長鎖三級アミンオキシド、長鎖三級ホスフィンオキシド、長鎖ジアルキルスルホキシド、及びこのような物質の混合物が挙げられる。本発明において有用な両性界面活性剤は、脂肪族二級及び三級アミンの誘導体として広く記載されることができ、そこで、脂肪族基は直鎖であっても分枝鎖であってもよく、脂肪族置換基の1つは約8〜約18個の炭素原子を含有し、1つはアニオン性水溶性基、例えばカルボキシレート、スルホネート、サルフェート、ホスフェート、又はホスホネートを含有する。他の好適な両性界面活性剤はベタイン、特に、コカミドプロピルベタインである。両性界面活性剤の混合物も使用できる。これらの好適な非イオン性及び両性の界面活性剤の多くは、米国特許第4,051,234号(Gieskeら、1977年9月27日発行)に開示されている。本組成物は、典型的には、1つ以上の界面活性剤を各々が組成物の約0.25重量%〜約12重量%、好ましくは約0.5重量%〜約8重量%、及び最も好ましくは約1重量%〜約6重量%の濃度で含む。
二酸化チタンもまた本発明の組成物に加えられてもよい。二酸化チタンは、組成物に不透明度を加える白色粉末である。二酸化チタンは、一般に、組成物の約0.25重量%〜約5重量%を構成する。
着色剤もまた、本発明の組成物に加えられてもよい。着色剤は、水性溶液、好ましくは1%の着色剤水溶液の形態であってよい。着色溶液は、一般に組成物の約0.01重量%〜約5重量%を構成する。
風味剤系も組成物に加えることができる。好適な風味成分としては、冬緑油、ペパーミント油、スペアミント油、クローブバッド油、メントール、アネトール、メチルサリチレート、ユーカリプトール、カッシア、1−メンチルアセテート、セージ、オイゲノール、パセリ油、オキサノン、α−イリソン、マジョラム、レモン、オレンジ、プロペニルグエトール、桂皮、バニリン、エチルバニリン、ヘリオトロピン、4−シス−ヘプテナール、ジアセチル、メチル−パラ−tert−ブチルフェニルアセテート、キシリトール、及びこれらの混合物が挙げられる。清涼剤も風味剤系の一部であってもよい。本組成物に好ましい清涼剤は、N−エチル−p−メンタン−3−カルボキサミド(商業的に「WS−3」として知られる)のようなパラメンタンカルボキシアミド剤及びこれらの混合物である。風味剤系は、一般に組成物中で、組成物の約0.001重量%〜約5重量%の濃度で用いられる。
本発明は、抗微生物剤のような他の剤を含んでもよい。これらの剤は、歯磨剤組成物の約0.01重量%〜約1.5重量%の濃度で存在してもよい。本発明の口腔用組成物は、練り歯磨き、歯磨剤、局所口腔用ゲル、口内洗浄剤、義歯製品、マウススプレー、トローチ、経口錠剤、又はチューイングガムの形態である。歯磨剤組成物は、ペースト、ゲル、若しくはいずれかの形状、又はこれらのいずれの組み合わせであってもよい。
以下の実施例は、本発明の範囲内にある好ましい実施形態を更に説明及び実証する。これらの実施例は、説明の目的のためのみに提示するものであって、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、多くの変更が可能であるので、本発明を限定するものと解釈すべきではない。成分は化学名で識別し、そうでない場合には以下で定義する。
粉末汚れ防止モデル(PSPM)
粉末汚れ防止モデル(PSPM)は、ヒドロキシアパタイト粉末(HAP)が汚れの蓄積のための基材として使用されるスクリーニング技法である。この技法の一般的な目的は、口腔ケアで使用される化学剤の汚れ防止能又は着色汚れの可能性を例示し、定量化することである。ヒドロキシアパタイト粉末は、紅茶色原体が吸着する大きな表面積を提供する。リンス又は歯磨剤の形態のいずれかで、口腔ケア活性物質によるHAPの前処理は、活性物質がこれらの色原体のHAP表面への結合を遮断又は強化する能力に応じて、異なるレベルの汚れ蓄積をもたらす。次いで、着色汚れの程度を画像解析によって定量化することができる。PSPMに関与する工程を以下に記載する。
1.HAP前処理
200mg〜210mgのHAP粉末(BioGel(登録商標)HTP−Gelカタログ#130−0421、Bio−Rad Laboratories(Hercules,Calif.)を計量して50mlの遠心管に入れる。各管に20mlの処理液を加える。単純なポリマーの場合、処理液は、2重量%のポリマーであるか、又は100%活性主成分での対照が使用される。歯磨剤配合物の場合、8gの練り歯磨きの各々を量り、ラベル付けした50gの丸底遠心管に入れる。24gの脱イオン水を管に加える(スラリー比が1:3になるように)。1分間ボルテックスしてよく混合して、練り歯磨きの塊を含まないスラリーを調製する。遠心分離器を使用して、スラリーを15,000rpmで15分間遠心分離し、20mLの上清を処理液として使用する。管を30秒間ボルテックスして、処理液中にHAPを完全に懸濁させ、続いて15,000rpmで15分間遠心分離する。遠心分離後、上清をデカントし、25mlの水を加え、ボルテックスし、15,000rpmで15分間遠心分離し、デカントすることによってペレットを再分配し、ボルテックス中にペレットを確実に破壊する。この洗浄サイクルを更に2回繰り返す。
2.HAP着色
最終的な水洗浄後、20mlの濾過した紅茶(100mlのお湯に1つのLiptonティーバッグを5分間浸し、濾過し、50℃で使用)を各ペレットに加え、30秒間ボルテックスして、紅茶中にHAPを完全に懸濁する。粉末懸濁液を15,000rpmで15分間遠心分離し、デカントする。約25mlの水を管に加え、ボルテックスし、次いで15,000rpmで15分間遠心分離する。液体をデカントし、洗浄サイクルを更に2回繰り返す。
3.色分析のためのHAP調製
ペレットを、およそ10mlの水中で完全に懸濁するまでボルテックスし、続いて真空下でMilliporeフィルタディスク(膜フィルタ4.5tm、47mmカタログ番号HAWPO4700、Millipore Corporation,Bedford,Mass.)上に濾過する。−200mgの未処理、未着色のHAPを使用して、対照ディスクを調製する。次いで、フィルタディスクを平らな位置で一晩乾燥させ、次いで積層する。
4.着色されたHAPの色分析
Whitelight系:HAPディスク(未処理のHAP対照及びHAP処理液)を安定化した試料ホルダに入れる。偏光フィルタを装着したレンズを有するデジタルカメラ(アダプタ付きNIKON55mmマイクロNIKKORレンズ搭載、Canon Inc.,(Melville,NY)からの、カメラモデル番号CANON EOS 70D)を使用して、色を測定する。光系は、(それを通して光が外部へと出る、ガラスレンズのうち1つの外側円形表面の中央から測定して)約30cm離れて配置された、150ワット、24V電球モデル番号(Xenophotモデル番号HL X64640)を装着し、45度にて照準される、Dedoライト(モデル番号DLH2)によって提供され、それにより光路が、HAPディスク上で合流する。画像解析は、Ultragrab、Optimas、及びGiant Imagingソフトウェアと共にWhitelightを使用して実施される。
5.対照
単一のポリマーPSPMの通常の対照は、続いて紅茶に曝露される処理液としての水、及び紅茶への曝露がない水である。加えて、ピロホスフェート及びポリホスフェートは、内部対照として実行される。
6.結果
(輝度)、a(赤色(+)/緑色(−))、b(黄色(−)/青(+))、及びE(合計色)の変化を次のように計算する。
Figure 2021505562
結果を平均ΔL、Δa、Δb、及び/又はΔEとして報告し、陰性対照に対する着色汚れの防止率(AL&AE)を報告する。
粉末着色汚れ除去モデル(PSRM)
粉末着色汚れ除去モデル(PSRM)は、ヒドロキシアパタイト粉末(HAP)が着色汚れ蓄積のための基材として使用されるスクリーニング技法である。この技法の目的は、口腔ケアで使用される化学剤の着色汚れ除去特性を説明し、定量化することである。ヒドロキシアパタイト粉末は、紅茶色原体が吸着する大きな表面積を提供する。リンス又は歯磨剤の形態のいずれかで、口腔ケア活性物質による着色されたHAPの処理は、活性物質がこれらの色原体のHAP表面への結合を妨害する能力に応じて、異なるレベルの着色汚れ除去をもたらす。次いで、着色汚れ除去の程度を画像解析によって定量化することができる。このモデルのトライアルは、3日目に完了することができる。PSRMに関与する工程を以下に記載する。
1.HAP着色
10gのHAP粉末を200mlの濾過した紅茶中で5分間撹拌することによって、紅茶着色汚れHAPの大きなバッチを調製する。遠心管に分割し、15,000rpmで15分間遠心分離する。25mlの水に加え、ボルテックスし、15,000rpmで15分間遠心分離し、液体をピペットで取り出すことによってペレットを洗浄する。ボルテックス中にペレットが破壊されることを確認する。洗浄を繰り返す。
遠心管を対流式オーブン(55〜65℃)に一晩置いて、着色されたHAPを乾燥させる。乾燥させた後、着色されたHAPを一緒にプールし、乳棒及び乳鉢を用いて微粉末に粉砕する。
2.HAP処理
200mg〜210mgのHAP粉末(BioGel(登録商標)HTP−Gelカタログ#130−0421、Bio−Rad Laboratories(Hercules,Calif.)を計量して50mlの遠心管に入れる。各管に20mlの処理液を加える。単純なポリマーの場合、処理液は、2重量%のポリマーであるか、又は100%活性主成分での対照が使用される。歯磨剤配合物の場合、8gの練り歯磨きの各々を量り、ラベル付けした50gの丸底遠心管に入れる。24gの脱イオン水を管に加える(スラリー比が1:3になるように)。1分間ボルテックスしてよく混合して、練り歯磨きの塊を含まないスラリーを調製する。遠心分離器を使用して、スラリーを15,000rpmで15分間遠心分離し、20mLの上清を処理液として使用する。管を1分間ボルテックスして、処理液中にHAPを完全に懸濁させ、続いて15,000rpmで15分間遠心分離する。遠心分離後、上清をデカントし、25mlの水を加え、ボルテックスし、15,000rpmで15分間遠心分離し、デカントすることによってペレットを再分配し、ボルテックス中にペレットを確実に破壊する。この洗浄サイクルをもう1回繰り返す。
3.色分析のためのHAP調製
ペレットを、およそ10mlの水中で完全に懸濁するまでボルテックスし、続いて真空下でMilliporeフィルタディスク(膜フィルタ4.5tm、47mmカタログ番号HAWPO4700、Millipore Corporation,Bedford,Mass.)上に濾過する。約200mgの未処理の着色されたHAPを使用して、対照ディスクを調製する。次いで、フィルタディスクを平らな位置で一晩乾燥させ、次いで積層する。
4.着色されたHAPの色分析
Whitelight系:HAPディスク(未処理のHAP対照及びHAP処理液)を安定化した試料ホルダに入れる。偏光フィルタを装着したレンズを有するデジタルカメラカメラ(アダプタ付きNIKON55mmマイクロNIKKORレンズ搭載、Canon Inc.,(Melville,NY)からの、カメラモデル番号CANON EOS 70D)を使用して、色を測定する。光系は、(それを通して光が外部へと出る、ガラスレンズのうち1つの外側円形表面の中央から測定して)約30cm離れて配置された、150ワット、24V電球モデル番号(Xenophotモデル番号HL X64640)を装着し、45度にて照準される、Dedoライト(モデル番号DLH2)によって提供され、それにより光路が、HAPディスク上で合流する。画像解析は、Ultragrab、Optimas、及びGiant Imagingソフトウェアと共にWhitelightを使用して実施される。
5.対照
単一のポリマーPSRMの通常の対照は、続いて紅茶に曝露される処理液としての水、及び紅茶への曝露がない水である。加えて、ピロホスフェート及びポリホスフェートは、内部対照として実行される。
6.結果
(輝度)、a(赤色(+)/緑色(−))、b(黄色(−)/青(+))、及びE(合計色)の変化を次のように計算する。
Figure 2021505562
結果を平均ΔL、Δa、Δb、及び/又はΔEとして報告し、陰性対照に対する着色汚れの防止率(AL&AE)を報告する。
インビトロ薄膜紅茶着色汚れモデル(iPTSM)
歯の着色汚れはフッ化第一スズ組成物の使用に共通する望ましくない副作用である。本明細書に記載の改良されたフッ化第一スズ歯磨剤は、重合ミネラル表面活性剤に結合した第一スズからの、より効率的な第一スズの送達により生じる歯の着色汚れ形成の低減をもたらす。一般的に第一スズによって引き起こされる歯表面の着色汚れは、臨床的状況において、文献に記載されているロベーネ(Lobene)又はメッケル(Meckel)指数のような着色汚れ指数を用いて測定される。第一スズ誘発性の着色汚れを軽減するのを助ける技術の迅速なスクリーニングのために、フッ化第一スズ製剤の着色汚れ防止能の定量的推定を提供するインビトロ実験室法が使用される。この方法は、iPTSM(インビトロ薄膜着色汚れモデル)と呼ばれ、臨床観察と良好に相関することが示されている。
インビトロ薄膜紅茶着色汚れモデル(iPTSM)は、インビトロ歯垢バイオマスを、プールしたヒト刺激唾液からガラス棒上に3日間かけて成長させる技法である。歯垢バイオマスを薬剤で処理して、様々な薬剤の潜在的な歯の着色汚れレベルを決定する。この技法の目的は、化合物が歯の歯垢着色汚れ量に対する直接的な影響を持つか否かを決定するための単純で迅速な方法を提供することである。この方法は、研磨ガラス棒上でのプールしたヒト唾液から5分間の処理、続いて10分間の紅茶処理による歯垢成長を利用する。このインビトロモデルのトライアルは、5日目に完了することができ、その間、対照を含む最大12の処理を評価することができる。
1.ガラス棒の粗面化
240、320、400、及び600グリットの炭化ケイ素紙を連続して使用して、旋盤上で非テーパ状の端部からおよそ25mmだけ新しいガラス棒(5mm×90mm)を研磨する。初期研磨後、各試験の前にだけ、600グリット紙で棒を研磨する。
2.唾液収集及び調製
パラフィン刺激によって5〜10人のパネルから唾液を毎日収集し、必要になるまで4℃で冷蔵する。唾液を慎重にプールし(したがって、ワックス/粘液に注がないように)、十分に混合する。
3.1日目:希釈HCl酸で音波処理することによってガラス棒を清浄し、すすぎ、乾燥させ、600グリット炭化ケイ素紙で研磨する。棒をDI水で再度すすぎ、乾燥させる。棒をホルダに挿入し、深さを処理ラック上の深さゲージで調節し、ゴムOリングを用いて棒を定位置に固定する。
午後早くに、0.1重量%のスクロースを加えた7mlの唾液を、浸漬ラック内の16×75mm試験管にピペットで移す。スクロースを、1日目だけ唾液に加える。粗面化したガラス棒を試験管内に1rpmで1.5cmの深さまで浸漬するように設計された、修正37℃インキュベータに棒ホルダを置く。棒を一晩浸漬する。インキュベータの設計は、添付文書1に完全に示されている。上記の歯垢成長培地を調製し、2日目にオートクレーブする(2日目の使用前に唾液を加える)。
4.2日目:午前に、唾液を歯垢成長培地に加え、十分に混合する。7mlの歯垢成長培地を、新しい浸漬ラック内の新しい16/75mm試験管にピペットで移す。使用された管の古いラックを取り外し、新しい浸漬ラックをインキュベータに入れ、一晩浸漬するために棒を新鮮な唾液中に移し替える前に最低6時間浸漬する。
5.3日目:3日目の朝に、10mlのDI水を、処理ラックの第2列及び第3列における17×100mmの試験管にピペットで移す。これは、歯磨剤処理のみに適用される。すすぎ溶液は、処理ラック内に水すすぎ管を有しても、有しなくてもよい。新鮮なプールされた唾液を浸漬ラックにピペットで移し、脇に置いた。ガラスビーカーに550mlを加え、それをマイクロウェーブ内で10分間加熱することによって紅茶調製を開始する。10分の最後に、マイクロウェーブからビーカーを慎重に取り出し、電磁撹拌棒内で落下させて、超加熱された水コアの可能な存在を消散させる。5つのLiptonティーバッグ及び摂氏温度計を水に入れ、ホットプレート上で撹拌する。この溶液は、紅茶処理が開始されるときに50℃を超えないことを確実にするために監視される必要がある。紅茶処理を加熱し、混合しながら、ハンドヘルドホモジナイザを使用して30秒間、歯磨剤スラリー(1部の歯磨剤に対して3部の水、4分の1希釈とも呼ばれる)を調製する。スラリーを10000rpmで15分間遠心分離する。すすぎ又は活性溶液を未希釈で処理する。7mlの50℃の紅茶溶液を別個の浸漬ラックにピペットで移す。5mlの上清/すすぎ液を、処理ラックの第1の列における16×75mmガラス試験管に加える。インキュベータ浸漬機械をオフにし、古い唾液浸漬ラックを取り除く。全ての棒ホルダをインキュベータから取り出し、浸水した棒を古い唾液浸漬ラックに入れて、乾燥を防止する。一度に1つの棒ホルダを使用して、処理ラックに5分間浸漬することによって処理する。該当する場合、処理ラック内のDI水を含有する試験管中に2×10秒浸漬して棒を洗浄する。棒ホルダを調製した紅茶溶液浸漬ラックに入れ、10分間浸漬する。このプロセスを4つ全ての棒ホルダで繰り返し、ホルダを浸漬ラックに戻して乾燥を防止する。新鮮な唾液浸漬ラックをインキュベータに入れる。処理液/紅茶浸漬後のインキュベータに棒を戻し、新鮮な唾液に最低1時間にわたって浸漬する。この処理サイクルを、1日に合計3回の処理のために新鮮な処理/紅茶/唾液溶液で更に2回繰り返す。最後の処理後、棒をインキュベータに戻し、新鮮な唾液に一晩浸漬する。
6.4日目:4日目の朝に、インキュベータ浸漬機構をオフにし、唾液から棒を取り出す。次いで、棒を乾燥させて、0.1mg単位で秤量する。重量を記録し、平均乾燥歯垢バイオマス重量及び標準偏差を計算する。3mlの0.5M KOHを含有する清潔な無菌のキャップ可能な試験管に棒を入れ、キャップをきつく締めて、37℃で一晩消化させる。
7.5日目:5日目に、インキュベータから棒を取り出し、冷却させる。ガラス棒をボルテックスして、全ての堆積物が均質化されることを確実にする。試験管から棒を取り出し、0.45μmの酢酸セルロースシリンジフィルタを通して溶液を濾過し、380nmでの各棒の吸光度値を分光光度計で読み取る。結果を記録し、吸光度値を使用して、処理あたりの平均吸光度値、処理あたりの標準偏差、歯垢1mgあたりの平均吸光度、歯垢1mgあたりの平均吸光度の標準偏差、及び以下の等式に従って、歯垢1mg対対照1mgあたりの吸光度の増加%を計算する。
着色汚れの可能性(%)=((試験製品Abs/バイオマス−非第一スズ対照Abs/バイオマス)/(高第一スズ対照Abs/バイオマス−非第一スズ対照Abs/バイオマス))100
実施例1−ビニルホスホノ−モノホスフェート(VPP)又は[ビニルホスホン酸リン酸無水物]の合成
Figure 2021505562
磁気的に撹拌した乾燥500mlの一口丸底フラスコに、ビニルホスホン酸(VPA、25.0g、231.5mmole)及び300mlのDMFを窒素下で入れた。得られた混合物を室温で10分間撹拌し、均質な溶液を得た。トリブチルアミン(64.3g、82.7ml、1.5当量)を加え、室温で30分間撹拌して濁った溶液を得て、これを静置して小さな上層及びバルク下層に分離した。
添加漏斗を取り付けた第2の磁気的に撹拌して乾燥させた1000mlの一口丸底フラスコに、窒素下で1,1−カルボニルジイミダゾール(CDI)(45.1g、1.2当量)、続いて300mlのDMFを入れた。得られた混合物を室温で10分間撹拌し、均質な溶液を得た。次に、トリブチルアミン/ビニルホスホン酸溶液を、添加漏斗を介しておよそ2時間にわたってCDI溶液に加え、得られた混合物を室温で一晩撹拌して、淡黄色の均質な溶液を得た。
添加漏斗を取り付けた第3の磁気的に撹拌した2000mLの三口丸底フラスコに、HPO(56.7g、2.5当量)、続いて400mlのDMFを窒素下で入れた。得られた混合物を室温で15分間撹拌し、均質な溶液を得た。この混合物にトリブチルアミン(128.7g、165.4ml、3.0当量)を加え、得られた溶液を30分間撹拌して、濁った溶液を得た。この濁った溶液に、添加漏斗を介しておよそ2時間にわたって第2のフラスコから溶液を加えた。得られた溶液を室温で一晩撹拌して、淡黄色の濁った溶液を得た。この溶液から、真空下(13トール)でおよそ70℃の最終温度まで溶媒を取り除き、226gの淡黄色シロップを得た。
得られたシロップを450mlの水に溶解し、pHを50% NaOH(約110g)で10.5に調整し、二相系を得た。下部水相を、上部有機相から分離した。水相から、およそ70℃の最終温度及び13トールの真空まで水を取り除き、212gの黄色油を得た。この油をおよそ60℃に加熱し、300mlのMeOHを5分間かけて加えて、白色沈殿物を得た。MeOHを沈殿物からデカントし、オーブン中で150.6gに乾燥させた。沈殿物上のP−NMRは、1.22モル当量のオルトホスフェート、0.29当量のピロホスフェート、及び0.05モル当量の出発ビニルホスホン酸を伴う、予想されるホスホノ−モノホスフェート生成物を示した。H−NMRはまた、生成物、出発物質、残留溶媒、及びおよそ0.4モル当量のイミダゾールを示した。
更なる精製のために、沈殿物を300mlの水に溶解した。急速撹拌下で、400mlのMeOHを30分かけて加えた。得られた白色沈殿物を濾過によって収集し、100mlのMeOHですすぎ、一晩乾燥させて102.4gを得た。この沈殿物上のP−NMR’は、主にオルトホスフェートであり、0.06モル当量のホスホノ−モノホスフェート生成物及び0.29モル当量のピロホスフェートを伴うことを示した。
水MeOH濾液から、およそ70℃の最終温度及び13トールの圧力まで溶媒を取り除き、81.94gの白色固体を得た。この固体は、主にビニルホスホノ−モノホスフェートであり、0.077モル当量のビニルホスホノ−モノホスフェート及び0.091モル当量のオルトホスフェートを伴うことが示された。この白色固体から、40℃で1時間、固体を300mlのMeOH中で急速に撹拌し、溶液が熱い間に不溶性固体を濾過し、次いで得られた固体を50mlの室温MeOHで2回すすぎ、得られた固体を高真空下、室温で一晩乾燥させて、54.8gの白色粉末を得た。
この最終試料のP−NMRは、0.05モル当量のオルトホスフェート、0.04当量のピロホスフェート、及び0.02当量のビニルホスホネートと共に、ビニルホスホノ−モノホスフェートを示した。H−NMRは、0.02モル当量のイミダゾール及び0.09当量のメタノールを伴うビニルホスホノ−モノホスフェート生成物と一致した。内部標準を使用して、全活性物質は80.8%であると計算され、これは82%の収率を表す。
実施例2−メチル−ビニルホスホノ−モノホスフェート(MVPP)又は[メチルビニルホスホン酸リン酸無水物]の合成
Figure 2021505562
実施例1の14分の1モルスケールでビニルホスホン酸の代わりにメチル−ビニルホスホン酸を用いて、実施例1の手順に従った。最終純度は71.9%であり、収率は31.2%であった。
実施例3−(メチレ二ルホスホノ−モノホスフェート)−メタクリレート[又は((メタクリルオキシルオキシ)メチル)ホスホン酸リン酸無水物]の合成
Figure 2021505562
磁気的に撹拌して乾燥させた50mlの一口丸底フラスコに、(メチレニルホスホン酸)−メタクリレート(0.5g、2.77mmole)及び10mlのDMFを窒素下で入れた。得られた混合物を室温で10分間撹拌し、均質な溶液を得た。トリブチルアミン(0.77g、1.0ml、1.5当量)を加え、室温で30分間撹拌して、均質な溶液を得た。
窒素下で取り付けられた第2の磁気的に撹拌して乾燥させた10mlの一口丸底フラスコに、1,1−カルボニルジイミダゾール(CDI)(0.54g、1.2当量)、続いて10mlのDMFを入れた。得られた混合物を室温で10分間撹拌し、均質な溶液を得た。次に、トリブチルアミン/(メチレンホスホン酸)−メタクリレート溶液を1分間かけてCDI溶液に加え、得られた混合物を室温で4時間撹拌して、淡黄色の均質溶液を得た。
第3の磁気的に撹拌した50mLの一口丸底フラスコに、HPO(0.68g、2.5当量)、続いて15mlのDMFを窒素下で入れた。得られた混合物を室温で15分間撹拌し、均質な溶液を得た。この混合物にトリブチルアミン(1.54g、2.0ml、3.0当量)を加え、得られた溶液を30分間撹拌して、濁った溶液を得た。この濁った溶液に、溶液を第2のフラスコから1分間かけて加えた。得られた溶液を室温で一晩撹拌して、淡黄色の濁った溶液を得た。この溶液から、真空下(13トール)でおよそ65℃の最終温度まで溶媒を取り除き、24.5gの淡黄色シロップを得た。
得られたシロップを100mlの水に溶解し、1N NaOH(約14g)でpHを8に調整して、乳白色系を得て、その後、65℃及び13トールで24.5gの淡黄色シロップに濃縮した。このシロップを50mlのMeOHに加え、5分かけて加えて、白色沈殿物を得た。MeOHをデカントして沈殿物を除去し、次いで、MeOHを真空下で取り除いて、7.4gのゼラチン状固体を得た。ゼラチン状固体上のP−NMRは、1当量の生成物、0.55モル当量のオルトホスフェート、0.40当量の出発ホスホネートの無水物を伴う、予想されるホスホノ−モノホスフェート生成物を示した。
ゼラチン状固体のバルクを50mlのEtOH中で1時間、室温で撹拌し、不溶性pptを得た。pptを濾過し、10mLの新鮮なEtOHで2回すすぎ、一晩フード乾燥させて238mgの固体を得た。固体のP−NMRは、生成物ピークダブレット(1.1/1.0ppm及び−8.4/−8.5ppm)、ホスフェート(2.04ppm)、生成物無水物(2.9ppm)を100:70:10の比で示すと共に、他の微量の未知成分を示した。H−NMRは、約12モル%のイミダゾール、残留EtOH、及び他の微量の未知成分を含有する生成物と一致する乾燥固体を示す。
実施例4−(エチルホスホノ−モノホスフェート)(ブチル)アクリルアミド又は[(2−(N−ブチルアクリルアミド)エチル)ホスホン酸リン酸無水物]の合成
Figure 2021505562
磁気的に撹拌して乾燥させた25mlの二口丸底フラスコにn−ブチルアミン(6.3mL、63mmole)を充填し、乾燥窒素下で78℃に加熱した。ジエチルビニルホスホネート(1.0ml、6.3mmol)を加え、一晩撹拌した。得られた混合物を、約45℃及び20mmbarで回転蒸発させて、P−NMR(92%回収率)により、高純度ジエチルエチルホスホネートブチルアミンで1.38gの物質を回収した。
磁気的に撹拌して乾燥させた25mlの二口丸底フラスコに、ジエチルエチルホスホネートブチルアミン(1.1g、4.6mmol)、2mLのジクロロメタン、及び6mLの1N NaOHを入れた。得られた混合物を氷浴中で撹拌し、冷却した。2mLのジクロロメタン及び0.368gの塩化アクリロイルの混合物を、このフラスコに30分かけて滴加した。得られた混合物を、分液漏斗2×25mLの1N HCl、1×25mLの飽和NaCl中で、水相のジクロロメタンを含む10mLのすすぎ液で抽出された10mLのジクロロメタンで希釈した。得られた複合有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過した。溶媒を回転蒸発によっておよそ35℃で除去して、0.84g(72%)の生成物を得た。
氷浴中の乾燥窒素下で、磁気的に撹拌した100mLの二口フラスコ中4mLのジクロロメタンにロット全体を溶解し、次いで、1mLのジクロロメタン及び2mLのトリメチルブロモシランの混合物を20分かけて加えることによって、この生成物上のエチルエステル基を除去した。更に1mLのジクロロメタン、次いで1mLのジクロロメタン及び1mLのトリメチルブロモシランの混合物を加えた。2時間後、30mLのMeOHを加え、10分間撹拌した後、1mLのジクロロメタン中の0.21mgのブチル化ヒドロキシトルエンを加えた。揮発性物質を、約40℃で回転蒸発によって除去した。得られた生成物を、50mLのジクロロメタンに溶解し、25mLの0.1N NaOH及び25mLの1N NaOHの混合物で抽出することによって精製した。2回目は水相を、1N HClでpH1に酸性化したものよりも25mLのジクロロメタンで抽出し、次いで、ほぼ乾燥するまで回転蒸発させた。得られた残留物を50mLのEtOHで希釈し、ほぼ乾燥するまで3回回転蒸発させて、水を除去した。次いで、得られた残留物を10mLのペンタンで希釈し、ほぼ乾燥するまで2回蒸発させて、残留物EtOHを除去した。ほぼ定量的な最終回収。
ホスホノ−ホスフェート基を加えることは、実施例3と同様に実施した。精製工程をわずかに修正した。粗反応混合物にジエチルエーテル(1体積当量)の抽出を実施した後、溶液を30〜35℃で真空脱気した。残留物を25mLの水に溶解し、1N NaOHでpHを7に調整した後、40〜45℃で水を真空脱気して、液体残留物を残した。次に、100mLのメタノールを残留物に加えて沈殿物をもたらし、これを収集し、真空下で乾燥させて、P−NMRによる80%活性でおよそ9.1グラムを得た。
実施例5−(4−ビニルベンジル)ホスホノ−モノホスフェート又は[(4−ビニルベンジル)ホスホン酸リン酸無水物]の合成
Figure 2021505562
磁気的に撹拌して乾燥させた50mlの一口丸底フラスコに、(4−ビニルベンジル)ホスホン酸(4.0g、20.2mmol)及び20mlのDMFを窒素下で入れた。得られた混合物を室温で10分間撹拌し、均質な溶液を得た。トリブチルアミン(5.6g、7.2ml、1.5当量)を加え、室温で30分間撹拌して、均質な溶液を得た。窒素下で取り付けられた第2の磁気的に撹拌して乾燥させた10mlの一口丸底フラスコに、1,1’−カルボニルジイミダゾール(CDI)(4.9g、1.2当量)、続いて25mlのDMFを入れた。得られた混合物を室温で10分間撹拌し、均質な溶液を得た。次に、トリブチルアミン/(4−ビニルベンジル)ホスホン酸溶液を1分間かけてCDI溶液に加え、得られた混合物を室温で4時間撹拌して淡黄色の均質な溶液を得た。
第3の磁気的に撹拌した100mLの一口丸底フラスコに、HPO(5.94g、3.0当量)、続いて25mlのDMFを窒素下で入れた。得られた混合物を室温で15分間撹拌し、均質な溶液を得た。この混合物にトリブチルアミン(13.1g、16.8ml、3.5当量)を加え、得られた溶液を30分間撹拌して、濁った溶液を得た。この濁った溶液に、溶液を第2のフラスコから1分間かけて加えた。得られた溶液を室温で一晩撹拌して、淡黄色の溶液を得た。この溶液から、真空下(13トール)でおよそ65℃の最終温度まで溶媒を取り除き、49.8gの淡黄色シロップを得た。得られたシロップを30mlの水に加え、1N NaOH(約127g)でpHを8.5に調整して、乳白色系を得て、その後、65℃及び13トールで58.2gの淡黄色シロップに濃縮した。このシロップを40mlのMeOHに加え、20分かけて加えて、白色沈殿物を得た。ペースト上のP−NMRは、それがおよそ95%のホスフェートであることを示した。MeOHをデカントして沈殿物を除去した後、MeOHを脱気して、7.23gの白色ペーストを得た。白色ペースト上のP NMRは、1当量の生成物、0.16モル当量のオルトホスフェート、0.05当量のピロホスフェート、0.25当量の出発ホスホネートの無水物、及び0.065当量の出発ホスホネートを有する、予想されるホスホノ−モノホスフェート生成物を示した。
白色ペーストのバルクを、75mlのMeOH中、室温で1時間撹拌した。ペーストの一部は溶解したが、一部は不溶性のままであった。不溶性部分を濾過し、10mLの新鮮なMeOHで2回すすいだ。得られた固体を高真空で一晩乾燥させて、1.97gの固体を得た。固体のP−NMRは、生成物ピークダブレット(1.1/1.0ppm及び−8.4/−8.5ppm)、ホスフェート(2.04ppm)、生成物無水物(2.9ppm)を100:70:10の比で示すと共に、他の微量の未知成分を示した。H−NMRは、約12モル%のイミダゾール、残留EtOH、及び他の微量の未知成分を含有する生成物と一致する乾燥固体を示す。最終固体の収率は、理論の23.7%であった。
実施例6−(ビス(メチレンホスホネート無水物)アミノプロピル)−メタクリレートポリマー又は[4−(3−(メタクリロイルオキシ)プロピル)−1,4,2,6−オキサジホスフィナン−2,6−ビス(オレート)2,6−ジオキシドポリマー]の合成
Figure 2021505562
磁気的に撹拌して乾燥させた250mlの三口丸底フラスコに、(ビス(メチレンホスホン酸)アミノプロピル)−メタクリレート(3.0g、9.06mmol)及び100mlのDMFを窒素下で入れた。得られた混合物を室温で10分間撹拌し、均質な溶液を得た。トリブチルアミン(5.03g、6.5ml、3.0当量)を加え、室温で30分間撹拌して、均質な溶液を得た。
添加漏斗を取り付けた第2の磁気的に撹拌して乾燥させた100mlの一口丸底フラスコに、窒素下で、1,1’−カルボニルジイミダゾール(CDI)(2.2g、1.5当量)、続いて40mLのDMFを入れた。得られた混合物を室温で10分間撹拌し、均質な溶液を得た。CDI溶液を、添加漏斗を介して第1のフラスコにおよそ1時間かけて加え、得られた混合物を室温で一晩撹拌した後、1週間放置して、白色の沈殿物を得た。沈殿物を濾過によって収集し、100mLの水でスラリー化し、1N NaOHでpHを約9に調整し、濁った溶液を得た。この溶液を、流動空気下で2.4gまで一晩蒸発させた。H−NMR’及びP−NMR’は、沈殿物がいくらかのモノマーを有するポリマーであることを示した。P−NMRは、ポリマーの目的の無水物(12〜13ppm)及び出発二酸(6〜7ppm)、並びにモノマーピーク(11.8〜12ppm)を36:53:11の比で示した。沈殿物のバルクを100mLの水中で1時間超音波処理して濁った溶液を得て、これを0.22μmのPVDFフィルタディスクを有する250mLのStericup Duraporeを使用して濾過し、透明な溶液を得た。これを250mlにし、5ガロンのRO水(1N NaOHで8.5に調整されたpH)に対して、Thermo Scientific Slide−A−Lyzer透析フラスコ(2K MWCO、250ml)中で7日間透析によって精製して、凍結乾燥後に1.29gの白色固体(17−DF−5835−5)を得た。P−NMRは、39.2:60.8モル比で、12〜13ppmの幅広い無水物ピーク及び6.4〜7.4ppmの二酸ピークを示した。活性は、87.8%ポリマー及び12.2%水/不活性物質であると計算された。
実施例7−(エチルホスホノ−モノホスフェート)−メタクリレート又は[(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)ホスホン酸リン酸無水物]の合成
Figure 2021505562
磁気的に撹拌して乾燥させた100mlの一口丸底フラスコに、(エチルホスホン酸)−メタクリレート(3g、15.5mmol)及び30mlのDMFを窒素下で入れた。得られた混合物を室温で10分間撹拌し、均質な溶液を得た。トリブチルアミン(4.3g、5.5ml、1.5当量)を加え、室温で30分間撹拌して、均質な溶液を得た。
窒素下で取り付けられた第2の磁気的に撹拌して乾燥させた25mlの一口丸底フラスコに、1,1’−カルボニルジイミダゾール(CDI)(3.76g、1.5当量)、続いて20mlのDMFを入れた。得られた混合物を室温で10分間撹拌し、均質な溶液を得た。次に、トリブチルアミン/(エチルホスホン酸)−メタクリレート溶液をCDI溶液に加え、得られた混合物を室温で4時間撹拌して、淡黄色の均質な溶液を得た。
第3の磁気的に撹拌した500mLの一口丸底フラスコに、HPO(4.55g、3.0当量)、続いて25mlのDMFを窒素下で入れた。得られた混合物を室温で15分間撹拌し、均質な溶液を得た。この混合物にトリブチルアミン(12g、15.4ml、4.2当量)を加え、得られた溶液を30分間撹拌して、濁った溶液を得た。この濁った溶液に、第2のフラスコからの溶液を1分間かけて加えた。約1時間の撹拌で、白色の沈殿物が形成され始めた。得られた溶液を室温で一晩撹拌して、更なる沈殿物を形成させた。P−NMRは、生成物ピークダブレット(7.2/7.3ppm及び−8.75/−8.84ppm)、ホスフェート(2.14ppm)、生成物無水物(8.9ppm)、及びピロホスフェート(−9.26ppm)を100:427:12:15.の比で示した。
粗Rx溶液(約90.7g)に、撹拌しながら200mLのエチルエーテルを30分間かけて加えて白色pptを得て、これを濾過によって収集し、追加のエーテルですすぎ、真空下(1トール未満)で一晩乾燥させて、7.85gの白色沈殿物を得た。得られた濾液に、更に200mLのエチルエーテルを30分間かけて撹拌しながら加え、自由流動上部層及び低粘性油層を有する二層系を得た。上部層をデカントし、下部油層を真空下(1トール未満)、室温で一晩乾燥させて、2.33gのワックス状固体を得た。デカントされた層に、更に400mlのエーテルを30分間かけて撹拌しながら加え、濁った溶液を得た。濁った溶液を冷凍庫(−15℃)に入れ、透明な自由流動上部層及び粘性下部油層を得た。上部層をデカントし、下部油層を真空下(1トール未満)、室温で一晩1時間乾燥させて、1.19gのワックス状固体を得た。
白色沈殿物は、H−NMRによって、生成物:イミダゾール:トリブチルアミン(100:1150:220のモル比)の混合物であることを示したが、P−NMRは、生成物:ホスフェート:ピロ(100:625:35のモル比)の混合物を示した。
第1のワックス状固体は、H−NMRによって、生成物:イミダゾール:トリブチルアミン(100:230:170のモル比)の混合物であることを示した。P−NMRは、生成物:ホスフェート(100:89のモル比)の混合物を示した。
第2のワックス状固体は、H−NMRによって、生成物:イミダゾール:トリブチルアミン(100:100:150のモル比)の混合物であることを示した。P−NMRは、生成物:ホスフェート(100:79のモル比)の混合物を示した。
ワックス状固体を合わせ、50mLの脱イオン水に溶解した。得られた溶液のpHを、19.3gの1N NaOHで2.9〜8.6に調整し、濁った溶液を得た。この溶液を、50mLのエチルエーテルで1回抽出した。得られた水層は、pH=7.5を有し、これを追加の1N NaOHで8.0に整えた。残留エーテルを、回転蒸発器上で室温、20トールで水層から除去した。凍結乾燥によって水層から水を除去し、2.61gの黄褐色固体を得た。
H−NMR’及びP−NMR’は、生成物:イミダゾール:NBut3(100:160:50のモル比)の混合物を示した。P−NMRは、生成物:ホスフェート(100:101のモル比)の混合物を示す。
黄褐色固体を50mLのMeOH中で30分間撹拌し、不溶性固体を得た。固体を濾過によって収集し、2×10mlの新鮮なMeOHをすすぎ、室温で一晩1トール未満で乾燥させて、1.79gのクリーム色固体を得た。H−NMR’は、約1モル%のイミダゾールを含有する生成物と一致した。LCMSは、273において、M+Hプロトン化形態と一致する質量を示した。メタノール抽出物のH−NMRは、主に約3モル%の生成物を含有するイミダゾールであることを示した。H−NMR及びP−NMRを組み合わせて活性を計算し、74.4%であることが見出された。
実施例8−(プロピルホスホノ−モノホスフェート)−メタクリレート又は[(3−(メタクリロイルオキシ)プロピル)ホスホン酸リン酸無水物]の合成
Figure 2021505562
(エチルホスホン酸)−メタクリレートの代わりに5.5g(26.4mmol)(プロピルホスホン酸)−メタクリレートを用いて、実施例7の手順に従った。全ての試薬をスケール変更して、モル当量を同一に維持した。最終蒸発後、5.17gのクリーム色の固体を収集し、67.8%活性であると示された。
実施例9−(エチルホスホノ−モノホスフェート)−アクリルアミド又は[(2−アクリルアミドエチル)ホスホン酸リン酸無水物]の合成
Figure 2021505562
黄色粗溶液の生成のために、ビニルベンジルホスホネートの代わりに(アクリルアミド)エチルホスホン酸(37mmol)を使用し、実施例5に対する等モル比で全ての試薬の量を増加させて、実施例5の手順に従った。
粗溶液の精製手順は、実施例5から修正した。DMFを室温で、流動乾燥窒素下で部分的に除去し、46.8gの粘性の黄色油を得た。この油を約75mLの水に溶解し、1N NaOHを20分かけて加えることにより、pHを8に調整した。9.4gのトリブチルアミン小有機層が形成され、デカントした。水相を、流動乾燥窒素下で147.5gに更に乾燥させた後、220mLのMeOHを30分かけて加えて、白色沈殿物を得た。沈殿物を濾過し、得られた濾液を乾燥させると、22.7gの褐色ペーストが得られ、これはP NMRによってほとんど生成物であることが示された。褐色ペーストを、室温で6時間、激しく撹拌しながら、100mLのEtOH中でスラリー化した。固体を形成し、濾過によって収集し、新鮮なEtOH(2×25mL)ですすぎ、1トール未満で一晩乾燥させて、10.94gの黄褐色固体を得た。固体は、NMRにより69%のホスホノ−モノホスフェート生成物を含有していた。
実施例10−(メチレンホスホノーモノホスフェート)−アクリレート又は[((アクリロイルオキシ)メチル)ホスホン酸リン酸無水物]の合成
Figure 2021505562
(メチレンホスホン酸)−メタクリレートの代わりに(メチレンホスホン酸)−アクリレートを用いて、実施例3の手順に従った。
実施例11−(エチルホスホノ−モノホスフェート)−ビニルエーテル又は[(2−(ビニルオキシ)エチル)ホスホン酸リン酸無水物]の合成
Figure 2021505562
乾燥し、セプタム封止し、窒素フラッシングした、磁気的に撹拌した250mLの三口丸底フラスコに、ジエチル(2−(ビニルオキシ)エチル)ホスホネート(3g、14.4mmol)及び30mlのCHClを入れ、0〜5℃に冷却した。このフラスコにブロモトリメチルシラン(5.7mL、43.2mmol、3.0当量)を1分かけて加えた。加えた後、溶液を室温で2時間撹拌し、30℃及び1トール未満で溶媒を溶液から取り除いて、4.59gの黄色油を得た。これに、ドライアイス及びアセトン上で予め冷却した、15gのトリエチルアミン、30gのMeOH、及び60mgのフェノチアジン(阻害剤)を加えた。得られたものを一定の撹拌下で室温まで温め、次いで室温で真空下に置き、溶媒及び揮発物を1時間除去して、3.84gの粘性の濁った黄色油を得た。P−NMR及びH−NMRは、アミンモノ−トリエチルアミン塩と一致した。
実施例7の手順に従い、(エチルホスホノ−モノホスフェート)−ビニルエーテルを生成及び精製して、メタノール抽出後に4.04gの黄褐色固体を得た。H−NMR’は、約5モル%のイミダゾールを含有する生成物と一致した。P−NMRは、100:112の生成物ホスホノ−モノホスフェート対残留ホスフェートの比と一致した。LCMSは、231において、M+Hプロトン化形態と一致する質量を示した。H−NMR及びP−NMRを組み合わせて活性を計算し、52%であることが見出された。
実施例12−(エチルホスホノ−モノホスフェート)−アクリレート又は[(2−(アクリロイルオキシ)エチル)ホスホン酸リン酸無水物]の合成
Figure 2021505562
乾燥させた磁気的に撹拌した1Lの三口丸底フラスコに、ジメチル(2−ヒドロキシエチル)ホスホネート(24.7g、16mmol)、トリエチルアミン(17.8g、176mmol)、及び400mlのCHClを入れ、0〜5℃に冷却した。このフラスコに、0〜5℃の反応温度を維持しながら、100mlのCHCl中の塩化アクリロイル(14.95g、16.51mmol)の溶液を1.5時間にわたって加えた。加えるのが完了した後、反応温度を0〜5℃で更に2時間維持し、続いて室温に温め、一晩撹拌した。
得られた淡褐色の濁った溶液を、2×200mlの脱イオン水で抽出し、油層を無水MgSO上で乾燥させた後、濾過した。濾液から溶媒を取り除き、30.5gの褐色油を得た。H、C、及びP−NMR’は、第1の中間体(エチル、ジメチルホスホネート)−アクリレートと一致した。収率は、91.4%であった。
上記の褐色油を、250mLのジクロロメタンを用いて、乾燥させた磁気的に撹拌した500mLの三口丸底フラスコに入れた。フラスコ及び内容物を10℃に冷却し、67.3g(3当量)のブロモトリメチルシランを30分かけて加えた。フラスコを室温まで温め、一晩撹拌した。得られた溶液から溶媒を30℃で取り除き、続いて高真空下(1トール未満)で一晩撹拌して、37gの軽油を得た。この油に、200mLのメタノールを室温で10分間かけて加え、続いて室温で3時間撹拌した。得られた溶液から溶媒を30℃で取り除き、続いて高真空下(1トール未満)で一晩撹拌して、26.1gの粘性の黄褐色油を得た。H NMR及びP NMRは、生成物と一致した。収率は、98.9%であった。
粗黄色溶液を生成するために、ビニルベンジルホスホネートの代わりに(アクリロイルオキシ)エチルホスホン酸を使用して、実施例5の手順に従った。P NMR及びH NMRは、72%収率の所望の生成物を示した。
実施例13−混合ビニルホスホノ−ホスフェートの合成
Figure 2021505562
実施例1の1/12モルスケールでリン酸の代わりにピロリン酸を用いて、実施例1の手順に従った。DMF溶媒を除去して黄色の油を得て、1N NaOHを加えた後、24.1gのwite固体を窒素で一晩スパージした後に収集した。この試料は、PNMRによって、ビニルホスホノ−ピロホスフェート(VPPP)、ビニルホスホノ−モノホスフェート、出発物質、出発物質無水物、ホスフェート、ピロホスフェート、及びトリホスフェートを含有することが示された。ビニルホスホノピロホスフェート:ビニルホスホノ−モノホスフェートの比は、1:1.7であった。
実施例14 ビニルスルホネートメチルエステル(VSME)の合成
Figure 2021505562
添加漏斗及び温度計を備えた磁気的に撹拌して乾燥させた500mlの三口丸底フラスコに、250mLのメタノールを窒素下で入れ、0℃に冷却した。2−クロロエタンスルホニルクロリド(Aldrich)を15分かけてフラスコに加えたところ、発熱は観察されなかった。次に、およそ0℃の温度を維持するために、25%のNaOMe/MeOH(Aldrich)を2時間かけて加えた。加得ている間に、白色沈殿物(NaCl)が形成された。得られた溶液を0℃で更に1時間撹拌した後、室温まで温め、一晩撹拌した。沈殿物を濾過によって除去し、濾液から溶媒を取り除き、20.33gの白色ゲルを得た。このゲルを200mlのCHCl中で1時間スラリー化した。得られたものを濾過し、濾液から溶媒を取り除いて、9.47gの黄褐色油を得た。
H−NMR’及び13C−NMR’は、所望の生成物、VSMS、及びメチル2−メトキシエタン−1−スルホネート(3:0.6比)の混合物、79.8重量%の生成物を示した。H−NMRはまた、約10ppmの酸ピークを示す。1mlの水中の0.05gの黄褐色油の試験は、リトマスによっておよそ1のpHを示した。
8.8gの黄褐色油を100mlのCHClに溶解し、5gの重炭酸ナトリウムで撹拌した。得られた溶液を濾過し、濾液から溶媒を取り除いて、8.02gの淡黄色透明油を得た。
1mLの水中の0.05gの黄色透明油の試験は、リトマスによっておよそ6〜7のpHを示した。VSME対メチル2−メトキシエタン−1−1スルホネートの比は同じであり、79.8%の活性成分を得た。
実施例15 ビニルベンジルスルホン酸ナトリウムの合成
Figure 2021505562
加熱マントル、添加漏斗、及び還流凝縮器を装備した、磁気的に撹拌して乾燥した250mlの三口丸底フラスコに、9.5gの亜硫酸ナトリウム(75.5mmol)及び100mlの水を入れた。得られた溶液を、窒素下で100℃に加熱した。次に、15mlアセトン中の4−ビニルベンジルクロリド(9.6g、62.9mmol)を30分かけて加えた。得られた溶液を12時間還流させ、室温まで冷却し、一晩放置したところ、沈殿物を生じなかった。次に、急速撹拌下で100mlのアセトンを加えて、より低いペースト様層を得た。水/アセトン上清をデカントした。ペーストを25mLの新鮮なアセトンですすいだ後、デカントした。ペーストを真空下、14トール、及び室温で一晩乾燥させて、8.5gの固体を得た。この乾燥層は、H−NMRによって主にホモポリマーであることが示された。水/アセトンをデカントした層をおよそ75mlまで蒸発させて、白色のpptを得た。このpptを濾過によって収集し、2×25mlのアセトンですすぎ、真空下、14トール及び室温で一晩乾燥させて、2.14gの固体を得た。
この第2沈殿物のH−NMRは、100%活性に近いモノマー生成物と一致した。
実施例16 ビニルホスホン酸(VPA)及びビニルスルホン酸ナトリウム(SVS)の共重合
Figure 2021505562
VPA(2.0g、18.5mmol)及びSVS(25%水溶液、7.9g、15.2mmol)、45:55の初期モル比のSVS対VPAを丸底フラスコに入れた。フラスコを窒素で15分間パージし、90℃に加熱した。2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)ジヒドロクロリド(AAPH、Aldrich、1.2mLの水中25.8mg、加えられた全モノマーに対して0.3%モルベース)及び1−オクタンチオール(CTA、Aldrich、1.2mLの水中の55.6mg、加えられた全モノマーに対して1.1%モルベース)も調製した。次いで、これらの2つの溶液を、6時間かけて30分毎にモノマーを含有する加熱された撹拌フラスコに加えた。最後に加えた後、得られた溶液を、90℃で一晩撹拌させた。
H−NMR及び31P−NMRを粗反応溶液上で行った。95〜99%の典型的なモノマー変換率が、ホスホネート基から約31ppmの幅広いPポリマーピークで観察された。
粗反応溶液を水中で1重量%のポリマーに希釈し、pHを6に調整した。これらの溶液を、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で5〜7日間透析した。
得られた溶液から真空下で水を取り除いて、白色〜クリーム色の固体を得て、これを更に真空オーブンで一晩乾燥させて、2.74gの固体を得た。
ポリマー中のホスホネート含有量は、DO中の精製ポリマー及びトリメチルホスフェート(TMP)を用いてNMR試料を調製することによって決定した。H及び31P−NMR’を実行し、それからホスホネート含有量を、ポリマーピーク及び水に対する内部標準(TMP)のH及びPピークから計算した。この分析に基づいて、ポリマーは、SVSから得られる55.7モル%の繰り返し単位と、VPAから得られる44.3モル%の繰り返し単位とを含有していた。含水量は、重量ベースで9.6%であると計算された。透析後ポリマー中のモノマーの全回収率は、モルベースで57%であると計算された。
実施例17 ビニルホスホン酸及びビニルスルホン酸ナトリウム(SVS)の共重合
VSA及びVPAの異なる出発比について、実施例16の手順を繰り返した。実施例16を含む、異なる出発比から得られたポリマー組成物及び全収率を以下の表1に示す。Polymer Standards Service(PSS)MCX 1000Aカラム、並びにWyatt HELEOS II光散乱検出器及びWyatt Optilab Differential屈折率検出器の両方を使用する、Wyattゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)システムを、内部Wyatt Astra 6ソフトウェアを使用するポリマー分子量の計算に使用した。
Figure 2021505562
実施例18 ビニルホスホン酸(VPA)及びアクリル酸(AA)の共重合
Figure 2021505562
1.5mLの水中の19mmolのVPAの初期電荷を用いて、実施例Xの手順を繰り返した。1.6mLの水中のアクリル酸28.5mmolを、30分毎に0.1mLのAAPH及びCTAと共に加えた(0.3mL)。加える途中に追加の3mLの水を加えた。収集した最終ポリマーは、透析後2.87gであり、30%ホスホネート及び70%アクリレートであることが見出された。
実施例19 ビニルホスホノ−モノホスフェート(VPP)及びビニルスルホン酸ナトリウム(SVS)の共重合
Figure 2021505562
VPP(実施例1、2.05gの活性物質、8.87mmol)及びSVS(25%水溶液、3.77g、7.25mmol)、45:55の初期モル比のSVS対VPPを丸底フラスコに入れ、フラスコのヘッドスペースを流動窒素で15分間パージした。フラスコを密閉し、60℃まで加熱し、この時点で過硫酸アンモニウム(APS、Aldrich、183mg、全モノマーに対して5%)を0.50mlの水に加えた。得られた溶液を60℃で24時間撹拌した。
H−NMR及び31P−NMRを粗反応溶液上で行った。95〜99%の典型的なモノマー変換率は、ホスホネート基から約18〜23ppm及びホスホネート基に結合したホスフェートから−6〜−10の幅広いPポリマーピークで観察された。
粗反応溶液を水中で1重量%のポリマーに希釈し、pHを8.5に調整した。これらの溶液を、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で5〜7日間透析した。
凍結乾燥によって生成物から水を除去し、2.22gの白色固体を得た。
ポリマー中のホスホネート含有量は、DO中の精製ポリマー及びトリメチルホスフェート(TMP)を用いてNMR試料を調製することによって決定した。H−NMR’及び31P−NMR’を実行し、それからホスホネート含有量を、ポリマーピーク及び水に対する内部標準相対(TMP)のH及びPピークから計算した。P−NMRは、およそ1:1の比で約18〜23ppm及び−6〜−10ppmの幅広いホスホノ−ホスフェートピークを示し、また約26〜28ppmのホスホネートピークも示す。18〜23及び26〜28ppmの31P−NMR面積に基づいて、ホスホノ−ホスホネート:ホスホネート比は、94.9:5.1である。この分析に基づいて、ポリマーは、SVSから得られる56モル%の繰り返し単位、VPPから得られる42モル%の繰り返し単位、及びVPAから得られる2モル%の繰り返し単位を含有していた。含水量は、重量ベースで23%であると計算された。透析後ポリマー中のモノマーの全回収率は、モルベースで65%であると計算された。
実施例20 ビニルホスホノ−モノホスフェート(VPP)及びビニルスルホン酸ナトリウム(SVS)の共重合
VSA及びVPPの異なる出発比について、実施例19の手順を繰り返した。実施例19を含む、異なる出発比から得られたポリマー組成物及び全収率を以下の表2に示す。
Figure 2021505562
実施例21 メチルビニルホスホノ−モノホスフェート(MVPP)及びビニルスルホン酸ナトリウム(SVS)の共重合
Figure 2021505562
VPPの代わりにMVPP(実施例2)、及びそれぞれ55:45のMVS対MVPPの比を使用し、以下の変更を加えて、実施例19の手順を繰り返した。
24時間のランタイムで、NMRによるMVPPモノマー変換率は約75%であったため、更に水中3モル%のAPSを加え、反応物を60℃で更に24時間撹拌させた。この時点で、MVPPモノマー変換率は約95%であった。
透析及び凍結乾燥を、実施例19と同様に行った。
このNMR分析に基づいて、ポリマーは、SVSから得られる62mol%の繰り返し単位、MVPPから得られる35mol%の繰り返し単位、及びメチルビニルホスホン酸から得られる3モル%の繰り返し単位を含有していた。含水量は、重量ベースで10.3%であると計算された。透析後ポリマー中のモノマーの全回収率は、モルベースで65%であると計算された。
実施例22 ビニルホスホノ−モノホスフェートのホモ重合
Figure 2021505562
VPP(実施例1、16.4mmol)水、6mL、及び重炭酸ナトリウム(0.69g、8.2mmol)を25mLの丸底フラスコに入れ、次いで窒素で15分間パージした。過硫酸アンモニウム(APS、186.6mg)を0.50mLの水に溶解し、混合物に加えた。得られた溶液を60℃で6時間撹拌した。この時点で、NMRは25%重合モノマーを示した。0.50mLの水に更に186.6mgのAPSを加えた。得られた溶液を、60℃で合計24時間にわたって撹拌した。NMRは、残留モノマーを示さなかった。
粗反応溶液を500mLの水で希釈し、得られたpHは8.7であった。この溶液を、8.5の調整pHで、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で透析した。
得られた溶液から真空下で水を取り除いて、白色〜クリーム色の固体を得て、これを更に真空オーブンで一晩乾燥させて、2.8gの固体を得た。P−NMRは、VPPのみを示し、VPAを示さなかった。得られたものは、残りの水及び不純物と共に重量ベースで91%ポリマーであった。透析後ポリマー中のモノマーの全回収率は、モルベースで58%であると計算された。
実施例23 ビニルホスホノ−モノホスフェート(VPP)及び2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム(AMPS)の共重合
Figure 2021505562
VPP(実施例1、6.55mmol)及び水2mLを丸底フラスコに入れ、フラスコのヘッドスペースを流動窒素で15分間パージした。フラスコを密封し、60℃まで15分間加熱して、均質な溶液を得た。過硫酸アンモニウム(APS、149.3mg)を1.2gの水に溶解した。30分毎に、0.1mLのAPS溶液及び0.206mLのAMPS(3gの50%溶液、6.55mmol)を、合計6時間にわたって反応物に加えた。得られた溶液を60℃で24時間撹拌した。
粗反応溶液を250mLの水で希釈し、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で6日間透析した。
凍結乾燥によって生成物から水を除去し、2.66gの白色固体を得た。
ポリマー中のホスホネート含有量は、DO中の精製ポリマー及びトリメチルホスフェート(TMP)を用いてNMR試料を調製することによって決定した。H−NMR’及び31P−NMR’を実行し、それからホスホネート含有量を、ポリマーピーク及び水に対する内部標準相対(TMP)のH及びPピークから計算した。P−NMRは、およそ1:1の比で約18〜23ppm及び−6〜−10ppmの幅広いホスホノ−ホスフェートピークを示し、また約26〜28ppmのホスホネートピークも示す。18〜23及び26〜28ppmの31P−NMR面積に基づいて、ホスホノ−ホスホネート:ホスホネート比は、98:2である。この分析に基づいて、ポリマーは、AMPSから得られる64.2モル%の繰り返し単位、VPPから得られる35.1モル%の繰り返し単位、及びVPAから得られる0.7モル%の繰り返し単位を含有していた。含水量は、重量ベースで13.3%であると計算された。
実施例24 ビニルホスホノ−モノホスフェート(VPP)及び3−スルホプロピルアクリレートカリウム塩(SPA)の共重合
Figure 2021505562
AMPSの代わりにSPA(Aldrich)を用いて、実施例23の手順に従った。生成物の凍結乾燥により、2.04gの白色固体を得た。
NMR分析に基づいて、ポリマーは、SPAから得られる62モル%の繰り返し単位、VPPから得られる36モル%の繰り返し単位、及びVPAから得られる2モル%の繰り返し単位を含有していた。含水量は、重量ベースで15.5%であると計算された。
実施例25 VPPとアクリルアミドとの共重合
Figure 2021505562
VPP(実施例1、9.9mmol)及び水3mLを丸底フラスコに入れ、フラスコのヘッドスペースを流動窒素で15分間パージした。フラスコを密封し、60℃まで15分間加熱して、均質な溶液を得た。過硫酸アンモニウム(APS、225.9mg)を1.2gの水に溶解した。アクリルアミド(Aldrich、9.9mmol)を1.5gの水に溶解した。30分毎に、0.1mLのAPS溶液及び0.125mLのアクリルアミド溶液を、合計6時間にわたって反応物に加えた。得られた溶液を60℃で24時間撹拌した。進行をNMRによってモニターした。
粗反応溶液を250mLの水で希釈し、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で5日間透析した。
凍結乾燥によって生成物から水を除去し、2.85gの白色固体を得た。
ポリマー中のホスホネート含有量は、DO中の精製ポリマー及びトリメチルホスフェート(TMP)を用いてNMR試料を調製することによって決定した。H−NMR’及び31P−NMR’を実行し、それからホスホネート含有量を、ポリマーピーク及び水に対する内部標準相対(TMP)のH及びPピークから計算した。P−NMRは、およそ1:1の比で約18〜23ppm及び−6〜−10ppmの幅広いホスホノ−ホスホネートピークを示す。約26〜28ppmではホスホネートピークは観察されなかった。この分析に基づいて、ポリマーは、アクリルアミドから得られる53モル%の繰り返し単位、VPPから生じる47モル%の繰り返し単位を含有していた。含水量は、重量ベースで16%であると計算された。
実施例26 VPPとVSMSとの共重合
Figure 2021505562
VPP(実施例1、7.67mmol)、重炭酸塩(Aldrich 11.5mmol)、及び水5mLを丸底フラスコに入れ、フラスコのヘッドスペースを流動窒素で15分間パージした。フラスコを密封し、60℃まで15分間加熱して、均質な溶液を得た。過硫酸アンモニウム(APS、174.9mg)を1.2gの水に溶解した。15分毎に、0.1mLのAPS溶液、及び0.084mLのVSME(ビニルスルホン酸メチルエステル(実施例14、79.8%の活性物質、合計7.67mmol)を、合計3時間にわたって反応物に加えた。得られた溶液を60℃で更に3時間撹拌した。粗反応溶液を250mLの水で希釈し、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で8.5のpHで5日間透析した。凍結乾燥によって生成物から水を除去し、2.05gの白色固体を得た。
ポリマー中のホスホネート含有量は、DO中の精製ポリマー及びトリメチルホスフェート(TMP)を用いてNMR試料を調製することによって決定した。H−NMR’及び31P−NMR’を実行し、それからホスホネート含有量を、ポリマーピーク及び水に対する内部標準相対(TMP)のH及びPピークから計算した。P−NMRは、およそ1:1.1の比で約18〜23ppm及び−4〜−10ppmの幅広いホスホノ−ホスフェートピークを示すが、約26〜28ppmでのホスホネートピークは示さない。全リン含有量は、40.8%であった。MSMEからのメチルプロトンをH NMRで可視化し、VSME加水分解の定量化を可能にした。全分析に基づいて、ポリマーは、VSMEから得られる39モル%の繰り返し単位、20モル%のVSA、及びVPPから得られる41モル%の繰り返し単位を含有していた。得られたものは、重量ベースで73%ポリマーであり、残りは水及び不純物であった。
実施例27 (ホスホノーモノホスフェートエチル)(ブチル)アクリルアミドとAMPSとの共重合
Figure 2021505562
(ホスホノ−モノホスフェートエチル)(ブチル)アクリルアミド(実施例4、21.6mmol)及びAMPS(23.6mmol)を実施例23と同様に重合した。粗反応溶液を、逆浸透水に対して1K分子量のカットオフ透析膜で一晩透析した後、2時間の拡張agains 0.5M NaCl、次いで1時間agains 0.05M NaClを行った。凍結乾燥後、11.5グラムの物質を収集した。NMRは、他の実施例のように、ポリマーが、AMPSから得られるおよそ67モル%の繰り返し単位、及び(ホスホノ−モノホスフェートエチル)(ブチル)アクリルアミドからの33%であることが見出された。固体は、約16重量%の水を含有し、55重量%のポリマーであった。
実施例28 VPPとVPAとの共重合
Figure 2021505562
VPA(1.2g、11.1mmol)及び水6mLを25mLの丸底フラスコに入れた。重炭酸ナトリウム(2.8g、33.3mmol)を60分かけて加え、次いでフラスコを窒素でパージし、室温で一晩撹拌した。VPP(実施例1、11.1mmol)を加え、溶液を窒素でパージし、60℃に加熱して濁った溶液を得た。過硫酸アンモニウム(APS、253.5mg)を0.75mLの水に溶解し、混合物に加えた。得られた溶液を60℃で6時間撹拌した。この時点で、NMRは、全モノマーの40%重合を示した。0.75mLの水中の253.3mgのAPSを更に加えた。得られた溶液を、60℃で合計24時間にわたって撹拌した。NMRは、10%の残留モノマーを示した。
粗反応溶液を500mLの水で希釈し、得られたpHは8.7であった。この溶液を、8.5の調整pHで、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で透析した。
得られた溶液から真空下で水を取り除いて、白色〜クリーム色の固体を得て、これを更に真空オーブンで一晩乾燥させて、2.66gの固体を得た。P−NMRは、ポリマー中のVPP:VPAの比が61:39であることを示した。得られたものは、重量ベースで88%ポリマーであった。
実施例29 VPPとメチルアクリレートとの共重合
Figure 2021505562
VPP(実施例1、9.9mmol)及び水4mLを丸底フラスコに入れ、フラスコのヘッドスペースを流動窒素で15分間パージした。フラスコを密封し、60℃まで15分間加熱して、均質な溶液を得た。過硫酸アンモニウム(APS、225.7mg)を1.2gの水に溶解した。30分毎に、0.1mLのAPS溶液及び0.073mLのメチルアクリレート(Aldrich、9.9mmol、合計0.88mL)溶液を、合計6時間にわたって反応物に加えた。3時間で、乳白色が形成され始めた。得られたものを60℃で24時間撹拌し、乳白色の溶液を得た。進行をNMRによってモニターし、24時間で20%の残留VPPを示し、残留メチルアクリレートは示さなかった。
反応溶液を20mLの追加の水に加え、次いで5mLのMeOHを急速撹拌下で5分間かけて加えた。得られた溶液を室温で10分間静置し、白色沈殿物を得た。沈殿物を濾過し、MeOHを濾液から除去した。
濾液を250mLの水で希釈し、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で5日間、およそ6.5のpHで透析した。
凍結乾燥によって生成物から水を除去し、1.4gの白色固体を得た。
ポリマー中のホスホネート含有量は、DO中の精製ポリマー及びトリメチルホスフェート(TMP)を用いてNMR試料を調製することによって決定した。H−NMR’及び31P−NMR’を実行し、それからホスホネート含有量を、ポリマーピーク及び水に対する内部標準(TMP)のH及びPピークから計算した。分析は、得られたポリマーが、29%のメチルアクリレート、16%のアクリレート、50%のVPP、及び5%のビニルホスホネートであることを示した。得られた固体は、重量ベースで77%ポリマーであった。
実施例30 (4−ビニルベンジル)ホスホノ−モノホスフェートとSVSとの共重合
Figure 2021505562
(4−ビニルベンジル)ホスホノ−モノホスフェート(VBPP、実施例5、4.35mmol)、重炭酸塩(Aldrich 183mg、8.2mmol)、及びSVS(Aldrich、25%水溶液、8.1mmol)を丸底フラスコに入れ、フラスコのヘッドスペースを流動窒素で15分間パージした。フラスコを密封し、60℃まで加熱し、その時点でガスを発生させた。追加の重炭酸塩(合計300mg)を、追加のオフガス発生が観察されなくなるまで漸増的に加えた。過硫酸アンモニウム(APS、Aldrich、284mg、全モノマーに対して10%)を0.5mlの水に加えた。得られた溶液を60℃で24時間撹拌した。
H−NMR及び31P−NMRを粗反応溶液上で行った。ポリマー組成物は、およそ25/75 SVS/VBPPである。
粗反応溶液を500mLの水で希釈し、1N NaOHでpHを8.5に調整した。この溶液を、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で6日間透析した。凍結乾燥によって生成物から水を除去し、1.85gの白色固体を得た。
ポリマー中のホスホネート含有量は、DO中の精製ポリマー及びトリメチルホスフェート(TMP)を用いてNMR試料を調製することによって決定した。H−NMR’及び31P−NMR’を実行し、それからホスホネート含有量を、ポリマーピーク及び水に対する内部標準(TMP)のH及びPピークから計算した。P−NMRは、およそ1:1の比で約13〜15ppm及び−5〜−7ppmの幅広いホスホノ−ホスフェートピークを示し、また約21〜23ppmのホスホネートピークも示す。13〜15及び21〜23ppmの31P−NMR面積に基づいて、ホスホノ−ホスホネート:ホスホネート比は、93:7である。この分析に基づいて、ポリマーは、SVSから得られる30モル%の繰り返し単位、VBPPから得られる65モル%の繰り返し単位、及び(4−ビニルベンジル)ホスホネートから得られる5モル%の繰り返し単位を含有していた。含水量は、重量ベースで18%であると計算された。
実施例31 (ホスホノーモノホスフェートエチル)−アクリルアミドとSVSとの共重合
Figure 2021505562
SVS(Aldrich、25%水溶液、4.73mmol)を丸底フラスコに入れ、フラスコのヘッドスペースを流動窒素で15分間パージした。フラスコを密封し、60℃まで加熱した。過硫酸アンモニウム(APS、Aldrich、141mg、全モノマーに対して5%)を1.0gの水に加えた。ホスホノ−モノホスフェート(エチル)−アクリルアミド(実施例9、4.95mmol)を5.25gの水に加えた。SVSを含むフラスコに、0.1mLのAPS溶液、及び1.0mL(ホスホノ−モノホスフェートエチル)−アクリルアミドを20分毎に3時間加えた。得られた溶液を撹拌し、60℃で更に4時間撹拌した。
粗反応溶液を500mLの水で希釈し、1N NaOHでpHを8.5に調整した。この溶液を、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で6日間透析した。凍結乾燥によって生成物から水を除去し、3.4gの黄褐色の固体を得た。H−NMR及びP−NMRを粗反応溶液上で行った。ポリマー組成物は、およそ62:36:2のSVS:(ホスホノ−モノホスフェートエチル)−アクリルアミド:(ホスホネートエチル)−アクリルアミドである。
実施例32 VPA及びAAのコポリマーの重合後修飾
Figure 2021505562
実施例18からのポリマーを、加熱器及び磁気撹拌器を装備した250mLの一口丸底フラスコ中で、150mLのMeOH中2.3グラムを還流させることによってエステル化した。還流の1時間後、短い経路蒸留ヘッドを加え、およそ3分の1のMeOHを除去した。次いで、このMeOHを、新鮮な無水MeOHで合計4回交換した。この手順により、アクリル系繰り返し単位のメチルエステルへの約47%の変換率をもたらした。次に、濃硫酸を2滴加え、溶液を48時間還流させた。この手順により、合計メチルエステル含有量をH NMRによって83%に増加させた。加えて、約9%のホスホネートエステルを、P NMRによってモノメチルホスホネートエステルに変換した。
磁気的に撹拌して乾燥させた50mlの一口丸底フラスコに、メチルエステル含有ポリマー(0.5、1.63mmol P)及び15mlのDMFを窒素下で入れた。得られた混合物を室温で一晩撹拌し、膨潤したポリマーのボールを得た。次に、トリブチルアミン(0.78mL、Pモノマーに対して2.0当量)を加え、室温で一晩撹拌し、均質な溶液を得た。CDI(330mg、Pモノマーに対して1.25当量)及び5mLのDMFを予混合し、溶液に加えた。得られた混合物を一晩撹拌し、均質な溶液を得た。
PO(479mg、3当量)、トリブチルアミン(1.26mL、3.5等量)、及び5mLのDMFを混合し、音波処理した後、ポリマー含有溶液に加えた。得られた溶液を室温で一晩撹拌した。得られた溶液から、真空下(9トール)でおよそ60℃の最終温度まで溶媒を取り除いた。
得られたものを50mlの1N NaOHに溶解し、pH13.15の溶液を得て、一晩撹拌した。得られた溶液から、流動乾燥窒素で水を取り除いて、白色ペーストを得た。ペーストを1時間かけて60mLのMeOHに溶解し、得られた固体を収集し、2.52グラムまで乾燥させた。粗固体を水に溶解し、pHを9に調整し、得られた溶液を前述の実施例に記載のように透析した。凍結乾燥後、0.67gの白色のふわふわした固体を収集した。P NMRは、初期ホスホネート基からのホスホノ−モノホスフェート基の約20%の収率を示した。
実施例33 (ホスホノーモノホスフェートエチル)−メタクリレートとSVSとの共重合
Figure 2021505562
実施例7からの5.7mmolのSVS及び3.79mmolの(ホスホノ−モノホスフェートエチル)−メタクリレートを使用して、実施例31の手順に従った。凍結乾燥後、1.5gの白色固体を86%のポリマー、14%の水/不活性物質で収集した。ポリマー組成物は、およそ63:35:2のSVS:(ホスホノ−モノホスフェートエチル)−メタクリレート:(ホスホネートエチル)−メタクリレート。
実施例34 (プロピルホスホノーモノホスフェートエチル)−メタクリレートとSVSとの共重合
Figure 2021505562
実施例8からの3.7mmolのSVS及び3.5mmolの(プロピルホスホノ−モノホスフェート)−メタクリレートを使用して、実施例31の手順に従った。凍結乾燥後、1.84gの白色固体を86%のポリマー、14%の水/不活性物質で収集した。ポリマー組成物は、およそ56:44のVSA:(プロピルホスホノ−モノホスフェート)−メタクリレート。
実施例35 VPAのホモポリマーの重合後修飾
Figure 2021505562
ポリ(ビニルホスホン酸)(500mg)を100mlの丸底フラスコに加え、続いてメタノール(20ml)を加えた。トリブチルアミン(1.1mL)を混合物に加え、30分間撹拌したところ、混合物は均質になった。得られた溶液を真空下で濃縮し、続いてピリジン(10mL)を加え、真空下で3回除去した。得られた固体を10mLのピリジンに溶解した。ジフェニルホスホリルクロリド(956μL、1当量)をゆっくり加えたが、沈殿物が反応混合物中に形成されたため、それを追加のピリジン(50ml)で希釈した。1時間のモノ(トリブチルアミン)ホスフェートを加え(3.3mL、3当量)、これを一晩撹拌した。
真空下で溶媒を除去し、得られた固体を水に溶解し、透析した。透析後、凍結乾燥により水を除去して、粘着性固体を得た。PNMR分析は、ホスホネートの87.7%が隣接するホスホネートを有する無水物であったが、12.3%はホスホノ−モノホスフェートであったことを示した。
実施例36 ポリメチル−ビニルホスホネートの重合後修飾
実施例32と同様の手順に従い、磁気的に撹拌して乾燥させた丸底フラスコに、ポリメチルビニルホスホネート、DMFを入れ、窒素でパージする。次に、トリブチルアミン(Pモノマーに対して2.0当量)を加え、室温で一晩撹拌し、均質な溶液を得る。CDI(Pモノマーに対して1.25当量)及びDMFを予混合し、溶液に加えて、これを一晩撹拌する。HPO(3当量)、トリブチルアミン(3.5等量)及びDMFを混合し、音波処理した後、ポリマー含有溶液に加える。得られた溶液を室温で一晩撹拌する。得られた溶液を真空下(9トール)でおよそ60℃の最終温度まで溶媒を取り除き、ホスホノ−ホスフェート含有ポリマーを得る。
実施例37 ランダムホスホネート含有ポリマーの重合後修飾
ホスホン酸化ポリエチレンは、Anbar(M.Anbar,G.A.St.John and A.C Scott,J Dent Res Vol 53,No 4,pp 867−878,1974)又はSchroeder and Sopchak(J,P.Schroeder and W.P.Sopchak,Journal of Polymer Science Volume 47 Issue 149 p 417(1960))の説明に従って合成される。簡潔に述べると、10gのポリエチレンを、ポリマーが溶解するまで、還流で200gのPClを含む乾燥フラスコ内で反応させる。次に、溶解した溶液を通して乾燥酸素を流す。得られた溶液を蒸留して全体体積を半分低減し、氷チップ上に注ぎ、ホスホン酸化ポリエチレンを生成する。このホスホン酸化ポリエチレンを、実施例36の手順に従って反応させる。
実施例38 ポリ(ビニルベンジルホスホン酸)含有ポリマーの重合後修飾
ポリ(ビニルベンジルホスホン酸)は、Anbarらによって記載されているようにメタノール中の熱を使用して(4−ビニルベンジル)ホスホン酸を重合することによって、又はモノマーに対する5〜10%負荷での過硫酸アンモニウムなどの開始剤を使用することによって合成される。得られたポリマーを、実施例36の手順に従って反応させる。
実施例39 側鎖上のホスホノホスフェートモノマー及びポリマーの合成
Figure 2021505562
ジメチル(2−ヒドロキシエチル)ホスホネートの代わりにジエチル(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ)エチルホスホネートなどの第一級ヒドロキシ基を有するエチレングリコールダイマー、トリマー、テトラマー、又はポリマーを用いて、実施例12の手順に従った。エチルホスホネート終端エチレングリコール単位は、Brunet et al.(Ernesto Brunet,Mari’a Jose’de la Mata,Hussein M.H.Alhendawi,Carlos Cerro,Marina Alonso,Olga Juanes,and Juan Carlos Rodri’guez−Ubis Chem.Mater.2005,17,1424−1433)の手順に従って合成され得る。簡潔に述べると、所望のエチレングリコールダイマー、トリマー、テトラマー、又はポリマー(1当量)を、CsCO(1.2当量)ジエチルビニルホスホン酸(12.5当量)の90℃混合物に2〜4日間かけて加える。精製は、水ジクロロメタンで抽出し、続いてフラッシュクロマトグラフィによって実施する。ホスホノ−ホスフェート含有モノマーの重合を、実施例22に記載のように実施して、ホモポリマーを得るか、又は実施例19、20、23、24、25、又は26に記載のようにコモノマーを用いてコポリマーを得た。
実施例40 重合後修飾による側鎖上のホスホノホスフェートポリマーの合成
Figure 2021505562
エトキシル化ポリビニルアルコールを実施例38に記載のように反応させて、ホスホネート終端エトキシル化ポリビニルアルコールポリマーを生成する。エトキシル化ポリビニルアルコールは、密封した反応器中のポリビニルアルコールを、85〜120℃の温度及び20〜200psigの圧力で、数時間にわたってゆっくりと加えられされたメトキシド又は水酸化ナトリウム及びエチレンオキシドなどの塩基触媒と反応させることによって合成される。このホスホネート終端ポリマーは、実施例36に記載のように反応して、ホスホノ−ホスフェート含有ポリマーを生成し、ここでホスホノ−ホスフェートが重合後修飾によってポリマーの側鎖に結合される。
実施例41 ジメチルビニルホスホネート(DMVP)とSVSとの共重合
Figure 2021505562
SVS(Aldrich、25%水溶液、11.0mmol)を丸底フラスコに入れ、フラスコのヘッドスペースを流動窒素で15分間パージした。フラスコを密封し、60℃まで15分間加熱した。過硫酸アンモニウム(APS、225mg)を1.0gの水に加えた。30分毎に、0.1mLのAPS溶液及び0.1mLのDMVP(Aldrich、1.5g、1.3mL、11.0mmol)を合計6時間かけて反応に加えた。得られた溶液を60℃で24時間撹拌した。
粗反応溶液を250mLの水で希釈し、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で4日間透析した。透析水の初期pHは5.8であったが、2.5に低下した。
凍結乾燥によって生成物から水を除去し、2.4gの白色固体を得た。
NMR分析に基づいて、ポリマーは、SVSから得られる56.9モル%の繰り返し単位、43.1モル%のDMVPを含有していた。含水量は、重量ベースで10.4%であると計算された。
実施例42 実施例23の共重合、(エチルホスホノ−モノホスフェート)−ビニルエーテル及び(AMPS)の共重合
Figure 2021505562
(エチルホスホノ−モノホスフェート)−ビニルエーテル(実施例11、4.7mmol)、水5mL、及びAMPS(4gの50%溶液、8.7mmol)を丸底フラスコに入れ、フラスコのヘッドスペースを流動窒素で15分間パージした。フラスコを密封し、60℃まで15分間加熱して、均質な溶液を得た。過硫酸アンモニウム(APS、306mg)を1.1gの水に溶解した。30分毎に、0.1mLのAPS溶液を、合計4時間にわたって反応物に加えた。得られたものを60℃で4時間撹拌した。
粗反応溶液を750mLの水で希釈し、逆浸透水に対して2K分子量のカットオフ透析膜で8日間透析した。
凍結乾燥によって生成物から水を除去し、2.12gの黄褐色の固体を得た。
NMR分析に基づいて、ポリマーは、AMPSから得られる90.8モル%の繰り返し単位、(エチルホスホノ−モノホスフェート)−ビニルエーテルから得られる9.2モル%の繰り返し単位を含有していた。固体は、77重量%の水を含有することが見出された。
実施例43 VPA SVSコポリマー上のPSPM
実施例17からのポリマーを、PolySciences Incから購入したポリビニルスルホネート及びポリビニルホスホネートのホモポリマーと共に、PSPMモデルに従って試験した。結果を、ピロホスフェート及びポリホスフェートと共に図1及び表3(以下)に示す。
Figure 2021505562
実施例44 VPA SVSコポリマー上のPSRM
実施例17からのポリマーを、PolySciences Incから購入したポリビニルスルホネート及びポリビニルホスホネートのホモポリマーと共に、PSRMモデルに従って試験した。結果を、ピロホスフェート、ポリホスフェート、及び水処理液と共に図2及び表4(以下)に示す。
Figure 2021505562
実施例45 VPP SVSコポリマー上のPSPM
実施例20からのポリマーを、PSPMモデルに従って試験した。結果を、ピロホスフェート及びポリホスフェートと共に図3及び表5(以下)に示す。
Figure 2021505562
実施例46 VPP SVSコポリマー上のPSRM
実施例20からのポリマーを、PSRMモデルに従って試験した。結果を、ピロホスフェート、ポリホスフェート、及び水処理液と共に図4及び表6(以下)に示す。
Figure 2021505562
実施例47 混合コポリマー上のPSRM及びPSPM
下記の前述の実施例からのポリマーを、PSRM及びPSPMモデルに従って試験した。結果を、ピロホスフェート、ポリホスフェート、及び水処理液と共に表7(以下)に示す。
Figure 2021505562
Figure 2021505562
Figure 2021505562
実施例48〜52の一般的な化学スキーム−ビニルホスホノ−モノホスフェート(VPP)又は[ビニルホスホン酸リン酸無水物]、及び水の除去による他の伸長ビニルホスホノ−ホスフェート(eVPP)の合成
以下の化学スキームは、所望の一次生成物、VPP、及びVPPPを形成するために使用される実施例48〜52の一般的な反応スキームを示し、いくつかの他の生成物は、以下の実験の全てではないが一部で観察された。最終的に特定された生成物分布の個々の例を参照されたい。
Figure 2021505562
実施例48−3当量のPAを有する掃気ガスを使用した蒸発による、VPP及びeVPPの合成
磁気撹拌器及び中央ネックに短経路蒸留ヘッドを備えた50mLの三口丸底フラスコに、1グラムのビニルホスホン酸(VPA)及び2.72g(3当量)の99%リン酸(PA)を入れた。1つの側頸部を停止させ、窒素を他の側頸部を通して蒸留ヘッドから掃出させた。フラスコを105℃に加熱した油浴に入れ、その温度で27時間撹拌した。試料(約1滴)を所望の時点で除去し、1mLのD7−DMFに0.25mLのトリブチルアミンを溶解し、P−NMRによって評価した。最終生成物は、VPA、ビニル−ホスホノ−モノホスフェート(VPP)、ビニル−ホスホノ−ピロホスフェート(VPPP)、ビニル−ホスホン酸無水物(VPPV)、リン酸(PA)、ピロリン酸(PP)、及び三リン酸(PPP)を含有することが見出された。種の同定は、LCMSを使用して確認した。加えて、反応中に重合が生じなかったと判定された最終的な27時間の試料でH−NMRを行った。
27時間の溶融物中の全てのビニル含有種の最終モル分布は、43% VPA、38% VPP、9% VPPP、及び10% VPPVであることが見出された。
実施例49−真空及び3当量のPAを有する掃気ガスを使用した蒸発による、VPP及びeVPPの合成
以下の変更を行い、実施例48の手順に従った。短経路蒸留ヘッドを、大気に通気するのではなく、Buchi真空ポンプに接続した。丸底フラスコを、1つの側頸部から一定の窒素流を有する実験の持続時間にわたって50〜60トールに排気した。32及び48時間でのサンプリングは、31〜32% VPA、40〜41% VPP、14% VPPP、及び13〜14% VPPVのビニル含有分布での時点間の変化をほとんど示さなかった。VPPPVに対応するシグナルもまた、P−NMRで観察されたが、他のピークと重複するため定量化しなかった。
実施例50−真空及び6当量のPAを有する掃気ガスを使用した蒸発による、VPP及びeVPPの合成
VPAに対して6等量のPAを用いて、実施例49の手順に従った。72時間におけるビニル含有種の分布は、31% VPA、40% VPP、21% VPPP、及び8% VPPVであった。VPPPVに対応するシグナルもまた、P−NMRで観察されたが、他のピークと重複するため定量化しなかった。
実施例51−無水亜リン酸(P、五酸化リン)との反応による、VPP及びeVPPの合成
磁気的に撹拌した20mLのシンチレーションバイアルに、2.24gの水中85重量%のリン酸、1.01gの90%ビニルホスホン酸、及び2.5五酸化リンを(その順序で)加えた。6としてのビニルホスホネートと全ホスフェートのモル比(ホスフェートのモル数とPOのモル数の2倍の総和として計算)。バイアルを175℃に加熱し、実施例Xの手順を使用して1時間でP NMRのために試料採取した。特定されたビニル含有種のモル組成は、34% VPA、41% VPP、19% VPPP、及び5% VPPVであった。更なるビニルピークは、P NMRで可視であり、VPPPP及びVPPPPPを含むより大きい種に対応する可能性が高い。LCMSにより、全て陰イオンモードで可視である、VPP、VPPP、VPPPP、VPPPPP、VPPPPPP、及びVPPPPPPPのピークを有するより高次のホスホノ−ホスフェートの存在が確認された。
実施例52−実施例49のスケールアップ及び精製
材料全体を5倍増加させて、実施例49の手順に従った。32時間での試料採取は、35% VPA、37% VPP、12% VPPP、12% VPPV、及び4% VPPPVのビニル含有種の分布を示した。
冷却後、粗反応混合物のバルクを40mlの無水DMFに溶解した。溶解した溶液を、100mLの無水DMF中の28.1gのトリエチルアミン(出発酸の合計に基づいて1.5当量)の溶液に、5分間かけて迅速に撹拌しながら加えた。得られた溶液上でP−NMRを行ったところ、粗反応混合物からの分布と一致した。
得られた溶液から、70℃及び25トールでDMFを取り除き、38.4gの粘性の黄色油を得た。これを100mLのHOに溶解し、2.5のpHを有する溶液を得て、これを110gの10% NaOHで11.0に調整し、透明な溶液を得た。P−NMRは、得られた溶液上で実行され、これは、前の試料と一貫した生成物分布を示したが、VPPVのおよそ20%の低減を伴っていた。室温で1時間放置した後、白色沈殿物が形成され、これを濾過によって収集し、周囲空気中で一晩4.65gまで乾燥させた。この沈殿物は、約90%ピロホスフェートであり、4%のホスフェート及び各々3%未満のVPA、VPP、及びPPPを伴うことが見出された。濾液から溶媒を取り除き、49.4gの透明な粘性油を得た。得られた油のpHをリトマスによって確認し、約7であることが見出された。これを追加の水でおよそ125gにし、7.5のpHを得て、これを15.2gの1N NaOHで11.0に調整した。このpH 11溶液に、室温で30分間急速撹拌しながら250mlのMeOHを加えた。白色沈殿物が、1時間のうちに形成された。この沈殿物を濾過によって収集し、50mLの2:3 H2O:MeOHで1回すすぎ、周囲空気下で一晩17.9gまで乾燥させた。この沈殿物は、およそ43%ピロリン酸、39%リン酸、10% PPP、3% VPP、及び4% VPPPであることが見出された。MeOH水溶液を、室温で一晩流動窒素下で濃縮して、31.1gの粘性油を得た。油は、およそ33% VPA、33% VPP、8% VPPP、11% PA、10% VPPV、及び3% VPPPVのモルリン分布を有することが見出された。油は、残留水及びDMFを有することも見出された。
油に、室温で1時間かけて300mlのMeOHを加え、濾過によって収集した白色沈殿物を得て、これを濾過によって収集し、1×50mLのMeOHをすすぎ、室温で2時間真空乾燥して、4.3gの白色粉末を得た。粉末は、49% VPP、26% PA、6% PP、15% VPPP、及び3% VPAのモルリン分布を有することが見出された。MeOH溶液を、流動窒素下、室温で濃縮し、7.0gの白色ペーストを得た。白色ペーストの組成は、およそ73% VPA、23% VPP、及び5% VPPPVであることが見出された。
実施例53−VPPP含有ポリマーを生成するための重合、PSPM及びPSRMを用いた試験
49% VPP、26% PA、6% PP、15% VPPP、及び3% VPAを含有する実施例52の白色粉末を、白色VPPP含有粉末(8.6mmolビニル基)及びSVS(8.6mmolビニル基)の50/50混合物を使用して、実施例19及び20の手順に従って重合した。透析及び凍結乾燥後、3.6gのポリマーを収集し、SVSに基づいて57%モノマー、及びホスホネートに基づいて43%を含有することが見出された。ホスホネート分布は、VPAから3%、VPPから78%、及びVPPPから18%であった。ポリマーは、22%の不純物/水と共に、重量ベースで78%活性であった。このポリマーを、それぞれ5.5及び11.0のΔLの値を有するPSPM及びPSRMモデルで試験した。PSPMの対照は、水28.0、HAPブランク0.0、ピロホスフェート18.0、ポリホスフェート4.0であり、PSRMの対照は、水24.2、HAPブランク0.0、ピロホスフェート12.4、ポリホスフェート8.6であった。
実施例54〜57−口腔ケア配合におけるスケールアップ及び試験
以下の実施例は、ホスホノ−ホスフェートを含有するポリマーの、歯摩剤への配合、及びその後の着色汚れモデルの試験を示す。
実施例54−実施例19及び20の20〜30gスケールアップ
実施例19及び20の手順を、96.7mmolのVPP及び96.7mmolのVSAを使用して、他の試薬及び溶媒の等価増加と共にスケールアップした。透析及び凍結乾燥後、27.1gのポリマーを収集し、SVSに基づいて59%モノマー、VPPに基づいて40%、及びVPAに基づいて2%を含有することが見出された。ポリマーは、17%の不純物/水と共に、重量ベースで83%活性であった。
このポリマーを、それぞれ6.8及び13.0のΔLの値を有するPSPM及びPSRMモデルで試験した。PSPMの対照は、水28.0、HAPブランク0.0、ピロホスフェート14.3、ポリホスフェート3.1であり、PSRMの対照は、水25.0、HAPブランク0.0、ピロホスフェート13.5、ポリホスフェート10.7であった。
実施例55−実施例16及び17の20〜30gスケールアップ
実施例16及び17の手順を、148mmolのVPP及び122mmolのVSAを使用して、他の試薬及び溶媒の等価な増加と共にスケールアップした。透析及び凍結乾燥後、26.8gのポリマーを収集し、SVSに基づいて54%のモノマー、VPAに基づいて46%を含有することが見出された。ポリマーは、10%の不純物/水と共に、重量ベースで90%活性であった。このポリマーを、それぞれ10.2及び20.2のΔLの値を有するPSPM及びPSRMモデルで試験した。PSPMの対照は、水28.0、HAPブランク0.0、ピロホスフェート14.3、ポリホスフェート3.1であり、PSRMの対照は、水25.0、HAPブランク0.0、ピロホスフェート13.5、ポリホスフェート10.7であった。
実施例56−実施例19及び20の100gスケールアップ
実施例19及び20の手順を、354.5mmolのVPP及び433mmolのVSAを使用して、他の試薬及び溶媒の等価な増加と共にスケールアップした。中和後、バルク溶液を水で9819gにして、1N NaOHでpHを10に調整した。Tami Industries 1000 MWCOカラム(E190613N001)を使用して、タンジェンシャルフロー濾過(Tangential Flow Filtration(TFF))によって、得られた溶液中で低MW不純物を減少させた。溶液をリザーバからカラムを通して汲み上げ、リザーバに戻した。カラムの細孔を通過した流出液を、秤上のフラスコ内に収集した。第1の実施では、3.5kgの流出液が収集されるまで溶液を汲み上げた。次いで、リザーバ中の残留溶液を最大約9kgまで戻した。4.8kgを除去してこの手順を繰り返し、リザーバを11kgにした。最終の実施では、6kgの流出液を除去した。最終TFFの後、濃縮溶液を0.22μmフィルタ(Stericup 500ml Filter Unit,Aldrich)を通して濾過した。
室温で5日間、流動窒素下で蒸発させることによって濾過した後、最終TFF濃縮物から水を除去し、173gの黄褐色ペーストを得た。これを真空下、1トール未満で48時間更に乾燥させ、137.2gの淡黄褐色固体を得た。固体は、SVSに基づく66%モノマー、VPPに基づく34%を含有することが見出された。ポリマーは、20%の不純物/水と共に、重量ベースで80%活性であった。このポリマーを、それぞれ6.5及び11.5のΔLの値を有するPSPM及びPSRMモデルで試験した。PSPMの対照は、水28.0、HAPブランク0.0、ピロホスフェート18.0、ポリホスフェート4.0であり、PSRMの対照は、水24.2、HAPブランク0.0、ピロホスフェート12.4、ポリホスフェート8.6であった。
実施例57−実施例54〜56の配合及び試験
この実施例における全ての百分率は、特に指定のない限り、重量による。
組成物は、以下のように調製した。
組成物1は、市販のCrest Cavity Protection Regular Flavorであった。
組成物2は、市販のCrest ProHealth Clean Mint Smooth Formulaであった。
組成物3は、ポリマー実施例54を加えた組成物2と同じである。
組成物2を、Speedmixジャーに量り入れた。次いで、ポリマー実施例54をSpeedmixジャーに加え、均質になるまでSpeedmixerで混合した。次いで、pHをpH電極で測定し、2N HClをSpeedmixerに加えて混合し、pHを目標の約6に調整した。
組成物4は、ポリマー実施例55を加えた組成物2と同じである。組成物2を、Speedmixジャーに量り入れた。次いで、ポリマー実施例55をSpeedmixジャーに加え、均質になるまでSpeedmixerで混合した。次いで、pHをpH電極で測定し、50% NaOH溶液をSpeedmixerに加えて混合し、pHを目標の約6に調整した。
組成物5は、ソルビトールのおよそ半分をミキサーに加え、タンク上の加熱/冷却ジャケットを用いて65℃に加熱し、真空を引くことによって、パイロットスケールのミキサーで調製した。別の容器では、1重量パーセントのシリカと、全てのヒドロキシエチルセルロースとを均質になるまでドライブレンドし、次いで混合容器内に真空引きした。アンカー撹拌器及び高剪断ローター/ステーター装置の両方を使用して混合物を混合及び均質化して、ヒドロキシエチルセルロースの均質性及び水和を確実にした。均質になると、ローター/ステーター装置をオフにした。残留ソルビトール、約25%の水及び全ての青色染料を加え、アンカー撹拌器を使用して均質になるまで混合した。別の容器では、1重量パーセントのシリカ、全てのサッカリン、及び全てのカラギーナンをドライブレンドし、高剪断ローター/ステーター装置及びアンカー撹拌器を稼働させて、真空下で主要混合容器内に引き込んだ。均質になると、ローター/ステーターをオフにした。次に、残留シリカを真空下で主要混合容器に引き込み、26インチ以上の水銀の真空下で、アンカー撹拌器を使用して混合した。次いで、バッチを加熱/冷却ジャケットを介しておよそ49℃まで冷却しながら、アンカー撹拌器と混合し続けた。バッチが49℃に達すると、アンカー撹拌器を停止させ、ミキサーを開け、風味及びラウリル硫酸ナトリウム溶液をバッチの上部に加えた。次いで、真空を24インチの水銀に引っ張り、バッチが均一に混合されるまで、アンカー撹拌機及びローター/ステーターをオンにした。混合後、ローター/ステーターをオフにし、真空を27インチの水銀に引っ張って空気を除去した。別個の容器内で、水の残りの75%を65Cに加熱した。グルコン酸ナトリウムを水に加え、溶解するまで混合した。次いで、フッ化第一スズをグルコネート溶液に加え、溶解するまで混合した。次いで、塩化第一スズをグルコネート溶液に加え、溶解するまで混合した。この溶液を調製した後、真空下で主要混合容器に加え、均質になるまでアンカー撹拌器を使用して混合した。混合後、水酸化ナトリウムを主要混合容器に真空下で加え、アンカー撹拌器及びローター/ステーターを使用して均質に混合した。均質になると、ローター/ステーターをオフにし、加熱/冷却ジャケットを30℃に下げ、真空を26インチの水銀に引っ張った。バッチを、温度が35℃に達するまで真空下で混合し、それを主要混合容器から汲み出した。
組成物6は、ポリマー実施例56を加えた組成物5と同じである。組成物5を、Speedmixジャーに量り入れた。次いで、ポリマー実施例56をSpeedmixジャーに加え、均質になるまでSpeedmixerで混合した。次いで、pHをpH電極で測定し、約6.のpHを達成するために更なる調整は必要なかった。
組成物7は、ポリマー実施例56を加えた組成物2と同じである。組成物2を、Speedmixジャーに量り入れた。次いで、ポリマー実施例56をSpeedmixジャーに加え、均質になるまでSpeedmixerで混合した。次いで、pHをpH電極で測定し、50% NaOH溶液をSpeedmixerに加えて混合し、pHを目標の約6に調整した。
Figure 2021505562
実施例58−リン酸及び尿素との反応による、VPP及びeVPPの合成
本実施例の全ての試料について、以下の一般的な手順に従った。
シンチレーションバイアルに、以下の表1に記載されるように、VPA、85%又は99%のHPO、尿素、及び水を入れた。得られた溶液を、均質な溶液が得られるまで、60℃でおよそ15分間撹拌した。得られた溶液を、800mLのビーカーに高温で移した。これを、循環空気流及び外部換気を備えたプログラム可能な実験室オーブンに入れた。全ての試料を以下のように加熱した。
1)室温から110℃まで15分間かけて上昇させる。
2)110℃で3時間保持する。
3)110℃から150℃まで15分間かけて上昇させる。
4)以下の表に記載されるように、150℃で15分間又は60分間保持する。
5)室温まで冷却し、一晩放置する。
P−NMRを粗反応生成物(5滴の30% NaODを含む、1mLのDO中約50mgの反応生成物)上で行った。生成物は、VPA、ビニル−ホスホノ−ホスフェート(VPPA)、ビニルホスホノ−ピロホスフェート(VPPPA)、ビニルホスホン酸無水物(SM−An)、リン酸(PA)、ピロリン酸及び三リン酸(PPP)を含有することが見出された。P−NMRからの面積を以下の表3に示す。H NMR’もまた、反応生成物上で実行して、加熱中のVPAの重合を確認した。ポリマーは観察されなかった。
Figure 2021505562
実施例59−ポリマーとリン酸及び尿素との反応による、VPP及びeVPPを含有するポリマーの合成
Figure 2021505562
ジメチルビニルホスホネート、DMVP(10.6g、77.9mmol)及びビニルスルホン酸ナトリウム溶液、SVS(25%水溶液、40.5g、77.9mmol)を100mLの丸底フラスコに入れた。フラスコを窒素で15分間パージし、60℃に加熱した。過硫酸アンモニウムAPS、888mg、全モノマーの2.55%を4gの水に入れ、窒素で5分間脱気した。DMVP及びSVSを含有する溶液にAPS溶液を加え、得られた溶液を窒素下、60℃で24時間撹拌した。
H−NMR及び31P−NMRを粗反応溶液上で行い、約99%のモノマー転化率を、ホスホネート基から約37ppmの幅広いPポリマーピークで観察した。
粗反応溶液を、207gの水で、水中10重量%のポリマーに希釈した。これに、300mLのアセトンを室温で連続撹拌しながら30分間かけて加えて、濁った溶液を得た。分液漏斗中で30分間静置した後、より低い粘性のポリマー豊富なシロップ及び上部流体有機層が形成された。下層を収集し、溶媒を窒素下で一晩蒸発させ、続いて真空で2時間、1トールで蒸発させて、15.3グラムの粘着性の黄褐色固体を得た。H−NMR及び31P−NMRを、この固体上で、内部標準のトリメチルホスフェートで実行して、50:50比のDMVP:SVS由来の基を示した。
粘着性黄褐色固体を30グラムの水及び45グラムの濃HCl(約37%)と混合して、乳白色の溶液を得た。この混合物を48時間還流させて、わずかに褐色の透明溶液を得た。水及びHClを、60℃及び20トールで動作する回転蒸発器上の溶液から約20mLの総体積まで取り除いた。追加の100mLの水をこの残留分画に加え、ストリッピングを繰り返し、次いで200mLの水を加え、試料を凍結し、凍結乾燥させて、11.8gの黄褐色固体を得た。31P−NMRは、約37〜約32ppmのポリマービークのシフトを示し、一方H−NMRは、メチルエステルピークに対応する約3.8ppmでのピークポリマーピークの消失を示した。内部標準による分析は、およそ47〜53の硫黄含有基に対するP含有基の比、及び82.4%の重量活性を示した。
100mLのビーカーに、4.85グラムの85%リン酸及び2.77グラムの尿素を入れ、60℃まで15分間加熱した後、室温に冷却して透明な溶液を得た。47:53のP:Sの算出比を有する5グラムの82.4%活性ポリマーを15mLの水に溶解し、これを100mLのビーカー中のリン酸/尿素混合物に加えた。これを、循環空気流及び外部換気を備えたプログラム可能な実験室オーブンに入れ、以下のように加熱した。
1)室温から110℃まで15分間かけて上昇させる。
2)110℃で3時間保持する。
3)110℃から150℃まで15分間かけて上昇させる。
4)150℃で15分間保持する。
5)室温まで冷却し、一晩放置する。
11.4グラムのスポンジ状白色生成物を収集した。P−NMRを粗反応生成物(2滴の30% NaODを含む、1mLのDO中約150mgの反応生成物)上で行った。P−NMRは、ポリマー鎖上のホスホノ−ホスフェート基に対応する約−5ppmでの幅広いピークを示した。このピークの一部はピロホスフェートと重なり、定量化が困難である。
粗製物のバルク11.4gを50mLの水に溶解し、撹拌下で丸底フラスコに入れ、50mLのメタノールを30分間かけて加えて、濁った溶液を得た。分液漏斗に30分間静置すると、得られたより低い粘性のポリマー豊富なシロップ層が得られ、これを分離した(9.5g)。ポリマー対ホスフェート対ピロホスフェートの比は、P−NMRによって評価され、161:43:113であることが見出された。
50mLの水及び50mLのメタノールを使用して、上記の9.5グラムのシロップ上で沈殿を繰り返した。2.13gのシロップが得られた。P−NMRは、ポリマー対ホスフェート対ピロの比が、158:3:18であることを示した。
得られたシロップを、250mLの逆浸透(RO)水にし、Thermo Scientific Slide−A−Lyzer透析フラスコ(2K MWCO)中の透析によってRO水(飽和重炭酸ナトリウム溶液でpHを8.5に調整した)に対して6日間更に精製した。凍結及び凍結乾燥によって水を除去し、1.59グラムの白色固体を得た。H−NMR及び31P−NMRは、収集されたポリマーが、約41%のPモノマー及び59%のSモノマーであることを示した。P含有基の分析は、少量のホスホノ−ピロホスフェート基と共に、約22%のホスホノ−ホスフェート基を示した。残留P含有基は、ホスホネート及びホスホネート無水物構造の混合物であると思われた。ポリマーは、87.4重量%活性として計算された。
実施例60 精製によるビニルホスホノ−モノホスフェート(VPP)及びビニルスルホン酸ナトリウム(SVS)の共重合
Figure 2021505562
VPP(実施例1に記載のようにより大きなスケールで作製される、64.6gの活性物質、254mmol)及びSVS(25%水溶液、161.6g、310mmol)、55:45のSVS対VPPの初期モル比を500mLの丸底フラスコに入れ、撹拌し、フラスコのヘッドスペースを流動窒素で60分間パージした。9.5mLの1M NaOHを加えることにより、溶液のpHを8.5から10.5に上昇させた。フラスコを流動窒素でパージし、60℃まで加熱し、この時点で過硫酸アンモニウム(APS、Aldrich、水中7.73mLの10%溶液、mg、全モノマーに対して0.6%)を加えた。得られた溶液を60℃で24時間撹拌した。
H−NMR及び31P−NMRを粗反応溶液上で行った。78%の全モノマー変換率は、ホスホネート基から約18〜23ppm及びホスホネート基に結合したホスフェートから−6〜−10の幅広いPポリマーピークで観察された。
メタノールアリコートを15分間かけて10%活性ポリマーを含有する撹拌溶液に加えることにより、ポリマーを精製した。濁った溶液を得て、分液漏斗に移し、更に15分間静置して、より低い粘性のポリマー豊富なシロップ及び上部流体層に完全に分離させた。下部ポリマー層を収集し、上部層を、メタノールの追加のアリコートを使用して再沈殿させ、同じ手順を繰り返した。次いで、全ての試料を真空下で2日間乾燥させ、最終質量を以下の表4に記録した。
Figure 2021505562
加えて、およそ50mlの残留上部HO/MeOH層を室温で一晩N流下で濃縮し、続いて真空下、室温で24時間乾燥させて、2.5gの白色固体を得た。サイズ排除クロマトグラフィ/ゲル浸透クロマトグラフィ(SEC又はGPC、シリーズ中3カラム、Polymer Standards Service MCX1000A、MCX500A、及びMCX100A(全て5μm)、ガードカラム、0.2M NaNO移動相1mL/分)は、最も高い分子量を有する分画1及び最低分子量を有する分画6の分子量の連続的な減少を示した。ポリマー分析から得られるGPCトレースプロットは、図5として提供される。より高い分子量は、より短い保持時間によって表され、一方、より低い分子量は、より高い保持時間を有する。22.5分後の大きなピークは、残留モノマーなどの非ポリマー種、及びビニル硫酸ナトリウム溶液中の塩不純物を表す。
実施例61 実施例60からのビニルホスホノ−モノホスフェート(VPP)及びビニルスルホン酸ナトリウム(SVS)試料の追加精製
分画1〜3及び4〜6で更なる精製を行った。水中の15重量%のポリマー溶液を、組み合わせた分画1〜3から生成した。これに、水分画全体の質量の20%と等しいメタノールの質量を撹拌しながら60分間加えた。撹拌を停止し、溶液相を分離して、粘性のポリマー豊富な下部層を得た。この分画を収集し、乾燥させた。この手順を、毎回加えた溶液の開始質量に対して、追加の10%メタノールで更に3回繰り返した。全ての試料を、以下の表に記録された元の質量パーセントでオーブン乾燥した。分画1〜4は、77〜81%活性であり、0.5%未満のホスフェート、0.2%未満のビニルホスフェート、又はビニルホスホノ−ホスフェートを有し、検出可能なビニルスルホネートは存在しなかった。
Figure 2021505562
20重量パーセントのポリマー溶液を、組み合わせた分画4〜6から生成した。この溶液に、溶液の総質量の60%と等しい質量のメタノールを加えた。得られた沈殿物を真空下で2日間乾燥させた。回収されたポリマー質量は、初期の93%であり、0.5%未満のホスフェート、0.1%未満のビニルスルホネート、及び0.1%未満のビニルホスホネート又はビニルホスホネートと共に、83%活性であった。
得られた再分画材料のGPCトレースプロットを図6に示す。
RI検出に加えて、光散乱も実施した。低保持時間試料は良好な光散乱をもたらすが、より高い保持試料はそうではない。この現象は、独立して、GPCに取り付けられていない独立型光散乱装置で確認された。低分子量分画は、分子量への光散乱信号の作用後に高分子量及び高い誤差として現れるクラスターに現れる。このため、あまり保持されなかった材料の分子量のみが与えられる。より保持された分画では、計算されたMn及びMwを増加させる傾向は、50%に近づく不確実性で継続する。60,000ダルトンのMwを有するポリマーを、再分画1−3−1について検出した。これは、ビニルスルホネート及びビニルホスホノ−ホスフェート由来単位の組成に応じて、250〜450個の繰り返し単位のポリマーに相当する。
Figure 2021505562
実施例62 異なる分析技法による末端基の同定
実施例61の再分画試料のHNMRは、6.5〜5ppmのオレフィン領域における幅広いポリマーピークを示した。4.0〜1.0ppmのこれらのピーク対非オレフィンピークの積分を使用して、オレフィンがどれだけ存在するかを概算することができる。オレフィン領域を、ビニル様基を仮定して2で除算したが、非オレフィンは、CH−CHX(XはP又はSである)を仮定して3で除算した。内部標準HNMR及びPNMRの組み合わせで計算した各分画の組成物から、全てのオレフィンが末端基に対応すると仮定してMnを概算することができる。次いで、Mnの光散乱(LS)結果を用いるこの計算の接近度を使用して、各ポリマーが終端位置にオレフィンを有するかどうかを測定することができる。比較結果を表7に示す。
Figure 2021505562
あまり保持されず、恐らくより高い分子量種の場合、一致は非常に近く、再分画1−3−1及び2については、5.6対6.8及び3.5対2.7の値を有する。光散乱とは異なり、オレフィン系分析はまた、Mnがカラム上により保持されるより高い分画で減少することを示す。オレフィンのCH性質を確認するために、編集したヘテロ核単一量子干渉(Edited−HSQC)NMRを試料再分画4−6−1上で行った。オレフィンピークは、CH特性であることが確認された。
試料再分画1−3−4はまた、イオンクロマトグラフィー(Dionex IonPac AS16−4μm)、続いて高分解能質量分析法によって分析した。多くの信号を有する大きな広いポリマーピークに加えて、急激な早期溶出(より少ない総電荷)ピークも見られた。この初期溶出ピークは、プロトン形態、ナトリウム形態、プロトン及びナトリウムの混合物、並びに水の損失又は増加及びリン酸基の損失に対応する質量を含む、ホスホノ−ホスフェートの「トリマー」に対する複数の質量を含有し、一致させることが見出された。この種は、オレフィン又は環式の不飽和を含有することが見出された。Edited−HSQC結果を考慮して、完全プロトン性形態の構造が示される。
Figure 2021505562
オレフィン以外の他の末端基も存在すると想定される。再分画試料の合成において、重合性モノマーの総モルに対して0.6%の開始剤を使用した。典型的な開始剤の効率は100%未満であるが、計算のためにこの値が使用されるであろう。各過硫酸塩を分割して、2つのラジカルを形成することができる。各ラジカルがポリマー鎖を開始し、反応が進行して完了すると、各鎖は83個の繰り返し単位を有すると予想される。初期複合分画1−3は平均19個の繰り返し単位を有し、一方、4−6はHNMRデータから6個の繰り返し単位を有していた。したがって、全ての開始剤ラジカルがポリマーを完全に開始したと仮定すると、最低4つの連鎖移動又はバックバイティング及びβ切断の組み合わせがその鎖上で行われ、各移動はオレフィンを生成する可能性が高い。わずか40%の開始効率を仮定すると、208個の繰り返し単位が予想され、11連鎖移動又はバックバイティング及びβ切断の組み合わせが各開始剤ラジカルから生じたことを意味する。
本明細書に記載された実施例及び実施形態は、単に例示することが目的であり、それを考慮した様々な修正又は変更が、その趣旨及び範囲から逸脱することなく当業者に示唆されるであろうことが理解される。
本明細書にて開示された寸法及び値は、列挙された正確な数値に厳密に限定されるものとして理解されるべきではない。その代わりに、特に指示がない限り、このような寸法はそれぞれ、列挙された値とその値を囲む機能的に同等な範囲との両方を意味することが意図されている。例えば、「40mm」と開示された寸法は、「約40mm」を意味することが意図される。
相互参照される又は関連する全ての特許又は特許出願、及び本願が優先権又はその利益を主張する任意の特許出願又は特許を含む、本願に引用される全ての文書は、除外又は限定することを明言しない限りにおいて、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。いかなる文献の引用も、本明細書中で開示又は特許請求される任意の発明に対する先行技術であるとは見なされず、あるいはそれを単独で又は他の任意の参考文献(単数又は複数)と組み合わせたときに、そのような発明全てを教示、示唆又は開示するとは見なされない。更に、本文書における用語の任意の意味又は定義が、参照することによって組み込まれた文書内の同じ用語の意味又は定義と矛盾する場合、本文書におけるその用語に与えられた意味又は定義が適用されるものとする。
本発明の特定の実施形態を例示及び説明してきたが、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく他の様々な変更及び修正を行うことができる点は当業者には明白であろう。したがって、本発明の範囲内にあるそのような全ての変更及び修正を添付の特許請求の範囲に網羅することが意図されている。

Claims (30)

  1. ホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を含むポリマーを含む口腔ケア組成物であって、前記ホスホノ−ホスフェート基が、式1:
    Figure 2021505562
    [式中、
    εは、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖の炭素原子への結合部位であり、
    は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式2:
    Figure 2021505562
    〈式中、
    θは、式1への結合部位であり、
    及びRは、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される〉
    の構造からなる群から選択され、
    は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式3:
    Figure 2021505562
    〈式中、
    θは、式1への結合部位であり、
    及びRは、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
    nは、1〜22の整数である〉
    の構造からなる群から選択され、
    は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される]
    の構造を有し、
    前記アニオン性基が、前記ポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつホスフェート、ホスホネート、ホスフィネート、サルフェート、スルホネート、スルフィナート、メルカプト、カルボキシレート、ヒドロキシアミノ、アミンオキシド及びヒドロキサメートからなる化学基から選択される、口腔ケア組成物。
  2. 前記ポリマーがモノマーを使用して生成され、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが前記ホスホノ−ホスフェート基を含む、請求項1に記載の口腔ケア組成物。
  3. 前記ポリマーがモノマーを使用して生成され、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが前記アニオン性基を含む、請求項1に記載の口腔ケア組成物。
  4. 前記ポリマーがモノマーを使用して生成され、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが前記アニオン性基を含み、前記ポリマーを生成するために使用される少なくとも1つのモノマーが前記ホスホノ−ホスフェート基を含む、請求項1に記載の口腔ケア組成物。
  5. 前記ホスホノ−ホスフェート基が、重合後修飾の間に加えられる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
  6. 前記少なくとも1つのモノマーが、式4:
    Figure 2021505562
    [式中、
    βは、式1のホスホノ−ホスフェート基への結合部位であり、
    は、−H及び−CHからなる群から選択され、
    は、化学結合、アレーンジイル及び式5:
    Figure 2021505562
    〈式中、
    αは、式4のアルケニル基への結合部位であり、
    βは、式1のホスホノ−ホスフェート基への結合部位であり、
    Xは、式6〜12:
    Figure 2021505562
    (式中、Rは、−H、アルキル(C1〜8)、ホスホノアルキル及びホスホノ(ホスフェート)アルキルからなる群から選択される)
    の構造からなる群から選択され、
    Yは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉
    の構造からなる群から選択される]
    の構造を有する、請求項2に記載の口腔ケア組成物。
  7. が共有結合である、請求項6に記載の口腔ケア組成物。
  8. が式5の構造を有する、請求項6に記載の口腔ケア組成物。
  9. Xの構造が、式6、式9及び式11からなる群から選択される、請求項8に記載の口腔ケア組成物。
  10. 前記アニオン性基が、ホスフェート、ホスホネート、サルフェート、スルホネート及びカルボキシレートからなる群から選択される、請求項1〜9のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
  11. 前記少なくとも1つのモノマーが、式13:
    Figure 2021505562
    [式中、R10はH又はCHからなる群から選択され、Lはアニオン性基への連結基である]
    で表される構造のアルケニル基を更に含む、請求項3に記載の口腔ケア組成物。
  12. 前記少なくとも1つのモノマーが、式14:
    Figure 2021505562
    [式中、
    11は、H及びアルキルからなる群から選択され、
    δは、アニオン性基への結合部位であり、
    は、化学結合、アレーンジイル及び式15:
    Figure 2021505562
    〈式中、
    γは、アルケニル基への結合部位であり、
    δは、アニオン性基への結合部位であり、
    Wは、式16〜22:
    Figure 2021505562
    (式中、R12は、−H及びアルキル(C1〜8)からなる群から選択される)
    の構造から選択され、
    Vは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル又はアルケンジイルからなる群から選択される〉
    の構造からなる群から選択される]
    で表される構造を有する、請求項3に記載の口腔ケア組成物。
  13. 前記少なくとも1つのモノマーが、ビニルホスホネート、ビニルスルホネート、アクリレート、メチルビニルホスホネート、メチルビニルスルホネート、メタクリレート、スチレンホスホネート、スチレンスルホネート、ビニルベンゼンホスホネート、ビニルベンゼンスルホネート、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホネート(AMPS)及び2−スルホプロピルアクリレート(SPA)からなる群から選択される、請求項3に記載の口腔ケア組成物。
  14. 前記ホスホノ−ホスフェート基を含む前記少なくとも1つのモノマーと、前記アニオン性基を含む前記少なくとも1つのモノマーとの比が、それぞれ、99.9:0.1〜0.1:99.9、好ましくは99:1〜1:99、より好ましくは90:10〜10:90、より好ましくは70:30〜30:70の範囲である、請求項4に記載の口腔ケア組成物。
  15. ホスホノ−ホスフェート基及びアニオン性基を含むポリマーを含む口腔ケア組成物であって、前記ポリマーが:
    Figure 2021505562
    [式中、
    は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式2:
    Figure 2021505562
    〈式中、
    θは、式23への結合部位であり、
    及びRは、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択される〉
    の構造からなる群から選択され、
    は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、アミンカチオン塩、及び式3:
    Figure 2021505562
    〈式中、
    θは、式23への結合部位であり、
    及びRは、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
    nが、1〜22の整数である〉
    の構造からなる群から選択され、
    は、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
    アニオン性基は、ポリマーの主鎖、側基又は側鎖に共有結合しており、かつホスフェート、ホスホネート、ホスフィネート、サルフェート、スルホネート、スルフィナート、メルカプト、カルボキシレート、ヒドロキシアミノ、アミンオキシド及びヒドロキサメートからなる化学基から選択され、
    は、−H及び−CHからなる群から選択され、
    は、化学結合、アレーンジイル及び式5:
    Figure 2021505562
    〈式中、
    αは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
    βは、ホスホノ−ホスフェートへの結合部位であり、
    Xは、式6〜12:
    Figure 2021505562
    (式中、Rは、−H、アルキル(C1〜8)、ホスホノアルキル及びホスホノ(ホスフェート)アルキルからなる群から選択される)
    の構造からなる群から選択され、
    Yは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される〉
    の構造からなる群から選択され、
    11は、−H及び−CHからなる群から選択され、
    δは、アニオン性基への結合部位であり、
    は、化学結合、アレーンジイル及び式15:
    Figure 2021505562
    〈式中、
    γは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
    δは、アニオン性基への結合部位であり、
    Wは、式16〜22:
    Figure 2021505562
    (式中、R12は、−H及びアルキル(C1〜8)からなる群から選択される)
    の構造から選択され、
    Vは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル又はアルケンジイルからなる群から選択される〉
    の構造から選択され、
    13は、ポリマー開始から得られる化学基であり、
    14は、連鎖停止により得られる化学基であり、
    mは、2〜450の整数であり、
    pは、2〜450の整数である]
    の構造を有する、口腔ケア組成物。
  16. が:
    Figure 2021505562
    [式中、
    θは、式23への結合部位であり、
    及びRは、独立して、−H、アルキル、アルカンジイル−アルコキシ、Na、K、Ca、Mg、Mn、Zn、Fe又はSnカチオンを有する金属塩、及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
    nは、1〜3の整数である]
    の構造を有する基である、請求項15に記載の口腔ケア組成物。
  17. がHである、請求項15又は16に記載の口腔ケア組成物。
  18. が:
    Figure 2021505562
    [式中、
    αは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
    βは、ホスホノ−ホスフェートへの結合部位であり、
    Xは:
    Figure 2021505562
    〈式中、Rは、−H、アルキル(C1〜8)、ホスホノアルキル及びホスホノ(ホスフェート)アルキルからなる群から選択される〉
    の構造からなる群から選択され、
    Yは、アルカンジイル、アルコキシジイル、アルキルアミノジイル及びアルケンジイルからなる群から選択される]
    の構造を有する基である、請求項15〜17のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
  19. 前記アニオン性基が、ホスフェート、ホスホネート、サルフェート、スルホネート及びカルボキシレートからなる群から選択される、請求項15〜18のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
  20. 11がHである、請求項15〜19のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
  21. が:
    Figure 2021505562
    [式中、Wは:
    Figure 2021505562
    の構造からなる群から選択される]
    構造を有する基である、請求項15〜19のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
  22. 13が:
    Figure 2021505562
    [式中、
    15は、−H、Na、K及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
    τは、ポリマー主鎖への結合部位であり、
    Qは、重合に使用されるモノマーの非オレフィン残基である]
    の構造からなる群から選択される、請求項15〜21のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
  23. Qが:
    Figure 2021505562
    [式中、κは、式28への結合部位を示す]
    の構造を有する、請求項22に記載の口腔ケア組成物。
  24. Qが:
    Figure 2021505562
    [式中、κは、式28への結合部位を示す]
    の構造を有する、請求項22に記載の口腔ケア組成物。
  25. 14が−Hである、請求項15〜24のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
  26. 14が、頭部−頭部結合を有する別のポリマー鎖である、請求項15〜24のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
  27. 、R及びRが、独立して、H、Na塩、K塩及びアミンカチオン塩からなる群から選択され、
    がHであり、
    が共有結合であり、
    が共有結合であり、
    前記アニオン性基がスルホネートであり、
    13が:
    Figure 2021505562
    [式中、τは、ポリマー主鎖への結合部位である]
    の構造を有し、
    Qが:
    Figure 2021505562
    [式中、κは、式28への結合部位を示す]
    からなる群から選択される構造を有し、
    14がHである、請求項15に記載の口腔ケア組成物。
  28. 前記組成物が、前記組成物の約5重量%〜約70重量%の水を更に含む、請求項1〜27のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
  29. 前記組成物が、前記組成物の約0.1重量%〜約11重量%の金属イオン塩を更に含む、請求項1〜28のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
  30. 前記金属イオン塩がフッ化第一スズである、請求項29に記載の口腔ケア組成物。
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