JP2021075363A - Manufacturing method for dried film roll - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、フィルムの両端部を把持して、搬送し延伸するテンター延伸装置を用いた乾燥したフィルムロールの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a dried film roll using a tenter stretching device that grips, conveys, and stretches both ends of a film.
近年、各種画像表示装置のディスプレイの薄型化、軽量化及びフレキシブル化等に伴い、従来用いられていたガラスに代わる材料として、ポリイミドやポリアミド等の高分子に基づく透明樹脂フィルムが広く利用されている。透明樹脂フィルムは、基材上にポリイミド等の高分子を含むワニスを塗布し予備乾燥後、得られた予備乾燥樹脂フィルムを延伸しつつ乾燥して製造される。 In recent years, with the thinning, weight reduction, and flexibility of displays of various image display devices, transparent resin films based on polymers such as polyimide and polyamide have been widely used as a material to replace the conventionally used glass. .. The transparent resin film is produced by applying a varnish containing a polymer such as polyimide on a base material, pre-drying the film, and then stretching and drying the obtained pre-dried resin film.
上記延伸及び乾燥工程において、フィルムの両端部を把持して、搬送し延伸するテンター延伸装置を用いて行われるが、テンターでの延伸時にフィルムが把持された部分を起点にフィルムが割れる不具合が発生する。 In the stretching and drying steps, the film is carried out using a tenter stretching device that grips, conveys, and stretches both ends of the film, but there is a problem that the film breaks starting from the portion where the film is gripped during stretching with the tenter. To do.
テンター延伸装置の把持具に関しては、特許文献1に、把持部材のフィルムの流れ方向における上流側及び下流側のうち少なくとも一方にR形状が設けられていることが記載されている。この把持具を用いると、ナイロンフィルムの熱処理時のフィルムの切れが防止できることが記載されている。
Regarding the gripping tool of the tenter stretching device,
本発明では、フィルムがテンター延伸装置においてフィルムが把持される部分で発生する割れを低減することを目的とする。 An object of the present invention is to reduce cracks generated in a portion where the film is gripped in the tenter stretching apparatus.
本発明は以下の態様を提供する:
[1]原料フィルムロールからフィルムを巻き出す工程、
巻き出したフィルムを搬送する工程、
フィルムの搬送方向に平行なフィルムの両端部を把持して乾燥する工程、
乾燥後、把持を解放する工程、及び
前記フィルムを巻き取って乾燥したフィルムロールを得る工程
を有する、テンター延伸装置を用いて乾燥したフィルムロールの製造方法であって、
前記把持する部分が、台座と把持部とからなり、前記台座と前記把持部との間に前記フィルムを把持し、
前記台座と前記把持部との間の間隔が前記フィルムの厚さよりも薄く、
前記フィルムと接触する把持部のフィルム接触面の全ての端部が曲面形状を有することを特徴とする、
フィルムロールの製造方法。
[2]前記把持部のフィルム接触面端部の曲面形状が、その曲率半径Rにおいて、3mm≦曲率半径R≦15mmである、[1]に記載の製造方法。
[3]前記把持部のフィルムと接触する面における前記搬送方向と平行な端部の曲面形状において、曲面形状の中心付近を境に非対称である、[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4]前記把持部のフィルムと接触する面における前記フィルムの搬送方向に対して垂直及び平行の端部における交点部が、曲面形状を有する、[1]〜[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5]前記台座と前記把持部との間隔がフィルムの厚さの1/2以下である、[1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6]前記把持部は、支点を中心に可動式でありかつ最下点で固定可能に構成され、前記支点は前記フィルムに関して台座と反対方向に存在して、前記フィルムの端部を把持部の最下点で把持する、[1]〜[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7]前記支点は、前記台座に固定されている、[1]〜[6]のいずれかに記載の製造方法。
[8]前記把持部が最下点で台座との間隔でフィルムを把持する時に、把持部のフィルムの搬送方向と平行な端面の位置が台座のフィルムの搬送方向と平行な端面の位置が±1mmの位置にある、[1]〜[7]のいずれかに記載の製造方法。
[9]乾燥前のフィルム中の溶媒含有量が5質量%以上である、[1]〜[8]のいずれかに記載の製造方法。
[10]乾燥後のフィルム中の溶媒含有量が2質量%以下である、[1]〜[9]のいずれかに記載の製造方法。
[11]前記乾燥後のフィルムの引張弾性率が4GPa以上である、[1]〜[10]のいずれかに記載の製造方法。
[12]前記フィルムがポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂を含んでなるフィルムである、[1]〜[11]のいずれかに記載の製造方法。
The present invention provides the following aspects:
[1] A process of unwinding a film from a raw material film roll,
The process of transporting the unwound film,
The process of grasping and drying both ends of the film parallel to the film transport direction,
A method for producing a dried film roll using a tenter stretching apparatus, which comprises a step of releasing the grip after drying and a step of winding the film to obtain a dried film roll.
The gripping portion comprises a pedestal and a gripping portion, and the film is gripped between the pedestal and the gripping portion.
The distance between the pedestal and the grip portion is thinner than the thickness of the film.
All the ends of the film contact surface of the grip portion that comes into contact with the film have a curved surface shape.
How to make a film roll.
[2] The manufacturing method according to [1], wherein the curved surface shape of the film contact surface end portion of the grip portion has a radius of curvature R of 3 mm ≤ radius of curvature R ≤ 15 mm.
[3] The manufacturing method according to [1] or [2], wherein the curved surface shape of the end portion parallel to the transport direction on the surface of the grip portion in contact with the film is asymmetrical with respect to the vicinity of the center of the curved surface shape. ..
[4] The method according to any one of [1] to [3], wherein the intersection portion at the end portion perpendicular to and parallel to the transport direction of the film on the surface of the grip portion in contact with the film has a curved surface shape. Production method.
[5] The manufacturing method according to any one of [1] to [4], wherein the distance between the pedestal and the grip portion is 1/2 or less of the thickness of the film.
[6] The grip portion is configured to be movable around a fulcrum and can be fixed at the lowest point, the fulcrum exists in a direction opposite to the pedestal with respect to the film, and an end portion of the film is gripped. The manufacturing method according to any one of [1] to [5], which is gripped at the lowest point of the above.
[7] The manufacturing method according to any one of [1] to [6], wherein the fulcrum is fixed to the pedestal.
[8] When the grip portion grips the film at the lowest point at a distance from the pedestal, the position of the end face parallel to the film transport direction of the grip portion is ± The manufacturing method according to any one of [1] to [7], which is located at a position of 1 mm.
[9] The production method according to any one of [1] to [8], wherein the solvent content in the film before drying is 5% by mass or more.
[10] The production method according to any one of [1] to [9], wherein the solvent content in the film after drying is 2% by mass or less.
[11] The production method according to any one of [1] to [10], wherein the dried film has a tensile elastic modulus of 4 GPa or more.
[12] The production method according to any one of [1] to [11], wherein the film is a film containing at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin.
本発明のフィルムロールの製造方法を用いると、テンター延伸装置でフィルムを把持して乾燥処理をしている時に発生するフィルムの割れを有効に低減することができる。なお、割れを低減できることにより、フィルム破断も低減することができる。 By using the method for producing a film roll of the present invention, it is possible to effectively reduce the cracking of the film that occurs when the film is gripped and dried by the tenter stretching device. By reducing cracks, film breakage can also be reduced.
本発明のフィルムロールの製造方法に用いる把持具を、図面を用いて説明する。図1は本発明のフィルムの製造方法で用いる把持具を模式的に示す斜視図であり、図2は図1の把持部のフィルムと接する面を模式的に記載した斜視図であり、図3は、把持具の端部の正面図である。図4は、図1の把持具の一部(把持部)を除いた状態を模式的に示す斜視図である。図5は本発明のフィルムの製造方法において、把持具をフィルムの両端部に置き、フィルムを把持していない状態を示す模式図である。図6は、把持具でフィルムの両端部を把持した状態を示す模式図である。図7は、本発明のフィルムの製造方法で用いる把持具の把持部の曲面形状を示す部分拡大図である。図8は、本発明のフィルムの製造方法で用いる把持具の把持部の別の曲面形状を示す部分拡大図である。図9は、本発明のフィルムの製造方法で用いるテンター延伸装置を模式的に示す図であり、図10は、本発明の乾燥したフィルムロールの製造方法を模式的に示す図である。 The gripping tool used in the method for producing a film roll of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a gripping tool used in the method for producing a film of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view schematically showing a surface of the grip portion of FIG. 1 in contact with a film. Is a front view of the end of the gripper. FIG. 4 is a perspective view schematically showing a state in which a part (grip portion) of the grip tool of FIG. 1 is removed. FIG. 5 is a schematic view showing a state in which grippers are placed at both ends of the film and the film is not gripped in the film manufacturing method of the present invention. FIG. 6 is a schematic view showing a state in which both ends of the film are gripped by a gripper. FIG. 7 is a partially enlarged view showing the curved surface shape of the grip portion of the gripper used in the film manufacturing method of the present invention. FIG. 8 is a partially enlarged view showing another curved surface shape of the grip portion of the gripper used in the film manufacturing method of the present invention. FIG. 9 is a diagram schematically showing a tenter stretching device used in the method for producing a film of the present invention, and FIG. 10 is a diagram schematically showing a method for producing a dried film roll of the present invention.
図1において、把持具1は台座2と把持部3を有していて、台座2と把持部3との間にフィルム4(図1には記載していない。)を把持する。把持部3は支点5を中心に可動式であり、フィルム4が把持部3と台座2との間で接触したときにフィルム4が把持される。支点5は、2つの支点支持部6の間に支持されていて、支点支持部6は台座2と連結部7で連結固定されている。支点支持部6、連結部7及び台座2は個別の部材でもよく、一体化していてもよい。支点5はフィルム4を介して台座2と相対峙していて、把持部3が支点5を中心に動いて、台座2と把持部3で形成される間隙でフィルム4を把持する。把持部3が最下点にあって、フィルム4を固定している状態は図6に示されていて、把持部3が最下点になく、フィルム4が解放されている状態は図5に示されている。図6に示されているように、把持部3が最下点にあって、フィルム4を把持部3と台座2で挟むと、フィルム4が最も強固に把持される。把持部3が最下点にない場合でも前述のようにフィルム4が把持部3と台座2との間で接触すればフィルムが把持される。
In FIG. 1, the
本発明では、把持部3はフィルムと接触する面の端部が曲面形状を有していて、かつ台座2と把持部3との間隔が0μmを超えでフィルム4の厚さよりも薄いことを特徴としている。
In the present invention, the
図2は、把持部3のフィルム4と接する面(以下、「フィルム接触面」と呼ぶ。)8が見えるように記載した斜視図であり、フィルム接触面8の端部9及び10は、ここでは4辺あるが、それら全てがフィルムと接する端部において曲面形状を有している。曲面形状は、図7にフィルム接触面端部の曲面形状の部分拡大図に示しているが、曲面形状は曲率半径Rで表され、曲率半径Rは好ましくは3mm≦曲率半径R≦15mmの範囲、好ましくは4mm≦曲率半径R≦12mmである。フィルム接触面8の全ての端部9及び10が全て同じ曲率半径でもよいが、異なっていてもよい。曲面形状は図7に示すように、一つの曲率半径Rで表される形状でもよいが、図8に示されるように、曲面形状が途中から変化をしていてもよく、図8の場合は曲面の中心部付近を境に異なる曲率半径R1からR2の2つの曲面形状を有している。曲率半径R1及びR2は前記曲率半径Rの数値の範囲に入っている。前記曲率半径は3つ以上の曲率半径であってもよく、異なる2つ以上の曲率半径であってもよい。
FIG. 2 is a perspective view in which the surface (hereinafter, referred to as “film contact surface”) 8 of the
フィルム接触面8の端部9はフィルム搬送方向31に垂直な辺であり、端部10はフィルム搬送方向31に平行な辺であり、端部9と端部10との交点部11も鋭角にならないように曲面形状を有していることが好ましい。この交点部11の曲面形状も、好ましくは前記曲率半径Rと同等の曲率半径Rを有する。
The
本発明の把持具1は、台座2と把持部3との間隔が0μmを超え、フィルム4の厚さよりも薄く、好ましくは0μmを超えフィルム4の厚さの1/2以下であるように設置される。該間隔は、図3に示すように、把持部3が支点5に関して最下点にあるときに台座2との間に形成される間隔であり、図3では12で表す。この間隔12でフィルム4を把持する。間隔12がフィルム4の厚さよりも大きくても、把持部3と台座2とが最接近した時の距離がフィルム4の厚さより小さいと、フィルム4を把持することが可能であるが、把持力が十分でなく、フィルムの割れを誘発することがある。フィルム4がポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の場合は、間隔12は好ましくはフィルム厚の1/30以上、より好ましくは1/20以上である。
The
把持具1のサイズは、フィルムの厚さや横幅など、種々の要因で大きく異なるが、例えば把持部3のサイズで言うと、把持部3のフィルム搬送方向31に平行な辺(即ち、図3の端部10)の長さは、通常2〜10cmである。また、把持部3のフィルム搬送方向31に垂直な辺(即ち、図3の端部9)の長さは、通常1〜3cmである。
The size of the
図3は、本発明の把持具1の端面の正面図である。把持部3の支点5は図1及び図3に示されているように、支点支持部6で支持されていて、支点支持部6は台座2と連結部7を介して固定されている。支点5は、フィルム4を把持部6で把持できるように、フィルム4を介して台座2と対峙するように存在する。
FIG. 3 is a front view of the end surface of the
台座2は、支点5とフィルム4を介して相対峙しているが、把持部3との間でできる間隔12でフィルム4を把持するので、台座2のフィルム4と接触する側の3つの端部15(フィルムの搬送方向に平行な端部及び垂直な端部の両方)及び隅部16も曲面形状を有していると、フィルム4の割れがより少なくなる傾向があるので好ましい。尚、フィルムとの接触が起こらない端部、即ち支点保持部6と連結部7に近い端部は曲面形状にする必要はない。
The
図4には、把持部3を取り外した状態の把持具1の斜視図を示し、台座2のフィルム4と接触する側の端部15及び隅部16が曲面形状を有している状態を示す。曲面形状は、把持部3のフィルム接触面端部の曲面形状と同様に、曲率半径R’を有していてもよい。曲率半径R’の大きさも、前記フィルム接触面端部の曲率半径Rと同一であっても異なっていてもよく、曲率半径R’は好ましくは3mm≦曲率半径R’≦15mmの範囲、好ましくは4mm≦曲率半径R’≦12mmにある。
FIG. 4 shows a perspective view of the
本発明のフィルムの製造方法に用いる把持具1は、把持部6が台座2との間隔12でフィルム4を把持する時に、図3に示すように、把持部6のフィルムの搬送方向31と平行な端面20(フィルム接触面8ではなくかつフィルム側の端面)が台座2のフィルムの搬送方向31と平行な端面21(フィルム側の端面)との距離(即ち、図3の22)が±1mm、好ましくは±0.8mm、より好ましくは±0.7mmであることが好ましい。このように把持部6のフィルムの搬送方向31と平行な端面20が、台座2のフィルムの搬送方向31と平行な端面21とがほぼ同一平面になると、フィルム4への力の掛かり方が均一になり、割れが防止できるものと考える。
The
本発明の把持具1をフィルム4の両端部に図5のように置き、その後把持部3を最下点方向に移動すると図6に示すようにフィルム4が把持される。図9は、本発明のテンター延伸装置を模式的に示す図である。図9に示されるように、把持具1が複数個でフィルム4の端部を把持し、フィルム4の端部を掴んだまま連続的に移動するようにした装置がテンター延伸装置41であり、フィルム4を導入する導入部42でフィルムを把持し、フィルム4を送り出す送出部43でフィルムを解放する構造になっていて、その間に把持具1が連続的に並んでフィルム4の把持と解放とを繰り返す。図9に示されているように、把持具1はループ状に一定間隔で並んでいて、送出部43で解放した把持具がまた導入部42に回ってきて、再度把持するように構成されている。
When the
図10は、本発明の乾燥したフィルムロールの製造方法を模式的に示す図である。未乾燥の原料フィルムロール51を、ロール52を介して巻き出し、テンター延伸装置41に搬送する。その間に、保護フィルム53が存在すればそれを剥離して、保護フィルムをロール状に巻き取る。テンター延伸装置41が乾燥炉54内を通過して延伸と同時に乾燥が行われる。乾燥炉54は、どのような形式のものでもよく、加熱乾燥炉であってよい。テンター延伸装置41の入り口でフィルム4の両端を把持具で把持し、乾燥炉54を把持具でフィルム4を把持したままで乾燥を行い、乾燥炉54の出口でフィルム4が把持具から解放され、その後、必要に応じてフィルムの端部がスリットされる。乾燥が終了したフィルム4は必要に応じて別の保護フィルムで被覆して、乾燥したフィルムロール55として使用する。通常、乾燥炉54はいくつかの部屋に分かれていて、それぞれの部屋で風量などを個別に調節できるようになっているものが多く、図10では乾燥炉54は6つの部屋に分かれている。
FIG. 10 is a diagram schematically showing a method for producing a dried film roll of the present invention. The undried raw
本発明のフィルムロールの製造方法に用いられるフィルムは、いかなるフィルムであってもよいが、本発明の乾燥したフィルムロールの製造方法において好適なものは、透明樹脂フィルム、特にポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種のフィルムである。 The film used in the method for producing a film roll of the present invention may be any film, but those suitable for the method for producing a dried film roll of the present invention are transparent resin films, particularly polyimide resins and polyamide-based films. At least one film selected from the group consisting of resins.
本明細書において、ポリイミド系樹脂とは、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド前駆体樹脂、及び、ポリアミドイミド前駆体樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を表す。ポリイミド樹脂は、イミド基を含む繰返し構成単位を含有する樹脂であり、ポリアミドイミド樹脂は、イミド基及びアミド基の両方を含む繰返し構成単位を含有する樹脂である。ポリイミド前駆体樹脂及びポリアミドイミド前駆体樹脂は、それぞれ、イミド化によりポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂を与える、イミド化前の前駆体であり、ポリアミック酸とも称される樹脂である。また、本明細書において、ポリアミド系樹脂は、アミド基を含む繰返し構成単位を含有する樹脂である。本発明の透明樹脂フィルムは、1種類のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を含んでいてもよいし、2種以上のポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を組合せて含んでいてもよい。本発明の透明樹脂フィルムは、透明樹脂フィルムの化学的特性及び物理的特性の観点から、ポリイミド系樹脂を含むことが好ましく、該ポリイミド系樹脂は、好ましくはポリイミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂であり、より好ましくはポリアミドイミド樹脂である。 In the present specification, the polyimide-based resin represents at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin, a polyamide-imide resin, a polyimide precursor resin, and a polyamide-imide precursor resin. The polyimide resin is a resin containing a repeating structural unit containing an imide group, and the polyamide-imide resin is a resin containing a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group. The polyimide precursor resin and the polyamide-imide precursor resin are pre-imidization precursors that give the polyimide resin and the polyamide-imide resin by imidization, respectively, and are also called polyamic acids. Further, in the present specification, the polyamide-based resin is a resin containing a repeating structural unit containing an amide group. The transparent resin film of the present invention may contain one kind of polyimide resin or polyamide resin, or may contain two or more kinds of polyimide resins and / or polyamide resins in combination. The transparent resin film of the present invention preferably contains a polyimide-based resin from the viewpoint of the chemical and physical properties of the transparent resin film, and the polyimide-based resin is preferably a polyimide resin or a polyamideimide resin. A polyamideimide resin is preferable.
本発明の好ましい一実施形態において、透明樹脂フィルムの化学的特性及び物理的特性の観点から、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は芳香族系の樹脂であることが好ましい。本明細書において、芳香族系の樹脂とは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂に含まれる構成単位が主に芳香族系の構成単位である樹脂を表す。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin and the polyamide resin are preferably aromatic resins from the viewpoint of the chemical properties and physical properties of the transparent resin film. In the present specification, the aromatic resin refers to a resin in which the constituent unit contained in the polyimide resin and the polyamide resin is mainly an aromatic constituent unit.
上記の好ましい一実施形態において、透明樹脂フィルムの化学的特性及び物理的特性の観点から、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂に含まれる全構成単位に対する芳香族系モノマーに由来する構成単位の割合は、好ましくは60モル%以上、より好ましくは70モル%以上、さらに好ましくは80モル%以上、さらにより好ましくは85モル%以上である。ここで、芳香族系モノマーに由来する構成単位とは、芳香族系の構造(例えば芳香環)を少なくとも一部に含むモノマーに由来し、芳香族系の構造(例えば芳香環)を少なくとも一部に含む構成単位である。芳香族系モノマーとしては、例えば芳香族テトラカルボン酸化合物、芳香族ジアミン、芳香族ジカルボン酸等が挙げられる。 In one preferred embodiment described above, from the viewpoint of the chemical properties and physical properties of the transparent resin film, the ratio of the structural units derived from the aromatic monomer to the total structural units contained in the polyimide resin and the polyamide resin is determined. It is preferably 60 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, still more preferably 80 mol% or more, still more preferably 85 mol% or more. Here, the structural unit derived from an aromatic monomer is derived from a monomer containing at least a part of an aromatic structure (for example, an aromatic ring), and at least a part of the aromatic structure (for example, an aromatic ring). It is a structural unit included in. Examples of the aromatic monomer include aromatic tetracarboxylic acid compounds, aromatic diamines, and aromatic dicarboxylic acids.
本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式(1):
で表される構成単位を有するポリイミド樹脂であるか、又は、式(1)で表される構成単位及び式(2):
で表される構成単位を有するポリアミドイミド樹脂であることが好ましい。また、ポリアミド系樹脂は、式(2)で表される構成単位を有するポリアミド樹脂であることが好ましい。以下において式(1)及び式(2)について説明するが、式(1)についての説明は、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関し、式(2)についての説明は、ポリアミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関する。
In one preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin is based on the formula (1):
It is a polyimide resin having a structural unit represented by, or a structural unit represented by the formula (1) and the formula (2):
It is preferable that the polyamide-imide resin has a structural unit represented by. Further, the polyamide resin is preferably a polyamide resin having a structural unit represented by the formula (2). The formulas (1) and (2) will be described below, but the description of the formula (1) relates to both the polyimide resin and the polyamide-imide resin, and the description of the formula (2) describes the polyamide resin and the polyamide-imide resin. Regarding both.
式(1)で表される構成単位は、テトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位であり、式(2)で表される構成単位は、ジカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位である。 The structural unit represented by the formula (1) is a structural unit formed by reacting a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound, and the structural unit represented by the formula (2) is a dicarboxylic acid compound and a diamine compound. Is a structural unit formed by the reaction of and.
式(2)において、Zは、2価の有機基であり、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい、炭素数4〜40の2価の有機基であり、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい、環状構造を有する炭素数4〜40の2価の有機基である。なお、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基の例としては、後述する式(3)中のR3a及びR3bに関する例示が同様にあてはまる。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。Zの有機基として、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29):
で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基及び炭素数6以下の2価の鎖式炭化水素基が例示され、Zのヘテロ環構造としてはチオフェン環骨格を有する基が例示される。透明樹脂フィルムの黄色度を抑制(YI値を低減)しやすい観点から、式(20)〜式(29)で表される基、及び、チオフェン環骨格を有する基が好ましく、式(26)、式(28)及び式(29)で表される基がより好ましい。
In the formula (2), Z is a divalent organic group, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (these groups). The hydrogen atom in the above is a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, which may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom), and more preferably 1 to 6 carbon atoms. Alkyl group, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or aryl group having 6 to 12 carbon atoms (the hydrogen atom in these groups may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom)). It may be a divalent organic group having a cyclic structure and having 4 to 40 carbon atoms. Examples of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms include examples relating to R 3a and R 3b in the formula (3) described later. The same applies. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. As the organic group of Z, the formula (20), the formula (21), the formula (22), the formula (23), the formula (24), the formula (25), the formula (26), the formula (27), the formula (28). And equation (29):
Of the group bonds represented by, a group in which two non-adjacent groups are replaced with hydrogen atoms and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified, and the heterocyclic structure of Z is a thiophene ring skeleton. The group having is exemplified. From the viewpoint of easily suppressing the yellowness of the transparent resin film (reducing the YI value), the groups represented by the formulas (20) to (29) and the groups having a thiophene ring skeleton are preferable, and the formula (26), The groups represented by the formulas (28) and (29) are more preferable.
Zの有機基としては、式(20’)、式(21’)、式(22’)、式(23’)、式(24’)、式(25’)、式(26’)、式(27’)、式(28’)及び式(29’):
で表される2価の有機基がより好ましい。なお、式(20)〜式(29)及び式(20’)〜式(29’)における環上の水素原子は、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい。
Examples of the organic group of Z include the formula (20'), the formula (21'), the formula (22'), the formula (23'), the formula (24'), the formula (25'), the formula (26'), and the formula. (27'), equation (28') and equation (29'):
The divalent organic group represented by is more preferable. The hydrogen atom on the ring in the formulas (20) to (29) and the formulas (20') to (29') is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. It may be substituted with an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (the hydrogen atom in these groups may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom)).
ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂が、式(2)中のZが上記の式(20’)〜式(29’)のいずれかで表される構成単位を有する場合、特に式(2)中のZが後述する式(3’)で表される構成単位を有する場合、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、該構成単位に加えて、次の式(d1):
で表されるカルボン酸由来の構成単位をさらに有することが、ワニスの成膜性を高めやすく、透明樹脂フィルムの均一性を高めやすい観点から好ましい。構成単位(d1)としては、具体的には、R24及びR25がいずれも水素原子である構成単位(ジカルボン酸化合物に由来する構成単位)、R24がいずれも水素原子であり、R25が−C(=O)−*を表す構成単位(トリカルボン酸化合物に由来する構成単位)等が挙げられる。
When the polyamide-based resin or the polyamide-imide resin has a structural unit in which Z in the formula (2) is represented by any of the above formulas (20') to (29'), particularly in the formula (2). When Z has a structural unit represented by the formula (3') described later, the polyamide-based resin or the polyamide-imide resin is added to the structural unit and has the following formula (d1):
It is preferable to further have a carboxylic acid-derived structural unit represented by (1) from the viewpoint of easily improving the film-forming property of the varnish and easily improving the uniformity of the transparent resin film. Specifically, as the structural unit (d1), R 24 and R 25 are both hydrogen atoms (constituent units derived from a dicarboxylic acid compound), and R 24 is a hydrogen atom and R 25. Examples thereof include a structural unit (a structural unit derived from a tricarboxylic acid compound) representing −C (= O) − *.
ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、式(2)中のZとして複数種のZを含んでよく、複数種のZは、互いに同一であっても異なっていてもよい。特に、本発明の透明樹脂フィルムの化学的特性及び物理的特性を高めやすく、かつ光学特性を高めやすい観点から、式(2)中のZが好ましくは式(3):
Wは、互いに独立に、単結合、−O−、−CH2−、−CH2−CH2−、−CH(CH3)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−SO2−、−S−、−CO−又は−N(R9)−を表し、R9は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表し、
sは0〜4の整数であり、tは0〜4の整数であり、uは0〜4の整数であり、*は結合手を表す]
、より好ましくは式(3’):
で表される構成単位を少なくとも有することが好ましい。なお、本明細書において、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂が式(2)中のZが式(3)で表される構成単位を有することと、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド系樹脂が式(2)中のZとして式(3)で表される構造を有することとは、同様の意味を有し、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂に含まれる複数の式(2)で表される構成単位のうち、少なくとも一部の構成単位におけるZが式(3)で表されることを意味する。当該記載は、他の同様の記載にもあてはまる。
The polyamide-based resin or the polyamide-imide resin may contain a plurality of types of Z as Z in the formula (2), and the plurality of types of Z may be the same as or different from each other. In particular, Z in the formula (2) is preferably the formula (3): from the viewpoint that the chemical and physical properties of the transparent resin film of the present invention can be easily enhanced and the optical characteristics can be easily enhanced.
W, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 -, - S -, - CO- or -N (R 9) - represents, R 9 is a hydrogen atom, monovalent 1-12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom Represents a hydrocarbon group
s is an integer from 0 to 4, t is an integer from 0 to 4, u is an integer from 0 to 4, and * represents a bond.]
, More preferably equation (3'):
It is preferable to have at least a structural unit represented by. In the present specification, the polyamide-based resin or the polyamide-imide resin has a structural unit in which Z in the formula (2) is represented by the formula (3), and the polyamide-based resin or the polyamide-imide resin has the formula (2). ) Has the same meaning as having a structure represented by the formula (3) as Z, and is a structural unit represented by a plurality of formulas (2) contained in the polyamide-based resin or the polyamide-imide resin. Of these, it means that Z in at least a part of the constituent units is represented by the equation (3). This statement also applies to other similar statements.
式(3)及び式(3’)において、Wは、互いに独立に、単結合、−O−、−CH2−、−CH2−CH2−、−CH(CH3)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−SO2−、−S−、−CO−又は−N(R9)−を表し、透明樹脂フィルムの耐屈曲性の観点から、好ましくは−O−又は−S−、より好ましくは−O−を表す。
R3a及びR3bは、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル基等が挙げられる。炭素数1〜6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数6〜12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。光学フィルムの表面硬度及び柔軟性の観点から、R3a及びR3bは、互いに独立に、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基を表す。ここで、R3a及びR3bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
R9は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル、n−ヘプチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
In formulas (3) and (3 '), W, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C ( CH 3 ) 2 −, −C (CF 3 ) 2 −, −SO 2 −, −S−, −CO− or −N (R 9 ) −, which is preferable from the viewpoint of bending resistance of the transparent resin film. Represents -O- or -S-, more preferably -O-.
R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and 2-methyl-. Butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like can be mentioned. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group and a cyclohexyloxy group. Can be mentioned. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xsilyl group, a naphthyl group, a biphenyl group and the like. From the viewpoint of the surface hardness and flexibility of the optical film, R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Here, the hydrogen atoms contained in R 3a and R 3b may be substituted with halogen atoms independently of each other.
R 9 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-pentyl group. 2-Methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like. These may be substituted with halogen atoms. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
式(3)及び式(3’)中のt及びuは、互いに独立に、0〜4の整数であり、好ましくは0〜2の整数、より好ましくは0又は1、さらにより好ましくは0である。 T and u in the formula (3) and the formula (3') are independently integers of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0. is there.
式(3)中及び式(3’)中のsは0〜4の範囲の整数であり、sがこの範囲内であると、透明樹脂フィルムの種々の物理的特性をより向上しやすい観点から、好ましくは0〜3の範囲の整数、より好ましくは0〜2の範囲の整数、さらに好ましくは0又は1、さらにより好ましくは0である。sが0である式(3)又は式(3’)で表される構成単位は、例えばテレフタル酸又はイソフタル酸に由来する構成単位であり、該構成単位は特に、式(3)又は式(3’)中のsが0及びuが0である構成単位であることが好ましい。透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を向上しやすい観点から、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂はテレフタル酸に由来する構成単位を含むことが好ましい。ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂はZにおいて、式(3)又は式(3’)で表される構成単位を1種又は2種類以上含んでいてもよい。透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性の向上、黄色度(以下、YI値と略すことがある)低減の観点からは、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂はZにおいて、式(3)中又は式(3’)中のsの値が異なる2種類以上の構成単位を含むことが好ましく、式(3)又は式(3’)中のsの値が異なる2種類又は3種類の構成単位を含むことがより好ましい。この場合、透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を高めやすい観点、並びに、透明樹脂フィルムのYI値を低減しやすい観点から、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂が式(2)で表される構成単位におけるZとして、sが0である式(3)で表される構造を含有し、該構造を含む構成単位に加えてsが1である式(3)で表される構造を含む構成単位をさらに含有することがさらに好ましい。また、sが0である式(3)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位に加えて、上記の式(d1)で表される構成単位をさらに有することも好ましい。 The s in the formula (3) and the formula (3') is an integer in the range of 0 to 4, and when s is in this range, various physical properties of the transparent resin film can be easily improved. , Preferably an integer in the range 0-3, more preferably an integer in the range 0-2, even more preferably 0 or 1, even more preferably 0. The structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 is, for example, a structural unit derived from terephthalic acid or isophthalic acid, and the structural unit is particularly the formula (3) or the formula (3). It is preferable that s in 3') is 0 and u is 0. From the viewpoint of easily improving various chemical properties and physical properties of the transparent resin film, the polyamide-imide resin or the polyamide-based resin preferably contains a structural unit derived from terephthalic acid. The polyamide-imide resin or the polyamide-based resin may contain one or more structural units represented by the formula (3) or the formula (3') in Z. From the viewpoint of improving various chemical properties and physical properties of the transparent resin film and reducing the yellowness (hereinafter, may be abbreviated as YI value), the polyamide-imide resin or the polyamide-based resin is represented by the formula (3) in Z. It is preferable to include two or more kinds of structural units having different values of s in the formula (3'), and two or three kinds of configurations having different values of s in the formula (3) or the formula (3'). It is more preferable to include the unit. In this case, the polyamide-imide resin or the polyamide-based resin is represented by the formula (2) from the viewpoint of easily enhancing various chemical properties and physical properties of the transparent resin film and easily reducing the YI value of the transparent resin film. As Z in the structural unit to be formed, a structure represented by the formula (3) in which s is 0 is contained, and a structure represented by the formula (3) in which s is 1 in addition to the structural unit containing the structure is used. It is more preferable to further contain the containing structural unit. Further, in addition to the structural unit represented by the formula (2) having Z represented by the formula (3) in which s is 0, it is also preferable to further have the structural unit represented by the above formula (d1). ..
本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂は、式(3)又は式(3’)で表される構成単位として、s=0であり、かつu=0である構成単位を有する。本発明のより好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂は、式(3)又は式(3’)で表される構成単位として、s=0であり、かつu=0である構成単位と、式(3’’):
ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂が、式(3)又は式(3’)で表される構成単位を有する場合、その割合は、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、好ましくは20モル%以上、より好ましくは30モル%以上、さらに好ましくは40モル%以上、さらにより好ましくは50モル%以上、とりわけ好ましくは60モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは85モル%以下、さらに好ましくは80モル%以下である。式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を高めやすい。式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。 When the polyamideimide resin or the polyamide-based resin has a structural unit represented by the formula (3) or the formula (3'), the ratio thereof is the configuration represented by the formula (1) of the polyamideimide resin or the polyamide-based resin. When the total of the units and the constituent units represented by the formula (2) is 100 mol%, it is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, still more preferably 40 mol% or more, still more preferably. It is 50 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, still more preferably 80 mol% or less. When the ratio of the structural units represented by the formula (3) or the formula (3') is at least the above lower limit, various chemical properties and physical properties of the transparent resin film can be easily enhanced. When the ratio of the structural units represented by the formula (3) or the formula (3') is not more than the above upper limit, the increase in the viscosity of the resin-containing varnish due to the hydrogen bond between the amide bonds derived from the formula (3) is suppressed, and the film is formed. It is easy to improve the workability of.
また、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂がs=1〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位を有する場合、sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合は、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、好ましくは3モル%以上、より好ましくは5モル%以上、さらに好ましくは7モル%以上、さらにより好ましくは9モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは70モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下、さらにより好ましくは30モル%以下である。sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を高めやすい。sが1〜4である式(3)で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)又は式(3’)で表される構成単位由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお、式(1)、式(2)、式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合は、例えば1H−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 Further, when the polyamideimide resin or the polyamide-based resin has a structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in which s = 1 to 4, the formula (3) or the formula in which s is 1 to 4 is obtained. As for the ratio of the structural units represented by (3'), the total of the structural units represented by the formula (1) and the structural units represented by the formula (2) of the polyamideimide resin or the polyamide-based resin is 100 mol%. When it is, it is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, further preferably 7 mol% or more, still more preferably 9 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol. % Or less, more preferably 50 mol% or less, even more preferably 30 mol% or less. When the ratio of the structural units represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4 is not more than the above lower limit, various chemical properties and physical properties of the transparent resin film can be easily enhanced. .. When the ratio of the structural unit represented by the formula (3) in which s is 1 to 4 is not more than the above upper limit, the hydrogen between amide bonds derived from the structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') It is easy to improve the processability of the film by suppressing the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to bonding. The ratio of the structural units represented by the formula (1), the formula (2), the formula (3) or the formula (3') can be measured by using, for example, 1 1 H-NMR, or the raw material is charged. It can also be calculated from the ratio.
本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂中のZの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは40モル%以上、さらに好ましくは45モル%以上、さらにより好ましくは50モル%以上が、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位である。Zの上記の下限以上が、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位であると、透明樹脂フィルムの種々の物理的特性を高めやすい。また、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂中のZの100モル%以下が、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位であればよい。なお、樹脂中の、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合は、例えば1H−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, still more preferably 45 mol% or more, still more preferably 50 mol% of Z in the polyamide-imide resin or the polyamide-based resin. % Or more is a structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4. When the above lower limit of Z or more is a structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4, various physical properties of the transparent resin film can be easily enhanced. Further, 100 mol% or less of Z in the polyamide-imide resin or the polyamide-based resin may be a structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4. The ratio of the structural units represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4 in the resin can be measured by using, for example, 1 1 H-NMR, or the raw material. It can also be calculated from the charge ratio.
本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂中のZの、好ましくは5モル%以上、より好ましくは8モル%以上、さらに好ましくは10モル%以上、さらにより好ましくは12モル%以上が、sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される。ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂のZの上記の下限以上が、sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される場合、透明樹脂フィルムの種々の物理的特性を高めやすい。また、Zの、好ましくは90モル%以下、より好ましくは70モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下、さらにより好ましくは30モル%以下が、sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される。Zの上記の上限以下が、sが1〜4である式(3)で表される場合、sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお樹脂中のsが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合は、例えば1H−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, still more preferably 10 mol% or more, still more preferably 12 mol% of Z in the polyamide-imide resin or the polyamide-based resin. % Or more is represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4. When the above lower limit or more of Z of the polyamide-imide resin or the polyamide-based resin is represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4, various physical properties of the transparent resin film are enhanced. Cheap. Further, the formula (3) or the formula (3) in which s is 1 to 4 in Z, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, still more preferably 30 mol% or less. It is represented by the formula (3'). When the above upper limit or less of Z is represented by the formula (3) in which s is 1 to 4, it is derived from the structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4. It is easy to improve the processability of the film by suppressing the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to the hydrogen bond between the amide bonds. The ratio of the structural units represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4 in the resin can be measured by using, for example, 1 1 H-NMR, or the raw material charging ratio. It can also be calculated from.
式(1)及び式(2)において、Xは、互いに独立に、2価の有機基、好ましくは炭素数4〜40の2価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数4〜40の2価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。本発明の一実施形態において、本発明のポリアミドイミド樹脂は、複数種のXを含み得、複数種のXは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Xとしては、式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)〜式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formulas (1) and (2), X is a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a cyclic structure having 4 to 40 carbon atoms, independently of each other. Represents a divalent organic group of. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. In the organic group, the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine, in which case the number of carbon atoms of the hydrocarbon group and the hydrocarbon group substituted with fluorine is preferable. Is 1 to 8. In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin of the present invention may contain a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same as or different from each other. X is represented by the formula (10), the formula (11), the formula (12), the formula (13), the formula (14), the formula (15), the formula (16), the formula (17) and the formula (18). Groups; Groups in which the hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and a chain having 6 or less carbon atoms. The formula hydrocarbon group is exemplified.
式(10)〜式(18)中、*は結合手を表し、
V1、V2及びV3は、互いに独立に、単結合、−O−、−S−、−CH2−、−CH2−CH2−、−CH(CH3)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−SO2−、−CO−又は−N(Q)−を表す。ここで、Qはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、R9について上記に述べた基が挙げられる。
1つの例は、V1及びV3が単結合、−O−又は−S−であり、かつ、V2が−CH2−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−又は−SO2−である。V1とV2との各環に対する結合位置、及び、V2とV3との各環に対する結合位置は、互いに独立に、各環に対して好ましくはメタ位又はパラ位、より好ましくはパラ位である。
In equations (10) to (18), * represents a bond,
V 1, V 2 and V 3 independently of one another, a single bond, -O -, - S -, - CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3 ) Represents 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -CO- or -N (Q)-. Here, Q represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the groups mentioned above for R 9.
In one example, V 1 and V 3 are single bonds, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2. -Or -SO 2- . The bonding positions of V 1 and V 2 with respect to each ring and the bonding positions of V 2 and V 3 with respect to each ring are independent of each other, preferably in the meta position or para position with respect to each ring, and more preferably in the para position. It is a place.
式(10)〜式(18)で表される基の中でも、透明樹脂フィルムの種々の物理的特性を高めやすい観点から、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及び式(17)で表される基が好ましく、式(14)、式(15)及び式(16)で表される基がより好ましい。また、V1、V2及びV3は、透明樹脂フィルムの種々の物理的特性を高めやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、−O−又は−S−、より好ましくは単結合又は−O−である。 Among the groups represented by the formulas (10) to (18), the formulas (13), the formula (14), the formula (15), and the formula (16) are used from the viewpoint of easily enhancing various physical properties of the transparent resin film. ) And the group represented by the formula (17) are preferable, and the group represented by the formula (14), the formula (15) and the formula (16) is more preferable. Further, V 1 , V 2 and V 3 are independent of each other, preferably single-bonded, -O- or -S-, more preferably single-bonded or, from the viewpoint of easily enhancing various physical properties of the transparent resin film. -O-.
本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂及びポリイミド系樹脂は、式(1)中のX又は式(2)中のXとして、式(4):
で表される構造を含む。式(1)及び式(2)で表される複数の構成単位中のXの少なくとも一部が式(4)で表される構造であると、透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を高めやすい。
In a preferred embodiment of the present invention, the polyamide-based resin and the polyimide-based resin are represented by X in the formula (1) or X in the formula (2), and the formula (4):
Includes the structure represented by. When at least a part of X in the plurality of structural units represented by the formulas (1) and (2) has a structure represented by the formula (4), various chemical properties and physical properties of the transparent resin film are obtained. It is easy to improve the characteristics.
式(4)において、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16及びR17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基としては、式(3)における炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基として例示した基が挙げられる。R10〜R17は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、ここで、R10〜R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R10〜R17は、互いに独立に、透明樹脂フィルムの種々の物理的特性の観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、さらにより好ましくはR10、R12、R13、R14、R15及びR16が水素原子、R11及びR17が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR11及びR17がメチル基又はトリフルオロメチル基である。 In formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are independent of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 carbon atom. Represents an alkoxy group of ~ 6 or an aryl group of 6-12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3). Examples thereof include groups exemplified as groups or aryl groups having 6 to 12 carbon atoms. R 10 to R 17 represent independently of each other, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and here, R 10 to R 17 The hydrogen atoms contained in the above may be substituted with halogen atoms independently of each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. R 10 to R 17 are more preferably hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups, and even more preferably trifluoromethyl groups, independently of each other, from the viewpoint of various physical properties of the transparent resin film. R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are hydrogen atoms, and R 11 and R 17 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups, particularly preferably R. 11 and R 17 are methyl groups or trifluoromethyl groups.
本発明の好ましい一実施形態において、式(4)で表される構成単位は式(4’):
本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂中のXの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が式(4)、特に式(4’)で表される。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂における上記範囲内のXが式(4)、特に式(4’)で表される場合、得られる透明樹脂フィルムは、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、透明樹脂フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、透明樹脂フィルムの光学特性も向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂中のXの100モル%以下が式(4)、特に式(4’)で表される。上記樹脂中のXは式(4)、特に式(4’)であってもよい。上記樹脂中のXの式(4)で表される構成単位の割合は、例えば1H−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, the formula (4), preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, of X in the polyimide resin or the polyamide resin. In particular, it is represented by the equation (4'). When X in the above range in the polyimide resin or the polyamide resin is represented by the formula (4), particularly the formula (4'), the obtained transparent resin film has a skeleton containing a fluorine element to be used as a resin solvent. It is easy to increase the solubility and improve the storage stability of the varnish containing the resin, and it is easy to reduce the viscosity of the varnish and improve the processability of the transparent resin film. Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the transparent resin film. It should be noted that preferably, 100 mol% or less of X in the polyimide resin or the polyamide resin is represented by the formula (4), particularly the formula (4'). X in the resin may be of formula (4), especially of formula (4'). The ratio of the structural unit represented by the formula (4) of X in the resin can be measured by using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.
式(1)において、Yは、4価の有機基、好ましくは炭素数4〜40の4価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数4〜40の4価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられ、耐衝撃性及び弾性率を高めやすい観点からは、好ましくは芳香環が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Yとしては、以下の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基;該式(20)〜式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In the formula (1), Y represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably a tetravalent organic group having a cyclic structure and having 4 to 40 carbon atoms. Represent. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure, and an aromatic ring is preferably used from the viewpoint of easily increasing impact resistance and elastic modulus. The organic group is an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, in which case the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group The number of carbon atoms is preferably 1-8. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same as or different from each other. As Y, the following formulas (20), formulas (21), formulas (22), formulas (23), formulas (24), formulas (25), formulas (26), formulas (27), formulas (28) And a group represented by the formula (29); a group in which the hydrogen atom in the groups represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; In addition, a chain hydrocarbon group having 4 or less valences of 6 carbon atoms is exemplified.
式(20)〜式(29)中、*は結合手を表し、W1は、単結合、−O−、−CH2−、−CH2−CH2−、−CH(CH3)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−Ar−、−SO2−、−CO−、−O−Ar−O−、−Ar−O−Ar−、−Ar−CH2−Ar−、−Ar−C(CH3)2−Ar−又は−Ar−SO2−Ar−を表す。Arは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。 In the formula (20) to (29), * represents a bond, W 1 is a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar- CH 2 -Ar -, - Ar- C (CH 3) represents a 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group.
式(20)〜式(29)で表される基の中でも、透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を高めやすい観点から、式(26)、式(28)又は式(29)で表される基が好ましく、式(26)で表される基がより好ましい。また、W1は、透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を高めやすいと共に、透明樹脂フィルムのYI値を低減しやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、−O−、−CH2−、−CH2−CH2−、−CH(CH3)−、−C(CH3)2−又は−C(CF3)2−、より好ましくは単結合、−O−、−CH2−、−CH(CH3)−、−C(CH3)2−又は−C(CF3)2−、さらに好ましくは単結合、−C(CH3)2−又は−C(CF3)2−、最も好ましくは単結合又は−C(CF3)2−である。 Among the groups represented by the formulas (20) to (29), the formula (26), the formula (28) or the formula (29) from the viewpoint of easily enhancing various chemical properties and physical properties of the transparent resin film. The group represented by the formula (26) is preferable, and the group represented by the formula (26) is more preferable. Further, W 1 is independent of each other, preferably single bond, −O−, from the viewpoint of easily enhancing various chemical properties and physical properties of the transparent resin film and easily reducing the YI value of the transparent resin film. -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 - or -C (CF 3) 2 -, more preferably a single bond, -O -, - CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2- , more preferably single bond, -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3) ) 2- , most preferably single bond or -C (CF 3 ) 2- .
本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(26)で表される。ポリイミド系樹脂における上記範囲内のYが式(26)、好ましくはW1が単結合、−C(CH3)2−又は−C(CF3)2−である式(26)、より好ましくはW1が単結合又は−C(CF3)2−である式(26)で表されると、透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を高めやすいと共に、透明樹脂フィルムのYI値を低減しやすい。ポリイミド系樹脂中のYが式(26)で表される構成単位の割合は、例えば1H−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Y in the polyimide resin is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, represented by the formula (26). Y is the formula in the range of polyimide resin (26) is preferably W 1 is a single bond, -C (CH 3) 2 - or -C (CF 3) 2 - a is the formula (26), more preferably When W 1 is represented by the formula (26), which is a single bond or −C (CF 3 ) 2−, it is easy to enhance various chemical and physical properties of the transparent resin film, and the YI value of the transparent resin film is high. Is easy to reduce. The ratio of the structural unit in which Y in the polyimide resin is represented by the formula (26) can be measured using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.
本発明の好ましい一実施形態において、複数の式(1)中のYの少なくとも一部は、式(5):
及び/又は式(9)
で表される。複数の式(1)中のYの少なくとも一部が式(5)で表される、及び/又は、式(9)で表されると、透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を向上させやすい。
In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of Y in the plurality of formulas (1) is the formula (5) :.
And / or formula (9)
It is represented by. When at least a part of Y in the plurality of formulas (1) is represented by the formula (5) and / or represented by the formula (9), various chemical and physical properties of the transparent resin film Easy to improve.
式(5)において、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24及びR25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基としては、式(3)における炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。R18〜R25は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、ここで、R18〜R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。R18〜R25は、互いに独立に、透明樹脂フィルムの種々の物理的特性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、よりさらに好ましくはR18、R19、R20、R23、R24及びR25が水素原子、R21及びR22が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR21及びR22がメチル基又はトリフルオロメチル基である。 In formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are independent of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 carbon atom. Represents an alkoxy group of ~ 6 or an aryl group of 6-12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3). Examples of groups or aryl groups having 6 to 12 carbon atoms can be mentioned above. R 18 to R 25 represent independently of each other, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and here, R 18 to R 25. The hydrogen atoms contained in the above may be substituted with halogen atoms independently of each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. R 18 to R 25 are more preferably hydrogen atoms from the viewpoint of easily enhancing various physical properties of the transparent resin film and easily enhancing the transparency and maintaining the transparency independently of each other. Methyl, fluoro, chloro or trifluoromethyl groups, more preferably R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R 22 are hydrogen atoms, It is a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and particularly preferably R 21 and R 22 are a methyl group or a trifluoromethyl group.
式(9)において、透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、R35〜R40は、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子である。ここで、R35〜R40に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R35〜R40における炭素数1〜6のアルキル基及び炭素数6〜12のアリール基としては、それぞれ上記に例示のものが挙げられる。 In the formula (9), from the viewpoint of easily enhancing various chemical properties and physical properties of the transparent resin film, and easily increasing the transparency and maintaining the transparency, R 35 to R 40 are It is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 35 to R 40 may be substituted with halogen atoms independently of each other, and examples of the halogen atoms include fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, and iodine atoms. .. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in R 35 to R 40 are exemplified above.
本発明の好ましい一実施形態においては、式(5)は式(5’)で表され、式(9)は式(9’):
本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(5)、特に式(5’)で表される。ポリイミド系樹脂における上記範囲内のYが式(5)、特に式(5’)で表されると、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの粘度を低減しやすく、透明樹脂フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、透明樹脂フィルムの光学特性を向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂中のYの100モル%以下が式(5)、特に式(5’)で表される。ポリイミド系樹脂中のYは式(5)、特に式(5’)であってもよい。ポリイミド系樹脂中のYの式(5)で表される構成単位の割合は、例えば1H−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Y in the polyimide resin is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, according to the formula (5), particularly the formula (5). It is represented by'). When Y in the above range in the polyimide resin is represented by the formula (5), particularly the formula (5'), the skeleton containing a fluorine element enhances the solubility of the polyimide resin in the solvent and contains the resin. It is easy to reduce the viscosity of the varnish and improve the processability of the transparent resin film. Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the transparent resin film. It should be noted that preferably, 100 mol% or less of Y in the polyimide resin is represented by the formula (5), particularly the formula (5'). Y in the polyimide resin may be of the formula (5), particularly the formula (5'). The ratio of the structural units represented by the formula (5) of Y in the polyimide resin can be measured using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.
本発明の好ましい一実施形態において、式(1)で表される複数の構成単位は、Yが式(5)で表される構成単位に加えて、Yが式(9)で表される構成単位をさらに含むことが好ましい。Yが式(9)で表される構成単位をさらに含む場合、透明樹脂フィルムの種々の物理的特性をさらに向上させやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the plurality of structural units represented by the formula (1) have a configuration in which Y is represented by the formula (9) in addition to the structural unit in which Y is represented by the formula (5). It is preferable to include more units. When Y further contains the structural unit represented by the formula (9), it is easy to further improve various physical properties of the transparent resin film.
ポリイミド系樹脂は、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むものであってもよく、また式(1)及び場合により式(2)で表される構成単位の他に、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むものであってもよい。
式(30)において、Y1は4価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Y1としては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基、該式(20)〜式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のY1を含み得、複数種のY1は、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In the formula (30), Y 1 is a tetravalent organic group, preferably an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine. Examples of Y 1 include formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and A group represented by the formula (29), a group in which the hydrogen atom in the groups represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a group. A chain hydrocarbon group having a tetravalent carbon number of 6 or less is exemplified. In one embodiment of the present invention, a polyimide resin may include a plurality of kinds of Y 1, Y 1 of the plural kinds may being the same or different.
式(31)において、Y2は3価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Y2としては、上記の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基、及び3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のY2を含み得、複数種のY2は、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In the formula (31), Y 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine. Examples of Y 2 include the above equations (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), and (28). ) And a group in which any one of the bonds of the group represented by the formula (29) is replaced with a hydrogen atom, and a chain hydrocarbon group having a trivalent carbon number of 6 or less are exemplified. In one embodiment of the present invention, a polyimide resin may include a plurality of kinds of Y 2, Y 2 a plurality of species may be be the same or different from each other.
式(30)及び式(31)において、X1及びX2は、互いに独立に、2価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。X1及びX2としては、上記の式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)〜式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formulas (30) and (31), X 1 and X 2 are divalent organic groups independently of each other, and preferably a hydrocarbon group in which a hydrogen atom in the organic group is substituted with a hydrocarbon group or fluorine. It is an organic group that may be substituted with. Examples of X 1 and X 2 include the above equations (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17) and A group represented by the formula (18); a group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; A chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.
本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式(1)及び/又は式(2)で表される構成単位、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される構成単位からなる。また、透明樹脂フィルムの光学特性や種々の物理的特性を高めやすい観点から、上記ポリイミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び式(31)で表される全構成単位に基づいて、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モル%以上である。なお、ポリイミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される全構成単位に基づいて、通常100%以下である。なお、上記割合は、例えば、1H−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the polyimide resin is a structural unit represented by the formulas (1) and / or the formula (2), and optionally a configuration represented by the formulas (30) and / or the formula (31). It consists of units. Further, from the viewpoint of easily enhancing the optical properties and various physical properties of the transparent resin film, the proportions of the structural units represented by the formulas (1) and (2) in the polyimide resin are the formulas (1) and. Based on the formula (2), and optionally all the structural units represented by the formulas (30) and (31), preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, still more preferably 95 mol% or more. Is. In the polyimide resin, the proportions of the structural units represented by the formulas (1) and (2) are the formulas (1) and (2), and in some cases, the formulas (30) and / or the formula (31). It is usually 100% or less based on all the structural units represented by. The above ratio can be measured using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the raw material charging ratio.
本発明の一実施形態において、透明樹脂フィルム中におけるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量は、透明樹脂フィルム100質量部に対して、好ましくは10質量部以上、より好ましくは30質量部以上、さらに好ましくは50質量部以上であり、好ましくは99.5質量部以下、より好ましくは95質量部以下である。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量が上記範囲内であると、透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を向上させやすい。 In one embodiment of the present invention, the content of the polyimide resin and / or the polyamide resin in the transparent resin film is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the transparent resin film. As mentioned above, it is more preferably 50 parts by mass or more, preferably 99.5 parts by mass or less, and more preferably 95 parts by mass or less. When the content of the polyimide resin and / or the polyamide resin is within the above range, various chemical properties and physical properties of the transparent resin film can be easily improved.
ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量(Mw)は、透明樹脂フィルムの種々の化学的特性及び物理的特性を高めやすい観点から、標準ポリスチレン換算で、好ましくは200,000以上、より好ましくは230,000以上、さらに好ましくは250,000以上、さらにより好ましくは270,000以上、とりわけ好ましくは280,000以上である。また、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、該樹脂の溶媒に対する溶解性を向上しやすいと共に、透明樹脂フィルムの延伸性及び加工性を向上しやすい観点から、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは800,000以下、さらに好ましくは700,000以下、さらにより好ましくは500,000以下である。重量平均分子量は、例えばGPC測定を行い、標準ポリスチレン換算によって求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出してよい。 The weight average molecular weight (Mw) of the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 200,000 or more, more preferably 200,000 or more in terms of standard polystyrene from the viewpoint of easily enhancing various chemical properties and physical properties of the transparent resin film. It is 230,000 or more, more preferably 250,000 or more, even more preferably 270,000 or more, and particularly preferably 280,000 or more. The weight average molecular weight of the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 1,000, from the viewpoints that the solubility of the resin in a solvent is easily improved and the stretchability and processability of the transparent resin film are easily improved. It is 000 or less, more preferably 800,000 or less, still more preferably 700,000 or less, and even more preferably 500,000 or less. The weight average molecular weight can be determined by, for example, GPC measurement and standard polystyrene conversion, and may be calculated by, for example, the method described in Examples.
ポリアミドイミド樹脂において、式(2)で表される構成単位の含有量は、式(1)で表される構成単位1モルに対して、好ましくは0.1モル以上、より好ましくは0.5モル以上、さらに好ましくは1.0モル以上、さらにより好ましくは1.5モル以上であり、好ましくは6.0モル以下、より好ましくは5.0モル以下、さらに好ましくは4.5モル以下である。式(2)で表される構成単位の含有量が上記の下限以上であると、透明樹脂フィルムの種々の物理的特性を高めやすい。また、式(2)で表される構成単位の含有量が上記の上限以下であると、式(2)中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、透明樹脂フィルムの加工性を向上させやすい。 In the polyamide imide resin, the content of the structural unit represented by the formula (2) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol or more, with respect to 1 mol of the structural unit represented by the formula (1). More than mol, more preferably 1.0 mol or more, even more preferably 1.5 mol or more, preferably 6.0 mol or less, more preferably 5.0 mol or less, still more preferably 4.5 mol or less. is there. When the content of the structural unit represented by the formula (2) is at least the above lower limit, various physical properties of the transparent resin film can be easily enhanced. Further, when the content of the structural unit represented by the formula (2) is not more than the above upper limit, the thickening due to the hydrogen bond between the amide bonds in the formula (2) is suppressed, and the processability of the transparent resin film is improved. Easy to improve.
本発明の好ましい一実施形態において、透明樹脂フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂は、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂がハロゲン原子を含む場合、透明樹脂フィルムのYI値を低減させやすい。透明樹脂フィルムのYI値が低いと、該フィルムの透明性及び視認性を向上させやすくなる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。ポリイミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin and / or the polyamide resin contained in the transparent resin film contains a halogen atom such as a fluorine atom which can be introduced by, for example, the above-mentioned fluorine-containing substituent or the like. Good. When the polyimide resin and / or the polyamide resin contains a halogen atom, the YI value of the transparent resin film can be easily reduced. When the YI value of the transparent resin film is low, it becomes easy to improve the transparency and visibility of the film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. Preferred fluorine-containing substituents for containing a fluorine atom in the polyimide resin include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.
ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、それぞれ、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは1〜40質量%、より好ましくは5〜40質量%、さらに好ましくは5〜30質量%である。ハロゲン原子の含有量が上記の下限以上であると、透明樹脂フィルムのYI値をより低減し、透明性及び視認性をより向上させやすい。ハロゲン原子の含有量が上記の上限以下であると、合成がしやすくなる。 The content of halogen atoms in the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, still more preferably 5 to 40% by mass, based on the mass of the polyimide resin and the polyamide resin, respectively. It is 5 to 30% by mass. When the content of the halogen atom is at least the above lower limit, the YI value of the transparent resin film is further reduced, and the transparency and visibility are more likely to be improved. When the content of halogen atoms is not more than the above upper limit, synthesis becomes easy.
ポリイミド系樹脂及びポリアミドイミド樹脂のイミド化率は、好ましくは90%以上、より好ましくは93%以上、さらに好ましくは96%以上である。透明樹脂フィルムの光学特性を高めやすい観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。また、イミド化率の上限は100%以下である。イミド化率は、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリイミド系樹脂がトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。また、イミド化率は、IR法、NMR法などにより求めることができる。 The imidization ratio of the polyimide resin and the polyamide-imide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, still more preferably 96% or more. From the viewpoint of easily improving the optical characteristics of the transparent resin film, the imidization ratio is preferably at least the above lower limit. The upper limit of the imidization rate is 100% or less. The imidization ratio indicates the ratio of the molar amount of the imide bond in the polyimide resin to twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin. When the polyimide resin contains a tricarboxylic acid compound, the value is twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin, and the molar amount of the structural unit derived from the tricarboxylic acid compound. The ratio of the molar amount of the imide bond in the polyimide resin to the total of the above is shown. The imidization rate can be determined by an IR method, an NMR method, or the like.
ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂として、市販品を使用してもよい。ポリイミド樹脂の市販品としては、例えば三菱瓦斯化学(株)製ネオプリム(登録商標)、河村産業(株)製KPI−MX300F等が挙げられる。 Commercially available products may be used as the polyimide resin and the polyamide resin. Examples of commercially available polyimide resins include Neoprim (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Ltd., KPI-MX300F manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd., and the like.
本発明において、透明樹脂フィルムは、ポリアミド系樹脂を含んでいてもよい。本実施形態に係るポリアミド系樹脂は、式(2)で表される繰り返し構成単位を主とする重合体である。ポリアミド系樹脂における式(2)中のZの好ましい例及び具体例は、ポリイミド系樹脂におけるZの好ましい例及び具体例と同じである。前記ポリアミド系樹脂は、Zが異なる2種類以上の式(2)で表される繰り返し構成単位を含んでいてもよい。 In the present invention, the transparent resin film may contain a polyamide resin. The polyamide-based resin according to this embodiment is a polymer mainly composed of a repeating structural unit represented by the formula (2). Preferred examples and specific examples of Z in the formula (2) in the polyamide-based resin are the same as preferable examples and specific examples of Z in the polyimide-based resin. The polyamide-based resin may contain two or more types of repeating structural units represented by the formula (2) having different Z's.
(樹脂の製造方法)
ポリイミド樹脂及びポリイミド前駆体樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミドイミド樹脂及びポリアミドイミド前駆体樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミド樹脂は、例えば、ジアミン化合物及びジカルボン酸化合物を主な原料として製造できる。ここで、ジカルボン酸化合物は少なくとも式(3”)で表される化合物を含むことが好ましい。
Aは、単結合、−O−、−CH2−、−CH2−CH2−、−CH(CH3)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−SO2−、−S−、−CO−又は−N(R9)−を表し、
R9は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表し、
mは0〜4の整数であり、
R31及びR32は、互いに独立に、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基又は塩素原子を表す。]
(Resin manufacturing method)
The polyimide resin and the polyimide precursor resin can be produced, for example, using a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials, and the polyamide-imide resin and the polyamide-imide precursor resin can be produced, for example, by a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound and a diamine compound. Can be produced as a main raw material, and the polyamide resin can be produced, for example, using a diamine compound and a dicarboxylic acid compound as main raw materials. Here, the dicarboxylic acid compound preferably contains at least a compound represented by the formula (3 ").
A represents a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - Represents SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-
R 9 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom.
m is an integer from 0 to 4
R 31 and R 32 independently represent a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group or a chlorine atom. ]
本発明の好ましい一実施形態において、ジカルボン酸化合物は、mが0である、式(3”)で表される化合物である。ジカルボン酸化合物として、mが0である式(3”)で表される化合物に加えて、Aが酸素原子である式(3”)で表される化合物を使用することがより好ましい。また、別の好ましい一実施形態においては、ジカルボン酸化合物は、R31及びR32が塩素原子である、式(3”)で表される化合物である。また、ジアミン化合物に代えて、ジイソシアネート化合物を用いてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by the formula (3 ") in which m is 0. The dicarboxylic acid compound is represented by the formula (3") in which m is 0. It is more preferable to use a compound represented by the formula (3 ″) in which A is an oxygen atom in addition to the compound to be used. In another preferred embodiment, the dicarboxylic acid compound is R 31 and It is a compound represented by the formula (3 ″) in which R 32 is a chlorine atom. Further, a diisocyanate compound may be used instead of the diamine compound.
樹脂の製造に使用されるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環が例示される。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。 Examples of the diamine compound used in the production of the resin include aliphatic diamines, aromatic diamines and mixtures thereof. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and an aliphatic group or other substituent may be contained in a part of the structure. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring. Among these, a benzene ring is preferably exemplified. Further, the "aliphatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be contained as a part of the structure thereof.
脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。 Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine and 4,4'. − Examples thereof include cyclic aliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane. These can be used alone or in combination of two or more.
芳香族ジアミンとしては、例えばp−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−トルエンジアミン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMBと記載することがある)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylene diamine, p-xylylene diamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene and the like. , 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'- Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4) -Aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (with TFMB) (May be described), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene , 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene, and other aromatic diamines having two or more aromatic rings. These can be used alone or in combination of two or more.
芳香族ジアミンは、好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルであり、より好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルである。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 The aromatic diamines are preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3 , 3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2 , 2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis ( Trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl. Propane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'- Biphenyl (4-aminophenoxy) biphenyl. These can be used alone or in combination of two or more.
上記ジアミン化合物の中でも、透明樹脂フィルムの種々の物理的特性高の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル及び4,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上を用いることがより好ましく、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)を用いることがよりさらに好ましい。 Among the above diamine compounds, from the viewpoint of various high physical properties of the transparent resin film, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure. One selected from the group consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether. It is more preferable to use the above, and it is even more preferable to use 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB).
樹脂の製造に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物;及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 Examples of the tetracarboxylic acid compound used in the production of the resin include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. Be done. The tetracarboxylic acid compound may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic dian compound may be a tetracarboxylic dian compound analog such as an acid chloride compound in addition to the dianhydride.
芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDAと記載することがある)、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 Specific examples of aromatic tetracarboxylic dianhydrides include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, and condensed polycyclic aromatic tetraides. Examples include carboxylic dianhydride. Examples of the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 2,2. ', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride , 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-di) Describe as carboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (6FDA). There are), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,) 4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3) Examples thereof include −dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride. Examples of the monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride, and the condensed polycyclic aromatic dianhydride dianhydride. Examples thereof include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride.
これらの中でも、好ましくは4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物及び4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Among these, preferably 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride. Anhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyl Sulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2- Bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propanedianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride (6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) Etan dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3) , 4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4'-(p-) Examples thereof include phenylenedioxy) diphthalic dianhydride and 4,4'-(m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, more preferably 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',. 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride (6FDA) , Bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride and 4,4'-(p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more.
脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び1,2,3,4−ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。 Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride. The cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride such as 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2] .2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride and their positional isomers are listed. Be done. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Further, a cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride may be used in combination.
上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、透明樹脂フィルムの種々の物理的特性及び高透明性の観点から、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましく、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及び4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物がより好ましく、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)がさらに好ましい。 Among the above tetracarboxylic dianhydrides, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenonetetra from the viewpoint of various physical properties and high transparency of the transparent resin film. Carcarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4 '-Diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propanedianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, and these A mixture is preferable, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, and a mixture thereof are more preferable, 4,4. More preferred are'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride (6FDA) and 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA).
樹脂の製造に用いられるジカルボン酸化合物としては、好ましくはテレフタル酸、イソフタル酸、4,4’−オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物が用いられる。テレフタル酸、イソフタル酸、4,4’−オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物に加えて、他のジカルボン酸化合物が用いられてもよい。他のジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、イソフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’−ビフェニルジカルボン酸;3,3’−ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び2つの安息香酸が単結合、−CH2−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−SO2−又はフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロリド化合物が挙げられる。具体例としては、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)、テレフタロイルクロリド又はイソフタロイルクロリドが好ましく、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)とテレフタロイルクロリドとを組合せて用いることがさらに好ましい。 As the dicarboxylic acid compound used in the production of the resin, terephthalic acid, isophthalic acid, 4,4'-oxybis benzoic acid or an acid chloride compound thereof is preferably used. In addition to terephthalic acid, isophthalic acid, 4,4'-oxybis benzoic acid or their acid chloride compounds, other dicarboxylic acid compounds may be used. Examples of other dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include a dicarboxylic acid compound of isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms, and two benzoic acids. Examples thereof include compounds in which is single-bonded, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or phenylene groups, and their acid chloride compounds. As a specific example, 4,4'-oxybis (benzoyl chloride), terephthaloyl chloride or isophthaloyl chloride are preferable, and 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride can be used in combination. More preferred.
なお、上記ポリイミド系樹脂は、透明樹脂フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記テトラカルボン酸化合物に加えて、テトラカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体をさらに反応させたものであってもよい。 The polyimide resin is obtained by further reacting tetracarboxylic acid and tricarboxylic acid and their anhydrides and derivatives in addition to the tetracarboxylic acid compound as long as the various physical properties of the transparent resin film are not impaired. You may.
テトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。 Examples of the tetracarboxylic acid include a water adduct of the anhydride of the tetracarboxylic acid compound.
トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、1,2,4−ベンゼントリカルボン酸の無水物;1,3,5−ベンゼントリカルボン酸の無水物;2,3,6−ナフタレントリカルボン酸−2,3−無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、−O−、−CH2−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−SO2−又はフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include an anhydride of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; an anhydride of 1,3,5-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; phthalic acid. A compound in which an anhydride and benzoic acid are single-bonded, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or a phenylene group is linked. Can be mentioned.
樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及び/又はジカルボン酸化合物の使用量は、所望とするポリイミド系樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。 In the production of the resin, the amount of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and / or the dicarboxylic acid compound used can be appropriately selected according to the ratio of each structural unit of the desired polyimide resin.
樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば5〜350℃、好ましくは20〜200℃、より好ましくは25〜100℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば30分〜10時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。好ましい態様では、反応は、常圧及び/又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒;N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。 In the production of the resin, the reaction temperature of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is, for example, 5 to 350 ° C., preferably 20 to 200 ° C., and more preferably 25 to 100 ° C. The reaction time is also not particularly limited, but is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be carried out under conditions of an inert atmosphere or reduced pressure. In a preferred embodiment, the reaction is carried out under normal pressure and / or an atmosphere of an inert gas with stirring. The reaction is preferably carried out in a solvent inert to the reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and for example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, etc. Alcohol-based solvents such as 2-butoxyethanol and propylene glycol monomethyl ether; ester-based solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; alicyclic hydrocarbon solvents such as ethyl cyclohexane; toluene and xylene Aromatic hydrocarbon solvents such as; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; amides such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide. System solvents; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, and sulfolane; carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these, an amide-based solvent can be preferably used from the viewpoint of solubility.
ポリイミド系樹脂の製造におけるイミド化工程では、イミド化触媒の存在下で、イミド化することができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン;N−エチルピペリジン、N−プロピルピペリジン、N−ブチルピロリジン、N−ブチルピペリジン、及びN−プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン(単環式);アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、アザビシクロ[3.2.1]オクタン、アザビシクロ[2.2.2]オクタン、及びアザビシクロ[3.2.2]ノナン等の脂環式アミン(多環式);並びにピリジン、2−メチルピリジン(2−ピコリン)、3−メチルピリジン(3−ピコリン)、4−メチルピリジン(4−ピコリン)、2−エチルピリジン、3−エチルピリジン、4−エチルピリジン、2,4−ジメチルピリジン、2,4,6−トリメチルピリジン、3,4−シクロペンテノピリジン、5,6,7,8−テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。 In the imidization step in the production of the polyimide resin, imidization can be performed in the presence of an imidization catalyst. Examples of imidization catalysts include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; N-ethylpiperidin, N-propylpiperidin, N-butylpyrrolidin, N-butylpiperidin, and N-propylhexahydro. Alicyclic amines such as azepine (monocyclic); azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and azabicyclo [3.2. 2] Alicyclic amines such as nonane (polycyclic); and pyridine, 2-methylpyridine (2-picolin), 3-methylpyridine (3-picolin), 4-methylpyridine (4-picolin), 2- Ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and Examples include aromatic amines such as isoquinolin. Further, from the viewpoint of easily promoting the imidization reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidization catalyst. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used in the imidization reaction, and specific examples thereof include acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride and other aliphatic acid anhydrides, and phthalic acid and other aromatics. Acid anhydride and the like can be mentioned.
ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により単離(分離精製)してもよく、好ましい態様では、透明ポリアミドイミド樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。 Polyimide-based resins and polyamide-based resins are isolated (separated and purified) by conventional methods, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, and column chromatography, or separation means combining these. In a preferred embodiment, a reaction solution containing a transparent polyamideimide resin can be isolated by adding a large amount of alcohol such as methanol to precipitate the resin, and performing concentration, filtration, drying and the like.
(透明樹脂フィルム)
本発明において、透明樹脂フィルムを構成する樹脂組成物におけるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量は、樹脂組成物の固形分に対して、好ましくは40質量%以上、より好ましくは50質量%以上、さらに好ましくは60質量%以上、さらにより好ましくは70質量%以上であり、100質量%であってもよい。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量が上記下限値以上であると、透明樹脂フィルムの屈曲性が良好である。なお、固形分とは、樹脂組成物から溶媒を除いた成分の合計量のことをいう。
(Transparent resin film)
In the present invention, the content of the polyimide resin and / or the polyamide resin in the resin composition constituting the transparent resin film is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass, based on the solid content of the resin composition. % Or more, more preferably 60% by mass or more, even more preferably 70% by mass or more, and may be 100% by mass. When the content of the polyimide resin and / or the polyamide resin is at least the above lower limit value, the flexibility of the transparent resin film is good. The solid content refers to the total amount of the components excluding the solvent from the resin composition.
本発明において、透明樹脂フィルムを形成する樹脂組成物は、上記ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂に加えて、無機粒子等の無機材料をさらに含有していてもよい。無機材料として、シリカ粒子、チタン粒子、水酸化アルミニウム、ジルコニア粒子、チタン酸バリウム粒子などの無機粒子、また、オルトケイ酸テトラエチル等の4級アルコキシシラン等のケイ素化合物が挙げられる。ワニスの安定性、無機材料の分散性の観点から、好ましくは、シリカ粒子、水酸化アルミニウム、ジルコニア粒子が挙げられ、さらに好ましくはシリカ粒子が挙げられる。 In the present invention, the resin composition for forming the transparent resin film may further contain an inorganic material such as inorganic particles in addition to the above-mentioned polyimide-based resin and / or polyamide-based resin. Examples of the inorganic material include inorganic particles such as silica particles, titanium particles, aluminum hydroxide, zirconia particles, and barium titanate particles, and silicon compounds such as quaternary alkoxysilane such as tetraethyl orthosilicate. From the viewpoint of the stability of the varnish and the dispersibility of the inorganic material, silica particles, aluminum hydroxide, and zirconia particles are preferable, and silica particles are more preferable.
無機材料粒子の平均一次粒子径は、好ましくは10〜100nm、より好ましくは10〜70nm、さらに好ましくは10〜50nm、さらにより好ましくは10〜30nmである。シリカ粒子の平均一次粒子径が前記の範囲にあると、透明性が向上する傾向があり、また、シリカ粒子の凝集力が弱まるために取り扱い易くなる傾向がある。 The average primary particle size of the inorganic material particles is preferably 10 to 100 nm, more preferably 10 to 70 nm, still more preferably 10 to 50 nm, and even more preferably 10 to 30 nm. When the average primary particle size of the silica particles is in the above range, the transparency tends to be improved, and the cohesive force of the silica particles is weakened, so that the silica particles tend to be easy to handle.
本発明においてシリカ粒子は、有機溶媒等にシリカ粒子を分散させたシリカゾルであっても、気相法で製造したシリカ微粒子粉末であってもよいが、ハンドリングが容易であることから、好ましくは液相法で製造したシリカゾルである。 In the present invention, the silica particles may be a silica sol in which silica particles are dispersed in an organic solvent or the like, or silica fine particle powder produced by a vapor phase method, but are preferably liquids because they are easy to handle. It is a silica sol produced by the phase method.
透明樹脂フィルム中のシリカ粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡による観察で求めることができる。透明樹脂フィルムを形成する前のシリカ粒子の粒度分布は、市販のレーザー回折式粒度分布計により求めることができる。 The average primary particle size of the silica particles in the transparent resin film can be determined by observation with a transmission electron microscope. The particle size distribution of the silica particles before forming the transparent resin film can be obtained by a commercially available laser diffraction type particle size distribution meter.
本発明において、樹脂組成物が無機材料を含む場合、その含有量は、樹脂組成物の固形分に対して、好ましくは0.001質量%以上90質量%以下、より好ましくは10質量%以上60質量%以下、さらに好ましくは20質量%以上50質量%以下である。樹脂組成物における無機材料の含有量が上記の範囲内であると、透明樹脂フィルムの透明性及び機械的強度を両立させやすい傾向がある。なお、固形分とは、樹脂組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。 In the present invention, when the resin composition contains an inorganic material, the content thereof is preferably 0.001% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 60, based on the solid content of the resin composition. It is mass% or less, more preferably 20 mass% or more and 50 mass% or less. When the content of the inorganic material in the resin composition is within the above range, the transparency and mechanical strength of the transparent resin film tend to be compatible with each other. The solid content refers to the total amount of the components excluding the solvent from the resin composition.
透明樹脂フィルムを構成する樹脂組成物は、以上説明した成分に加えて、他の成分をさらに含有していてもよい。他の成分としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、光安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、滑剤及びレベリング剤が挙げられる。 The resin composition constituting the transparent resin film may further contain other components in addition to the components described above. Other components include, for example, antioxidants, mold release agents, light stabilizers, bluing agents, flame retardants, lubricants and leveling agents.
本発明において樹脂組成物がポリイミド系樹脂等の樹脂成分及び無機材料以外の他の成分を含む場合、その他の成分の含有量は、透明樹脂フィルムの総質量に対して、好ましくは0.001質量%以上20質量%以下、より好ましくは0.001質量%以上10質量%以下である。 In the present invention, when the resin composition contains a resin component such as a polyimide resin and other components other than the inorganic material, the content of the other components is preferably 0.001 mass with respect to the total mass of the transparent resin film. % Or more and 20% by mass or less, more preferably 0.001% by mass or more and 10% by mass or less.
本発明において透明樹脂フィルムは、例えば、前記テトラカルボン酸化合物、前記ジアミン及び前記のその他の原料から選択して反応させて得られる、ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の反応液、必要に応じて無機材料及びその他の成分を含む樹脂組成物に、溶媒を加えて混合及び撹拌することにより調製される樹脂ワニスから製造することができる。前記樹脂組成物において、ポリイミド系樹脂等の反応液に変えて、購入したポリイミド系樹脂等の溶液や、購入した固体のポリイミド系樹脂等の溶液を用いてもよい。 In the present invention, the transparent resin film is, for example, a reaction solution of a polyimide resin and / or a polyamide resin obtained by selecting and reacting with the tetracarboxylic acid compound, the diamine and the other raw materials, if necessary. It can be produced from a resin varnish prepared by adding a solvent to a resin composition containing an inorganic material and other components, mixing and stirring. In the resin composition, a solution of the purchased polyimide resin or the like or a solution of the purchased solid polyimide resin or the like may be used instead of the reaction solution of the polyimide resin or the like.
樹脂ワニスを調製するために用いる溶媒としては、ポリイミド系樹脂等の樹脂成分を溶解又は分散させ得るものを適宜選択することができる。樹脂成分の溶解性、塗布性及び乾燥性等の観点から、前記有機溶媒の沸点は、好ましくは120〜300℃、より好ましくは120〜270℃、さらに好ましくは120〜250℃、とりわけ好ましくは120〜230℃である。そのような有機溶媒としては、具体的に例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒;γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒;シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒などが挙げられる。中でも、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂に対する溶解性に優れることから、N,N−ジメチルアセトアミド(沸点:165℃)、γ−ブチロラクトン(沸点:204℃)、N−メチルピロリドン(沸点:202℃)、酢酸ブチル(沸点:126℃)、シクロペンタノン(沸点:131℃)及び酢酸アミル(沸点:149℃)からなる群から選択される溶媒が好ましい。溶媒として、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組合せて用いてもよい。なお、2種以上の溶媒を用いる場合には、用いる溶媒の中で最も沸点の高い溶媒の沸点が上記範囲に入るよう溶媒の種類を選択することが好ましい。 As the solvent used for preparing the resin varnish, a solvent capable of dissolving or dispersing a resin component such as a polyimide resin can be appropriately selected. From the viewpoint of solubility, coatability, drying property and the like of the resin component, the boiling point of the organic solvent is preferably 120 to 300 ° C, more preferably 120 to 270 ° C, still more preferably 120 to 250 ° C, and particularly preferably 120. ~ 230 ° C. Specific examples of such an organic solvent include amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; and lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone. Ketone solvents such as cyclohexanone, cyclopentanone, and methyl ethyl ketone; acetate solvents such as butyl acetate and amyl acetate; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfoxide, and sulfolane, and carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate. And so on. Among them, N, N-dimethylacetamide (boiling point: 165 ° C.), γ-butyrolactone (boiling point: 204 ° C.), N-methylpyrrolidone (boiling point: 202 ° C.) because of its excellent solubility in polyimide-based resin and polyamide-based resin. , Butyl acetate (boiling point: 126 ° C.), cyclopentanone (boiling point: 131 ° C.) and amyl acetate (boiling point: 149 ° C.). As the solvent, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. When two or more kinds of solvents are used, it is preferable to select the type of solvent so that the boiling point of the solvent having the highest boiling point among the solvents used falls within the above range.
溶媒の量は、樹脂ワニスの取り扱いが可能な粘度になるように選択すればよく、特に制限はないが、例えば樹脂組成物の固形分100質量部に対して、好ましくは50〜95質量部、より好ましくは70〜95質量部、さらに好ましくは80〜95質量部である。 The amount of the solvent may be selected so as to have a viscosity that allows the resin varnish to be handled, and is not particularly limited. For example, the amount of the solvent is preferably 50 to 95 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the resin composition. It is more preferably 70 to 95 parts by mass, and further preferably 80 to 95 parts by mass.
乾燥後の透明樹脂フィルムの厚さは、透明樹脂フィルムの用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常10μm以上、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上、さらに好ましくは25μm以上、さらにより好ましくは30μm以上であり、通常300μm以下、好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下、さらに好ましくは80μm以下であり、さらにより好ましくは60μm以下であり、これらの上限と下限の組合せであってよい。透明樹脂フィルムの厚さが上記範囲内であると、透明樹脂フィルムの耐衝撃性をより高めやすい。なお、透明樹脂フィルムの厚さは、マイクロメーターを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。透明樹脂フィルムの厚さが上記範囲内にあると、透明樹脂フィルムの屈曲性が良好となる傾向がある。 The thickness of the transparent resin film after drying may be appropriately determined according to the intended use of the transparent resin film, but is usually 10 μm or more, preferably 15 μm or more, more preferably 20 μm or more, still more preferably 25 μm or more, still more. It is preferably 30 μm or more, usually 300 μm or less, preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less, still more preferably 80 μm or less, still more preferably 60 μm or less, and may be a combination of the upper limit and the lower limit thereof. .. When the thickness of the transparent resin film is within the above range, the impact resistance of the transparent resin film can be more easily improved. The thickness of the transparent resin film can be measured using a micrometer, for example, by the method described in Examples. When the thickness of the transparent resin film is within the above range, the flexibility of the transparent resin film tends to be good.
乾燥後の透明樹脂フィルムの全光線透過率は、好ましくは80%以上、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは88%以上、さらにより好ましくは89%以上、とりわけ好ましくは90%以上、とりわけより好ましくは91%以上であり、通常100%以下である。全光線透過率が上記の下限以上であると、透明樹脂フィルムを、特に前面板として、画像表示装置に組み込んだ際に視認性を高めやすい。本発明の透明樹脂フィルムは通常、高い全光線透過率を示すので、例えば、透過率の低いフィルムを用いた場合と比べて、一定の明るさを得るために必要な表示素子等の発光強度を抑えることが可能となる。このため、消費電力を削減することができる。例えば、本発明の透明樹脂フィルムを画像表示装置に組みこむ場合、バックライトの光量を減らしても明るい表示を得られる傾向があり、エネルギーの節約に貢献できる。なお、全光線透過率は、例えばJIS K 7105:1981又はJIS K 7361−1:1997に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定できる。また、全光線透過率は、後述する透明樹脂フィルムの厚さの範囲における全光線透過率であってよい。 The total light transmittance of the transparent resin film after drying is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 88% or more, even more preferably 89% or more, particularly preferably 90% or more, especially more. It is preferably 91% or more, and usually 100% or less. When the total light transmittance is equal to or higher than the above lower limit, it is easy to improve visibility when the transparent resin film is incorporated into an image display device, particularly as a front plate. Since the transparent resin film of the present invention usually exhibits a high total light transmittance, for example, the emission intensity of a display element or the like required to obtain a constant brightness can be determined as compared with the case where a film having a low transmittance is used. It becomes possible to suppress it. Therefore, power consumption can be reduced. For example, when the transparent resin film of the present invention is incorporated into an image display device, a bright display tends to be obtained even if the amount of light from the backlight is reduced, which can contribute to energy saving. The total light transmittance can be measured using a haze computer in accordance with, for example, JIS K 7105: 1981 or JIS K 7361-1: 1997. Further, the total light transmittance may be the total light transmittance in the range of the thickness of the transparent resin film described later.
乾燥後の透明樹脂フィルムのヘーズは、好ましくは3%以下、より好ましくは2.5%以下、さらに好ましくは1.5%以下、さらにより好ましくは1.0%以下、とりわけ好ましくは0.5%以下、とりわけより好ましくは0.3%以下であり、通常0.01%以上である。透明樹脂フィルムのヘーズが上記の上限以下であると、光学フィルムを、特に前面板として、画像表示装置に組み込んだ際に、視認性を高めやすい。なお、ヘーズは、JIS K 7105:1981又はJIS K 7136:2000に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定できる。 The haze of the transparent resin film after drying is preferably 3% or less, more preferably 2.5% or less, still more preferably 1.5% or less, still more preferably 1.0% or less, and particularly preferably 0.5. % Or less, more preferably 0.3% or less, usually 0.01% or more. When the haze of the transparent resin film is not more than the above upper limit, it is easy to improve the visibility when the optical film is incorporated into an image display device, particularly as a front plate. The haze can be measured using a haze computer in accordance with JIS K 7105: 1981 or JIS K 7136: 2000.
乾燥後の透明樹脂フィルムのYI値は、通常0.1以上であり、好ましくは3.0以下、より好ましくは2.5以下、さらに好ましくは2.2以下である。透明樹脂フィルムのYI値が上記の上限以下であると、透明性が良好となり、画像表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。なお、YI値は紫外可視近赤外分光光度計を用いて300〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、YI=100×(1.2769X−1.0592Z)/Yの式に基づいて算出できる。 The YI value of the transparent resin film after drying is usually 0.1 or more, preferably 3.0 or less, more preferably 2.5 or less, still more preferably 2.2 or less. When the YI value of the transparent resin film is not more than the above upper limit, the transparency becomes good, and it can contribute to high visibility when used for the front plate of the image display device. The YI value was measured by measuring the transmittance of light at 300 to 800 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer, and the tristimulus values (X, Y, Z) were obtained, and YI = 100 × (1.2769X−). It can be calculated based on the formula of 1.0592Z) / Y.
乾燥後の透明樹脂フィルムの引張弾性率は、傷付き等を防止しやすい観点から、好ましくは4.5GPa以上、より好ましくは5.0GPa以上、さらに好ましくは5.5GPa以上、さらにより好ましくは6.0GPa以上、とりわけ好ましくは6.2GPa以上、とりわけより好ましくは6.4GPa以上であり、通常100GPa以下である。なお、引張弾性率は、引張試験機(チャック間距離50mm、引張速度10mm/分)を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。
The tensile elastic modulus of the transparent resin film after drying is preferably 4.5 GPa or more, more preferably 5.0 GPa or more, still more preferably 5.5 GPa or more, still more preferably 6 from the viewpoint of easily preventing scratches and the like. It is 0.0 GPa or more, particularly preferably 6.2 GPa or more, particularly more preferably 6.4 GPa or more, and usually 100 GPa or less. The tensile elastic modulus can be measured using a tensile tester (distance between chucks 50 mm,
乾燥後の透明樹脂フィルムの溶媒含有量は、熱重量−示差熱測定(以下「TG−DTA測定」ということがある。)によって求められる120℃から250℃にかけての重量減少率Mによって求められ、好ましくは0.0001質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、さらに好ましくは0.3質量%以上であり、好ましくは2質量%以下、より好ましくは1.8質量%以下、さらに好ましくは1.7質量%以下、とりわけ好ましくは1.2質量%以下である。 The solvent content of the transparent resin film after drying is determined by the weight loss rate M from 120 ° C. to 250 ° C. determined by thermogravimetric-differential thermal measurement (hereinafter sometimes referred to as "TG-DTA measurement"). It is preferably 0.0001% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, still more preferably 0.3% by mass or more, preferably 2% by mass or less, more preferably 1.8% by mass or less, still more preferably. Is 1.7% by mass or less, particularly preferably 1.2% by mass or less.
<乾燥前のフィルムロールの製造方法>
本発明において用いられる本乾燥前(予備乾燥後)フィルムロールにおいて、その製造方法は特に限定されないが、例えば、次の工程:
(a)ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂、ならびに溶媒を少なくとも含有する樹脂ワニスを支持体上に塗布し、乾燥させ、塗膜を形成させる工程、
(b)支持体から塗膜を剥離する工程、
(c)剥離した塗膜をロール芯に卷回してフィルムロールを形成する工程
を少なくとも含む製造方法により製造することができる。
<Manufacturing method of film roll before drying>
The production method of the pre-drying (after pre-drying) film roll used in the present invention is not particularly limited, but for example, the following steps:
(A) A step of applying a polyimide resin and / or a polyamide resin and a resin varnish containing at least a solvent onto a support, drying the resin, and forming a coating film.
(B) Step of peeling the coating film from the support,
(C) It can be produced by a production method including at least a step of forming a film roll by winding the peeled coating film around a roll core.
上記の工程(a)で使用する樹脂ワニスは、ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂及び溶媒を少なくとも含有する。樹脂ワニスに含有される樹脂及び溶媒としては、透明樹脂フィルムに含まれる樹脂として上記に記載した樹脂が挙げられる。また、樹脂ワニスには、上記に述べた無機材料等の添加剤が含有されていてもよい。 The resin varnish used in the above step (a) contains at least a polyimide resin and / or a polyamide resin and a solvent. Examples of the resin and solvent contained in the resin varnish include the resins described above as the resin contained in the transparent resin film. Further, the resin varnish may contain additives such as the above-mentioned inorganic materials.
樹脂ワニスは、上記ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂、溶媒及び必要に応じて用いられる添加剤を混合し、撹拌することにより調製することができる。 The resin varnish can be prepared by mixing the above-mentioned polyimide-based resin and / or polyamide-based resin, solvent, and additives used as necessary, and stirring the mixture.
樹脂ワニスの粘度は、好ましくは5,000〜60,000cps、より好ましくは10,000〜50,000cps、さらに好ましくは15,000〜45,000cpsである。樹脂ワニスの粘度が上記の下限以上であると、本発明の効果を得やすく、上記の上限以下であると、樹脂ワニスのハンドリングを向上させやすい。 The viscosity of the resin varnish is preferably 5,000 to 60,000 cps, more preferably 10,000 to 50,000 cps, and even more preferably 15,000 to 45,000 cps. When the viscosity of the resin varnish is at least the above lower limit, the effect of the present invention can be easily obtained, and when it is at least the above upper limit, the handling of the resin varnish can be easily improved.
樹脂ワニスの固形分濃度は、好ましくは5〜25質量%、より好ましくは6〜23質量%、さらに好ましくは7〜20質量%である。樹脂ワニスの固形分濃度が上記の下限以上であることが、厚い膜を得る観点から好ましく、上記の上限以下であることが、樹脂ワニスのハンドリングしやすさの観点から好ましい。 The solid content concentration of the resin varnish is preferably 5 to 25% by mass, more preferably 6 to 23% by mass, and further preferably 7 to 20% by mass. It is preferable that the solid content concentration of the resin varnish is at least the above lower limit from the viewpoint of obtaining a thick film, and it is preferable that the solid content concentration is at least the above upper limit from the viewpoint of ease of handling of the resin varnish.
支持体としては、例えば樹脂基材、ステンテレス鋼ベルト、ガラス基材等が挙げられる。支持体として、樹脂フィルム基材を使用することが好ましい。樹脂フィルム基材としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム、シクロオレフィン系(COP)フィルム、アクリル系フィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等が挙げられ、中でも、平滑性、耐熱性に優れる観点から、好ましくはPETフィルム、COPフィルム等が挙げられ、さらに透明樹脂フィルムとの密着性及びコストの観点から、より好ましくはPETフィルムが挙げられる。 Examples of the support include a resin base material, a stainless steel belt, a glass base material, and the like. It is preferable to use a resin film base material as the support. Examples of the resin film base material include polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene naphthalate (PEN) film, cycloolefin-based (COP) film, acrylic film, polyimide film, polyamideimide film, and the like. Among them, smoothness. From the viewpoint of excellent heat resistance, a PET film, a COP film and the like are preferable, and from the viewpoint of adhesion to a transparent resin film and cost, a PET film is more preferable.
支持体の厚さは、特に制限されないが、好ましくは50〜250μm、より好ましくは100〜200μm、さらに好ましくは125〜200μmである。支持体の厚さが上記の上限以下である場合、透明樹脂フィルムの製造コストを抑え易いため好ましい。また、支持体の厚さが上記の下限以上であることが、溶媒の少なくとも一部を除去する工程で生じ得るフィルムのカールを抑制しやすいため好ましい。ここで、支持体の厚さは、接触式の膜厚計などにより測定される。 The thickness of the support is not particularly limited, but is preferably 50 to 250 μm, more preferably 100 to 200 μm, and even more preferably 125 to 200 μm. When the thickness of the support is not more than the above upper limit, it is preferable because the manufacturing cost of the transparent resin film can be easily suppressed. Further, it is preferable that the thickness of the support is at least the above lower limit because it is easy to suppress the curl of the film that may occur in the step of removing at least a part of the solvent. Here, the thickness of the support is measured by a contact-type film thickness meter or the like.
樹脂ワニスを支持体上に塗布する際、公知の塗布方法により支持体への塗布を行ってよい。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、流涎成形法等が挙げられる。 When the resin varnish is applied onto the support, it may be applied to the support by a known application method. Known coating methods include, for example, wire bar coating method, reverse coating, roll coating method such as gravure coating, die coating method, comma coating method, lip coating method, spin coating method, screen coating method, fountain coating method, dipping method, and the like. Examples include a spray method and a salivation molding method.
次に、支持体上に塗布した樹脂ワニスの塗膜を乾燥させることにより、塗膜を形成させることができる。乾燥は、樹脂ワニスの塗膜から少なくとも一部の溶媒を除去することにより行われ、乾燥方法は特に限定されない。例えば支持体上に塗布した樹脂ワニスの塗膜を加熱することにより乾燥を行ってよい。ここで行われる乾燥は予備乾燥であり、本発明の乾燥したフィルムロールの製造方法で行われる乾燥とは異なる。 Next, the coating film can be formed by drying the coating film of the resin varnish applied on the support. The drying is performed by removing at least a part of the solvent from the coating film of the resin varnish, and the drying method is not particularly limited. For example, the coating film of the resin varnish applied on the support may be heated for drying. The drying performed here is pre-drying, which is different from the drying performed by the method for producing a dried film roll of the present invention.
次に、工程(b)において、支持体から乾燥させた塗膜を剥離する。剥離方法は特に限定されず、支持体を固定させた状態で塗膜を移動させて剥離を行ってもよいし、塗膜を固定させた状態で支持体を移動させて剥離を行ってもよいし、塗膜及び支持体の両方を移動させることにより剥離を行ってもよい。 Next, in the step (b), the dried coating film is peeled off from the support. The peeling method is not particularly limited, and the coating film may be moved and peeled while the support is fixed, or the support may be moved and peeled while the coating film is fixed. Then, the peeling may be performed by moving both the coating film and the support.
乾燥前の透明樹脂フィルムの厚さは、通常11μm以上、好ましくは16μm以上、より好ましくは21μm以上、さらに好ましくは26μm以上、さらにより好ましくは31μm以上であり、通常301μm以下、好ましくは201μm以下、より好ましくは101μm以下、さらに好ましくは90μm以下であり、さらにより好ましくは61μm以下である。透明樹脂フィルムの厚さが上記範囲内であると、透明樹脂フィルムの耐衝撃性をより高めやすい。なお、透明樹脂フィルムの厚さは、マイクロメーターを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The thickness of the transparent resin film before drying is usually 11 μm or more, preferably 16 μm or more, more preferably 21 μm or more, still more preferably 26 μm or more, still more preferably 31 μm or more, and usually 301 μm or less, preferably 201 μm or less. It is more preferably 101 μm or less, further preferably 90 μm or less, and even more preferably 61 μm or less. When the thickness of the transparent resin film is within the above range, the impact resistance of the transparent resin film can be more easily improved. The thickness of the transparent resin film can be measured using a micrometer, for example, by the method described in Examples.
乾燥前の透明樹脂フィルムの溶媒含有量は、乾燥後の透明樹脂フィルムの溶媒含有量と同様に、熱重量−示差熱測定(以下「TG−DTA測定」ということがある。)によって求められる120℃から250℃にかけての重量減少率Mによって求められ、好ましくは5質量%以上、より好ましくは6質量%以上、さらに好ましくは7質量%以上であり、好ましくは20質量%以下、より好ましくは15質量%以下である。 The solvent content of the transparent resin film before drying is determined by thermogravimetric-differential thermal measurement (hereinafter sometimes referred to as "TG-DTA measurement") in the same manner as the solvent content of the transparent resin film after drying 120. It is determined by the weight loss rate M from ° C. to 250 ° C., and is preferably 5% by mass or more, more preferably 6% by mass or more, further preferably 7% by mass or more, preferably 20% by mass or less, and more preferably 15% by weight. It is less than mass%.
次に、工程(c)において、巻芯に巻き取られて、フィルムロールの形態をとる。フィルムロールの製造工程において、必要に応じて保護フィルムが透明樹脂フィルムの片側に形成されていてもよい。 Next, in the step (c), the film is wound around the core and takes the form of a film roll. In the process of manufacturing the film roll, a protective film may be formed on one side of the transparent resin film, if necessary.
本発明では、上記工程(c)で得られたフィルムロール、即ち予備乾燥をしたフィルムロールを本乾燥する時に、本発明の乾燥したフィルムの製造方法が用いられる。本発明の乾燥したフィルムロールの製造方法は、再度記載すると、以下の工程からなる:
原料フィルムロールからフィルムを巻き出す工程、
巻き出したフィルムを搬送する工程、
フィルムの端部を把持して乾燥する工程、
乾燥後、把持を解放する工程、及び
前記フィルムを巻き取って乾燥したフィルムロールを得る工程
を有する。上記工程において、フィルム端部を把持して乾燥後、把持を解放する工程が、図9のテンター延伸装置41と乾燥炉54で行われることにより、透明樹脂フィルム、特にポリイミドやポリアミド等の高分子に基づく透明樹脂フィルムの乾燥時の割れが有効に防止される。本発明の乾燥したフィルムロールの製造方法を用いると、製造の歩留まりが高まり、透明樹脂フィルムの製造に有効である。
In the present invention, the method for producing a dried film of the present invention is used when the film roll obtained in the above step (c), that is, the pre-dried film roll is main-dried. The method for producing a dried film roll of the present invention, again described, comprises the following steps:
The process of unwinding the film from the raw material film roll,
The process of transporting the unwound film,
The process of grasping and drying the edges of the film,
After drying, it has a step of releasing the grip and a step of winding the film to obtain a dried film roll. In the above step, the step of gripping the end of the film, drying it, and then releasing the grip is performed by the
本発明の製造方法では、テンター延伸装置での乾燥処理時のフィルムの割れを低減できるので、乾燥工程が長期間安定に実施され、フィルム製造中の装置停止などの処置が少なくなり、生産効率の上昇が望まれる。また、割れや破断により出荷しえないフィルムが少なくなることで、フィルムの廃棄が少なくなり、省資源、省エネルギーにも寄与できる。 In the production method of the present invention, cracking of the film during the drying process in the tenter stretching apparatus can be reduced, so that the drying step is stably carried out for a long period of time, and there are few measures such as stopping the apparatus during film production, so that the production efficiency is improved. An increase is desired. In addition, since the number of films that cannot be shipped due to cracking or breaking is reduced, the amount of film discarded is reduced, which can contribute to resource saving and energy saving.
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」及び「部」は、特記ない限り、質量%及び質量部を意味する。まず始めに物性値の測定方法を説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. Unless otherwise specified, "%" and "part" in the example mean mass% and parts by mass. First, a method for measuring physical property values will be described.
<重量平均分子量>
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定
(1)前処理方法
試料をγ−ブチロラクトン(GBL)に溶解させて20質量%溶液とした後、DMF溶離液にて100倍に希釈し、0.45μmメンブレンフィルターろ過したものを測定溶液とした。
(2)測定条件
カラム:TSKgel SuperAWM−H×2+SuperAW2500×1(内径6.0mm、長さ150mm、3本連結)
溶離液:DMF(10mmol/Lの臭化リチウム添加)
流量:0.6mL/分
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:20μL
分子量標準:標準ポリスチレン
<Weight average molecular weight>
Gel Permeation Chromatography (GPC) Measurement (1) Pretreatment Method After dissolving the sample in γ-butyrolactone (GBL) to make a 20% by mass solution, dilute it 100 times with a DMF eluent and use a 0.45 μm membrane filter. The filtered solution was used as the measurement solution.
(2) Measurement condition column: TSKgel SuperAWM-H × 2 + SuperAW2500 × 1 (inner diameter 6.0 mm, length 150 mm, 3 connected)
Eluent: DMF (10 mmol / L lithium bromide added)
Flow rate: 0.6 mL / min Detector: RI detector Column temperature: 40 ° C
Injection volume: 20 μL
Molecular weight standard: Standard polystyrene
<イミド化率>
イミド化率は、1H−NMR測定により以下のようにして求めた。
(1)前処理方法
試料を重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO−d6)に溶解させて2質量%溶液としたものを測定溶液とした。
(2)測定条件
測定装置:JEOL製 400MHz NMR装置 JNM−ECZ400S/L1
標準物質:DMSO−d6(2.5ppm)
試料温度:室温
積算回数:256回
緩和時間:5秒
(3)イミド化率解析方法
得られた1H−NMRスペクトルにおいて、ベンゼンプロトンが7.0〜9.0ppmに観測され、このうちイミド化前後で変化しない構造に由来するベンゼンプロトンAの積分比をIntAとした。また、ポリイミド中に残存するアミック酸構造のアミドプロトンが10.5〜11.5ppmに観測され、この積分比をIntBとした。これらの積分比から以下の式によりイミド化率を求めた。
The imidization ratio was determined by 1 H-NMR measurement as follows.
(1) Pretreatment method A sample was dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide (DMSO-d 6 ) to prepare a 2% by mass solution, which was used as a measurement solution.
(2) Measurement conditions Measuring device: JEOL 400MHz NMR device JNM-ECZ400S / L1
Standard substance: DMSO-d 6 (2.5 ppm)
Sample temperature: Room temperature Integral number: 256 times Relaxation time: 5 seconds (3) Imidization rate analysis method In the obtained 1 H-NMR spectrum, benzene protons were observed at 7.0 to 9.0 ppm, of which imidization was performed. The integral ratio of benzene proton A derived from the structure that does not change before and after was defined as Int A. Further, amide protons having an amic acid structure remaining in the polyimide were observed at 10.5 to 11.5 ppm, and this integration ratio was defined as Int B. From these integration ratios, the imidization ratio was calculated by the following formula.
<平均一次粒子径>
シリカゾルを300℃で乾燥させた粉末の比表面積をユアサアイオクニス(株)社製、比表面積測定装置モノソーブMS−16を用いて測定し、測定された比表面積S(m2/g)を用いてD(nm)=2720/Sの式で平均一次粒子径を算出した。
<Average primary particle size>
The specific surface area of the powder obtained by drying the silica sol at 300 ° C. was measured using a specific surface area measuring device Monosorb MS-16 manufactured by Yuasa Aiokunis Co., Ltd., and the measured specific surface area S (m 2 / g) was used. The average primary particle size was calculated by the formula of D (nm) = 2720 / S.
<ワニスの粘度>
JIS K 8803:2011に準拠して、ブルックフィールド社製E型粘度計DV−II+Proを用いて測定した。測定温度は25℃とした。
<Varnish viscosity>
The measurement was performed using an E-type viscometer DV-II + Pro manufactured by Brookfield Co., Ltd. in accordance with JIS K 8803: 2011. The measurement temperature was 25 ° C.
<支持体の厚さ及び厚さ分布>
(株)ミツトヨ製ID−C112XBSを用いて、支持体の幅方向に20点以上の厚さを測定し、その平均値と各データの差を算出し、厚さ分布を得た。
<Thickness and thickness distribution of support>
Using ID-C112XBS manufactured by Mitutoyo Co., Ltd., the thickness of 20 points or more was measured in the width direction of the support, and the difference between the average value and each data was calculated to obtain a thickness distribution.
<フィルムの厚さ>
(株)ミツトヨ製ID−C112XBSを用いて、10点以上のフィルム厚さを測定し、その平均値を算出した。
<Film thickness>
Using ID-C112XBS manufactured by Mitutoyo Co., Ltd., the film thickness at 10 points or more was measured, and the average value was calculated.
<フィルムの全光線透過率、ヘーズ、380nmの光線透過率及び420nmの光線透過率>
上記光学特性値を、コニカミノルタ(株)製分光測色計CM−3700Aを用いて測定した。
<Total light transmittance of film, haze, light transmittance of 380 nm and light transmittance of 420 nm>
The above optical characteristic values were measured using a spectrocolorimeter CM-3700A manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.
<残存溶媒量>
TG−DTA(SII(株)製 EXSTAR6000 TG/DTA6300)を用いて、実施例1及び2並びに比較例及び2で得られた透明樹脂フィルムを30℃から120℃まで昇温し、120℃で5分間保持し、その後5℃/分の昇温速度で400℃まで昇温した。120℃におけるフィルムの質量に対する120℃から250℃でのフィルムの質量減少の比を、溶媒の含有量(残存溶媒量と称する)として算出した。
<Amount of residual solvent>
Using TG-DTA (EXSTAR6000 TG / DTA6300 manufactured by SII Co., Ltd.), the transparent resin films obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples and 2 were heated from 30 ° C. to 120 ° C. and 5 at 120 ° C. It was held for 1 minute, and then the temperature was raised to 400 ° C. at a heating rate of 5 ° C./min. The ratio of the mass loss of the film from 120 ° C. to 250 ° C. to the mass of the film at 120 ° C. was calculated as the solvent content (referred to as the residual solvent amount).
以下の製造例及び実施例において使用する略称は、次のとおりである。
TFMB:2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル
6FDA:4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物
TPC:テレフタロイルクロリド
OBBC:4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)
DMAc:N,N−ジメチルアセトアミド
GBL:γ−ブチロラクトン
PET:ポリエチレンテレフタレート
The abbreviations used in the following production examples and examples are as follows.
TFMB: 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl 6FDA: 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride TPC: terephthaloyl chloride OBBC: 4,4 '-Oxybis (benzoyl chloride)
DMAc: N, N-dimethylacetamide GBL: γ-butyrolactone PET: polyethylene terephthalate
<製造例>
製造例1:ポリアミドイミド樹脂1の製造
窒素ガス雰囲気下、セパラブルフラスコに撹拌翼を備えた反応容器と、オイルバスとを準備した。オイルバスに設置した反応容器に、TFMB 45部と、DMAc 768.55部とを投入した。反応容器内の内容物を室温で撹拌しながらTFMBをDMAcに溶解させた。次に、反応容器内に6FDA 19.01部を更に投入し、反応容器内の内容物を室温で3時間撹拌した。その後、OBBC 4.21部、次いでTPC 17.30部を反応容器に投入し、反応容器内の内容物を室温で1時間撹拌した。次いで、反応容器内に4−メチルピリジン 4.63部と無水酢酸 13.04部とを更に投入し、反応容器内の内容物を室温で30分間撹拌した。撹拌した後、オイルバスを用いて容器内温度を70℃に昇温し、70℃に維持してさらに3時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、沈殿物を析出させた。析出した沈殿物を取り出し、メタノールで6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、100℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂1を得た。得られたポリアミドイミド樹脂1の重量平均分子量は380,000であり、イミド化率は99.0%であった。
<Manufacturing example>
Production Example 1: Production of Polyamide-
The obtained reaction solution was cooled to room temperature and poured into a large amount of methanol in the form of filaments to precipitate a precipitate. The precipitated precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C. to obtain a polyamide-
製造例2:ポリイミド樹脂1の製造
セパラブルフラスコにシリカゲル管、撹拌装置及び温度計を取り付けた反応器と、オイルバスとを準備した。このフラスコ内に、6FDA 75.52部と、TFMB 54.44部とを投入した。これを400rpmで攪拌しながらDMAc 519.84部を加え、フラスコの内容物が均一な溶液になるまで撹拌を続けた。続いて、オイルバスを用いて容器内温度が20〜30℃の範囲になるように調整しながらさらに20時間撹拌を続け、反応させてポリアミック酸を生成させた。30分後、撹拌速度を100rpmに変更した。20時間撹拌後、反応系温度を室温に戻し、DMAc 649.8部を加えてポリマー濃度が10質量%となるように調整した。さらに、ピリジン 32.27部、無水酢酸 41.65部を加え、室温で10時間撹拌してイミド化を行った。反応容器からポリイミドワニスを取り出した。得られたポリイミドワニスをメタノール中に滴下して再沈殿を行い、得られた粉体を加熱乾燥して溶媒を除去し、固形分としてポリイミド系樹脂1を得た。得られたポリイミド系樹脂1の重量平均分子量は325,000であり、イミド化率は98.8%であった。
Production Example 2: Production of Polyimide Resin 1 A reactor equipped with a silica gel tube, a stirrer and a thermometer in a separable flask, and an oil bath were prepared. 75.52 parts of 6FDA and 54.44 parts of TFMB were put into this flask. While stirring this at 400 rpm, 519.84 parts of DMAc was added, and stirring was continued until the contents of the flask became a uniform solution. Subsequently, stirring was continued for another 20 hours while adjusting the temperature inside the container to be in the range of 20 to 30 ° C. using an oil bath, and the reaction was carried out to generate a polyamic acid. After 30 minutes, the stirring speed was changed to 100 rpm. After stirring for 20 hours, the reaction system temperature was returned to room temperature, and 649.8 parts of DMAc was added to adjust the polymer concentration to 10% by mass. Further, 32.27 parts of pyridine and 41.65 parts of acetic anhydride were added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 hours for imidization. The polyimide varnish was taken out from the reaction vessel. The obtained polyimide varnish was dropped into methanol for reprecipitation, and the obtained powder was dried by heating to remove the solvent to obtain a
製造例3:シリカゾル1の調製
ゾル−ゲル法により作製され、BET法で測定された平均一次粒子径が27nmであるアモルファスシリカゾルを原料とし、溶媒置換により、GBL置換シリカゾルを調製した。得られたゾルを目開き10μmのメンブレンフィルターでろ過し、GBL置換シリカゾル1を得た。得られたGBL置換シリカゾル1における、シリカ粒子の含有量は30質量%であった。
Production Example 3: Preparation of
製造例4:ワニス(1)の調製
製造例1で得られたポリアミドイミド樹脂1、及び、製造例3で得られたシリカゾルを、GBL溶媒中でのポリアミドイミド樹脂:シリカ粒子の組成比が60:40になるように混合した。得られた混合液に、ポリアミドイミド樹脂とシリカ粒子の合計質量に対して5.7phrの紫外線吸収剤「Sumisorb(登録商標) 340」(住化ケムテックス(株)製)及びポリアミドイミド樹脂とシリカ粒子の合計質量に対して35ppmのブルーイング剤「Sumiplast(登録商標) Violet B」(住化ケムテックス(株)製)を添加し、均一になるまで撹拌し、ワニス(1)を得た。ワニス(1)の固形分は10.8質量%であり、25℃における粘度は38,300cpsであった。
Production Example 4: Preparation of Varnish (1) The composition ratio of the polyamide-
製造例5:ワニス(2)の調製
製造例2で得られたポリイミド樹脂1、及び、該ポリイミド樹脂に対して5.0phrの紫外線吸収剤「Sumisorb 340」(住化ケムテックス(株)製)を、GBL:DMAc=1:9の混合溶剤中に16.5質量%の濃度で溶解させてワニス(2)を得た。ワニス(2)の固形分は16.6質量%であり、25℃における粘度は37,000cpsであった。
Production Example 5: Preparation of varnish (2)
製造例6
ワニス(1)を、PETフィルム(東洋紡(株)「コスモシャイン(登録商標) A4100」、厚さ188μm、厚さ分布±2μm)上に塗布し、流涎成形し、ワニスの塗膜を成形した。この時、ラインスピードは0.5m/分であった。該塗膜を、80℃で10分加熱した後、100℃で10分加熱し、次いで90℃で10分加熱し、最後に80℃で10分加熱するという乾燥条件で乾燥させ、乾燥塗膜を形成させた。その後、PETフィルムから該乾燥塗膜を剥離し、厚さ48μm、幅700mm、長さ1,000mの原料フィルム1を得た。原料フィルム1中の残存溶媒量は9.7質量%であった。
Production example 6
The varnish (1) was applied onto a PET film (Toyobo Co., Ltd. "Cosmo Shine (registered trademark) A4100", thickness 188 μm, thickness distribution ± 2 μm) and salivated to form a varnish coating film. At this time, the line speed was 0.5 m / min. The coating film is dried under the drying conditions of heating at 80 ° C. for 10 minutes, then at 100 ° C. for 10 minutes, then at 90 ° C. for 10 minutes, and finally at 80 ° C. for 10 minutes. Was formed. Then, the dry coating film was peeled off from the PET film to obtain a
製造例7
ワニス(2)を、PETフィルム(東洋紡(株)「コスモシャイン(登録商標)A4100」、厚さ188μm、厚さ分布±2μm)上に塗布し、流涎成形し、ワニスの塗膜を成形した。この時、ラインスピードは0.4m/分であった。ワニスの塗膜を、70℃で7.5分加熱した後、120℃で7.5分加熱し、次いで70℃で7.5分加熱し、最後に75℃で7.5分加熱するという乾燥条件で乾燥させ、乾燥塗膜を形成させた。その後、PETフィルムから塗膜を剥離し、厚さ89μm、幅700mm、長さ1,000mの原料フィルム2を得た。原料フィルム2中の残存溶媒量は9.6質量%であった。
Production example 7
The varnish (2) was applied onto a PET film (Toyobo Co., Ltd. "Cosmo Shine (registered trademark) A4100", thickness 188 μm, thickness distribution ± 2 μm) and salivated to form a varnish coating film. At this time, the line speed was 0.4 m / min. The varnish coating is heated at 70 ° C. for 7.5 minutes, then at 120 ° C. for 7.5 minutes, then at 70 ° C. for 7.5 minutes, and finally at 75 ° C. for 7.5 minutes. It was dried under dry conditions to form a dry coating film. Then, the coating film was peeled off from the PET film to obtain a
実施例1
製造例6で得たロール状態の原料フィルム1を繰り出して、図9に示す6つの乾燥室を有するテンター乾燥炉の直前で、把持部の曲面形状(位置1、位置2、位置3及び位置4の曲率半径R)、把持部と台座との間隔及び把持部端部と台座端部の位置関係が表1に示されるような把持具としてクリップを用いてフィルムを把持し、そのまま乾燥機内に搬送した。乾燥機内の温度を200℃に設定し、クリップ把持幅25mm、フィルムのラインスピード1.3m/分、乾燥機入口のフィルム幅(クリップ間距離)に対する乾燥機出口のフィルム幅の比が1.0となるように調整し、テンター式乾燥機の各室における風速を、1室では13.5m/秒、2室では13m/秒、3〜6室では11m/秒となるように調整したテンター式乾燥機(1〜6乾燥室構成)を用いて原料フィルム1の溶媒を除去し、厚さ49μmのポリアミドイミドフィルム1を得た。フィルムがクリップから離された後、把持されていた部分のフィルムをスリットし、さらにポリエチレンテレフタレート(PET)系保護フィルムを貼合し、ABS樹脂製6インチコアに巻きとり、フィルムが破断することなく、長さ900mのフィルムロールを得た。なお、フィルムの最初の100mはフィルムの性能の安定性が得られないので破棄し、その後の900mをフィルムロールに巻き取った。得られたフィルムにおいて、残存溶媒量は0.5質量%であり、引張弾性率は7.0GPaであり、全光線透過率は89.8%であり、ヘーズは0.2%であり、YI値は1.6であった。フィルムについて、クリップ割れ頻度を以下の基準で評価した。
Example 1
The rolled
<クリップ割れ頻度>
フィルムロールを加工する間、クリップにて把持した部分を目視で観察し、割れが発生した頻度を観察し、以下の基準で評価した。割れの頻度が低いと、フィルムが破断するリスクが低い。
◎:非常に良好(頻度10%未満;原料フィルム1,000mを供した際、全クリップ把持数に対し、フィルム割れが生じたクリップ把持数の割合が10%未満をいう。以下、頻度については、同様の基準。)
〇:良好(頻度20%未満)
△:やや良好(頻度30%未満)
×:不良(頻度30%以上)
<Clip crack frequency>
While processing the film roll, the portion gripped by the clip was visually observed, the frequency of cracking was observed, and the evaluation was made according to the following criteria. If the frequency of cracking is low, the risk of film breakage is low.
⊚: Very good (frequency less than 10%; when the raw material film of 1,000 m is provided, the ratio of the number of clip grips in which the film is cracked to the total number of clip grips is less than 10%. , Similar criteria.)
〇: Good (frequency less than 20%)
Δ: Slightly good (frequency less than 30%)
×: Defective (frequency 30% or more)
比較例1
把持具のフィルム接触面のフィルムの搬送方向に平行な端部を曲面形状のないものに変更した以外、実施例1と同様の方法で、フィルムロールを得た。得られたフィルムにおいて、残存溶媒量は0.5質量%であり、引張弾性率は7.0GPa、であり、全光線透過率は89.8%であり、ヘーズは0.2%であり、YI値は1.6であった。
Comparative Example 1
A film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the end portion of the film contact surface of the gripper parallel to the film transport direction was changed to one having no curved surface shape. In the obtained film, the residual solvent amount was 0.5% by mass, the tensile elastic modulus was 7.0 GPa, the total light transmittance was 89.8%, and the haze was 0.2%. The YI value was 1.6.
比較例2
把持部と台座との間隔を表1の記載のように150μmに変更した以外、実施例1と同様の方法で、フィルムロールを得た。得られたフィルムにおいて、残存溶媒量は0.5質量%であり、引張弾性率は7.0GPaであり、全光線透過率は89.8%であり、ヘーズは0.2%であり、YI値は1.6であった。比較例2では把持部と台座との間隔が150μmと原料フィルムの厚さ49μmよりかなり大きいが、把持部と台座との最接近した距離よりが原料フィルムの厚さより少し小さくフィルムを緩く把持することが可能である。
Comparative Example 2
A film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the distance between the grip portion and the pedestal was changed to 150 μm as shown in Table 1. In the obtained film, the residual solvent amount was 0.5% by mass, the tensile elastic modulus was 7.0 GPa, the total light transmittance was 89.8%, the haze was 0.2%, and YI. The value was 1.6. In Comparative Example 2, the distance between the grip portion and the pedestal is 150 μm, which is considerably larger than the thickness of the raw material film of 49 μm, but the closest distance between the grip portion and the pedestal is slightly smaller than the thickness of the raw material film, and the film is loosely gripped. Is possible.
実施例2
把持部と台座との間隔を表1の記載のように変更した以外、実施例1と同様の方法で、フィルムロールを得た。得られたフィルムにおいて、残存溶媒量は0.5質量%であり、引張弾性率は7.0GPaであり、全光線透過率は89.8%であり、ヘーズは0.2%であり、YI値は1.6であった。
Example 2
A film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the distance between the grip portion and the pedestal was changed as shown in Table 1. In the obtained film, the residual solvent amount was 0.5% by mass, the tensile elastic modulus was 7.0 GPa, the total light transmittance was 89.8%, the haze was 0.2%, and YI. The value was 1.6.
実施例3
把持具の曲面形状及び把持部端部と台座端部との位置関係を表1の記載のように変更した以外、実施例1と同様の方法で、フィルムロールを得た。得られたフィルムにおいて、残存溶媒量は0.5質量%であり、引張弾性率は7.0GPaであり、全光線透過率は89.8%であり、ヘーズは0.2%であり、YI値は1.6であった。
Example 3
A film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the curved surface shape of the grip and the positional relationship between the grip end and the pedestal end were changed as shown in Table 1. In the obtained film, the residual solvent amount was 0.5% by mass, the tensile elastic modulus was 7.0 GPa, the total light transmittance was 89.8%, the haze was 0.2%, and YI. The value was 1.6.
実施例4
把持具の曲面形状及び把持部端部と台座端部との位置関係を表1の記載のように変更した以外、実施例1と同様の方法で、フィルムロールを得た。得られたフィルムにおいて、残存溶媒量は0.5質量%であり、引張弾性率は7.0GPaであり、全光線透過率は89.8%であり、ヘーズは0.2%であり、YI値は1.6であった。
Example 4
A film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the curved surface shape of the grip and the positional relationship between the grip end and the pedestal end were changed as shown in Table 1. In the obtained film, the residual solvent amount was 0.5% by mass, the tensile elastic modulus was 7.0 GPa, the total light transmittance was 89.8%, the haze was 0.2%, and YI. The value was 1.6.
実施例5
把持部と台座との間隔を24μmにし、把持部のフィルム接触面における前記搬送方向と平行な端部の曲面形状において、曲面形状の中心付近までの曲率半径R1=10mm、それ以降の曲率半径R2=5mmとした以外、実施例1と同様の方法で、フィルムロールを得た。得られたフィルムにおいて、残存溶媒量は0.5質量%であり、引張弾性率は7.0GPaであり、全光線透過率は89.8%であり、ヘーズは0.2%であり、YI値は1.6であった。
Example 5
The distance between the grip and the pedestal is set to 24 μm, and in the curved shape of the end parallel to the transport direction on the film contact surface of the grip, the radius of curvature R 1 = 10 mm to the vicinity of the center of the curved shape, and the radius of curvature thereafter. A film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that R 2 = 5 mm. In the obtained film, the residual solvent amount was 0.5% by mass, the tensile elastic modulus was 7.0 GPa, the total light transmittance was 89.8%, the haze was 0.2%, and YI. The value was 1.6.
実施例6
原料フィルム2を用いて、フィルムの搬送速度0.9m/分とした以外、実施例1と同様の方法で厚さ79μmのフィルムロールを得た。得られたフィルムにおいて、残存溶媒量は1.0質量%であり、引張弾性率は4.1GPaであり、全光線透過率は91.3%であり、ヘーズは0.2%であり、YI値は1.3であった。
Example 6
Using the
表1では、把持部の曲面形状は「把持部の曲率半径R(mm)」で表し、「位置1」及び「位置2」がフィルムの搬送方向に垂直なフィルム接触面端部(図2中9)の曲率半径であり、「位置3」及び「位置4」がフィルムの搬送方向に平行なフィルム接触面端部(図2中10)の曲率半径である。「把持部と台座との間隔(μm)」は図3では間隔12で表しているものである。「把持部端部と台座端部の位置関係(mm)」は把持部のフィルムの搬送方向と平行な端面と台座のフィルムの搬送方向と平行な端面の距離(mm)であり、図3では22で表しているものある。また、表1中のフィルム厚さ(μm)は原料フィルムの厚さと、加工後(テンター乾燥後)のフィルムの厚さをμmで表した。
In Table 1, the curved surface shape of the grip portion is represented by the “curvature radius R (mm) of the grip portion”, and the “
上記表1から明らかなように、把持部のフィルム接触面の端部が曲面形状を有しているものは全て、クリップ割れ頻度が△(やや良好)以上である。把持部のフィルム接触面の端部に曲面形状を有していない部分がある場合(比較例1)は、端部との接触によりクリップ割れが多くなる。また、比較例2では、把持部と台座との間隔が150μmであり、フィルムの把持が十分ではなくフィルムが動くため、フィルムと台座又は把持部との摺動によりクリップ割れが多くなる。 As is clear from Table 1 above, all the clips having a curved surface shape at the end of the film contact surface of the grip portion have a clip cracking frequency of Δ (slightly good) or more. When there is a portion of the grip portion on the film contact surface that does not have a curved surface shape (Comparative Example 1), the clip cracks increase due to the contact with the end portion. Further, in Comparative Example 2, the distance between the grip portion and the pedestal is 150 μm, and the film is not sufficiently gripped and the film moves. Therefore, the clip cracks increase due to the sliding between the film and the pedestal or the grip portion.
1…把持具
2…台座
3…把持部
4…フィルム
5…支点
6…支点支持部
7…連結部
8…フィルム接触面
9…フィルム搬送方向31に垂直なフィルム接触面端部
10…フィルム搬送方向31に平行なフィルム接触面端部
11…交点部
12…把持部と台座との間隔
15…台座におけるフィルムを受ける面のフィルム側の端部
16…台座におけるフィルムを受ける部分の隅部
20…把持部のフィルムの搬送方向に平行な端面
21…台座のフィルムの搬送方向に平行な端面
22…端面20と端面21との距離
31…フィルムの搬送方向
41…テンター延伸装置
42…導入部
43…送出部
51…フィルムロール
52…ロール
53…保護フィルム
54…乾燥炉
55…乾燥したフィルムロール
1 ...
Claims (12)
巻き出したフィルムを搬送する工程、
フィルムの搬送方向に平行なフィルムの両端部を把持して乾燥する工程、
乾燥後、把持を解放する工程、及び
前記フィルムを巻き取って乾燥したフィルムロールを得る工程
を有する、テンター延伸装置を用いて乾燥したフィルムロールの製造方法であって、
前記把持する部分が、台座と把持部とからなり、前記台座と前記把持部との間に前記フィルムを把持し、
前記台座と前記把持部との間の間隔が前記フィルムの厚さよりも薄く、
前記フィルムと接触する把持部のフィルム接触面の全ての端部が曲面形状を有することを特徴とする、
フィルムロールの製造方法。 The process of unwinding the film from the raw material film roll,
The process of transporting the unwound film,
The process of grasping and drying both ends of the film parallel to the film transport direction,
A method for producing a dried film roll using a tenter stretching apparatus, which comprises a step of releasing the grip after drying and a step of winding the film to obtain a dried film roll.
The gripping portion comprises a pedestal and a gripping portion, and the film is gripped between the pedestal and the gripping portion.
The distance between the pedestal and the grip portion is thinner than the thickness of the film.
All the ends of the film contact surface of the grip portion that comes into contact with the film have a curved surface shape.
How to make a film roll.
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