JP2020136673A - Wiring board and manufacturing method thereof - Google Patents
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- Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
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Abstract
Description
本開示の実施形態は、伸縮性を有する基材と、配線とを備える配線基板に関する。また、本開示の実施形態は、配線基板の製造方法に関する。 An embodiment of the present disclosure relates to a wiring board including a stretchable base material and wiring. Moreover, the embodiment of this disclosure relates to the manufacturing method of the wiring board.
近年、伸縮性などの変形性を有する電子デバイスの研究がおこなわれている。例えば、伸縮性を有する基材に伸縮性を有する銀配線を形成したものや伸縮性を有する基材に馬蹄形の配線を形成したものが知られている(例えば特許文献1参照)。 In recent years, research has been conducted on electronic devices having deformability such as elasticity. For example, there are known ones in which elastic silver wiring is formed on an elastic base material and one in which horseshoe-shaped wiring is formed on an elastic base material (see, for example, Patent Document 1).
その他のタイプの電子デバイスとして、例えば特許文献2は、基材と、基材に設けられた配線と、を備え、伸縮性を有する配線基板を開示している。特許文献2においては、予め伸長させた状態の基材に回路を設け、回路を形成した後に基材を弛緩させる、という製造方法を採用している。特許文献2においては、予め伸長させた状態の基材に回路を設け、回路を形成した後に基材を弛緩させる、という製造方法を採用している。 As another type of electronic device, for example, Patent Document 2 discloses a wiring board having a base material and wiring provided on the base material, and having elasticity. Patent Document 2 employs a manufacturing method in which a circuit is provided on a pre-stretched base material, and the base material is relaxed after the circuit is formed. Patent Document 2 employs a manufacturing method in which a circuit is provided on a pre-stretched base material, and the base material is relaxed after the circuit is formed.
しかしながら、特許文献1および2においては、配線基板の伸縮にともなって配線と電子部品との接続部に作用する応力を緩和させることについて、何ら有効な提案がなされていないのが実情であった。 However, in Patent Documents 1 and 2, no effective proposal has been made for relaxing the stress acting on the connection portion between the wiring and the electronic component due to the expansion and contraction of the wiring board.
本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得る配線基板及び配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present disclosure is to provide a wiring board and a method for manufacturing a wiring board that can effectively solve such a problem.
本開示の一実施形態は、配線基板であって、第1面および前記第1面と反対側の第2面を有し、前記第1面および前記第2面に沿った面方向のうち少なくとも第1方向に伸縮性を有する基材と、前記第1面側に位置し、前記配線基板に搭載される少なくとも1つの電子部品に接続される配線と、前記電子部品に対して前記面方向に離れて位置し、前記基材を補強する補強部材と、を備え、前記補強部材の少なくとも一部は、前記第1方向における前記電子部品の第1端部の位置から前記第1方向において前記第1端部に対向する第2端部の位置まで少なくとも延びている、配線基板である。 One embodiment of the present disclosure is a wiring board, which has a first surface and a second surface opposite to the first surface, and has at least one of the first surface and the surface direction along the second surface. A base material having elasticity in the first direction, wiring located on the first surface side and connected to at least one electronic component mounted on the wiring board, and wiring in the surface direction with respect to the electronic component. A reinforcing member that is located apart and reinforces the base material is provided, and at least a part of the reinforcing member is the first in the first direction from the position of the first end portion of the electronic component in the first direction. It is a wiring board that extends at least to the position of the second end portion facing the first end portion.
前記補強部材は、前記第1面の法線方向から見た場合に前記電子部品を囲む形状を有していてもよい。 The reinforcing member may have a shape surrounding the electronic component when viewed from the normal direction of the first surface.
前記補強部材は、前記法線方向から見た場合に前記電子部品の全周を囲む形状を有していてもよい。 The reinforcing member may have a shape that surrounds the entire circumference of the electronic component when viewed from the normal direction.
前記補強部材は、前記法線方向から見た場合に前記電子部品を部分的に囲む形状を有していてもよい。 The reinforcing member may have a shape that partially surrounds the electronic component when viewed from the normal direction.
前記補強部材は、前記基材の剛性よりも大きい曲げ剛性を有していてもよい。 The reinforcing member may have a flexural rigidity higher than the rigidity of the base material.
前記補強部材は、前記基材の弾性係数よりも大きい弾性係数を有していてもよい。 The reinforcing member may have an elastic modulus larger than the elastic modulus of the base material.
前記補強部材は、前記配線上または前記第1面上に位置していてもよい。 The reinforcing member may be located on the wiring or on the first surface.
前記補強部材は、前記第1面と前記配線との間または前記第1面上に位置していてもよい。 The reinforcing member may be located between the first surface and the wiring or on the first surface.
前記補強部材は、前記基材の内部に埋め込まれていてもよい。 The reinforcing member may be embedded inside the base material.
前記補強部材は、前記第2面上に位置していてもよい。 The reinforcing member may be located on the second surface.
前記配線は、前記第1方向に沿った長手方向を有していてもよい。 The wiring may have a longitudinal direction along the first direction.
前記配線は、前記長手方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有していてもよい。 The wiring may have a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys arranged along the longitudinal direction.
配線基板は、前記第1面と前記配線との間に位置し、前記配線を支持する支持基板を更に備えていてもよい。 The wiring board may further include a support board that is located between the first surface and the wiring and supports the wiring.
本開示の一実施形態は、配線基板の製造方法であって、第1面および前記第1面と反対側の第2面を有し、前記第1面および前記第2面に沿った面方向のうち少なくとも第1方向に伸縮性を有する基材に、前記第1方向への引張応力を加えて前記基材を伸長させる伸長工程と、伸長した状態の前記基材の前記第1面側に、前記配線基板に搭載される少なくとも1つの電子部品に接続される配線を設ける第1設置工程と、前記電子部品に対して前記面方向に離れて位置するように、前記基材を補強する補強部材を設ける第2設置工程と、を備え、前記第2設置工程は、前記補強部材の少なくとも一部が前記第1方向における前記電子部品の第1端部の位置から前記第1方向において前記第1端部に対向する第2端部の位置まで少なくとも延びるように前記補強部材を設けることを含む、配線基板の製造方法である。 One embodiment of the present disclosure is a method of manufacturing a wiring board, which has a first surface and a second surface opposite to the first surface, and has a surface direction along the first surface and the second surface. Of these, a stretching step of applying tensile stress in the first direction to a base material having elasticity in at least the first direction to stretch the base material, and a stretching step on the first surface side of the stretched base material. The first installation step of providing wiring connected to at least one electronic component mounted on the wiring board, and reinforcement for reinforcing the base material so as to be located apart from the electronic component in the plane direction. A second installation step of providing a member is provided, and in the second installation step, at least a part of the reinforcing member is said to be the first in the first direction from the position of the first end portion of the electronic component in the first direction. This is a method for manufacturing a wiring board, which comprises providing the reinforcing member so as to extend at least to the position of the second end portion facing the first end portion.
本開示の実施形態によれば、配線基板の伸縮にともなって配線と電子部品との接続部に作用する応力を緩和させることができる。 According to the embodiment of the present disclosure, it is possible to relax the stress acting on the connection portion between the wiring and the electronic component due to the expansion and contraction of the wiring board.
以下、本開示の実施形態に係る配線基板の構成及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態に限定して解釈されるものではない。また、本明細書において、「基板」、「基材」、「シート」や「フィルム」など用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基材」は、基板、シートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。更に、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。また、本実施形態で参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。 Hereinafter, the configuration of the wiring board and the manufacturing method thereof according to the embodiment of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments shown below are examples of the embodiments of the present disclosure, and the present disclosure is not construed as being limited to these embodiments. Further, in the present specification, terms such as "board", "base material", "sheet" and "film" are not distinguished from each other based only on the difference in names. For example, "base material" is a concept that includes members that can be called substrates, sheets, or films. Furthermore, as used herein, terms such as "parallel" and "orthogonal" and values of length and angle that specify the shape and geometric conditions and their degrees are bound by strict meaning. Instead, the interpretation will include the range in which similar functions can be expected. Further, in the drawings referred to in the present embodiment, the same parts or parts having similar functions are designated by the same reference numerals or similar reference numerals, and the repeated description thereof may be omitted. In addition, the dimensional ratio of the drawing may differ from the actual ratio for convenience of explanation, or a part of the configuration may be omitted from the drawing.
(配線基板)
まず、本実施形態に係る配線基板10の構成について説明する。図1は、本実施形態による配線基板10を示す平面図である。図2は、図1の配線基板10を線II−IIに沿って切断した場合の断面図である。
(Wiring board)
First, the configuration of the wiring board 10 according to the present embodiment will be described. FIG. 1 is a plan view showing a wiring board 10 according to the present embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view of the wiring board 10 of FIG. 1 cut along the lines II-II.
配線基板10は、基材20と、補強部材30と、電子部品51と、配線52とを備える。以下、配線基板10の各構成要素について説明する。 The wiring board 10 includes a base material 20, a reinforcing member 30, an electronic component 51, and a wiring 52. Hereinafter, each component of the wiring board 10 will be described.
〔基材〕
基材20は、伸縮性を有するよう構成された部材である。基材20は、電子部品51及び配線52側に位置する第1面21と、第1面21の反対側に位置する第2面22と、を有する。基材20は、第1面21および第2面22に沿った面方向のうち、少なくとも第1方向D1に伸縮性を有する。第1方向D1は、例えば基材20の長手方向であってもよい。基材20の厚みは、例えば10μm以上10mm以下であり、より好ましくは20μm以上3mm以下である。基材20の厚みを10μm以上にすることにより、基材20の耐久性を確保することができる。また、基材20の厚みを10mm以下にすることにより、配線基板10の装着快適性を確保することができる。なお、基材20の厚みを小さくしすぎると、基材20の伸縮性が損なわれる場合がある。
〔Base material〕
The base material 20 is a member configured to have elasticity. The base material 20 has a first surface 21 located on the side of the electronic component 51 and the wiring 52, and a second surface 22 located on the opposite side of the first surface 21. The base material 20 has elasticity in at least the first direction D1 among the plane directions along the first surface 21 and the second surface 22. The first direction D1 may be, for example, the longitudinal direction of the base material 20. The thickness of the base material 20 is, for example, 10 μm or more and 10 mm or less, and more preferably 20 μm or more and 3 mm or less. By setting the thickness of the base material 20 to 10 μm or more, the durability of the base material 20 can be ensured. Further, by reducing the thickness of the base material 20 to 10 mm or less, the mounting comfort of the wiring board 10 can be ensured. If the thickness of the base material 20 is made too small, the elasticity of the base material 20 may be impaired.
なお、基材20の伸縮性とは、基材20が伸び縮みすることができる性質、すなわち、常態である非伸長状態から伸長することができ、この伸長状態から解放したときに復元することができる性質をいう。非伸長状態とは、引張応力が加えられていない時の基材20の状態である。本実施形態において、伸縮可能な基材は、好ましくは、破壊されることなく非伸長状態から1%以上伸長することができ、より好ましくは20%以上伸長することができ、更に好ましくは75%以上伸長することができる。このような能力を有する基材20を用いることにより、配線基板10が全体に伸縮性を有することができる。さらに、人の腕などの身体の一部に取り付けるという、高い伸縮が必要な製品や用途において、配線基板10を使用することができる。一般に、人の脇の下に取り付ける製品には、垂直方向において72%、水平方向において27%の伸縮性が必要であると言われている。また、人の膝、肘、臀部、足首、脇部に取り付ける製品には、垂直方向において26%以上42%
以下の伸縮性が必要であると言われている。また、人のその他の部位に取り付ける製品には、20%未満の伸縮性が必要であると言われている。
The elasticity of the base material 20 means that the base material 20 can expand and contract, that is, it can be expanded from a normal non-extended state and can be restored when released from this extended state. The property that can be done. The non-extended state is the state of the base material 20 when no tensile stress is applied. In the present embodiment, the stretchable substrate can preferably be stretched by 1% or more from the non-stretched state without being destroyed, more preferably 20% or more, and further preferably 75%. It can be extended as described above. By using the base material 20 having such an ability, the wiring board 10 can have elasticity as a whole. Further, the wiring board 10 can be used in products and applications that require high expansion and contraction, such as being attached to a part of the body such as a human arm. It is generally said that a product mounted under the armpit of a person needs to have an elasticity of 72% in the vertical direction and 27% in the horizontal direction. In addition, for products attached to human knees, elbows, buttocks, ankles, and armpits, 26% or more and 42% in the vertical direction.
It is said that the following elasticity is required. It is also said that products that are attached to other parts of the human body need to have less than 20% elasticity.
また、非伸長状態にある基材20の形状と、非伸長状態から伸長された後に再び非伸長状態に戻ったときの基材20の形状との差が小さいことが好ましい。この差のことを、以下の説明において形状変化とも称する。基材20の形状変化は、例えば面積比で20%以下、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%以下である。形状変化の小さい基材20を用いることにより、後述する蛇腹形状部の形成が容易になる。 Further, it is preferable that the difference between the shape of the base material 20 in the non-stretched state and the shape of the base material 20 when the base material 20 is stretched from the non-stretched state and then returned to the non-stretched state is small. This difference is also referred to as a shape change in the following description. The shape change of the base material 20 is, for example, 20% or less, more preferably 10% or less, still more preferably 5% or less in terms of area ratio. By using the base material 20 having a small shape change, the bellows-shaped portion described later can be easily formed.
基材20の伸縮性を表すパラメータの例として、基材20の弾性係数を挙げることができる。基材20の弾性係数は、例えば10MPa以下であり、より好ましくは1MPa以下である。このような弾性係数を有する基材20を用いることにより、配線基板10全体に伸縮性を持たせることができる。基材20の弾性係数は、1kPa以上であってもよい。 An example of a parameter representing the elasticity of the base material 20 is the elastic modulus of the base material 20. The elastic modulus of the base material 20 is, for example, 10 MPa or less, more preferably 1 MPa or less. By using the base material 20 having such an elastic modulus, the entire wiring board 10 can be made elastic. The elastic modulus of the base material 20 may be 1 kPa or more.
基材20の弾性係数を算出する方法としては、基材20のサンプルを用いて、JIS K6251に準拠して引張試験を実施するという方法を採用することができる。また、基材20のサンプルの弾性係数を、ISO14577に準拠してナノインデンテーション法によって測定するという方法を採用することもできる。ナノインデンテーション法において用いる測定器としては、ナノインデンターを用いることができる。基材20のサンプルを準備する方法としては、配線基板10から基材20の一部をサンプルとして取り出す方法や、配線基板10を構成する前の基材20の一部をサンプルとして取り出す方法が考えられる。その他にも、基材20の弾性係数を算出する方法として、基材20を構成する材料を分析し、材料の既存のデータベースに基づいて基材20の弾性係数を算出するという方法を採用することもできる。なお、本願における弾性係数は、25℃の環境下における弾性係数である。 As a method for calculating the elastic modulus of the base material 20, a method of carrying out a tensile test in accordance with JIS K6251 using a sample of the base material 20 can be adopted. It is also possible to adopt a method in which the elastic modulus of the sample of the base material 20 is measured by the nanoindentation method in accordance with ISO14577. A nanoindenter can be used as the measuring instrument used in the nanoindentation method. As a method of preparing a sample of the base material 20, a method of taking out a part of the base material 20 from the wiring board 10 as a sample and a method of taking out a part of the base material 20 before forming the wiring board 10 as a sample can be considered. Be done. In addition, as a method of calculating the elastic modulus of the base material 20, a method of analyzing the materials constituting the base material 20 and calculating the elastic modulus of the base material 20 based on the existing database of the materials is adopted. You can also. The elastic modulus in the present application is an elastic modulus in an environment of 25 ° C.
基材20の伸縮性を表すパラメータのその他の例として、基材20の曲げ剛性を挙げることができる。曲げ剛性は、対象となる部材の断面二次モーメントと、対象となる部材を構成する材料の弾性係数との積であり、単位はN・m2又はPa・m4である。基材20の断面二次モーメントは、配線基板10の伸縮方向に直交する平面によって、基材20のうち配線52と重なっている部分を切断した場合の断面に基づいて算出される。 Another example of a parameter representing the elasticity of the base material 20 is the flexural rigidity of the base material 20. The flexural rigidity is the product of the moment of inertia of area of the target member and the elastic modulus of the material constituting the target member, and the unit is N · m 2 or Pa · m 4 . The moment of inertia of area of the base material 20 is calculated based on the cross section when the portion of the base material 20 that overlaps with the wiring 52 is cut by a plane orthogonal to the expansion / contraction direction of the wiring board 10.
基材20を構成する材料の例としては、例えば、エラストマーを挙げることができる。また、基材20の材料として、例えば、織物、編物、不織布などの布を用いることもできる。エラストマーとしては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、具体的には、ポリウレタン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ニトリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、塩ビ系エラストマー、エステル系エラストマー、アミド系エラストマー、1,2−BR系エラストマー、フッ素系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等を用いることができる。機械的強度や耐磨耗性を考慮すると、ウレタン系エラストマーを用いることが好ましい。また、基材20がシリコーンを含んでいてもよい。シリコーンは、耐熱性・耐薬品性・難燃性に優れており、基材20の材料として好ましい。 Examples of the material constituting the base material 20 include an elastomer. Further, as the material of the base material 20, for example, a cloth such as a woven fabric, a knitted fabric, or a non-woven fabric can be used. As the elastomer, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used, and specifically, polyurethane-based elastomers, styrene-based elastomers, nitrile-based elastomers, olefin-based elastomers, vinyl chloride-based elastomers, ester-based elastomers, etc. Amid-based elastomers, 1,2-BR-based elastomers, fluoroelastomers, silicone rubbers, urethane rubbers, fluororubbers, polybutadienes, polyisobutylenes, polystyrene butadienes, polychloroprenes and the like can be used. Considering mechanical strength and abrasion resistance, it is preferable to use a urethane-based elastomer. Further, the base material 20 may contain silicone. Silicone is excellent in heat resistance, chemical resistance, and flame retardancy, and is preferable as a material for the base material 20.
〔配線〕
配線52は、導電性を有し、電子部品51による電気信号の入出力に用いられる部材である。図1および図2に示す例において、配線52は、第1面21上に位置し、基材20が伸縮する第1方向D1に沿った長手方向を有する。
〔wiring〕
The wiring 52 has conductivity and is a member used for input / output of an electric signal by the electronic component 51. In the examples shown in FIGS. 1 and 2, the wiring 52 is located on the first surface 21 and has a longitudinal direction along the first direction D1 in which the base material 20 expands and contracts.
後述するように、配線52は、引張応力によって伸長した状態の基材20に設けられる。基材20から引張応力が取り除かれて基材20が収縮するとき、配線52は、後述する伸縮抑制領域A内を除いて蛇腹状に変形して蛇腹形状部57を有するようになる。 As will be described later, the wiring 52 is provided on the base material 20 in a state of being stretched by tensile stress. When the tensile stress is removed from the base material 20 and the base material 20 contracts, the wiring 52 is deformed into a bellows shape except in the expansion / contraction suppressing region A described later, and has a bellows-shaped portion 57.
図3は、図2に示す配線基板10を拡大して示す断面図である。図3に示すように、蛇腹形状部57は、基材20の第1面21の法線方向における山部及び谷部を含む。図3において、符号53は、配線52の表面に現れる山部を表し、符号54は、配線52の裏面に現れる山部を表す。また、符号55は、配線52の表面に現れる谷部を表し、符号56は、配線52の裏面に現れる谷部を表す。表面とは、配線52の面のうち基材20から遠い側に位置する面であり、裏面とは、配線52の面のうち基材20に近い側に位置する面である。また、図3において、符号26及び27は、基材20の第1面21に現れる山部及び谷部を表す。第1面21に山部26及び谷部27が現れるように基材20が変形することにより、配線52が蛇腹状に変形して蛇腹形状部57を有するようになる。基材20の第1面21の山部26が、配線52の蛇腹形状部57の山部53,54に対応し、基材20の第1面21の谷部27が、配線52の蛇腹形状部57の谷部55,56に対応している。なお、図3においては、蛇腹形状部57の複数の山部及び谷部が一定の周期F1で並ぶ例が示されているが、これに限られることはない。図示はしないが、蛇腹形状部57の複数の山部及び谷部は、配線52の長手方向D1に沿って不規則に並んでいてもよい。例えば、長手方向D1において隣り合う2つの山部の間の間隔が一定でなくてもよい。 FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the wiring board 10 shown in FIG. As shown in FIG. 3, the bellows-shaped portion 57 includes peaks and valleys in the normal direction of the first surface 21 of the base material 20. In FIG. 3, reference numeral 53 represents a mountain portion appearing on the front surface of the wiring 52, and reference numeral 54 represents a mountain portion appearing on the back surface of the wiring 52. Further, reference numeral 55 represents a valley portion appearing on the front surface of the wiring 52, and reference numeral 56 represents a valley portion appearing on the back surface of the wiring 52. The front surface is a surface of the wiring 52 located on the side farther from the base material 20, and the back surface is a surface of the wiring 52 located on the side closer to the base material 20. Further, in FIG. 3, reference numerals 26 and 27 represent peaks and valleys appearing on the first surface 21 of the base material 20. When the base material 20 is deformed so that the mountain portion 26 and the valley portion 27 appear on the first surface 21, the wiring 52 is deformed in a bellows shape to have the bellows-shaped portion 57. The peak 26 of the first surface 21 of the base material 20 corresponds to the peaks 53 and 54 of the bellows shape portion 57 of the wiring 52, and the valley portion 27 of the first surface 21 of the base material 20 corresponds to the bellows shape of the wiring 52. It corresponds to the valley portions 55 and 56 of the portion 57. Note that FIG. 3 shows an example in which a plurality of peaks and valleys of the bellows-shaped portion 57 are lined up at a constant period F1, but the present invention is not limited to this. Although not shown, the plurality of peaks and valleys of the bellows-shaped portion 57 may be arranged irregularly along the longitudinal direction D1 of the wiring 52. For example, the distance between two adjacent peaks in the longitudinal direction D1 does not have to be constant.
図3において、符号S1は、配線52の表面における蛇腹形状部57の、基材20の法線方向における振幅を表す。振幅S1は、例えば1μm以上であり、より好ましくは10μm以上である。振幅S1を10μm以上とすることにより、基材20の伸張に追従して配線52が変形し易くなる。また、振幅S1は、例えば500μm以下であってもよい。 In FIG. 3, reference numeral S1 represents the amplitude of the bellows-shaped portion 57 on the surface of the wiring 52 in the normal direction of the base material 20. The amplitude S1 is, for example, 1 μm or more, more preferably 10 μm or more. By setting the amplitude S1 to 10 μm or more, the wiring 52 is easily deformed following the elongation of the base material 20. Further, the amplitude S1 may be, for example, 500 μm or less.
振幅S1は、例えば、配線52の長さ方向における一定の範囲にわたって、隣り合う山部53と谷部55との間の、第1面21の法線方向における距離を測定し、それらの平均を求めることにより算出される。「配線52の長さ方向における一定の範囲」は、例えば10mmである。隣り合う山部53と谷部55との間の距離を測定する測定器としては、レーザー顕微鏡などを用いた非接触式の測定器を用いてもよく、接触式の測定器を用いてもよい。また、断面写真などの画像に基づいて、隣り合う山部53と谷部55との間の距離を測定してもよい。後述する振幅S2、S3、S4の算出方法も同様である。 The amplitude S1 measures, for example, the distance in the normal direction of the first surface 21 between the adjacent peaks 53 and the valleys 55 over a certain range in the length direction of the wiring 52, and averages them. It is calculated by finding it. The "constant range in the length direction of the wiring 52" is, for example, 10 mm. As the measuring instrument for measuring the distance between the adjacent peaks 53 and the valleys 55, a non-contact measuring instrument using a laser microscope or the like may be used, or a contact measuring instrument may be used. .. Further, the distance between the adjacent mountain portion 53 and the valley portion 55 may be measured based on an image such as a cross-sectional photograph. The calculation method of the amplitudes S2, S3, and S4 described later is also the same.
図3において、符号S2は、配線52の裏面における蛇腹形状部57の振幅を表す。振幅S2は、振幅S1と同様に、例えば1μm以上であり、より好ましくは10μm以上である。また、振幅S2は、例えば500μm以下であってもよい。また、図3において、符号S3は、蛇腹形状部57に重なる部分において基材20の第1面21に現れる山部26及び谷部27の振幅を表す。図3に示すように配線52の裏面が基材20の第1面21上に位置している場合、基材20の第1面21の山部26及び谷部27の振幅S3は、配線52の裏面における蛇腹形状部57の振幅S2に等しい。 In FIG. 3, reference numeral S2 represents the amplitude of the bellows-shaped portion 57 on the back surface of the wiring 52. The amplitude S2 is, for example, 1 μm or more, more preferably 10 μm or more, like the amplitude S1. Further, the amplitude S2 may be, for example, 500 μm or less. Further, in FIG. 3, reference numeral S3 represents the amplitude of the peak portion 26 and the valley portion 27 appearing on the first surface 21 of the base material 20 at the portion overlapping the bellows-shaped portion 57. When the back surface of the wiring 52 is located on the first surface 21 of the base material 20 as shown in FIG. 3, the amplitude S3 of the peaks 26 and the valleys 27 of the first surface 21 of the base material 20 is the wiring 52. It is equal to the amplitude S2 of the bellows-shaped portion 57 on the back surface of.
なお、図3においては、基材20の第2面22には蛇腹形状部が現れない例を示したが、これに限られることはない。図4に示すように、基材20の第2面22にも蛇腹形状部が現れていてもよい。図4において、符号28及び29は、基材20の第2面22に現れる山部及び谷部を表す。図4に示す例において、第2面22の山部28は、第1面21の谷部27に重なる位置に現れ、第2面22の谷部29は、第1面21の山部26に重なる位置に現れている。なお、図示はしないが、基材20の第2面22の山部28及び谷部29の位置は、第1面21の谷部27及び山部26に重なっていなくてもよい。また、基材20の第2面22の山部28及び谷部29の数又は周期は、第1面21の山部26及び谷部27の数又は周期と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、基材20の第2面22の山部28及び谷部29の周期が、第1面21の山部26及び谷部27の周期よりも大きくてもよい。この場合、基材20の第2面22の山部28及び谷部29の周期は、第1面21の山部26及び谷部27の周期の1.1倍以上であってもよく、1.2倍以上であってもよく、1.5倍以上であってもよく、2.0倍以上であってもよい。なお、「基材20の第2面22の山部28及び谷部29の周期が、第1面21の山部26及び谷部27の周期よりも大きい」とは、基材20の第2面22に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 Although FIG. 3 shows an example in which the bellows-shaped portion does not appear on the second surface 22 of the base material 20, the present invention is not limited to this. As shown in FIG. 4, the bellows-shaped portion may also appear on the second surface 22 of the base material 20. In FIG. 4, reference numerals 28 and 29 represent peaks and valleys appearing on the second surface 22 of the base material 20. In the example shown in FIG. 4, the mountain portion 28 of the second surface 22 appears at a position overlapping the valley portion 27 of the first surface 21, and the valley portion 29 of the second surface 22 is formed on the mountain portion 26 of the first surface 21. Appears in overlapping positions. Although not shown, the positions of the peaks 28 and the valleys 29 of the second surface 22 of the base material 20 do not have to overlap the valleys 27 and 26 of the first surface 21. Further, the number or period of the peaks 28 and 29 of the second surface 22 of the base material 20 may be the same as or different from the number or period of the peaks 26 and 27 of the first surface 21. You may. For example, the period of the peak 28 and the valley 29 of the second surface 22 of the base material 20 may be larger than the period of the peak 26 and the valley 27 of the first surface 21. In this case, the period of the peaks 28 and the valleys 29 of the second surface 22 of the base material 20 may be 1.1 times or more the period of the peaks 26 and the valleys 27 of the first surface 21. . It may be 2 times or more, 1.5 times or more, or 2.0 times or more. It should be noted that "the period of the peaks 28 and the valleys 29 of the second surface 22 of the base material 20 is larger than the period of the peaks 26 and the valleys 27 of the first surface 21" is the second of the base material 20. This is a concept including the case where the peaks and valleys do not appear on the surface 22.
図4において、符号S4は、蛇腹形状部57に重なる部分において基材20の第2面22に現れる山部28及び谷部29の振幅を表す。第2面22の振幅S4は、第1面21の振幅S3と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、第2面22の振幅S4が、第1面21の振幅S3よりも小さくてもよい。例えば、第2面22の振幅S4が、第1面21の振幅S3の0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.6倍以下であってもよい。また、第2面22の振幅S4は、第1面21の振幅S3の0.1倍以上であってもよく、0.2倍以上であってもよい。基材20の厚みが小さい場合、第1面21の振幅S3に対する第2面22の振幅S4の比率が大きくなり易い。なお、「基材20の第2面22の山部28及び谷部29の振幅が、第1面21の山部26及び谷部27の振幅よりも小さい」とは、基材20の第2面22に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 In FIG. 4, reference numeral S4 represents the amplitude of the peak 28 and the valley 29 appearing on the second surface 22 of the base material 20 at the portion overlapping the bellows-shaped portion 57. The amplitude S4 of the second surface 22 may be the same as or different from the amplitude S3 of the first surface 21. For example, the amplitude S4 of the second surface 22 may be smaller than the amplitude S3 of the first surface 21. For example, the amplitude S4 of the second surface 22 may be 0.9 times or less, 0.8 times or less, or 0.6 times or less the amplitude S3 of the first surface 21. Good. Further, the amplitude S4 of the second surface 22 may be 0.1 times or more, or 0.2 times or more, the amplitude S3 of the first surface 21. When the thickness of the base material 20 is small, the ratio of the amplitude S4 of the second surface 22 to the amplitude S3 of the first surface 21 tends to be large. It should be noted that "the amplitude of the peaks 28 and the valleys 29 of the second surface 22 of the base material 20 is smaller than the amplitudes of the peaks 26 and the valleys 27 of the first surface 21" is the second of the base material 20. This is a concept including the case where the peaks and valleys do not appear on the surface 22.
また、図4においては、第2面22の山部28及び谷部29の位置が、第1面21の谷部27及び山部26の位置に一致する例を示したが、これに限られることはない。 Further, in FIG. 4, an example is shown in which the positions of the peaks 28 and 29 of the second surface 22 match the positions of the valleys 27 and 26 of the first surface 21, but the present invention is limited to this. There is no such thing.
配線52の材料としては、蛇腹形状部57の解消及び生成を利用して基材20の伸張及び収縮に追従することができる材料であればよい。配線52の材料は、それ自体が伸縮性を有していてもよく、伸縮性を有していなくてもよい。配線52に用いられ得る、それ自体は伸縮性を有さない材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、クロム等の金属や、これらの金属を含む合金が挙げられる。配線52の材料自体が伸縮性を有さない場合、配線52としては、金属膜を用いることができる。配線52に用いられる材料自体が伸縮性を有する場合、材料の伸縮性は、例えば、基材20の伸縮性と同様である。配線52に用いられ得る、それ自体が伸縮性を有する材料としては、例えば、導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物が挙げられる。導電性粒子としては、配線に使用できるものであればよく、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子が挙げられる。中でも、銀粒子が好ましく用いられる。 The material of the wiring 52 may be any material that can follow the expansion and contraction of the base material 20 by utilizing the elimination and formation of the bellows-shaped portion 57. The material of the wiring 52 may or may not have elasticity by itself. Examples of the material that can be used for the wiring 52 and does not have elasticity by itself include metals such as gold, silver, copper, aluminum, platinum, and chromium, and alloys containing these metals. When the material of the wiring 52 itself does not have elasticity, a metal film can be used as the wiring 52. When the material itself used for the wiring 52 has elasticity, the elasticity of the material is similar to, for example, the elasticity of the base material 20. Examples of the material that can be used for the wiring 52 and has elasticity by itself include a conductive composition containing conductive particles and an elastomer. The conductive particles may be any particles that can be used for wiring, and examples thereof include particles of gold, silver, copper, nickel, palladium, platinum, carbon and the like. Of these, silver particles are preferably used.
好ましくは、配線52は、変形に対する耐性を有する構造を備える。例えば、配線52は、ベース材と、ベース材の中に分散された複数の導電性粒子とを有する。この場合、ベース材として、樹脂などの変形可能な材料を用いることにより、基材20の伸縮に応じて配線52も変形することができる。また、変形が生じた場合であっても複数の導電性粒子の間の接触が維持されるように導電性粒子の分布や形状を設定することにより、配線52の導電性を維持することができる。 Preferably, the wiring 52 has a structure that is resistant to deformation. For example, the wiring 52 has a base material and a plurality of conductive particles dispersed in the base material. In this case, by using a deformable material such as resin as the base material, the wiring 52 can also be deformed according to the expansion and contraction of the base material 20. Further, the conductivity of the wiring 52 can be maintained by setting the distribution and shape of the conductive particles so that the contact between the plurality of conductive particles is maintained even when the deformation occurs. ..
配線52のベース材を構成する材料としては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、例えば、スチレン系エラストマー、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ポリブタジエン、ポリクロロプレン等を用いることができる。中でも、ウレタン系、シリコーン系構造を含む樹脂やゴムが、その伸縮性や耐久性などの面から好ましく用いられる。また、配線52の導電性粒子を構成する材料としては、例えば銀、銅、金、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子を用いることができる。中でも、銀粒子が好ましく用いられる。 As a material constituting the base material of the wiring 52, general thermoplastic elastomers and thermocurable elastomers can be used. For example, styrene-based elastomers, acrylic-based elastomers, olefin-based elastomers, urethane-based elastomers, silicone rubbers, etc. Elastomer rubber, fluororubber, nitrile rubber, polybutadiene, polychloroprene and the like can be used. Among them, resins and rubbers containing urethane-based and silicone-based structures are preferably used in terms of their elasticity and durability. Further, as a material constituting the conductive particles of the wiring 52, for example, particles such as silver, copper, gold, nickel, palladium, platinum, and carbon can be used. Of these, silver particles are preferably used.
配線52の厚みは、基材20の伸縮に耐え得る厚みであればよく、配線52の材料等に応じて適宜選択される。例えば、配線52の材料が伸縮性を有さない場合、配線52の厚みは、25nm以上50μm以下の範囲内とすることができ、50nm以上10μm以下の範囲内であることが好ましく、100nm以上5μm以下の範囲内であることがより好ましい。また、配線52の材料が伸縮性を有する場合、配線52の厚みは、5μm以上60μm以下の範囲内とすることができ、10μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、20μm以上40μm以下の範囲内であることがより好ましい。配線52の幅は、例えば50μm以上且つ10mm以下である。 The thickness of the wiring 52 may be a thickness that can withstand the expansion and contraction of the base material 20, and is appropriately selected depending on the material of the wiring 52 and the like. For example, when the material of the wiring 52 does not have elasticity, the thickness of the wiring 52 can be in the range of 25 nm or more and 50 μm or less, preferably in the range of 50 nm or more and 10 μm or less, and preferably 100 nm or more and 5 μm. It is more preferably within the following range. When the material of the wiring 52 has elasticity, the thickness of the wiring 52 can be in the range of 5 μm or more and 60 μm or less, preferably in the range of 10 μm or more and 50 μm or less, and 20 μm or more and 40 μm or less. It is more preferable that it is within the range. The width of the wiring 52 is, for example, 50 μm or more and 10 mm or less.
配線52の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20上または後述する支持基板40上に蒸着法やスパッタリング法等により金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする方法が挙げられる。あるいは、支持基板40上にCu箔を接着積層した後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする方法が挙げられる。また、配線52の材料自体が伸縮性を有する場合、例えば、基材20上または支持基板40上に一般的な印刷法により上記の導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物をパターン状に印刷する方法が挙げられる。これらの方法のうち、材料効率がよく安価に製作できる印刷法が好ましく用いられ得る。 The method for forming the wiring 52 is appropriately selected depending on the material and the like. For example, a method of forming a metal film on the base material 20 or a support substrate 40 described later by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like and then patterning the metal film by a photolithography method can be mentioned. Alternatively, a method of patterning a metal film by a photolithography method after adhering and laminating a Cu foil on a support substrate 40 can be mentioned. When the material of the wiring 52 itself has elasticity, for example, the conductive composition containing the above-mentioned conductive particles and elastomer is patterned on the base material 20 or the support substrate 40 by a general printing method. There is a method of printing. Of these methods, a printing method that has high material efficiency and can be manufactured at low cost can be preferably used.
蛇腹形状部57が配線52に形成されていることの利点について説明する。上述のように、基材20は、10MPa以下の弾性係数を有する。このため、配線基板10に引張応力を加えた場合、基材20は、弾性変形によって伸長することができる。ここで、仮に配線52も同様に弾性変形によって伸長すると、配線52の全長が増加し、配線52の断面積が減少するので、配線52の抵抗値が増加してしまう。また、配線52の弾性変形に起因して配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことも考えられる。これに対して、本実施形態においては、配線52が蛇腹形状部57を有している。このため、基材20が身張する際、配線52は、蛇腹形状部57の起伏を低減するように変形することによって、すなわち蛇腹形状を解消することによって、基材20の伸張に追従することができる。このため、基材20の伸張に伴って配線52の全長が増加することや、配線52の断面積が減少することを抑制することができる。このことにより、配線基板10の伸張に起因して配線52の抵抗値が増加することを抑制することができる。また、配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことを抑制することができる。 The advantage that the bellows-shaped portion 57 is formed in the wiring 52 will be described. As described above, the base material 20 has an elastic modulus of 10 MPa or less. Therefore, when tensile stress is applied to the wiring board 10, the base material 20 can be stretched by elastic deformation. Here, if the wiring 52 is similarly stretched by elastic deformation, the total length of the wiring 52 increases and the cross-sectional area of the wiring 52 decreases, so that the resistance value of the wiring 52 increases. Further, it is also conceivable that the wiring 52 may be damaged such as cracks due to the elastic deformation of the wiring 52. On the other hand, in the present embodiment, the wiring 52 has a bellows-shaped portion 57. Therefore, when the base material 20 is stretched, the wiring 52 follows the elongation of the base material 20 by deforming the bellows-shaped portion 57 so as to reduce the undulations, that is, by eliminating the bellows shape. Can be done. Therefore, it is possible to prevent the total length of the wiring 52 from increasing and the cross-sectional area of the wiring 52 from decreasing as the base material 20 stretches. As a result, it is possible to suppress an increase in the resistance value of the wiring 52 due to the extension of the wiring board 10. Further, it is possible to prevent the wiring 52 from being damaged such as a crack.
〔電子部品〕
電子部品51は、第1面21側に位置し、導電性の接続部51aを介して配線52に電気的に接続されている。図2に示す例において、配線52は、接続部51aを介して電子部品51の第1方向D1における第1端部511と第1方向D1において第1端部511に対向する電子部品51の第2端部512とに接続されている。接続部51aは、はんだや導電性接着剤などであってもよい。電子部品51は、能動部品であってもよく、受動部品であってもよく、機構部品であってもよい。なお、配線52は、図2に示すように2つの端部511,512のそれぞれに接続されて第1方向D1において対向配置されている場合に限定されず、例えば、2つの端部511,512の一方のみに接続されていてもよいし、または、第1方向D1において対向配置されていなくてもよい。
[Electronic components]
The electronic component 51 is located on the first surface 21 side and is electrically connected to the wiring 52 via the conductive connecting portion 51a. In the example shown in FIG. 2, the wiring 52 is the first end portion 511 of the electronic component 51 in the first direction D1 and the electronic component 51 facing the first end portion 511 in the first direction D1 via the connection portion 51a. It is connected to two ends 512. The connecting portion 51a may be a solder, a conductive adhesive, or the like. The electronic component 51 may be an active component, a passive component, or a mechanical component. Note that the wiring 52 is not limited to the case where the wiring 52 is connected to each of the two ends 511 and 512 and arranged to face each other in the first direction D1 as shown in FIG. 2, for example, the two ends 511 and 512. It may be connected to only one of them, or may not be arranged to face each other in the first direction D1.
電子部品51の例としては、トランジスタ、LSI(Large-Scale Integration)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)、リレー、LED、OLED、LCDなどの発光素子、センサ、ブザー等の発音部品、振動を発する振動部品、冷却発熱をコントロールするペルチェ素子や電熱線などの冷発熱部品、抵抗器、キャパシタ、インダクタ、圧電素子、スイッチ、コネクタなどを挙げることができる。電子部品51の上述の例のうち、センサが好ましく用いられる。センサとしては、例えば、温度センサ、圧力センサ、光センサ、光電センサ、近接センサ、せん断力センサ、生体センサ、レーザーセンサ、マイクロ波センサ、湿度センサ、歪みセンサ、ジャイロセンサ、加速度センサ、変位センサ、磁気センサ、ガスセンサ、GPSセンサ、超音波センサ、臭いセンサ、脳波センサ、電流センサ、振動センサ、脈波センサ、心電センサ、光度センサ等を挙げることができる。これらのセンサのうち、生体センサが特に好ましい。生体センサは、心拍や脈拍、心電、血圧、体温、血中酸素濃度等の生体情報を測定することができる。 Examples of electronic components 51 include transistors, LSI (Large-Scale Integration), MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), relays, light emitting elements such as LEDs, OLEDs, and LCDs, sound components such as sensors and buzzers, and vibrations that generate vibrations. Examples thereof include parts, cold and heat-generating parts such as Perche elements and heating wires that control cooling heat generation, resistors, capacitors, inductors, piezoelectric elements, switches, and connectors. Of the above examples of the electronic component 51, the sensor is preferably used. Examples of sensors include temperature sensors, pressure sensors, optical sensors, photoelectric sensors, proximity sensors, shear force sensors, biosensors, laser sensors, microwave sensors, humidity sensors, strain sensors, gyro sensors, acceleration sensors, displacement sensors, etc. Examples thereof include magnetic sensors, gas sensors, GPS sensors, ultrasonic sensors, odor sensors, brain wave sensors, current sensors, vibration sensors, pulse wave sensors, electrocardiographic sensors, and photometric sensors. Of these sensors, biosensors are particularly preferred. The biosensor can measure biometric information such as heartbeat, pulse, electrocardiogram, blood pressure, body temperature, and blood oxygen concentration.
〔補強部材〕
補強部材30は、基材20を補強することで配線基板10の伸縮にともなう接続部51aの応力を緩和させるために配線基板10に設けられた構造である。補強部材30は、電子部品51に対して面方向に離れて位置している。補強部材30の少なくとも一部は、電子部品51の第1端部511の位置から第2端部512の位置まで少なくとも延びている。
[Reinforcing member]
The reinforcing member 30 has a structure provided on the wiring board 10 in order to relieve the stress of the connecting portion 51a due to the expansion and contraction of the wiring board 10 by reinforcing the base material 20. The reinforcing member 30 is located apart from the electronic component 51 in the surface direction. At least a part of the reinforcing member 30 extends from the position of the first end portion 511 of the electronic component 51 to the position of the second end portion 512.
図1に示す例において、補強部材30は、電子部品51の第1端部511よりも第1方向D1における第1端部511側から、電子部品51の第2端部512よりも第1方向D1における第2端部512側まで連続して設けられている。 In the example shown in FIG. 1, the reinforcing member 30 is from the first end portion 511 side in the first direction D1 of the electronic component 51 with respect to the first end portion 511, and is in the first direction from the second end portion 512 of the electronic component 51. It is continuously provided up to the second end 512 side in D1.
また、図1に示す例において、補強部材30は、第1面21の法線方向から見た場合、すなわち、平面視において、電子部品51を囲む形状を有する。より詳しくは、補強部材30は、平面視において電子部品51の全周を囲む円形状を有する。また、補強部材30は、配線52上または第1面21上に位置する。 Further, in the example shown in FIG. 1, the reinforcing member 30 has a shape surrounding the electronic component 51 when viewed from the normal direction of the first surface 21, that is, in a plan view. More specifically, the reinforcing member 30 has a circular shape surrounding the entire circumference of the electronic component 51 in a plan view. Further, the reinforcing member 30 is located on the wiring 52 or the first surface 21.
電子部品51と補強部材30との面方向における離間距離としては、基材20の伸縮にともなって配線52と電子部品51との接続部51aに作用する応力を緩和させるために好適な距離を採用することができる。例えば、電子部品51と補強部材30との面方向における離間距離は、0.1mm以上且つ5mm以下である。 As the separation distance between the electronic component 51 and the reinforcing member 30 in the plane direction, a suitable distance is adopted to alleviate the stress acting on the connection portion 51a between the wiring 52 and the electronic component 51 as the base material 20 expands and contracts. can do. For example, the separation distance between the electronic component 51 and the reinforcing member 30 in the plane direction is 0.1 mm or more and 5 mm or less.
補強部材30は、基材20の弾性係数よりも大きい弾性係数を有してもよい。補強部材30の弾性係数は、例えば10GPa以上500GPa以下であり、より好ましくは1GPa以上300GPa以下である。補強部材30の弾性係数が低すぎると、基材20の伸縮を制御しにくい場合がある。また、補強部材30の弾性係数が高すぎると、基材20が伸縮した際に、割れやひびなど構造の破壊が補強部材30に起こる場合がある。補強部材30の弾性係数は、基材20の弾性係数の1.1倍以上1000000倍以下であってもよく、より好ましくは10倍以上300000倍以下である。 The reinforcing member 30 may have an elastic modulus larger than the elastic modulus of the base material 20. The elastic modulus of the reinforcing member 30 is, for example, 10 GPa or more and 500 GPa or less, and more preferably 1 GPa or more and 300 GPa or less. If the elastic modulus of the reinforcing member 30 is too low, it may be difficult to control the expansion and contraction of the base material 20. Further, if the elastic modulus of the reinforcing member 30 is too high, the reinforcing member 30 may be damaged in structure such as cracks and cracks when the base material 20 expands and contracts. The elastic modulus of the reinforcing member 30 may be 1.1 times or more and 1,000,000 times or less of the elastic modulus of the base material 20, and more preferably 10 times or more and 300,000 times or less.
このような補強部材30を基材20に設けることにより、基材20のうちの伸縮抑制領域Aが伸縮することを抑制することができる。伸縮抑制領域Aとは、基材20のうち、補強部材30が延びている方向に交差する方向において補強部材30に隣接する領域であって、電子部品51が位置する領域を含む領域をいう。図1に示す例において、伸縮抑制領域Aは、補強部材30で囲まれた領域である。 By providing such a reinforcing member 30 on the base material 20, it is possible to prevent the expansion / contraction suppressing region A of the base material 20 from expanding / contracting. The expansion / contraction suppression region A is a region of the base material 20 adjacent to the reinforcing member 30 in a direction intersecting the extending direction of the reinforcing member 30, and includes a region in which the electronic component 51 is located. In the example shown in FIG. 1, the expansion / contraction suppression region A is a region surrounded by the reinforcing member 30.
伸縮抑制領域Aの伸縮を抑制することにより、配線基板10の伸縮にともなって配線52と電子部品51との接続部51aに作用する応力を緩和させることができる。接続部51aに作用する応力を緩和させることで、配線52の断線および配線52と電子部品51との接続不良を防止することができる。 By suppressing the expansion and contraction of the expansion and contraction suppression region A, the stress acting on the connection portion 51a between the wiring 52 and the electronic component 51 due to the expansion and contraction of the wiring board 10 can be relaxed. By relaxing the stress acting on the connection portion 51a, it is possible to prevent disconnection of the wiring 52 and poor connection between the wiring 52 and the electronic component 51.
また、電子部品51の全周を囲むように補強部材30を設けることにより、基材20が面方向のうち複数の方向に伸縮する場合においても、各方向への伸縮にともなって配線52と電子部品51との接続部51aに作用する応力を効果的に緩和することができる。 Further, by providing the reinforcing member 30 so as to surround the entire circumference of the electronic component 51, even when the base material 20 expands and contracts in a plurality of directions in the plane direction, the wiring 52 and the electrons are expanded and contracted in each direction. The stress acting on the connection portion 51a with the component 51 can be effectively relieved.
補強部材30の弾性係数を算出する方法は、補強部材30の形態に応じて適宜定められる。例えば、補強部材30の弾性係数を算出する方法は、上述の基材20の弾性係数を算出する方法と同様であってもよく、異なっていてもよい。後述する支持基板40の弾性係数も同様である。例えば、補強部材30又は支持基板40の弾性係数を算出する方法として、補強部材30又は支持基板40のサンプルを用いて、ASTM D882に準拠して引張試験を実施するという方法を採用することができる。 The method for calculating the elastic modulus of the reinforcing member 30 is appropriately determined according to the form of the reinforcing member 30. For example, the method of calculating the elastic modulus of the reinforcing member 30 may be the same as or different from the method of calculating the elastic modulus of the base material 20 described above. The elastic modulus of the support substrate 40 described later is also the same. For example, as a method for calculating the elastic modulus of the reinforcing member 30 or the supporting substrate 40, a method of performing a tensile test in accordance with ASTM D882 using a sample of the reinforcing member 30 or the supporting substrate 40 can be adopted. ..
補強部材30を構成する材料として、金属材料を用いることができる。金属材料の例としては、銅、アルミニウム、ステンレス鋼等を挙げることができる。また、補強部材30を構成する材料として、一般的な熱可塑性エラストマーや、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、ポリエステル系、エポキシ系、ビニルエーテル系、ポリエン・チオール系又はシリコーン系等のオリゴマー、ポリマーなどを用いてもよい。補強部材30を構成する材料がこれらの樹脂である場合、補強部材30は、透明性を有していてもよい。また、補強部材30は、遮光性、例えば紫外線を遮蔽する特性を有していてもよい。例えば、補強部材30は黒色であってもよい。また、補強部材30の色と基材20の色とが同一であってもよい。補強部材30の厚みは、例えば1μm以上500μm以下である。 A metal material can be used as the material constituting the reinforcing member 30. Examples of metal materials include copper, aluminum, stainless steel and the like. Further, as a material constituting the reinforcing member 30, a general thermoplastic elastomer, an acrylic-based, urethane-based, epoxy-based, polyester-based, epoxy-based, vinyl ether-based, polyene-thiol-based or silicone-based oligomer, polymer, etc. May be used. When the material constituting the reinforcing member 30 is these resins, the reinforcing member 30 may have transparency. Further, the reinforcing member 30 may have a light-shielding property, for example, a property of shielding ultraviolet rays. For example, the reinforcing member 30 may be black. Further, the color of the reinforcing member 30 and the color of the base material 20 may be the same. The thickness of the reinforcing member 30 is, for example, 1 μm or more and 500 μm or less.
補強部材30の特性を、弾性係数に替えて曲げ剛性によって表してもよい。補強部材30の断面二次モーメントは、配線基板10の伸縮方向に直交する平面によって補強部材30を切断した場合の断面に基づいて算出される。補強部材30の曲げ剛性は、基材20の曲げ剛性の1.1倍以上であってもよく、より好ましくは2倍以上であり、更に好ましくは10倍以上である。 The characteristic of the reinforcing member 30 may be expressed by flexural rigidity instead of the elastic modulus. The moment of inertia of area of the reinforcing member 30 is calculated based on the cross section when the reinforcing member 30 is cut by a plane orthogonal to the expansion / contraction direction of the wiring board 10. The bending rigidity of the reinforcing member 30 may be 1.1 times or more, more preferably 2 times or more, and further preferably 10 times or more the bending rigidity of the base material 20.
補強部材30の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20上または配線52上に蒸着法やスパッタリング法等により金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする方法が挙げられる。また、基材20上または配線52上にスピンコート法などの印刷法等により全面に有機層などの樹脂膜を形成した後、フォトリソグラフィ法により樹脂膜をパターニングする方法が挙げられる。また、例えば、基材20上または配線52上に一般的な印刷法により補強部材30の材料をパターン状に印刷する方法が挙げられる。これらの方法のうち、材料効率がよく安価に製作できる印刷法が好ましく用いられ得る。 The method for forming the reinforcing member 30 is appropriately selected depending on the material and the like. For example, a method of forming a metal film on the base material 20 or the wiring 52 by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like, and then patterning the metal film by a photolithography method can be mentioned. Another method is to form a resin film such as an organic layer on the entire surface of the base material 20 or the wiring 52 by a printing method such as a spin coating method, and then pattern the resin film by a photolithography method. Further, for example, a method of printing the material of the reinforcing member 30 in a pattern on the base material 20 or the wiring 52 by a general printing method can be mentioned. Of these methods, a printing method that has high material efficiency and can be manufactured at low cost can be preferably used.
(配線基板の製造方法)
以下、図5(a)〜(d)を参照して、配線基板10の製造方法について説明する。
(Manufacturing method of wiring board)
Hereinafter, a method of manufacturing the wiring board 10 will be described with reference to FIGS. 5A to 5D.
まず、図5(a)に示すように、伸縮性を有する基材20を準備する基材準備工程を実施する。 First, as shown in FIG. 5A, a base material preparation step for preparing the base material 20 having elasticity is carried out.
基材準備工程を実施した後、図5(b)に示すように、基材20に第1方向D1への引張応力Tを加えて基材20を伸長させる伸長工程を実施する。伸長工程を実施した後、引張応力Tによって伸長した状態の基材20の第1面21に、基材20の伸長方向に沿った長手方向を有する配線52を設ける第1設置工程と、接続部51aを介して配線52に電子部品51を接続する接続工程とを実施する。 After carrying out the base material preparation step, as shown in FIG. 5B, an elongation step of applying a tensile stress T in the first direction D1 to the base material 20 to extend the base material 20 is carried out. After performing the stretching step, the first installation step of providing the wiring 52 having the longitudinal direction along the stretching direction of the base material 20 on the first surface 21 of the base material 20 stretched by the tensile stress T, and the connecting portion. A connection step of connecting the electronic component 51 to the wiring 52 via the 51a is performed.
第1設置工程および接続工程を実施した後、図5(c)に示すように、引張応力Tによって伸長した状態の基材20の第1面21側に、電子部品51に対して面方向に離れて位置するように補強部材30を設ける第2設置工程を実施する。 After performing the first installation step and the connection step, as shown in FIG. 5 (c), on the first surface 21 side of the base material 20 in a state of being stretched by the tensile stress T, in the plane direction with respect to the electronic component 51. The second installation step of providing the reinforcing member 30 so as to be located apart from each other is carried out.
第2設置工程においては、補強部材30の少なくとも一部が電子部品51の第1端部511の位置から第2端部512の位置まで少なくとも延びるように補強部材30を設ける。 In the second installation step, the reinforcing member 30 is provided so that at least a part of the reinforcing member 30 extends from the position of the first end portion 511 of the electronic component 51 to the position of the second end portion 512.
第2設置工程を実施した後、基材20から引張応力Tを取り除く収縮工程を実施する。これにより、図5(d)において矢印Cで示すように、基材20が収縮し、基材20に設けられている配線52にも変形が生じる。 After carrying out the second installation step, a shrinkage step of removing the tensile stress T from the base material 20 is carried out. As a result, as shown by the arrow C in FIG. 5D, the base material 20 contracts, and the wiring 52 provided on the base material 20 is also deformed.
ここで本実施形態においては、基材20の第1面21側に、少なくとも電子部品51の第1端部511の位置から第2端部512の位置まで延びるように補強部材30が設けられている。 Here, in the present embodiment, the reinforcing member 30 is provided on the first surface 21 side of the base material 20 so as to extend from at least the position of the first end portion 511 of the electronic component 51 to the position of the second end portion 512. There is.
このため、基材20から引張応力Tを取り除いたときに、補強部材30は、基材20の収縮に抗するように収縮方向への自身の変形を抑制することで、補強部材30が延びている方向に交差する方向において補強部材30に隣接する領域であって電子部品51が位置する領域を含む伸縮抑制領域Aにおいて、基材20が収縮することを抑制することができる。 Therefore, when the tensile stress T is removed from the base material 20, the reinforcing member 30 suppresses its own deformation in the contraction direction so as to resist the contraction of the base material 20, so that the reinforcing member 30 extends. It is possible to suppress the shrinkage of the base material 20 in the expansion / contraction suppressing region A including the region adjacent to the reinforcing member 30 in the direction intersecting the direction in which the electronic component 51 is located.
補強部材30によって伸縮抑制領域Aにおける基材20の収縮が抑制されることで、配線基板10の収縮にともなって配線52と電子部品51との接続部51aに作用する応力を緩和させることができる。 By suppressing the shrinkage of the base material 20 in the expansion / contraction suppression region A by the reinforcing member 30, the stress acting on the connection portion 51a between the wiring 52 and the electronic component 51 due to the shrinkage of the wiring board 10 can be relaxed. ..
また、補強部材30は、このような配線基板10の製造時に限らず、配線基板10の使用時においても、基材20の伸縮にともなって接続部51aに作用する応力を緩和することができる。例えば、配線基板10の使用時に基材20に引張応力が作用したときに、補強部材30は、基材20の伸長に抗するように伸長方向への自身の変形を抑制して伸縮抑制領域Aにおいて基材20が伸長することを抑制することで、接続部51aに作用する応力を緩和させることができる。 Further, the reinforcing member 30 can relieve the stress acting on the connecting portion 51a as the base material 20 expands and contracts, not only when the wiring board 10 is manufactured but also when the wiring board 10 is used. For example, when a tensile stress acts on the base material 20 when the wiring board 10 is used, the reinforcing member 30 suppresses its own deformation in the stretching direction so as to resist the stretching of the base material 20, and the expansion / contraction suppressing region A By suppressing the elongation of the base material 20 in the above, the stress acting on the connecting portion 51a can be relaxed.
配線基板10の用途としては、ヘルスケア分野、医療分野、介護分野、エレクトロニクス分野、スポーツ・フィットネス分野、美容分野、モビリティ分野、畜産・ペット分野、アミューズメント分野、ファッション・アパレル分野、セキュリティ分野、ミリタリー分野、流通分野、教育分野、建材・家具・装飾分野、環境エネルギー分野、農林水産分野、ロボット分野などを挙げることができる。例えば、人の腕などの身体の一部に取り付ける製品を、本実施の形態による配線基板10を用いて構成する。配線基板10は伸長することができるので、例えば配線基板10を伸長させた状態で身体に取り付けることにより、配線基板10を身体の一部により密着させることができる。このため、良好な着用感を実現することができる。また、配線基板10が伸長した場合に配線52の抵抗値が低下することを抑制することができるので、配線基板10の良好な電気特性を実現することができる。他にも配線基板10は伸長することができるので、人などの生体に限らず曲面や立体形状に沿わせて設置や組込むことが可能である。それらの製品の一例としては、バイタルセンサ、マスク、補聴器、歯ブラシ、絆創膏、湿布、コンタクトレンズ、義手、義足、義眼、カテーテル、ガーゼ、薬液パック、包帯、ディスポーザブル生体電極、おむつ、家電製品、スポーツウェア、リストバンド、はちまき、手袋、水着、サポーター、ボール、ラケット、薬液浸透美容マスク、電気刺激ダイエット用品、懐炉、自動車内装、シート、インパネ、ベビーカー、ドローン、車椅子、タイヤ、首輪、リード、ハプティクスデバイス、ランチョンマット、帽子、服、メガネ、靴、インソール、靴下、ストッキング、インナーウェア、マフラー、耳あて、鞄、アクセサリー、指輪、付け爪、時計、個人ID認識デバイス、ヘルメット、パッケージ、ICタグ、ペットボトル、文具、書籍、カーペット、ソファ、寝具、照明、ドアノブ、花瓶、ベッド、マットレス、座布団、ワイヤレス給電アンテナ、電池、ビニールハウス、ロボットハンド、ロボット外装を挙げることができる。 Applications of the wiring board 10 include healthcare field, medical field, nursing care field, electronics field, sports / fitness field, beauty field, mobility field, livestock / pet field, amusement field, fashion / apparel field, security field, and military field. , Distribution field, education field, building materials / furniture / decoration field, environmental energy field, agriculture, forestry and fisheries field, robot field, etc. For example, a product to be attached to a part of the body such as a human arm is configured by using the wiring board 10 according to the present embodiment. Since the wiring board 10 can be extended, for example, by attaching the wiring board 10 to the body in an extended state, the wiring board 10 can be brought into close contact with a part of the body. Therefore, a good wearing feeling can be realized. Further, since it is possible to suppress a decrease in the resistance value of the wiring 52 when the wiring board 10 is extended, it is possible to realize good electrical characteristics of the wiring board 10. In addition, since the wiring board 10 can be extended, it can be installed or incorporated along a curved surface or a three-dimensional shape, not limited to a living body such as a human being. Examples of these products include vital sensors, masks, hearing aids, toothbrushes, adhesive plasters, wetclothes, contact lenses, artificial hands, artificial legs, artificial eyes, catheters, gauze, chemical packs, bandages, disposable bioelectrodes, diapers, home appliances, sportswear. , Wristbands, earmuffs, gloves, swimwear, supporters, balls, rackets, chemical penetration beauty masks, electrical stimulation diet supplies, pocket furnaces, automobile interiors, seats, instrument panels, strollers, drones, wheelchairs, tires, collars, leads, haptics devices , Luncheon mats, hats, clothes, glasses, shoes, insoles, socks, stockings, innerwear, mufflers, earmuffs, bags, accessories, rings, claws, watches, personal ID recognition devices, helmets, packages, IC tags, pets Examples include bottles, stationery, books, carpets, sofas, bedding, lighting, doorknobs, vases, beds, mattresses, cushions, wireless power antennas, batteries, vinyl houses, robot hands, and robot exteriors.
なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。 It is possible to make various changes to the above-described embodiment. Hereinafter, a modified example will be described with reference to the drawings as necessary. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding portions in the above-described embodiment will be used for the portions that can be configured in the same manner as in the above-described embodiment. Duplicate description is omitted. Further, when it is clear that the action and effect obtained in the above-described embodiment can be obtained in the modified example, the description thereof may be omitted.
(第1変形例)
まず、図6を参照して、配線52が伸縮性を有し且つ蛇腹形状部57を有しない第1変形例について説明する。
(First modification)
First, with reference to FIG. 6, a first modified example in which the wiring 52 has elasticity and does not have the bellows-shaped portion 57 will be described.
図1〜図5(a)〜(d)では、引張応力Tによって伸長させた基材20に配線52、電子部品51および補強部材30を設けた後に引張応力Tを取り除くことで、伸縮抑制領域Aを除いて蛇腹形状部57が設けられた配線基板10の例について説明した。図1〜図5(a)〜(d)に示す例においては、補強部材30によって、引張応力Tを取り除いた際に伸縮抑制領域A内において基材20が収縮することを抑制することで、基材20の収縮にともなって接続部51aに作用する応力を緩和している。 1 to 5 (a) to 5 (d) show a stretch suppression region by removing the tensile stress T after providing the wiring 52, the electronic component 51 and the reinforcing member 30 on the base material 20 stretched by the tensile stress T. An example of the wiring board 10 provided with the bellows-shaped portion 57 except for A has been described. In the examples shown in FIGS. 1 to 5 (a) to 5 (d), the reinforcing member 30 suppresses the shrinkage of the base material 20 in the expansion / contraction suppressing region A when the tensile stress T is removed. The stress acting on the connecting portion 51a as the base material 20 shrinks is relaxed.
これに対して、図6に示す例における配線基板10は、配線52自体が伸縮性を有し、配線52に蛇腹形状部57が設けられていない。配線52自体が伸縮性を有することで、蛇腹形状部57を設けずとも配線基板10を伸縮させて使用することができる。伸縮性を有する配線52の材料としては、上述した、それ自体が伸縮性を有する材料や、銀ペーストなどを用いることができる。配線52は、平面視において図1と同様に直線形状を有していてもよいし、または、馬蹄形状等の直線形状以外の形状を有していてもよい。 On the other hand, in the wiring board 10 in the example shown in FIG. 6, the wiring 52 itself has elasticity, and the wiring 52 is not provided with the bellows-shaped portion 57. Since the wiring 52 itself has elasticity, the wiring board 10 can be expanded and contracted without providing the bellows-shaped portion 57. As the material of the wiring 52 having elasticity, the above-mentioned material having elasticity by itself, silver paste, or the like can be used. The wiring 52 may have a linear shape as in FIG. 1 in a plan view, or may have a shape other than the linear shape such as a horseshoe shape.
図6に示す例における配線基板10は、引張応力T1によって基材20を伸長させることなく、第1面21側に配線52、電子部品51および補強部材30を設けることで製造することができる。 The wiring board 10 in the example shown in FIG. 6 can be manufactured by providing the wiring 52, the electronic component 51, and the reinforcing member 30 on the first surface 21 side without stretching the base material 20 due to the tensile stress T1.
図6に示す例によれば、基材20を伸長させる工程を要しないので、配線基板10の製造工数を削減することができる。また、基材20の引張応力T1を取り除く工程も要しないので、基材20の引張応力T1を取り除くことにともなう基材20の収縮応力が接続部51aに作用することもない。 According to the example shown in FIG. 6, since the step of extending the base material 20 is not required, the man-hours for manufacturing the wiring board 10 can be reduced. Further, since the step of removing the tensile stress T1 of the base material 20 is not required, the shrinkage stress of the base material 20 accompanying the removal of the tensile stress T1 of the base material 20 does not act on the connecting portion 51a.
また、図6に示す例によれば、補強部材30は、配線基板10の使用時に基材20に引張応力が作用したときに、基材20の伸長に抗するように伸長方向への自身の変形を抑制することで、伸縮抑制領域Aにおいて基材20が伸長することを抑制することができる。これにより、接続部51aに作用する応力を緩和させることができる。 Further, according to the example shown in FIG. 6, when the reinforcing member 30 exerts a tensile stress on the base material 20 when the wiring board 10 is used, the reinforcing member 30 itself in the stretching direction so as to resist the stretching of the base material 20. By suppressing the deformation, it is possible to suppress the elongation of the base material 20 in the expansion / contraction suppressing region A. As a result, the stress acting on the connecting portion 51a can be relaxed.
(第2変形例)
次に、図7を参照して、配線52を支持する支持基板を備える第2変形例について説明する。
(Second modification)
Next, with reference to FIG. 7, a second modified example including a support substrate that supports the wiring 52 will be described.
図7に示す例における配線基板10は、図1および図2の配線基板10の構成に加えて、更に、支持基板40を備える。支持基板40は、基材20よりも低い伸縮性を有するよう構成された板状の部材である。支持基板40は、第1面21と配線52との間に位置し、配線52を支持する。支持基板40は、基材20側に位置する第2面42と、第2面42の反対側に位置する第1面41と、を含む。図7に示す例において、支持基板40は、その第1面41側において電子部品51及び配線52を支持している。また、支持基板40は、その第2面42側において基材20の第1面21に接合されている。例えば、基材20と支持基板40との間に、接着剤を含む接着層60が設けられていてもよい。接着層60を構成する材料としては、例えばアクリル系接着剤、シリコーン系接着剤等を用いることができる。接着層60の厚みは、例えば5μm以上且つ200μm以下である。また、図示はしないが、非接着表面を分子修飾させて、分子接着結合させる方法によって支持基板40の第2面42が基材20の第1面21に接合されていてもよい。この場合、基材20と支持基板40との間に接着層が設けられていなくてもよい。 The wiring board 10 in the example shown in FIG. 7 further includes a support board 40 in addition to the configuration of the wiring board 10 of FIGS. 1 and 2. The support substrate 40 is a plate-shaped member configured to have lower elasticity than the substrate 20. The support substrate 40 is located between the first surface 21 and the wiring 52, and supports the wiring 52. The support substrate 40 includes a second surface 42 located on the base material 20 side and a first surface 41 located on the opposite side of the second surface 42. In the example shown in FIG. 7, the support substrate 40 supports the electronic component 51 and the wiring 52 on the first surface 41 side thereof. Further, the support substrate 40 is joined to the first surface 21 of the base material 20 on the second surface 42 side thereof. For example, an adhesive layer 60 containing an adhesive may be provided between the base material 20 and the support substrate 40. As the material constituting the adhesive layer 60, for example, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, or the like can be used. The thickness of the adhesive layer 60 is, for example, 5 μm or more and 200 μm or less. Further, although not shown, the second surface 42 of the support substrate 40 may be bonded to the first surface 21 of the base material 20 by a method in which the non-adhesive surface is molecularly modified and molecularly bonded. In this case, the adhesive layer may not be provided between the base material 20 and the support substrate 40.
支持基板40の厚みは、例えば500nm以上10μm以下であり、より好ましくは1μm以上5μm以下である。支持基板40の厚みが小さすぎると、支持基板40の製造工程や、支持基板40上に部材を形成する工程における、支持基板40のハンドリングが難しくなる。支持基板40の厚みが大きすぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、目標の基材20の伸縮が得られなくなる。 The thickness of the support substrate 40 is, for example, 500 nm or more and 10 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 5 μm or less. If the thickness of the support substrate 40 is too small, it becomes difficult to handle the support substrate 40 in the process of manufacturing the support substrate 40 and the process of forming a member on the support substrate 40. If the thickness of the support substrate 40 is too large, it becomes difficult to restore the base material 20 at the time of relaxation, and the target base material 20 cannot be expanded or contracted.
支持基板40を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂等を用いることができる。その中でも、耐久性や耐熱性がよいポリエチレンナフタレートかポリイミドが好ましく用いられ得る。 As the material constituting the support substrate 40, for example, polyethylene naphthalate, polyimide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic resin and the like can be used. Among them, polyethylene naphthalate or polyimide having good durability and heat resistance can be preferably used.
図5(a)〜(d)に示す例においては、引張応力Tによって伸長した状態の基材20上に、配線52、電子部品51および補強部材30を設ける。これに対して、第2の変形例によれば、非伸長状態の支持基板40上に配線52、電子部品51および補強部材30を設けた後に、引張応力Tによって伸長した状態の基材20上に、配線52、電子部品51および補強部材30が設けられた支持基板40を接合し、その後、引張応力Tを取り除くことで、蛇腹形状部57を有する配線基板10を得ることができる。 In the examples shown in FIGS. 5A to 5D, the wiring 52, the electronic component 51, and the reinforcing member 30 are provided on the base material 20 in a state of being stretched by the tensile stress T. On the other hand, according to the second modification, the wiring 52, the electronic component 51, and the reinforcing member 30 are provided on the non-stretched support substrate 40, and then the base material 20 is stretched by the tensile stress T. The wiring board 10 having the bellows-shaped portion 57 can be obtained by joining the support substrate 40 provided with the wiring 52, the electronic component 51, and the reinforcing member 30, and then removing the tensile stress T.
図7に示す例によれば、非伸長状態の支持基板40上に配線52、電子部品51および補強部材30を安定的に搭載することができるので、蛇腹形状部57を有する配線基板10の製造の容易性を向上させることができる。 According to the example shown in FIG. 7, since the wiring 52, the electronic component 51, and the reinforcing member 30 can be stably mounted on the support substrate 40 in the non-extended state, the wiring board 10 having the bellows-shaped portion 57 is manufactured. The ease of use can be improved.
(第3変形例)
これまでは、配線52上または第1面21上に補強部材30が設けられた配線基板10の例について説明した。これに対して、図8および図9に示すように、補強部材30は、第1面21と配線52との間または第1面21上に位置していてもよい。この場合、配線基板10は、図8に示すように蛇腹形状部57を有していなくてもよく、または、図9に示すように蛇腹形状部57を有していてもよい。
(Third modification example)
So far, an example of the wiring board 10 in which the reinforcing member 30 is provided on the wiring 52 or the first surface 21 has been described. On the other hand, as shown in FIGS. 8 and 9, the reinforcing member 30 may be located between the first surface 21 and the wiring 52 or on the first surface 21. In this case, the wiring board 10 may not have the bellows-shaped portion 57 as shown in FIG. 8, or may have the bellows-shaped portion 57 as shown in FIG.
(第4変形例)
また、図10および図11に示すように、補強部材30は、第1面21に設けられた凹部21a内に位置していてもよい。この場合、配線基板10は、図10に示すように蛇腹形状部57を有していなくてもよく、または、図11に示すように蛇腹形状部57を有していてもよい。
(Fourth modification)
Further, as shown in FIGS. 10 and 11, the reinforcing member 30 may be located in the recess 21a provided on the first surface 21. In this case, the wiring board 10 may not have the bellows-shaped portion 57 as shown in FIG. 10, or may have the bellows-shaped portion 57 as shown in FIG.
(第5変形例)
また、図12および図13に示すように、補強部材30は、基材20の内部に埋め込まれていてもよい。この場合、配線基板10は、図12に示すように蛇腹形状部57を有していなくてもよく、または、図13に示すように蛇腹形状部57を有していてもよい。このような基材20及び補強部材30は、例えば、型の中に樹脂を流し込み、型の樹脂を固めることによって基材20を作製する場合に、型の中に補強部材30を適切なタイミングで投入することによって得られる。
(Fifth modification)
Further, as shown in FIGS. 12 and 13, the reinforcing member 30 may be embedded inside the base material 20. In this case, the wiring board 10 may not have the bellows-shaped portion 57 as shown in FIG. 12, or may have the bellows-shaped portion 57 as shown in FIG. In such a base material 20 and the reinforcing member 30, for example, when the base material 20 is produced by pouring resin into a mold and solidifying the resin of the mold, the reinforcing member 30 is placed in the mold at an appropriate timing. Obtained by throwing.
(第6変形例)
また、図14および図15に示すように、補強部材30は、第2面22上に位置していてもよい。この場合、配線基板10は、図14に示すように蛇腹形状部57を有していなくてもよく、または、図15に示すように蛇腹形状部57を有していてもよい。
(6th modification)
Further, as shown in FIGS. 14 and 15, the reinforcing member 30 may be located on the second surface 22. In this case, the wiring board 10 may not have the bellows-shaped portion 57 as shown in FIG. 14, or may have the bellows-shaped portion 57 as shown in FIG.
(第7変形例)
これまでは、補強部材30が平面視において電子部品51の全周を囲む円形状を有する配線基板10の例について説明した。これに対して、図16に示すように、補強部材30は、平面視において電子部品51の全周を囲む矩形状を有していてもよい。
(7th modification)
So far, an example of a wiring board 10 in which the reinforcing member 30 has a circular shape surrounding the entire circumference of the electronic component 51 in a plan view has been described. On the other hand, as shown in FIG. 16, the reinforcing member 30 may have a rectangular shape that surrounds the entire circumference of the electronic component 51 in a plan view.
(第8変形例)
また、図17に示すように、補強部材30は、平面視において電子部品51を部分的に囲む形状を有していてもよい。図17に示す例において、補強部材30は、配線52上の部分が欠落した略矩形状を有している。
(8th modification)
Further, as shown in FIG. 17, the reinforcing member 30 may have a shape that partially surrounds the electronic component 51 in a plan view. In the example shown in FIG. 17, the reinforcing member 30 has a substantially rectangular shape in which the portion on the wiring 52 is missing.
(第9の変形例)
また、図18に示すように、補強部材30は、平面視において第1方向D1に沿った直線形状を有していてもよい。
(9th variant)
Further, as shown in FIG. 18, the reinforcing member 30 may have a linear shape along the first direction D1 in a plan view.
(第10の変形例)
これまでは、補強部材30が電子部品51の第1端部511の位置から電子部品51の第2端部512の位置まで連続している配線基板10の例について説明した。これに対して、基材20の収縮時における接続部51aの応力を緩和するという補強部材30の効果を阻害しない程度において、第1端部511の位置と第2端部512の位置との間の補強部材30を第1方向D1において不連続に設けてもよい。
(10th variant)
So far, an example of a wiring board 10 in which the reinforcing member 30 is continuous from the position of the first end portion 511 of the electronic component 51 to the position of the second end portion 512 of the electronic component 51 has been described. On the other hand, between the position of the first end portion 511 and the position of the second end portion 512 to the extent that the effect of the reinforcing member 30 of relaxing the stress of the connecting portion 51a when the base material 20 is contracted is not impaired. Reinforcing member 30 may be provided discontinuously in the first direction D1.
(第11の変形例)
これまでは、基材20の第1面21側に搭載された電子部品51を備える配線基板10の例について説明した。しかしながら、これに限られることはなく、配線基板10は、電子部品51を備えていなくてもよい。例えば、電子部品51が搭載されていない状態の基材20に蛇腹形状部57が生じていてもよい。また、電子部品51が搭載されていない状態の支持基板40が基材20に貼り合されてもよい。また、配線基板10は、電子部品51が搭載されていない状態で出荷されてもよい。
(11th variant)
So far, an example of a wiring board 10 including an electronic component 51 mounted on the first surface 21 side of the base material 20 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the wiring board 10 may not include the electronic component 51. For example, the bellows-shaped portion 57 may be formed on the base material 20 in which the electronic component 51 is not mounted. Further, the support substrate 40 in which the electronic component 51 is not mounted may be bonded to the base material 20. Further, the wiring board 10 may be shipped in a state where the electronic component 51 is not mounted.
(第12の変形例)
これまでは、伸縮抑制領域A内に蛇腹形状部57が形成されない例について説明した。これに対して、図19に示すように、伸縮抑制領域A内に、伸縮抑制領域A外の蛇腹形状部57よりも振幅が減衰した蛇腹形状部57aが形成されてもよい。
(12th variant)
So far, an example in which the bellows-shaped portion 57 is not formed in the expansion / contraction suppressing region A has been described. On the other hand, as shown in FIG. 19, a bellows-shaped portion 57a whose amplitude is attenuated more than that of the bellows-shaped portion 57 outside the expansion / contraction suppression region A may be formed in the expansion / contraction suppression region A.
次に、本開示を実施例及び比較例により更に具体的に説明するが、本開示はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。 Next, the present disclosure will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present disclosure is not limited to the description of the following Examples as long as the gist is not exceeded.
(実施例1)
配線基板10として、図1に示すような、基材20の第1面21に配線52および補強部材30が設けられたものを作製した。以下、配線基板10の作製方法について説明する。
(Example 1)
As the wiring board 10, a wiring board 10 having a wiring 52 and a reinforcing member 30 provided on the first surface 21 of the base material 20 as shown in FIG. 1 was produced. Hereinafter, a method for manufacturing the wiring board 10 will be described.
基材20として厚み80μmのウレタンシートを用い、ウレタンシート上に溶媒、バインダー樹脂および銀の導電性粒子を含む導電性ペーストをスクリーン印刷によりパターニングした。溶媒としては、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを用いた。バインダー樹脂としては、ウレタンを用いた。パターニング後、オーブンにて80℃30分間にわたってアニール処理をし、溶媒を揮発させて、配線52を形成した。配線52は、20μmの厚み、200μmの線幅を有し、且つ、500μmの間隔が空けられた電極対となるよう構成された。また、基材20として用いたウレタンシートの弾性係数を、JISK6251に準拠した試験にて測定した。結果、弾性係数は5Mpaであった。 A urethane sheet having a thickness of 80 μm was used as the base material 20, and a conductive paste containing a solvent, a binder resin, and silver conductive particles was patterned on the urethane sheet by screen printing. Diethylene glycol monoethyl ether acetate was used as the solvent. Urethane was used as the binder resin. After patterning, annealing treatment was performed in an oven at 80 ° C. for 30 minutes to volatilize the solvent to form the wiring 52. The wiring 52 was configured to be an electrode pair having a thickness of 20 μm, a line width of 200 μm, and an interval of 500 μm. Further, the elastic modulus of the urethane sheet used as the base material 20 was measured by a test based on JIS K6251. As a result, the elastic modulus was 5 Mpa.
次いで、電極対の中心を取り囲むように補強部材30を設けた。補強部材30は弘輝社製のJU−120EBをディスペンサーにて塗布パターンし、130℃にて硬化させた。パターン形状としては、電極対を中心として半径3mmの円周形状となるように幅1mm、厚み200μmにてパターンした。ここで、補強部材30の弾性係数を、ASTM D882に準拠した試験にて測定した。結果、弾性係数は6Gpaであった。 Next, the reinforcing member 30 was provided so as to surround the center of the electrode pair. The reinforcing member 30 was coated with JU-120EB manufactured by Kouki Co., Ltd. using a dispenser and cured at 130 ° C. The pattern shape was 1 mm wide and 200 μm thick so as to have a circumferential shape with a radius of 3 mm centered on the electrode pair. Here, the elastic modulus of the reinforcing member 30 was measured by a test based on ASTM D882. As a result, the elastic modulus was 6 Gpa.
次いで、電極対間に、1.0×0.5mmの寸法を有するLEDチップを導電性接着剤を用いて搭載した。導電性接着剤としては、化研テック社製のCL−3160を用いた。このようにして形成された配線基板10を配線と平行方向に引っ張り、30%伸長させた。この際、LED接続部に掛かる引っ張り応力が補強部材30にて緩和され、LEDチップの導通接続は維持されており、LEDチップは点灯可能であった。 Next, an LED chip having a size of 1.0 × 0.5 mm was mounted between the electrode pairs using a conductive adhesive. As the conductive adhesive, CL-3160 manufactured by Kaken Tech Co., Ltd. was used. The wiring board 10 thus formed was pulled in a direction parallel to the wiring and extended by 30%. At this time, the tensile stress applied to the LED connection portion was relaxed by the reinforcing member 30, the conductive connection of the LED chip was maintained, and the LED chip could be lit.
(実施例2)
配線基板10として、図7に示すような、支持基板40が基材20の第1面21に貼合され、支持基材40上に配線52および補強部材30が設けられたものを作製した。以下、配線基板10の作製方法について説明する。
(Example 2)
As the wiring board 10, as shown in FIG. 7, the support substrate 40 was bonded to the first surface 21 of the base material 20, and the wiring 52 and the reinforcing member 30 were provided on the support base material 40. Hereinafter, a method for manufacturing the wiring board 10 will be described.
〈基材の準備〉
支持基材40と基材20の接着層60として粘着シート8146(3M社製)を準備した。次いで、粘着シート上に基材20として、2液付加縮合のポリジメチルシロキサン(以下、PDMSと称する)を、厚さが約1mmとなるように塗布し、硬化させた。これにより、図7に示すような接着層60付きの基材20を得た。また、基材20として用いたPDMSの弾性係数を、JISK6251に準拠した試験にて測定した。結果、弾性係数は0.05Mpaであった。
<Preparation of base material>
An adhesive sheet 8146 (manufactured by 3M) was prepared as an adhesive layer 60 between the support base material 40 and the base material 20. Next, a two-component addition condensation polydimethylsiloxane (hereinafter referred to as PDMS) was applied onto the pressure-sensitive adhesive sheet as the base material 20 so as to have a thickness of about 1 mm, and cured. As a result, a base material 20 with an adhesive layer 60 as shown in FIG. 7 was obtained. In addition, the elastic modulus of PDMS used as the base material 20 was measured by a test based on JIS K6251. As a result, the elastic modulus was 0.05 Mpa.
〈配線および補強部材の準備〉
支持基板40として機能する、厚さ1μmのPENフィルムを準備した。続いて、支持基板40の第1面41に、1μmの厚みを有する銅層を蒸着法により形成した。続いて、フォトリソグラフィー法およびエッチング法を用いて銅層をパターン加工し、配線52を形成した。配線52は、200μmの線幅を有し、500μmの間隔が空けられた電極対となるよう、構成された。また、支持基板40の弾性係数を、ASTM D882に準拠した引張試験により測定した。結果、支持基材40の弾性係数は2.2Gpaであった。次いで、実施例1と同様に電極対の中心を取り囲むように補強部材30、およびLEDチップを導電性接着剤を用いて搭載した。
<Preparation of wiring and reinforcing members>
A 1 μm-thick PEN film that functions as the support substrate 40 was prepared. Subsequently, a copper layer having a thickness of 1 μm was formed on the first surface 41 of the support substrate 40 by a thin-film deposition method. Subsequently, the copper layer was patterned using a photolithography method and an etching method to form the wiring 52. The wiring 52 has a line width of 200 μm and is configured to be a pair of electrodes spaced 500 μm apart. In addition, the elastic modulus of the support substrate 40 was measured by a tensile test based on ASTM D882. As a result, the elastic modulus of the supporting base material 40 was 2.2 Gpa. Next, the reinforcing member 30 and the LED chip were mounted using a conductive adhesive so as to surround the center of the electrode pair as in Example 1.
続いて、上記で準備した接着層付きの基材20を1.5倍に1軸伸長させた後、上記で準備したLEDおよび補強部材を設置した支持基材40のLEDが搭載されていない面と接着層とを貼り合せた。ここで、基材20は、配線方向と並行になるよう伸長させた。その後、基材20の伸長を解放した。これにより、補強部材30で囲われた領域以外では、配線52の表面に蛇腹形状部が生じた。基材20の伸長を解放したことによる収縮後、LEDチップの導通接続は維持されており、LEDチップは点灯可能であった。また、このようにして形成された配線基板10を配線と平行方向に引っ張り30%伸長させた場合であっても、LEDチップの導通接続は維持されており、LEDチップは点灯可能であった。上記の基材20の収縮および伸長の際、LED接続部に掛かる応力が補強部材30にて緩和されたため、LEDチップは点灯可能であった。 Subsequently, after the base material 20 with the adhesive layer prepared above is extended by one axis 1.5 times, the surface on which the LED prepared above and the LED of the support base material 40 on which the reinforcing member is installed are not mounted. And the adhesive layer were bonded together. Here, the base material 20 is extended so as to be parallel to the wiring direction. After that, the elongation of the base material 20 was released. As a result, a bellows-shaped portion was formed on the surface of the wiring 52 except for the region surrounded by the reinforcing member 30. After the shrinkage due to the release of the extension of the base material 20, the conductive connection of the LED chip was maintained, and the LED chip could be lit. Further, even when the wiring board 10 thus formed was pulled in the direction parallel to the wiring and extended by 30%, the conductive connection of the LED chip was maintained and the LED chip could be lit. During the contraction and expansion of the base material 20, the stress applied to the LED connection portion was relaxed by the reinforcing member 30, so that the LED chip could be lit.
(実施例3)
配線基板10として、図17に示すような、支持基板40が基材20の第1面21に貼合され、支持基材40上に配線52および補強部材30が設けられたものを作製した。以下、配線基板10の作製方法について説明する。
(Example 3)
As the wiring board 10, as shown in FIG. 17, the support substrate 40 was bonded to the first surface 21 of the base material 20, and the wiring 52 and the reinforcing member 30 were provided on the support base material 40. Hereinafter, a method for manufacturing the wiring board 10 will be described.
実施例2において補強部材30が配線52と重ならないようにパターニングされた以外は同様にして配線基板10を作製した。このようにして形成された配線基板10は、補強部材30で囲われた領域以外では、配線52の表面に蛇腹形状部が生じ、配線基板10が収縮し、補強部材30で囲われた領域内では領域外と比較して振幅の小さな蛇腹形状部が生じた。基材20の伸長を解放したことによる収縮後、LEDチップの導通接続は維持されており、LEDチップは点灯可能であった。また、このようにして形成された配線基板10を配線と平行方向に引っ張り30%伸長させた場合であっても、LEDチップの導通接続は維持されており、LEDチップは点灯可能であった。上記の基材20の収縮および伸長の際、LED接続部に掛かる応力が補強部材30にて緩和されたため、LEDチップは点灯可能であった。 The wiring board 10 was produced in the same manner except that the reinforcing member 30 was patterned so as not to overlap the wiring 52 in the second embodiment. In the wiring board 10 formed in this way, a bellows-shaped portion is formed on the surface of the wiring 52 except for the region surrounded by the reinforcing member 30, the wiring board 10 contracts, and the wiring board 10 is in the region surrounded by the reinforcing member 30. Then, a bellows-shaped part having a smaller amplitude than that outside the region was generated. After the shrinkage due to the release of the extension of the base material 20, the conductive connection of the LED chip was maintained, and the LED chip could be lit. Further, even when the wiring board 10 thus formed was pulled in the direction parallel to the wiring and extended by 30%, the conductive connection of the LED chip was maintained and the LED chip could be lit. During the contraction and expansion of the base material 20, the stress applied to the LED connection portion was relaxed by the reinforcing member 30, so that the LED chip could be lit.
(実施例4)
配線基板10として、図11に示すような、補強部材30が基材20に埋設されたものを作製した。以下、配線基板10の作製方法について説明する。
(Example 4)
As the wiring board 10, a reinforcing member 30 embedded in the base material 20 as shown in FIG. 11 was produced. Hereinafter, a method for manufacturing the wiring board 10 will be described.
〈基材の準備〉
支持基材40と基材20の接着層として粘着シート8146(3M社製)を準備した。次いで、粘着シート上に、補強部30としてポリイミドフィルム(宇興産社製:ユーピレックス 厚み125μm)を設けた。設置した補強部材30のパターン形状としては、幅1mmにて半径3mmの円周形状となるようにカッティングプロッタにせカットされたものを用いた。次いで、粘着シート上に基材20として、2液付加縮合のポリジメチルシロキサン(以下、PDMSと称する)を、厚さが約1mmとなるように塗布し、硬化させた。これにより、図11に示すような補強部材30が基材20に埋設されたものを得た。また、補強部材30として用いたポリイミドフィルムの弾性係数を、ASTM D882に準拠した引張試験により測定した。結果、弾性係数は7Gpaであった。
<Preparation of base material>
An adhesive sheet 8146 (manufactured by 3M) was prepared as an adhesive layer between the support base material 40 and the base material 20. Next, a polyimide film (manufactured by Ukosan Co., Ltd .: Upirex thickness 125 μm) was provided as a reinforcing portion 30 on the adhesive sheet. As the pattern shape of the installed reinforcing member 30, one cut with a cutting plotter so as to have a circumferential shape with a width of 1 mm and a radius of 3 mm was used. Next, a two-component addition condensation polydimethylsiloxane (hereinafter referred to as PDMS) was applied onto the pressure-sensitive adhesive sheet as the base material 20 so as to have a thickness of about 1 mm, and cured. As a result, a reinforcing member 30 as shown in FIG. 11 was obtained embedded in the base material 20. Further, the elastic modulus of the polyimide film used as the reinforcing member 30 was measured by a tensile test based on ASTM D882. As a result, the elastic modulus was 7 Gpa.
〈配線および補強部材の準備〉
実施例2において補強部材30が配置されない以外は同様に、支持基材40上に配線およびLEDを配置させた。次いで、上記で準備した補強部材30が埋設された基材20を1.5倍に1軸伸長させた後、上記で準備したLEDが、埋設された円周形状の補強部材の円の中心に位置するよう支持基材40のLEDが搭載されていない面と接着層とを貼り合せた。その後、基材20の伸長を解放した。このようにして形成された配線基板10は、補強部材30で囲われた領域以外では、配線52の表面に蛇腹形状部が生じ、配線基板10が収縮し、補強部材30で囲われた領域内では領域外と比較して振幅の小さな蛇腹形状部が生じた。基材20の伸長を解放したことによる収縮後、LEDチップの導通接続は維持されており、LEDチップは点灯可能であった。また、このようにして形成された配線基板10を配線と平行方向に引っ張り30%伸長させた場合であっても、LEDチップの導通接続は維持されており、LEDチップは点灯可能であった。上記の基材20の収縮および伸長の際、LED接続部に掛かる応力が補強部材30にて緩和されたため、LEDチップは点灯可能であった。
<Preparation of wiring and reinforcing members>
Wiring and LEDs were arranged on the support base material 40 in the same manner except that the reinforcing member 30 was not arranged in the second embodiment. Next, after the base material 20 in which the reinforcing member 30 prepared above is embedded is extended by one axis 1.5 times, the LED prepared above is placed at the center of the circle of the buried circumferential reinforcing member. The surface of the support base material 40 on which the LED is not mounted and the adhesive layer were bonded so as to be located. After that, the elongation of the base material 20 was released. In the wiring board 10 formed in this way, a bellows-shaped portion is formed on the surface of the wiring 52 except for the region surrounded by the reinforcing member 30, the wiring board 10 contracts, and the wiring board 10 is in the region surrounded by the reinforcing member 30. Then, a bellows-shaped part having a smaller amplitude than that outside the region was generated. After the shrinkage due to the release of the extension of the base material 20, the conductive connection of the LED chip was maintained, and the LED chip could be lit. Further, even when the wiring board 10 thus formed was pulled in the direction parallel to the wiring and extended by 30%, the conductive connection of the LED chip was maintained and the LED chip could be lit. During the contraction and expansion of the base material 20, the stress applied to the LED connection portion was relaxed by the reinforcing member 30, so that the LED chip could be lit.
(比較例1)
実施例1の補強部材が配置されない以外は同様に、配線基板10を作製した。このようにして形成された配線基板10を配線と平行方向に引っ張り30%伸長させた。この際、伸長によりLED接続部に引っ張り応力が掛かり、LEDチップの導通接続が外れてLEDが不点灯になった。
(Comparative Example 1)
The wiring board 10 was produced in the same manner except that the reinforcing member of the first embodiment was not arranged. The wiring board 10 thus formed was pulled in a direction parallel to the wiring and extended by 30%. At this time, tensile stress was applied to the LED connection portion due to the extension, the conductive connection of the LED chip was disconnected, and the LED was turned off.
(比較例2)
実施例2の補強部材が配置されない以外は同様に、配線基板10を作製した。この場合、基材20の伸長を解放した後、配線基板10が収縮する際に、収縮に伴ってLED接続部に収縮応力が掛かり、LEDチップの導通接続が外れてLEDが不点灯になった。
(Comparative Example 2)
The wiring board 10 was produced in the same manner except that the reinforcing member of the second embodiment was not arranged. In this case, when the wiring board 10 contracts after the extension of the base material 20 is released, a contraction stress is applied to the LED connection portion due to the contraction, the conduction connection of the LED chip is disconnected, and the LED is turned off. ..
なお、上述した実施形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。 Although some modifications to the above-described embodiments have been described, it is naturally possible to apply a plurality of modifications in combination as appropriate.
10 配線基板
20 基材
21 第1面
22 第2面
30 補強部材
40 支持基板
51 電子部品
52 配線
53 山部
54 山部
55 谷部
56 谷部
57 蛇腹形状部
10 Wiring board 20 Base material 21 First surface 22 Second surface 30 Reinforcing member 40 Support substrate 51 Electronic component 52 Wiring 53 Mountain part 54 Mountain part 55 Valley part 56 Valley part 57 Bellows-shaped part
Claims (14)
第1面および前記第1面と反対側の第2面を有し、前記第1面および前記第2面に沿った面方向のうち少なくとも第1方向に伸縮性を有する基材と、
前記第1面側に位置し、前記配線基板に搭載される少なくとも1つの電子部品に接続される配線と、
前記電子部品に対して前記面方向に離れて位置し、前記基材を補強する補強部材と、を備え、
前記補強部材の少なくとも一部は、前記第1方向における前記電子部品の第1端部の位置から前記第1方向において前記第1端部に対向する第2端部の位置まで少なくとも延びている、配線基板。 It's a wiring board
A base material having a first surface and a second surface opposite to the first surface and having elasticity in at least one of the surface directions along the first surface and the second surface.
Wiring located on the first surface side and connected to at least one electronic component mounted on the wiring board, and
A reinforcing member, which is located away from the electronic component in the plane direction and reinforces the base material, is provided.
At least a part of the reinforcing member extends from the position of the first end portion of the electronic component in the first direction to the position of the second end portion facing the first end portion in the first direction. Wiring board.
第1面および前記第1面と反対側の第2面を有し、前記第1面および前記第2面に沿った面方向のうち少なくとも第1方向に伸縮性を有する基材に、前記第1方向への引張応力を加えて前記基材を伸長させる伸長工程と、
伸長した状態の前記基材の前記第1面側に、前記配線基板に搭載される少なくとも1つの電子部品に接続される配線を設ける第1設置工程と、
前記電子部品に対して前記面方向に離れて位置するように、前記基材を補強する補強部材を設ける第2設置工程と、を備え、
前記第2設置工程は、前記補強部材の少なくとも一部が前記第1方向における前記電子部品の第1端部の位置から前記第1方向において前記第1端部に対向する第2端部の位置まで少なくとも延びるように前記補強部材を設けることを含む、配線基板の製造方法。 It is a method of manufacturing a wiring board.
The first surface is formed on a base material having a first surface and a second surface opposite to the first surface and having elasticity in at least the first direction among the surface directions along the first surface and the second surface. An extension step of applying tensile stress in one direction to extend the base material, and
A first installation step of providing wiring connected to at least one electronic component mounted on the wiring board on the first surface side of the stretched base material.
A second installation step of providing a reinforcing member for reinforcing the base material so as to be located away from the electronic component in the plane direction is provided.
In the second installation step, the position of the second end portion where at least a part of the reinforcing member faces the first end portion in the first direction from the position of the first end portion of the electronic component in the first direction. A method of manufacturing a wiring board, which comprises providing the reinforcing member so as to extend at least to.
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