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JP2021084356A - Decorative film molding - Google Patents

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JP2021084356A
JP2021084356A JP2019215659A JP2019215659A JP2021084356A JP 2021084356 A JP2021084356 A JP 2021084356A JP 2019215659 A JP2019215659 A JP 2019215659A JP 2019215659 A JP2019215659 A JP 2019215659A JP 2021084356 A JP2021084356 A JP 2021084356A
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decorative film
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充志 吉田
浩平 木▲崎▼
Kohei Kizaki
浩平 木▲崎▼
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Oike and Co Ltd
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Oike and Co Ltd
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Abstract

To provide a decorative film molding which can be applied to various base materials and can switch a pattern to a visible state or a difficult visual state depending on a viewing angle, and a method for producing the decorative film molding.SOLUTION: A method for producing a decorative film molding 1 includes: a step of forming a release layer 3 on one surface of a released substrate 2; a step of forming a protective layer 4 containing an ultraviolet-curable resin composition; a step of forming a vapor-deposited layer 5; a step of forming an adhesive layer 6 containing a filler F; a step of pressing a transfer substrate 7 and thereby embedding the filler in the adhesive layer 6 to form unevenness on the surface of the vapor-deposited layer 5; a step of releasing the released substrate 2 and the release layer 3; a step of arranging a shielding plate including a shielding part for shielding ultraviolet rays and a non-shielding part for transmitting ultraviolet rays on the other surface of the released substrate 2; a step of irradiating the shielding plate with the ultraviolet rays so as to pass through the non-shielding part to temporarily cure the protective layer 4; and a step of completely curing the protective layer 4.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、加飾フィルム成形体および加飾フィルム成形体の製造方法に関する。より詳細には、本発明は、蒸着フィルムを使用して加飾した加飾フィルム成形体および加飾フィルム成形体の製造方法であり、種々の基材に適用可能であり、見る角度によって図柄を視認可能な状態または視認困難な状態に切り替えることのできる加飾フィルム成形体および加飾フィルム成形体を製造するための加飾フィルム成形体の製造方法に関する。 The present invention relates to a decorative film molded product and a method for producing a decorative film molded product. More specifically, the present invention is a method for producing a decorative film molded body and a decorative film molded body decorated using a vapor-deposited film, which can be applied to various base materials, and a design can be arranged depending on a viewing angle. The present invention relates to a decorative film molded body that can be switched to a visible state or a hard-to-see state, and a method for manufacturing a decorative film molded body for manufacturing a decorative film molded body.

従来、紙幣や有価証券などの媒体に、偽造防止のための機能を付与する技術が検討されている(特許文献1)。特許文献1には、応力発光材料を用いた偽造防止媒体が提案されている。 Conventionally, a technique for imparting a function for preventing counterfeiting to a medium such as banknotes or securities has been studied (Patent Document 1). Patent Document 1 proposes an anti-counterfeit medium using a stress-stimulated luminescent material.

特開2019−162877号公報JP-A-2019-162877

本発明は、上記従来の技術とは完全に機序が異なり、種々の基材に適用可能であり、見る角度によって図柄を視認可能な状態または視認困難な状態に切り替えることのできる加飾フィルム成形体および加飾フィルム成形体を製造するための加飾フィルム成形体の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has a completely different mechanism from the above-mentioned conventional technique, is applicable to various base materials, and can switch a pattern into a visible state or a difficult-to-see state depending on a viewing angle. It is an object of the present invention to provide a method for producing a decorative film molded article for producing a body and a decorative film molded article.

本発明者らは、鋭意検討した結果、サテンめっき調の独特の鈍い金属光沢を付与するとともに、図柄の形状に沿って段階的に硬化させた層を設けることにより、種々の基材に適用可能であり、見る角度によって図柄を視認可能な状態または視認困難な状態に切り替えることのできる加飾フィルム成形体が得られることを見出し、本発明を完成させた。また、本発明者らは、保護層において、硬化の程度の異なる複数の領域(重合度の異なる領域)を設けること、それぞれの領域に対して、マルチアングル測色計にて所定の角度から光を入射させ、ハイライト領域におけるL*値を測定する場合に、得られたL*値に差が生じやすいように、保護層における硬化の程度を調整すること、により、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、上記課題を解決する本発明の加飾フィルム成形体の製造方法には、以下の構成が主に含まれる。 As a result of diligent studies, the present inventors have applied it to various substrates by imparting a unique dull metallic luster with a satin plating tone and providing a layer that is gradually cured along the shape of the pattern. The present invention has been completed by finding that a decorative film molded body capable of switching a design to a visible state or a difficult-to-see state can be obtained depending on a viewing angle. Further, the present inventors provide a plurality of regions (regions having different degrees of polymerization) having different degrees of curing in the protective layer, and light from a predetermined angle with a multi-angle colorimeter for each region. The above problem can be solved by adjusting the degree of curing in the protective layer so that a difference is likely to occur in the obtained L * value when the L * value in the highlight region is measured. We found that and completed the present invention. That is, the method for producing a decorative film molded product of the present invention that solves the above problems mainly includes the following configurations.

(1)基材と、接着層と、蒸着層と、保護層とを有し、前記蒸着層は、表面に凹凸が形成されており、前記接着層は、フィラーを含み、前記保護層は、第1領域と、前記第1領域よりも重合度が大きい第2領域とを有し、前記保護層の法線方向から45°傾斜した角度からマルチアングル測色計の光源からの光を入射させた際、入射させた光の正反射方向を0°と定義し、前記正反射方向から前記光源側をプラスの角度と定義し、前記正反射方向から前記光源と反対側をマイナスの角度と定義する場合において、前記第1領域における−15°方向のL*値(L1*-15)は、前記第2領域における−15°方向のL*値(L2*-15)よりも大きく、前記第1領域における15°方向のL*値(L1*15)は、前記第2領域における15°方向のL*値(L2*15)よりも大きく、前記第1領域における25°方向のL*値(L1*25)は、前記第2領域における25°方向のL*値(L2*25)よりも大きい、加飾フィルム成形体。 (1) It has a base material, an adhesive layer, a vapor deposition layer, and a protective layer. The vapor deposition layer has irregularities formed on its surface, the adhesive layer contains a filler, and the protective layer is: It has a first region and a second region having a higher degree of polymerization than the first region, and light from a light source of a multi-angle colorimeter is incident from an angle inclined by 45 ° from the normal direction of the protective layer. At that time, the normal reflection direction of the incident light is defined as 0 °, the light source side from the normal reflection direction is defined as a positive angle, and the side opposite to the light source from the normal reflection direction is defined as a negative angle. In this case, the L * value (L1 * -15 ) in the -15 ° direction in the first region is larger than the L * value (L2 * -15 ) in the -15 ° direction in the second region, and the first The L * value (L1 * 15 ) in the 15 ° direction in one region is larger than the L * value (L2 * 15 ) in the 15 ° direction in the second region, and the L * value in the 25 ° direction in the first region. (L1 * 25 ) is a decorative film molded body larger than the L * value (L2 * 25 ) in the 25 ° direction in the second region.

このような構成によれば、加飾フィルム成形体は、−15°〜25°といったハイライト領域において、第1領域と第2領域とのL*値の差が大きくなる。そのため、加飾フィルム成形体は、所定の角度だけ傾けた場合に、第1の領域と第2の領域とのL*値の差に基づく反射の程度の違いによって、図柄を視認可能な状態または視認困難な状態に切り替えることができる。また、加飾フィルム成形体は、種々の基材を使用し得る。 According to such a configuration, in the decorative film molded product, the difference in L * value between the first region and the second region becomes large in the highlight region such as −15 ° to 25 °. Therefore, when the decorative film molded product is tilted by a predetermined angle, the design can be visually recognized depending on the difference in the degree of reflection based on the difference in the L * value between the first region and the second region. It is possible to switch to a state where it is difficult to see. In addition, various base materials can be used for the decorative film molded product.

(2)被剥離基材の一方の面上に、離型層を形成する離型層形成工程と、前記離型層上に、紫外線硬化型樹脂組成物を含む保護層を形成する保護層形成工程と、前記保護層上に、蒸着層を形成する蒸着層形成工程と、前記蒸着層上に、フィラーを含む接着層を形成する接着層形成工程と、前記接着層上に、転写基材を押し当てることにより、前記フィラーを前記接着層に埋設させて、前記蒸着層の表面に凹凸を形成する転写基材形成工程と、前記被剥離基材および前記離型層を剥離する剥離工程と、を含み、前記転写基材形成工程よりも前に、前記被剥離基材の他方の面上に、紫外線を遮蔽する遮蔽部と紫外線を透過する非遮蔽部とを含む遮蔽板を配置する遮蔽工程を含み、前記遮蔽工程よりも後であって、かつ、前記転写基材形成工程よりも前に、前記保護層から前記接着層の方向へ、前記非遮蔽部を通過するよう紫外線を照射し、前記保護層を仮硬化する仮硬化工程を含み、前記転写基材形成工程よりも後に、前記保護層から前記接着層の方向へ、紫外線を照射し、前記保護層を本硬化する本硬化工程を含む、加飾フィルム成形体の製造方法。 (2) A release layer forming step of forming a release layer on one surface of the base material to be peeled off, and forming a protective layer on the release layer to form a protective layer containing an ultraviolet curable resin composition. A step, a vapor deposition layer forming step of forming a vapor deposition layer on the protective layer, an adhesive layer forming step of forming an adhesive layer containing a filler on the vapor deposition layer, and a transfer base material on the adhesive layer. A transfer base material forming step of embedding the filler in the adhesive layer by pressing to form irregularities on the surface of the vapor deposition layer, and a peeling step of peeling off the peeled base material and the release layer. A shielding step of arranging a shielding plate including a shielding portion that shields ultraviolet rays and a non-shielding portion that transmits ultraviolet rays on the other surface of the substrate to be peeled before the transfer substrate forming step. After the shielding step and before the transfer substrate forming step, ultraviolet rays are irradiated from the protective layer toward the adhesive layer so as to pass through the non-shielding portion. A main curing step including a temporary curing step of temporarily curing the protective layer, and after the transfer base material forming step, irradiating ultraviolet rays from the protective layer toward the adhesive layer to main cure the protective layer. A method for manufacturing a decorative film molded body, including.

このような構成によれば、保護層は、仮硬化工程において、非遮蔽部を透過した紫外線によって、非遮蔽部の形状に沿って硬化される。その後、転写基材形成工程において、フィラーが接着層に埋設され、蒸着層を変形し、凹凸が形成される。また、本硬化工程において、保護層は、全体が硬化される。その結果、保護層において最初に硬化された部位と、その周囲の部位とは、別々の工程(仮硬化工程および本硬化工程)によって硬化されており、かすかな輪郭が形成された図柄が保護層に形成される。また、保護層から接着層に向かう方向から見ると、蒸着層に形成された凹凸は、上面視において図柄と重なる位置に形成された凹凸と、図柄と重ならない位置に形成された凹凸とがある。これらの凹凸は、いずれも、所定の角度だけ傾斜させると、図柄の輪郭を浮き上がらせるように光を反射する場合(図柄が視認可能な状態)と、図柄の輪郭には影響を与えないよう光を反射する場合(図柄が視認困難な状態)とに変化し得る。これにより、本発明によれば、種々の基材に適用することができ、かつ、見る角度によって図柄を視認可能な状態または視認困難な状態に切り替えることのできる加飾フィルム成形体を製造することができる。 According to such a configuration, the protective layer is cured along the shape of the non-shielding portion by the ultraviolet rays transmitted through the non-shielding portion in the temporary curing step. Then, in the transfer substrate forming step, the filler is embedded in the adhesive layer, the vapor-deposited layer is deformed, and unevenness is formed. Further, in the main curing step, the entire protective layer is cured. As a result, the first cured portion of the protective layer and the surrounding portion are cured by separate steps (temporary curing step and main curing step), and the pattern having a faint outline is formed in the protective layer. Is formed in. Further, when viewed from the direction from the protective layer to the adhesive layer, the unevenness formed on the vapor-deposited layer includes unevenness formed at a position overlapping the symbol in the top view and unevenness formed at a position not overlapping the symbol. .. All of these irregularities reflect light so as to make the outline of the design stand out when tilted by a predetermined angle (when the design is visible), and light so as not to affect the outline of the design. Can change to the case of reflecting (a state in which the design is difficult to see). Thereby, according to the present invention, it is possible to manufacture a decorative film molded product that can be applied to various base materials and that can switch the design into a visible state or a hard-to-see state depending on the viewing angle. Can be done.

(3)前記本硬化工程は、前記剥離工程の後に実施される、(2)記載の加飾フィルム成形体の製造方法。 (3) The method for producing a decorative film molded product according to (2), wherein the main curing step is carried out after the peeling step.

このような構成によれば、本硬化工程は、剥離工程により露出された保護層に対して紫外線が照射される。そのため、得られる加飾フィルム成形体は、より均一に硬化されやすい。 According to such a configuration, in the main curing step, the protective layer exposed by the peeling step is irradiated with ultraviolet rays. Therefore, the obtained decorative film molded product is likely to be cured more uniformly.

本発明によれば、種々の基材に適用可能であり、見る角度によって図柄を視認可能な状態または視認困難な状態に切り替えることのできる加飾フィルム成形体を製造するための加飾フィルム成形体および加飾フィルム成形体の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, a decorative film molded article for producing a decorative film molded article which can be applied to various base materials and can switch a design into a visible state or a difficult-to-see state depending on a viewing angle. And a method for producing a decorative film molded article can be provided.

図1は、本発明の一実施形態(第1の実施形態)の加飾フィルム成形体の製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining a method of manufacturing a decorative film molded product according to an embodiment of the present invention (first embodiment). 図2は、本発明の一実施形態(第1の実施形態)の加飾フィルム成形体の製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining a method of manufacturing a decorative film molded product according to an embodiment of the present invention (first embodiment). 図3は、本発明の一実施形態(第1の実施形態)の加飾フィルム成形体の製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view for explaining a method of manufacturing a decorative film molded product according to an embodiment of the present invention (first embodiment). 図4は、遮蔽工程を説明するための模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the shielding process. 図5は、図柄が視認困難な状態となるよう加飾フィルム成形体を傾斜させた状態を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic view showing a state in which the decorative film molded body is tilted so that the design is difficult to see. 図6は、図柄が視認可能な状態となるよう加飾フィルム成形体を傾斜させた状態を示す模式図である。FIG. 6 is a schematic view showing a state in which the decorative film molded body is tilted so that the design can be visually recognized. 図7は、図柄が視認困難な状態となるよう加飾フィルム成形体を傾斜させた状態を示す写真である。FIG. 7 is a photograph showing a state in which the decorative film molded body is tilted so that the design is difficult to see. 図8は、図柄が視認可能な状態となるよう加飾フィルム成形体を傾斜させた状態を示す写真である。FIG. 8 is a photograph showing a state in which the decorative film molded body is tilted so that the design can be visually recognized. 図9は、本発明の一実施形態(第2の実施形態)の加飾フィルム成形体の製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 9 is a schematic cross-sectional view for explaining a method of manufacturing a decorative film molded product according to an embodiment (second embodiment) of the present invention. 図10は、図柄が視認困難な状態となるよう加飾フィルム成形体を傾斜させた状態を示す模式図である。FIG. 10 is a schematic view showing a state in which the decorative film molded body is tilted so that the design is difficult to see. 図11は、図柄が視認可能な状態となるよう加飾フィルム成形体を傾斜させた状態を示す模式図である。FIG. 11 is a schematic view showing a state in which the decorative film molded body is tilted so that the design can be visually recognized. 図12は、本発明の一実施形態の加飾フィルム成形体に対して、マルチアングル測色計の光源からの光を入射させている様子を説明するための模式図である。FIG. 12 is a schematic view for explaining a state in which light from a light source of a multi-angle colorimeter is incident on a decorative film molded product according to an embodiment of the present invention.

以下、説明の明瞭化のため、加飾フィルム成形体の説明の前に、加飾フィルム成形体の製造方法を説明する。 Hereinafter, for the sake of clarification of the description, a method for manufacturing the decorative film molded body will be described before the description of the decorative film molded body.

[加飾フィルム成形体の製造方法]
<第1の実施形態>
図1〜図3は、本発明の一実施形態(第1の実施形態)の加飾フィルム成形体の製造方法を説明するための模式的な断面図である。本実施形態の加飾フィルム成形体1の製造方法は、被剥離基材2の一方の面上に、離型層3を形成する離型層形成工程と、離型層3上に、紫外線硬化型樹脂組成物を含む保護層4を形成する保護層形成工程と、保護層4上に、蒸着層5を形成する蒸着層形成工程と、蒸着層5上に、フィラーFを含む接着層6を形成する接着層形成工程と、接着層6上に、転写基材7を押し当てることにより、フィラーFを接着層6に埋設させて、蒸着層5の表面に凹凸51を形成する転写基材形成工程と、被剥離基材2および離型層3を剥離する剥離工程とを含む。本実施形態の加飾フィルム成形体1の製造方法は、転写基材形成工程よりも前に、被剥離基材2の他方の面上に、紫外線を遮蔽する遮蔽部81と紫外線を透過する非遮蔽部82とを含む遮蔽板8(図4参照)を配置する遮蔽工程を含む。本実施形態の加飾フィルム成形体1の製造方法は、遮蔽工程よりも後であって、かつ、転写基材形成工程よりも前に、保護層4から接着層6の方向へ、非遮蔽部82を通過するよう紫外線を照射し、保護層4を仮硬化する仮硬化工程を含む。本実施形態の加飾フィルム成形体1の製造方法は、転写基材形成工程よりも後に、保護層4から接着層6の方向へ、紫外線を照射し、保護層4を本硬化する本硬化工程を含む。以下、それぞれの工程について説明する。
[Manufacturing method of decorative film molded product]
<First Embodiment>
1 to 3 are schematic cross-sectional views for explaining a method for manufacturing a decorative film molded product according to an embodiment of the present invention (first embodiment). The method for producing the decorative film molded body 1 of the present embodiment includes a release layer forming step of forming a release layer 3 on one surface of the base material 2 to be peeled off, and ultraviolet curing on the release layer 3. A protective layer forming step of forming a protective layer 4 containing a mold resin composition, a vapor deposition layer forming step of forming a vapor deposition layer 5 on the protective layer 4, and an adhesive layer 6 containing a filler F on the vapor deposition layer 5. In the process of forming the adhesive layer to be formed, and by pressing the transfer base material 7 onto the adhesive layer 6, the filler F is embedded in the adhesive layer 6 to form the transfer base material 51 on the surface of the vapor deposition layer 5. It includes a step and a peeling step of peeling the base material 2 to be peeled and the release layer 3. In the method for producing the decorative film molded body 1 of the present embodiment, a shielding portion 81 that shields ultraviolet rays and a non-transmitting ultraviolet rays are placed on the other surface of the base material 2 to be peeled before the transfer base material forming step. The shielding step of arranging the shielding plate 8 (see FIG. 4) including the shielding portion 82 is included. The method for producing the decorative film molded body 1 of the present embodiment is a non-shielding portion in the direction from the protective layer 4 to the adhesive layer 6 after the shielding step and before the transfer base material forming step. It includes a temporary curing step of irradiating ultraviolet rays so as to pass through 82 and temporarily curing the protective layer 4. The method for producing the decorative film molded body 1 of the present embodiment is a main curing step in which the protective layer 4 is main-cured by irradiating ultraviolet rays from the protective layer 4 to the adhesive layer 6 after the transfer base material forming step. including. Hereinafter, each step will be described.

(離型層形成工程)
離型層形成工程は、被剥離基材2の一方の面上に、離型層3を形成する工程である。
(Release layer forming process)
The release layer forming step is a step of forming the release layer 3 on one surface of the base material 2 to be peeled off.

被剥離基材2は特に限定されない。一例を挙げると、被剥離基材2は、樹脂シート、紙、布、ゴムシート、発泡体シート等である。樹脂シートは、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系樹脂シート;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル系樹脂シート;塩化ビニル樹脂シート;酢酸ビニル樹脂シート;ポリイミド樹脂シート;ポリアミド樹脂シート;フッ素樹脂シート;セロハン等が例示される。紙は、和紙、クラフト紙、グラシン紙、上質紙、合成紙、トップコート紙等が例示される。布は、各種繊維状物質の単独または混紡等による織布や不織布等が例示される。ゴムシートは、天然ゴムシート、ブチルゴムシート等が例示される。発泡体シートは、発泡PEシート等の発泡ポリオレフィンシート、発泡ポリエステルシート、発泡ポリウレタンシート、発泡ポリクロロプレンゴムシート等が例示される。これらの中でも、基材は、物理的特性(たとえば、寸法安定性、厚さ精度、加工性、引張強度)、経済性(コスト)等の理由により、ポリエチレンテレフタレート(PET)製であることが好ましい。 The base material 2 to be peeled off is not particularly limited. As an example, the base material 2 to be peeled off is a resin sheet, paper, cloth, rubber sheet, foam sheet or the like. The resin sheet is a polyolefin-based resin sheet such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), ethylene / propylene copolymer; polyester-based such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), and polyethylene naphthalate (PEN). Examples thereof include a resin sheet; a vinyl chloride resin sheet; a vinyl acetate resin sheet; a polyethylene resin sheet; a polyamide resin sheet; a fluororesin sheet; and a cellophane. Examples of paper include Japanese paper, kraft paper, glassin paper, high-quality paper, synthetic paper, and top-coated paper. Examples of the cloth include woven cloths and non-woven fabrics made by spinning various fibrous substances alone or by blending them. Examples of the rubber sheet include a natural rubber sheet and a butyl rubber sheet. Examples of the foam sheet include a foamed polyolefin sheet such as a foamed PE sheet, a foamed polyester sheet, a foamed polyurethane sheet, and a foamed polychloroprene rubber sheet. Among these, the base material is preferably made of polyethylene terephthalate (PET) for reasons such as physical properties (for example, dimensional stability, thickness accuracy, workability, tensile strength), economy (cost), and the like. ..

被剥離基材2の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、被剥離基材2の厚みは、4μm〜200μm程度である。被剥離基材2の厚みが上記範囲内であることにより、基材は、カールやシワが入りにくくなり、転写性も優れ、コストも安価に抑えられる。 The thickness of the base material 2 to be peeled off is not particularly limited. As an example, the thickness of the base material 2 to be peeled off is about 4 μm to 200 μm. When the thickness of the base material 2 to be peeled is within the above range, the base material is less likely to be curled or wrinkled, has excellent transferability, and can be kept at low cost.

離型層3は特に限定されない。一例を挙げると、離型層3は、シリコーン樹脂系、フッ素樹脂系、セルロース誘導体樹脂系、尿素樹脂系、ポリオレフィン樹脂系、メラミン樹脂系等の離型剤からなる。 The release layer 3 is not particularly limited. For example, the release layer 3 is made of a release agent such as a silicone resin type, a fluororesin type, a cellulose derivative resin type, a urea resin type, a polyolefin resin type, and a melamine resin type.

離型層3を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、離型層3は、ロールコーター等を用いて離型剤を被剥離基材2上に塗布することにより形成し得る。 The method for forming the release layer 3 is not particularly limited. As an example, the release layer 3 can be formed by applying a release agent on the base material 2 to be peeled off using a roll coater or the like.

離型層3の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、離型層3の厚みは、0.01〜5μm程度である。 The thickness of the release layer 3 is not particularly limited. As an example, the thickness of the release layer 3 is about 0.01 to 5 μm.

(保護層形成工程)
保護層形成工程は、離型層3上に、紫外線硬化型樹脂組成物を含む保護層4を形成する工程である。
(Protective layer forming process)
The protective layer forming step is a step of forming a protective layer 4 containing an ultraviolet curable resin composition on the release layer 3.

保護層4は特に限定されない。一例を挙げると、保護層4は、紫外線硬化型樹脂組成物を含んでいればよい。一例を挙げると、紫外線硬化型樹脂組成物は、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、熱硬化型アクリル樹脂等の紫外線硬化型モノマーまたはこれらのプレポリマーと、光ラジカル重合開始剤とからなる紫外線ラジカル硬化型の樹脂組成物や、樹脂成分として紫外線硬化型エポキシ樹脂と、光重合開始剤としてカチオン性紫外線重合開始剤と、必要によりカチオン重合性ビニル単量体、希釈剤、他のエポキシ樹脂、増感剤、架橋剤等を含むカチオン硬化型の樹脂組成物である。 The protective layer 4 is not particularly limited. As an example, the protective layer 4 may contain an ultraviolet curable resin composition. As an example, the ultraviolet curable resin composition is an ultraviolet radical curing composed of an ultraviolet curable monomer such as an epoxy acrylate resin, a urethane acrylate resin, a heat curable acrylic resin, or a prepolymer thereof, and a photoradical polymerization initiator. A mold resin composition, an ultraviolet curable epoxy resin as a resin component, a cationic ultraviolet polymerization initiator as a photopolymerization initiator, and if necessary, a cationically polymerizable vinyl monomer, a diluent, other epoxy resins, and sensitization. It is a cation-curable resin composition containing an agent, a cross-linking agent, and the like.

保護層4の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、保護層4の厚みは、1.0μm以上20μm以下であることが好ましい。保護層4の厚みが上記範囲内であることにより、加飾フィルム成形体1は、耐擦傷性、耐摩耗性が優れる。 The thickness of the protective layer 4 is not particularly limited. As an example, the thickness of the protective layer 4 is preferably 1.0 μm or more and 20 μm or less. When the thickness of the protective layer 4 is within the above range, the decorative film molded body 1 is excellent in scratch resistance and abrasion resistance.

保護層4を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、保護層4は、ロールコーター等を用いて、適宜溶剤に溶解した保護層4を構成する樹脂溶液を、離型層3上に塗布することにより形成し得る。塗布された樹脂溶液は、後述する仮硬化工程および本硬化工程において硬化される。 The method of forming the protective layer 4 is not particularly limited. As an example, the protective layer 4 can be formed by applying a resin solution constituting the protective layer 4 appropriately dissolved in a solvent onto the release layer 3 using a roll coater or the like. The applied resin solution is cured in the temporary curing step and the main curing step described later.

(蒸着層形成工程)
蒸着層形成工程は、保護層4上に、蒸着層5を形成する工程である。
(Thin-film deposition layer forming process)
The thin-film deposition layer forming step is a step of forming the thin-film deposition layer 5 on the protective layer 4.

蒸着層5は特に限定されない。一例を挙げると、蒸着層5は、非金属、金属、金属酸化物および金属窒化物からなる群から選択される少なくとも1種(金属等ともいう)である。非金属、金属等は特に限定されない。一例を挙げると、非金属は、アモルファスカーボン(DLC)およびその複合体、金属等は、珪素、チタン、スズ、亜鉛、アルミニウム、インジウムおよびマグネシウムからなる群から選択される少なくとも1つの金属、その酸化物、その窒化物である。これらの中でも、金属等は、アルミニウム、酸化アルミニウム、インジウム、スズ、酸化珪素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO)、亜鉛スズ酸化物(ZTO)等であることが好ましく、アルミニウム、酸化アルミニウム、インジウム、スズであることがより好ましい。蒸着層5がアルミニウム、酸化アルミニウム、インジウム、スズからなることにより、得られる加飾フィルム成形体1は、サテンめっきの金属調の意匠感を示しやすい。 The vapor deposition layer 5 is not particularly limited. As an example, the vapor-deposited layer 5 is at least one type (also referred to as a metal or the like) selected from the group consisting of non-metals, metals, metal oxides and metal nitrides. Non-metals, metals and the like are not particularly limited. As an example, the non-metal is amorphous carbon (DLC) and its composite, the metal and the like are at least one metal selected from the group consisting of silicon, titanium, tin, zinc, aluminum, indium and magnesium, and its oxidation. A thing, its nitride. Among these, the metal and the like are preferably aluminum, aluminum oxide, indium, tin, silicon oxide, silicon nitride, silicon nitride, aluminum zinc oxide (AZO), zinc tin oxide (ZTO) and the like, and aluminum. , Aluminum oxide, indium and tin are more preferred. Since the vapor-deposited layer 5 is made of aluminum, aluminum oxide, indium, and tin, the obtained decorative film molded body 1 tends to exhibit a metallic design feeling of satin plating.

蒸着層5を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、蒸着方法は、従来公知の真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法、または、化学蒸着法等を適宜採用し得る。これらの中でも、本実施形態の加飾フィルム成形体1の製造方法は、生産性が高いという理由により、真空蒸着法により蒸着層5を設けることが好ましい。蒸着条件は、蒸着層5の材料や、所望する蒸着層の厚みに基づいて、従来公知の条件が適宜採用され得る。なお、金属を蒸着する場合において、金属材料は、不純物が少なく、純度が99重量%以上であることが好ましく、99.5重量%以上であることがより好ましい。また、金属材料は、粒状、ロッド状、タブレット状、ワイヤー状あるいは使用するルツボ形状に加工したものであることが好ましい。金属材料を蒸発させるための加熱方法は、ルツボ中に金属材料を入れて抵抗加熱あるいは高周波加熱を行う方式や、電子ビーム加熱を行う方法、窒化硼素などのセラミック製のボードに金属材料を入れ直接抵抗加熱を行う方法など、周知の方法を用いることができる。真空蒸着に用いるルツボは、カーボン製であることが望ましく、アルミナやマグネシア、チタニア、ベリリア性のルツボであってもよい。 The method for forming the vapor deposition layer 5 is not particularly limited. As an example, as the vapor deposition method, a conventionally known vacuum vapor deposition method, a sputtering method, a physical vapor deposition method such as an ion plating method, a chemical vapor deposition method, or the like can be appropriately adopted. Among these, in the method for producing the decorative film molded body 1 of the present embodiment, it is preferable to provide the vapor deposition layer 5 by the vacuum vapor deposition method because of its high productivity. As the vapor deposition conditions, conventionally known conditions can be appropriately adopted based on the material of the vapor deposition layer 5 and the desired thickness of the vapor deposition layer. When depositing a metal, the metal material preferably has few impurities and a purity of 99% by weight or more, and more preferably 99.5% by weight or more. Further, the metal material is preferably processed into a granular shape, a rod shape, a tablet shape, a wire shape, or a crucible shape to be used. The heating method for evaporating the metal material is a method of putting the metal material in the crucible and performing resistance heating or high frequency heating, a method of performing electron beam heating, or putting the metal material directly on a ceramic board such as boron nitride. A well-known method such as a method of performing resistance heating can be used. The crucible used for vacuum deposition is preferably made of carbon, and may be alumina, magnesia, titania, or beryllium crucible.

蒸着層5の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、蒸着層5の厚みは、7nm以上であることが好ましく、20nm以上であることがより好ましい。また、蒸着層5の厚みは、100nm以下であることが好ましく、80nm以下であることがより好ましい。蒸着層5の厚みが上記範囲内であることにより、蒸着層5は、適度な可撓性を有し、後述するフィラーFによって表面に凹凸51(図2参照)が形成されやすい。 The thickness of the vapor deposition layer 5 is not particularly limited. As an example, the thickness of the vapor deposition layer 5 is preferably 7 nm or more, and more preferably 20 nm or more. The thickness of the thin-film deposition layer 5 is preferably 100 nm or less, more preferably 80 nm or less. When the thickness of the thin-film deposition layer 5 is within the above range, the thin-film deposition layer 5 has appropriate flexibility, and unevenness 51 (see FIG. 2) is likely to be formed on the surface by the filler F described later.

(接着層形成工程)
接着層形成工程は、蒸着層5上に、フィラーFを含む接着層6を形成する工程である。
(Adhesive layer forming process)
The adhesive layer forming step is a step of forming the adhesive layer 6 containing the filler F on the vapor deposition layer 5.

接着層6を構成する樹脂は特に限定されない。一例を挙げると、接着層6は、アクリル樹脂系、ウレタン樹脂系、ウレタン変性ポリエステル樹脂系、ポリエステル樹脂系、エポキシ樹脂系、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂(EVA)系、ビニル樹脂系(塩ビ、酢ビ、塩ビ−酢ビ共重合樹脂)、スチレン−エチレン−ブチレン共重合体樹脂系、ポリビニルアルコール樹脂系、ポリアクリルアミド樹脂系、ポリアクリルアミド樹脂系、イソブチレンゴム、イソプレンゴム、天然ゴム、SBR、NBR、シリコーンゴム等の樹脂からなる。これらの樹脂は、適宜、溶剤に溶解されて使用されてもよく、無溶剤で使用されてもよい。 The resin constituting the adhesive layer 6 is not particularly limited. For example, the adhesive layer 6 is made of acrylic resin, urethane resin, urethane-modified polyester resin, polyester resin, epoxy resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin (EVA), vinyl resin (PVC, vinyl chloride, etc.). Vinegar, vinyl chloride-vinegar copolymer resin), styrene-ethylene-butylene copolymer resin, polyvinyl alcohol resin, polyacrylamide resin, polyacrylamide resin, isobutylene rubber, isoprene rubber, natural rubber, SBR, NBR , Made of resin such as silicone rubber. These resins may be appropriately dissolved in a solvent and used, or may be used without a solvent.

接着層6の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、接着層6の厚みは、0.5〜5μm程度である。 The thickness of the adhesive layer 6 is not particularly limited. As an example, the thickness of the adhesive layer 6 is about 0.5 to 5 μm.

フィラーFは、後述する転写基材形成工程において、蒸着層5の表面に凹凸51を形成するために配合されている。 The filler F is added to form the unevenness 51 on the surface of the vapor deposition layer 5 in the transfer base material forming step described later.

フィラーFは特に限定されない。一例を挙げると、フィラーFは、メラミン系樹脂粒子、アクリル系樹脂粒子、アクリル−スチレン系共重合体粒子、ポリカーボネート系粒子、ポリエチレン系粒子、ポリスチレン系粒子である。また、フィラーFは、シリカ粒子や、タルク、窒化ホウ素等であってもよい。 The filler F is not particularly limited. As an example, the filler F is melamine-based resin particles, acrylic-based resin particles, acrylic-styrene-based copolymer particles, polycarbonate-based particles, polyethylene-based particles, and polystyrene-based particles. Further, the filler F may be silica particles, talc, boron nitride or the like.

フィラーFの形状は特に限定されない。フィラーFの形状は、各種定形であってもよく、レンズ状や鱗片状等の不定形であってもよい。図1には、レンズ状のフィラーF(レンズ状フィラーF)が例示されている。 The shape of the filler F is not particularly limited. The shape of the filler F may be various fixed shapes, or may be an irregular shape such as a lens shape or a scale shape. FIG. 1 illustrates a lens-shaped filler F (lens-shaped filler F).

不定形フィラーの形状は、真球状以外の形状であることが好ましく、レンズ状(楕円球状)または鱗片状であることがより好ましい。不定形フィラーの形状は真球状以外であることにより、フィラーは、光を全方向に拡散させることが無く、白っぽい外観を呈しにくい。その結果、得られる加飾フィルム成形体1は、サテンめっきの金属調を表現しやすい。 The shape of the amorphous filler is preferably a shape other than a true sphere, and more preferably a lenticular shape (elliptical sphere) or a scaly shape. Since the shape of the amorphous filler is other than a spherical shape, the filler does not diffuse light in all directions and does not easily exhibit a whitish appearance. As a result, the obtained decorative film molded body 1 can easily express the metallic tone of satin plating.

不定形フィラーの寸法は特に限定されない。一例を挙げると、不定形フィラーがレンズ状フィラーである場合、レンズ状フィラーFの長径L1は、2.0μm以上であることが好ましく、6.0μm以上であることがより好ましい。また、レンズ状フィラーFの長径L1は、20μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましい。また、レンズ状フィラーFの厚みL2は、1.0μm以上であることが好ましく、2.0μm以上であることがより好ましい。また、レンズ状フィラーFの厚みL2は、5.0μm以下であることが好ましく、3.0μm以下であることがより好ましい。さらに、レンズ状フィラーFのアスペクト比(長径/厚み)は、1.0以上であることが好ましく、2.0以上であることがより好ましい。また、レンズ状フィラーFのアスペクト比は、10以下であることが好ましく、5.0以下であることがより好ましい。レンズ状フィラーFの寸法が上記範囲内であることにより、後述する転写基材形成工程において、蒸着層5の表面に、所望の寸法の凹凸51が形成されやすい。この結果、得られる加飾フィルム成形体1は、特に金属光沢と低い写像性とが両立されやすい。 The dimensions of the amorphous filler are not particularly limited. As an example, when the amorphous filler is a lenticular filler, the major axis L1 of the lenticular filler F is preferably 2.0 μm or more, and more preferably 6.0 μm or more. The major axis L1 of the lens-shaped filler F is preferably 20 μm or less, and more preferably 10 μm or less. The thickness L2 of the lens-shaped filler F is preferably 1.0 μm or more, and more preferably 2.0 μm or more. The thickness L2 of the lens-shaped filler F is preferably 5.0 μm or less, and more preferably 3.0 μm or less. Further, the aspect ratio (major axis / thickness) of the lenticular filler F is preferably 1.0 or more, and more preferably 2.0 or more. The aspect ratio of the lenticular filler F is preferably 10 or less, more preferably 5.0 or less. When the size of the lenticular filler F is within the above range, unevenness 51 having a desired size is likely to be formed on the surface of the vapor deposition layer 5 in the transfer base material forming step described later. As a result, the obtained decorative film molded body 1 tends to have both metallic luster and low image quality.

一方、不定形フィラーが鱗片状フィラーである場合、鱗片状フィラーの長径は、0.5μm以上10μm以下であることが好ましい。また、鱗片状フィラーの厚みは、0.05μm以上0.5μm以下であることが好ましい。さらに、鱗片状フィラーのアスペクト比(長径/厚み)は、10以上150以下であることが好ましい。鱗片状フィラーの寸法が上記範囲内であることにより、後述する転写基材形成工程において、蒸着層の表面に、所望の寸法の凹凸が形成されやすい。この結果、得られる加飾フィルム成形体は、特に金属光沢と低い写像性とが両立されやすい。 On the other hand, when the amorphous filler is a scaly filler, the major axis of the scaly filler is preferably 0.5 μm or more and 10 μm or less. The thickness of the scaly filler is preferably 0.05 μm or more and 0.5 μm or less. Further, the aspect ratio (major axis / thickness) of the scaly filler is preferably 10 or more and 150 or less. When the size of the scaly filler is within the above range, unevenness of a desired size is likely to be formed on the surface of the vapor-deposited layer in the transfer base material forming step described later. As a result, the obtained decorative film molded product tends to have both metallic luster and low image quality.

フィラーを含む接着層6が、蒸着層5上に形成されると、接着層6は、一部のフィラーFが接着層6の表面から露出した状態で固化する。図1には、一部のレンズ状フィラーFが接着層6の表面から露出した状態で固化している状態が示されている。 When the adhesive layer 6 containing the filler is formed on the thin-film deposition layer 5, the adhesive layer 6 solidifies in a state where a part of the filler F is exposed from the surface of the adhesive layer 6. FIG. 1 shows a state in which a part of the lenticular filler F is solidified in a state of being exposed from the surface of the adhesive layer 6.

接着層6を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、接着層6は、ロールコーター等を用いて、適宜溶剤に溶解した接着層6を構成する樹脂溶液を、蒸着層5上に塗布することにより形成し得る。 The method for forming the adhesive layer 6 is not particularly limited. As an example, the adhesive layer 6 can be formed by applying a resin solution constituting the adhesive layer 6 appropriately dissolved in a solvent onto the vapor-deposited layer 5 using a roll coater or the like.

(遮蔽工程)
図4は、遮蔽工程を説明するための模式図である。遮蔽工程は、被剥離基材2の他方の面上に、紫外線を遮蔽する遮蔽部81と紫外線を透過する非遮蔽部82とを含む遮蔽板8を配置する工程である。遮蔽工程は、転写基材形成工程よりも前に実施されればよい。
(Shielding process)
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the shielding process. The shielding step is a step of arranging a shielding plate 8 including a shielding portion 81 that shields ultraviolet rays and a non-shielding portion 82 that transmits ultraviolet rays on the other surface of the base material 2 to be peeled off. The shielding step may be performed before the transfer substrate forming step.

遮蔽板8は、紫外線を遮蔽する遮蔽部81と、紫外線を透過する非遮蔽部82とが形成されている。遮蔽板8の材質は特に限定されない。一例を挙げると、遮蔽板8は、各種樹脂素材、ガラス等である。 The shielding plate 8 is formed with a shielding portion 81 that shields ultraviolet rays and a non-shielding portion 82 that transmits ultraviolet rays. The material of the shielding plate 8 is not particularly limited. As an example, the shielding plate 8 is made of various resin materials, glass, or the like.

遮蔽部81の表面は、黒色であり、紫外線に対する透過率が低い。これにより、遮蔽板8に対して照射された紫外線は、遮蔽部81を透過せず、非遮蔽部82を主に透過する。非遮蔽部82を透過した紫外線は、保護層4に到達し、後述する仮硬化工程において、保護層4の一部を非遮蔽部82の形状に沿って硬化(仮硬化)する。 The surface of the shielding portion 81 is black and has a low transmittance for ultraviolet rays. As a result, the ultraviolet rays radiated to the shielding plate 8 do not pass through the shielding portion 81, but mainly pass through the non-shielding portion 82. The ultraviolet rays transmitted through the non-shielding portion 82 reach the protective layer 4, and in the temporary curing step described later, a part of the protective layer 4 is cured (temporarily cured) along the shape of the non-shielding portion 82.

非遮蔽部82の形状は特に限定されない。一例を挙げると、非遮蔽部82の形状は、所望する図柄に応じて適宜決定され得る。図4では、非遮蔽部82の形状が、複数のひし形である場合が例示されている。なお、遮蔽部81は、完全に紫外線を遮蔽しなくともよい。少なくとも、非遮蔽部82と遮蔽部81とは、紫外線に対する所定の透過率差があればよい。 The shape of the non-shielding portion 82 is not particularly limited. As an example, the shape of the non-shielding portion 82 can be appropriately determined according to a desired pattern. FIG. 4 illustrates a case where the shape of the non-shielding portion 82 is a plurality of rhombuses. The shielding portion 81 does not have to completely shield ultraviolet rays. At least, the non-shielding portion 82 and the shielding portion 81 may have a predetermined difference in transmittance with respect to ultraviolet rays.

(仮硬化工程)
仮硬化工程は、保護層4から接着層6の方向へ、非遮蔽部82を通過するよう紫外線を照射し、保護層4を仮硬化する工程である。仮硬化工程は、上記した遮蔽工程よりも後であって、かつ、後述する転写基材形成工程よりも前に実施されればよい。
(Temporary curing process)
The temporary curing step is a step of irradiating ultraviolet rays from the protective layer 4 toward the adhesive layer 6 so as to pass through the non-shielding portion 82 to temporarily cure the protective layer 4. The temporary curing step may be carried out after the above-mentioned shielding step and before the transfer base material forming step described later.

紫外線を照射する方法は特に限定されない。一例を挙げると、紫外線は、紫外線照射装置(ECS−4011GX(高圧水銀ランプを使用)、アイグラフィックス(株)製)を用いて、積算光量500mJ/cm2となるよう保護層4から接着層6の方向へ、照射し得る。照射された紫外線は、遮蔽板8の遮蔽部81を透過せず、非遮蔽部82を主に透過する。非遮蔽部82を透過した紫外線は、保護層4に到達し、保護層4の一部を非遮蔽部82の形状(本実施形態では複数のひし形)に沿って硬化(仮硬化)する。 The method of irradiating ultraviolet rays is not particularly limited. As an example, ultraviolet rays are emitted from the protective layer 4 to an adhesive layer using an ultraviolet irradiation device (ECS-4011GX (using a high-pressure mercury lamp), manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) so that the integrated light amount is 500 mJ / cm 2. It can irradiate in 6 directions. The irradiated ultraviolet rays do not pass through the shielding portion 81 of the shielding plate 8, but mainly pass through the non-shielding portion 82. The ultraviolet rays transmitted through the non-shielding portion 82 reach the protective layer 4, and a part of the protective layer 4 is cured (temporarily cured) along the shape of the non-shielding portion 82 (a plurality of rhombuses in the present embodiment).

(転写基材形成工程)
転写基材形成工程は、接着層6上に、転写基材7を形成(装着)する工程である。
(Transfer substrate forming step)
The transfer base material forming step is a step of forming (mounting) the transfer base material 7 on the adhesive layer 6.

転写基材7(基材)は特に限定されない。基材は、樹脂シート、紙、布、ゴムシート、発泡体シート、ガラス等である。樹脂シートは、アクリロニトリル・スチレン(AS)、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン(ABS)、各種アクリレート、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系樹脂シート;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル系樹脂シート;塩化ビニル樹脂シート;酢酸ビニル樹脂シート;ポリイミド樹脂シート;ポリアミド樹脂シート;フッ素樹脂シート;セロハン等が例示される。紙は、和紙、クラフト紙、グラシン紙、上質紙、合成紙、トップコート紙等が例示される。布は、各種繊維状物質の単独または混紡等による織布や不織布等が例示される。ゴムシートは、天然ゴムシート、ブチルゴムシート等が例示される。発泡体シートは、発泡PEシート等の発泡ポリオレフィンシート、発泡ポリエステルシート、発泡ポリウレタンシート、発泡ポリクロロプレンゴムシート等が例示される。これらの中でも、基材は、表面耐性や加工性が優れる等の理由により、アクリロニトリル・スチレン(AS)、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン(ABS)製であることが好ましい。 The transfer base material 7 (base material) is not particularly limited. The base material is a resin sheet, paper, cloth, rubber sheet, foam sheet, glass or the like. The resin sheet is a polyolefin resin sheet such as acrylonitrile-styrene (AS), acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS), various acrylates, polycarbonate (PC), polyethylene (PE), polypropylene (PP), ethylene / propylene copolymer, etc. Polyethylene resin sheet such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN); vinyl chloride resin sheet; vinyl acetate resin sheet; polyimide resin sheet; polyamide resin sheet; fluororesin sheet; cellophane Etc. are exemplified. Examples of paper include Japanese paper, kraft paper, glassin paper, high-quality paper, synthetic paper, and top-coated paper. Examples of the cloth include woven cloths and non-woven fabrics made by spinning various fibrous substances alone or by blending them. Examples of the rubber sheet include a natural rubber sheet and a butyl rubber sheet. Examples of the foam sheet include a foamed polyolefin sheet such as a foamed PE sheet, a foamed polyester sheet, a foamed polyurethane sheet, and a foamed polychloroprene rubber sheet. Among these, the base material is preferably made of acrylonitrile-styrene (AS) or acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) because of its excellent surface resistance and processability.

基材の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、基材の厚みは、4μm〜10mm程度である。基材の厚みが上記範囲内であることにより、基材は、加工性が優れ、外観を損なうことなく転写しやすい。 The thickness of the base material is not particularly limited. As an example, the thickness of the base material is about 4 μm to 10 mm. When the thickness of the base material is within the above range, the base material has excellent processability and is easily transferred without impairing the appearance.

図1に示されるように、レンズ状フィラーFが露出した接着層6に対して、転写基材7が押し当てられると、露出していたレンズ状フィラーFは、接着層6の厚み方向に押し込まれる。その結果、図2に示されるように、レンズ状フィラーFは、接着層6の厚み方向に埋没されるとともに、蒸着層5を変形させる。その結果、蒸着層5の表面には、凹凸51(保護層4側に向かって突出した略椀状の凸部)が形成される。なお、上記のとおり、レンズ状フィラーFの厚みは、接着層6の厚みよりも大きいことが好ましい。これにより、蒸着層5の表面に凹凸51が形成されやすい。 As shown in FIG. 1, when the transfer base material 7 is pressed against the adhesive layer 6 on which the lenticular filler F is exposed, the exposed lenticular filler F is pushed in the thickness direction of the adhesive layer 6. Is done. As a result, as shown in FIG. 2, the lenticular filler F is buried in the thickness direction of the adhesive layer 6 and deforms the vapor deposition layer 5. As a result, unevenness 51 (a substantially bowl-shaped convex portion protruding toward the protective layer 4 side) is formed on the surface of the vapor-deposited layer 5. As described above, the thickness of the lenticular filler F is preferably larger than the thickness of the adhesive layer 6. As a result, unevenness 51 is likely to be formed on the surface of the vapor deposition layer 5.

凸部の最大径は、2.0μm以上20μm以下であることが好ましい。凸部の高さは、0.5μm以上5.0μm以下であることが好ましい。凸部の最大径および高さが上記範囲内であることにより、得られる加飾フィルム成形体1は、艶消しの程度が適切に調整されやすい。その結果、加飾フィルム成形体1は、適度な艶消し性とコントラストに寄与する光沢特性とが、適切に調整されやすく、サテンめっきの金属調の意匠感をより正確に再現できる。 The maximum diameter of the convex portion is preferably 2.0 μm or more and 20 μm or less. The height of the convex portion is preferably 0.5 μm or more and 5.0 μm or less. When the maximum diameter and height of the convex portion are within the above ranges, the degree of matting of the obtained decorative film molded body 1 can be easily adjusted appropriately. As a result, in the decorative film molded body 1, the appropriate mattness and the gloss property that contributes to the contrast are easily adjusted appropriately, and the metallic design feeling of satin plating can be reproduced more accurately.

(剥離工程)
剥離工程は、被剥離基材2および離型層3を剥離する工程である。図2および図3に示されるように、剥離工程によれば、被剥離基材2と、離型層3とが剥離される。その結果、保護層4が露出される。
(Peeling process)
The peeling step is a step of peeling the base material 2 to be peeled and the release layer 3. As shown in FIGS. 2 and 3, according to the peeling step, the base material 2 to be peeled off and the release layer 3 are peeled off. As a result, the protective layer 4 is exposed.

(本硬化工程)
本硬化工程は、保護層4から接着層6の方向へ、紫外線を照射し、保護層4を本硬化する工程である。本硬化工程は、転写基材形成工程よりも後に実施されればよい。なお、上記遮蔽工程において配置された遮蔽板8は、本硬化工程の実施前までの適時に、取り除かれればよい。本硬化工程は、剥離工程の後に実施されることが好ましい。これにより、本硬化工程は、剥離工程により露出された保護層に対して紫外線が照射される。そのため、得られる加飾フィルム成形体は、より均一に硬化されやすい。
(Main curing process)
The main curing step is a step of irradiating ultraviolet rays from the protective layer 4 toward the adhesive layer 6 to main cure the protective layer 4. This curing step may be performed after the transfer substrate forming step. The shielding plate 8 arranged in the shielding step may be removed in a timely manner before the main curing step is performed. The main curing step is preferably carried out after the peeling step. As a result, in this curing step, the protective layer exposed by the peeling step is irradiated with ultraviolet rays. Therefore, the obtained decorative film molded product is likely to be cured more uniformly.

紫外線を照射する方法は特に限定されない。一例を挙げると、紫外線は、紫外線照射装置(ECS−4011GX(高圧水銀ランプを使用)、アイグラフィックス(株)製)を用いて、積算光量1000mJ/cm2となるよう保護層4から接着層6の方向へ、照射し得る。照射された紫外線は、保護層4に到達し、上記した仮硬化工程において仮硬化された部位(本実施形態では複数のひし形)を含む保護層4全体を硬化(本硬化)する。 The method of irradiating ultraviolet rays is not particularly limited. As an example, ultraviolet rays are emitted from the protective layer 4 to an adhesive layer using an ultraviolet irradiation device (ECS-4011GX (using a high-pressure mercury lamp), manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) so that the integrated light intensity is 1000 mJ / cm 2. It can irradiate in 6 directions. The irradiated ultraviolet rays reach the protective layer 4 and cure (mainly cure) the entire protective layer 4 including the portion (a plurality of rhombuses in the present embodiment) that has been temporarily cured in the above-mentioned temporary curing step.

以上、本実施形態によれば、保護層4は、仮硬化工程において、非遮蔽部82を透過した紫外線によって、非遮蔽部82の形状に沿って硬化される。その後、転写基材形成工程において、フィラーFが接着層6に埋設され、蒸着層5を変形し、凹凸51が形成される。また、本硬化工程において、保護層4は、全体が硬化される。その結果、保護層4において最初に硬化された部位と、その周囲の部位とは、別々の工程(仮硬化工程および本硬化工程)によって硬化されており、かすかな輪郭が形成された図柄が保護層4に形成される。また、保護層4から接着層6に向かう方向から見ると、蒸着層5に形成された凹凸51は、上面視において図柄と重なる位置に形成された凹凸51と、図柄と重ならない位置に形成された凹凸51とがある。これらの凹凸51は、いずれも、所定の角度だけ傾斜させると、図柄の輪郭を浮き上がらせるように光を反射する場合(図柄が視認可能な状態)と、図柄の輪郭には影響を与えないよう光を反射する場合(図柄が視認困難な状態)とに変化し得る。 As described above, according to the present embodiment, the protective layer 4 is cured along the shape of the non-shielding portion 82 by the ultraviolet rays transmitted through the non-shielding portion 82 in the temporary curing step. After that, in the transfer substrate forming step, the filler F is embedded in the adhesive layer 6 and the vapor deposition layer 5 is deformed to form the unevenness 51. Further, in the main curing step, the entire protective layer 4 is cured. As a result, the first cured portion of the protective layer 4 and the surrounding portion are cured by separate steps (temporary curing step and main curing step), and the pattern having a faint outline is protected. It is formed in layer 4. Further, when viewed from the direction from the protective layer 4 to the adhesive layer 6, the unevenness 51 formed on the vapor-deposited layer 5 is formed at a position that does not overlap with the pattern with the unevenness 51 formed at a position that overlaps with the pattern in the top view. There is an uneven film 51. All of these unevenness 51 do not affect the outline of the design when the light is reflected so as to make the outline of the design stand out (when the design is visible) when the unevenness 51 is tilted by a predetermined angle. It can change to the case of reflecting light (a state in which the design is difficult to see).

図5は、図柄が視認困難な状態となるよう加飾フィルム成形体1を傾斜させた状態を示す模式図である。図6は、図柄が視認可能な状態となるよう加飾フィルム成形体1を傾斜させた状態を示す模式図である。図7は、図柄が視認困難な状態となるよう加飾フィルム成形体1を傾斜させた状態を示す写真である。図8は、図柄が視認可能な状態となるよう加飾フィルム成形体1を傾斜させた状態を示す写真である。本実施形態の加飾フィルム成形体1は、図5に示されるように、所定の角度だけ傾斜させた場合に、蒸着層5に形成された凹凸(図示せず)によって光が反射し、保護層4に形成された図柄のかすかな輪郭が視認されにくくなる。その結果、図柄はほとんど視認することができない。一方、図6に示されるように、さらに所定の角度だけ傾斜させた場合に、蒸着層5に形成された凹凸(図示せず)によって光が、図5に示される状態とは異なるよう反射し、保護層4に形成された図柄の輪郭を浮き上がらせる。また、図7と図8との比較から分かるように、加飾フィルム成形体1は、図7に示される視認困難な状態から、所定の角度だけ傾斜させて図8に示される状態に傾きを変化させると、保護層4に形成された図柄の輪郭が浮き上がる。 FIG. 5 is a schematic view showing a state in which the decorative film molded body 1 is tilted so that the design is difficult to see. FIG. 6 is a schematic view showing a state in which the decorative film molded body 1 is tilted so that the design can be visually recognized. FIG. 7 is a photograph showing a state in which the decorative film molded body 1 is tilted so that the design is difficult to see. FIG. 8 is a photograph showing a state in which the decorative film molded body 1 is tilted so that the design can be visually recognized. As shown in FIG. 5, when the decorative film molded body 1 of the present embodiment is tilted by a predetermined angle, light is reflected by the unevenness (not shown) formed on the vapor deposition layer 5 to protect the decorative film molded body 1. The faint outline of the pattern formed on the layer 4 becomes difficult to see. As a result, the design is almost invisible. On the other hand, as shown in FIG. 6, when the light is further inclined by a predetermined angle, the light is reflected by the unevenness (not shown) formed in the vapor deposition layer 5 so as to be different from the state shown in FIG. , The outline of the pattern formed on the protective layer 4 is highlighted. Further, as can be seen from the comparison between FIGS. 7 and 8, the decorative film molded body 1 is tilted from the difficult-to-see state shown in FIG. 7 to the state shown in FIG. 8 by tilting it by a predetermined angle. When changed, the outline of the pattern formed on the protective layer 4 emerges.

このように、保護層4は、仮硬化工程によって図柄の形状に硬化されたのち、本硬化工程によって、図柄を含む全体が硬化されている。そのため、保護層4は、図柄が周囲と一体化されており、複製することが極めて困難である。また、保護層4の表面は、平坦である。そのため、保護層4の表面を触っても、図柄の形状は確認することができない。その結果、本実施形態で得られた加飾フィルム成形体1は、たとえば、紙幣や有価証券などの媒体に、偽造防止のための機能を付与する技術、商品パッケージへの偽造防止性を兼ねた加飾を付与する技術等として好適である。 As described above, the protective layer 4 is cured into the shape of the symbol by the temporary curing step, and then the entire protective layer 4 including the symbol is cured by the main curing step. Therefore, the design of the protective layer 4 is integrated with the surroundings, and it is extremely difficult to duplicate it. The surface of the protective layer 4 is flat. Therefore, even if the surface of the protective layer 4 is touched, the shape of the design cannot be confirmed. As a result, the decorative film molded body 1 obtained in the present embodiment also has a technique of imparting a function for preventing counterfeiting to a medium such as a banknote or securities, and an anti-counterfeiting property for a product package. It is suitable as a technique for imparting decoration.

また、本実施形態の加飾フィルム成形体1は、サテンめっきの金属調を付した種々の製品(サテンめっき調製品)に用いることができる。これにより、得られるサテンめっき調製品は、いずれも色ブレが小さく、優れたサテンめっきの金属調の意匠感を示す。 Further, the decorative film molded body 1 of the present embodiment can be used for various products (satin-plated-like products) having a satin-plated metallic tone. As a result, all of the obtained satin-plated products have little color blurring and exhibit an excellent satin-plated metallic design feeling.

特に、本実施形態の加飾フィルム成形体1は、種々の容器に適用されることにより、たとえば化粧品の容器、飲料の容器等の、グロス感や高級感のある外観が所望される容器において、色ブレが小さく、優れたサテンめっきの金属調の意匠感を示す種々の容器が得られる。 In particular, the decorative film molded body 1 of the present embodiment can be applied to various containers in containers such as cosmetic containers and beverage containers where a glossy and luxurious appearance is desired. Various containers can be obtained that have little color blur and exhibit an excellent satin-plated metallic design.

また、本実施形態の加飾フィルム成形体1は、種々の筐体に適用されることにより、たとえば携帯電話等の通信機器、家電製品の筐体等の、グロス感や高級感のある外観が所望される筐体において、色ブレが小さく、優れたサテンめっきの金属調の意匠感を示す種々の筐体が得られる。 Further, by applying the decorative film molded body 1 of the present embodiment to various housings, for example, a communication device such as a mobile phone, a housing of a home electric appliance, or the like has a glossy or luxurious appearance. In the desired housing, various housings having a small color blur and showing an excellent satin-plated metallic design can be obtained.

さらに、本実施形態の加飾フィルム成形体1は、種々の車両用内外装部材に適用されることにより、グロス感や高級感のある外観が所望される種々の車両用内外装部材において、色ブレが小さく、優れたサテンめっきの金属調の意匠感を示す種々の車両用内外装部材が得られる。 Further, the decorative film molded body 1 of the present embodiment is applied to various interior / exterior members for vehicles, so that the interior / exterior members for various vehicles, which are desired to have a glossy appearance and a high-class appearance, are colored. Various interior and exterior members for vehicles can be obtained with little blurring and showing an excellent satin-plated metallic design feeling.

他にも、本実施形態の加飾フィルム成形体1は、たとえば顧客や物品等の識別情報等を記憶させた会員証、商品タグ、診察券、学生証、キャッシュカード、クレジットカード、乗車券、マイレージカード、ポイントカード、磁気カード等のセキュリティや非模倣性が要求される物品の一部分または全体に好適に使用される。 In addition, the decorative film molded body 1 of the present embodiment includes, for example, a membership card, a product tag, a medical examination ticket, a student ID, a cash card, a credit card, a ticket, etc. It is suitably used for a part or all of articles that require security and non-imitation such as mileage cards, point cards, and magnetic cards.

<第2の実施形態>
本発明の一実施形態の加飾フィルム成形体の製造方法は、被剥離基材の一方の面上に、離型層を形成する離型層形成工程と、離型層上に、紫外線硬化型樹脂組成物を含む保護層を形成する保護層形成工程と、保護層上に、蒸着層を形成する蒸着層工程と、蒸着層上に、印刷部を形成する印刷工程と、印刷部の形成された蒸着層上に、接着層を形成する接着層形成工程と、接着層上に、転写基材を押し当てることにより、印刷部を蒸着層に押し当てて、蒸着層を変形させるとともに転写基材を形成する転写基材形成工程と、被剥離基材および離型層を剥離する剥離工程とを含む。以下、それぞれの工程について説明する。なお、以下の説明において、上記した第1の実施形態と同様の工程については、適宜説明が省略される。
<Second embodiment>
The method for producing a decorative film molded product according to an embodiment of the present invention includes a release layer forming step of forming a release layer on one surface of a substrate to be peeled off, and an ultraviolet curable type on the release layer. A protective layer forming step of forming a protective layer containing a resin composition, a vapor deposition layer step of forming a vapor deposition layer on the protective layer, a printing step of forming a printing portion on the vapor deposition layer, and formation of a printing portion. In the process of forming an adhesive layer on the vapor-deposited layer, and by pressing the transfer base material on the adhesive layer, the printed portion is pressed against the vapor-deposited layer to deform the vapor-deposited layer and the transfer base material. Includes a transfer base material forming step of forming the above, and a peeling step of peeling the peeled base material and the release layer. Hereinafter, each step will be described. In the following description, the description of the same steps as in the first embodiment described above will be omitted as appropriate.

(離型層形成工程、保護層形成工程および蒸着層形成工程)
離型層形成工程は、被剥離基材の一方の面上に、離型層を形成する工程である。保護層形成工程は、離型層上に、紫外線硬化型樹脂組成物を含む保護層を形成する工程である。蒸着層形成工程は、保護層上に、蒸着層を形成する工程である。離型層形成工程、保護層形成工程および蒸着層形成工程は、いずれも第1の実施形態において上記したとおりである。
(Release layer forming step, protective layer forming step and vapor deposition layer forming step)
The release layer forming step is a step of forming a release layer on one surface of the base material to be peeled off. The protective layer forming step is a step of forming a protective layer containing an ultraviolet curable resin composition on the release layer. The thin-film deposition layer forming step is a step of forming a thin-film deposition layer on the protective layer. The release layer forming step, the protective layer forming step, and the vapor deposition layer forming step are all as described above in the first embodiment.

(印刷工程)
印刷工程は、蒸着層上に、印刷部を形成する工程である。印刷部の形成方法は特に限定されない。一例を挙げると、印刷部は、蒸着層に対して、グラビア印刷、オフセット印刷、凹版印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、シルク印刷、静電印刷、インクジェット印刷等の公知の印刷方法により形成され得る。
(Printing process)
The printing step is a step of forming a printed portion on the vapor-deposited layer. The method of forming the printed portion is not particularly limited. As an example, the printing unit can be formed on the vapor deposition layer by a known printing method such as gravure printing, offset printing, concave printing, screen printing, flexo printing, silk printing, electrostatic printing, and inkjet printing.

印刷部の形状は特に限定されない。図9は、本実施形態の加飾フィルム成形体1aの製造方法を説明するための模式的な断面図である。一例を挙げると、印刷部9は、所望の文字や図形等の図柄である。図9では、複数のひし形の図柄が印刷部9として形成される場合が例示されている。 The shape of the printed portion is not particularly limited. FIG. 9 is a schematic cross-sectional view for explaining a method of manufacturing the decorative film molded body 1a of the present embodiment. As an example, the printing unit 9 is a design such as a desired character or figure. FIG. 9 illustrates a case where a plurality of diamond-shaped patterns are formed as the printing unit 9.

印刷部9の領域面積は特に限定されない。領域面積は、所望する図柄に応じて適宜決定され得る。また、印刷部9の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、印刷層の厚みは、0.1μm以上であることが好ましく、1μm以上であることがより好ましい。また、印刷層の厚みは、10μm以下であることが好ましく、5μm以下であることがより好ましい。印刷層の厚みは、所望する図柄の形状や、視認性の程度に応じて、適宜調整され得る。印刷層の厚みが上記範囲内であることにより、得られる加飾フィルム成形体1aは、印刷層によって形成された図柄を視認可能な状態または視認困難な状態に切り替えやすい。 The area of the printing unit 9 is not particularly limited. The area area can be appropriately determined according to the desired symbol. Further, the thickness of the printing unit 9 is not particularly limited. As an example, the thickness of the printing layer is preferably 0.1 μm or more, and more preferably 1 μm or more. The thickness of the print layer is preferably 10 μm or less, and more preferably 5 μm or less. The thickness of the print layer can be appropriately adjusted according to the desired shape of the pattern and the degree of visibility. When the thickness of the print layer is within the above range, the obtained decorative film molded body 1a can easily switch the pattern formed by the print layer into a visible state or a hard-to-see state.

(接着層形成工程)
接着層形成工程は、印刷部9の形成された蒸着層5上に、接着層6を形成する工程である。本実施形態の接着層形成工程は、フィラーを含んでいない点を除き、上記した第1の実施形態の接着層形成工程と同様である。
(Adhesive layer forming process)
The adhesive layer forming step is a step of forming the adhesive layer 6 on the vapor-deposited layer 5 on which the printing portion 9 is formed. The adhesive layer forming step of the present embodiment is the same as the adhesive layer forming step of the first embodiment described above, except that it does not contain a filler.

(転写基材形成工程)
転写基材形成工程は、接着層6上に、転写基材7を押し当てることにより、印刷部9を蒸着層5に押し当てて、蒸着層5を変形させるとともに転写基材7を形成(装着)する工程である。転写基材7の種類や寸法等は、第1の実施形態において上記したものと同様である。
(Transfer substrate forming step)
In the transfer base material forming step, the transfer base material 7 is pressed onto the adhesive layer 6, so that the printing portion 9 is pressed against the vapor deposition layer 5, the vapor deposition layer 5 is deformed, and the transfer base material 7 is formed (mounted). ). The type, size, and the like of the transfer base material 7 are the same as those described above in the first embodiment.

接着層6上に転写基材7が押し当てられると、接着層6を介して、蒸着層5に設けられた印刷部9が、蒸着層5の厚み方向に押し込まれる。その結果、印刷部9は、蒸着層5を変形させる。これにより、蒸着層5の表面には、印刷部9の形状(すなわち図柄の形状)に沿った凹凸(保護層4側に向かって突出した凸部、図示せず)が形成される。 When the transfer base material 7 is pressed onto the adhesive layer 6, the printing portion 9 provided on the vapor deposition layer 5 is pushed in the thickness direction of the vapor deposition layer 5 via the adhesive layer 6. As a result, the printing unit 9 deforms the vapor deposition layer 5. As a result, unevenness (convex portion protruding toward the protective layer 4 side, not shown) is formed on the surface of the vapor deposition layer 5 along the shape of the printed portion 9 (that is, the shape of the pattern).

(硬化工程)
硬化工程は、保護層4から接着層6の方向へ、紫外線を照射し、保護層4を硬化する工程である。硬化工程は、上記した本硬化工程と同様である。
(Curing process)
The curing step is a step of irradiating the protective layer 4 with ultraviolet rays in the direction of the adhesive layer 6 to cure the protective layer 4. The curing step is the same as the main curing step described above.

(剥離工程)
剥離工程は、被剥離基材2および離型層3を剥離する工程である。剥離工程によれば、被剥離基材2と、離型層3とが剥離される。その結果、保護層4が露出される。
(Peeling process)
The peeling step is a step of peeling the base material 2 to be peeled and the release layer 3. According to the peeling step, the base material 2 to be peeled off and the release layer 3 are peeled off. As a result, the protective layer 4 is exposed.

以上、本実施形態によれば、加飾フィルム成形体1aの内部において、蒸着層5が図柄(印刷部9)の形状に沿って変形されている。また、加飾フィルム成形体1aの内部には、印刷部9として図柄が設けられている。このような変形した蒸着層5および図柄を含む加飾フィルム成形体1aは、所定の角度だけ傾斜させると、図柄の輪郭を浮き上がらせるように光を反射する場合(図柄が視認可能な状態)と、図柄の輪郭には影響を与えないよう光を反射する場合(図柄が視認困難な状態)とに変化し得る。 As described above, according to the present embodiment, the vapor deposition layer 5 is deformed along the shape of the design (printing portion 9) inside the decorative film molded body 1a. Further, a design is provided as a printing portion 9 inside the decorative film molded body 1a. When the decorative film molded body 1a including the deformed vapor-deposited layer 5 and the design is tilted by a predetermined angle, it reflects light so as to make the outline of the design stand out (when the design is visible). , It may change to the case where light is reflected so as not to affect the contour of the design (the design is difficult to see).

図10は、図柄が視認困難な状態となるよう加飾フィルム成形体1aを傾斜させた状態を示す模式図である。図11は、図柄が視認可能な状態となるよう加飾フィルム成形体1aを傾斜させた状態を示す模式図である。本実施形態の加飾フィルム成形体1aは、図10に示されるように、所定の角度だけ傾斜させた場合に、蒸着層5に形成された凹凸(図示せず)によって光が反射し、印刷部9の図柄が視認されにくくなる。一方、図11に示されるように、さらに所定の角度だけ傾斜させた場合に、蒸着層5に形成された凹凸(図示せず)によって光が、図10に示される状態とは異なるよう反射し、印刷部9の図柄の輪郭を浮き上がらせる。 FIG. 10 is a schematic view showing a state in which the decorative film molded body 1a is tilted so that the design is difficult to see. FIG. 11 is a schematic view showing a state in which the decorative film molded body 1a is tilted so that the design can be visually recognized. As shown in FIG. 10, when the decorative film molded body 1a of the present embodiment is tilted by a predetermined angle, light is reflected by the unevenness (not shown) formed on the vapor deposition layer 5 and printing is performed. The design of the part 9 becomes difficult to see. On the other hand, as shown in FIG. 11, when the light is further inclined by a predetermined angle, the light is reflected by the unevenness (not shown) formed in the vapor deposition layer 5 so as to be different from the state shown in FIG. , The outline of the design of the printing unit 9 is highlighted.

このように、図柄を構成する印刷部9は、加飾フィルム成形体1aの内部に設けられており、かつ、複製することが極めて困難である。また、保護層4の表面は、平坦である。そのため、保護層4の表面を触っても、図柄の形状は確認することができない。その結果、本実施形態で得られた加飾フィルム成形体1aは、たとえば、紙幣や有価証券などの媒体に、偽造防止のための機能を付与する技術、商品パッケージへの偽造防止性を兼ねた加飾を付与する技術等として好適である。また、本実施形態の加飾フィルム成形体1aは、第1の実施形態において上記した種々の用途に好適である。 As described above, the printing unit 9 that constitutes the design is provided inside the decorative film molded body 1a, and it is extremely difficult to duplicate it. The surface of the protective layer 4 is flat. Therefore, even if the surface of the protective layer 4 is touched, the shape of the design cannot be confirmed. As a result, the decorative film molded product 1a obtained in the present embodiment also has a technique for imparting a function for preventing counterfeiting to a medium such as a banknote or securities, and an anti-counterfeiting property for a product package. It is suitable as a technique for imparting decoration. Further, the decorative film molded body 1a of the present embodiment is suitable for the various uses described above in the first embodiment.

<第3の実施形態>
本発明の一実施形態の加飾フィルム成形体の製造方法は、被剥離基材の一方の面上に、離型層を形成する離型層形成工程と、離型層上に、紫外線硬化型樹脂組成物を含む保護層を形成する保護層形成工程と、保護層上に、蒸着層を形成する蒸着層工程と、蒸着層上に、印刷部を形成する印刷工程と、印刷部の形成された蒸着層上に、フィラーを含む接着層を形成する接着層形成工程と、接着層上に、転写基材を押し当てることにより、フィラーを接着層に埋設させて、蒸着層の表面に凹凸を形成するとともに、印刷層を蒸着層に押し当てて、蒸着層を変形させ、転写基材を形成する転写基材形成工程と、被剥離基材および離型層を剥離する剥離工程とを含む。以下、それぞれの工程について説明する。なお、以下の説明において、上記した第1の実施形態または第2の実施形態と同様の工程については、適宜説明が省略される。
<Third embodiment>
The method for producing a decorative film molded product according to an embodiment of the present invention includes a release layer forming step of forming a release layer on one surface of a substrate to be peeled off, and an ultraviolet curable type on the release layer. A protective layer forming step of forming a protective layer containing a resin composition, a vapor deposition layer step of forming a vapor deposition layer on the protective layer, a printing step of forming a printing portion on the vapor deposition layer, and formation of a printing portion. By forming an adhesive layer containing a filler on the vapor-deposited layer and pressing a transfer base material on the adhesive layer, the filler is embedded in the adhesive layer to make the surface of the vapor-deposited layer uneven. It includes a transfer base material forming step of forming a transfer base material by pressing the printed layer against the vapor deposition layer to deform the vapor deposition base material, and a peeling step of peeling off the peeled base material and the release layer. Hereinafter, each step will be described. In the following description, the description of the same steps as those in the first embodiment or the second embodiment described above will be omitted as appropriate.

(離型層形成工程、保護層形成工程、蒸着層形成工程および印刷工程)
離型層形成工程は、被剥離基材の一方の面上に、離型層を形成する工程である。保護層形成工程は、離型層上に、紫外線硬化型樹脂組成物を含む保護層を形成する工程である。蒸着層形成工程は、保護層上に、蒸着層を形成する工程である。印刷工程は、蒸着層上に、印刷部を形成する工程である。離型層形成工程、保護層形成工程、蒸着層形成工程および印刷工程は、いずれも第2の実施形態において上記したとおりである。
(Release layer forming process, protective layer forming process, thin-film deposition layer forming process and printing process)
The release layer forming step is a step of forming a release layer on one surface of the base material to be peeled off. The protective layer forming step is a step of forming a protective layer containing an ultraviolet curable resin composition on the release layer. The thin-film deposition layer forming step is a step of forming a thin-film deposition layer on the protective layer. The printing step is a step of forming a printed portion on the vapor-deposited layer. The release layer forming step, the protective layer forming step, the vapor deposition layer forming step, and the printing step are all as described above in the second embodiment.

(接着層形成工程)
接着層形成工程は、印刷部の形成された蒸着層上に、フィラーを含む接着層を形成する工程である。本実施形態の接着層形成工程は、フィラーを含む点を除き、上記した第2の実施形態の接着層形成工程と同様である。フィラーは、第1の実施形態において上記したものと同様である。
(Adhesive layer forming process)
The adhesive layer forming step is a step of forming an adhesive layer containing a filler on the vapor-deposited layer on which the printed portion is formed. The adhesive layer forming step of the present embodiment is the same as the adhesive layer forming step of the second embodiment described above, except that the filler is included. The filler is similar to that described above in the first embodiment.

接着層形成工程によれば、印刷部の形成された蒸着層を覆うように、接着層が形成される。フィラーを含む接着層が、蒸着層上に形成されると、接着層は、一部のフィラーが接着層の表面から露出した状態で固化する。 According to the adhesive layer forming step, the adhesive layer is formed so as to cover the vapor-deposited layer on which the printed portion is formed. When the adhesive layer containing the filler is formed on the vapor-deposited layer, the adhesive layer solidifies with a part of the filler exposed from the surface of the adhesive layer.

(転写基材形成工程)
転写基材形成工程は、接着層上に、転写基材を押し当てることにより、フィラーを接着層に埋設させて、蒸着層の表面に凹凸を形成するとともに、印刷層を蒸着層に押し当てて、蒸着層を変形させ、転写基材を形成(装着)する工程である。転写基材の種類や寸法等は、第1の実施形態において上記したものと同様である。
(Transfer substrate forming step)
In the transfer base material forming step, the transfer base material is pressed onto the adhesive layer to embed the filler in the adhesive layer to form irregularities on the surface of the vapor deposition layer, and the printing layer is pressed against the vapor deposition layer. This is a step of deforming the thin-film deposition layer to form (mount) a transfer base material. The type and size of the transfer base material are the same as those described above in the first embodiment.

接着層上に転写基材が押し当てられると、接着層を介して、蒸着層に設けられた印刷部が、蒸着層の厚み方向に押し込まれる。その結果、印刷部は、蒸着層を変形させる。これにより、蒸着層の表面には、印刷部の形状(すなわち図柄の形状)に沿った凹凸(保護層側に向かって突出した凸部)が形成される。 When the transfer base material is pressed onto the adhesive layer, the printed portion provided on the vapor-deposited layer is pushed in the thickness direction of the vapor-deposited layer via the adhesive layer. As a result, the printing unit deforms the vapor-deposited layer. As a result, unevenness (convex portion protruding toward the protective layer side) is formed on the surface of the thin-film deposition layer along the shape of the printed portion (that is, the shape of the pattern).

また、接着層上に転写基材が押し当てられると、露出していたフィラーは、接着層の厚み方向に押し込まれる。その結果、フィラーは、接着層の厚み方向に埋没されるとともに、蒸着層を変形させる。その結果、蒸着層の表面には、上記した印刷部による凹凸とは異なる寸法の凹凸(第2の凹凸)が形成される。なお、上記のとおり、フィラーの厚みは、接着層の厚みよりも大きいことが好ましい。これにより、蒸着層の表面に凹凸が形成されやすい。 Further, when the transfer base material is pressed onto the adhesive layer, the exposed filler is pushed in the thickness direction of the adhesive layer. As a result, the filler is buried in the thickness direction of the adhesive layer and deforms the vapor-deposited layer. As a result, unevenness (second unevenness) having a dimension different from the unevenness formed by the above-mentioned printing portion is formed on the surface of the thin-film deposition layer. As described above, the thickness of the filler is preferably larger than the thickness of the adhesive layer. As a result, unevenness is likely to be formed on the surface of the thin-film deposition layer.

(硬化工程)
硬化工程は、保護層から接着層の方向へ、紫外線を照射し、保護層を硬化する工程である。硬化工程は、上記した本硬化工程と同様である。
(Curing process)
The curing step is a step of irradiating ultraviolet rays from the protective layer toward the adhesive layer to cure the protective layer. The curing step is the same as the main curing step described above.

(剥離工程)
剥離工程は、被剥離基材および離型層を剥離する工程である。剥離工程によれば、被剥離基材と、離型層とが剥離される。その結果、保護層が露出される。
(Peeling process)
The peeling step is a step of peeling the base material to be peeled and the release layer. According to the peeling step, the base material to be peeled off and the release layer are peeled off. As a result, the protective layer is exposed.

以上、本実施形態によれば、加飾フィルム成形体の内部において、蒸着層が図柄(印刷部)の形状に沿って変形されている。また、加飾フィルム成形体の内部には、印刷部として図柄が設けられている。さらに、蒸着層は、フィラーによって微細な凹凸が形成されている。保護層から接着層に向かう方向から見ると、蒸着層に形成された微細な凹凸は、上面視において印刷部である図柄と重なる位置に形成された微細な凹凸と、図柄と重ならない位置に形成された微細な凹凸とがある。その結果、印刷部と、その周囲とでは、光を反射する程度が変化する。具体的には、本実施形態の加飾フィルム成形体は、所定の角度だけ傾斜させると、図柄の輪郭を浮き上がらせるように光を反射する場合(図柄が視認可能な状態)と、図柄の輪郭には影響を与えないよう光を反射する場合(図柄が視認困難な状態)とに変化し得る。 As described above, according to the present embodiment, the vapor-deposited layer is deformed along the shape of the pattern (printing portion) inside the decorative film molded body. Further, a design is provided as a printing portion inside the decorative film molded body. Further, the thin-film deposition layer has fine irregularities formed by the filler. When viewed from the direction from the protective layer to the adhesive layer, the fine irregularities formed on the vapor-deposited layer are formed at positions that overlap with the pattern that is the printed portion in the top view and at positions that do not overlap with the pattern. There are fine irregularities. As a result, the degree of light reflection varies between the printed portion and its surroundings. Specifically, the decorative film molded product of the present embodiment reflects light so as to make the outline of the design stand out when tilted by a predetermined angle (the state in which the design is visible), and the outline of the design. It can change to the case where light is reflected so as not to affect (the pattern is difficult to see).

本実施形態の加飾フィルム成形体は、このように、図柄を構成する印刷部が、加飾フィルム成形体の内部に設けられており、かつ、複製することが極めて困難である。また、保護層の表面は、平坦である。そのため、保護層の表面を触っても、図柄の形状は確認することができない。その結果、本実施形態で得られた加飾フィルム成形体は、たとえば、紙幣や有価証券などの媒体に、偽造防止のための機能を付与する技術、商品パッケージへの偽造防止性を兼ねた加飾を付与する技術等として好適である。また、本実施形態の加飾フィルム成形体は、第1の実施形態において上記した種々の用途に好適である。 In the decorative film molded product of the present embodiment, the printing portion constituting the pattern is provided inside the decorative film molded product in this way, and it is extremely difficult to duplicate the decorative film molded product. Moreover, the surface of the protective layer is flat. Therefore, even if the surface of the protective layer is touched, the shape of the design cannot be confirmed. As a result, the decorative film molded product obtained in the present embodiment has, for example, a technique for imparting a function for preventing counterfeiting to a medium such as banknotes and securities, and an anti-counterfeiting property for a product package. It is suitable as a technique for imparting decoration. In addition, the decorative film molded product of the present embodiment is suitable for the various uses described above in the first embodiment.

上記実施形態では、保護層の表面が平坦である場合について述べた。しかしながら、本発明は、これに限定されない。本発明の加飾フィルム成形体は、保護層の表面に適宜、凹凸を設けてもよい。これにより、加飾フィルム成形体は、サテンめっき調の独特の鈍い金属光沢を有するとともに、マット調の意匠性が付与されて、人の顔や外光、照明光等の写り込みが低減され得る。 In the above embodiment, the case where the surface of the protective layer is flat has been described. However, the present invention is not limited to this. The decorative film molded product of the present invention may be provided with irregularities on the surface of the protective layer as appropriate. As a result, the decorative film molded body has a unique dull metallic luster like satin plating, and is given a matte-like design, so that reflection of a human face, external light, illumination light, etc. can be reduced. ..

<加飾フィルム成形体>
本発明の一実施形態の加飾フィルム成形体は、基材と、接着層と、蒸着層と、保護層とを有する。蒸着層は、表面に凹凸が形成されている。接着層は、フィラーを含む。保護層は、第1領域と、第1領域よりも重合度が大きい第2領域とを有する。保護層の法線方向から45°傾斜した角度からマルチアングル測色計の光源からの光を入射させた際、入射させた光の正反射方向を0°と定義し、正反射方向から前記光源側をプラスの角度と定義し、正反射方向から光源と反対側をマイナスの角度と定義する場合において、第1領域における−15°方向のL*値(L1*-15)は、第2領域における−15°方向のL*値(L2*-15)よりも大きく、第1領域における15°方向のL*値(L1*15)は、第2領域における15°方向のL*値(L2*15)よりも大きく、第1領域における25°方向のL*値(L1*25)は、第2領域における25°方向のL*値(L2*25)よりも大きい。以下、それぞれについて説明する。なお、以下の説明において、加飾フィルム成形体の製造方法に関連して上記した構成と同様の構成(たとえば基材、接着層、蒸着層、保護層、フィラー等)については、説明が適宜省略される。
<Decorative film molded body>
The decorative film molded product according to the embodiment of the present invention has a base material, an adhesive layer, a vapor-deposited layer, and a protective layer. The vapor-film layer has irregularities formed on its surface. The adhesive layer contains a filler. The protective layer has a first region and a second region having a higher degree of polymerization than the first region. When light from the light source of the multi-angle colorimeter is incident from an angle 45 ° inclined from the normal direction of the protective layer, the normal reflection direction of the incident light is defined as 0 °, and the light source is defined as the normal reflection direction. When the side is defined as a positive angle and the side opposite to the light source is defined as a negative angle from the normal reflection direction, the L * value (L1 * -15 ) in the -15 ° direction in the first region is the second region. The L * value in the 15 ° direction (L1 * 15 ) in the first region is larger than the L * value (L2 * -15 ) in the -15 ° direction in the first region, and the L * value (L2) in the 15 ° direction in the second region. It is larger than * 15 ), and the L * value (L1 * 25 ) in the 25 ° direction in the first region is larger than the L * value (L2 * 25 ) in the 25 ° direction in the second region. Each will be described below. In the following description, the description of the same structure as the above-mentioned structure (for example, base material, adhesive layer, thin-film deposition layer, protective layer, filler, etc.) related to the method for manufacturing the decorative film molded body will be omitted as appropriate. Will be done.

本実施形態の加飾フィルムは、保護層が、第1領域と第2領域とを有する。第1領域および第2領域は、いずれも保護層を構成する樹脂溶液が硬化された層である。本実施形態の第2領域は、第1領域よりも重合度が大きい。すなわち、第2領域は、第2領域を構成する樹脂溶液が、第1領域を構成する樹脂溶液よりも、より硬化されている。 In the decorative film of the present embodiment, the protective layer has a first region and a second region. Both the first region and the second region are layers in which the resin solution constituting the protective layer is cured. The second region of the present embodiment has a higher degree of polymerization than the first region. That is, in the second region, the resin solution constituting the second region is more cured than the resin solution constituting the first region.

第1領域よりも第2領域の重合度を大きくする方法は特に限定されない。一例を挙げると、第2領域は、図4に関連して説明したように、遮蔽板8によって被剥離基材2を覆い非遮蔽部82に紫外線を通過させて保護層4を仮硬化し、次いで、遮蔽板8を除去して保護層4全体を本硬化することにより、重合度が大きくなるよう調整され得る。このような方法によれば、保護層のうち、仮硬化および本硬化が行われた領域(第2領域)は、本硬化のみが行われた領域(第1領域)と比較して、硬化がより進み、重合度が大きくなっている。 The method of increasing the degree of polymerization of the second region as compared with that of the first region is not particularly limited. As an example, in the second region, as described in connection with FIG. 4, the protective layer 4 is temporarily cured by covering the base material 2 to be peeled with the shielding plate 8 and allowing ultraviolet rays to pass through the non-shielding portion 82. Then, by removing the shielding plate 8 and mainly curing the entire protective layer 4, the degree of polymerization can be adjusted to be large. According to such a method, in the protective layer, the region where the temporary curing and the main curing are performed (second region) is more cured than the region where only the main curing is performed (the first region). It is more advanced and the degree of polymerization is higher.

本実施形態の加飾フィルム成形体は、特に、加飾フィルム成形体の製造方法に関連して上記した製造方法によって作製されることが好ましい。すなわち、仮硬化工程において、保護層の一部が硬化される。次いで、転写基材形成工程において、接着層に含まれるフィラーが転写基材によって接着層に押し当てられて、蒸着層の表面に凹凸を形成する。その後、本硬化工程において、保護層全体が本硬化される。これにより、保護層において最初に硬化された部位と、その周囲の部位とは、別々の工程(仮硬化工程および本硬化工程)によって硬化されており、かすかな輪郭が形成された図柄が保護層に形成される。また、保護層から接着層に向かう方向から見ると、蒸着層に形成された凹凸は、上面視において図柄と重なる位置に形成された凹凸と、図柄と重ならない位置に形成された凹凸とがある。これらの凹凸は、いずれも、所定の角度だけ傾斜させると、図柄の輪郭を浮き上がらせるように光を反射する場合(図柄が視認可能な状態)と、図柄の輪郭には影響を与えないよう光を反射する場合(図柄が視認困難な状態)とに変化し得る。 The decorative film molded product of the present embodiment is particularly preferably produced by the above-mentioned production method in relation to the production method of the decorative film molded product. That is, in the temporary curing step, a part of the protective layer is cured. Next, in the transfer base material forming step, the filler contained in the adhesive layer is pressed against the adhesive layer by the transfer base material to form irregularities on the surface of the vapor deposition layer. Then, in the main curing step, the entire protective layer is finally cured. As a result, the first cured portion of the protective layer and the surrounding portion are cured by separate steps (temporary curing step and main curing step), and the pattern having a faint outline is formed in the protective layer. Is formed in. Further, when viewed from the direction from the protective layer to the adhesive layer, the unevenness formed on the vapor-deposited layer includes unevenness formed at a position overlapping the symbol in the top view and unevenness formed at a position not overlapping the symbol. .. All of these irregularities reflect light so as to make the outline of the design stand out when tilted by a predetermined angle (when the design is visible), and light so as not to affect the outline of the design. Can change to the case of reflecting (a state in which the design is difficult to see).

より具体的には、本実施形態の加飾フィルム成形体は、上記した重合度の異なる第1領域と第2領域とが、マルチアングル測色計を用いて測定し得るハイライト領域におけるL*値が、所定の関係を示すことを特徴とする。図12は、本実施形態の加飾フィルム成形体に対して、マルチアングル測色計の光源からの光を入射させている様子を説明するための模式図である。NDは法線方向を示す。なお、本実施形態において、マルチアングル測色計は、x−rite社製の「MA−T6」を使用し、光源として多色性白色LED(D65光源)を使用し得る。測定領域は、20mm×30mmを採用し得る。 More specifically, in the decorative film molded product of the present embodiment, the first region and the second region having different degrees of polymerization described above can be measured by using a multi-angle colorimeter in the highlight region L *. The values are characterized in that they indicate a predetermined relationship. FIG. 12 is a schematic view for explaining a state in which light from a light source of a multi-angle colorimeter is incident on the decorative film molded product of the present embodiment. ND indicates the normal direction. In the present embodiment, the multi-angle colorimeter may use "MA-T6" manufactured by x-rite, and a pleochroic white LED (D65 light source) may be used as the light source. The measurement area may be 20 mm × 30 mm.

図12に示されるように、保護層4の第1領域および第2領域のそれぞれに対して、45°傾斜した角度θ1からマルチアングル測色計の光源Lからの光を入射させる場合において、正反射方向RDを0°と定義する。また、正反射方向RDから光源L側をプラスの角度と定義し、正反射方向から光源と反対側をマイナスの角度と定義する。そして、−15°方向R-15、15°方向R15、25°方向R25、45°方向R45、75°方向R75、110°方向R110におけるL*を測定する。 As shown in FIG. 12, when light from the light source L of the multi-angle colorimeter is incident on each of the first region and the second region of the protective layer 4 from an angle θ1 inclined by 45 °, it is positive. The reflection direction RD is defined as 0 °. Further, the light source L side from the specular reflection direction RD is defined as a positive angle, and the side opposite to the light source from the specular reflection direction is defined as a negative angle. Then, L * in the -15 ° direction R -15 , the 15 ° direction R 15 , the 25 ° direction R 25 , the 45 ° direction R 45 , the 75 ° direction R 75 , and the 110 ° direction R 110 is measured.

本実施形態の加飾フィルム成形体は、第1領域における−15°方向のL*値(L1*-15)が、第2領域における−15°方向のL*値(L2*-15)よりも大きい。同様に、第1領域における15°方向のL*値(L1*15)が、第2領域における15°方向のL*値(L2*15)よりも大きい。さらに、第1領域における25°方向のL*値(L1*25)が、第2領域における25°方向のL*値(L2*25)よりも大きい。このように、本実施形態の加飾フィルム成形体は、正反射方向RDの近傍である−15°、15°および25°といったハイライト領域において、第1領域のL*値が、いずれも第2領域のL*値よりも大きい。そのため、加飾フィルム成形体は、所定の角度だけ傾けた場合に、第1の領域と第2の領域とのL*値の差に基づく反射の程度の違いによって、図柄を視認可能な状態または視認困難な状態に切り替えることができる。また、加飾フィルム成形体は、種々の基材を使用し得る。 In the decorative film molded product of the present embodiment, the L * value (L1 * -15 ) in the -15 ° direction in the first region is higher than the L * value (L2 * -15) in the -15 ° direction in the second region. Is also big. Similarly, the L * value (L1 * 15 ) in the 15 ° direction in the first region is larger than the L * value (L2 * 15) in the 15 ° direction in the second region. Further, the L * value (L1 * 25 ) in the 25 ° direction in the first region is larger than the L * value (L2 * 25) in the 25 ° direction in the second region. As described above, in the decorative film molded product of the present embodiment, the L * value of the first region is the highest in the highlight regions such as −15 °, 15 °, and 25 °, which are in the vicinity of the specular reflection direction RD. It is larger than the L * value of the two regions. Therefore, when the decorative film molded product is tilted by a predetermined angle, the design can be visually recognized depending on the difference in the degree of reflection based on the difference in the L * value between the first region and the second region. It is possible to switch to a state where it is difficult to see. In addition, various base materials can be used for the decorative film molded product.

また、本実施形態の加飾フィルム成形体は、上記ハイライト領域以外の領域(たとえばシェード領域)では、第1領域と第2領域とのL*値の差が小さい。具体的には、本実施形態の加飾フィルム成形体は、第1領域における75°方向のL*値(L1*75)と、第2領域における75°方向のL*値(L2*75)とが同程度である。同様に、第1領域における110°方向のL*値(L1*110)が、第2領域における110°方向のL*値(L2*110)と同程度である。 Further, in the decorative film molded product of the present embodiment, the difference in L * value between the first region and the second region is small in the region other than the highlight region (for example, the shade region). Specifically, the decorative film molded product of the present embodiment has an L * value (L1 * 75 ) in the 75 ° direction in the first region and an L * value (L2 * 75 ) in the 75 ° direction in the second region. Is about the same. Similarly, the L * value (L1 * 110 ) in the 110 ° direction in the first region is about the same as the L * value (L2 * 110) in the 110 ° direction in the second region.

このように、本実施形態の加飾フィルム成形体は、ハイライト領域となる角度から視認すると、L*値の差が顕著となり、図柄が視認されやすいが、シェード領域となる角度から視認すると、L*値の差がほとんどなく、図柄が視認しにくくなる。 As described above, when the decorative film molded product of the present embodiment is visually recognized from the angle of the highlight region, the difference in L * value becomes remarkable and the design is easily visible, but when visually recognized from the angle of the shade region, There is almost no difference in L * values, making it difficult to see the design.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。本発明は、これら実施例に何ら限定されない。なお、特に制限のない限り、「%」は「質量%」を意味し、「部」は「質量部」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. The present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, "%" means "mass%" and "part" means "parts by mass".

(実施例1)
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み:25μm)を被剥離基材とし、アクリルスチレン樹脂(添加量:91部)、硬化剤(イソシアネート、添加:9部)をバーコーターにて塗工した。この未硬化樹脂層を50℃、48時間にて硬化させ、離型層(厚み:1.0μm)を作製した(離型層形成工程)。離型層上に、多官能アクリレート樹脂溶液(97部)、光重合硬化剤(添加量:3部)をバーコーターにて塗工し、保護層(厚み:5.0μm)を作製した(保護層形成工程)。保護層上に、アクリル樹脂(添加量:100部)をバーコーターにて塗工した。この未硬化樹脂層を110℃、30秒にて硬化させ、蒸着アンカー層(厚み:1.0μm)を作成した。蒸着アンカー層上に抵抗加熱式蒸着機を用い、インジウムの真空蒸着を行った。厚み50nmのインジウム膜(蒸着層)を形成した(蒸着層形成工程)。蒸着層上に、アクリル樹脂(添加量:38部)、ウレタン樹脂溶液(添加量:57部)、レンズ状フィラー(アクリル、積水化成品工業製、寸法:長径7.2μm、厚み2.8μm、添加量:5部)を、バーコーターにて塗工し、接着層(厚み:1.0μm)を作製した(接着層形成工程)。そして、紫外線照射装置(ECS−4011GX(高圧水銀ランプを使用)、アイグラフィックス(株)製)を用いて、積算光量が500mJ/cm2となるよう保護層から接着層の方向へ照射した(仮硬化工程)。
(Example 1)
A polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 25 μm) was used as a base material to be peeled off, and an acrylic styrene resin (addition amount: 91 parts) and a curing agent (isocyanate, addition: 9 parts) were coated with a bar coater. This uncured resin layer was cured at 50 ° C. for 48 hours to prepare a release layer (thickness: 1.0 μm) (release layer forming step). A polyfunctional acrylate resin solution (97 parts) and a photopolymerization curing agent (addition amount: 3 parts) were applied on the release layer with a bar coater to prepare a protective layer (thickness: 5.0 μm) (protection). Layer formation step). Acrylic resin (addition amount: 100 parts) was applied on the protective layer with a bar coater. This uncured resin layer was cured at 110 ° C. for 30 seconds to prepare a thin-film deposition anchor layer (thickness: 1.0 μm). Vacuum vapor deposition of indium was performed on the vapor deposition anchor layer using a resistance heating type vapor deposition machine. An indium film (deposited layer) having a thickness of 50 nm was formed (deposited layer forming step). Acrylic resin (addition amount: 38 parts), urethane resin solution (addition amount: 57 parts), lenticular filler (acrylic, manufactured by Sekisui Kasei Kogyo Co., Ltd., dimensions: major axis 7.2 μm, thickness 2.8 μm, on the vapor deposition layer, The addition amount: 5 parts) was applied with a bar coater to prepare an adhesive layer (thickness: 1.0 μm) (adhesive layer forming step). Then, using an ultraviolet irradiation device (ECS-4011GX (using a high-pressure mercury lamp), manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), irradiation was performed from the protective layer to the adhesive layer so that the integrated light amount was 500 mJ / cm 2 (). Temporary curing process).

その後、接着層上に、黒ABS板(転写基材)を、アップダウン転写機(ナビタス(株)製、MP−6)を用いて、押し付け荷重1kN、刻印温度180℃、転写時間1.0sという条件で押し当て、フィラーを接着層内に埋没させた(転写基材形成工程)。その結果、蒸着層が変形され、蒸着層の表面に凹凸が形成された(凹凸の詳細:平均長径4.1μm、高さ0.3〜0.5μmの凸形状)。次いで、被剥離基材および離型層を剥離した(剥離工程)。そして、紫外線照射装置(ECS−4011GX(高圧水銀ランプを使用)、アイグラフィックス(株)製)を用いて、積算光量1000mJ/cm2となるよう保護層から接着層の方向へ照射した(本硬化工程)。なお、実施例1では、本発明の効果をより明瞭に理解する目的と、マルチアングル測色計による測定が、比較的大きなサンプルでなければ測定できない理由から、あえて遮蔽工程を行わずに、保護層の全面を仮硬化および本硬化した。これにより、実施例1では、第2領域を再現した。一方、後述する実施例2では、仮硬化工程を実施しなかった。これにより、第1領域を再現した。 After that, a black ABS plate (transfer base material) is placed on the adhesive layer using an up-down transfer machine (MP-6 manufactured by Navitas Co., Ltd.), a pressing load of 1 kN, a marking temperature of 180 ° C., and a transfer time of 1.0 s. The filler was embedded in the adhesive layer under the above conditions (transfer substrate forming step). As a result, the thin-film deposition layer was deformed and irregularities were formed on the surface of the vapor-deposited layer (details of irregularities: convex shape with an average major axis of 4.1 μm and a height of 0.3 to 0.5 μm). Then, the base material to be peeled and the release layer were peeled off (peeling step). Then, using an ultraviolet irradiation device (ECS-4011GX (using a high-pressure mercury lamp), manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), irradiation was performed from the protective layer to the adhesive layer so that the integrated light intensity was 1000 mJ / cm 2 (this). Curing process). In Example 1, for the purpose of more clearly understanding the effect of the present invention and for the reason that the measurement by the multi-angle colorimeter can only be measured with a relatively large sample, protection is performed without performing a shielding step. The entire surface of the layer was temporarily cured and finally cured. As a result, in Example 1, the second region was reproduced. On the other hand, in Example 2 described later, the temporary curing step was not carried out. As a result, the first region was reproduced.

(実施例2)
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み:25μm)を被剥離基材とし、アクリルスチレン樹脂(添加量:91部)、硬化剤(イソシアネート、添加:9部)をバーコーターにて塗工した。この未硬化樹脂層を50℃、48時間にて硬化させ、離型層(厚み:1.0μm)を作製した(離型層形成工程)。離型層上に、多官能アクリレート樹脂溶液(97部)、光重合硬化剤(添加量:3部)をバーコーターにて塗工し、保護層(厚み:5.0μm)を作製した(保護層形成工程)。保護層上に、アクリル樹脂(添加量:100部)をバーコーターにて塗工した。この未硬化樹脂層を110℃、30秒にて硬化させ、蒸着アンカー層(厚み:1.0μm)を作成した。蒸着アンカー層上に抵抗加熱式蒸着機を用い、インジウムの真空蒸着を行った。厚み50nmのインジウム膜(蒸着層)を形成した(蒸着層形成工程)。蒸着層上に、アクリル樹脂(添加量:38部)、ウレタン樹脂溶液(添加量:57部)、レンズ状フィラー(アクリル、積水化成品工業(株)製、寸法:長径7.2μm、厚み2.8μm、添加量:5部)を、バーコーターにて塗工し、接着層(厚み:1.0μm)を作製した(接着層形成工程)。その後、接着層上に、黒ABS板(転写基材)を、アップダウン転写機(ナビタス(株)製、MP−6)を用いて、押し付け荷重1kN、刻印温度180℃、転写時間1.0sという条件で押し当て、フィラーを接着層内に埋没させた(転写基材形成工程)。その結果、蒸着層が変形され、蒸着層の表面に凹凸が形成された(凹凸の詳細:平均長径4.1μm、高さ0.3〜0.5μmの凸形状)。次いで、被剥離基材および離型層を剥離した(剥離工程)。そして、紫外線照射装置(ECS−4011GX(高圧水銀ランプを使用)、アイグラフィックス(株)製)を用いて、積算光量1000mJ/cm2となるよう保護層から接着層の方向へ照射した(本硬化工程)。
(Example 2)
A polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 25 μm) was used as a base material to be peeled off, and an acrylic styrene resin (addition amount: 91 parts) and a curing agent (isocyanate, addition: 9 parts) were coated with a bar coater. This uncured resin layer was cured at 50 ° C. for 48 hours to prepare a release layer (thickness: 1.0 μm) (release layer forming step). A polyfunctional acrylate resin solution (97 parts) and a photopolymerization curing agent (addition amount: 3 parts) were applied on the release layer with a bar coater to prepare a protective layer (thickness: 5.0 μm) (protection). Layer formation step). Acrylic resin (addition amount: 100 parts) was applied on the protective layer with a bar coater. This uncured resin layer was cured at 110 ° C. for 30 seconds to prepare a thin-film deposition anchor layer (thickness: 1.0 μm). Vacuum vapor deposition of indium was performed on the vapor deposition anchor layer using a resistance heating type vapor deposition machine. An indium film (deposited layer) having a thickness of 50 nm was formed (deposited layer forming step). Acrylic resin (addition amount: 38 parts), urethane resin solution (addition amount: 57 parts), lenticular filler (acrylic, manufactured by Sekisui Kasei Kogyo Co., Ltd.), dimensions: major axis 7.2 μm, thickness 2 on the vapor deposition layer .8 μm, addition amount: 5 parts) was applied with a bar coater to prepare an adhesive layer (thickness: 1.0 μm) (adhesive layer forming step). After that, a black ABS plate (transfer base material) is placed on the adhesive layer using an up-down transfer machine (MP-6 manufactured by Navitas Co., Ltd.), a pressing load of 1 kN, a marking temperature of 180 ° C., and a transfer time of 1.0 s. The filler was embedded in the adhesive layer under the above conditions (transfer substrate forming step). As a result, the thin-film deposition layer was deformed and irregularities were formed on the surface of the vapor-deposited layer (details of irregularities: convex shape with an average major axis of 4.1 μm and a height of 0.3 to 0.5 μm). Then, the base material to be peeled and the release layer were peeled off (peeling step). Then, using an ultraviolet irradiation device (ECS-4011GX (using a high-pressure mercury lamp), manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), irradiation was performed from the protective layer to the adhesive layer so that the integrated light intensity was 1000 mJ / cm 2 (this). Curing process).

(実施例3)
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み:25μm)を被剥離基材とし、アクリルスチレン樹脂(添加量:91部)、硬化剤(イソシアネート、添加:9部)をバーコーターにて塗工した。この未硬化樹脂層を50℃、48時間にて硬化させ、離型層(厚み:1.0μm)を作製した(離型層形成工程)。離型層上に、多官能アクリレート樹脂溶液(97部)、光重合硬化剤(添加量:3部)をバーコーターにて塗工し、保護層(厚み:5.0μm)を作製した(保護層形成工程)。保護層上に、アクリル樹脂(添加量:100部)をバーコーターにて塗工した。この未硬化樹脂層を110℃、30秒にて硬化させ、蒸着アンカー層(厚み:1.0μm)を作成した。蒸着アンカー層上に抵抗加熱式蒸着機を用い、アルミニウムの真空蒸着を行った。厚み35nmのアルミニウム膜(蒸着層)を形成した(蒸着層形成工程)。蒸着層上に、アクリル樹脂(添加量:38部)、ウレタン樹脂溶液(添加量:57部)、レンズ状フィラー(アクリル、積水化成品工業製、寸法:長径7.2μm、厚み2.8μm、添加量:5部)を、バーコーターにて塗工し、接着層(厚み:1.0μm)を作製した(接着層形成工程)。そして、紫外線照射装置(ECS−4011GX(高圧水銀ランプを使用)、アイグラフィックス(株)製)を用いて、積算光量が500mJ/cm2となるよう保護層から接着層の方向へ照射した(仮硬化工程)。
(Example 3)
A polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 25 μm) was used as a base material to be peeled off, and an acrylic styrene resin (addition amount: 91 parts) and a curing agent (isocyanate, addition: 9 parts) were coated with a bar coater. This uncured resin layer was cured at 50 ° C. for 48 hours to prepare a release layer (thickness: 1.0 μm) (release layer forming step). A polyfunctional acrylate resin solution (97 parts) and a photopolymerization curing agent (addition amount: 3 parts) were applied on the release layer with a bar coater to prepare a protective layer (thickness: 5.0 μm) (protection). Layer formation step). Acrylic resin (addition amount: 100 parts) was applied on the protective layer with a bar coater. This uncured resin layer was cured at 110 ° C. for 30 seconds to prepare a thin-film deposition anchor layer (thickness: 1.0 μm). Aluminum was vacuum-deposited on the vapor deposition anchor layer using a resistance heating type vapor deposition machine. An aluminum film (deposited layer) having a thickness of 35 nm was formed (deposited layer forming step). Acrylic resin (addition amount: 38 parts), urethane resin solution (addition amount: 57 parts), lenticular filler (acrylic, manufactured by Sekisui Kasei Kogyo Co., Ltd., dimensions: major axis 7.2 μm, thickness 2.8 μm, on the vapor deposition layer, The addition amount: 5 parts) was applied with a bar coater to prepare an adhesive layer (thickness: 1.0 μm) (adhesive layer forming step). Then, using an ultraviolet irradiation device (ECS-4011GX (using a high-pressure mercury lamp), manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), irradiation was performed from the protective layer to the adhesive layer so that the integrated light amount was 500 mJ / cm 2 (). Temporary curing process).

その後、接着層上に、黒ABS板(転写基材)を、アップダウン転写機(ナビタス(株)製、MP−6)を用いて、押し付け荷重1kN、刻印温度180℃、転写時間1.0sという条件で押し当て、フィラーを接着層内に埋没させた(転写基材形成工程)。その結果、蒸着層が変形され、蒸着層の表面に凹凸が形成された(凹凸の詳細:平均長径4.1μm、高さ0.3〜0.5μmの凸形状)。次いで、被剥離基材および離型層を剥離した(剥離工程)。そして、紫外線照射装置(ECS−4011GX(高圧水銀ランプを使用)、アイグラフィックス(株)製)を用いて、積算光量1000mJ/cm2となるよう保護層から接着層の方向へ照射した(本硬化工程)。なお、実施例3では、本発明の効果をより明瞭に理解する目的と、マルチアングル測色計による測定が、比較的大きなサンプルでなければ測定できない理由から、あえて遮蔽工程を行わずに、保護層の全面を仮硬化および本硬化した。これにより、実施例3では、第2領域を再現した。一方、後述する実施例4では、仮硬化工程を実施しなかった。これにより、第1領域を再現した。 After that, a black ABS plate (transfer base material) is placed on the adhesive layer using an up-down transfer machine (MP-6 manufactured by Navitas Co., Ltd.), a pressing load of 1 kN, a marking temperature of 180 ° C., and a transfer time of 1.0 s. The filler was embedded in the adhesive layer under the above conditions (transfer substrate forming step). As a result, the thin-film deposition layer was deformed and irregularities were formed on the surface of the vapor-deposited layer (details of irregularities: convex shape with an average major axis of 4.1 μm and a height of 0.3 to 0.5 μm). Then, the base material to be peeled and the release layer were peeled off (peeling step). Then, using an ultraviolet irradiation device (ECS-4011GX (using a high-pressure mercury lamp), manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), irradiation was performed from the protective layer to the adhesive layer so that the integrated light intensity was 1000 mJ / cm 2 (this). Curing process). In Example 3, for the purpose of more clearly understanding the effect of the present invention and for the reason that the measurement by the multi-angle colorimeter can only be measured with a relatively large sample, protection is performed without performing a shielding step. The entire surface of the layer was temporarily cured and finally cured. As a result, in Example 3, the second region was reproduced. On the other hand, in Example 4 described later, the temporary curing step was not carried out. As a result, the first region was reproduced.

(実施例4)
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み:25μm)を被剥離基材とし、アクリルスチレン樹脂(添加量:91部)、硬化剤(イソシアネート、添加:9部)をバーコーターにて塗工した。この未硬化樹脂層を50℃、48時間にて硬化させ、離型層(厚み:1.0μm)を作製した(離型層形成工程)。離型層上に、多官能アクリレート樹脂溶液(97部)、光重合硬化剤(添加量:3部)をバーコーターにて塗工し、保護層(厚み:5.0μm)を作製した(保護層形成工程)。保護層上に、アクリル樹脂(添加量:100部)をバーコーターにて塗工した。この未硬化樹脂層を110℃、30秒にて硬化させ、蒸着アンカー層(厚み:1.0μm)を作成した。蒸着アンカー層上に抵抗加熱式蒸着機を用い、アルミニウムの真空蒸着を行った。厚み35nmのアルミニウム膜(蒸着層)を形成した(蒸着層形成工程)。蒸着層上に、アクリル樹脂(添加量:38部)、ウレタン樹脂溶液(添加量:57部)、レンズ状フィラー(アクリル、積水化成品工業製、寸法:長径7.2μm、厚み2.8μm、添加量:5部)を、バーコーターにて塗工し、接着層(厚み:1.0μm)を作製した(接着層形成工程)。その後、接着層上に、黒ABS板(転写基材)を、アップダウン転写機(ナビタス(株)製、MP−6)を用いて、押し付け荷重1kN、刻印温度180℃、転写時間1.0sという条件で押し当て、フィラーを接着層内に埋没させた(転写基材形成工程)。その結果、蒸着層が変形され、蒸着層の表面に凹凸が形成された(凹凸の詳細:平均長径4.1μm、高さ0.3〜0.5μmの凸形状)。次いで、被剥離基材および離型層を剥離した(剥離工程)。そして、紫外線照射装置(ECS−4011GX(高圧水銀ランプを使用)、アイグラフィックス(株)製)を用いて、積算光量1000mJ/cm2となるよう保護層から接着層の方向へ照射した(本硬化工程)。
(Example 4)
A polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 25 μm) was used as a base material to be peeled off, and an acrylic styrene resin (addition amount: 91 parts) and a curing agent (isocyanate, addition: 9 parts) were coated with a bar coater. This uncured resin layer was cured at 50 ° C. for 48 hours to prepare a release layer (thickness: 1.0 μm) (release layer forming step). A polyfunctional acrylate resin solution (97 parts) and a photopolymerization curing agent (addition amount: 3 parts) were applied on the release layer with a bar coater to prepare a protective layer (thickness: 5.0 μm) (protection). Layer formation step). Acrylic resin (addition amount: 100 parts) was applied on the protective layer with a bar coater. This uncured resin layer was cured at 110 ° C. for 30 seconds to prepare a thin-film deposition anchor layer (thickness: 1.0 μm). Aluminum was vacuum-deposited on the vapor deposition anchor layer using a resistance heating type vapor deposition machine. An aluminum film (deposited layer) having a thickness of 35 nm was formed (deposited layer forming step). Acrylic resin (addition amount: 38 parts), urethane resin solution (addition amount: 57 parts), lenticular filler (acrylic, manufactured by Sekisui Kasei Kogyo Co., Ltd., dimensions: major axis 7.2 μm, thickness 2.8 μm, on the vapor deposition layer, The addition amount: 5 parts) was applied with a bar coater to prepare an adhesive layer (thickness: 1.0 μm) (adhesive layer forming step). After that, a black ABS plate (transfer base material) is placed on the adhesive layer using an up-down transfer machine (MP-6 manufactured by Navitas Co., Ltd.), a pressing load of 1 kN, a marking temperature of 180 ° C., and a transfer time of 1.0 s. The filler was embedded in the adhesive layer under the above conditions (transfer substrate forming step). As a result, the thin-film deposition layer was deformed and irregularities were formed on the surface of the vapor-deposited layer (details of irregularities: convex shape with an average major axis of 4.1 μm and a height of 0.3 to 0.5 μm). Then, the base material to be peeled and the release layer were peeled off (peeling step). Then, using an ultraviolet irradiation device (ECS-4011GX (using a high-pressure mercury lamp), manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), irradiation was performed from the protective layer to the adhesive layer so that the integrated light intensity was 1000 mJ / cm 2 (this). Curing process).

実施例1〜4において得られた加飾フィルム成形体について、以下の方法により、種々の角度におけるL*値を測定した。結果を表1に示す。 For the decorative film molded products obtained in Examples 1 to 4, the L * values at various angles were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.

<L*値の測定>
それぞれの加飾フィルム成形体の保護層の法線方向から45°傾斜した角度からマルチアングル測色計の光源からの光を入射させた際、入射させた光の正反射方向を0°と定義し、正反射方向から光源側をプラスの角度と定義し、正反射方向から光源と反対側をマイナスの角度と定義する場合において、第1領域(実施例2および実施例4)と、第2領域(実施例1および実施例3)におけるL*値を測定した。測定時の角度は、−15°方向、15°方向、25°方向、45°方向、75°方向、110°方向とした。なお、マルチアングル測色計は、x−rite社製の「MA−T6」を使用し、光源として多色性白色LED(D65光源)を使用した。測定領域は、20mm×30mmとした。
<Measurement of L * value>
When the light from the light source of the multi-angle colorimeter is incident from an angle 45 ° inclined from the normal direction of the protective layer of each decorative film molded body, the specular reflection direction of the incident light is defined as 0 °. Then, in the case where the light source side from the specular reflection direction is defined as a positive angle and the side opposite to the light source from the specular reflection direction is defined as a negative angle, the first region (Examples 2 and 4) and the second The L * values in the regions (Example 1 and Example 3) were measured. The angles at the time of measurement were -15 ° direction, 15 ° direction, 25 ° direction, 45 ° direction, 75 ° direction, and 110 ° direction. As the multi-angle colorimeter, "MA-T6" manufactured by x-rite was used, and a pleochroic white LED (D65 light source) was used as the light source. The measurement area was 20 mm × 30 mm.

Figure 2021084356
Figure 2021084356

表1に示されるように、第2領域を想定して全面仮硬化した実施例1と、第1領域を想定して仮硬化しなかった実施例2とを比較すると、ハイライト領域(−15°〜25°)におけるL*値が、いずれも実施例2の方が実施例1よりも大きかった。また、実施例1と実施例2とでは、シェード領域におけるL*値の差はほとんど見られなかった。その結果、実施例1の第2領域と、実施例2の第1領域を備えるような加飾フィルム成形体は、所定の角度だけ傾けた場合に、第1の領域と第2の領域とのL*値の差に基づく反射の程度の違いによって、図柄を視認可能な状態または視認困難な状態に切り替えることができることが示された。実施例3および実施例4に関しても同様であった。 As shown in Table 1, a comparison between Example 1 in which the entire surface was temporarily cured assuming the second region and Example 2 in which the first region was assumed and not temporarily cured is compared, and the highlight region (-15) The L * values in (° to 25 °) were larger in Example 2 than in Example 1. In addition, there was almost no difference in the L * value in the shade region between Example 1 and Example 2. As a result, the decorative film molded body including the second region of the first embodiment and the first region of the second embodiment becomes the first region and the second region when tilted by a predetermined angle. It was shown that the design can be switched between a visible state and a hard-to-see state by the difference in the degree of reflection based on the difference in the L * value. The same was true for Example 3 and Example 4.

1、1a 加飾フィルム成形体
2 被剥離基材
3 離型層
4 保護層
5 蒸着層
6 接着層
7 転写基材
8 遮蔽板
81 遮蔽部
82 非遮蔽部
9 印刷部
F フィラー
L 光源
L1 フィラーの長径
L2 フィラーの厚み
ND 法線方向
RD 正反射方向
-15、R15、R25、R45、R75、R110 方向
θ1 入射角度
1, 1a Decorative film molded body 2 Detachable base material 3 Release layer 4 Protective layer 5 Vapor deposition layer 6 Adhesive layer 7 Transfer base material 8 Shielding plate 81 Shielding part 82 Non-shielding part 9 Printing part F Filler L Light source L1 Filler Major axis L2 Filler thickness ND Normal direction RD Specular reflection direction R -15 , R 15 , R 25 , R 45 , R 75 , R 110 direction θ1 Incident angle

Claims (3)

基材と、接着層と、蒸着層と、保護層とを有し、
前記蒸着層は、表面に凹凸が形成されており、
前記接着層は、フィラーを含み、
前記保護層は、第1領域と、前記第1領域よりも重合度が大きい第2領域とを有し、
前記保護層の法線方向から45°傾斜した角度からマルチアングル測色計の光源からの光を入射させた際、入射させた光の正反射方向を0°と定義し、前記正反射方向から前記光源側をプラスの角度と定義し、前記正反射方向から前記光源と反対側をマイナスの角度と定義する場合において、
前記第1領域における−15°方向のL*値(L1*-15)は、前記第2領域における−15°方向のL*値(L2*-15)よりも大きく、
前記第1領域における15°方向のL*値(L1*15)は、前記第2領域における15°方向のL*値(L2*15)よりも大きく、
前記第1領域における25°方向のL*値(L1*25)は、前記第2領域における25°方向のL*値(L2*25)よりも大きい、加飾フィルム成形体。
It has a base material, an adhesive layer, a thin-film deposition layer, and a protective layer.
The vapor-filmed layer has irregularities formed on its surface.
The adhesive layer contains a filler and contains
The protective layer has a first region and a second region having a higher degree of polymerization than the first region.
When light from the light source of the multi-angle colorimeter is incident from an angle inclined by 45 ° from the normal direction of the protective layer, the specular reflection direction of the incident light is defined as 0 °, and from the specular reflection direction. In the case where the light source side is defined as a positive angle and the side opposite to the light source from the specular reflection direction is defined as a negative angle.
The L * value (L1 * -15 ) in the -15 ° direction in the first region is larger than the L * value (L2 * -15) in the -15 ° direction in the second region.
The L * value (L1 * 15 ) in the 15 ° direction in the first region is larger than the L * value (L2 * 15) in the 15 ° direction in the second region.
A decorative film molded product in which the L * value (L1 * 25 ) in the 25 ° direction in the first region is larger than the L * value (L2 * 25) in the 25 ° direction in the second region.
被剥離基材の一方の面上に、離型層を形成する離型層形成工程と、
前記離型層上に、紫外線硬化型樹脂組成物を含む保護層を形成する保護層形成工程と、
前記保護層上に、蒸着層を形成する蒸着層形成工程と、
前記蒸着層上に、フィラーを含む接着層を形成する接着層形成工程と、
前記接着層上に、転写基材を押し当てることにより、前記フィラーを前記接着層に埋設させて、前記蒸着層の表面に凹凸を形成する転写基材形成工程と、
前記被剥離基材および前記離型層を剥離する剥離工程と、を含み、
前記転写基材形成工程よりも前に、前記被剥離基材の他方の面上に、紫外線を遮蔽する遮蔽部と紫外線を透過する非遮蔽部とを含む遮蔽板を配置する遮蔽工程を含み、
前記遮蔽工程よりも後であって、かつ、前記転写基材形成工程よりも前に、前記保護層から前記接着層の方向へ、前記非遮蔽部を通過するよう紫外線を照射し、前記保護層を仮硬化する仮硬化工程を含み、
前記転写基材形成工程よりも後に、前記保護層から前記接着層の方向へ、紫外線を照射し、前記保護層を本硬化する本硬化工程を含む、加飾フィルム成形体の製造方法。
A release layer forming step of forming a release layer on one surface of the substrate to be peeled off,
A protective layer forming step of forming a protective layer containing an ultraviolet curable resin composition on the release layer,
A thin-film deposition layer forming step of forming a thin-film deposition layer on the protective layer,
An adhesive layer forming step of forming an adhesive layer containing a filler on the thin-film deposition layer,
A transfer base material forming step of embedding the filler in the adhesive layer by pressing the transfer base material onto the adhesive layer to form irregularities on the surface of the vapor deposition layer.
Including a peeling step of peeling the base material to be peeled and the release layer.
Prior to the transfer substrate forming step, a shielding step of arranging a shielding plate including a shielding portion that shields ultraviolet rays and a non-shielding portion that transmits ultraviolet rays is included on the other surface of the substrate to be peeled off.
After the shielding step and before the transfer substrate forming step, ultraviolet rays are irradiated from the protective layer toward the adhesive layer so as to pass through the non-shielding portion, and the protective layer is formed. Including a temporary curing step to temporarily cure
A method for producing a decorative film molded product, which comprises a main curing step of irradiating ultraviolet rays from the protective layer toward the adhesive layer to main-cure the protective layer after the transfer substrate forming step.
前記本硬化工程は、前記剥離工程の後に実施される、請求項2記載の加飾フィルム成形体の製造方法。 The method for producing a decorative film molded product according to claim 2, wherein the main curing step is carried out after the peeling step.
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