JP2021167867A - 光学積層体 - Google Patents

Abstract

【課題】高強度の紫外線を照射した場合にも光学性能に変化を生じ難く、過酷な環境下においても性能変化が生じ難い高い耐久性を有する、位相差層を含む光学積層体を提供すること。【解決手段】少なくとも１種の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化物から構成される位相差発現層を含む位相差層と、前記位相差層の少なくとも一方の面に隣接するガスバリア層とを含み、前記ガスバリア層が５００ｃｍ３／（ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ）以下の酸素ガス透過度を有する、光学積層体。【選択図】なし

Description

本発明は、光学積層体、特に、位相差層と該位相差層に隣接するガスバリア層とを含む光学積層体に関する。

フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）に用いられる位相差板として、逆波長分散性を示す位相差板が知られている。そのような位相差板を形成する重合性液晶化合物は、一般的に紫外線領域に極大吸収を有しており、該重合性液晶化合物から形成される位相差板の位相差値は紫外光から可視光領域の光暴露に起因して変化しやすいことが知られている。位相差板における位相差値の変化は、該位相差板の光学性能低下の要因となり得るため、紫外光などに暴露された場合であっても位相差値の変化を生じ難い位相差板の開発がなされている。

例えば、特許文献１には、紫外光に暴露された場合に位相差値が正方向に変化する重合性液晶化合物と、位相差値が負方向に変化する重合性液晶化合物とを含む２種以上の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を用いて位相差板を作製することによって、位相差板全体として位相差値変化の均衡を維持する技術が開示されている。

特開２０１９−００３１７７号公報

近年、上記特許文献１に開示されるように、光暴露に対して位相差値の変化を生じ難い位相差板の開発は進んでいるが、高い耐久性を有する光学積層体（位相差板）への強い要望は依然として存在する。

本発明は、上記要望に対して、特許文献１とは異なる新規の解決手段、すなわち、光暴露に対して相対する位相差値変化を生じる２種の重合性液晶化合物を用いなくても上記要望を満たし得る手段を提供することを目的とするものであり、高強度の紫外線を照射した場合にも光学性能に変化を生じ難く、過酷な環境下においても性能変化が生じ難い高い耐久性を有する、位相差層を含む光学積層体を提供することを目的とする。

本発明は、以下の好適な態様を提供するものである。
［１］少なくとも１種の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化物から構成される位相差発現層を含む位相差層と、前記位相差層の少なくとも一方の面に隣接するガスバリア層とを含み、
前記ガスバリア層が５００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下の酸素ガス透過度を有する、光学積層体。
［２］ガスバリア層は架橋構造を有するポリマーを含む、前記［１］に記載の光学積層体。
［３］架橋構造は疎水性架橋剤に由来する、前記［２］に記載の光学積層体。
［４］疎水性架橋剤が、イソシアネート系架橋剤、多価アルデヒド系架橋剤および金属化合物系架橋剤からなる群より選択される少なくとも１種を含む、前記［３］に記載の光学積層体。
［５］ポリマーはポリビニルアルコール系樹脂を含む、前記［２］〜［４］のいずれかに記載の光学積層体。
［６］前記ガスバリア層が位相差層の両面に隣接して配置される、前記［１］〜［５］のいずれかに記載の光学積層体。
［７］前記ガスバリア層が位相差層の厚み方向の少なくとも１つの側面を被覆する、前記［１］〜［６］のいずれかに記載の光学積層体。
［８］偏光子層をさらに含む、前記［１］〜［７］のいずれかに記載の光学積層体。
［９］偏光子層と位相差層とが、位相差層に隣接するガスバリア層のみを介して積層されている、前記［８］に記載の光学積層体。

本発明によれば、高強度の紫外線を照射した場合にも光学性能に変化を生じ難く、過酷な環境下においても性能変化が生じ難い高い耐久性を有する、位相差層を含む光学積層体を提供することができる。

本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。 本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。 本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。 本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。 本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。

本発明の光学積層体は、位相差層と、前記位相差層の少なくとも一方の面に隣接するガスバリア層とを含む。以下、本発明の光学積層体の層構成の一例を図１および２に基づいて説明するが、本発明の光学積層体はこれらの態様に限定されるものではない。

図１に示す光学積層体１１は、位相差層１と、前記位相差層１の一方の面に隣接するガスバリア層２とを含む。この光学積層体１１において位相差層１は、配向膜３と、該配向膜３上に形成された位相差発現層４とからなっている。
なお、本明細書において位相差層とは、位相差発現層が配向膜上に形成されている場合には、配向膜と該配向膜上に形成された位相差発現層とからなる構成をいい、位相差発現層が配向膜なしで形成されている場合には、該位相差発現層からなる構成をいう。

本発明の光学積層体は、位相差層とガスバリア層に加えて、画像表示装置等に組み込まれ得る各種機能を有する他の層を含んで構成されていてもよい。他の層としては、例えば、（剥離可能な）基材、偏光子層、保護層やハードコート層などの硬化樹脂層、粘接着剤層、前面板などが挙げられる。図１に示す光学積層体１１において、位相差層１は剥離可能な基材５上に形成されており、例えば、剥離可能な基材５を剥離した後、位相差層１の配向膜３側に第２のガスバリア層２を形成することにより、図２に示すような、位相差層１の両面にガスバリア層２を有する光学積層体１１が得られる。また、例えば、図３に示すように、図１および図２に示すような層構成からなる積層体のガスバリア層２に粘着剤層６を介して偏光子層７を積層することで、位相差層１と偏光子層７とを含む光学積層体１１（楕円偏光板）が得られる。これらの光学積層体は、剥離可能な基材５を剥離した後、例えば、粘接着剤層を介して位相差層１を表示素子等に貼合することにより画像表示装置等に組み込むことができる。

紫外線領域に極大吸収を有する重合性液晶化合物の硬化物から形成される位相差板の光暴露に起因する位相差値低下の一因は、酸素が存在する環境下での光暴露により液晶硬化物で過酸化ラジカルが生成することにあると考えられる。例えば、光学積層体を構成する粘接着剤層は一般的に高い気体透過度を有することが多いため、光学積層体を構成する層として粘着剤層を含む場合、気体状態の酸素が該粘着剤層から光学積層体内へ侵入しやすく、光学積層体内へ侵入した酸素の位相差層への拡散が起こりやすくなる。本発明の光学積層体は、位相差層の少なくとも一方の面に、酸素ガス透過度の低いガスバリア層を有することにより、位相差層への酸素の拡散を抑制する効果に優れる積層体となる。

本発明の光学積層体は、位相差層の少なくとも一方の面に隣接するガスバリア層を含み、前記ガスバリア層は５００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下の酸素ガス透過度を有する。酸素ガス透過度が前記上限以下であるガスバリア層が位相差層に隣接して存在することにより、例えば、光学積層体を構成する粘着剤層から侵入した酸素の位相差層内への拡散を抑制する効果が得られる。酸素ガスのより高い拡散抑制効果を得る観点から、位相差層に隣接するガスバリア層の酸素ガス透過度は、好ましくは３００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、より好ましくは２００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、さらに好ましくは１５０ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、特に好ましくは１００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下である。酸素ガス透過度が低ければ低いほど酸素ガス拡散抑制効果に優れるため、本発明において前記酸素ガス透過度の下限は特に限定されず、０ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）であってもよい。
ガスバリア層の酸素ガス透過度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２６−１に準拠した差圧式気体透過度測定法により測定することができる。詳細には、後述する実施例に記載の方法に従い測定できる。

本発明においてガスバリア層は、位相差層の片面にのみ設けられていてもよく、両面に隣接して設けられていてもよい。位相差層のいずれの面にガスバリア層を配置するかは、位相差層およびガスバリア層以外の、光学積層体を構成する他の層の種類やその配置に応じて適宜決定すればよいが、最終的な光学積層体において粘着剤層が存在する側の位相差層の面にガスバリア層が存在することが好ましい。また、位相差層が配向膜と位相差発現層とからなる場合には、位相差発現層の配向膜とは反対側の面にガスバリア層が存在することが好ましい。位相差層の両面にガスバリア層が存在する場合、そのうちの少なくとも一方のガスバリア層の酸素ガス透過度が前記上限以下である必要があり、両面のガスバリア層の酸素ガス透過度がいずれも上記上限以下であることが好ましい。

本発明の一態様において、ガスバリア層が位相差層の厚み方向の少なくとも１つの側面を被覆していることが好ましい。一般的な光学積層体は、最終的に矩形の枚葉状であることが多く、そのような光学積層体において位相差層の厚み方向には４つの側面が存在する。本発明において、ガスバリア層が位相差層の厚み方向の少なくとも１つの側面を被覆しているとは、例えば、そのような位相差層の側面のうちの少なくとも１つが、その少なくとも一部においてガスバリア層で被覆されている状態を意味する。位相差層の厚み方向の側面がガスバリア層で覆われていることにより、位相差層が外部環境（外気）と直接接する領域を少なくすることができ、空気中の酸素や水分が位相差層の厚み方向の側面を介して層内へ侵入することを防止し得る。これにより、光暴露により位相差層の位相差値の低下を効果的に抑制しやすくなる。本発明の光学積層体においては、位相差層の厚み方向の少なくとも１つの側面の全面がガスバリア層で被覆されていることがより好ましく、位相差層の全ての側面の全面がガスバリア層で被覆されていることがさらに好ましい。

本発明において、位相差層に隣接して配置されるガスバリア層の厚みは、ガスバリア層を構成する材料、光学積層体の層構成等に応じて適宜決定できる。ガスバリア層の厚みは、十分なガスバリア性を確保する観点から、好ましくは０．０１μｍ以上、より好ましくは０．０５μｍ以上、さらに好ましくは０．１μｍ以上である。また、光学積層体の薄型化、干渉による色ムラの抑制、屈曲性の付与の観点から、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下である。本発明の光学積層体にガスバリア層が複数存在する場合、それらのガスバリア層の厚みは、互いに同じであっても異なっていてもよいが、複数のガスバリア層の全てが上記範囲内の厚みを有することが好ましい。なお、ガスバリア層の膜厚は、膜厚計により測定できる。

本発明の光学積層体において位相差層に隣接して配置されるガスバリア層は、ポリマーを含む層であることが好ましい。ガスバリア層を構成し得るポリマー材料としては、酸素ガス透過度が５００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下となる層を得られるものであれば特に限定されず、公知のポリマー材料を用いることができるが、ポリマー材料として樹脂を含むことが好ましい。本発明においてガスバリア層を構成する樹脂は、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂のいずれであってもよく、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。これらは１種のみを用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、ポリマー材料として、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂が好ましく、酸素ガス透過度が低く、位相差層への酸素ガスの侵入抑制効果に優れるガスバリア層を形成しやすい観点から、ポリビニルアルコール系樹脂がより好ましい。

本発明の一態様において、位相差層に隣接して配置されるガスバリア層は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む樹脂組成物（以下、「ＰＶＡ系樹脂組成物」ともいう）から形成される。
本明細書において、ポリビニルアルコール系樹脂とは、ビニルアルコール由来の構成単位を５０質量％以上含む樹脂をいう。ポリビニルアルコール系樹脂とは、ビニルアルコール由来の構成単位を５０質量％以上含む樹脂をいう。ポリビニルアルコール系樹脂は、ビニルエステルに由来する構造単位を有するポリビニルエステル系樹脂をケン化することにより得ることができる。ポリビニルエステル系樹脂を構成するビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル等が挙げられるが、酢酸ビニルが好ましい。

ポリビニルエステル系樹脂は、酢酸ビニルなどのビニルエステルの単独重合体であってもよく、また、該ビニルエステルと共重合可能な他の単量体との共重合体であってもよい。ビニルエステルに共重合され得る他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、不飽和スルホン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。

ガスバリア層に用いるポリビニルアルコール系樹脂は、部分ケン化のポリビニルアルコール系樹脂であっても、完全ケン化のポリビニルアルコール系樹脂であってもよい。ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、特に限定されるものではなく適宜決定すればよいが、一般には７０モル％以上であり、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは８５モル％以上、さらに好ましくは９０モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度が上記下限以上であると、得られるガスバリア層の耐水性やガスバリア層と隣接する層との密着性が向上しやすい。ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度の上限は、１００モル％以下であってもよく、好ましくは９９．９５モル％以下である。なお、ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、ＪＩＳ Ｋ６７２６に記載される方法に準拠して測定することができる。

ポリビニルエステル系樹脂をケン化する方法は、特に限定されず、従来公知の方法を採用することができ、例えば、アルコールなどの有機溶媒中において触媒の存在下、ケン化する方法等が挙げられる。

ガスバリア層に用いるポリビニルアルコール系樹脂は、ホモポリマーであっても共重合体であってもよい。ポリビニルアルコールとの共重合体を構成する単量体の種類を選択することにより、酸素ガス透過抑制、耐水性や隣接する層との密着性等の各種機能をガスバリア層に付与し得る。ポリビニルアルコール共重合体としては、例えば、エチレン−ポリビニルアルコール共重合体、アクリル酸、メタクリル酸メチル−ポリビニルアルコール等が挙げられる。ポリビニルアルコール共重合体におけるビニルアルコール単位の量は、好ましくは８０〜９８モル％、より好ましくは８５〜９８モル％である。

ポリビニルアルコールの平均重合度は、好ましくは１０００〜１００００、より好ましくは１０００〜５０００、さらに好ましくは１１００〜３０００である。ここで、平均重合度とは、数平均重合度のことである。平均重合度がこの範囲にあると、該ポリビニルアルコールを含む水溶液物性の安定性、得られる硬化膜の酸素ガスバリア性および耐水性を両立することができる。なお、ポリビニルアルコールの平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ６７２６の記載に準じて測定した平均重合度を意味する。

ガスバリア層に用いるポリビニルアルコール系樹脂としては、変性されたものであることが好ましい。変性ポリビニルアルコール系樹脂としては、例えば、アセトアセチル基変性されたポリビニルアルコール系樹脂、カルボン酸変性されたポリビニルアルコール系樹脂、カルボニル基変性されたポリビニルアルコール系樹脂、スルホン酸変性されたポリビニルアルコール系樹脂、ヒドラジド基変性されたポリビニルアルコール系樹脂、チオール基変性されたポリビニルアルコール系樹脂、アルキル基変性されたポリビニルアルコール系樹脂、シリル基変性されたポリビニルアルコール系樹脂、ポリエチレングリコール基変性されたポリビニルアルコール系樹脂、エチレンオキシド基変性されたポリビニルアルコール系樹脂、ウレタン結合を有する基で変性されたポリビニルアルコール系樹脂、リン酸エステル基で変性されたポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。このような変性されたポリビニルアルコール系樹脂を用いると、後述する架橋剤による架橋反応の選択肢が増え、架橋反応性を高めやすくなり、ガスバリア層の耐水性やガスバリア層と隣接する層との密着性が向上するため好ましい。

上記ポリビニルアルコール系樹脂は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、ポリビニルアルコール系樹脂として、市販品を用いてもよい。

本発明においてガスバリア層は、架橋構造を有するポリマーを含むことが好ましい。架橋構造を有するポリマーを含むことにより、ガスバリア層が緻密な構造になり、酸素ガス透過抑制効果が向上しやすくなるとともに、ガスバリア層とこれに隣接する層との密着性が向上しやすくなる。
ガスバリア層がＰＶＡ系樹脂組成物から形成される場合、ポリビニルアルコール系ポリマーに架橋構造を導入するために使用し得る架橋剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂における架橋剤として公知の化合物を用いることができる。そのような架橋剤としては、例えば、グリオキシル酸塩等のイオン結合性架橋剤やエポキシ系架橋剤、などの水溶性添加剤や架橋剤、イソシアネート系架橋剤、グリオキザールやグリオキザール誘導体等の多価アルデヒド系架橋剤、塩化ジルコニウム系またはチタンラクテート系等の金属化合物系架橋剤、などの疎水性架橋剤が挙げられる。中でも、ガスバリア層に、隣接する層との高い密着性に加えて優れた耐水性を付与し得る観点から、ガスバリア層を構成するポリマーにおける架橋構造が疎水性架橋剤に由来することが好ましく、イソシアネート系架橋剤、多価アルデヒド系架橋剤および金属化合物系架橋剤からなる群より選択される少なくとも１種の架橋剤に由来することがより好ましい。架橋剤は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

架橋剤として市販品を用いることができる。水溶性の架橋剤としては、例えば、「Ｓａｆｅｌｉｎｋ ＳＰＭ−０１」（三菱ケミカル株式会社製）、「Ｓｕｍｉｒｅｚ Ｒｅｓｉｎ６５０」（田岡化学工業株式会社製）等が挙げられる。また、疎水性の架橋剤としては、例えば、「バーノックＤＮＷ−５０００」（ＤＩＣ株式会社製）、「オルガチックスＺＢ−４００」（マツモトファインケミカル株式会社製）、「オルガチックスＴＣ−３１０」（マツモトファインケミカル株式会社製）等が挙げられる。

本発明において、ガスバリア層を構成するポリマーに架橋構造を導入するために架橋剤を使用する場合、その添加量は用いる架橋剤の種類等に応じて適宜決定すればよい。ＰＶＡ系樹脂組成物における架橋剤の含有量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜１００質量部であり、好ましくは１〜５０質量部、より好ましくは１０〜３０質量部である。架橋剤の含有量が上記範囲であると、ガスバリア層が緻密になり、酸素ガス透過抑制効果が向上しやすく、また、ガスバリア層とこれに隣接する層との密着性が向上しやすくなる。さらに、疎水性架橋剤を用いる場合には得られるガスバリア層に十分に高い耐水性を付与することができる。

ガスバリア層を形成し得るＰＶＡ系樹脂組成物は、通常、ポリビニルアルコール系樹脂を溶媒に溶解させた溶液として調製される。ＰＶＡ系樹脂組成物における溶媒としては、水、アルコール、水とアルコールの混合物等が挙げられ、水が好ましい。例えば、該ガスバリア層を形成する面にＰＶＡ系樹脂組成物を塗工し、該塗膜を乾燥して硬化させることによりガスバリア層を得ることができる。

ポリビニルアルコール系樹脂や架橋剤に溶媒を添加することにより得られるＰＶＡ系樹脂の固形分濃度は、好ましくは２〜５０質量％、より好ましくは５〜３０質量％、さらに好ましく５〜１５質量％である。ＰＶＡ系樹脂組成物の固形分濃度が上記範囲内であると該組成物の粘度が低くなることから、塗工性や取扱性が良好となる。なお、ここでいう「固形分」とは、ＰＶＡ系樹脂組成物から水などの溶媒を除いた成分のことをいう。

ＰＶＡ系樹脂組成物は、ポリビニルアルコール系樹脂、架橋剤および水などの溶媒に加えて、添加剤等の他の成分を含んでいてもよい。そのような他の成分としては、例えば、防腐剤、レベリング剤などが挙げられる。ガスバリア層形成用組成物が添加剤等の他の成分を含む場合、その量は、ガスバリア層形成用組成物の固形分に基づき、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下である。

ＰＶＡ系樹脂組成物の塗膜を形成する方法は特に限定されず、例えば、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。

ＰＶＡ系樹脂組成物の塗膜からガスバリア層を形成するための乾燥温度や時間等は特に限定されず、用いるガスバリア層形成用組成物の組成等に応じて適宜決定すればよい。乾燥処理は、例えば、熱風を吹き付けることなどによって行なうことができ、その温度は、通常４０〜１００℃、好ましくは６０〜１００℃の範囲内である。また、乾燥時間は通常、１０〜６００秒である。

本発明の別の一態様において、位相差層に隣接して配置されるガスバリア層は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含む硬化性組成物（以下、「ガスバリア層形成用硬化性組成物」ともいう）から形成される。
ガスバリア層形成用硬化性組成物としては、エポキシ系化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の硬化性組成物、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の硬化性組成物、エポキシ系化合物等のカチオン重合性の硬化成分およびアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含み、さらにカチオン重合開始剤およびラジカル重合開始剤を含む硬化性組成物、および、重合開始剤を含まずに電子ビームを照射することで硬化される硬化性組成物等が挙げられる。中でも、酸素ガス透過性が低いことに起因する高強度紫外線に対する耐久性と、耐水性の観点から、ガスバリア層がエポキシ系樹脂を含む層であることが好ましく、エポキシ系化合物を含むカチオン重合性エポキシ系化合物含有の硬化性組成物から形成されることが好ましい。

好適に使用できるエポキシ系化合物としては、芳香族ポリオールの芳香環に水素化反応を行って得られる脂環式ポリオールに、エピクロロヒドリンを反応させることにより得られる水素化エポキシ系化合物（脂環式環を有するポリオールのグリシジルエーテル）；脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ系化合物；脂環式環に結合したエポキシ基を分子内に１個以上有するエポキシ系化合物である脂環式エポキシ系化合物等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

ガスバリア層形成用硬化性組成物は無溶剤であってもよいし、有効成分が溶剤で希釈されていてもよい。有効成分が溶剤で希釈されている場合の溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、塩化メチレン等の揮発性溶剤が挙げられる。溶剤で希釈されている場合の有効成分の希釈倍率は、好ましくは２〜４０倍、より好ましくは１０〜３０倍である。なお、本明細書において上記「有効成分」とは、ガスバリア層形成用硬化性組成物の固形分、すなわち、ガスバリア層形成用硬化性組成物から溶剤等の揮発性成分を除いた全ての成分を意味する。

ガスバリア層形成用硬化性組成物の有効成分中のエポキシ系化合物の含有量は、好ましくは７０〜９９質量％、より好ましくは９０〜９５質量％である。

ガスバリア層形成用硬化性組成物が、カチオン系エポキシ系化合物を硬化性成分として含む場合、光カチオン重合開始剤を含有することが好ましい。光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩；芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩；鉄−アレン錯体等が挙げられる。

ガスバリア層形成用硬化性組成物における光カチオン重合開始剤の含有量は、カチオン系エポキシ系化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜３０質量部、より好ましくは１〜１０質量部である。

ガスバリア層形成用硬化性組成物は、必要に応じて、オキセタン、ポリオール等のカチオン重合促進剤、光増感剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤、および／または溶媒等の添加剤を含有することができる。

ガスバリア層形成用硬化性組成物を、ガスバリア層を形成する面に塗工した後、活性エネルギー線を照射して硬化することによって、ガスバリア層を形成できる。ガスバリア層形成用硬化性組成物の塗布方法としては、ＰＶＡ系樹脂組成物の塗布方法と同様の方法を採用し得る。

活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０〜３，０００ｍＷ／ｃｍ^２である。紫外線照射強度は、好ましくは重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは１秒〜５分、より好ましくは５秒〜３分、さらに好ましくは１０秒〜１分である。このような紫外線照射強度で１回または複数回照射すると、その積算光量は、１０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２である。

本発明において、ガスバリア層が位相差層の厚み方向の少なくとも１つの側面を被覆している場合、例えば、ガスバリア層で被覆される位相差層を、ガスバリア層を形成するための組成物（溶液）中に浸漬する、位相差層の側面が離型用フィルムの側面に覆われる形で、位相差層と離型用フィルムとをガスバリアを形成するための組成物（溶液）を介して接着するなどの方法により、位相差層の厚み方向の側面をガスバリア層で被覆することができる。

本発明の光学積層体において位相差層は、少なくとも１種の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物（以下、「重合性液晶組成物」ともいう）の硬化物からなる位相差発現層を含む。位相差発現層を形成する重合性液晶化合物としては、所望する光学特性に応じて、位相差フィルムの分野において従来公知の重合性液晶化合物から適宜選択することができる。

重合性液晶化合物は、重合性基を有する液晶化合物である。重合性液晶化合物としては、一般に、該重合性液晶化合物を単独で特定方向に配向した状態で重合することにより得られる重合体（硬化物）が、正波長分散性を示す重合性液晶化合物と逆波長分散性を示す重合性液晶化合物とが挙げられる。本発明においては、どちらか一方の種類の重合性液晶化合物のみを使用してもよく、両方の種類の重合性液晶化合物を混合して用いてもよい。本発明の光学積層体は、酸素ガス透過度の低いガスバリア層を位相差層に隣接して配置することにより、位相差層内へ拡散される酸素ガスの量を低減する効果に優れる。このため、一般に、紫外線領域に極大吸収を有することが多く、酸素の存在する環境下で光暴露されることにより過酸化ラジカルを生成しやすい重合性液晶化合物から形成される位相差発現層を含む場合に、本発明の効果をより顕著に得ることができる。したがって、本発明の光学積層体を構成する位相差発現層は、いわゆる逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化物であることが好ましい。

重合性基とは、重合反応に関与し得る基をいう。本発明において位相差層を形成する重合性液晶化合物が有する重合性基は、好ましくは光重合性基である。光重合性基とは、重合性基であって、光重合開始剤から発生した反応活性種、例えば活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性基としては、例えばビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、（メタ）アクリロイル基、オキシラニル基、オキセタニル基が挙げられる。中でも、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイル基がより好ましい。重合性液晶化合物が示す液晶性はサーモトロピック性液晶であってもよいし、リオトロピック性液晶であってもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、サーモトロピック性液晶における相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもディスコチック液晶でもよい。重合性液晶化合物は単独または二種以上組み合わせて使用できる。

いわゆるＴ字型またはＨ型の分子構造を有する重合性液晶化合物は、重合して硬化させた際に逆波長分散性を発現しやすく、Ｔ字型の分子構造を有する重合性液晶化合物はより強い逆波長分散性を発現する傾向にある。

逆波長分散性とは、短波長での面内位相差値の方が長波長での面内位相差値よりも大きくなる光学特性である。本発明において逆波長分散性を示す重合性液晶化合物とは、具体的には、重合性液晶化合物の配向状態の重合体が、下記式：
Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）
〔Ｒｅ（λ）は波長λでの位相差板の正面リタデーションを表す〕
を満たす化合物を意味する。
さらに、本発明において逆波長分散性を示す重合性液晶化合物は、重合性液晶化合物の配向状態の重合体が下記式（Ｉ）および（ＩＩ）を満たすことが好ましい。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０ （Ｉ）
１．０≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （ＩＩ）
〔式中、Ｒｅ（λ）は上記と同じ意味を表す。〕

逆波長分散性を示す重合性液晶化合物としては、下記（Ａ）〜（Ｄ）の特徴を有する化合物であることが好ましい。
（Ａ）ネマチック相またはスメクチック相を形成し得る化合物である。
（Ｂ）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する。
（Ｃ）長軸方向（ａ）に対して交差する方向〔交差方向（ｂ）〕上にπ電子を有する。
（Ｄ）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ） （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ） （ｉｉ）
とが、式（ｉｉｉ）
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕＜１ （ｉｉｉ）
の関係にある〔すなわち、交差方向（ｂ）のπ電子密度が、長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きい〕。上記記載のように長軸およびそれに対して交差方向上にπ電子を有する重合性液晶化合物は、一般にＴ字構造となりやすい。

上記（Ａ）〜（Ｄ）の特徴において、長軸方向（ａ）およびπ電子数Ｎは以下のように定義される。
・長軸方向（ａ）は、例えば棒状構造を有する化合物であれば、その棒状の長軸方向である。
・長軸方向（ａ）上に存在するπ電子数Ｎ（πａ）には、重合反応により消失するπ電子は含まない。
・長軸方向（ａ）上に存在するπ電子数Ｎ（πａ）には、長軸上のπ電子およびこれと共役するπ電子の合計数であり、例えば長軸方向（ａ）上に存在する環であって、ヒュッケル則を満たす環に存在するπ電子の数が含まれる。
・交差方向（ｂ）に存在するπ電子数Ｎ（πｂ）には、重合反応により消失するπ電子は含まない。
上記を満たす重合性液晶化合物は、長軸方向にメソゲン構造を有している。このメソゲン構造によって、液晶相（ネマチック相、スメクチック相）を発現する。

上記（Ａ）〜（Ｄ）を満たす重合性液晶化合物を、相転移温度以上に加熱することにより、ネマチック相やスメクチック相を形成することが可能である。この重合性液晶化合物が配向して形成されたネマチック相またはスメクチック相では通常、重合性液晶化合物の長軸方向が互いに平行になるように配向しており、この長軸方向がネマチック相またはスメクチック相の配向方向となる。このような重合性液晶化合物を膜状とし、ネマチック相またはスメクチック相の状態で重合させると、長軸方向（ａ）に配向した状態で重合した重合体からなる重合体膜を形成することができる。この重合体膜は、長軸方向（ａ）上のπ電子と交差方向（ｂ）上のπ電子により紫外線を吸収する。ここで、交差方向（ｂ）上のπ電子により吸収される紫外線の吸収極大波長をλｂｍａｘとする。λｂｍａｘは通常３００ｎｍ〜４００ｎｍである。π電子の密度は、上記式（ｉｉｉ）を満足していて、交差方向（ｂ）のπ電子密度が長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きいので、交差方向（ｂ）に振動面を有する直線偏光紫外線（波長はλｂｍａｘ）の吸収が、長軸方向（ａ）に振動面を有する直線偏光紫外線（波長はλｂｍａｘ）の吸収よりも大きな重合体膜となる。その比（直線偏光紫外線の交差方向（ｂ）の吸光度／長軸方向（ａ）の吸光度の比）は、例えば１．０超、好ましくは１．２以上、通常３０以下であり、例えば１０以下である。

上記特徴を有する重合性液晶化合物は、一般に、一方向に配向した状態で重合させたときにその重合体の複屈折率が逆波長分散性を示すものであることが多い。このような重合性液晶化合物として、具体的には、例えば下記式（１）：

で表される重合性液晶化合物（１）（以下、「重合性液晶化合物（１）」ともいう）が挙げられる。重合性液晶化合物が上記式（１）で表される構造を有する化合物であると、逆波長分散性を示し、広い波長域において一様の偏光変換が可能であり、表示装置に用いた場合に良好な表示特性を付与し得る重合性液晶組成物を得ることができる。

式（１）中、Ａｒ^ａは、置換基を有していてもよい二価の芳香族基である。
Ｌ^１ａ、Ｌ^２ａ、Ｂ^１ａおよびＢ^２ａはそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基であって、炭素数１〜４のアルキレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＲＯＲ−、−ＲＣＯＯＲ−、−ＲＯＣＯＲ−、ＲＯＣ＝ＯＯＲ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ’＝ＣＲ’−、または−Ｃ≡Ｃ−である。ここで、前記Ｒはそれぞれ独立に、単結合もしくは炭素数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ’はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基または水素原子を表す。
Ｇ^１ａおよびＧ^２ａはそれぞれ独立に、二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子は、酸素原子、硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。
Ｅ^１ａおよびＥ^２ａはそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表す。ここで、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｉ−で置換されていてもよい。
Ｐ^１ａおよびＰ^２ａはそれぞれ独立に、水素原子または重合性基を表し、Ｐ^１ａおよびＰ^２ａのうちの少なくとも１つは重合性基である。
ｋ^ａおよびｌ^ａは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、１≦ｋ^ａ＋ｌ^ａの関係を満たす。ここで、２≦ｋ^ａ＋ｌ^ａである場合、Ｂ^１ａおよびＢ^２ａ、Ｇ^１ａおよびＧ^２ａは、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｌ^１ａおよびＬ^２ａはそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＲＯＲ−、−ＲＣＯＯＲ−、−ＲＯＣＯＲ−、−ＲＯＣ＝ＯＯＲ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ’＝ＣＲ’−、または−Ｃ≡Ｃ−である。ここで、Ｒはそれぞれ独立に単結合または炭素数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ’はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基または水素原子を表す。Ｌ^１ａおよびＬ^２ａはそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲ’’−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯＲ’’−、または−ＯＣＯＲ’’−である。ここで、Ｒ’’はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す。Ｌ^１ａおよびＬ^２ａはそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＯＣＯ−である。式（１）中、Ｌ^１ａおよびＬ^２ａは互いに同一であっても異なっていてもよいが、重合性液晶化合物の製造が容易となり、製造コストを抑制することができる観点から、Ｌ^１ａとＬ^２ａが互いに同一であることが好ましい。なお、Ｌ^１ａとＬ^２ａが互いに同一であるとは、Ａｒ^ａを中心としてみた場合のＬ^１ａとＬ^２ａの構造が互いに同一であることを意味する。以下、Ｂ^１ａとＢ^２ａ、Ｇ^１ａとＧ^２ａ、Ｅ^１ａとＥ^２ａ、Ｐ^１ａとＰ^２ａにおける関係についても同様である。

Ｂ^１ａおよびＢ^２ａはそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＲＯＲ−、−ＲＣＯＯＲ−、−ＲＯＣＯＲ−、または−ＲＯＣ＝ＯＯＲ−である。ここで、Ｒはそれぞれ独立に単結合、または炭素数１〜４のアルキレン基を表す。Ｂ^１ａおよびＢ^２ａはそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲ’’−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯＲ’’−、または−ＯＣＯＲ’’−である。
ここで、Ｒ’’はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す。Ｂ^１ａおよびＢ^２ａはそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２−である。式（１）中、Ｂ^１ａおよびＢ^２ａは互いに同一であっても異なっていてもよいが、重合性液晶化合物の製造が容易となり、製造コストを抑制することができる観点から、Ｂ^１ａとＢ^２ａが互いに同一であることが好ましい。

Ｇ^１ａおよびＧ^２ａは、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−フェニレンジイル基、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４−フェニレンジイル基、無置換の１，４−フェニレンジイル基または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４−フェニレンジイル基または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロへキサンジイル基である。式（１）中、Ｇ^１ａおよびＧ^２ａは互いに同一であっても異なっていてもよいが、重合性液晶化合物の製造が容易となり、製造コストを抑制することができる観点から、Ｇ^１ａとＧ^２ａが互いに同一であることが好ましい。Ｇ^１ａおよびＧ^２ａが複数存在する場合、そのうち少なくとも１つが二価の脂環式炭化水素基であることが好ましい。また、Ｌ^１ａまたはＬ^２ａに結合するＧ^１ａおよびＧ^２ａのうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましく、特に、良好な液晶性を示すことから、Ｌ^１ａまたはＬ^２ａに結合するＧ^１ａおよびＧ^２ａのいずれもが１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジイル基であることがさらに好ましい。

Ｅ^１ａおよびＥ^２ａはそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４〜１２のアルカンジイル基がより好ましい。式（１）中、Ｅ^１ａおよびＥ^２ａは互いに同一であっても異なっていてもよいが、重合性液晶化合物の製造が容易となり、製造コストを抑制することができる観点から、Ｅ^１ａとＥ^２ａが互いに同一であることが好ましい。

ｋ^ａおよびｌ^ａは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ^ａ＋ｌ^ａ≦６の範囲が好ましく、ｋ^ａ＋ｌ^ａ＝４であることが好ましく、対称構造となるためｋ^ａ＝２かつｌ^ａ＝２であることがより好ましい。

Ｐ^１ａまたはＰ^２ａで表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、およびオキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。式（１）中、Ｐ^１ａおよびＰ^２ａは互いに同一であっても異なっていてもよいが、重合性液晶化合物の製造が容易となり、製造コストを抑制することができる観点から、Ｅ^１ａとＥ^２ａが互いに同一であることが好ましい。

重合性液晶化合物の製造が容易となり、製造コストを抑制することができる観点から、Ｌ^１ａ＝Ｌ^２ａかつＧ^１ａ＝Ｇ^２ａかつＢ^１ａ＝Ｂ^２ａかつＥ^１ａ＝Ｅ^２ａかつＰ^１ａ＝Ｐ^２ａかつｋ^ａ＝ｌ^ａであることがより好ましい。

Ａｒ^ａは、置換基を有していてもよい二価の芳香族基である。本発明において芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個（ｎは整数を表す）であるものをいい、−Ｎ＝や−Ｓ−等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有するものを含む。

Ａｒ^ａで表される置換基を有していてもよい芳香族基は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環または置換基を有していてもよい芳香族複素環を有することが好ましい。
前記芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。前記芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、およびフェナンスロリン環等が挙げられる。Ａｒ^ａに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

中でも、Ａｒ^ａは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択される少なくとも２つのヘテロ原子を含む芳香族複素環を有することが好ましく、チアゾール環またはベンゾチアゾール環を有することがより好ましく、ベンゾチアゾール環を有することがさらに好ましい。なお、Ａｒ^ａが窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択される少なくとも２つのヘテロ原子を含む芳香族複素環を有する場合、前記芳香族複素環は、式（１）中のＬ^１ａおよびＬ^２ｂと直接結合して二価の芳香族基を構成していてもよく、Ｌ^１ａおよびＬ^２ｂと直接結合する二価の芳香族基の置換基として含まれていてもよいが、前記芳香族複素環を含むＡｒ^ａ基全体が分子配向方向に対して略直交方向に立体配置していることが好ましい。

式（１）中、Ａｒ^ａで表される二価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは、好ましくは１２以上であり、より好ましくは１３以上、さらに好ましくは１６以上である。また、好ましくは３２以下、より好ましくは３０以下、さらに好ましくは２８以下、特に好ましくは２４以下である。

Ａｒ^ａで表される芳香族基としては、例えば、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２２）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２２）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。

Ｑ^１およびＱ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^２’Ｒ^３’−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^２’−、−ＣＯ−または−Ｏ−を表し、Ｒ^２’およびＲ^３’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。

Ｊ^１およびＪ^２は、それぞれ独立に、炭素原子、または窒素原子を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。

Ｗ^１およびＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表し、ｍは０〜６の整数を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。

Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ^０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ^１およびＺ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。

Ｑ^１およびＱ^２は、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ^２’−、−Ｏ−が好ましく、Ｒ^２’は水素原子が好ましい。中でも−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−が特に好ましい。

式（Ａｒ−１６）〜（Ａｒ−２２）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。

式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２２）の中でも、式（Ａｒ−６）および式（Ａｒ−７）が分子の安定性の観点から好ましい。中でも、下記式（１−１−Ａ）で表される二価の芳香族基であることがより好ましい。

〔式中、Q^１、Ｙ^１、Ｚ^１およびＺ^２は、前記と同じ意味を有する。〕

Ａｒ^ａで表される芳香族基として、以下の式（Ａｒ−２３）で示される基も挙げられる。

式（Ａｒ−２３）中、＊、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｑ^１およびＱ^２は前記と同じ意味を示し、Ｕ^１は置換基が結合していてもよい第１４属〜第１６属の非金属原子を示す。第１４属〜第１６属の非金属原子としては、例えば炭素原子、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が挙げられ、好ましくは＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ’および＝Ｃ（Ｒ’）Ｒ’などが挙げられる。置換基Ｒ’としては、例えば水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のジアルキルスルファモイル基などが挙げられ、非金属原子が炭素原子（Ｃ）である場合における２つのＲ’は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。

本発明において、重合性液晶化合物（１）としては、例えば、特開２０１９−００３１７７号公報等に記載される化合物が挙げられる。

重合性液晶化合物（１）には、該重合性液晶化合物の配向状態の重合体が逆波長分散性を示し、該重合性液晶化合物を単独で配向した状態において５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後に測定される波長４５０ｎｍにおける位相差値〔Ｒ（Ａ，５００，４５０）〕に対して、該重合性液晶化合物を単独で配向した状態において３０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後に測定される波長４５０ｎｍにおける位相差値〔Ｒ（Ａ，３０００，４５０）〕（以下、「ΔＲｅ（４５０）」ともいう）が正方向に変化する重合性液晶化合物（Ａ）と、該重合性液晶化合物の配向状態の重合体が逆波長分散性を示し、該重合性液晶化合物を単独で配向した状態において５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後に測定される波長４５０ｎｍにおける位相差値〔Ｒ（Ａ，５００，４５０）〕に対して、該重合性液晶化合物を単独で配向した状態において３０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後に測定される波長４５０ｎｍにおける位相差値〔Ｒ（Ａ，３０００，４５０）〕が負方向に変化する重合性液晶化合物（Ｂ）が含まれる。

本明細書において、位相差値が「正方向に変化する」とは、対象となる重合性液晶化合物を単独で配向した状態において５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後に測定される波長４５０ｎｍにおける位相差値〔Ｒ（Ａ，５００，４５０）〕に対して、該重合性液晶化合物を単独で配向した状態において３０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後に測定される波長４５０ｎｍにおける位相差値〔Ｒ（Ａ，３０００，４５０）〕が大きくなることを意味する。反対に、位相差値が「負方向に変化する」とは、前記位相差値〔Ｒ（Ａ，５００，４５０）〕に対して位相差値〔Ｒ（Ａ，３０００，４５０）〕が小さくなることを意味する。なお、本明細書において、ΔＲｅ（４５０）の変化が、絶対値で１．５ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ以下、より好ましくは０．５ｎｍ以下である場合、その重合性液晶化合物は、上記特定の紫外線照射条件下において位相差値が変化しない性質を有する化合物であるとする。

本発明において、重合性液晶化合物の位相差値〔Ｒ（Ａ，５００，４５０）〕は、所定量の重合開始剤および溶媒を添加した重合性液晶化合物を含む溶液を配向膜上に塗工した後、波長３６５ｎｍの紫外線を波長３６５ｎｍにおける積算光量が５００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して得られる液晶硬化層の波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値を測定することによって得られる値である。また、重合性液晶化合物の位相差値〔Ｒ（Ａ，３０００，４５０）〕は、前記位相差値〔Ｒ（Ａ，５００，４５０）〕を測定した液晶硬化層に対して、さらに波長３６５ｎｍの紫外線を波長３６５ｎｍにおける積算光量が２５００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射（すなわち、液晶硬化層の作製時に照射した紫外線と累計で、波長３６５ｎｍにおける照射時の積算光量が３０００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射）した後の液晶硬化層の波長４５０ｎｍの光に対する内面位相差値を測定することによって得られる値である。

重合性液晶化合物、特に波長２５０〜４００ｎｍの紫外線領域に極大吸収を有する逆波長分散性を示す重合性液晶化合物では、紫外線を照射することによりその光学特性が変化することがある。上記特定条件下で重合性液晶化合物に紫外線を照射した場合のΔＲｅ（４５０）が正方向に変化するか負方向に変化するかは、通常、重合性液晶化合物の分子構造により決まり、特に、上記式（１）で表される重合性液晶化合物においてはＡｒ^ａの有する分子構造によって決まると考えられる。

必ずしも限定されるものではないが、式（１）中のＡｒ^ａで表される芳香族基が、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、炭素原子および水素原子から構成される場合、上記紫外線照射条件下における位相差値は正方向に変化する傾向にある。したがって、式（１）中のＡｒ^ａで表される芳香族基が、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、炭素原子および水素原子から構成される二価の芳香族基である場合に該重合性液晶化合物は、上記紫外線照射条件下における位相差値は正方向に変化する化合物となることが多い。上記紫外線照射条件下における位相差値は正方向に変化する重合性液晶化合物（Ａ）として、より具体的に、例えば前記式（１−１−Ａ）中のＱ^１が−Ｓ−であり、Ｙ^１がアルケニル構造を有する多環式芳香族複素環を有する芳香族基である式（１）で表される化合物が挙げられる。アルケニル構造を有すると、光酸化反応を受け、アルケニル部分が酸化されて位相差値が増加（正方向に変化）する傾向がある。

一方、必ずしも限定されるものではないが、式（１）中のＡｒ^ａで表される芳香族基が、窒素原子、硫黄原子、炭素原子および水素原子から構成される場合、上記紫外線照射条件下における位相差値は負方向に変化する傾向にある。したがって、式（１）中のＡｒ^ａで表される芳香族基は、窒素原子、硫黄原子、炭素原子および水素原子から構成される二価の芳香族基である場合に該重合性液晶化合物は、上記紫外線照射条件下における位相差値は負方向に変化する化合物となることが多い。上記紫外線照射条件下における位相差値は負方向に変化する重合性液晶化合物（Ｂ）として、より具体的に、例えば前記式（１−１−Ａ）中のＱ^１が−Ｓ−であり、Ｙ^１がアルケニル構造を有さない多環式芳香族複素環を有する芳香族基である、さらにＹ^１がアルケニル構造を有さず、ヘテロ原子を２つ含む多環式芳香族複素環を有する芳香族基である、特にＹ^１がアルケニル構造を有さず、五員環と六員環の縮合環であり、五員環部分にヘテロ原子を２つ含む多環式芳香族複素環を有する芳香族基である式（１）で表される化合物が挙げられる。

重合性液晶組成物が、紫外線照射によりΔＲｅ（４５０）が正方向に変化する重合性液晶化合物と、ΔＲｅ（４５０）が負方向に変化する重合性液晶化合物とを含む場合、紫外線を照射した場合の個々の重合性液晶化合物における光学特性変化が相殺され、紫外線照射時における重合性液晶組成物としての光学特性の変化を抑制し得るが、本発明の光学フィルムにおいては、位相差層に隣接して配置されるガスバリア層により、酸素の存在下で光暴露されることにより起こる過酸化ラジカルの生成自体を抑制することができるため、上記のΔＲｅ（４５０）が正方向に変化する重合性液晶化合物（Ａ）およびΔＲｅ（４５０）が負方向に変化する重合性液晶化合物（Ｂ）のいずれか一方のみを含む場合であっても、位相差層における位相差値の変化を抑え、耐久性に優れる光学積層体を提供し得る。

本発明において位相差発現層を形成する重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物として、１種のみを単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて用いてもよい。重合性液晶化合物（１）以外の重合性化合物としては、例えば、紫外線領域に光吸収を有さず、上記紫外線照射条件下において位相差値が変化しない重合性液晶化合物が挙げられる。必ずしも限定されるものではないが、その具体例として多くの正波長分散性を示す重合性液晶化合物が挙げられ、例えば、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物等を用いることができる。また、これらの重合性液晶化合物として市販の製品を用いてもよい。

本発明において位相差発現層を形成する重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物（１）を含むことが好ましい。その含有量は、重合性液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物の総量１００質量部に対して、好ましくは６０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、さらに好ましくは８０質量部以上であり、重合性液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物が全て重合性液晶化合物（１）であってもよい。

重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物の固形分１００質量部に対して、例えば７０〜９９．５質量部であり、好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは８５〜９８質量部であり、さらに好ましくは９０〜９５質量部である。重合性液晶化合物の含有量が上記範囲内であれば、得られる位相差発現層の配向性の観点から有利である。なお、本明細書において、重合性液晶組成物の固形分とは、重合性液晶組成物から有機溶媒等の揮発性成分を除いた全ての成分を意味する。

本発明において位相差発現層を形成する重合性液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、熱または光の寄与によって反応活性種を生成し、重合性液晶等の重合反応を開始し得る化合物である。反応活性種としては、ラジカル、カチオンまたはアニオン等の活性種が挙げられる。中でも反応制御が容易であるという観点から、光照射によってラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。

光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ、登録商標）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア１２７、イルガキュア２９５９、イルガキュア７５４、イルガキュア３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、精工化学株式会社製）、カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＮ−１７１７、アデカオプトマーＮ−１９１９、アデカアークルズＮＣＩ−８３１、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）およびＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）が挙げられる。
本発明において、重合性液晶組成物は少なくとも１種類の光重合開始剤を含むことが好ましく、１種類若しくは２種類の光重合開始剤を含むことがより好ましい。

光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が３００ｎｍ〜４００ｎｍであると好ましく、３００ｎｍ〜３８０ｎｍであるとより好ましく、中でも、α−アセトフェノン系重合開始剤、オキシム系光重合開始剤が好ましい。

α−アセトフェノン化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンおよび２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、より好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オンおよび２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）およびセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。

オキシム系光重合開始剤は、光が照射されることによってメチルラジカルを生成させる。このメチルラジカルにより、形成される液晶硬化層（位相差発現層）の深部における重合性液晶化合物の重合が好適に進行する。また、形成される液晶硬化層深部での重合反応をより効率的に進行させるという観点から、波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤を使用することが好ましい。波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤としては、トリアジン化合物やオキシムエステル型カルバゾール化合物が好ましく、感度の観点からはオキシムエステル型カルバゾール化合物がより好ましい。オキシムエステル型カルバゾール化合物としては、１，２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。オキシムエステル型カルバゾール化合物の市販品としては、イルガキュアＯＸＥ−０１、イルガキュアＯＸＥ−０２、イルガキュアＯＸＥ−０３（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカオプトマーＮ−１９１９、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

光重合開始剤の添加量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常、０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは１質量部〜２０質量部であり、より好ましくは１質量部〜１５質量部である。上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。

重合禁止剤を配合することにより、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類およびβ−ナフトール類が挙げられる。重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。

さらに、増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．０５〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。

さらに、重合性液晶組成物はレベリング剤を含んでいてもよい。レベリング剤は、重合性液晶組成物の流動性を調整し、これを塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、シリコーン系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３およびＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。中でも、ポリアクリレート系レベリング剤およびパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましい。

重合性液晶組成物におけるレベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．０５〜３質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる位相差発現層がより平滑となる傾向があるため好ましい。重合性液晶組成物は、レベリング剤を２種類以上含有していてもよい。

本発明の一態様において位相差発現層は、下記式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される光学特性を有する。該位相差発現層は、通常、重合性液晶化合物が該位相差発現層平面に対して水平方向に配向した状態で硬化してなる硬化物である。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （Ｉ）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （ＩＩ）
１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８０ｎｍ （ＩＩＩ）
〔式中、Ｒｅ（λ）は位相差発現層の波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ＝（ｎｘ（λ）−ｎｙ（λ））×ｄである（ｄは位相差発現層の厚みを表し、ｎｘは、位相差発現層が形成する屈折率楕円体において、位相差発現層の平面に平行な方向の波長λｎｍにおける主屈折率を表し、ｎｙは、位相差発現層が形成する屈折率楕円体において、位相差発現層の平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘの方向に対して直交する方向の波長λｎｍにおける屈折率を表す）。〕

位相差発現層が式（Ｉ）および（ＩＩ）を満たす場合、当該位相差発現層は、短波長での面内位相差値が長波長での面内位相差値よりも小さくなる、いわゆる逆波長分散性を示す。逆波長分散性が向上し、位相差層の光学特性がより向上することから、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．７０以上、より好ましくは０．７８以上であり、また、好ましくは０．９２以下、より好ましくは０．９０以下、さらに好ましくは０．８８以下、特に好ましくは０．８７以下、より特に好ましくは０．８６以下である。また、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１．０以上、より好ましくは１．０１以上であり、さらに好ましくは１．０２以上である。

上記面内位相差値は、位相差発現層の厚みｄによって調整することができる。面内位相差値は、上記式Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ（λ）−ｎｙ（λ））×ｄによって決定されることから、所望の面内位相差値（Ｒｅ（λ）：波長λ（ｎｍ）における位相差発現層の面内位相差値）を得るには、３次元屈折率と膜厚ｄとを調整すればよい。

また、位相差発現層が式（ＩＩＩ）を満たす場合、該位相差発現層を含む光学積層体（楕円偏光板）を有機ＥＬ表示装置に適用した場合の正面反射色相の向上効果（着色を抑制させる効果）に優れる。面内位相差値のより好ましい範囲は、１２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１７０ｎｍであり、さらに好ましい範囲は１３０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍである。

本発明において位相差層は、例えば、
支持基材または配向膜上に重合性液晶組成物の塗膜を形成し、該塗膜を乾燥し、かつ、該重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物を配向させる工程、および、
配向状態を保持したまま重合性液晶化合物を重合させ、液晶硬化層である位相差発現層を形成する工程
を含む方法により製造することができる。

重合性液晶組成物の塗膜は、支持基材上または後述する配向膜上などに重合性液晶組成物を塗布することにより形成することができる。重合性液晶組成物の粘度は、塗布しやすいように、例えば１０ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは０．１〜７ｍＰａ・ｓ程度に調整することが好ましい。重合性液晶組成物の粘度は、溶媒の含有量により調整することができる。

溶媒としては、重合性液晶化合物を溶解し得る溶媒が好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶媒であることが好ましい。
溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートおよび乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサンおよびヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフランおよびジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルムおよびクロロベンゼン等の塩素含有溶媒；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のアミド系溶媒等が挙げられる。これら溶媒は、１種類のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、塩素含有溶媒、アミド系溶媒および芳香族炭化水素溶媒が好ましい。

重合性液晶組成物１００質量部に占める溶媒の含有量は、５０〜９８質量部が好ましく、７０〜９５質量部がより好ましい。したがって、重合性液晶組成物における固形分濃度は、２〜５０質量％が好ましく、５〜３０％がより好ましく、５〜１５％がさらに好ましい。重合性液晶組成物の固形分が上記上限値以下であると、重合性液晶組成物の粘度が低くなることから、これを塗布して得られる位相差発現層の厚みが略均一になり、ムラが生じ難くなる傾向がある。また、固形分が上記下限値以上であると、位相差層が薄くなりすぎず、液晶パネルの光学補償に必要な複屈折率が与えられる傾向がある。上記固形分は、製造しようとする位相差発現層の厚みを考慮して適宜定めることができる。

支持基材としては、ガラス基材およびフィルム基材が挙げられ、加工性の観点からフィルム基材が好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースおよびセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシド；等のプラスチックが挙げられる。

支持基材として市販の製品を用いてもよい。市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム株式会社製）；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”および“ＫＣ４ＵＹ”（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が挙げられる。
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）および“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶媒キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）および“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。

基材の厚さは、実用的な取り扱いができる程度の質量である点では、薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。基材の厚さは、通常、５μｍ〜３００μｍであり、好ましくは２０μｍ〜２００μｍである。また、基材を剥離して位相差層のみを転写することによって、さらなる薄膜化効果が得られる。

重合性液晶組成物を基材等に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法等の公知の方法が挙げられる。

次いで、溶媒を乾燥等により除去することにより、乾燥塗膜が形成される。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。この際、重合性液晶組成物から得られた塗膜を加熱することにより、塗膜から溶媒を乾燥除去させるとともに重合性液晶化合物を塗膜平面に対して所望の方向（例えば、水平方向）に配向させることができる。塗膜の加熱温度は、用いる重合性液晶化合物および塗膜を形成する基材等の材質などを考慮して適宜決定し得るが、重合性液晶化合物を液晶相状態へ相転移させるために、通常、液晶相転移温度以上の温度であることが必要である。重合性液晶組成物に含まれる溶媒を除去しながら、重合性液晶化合物を所望の配向状態とするため、例えば、前記重合性液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物の液晶相転移温度（スメクチック相転移温度またはネマチック相転移温度）程度以上の温度まで加熱することができる。
なお、液晶相転移温度は、例えば、温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡や、示差走査熱量計（ＤＳＣ）、熱重量示差熱分析装置（ＴＧ−ＤＴＡ）等を用いて測定することができる。また、重合性液晶化合物として２種以上を組み合わせて用いる場合、上記相転移温度は、重合性液晶組成物を構成する全重合性液晶化合物を重合性液晶組成物における組成と同じ比率で混合した重合性液晶化合物の混合物を用いて、１種の重合性液晶化合物を用いる場合と同様にして測定される温度を意味する。また、一般に重合性液晶組成物中における重合性液晶化合物の液晶相転移温度は、重合性液晶化合物単体としての液晶相転移温度よりも下がる場合もあることが知られている。

加熱時間は、加熱温度、用いる重合性液晶化合物の種類、溶媒の種類やその沸点およびその量等に応じて適宜決定し得るが、通常、１５秒〜１０分であり、好ましくは０．５〜５分である。

塗膜からの溶媒の除去は、重合性液晶化合物の液晶相転移温度以上への加熱と同時に行ってもよいし、別途で行ってもよいが、生産性向上の観点から同時に行うことが好ましい。重合性液晶化合物の液晶相転移温度以上への加熱を行う前に、重合性液晶組成物から得られた塗膜中に含まれる重合性液晶化合物が重合しない条件で塗膜中の溶媒を適度に除去させるための予備乾燥工程を設けてもよい。かかる予備乾燥工程における乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられ、該乾燥工程における乾燥温度（加熱温度）は、用いる重合性液晶化合物の種類、溶媒の種類やその沸点およびその量等に応じて適宜決定し得る。

次いで、得られた乾燥塗膜において、重合性液晶化合物の配向状態を保持したまま、重合性液晶化合物を重合させることにより、所望の配向状態で存在する重合性液晶化合物の重合体である位相差発現層が形成される。重合方法としては、通常、光重合法が用いられる。光重合において、乾燥塗膜に照射する光としては、当該乾燥塗膜に含まれる光重合開始剤の種類、重合性液晶化合物の種類（特に、該重合性液晶化合物が有する重合性基の種類）およびその量に応じて適宜選択される。その具体例としては、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線およびγ線からなる群より選択される１種以上の光や活性電子線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点や、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって、光重合可能なように、重合性液晶組成物に含有される重合性液晶化合物や光重合開始剤の種類を選択しておくことが好ましい。

また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥塗膜を冷却しながら光照射することで、重合温度を制御することもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶化合物の重合を実施すれば、基材が比較的耐熱性が低いものを用いたとしても、適切に位相差発現層を形成できる。また、光照射時の熱による不具合（基材の熱による変形等）が発生しない範囲で重合温度を高くすることにより重合反応を促進することも可能である。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた硬化膜を得ることもできる。

前記活性エネルギー線の光源としては、ガスバリア層形成用硬化性組成物の硬化時に使用し得る活性エネルギー線の光源として先に例示したものと同様のものが挙げられる。紫外線照射強度は、通常、１０〜３，０００ｍＷ／ｃｍ^２である。紫外線照射強度は、好ましくは光重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．１秒〜５分、より好ましくは０．１秒〜３分、さらに好ましくは０．１秒〜１分である。このような紫外線照射強度で１回または複数回照射すると、その積算光量は、１０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２である。

位相差発現層の厚みは、光学積層体の用途、適用される表示装置等に応じて適宜選択でき、好ましくは０．１〜１０μｍ、より好ましくは０．２〜５μｍ、さらに好ましくは０．２〜３μｍである。

重合性液晶組成物の塗膜は配向膜上に形成されてもよい。配向膜は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。例えば、重合性液晶組成物から、上記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）を満たすような位相差発現層を作製する際には、重合性液晶化合物を水平方向に配向させる配向規制力を有する水平配向膜を用いることが好ましい。配向規制力は、配向膜の種類、表面状態やラビング条件等によって任意に調整することが可能であり、配向膜が光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。

配向膜としては、重合性液晶組成物の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜および表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜、配向方向に延伸してある延伸フィルム等が挙げられ、配向角の精度および品質の観点から光配向膜が好ましい。

配向性ポリマーとしては、例えば、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。配向性ポリマーは単独または２種以上を組み合わせて使用できる。

配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶媒に溶解した組成物（以下、「配向性ポリマー組成物」ということがある）を基材に塗布し、溶媒を除去する、または、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶媒を除去し、ラビングする（ラビング法）ことで得られる。溶媒としては、重合性液晶組成物に用い得る溶媒として先に例示した溶媒と同様のものが挙げられる。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマー材料が、溶媒に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１〜２０％が好ましく、０．１〜１０％程度がさらに好ましい。

配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、重合性液晶組成物を支持基材へ塗布する方法として例示したものと同様のものが挙げられる。

配向性ポリマー組成物に含まれる溶媒を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じてラビング処理を行うことができる（ラビング法）。ラビング法により配向規制力を付与する方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーと溶媒とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ともいう）を基材に塗布し、溶媒を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる点でも有利である。

光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起または異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基等が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基等が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物を基材上に塗布することにより、基材上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶媒としては、重合性液晶組成物に用い得る溶媒として先に例示した溶媒と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマーあるいはモノマーの溶解性に応じて適宜選択することができる。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚みによって適宜調節できるが、光配向膜形成用組成物の質量に対して、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコールやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去する方法としては例えば、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。

偏光を照射するには、基材上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去したものに直接、偏光ＵＶを照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レーザーなどが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプがより好ましい。これらの中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラーなどの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。

なお、ラビングまたは偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターンまたは複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。

グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像およびリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、形成された樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、および、基材に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。

配向膜（配向性ポリマーを含む配向膜または光配向膜）の厚みは、通常１０〜１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０〜１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは１０〜５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０〜３００ｎｍ、特に好ましい５０〜２５０ｎｍの範囲である。

本明細書において光学積層体とは、光学的に機能する層（例えば、画像の見やすさの向上のために機能する層）を含み構成され、有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置に組み込まれ得る各種の光学特性を有する積層体を意味する。本発明の光学積層体は、位相差層と該位相差層に隣接するガスバリア層とを含むものであればよく、位相差層とガスバリア層のみから構成されるものであっても、位相差層およびガスバリア層に加えて偏光子層等の他の層を含むものであってもよい。また、本発明の光学積層体は、画像表示装置等に組み込まれる際に剥離可能な基材層等を含み構成されたものであってもよい。

本発明の光学積層体が位相差層およびガスバリア層に加えて偏光子層を含む場合、該光学積層体は楕円偏光板として機能し得る。
偏光子層は、少なくとも直線偏光子を含む偏光機能を有する層であり、直線偏光子の少なくとも一方の面に貼合される熱可塑性樹脂フィルム等をさらに含んでいてもよい。直線偏光子とは、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する光学素子をいう。

直線偏光子は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを配向させたものに、ヨウ素等の二色性色素を吸着配向させたものであってよい。直線偏光子は、単層のポリビニルアルコール系樹脂フィルム（ポリビニルアルコール樹脂フィルムに含まれるポリビニルアルコール分子が配向したもの）に二色性色素が吸着配向したものであってもよく、基材フィルム上に二色性色素が吸着配向したポリビニルアルコール系樹脂層を設けた二層以上の積層フィルムであってもよい。

このような直線偏光子は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、およびホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を含む方法など、当該分野で公知の方法によって製造することができる。

単層のポリビニルアルコール樹脂フィルムに二色性色素が吸着配向してなる直線偏光子の厚みは、好ましくは２０μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以下であり、さらに好ましくは１０μｍ以下である。

偏光子層が直線偏光子とその少なくとも一方の面に熱可塑性樹脂フィルム等を積層した構造からなる場合、直線偏光子と熱可塑性樹脂フィルムとは接着剤等により貼合することができる。熱可塑性樹脂フィルムとしては、位相差層の形成に用い得る支持基材として例示した樹脂フィルムと同様のフィルムを好ましく用いることができる。

本発明の光学積層体が偏光子層を含む場合、偏光子層とガスバリア層および／または位相差層とは、位相差発現層の遅相軸（光軸）と偏光子層の吸収軸との成す角が４５±５°となるように積層することが好ましい。

図４に示すように、本発明の一態様において、位相差層１と偏光子層７は、位相差層１に隣接するガスバリア層２のみを介して積層される。すなわち、該態様において、前記位相差層に隣接するガスバリア層と偏光子層との間にはこれらを貼合するための粘接着剤層は存在しない。粘接着剤層、特に粘着剤層は気体状の酸素ガスや水分を侵入させやすいものが多く、位相差層の近隣に粘着剤層が存在する場合、位相差層内への酸素ガスや水分の拡散が生じやすくなる。位相差層と偏光子層とがガスバリア層のみを介して積層している場合、光学積層体内へ侵入する酸素ガスや水分の量を低減することができるとともに、ガスバリア層による酸素ガスおよび／または水分の拡散抑制効果を得られるため、光学積層体へのより高い耐久性の付与を期待し得る。

本発明の別の一態様において、偏光子層とガスバリア層および／または位相差層とは、例えば、粘接着剤層等を介して積層させることができる。偏光子層とガスバリア層および／または位相差層とを貼合するための粘接着剤層は、粘着剤から形成されることが好ましい。粘着剤としては、ガスバリア層や偏光子層等の各層を貼合する層として機能し得るものであればよく、公知の粘着剤組成物を用いることができる。

例えば、粘着剤組成物として、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物が挙げられる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好ましい。

粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂（ベースポリマー）としては、例えば、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステルの１種または２種以上をモノマーとする重合体または共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。
このような共重合体を含む粘着剤は、粘着性に優れており、被転写体に貼合した後に取り除くときも、被転写体に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に取り除くことが可能であるので好ましい。

粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの；ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの；ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの；ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。

粘着剤組成物は、必要に応じて、溶媒を含んでいてもよく、溶媒としては、重合性液晶組成物等に用い得る溶媒として例示した溶媒が挙げられる。

粘着剤層の厚みは、光学積層体の層構成等に応じて適宜決定し得る。本発明の光学積層体では、位相差層に隣接するガスバリア層を有するため、粘着剤層から酸素ガスや水分が光学積層体内へ侵入した場合においても位相差層における位相差値の変化を抑制する効果に優れる。このため、酸素ガスや水分が侵入しやすい粘着剤層の厚みが比較的大きい場合であっても、耐久性に優れる光学積層体を提供し得る。したがって、本発明の光学積層体における粘着剤層の厚みは、例えば１μｍ以上１００μｍ以下であってよい。光学積層体の薄型化の観点からは、好ましくは２５μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下、さらに好ましくは１５μｍ以下である。本発明の光学積層体に複数の粘着剤層が含まれる場合、少なくとも位相差層および／またはガスバリア層に隣接または近接して設けられる粘着剤層の厚みが上記範囲内であることが好ましく、本発明の光学積層体に含まれる全ての粘着剤層の厚みが上記範囲内であることがより好ましい。

図５に示すように、本発明の一態様において、本発明の光学積層体は前面板を含む。図５において、前面板８は接着剤層９を介して偏光子層７と貼合されている。
前面板は、例えば熱可塑性樹脂フィルムであってよい。熱可塑性樹脂フィルムを構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリ（メタ）アクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースおよびセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂；ポリビニルアルコールおよびポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリエーテルケトン系樹脂；ポリフェニレンスルフィド系樹脂；ポリフェニレンオキシド系樹脂、およびこれらの混合物、共重合物等から構成される樹脂フィルムが挙げられる。上記樹脂のうち、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂および（メタ）アクリル酸系樹脂のいずれかまたはこれらの混合物を用いることが好ましい。熱可塑性樹脂フィルムは、上記のような樹脂材料を１種または２種以上を混合した単層であってもよく、２層以上の多層構造を有していてもよい。多層構造を有する場合、各層を構成する樹脂は互いに同じであって、異なっていてもよい。

熱可塑性樹脂フィルムには、樹脂材料に加えて任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料および着色剤等が挙げられる。

前面板として用いられる熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、光学積層体の薄型化およびフレキシブル性の観点、並びに、光学積層体の耐久性の観点から、好ましくは２μｍ以上３００μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上２００μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以上１００μｍ以下、特に好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、とりわけ好ましくは５μｍ以上３０μｍ以下である。

前面板を偏光子層等と貼合するための接着剤層は、接着剤、特に水系接着剤から形成されることが好ましい。水系接着剤としては、前面板を偏光子層等に接着保持する層として機能し得るものであればよく、公知の水系接着剤組成物を用いることができる。
例えば、水系接着剤組成物は水溶性樹脂または水分散性樹脂を主成分としてなる接着剤である。水溶性樹脂または水分散性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂；ポリビニルアルコール系樹脂；ポリビニルアセタール系樹脂；エチレン−ビニルアルコール共重合体系樹脂；ポリビニルピロリドン系樹脂；ポリアミドアミン系樹脂；エポキシ系樹脂；メラミン系樹脂；ユリア系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリエステル系樹脂；ポリウレタン系樹脂；メチルセルロース、ヒドロエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等のセルロース系樹脂；アルギン酸ナトリウム、デンプン等の多糖類等が挙げられる。これらのうち、（メタ）アクリル系樹脂；ポリビニルアルコール系樹脂やポリビニルアセタール系樹脂等の水酸基含有樹脂が好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂がより好ましい。

水系接着剤組成物における水溶性樹脂または水分散性樹脂の含有量は、用いる樹脂の種類等に応じて適宜決定すればよいが、水１００質量部に対して、通常、１〜１０質量部であり、好ましくは１〜５質量部である。

水系接着剤組成物から形成される接着剤層の厚みは、通常、０．０２〜５μｍであり、好ましくは０．０５〜２μｍであり、さらに好ましくは０．１〜１μｍである。乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、外観不良となり易い。

本発明は、実施形態の１つとして本発明の光学積層体を含む表示装置を提供することができる。本明細書において、表示装置とは、表示機構を有する装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（電場放出表示装置（ＦＥＤ等）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置等）および圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置および投写型液晶表示装置等の何れをも含む。これら表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」および「部」は、特記ない限り、質量％および質量部である。

１．光学積層体の作製
（１）偏光子層を含む積層体１の作製
以下の部材を用いて、第一積層体を作製した。

＜前面板＞
前面板として、ケン化処理を施した２５μｍ厚のトリアセチルセルロース系樹脂フィルム（コニカミノルタ株式会社製、「ＫＣ２ＵＡ」）を用いた。

＜離型用基材＞
離型用基材Ａとして、ケン化処理を施していない４０μｍ厚のトリアセチルセルロース系樹脂フィルム（コニカミノルタ株式会社製、「ＫＣ４ＵＹ」）を用いた。
離型用基材Ｂとして、ケン化処理を施していない２５μｍ厚のトリアセチルセルロース系樹脂フィルム（コニカミノルタ株式会社製、「ＫＣ２ＵＡ」）を用いた。
離型用基材Ｃとして、コロナ処理を施していない５０μｍ厚のシクロオレフィン系樹脂フィルム（日本ゼオン株式会社製、「ＺＦ−１４−５０」）を用いた。
離型用基材Ｄとして、コロナ処理を施していない２３μｍ厚のシクロオレフィン系樹脂フィルム（日本ゼオン株式会社製、「ＺＦ−１４−２３」）を用いた。

＜水系接着剤層＞
常温にて、下記組成液Ａと組成液Ｂとを質量比１：１で混合し、３０分間撹拌して水系接着剤層形成用組成物を調製した。
組成液Ａ：水（蒸留水）にケン化度が９９．２モル％であるアセトアセチル基変性ポリビニルアルコール系樹脂（三菱ケミカル株式会社製、「ゴーセノールＺ２００」）を溶解し、固形分８質量％のＰＶＡ水溶液を調製した。調製した８質量％ＰＶＡ溶液とグリオキザール４０％水溶液を質量比が３．０：０．７になるよう混合し、さらに水１００部に対して全固形分が３部になるよう調整して、組成液Ａを作製した。
組成液Ｂ：水（蒸留水）にケン化度が９９．２モル％であるアセトアセチル基変性ポリビニルアルコール系樹脂（三菱ケミカル株式会社製、「ゴーセノールＺ２００」）を溶解し、固形分８質量％のＰＶＡ水溶液を調製した。調製した８質量％ＰＶＡ溶液と塩化亜鉛を質量比が３．０：０．０９になるよう混合し、さらに水１００部に対して全固形分が３部になるよう調整して、組成液Ｂを作製した。

＜偏光子層＞
偏光子層としてポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素を吸着、配向させてなる一軸延伸フィルムである直線偏光子（厚み：８μｍ）を準備した。

第一積層体の作製
偏光子層の一方の面に、水系接着剤層形成用組成物を介して前面板を積層するとともに、偏光子層の他方の面に離型用基材Ａを、純水を介して積層し、一対の貼合ロール間に通した後、８５℃で３分間乾燥させて、前面板／水系接着剤層／偏光子層／離型用基材Ａの層構成を有する積層体１を得た。偏光子層と離型用基材Ａとの間には接着剤は介在しておらず、離型用基材Ａは剥離可能に偏光子層に積層されている。前記積層体１の離型用基材Ａを剥離することで、前面板／水系接着剤層／偏光子層の層構成を有する第一積層体が得られる。

（２）位相差層を含む積層体の作製
＜位相差層＞
位相差層は、下記の位相差層基材上に剥離可能に形成された下記光配向膜と位相差発現層とからなる。

（ｉ）光配向膜形成用組成物の調製
下記構造の光配向性材料５部（重量平均分子量：３００００）とシクロペンタノン（溶媒）９５部とを混合した。得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物を得た。

（ｉｉ）位相差発現層形成用組成物の調製
位相差発現層を形成するために、下記の重合性液晶化合物αと重合性液晶化合物βを用いた。重合性液晶化合物αは、特開２０１０−３１２２３号公報に記載された方法で製造した。また、重合性液晶化合物βは、特開２００９−１７３８９３号公報に記載された方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。
重合性液晶化合物αは、単独で配向した状態において５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後に測定される波長４５０ｎｍにおける位相差値〔Ｒ（Ａ，５００，４５０）〕に対して、単独で配向した状態において３０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後に測定される波長４５０ｎｍにおける位相差値〔Ｒ（Ａ，３０００，４５０）〕が正方向に変化する重合性液晶化合物である。また、波長５５０ｎｍにおける位相差値についても、波長５５０ｎｍにおける単独で配向した状態において５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後に測定される位相差値〔Ｒ（Ａ，５００，５５０）〕に対して、単独で配向した状態において３０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後に測定される位相差値〔Ｒ（Ａ，３０００，５５０）〕についても正方向に変化する。
重合性液晶化合物βは、上記特定の紫外線照射条件下において位相差値が変化しない性質を有する重合性液晶化合物である。

［重合性液晶化合物α］

［重合性液晶化合物β］

重合性液晶化合物αおよび重合性液晶化合物βを８７：１３の質量比で混合した。得られた混合物１００部に対して、レベリング剤（ＤＩＣ株式会社製、「メガファック Ｆ−５５６」）を１．０部、重合開始剤である２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製「Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９」）を６部添加した。さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、位相差発現層形成用組成物を得た。

（ｉｉｉ）位相差層基材の準備
５０μｍ厚のシクロオレフィン系樹脂フィルム（日本ゼオン株式会社製、「ＺＦ−１４−５０」）上にコロナ処理を施し、位相差層基材とした。コロナ処理は、ウシオ電機株式会社製のＴＥＣ−４ＡＸを使用して行った。コロナ処理は、出力０．７８ｋＷ、処理速度１０ｍ／分の条件で１回行った。

（ｉｖ）光配向膜の形成
ガラス基板上に固定された位相差層基材に光配向膜形成用組成物をワイヤーバーコーター（有限会社折原製作所製、「Ｇ−７型塗工装置」）で塗布し、８０℃で１分間乾燥した。塗布膜に対して、偏光ＵＶ照射装置（ウシオ電機株式会社製、「ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−９」）を用いて、波長３１３ｎｍにおける積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２となるように、軸角度４５°にて偏光ＵＶ露光を実施した。得られた光配向膜の膜厚を光学膜厚計（フィルメトリクス株式会社製、「Ｆ２０」）で測定したところ１００ｎｍであった。

（ｖ）位相差発現層の形成
前記光配向膜上に位相差発現層形成用組成物を、ワイヤーバーコーター（有限会社折原製作所製、「Ｇ−７型塗工装置」）で塗布し、１２０℃で１分間乾燥した。塗布膜に対して、高圧水銀ランプ（ウシオ電機株式会社製、「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）して、位相差発現層を形成した。続いて、位相差発現層上に粘着剤層を積層し、該粘着剤層を介して、位相差発現層／光配向膜／位相差層基材の層構成からなる積層体をガラスに貼合した。
なお、前記粘着剤層として、（メタ）アクリル系粘着剤層（厚み：１５μｍ）の一方の面に積層される軽剥離性ノンキャリアフィルム（以下、単に「軽剥離ＮＣＦ」ともいう）と、その他方の面に積層される重剥離性ノンキャリアフィルム（以下、単に「重剥離ＮＣＦ」ともいう）とを有する粘着積層体を用意した。粘着剤層を含む光学積層体は、軽剥離ＮＣＦを剥離して露出させた面を被着層（位相差発現層）に密着転写させることにより得られる。
次いで、位相差層基材を剥離して、リターデーションを測定するためのサンプルを得た。波長５５０ｎｍにおけるリターデーションを位相差測定装置（王子計測機器株式会社製、「ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ」）で測定した結果、１４２ｎｍであった。

（３）ガスバリア層の作製および酸素透過度の測定
以下に従い、ガスバリア層１〜３を作製した。
（ｉ）ガスバリア層形成用組成物の調製
＜ガスバリア１形成用組成物（非疎水性架橋ＰＶＡ系樹脂組成物）＞
水（蒸留水）にケン化度が９９．２モル％であるアセトアセチル基変性ポリビニルアルコール系樹脂（三菱ケミカル製、ゴーセノールＺ２００）を溶解し、固形分８質量％のＰＶＡ水溶液を調製した。調製した８質量％ＰＶＡ溶液と、架橋剤としてグリオキシル酸ナトリウム１０質量％（三菱ケミカル株式会社製、「Ｓａｆｅｌｉｎｋ ＳＰＭ−０１」）を質量比が３．０：０．３になるよう混合し、さらに水１００部に対して全固形分が３部になるよう調整して、ガスバリア１形成用組成物を準備した。

＜ガスバリア２形成用組成物（疎水性架橋ＰＶＡ系樹脂組成物）＞
水（蒸留水）にケン化度が９９．２モル％であるアセトアセチル基変性ポリビニルアルコール系樹脂（三菱ケミカル株式会社製、「ゴーセノールＺ２００」）を溶解し、固形分８質量％のＰＶＡ水溶液を調製した。調製した８質量％ＰＶＡ溶液と、架橋剤としてグリオキザール４０％水溶液を質量比が３．０：０．７になるよう混合し、さらに水１００部に対して全固形分が３部になるよう調整して、ＰＶＡ系樹脂組成物Ａを得た。
これとは別に、水（蒸留水）にケン化度が９９．２モル％であるアセトアセチル基変性ポリビニルアルコール系樹脂（三菱ケミカル株式会社製、「ゴーセノールＺ２００」）を溶解し、固形分８質量％のＰＶＡ水溶液を調製した。調製した８質量％ＰＶＡ溶液と、塩化亜鉛を質量比が３．０：０．０９になるよう混合し、さらに水１００部に対して全固形分が３部になるよう調整して、ＰＶＡ系樹脂組成物Ｂを得た。
前記で調製したＰＶＡ系樹脂組成物ＡおよびＢを、常温にて質量比１：１で混合し、３０分間撹拌して、ガスバリア２形成用組成物を準備した。

＜ガスバリア３形成用組成物＞
ガスバリア３形成用組成物として、エポキシ系重合性化合物、重合開始剤、光増感剤およびレベリング剤を含有し、溶媒を含まないガスバリア３形成用組成物を準備した。

（ｉｉ）酸素ガス透過度の測定方法
＜酸素ガス透過度の測定方法＞
酸素ガスの気体透過度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２６−１（差圧法）に準拠した差圧式気体透過度測定装置（ＧＴＲテック株式会社製、「ＧＴＲ−３０ＡＳ」）を用いて測定した。測定条件は下記のとおりである。なお、以下において、特に断りのない場合、酸素ガスの気体透過度を単に「酸素透過度」という。
測定条件
・測定温度：３０℃
・透過面積：１５．２ｃｍ^２
・透過気体：超高純度酸素ガス
・気体供給圧力：２ｋｇｆ／ｃｍ^２（２２３ｃｍＨｇ）
・積層体の気体透過方向：塗工面から基材面にかけて透過
・気体透過時間：０分、１５分および３０分

＜積層体各層の酸素透過度の計算＞
下記式（Ｘ）を用いて、二層積層体の酸素透過度から各層の酸素透過度を求めた。
（ＴＡ）^−１ ＋ （ＴＢ）^−１ ＝ （ＴＡＢ）^−１ （Ｘ）
［式中、Ａ層の酸素透過度をＴＡ、Ｂ層の酸素透過度をＴＢ、Ａ層とＢ層の積層体の酸素透過度をＴＡＢとする。］

（ｉｉ）ガスバリア層１〜３の作製および各層の酸素透過度の測定
ガスバリア層１〜３を作製するための基材として、２５μｍ厚のトリアセチルセルロース系樹脂フィルム（コニカミノルタ株式会社製「ＫＣ２ＵＡ」）を用いた。該基材の酸素透過度は１６００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）であった。

＜ガスバリア層１＞
ケン化処理を施した２５μｍ厚のトリアセチルセルロース系樹脂フィルム（コニカミノルタ株式会社製、「ＫＣ２ＵＡ」）基材と離型用基材Ａとの間にガスバリア１形成用組成物を滴下し、一対の貼合ロール間を通した後、８０℃で３分間乾燥させて、２５μｍ厚のトリアセチルセルロース系樹脂フィルム基材／ガスバリア層１／離型用基材Ａの層構成を有する積層体を得た。前記積層体の離型用基材Ａを剥離して得た２５μｍ厚のトリアセチルセルロース系樹脂フィルム基材／ガスバリア層１からなる積層体の酸素透過度は、１００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）未満であり検出下限であった。該測定値と式（Ｘ）による算出値より、ガスバリア層１の酸素透過度は１００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）未満であった。
また、ガスバリア層１の厚みを、走査型電子顕微鏡（日本電子株式会社製 「ＪＳＭ−７５００Ｆ」）を用いた切断面測長によって測定したところ、最薄部０．１μｍおよび最厚部０．２μｍであった。

＜ガスバリア層２＞
ガスバリア１形成用組成物に代えてガスバリア２形成用組成物を用いた以外は、ガスバリア層１と同様の手順にて、２５μｍ厚のトリアセチルセルロース系樹脂フィルム基材／ガスバリア層２／離型用基材Ａの層構成を有する積層体を形成し、酸素透過度を測定した。ガスバリア層２の酸素透過度は、１００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）未満であった。また、ガスバリア層２の厚みを、走査型電子顕微鏡（日本電子株式会社製 「ＪＳＭ−７５００Ｆ」）を用いた切断面測長によって測定したところ、最薄部０．１μｍおよび最厚部０．２μｍであった。

＜ガスバリア３＞
コロナ処理を施した２５μｍ厚のトリアセチルセルロース系樹脂フィルム（コニカミノルタ株式会社製「ＫＣ２ＵＡ」）基材と離型用基材Ｃの間にガスバリア３形成用組成物を滴下し、一対の貼合ロール間を通した後、紫外線照射装置（へレウス株式会社製の重水素ランプを使用）を用いて積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ^２（ＵＶＢ）となるように紫外線を照射した。これにより、２５μｍ厚トリアセチルセルロース系樹脂フィルム基材／ガスバリア層３／離型用基材Ｃの層構成を有する積層体を得た。前記積層体の離型用基材Ｃを剥離して得た２５μｍ厚トリアセチルセルロース系樹脂フィルム基材／ガスバリア層３の積層体の酸素透過度は７５０ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）であった。該測定値と式（Ｘ）による算出値より、ガスバリア層３の酸素透過度は１４００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）であった。
また、ガスバリア層３の厚みを走査型電子顕微鏡（フィルメトリクス株式会社製 「Ｆ２０」）を用いて測定したところ、２．５μｍであった。

＜粘着剤層＞
２５μｍ厚のトリアセチルセルロース系樹脂フィルム（コニカミノルタ株式会社製、「ＫＣ２ＵＡ」）基材上に厚さ１５μｍのアクリル系粘着剤層を積層して２５μｍ厚のトリアセチルセルロース系樹脂フィルム／粘着剤層積層体の酸素透過度を測定したところ、酸素透過度は１６００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）であった。該測定値と式（Ｘ）による算出値より、該粘着剤層の酸素透過度は測定上限を超える値であった。

（４）実施例および比較例の積層体および環境試験用サンプルの作製
（ｉ）実施例１
＜第二積層体の作製＞
位相差層基材上に形成された位相差層（位相差層基材／光配向膜／位相差発現層の構成）の位相差発現層面にガスバリア２形成用組成物を介して離型用基材Ａを積層し、一対の貼合ロール間に通した後、８０℃で３分間乾燥させて、離型用基材Ａ／ガスバリア層２／位相差層／位相差層基材からなる積層体を得た。位相差層のサンプル幅は離型用基材Ａのサンプル幅と同じであり、離型用基材Ａは剥離可能にガスバリア層２に積層されている。前記積層体から前記離型用基材Ａを剥離してガスバリア層２面に、重剥離ＮＣＦ／粘着剤層からなる積層体の粘着剤層面を密着積層することで、重剥離ＮＣＦ／粘着剤層／ガスバリア層２／位相差層／位相差層基材からなる層構成を有する積層体２を得た。前記積層体２の重剥離ＮＣＦを剥離することで、粘着剤層／ガスバリア層２／位相差層からなる第二積層体（発光部（ガラス板）側ガスバリア層なし）と位相差層基材とからなる積層体を得ることができる。

＜環境試験用サンプルの作製＞
第一積層体の偏光子層側と、第二積層体と位相差層基材の積層体の粘着剤層側とを、密着積層して、前面板／水系接着剤層／偏光子層／粘着剤層／ガスバリア層２／位相差層からなる第三積層体と位相差層基材とからなる積層体を得た。次に、前記積層体の位相差層基材を剥離して露出した面と厚さ０．７ｍｍのガラス板とを粘着剤層を介して密着積層して環境試験用サンプルを得た。該環境試験用サンプルは、第三積層体／粘着剤層／ガラス板からなり、第三積層体の各辺がガラス板の各辺よりも１０ｍｍ内側に位置するように作製した。ガラス板の大きさは５０ｍｍ×５０ｍｍとした。なお、前記積層体とガラス板とを貼合するための粘着剤層は、第一積層体と第二積層体とを貼合するための粘着剤層と同じである。

（ｉｉ）実施例２
＜第二積層体の作製＞
位相差層基材上に形成された位相差層（位相差層基材／光配向膜／位相差発現層の構成）の位相差発現層面にガスバリア２形成用組成物を介して離型用基材Ａを積層し、一対の貼合ロール間に通した後、８０℃で３分間乾燥させて、離型用基材Ａ／ガスバリア層２／位相差層／位相差層基材からなる積層体を得た。次に、前記積層体から位相差層基材を剥離して露出した面にガスバリア２形成用組成物を介して離型用基材Ｂを積層し、一対の貼合ロール間に通した後、８０℃で３分間乾燥させて、離型用基材Ａ／ガスバリア層２／位相差層／ガスバリア層２／離型用基材Ｂからなる積層体を得た。二つの離型用基材は、それぞれ剥離可能にガスバリア層２に積層されており、離型用基材Ａを離型用基材Ｂよりも先に剥離することができる。前記積層体の離型用基材Ａを剥離して露出するガスバリア層２の面に、重剥離ＮＣＦ／粘着剤層からなる積層体の粘着剤層面を密着積層することで、重剥離ＮＣＦ／粘着剤層／ガスバリア層２／位相差層／ガスバリア層２／離型用基材Ｂからなる層構成を有する積層体を得た。前記積層体の重剥離ＮＣＦを剥離することで、粘着剤層／ガスバリア層２／位相差層／ガスバリア層２からなる第二積層体（両面ガスバリア層）と離型用基材Ｂとからなる積層体を得ることができる。

＜環境試験用サンプルの作製＞
第一積層体の偏光子層側と、第二積層体と離型用基材Ｂの積層体の粘着剤層側とを、密着積層して、前面板／水系接着剤層／偏光子層／粘着剤層／ガスバリア層２／位相差層／ガスバリア層２からなる第三積層体と離型用基材Ｂとからなる積層体を得た。次に、前記積層体の離型用基材Ｂを剥離して露出した面と厚さ０．７ｍｍのガラス板とを実施例１で用いたのと同様の粘着剤層を介して密着積層して環境試験用サンプルを得た。該環境試験用サンプルは、第三積層体／粘着剤層／ガラス板からなり、第三積層体の各辺がガラス板の各辺よりも１０ｍｍ内側に位置するように作製した。ガラス板の大きさは５０ｍｍ×５０ｍｍとした。

（ｉｉｉ）実施例３
＜第二積層体の作製＞
位相差層の位相差発現層面にガスバリア２形成用組成物を介して離型用基材Ａを積層する際に、位相差層のサンプル幅を離型用基材Ａのサンプル幅に比べて１０ｍｍ狭くし、位相差層の厚み方向の全端部にもガスバリア層２を形成したことを除いては、実施例２と同様にして、第二積層体を得た。

＜環境試験用サンプルの作製＞
実施例２と同様にして環境試験用サンプルを得た。

（ｉｖ）実施例４
位相差層の位相差発現層面と第一積層体の偏光子層面とをガスバリア２形成用組成物を介して積層し、一対の貼合ロール間に通した後、８０℃で３分間乾燥させて、前面板／水系接着剤層／偏光子層／ガスバリア層２／位相差層からなる第三積層体（粘着剤層無し、かつ、発光部（ガラス板）側ガスバリア層無し）と位相差層基材とからなる積層体を得た。前記積層体から位相差層基材を剥離して露出する面と厚さ０．７ｍｍのガラス板とを実施例１で用いたのと同様の粘着剤層を介して密着積層して環境試験用サンプルを得た。該環境試験用サンプルは、第三積層体／粘着剤層／ガラス板からなり、第三積層体の各辺がガラス板の各辺よりも１０ｍｍ内側に位置するように作製した。ガラス板の大きさは５０ｍｍ×５０ｍｍとした。

（ｖ）参考例１
＜第二積層体の作製＞
ガスバリア形成用組成物としてガスバリア１形成用組成物を用いたことを除いては実施例１と同様にして、第二積層体（発光部（ガラス板）側ガスバリア層無し）を得た。

＜環境試験用サンプルの作製＞
実施例１と同様にして環境試験用サンプルを得た。

（ｖｉ）比較例１
第一積層体の偏光子層面と位相差層の位相差発現層面とを粘着剤層を介して積層し、前面板／水系接着剤層／偏光子層／粘着剤層／位相差層からなる第三積層体と位相差層基材の層構成からなる積層体を得た。前記積層体から位相差層基材を剥離して露出する面と厚さ０．７ｍｍのガラス板とを実施例１で用いたのと同様の粘着剤層を介して密着積層して環境試験用サンプルを得た。

（ｖｉｉ）比較例２
＜第二積層体の作製＞
位相差層の位相差発現層面に、ガスバリア３形成用組成物を介して離型用基材Ｃを積層し、一対の貼合ロール間に通した後、紫外線照射装置（へレウス株式会社製の重水素ランプを使用）を用いて積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ^２（ＵＶＢ）となるように紫外線を照射して、離型用基材Ｃ／ガスバリア層３／位相差層／位相差層基材からなる積層体を得た。離型用基材Ｃは剥離可能にガスバリア層３に積層されている。前記積層体から前記離型用基材Ｃを剥離してガスバリア層３面に重剥離ＮＣＦ／粘着剤層からなる積層体の粘着剤層面を密着積層することで、重剥離ＮＣＦ／粘着剤層／ガスバリア層３／位相差層／位相差層基材とからなる層構成を有する積層体を得た。前記積層体の重剥離ＮＣＦを剥離することで、粘着剤層／ガスバリア層３／位相差層からなる第二積層体（発光部（ガラス板）側ガスバリア層なし）と位相差層基材とからなる積層体を得ることができる。

＜環境試験用サンプルの作製＞
実施例１と同様にして環境試験用サンプルを得た。

（ｖｉｉｉ）比較例３
＜第二積層体の作製＞
位相差層の位相差発現層面にガスバリア３形成用組成物を介して離型用基材Ｃを積層し、一対の貼合ロール間に通した後、紫外線照射装置（へレウス株式会社製の重水素ランプを使用）を用いて積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ^２（ＵＶＢ）となるように紫外線を照射して、離型用基材Ｃ／ガスバリア層３／位相差層／位相差層基材からなる積層体を得た。次に、前記積層体から位相差層基材を剥離して露出した面にガスバリア３形成用組成物を介して離型用基材Ｄを積層し、一対の貼合ロール間に通した後、積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ^２（ＵＶＢ）となるように紫外線を照射して、離型用基材Ｃ／ガスバリア層３／位相差層／ガスバリア層３／離型用基材Ｄからなる積層体を得た。二つの離型用基材は、それぞれ剥離可能にガスバリア層３に積層されており、離型用基材Ｃを離型用基材Ｄよりも先に剥離することができる。前記積層体の離型用基材Ｃを剥離して露出するガスバリア層３面に、重剥離ＮＣＦ／粘着剤層からなる積層体の粘着剤層面を密着積層することで、重剥離ＮＣＦ／粘着剤層／ガスバリア層３／位相差層／ガスバリア層３／離型用基材Ｄからなる層構成を有する積層体を得た。前記積層体の重剥離ＮＣＦを剥離することで、粘着剤層／ガスバリア層３／位相差層／ガスバリア層３からなる第二積層体（両面ガスバリア層）と離型用基材Ｄとからなる積層体を得ることができる。

＜環境試験用サンプルの作製＞
第一積層体の偏光子層側と、第二積層体と離型用基材Ｄの積層体の粘着剤層側とを、密着積層して前面板／水系接着剤層／偏光子層／粘着剤層／ガスバリア層３／位相差層／ガスバリア層３からなる第三積層体と離型用基材Ｄとからなる積層体を得た。次に、前記積層体の離型用基材Ｄを剥離して露出した面と厚さ０．７ｍｍのガラス板とを実施例１で用いたのと同様の粘着剤層を介して密着積層し環境試験用サンプルを得た。

（５）環境試験の方法と結果の評価
上記環境試験用サンプルを実施例１〜４、参考例１、比較例１〜３の実施形態について作製し、環境試験耐久性を評価した。環境試験としては光線暴露試験と温水浸漬試験を行った。各結果を表１に示す。
（ｉ）＜光線暴露試験の方法＞
光線暴露耐久性は、下記装置および方法を用いた劣化試験を行い評価した。光源はキセノンアークランプ、石英ガラスおよび昼光フィルターからなり、試験槽内温度は４５℃を超えないように調整した。
測定装置：ＡＴＬＡＳ サンテストＸＬＳ＋（アメテック株式会社製）
条件：３００ｎｍ〜８００ｎｍ波長帯での照射エネルギーで２６７Ｗ／ｍ^２×３００時間

（ｉｉ）＜光線暴露耐久性の評価１・中央部リターデーション変化＞
光線暴露耐久性試験前後の環境試験用サンプルの面内中央部の同一箇所について波長５５０ｎｍにおけるリターデーションＲ０（ｎｍ）を位相差測定装置（王子計測機器株式会社製、「ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ」）で測定し、光線暴露耐久性試験前後の変化量を求めた。Ｒ０変化が１ｎｍ程度を下回るサンプルでは明確に視認できる反射色変化を確認できなかったが、Ｒ０変化が２ｎｍを超えるサンプルでは顕著な反射色変化を引き起こし、黒表示能力の大幅な低下をもたらした。

（ｉｉｉ）＜光線暴露耐久性の評価２・端部反射色変化＞
環境試験用サンプルのガラス面にアルミホイル（株式会社ＵＡＣＪ製箔製、「マイホイル」）を、粘着剤層を介して貼合したサンプルを用いて、光線暴露耐久性試験前後のサンプルの端部色変化部の長さを求めた。画像表示装置の色変化がスマートホンやテレビの画像表示装置の辺を被覆する非視認部分を超えて変色する恐れがあるため、端部色変化長さは３ｍｍ未満である必要がある。

（ｉｖ）＜温水浸漬試験の方法＞
６０℃の純水に環境試験用サンプルを１０時間浸漬し、浸漬前後の変化を観察した。

（ｖ）＜温水浸漬耐久性の評価＞
温水浸漬により、ガスバリア層の端部から面内中央部に水分が侵食し、ガスバリア層と位相差層との間に斑点状の浮き、剥がれが見られたものを×とした。一方、偏光子層端部に０．５ｍｍ未満の透過色変化部分がみられるものの、偏光子中央部への水分浸食はなく浮き、剥がれ等も見られなかったものを〇とした。

１：位相差層
２：ガスバリア層
３：配向膜
４：位相差発現層
５：剥離可能基材
６：粘着剤層
７：偏光子層
８：前面板
９：接着剤層
１１：光学積層体

（ｖ）実施例５
＜第二積層体の作製＞
ガスバリア形成用組成物としてガスバリア１形成用組成物を用いたことを除いては実施例１と同様にして、第二積層体（発光部（ガラス板）側ガスバリア層無し）を得た。

（５）環境試験の方法と結果の評価
上記環境試験用サンプルを実施例１〜５、比較例１〜３の実施形態について作製し、環境試験耐久性を評価した。環境試験としては光線暴露試験と温水浸漬試験を行った。各結果を表１に示す。
（ｉ）＜光線暴露試験の方法＞
光線暴露耐久性は、下記装置および方法を用いた劣化試験を行い評価した。光源はキセノンアークランプ、石英ガラスおよび昼光フィルターからなり、試験槽内温度は４５℃を超えないように調整した。
測定装置：ＡＴＬＡＳ サンテストＸＬＳ＋（アメテック株式会社製）
条件：３００ｎｍ〜８００ｎｍ波長帯での照射エネルギーで２６７Ｗ／ｍ^２×３００時間

Claims (9)

1. 少なくとも１種の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化物から構成される位相差発現層を含む位相差層と、前記位相差層の少なくとも一方の面に隣接するガスバリア層とを含み、
   前記ガスバリア層が５００ｃｍ^３／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下の酸素ガス透過度を有する、光学積層体。
2. ガスバリア層は架橋構造を有するポリマーを含む、請求項１に記載の光学積層体。
3. 架橋構造は疎水性架橋剤に由来する、請求項２に記載の光学積層体。
4. 疎水性架橋剤が、イソシアネート系架橋剤、多価アルデヒド系架橋剤および金属化合物系架橋剤からなる群より選択される少なくとも１種を含む、請求項３に記載の光学積層体。
5. ポリマーはポリビニルアルコール系樹脂を含む、請求項２〜４のいずれかに記載の光学積層体。
6. 前記ガスバリア層が位相差層の両面に隣接して配置される、請求項１〜５のいずれかに記載の光学積層体。
7. 前記ガスバリア層が位相差層の厚み方向の少なくとも１つの側面を被覆する、請求項１〜６のいずれかに記載の光学積層体。
8. 偏光子層をさらに含む、請求項１〜７のいずれかに記載の光学積層体。
9. 偏光子層と位相差層とが、位相差層に隣接するガスバリア層のみを介して積層されている、請求項８に記載の光学積層体。

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