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JP2021182825A - 非接触給電装置 - Google Patents

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JP2021182825A JP2020087694A JP2020087694A JP2021182825A JP 2021182825 A JP2021182825 A JP 2021182825A JP 2020087694 A JP2020087694 A JP 2020087694A JP 2020087694 A JP2020087694 A JP 2020087694A JP 2021182825 A JP2021182825 A JP 2021182825A
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Abstract

【課題】電極の面積を大きくできる非接触給電装置を提供する。【解決手段】第1面を備えた回転体10と、所定間隔をあけて対向する第2面を備えた非回転体20と、第1配線321と第1スリット322が交互に配置され、第1配線同士が電気的に接続された一対の第1電極32を備え、第1面に配置された受電用基板30と、第2配線421と第2スリット422が交互に配置され、第2配線同士が電気的に接続された一対の第2電極42を備え、第2面に配置された給電用基板40と、を有する。受電用基板の一対の第1電極が形成された各々の領域は、第1スリットの部分で屈曲し、第1面との間隔が離れる部分と近づく部分とが交互に現れる第1波状部分301を形成し、給電用基板の一対の第2電極が形成された各々の領域は、第2スリットの部分で屈曲し、第2面との間隔が離れる部分と近づく部分とが交互に現れる第2波状部分401を形成するように配置される。【選択図】図3

Description

本発明は、非接触給電装置に関する。
非接触で給電を行う非接触給電装置としては、様々な方式のものが提案されているが、一例として、電界結合方式を利用したものが挙げられる。電界結合方式を利用した非接触給電装置は、非回転体に対して非接触で給電を行う場合に用いることができるが、回転体に対して非接触で給電する方法も提案されている。例えば、回転体と固定側の各々に電極を設け、各々の電極を互いに対向するように配置する構造が挙げられる。
国際公開第2013/108893号
しかしながら、非接触給電装置において、電力を確保するためには電極の面積を大きくする必要があるが、回転体に対して非接触で給電する上記の構造では、電極の面積を大きくすることが困難であった。
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、電極の面積を大きくすることが可能な非接触給電装置を提供することを目的とする。
本非接触給電装置は、第1面を備えた回転体と、所定間隔をあけて前記第1面に対向する第2面を備えた非回転体と、第1配線と第1スリットが交互に配置され、前記第1配線同士が電気的に接続された一対の第1電極を備え、前記回転体の第1面に配置された受電用基板と、第2配線と第2スリットが交互に配置され、前記第2配線同士が電気的に接続された一対の第2電極を備え、前記非回転体の第2面に配置された給電用基板と、を有し、前記受電用基板の一対の前記第1電極が形成された各々の領域は、前記第1スリットの部分で屈曲し、前記第1面との間隔が離れる部分と近づく部分とが交互に現れる第1波状部分を形成し、前記給電用基板の一対の前記第2電極が形成された各々の領域は、前記第2スリットの部分で屈曲し、前記第2面との間隔が離れる部分と近づく部分とが交互に現れる第2波状部分を形成し、前記第1波状部分と前記第2波状部分が互いに対向するように配置されている。
開示の技術によれば、電極の面積を大きくすることが可能な非接触給電装置を提供できる。
第1実施形態に係る非接触給電装置を例示する図である。 第1実施形態に係る受電用基板及び給電用基板を例示する平面図である。 第1実施形態に係る受電用基板及び給電用基板を回転体及び非回転体に取り付けた様子を例示する断面図である。 比較例に係る受電用基板及び給電用基板を回転体及び非回転体に取り付けた様子を例示する断面図である。 第1実施形態の変形例1に係る受電用基板及び給電用基板を回転体及び非回転体に取り付けた様子を例示する断面図である。 第1実施形態の変形例2に係る受電用基板及び給電用基板を例示する平面図である。 スリットの起点となる隣接する配線の接続部について説明する図である。
以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。なお、各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
〈第1実施形態〉
図1は、第1実施形態に係る非接触給電装置を例示する図であり、図1(a)は斜視図、図1(b)は正面図である。図1を参照すると、非接触給電装置1は、回転体10と、非回転体20と、受電用基板30と、給電用基板40とを有している。
回転体10は、例えば、外周面11を有する円柱状の部材であり、軸Cを中心として回転可能に構成されている。非回転体20は、例えば、中空円柱状(パイプ状)の部材であり、図示しない筐体等に固定されている。非回転体20は、所定間隔をあけて回転体10の外周面11に対向する内周面21を備えている。すなわち、回転体10は、非回転体20の内側に非回転体20と接しないように配置され、軸Cを中心として回転可能である。回転体10及び非回転体20は、例えば、鉄やアルミニウム等の金属(導電体)から形成できる。
回転体10の外周面11には、受電用基板30が配置されている。受電用基板30には、電力を必要とする半導体素子等(図示せず)が搭載されている。非回転体20の内周面21には、給電用基板40が配置されている。給電用基板40は、図示しない線材等により、非接触給電装置1の外部に設けられた制御装置に接続されている。受電用基板30と給電用基板40とは、所定間隔(例えば、1mm〜2mm程度)をあけて互いに対向する一対の電極を有しており、対向する一対の電極が容量結合している。これにより、非接触給電装置1の外部に設けられた制御装置による制御により、非回転体20に配置された給電用基板40から、回転体10に配置された受電用基板30にワイヤレス給電が可能となる。以下、受電用基板30と給電用基板40について詳しく説明する。
図2は、第1実施形態に係る受電用基板及び給電用基板を例示する平面図である。後述のように、受電用基板30及び給電用基板40は波状に折り曲げられるが、図2は折り曲げられる前の平坦な状態を示している。
図2(a)に示す受電用基板30は、絶縁性の基材31と、基材31上に導体パターンから形成された一対の電極32及び33とを備えている。例えば、電極32は基材31のX方向の一方側に配置され、電極33は基材31のX方向の他方側に配置されている。基材31は、例えば、ポリイミド等の可撓性を有する樹脂から形成できる。電極32及び33は、例えば、銅等の金属から形成できる。電極32及び33の表面に、ニッケル、パラジウム、金等のめっき膜が形成されてもよい。電極32及び33の詳細は下記のとおりである。
電極32は、同一方向(図2ではY方向)に伸びる細長状の複数の配線321と、隣接する配線321間に配置された細長状のスリット322とを有し、各々の配線321のY方向の一端側が連結され、Y方向の他端側が開放さている。なお、スリット322は、配線321が形成されずに絶縁性の基材31が露出している部分である。但し、複数の配線321を連結するのは、配線321の端部には限定されず、任意の位置で連結すればよい。スリット322の幅(X方向)は、例えば、1mm程度である。以降に説明する他のスリットについても同様である。
電極33は、同一方向(図2ではY方向)に伸びる細長状の複数の配線331と、隣接する配線331間に配置された細長状のスリット332とを有し、各々の配線331のY方向の一端側が連結され、Y方向の他端側が開放さている。なお、スリット332は、配線331が形成されずに絶縁性の基材31が露出している部分である。但し、複数の配線331を連結するのは、配線331の端部には限定されず、任意の位置で連結すればよい。
なお、図2(a)では図示を省略するが、配線321及び331は、後述の図3に示すように、絶縁層35で被覆されてもよい。絶縁層35は、複数の配線321及び331を連続的に被覆するように設けてもよい。絶縁層35は、例えば、ポリイミド等の可撓性を有する樹脂から形成できる。
このように、電極32は、配線321とスリット322が交互に配置され、配線321同士が電気的に接続された例えば櫛歯状の電極である。又、電極33は、配線331とスリット332が交互に配置され、配線331同士が電気的に接続された例えば櫛歯状の電極である。そして、電極32と電極33は、例えば櫛歯の開放側を同一方向に向けて所定間隔をあけて配置されている。
基材31上の電極32と電極33との間は、部品実装領域34として使用できる。部品実装領域34は、受電用基板30が給電用基板40からの受電に必要な電子部品が実装された領域である。部品実装領域34には、例えば、共振用インダクタンス部品Lや共振用コンデンサCを含む共振回路341や、平滑回路/整流回路342等が実装される。なお、図2(a)では、部品実装領域34の回路を模式的に示している。
図2(b)に示す給電用基板40は、絶縁性の基材41と、基材41上に導体パターンから形成された一対の電極42及び43を備えている。例えば、電極42は基材41のX方向の一方側に配置され、電極43は基材41のX方向の他方側に配置されている。基材41は、例えば、ポリイミド等の可撓性を有する樹脂から形成できる。電極42及び43は、例えば、銅等の金属から形成できる。電極42及び43の表面に、ニッケル、パラジウム、金等のめっき膜が形成されてもよい。電極42及び43の詳細は下記のとおりである。
電極42は、同一方向(図2ではY方向)に伸びる細長状の複数の配線421と、隣接する配線421間に配置された細長状のスリット422とを有し、各々の配線421のY方向の一端側が連結され、Y方向の他端側が開放さている。なお、スリット422は、配線421が形成されずに絶縁性の基材41が露出している部分である。但し、複数の配線421を連結するのは、配線421の端部には限定されず、任意の位置で連結すればよい。
電極43は、同一方向(図2ではY方向)に伸びる細長状の複数の配線431と、隣接する配線431間に配置された細長状のスリット432とを有し、各々の配線431のY方向の一端側が連結され、Y方向の他端側が開放さている。なお、スリット432は、配線431が形成されずに絶縁性の基材41が露出している部分である。但し、複数の配線431を連結するのは、配線431の端部には限定されず、任意の位置で連結すればよい。
なお、図2(b)では図示を省略するが、配線421及び431は、後述の図3に示すように、絶縁層45で被覆されてもよい。絶縁層45は、複数の配線421及び431を連続的に被覆するように設けてもよい。絶縁層45は、例えば、ポリイミド等の可撓性を有する樹脂から形成できる。
このように、電極42は、配線421とスリット422が交互に配置され、配線421同士が電気的に接続された例えば櫛歯状の電極である。又、電極43は、配線431とスリット432が交互に配置され、配線431同士が電気的に接続された例えば櫛歯状の電極である。そして、電極42と電極43は、例えば櫛歯の開放側を同一方向に向けて所定間隔をあけて配置されている。
図3は、第1実施形態に係る受電用基板及び給電用基板を回転体及び非回転体に取り付けた様子を例示する断面図であり、図1のA−A線に沿う断面を示している。図3では、X方向は軸C(図1参照)に平行な方向、Y方向は軸Cに垂直で外周面11に沿った方向、Z方向は外周面11の法線方向である。
図3を参照すると、受電用基板30は、波状に折り曲げられた波状部分301及び302と、波状部分301と波状部分302との間に配置された平坦部分303とを有している。なお、前述の部品実装領域34(図3では図示せず)は、平坦部分303内に設けられる。給電用基板40は、波状に折り曲げられた波状部分401及び402と、波状部分401と波状部分402との間に配置された平坦部分403とを有している。
波状部分301及び302は、受電用基板30の一対の電極32及び33が形成された各々の領域が、スリット322及び332の部分で屈曲し、回転体10の外周面11との間隔が離れる部分と近づく部分とが交互に現れる形状とされた部分である。波状部分401及び402は、給電用基板40の一対の電極42及び43極が形成された各々の領域が、スリット422及び432の部分で屈曲し、非回転体20の内周面21との間隔が離れる部分と近づく部分とが交互に現れる形状とされた部分である。
受電用基板30は、電極32の配線321及び電極33の配線331の長手方向が軸Cと略垂直になるように、波状部分301及び波状部分302のスリット322及び332の部分で接着剤等により回転体10の外周面11に固定されている。すなわち、スリット322及び332は、受電用基板30の回転体10と最も近接する領域に配置される。
給電用基板40は、電極42の配線421及び電極43の配線431の長手方向が軸Cと略垂直になるように、波状部分401及び402のスリット422及び432の部分で接着剤等により非回転体20の内周面21に固定されている。すなわち、スリット422及び432は、給電用基板40の非回転体20と最も近接する領域に配置される。
波状部分301と波状部分401とは、略一定の間隔をあけて互いに対向するように配置されている。又、波状部分302と波状部分402とは、略一定の間隔をあけて互いに対向するように配置されている。又、平坦部分303と平坦部分403とは、略一定の間隔をあけて互いに対向するように配置されている。
なお、波状とは、例えば正弦波に近い形状を指すが、所定面との間隔が離れる部分と近づく部分とが交互に現れるように屈曲している形状であれば、正弦波に近い形状には限定されず、例えば、三角波に近い形状等であってもよい。
ここで、比較例に係る受電用基板及び給電用基板について説明する。図4は、比較例に係る受電用基板及び給電用基板を回転体及び非回転体に取り付けた様子を例示する断面図であり、図3に相当する断面を示している。
図4に示す比較例に係る非接触給電装置1Xにおいて、受電用基板30Xは、基材31X上に一対の電極32X及び33Xを有している。電極32X及び33Xは、絶縁層35Xで被覆されている。絶縁層35Xは、電極32X及び33Xを連続的に被覆するように設けてもよい。基材31Xの平面形状は図2の基材31と同様であるが、電極32X及び33Xの平面形状は矩形状でありスリットは形成されていない。又、給電用基板40Xは、基材41X上に一対の電極42X及び43Xを有している。電極42X及び43Xは、絶縁層45Xで被覆されている。絶縁層45Xは、電極42X及び43Xを連続的に被覆するように設けてもよい。基材41Xの平面形状は図2の基材41と同様であるが、電極42X及び43Xの平面形状は矩形状でありスリットは形成されていない。
受電用基板30Xは波状部分を有していなく、回転体10の外周面11に沿って配置されている。給電用基板40Xは波状部分を有していなく、非回転体20の内周面21に沿って配置されている。受電用基板30Xの電極32Xと給電用基板40Xの電極42X、及び受電用基板30Xの電極33Xと給電用基板40Xの電極43Xは、所定間隔をあけて互いに対向して容量結合している。これにより、非回転体20に配置された給電用基板40Xから、回転体10に配置された受電用基板30Xにワイヤレス給電が可能となる。
しかし、図4の構造では、電極の面積を大きくすることが困難であり、電力を確保しにくい。一方、電極の面積を増やそうとすると非接触給電装置の全体(特に図4のX方向)が大型化してしまう。又、各々の電極が、湾曲面である外周面11や内周面21に沿って曲げられるため、電極が破損するおそれがある。又、金属体である回転体10や非回転体20と近接する電極から電流が流出してしまうため(図4の矢印L部分)、電力伝送効率が低下する。このように、図4の構造は様々な問題点を有している。
これに対して、非接触給電装置1は、図3に示すような波状部分を備えた電極を有するため、図3と同じ大きさの非接触給電装置に対して電極の面積を増やすことが容易である。すなわち、大きな電力を確保でき、かつ小型の非接触給電装置を実現できる。又、非接触給電装置1は、従来の電界結合方式による非接触給電システムに対して新たな電子部品を追加する必要がないため、回路構成が簡素なまま容易に小型化できる。
又、非接触給電装置1は、電極を構成する配線の間にスリットを配置し、スリットを屈曲点として受電用基板及び給電用基板を折り曲げているため、電極の配線部分が破損するおそれを低減できる。又、金属等の導電体である回転体10や非回転体20と最も近接する領域に、配線がなく絶縁性の基材が露出しているスリットを配置することで、配線から金属体へ電流が流れて電力の伝送効率が低下することを抑制できる。
又、非接触給電装置1は、受電用基板及び給電用基板の各々の電極が波状に折り曲げられた構造のまま、各々の電極が一定の間隔を保持した状態で回転可能であるため、回転するアプリケーションに好適に適用できる。非接触給電装置1は、例えば、電動アシスト自転車のクランク、ロボットハンドのアクチュエータ等に適用できる。
〈第1実施形態の変形例1〉
第1実施形態の変形例1では、受電用基板及び給電用基板を所定形状に保持するガイド部材を設ける例を示す。なお、第1実施形態の変形例1において、既に説明した実施形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
図5は、第1実施形態の変形例1に係る受電用基板及び給電用基板を回転体及び非回転体に取り付けた様子を例示する断面図であり、図3に相当する断面を示している。図5に示す非接触給電装置1Aは、回転体10の外周面11に配置されたガイド用リング50と、非回転体20の内周面21に配置されたガイド用リング60が追加された点が、非接触給電装置1(図3等参照)と相違する。
ガイド用リング50は、受電用基板30を折り曲げて配置する際の補助になり、受電用基板30の波状部分301及び302を所定形状に保持するガイド部材である。ガイド用リング60は、給電用基板40を折り曲げて配置する際の補助になり、給電用基板40の波状部分401及び402を所定形状に保持するガイド部材である。
ガイド用リング50及び60は、低誘電材料から形成されていることが好ましい。ガイド用リング50及び60を低誘電材料から形成することで、周辺金属へ電荷移動が減少し、電力損失の増大抑制の効果が得られる。ここで、低誘電材料とは誘電率が2〜5程度の材料であり、具体的な材料としては、例えば、アクリルやポリプロピレン、ポリスチレン、テフロン(登録商標)、MCナイロン(登録商標)、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)等が挙げられる。
ガイド用リング50は、中空円柱状の取付部51と、取付部51の外周面から半径方向(Z方向)に突起する、所定間隔で配置された複数のガイド壁52とを有している。各々のガイド壁52は、Y方向に沿って環状に設けてもよいし、Y方向に沿って所定間隔で設けてもよい。図5の例では、受電用基板30の平坦部分303が配置される領域にはガイド壁52は設けられていなく、平坦部分303が配置される領域のX方向の両側に2本ずつガイド壁52が設けられている。
ガイド用リング60は、中空円柱状の取付部61と、取付部61の内周面から半径方向(Z方向)に突起する、所定間隔で配置された複数のガイド壁62とを有している。各々のガイド壁62は、Y方向に沿って環状に設けてもよいし、Y方向に沿って所定間隔で設けてもよい。図5の例では、給電用基板40の平坦部分403が配置される領域の両端に1本ずつガイド壁62が設けられ、平坦部分403が配置される領域のX方向の両側に更に2本ずつガイド壁62が設けられている。
ガイド用リング50のガイド壁52と、ガイド用リング60のガイド壁62は、X方向に互い違いに配置されている。ガイド壁52の両側にガイド壁62が配置されている部分では、ガイド壁52の部分で最も取付部61に近くなるように受電用基板30及び給電用基板40が湾曲している。又、ガイド壁62の両側にガイド壁52が配置されている部分では、ガイド壁62の部分で最も取付部51に近くなるように受電用基板30及び給電用基板40が湾曲している。
このように、ガイド用リング50及び60を設けることで、受電用基板30の波状部分301及び302、給電用基板40の波状部分401及び402を容易に所望の形状に折り曲げることができる。但し、波の個数とガイド壁の個数との関係は、図5の例には限定されない。例えば、X方向の両端を除いて途中のガイド壁を省略してもよい。
又、ガイド用リング50に予め受電用基板30を折り曲げて接着剤等で固定し、ガイド用リング60に予め給電用基板40を折り曲げて接着剤等で固定する。そして、取付部51及び61のガイド壁52及び62が突起していない側の面に接着剤等を塗布して回転体10及び非回転体20の内側に挿入することで、容易に非接触給電装置1Aを作製できる。なお、非接触給電装置1のようにガイド用リング50及び60を用いない場合には、給電用基板40の取付を容易にするために、非回転体20を分割可能な構造としてもよい。
〈第1実施形態の変形例2〉
第1実施形態の変形例2では、電極の配線に切れ込みを入れる例を示す。なお、第1実施形態の変形例2において、既に説明した実施形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
図6は、第1実施形態の変形例2に係る受電用基板及び給電用基板を例示する平面図である。
図6(a)に示す受電用基板30Bは、電極32Bの配線321及び電極33Bの配線331に所定間隔で両側からX方向に切れ込み325が設けられた点が、受電用基板30の電極32及び33と相違する。すなわち、配線321及び331は、配線幅が狭い部分と広い部分とを備え、配線幅が狭い部分は、配線321及び331の長手方向に沿って離散的に配置されている。
図6(b)に示す給電用基板40Bは、電極42Bの配線421及び電極43Bの配線431に所定間隔で両側からX方向に切れ込み425が設けられた点が、給電用基板40の電極42及び43と相違する。すなわち、配線421及び431は、配線幅が狭い部分と広い部分とを備え、配線幅が狭い部分は、配線421及び431の長手方向に沿って離散的に配置されている。
このように、電極の配線に切れ込みを設けて部分的に配線幅を狭くすることで、電極の配線部分が破損するおそれを第1実施形態に比べて更に低減できる。
なお、図7のように、スリットの起点となる隣接する配線の接続部328及び428はR状(角がない曲線状)であることが好ましい。こような形状とすることで、応力集中を防ぎ、電極の配線部分が破損するおそれを一層低減できる。スリットの起点となる隣接する配線の接続部をR状にすることが好ましい点は、第1実施形態や変形例1でも同様である。
以上、好ましい実施形態等について詳説したが、上述した実施形態等に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施形態等に種々の変形及び置換を加えることができる。
例えば、第1実施形態等では、回転体の外側に非回転体が配置される例を示したが、本発明に係る非接触給電装置は、非回転体の外側に回転体が配置された構造にも適用可能である。
又、回転体は円柱状には限定されず、多角柱状等(例えば、6角柱や8角柱等)であってもよい。
1、1A 非接触給電装置
10 回転体
11 外周面
20 非回転体
21 内周面
30、30B 受電用基板
31、41 基材
32、32B、33、33B、42、42B、43、43B 電極
34 部品実装領域
40、40B 給電用基板
50、60 ガイド用リング
51、61 取付部
52、62 ガイド壁
301、302、401、402 波状部分
303、403 平坦部分
321、331、421、431 配線
322、332、422、432 スリット
325、425 切れ込み
341 共振回路
342 平滑回路/整流回路

Claims (8)

  1. 第1面を備えた回転体と、
    所定間隔をあけて前記第1面に対向する第2面を備えた非回転体と、
    第1配線と第1スリットが交互に配置され、前記第1配線同士が電気的に接続された一対の第1電極を備え、前記回転体の第1面に配置された受電用基板と、
    第2配線と第2スリットが交互に配置され、前記第2配線同士が電気的に接続された一対の第2電極を備え、前記非回転体の第2面に配置された給電用基板と、を有し、
    前記受電用基板の一対の前記第1電極が形成された各々の領域は、前記第1スリットの部分で屈曲し、前記第1面との間隔が離れる部分と近づく部分とが交互に現れる第1波状部分を形成し、
    前記給電用基板の一対の前記第2電極が形成された各々の領域は、前記第2スリットの部分で屈曲し、前記第2面との間隔が離れる部分と近づく部分とが交互に現れる第2波状部分を形成し、
    前記第1波状部分と前記第2波状部分が互いに対向するように配置されている非接触給電装置。
  2. 前記回転体は、導電体であり、
    前記第1スリットは、前記第1配線が形成されずに絶縁性の基材が露出している部分であり、
    前記第1スリットは、前記受電用基板の前記回転体と最も近接する領域に配置され、
    前記非回転体は、導電体であり、
    前記第2スリットは、前記第2配線が形成されずに絶縁性の基材が露出している部分であり、
    前記第2スリットは、前記給電用基板の前記非回転体と最も近接する領域に配置されている請求項1に記載の非接触給電装置。
  3. 各々の前記第1波状部分の間には第1平坦部分が配置され、各々の前記第2波状部分の間には第2平坦部分が配置されている請求項1又は2に記載の非接触給電装置。
  4. 前記第1平坦部分には、受電に必要な電子部品が実装された部品実装領域が設けられている請求項3に記載の非接触給電装置。
  5. 前記第1面に配置され、前記第1波状部分を所定形状に保持する第1ガイド部材と、
    前記第2面に配置され、前記第2波状部分を所定形状に保持する第2ガイド部材と、を有する請求項1乃至4の何れか一項に記載の非接触給電装置。
  6. 前記第1ガイド部材及び前記第2ガイド部材は、低誘電材料から形成されている請求項5に記載の非接触給電装置。
  7. 前記第1配線及び前記第2配線は、配線幅が狭い部分と広い部分とを備え、
    前記配線幅が狭い部分は、前記第1配線及び前記第2配線の長手方向に沿って離散的に配置されている請求項1乃至6の何れか一項に記載の非接触給電装置。
  8. 前記第1スリットの起点となる隣接する前記第1配線の接続部、及び前記第2スリットの起点となる隣接する前記第2配線の接続部は、R状である請求項1乃至7の何れか一項に記載の非接触給電装置。
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