JP2021178912A - Method for producing low molecular weight polytetrafluoroethylene - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing low molecular weight polytetrafluoroethylene.
分子量が数千から数十万の低分子量ポリテトラフルオロエチレン(「ポリテトラフルオロエチレンワックス」や「ポリテトラフルオロエチレンマイクロパウダー」とも呼ばれる。以下、単に「低分子量PTFE」ともいう。)は、化学的安定性に優れ、表面エネルギーが極めて低いことに加え、フィブリル化が生じにくい。そのため、滑り性や塗膜表面の質感を向上させる添加剤として、プラスチックス、インク、化粧品、塗料、グリース等の製造に用いられている。
低分子量PTFEの製造方法としては、特許文献1には、放射線を照射する方法が開示されている。特許文献1では、放射線の照射により副生するパーフルオロオクタン酸またはその塩(以下、単に「PFOA」ともいう。)を除去するために、低分子量PTFEに対して有機溶剤を用いた洗浄処理を施す旨が開示されている。
Low molecular weight polytetrafluoroethylene (also referred to as "polytetrafluoroethylene wax" or "polytetrafluoroethylene micropowder"; hereinafter, simply referred to as "low molecular weight PTFE") having a molecular weight of several thousand to several hundred thousand is chemical. In addition to excellent thermal stability and extremely low surface energy, fibrillation is unlikely to occur. Therefore, it is used in the production of plastics, inks, cosmetics, paints, greases and the like as an additive for improving the slipperiness and the texture of the coating film surface.
As a method for producing low molecular weight PTFE, Patent Document 1 discloses a method of irradiating radiation. In Patent Document 1, in order to remove perfluorooctanoic acid or a salt thereof (hereinafter, also simply referred to as “PFOA”) produced as a by-product by irradiation with radiation, a cleaning treatment using an organic solvent is performed on low molecular weight PTFE. It is disclosed that it will be applied.
一方で、近年、環境保全の点から、材料中におけるPFOAのより一層の低減が求められている。
本発明者らは、低分子量PTFEに対して特許文献1で示されたエタノールを用いて洗浄処理を施したところ、副生するPFOAの含有量が昨今の要求レベルを満たしておらず、更なる改良が必要であることを知見した。
On the other hand, in recent years, from the viewpoint of environmental protection, further reduction of PFOA in materials has been required.
When the low molecular weight PTFE was washed with ethanol shown in Patent Document 1, the present inventors further found that the content of PFOA produced as a by-product did not meet the recent required level. It was found that improvement was necessary.
本発明は、PFOAの含有量が低い低分子量PTFEを簡便に製造できる、低分子量PTFEの製造方法の提供を課題とする。 An object of the present invention is to provide a method for producing low molecular weight PTFE, which can easily produce low molecular weight PTFE having a low PFOA content.
本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、フッ素系溶剤を含む洗浄溶媒を低分子量PTFEの洗浄に用いれば、所望の効果が得られることを見出し、本発明に至った。 As a result of diligent studies on the above problems, the present inventors have found that a desired effect can be obtained by using a cleaning solvent containing a fluorine-based solvent for cleaning a low molecular weight PTFE, and have reached the present invention.
すなわち、発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
[1] ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射して、低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程1と、上記工程1の後に、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンに対して、洗浄溶媒を用いた洗浄処理を施す工程2と、を有し、上記洗浄溶媒がフッ素系溶剤を含む、低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
[2] 上記洗浄溶媒がフッ素系溶剤のみからなる、[1]の低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
[3] 上記洗浄溶媒がさらに水を含む、[1]の低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
[4] 上記工程1と上記工程2との間、および、上記工程2の後、の少なくとも一方において、さらに、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを粉砕する工程3を有する、[1]〜[3]のいずれかの低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
[5] 上記工程2の後に、さらに、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンに熱処理を施す工程4を有する、[1]〜[4]のいずれかの低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
[6] 上記工程2を有する製造方法により得られる低分子量ポリテトラフルオロエチレンにおけるパーフルオロオクタン酸およびその塩の含有量が25質量ppb以下である、[1]〜[5]のいずれかの低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
That is, the inventors have found that the above problem can be solved by the following configuration.
[1] After the step 1 of irradiating polytetrafluoroethylene with radiation to obtain low molecular weight polytetrafluoroethylene and the above step 1, the low molecular weight polytetrafluoroethylene is washed with a washing solvent. 2. A method for producing low molecular weight polytetrafluoroethylene, wherein the cleaning solvent contains a fluorinated solvent.
[2] The method for producing low molecular weight polytetrafluoroethylene according to [1], wherein the cleaning solvent is only a fluorinated solvent.
[3] The method for producing low molecular weight polytetrafluoroethylene according to [1], wherein the washing solvent further contains water.
[4] [1] to [3] further comprising a step 3 of pulverizing the low molecular weight polytetrafluoroethylene between the step 1 and the step 2 and at least one of the steps after the step 2. ] A method for producing any of the low molecular weight polytetrafluoroethylenes.
[5] The method for producing low molecular weight polytetrafluoroethylene according to any one of [1] to [4], further comprising a step 4 of subjecting the low molecular weight polytetrafluoroethylene to a heat treatment after the step 2.
[6] The content of perfluorooctanoic acid and a salt thereof in the low molecular weight polytetrafluoroethylene obtained by the production method having the above step 2 is 25 mass ppb or less, whichever is lower than [1] to [5]. Method for producing molecular weight polytetrafluoroethylene.
本発明によれば、PFOAの含有量が低い低分子量PTFEを簡便に製造できる、低分子量PTFEの製造方法を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a method for producing low molecular weight PTFE, which can easily produce low molecular weight PTFE having a low PFOA content.
本発明における用語の意味は以下の通りである。
「単位」とは、単量体が重合して直接形成された、単量体1分子に由来する原子団の総称である。
「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
The meanings of the terms in the present invention are as follows.
The "unit" is a general term for atomic groups derived from one molecule of a monomer, which is directly formed by polymerizing a monomer.
The numerical range represented by "~" means a range including the numerical values before and after "~" as the lower limit value and the upper limit value.
本発明の低分子量PTFEの製造方法の特徴点としては、フッ素系溶剤を含む洗浄溶媒を用いて低分子量PTFEを洗浄する点が挙げられる。
フッ素系溶剤は、エタノール等の有機溶剤と比較して、PFOAとの相溶性に優れるので、PFOAの含有量が低い低分子量PTFEが得られたと考えられる。同様の理由により、PTFEへの放射線の照射により副生するパーフルオロノナン酸またはその塩(以下、単に「PFNA」ともいう。)の除去性も向上したと推測される。
A feature of the method for producing low molecular weight PTFE of the present invention is that the low molecular weight PTFE is washed with a washing solvent containing a fluorinated solvent.
Since the fluorinated solvent is superior in compatibility with PFOA as compared with an organic solvent such as ethanol, it is considered that low molecular weight PTFE having a low PFOA content was obtained. For the same reason, it is presumed that the removability of perfluorononanoic acid or a salt thereof (hereinafter, simply referred to as “PFNA”) produced as a by-product by irradiation of PTFE with radiation is also improved.
本発明の低分子量PTFEの製造方法は、以下の2つ工程を少なくとも有する。
工程1:PTFEに放射線を照射して、低分子量PTFEを得る工程
工程2:工程1の後に、低分子量PTFEに対して、フッ素系溶剤を含む洗浄溶媒を用いた洗浄処理を施す工程
以下、各工程について詳述する。
The method for producing low molecular weight PTFE of the present invention has at least the following two steps.
Step 1: Irradiate the PTFE with radiation to obtain low molecular weight PTFE Step 2: After step 1, the low molecular weight PTFE is subjected to a cleaning treatment using a cleaning solvent containing a fluorine-based solvent. The process will be described in detail.
[工程1]
工程1は、PTFEに放射線を照射して、低分子量PTFEを得る工程である。本工程を実施することにより、原料であるPTFEがより低分子化され、低分子量PTFEが得られる。
以下では、まず、原料であるPTFEについて詳述し、その後、工程の手順について詳述する。
[Step 1]
Step 1 is a step of irradiating the PTFE with radiation to obtain a low molecular weight PTFE. By carrying out this step, PTFE as a raw material is further reduced in molecular weight, and low molecular weight PTFE is obtained.
In the following, first, PTFE as a raw material will be described in detail, and then the procedure of the process will be described in detail.
PTFEは、テトラフルオロエチレン(以下、単に「TFE」ともいう。)単位のみからなるホモPTFEであってもよいし、TFE単位およびTFEと共重合可能な変性モノマーに基づく変性モノマー単位を含む変性PTFEであってもよい。
変性PTFEにおいて、変性モノマー単位の含有量は、変性PTFEの全単位に対して、0.001〜1質量%が好ましく、0.01〜0.5質量%がより好ましく、0.01〜0.1質量%がさらに好ましい。
変性モノマー単位とは、変性PTFEの分子構造の一部分であって変性モノマーに由来する部分を意味し、変性PTFEの全単位とは、変性PTFEの分子構造における全ての単量体に由来する部分を意味する。
上記変性モノマー単位の含有量は、フーリエ変換型赤外分光法(FT−IR)等の公知の方法により求めることができる。
The PTFE may be a homo-PTFE consisting only of tetrafluoroethylene (hereinafter, also simply referred to as "TFE") units, or a modified PTFE containing a TFE unit and a modified monomer unit based on a modified monomer copolymerizable with TFE. It may be.
In the modified PTFE, the content of the modified monomer unit is preferably 0.001 to 1% by mass, more preferably 0.01 to 0.5% by mass, and 0.01 to 0.% With respect to all the units of the modified PTFE. 1% by mass is more preferable.
The modified monomer unit means a part derived from the modified monomer which is a part of the molecular structure of the modified PTFE, and the whole unit of the modified PTFE means a portion derived from all the monomers in the molecular structure of the modified PTFE. means.
The content of the modified monomer unit can be determined by a known method such as Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR).
変性モノマーとしては、TFEと共重合が可能なモノマーであればよく、例えば、ヘキサフルオロプロピレン等のパーフルオロオレフィン;クロロトリフルオロエチレン等のクロロフルオロオレフィン;トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン等の水素含有フルオロオレフィン;パーフルオロビニルエーテル;パーフルオロアルキルエチレン;エチレンが挙げられる。
用いる変性モノマーは1種であってもよいし、複数種であってもよい。
The modified monomer may be a monomer capable of copolymerizing with TFE, and may be, for example, a perfluoroolefin such as hexafluoropropylene; a chlorofluoroolefin such as chlorotrifluoroethylene; a hydrogen-containing such as trifluoroethylene or vinylidene fluoride. Fluoroolefin; perfluorovinyl ether; perfluoroalkylethylene; ethylene.
The modified monomer used may be one kind or a plurality of kinds.
上記パーフルオロビニルエーテルとしては、例えば、式(1)で表されるパーフルオロ不飽和化合物が挙げられる。
式(1) CF2=CF−ORf
式中、Rfは、パーフルオロ有機基を表す。
なお、上記「パーフルオロ有機基」とは、炭素原子に結合する水素原子が全てフッ素原子に置換されてなる有機基を意味する。上記パーフルオロ有機基は、エーテル酸素を有していてもよい。
Examples of the perfluorovinyl ether include perfluorounsaturated compounds represented by the formula (1).
Equation (1) CF 2 = CF-ORf
In the formula, Rf represents a perfluoroorganic group.
The above-mentioned "perfluoroorganic group" means an organic group in which all hydrogen atoms bonded to carbon atoms are replaced with fluorine atoms. The perfluoroorganic group may have ether oxygen.
上記パーフルオロビニルエーテルとしては、式(1)において、Rfが炭素数1〜10(好ましくは、1〜5)のパーフルオロアルキル基を表すものであるパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)が挙げられる。
上記パーフルオロアルキル基としては、例えば、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基が挙げられる。
なかでも、パーフルオロアルキル基がパーフルオロプロピル基であるパープルオロ(プロピルビニルエーテル)が好ましい。
Examples of the perfluorovinyl ether include perfluoro (alkyl vinyl ether) in which Rf represents a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 5) in the formula (1).
Examples of the perfluoroalkyl group include a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, and a perfluorohexyl group.
Of these, purple olo (propyl vinyl ether) in which the perfluoroalkyl group is a perfluoropropyl group is preferable.
また、パーフルオロビニルエーテルとしては、さらに、式(1)において、Rfが炭素数4〜9のパーフルオロ(アルコキシアルキル)基である化合物、Rfが式(2)で表される基である化合物、Rfが式(3)で表される基である化合物が挙げられる。 Further, as the perfluorovinyl ether, in the formula (1), a compound in which Rf is a perfluoro (alkoxyalkyl) group having 4 to 9 carbon atoms, and a compound in which Rf is a group represented by the formula (2), Examples thereof include compounds in which Rf is a group represented by the formula (3).
式中、mは、0〜4の整数を表す。 In the formula, m represents an integer from 0 to 4.
式中、nは1〜4の整数を表す。 In the formula, n represents an integer of 1 to 4.
パーフルオロアルキルエチレンとしては、例えば、(パーフルオロブチル)エチレン(PFBE)、(パーフルオロヘキシル)エチレン、(パーフルオロオクチル)エチレンが挙げられる。 Examples of the perfluoroalkyl ethylene include (perfluorobutyl) ethylene (PFBE), (perfluorohexyl) ethylene, and (perfluorooctyl) ethylene.
使用されるPTFEは、PTFEの粉末であってもよいし、PTFEの成形品であってもよいし、PTFEの成形品を切削加工した場合に生じる切削屑であってもよい。 The PTFE used may be a powder of PTFE, a molded product of PTFE, or cutting chips generated when the molded product of PTFE is cut.
使用されるPTFEは、一次融点以上に加熱する焼成工程を経て得られたPTFEであってもよい。
一次融点は、示差走査熱量計(DSC)を用いて測定でき、結晶融解曲線上にあらわれる吸熱カーブの最大ピーク温度である。吸熱カーブは焼成工程を経ていないPTFEを、昇温速度10℃/分の条件で昇温させて得られる。
一次融点は、通常、320℃以上である。
The PTFE used may be PTFE obtained through a firing step of heating to a primary melting point or higher.
The primary melting point can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC) and is the maximum peak temperature of the endothermic curve that appears on the crystal melting curve. The endothermic curve is obtained by raising the temperature of PTFE, which has not undergone the firing step, at a heating rate of 10 ° C./min.
The primary melting point is usually 320 ° C. or higher.
PTFEの標準比重(SSG)は、2.130〜2.230であることが好ましい。上記標準比重(SSG)はASTM D 4895に準拠し、測定した値である。 The standard specific gravity (SSG) of PTFE is preferably 2.130 to 2.230. The standard specific density (SSG) is a measured value in accordance with ASTM D 4895.
次に、工程1の手順について詳述する。
放射線としては、電離性放射線であればよく、例えば、電子線、紫外線、ガンマ線、X線、中性子線、高エネルギーイオンが挙げられ、電子線またはガンマ線が好ましい。
放射線の照射線量としては、20〜100kGyであり、30〜100kGyが好ましく、50〜75kGyがより好ましい。
Next, the procedure of step 1 will be described in detail.
The radiation may be ionizing radiation, and examples thereof include electron beams, ultraviolet rays, gamma rays, X-rays, neutron rays, and high-energy ions, and electron beams or gamma rays are preferable.
The irradiation dose of radiation is 20 to 100 kGy, preferably 30 to 100 kGy, and more preferably 50 to 75 kGy.
放射線の照射温度としては、5℃以上、PTFEの融点以下が好ましい。なかでも、上限としては、320℃以下がより好ましく、300℃以下がさらに好ましく、260℃以下が特に好ましい。経済的には、常温で照射することが好ましい。 The irradiation temperature of radiation is preferably 5 ° C. or higher and lower than the melting point of PTFE. Among them, the upper limit is more preferably 320 ° C. or lower, further preferably 300 ° C. or lower, and particularly preferably 260 ° C. or lower. Economically, it is preferable to irradiate at room temperature.
上記放射線の照射は、いかなる雰囲気中で実施してもよく、空気中、不活性ガス中、真空中が挙げられる。低コストで実施できる点からは、空気中での照射が好ましく、PFOAを生成させにくい点からは、実質的に酸素不存在下での照射が好ましい。 The irradiation of the above radiation may be carried out in any atmosphere, and examples thereof include air, an inert gas, and a vacuum. Irradiation in air is preferable from the viewpoint of low cost, and irradiation in the absence of oxygen is preferable from the viewpoint of difficulty in generating PFOA.
[工程2]
工程2は、工程1の後に、低分子量PTFEに対して、フッ素系溶剤を含む洗浄溶媒を用いた洗浄処理を施す工程である。本工程を実施することにより、工程1の際に副生するPFOAおよびPFNAを除去できる。
洗浄溶媒は、フッ素系溶剤のみからなる溶媒であってもよいし、フッ素系溶剤と、フッ素系溶剤以外の溶媒(以下、「他の溶媒」ともいう。)を含んでいてもよい。
[Step 2]
Step 2 is a step of performing a cleaning treatment using a cleaning solvent containing a fluorine-based solvent on the low molecular weight PTFE after the step 1. By carrying out this step, PFOA and PFNA by-produced in step 1 can be removed.
The cleaning solvent may be a solvent consisting only of a fluorine-based solvent, or may contain a fluorine-based solvent and a solvent other than the fluorine-based solvent (hereinafter, also referred to as “other solvent”).
フッ素系溶剤とは、フッ素原子を有する溶剤を意味する。
フッ素系溶剤の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。中でも、本発明の効果がより優れる点から、フッ素化アルカン、フッ素化アルキルエーテルが好ましい。
フッ素化アルカンは、本発明の効果がより優れる点から、炭素数3〜10の化合物が好ましく、例えば、C6F13H(AC−2000:製品名、AGC社製)、C6F13C2H5(AC−6000:製品名、AGC社製)、C2F5CHFCHFCF3(バートレル:製品名、デュポン社製)、1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタン、(ゼオローラH:製品名、日本ゼオン社製)、ジクロロペンタフルオロプロパン(AK−225:製品名、AGC社製。CF3CF2CHCl2とCClF2CF2CHClFとの混合物。)が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1,4−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルは、炭素数4〜12の化合物が好ましく、例えば、CF3CH2OCF2CF2H(AE−3000:製品名、AGC社製)、C4F9OCH3(ノベック−7100:製品名、3M社製)、C4F9OC2H5(ノベック−7200:製品名、3M社製)、C2F5CF(OCH3)C3F7(ノベック−7300:製品名、3M社製)が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。
フッ素系溶剤は、1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
The fluorine-based solvent means a solvent having a fluorine atom.
Specific examples of the fluorinated solvent include fluorinated alkanes, fluorinated aromatic compounds, fluoroalkyl ethers, fluorinated alkylamines, and fluoroalcohols. Of these, fluorinated alkanes and fluorinated alkyl ethers are preferable because the effects of the present invention are more excellent.
The fluorinated alkane is preferably a compound having 3 to 10 carbon atoms because the effect of the present invention is more excellent. For example, C 6 F 13 H (AC-2000: product name, manufactured by AGC), C 6 F 13 C. 2 H 5 (AC-6000: product name, manufactured by AGC), C 2 F 5 CHFCHFCF 3 (Bertrel: product name, manufactured by DuPont), 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclo Pentan, (Zeorolla H: product name, manufactured by Zeon Corporation), dichloropentafluoropropane (AK-225: product name, manufactured by AGC Inc., a mixture of CF 3 CF 2 CHCl 2 and CClF 2 CF 2 CHClF). Be done.
Specific examples of the fluorinated aromatic compound include hexafluorobenzene, trifluoromethylbenzene, perfluorotoluene, 1,3-bis (trifluoromethyl) benzene, and 1,4-bis (trifluoromethyl) benzene.
The fluoroalkyl ether is preferably a compound having 4 to 12 carbon atoms, for example, CF 3 CH 2 OCF 2 CF 2 H (AE-3000: product name, manufactured by AGC), C 4 F 9 OCH 3 (Novec-7100:). Product name, 3M company), C 4 F 9 OC 2 H 5 (Novec-7200: Product name, 3M company), C 2 F 5 CF (OCH 3 ) C 3 F 7 (Novec-7300: Product name, 3M).
Specific examples of the fluorinated alkylamine include perfluorotripropylamine and perfluorotributylamine.
Specific examples of the fluoroalcohol include 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol and hexafluoroisopropanol.
The fluorine-based solvent may be used alone or in combination of two or more.
他の溶媒としては、水、上記フッ素系溶剤以外の有機溶剤が挙げられ、本発明の効果が優れる点、および、コストの観点から、水が好ましい。
フッ素系溶剤以外の有機溶剤としては、特に限定されないが、例えば、炭化水素系有機溶剤、ケトン系有機溶剤、エーテル系有機溶剤、エステル系有機溶剤、アルコール系有機溶剤が挙げられる。
他の溶媒は、1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
Examples of the other solvent include water and organic solvents other than the above-mentioned fluorine-based solvent, and water is preferable from the viewpoint of excellent effect of the present invention and cost.
The organic solvent other than the fluorine-based solvent is not particularly limited, and examples thereof include a hydrocarbon-based organic solvent, a ketone-based organic solvent, an ether-based organic solvent, an ester-based organic solvent, and an alcohol-based organic solvent.
Other solvents may be used alone or in combination of two or more.
洗浄溶媒がフッ素系溶剤と他の溶媒とを含む場合、フッ素系溶剤の含有量は、洗浄溶媒の全質量に対して、1質量%以上100質量%未満が好ましく、3質量%以上100質量%未満がより好ましく、5質量%以上100質量%未満が特に好ましい。フッ素系溶剤の含有量が上記範囲内であれば、フッ素系溶剤によるPFOAおよびPFNAの除去機能が十分に発揮される。
洗浄溶媒がフッ素系溶剤と他の溶媒とを含む場合、他の溶媒(好ましくは水)の含有量は、洗浄溶媒の全質量に対して、0質量%超99質量%以下が好ましく、0質量%超97質量%がより好ましく、0質量%超95質量%が特に好ましい。
When the cleaning solvent contains a fluorine-based solvent and another solvent, the content of the fluorine-based solvent is preferably 1% by mass or more and less than 100% by mass, and 3% by mass or more and 100% by mass, based on the total mass of the cleaning solvent. Less than 5% by mass is more preferable, and 5% by mass or more and less than 100% by mass is particularly preferable. When the content of the fluorinated solvent is within the above range, the function of removing PFOA and PFNA by the fluorinated solvent is fully exhibited.
When the cleaning solvent contains a fluorine-based solvent and another solvent, the content of the other solvent (preferably water) is preferably more than 0% by mass and 99% by mass or less, preferably 0% by mass, based on the total mass of the cleaning solvent. More than 97% by mass is more preferable, and more than 0% by mass and 95% by mass is particularly preferable.
洗浄処理は、1回のみ実施してもよく、複数回実施してもよい。複数回実施する場合、実施毎に同一種類の洗浄溶媒を用いてもよいし、実施毎に異なる種類の洗浄溶媒を用いてもよい。洗浄溶媒は、同一濃度の洗浄溶媒を用いてもよく、異なる濃度の洗浄溶媒を用いてもよい。 The cleaning treatment may be carried out only once or may be carried out a plurality of times. When performing a plurality of times, the same type of cleaning solvent may be used for each implementation, or different types of cleaning solvent may be used for each implementation. As the cleaning solvent, a cleaning solvent having the same concentration may be used, or a cleaning solvent having a different concentration may be used.
洗浄処理の方法としては、低分子量PTFEを洗浄溶媒中に浸漬する方法、低分子量PTFEに対して洗浄溶媒をスプレー等で吹き付ける方法が挙げられ、本発明の効果がより優れる点から、浸漬する方法が好ましい。
上記浸漬する方法は、本発明の効果がより優れる点から、攪拌処理、加熱処理および超音波処理からなる群より選択される少なくとも1つの処理とともに実施することが好ましい。
Examples of the cleaning treatment method include a method of immersing the low molecular weight PTFE in the cleaning solvent and a method of spraying the cleaning solvent on the low molecular weight PTFE by a spray or the like. Is preferable.
The dipping method is preferably carried out together with at least one treatment selected from the group consisting of stirring treatment, heat treatment and ultrasonic treatment, because the effect of the present invention is more excellent.
洗浄処理における洗浄溶媒の温度は、0〜100℃が好ましく、5〜95℃がより好ましく、10〜90℃が特に好ましい。
洗浄処理の時間(例えば、洗浄溶媒中における低分子量PTFEの浸漬時間)は、3〜360分が好ましく、3〜300分がより好ましく、5〜240分が特に好ましい。
The temperature of the cleaning solvent in the cleaning treatment is preferably 0 to 100 ° C, more preferably 5 to 95 ° C, and particularly preferably 10 to 90 ° C.
The washing treatment time (for example, the immersion time of the low molecular weight PTFE in the washing solvent) is preferably 3 to 360 minutes, more preferably 3 to 300 minutes, and particularly preferably 5 to 240 minutes.
工程2は、洗浄処理後の低分子量PTFEを水で洗浄する水洗処理を含んでいてもよい。 Step 2 may include a water washing treatment for washing the low molecular weight PTFE after the washing treatment with water.
[その他工程]
本発明の製造方法は、工程1および工程2以外の工程を有していてもよく、低分子量PTFEを粉砕する工程3、および、低分子量PTFEに熱処理を施す工程4のうち、少なくとも一方を有することが好ましい。
[Other processes]
The production method of the present invention may have steps other than steps 1 and 2, and has at least one of step 3 for pulverizing the low molecular weight PTFE and step 4 for heat-treating the low molecular weight PTFE. Is preferable.
(工程3)
工程3は、低分子量PTFEを粉砕する工程であって、工程1と工程2との間、および、工程2の後の少なくとも一方において実施されることが好ましい。つまり、本発明の製造方法は、工程1と工程2との間にのみ工程3を有していてもよいし、工程2の後のみに工程3を有していてもよいし、工程1と工程2との間および工程2の後の両方に工程3を有していてもよい。
(Step 3)
Step 3 is a step of pulverizing the low molecular weight PTFE, and is preferably carried out between step 1 and step 2 and at least one after step 2. That is, the manufacturing method of the present invention may have the process 3 only between the process 1 and the process 2, may have the process 3 only after the process 2, and may have the process 3 and the process 1. Step 3 may be provided both during and after step 2.
粉砕の方法としては、例えば、粉砕機で粉砕する方法が挙げられる。
粉砕機としては、ハンマーミル、ピンミル、ジェットミル等の衝撃式や、回転刃と外周ステーターが凹凸による剪断力で粉砕するカッターミル等の摩砕式がある。
Examples of the crushing method include a method of crushing with a crusher.
Examples of the crusher include an impact type such as a hammer mill, a pin mill, and a jet mill, and a crushing type such as a cutter mill in which a rotary blade and an outer peripheral stator are crushed by a shearing force due to unevenness.
粉砕温度は、−200℃以上50℃未満が好ましい。
冷凍粉砕では通常−200〜−100℃であるが、室温付近の温度(10〜30℃)で粉砕してもよい。
なかでも、粉砕コストを抑えることができる点で、10℃以上50℃未満で粉砕することがより好ましく、10〜40℃で粉砕することがさらに好ましく、10〜30℃で粉砕することが特に好ましい。
The crushing temperature is preferably −200 ° C. or higher and lower than 50 ° C.
In freezing pulverization, the temperature is usually −200 to −100 ° C., but pulverization may be performed at a temperature near room temperature (10 to 30 ° C.).
Among them, pulverization at 10 ° C. or higher and lower than 50 ° C. is more preferable, pulverization at 10 to 40 ° C. is further preferable, and pulverization at 10 to 30 ° C. is particularly preferable, in that the pulverization cost can be suppressed. ..
粉砕の後、必要に応じて、気流分級を実施してもよい。
気流分級においては、粉砕物が減圧空気により円柱状の分級室に送られ、室内の旋回気流により分散され、遠心力によって粉砕物が分級される。分級室内には、粉砕物と空気が均一に旋回運動を行うために円錐状のコーン、ローター等の回転体が設置されている。
分級コーンを使用する場合には、分級点の調節は二次エアーの風量と分級コーン間の隙間を調節することにより行う。ローターを使用する場合には、ローターの回転数により分級室内の風量を調節する。
After crushing, airflow classification may be carried out if necessary.
In the air flow classification, the crushed material is sent to the columnar classification chamber by the decompressed air, dispersed by the swirling airflow in the room, and the crushed material is classified by the centrifugal force. A rotating body such as a conical cone or a rotor is installed in the classification chamber so that the crushed material and the air make a uniform swirling motion.
When a classification cone is used, the classification point is adjusted by adjusting the air volume of the secondary air and the gap between the classification cones. When using a rotor, adjust the air volume in the classification room according to the rotation speed of the rotor.
また、気流分級の後、必要に応じて、分級により粗粒子を除去してもよい。
粗粒子の除去方法としては、例えば、気流分級、メッシュによる振動篩、メッシュによる超音波篩が挙げられ、気流分級が好ましい。
Further, after the air flow classification, coarse particles may be removed by the classification, if necessary.
Examples of the method for removing coarse particles include airflow classification, a vibration sieve using a mesh, and an ultrasonic sieve using a mesh, and airflow classification is preferable.
(工程4)
工程4は、低分子量PTFEに熱処理を施す工程であって、工程2の後に実施されることが好ましい。工程4を有することで、工程1の際に副生するPFOAおよびPFNAをより除去できる。また、工程2における洗浄溶媒を除去できる。
(Step 4)
Step 4 is a step of heat-treating the low molecular weight PTFE, and is preferably carried out after step 2. By having the step 4, the PFOA and PFNA that are by-produced in the step 1 can be further removed. In addition, the cleaning solvent in step 2 can be removed.
本発明の製造方法が工程3および工程4を有する場合、工程4は、工程2の後に実施されるのであれば、工程3の前に実施されてもよいし、工程3の後に実施されてもよい。例えば、工程1と工程2との間に工程3を有する場合、工程1、工程3、工程2および工程4がこの順に実施される。また、工程2の後に工程3を有する場合、工程1、工程2、工程4および工程3がこの順に実施されてもよいし、工程1、工程2、工程3および工程4がこの順に実施されてもよい。 When the manufacturing method of the present invention has step 3 and step 4, step 4 may be carried out before step 3 or after step 3 as long as it is carried out after step 2. good. For example, when the process 3 is provided between the process 1 and the process 2, the process 1, the process 3, the process 2 and the process 4 are carried out in this order. Further, when the step 3 is provided after the step 2, the step 1, the step 2, the step 4 and the step 3 may be carried out in this order, or the step 1, the step 2, the step 3 and the step 4 are carried out in this order. May be good.
熱処理の温度としては、50℃以上が好ましく、70℃以上がより好ましく、90℃以上がさらに好ましく、100℃以上が特に好ましい。また、300℃以下が好ましく、250℃以下がより好ましく、200℃以下がさらに好ましい。
熱処理の温度が上記範囲内である場合、PFOAおよびPFNAの除去がより進行しやすく、かつ、洗浄溶媒の除去性に優れる。
The temperature of the heat treatment is preferably 50 ° C. or higher, more preferably 70 ° C. or higher, further preferably 90 ° C. or higher, and particularly preferably 100 ° C. or higher. Further, 300 ° C. or lower is preferable, 250 ° C. or lower is more preferable, and 200 ° C. or lower is further preferable.
When the temperature of the heat treatment is within the above range, the removal of PFOA and PFNA is more likely to proceed, and the removal of the cleaning solvent is excellent.
熱処理の時間としては、10秒以上が好ましく、5分以上がより好ましく、10分以上がさらに好ましい。また、72時間以下が好ましく、48時間以下がより好ましく、36時間以下がさらに好ましい。
熱処理の時間が上記範囲内である場合、PFOAおよびPFNAの除去がより進行しやすく、かつ、洗浄溶媒の除去性に優れる。
The heat treatment time is preferably 10 seconds or longer, more preferably 5 minutes or longer, and even more preferably 10 minutes or longer. Further, 72 hours or less is preferable, 48 hours or less is more preferable, and 36 hours or less is further preferable.
When the heat treatment time is within the above range, the removal of PFOA and PFNA is more likely to proceed, and the removal of the cleaning solvent is excellent.
熱処理の際には、箱形乾燥器、バンド乾燥器、トンネル乾燥器、噴出流乾燥器、移動層乾燥器、回転乾燥器、流動層乾燥器、気流乾燥器、箱型乾燥器、円盤乾燥器、円筒型撹拌乾燥器、逆円錐型撹拌乾燥器、マイクロウェーブ装置、真空熱処理装置、箱型電気炉、熱風循環装置、フラッシュ乾燥機、振動乾燥器、ベルト乾燥器、押出乾燥器、スプレードライヤー等の熱処理装置を用いてもよい。 For heat treatment, box dryer, band dryer, tunnel dryer, spout dryer, mobile layer dryer, rotary dryer, fluid layer dryer, air flow dryer, box dryer, disk dryer , Cylindrical stirring dryer, inverted conical stirring dryer, microwave device, vacuum heat treatment device, box type electric furnace, hot air circulation device, flash dryer, vibration dryer, belt dryer, extrusion dryer, spray dryer, etc. You may use the heat treatment apparatus of.
熱処理は、いかなる雰囲気中で実施してもよいが、安全面、経済面の点から、空気中で実施することが好ましい。 The heat treatment may be carried out in any atmosphere, but it is preferably carried out in air from the viewpoint of safety and economy.
熱処理は低分子量PTFEを加熱炉内に設置して、加熱炉内を所望の温度まで上昇させた後、所望の時間放置することにより行うことができる。 The heat treatment can be performed by installing low molecular weight PTFE in a heating furnace, raising the temperature in the heating furnace to a desired temperature, and then leaving it to stand for a desired time.
[低分子量PTFE]
本発明の製造方法により得られる低分子量PTFEは、380℃における溶融粘度が1×102〜7×105Pa・sであることが好ましい。
上記溶融粘度は、ASTM D 1238に準拠し、フローテスター(島津製作所社製)および2φ−8Lのダイを用い、予め380℃で5分間加熱しておいた2gの試料を0.7MPaの荷重にて上記温度に保って測定した値である。
[Low molecular weight PTFE]
The low molecular weight PTFE obtained by the production method of the present invention preferably has a melt viscosity at 380 ° C. of 1 × 10 2 to 7 × 10 5 Pa · s.
The melt viscosity is based on ASTM D 1238, and a 2 g sample that has been preheated at 380 ° C for 5 minutes using a flow tester (manufactured by Shimadzu Corporation) and a 2φ-8L die is loaded with 0.7 MPa. It is a value measured while keeping the above temperature.
低分子量PTFEの融点は、324〜336℃であることが好ましい。
上記融点は、示差走査熱量計を用い、事前に標準サンプルとして、インジウム、鉛を用いて温度校正した上で、低分子量PTFE約3mgをアルミ製パン(クリンプ容器)に入れ、200ml/分のエアー気流下で、250〜380℃の温度領域を10℃/分で昇温させて行い、上記領域における融解熱量の極小点を融点とする。
The melting point of the low molecular weight PTFE is preferably 324 to 336 ° C.
The melting point is temperature-calibrated using indium and lead as standard samples in advance using a differential scanning calorimeter, and then about 3 mg of low molecular weight PTFE is placed in an aluminum pan (crimp container) and air is 200 ml / min. The temperature range of 250 to 380 ° C. is raised at 10 ° C./min under an air flow, and the minimum point of the heat of fusion in the above range is defined as the melting point.
本発明の製造方法により得られる低分子量PTFEは、PFOAをほとんど含まない。
本発明の製造方法により得られる低分子量PTFEにおける、PFOAの含有量25質量ppb以下が好ましく、20質量ppb以下がより好ましく、10質量ppb以下がさらに好ましく、5質量ppb未満が特に好ましい。下限は特に限定されず、検出限界未満の量であってよい。
上記PFOAの含有量は、低分子量PTFEにメタノールを加え、60℃にて120分間の超音波処理を行い、PFOAを抽出した後、抽出されたPFOAを液体クロマトグラフィーにより測定できる。
なお、低分子量PTFEにおけるPFOAの含有量とは、低分子量PTFE中におけるパーフルオロオクタン酸およびその塩の含有量を意味し、パーフルオロオクタン酸およびその塩の両方を含む場合には各化合物の含有量の合計を意味し、一方の化合物のみを含む場合には一方の化合物の含有量を意味する。
The low molecular weight PTFE obtained by the production method of the present invention contains almost no PFOA.
In the low molecular weight PTFE obtained by the production method of the present invention, the PFOA content is preferably 25 mass ppb or less, more preferably 20 mass ppb or less, further preferably 10 mass ppb or less, and particularly preferably less than 5 mass ppb. The lower limit is not particularly limited and may be an amount less than the detection limit.
The content of PFOA can be measured by adding methanol to low molecular weight PTFE, ultrasonically treating at 60 ° C. for 120 minutes, extracting PFOA, and then measuring the extracted PFOA by liquid chromatography.
The content of PFOA in the low molecular weight PTFE means the content of perfluorooctanoic acid and its salt in the low molecular weight PTFE, and when both perfluorooctanoic acid and its salt are contained, the content of each compound is contained. It means the total amount, and when it contains only one compound, it means the content of one compound.
本発明の製造方法により得られる低分子量PTFEは、PFNAをほとんど含まない。
本発明の製造方法により得られる低分子量PTFEにおける、PFNAの含有量は60質量ppb以下が好ましく、20質量ppb以下がより好ましく、10質量ppb以下がさらに好ましく、5質量ppb未満が特に好ましい。下限は特に限定されず、検出限界未満の量であってよい。
上記PFNAの含有量は、PFOAの含有量と同様の方法により測定できる。
なお、低分子量PTFEにおけるPFNAの含有量とは、低分子量PTFE中におけるパーフルオロノナン酸およびその塩の含有量の合計を意味し、パーフルオロノナン酸およびその塩の両方を含む場合には各化合物の含有量の合計を意味し、一方の化合物のみを含む場合には一方の化合物の含有量を意味する。
The low molecular weight PTFE obtained by the production method of the present invention contains almost no PFNA.
The content of PFNA in the low molecular weight PTFE obtained by the production method of the present invention is preferably 60 mass ppb or less, more preferably 20 mass ppb or less, further preferably 10 mass ppb or less, and particularly preferably less than 5 mass ppb. The lower limit is not particularly limited and may be an amount less than the detection limit.
The content of PFNA can be measured by the same method as the content of PFOA.
The content of PFNA in the low molecular weight PTFE means the total content of perfluorononanoic acid and its salt in the low molecular weight PTFE, and each compound when both perfluorononanoic acid and its salt are contained. It means the total content of one compound, and when it contains only one compound, it means the content of one compound.
低分子量PTFEは、分子鎖末端に主鎖炭素数106個あたり5個超30個未満のカルボキシル基を有していることが好ましい。 The low molecular weight PTFE preferably has more than 5 carboxyl groups and less than 30 carboxyl groups per 10 6 carbon atoms in the main chain at the end of the molecular chain.
本発明の製造方法により得られる低分子量PTFEの形状は、粉末であることが好ましい。つまり、低分子量PTFEを含む粉末(以下、単に「低分子量PTFE粉末」ともいう。)が得られることが好ましい。
低分子量PTFEが粉末である場合、平均粒子径は、1.0μm以上が好ましい。また、粉末の平均粒子径は、本発明の製造方法が工程3を有しない場合は、600μm以下が好ましく、550μm以下がより好ましい。本発明の製造方法が工程3を有する場合は、100μm以下が好ましく、50μm以下がより好ましい。
平均粒子径は、分散溶媒にイソプロピルアルコールを使用し、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(堀場製作所社製、LA−920)を用いて測定を行い、粒度分布積算の中位径(粒度分布積算の50%に対応する粒子径)を平均粒子径とする。
The shape of the low molecular weight PTFE obtained by the production method of the present invention is preferably powder. That is, it is preferable to obtain a powder containing low molecular weight PTFE (hereinafter, also simply referred to as “low molecular weight PTFE powder”).
When the low molecular weight PTFE is a powder, the average particle size is preferably 1.0 μm or more. The average particle size of the powder is preferably 600 μm or less, more preferably 550 μm or less, when the production method of the present invention does not have step 3. When the production method of the present invention has step 3, it is preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less.
The average particle size was measured using a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device (LA-920, manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd.) using isopropyl alcohol as the dispersion solvent, and the medium diameter (particle size) of the particle size distribution integration was measured. The particle size corresponding to 50% of the distribution integration) is defined as the average particle size.
上記低分子量PTFEの分子鎖末端には、PTFEの重合反応において使用された重合開始剤または連鎖移動剤の化学構造に由来する不安定末端基が生じていてもよい。
不安定末端基としては、例えば、−CH2OH、−COOH、−COOCH3が挙げられる。
An unstable terminal group derived from the chemical structure of the polymerization initiator or chain transfer agent used in the polymerization reaction of PTFE may be generated at the end of the molecular chain of the low molecular weight PTFE.
Examples of the unstable terminal group include -CH 2 OH, -COOH, and -COOCH 3 .
低分子量PTFEには、不安定末端基の安定化を行ってもよい。不安定末端基の安定化の方法としては、例えば、フッ素含有ガスに曝露することにより末端をトリフルオロメチル基に変化させる方法が挙げられる。 For low molecular weight PTFE, unstable end groups may be stabilized. Examples of the method for stabilizing the unstable terminal group include a method of changing the terminal to a trifluoromethyl group by exposure to a fluorine-containing gas.
低分子量PTFEには、末端アミド化を行ってもよい。上記末端アミド化の方法としては、例えば、特開平4−020507号公報に開示されているように、フッ素含有ガスに曝露する等して得られたフルオロカルボニル基をアンモニアガスと接触させる方法が挙げられる。 The low molecular weight PTFE may be terminally amidated. As the method of terminal amidation, for example, as disclosed in JP-A-4-020507, a method of contacting a fluorocarbonyl group obtained by exposure to a fluorine-containing gas with ammonia gas can be mentioned. Be done.
上述の不安定末端基の安定化または末端アミド化が行われた低分子量PTFEは、塗料、グリース、化粧品、メッキ液、トナー、プラスチックス等の相手材への添加剤として用いる場合に、相手材となじみやすく、分散性を向上させることができる。 The low molecular weight PTFE obtained by stabilizing or terminal amidating the unstable terminal group described above is used as an additive to a mating material such as paints, greases, cosmetics, plating solutions, toners and plastics. It is easy to get used to and can improve the dispersibility.
[粉末]
本発明は、低分子量PTFEを含む粉末であって、PFOAの含有量が25質量ppb以下であり、PFNAの含有量が60質量ppb以下であり、粉末でもある。
[Powder]
The present invention is a powder containing low molecular weight PTFE, having a PFOA content of 25 mass ppb or less, a PFNA content of 60 mass ppb or less, and is also a powder.
本発明の粉末は、PFOAの含有量が25質量ppb以下であり、20質量ppb以下が好ましく、10質量ppb以下がより好ましく、5質量ppb未満がさらに好ましい。下限は特に限定されず、検出限界未満の量であってよい。
本発明の粉末は、PFNAの含有量が60質量ppb以下であり、20質量ppb以下が好ましく、10質量ppb以下がより好ましく、5質量ppb未満がさらに好ましい。下限は特に限定されず、検出限界未満の量であってよい。
上記PFOAの含有量は、本発明の粉末にメタノールを加え、60℃にて120分間の超音波処理を行い、PFOAを抽出した後、抽出されたPFOAを液体クロマトグラフィーにより測定できる。
上記PFNAの含有量は、PFOAの含有量と同様の方法により測定できる。
The powder of the present invention has a PFOA content of 25 mass ppb or less, preferably 20 mass ppb or less, more preferably 10 mass ppb or less, still more preferably less than 5 mass ppb. The lower limit is not particularly limited and may be an amount less than the detection limit.
The powder of the present invention has a PFNA content of 60 mass ppb or less, preferably 20 mass ppb or less, more preferably 10 mass ppb or less, still more preferably less than 5 mass ppb. The lower limit is not particularly limited and may be an amount less than the detection limit.
The content of PFOA can be measured by adding methanol to the powder of the present invention, performing ultrasonic treatment at 60 ° C. for 120 minutes, extracting PFOA, and then measuring the extracted PFOA by liquid chromatography.
The content of PFNA can be measured by the same method as the content of PFOA.
本発明の粉末に含まれる低分子量PTFEは、分子鎖末端に主鎖炭素数106個あたり5個超30個未満のカルボキシル基を有していると考えられる。 It is considered that the low molecular weight PTFE contained in the powder of the present invention has more than 5 and less than 30 carboxyl groups per 10 6 carbon atoms in the main chain at the end of the molecular chain.
本発明の粉末の比表面積は0.1〜20m2/gが好ましい。上記比表面積は、0.2〜15m2/g以上がより好ましい。
比表面積は、表面分析計(商品名:BELSORP−miniII、マイクロトラック・ベル株式会社製)を用い、キャリアガスとして窒素30%、ヘリウム70%の混合ガスを用い、冷却に液体窒素を用いて、BET法により測定する。
The specific surface area of the powder of the present invention is preferably 0.1 to 20 m 2 / g. The specific surface area is more preferably 0.2 to 15 m 2 / g or more.
For the specific surface area, a surface analyzer (trade name: BELSORP-miniII, manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd.) was used, a mixed gas of 30% nitrogen and 70% helium was used as the carrier gas, and liquid nitrogen was used for cooling. Measure by the BET method.
本発明の粉末の平均粒子径は、1.0μm以上が好ましい。また、粉末の平均粒子径は、600μm以下が好ましく、550μm以下がより好ましい。
なお、より小さい平均粒子径としては、100μm以下が好ましく、50μm以下がより好ましい。
平均粒子径は、分散溶媒にイソプロピルアルコールを使用し、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(堀場製作所社製、LA−920)を用いて測定を行い、粒度分布積算の中位径(粒度分布積算の50%に対応する粒子径)を平均粒子径とする。
The average particle size of the powder of the present invention is preferably 1.0 μm or more. The average particle size of the powder is preferably 600 μm or less, more preferably 550 μm or less.
The smaller average particle size is preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less.
The average particle size was measured using a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device (LA-920, manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd.) using isopropyl alcohol as the dispersion solvent, and the medium diameter (particle size) of the particle size distribution integration was measured. The particle size corresponding to 50% of the distribution integration) is defined as the average particle size.
本発明の粉末に含まれる低分子量PTFEの組成、および、溶融粘度については、本発明の製造方法により得られる低分子量PTFEについて述べたのと同様である。
また、本発明の粉末に含まれる低分子量PTFEは、分子鎖末端に不安定末端基を有してもよい。また、本発明の粉末に含まれる低分子量PTFEには、不安定末端基の安定化を行ってもよく、末端アミド化を行ってもよく、末端フッ素化を行ってもよい。これらの態様についても、本発明の製造方法により得られる低分子量PTFEについて述べたのと同様である。
本発明の粉末は、例えば、上述した本発明の製造方法により、粉末形状の低分子量PTFEを製造することによって得ることができる。
The composition and melt viscosity of the low molecular weight PTFE contained in the powder of the present invention are the same as those described for the low molecular weight PTFE obtained by the production method of the present invention.
Further, the low molecular weight PTFE contained in the powder of the present invention may have an unstable terminal group at the end of the molecular chain. Further, the low molecular weight PTFE contained in the powder of the present invention may be stabilized by stabilizing unstable terminal groups, may be terminal amidated, or may be terminally fluorinated. These aspects are also the same as those described for the low molecular weight PTFE obtained by the production method of the present invention.
The powder of the present invention can be obtained, for example, by producing low molecular weight PTFE in powder form by the production method of the present invention described above.
(用途)
上記低分子量PTFEおよび上記粉末は、例えば、成形材料、インク、化粧品、塗料、グリース、オフィスオートメーション機器用部材、トナーを改質する添加剤、めっき液への添加剤として好適に使用できる。
上記成形材料としては、例えば、ポリオキシベンゾイルポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド等のエンジニアリングプラスチックが挙げられる。
上記低分子量PTFEは、特に、グリース用粘稠剤として好適である。
(Use)
The low molecular weight PTFE and the powder can be suitably used, for example, as a molding material, an ink, a cosmetic, a paint, a grease, a member for office automation equipment, an additive for modifying a toner, and an additive for a plating solution.
Examples of the molding material include engineering plastics such as polyoxybenzoyl polyester, polyimide, polyamide, polyamideimide, polyacetal, polycarbonate, and polyphenylene sulfide.
The low molecular weight PTFE is particularly suitable as a thickener for grease.
添加剤として用いる場合は、例えば、上記低分子量PTFEおよび/または上記粉末を含む分散液を、各種樹脂、ゴム等の分散液と混合してもよい。
また、上記低分子量PTFEおよび/または上記粉末を、樹脂等のペレットの表面に添加してもよい。ペレット表面に上記粉末等が存在することにより、ペレットのべたつきを抑え、ハンドリング性が向上し、押し出し機に入れやすくなるため好ましい。また、溶融混練によりペレット表面に存在する上記粉末等がペレットと混合されることにより、溶融混練時押出成形時に寸法安定性も向上し、成形安定剤としても効果を奏すると考えられる。また、押出の速度を下げなくてもメルトフラクチャを抑制できると考えられる。
When used as an additive, for example, a dispersion liquid containing the low molecular weight PTFE and / or the powder may be mixed with a dispersion liquid such as various resins and rubbers.
Further, the low molecular weight PTFE and / or the powder may be added to the surface of pellets such as resin. The presence of the powder or the like on the surface of the pellet is preferable because the stickiness of the pellet is suppressed, the handleability is improved, and it is easy to put it into the extruder. Further, it is considered that the powder or the like present on the surface of the pellet is mixed with the pellet by melt-kneading to improve the dimensional stability during extrusion molding during melt-kneading and to be effective as a molding stabilizer. Further, it is considered that the melt fracture can be suppressed without lowering the extrusion speed.
上記低分子量PTFEおよび上記粉末は、成形材料の添加剤として、例えば、コピーロールの非粘着性・摺動特性の向上、家具の表層シート、自動車のダッシュボード、家電製品のカバー等のエンジニアリングプラスチック成形品の質感を向上させる用途、軽荷重軸受、歯車、カム、プッシュホンのボタン、映写機、カメラ部品、摺動材等の機械的摩擦を生じる機械部品の滑り性や耐摩耗性を向上させる用途に用いることができる。 The low molecular weight PTFE and the powder can be used as additives for molding materials, for example, for improving the non-adhesiveness / sliding characteristics of copy rolls, for molding engineering plastics for surface sheets of furniture, dashboards of automobiles, covers of home appliances, and the like. Used for improving the texture of products, and for improving the slipperiness and wear resistance of mechanical parts that cause mechanical friction such as light load bearings, gears, cams, pushphone buttons, projectors, camera parts, and sliding materials. be able to.
上記低分子量PTFEおよび上記粉末は、塗料の添加剤として、ニスやペンキの滑り性向上の目的に用いることができる。上記低分子量PTFEおよび上記粉末は、化粧品の添加剤として、ファンデーション等の化粧品の滑り性向上等の目的に用いることができる。 The low molecular weight PTFE and the powder can be used as additives for paints for the purpose of improving the slipperiness of varnishes and paints. The low molecular weight PTFE and the powder can be used as additives for cosmetics for the purpose of improving the slipperiness of cosmetics such as foundations.
上記低分子量PTFEおよび上記粉末は、さらに、ワックス等の撥油性または撥水性を向上させる用途や、グリースやトナーの滑り性を向上させる用途にも好適である。 The low molecular weight PTFE and the powder are also suitable for applications such as wax and the like for improving oil repellency or water repellency, and applications for improving the slipperiness of grease and toner.
上記低分子量PTFEおよび上記粉末は、二次電池や燃料電池の電極バインダー、電極バインダーの硬度調整剤、電極表面の撥水処理剤としても使用できる。 The low molecular weight PTFE and the powder can also be used as an electrode binder for a secondary battery or a fuel cell, a hardness adjusting agent for the electrode binder, and a water repellent treatment agent for the surface of the electrode.
上記低分子量PTFEまたは上記粉末と潤滑油とを使用してグリースを調製することもできる。上記グリースは、上記低分子量PTFEまたは上記粉末と潤滑油とを含むことを特徴とすることから、潤滑油中に上記低分子量PTFEまたは上記粉末が均一かつ安定に分散しており、耐荷重性、電気絶縁性、低吸湿性等の特性に優れている。 Greases can also be prepared using the low molecular weight PTFE or the powder and lubricating oil. Since the grease contains the low molecular weight PTFE or the powder and the lubricating oil, the low molecular weight PTFE or the powder is uniformly and stably dispersed in the lubricating oil, and has a load bearing capacity. It has excellent properties such as electrical insulation and low moisture absorption.
上記潤滑油(基油)は、鉱物油であっても、合成油であってもよい。上記潤滑油(基油)としては、例えば、パラフィン系やナフテン系の鉱物油、合成炭化水素油、エステル油、フッ素オイル、シリコーンオイルのような合成油等が挙げられる。耐熱性の点からは、フッ素オイルが好ましい。フッ素オイルとしては、例えば、パーフルオロポリエーテルオイル、三フッ化塩化エチレンの低重合物が挙げられる。三フッ化塩化エチレンの低重合物は、重量平均分子量が500〜1200であってよい。 The lubricating oil (base oil) may be a mineral oil or a synthetic oil. Examples of the lubricating oil (base oil) include paraffin-based and naphthen-based mineral oils, synthetic hydrocarbon oils, ester oils, fluorine oils, synthetic oils such as silicone oils, and the like. From the viewpoint of heat resistance, fluorine oil is preferable. Examples of the fluorine oil include perfluoropolyether oil and a low polymer of ethylene trifluoride chloride. The low polymer of ethylene trifluoride chloride may have a weight average molecular weight of 500 to 1200.
上記グリースは、さらに、増稠剤を含むものであってもよい。上記増稠剤としては、例えば、金属石けん、複合金属石けん、ベントナイト、フタロシアニン、シリカゲル、ウレア化合物、ウレア・ウレタン化合物、ウレタン化合物、イミド化合物が挙げられる。上記金属石けんとしては、例えば、ナトリウム石けん、カルシウム石けん、アルミニウム石けん、リチウム石けんが挙げられる。また上記ウレア化合物、ウレア・ウレタン化合物およびウレタン化合物としては、例えば、ジウレア化合物、トリウレア化合物、テトラウレア化合物、その他のポリウレア化合物、ウレア・ウレタン化合物、ジウレタン化合物またはこれらの混合物が挙げられる。 The grease may further contain a thickener. Examples of the thickening agent include metal soap, composite metal soap, bentonite, phthalocyanine, silica gel, urea compound, urea / urethane compound, urethane compound, and imide compound. Examples of the metal soap include sodium soap, calcium soap, aluminum soap, and lithium soap. Examples of the urea compound, urea-urethane compound and urethane compound include diurea compounds, triurea compounds, tetraurea compounds, other polyurea compounds, urea-urethane compounds, diurethane compounds and mixtures thereof.
上記グリースは、上記低分子量PTFEまたは上記粉末を0.1〜50質量%含むことが好ましく、0.5〜30質量%含むことがより好ましい。 The grease preferably contains the low molecular weight PTFE or the powder in an amount of 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass.
上記グリースは、例えば、固体潤滑剤、極圧剤、酸化防止剤、油性剤、さび止め剤、粘度指数向上剤、清浄分散剤を含むこともできる。 The grease may also contain, for example, a solid lubricant, an extreme pressure agent, an antioxidant, an oily agent, an anticorrosive agent, a viscosity index improver, and a cleaning dispersant.
以下に、後述する例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、後述する例1〜6は比較例に該当し、例7〜17は実施例に該当する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples described later, but the present invention is not limited thereto. Examples 1 to 6 described later correspond to comparative examples, and examples 7 to 17 correspond to examples.
各種測定方法および評価方法は下記のとおりである。 Various measurement methods and evaluation methods are as follows.
(平均粒子径)
分散溶媒にイソプロピルアルコールを使用し、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(堀場製作所社製、LA−920)を用いて測定を行い、粒度分布積算の中位径(粒度分布積算の50%に対応する粒子径)を平均粒子径とした。
(Average particle size)
Using isopropyl alcohol as the dispersion solvent, measurement was performed using a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device (LA-920 manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd.), and the medium diameter of particle size distribution integration (50% of particle size distribution integration) was measured. The particle size corresponding to) was taken as the average particle size.
(PFOAおよびPFNAの含有量)
測定サンプル(低分子量PTFE)2gにメタノール5mlを加え、60℃にて120分間の超音波処理を行い、PFOAを抽出した。得られた液相について、英国規格(BSI) CEN/TS 15968(2010)に準拠し、液体クロマトグラフ質量分析計(Agilent社、1260HPLC/6460MS)を用い、PFOAおよびPFNAの含有量の測定を行った。この測定における検出限界は1質量ppbである。
なお、PFNAの含有量は、例1、例2および例7のみ測定した。
(Contents of PFOA and PFNA)
5 ml of methanol was added to 2 g of the measurement sample (low molecular weight PTFE), and sonication was performed at 60 ° C. for 120 minutes to extract PFOA. The obtained liquid phase was measured for the contents of PFOA and PFNA using a liquid chromatograph mass analyzer (Agilent, 1260HPLC / 6460MS) in accordance with British Standard (BSI) CEN / TS 15968 (2010). rice field. The detection limit in this measurement is 1 mass ppb.
The content of PFNA was measured only in Example 1, Example 2, and Example 7.
(例1)
PTFEモールディングパウダー(平均粒子径25μm)(AGC社製)を、380℃で焼成して、原料PTFEとして用いた。
室温下、空気中において、原料PTFEに対して、コバルト−60γ線を200kGy照射し、低分子量PTFE粉末A1を得た。その後、低分子量PTFE粉末A1を粉砕機(セイシン企業社製、SKジェット・オー・ミル0202型)で粉砕し(工程3)、平均粒子径が10μmの低分子量PTFE粉末A2を得た。
(Example 1)
PTFE molding powder (average particle size 25 μm) (manufactured by AGC) was calcined at 380 ° C. and used as a raw material PTFE.
The raw material PTFE was irradiated with cobalt-60γ rays at 200 kGy at room temperature in the air to obtain a low molecular weight PTFE powder A1. Then, the low molecular weight PTFE powder A1 was pulverized with a pulverizer (SK Jet O Mill 0202 type manufactured by Seishin Enterprise Co., Ltd.) (step 3) to obtain a low molecular weight PTFE powder A2 having an average particle diameter of 10 μm.
(例2)
低分子量PTFE粉末A2の50gを、500mLのステンレス容器(攪拌羽根付き)中における200gのエタノール(洗浄溶媒)に浸漬させて、攪拌しながら室温で60分間、低分子量PTFE粉末A2を洗浄した(工程2)。
洗浄後の低分子量PTFE粉末A2を高温恒温器(エスペック社製、スーパーテンプオーブンSTPH−200)を使用して、100℃で24時間、熱処理し(工程4)、低分子量PTFE粉末A3を得た。
(Example 2)
50 g of the low molecular weight PTFE powder A2 was immersed in 200 g of ethanol (washing solvent) in a 500 mL stainless steel container (with a stirring blade), and the low molecular weight PTFE powder A2 was washed for 60 minutes at room temperature with stirring (step). 2).
The washed low molecular weight PTFE powder A2 was heat-treated at 100 ° C. for 24 hours using a high-temperature thermostat (Super Temp Oven STPH-200 manufactured by ESPEC) (step 4) to obtain a low molecular weight PTFE powder A3. ..
(例3)
200gのエタノールの代わりに、表1に記載の洗浄溶媒を用いた以外は、例2と同様にして、低分子量PTFE粉末A4を得た。
(Example 3)
Low molecular weight PTFE powder A4 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the washing solvent shown in Table 1 was used instead of 200 g of ethanol.
(例4)
原料PTFEとして、PTFEモールディングパウダー(平均粒子径25μm)(AGC社製)を用いた。
室温下、空気中において、原料PTFEに対して、コバルト−60γ線を50kGy照射し、低分子量PTFE粉末B1を得た。その後、低分子量PTFE粉末B1を粉砕機(セイシン企業社製、SKジェット・オー・ミル0202型)で粉砕し(工程3)、平均粒子径が18μmの低分子量PTFE粉末B2を得た。
(Example 4)
As the raw material PTFE, PTFE molding powder (average particle size 25 μm) (manufactured by AGC) was used.
The raw material PTFE was irradiated with cobalt-60γ rays at 50 kGy at room temperature in the air to obtain a low molecular weight PTFE powder B1. Then, the low molecular weight PTFE powder B1 was pulverized with a pulverizer (SK Jet O Mill 0202 type manufactured by Seishin Enterprise Co., Ltd.) (step 3) to obtain a low molecular weight PTFE powder B2 having an average particle diameter of 18 μm.
(例5)
原料PTFEとして、PTFEファインパウダー(平均粒子径550μm)(AGC社製)を用いた。
室温下、空気中において、原料PTFEに対して、コバルト−60γ線を50kGy照射し、低分子量PTFE粉末C1を得た。
(Example 5)
As the raw material PTFE, PTFE fine powder (average particle size 550 μm) (manufactured by AGC) was used.
The raw material PTFE was irradiated with cobalt-60γ rays at 50 kGy at room temperature in the air to obtain a low molecular weight PTFE powder C1.
(例6)
原料PTFEとして、PTFEファインパウダー(平均粒子径550μm)(AGC社製)を用いた。
室温下、空気中において、原料PTFEに対して、コバルト−60γ線を100kGy照射し、低分子量PTFE粉末D1を得た。その後、低分子量PTFE粉末D1を粉砕機(セイシン企業社製、SKジェット・オー・ミル0202型)で粉砕し(工程3)、平均粒子径が10μmの低分子量PTFE粉末D2を得た。
(Example 6)
As the raw material PTFE, PTFE fine powder (average particle size 550 μm) (manufactured by AGC) was used.
The raw material PTFE was irradiated with cobalt-60γ rays at 100 kGy at room temperature in the air to obtain a low molecular weight PTFE powder D1. Then, the low molecular weight PTFE powder D1 was pulverized with a pulverizer (SK Jet O Mill 0202 type manufactured by Seishin Enterprise Co., Ltd.) (step 3) to obtain a low molecular weight PTFE powder D2 having an average particle diameter of 10 μm.
(例7〜例10)
200gのエタノールの代わりに、表1に記載の洗浄溶媒を用いた以外は、例2と同様にして、低分子量PTFE粉末A5〜A8を得た。
なお、表中、「AE−3000」は、CF3CH2OCF2CF2H(AE−3000:製品名、AGC社製)を表す。また、「AK−225」は、ジクロロペンタフルオロプロパン(AK−225:製品名、AGC社製。CF3CF2CHCl2とCClF2CF2CHClFとの混合物。)を表す。
(Examples 7 to 10)
Low molecular weight PTFE powders A5 to A8 were obtained in the same manner as in Example 2 except that the washing solvent shown in Table 1 was used instead of 200 g of ethanol.
In the table, "AE-3000" represents CF 3 CH 2 OCF 2 CF 2 H (AE-3000: product name, manufactured by AGC Inc.). Further, "AK-225" represents dichloropentafluoropropane (AK-225: product name, manufactured by AGC Inc., a mixture of CF 3 CF 2 CHCl 2 and CClF 2 CF 2 CHClF).
(例11)
200gのエタノールの代わりに、表1に記載の洗浄溶媒を用い、洗浄時間を5分にした以外は、例2と同様にして、低分子量PTFE粉末A9を得た。
(Example 11)
A low molecular weight PTFE powder A9 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the washing solvent shown in Table 1 was used instead of 200 g of ethanol and the washing time was set to 5 minutes.
(例12)
低分子量PTFE粉末B2の50gを、500mLのステンレス容器(攪拌羽根付き)中における200gのAE−3000に浸漬させて、攪拌しながら室温で60分間、低分子量PTFE粉末B2を洗浄した(工程2)。
洗浄後の低分子量PTFE粉末B2を高温恒温器(エスペック社製、スーパーテンプオーブンSTPH−200)を使用して、100℃で24時間、熱処理し(工程4)、低分子量PTFE粉末B3を得た。
(Example 12)
50 g of the low molecular weight PTFE powder B2 was immersed in 200 g of AE-3000 in a 500 mL stainless steel container (with a stirring blade), and the low molecular weight PTFE powder B2 was washed for 60 minutes at room temperature while stirring (step 2). ..
The washed low molecular weight PTFE powder B2 was heat-treated at 100 ° C. for 24 hours using a high-temperature thermostat (Super Temp Oven STPH-200 manufactured by ESPEC) (step 4) to obtain a low molecular weight PTFE powder B3. ..
(例13)
洗浄時間を5分にした以外は、例12と同様にして、低分子量PTFE粉末B4を得た。
(Example 13)
Low molecular weight PTFE powder B4 was obtained in the same manner as in Example 12 except that the washing time was set to 5 minutes.
(例14)
低分子量PTFE粉末C1の50gを、500mLのステンレス容器(攪拌羽根付き)中における200gのAE−3000に浸漬させて、攪拌しながら室温で60分間、低分子量PTFE粉末C1を洗浄した(工程2)。
洗浄後の低分子量PTFE粉末C1を高温恒温器(エスペック社製、スーパーテンプオーブンSTPH−200)を使用して、100℃で24時間、熱処理し(工程4)、低分子量PTFE粉末C2を得た。
(Example 14)
50 g of the low molecular weight PTFE powder C1 was immersed in 200 g of AE-3000 in a 500 mL stainless steel container (with a stirring blade), and the low molecular weight PTFE powder C1 was washed for 60 minutes at room temperature while stirring (step 2). ..
The washed low molecular weight PTFE powder C1 was heat-treated at 100 ° C. for 24 hours using a high-temperature thermostat (Super Temp Oven STPH-200 manufactured by ESPEC) (step 4) to obtain a low molecular weight PTFE powder C2. ..
(例15)
洗浄時間を5分にした以外は、例14と同様にして、低分子量PTFE粉末C3を得た。
(Example 15)
Low molecular weight PTFE powder C3 was obtained in the same manner as in Example 14 except that the washing time was set to 5 minutes.
(例16)
低分子量PTFE粉末D2の50gを、500mLのステンレス容器(攪拌羽根付き)中における200gのAE−3000に浸漬させて、攪拌しながら室温で60分間、低分子量PTFE粉末D2を洗浄した(工程2)。
洗浄後の低分子量PTFE粉末D2を高温恒温器(エスペック社製、スーパーテンプオーブンSTPH−200)を使用して、100℃で24時間、熱処理し(工程4)、低分子量PTFE粉末D3を得た。
(Example 16)
50 g of the low molecular weight PTFE powder D2 was immersed in 200 g of AE-3000 in a 500 mL stainless steel container (with a stirring blade), and the low molecular weight PTFE powder D2 was washed for 60 minutes at room temperature while stirring (step 2). ..
The washed low molecular weight PTFE powder D2 was heat-treated at 100 ° C. for 24 hours using a high-temperature thermostat (Super Temp Oven STPH-200 manufactured by ESPEC) (step 4) to obtain a low molecular weight PTFE powder D3. ..
(例17)
洗浄時間を5分にした以外は、例16と同様にして、低分子量PTFE粉末D4を得た。
(Example 17)
Low molecular weight PTFE powder D4 was obtained in the same manner as in Example 16 except that the washing time was set to 5 minutes.
表1中、「工程3」欄は粉砕処理の有無を表す。
表1中、「工程4」欄は熱処理における加熱条件(温度×時間)を表す。
表1中、「<1」は、1未満を意味する。
In Table 1, the column "Step 3" indicates the presence or absence of pulverization treatment.
In Table 1, the "step 4" column represents the heating conditions (temperature x time) in the heat treatment.
In Table 1, "<1" means less than 1.
本発明の製造方法により得られた低分子量PTFEおよび粉末は、所望の効果を示した。 The low molecular weight PTFE and powder obtained by the production method of the present invention showed a desired effect.
Claims (6)
前記工程1の後に、前記低分子量ポリテトラフルオロエチレンに対して、洗浄溶媒を用いた洗浄処理を施す工程2と、を有し、
前記洗浄溶媒がフッ素系溶剤を含む、低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。 Step 1 to obtain low molecular weight polytetrafluoroethylene by irradiating polytetrafluoroethylene with radiation,
After the step 1, the step 2 of performing a cleaning treatment using a cleaning solvent on the low molecular weight polytetrafluoroethylene is provided.
A method for producing low molecular weight polytetrafluoroethylene, wherein the cleaning solvent contains a fluorinated solvent.
さらに、前記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを粉砕する工程3を有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。 At least one between the step 1 and the step 2 and after the step 2.
The method for producing low molecular weight polytetrafluoroethylene according to any one of claims 1 to 3, further comprising the step 3 of pulverizing the low molecular weight polytetrafluoroethylene.
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WO2023139838A1 (en) * | 2022-01-24 | 2023-07-27 | 株式会社アドマテックス | Fluororesin particle material and method for producing same, composite particle material and method for producing same, and method for producing spherical fluororesin particle material |
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