JP2020193270A - Thermosetting resin composition, prepreg, metal foil with resin, laminate, printed wiring board and semiconductor package - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、樹脂付き金属箔、積層体、プリント配線板及び半導体パッケージに関する。 The present invention relates to thermosetting resin compositions, prepregs, metal foils with resins, laminates, printed wiring boards and semiconductor packages.
高機能プリント配線板に使用される配線板材料には、耐熱性、電気絶縁性、長期信頼性、及び部品接続信頼性等が要求されている。
更に、セラミック部品を搭載した基板においては、セラミック部品と基板との熱膨張係数の差、及び外的な衝撃によって発生する部品接続信頼性の低下が大きな課題となっている。この問題の解決方法として、基材側からの応力緩和性も提唱されている。これらの課題を解決すべく、熱硬化性樹脂と、アクリル系ポリマー及び末端変性ポリエーテルスルホン等の熱可塑性樹脂とを含有してなる樹脂組成物が提案されている(例えば、特許文献1〜3参照)。
The wiring board material used for the high-performance printed wiring board is required to have heat resistance, electrical insulation, long-term reliability, component connection reliability, and the like.
Further, in a substrate on which a ceramic component is mounted, a difference in the coefficient of thermal expansion between the ceramic component and the substrate and a decrease in component connection reliability caused by an external impact are major problems. As a solution to this problem, stress relaxation from the base material side has also been proposed. In order to solve these problems, a resin composition containing a thermosetting resin and a thermoplastic resin such as an acrylic polymer and a terminal-modified polyether sulfone has been proposed (for example, Patent Documents 1 to 3). reference).
しかしながら、近年はプリント配線板を高温環境等の過酷環境下で適用することが多くなってきており、本発明者らの検討によると、従来のプリント配線板では、過酷環境下にて金属箔との接着強度を確保することが困難であることが明らかとなった。 However, in recent years, the printed wiring board is often applied in a harsh environment such as a high temperature environment, and according to the study by the present inventors, the conventional printed wiring board is a metal foil in a harsh environment. It became clear that it was difficult to secure the adhesive strength of.
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、十分な耐熱性及び低弾性率を有し、常温環境下及び高温環境下での金属箔との高い接着強度を有する熱硬化性樹脂組成物、該熱硬化性樹脂組成物を用いたプリプレグ、樹脂付き金属箔、積層体、プリント配線板及び半導体パッケージを提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a thermosetting resin composition having sufficient heat resistance and low elastic coefficient, and having high adhesive strength with a metal foil in a normal temperature environment and a high temperature environment. An object of the present invention is to provide a prepreg, a metal foil with a resin, a laminate, a printed wiring board, and a semiconductor package using the thermosetting resin composition.
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究した結果、下記の本発明によって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by the following invention, and have completed the present invention.
すなわち、本発明は下記[1]〜[21]に関する。
[1](A)フェノール系樹脂、
(B)熱硬化性樹脂、
(C)アクリル系ポリマー、及び
(D)芳香族ビニル化合物に由来する構造単位と無水マレイン酸に由来する構造単位とを有する共重合樹脂、
を含有する、熱硬化性樹脂組成物であり、
前記(A)成分が、(A1)炭素数10〜25の鎖状脂肪族炭化水素基を有するフェノール系樹脂を含有する、熱硬化性樹脂組成物。
[2]前記(A1)成分が、下記一般式(1)で表されるフェノール系化合物に由来する構造単位と、下記一般式(2)で表されるフェノール系化合物に由来する構造単位と、を含むものである、上記[1]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(式中、R1は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜9の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい環形成原子数5〜15の芳香族炭化水素基、又は、前記脂肪族炭化水素基と前記芳香族炭化水素基との組み合わせを示す。R2は、炭素数10〜25の鎖状脂肪族炭化水素基を示す。Xは、水素原子、ヒドロキシ基又はヒドロキシメチル基を示す。)
[3]前記(A1)成分の含有量が、熱硬化性樹脂組成物の樹脂成分総量100質量部に対して、0.1〜40質量部である、上記[1]又は[2]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[4]前記(B)成分が、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、ビスマレイミド系化合物、ビスマレイミド系化合物とジアミン化合物との付加重合物、イソシアネート樹脂、トリアリルイソシアヌレート樹脂、トリアリルシアヌレート樹脂及びビニル基含有ポリオレフィン樹脂からなる群から選択される1種以上である、上記[1]〜[3]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[5]前記(C)成分が、下記一般式(c1)で表される構造単位(c1)、下記一般式(c2)で表される構造単位(c2)、下記一般式(c3)で表される構造単位(c3)及び下記一般式(c4)で表される構造単位(c4)を含むものである、上記[1]〜[4]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(Rc1は水素原子又はメチル基を示し、Rc2は炭素数1〜3の炭化水素基を示す。)
(Rc3は水素原子又はメチル基を示し、Rc4は脂環式炭化水素基を含む炭素数5〜22の炭化水素基を示す。)
(Rc5は水素原子又はメチル基を示し、Rc6は炭素数4〜10の鎖状炭化水素基を示す。)
(Rc7は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を示す。Zは、ヒドロキシ基を示すか、又は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、酸無水物基、アミノ基、アミド基及びエポキシ基からなる群から選択される1種以上の官能基を含む置換基を示す。)
[6]前記(C)成分中における前記構造単位(c1)の含有量が1〜60質量%、前記構造単位(c2)の含有量が1〜20質量%、前記構造単位(c3)の含有量が5〜90質量%、前記構造単位(c4)の含有量が1〜20質量%である、上記[5]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[7]更に、(A2)鎖状脂肪族炭化水素基と環状脂肪族炭化水素基との組み合わせである炭素数10〜25の脂肪族炭化水素基を有するフェノール系樹脂を含有する、上記[1]〜[6]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[8]前記(A1)成分と前記(A2)成分との含有量比〔(A1)成分/(A2)成分〕が、質量基準で、0.1〜1である、上記[7]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[9]前記(D)成分が、下記一般式(D−i)で表される構造単位と下記式(D−ii)で表される構造単位とを有する共重合樹脂である、上記[1]〜[8]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
(式中、RD1は、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基であり、RD2は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、水酸基又は(メタ)アクリロイル基である。xは、0〜3の整数である。但し、xが2又は3である場合、複数のRD2は同一であってもよいし、異なっていてもよい。)
[10]前記一般式(D−i)中、RD1が水素原子であり、且つxが0である、上記[9]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[11]前記(D)成分において、芳香族ビニル化合物に由来する構造単位と無水マレイン酸に由来する構造単位の含有比率[芳香族ビニル化合物に由来する構造単位/無水マレイン酸に由来する構造単位](モル比)が1〜9である、上記[1]〜[10]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[12]前記(D)成分において、芳香族ビニル化合物に由来する構造単位と無水マレイン酸に由来する構造単位の含有比率[芳香族ビニル化合物に由来する構造単位/無水マレイン酸に由来する構造単位](モル比)が3〜7である、上記[1]〜[11]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[13]前記(D)成分の重量平均分子量が4,500〜18,000である、上記[1]〜[12]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[14]前記(D)成分の重量平均分子量が9,000〜13,000である、上記[1]〜[13]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[15]硬化物が相分離構造を有さない、上記[1]〜[14]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[16]硬化物が相分離構造を有する、上記[1]〜[14]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[17]上記[1]〜[16]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物を含有してなるプリプレグ。
[18]上記[1]〜[16]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物と金属箔とを積層してなる、樹脂付き金属箔。
[19]上記[17]に記載のプリプレグ又は上記[18]に記載の樹脂付き金属箔を含有してなる積層体。
[20]上記[19]に記載の積層体を含有してなる、プリント配線板。
[21]上記[20]に記載のプリント配線板を含有してなる、半導体パッケージ。
That is, the present invention relates to the following [1] to [21].
[1] (A) Phenolic resin,
(B) Thermosetting resin,
A copolymer resin having (C) an acrylic polymer and (D) a structural unit derived from an aromatic vinyl compound and a structural unit derived from maleic anhydride.
Is a thermosetting resin composition containing
A thermosetting resin composition, wherein the component (A) contains (A1) a phenolic resin having a chain aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms.
[2] The component (A1) comprises a structural unit derived from a phenolic compound represented by the following general formula (1) and a structural unit derived from a phenolic compound represented by the following general formula (2). The thermosetting resin composition according to the above [1].
(In the formula, R 1 is a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent, and an aromatic having 5 to 15 ring-forming atoms which may have a substituent. A group hydrocarbon group or a combination of the aliphatic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group is shown. R 2 represents a chain aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms, and X is hydrogen. Indicates an atom, hydroxy group or hydroxymethyl group.)
[3] The above-mentioned [1] or [2], wherein the content of the component (A1) is 0.1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the resin component of the thermosetting resin composition. Thermosetting resin composition.
[4] The component (B) is an epoxy resin, a cyanate resin, a bismaleimide-based compound, an addition polymer of a bismaleimide-based compound and a diamine compound, an isocyanate resin, a triallyl isocyanurate resin, a triallyl cyanurate resin, and vinyl. The thermosetting resin composition according to any one of the above [1] to [3], which is one or more selected from the group consisting of group-containing polyolefin resins.
[5] The component (C) is represented by the structural unit (c1) represented by the following general formula (c1), the structural unit (c2) represented by the following general formula (c2), and the following general formula (c3). The thermosetting resin composition according to any one of the above [1] to [4], which comprises the structural unit (c3) to be formed and the structural unit (c4) represented by the following general formula (c4).
(R c1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R c2 represents a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms.)
(R c3 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R c4 represents a hydrocarbon group having 5 to 22 carbon atoms including an alicyclic hydrocarbon group.)
(R c5 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R c6 represents a chain hydrocarbon group having 4 to 10 carbon atoms.)
(R c7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Z represents a hydroxy group or consists of a carboxy group, a hydroxy group, an acid anhydride group, an amino group, an amide group and an epoxy group. Indicates a substituent containing one or more functional groups selected from the group.)
[6] The content of the structural unit (c1) in the component (C) is 1 to 60% by mass, the content of the structural unit (c2) is 1 to 20% by mass, and the content of the structural unit (c3) is contained. The thermocurable resin composition according to the above [5], wherein the amount is 5 to 90% by mass and the content of the structural unit (c4) is 1 to 20% by mass.
[7] Further, the above [1] further contains (A2) a phenolic resin having an aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms, which is a combination of a chain aliphatic hydrocarbon group and a cyclic aliphatic hydrocarbon group. ] To [6]. The heat-curable resin composition according to any one of.
[8] The above-mentioned [7], wherein the content ratio of the component (A1) to the component (A2) [(A1) component / (A2) component] is 0.1 to 1 on a mass basis. Thermosetting resin composition.
[9] The component (D) is a copolymer resin having a structural unit represented by the following general formula (Di) and a structural unit represented by the following formula (D-ii). ] To [8]. The thermosetting resin composition according to any one of.
(In the formula, RD1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and RD2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and 6 to 20 carbon atoms. It is an aryl group, a hydroxyl group or a (meth) acryloyl group. X is an integer of 0 to 3. However, when x is 2 or 3, a plurality of R D2s may be the same or different. May be.)
[10] The thermosetting resin composition according to the above [9], wherein RD1 is a hydrogen atom and x is 0 in the general formula (Di).
[11] In the component (D), the content ratio of the structural unit derived from the aromatic vinyl compound and the structural unit derived from maleic anhydride [Structural unit derived from the aromatic vinyl compound / structural unit derived from maleic anhydride ] (Mole ratio) of 1 to 9, the thermocurable resin composition according to any one of the above [1] to [10].
[12] In the component (D), the content ratio of the structural unit derived from the aromatic vinyl compound and the structural unit derived from maleic anhydride [Structural unit derived from the aromatic vinyl compound / structural unit derived from maleic anhydride ] (Mole ratio) is 3 to 7, the thermosetting resin composition according to any one of the above [1] to [11].
[13] The thermosetting resin composition according to any one of the above [1] to [12], wherein the weight average molecular weight of the component (D) is 4,500 to 18,000.
[14] The thermosetting resin composition according to any one of the above [1] to [13], wherein the weight average molecular weight of the component (D) is 9,000 to 13,000.
[15] The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [14] above, wherein the cured product does not have a phase-separated structure.
[16] The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [14] above, wherein the cured product has a phase-separated structure.
[17] A prepreg containing the thermosetting resin composition according to any one of the above [1] to [16].
[18] A metal foil with a resin obtained by laminating the thermosetting resin composition according to any one of the above [1] to [16] and the metal foil.
[19] A laminate containing the prepreg according to the above [17] or the metal foil with a resin according to the above [18].
[20] A printed wiring board containing the laminate according to the above [19].
[21] A semiconductor package comprising the printed wiring board according to the above [20].
本発明によると、十分な耐熱性及び低弾性率を有し、常温環境下及び高温環境下での金属箔との高い接着強度を有する熱硬化性樹脂組成物、該熱硬化性樹脂組成物を用いたプリプレグ、樹脂付き金属箔、積層体、プリント配線板及び半導体パッケージを提供することができる。 According to the present invention, a thermosetting resin composition having sufficient heat resistance and low elastic coefficient and having high adhesive strength with a metal foil in a normal temperature environment and a high temperature environment, the thermosetting resin composition. It is possible to provide a prepreg, a metal foil with a resin, a laminate, a printed wiring board, and a semiconductor package used.
以下、本発明の一実施形態について詳述するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。また、数値範囲の下限値及び上限値は、それぞれ他の数値範囲の下限値及び上限値と任意に組み合わせられる。
また、本明細書に例示する各成分及び材料は、特に断らない限り、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。本明細書において、組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
更に、例示したもの及び好ましいと説明する態様が選択肢の集合体であるとき、その集合体の中から任意の選択肢を任意の数だけ抽出することができ、且つ、抽出した選択肢を、他で説明する態様と任意に組み合わせることもできる。
本明細書における記載事項を任意に組み合わせた態様も本発明に含まれる。
なお、本実施形態において、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」からなる群から選択される1種以上を意味し、他の類似用語も同様である。
なお、本実施形態における常温とは典型的には25℃であり、高温とは典型的には125℃である。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the following embodiments.
In the numerical range described in the present specification, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples. Further, the lower limit value and the upper limit value of the numerical range are arbitrarily combined with the lower limit value and the upper limit value of the other numerical range, respectively.
Further, as for each component and material exemplified in the present specification, one type may be used alone or two or more types may be used in combination unless otherwise specified. In the present specification, the content of each component in the composition is the total amount of the plurality of substances present in the composition unless otherwise specified, when a plurality of substances corresponding to each component are present in the composition. Means.
Further, when the illustrated and the aspects described as preferable are a collection of choices, any number of arbitrary choices can be extracted from the aggregate, and the extracted choices will be described elsewhere. It can also be arbitrarily combined with the mode to be used.
The present invention also includes aspects in which the items described in the present specification are arbitrarily combined.
In addition, in this embodiment, "(meth) acrylic" means one or more kinds selected from the group consisting of "acrylic" and "methacryl", and the same applies to other similar terms.
The normal temperature in the present embodiment is typically 25 ° C, and the high temperature is typically 125 ° C.
[熱硬化性樹脂組成物]
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、
(A)フェノール系樹脂(以下、「(A)成分」ともいう)、
(B)熱硬化性樹脂(以下、「(B)成分」ともいう)、
(C)アクリル系ポリマー(以下、「(C)成分」ともいう)、及び
(D)芳香族ビニル化合物に由来する構造単位と無水マレイン酸に由来する構造単位とを有する共重合樹脂(以下、「(D)成分」ともいう)、
を含有する、熱硬化性樹脂組成物であり、前記(A)成分が、(A1)炭素数10〜25の鎖状脂肪族炭化水素基を有するフェノール系樹脂(以下、「(A1)成分」ともいう)を含有する、熱硬化性樹脂組成物である。
[Thermosetting resin composition]
The thermosetting resin composition of the present embodiment is
(A) Phenolic resin (hereinafter, also referred to as "(A) component"),
(B) Thermosetting resin (hereinafter, also referred to as "(B) component"),
A copolymer resin having (C) an acrylic polymer (hereinafter, also referred to as “component (C)”) and (D) a structural unit derived from an aromatic vinyl compound and a structural unit derived from maleic anhydride (hereinafter, Also called "(D) component"),
A thermosetting resin composition containing the above, wherein the component (A) is a phenolic resin (A1) having a chain aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms (hereinafter, "component (A1)"). It is a thermosetting resin composition containing (also referred to as).
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、前記構成であることで、高いガラス転移温度(Tg)を有し、十分な耐熱性及び低弾性率を有し、金属箔との高い接着強度を有するものとなる。
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂である(B)成分に加え、熱硬化性と低弾性を兼ね揃える(A1)成分と、(C)成分とを含有することで、高耐熱性と低弾性を両立すると共に、硬化物の高伸び性が向上する。更に(D)成分を含有することで、高いTgを有するものとなり、また、(D)成分が(A)成分と反応してカルボン酸基を生じることによって、金属箔との接着強度が向上したものと推測される。高いTgが得られる正確なメカニズムは不明であるが、(D)成分が(B)成分と反応してエステル基を生じることで、結果的に高いTgの達成へとつながった。
前記高伸び性の向上によって、熱履歴に起因して発生する「熱硬化性樹脂組成物と金属箔との接着界面の応力」が効果的に緩和されるため、金属箔との高い接着強度を達成することができたものと推測される。
The thermosetting resin composition of the present embodiment has a high glass transition temperature (Tg), has sufficient heat resistance and a low elastic modulus, and has a high adhesive strength with a metal foil because of the above configuration. To have.
The thermosetting resin composition of the present embodiment contains, in addition to the component (B), which is a thermosetting resin, a component (A1) having both heat curability and low elasticity, and a component (C). It achieves both high heat resistance and low elasticity, and improves the high extensibility of the cured product. Further, by containing the component (D), it has a high Tg, and the component (D) reacts with the component (A) to generate a carboxylic acid group, so that the adhesive strength with the metal foil is improved. It is presumed to be. The exact mechanism by which high Tg is obtained is unknown, but the reaction of component (D) with component (B) to form an ester group resulted in the achievement of high Tg.
By improving the high extensibility, the "stress at the adhesive interface between the thermosetting resin composition and the metal foil" generated due to the thermal history is effectively alleviated, so that the adhesive strength with the metal foil can be increased. It is presumed that it could be achieved.
前記効果を有する本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、特にプリント配線板に利用されるプリプレグ、積層体及び樹脂付き金属箔等に有用な組成物である。そのため、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、層間絶縁層用熱硬化性樹脂組成物、より具体的には、プリント配線板の層間絶縁層用熱硬化性樹脂組成物又はフレキシブルプリント配線板の層間絶縁層用熱硬化性樹脂組成物としても有用である。
以下、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が含有する各成分について説明する。
The thermosetting resin composition of the present embodiment having the above-mentioned effect is a composition particularly useful for prepregs, laminates, metal foils with resin, and the like used for printed wiring boards. Therefore, the thermosetting resin composition of the present invention is a thermosetting resin composition for an interlayer insulating layer, more specifically, a thermosetting resin composition for an interlayer insulating layer of a printed wiring board or a flexible printed wiring board. It is also useful as a thermosetting resin composition for an interlayer insulating layer.
Hereinafter, each component contained in the thermosetting resin composition of the present embodiment will be described.
〔(A)フェノール系樹脂〕
(A)フェノール系樹脂は、(A1)炭素数10〜25の鎖状脂肪族炭化水素基を有するフェノール系樹脂を含有するものであり、更に、(A2)鎖状脂肪族炭化水素基と環状脂肪族炭化水素基との組み合わせである炭素数10〜25の脂肪族炭化水素基を有するフェノール系樹脂(以下、「(A2)成分」ともいう)を含有することが好ましい。
以下、(A1)成分が有する炭素数10〜25の鎖状脂肪族炭化水素基を「炭化水素基a1」、(A2)成分が有する鎖状脂肪族炭化水素基と環状脂肪族炭化水素基との組み合わせである炭素数10〜25の脂肪族炭化水素基を「炭化水素基a2」と称する場合がある。ここで、(A2)成分における前記「炭素数10〜25」は、鎖状脂肪族炭化水素基の炭素数と環状脂肪族炭化水素基の炭素数の合計が10〜25であることを意味する。
なお、本明細書中、「鎖状」とは、直鎖状又は分岐鎖状を意味する。
[(A) Phenolic resin]
The (A) phenol-based resin contains (A1) a phenol-based resin having a chain-aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms, and further (A2) cyclic with the (A2) chain-aliphatic hydrocarbon group. It is preferable to contain a phenolic resin having an aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms, which is a combination with an aliphatic hydrocarbon group (hereinafter, also referred to as “(A2) component”).
Hereinafter, the chain aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms of the component (A1) is referred to as “hydrocarbon group a1”, and the chain aliphatic hydrocarbon group and the cyclic aliphatic hydrocarbon group of the component (A2) are used. The aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms, which is a combination of the above, may be referred to as "hydrocarbon group a2". Here, the "carbon number 10 to 25" in the component (A2) means that the total carbon number of the chain aliphatic hydrocarbon group and the cyclic aliphatic hydrocarbon group is 10 to 25. ..
In addition, in this specification, a "chain" means a linear or a branched chain.
(A1)成分が有する炭化水素基a1の炭素数は、好ましくは10〜20、より好ましくは12〜20、更に好ましくは12〜18、より更に好ましくは14〜18、特に好ましくは14〜16、最も好ましくは15である。
(A2)成分が有する炭化水素基a2の炭素数は、好ましくは10〜18、より好ましくは10〜15、更に好ましくは10〜13、特に好ましくは10〜12、最も好ましくは11である。
炭化水素基a1及びa2の炭素数が上記範囲であると、得られる硬化物は高耐熱性と低弾性を両立すると共に、優れた高伸び性を有するものとなる。
The hydrocarbon group a1 contained in the component (A1) preferably has 10 to 20, more preferably 12 to 20, still more preferably 12 to 18, still more preferably 14 to 18, particularly preferably 14 to 16. Most preferably, it is 15.
The hydrocarbon group a2 contained in the component (A2) has preferably 10 to 18 carbon atoms, more preferably 10 to 15 carbon atoms, still more preferably 10 to 13 carbon atoms, particularly preferably 10 to 12 carbon atoms, and most preferably 11 carbon atoms.
When the carbon numbers of the hydrocarbon groups a1 and a2 are in the above range, the obtained cured product has both high heat resistance and low elasticity, and has excellent high extensibility.
炭化水素基a1及びa2は、飽和脂肪族炭化水素基であってもよく、不飽和脂肪族炭化水素基であってもよい。不飽和脂肪族炭化水素基が有する不飽和結合の数は、1つであってもよいし、2つ以上であってもよく、また、通常は5つ以下であってもよいし、3つ以下であってもよい。 The hydrocarbon groups a1 and a2 may be saturated aliphatic hydrocarbon groups or unsaturated aliphatic hydrocarbon groups. The number of unsaturated bonds contained in the unsaturated aliphatic hydrocarbon group may be one, two or more, and usually five or less, or three. It may be as follows.
(A)フェノール系樹脂としては、炭化水素基a1として飽和脂肪族炭化水素基を有する(A1)成分と、炭化水素基a1として不飽和脂肪族炭化水素基を有する(A1)成分とを併用することも好ましい。これらを併用する場合、両者の合計に対する不飽和脂肪族炭化水素基を有する(A1)成分の質量比率は、60質量%以上であってもよいし、80質量%以上であってもよいし、90質量%以上であってもよい。また、前記質量比率の上限に特に制限はなく、98質量%以下であってもよい。このような態様の(A)フェノール系樹脂としては、カルダノールに由来する構造単位を有するフェノール系樹脂が挙げられる。 As the phenolic resin (A), a component (A1) having a saturated aliphatic hydrocarbon group as the hydrocarbon group a1 and a component (A1) having an unsaturated aliphatic hydrocarbon group as the hydrocarbon group a1 are used in combination. It is also preferable. When these are used in combination, the mass ratio of the component (A1) having an unsaturated aliphatic hydrocarbon group to the total of both may be 60% by mass or more, 80% by mass or more, or It may be 90% by mass or more. Further, the upper limit of the mass ratio is not particularly limited and may be 98% by mass or less. Examples of the (A) phenolic resin in such an embodiment include phenolic resins having a structural unit derived from cardanol.
飽和脂肪族炭化水素基である炭化水素基a1としては、例えば、各種デシル基(「各種」とは、直鎖状又は分岐鎖状を意味し、以下、同様である。)、各種ウンデシル基(例えば、4−ペンチルシクロヘキシル基等を含む。)、各種ドデシル基、各種テトラデシル基、各種ペンタデシル基、各種ヘキサデシル基、各種オクタデシル基、各種エイコシル基等が挙げられる。
不飽和脂肪族炭化水素基である炭化水素基a1としては、上記炭素数10〜25の飽和脂肪族炭化水素基において、その少なくとも一部が炭素−炭素不飽和結合となったものが挙げられる。例えば、炭素数15であれば、8−ペンタデセン−1−イル基、8,11−ペンタデカジエン−1−イル基、8,11,14−ペンタデカトリエン−1−イル基等が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon group a1 which is a saturated aliphatic hydrocarbon group include various decyl groups (“various” means a linear or branched chain, and the same applies hereinafter) and various undecyl groups (hereinafter, the same applies). For example, 4-pentylcyclohexyl group and the like are included), various dodecyl groups, various tetradecyl groups, various pentadecyl groups, various hexadecyl groups, various octadecyl groups, various eicosyl groups and the like.
Examples of the hydrocarbon group a1 which is an unsaturated aliphatic hydrocarbon group include those in which at least a part of the saturated aliphatic hydrocarbon groups having 10 to 25 carbon atoms has a carbon-carbon unsaturated bond. For example, if the number of carbon atoms is 15, 8-pentadecene-1-yl group, 8,11-pentadecadien-1-yl group, 8,11,14-pentadecatorien-1-yl group and the like can be mentioned.
炭化水素基a2が有する鎖状の部位は、低弾性の観点から、炭素数4以上の直鎖状であることが好ましく、炭素数5以上の直鎖状であることがより好ましい。鎖状と環状との組み合わせ方に特に制限はなく、−鎖状−環状であってもよいし、−環状−鎖状であってもよいし、−鎖状−環状−鎖状であってもよいが、−環状−鎖状であることが好ましい。−環状−鎖状の具体例としては、例えば、4−ペンチルシクロヘキシル基(C11)、4−オクチルシクロヘキシル基(C14)、4−デシルシクロヘキシル基(C16)、4−ペンチルシクロオクチル基(C13)、4−オクチルシクロオクチル基(C16)等が挙げられる。これらの中でも、−環状−鎖状としては、4−ペンチルシクロヘキシル基(C11)が好ましい。 From the viewpoint of low elasticity, the chain-like portion of the hydrocarbon group a2 is preferably linear with 4 or more carbon atoms, and more preferably linear with 5 or more carbon atoms. The combination of the chain and the ring is not particularly limited, and may be-chain-ring, -ring-chain, or-chain-cyclic-chain. It is good, but it is preferably -cyclic-chain. Specific examples of the -cyclic-chain form include 4-pentylcyclohexyl group (C11), 4-octylcyclohexyl group (C14), 4-decylcyclohexyl group (C16), 4-pentylcyclooctyl group (C13), and the like. 4-octylcyclooctyl group (C16) and the like can be mentioned. Among these, a 4-pentylcyclohexyl group (C11) is preferable as the-cyclic-chain form.
なお、炭化水素基a1及び炭化水素基a2は、フェノール部位のヒドロキシ基の結合した位置(1位)に対してメタ位(3位又は5位)に置換していることが好ましい。 The hydrocarbon group a1 and the hydrocarbon group a2 are preferably substituted at the meta position (3rd or 5th position) with respect to the position (1st position) where the hydroxy group of the phenol moiety is bonded.
(A1)成分及び(A2)成分としては、低弾性及び低吸湿性の観点から、下記一般式(a1)で表される構造単位(a1)及び下記一般式(a2)で表される構造単位(a2)からなる群から選択される少なくとも1種の構造単位を有することが好ましい。なお、(A1)成分及び(A2)成分は、構造単位(a2)を少なくとも1つは有するといえる。
(上記一般式中、R1は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜9の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい環形成原子数5〜15の芳香族炭化水素基、又は、前記脂肪族炭化水素基と前記芳香族炭化水素基との組み合わせを示す。R2は、炭素数10〜25の脂肪族炭化水素基を示す。なお、(A1)成分の場合においては、R2は、炭素数10〜25の鎖状脂肪族炭化水素基を示し、(A2)成分の場合においては、R2は、鎖状脂肪族炭化水素基と環状脂肪族炭化水素基との組み合わせである炭素数10〜25の脂肪族炭化水素基を示す。Xは、水素原子、ヒドロキシ基又はヒドロキシメチル基を示す。m及びnは、それぞれ独立に、0又は1である。)
The components (A1) and (A2) are structural units (a1) represented by the following general formula (a1) and structural units represented by the following general formula (a2) from the viewpoint of low elasticity and low hygroscopicity. It is preferable to have at least one structural unit selected from the group consisting of (a2). It can be said that the component (A1) and the component (A2) have at least one structural unit (a2).
(In the above general formula, R 1 has a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent, and 5 to 15 ring-forming atoms which may have a substituent. Indicates an aromatic hydrocarbon group of the above, or a combination of the aliphatic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group. R 2 represents an aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms (A1). ) in the case of the component, R 2 represents a chain aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms, (A2) in the case of the component, R 2 is a chain aliphatic hydrocarbon group and cyclic aliphatic Indicates an aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms, which is a combination with a group hydrocarbon group. X indicates a hydrogen atom, a hydroxy group or a hydroxymethyl group. M and n are 0 or 1 independently of each other. Is.)
前記一般式(a1)及び(a2)中、「−*」は結合手を示す。一般式(a1)中の3つの結合手のうち少なくとも1つは他の構造単位と結合し、一般式(a2)中の3つの結合手のうち少なくとも1つは他の構造単位と結合する。各式中の結合手のうち、他の構造単位の結合手と結合しない結合手は、水素原子に結合する。
但し、構造単位(a1)中のベンゼン環と構造単位(a2)中のベンゼン環とはメチレン基を介して結合し、直接結合しない。また、同一分子中に2以上の構造単位(a1)を有し、構造単位(a1)同士が結合している場合、各構造単位(a1)中のベンゼン環はメチレン基を介して結合し、直接結合しない。同様に、同一分子中に2以上の構造単位(a2)を有し、構造単位(a2)同士が結合している場合、各構造単位(a2)中のベンゼン環はメチレン基を介して結合し、直接結合しない。
In the general formulas (a1) and (a2), "-*" indicates a bond. At least one of the three bonds in the general formula (a1) is combined with another structural unit, and at least one of the three bonds in the general formula (a2) is combined with another structural unit. Of the bonds in each equation, the bonds that do not bond with the bonds of other structural units bind to the hydrogen atom.
However, the benzene ring in the structural unit (a1) and the benzene ring in the structural unit (a2) are bonded via a methylene group and are not directly bonded. Further, when two or more structural units (a1) are contained in the same molecule and the structural units (a1) are bonded to each other, the benzene ring in each structural unit (a1) is bonded via a methylene group. Do not join directly. Similarly, when there are two or more structural units (a2) in the same molecule and the structural units (a2) are bonded to each other, the benzene rings in each structural unit (a2) are bonded via a methylene group. , Do not join directly.
つまり、一般式(a1)中のベンゼン環から伸びる結合手は、他の構造単位に結合するか、又は水素原子に結合する。他の構造単位に結合する場合、該結合手は、該他の構造単位(別の構造単位(a1)、又はm及びnの少なくとも一方が1である構造単位(a2))のメチレン基に結合する。
一般式(a1)中のメチレン基から伸びる結合手は、他の構造単位(構造単位(a2)又は別の構造単位(a1))のベンゼン環に結合する。
That is, the bond extending from the benzene ring in the general formula (a1) is bonded to another structural unit or a hydrogen atom. When bound to another structural unit, the bond is attached to the methylene group of the other structural unit (another structural unit (a1) or a structural unit (a2) in which at least one of m and n is 1). To do.
The bond extending from the methylene group in the general formula (a1) is bonded to the benzene ring of another structural unit (structural unit (a2) or another structural unit (a1)).
一般式(a2)中のベンゼン環から伸びる結合手は、他の構造単位に結合するか、又は水素原子に結合する。他の構造単位に結合する場合、該結合手は、該他の構造単位(構造単位(a1)、又はm及びnの少なくとも一方が1である別の構造単位(a2))のメチレン基に結合する。
一般式(a2)中のmが0(又はnが0)である場合、−(CH2)m−*(又は−(CH2)n−*)は、前記ベンゼン環から伸びる結合手と同様の結合手(−*)を示す。
すなわち、他の構造単位に結合するか、又は水素原子に結合する。他の構造単位に結合する場合、該結合手は、前記ベンゼン環から伸びる結合手と同様に、他の構造単位のメチレン基に結合する。
一般式(a2)中のmが1(又はnが1)である場合、−(CH2)m−*(又は−(CH2)n−*)はメチレン基であり、その結合手は、他の構造単位(構造単位(a1)、又は別の構造単位(a2))のベンゼン環に結合する。
The bond extending from the benzene ring in the general formula (a2) is bonded to another structural unit or a hydrogen atom. When bound to another structural unit, the bond is attached to the methylene group of the other structural unit (structural unit (a1) or another structural unit (a2) in which at least one of m and n is 1). To do.
When m in the general formula (a2) is 0 (or n is 0), − (CH 2 ) m − * (or − (CH 2 ) n − *) is the same as the bond extending from the benzene ring. Indicates the bond (-*) of.
That is, it binds to another structural unit or to a hydrogen atom. When bonded to another structural unit, the bond binds to the methylene group of the other structural unit in the same manner as the bond extending from the benzene ring.
When m is 1 (or n is 1) in the general formula (a2), − (CH 2 ) m − * (or − (CH 2 ) n − *) is a methylene group, and the bond is a methylene group. It binds to the benzene ring of another structural unit (structural unit (a1) or another structural unit (a2)).
一般式(a1)において、ベンゼン環におけるR1の結合位置は、安価であるという観点及び合成した樹脂が容易に液状化するという観点から、ヒドロキシ基の結合した位置(1位)に対してオルト位(2位又は6位)が好ましく、この場合、一般式(a1)は、それぞれ、下記一般式(a1−1)又は(a1−2)で表される。
(上記一般式(a1−1)及び(a1−2)中、R1は前記一般式(a1)中のR1と同じである。)
なお、一般式(a1−1)及び(a1−2)中の*は、一般式(a1)中の*の前記説明と同様に説明される。
本明細書において、構造単位(a1)に関する記載は、構造単位(a1−1)又は構造単位(a1−2)に読み替えることができる。
In the general formula (a1), the bond position of R 1 on the benzene ring is orthoto with respect to the position (1 position) where the hydroxy group is bonded from the viewpoint of low cost and the viewpoint that the synthesized resin is easily liquefied. The rank (2nd or 6th) is preferable, and in this case, the general formula (a1) is represented by the following general formula (a1-1) or (a1-2), respectively.
(In the general formulas (a1-1) and (a1-2), R 1 is the same as R 1 in the general formula (a1).)
Note that * in the general formulas (a1-1) and (a1-2) will be described in the same manner as in the above description of * in the general formula (a1).
In the present specification, the description regarding the structural unit (a1) can be read as the structural unit (a1-1) or the structural unit (a1-2).
一般式(a1)において、ベンゼン環における単結合及びメチレン基の結合位置は、それぞれ、特に限定されない。典型的には、ヒドロキシ基の結合した位置(1位)に対してオルト位(2位又は6位)及びパラ位(4位)のいずれかである。 In the general formula (a1), the single bond and the bond position of the methylene group on the benzene ring are not particularly limited. Typically, it is either the ortho position (2 or 6 position) or the para position (4 position) with respect to the position (1 position) to which the hydroxy group is bonded.
前記式中、R1が示す脂肪族炭化水素基は、鎖状(直鎖状、分岐鎖状)、環状、鎖状と環状との組み合わせのいずれであってもよいが、鎖状であることが好ましく、直鎖状であることがより好ましい。
また、該脂肪族炭化水素基は、炭素数1〜9の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数2〜9の不飽和脂肪族炭化水素基のいずれであってもよい。炭素数1〜9の飽和脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数1〜6の飽和脂肪族炭化水素基、より好ましくは炭素数1〜5の飽和脂肪族炭化水素基、更に好ましくは炭素数1〜3の飽和脂肪族炭化水素基である。また、炭素数2〜9の不飽和脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数2〜6の不飽和脂肪族炭化水素基、より好ましくは炭素数2〜4の不飽和脂肪族炭化水素基、更に好ましくは炭素数3の不飽和脂肪族炭化水素基、特に好ましくはアリル基である。
R1が示す脂肪族炭化水素基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、含酸素炭化水素基、含窒素環状基等が挙げられる。前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。前記含酸素炭化水素基としては、例えば、エーテル結合含有炭化水素基が挙げられる。前記含窒素環状基としては、例えば、ピリジル基、ピリミジニル基、キノリニル基、イミダゾリル基等が挙げられる。
In the above formula, the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 may be chain (linear, branched chain), cyclic, or a combination of chain and cyclic, but it must be chain. Is preferable, and linearity is more preferable.
Further, the aliphatic hydrocarbon group may be either a saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms or an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 9 carbon atoms. The saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms is preferably a saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and further preferably carbon. It is a saturated aliphatic hydrocarbon group of numbers 1 to 3. The unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 9 carbon atoms is preferably an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 6 carbon atoms, and more preferably an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 4 carbon atoms. , More preferably an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 3 carbon atoms, and particularly preferably an allyl group.
The aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 may have a substituent, and examples of the substituent include a hydroxy group, a halogen atom, an oxygen-containing hydrocarbon group, a nitrogen-containing cyclic group and the like. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Examples of the oxygen-containing hydrocarbon group include an ether bond-containing hydrocarbon group. Examples of the nitrogen-containing cyclic group include a pyridyl group, a pyrimidinyl group, a quinolinyl group, an imidazolyl group and the like.
R1が示す芳香族炭化水素基は、複素原子を含有しない芳香族炭化水素基(アリール基)であってもよいし、複素原子を含有する複素芳香族炭化水素基(ヘテロアリール基)であってもよいが、複素原子を含有しない芳香族炭化水素基(アリール基)が好ましい。該芳香族炭化水素基は、環形成原子数5〜15であるが、本明細書において、「環形成原子数」とは、芳香環を形成している原子(例えば炭素原子、窒素原子、酸素原子等)の数を指し、芳香環に置換している原子(例えば水素原子、メチル基等)の数は含まれない。例えば、フェニル基及びトリル基のいずれも、環形成炭素数は6である。
該芳香族炭化水素基としては、好ましくは環形成原子数5〜12の芳香族炭化水素基であり、より好ましくは環形成原子数6〜12の芳香族炭化水素基であり、更に好ましくは環形成原子数6〜10の芳香族炭化水素基である。
該芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
The aromatic hydrocarbon group indicated by R 1 may be an aromatic hydrocarbon group (aryl group) containing no complex atom, or a heteroaromatic hydrocarbon group (heteroaryl group) containing a complex atom. Although it may be used, an aromatic hydrocarbon group (aryl group) containing no complex atom is preferable. The aromatic hydrocarbon group has 5 to 15 ring-forming atoms, and in the present specification, the “ring-forming atom number” refers to the atom forming the aromatic ring (for example, carbon atom, nitrogen atom, oxygen). It refers to the number of atoms (such as atoms) and does not include the number of atoms (for example, hydrogen atoms, methyl groups, etc.) that are substituted for aromatic rings. For example, both the phenyl group and the tolyl group have 6 ring-forming carbon atoms.
The aromatic hydrocarbon group is preferably an aromatic hydrocarbon group having 5 to 12 ring-forming atoms, more preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 ring-forming atoms, and even more preferably a ring. It is an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 atoms.
The aromatic hydrocarbon group may have a substituent, and examples of the substituent include an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a hydroxy group, a halogen atom and the like. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
R1が示す前記脂肪族炭化水素基と前記芳香族炭化水素基との組み合わせとしては、−脂肪族炭化水素基−芳香族炭化水素基、−芳香族炭化水素基−脂肪族炭化水素基、−脂肪族炭化水素基−芳香族炭化水素基−脂肪族炭化水素基等が挙げられる。これらの中でも、−脂肪族炭化水素基−芳香族炭化水素基、いわゆるアラルキル基が好ましい。芳香族炭化水素基と脂肪族炭化水素基は、前述したR1が示す前記脂肪族炭化水素基と前記芳香族炭化水素基と同様に説明される。 The combination of the aliphatic hydrocarbon group shown by R 1 and the aromatic hydrocarbon group includes-aliphatic hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group, -aromatic hydrocarbon group-aliphatic hydrocarbon group,-. Aliphatic hydrocarbon groups-aromatic hydrocarbon groups-aliphatic hydrocarbon groups and the like can be mentioned. Among these, -aliphatic hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group, so-called aralkyl group, is preferable. The aromatic hydrocarbon group and the aliphatic hydrocarbon group are described in the same manner as the aliphatic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group indicated by R1 described above.
Xは、水素原子、ヒドロキシ基又はヒドロキシメチル基であり、好ましくは、水素原子、ヒドロキシメチル基である。 X is a hydrogen atom, a hydroxy group or a hydroxymethyl group, preferably a hydrogen atom or a hydroxymethyl group.
R2が示す炭素数10〜25の脂肪族炭化水素基は、前述した炭化水素基a1及び炭化水素基a2と同様に説明される。該R2は、フェノール部位のヒドロキシ基の結合した位置(1位)に対してメタ位(3位又は5位)に置換していることが好ましく、この場合、それぞれ、下記一般式(a2−1)又は(a2−2)で表される。
(上記一般式(a2−1)及び(a2−2)中、X及びR2は、前記一般式(a2)中のX及びR2と同じである。)
なお、一般式(a2−1)及び(a2−2)中の*は、一般式(a2)中の*の前記説明と同様に説明される。
本明細書において、構造単位(a2)に関する記載は、構造単位(a2−1)又は構造単位(a2−2)に読み替えることができる。
Aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms represented by R 2 is described in the same manner as hydrocarbon radicals a1 and a hydrocarbon group a2 described above. The R 2 is preferably substituted with a meta position (3 or 5 position) with respect to the position (1 position) to which the hydroxy group of the phenol moiety is bonded. In this case, the following general formula (a2-) is used, respectively. It is represented by 1) or (a2-2).
(In the general formulas (a2-1) and (a2-2), X and R 2 are the same as X and R 2 in the general formula (a2).)
Note that * in the general formulas (a2-1) and (a2-2) is described in the same manner as the above description of * in the general formula (a2).
In the present specification, the description regarding the structural unit (a2) can be read as the structural unit (a2-1) or the structural unit (a2-2).
(A1)成分及び(A2)成分が構造単位(a1)及び構造単位(a2)を有する場合、構造単位(a1)及び構造単位(a2)は、各々について、1種であってもよいし、2種以上であってもよい。
(A1)成分及び(A2)成分中における前記構造単位(a2)に対する前記構造単位(a1)のモル比(構造単位(a1)/構造単位(a2))は、後述する(B)熱硬化性樹脂との反応性、並びに低弾性及び低吸湿性の観点から、好ましくは0〜5.0、より好ましくは0.25〜5.0、更に好ましくは1.0〜3.0、特に好ましくは1.0〜2.0である。
When the component (A1) and the component (A2) have a structural unit (a1) and a structural unit (a2), the structural unit (a1) and the structural unit (a2) may be one kind for each. There may be two or more types.
The molar ratio of the structural unit (a1) to the structural unit (a2) in the component (A1) and the component (A2) (structural unit (a1) / structural unit (a2)) is (B) thermosetting property described later. From the viewpoint of reactivity with the resin, low elasticity and low moisture absorption, it is preferably 0 to 5.0, more preferably 0.25 to 5.0, still more preferably 1.0 to 3.0, and particularly preferably. It is 1.0 to 2.0.
(A1)成分及び(A2)成分の重量平均分子量(Mw)は、相溶性の観点から、好ましくは4,000以下、より好ましくは1,000〜3,000、更に好ましくは1,200〜2,000である。なお、重量平均分子量が1,000以上であると、(B)熱硬化性樹脂との反応性に優れ、耐熱性を損なうことがなく、且つ溶融粘度を維持できる傾向にある。
本明細書において、重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)分析によって、テトラヒドロフラン(THF)を溶解液として用いて測定される値であって、標準ポリスチレン換算値である。重量平均分子量(Mw)は、より詳細には、実施例に記載の方法に従って測定される。
(A1)成分及び(A2)成分の水酸基当量は、Tgの向上及び絶縁性の向上の観点から、好ましくは100〜350g/eq、より好ましくは150〜300g/eq、更に好ましくは200〜250g/eqである。水酸基当量は、実施例に記載の方法に従って測定される。
The weight average molecular weight (Mw) of the component (A1) and the component (A2) is preferably 4,000 or less, more preferably 1,000 to 3,000, still more preferably 1,200 to 2, from the viewpoint of compatibility. It is 000. When the weight average molecular weight is 1,000 or more, (B) the reactivity with the thermosetting resin is excellent, the heat resistance is not impaired, and the melt viscosity tends to be maintained.
In the present specification, the weight average molecular weight (Mw) is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) analysis using tetrahydrofuran (THF) as a solution, and is a standard polystyrene-equivalent value. The weight average molecular weight (Mw) is more specifically measured according to the method described in the Examples.
The hydroxyl group equivalents of the components (A1) and (A2) are preferably 100 to 350 g / eq, more preferably 150 to 300 g / eq, still more preferably 200 to 250 g / eq, from the viewpoint of improving Tg and improving insulating properties. eq. Hydroxy group equivalents are measured according to the method described in Examples.
((A1)成分及び(A2)成分の製造方法)
(A1)成分及び(A2)成分の製造方法に特に制限はなく、公知のフェノール系樹脂の製造方法を採用することができる。例えば、特開2015−89940号公報に記載されている多価ヒドロキシ樹脂の製造方法を参照及び応用することができる。
好ましい製造方法の一態様としては、例えば、下記一般式(2)で表されるフェノール系化合物とホルムアルデヒドとを塩基性触媒の存在下で反応させ、得られた生成物と下記一般式(1)で表されるフェノール系化合物とを好ましくは酸性触媒の存在下で反応させる方法が挙げられる。下記一般式(1)で表されるフェノール系化合物は、前記構造単位(a1)を形成し、下記一般式(2)で表されるフェノール系化合物は、前記構造単位(a2)を形成する。すなわち、(A1)成分及び(A2)成分は、下記一般式(1)で表されるフェノール系化合物に由来する構造単位と、下記一般式(2)で表されるフェノール系化合物に由来する構造単位と、を含むものであることが好ましい。
(Production method of (A1) component and (A2) component)
The method for producing the component (A1) and the component (A2) is not particularly limited, and a known method for producing a phenolic resin can be adopted. For example, the method for producing a multivalent hydroxy resin described in JP-A-2015-89940 can be referred to and applied.
As one aspect of a preferable production method, for example, a phenolic compound represented by the following general formula (2) and formaldehyde are reacted in the presence of a basic catalyst, and the obtained product and the following general formula (1) are reacted. A method of reacting with the phenolic compound represented by (1) in the presence of an acidic catalyst is preferable. The phenolic compound represented by the following general formula (1) forms the structural unit (a1), and the phenolic compound represented by the following general formula (2) forms the structural unit (a2). That is, the components (A1) and (A2) are a structural unit derived from a phenolic compound represented by the following general formula (1) and a structure derived from a phenolic compound represented by the following general formula (2). It is preferable that the unit includes.
(上記一般式(1)中のR1は、前記一般式(a1)中のR1と同じであり、上記一般式(2)中のR2及びXは、前記一般式(a2)中のR2及びXと同じである。)
(R 1 in the general formula (1) is the same as R 1 in the general formula (a1), and R 2 and X in the general formula (2) are the same as R 1 in the general formula (a 2). it is the same as R 2 and X.)
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物中における(A1)成分の含有量は、特に限定されないが、樹脂成分総量100質量部に対して、好ましくは0.1〜40質量部、より好ましくは1〜20質量部、更に好ましくは1.5〜10質量部、特に好ましくは2.0〜5質量部である。(A1)成分の含有量が上記下限値以上であると、より一層低弾性及び高伸び性を得易くなり、上記上限値以下であると、より一層Tgの低下、難燃性の低下及びタック性の上昇を抑制できる傾向にある。
なお、本明細書において、「樹脂成分総量」とは、必要に応じて含有することができる後述の(F)フィラー等の無機化合物及び有機溶剤を含有しないその他の成分の総量を意味し、具体的には、(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分、及び必要に応じて含有する(E)成分等が含まれる。
The content of the component (A1) in the thermosetting resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 40 parts by mass, more preferably 1 with respect to 100 parts by mass of the total amount of the resin component. It is ~ 20 parts by mass, more preferably 1.5 to 10 parts by mass, and particularly preferably 2.0 to 5 parts by mass. When the content of the component (A1) is at least the above lower limit value, it becomes easier to obtain low elasticity and high extensibility, and when it is at least the above upper limit value, the Tg is further lowered, the flame retardancy is further lowered, and the tack is further reduced. There is a tendency to suppress the increase in sex.
In the present specification, the "total amount of resin components" means the total amount of other components that do not contain an inorganic compound such as (F) filler and an organic solvent, which will be described later, which can be contained as needed. The components (A), (B), (C), (D), and (E) contained as necessary are included.
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物中における(A2)成分の含有量は、特に限定されないが、樹脂成分総量100質量部に対して、好ましくは0.1〜40質量部、より好ましくは1〜30質量部、更に好ましくは5〜20質量部、特に好ましくは10〜15質量部である。(A2)成分の含有量が上記下限値以上であると、より一層低弾性及び高伸び性を得易くなり、上記上限値以下であると、より一層Tgの低下、難燃性の低下及びタック性の上昇を抑制できる傾向にある。 The content of the component (A2) in the thermosetting resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 40 parts by mass, more preferably 1 with respect to 100 parts by mass of the total amount of the resin component. It is ~ 30 parts by mass, more preferably 5 to 20 parts by mass, and particularly preferably 10 to 15 parts by mass. When the content of the component (A2) is at least the above lower limit value, it becomes easier to obtain low elasticity and high extensibility, and when it is at least the above upper limit value, the Tg is further lowered, the flame retardancy is further lowered, and the tack is further reduced. There is a tendency to suppress the increase in sex.
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物中における(A1)成分と(A2)成分との含有量比〔(A1)成分/(A2)成分〕は、質量基準で、好ましくは0.1〜1、より好ましくは0.15〜0.6、更に好ましくは0.20〜0.40、特に好ましくは0.20〜0.30である。 The content ratio of the component (A1) to the component (A2) in the thermosetting resin composition of the present embodiment [component (A1) / component (A2)] is preferably 0.1 to 1 on a mass basis. , More preferably 0.15 to 0.6, still more preferably 0.25 to 0.40, and particularly preferably 0.25 to 0.30.
(A)フェノール系樹脂中における(A1)成分と(A2)成分の総量は、好ましくは80質量%以上、より好ましくは90質量%以上、更に好ましくは95質量%以上、特に好ましくは100質量%である。 The total amount of the component (A1) and the component (A2) in the phenolic resin (A) is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, still more preferably 95% by mass or more, and particularly preferably 100% by mass. Is.
〔(B)熱硬化性樹脂〕
(B)熱硬化性樹脂としては、公知の熱硬化性樹脂を用いることができ、特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、ビスマレイミド系化合物、ビスマレイミド系化合物とジアミンとの付加重合物、イソシアネート樹脂、トリアリルイソシアヌレート樹脂、トリアリルシアヌレート樹脂及びビニル基含有ポリオレフィン樹脂からなる群から選択される1種以上であることが好ましい。これらの中でも、耐熱性及び絶縁性等の性能のバランスの観点から、エポキシ樹脂、シアネート樹脂が好ましく、エポキシ樹脂がより好ましい。
(B)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
なお、本実施形態において、(B)熱硬化性樹脂の定義には(A)成分は含まれないものとする。
[(B) Thermosetting resin]
As the thermosetting resin (B), a known thermosetting resin can be used, and is not particularly limited. For example, an epoxy resin, an isocyanate resin, a bismaleimide-based compound, or an addition polymerization of a bismaleimide-based compound and a diamine. It is preferably one or more selected from the group consisting of products, isocyanate resins, triallyl isocyanurate resins, triallyl cyanurate resins and vinyl group-containing polyolefin resins. Among these, epoxy resin and cyanate resin are preferable, and epoxy resin is more preferable, from the viewpoint of the balance of performance such as heat resistance and insulation.
As the component (B), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
In this embodiment, the definition of (B) thermosetting resin does not include component (A).
エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、耐熱性及びTg向上の観点から、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂が好ましい。
エポキシ樹脂は、グリシジルエーテルタイプのエポキシ樹脂、グリシジルアミンタイプのエポキシ樹脂、グリシジルエステルタイプのエポキシ樹脂等に分類され、これらの中でも、グリシジルエーテルタイプのエポキシ樹脂が好ましい。
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂、アラルキレン骨格含有エポキシ樹脂、フェノールビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールサリチルアルデヒドノボラック型エポキシ樹脂、低級アルキル基置換フェノールサリチルアルデヒドノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂、多官能グリシジルアミン型エポキシ樹脂、多官能脂環式エポキシ樹脂及びテトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂からなる群から選択される1種以上が好ましく、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂がより好ましい。
The epoxy resin is not particularly limited, but an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule is preferable from the viewpoint of heat resistance and improvement of Tg.
Epoxy resins are classified into glycidyl ether type epoxy resins, glycidyl amine type epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins and the like, and among these, glycidyl ether type epoxy resins are preferable.
Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, and phosphorus. Epoxy resin containing epoxy resin, epoxy resin containing naphthalene skeleton, epoxy resin containing aralkyl skeleton, phenol biphenyl aralkyl type epoxy resin, phenol salicylaldehyde novolac type epoxy resin, lower alkyl group substituted phenol salicylaldehyde novolac type epoxy resin, dicyclopentadiene skeleton containing epoxy resin , One or more selected from the group consisting of polyfunctional glycidylamine type epoxy resin, polyfunctional alicyclic epoxy resin and tetrabromobisphenol A type epoxy resin, and tetrabromobisphenol A type epoxy resin is more preferable.
エポキシ樹脂のエポキシ当量は、相溶性の観点から、好ましくは200〜600g/eq、より好ましくは300〜500g/eq、更に好ましくは350〜450g/eqである。エポキシ当量は、エポキシ基あたりの樹脂の質量(g/eq)であり、JIS K7236に規定された方法に従って測定することができる。 From the viewpoint of compatibility, the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 200 to 600 g / eq, more preferably 300 to 500 g / eq, and even more preferably 350 to 450 g / eq. The epoxy equivalent is the mass of the resin per epoxy group (g / eq) and can be measured according to the method specified in JIS K7236.
シアネート樹脂としては、例えば、ノボラック型シアネート樹脂、ビスフェノールA型シアネート樹脂、ビスフェノールE型シアネート樹脂、ビスフェノールF型シアネート樹脂、テトラメチルビスフェノールF型シアネート樹脂、ジシクロペンタジエン型シアネート樹脂等が挙げられる。 Examples of the cyanate resin include novolak type cyanate resin, bisphenol A type cyanate resin, bisphenol E type cyanate resin, bisphenol F type cyanate resin, tetramethylbisphenol F type cyanate resin, dicyclopentadiene type cyanate resin and the like.
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物中における(B)熱硬化性樹脂の含有量は、特に限定されないが、樹脂成分総量100質量部に対して、好ましくは40〜90質量部、より好ましくは50〜85質量部、更に好ましくは50〜70質量部である。
(B)成分の官能基(例えばエポキシ基)に対する(A)成分のフェノール性水酸基の数は、特に限定されないが、0.5〜1.5当量が好ましい。
(B)成分の含有量が上記範囲であると、金属箔との接着強度を保ち、且つTg及び絶縁性の低下が抑制される傾向にある。
The content of the (B) thermosetting resin in the thermosetting resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but is preferably 40 to 90 parts by mass, more preferably 40 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the resin components. It is 50 to 85 parts by mass, more preferably 50 to 70 parts by mass.
The number of phenolic hydroxyl groups of the component (A) with respect to the functional group (for example, epoxy group) of the component (B) is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 1.5 equivalents.
When the content of the component (B) is in the above range, the adhesive strength with the metal foil is maintained, and the decrease in Tg and the insulating property tends to be suppressed.
〔(C)アクリル系ポリマー〕
(C)アクリル系ポリマーは、(メタ)アクリロイル基を有する単量体を重合してなるものであれば特に限定されないが、下記一般式(c1)で表される構造単位(c1)、下記一般式(c2)で表される構造単位(c2)、下記一般式(c3)で表される構造単位(c3)及び下記一般式(c4)で表される構造単位(c4)を含むことが好ましい。
[(C) Acrylic polymer]
The acrylic polymer (C) is not particularly limited as long as it is obtained by polymerizing a monomer having a (meth) acryloyl group, but the structural unit (c1) represented by the following general formula (c1) and the following general It is preferable to include the structural unit (c2) represented by the formula (c2), the structural unit (c3) represented by the following general formula (c3), and the structural unit (c4) represented by the following general formula (c4). ..
(Rc1は水素原子又はメチル基を示し、Rc2は炭素数1〜3の炭化水素基を示す。)
(R c1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R c2 represents a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms.)
(Rc3は水素原子又はメチル基を示し、Rc4は脂環式炭化水素基を含む炭素数5〜22の炭化水素基を示す。)
(R c3 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R c4 represents a hydrocarbon group having 5 to 22 carbon atoms including an alicyclic hydrocarbon group.)
(Rc5は水素原子又はメチル基を示し、Rc6は炭素数4〜10の鎖状炭化水素基を示す。)
(R c5 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R c6 represents a chain hydrocarbon group having 4 to 10 carbon atoms.)
(Rc7は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を示す。Zは、ヒドロキシ基を示すか、又は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、酸無水物基、アミノ基、アミド基及びエポキシ基からなる群から選択される1種以上の官能基を含む置換基を示す。)
(R c7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Z represents a hydroxy group or consists of a carboxy group, a hydroxy group, an acid anhydride group, an amino group, an amide group and an epoxy group. Indicates a substituent containing one or more functional groups selected from the group.)
(一般式(c1)で表される構造単位)
上記一般式(c1)中のRc2が示す炭素数1〜3の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
(C)成分が、構造単位(c1)を含むことによって、(C)成分は耐熱性に優れるものとなる。(C)成分が構造単位(c1)を複数含む場合、複数の構造単位(c1)は同一であっても異なっていてもよい。
(Structural unit represented by the general formula (c1))
Examples of the hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms represented by R c2 in the general formula (c1) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like.
When the component (C) contains the structural unit (c1), the component (C) has excellent heat resistance. When the component (C) contains a plurality of structural units (c1), the plurality of structural units (c1) may be the same or different.
構造単位(c1)は、(C)成分を得るための重合に使用する単量体成分の1つとして、炭素数1〜3の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステル(以下、「単量体(c1)」ともいう)を使用することで、当該単量体に由来する構造単位として得られる。
単量体(c1)としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル等が挙げられる。これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
単量体(c1)としては、吸湿性の観点から、メタクリル酸エステルが好ましく、メタクリル酸メチルがより好ましい。
The structural unit (c1) is a (meth) acrylic acid ester having a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms (hereinafter, "single") as one of the monomer components used for polymerization for obtaining the component (C). By using a "mer (c1)"), it can be obtained as a structural unit derived from the monomer.
Examples of the monomer (c1) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and propyl (meth) acrylate. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
As the monomer (c1), a methacrylic acid ester is preferable, and methyl methacrylate is more preferable, from the viewpoint of hygroscopicity.
(一般式(c2)で表される構造単位)
上記一般式(c2)中のRc4が示す脂環式炭化水素基を含む炭化水素基の炭素数は、5〜22であり、好ましくは6〜15、より好ましくは7〜10である。炭素数が上記下限値以上であると、単量体の化学的安定性が十分となると共に、(C)成分の吸湿率の低減効果が十分となり、22以下であると、(C)成分のTgが十分なものとなる。
上記脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、トリシクロデカニル基、イソボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。(C)成分が、構造単位(c2)を含むことによって、吸湿率を効率良く低減でき、優れた耐電食性が得られる。
(C)成分が構造単位(c2)を複数含む場合、複数の構造単位(c2)は同一であっても異なっていてもよい。
(Structural unit represented by the general formula (c2))
The number of carbon atoms of the hydrocarbon group containing the alicyclic hydrocarbon group represented by R c4 in the general formula (c2) is 5 to 22, preferably 6 to 15, and more preferably 7 to 10. When the number of carbon atoms is not less than the above lower limit, the chemical stability of the monomer is sufficient, and the effect of reducing the hygroscopicity of the component (C) is sufficient. When the number of carbon atoms is 22 or less, the chemical stability of the component (C) is sufficient. Tg is sufficient.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclohexyl group, a norbornyl group, a tricyclodecanyl group, an isobornyl group, an adamantyl group and the like. When the component (C) contains the structural unit (c2), the hygroscopicity can be efficiently reduced and excellent electrolytic corrosion resistance can be obtained.
When the component (C) contains a plurality of structural units (c2), the plurality of structural units (c2) may be the same or different.
構造単位(c2)は、(C)成分を得るための重合に使用する単量体成分の1つとして、環式炭化水素基を含む炭素数5〜22の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステル(以下、「単量体(c2)」ともいう)を使用することで、当該単量体に由来する構造単位として得られる。
単量体(c2)としては、例えば、(メタ)アクリル酸シクロペンチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸メチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ノルボルニル、(メタ)アクリル酸ノルボルニルメチル、(メタ)アクリル酸フェニルノルボルニル、(メタ)アクリル酸シアノノルボルニル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸ボルニル、(メタ)アクリル酸メンチル、(メタ)アクリル酸フェンチル、(メタ)アクリル酸アダマンチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアダマンチル、(メタ)アクリル酸トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカ−8−イル、(メタ)アクリル酸トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカ−4−メチル、(メタ)アクリル酸シクロデシル等が挙げられる。これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、低吸湿性及び金属箔との接着性の観点から、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸ノルボルニル、(メタ)アクリル酸ノルボルニルメチル、(メタ)アクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカ−8−イル、(メタ)アクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカ−4−メチル、(メタ)アクリル酸アダマンチルが好ましく、アクリル酸トリシクロ[5.2.1.O2,6]デカ−8−イルがより好ましい。
The structural unit (c2) is a (meth) acrylic having a hydrocarbon group having 5 to 22 carbon atoms including a cyclic hydrocarbon group as one of the monomer components used for polymerization for obtaining the component (C). By using an acid ester (hereinafter, also referred to as “monomer (c2)”), it can be obtained as a structural unit derived from the monomer.
Examples of the monomer (c2) include cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, trimethylcyclohexyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, and (meth). ) Norbornylmethyl acrylate, phenylnorbornyl (meth) acrylate, cyanonorbornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, menthyl (meth) acrylate, ( Fentyl acrylate, adamantyl (meth) acrylate, dimethyl adamantyl (meth) acrylate, tricyclo (meth) acrylate [5.2.1.0 2,6 ] deca-8-yl, (meth) acrylic acid Examples thereof include tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] deca-4-methyl and cyclodecyl (meth) acrylate. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
Among these, from the viewpoint of low moisture absorption and adhesion to metal foil, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, norbornylmethyl (meth) acrylate, ( Tricycloacrylate [5.2.1.0 2,6 ] deca-8-yl, (meth) tricycloacrylate [5.2.1.0 2,6 ] deca-4-methyl, (meth) Adamantyl acrylate is preferred, and tricycloacrylate [5.2.1. O 2,6 ] Deca-8-yl is more preferable.
(一般式(c3)で表される構造単位)
上記一般式(c3)中のRc6が示す鎖状炭化水素基の炭素数は4〜10であり、好ましくは4〜9、より好ましくは4〜8である。炭化水素基の炭素数が上記下限値以上であると、エラストマの可とう性が良好となり、上記上限値以下であると、電気絶縁性が十分となる。
Rc6が示す炭化水素基は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれであってもよいが、熱分解による質量減少が起こり難く、耐熱性に優れる観点から、炭素数4〜10の直鎖状炭化水素基、又は3級炭素原子を有さない分岐鎖状炭化水素基であることが好ましい。
Rc6が示す炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。アルキル基としては、例えば、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、デシル等が挙げられる。
(C)成分が構造単位(c3)を複数含む場合、複数の構造単位(c3)は同一であっても異なっていてもよい。
(Structural unit represented by the general formula (c3))
The chain hydrocarbon group represented by R c6 in the general formula (c3) has 4 to 10 carbon atoms, preferably 4 to 9, and more preferably 4 to 8. When the number of carbon atoms of the hydrocarbon group is at least the above lower limit value, the flexibility of the elastomer becomes good, and when it is at least the above upper limit value, the electrical insulation property becomes sufficient.
The hydrocarbon group indicated by R c6 may be either linear or branched, but from the viewpoint of being less likely to lose mass due to thermal decomposition and having excellent heat resistance, it is linear with 4 to 10 carbon atoms. It is preferably a branched hydrocarbon group that does not have a hydrocarbon group or a tertiary carbon atom.
The hydrocarbon group indicated by R c6 is preferably an aliphatic hydrocarbon group, more preferably an alkyl group. Examples of the alkyl group include a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, a decyl and the like.
When the component (C) contains a plurality of structural units (c3), the plurality of structural units (c3) may be the same or different.
構造単位(c3)は、(C)成分を得るための重合に使用する単量体成分の1つとして、エステル部分に炭素数4〜10の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルを使用することで、当該単量体(以下、「単量体(c3)」ともいう)に由来する構造単位として得られる。
単量体(c3)としては、例えば、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸i−ブチル、(メタ)アクリル酸sec−ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸デシル等が挙げられる。これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、得られる(C)成分のTg及びSP値の観点から、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸n−ブチルが好ましく、アクリル酸n−ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシルがより好ましい。
The structural unit (c3) uses a (meth) acrylic acid ester having a hydrocarbon group having 4 to 10 carbon atoms in the ester portion as one of the monomer components used for polymerization for obtaining the component (C). By doing so, it can be obtained as a structural unit derived from the monomer (hereinafter, also referred to as “monomer (c3)”).
Examples of the monomer (c3) include n-butyl (meth) acrylic acid, i-butyl (meth) acrylic acid, sec-butyl (meth) acrylic acid, pentyl (meth) acrylic acid, and (meth) acrylic acid. Examples thereof include n-hexyl, n-octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and decyl (meth) acrylate. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Among these, 2-ethylhexyl (meth) acrylate and n-butyl (meth) acrylate are preferable, and n-butyl acrylate and 2-ethylhexyl methacrylate are preferable from the viewpoint of the Tg and SP values of the obtained component (C). Is more preferable.
(一般式(c4)で表される構造単位)
上記一般式(c4)中のZは、ヒドロキシ基、又は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、酸無水物基、アミノ基、アミド基及びエポキシ基からなる群から選択される1種以上の官能基を含む置換基を示す。
(C)成分が構造単位(c4)を複数含む場合、複数の構造単位(c4)は同一であっても異なっていてもよい。
(Structural unit represented by the general formula (c4))
Z in the general formula (c4) contains a hydroxy group or one or more functional groups selected from the group consisting of a carboxy group, a hydroxy group, an acid anhydride group, an amino group, an amide group and an epoxy group. Indicates a substituent.
When the component (C) contains a plurality of structural units (c4), the plurality of structural units (c4) may be the same or different.
構造単位(c4)は、(C)成分を得るための重合に使用する単量体成分の1つとして、エステル部分に置換基Zを有する(メタ)アクリル酸エステルを使用することで、当該単量体(以下、「単量体(c4)」ともいう)に由来する構造単位として得られる。 The structural unit (c4) is a simple element by using a (meth) acrylic acid ester having a substituent Z in the ester moiety as one of the monomer components used for polymerization for obtaining the component (C). It is obtained as a structural unit derived from a dimer (hereinafter, also referred to as “monomer (c4)”).
上記置換基Zとして「ヒドロキシ基」を有する単量体(c4)としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和カルボン酸モノマーが挙げられる。 Examples of the monomer (c4) having a "hydroxy group" as the substituent Z include unsaturated carboxylic acid monomers such as acrylic acid and methacrylic acid.
上記置換基Zとして「カルボキシ基を含む置換基」を有する単量体(c4)としては、例えば、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロフタル酸等のカルボキシ基含有モノマーが挙げられる。 Examples of the monomer (c4) having a "substituted group containing a carboxy group" as the substituent Z include 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-. Examples thereof include carboxy group-containing monomers such as (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid and 2- (meth) acryloyloxypropyl hexahydrophthalic acid.
上記置換基Zとして「ヒドロキシ基を含む置換基」を有する単量体(c4)としては、例えば、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル、シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド等のヒドロキシ基含有モノマーが挙げられる。 Examples of the monomer (c4) having a “hydroxyl group-containing substituent” as the substituent Z include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate. Examples thereof include hydroxy group-containing monomers such as cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate and N-methylol (meth) acrylamide.
上記置換基Zとして「酸無水物基を含む置換基」を有する単量体(c4)としては、例えば、無水トリメリット酸(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル、シクロヘキサントリカルボン酸無水物(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル等の酸無水物基含有モノマーが挙げられる。 Examples of the monomer (c4) having a "substituent containing an acid anhydride group" as the substituent Z include trimellitic anhydride (meth) acryloyloxyethyl ester and cyclohexanetricarboxylic acid anhydride (meth) acryloyloxy. Examples thereof include acid anhydride group-containing monomers such as ethyl ester.
上記置換基Zとして「アミノ基を含む置換基」を有する単量体(c4)としては、例えば、(メタ)アクリル酸ジエチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニル、(メタ)アクリル酸−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジニル等のアミノ基含有モノマーが挙げられる。 Examples of the monomer (c4) having a "substituent containing an amino group" as the substituent Z include diethylaminoethyl (meth) acrylate and -2,2,6,6-tetramethyl (meth) acrylate. Examples thereof include amino group-containing monomers such as piperidinyl and (meth) acrylic acid-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidinyl.
上記置換基Zとして「アミド基を含む置換基」を有する単量体(c4)としては、例えば、N−(メタ)アクリロイルグリシンアミド等のアミド基含有モノマーが挙げられる。 Examples of the monomer (c4) having a "substituted group containing an amide group" as the substituent Z include an amide group-containing monomer such as N- (meth) acryloylglycinamide.
上記置換基Zとして「エポキシ基を含む置換基」を有する単量体(c4)としては、例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、2−(2,3−エポキシプロポキシ)エチル(メタ)アクリレート、3−(2,3−エポキシプロポキシ)プロピル(メタ)アクリレート、4−(2,3−エポキシプロポキシ)ブチル(メタ)アクリレート、5−(2,3−エポキシプロポキシ)ペンチル(メタ)アクリレート、6−(2,3−エポキシプロポキシ)ヘキシル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸−3,4−エポキシブチル、(メタ)アクリル酸−4,5−エポキシペンチル、(メタ)アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、(メタ)アクリル酸−3−メチル−3,4−エポキシブチル、(メタ)アクリル酸−4−メチル−4,5−エポキシペンチル、(メタ)アクリル酸−5−メチル−5,6−エポキシヘキシル、(メタ)アクリル酸−β−メチルグリシジル、(メタ)アクリル酸−3−メチル−3,4−エポキシブチル、(メタ)アクリル酸−4−メチル−4,5−エポキシペンチル、(メタ)アクリル酸−5−メチル−5,6−エポキシヘキシル等のエポキシ基含有モノマーが挙げられる。 Examples of the monomer (c4) having a “substituent containing an epoxy group” as the substituent Z include glycidyl (meth) acrylate, 2- (2,3-epoxypropoxy) ethyl (meth) acrylate, and 3 -(2,3-epoxypropoxy) propyl (meth) acrylate, 4- (2,3-epoxypropoxy) butyl (meth) acrylate, 5- (2,3-epoxypropoxy) pentyl (meth) acrylate, 6-( 2,3-Epoxypropoxy) hexyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-3,4-epoxybutyl, (meth) acrylic acid-4,5-epoxypentyl, (meth) acrylic acid-6,7-epoxy Heptyl, (meth) acrylate-3-methyl-3,4-epoxybutyl, (meth) acrylate-4-methyl-4,5-epoxypentyl, (meth) acrylate-5-methyl-5,6- Epoxyhexyl, (meth) acrylate-β-methylglycidyl, (meth) acrylate-3-methyl-3,4-epoxybutyl, (meth) acrylate-4-methyl-4,5-epoxypentyl, (meth) ) An epoxy group-containing monomer such as -5-methyl-5,6-epoxyhexyl acrylate can be mentioned.
これらの単量体(c4)は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの単量体(c4)の中でも、保存安定性の観点から、エポキシ基含有モノマーが好ましく、(メタ)アクリル酸グリシジルがより好ましく、メタクリル酸グリシジルが更に好ましい。
One of these monomers (c4) may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
Among these monomers (c4), an epoxy group-containing monomer is preferable, glycidyl (meth) acrylate is more preferable, and glycidyl methacrylate is further preferable, from the viewpoint of storage stability.
(C)成分中における各構造単位の含有量は、特に限定されないが、構造単位(c1)の含有量は1〜60質量%、構造単位(c2)の含有量は1〜20質量%、構造単位(c3)の含有量は5〜90質量%、構造単位(c4)の含有量は1〜20質量%であることが好ましい。
また、(C)成分中における構造単位(c1)の含有量は、特に限定されないが、より好ましくは10〜50質量%、更に好ましくは15〜40質量%、特に好ましくは15〜35質量%である。構造単位(c1)の含有量が上記下限値以上であると、得られる(C)成分のTg及びSP値に優れ、上記上限値以下であると、低弾性率が得られる。
(C)成分中における構造単位(c2)の含有量は、特に限定されないが、より好ましくは2〜10質量%、更に好ましくは3〜7質量%である。構造単位(c2)の含有量が上記下限値以上であると、吸湿性及び耐薬品性に優れ、上記上限値以下であると、機械的強度が十分となり、硬化物のレーザー加工性にも優れたものとなる。
(C)成分中における構造単位(c3)の含有量は、特に限定されないが、耐電食性と柔軟性の観点から、より好ましくは30〜85質量%、更に好ましくは50〜80質量%である。構造単位(c3)の含有量が上記下限値以上であると、耐電食性に優れ、上記上限値以下であると、高いTgが得られる。
(C)成分中における構造単位(c4)の含有量は、特に限定されないが、より好ましくは2〜10質量%、更に好ましくは3〜7質量%、特に好ましくは3.5〜6質量%である。構造単位(c4)の含有量が上記下限値以上であると、より一層接着性及び強度が十分となり、上記上限値以下であると、共重合する際の架橋反応を抑制し、保存安定性も良好となる。
(C)成分中におけるその他の構造単位の含有量は、特に限定されないが、好ましくは25質量%以下、より好ましくは10質量%以下、更に好ましくは5質量%以下である。
The content of each structural unit in the component (C) is not particularly limited, but the content of the structural unit (c1) is 1 to 60% by mass, the content of the structural unit (c2) is 1 to 20% by mass, and the structure. The content of the unit (c3) is preferably 5 to 90% by mass, and the content of the structural unit (c4) is preferably 1 to 20% by mass.
The content of the structural unit (c1) in the component (C) is not particularly limited, but is more preferably 10 to 50% by mass, further preferably 15 to 40% by mass, and particularly preferably 15 to 35% by mass. is there. When the content of the structural unit (c1) is at least the above lower limit value, the Tg and SP values of the obtained component (C) are excellent, and when it is at least the above upper limit value, a low elastic modulus is obtained.
The content of the structural unit (c2) in the component (C) is not particularly limited, but is more preferably 2 to 10% by mass, and further preferably 3 to 7% by mass. When the content of the structural unit (c2) is at least the above lower limit value, hygroscopicity and chemical resistance are excellent, and when it is at least the above upper limit value, the mechanical strength is sufficient and the laser workability of the cured product is also excellent. It will be a laser.
The content of the structural unit (c3) in the component (C) is not particularly limited, but is more preferably 30 to 85% by mass, still more preferably 50 to 80% by mass, from the viewpoint of electrolytic corrosion resistance and flexibility. When the content of the structural unit (c3) is at least the above lower limit value, the electrolytic corrosion resistance is excellent, and when it is at least the above upper limit value, high Tg can be obtained.
The content of the structural unit (c4) in the component (C) is not particularly limited, but is more preferably 2 to 10% by mass, further preferably 3 to 7% by mass, and particularly preferably 3.5 to 6% by mass. is there. When the content of the structural unit (c4) is at least the above lower limit value, the adhesiveness and strength become more sufficient, and when it is at least the above upper limit value, the cross-linking reaction at the time of copolymerization is suppressed and the storage stability is also improved. It will be good.
The content of the other structural unit in the component (C) is not particularly limited, but is preferably 25% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and further preferably 5% by mass or less.
((C)成分の製造方法)
(C)成分は、単量体(c1)、単量体(c2)、単量体(c3)及び単量体(c4)を含有する単量体混合物を重合することで得られるものが好ましい。
上記単量体混合物は、単量体(c1)、単量体(c2)、単量体(c3)及び単量体(c4)のみからなるものであってもよいが、これらの単量体と共重合可能な、その他の単量体を含有していてもよい。
その他の単量体としては、例えば、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン、α−クロルスチレン、α−ブロモスチレン、フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メチルスチレン、メトキシスチレン、(o−、m−又はp−)ヒドロキシスチレン、スチレン等の芳香族ビニル化合物;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物;無水マレイン酸等の不飽和ジカルボン酸無水物類;N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−プロピルマレイミド、N−i−プロピルマレイミド、N−ブチルマレイミド、N−i−ブチルマレイミド、N−t−ブチルマレイミド、N−ラウリルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−フェニルマレイミド等のN−置換マレイミド類;酢酸ビニルなどが挙げられる。
その他の単量体は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(Method for manufacturing component (C))
The component (C) is preferably obtained by polymerizing a monomer mixture containing the monomer (c1), the monomer (c2), the monomer (c3) and the monomer (c4). ..
The above-mentioned monomer mixture may consist only of a monomer (c1), a monomer (c2), a monomer (c3) and a monomer (c4), but these monomers It may contain other monomers copolymerizable with.
Examples of other monomers include 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, α-methylstyrene, α-ethylstyrene, α-fluorostyrene, α-chlorostyrene, α-bromostyrene, fluorostyrene, and chlorostyrene. Aromatic vinyl compounds such as, bromostyrene, methylstyrene, methoxystyrene, (o-, m- or p-) hydroxystyrene, styrene; vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile; unsaturated such as maleic anhydride. Dicarboxylic acid anhydrides; N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, N-i-propylmaleimide, N-butylmaleimide, N-i-butylmaleimide, N-t-butylmaleimide, N-lauryl N-substituted maleimides such as maleimide, N-cyclohexyl maleimide, N-benzylmaleimide, and N-phenylmaleimide; vinyl acetate and the like can be mentioned.
As the other monomers, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
各単量体の使用量は、得られる(C)成分中における各構造単位の含有量が上記した範囲となるように調整することが好ましい。 The amount of each monomer used is preferably adjusted so that the content of each structural unit in the obtained component (C) is within the above range.
(C)成分を製造するための重合方法としては、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、沈殿重合、乳化重合等の既存の方法を適用することができる。これらの中でも、経済性の観点から、懸濁重合が好ましい。
懸濁重合は、例えば、懸濁剤を添加した水性媒体中で行うことができる。懸濁剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ポリアクリルアミド等の水溶性高分子;リン酸カルシウム、ピロリン酸マグネシウム等の難溶性無機物質などが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール等の非イオン性の水溶性高分子が好ましい。懸濁剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
懸濁剤の使用量は、単量体の総量100質量部に対して、例えば、0.01〜1質量部である。
As the polymerization method for producing the component (C), existing methods such as bulk polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, precipitation polymerization and emulsion polymerization can be applied. Among these, suspension polymerization is preferable from the viewpoint of economy.
Suspension polymerization can be carried out, for example, in an aqueous medium to which a suspending agent has been added. Examples of the suspending agent include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, methyl cellulose and polyacrylamide; and sparingly soluble inorganic substances such as calcium phosphate and magnesium pyrophosphate. Among these, a nonionic water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol is preferable. One type of suspending agent may be used alone, or two or more types may be used in combination.
The amount of the suspending agent used is, for example, 0.01 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the monomers.
(C)成分を製造するための重合には、ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1,1−t−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、t−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート等の有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサノン−1−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物;過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性触媒;過酸化物又は過硫酸塩と還元剤の組み合わせによるレドックス触媒などが挙げられる。ラジカル重合開始剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
ラジカル重合開始剤の使用量は、単量体の総量100質量部に対して、例えば、0.01〜10質量部である。
It is preferable to use a radical polymerization initiator for the polymerization for producing the component (C). Examples of the radical polymerization initiator include benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, and 1,1-t-butylperoxy. Organic peroxides such as -3,3,5-trimethylcyclohexane and t-butylperoxyisopropylcarbonate; azobisisobutyronitrile, azobis-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, azobiscyclohexanone-1- Examples thereof include azo compounds such as carbonitrile and azodibenzoyl; water-soluble catalysts such as potassium persulfate and ammonium persulfate; and redox catalysts using a combination of peroxide or persulfate and a reducing agent. One type of radical polymerization initiator may be used alone, or two or more types may be used in combination.
The amount of the radical polymerization initiator used is, for example, 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the monomers.
(C)成分を製造するための重合には、得られる(C)成分の分子量を調整する観点から、連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤としては、例えば、メルカプタン系化合物、チオグリコール、四塩化炭素、α−メチルスチレンダイマー等が挙げられる。連鎖移動剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 A chain transfer agent may be used for the polymerization for producing the component (C) from the viewpoint of adjusting the molecular weight of the obtained component (C). Examples of the chain transfer agent include mercaptan compounds, thioglycols, carbon tetrachloride, α-methylstyrene dimers and the like. One type of chain transfer agent may be used alone, or two or more types may be used in combination.
重合温度は、特に限定されないが、例えば、0〜200℃であり、反応速度及び生産性の観点から、好ましくは40〜120℃である。 The polymerization temperature is not particularly limited, but is, for example, 0 to 200 ° C., preferably 40 to 120 ° C. from the viewpoint of reaction rate and productivity.
((C)成分の物性)
(C)成分の重量平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは100,000〜1,000,000、より好ましくは200,000〜900,000、更に好ましくは300,000〜800,000、特に好ましくは450,000〜650,000、最も好ましくは500,000〜600,000である。重量平均分子量が上記下限値以上であると、十分な低弾性率を有し、金属箔との高い接着強度が得られ、上記上限値以下であると、溶剤への溶解性がよく加工性が良好となる。
(Physical properties of component (C))
The weight average molecular weight of the component (C) is not particularly limited, but is preferably 100,000 to 1,000,000, more preferably 200,000 to 900,000, still more preferably 300,000 to 800,000, particularly. It is preferably 450,000 to 650,000, most preferably 500,000 to 600,000. When the weight average molecular weight is at least the above lower limit value, it has a sufficiently low elastic modulus and high adhesive strength with the metal foil is obtained, and when it is at least the above upper limit value, the solubility in a solvent is good and the workability is good. It will be good.
(C)成分の溶解度パラメータ(SP値)は、特に限定されないが、好ましくは10.0〜12.0、より好ましくは10.1〜11.0、更に好ましくは10.2〜10.5である。SP値が上記下限値以上であると、耐熱性が向上する傾向にあり、上記上限値以下であると、絶縁信頼性が向上する傾向にある。
なお、(C)成分のSP値は、Fedors法によって、材料の構造からSP値を算出することができる。材料の構造から、構成されている官能基の員数分を、下記表に示す各官能基におけるモル凝集エネルギー及びモル分子容量をそれぞれ合計することによって、合計モル凝集エネルギー及び合計モル分子容量を求め、下記式(1)により算出する。
The solubility parameter (SP value) of the component (C) is not particularly limited, but is preferably 10.0 to 12.0, more preferably 10.1 to 11.0, and further preferably 10.2 to 10.5. is there. When the SP value is at least the above lower limit value, the heat resistance tends to be improved, and when it is at least the above upper limit value, the insulation reliability tends to be improved.
The SP value of the component (C) can be calculated from the structure of the material by the Fedors method. From the structure of the material, the total molar aggregation energy and the total molar molecular capacity were obtained by summing the molar agglomeration energy and the molar molecular capacity of each functional group shown in the table below for the number of constituent functional groups. Calculated by the following formula (1).
上記式(1)中の記号はそれぞれ、δiはSP値、ΔEiは合計モル凝集エネルギー、ΔViは合計モル分子容量を示す。
The symbols in the above formula (1) indicate the SP value in δ i , the total molar aggregation energy in ΔE i , and the total molar molecular capacity in ΔV i , respectively.
具体的に、メタクリル酸メチルの場合を例として上記の方法によりSP値を算出すると、次のようになる。この場合、メタクリル酸メチルは、
構造式: CH3―C(=CH2)―C(=O)―O―CH3
員数: CH3 2個
CH2 1個
>C< 1個
>CO 1個
―O― 1個
であり、表1より、
合計モル凝集エネルギー(ΔEi):(1125×2)+(1180×1)+(350×1)+(4150×1)+(800×1)=8730
合計モル分子容量(ΔVi):(33.5×2)+(16.1×1)+(−19.2×1)+(10.8×1)+(3.8×1)=78.5
となり、これを式(1)に適用して、
Specifically, when the SP value is calculated by the above method using the case of methyl methacrylate as an example, it becomes as follows. In this case, methyl methacrylate
Structural formula: CH 3- C (= CH 2 ) -C (= O) -O-CH 3
Number of members: CH 3 2
CH 2 1 piece
> C <1 piece
> 1 CO
-O- 1 piece, from Table 1
Total molar cohesive energy (ΔE i ): (1125 × 2) + (1180 × 1) + (350 × 1) + (4150 × 1) + (800 × 1) = 8730
Total molar molecular capacity (ΔV i ): (33.5 × 2) + (16.1 × 1) + (-19.2 × 1) + (10.8 × 1) + (3.8 × 1) = 78.5
And apply this to equation (1),
と溶解度パラメータ(SP値)が算出される。
(C)アクリル系ポリマーのSP値は、各単量体の構成割合から算出する。具体的に、重量比でメタクリル酸メチル/アクリル酸ブチル=40で共重合させた場合例として、SP値を算出すると、次のようになる。メタクリル酸メチルのSP値は10.55、アクリル酸ブチルのSP値は10.21のため、10.55×0.4+10.21×0.6=10.35と算出される。
And the solubility parameter (SP value) are calculated.
(C) The SP value of the acrylic polymer is calculated from the composition ratio of each monomer. Specifically, as an example of copolymerization with methyl methacrylate / butyl acrylate = 40 by weight, the SP value is calculated as follows. Since the SP value of methyl methacrylate is 10.55 and the SP value of butyl acrylate is 10.21, it is calculated as 10.55 × 0.4 + 10.21 × 0.6 = 10.35.
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物中における(C)成分の含有量は、特に限定されないが、樹脂成分総量100質量部に対して、好ましくは5〜50質量部、より好ましくは10〜40質量部、更に好ましくは10〜30質量部、特に好ましくは10〜20質量部である。(C)成分の含有量が上記下限値以上であると、低弾性、柔軟性及び高伸び性に優れ、金属箔との十分な接着強度が得られる傾向にあり、上記上限値以下であると、十分な耐熱性が得られる。 The content of the component (C) in the thermosetting resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but is preferably 5 to 50 parts by mass, more preferably 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the resin component. It is by mass, more preferably 10 to 30 parts by mass, and particularly preferably 10 to 20 parts by mass. When the content of the component (C) is at least the above lower limit value, it is excellent in low elasticity, flexibility and high extensibility, and there is a tendency to obtain sufficient adhesive strength with the metal foil, and when it is at least the above upper limit value. , Sufficient heat resistance can be obtained.
〔(D)特定の共重合樹脂〕
(D)成分は、芳香族ビニル化合物に由来する構造単位と無水マレイン酸に由来する構造単位とを有する共重合樹脂(以下、共重合樹脂(D)と称することがある)である。芳香族ビニル化合物としては、例えば、スチレン、1−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジメチルスチレン等が挙げられる。これらの中でも、スチレンが好ましい。
(D)成分としては、下記一般式(D−i)で表される構造単位と下記式(D−ii)で表される構造単位とを有する共重合樹脂が好ましい。
[(D) Specific copolymer resin]
The component (D) is a copolymer resin having a structural unit derived from an aromatic vinyl compound and a structural unit derived from maleic anhydride (hereinafter, may be referred to as a copolymer resin (D)). Examples of the aromatic vinyl compound include styrene, 1-methylstyrene, vinyltoluene, dimethylstyrene and the like. Of these, styrene is preferable.
As the component (D), a copolymer resin having a structural unit represented by the following general formula (Di) and a structural unit represented by the following formula (D-ii) is preferable.
(式中、RD1は、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基であり、RD2は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、水酸基又は(メタ)アクリロイル基である。xは、0〜3の整数である。但し、xが2又は3である場合、複数のRD2は同一であってもよいし、異なっていてもよい。)
(In the formula, RD1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and RD2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and 6 to 20 carbon atoms. It is an aryl group, a hydroxyl group or a (meth) acryloyl group. X is an integer of 0 to 3. However, when x is 2 or 3, a plurality of R D2s may be the same or different. May be.)
RD1及びRD2が表す炭素数1〜5のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等が挙げられる。該アルキル基としては、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。
RD2が表す炭素数2〜5のアルケニル基としては、例えば、アリル基、クロチル基等が挙げられる。該アルケニル基としては、好ましくは炭素数3〜5のアルケニル基、より好ましくは炭素数3又は4のアルケニル基である。
RD2が表す炭素数6〜20のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニリル基等が挙げられる。該アリール基としては、好ましくは炭素数6〜12のアリール基、より好ましくは炭素数6〜10のアリール基である。
xは、好ましくは0又は1、より好ましくは0である。
一般式(D−i)で表される構造単位においては、RD1が水素原子であり、xが0である下記一般式(D−i−1)で表される構造単位、つまりスチレンに由来する構造単位が好ましい。
The alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms R D2 represents, for example, allyl, crotyl and the like. The alkenyl group is preferably an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, and more preferably an alkenyl group having 3 or 4 carbon atoms.
Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms R D2 represents, for example, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, etc. biphenylyl group. The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and more preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
x is preferably 0 or 1, more preferably 0.
In the structural unit represented by the general formula (D-i), RD1 is a hydrogen atom and x is 0, which is derived from the structural unit represented by the following general formula (D-i-1), that is, styrene. The structural unit to be used is preferable.
共重合樹脂(D)中における、芳香族ビニル化合物に由来する構造単位と無水マレイン酸に由来する構造単位の含有比率[芳香族ビニル化合物に由来する構造単位/無水マレイン酸に由来する構造単位](モル比)は、好ましくは1〜9、より好ましくは2〜9、更に好ましくは3〜8、特に好ましくは3〜7である。また、前記式(D−ii)で表される構造単位に対する前記一般式(D−i)で表される構造単位の含有比率[(D−i)/(D−ii)](モル比)も同様に、好ましくは1〜9、より好ましくは2〜9、更に好ましくは3〜8、特に好ましくは3〜7である。これらのモル比が1以上、好ましくは2以上であれば、硬化物のTgが高くなり、且つ誘電特性の改善効果が十分となる傾向にあり、9以下であれば、相容性が良好となる傾向にある。
共重合樹脂(D)中における、芳香族ビニル化合物に由来する構造単位と無水マレイン酸に由来する構造単位との合計含有量、及び、一般式(D−i)で表される構造単位と式(D−ii)で表される構造単位との合計含有量は、それぞれ、好ましくは50質量%以上、より好ましくは70質量%以上、更に好ましくは90質量%以上、特に好ましくは実質的に100質量%である。
共重合樹脂(D)の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは4,500〜18,000、より好ましくは5,000〜18,000、より好ましくは6,000〜17,000、更に好ましくは8,000〜16,000、特に好ましくは8,000〜15,000、最も好ましくは9,000〜13,000である。
Content ratio of structural units derived from aromatic vinyl compound and structural units derived from maleic anhydride in the copolymer resin (D) [Structural units derived from aromatic vinyl compound / structural units derived from maleic anhydride] The (molar ratio) is preferably 1 to 9, more preferably 2 to 9, still more preferably 3 to 8, and particularly preferably 3 to 7. Further, the content ratio of the structural unit represented by the general formula (Di) to the structural unit represented by the formula (D-ii) [(Di) / (D-ii)] (molar ratio). Similarly, it is preferably 1 to 9, more preferably 2 to 9, still more preferably 3 to 8, and particularly preferably 3 to 7. When these molar ratios are 1 or more, preferably 2 or more, the Tg of the cured product tends to be high and the effect of improving the dielectric properties tends to be sufficient, and when these are 9 or less, the compatibility is good. It tends to be.
The total content of the structural unit derived from the aromatic vinyl compound and the structural unit derived from maleic anhydride in the copolymer resin (D), and the structural unit and formula represented by the general formula (Di). The total content with the structural unit represented by (D-ii) is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more, and particularly preferably substantially 100. It is mass%.
The weight average molecular weight (Mw) of the copolymerized resin (D) is preferably 4,500 to 18,000, more preferably 5,000 to 18,000, more preferably 6,000 to 17,000, and even more preferably 6,000 to 17,000. It is 8,000 to 16,000, particularly preferably 8,000 to 15,000, and most preferably 9,000 to 13,000.
なお、共重合樹脂(D)を用いることで硬化物のTgが上昇し、共重合樹脂(D)と(A)成分との反応でエステル基が生じることによって、金属箔との接着強度が向上する。本発明は、前記(A)成分、前記(B)成分及び前記(C)成分と共に共重合樹脂(D)を含有させることにより、低弾性、高伸び性及び高Tgを有する熱硬化性樹脂組成物となることが判明して成し遂げられたものである。 By using the copolymer resin (D), the Tg of the cured product is increased, and the ester group is generated by the reaction between the copolymer resin (D) and the component (A), so that the adhesive strength with the metal foil is improved. To do. The present invention has a thermosetting resin composition having low elasticity, high extensibility and high Tg by containing the copolymer resin (D) together with the component (A), the component (B) and the component (C). It was achieved when it turned out to be a thing.
(共重合樹脂(D)の製造方法)
共重合樹脂(D)は、芳香族ビニル化合物と無水マレイン酸とを共重合することにより製造することができる。
芳香族ビニル化合物としては、前述の通り、スチレン、1−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジメチルスチレン等が挙げられる。これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
更に、前記芳香族ビニル化合物及び無水マレイン酸以外にも、各種の重合可能な成分を共重合させてもよい。各種の重合可能な成分としては、例えば、エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソブチレン、アクリロニトリル等のビニル化合物;メチルアクリレート、メチルメタクリレート等の(メタ)アクリロイル基を有する化合物などが挙げられる。
また、該芳香族ビニル化合物に、フリーデル・クラフツ反応、又はリチウム等の金属系触媒を用いた反応を通じて、アリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、ヒドロキシ基等の置換基を導入してもよい。
(Manufacturing method of copolymer resin (D))
The copolymerized resin (D) can be produced by copolymerizing an aromatic vinyl compound and maleic anhydride.
Examples of the aromatic vinyl compound include styrene, 1-methylstyrene, vinyltoluene, dimethylstyrene and the like, as described above. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
Further, in addition to the aromatic vinyl compound and maleic anhydride, various polymerizable components may be copolymerized. Examples of various polymerizable components include vinyl compounds such as ethylene, propylene, butadiene, isobutylene and acrylonitrile; and compounds having a (meth) acryloyl group such as methyl acrylate and methyl methacrylate.
Further, a substituent such as an allyl group, a methacryloyl group, an acryloyl group or a hydroxy group may be introduced into the aromatic vinyl compound through a Friedel-Crafts reaction or a reaction using a metal catalyst such as lithium.
共重合樹脂(D)としては、市販品を用いることもできる。市販品としては、例えば、SMA(登録商標)1000」(スチレン/無水マレイン酸=1、Mw=5,500)、「SMA(登録商標)EF30」(スチレン/無水マレイン酸=3、Mw=9,500)、「SMA(登録商標)EF40」(スチレン/無水マレイン酸=4、Mw=11,000)、「SMA(登録商標)EF60」(スチレン/無水マレイン酸=6、Mw=11,500)、「SMA(登録商標)EF80」(スチレン/無水マレイン酸=8、Mw=14,400)[以上、CRAY VALLEY社製]等が挙げられる。 As the copolymerization resin (D), a commercially available product can also be used. Examples of commercially available products include "SMA (registered trademark) 1000" (styrene / maleic anhydride = 1, Mw = 5,500) and "SMA (registered trademark) EF30" (styrene / maleic anhydride = 3, Mw = 9). , 500), "SMA (registered trademark) EF40" (styrene / maleic anhydride = 4, Mw = 11,000), "SMA (registered trademark) EF60" (styrene / maleic anhydride = 6, Mw = 11,500) ), "SMA (registered trademark) EF80" (styrene / maleic anhydride = 8, Mw = 14,400) [above, manufactured by CRAY VALLEY] and the like.
〔(E)硬化促進剤〕
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、更に、(E)硬化促進剤を含有することが好ましい。(E)硬化促進剤は、(B)熱硬化性樹脂の種類によって適宜選択することができ、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
例えば、(B)成分としてエポキシ樹脂を用いる場合、(E)硬化促進剤としては、特に限定されないが、アミン化合物、イミダゾール化合物が好ましく、イミダゾール化合物がより好ましい。
アミン化合物としては、例えば、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルエタン、グアニル尿素等が挙げられる。
イミダゾール化合物としては、例えば、2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、ベンゾイミダゾール等が挙げられる。これらの中でも、イミダゾール化合物が好ましく、2−フェニルイミダゾールがより好ましい。
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が(E)硬化促進剤を含有する場合、(E)硬化促進剤の含有量は、特に限定されないが、(B)成分の総量100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは0.03〜5質量部、更に好ましくは0.05〜3質量部である。
[(E) Curing accelerator]
The thermosetting resin composition of the present embodiment further preferably contains (E) a curing accelerator. The (E) curing accelerator can be appropriately selected depending on the type of (B) thermosetting resin, and one type may be used alone or two or more types may be used in combination.
For example, when an epoxy resin is used as the component (B), the curing accelerator (E) is not particularly limited, but an amine compound and an imidazole compound are preferable, and an imidazole compound is more preferable.
Examples of the amine compound include dicyandiamide, diaminodiphenylethane, guanylurea and the like.
Examples of the imidazole compound include 2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, and 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium tri. Examples thereof include meritate and benzimidazole. Among these, an imidazole compound is preferable, and 2-phenylimidazole is more preferable.
When the thermosetting resin composition of the present embodiment contains (E) a curing accelerator, the content of the (E) curing accelerator is not particularly limited, but is based on 100 parts by mass of the total amount of the (B) component. It is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.03 to 5 parts by mass, and further preferably 0.05 to 3 parts by mass.
〔(F)フィラー〕
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、更に、(F)フィラーを含有することが好ましい。
(F)フィラーは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(F)フィラーは特に制限されるものではなく、公知のものを使用できる。(F)フィラーとしては、有機フィラーであってもよいし、無機フィラーであってもよいが、低熱膨張率及び難燃性の観点から、無機フィラーが好ましい。
無機フィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン、マイカ、ベリリア、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、炭酸アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー(焼成クレー等)、タルク、ホウ酸アルミニウム、炭化ケイ素等が挙げられる。これらの中でも、低誘電率及び低熱膨張率の観点から、シリカが好ましい。シリカとしては、例えば、湿式法で製造され含水率の高い沈降シリカと、乾式法で製造され結合水等をほとんど含まない乾式法シリカ等が挙げられ、乾式法シリカとしては、更に、製造法の違いにより破砕シリカ、フュームドシリカ、溶融シリカ(溶融球状シリカ)等が挙げられる。これらの中でも、溶融シリカ(溶融球状シリカ)、粉砕シリカが好ましい。
[(F) Filler]
The thermosetting resin composition of the present embodiment preferably further contains (F) filler.
As the filler (F), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
The filler (F) is not particularly limited, and known fillers can be used. The filler (F) may be an organic filler or an inorganic filler, but an inorganic filler is preferable from the viewpoint of low coefficient of thermal expansion and flame retardancy.
Examples of the inorganic filler include silica, alumina, titanium oxide, mica, berylia, barium titanate, potassium titanate, strontium titanate, calcium titanate, aluminum carbonate, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, aluminum silicate, and carbonic acid. Calcium, calcium silicate, magnesium silicate, silicon nitride, boron nitride, clay (baked clay, etc.), talc, aluminum borate, silicon carbide and the like can be mentioned. Among these, silica is preferable from the viewpoint of low dielectric constant and low coefficient of thermal expansion. Examples of silica include precipitated silica manufactured by a wet method and having a high water content, dry silica manufactured by a dry method and containing almost no bound water, and the like. Further examples of dry silica include those produced by the manufacturing method. Depending on the difference, crushed silica, fumed silica, fused silica (molten spherical silica) and the like can be mentioned. Among these, fused silica (molten spherical silica) and pulverized silica are preferable.
(F)フィラーの平均粒径は、特に限定されないが、好ましくは0.1〜10μm、より好ましくは0.3〜4.0μmである。平均粒径が0.1μm以上であると、フィラー同士の分散性が良好となり、且つワニスの粘度低下により取り扱い性が良好となる傾向にある。また、平均粒径が10μm以下であると、ワニス化の際に(F)フィラーの沈降が起き難い傾向にある。ここで、平均粒子径とは、粒子の全体積を100%として粒子径による累積度数分布曲線を求めたとき、体積50%に相当する点の粒子径のことであり、レーザ回折散乱法を用いた粒度分布測定装置等で測定することができる。 The average particle size of the filler (F) is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10 μm, and more preferably 0.3 to 4.0 μm. When the average particle size is 0.1 μm or more, the dispersibility between the fillers tends to be good, and the handleability tends to be good due to the decrease in the viscosity of the varnish. Further, when the average particle size is 10 μm or less, the (F) filler tends to be less likely to settle during varnishing. Here, the average particle size is the particle size of a point corresponding to a volume of 50% when the cumulative frequency distribution curve by the particle size is obtained with the total volume of the particles as 100%, and the laser diffraction scattering method is used. It can be measured with the particle size distribution measuring device or the like.
(F)フィラーは、分散性の向上、並びにプリプレグの基材への密着性及び金属箔への密着性の向上の観点から、カップリング剤によって表面処理されたものであってもよい。
カップリング剤としては、シランカップリング剤が好ましく、該シランカップリング剤としては、例えば、エポキシシラン系カップリング剤、アミノシラン系カップリング剤、ビニルシラン系カップリング剤、フェニルシラン系カップリング剤等が挙げられる。これらの中でも、アミノシラン系カップリング剤が好ましい。カップリング剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
なお、カップリング剤を用いる場合、熱硬化性樹脂組成物中に(F)フィラーを配合した後、カップリング剤を添加する、いわゆるインテグラルブレンド処理方式であってもよいが、予めカップリング剤を乾式又は湿式で表面処理した(F)フィラーを使用する方式が好ましい。
The filler (F) may be surface-treated with a coupling agent from the viewpoint of improving the dispersibility, the adhesion of the prepreg to the substrate, and the adhesion to the metal foil.
As the coupling agent, a silane coupling agent is preferable, and examples of the silane coupling agent include an epoxysilane-based coupling agent, an aminosilane-based coupling agent, a vinylsilane-based coupling agent, a phenylsilane-based coupling agent, and the like. Can be mentioned. Among these, an aminosilane-based coupling agent is preferable. One type of coupling agent may be used alone, or two or more types may be used in combination.
When a coupling agent is used, a so-called integral blend treatment method in which the filler (F) is mixed in the thermosetting resin composition and then the coupling agent is added may be used, but the coupling agent may be used in advance. It is preferable to use a filler (F) whose surface is treated by a dry method or a wet method.
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が(F)フィラーを含有する場合、(F)フィラーの含有量は、特に限定されないが、樹脂成分総量100質量部に対して、好ましくは10〜150質量部、より好ましくは20〜100質量部、更に好ましくは30〜70質量部である。(F)フィラーの含有量が上記下限値以上であると、低熱膨張性、耐熱性及び低タック性に優れ、上記上限値以下であると、低弾性効果が十分に得られる傾向にある。 When the thermosetting resin composition of the present embodiment contains the (F) filler, the content of the (F) filler is not particularly limited, but is preferably 10 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the resin components. Parts, more preferably 20 to 100 parts by mass, still more preferably 30 to 70 parts by mass. When the content of the filler (F) is at least the above lower limit value, it is excellent in low thermal expansion, heat resistance and low tackiness, and when it is at least the above upper limit value, a low elastic effect tends to be sufficiently obtained.
〔その他の成分〕
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、前記(B)成分の硬化剤(但し、前記(A)成分を除く。);イソシアネート、メラミン等の架橋剤;ゴム系エラストマ;リン系化合物等の難燃剤;導電性粒子;カップリング剤;流動調整剤;酸化防止剤;顔料;レベリング剤;消泡剤;イオントラップ剤などを含有していてもよい。
[Other ingredients]
The thermosetting resin composition of the present embodiment is, if necessary, a curing agent for the component (B) (excluding the component (A)); a cross-linking agent such as isocyanate and melamine; a rubber-based elastoma; It may contain a flame retardant such as a phosphorus compound; conductive particles; a coupling agent; a flow conditioner; an antioxidant; a pigment; a leveling agent; an antifoaming agent; an ion trapping agent or the like.
〔有機溶剤〕
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、後述するプリプレグの製造を容易にする観点から、有機溶剤を含有するワニス状の熱硬化性樹脂組成物であってもよい。有機溶剤は、上記(A)成分、(B)成分等を製造する際に用いた有機溶剤がそのまま含有されたものであってもよいし、新たに配合したものであってもよい。
有機溶剤としては、特に限定されないが、ケトン系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、エステル系溶剤、アミド系溶剤、アルコール系溶剤等が挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、ケトン系溶剤が好ましい。ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。有機溶剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
ワニスとしては、取り扱い性、プリプレグの基材への含浸性及びプリプレグの外観の観点から、不揮発分濃度が25〜65質量%であることが好ましい。なお、本明細書において、「不揮発分」とは、熱硬化性樹脂組成物に含まれる有機溶剤を除去したときに残存する成分を指し、上記(F)フィラーも含まれる。
〔Organic solvent〕
The thermosetting resin composition of the present embodiment may be a varnish-like thermosetting resin composition containing an organic solvent from the viewpoint of facilitating the production of the prepreg described later. The organic solvent may contain the organic solvent used in producing the component (A), the component (B), or the like as it is, or may be newly blended.
The organic solvent is not particularly limited, and examples thereof include a ketone solvent, an aromatic hydrocarbon solvent, an ester solvent, an amide solvent, and an alcohol solvent. Among these, a ketone solvent is preferable from the viewpoint of solubility. Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and the like. As the organic solvent, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
The varnish preferably has a non-volatile content concentration of 25 to 65% by mass from the viewpoints of handleability, impregnation of the prepreg into the base material, and appearance of the prepreg. In the present specification, the “nonvolatile component” refers to a component remaining when the organic solvent contained in the thermosetting resin composition is removed, and the above-mentioned filler (F) is also included.
(貯蔵弾性率)
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物から得られる硬化物(積層板)の貯蔵弾性率は、特に限定されないが、応力緩和効果を発現させる観点から、好ましくは4.0GPa以下、より好ましくは3.7GPa以下、更に好ましくは3.2GPa以下、特に好ましくは2.7GPa以下、最も好ましくは2.4以下である。貯蔵弾性率の下限値に特に制限はなく、1.0GPa以上であってもよく、1.5GPa以上であってもよく、1.8GPa以上であってもよい。貯蔵弾性率は、実施例に記載の方法により測定することができる。
(Storage modulus)
The storage elastic modulus of the cured product (laminated plate) obtained from the thermosetting resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but is preferably 4.0 GPa or less, more preferably 3 from the viewpoint of exhibiting a stress relaxation effect. It is 0.7 GPa or less, more preferably 3.2 GPa or less, particularly preferably 2.7 GPa or less, and most preferably 2.4 or less. The lower limit of the storage elastic modulus is not particularly limited, and may be 1.0 GPa or more, 1.5 GPa or more, or 1.8 GPa or more. The storage elastic modulus can be measured by the method described in Examples.
(引張り伸び率)
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物から得られる硬化物(積層板)の25℃での引張り伸び率は、特に限定されないが、長期信頼性確保の観点から、好ましくは2.5%以上、より好ましくは2.8%以上、更に好ましくは3.0%以上、特に好ましくは3.1%以上である。25℃での引張り伸び率の上限値に特に制限はないが、6.0%以下であってもよく、5.0%以下であってもよく、4.0%以下であってもよく、3.5%以下であってもよい。
125℃での引張り伸び率は、特に限定されないが、高温環境下における応力緩和効果を発現させ、且つ、常温環境と高温環境との間の温度変化が起こる際の熱膨張に対する復元性の観点から、好ましくは6.0%以上、より好ましくは8.0%以上、更に好ましくは9.0%以上、より更に好ましくは9.5%以上、特に好ましくは9.7%以上、最も好ましくは9.8%以上である。125℃での引張り伸び率の上限値に特に制限はないが、通常、12.0%以下であってもよく、11.0%以下であってもよく、10.5%以下であってもよい。引張り伸び率は、実施例に記載の方法により測定することができる。
(Tensile elongation rate)
The tensile elongation at 25 ° C. of the cured product (laminated plate) obtained from the thermosetting resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but is preferably 2.5% or more from the viewpoint of ensuring long-term reliability. It is more preferably 2.8% or more, further preferably 3.0% or more, and particularly preferably 3.1% or more. The upper limit of the tensile elongation at 25 ° C. is not particularly limited, but may be 6.0% or less, 5.0% or less, or 4.0% or less. It may be 3.5% or less.
The tensile elongation at 125 ° C. is not particularly limited, but from the viewpoint of exhibiting a stress relaxation effect in a high temperature environment and resilience to thermal expansion when a temperature change occurs between a normal temperature environment and a high temperature environment. , Preferably 6.0% or more, more preferably 8.0% or more, still more preferably 9.0% or more, even more preferably 9.5% or more, particularly preferably 9.7% or more, most preferably 9. It is 8.8% or more. The upper limit of the tensile elongation at 125 ° C. is not particularly limited, but usually, it may be 12.0% or less, 11.0% or less, or 10.5% or less. Good. The tensile elongation can be measured by the method described in Examples.
(銅箔引き剥がし強さ)
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物から得られる硬化物において、25℃での銅箔引き剥がし強さは、特に限定されないが、実施例に記載の方法に従って測定したとき、好ましくは0.80kN/m以上、より好ましくは0.83kN/m以上、更に好ましくは0.85kN/m以上である。25℃での銅箔引き剥がし強さの上限値に特に制限はないが、通常、2.0kN/m以下であってもよく、1.3kN/m以下であってもよく、1.1kN/m以下であってもよい。
また、125℃での銅箔引き剥がし強さは、特に限定されないが、好ましくは0.55kN/m以上、より好ましくは0.57kN/m以上、更に好ましくは0.60kN/m以上である。125℃での銅箔引き剥がし強さの上限値に特に制限はないが、1.50kN/m以下であってもよく、1.20kN/m以下であってもよく、1.0kN/m以下であってもよく、0.85kN/m以下であってもよい。
(Copper foil peeling strength)
In the cured product obtained from the thermosetting resin composition of the present embodiment, the copper foil peeling strength at 25 ° C. is not particularly limited, but when measured according to the method described in Examples, it is preferably 0.80 kN. / M or more, more preferably 0.83 kN / m or more, still more preferably 0.85 kN / m or more. The upper limit of the copper foil peeling strength at 25 ° C. is not particularly limited, but usually, it may be 2.0 kN / m or less, 1.3 kN / m or less, or 1.1 kN / m. It may be m or less.
The peeling strength of the copper foil at 125 ° C. is not particularly limited, but is preferably 0.55 kN / m or more, more preferably 0.57 kN / m or more, and further preferably 0.60 kN / m or more. The upper limit of the copper foil peeling strength at 125 ° C. is not particularly limited, but may be 1.50 kN / m or less, 1.20 kN / m or less, or 1.0 kN / m or less. It may be 0.85 kN / m or less.
(ガラス転移温度(Tg))
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物から得られる硬化物において、ガラス転移温度(Tg)は、特に限定されないが、実施例に記載の方法に従って測定したとき、好ましくは150℃以上、より好ましくは155℃以上、更に好ましくは158℃以上である。Tgの上限値に特に制限はないが、通常、170℃以下であってもよく、165℃以下であってもよい。
(Glass transition temperature (Tg))
In the cured product obtained from the thermosetting resin composition of the present embodiment, the glass transition temperature (Tg) is not particularly limited, but when measured according to the method described in Examples, it is preferably 150 ° C. or higher, more preferably. It is 155 ° C. or higher, more preferably 158 ° C. or higher. The upper limit of Tg is not particularly limited, but usually, it may be 170 ° C. or lower, or 165 ° C. or lower.
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物の硬化物は、金属箔との接着性を高める観点からは、相分離構造を有さない態様が好ましく、一方、貯蔵弾性率を小さくする観点からは、相分離構造を有する態様が好ましい。相分離構造を有さない場合には、常温環境下及び高温環境下における伸び率が向上し、これによって、応力緩和効果を効果的に発現できるため、金属箔との接着性を高めることができる傾向にある。なお、本実施形態において、相分離構造とは、例えば、海島構造、連続球状構造、複合分散相構造、共連続相構造等のことであり、該相分離構造の有無は、実施例に記載の方法により確認することができる。本実施形態における相分離構造としては、海島構造が好ましい。 The cured product of the thermosetting resin composition of the present embodiment preferably does not have a phase-separated structure from the viewpoint of enhancing the adhesiveness with the metal foil, while it is preferable from the viewpoint of reducing the storage elastic modulus. An embodiment having a phase-separated structure is preferable. When it does not have a phase-separated structure, the elongation rate in a normal temperature environment and a high temperature environment is improved, and thus the stress relaxation effect can be effectively exhibited, so that the adhesiveness with the metal foil can be enhanced. There is a tendency. In the present embodiment, the phase-separated structure is, for example, a sea-island structure, a continuous spherical structure, a composite dispersed phase structure, a co-continuous phase structure, or the like, and the presence or absence of the phase-separated structure is described in Examples. It can be confirmed by the method. As the phase-separated structure in the present embodiment, a sea-island structure is preferable.
[プリプレグ]
本実施形態のプリプレグは、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を含有してなる。
本実施形態のプリプレグは、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を基材に含浸し、乾燥して製造することができる。
基材は、金属張積層板又はプリント配線板を製造する際に用いられる基材であれば特に制限されないが、通常、織布、不織布等の繊維基材が用いられる。繊維基材の材質としては、例えば、ガラス、アルミナ、アスベスト、ボロン、シリカアルミナガラス、シリカガラス、チラノ、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア等の無機繊維;アラミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルフォン、カーボン、セルロース等の有機繊維;並びにこれらを混抄した繊維などが挙げられる。これらの中でも、ガラスクロスが好ましい。繊維基材の厚さは、例えば、160μm以下であり、好ましくは10〜160μm、より好ましくは15〜100μm、更に好ましくは20〜50μmである。
繊維基材は、特に任意に折り曲げ可能なプリント配線板を得ることができ、製造プロセス上での温度、吸湿等に伴う寸法変化を小さくすることが可能となることから、50μm以下のガラスクロスであることが好ましい。
[Prepreg]
The prepreg of the present embodiment contains the thermosetting resin composition of the present embodiment.
The prepreg of the present embodiment can be produced by impregnating a base material with the thermosetting resin composition of the present embodiment and drying it.
The base material is not particularly limited as long as it is a base material used for manufacturing a metal-clad laminate or a printed wiring board, but a fiber base material such as a woven fabric or a non-woven fabric is usually used. Examples of the material of the fiber base material include inorganic fibers such as glass, alumina, asbestos, boron, silica-alumina glass, silica glass, tyrano, silicon carbide, silicon nitride, and zirconia; aramid, polyether ether ketone, polyetherimide, etc. Examples thereof include organic fibers such as polyether sulfone, carbon and cellulose; and fibers obtained by mixing these. Among these, glass cloth is preferable. The thickness of the fiber base material is, for example, 160 μm or less, preferably 10 to 160 μm, more preferably 15 to 100 μm, and further preferably 20 to 50 μm.
As the fiber base material, a printed wiring board that can be bent arbitrarily can be obtained, and dimensional changes due to temperature, moisture absorption, etc. in the manufacturing process can be reduced. Therefore, a glass cloth of 50 μm or less can be used. It is preferable to have.
プリプレグの製造条件に特に制限はないが、ワニスが含有する有機溶剤を80質量%以上揮発させてプリプレグを得ることが好ましい。乾燥温度としては、好ましくは80〜180℃、より好ましくは110〜160℃である。 The production conditions of the prepreg are not particularly limited, but it is preferable to volatilize 80% by mass or more of the organic solvent contained in the varnish to obtain the prepreg. The drying temperature is preferably 80 to 180 ° C, more preferably 110 to 160 ° C.
[樹脂付き金属箔]
本実施形態の樹脂付き金属箔は、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物と金属箔とを積層してなる。
本実施形態の樹脂付き金属箔は、例えば、必要に応じてワニス状にした本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を金属箔に塗工し、乾燥させることによって製造することができる。
乾燥条件は、特に限定されないが、乾燥温度は、好ましくは80〜180℃、より好ましくは110〜160℃である。
塗工する方法に特に制限はなく、ダイコーター、コンマコーター、バーコーター、キスコーター、ロールコーター等の公知の塗工機を用いることができる。
[Metal foil with resin]
The resin-containing metal foil of the present embodiment is formed by laminating the thermosetting resin composition of the present embodiment and the metal foil.
The resin-containing metal foil of the present embodiment can be produced, for example, by applying a varnish-like thermosetting resin composition of the present embodiment to the metal foil and drying it.
The drying conditions are not particularly limited, but the drying temperature is preferably 80 to 180 ° C, more preferably 110 to 160 ° C.
The coating method is not particularly limited, and a known coating machine such as a die coater, a comma coater, a bar coater, a kiss coater, or a roll coater can be used.
[積層体]
本実施形態の積層体は、本実施形態のプリプレグ又は本実施形態の樹脂付き金属箔を含有してなる。
本実施形態の積層体は、例えば、本実施形態のプリプレグ複数枚を積層し、加熱加圧して製造することができる。
本実施形態の積層体は、プリプレグとして本実施形態のプリプレグのみを含有するものであってもよいが、本実施形態とは異なるプリプレグ複数枚からなる積層体と、本実施形態のプリプレグ複数枚からなる積層体との積層物であってもよい。本実施形態とは異なるプリプレグ複数枚からなる積層体とは、例えば、本実施形態のプリプレグ複数枚からなる積層体よりも貯蔵弾性率が高い積層体が挙げられる。本実施形態のプリプレグ複数枚からなる積層体によって応力緩和効果が得られるため、当該態様とすることにより、本実施形態とは異なるプリプレグ複数枚からなる積層体のみを用いた場合に生じ得るプリント配線板のクラックの発生を抑制することができる。
[Laminate]
The laminate of the present embodiment contains the prepreg of the present embodiment or the metal foil with resin of the present embodiment.
The laminated body of the present embodiment can be produced, for example, by laminating a plurality of prepregs of the present embodiment and heating and pressurizing them.
The laminate of the present embodiment may contain only the prepreg of the present embodiment as a prepreg, but from a laminate composed of a plurality of prepregs different from the present embodiment and a plurality of prepregs of the present embodiment. It may be a laminate with the laminate. Examples of the laminate composed of a plurality of prepregs different from the present embodiment include a laminate having a higher storage elastic modulus than the laminate composed of a plurality of prepregs of the present embodiment. Since the stress relaxation effect can be obtained by the laminated body composed of a plurality of prepregs of the present embodiment, the printed wiring that can occur when only the laminated body composed of a plurality of prepregs different from the present embodiment is used by this embodiment. The occurrence of cracks in the plate can be suppressed.
本実施形態の積層体は、本実施形態のプリプレグと金属箔とを積層してなる金属張積層板であってもよい。
金属張積層板は、例えば、上記積層体の両側の接着面と金属箔とを合わせるように重ね、真空プレス条件にて、好ましくは130〜250℃、より好ましくは150〜230℃、且つ、好ましくは0.5〜10MPa、より好ましくは1〜5MPaの条件で加熱加圧成形することによって製造することができる。
また、本実施形態の樹脂付き金属箔を2つ準備し、その樹脂面同士が向き合うように重ね、真空プレス条件にてプレスすることによっても金属張積層板を製造することもできる。加熱加圧方法については、特に限定されず、多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用することができる。
The laminate of the present embodiment may be a metal-clad laminate formed by laminating the prepreg and the metal foil of the present embodiment.
The metal-clad laminates are, for example, laminated so that the adhesive surfaces on both sides of the laminate and the metal foil are aligned, and under vacuum press conditions, preferably 130 to 250 ° C., more preferably 150 to 230 ° C., and preferably. Can be produced by heat and pressure molding under the conditions of 0.5 to 10 MPa, more preferably 1 to 5 MPa.
Further, a metal-clad laminate can also be produced by preparing two metal foils with resin of the present embodiment, stacking the resin surfaces so as to face each other, and pressing them under vacuum pressing conditions. The heating and pressurizing method is not particularly limited, and a multi-stage press, a multi-stage vacuum press, continuous molding, an autoclave molding machine, or the like can be used.
本実施形態の樹脂付き金属箔及び上記金属張積層板に用いられる金属箔としては、特に限定されないが、銅箔、アルミニウム箔等が挙げられる。
金属箔の厚みは、特に限定されないが、一般的に積層板に用いられる金属箔の厚みである1〜200μmの範囲から選択することが好ましく、より好ましくは10〜100μm、更に好ましくは10〜50μmである。
The metal foil with resin and the metal foil used for the metal-clad laminate of the present embodiment are not particularly limited, and examples thereof include copper foil and aluminum foil.
The thickness of the metal foil is not particularly limited, but is preferably selected from the range of 1 to 200 μm, which is the thickness of the metal foil generally used for laminated plates, more preferably 10 to 100 μm, and further preferably 10 to 50 μm. Is.
[プリント配線板]
本実施形態のプリント配線板は、本実施形態の積層板を含有してなる。
本実施形態のプリント配線板は、例えば、本実施形態の積層板に回路加工してなるものであり、その製造方法としては、片面又は両面に金属箔が設けられた本実施形態の積層体(金属張積層板)の金属箔に、公知の方法により、回路(配線)加工を施す方法が挙げられる。
本発明のプリント配線板は、フレキシブルプリント配線板であってもよい。
[Printed circuit board]
The printed wiring board of the present embodiment contains the laminated board of the present embodiment.
The printed wiring board of the present embodiment is, for example, formed by circuit processing the laminated board of the present embodiment, and as a manufacturing method thereof, a laminated body of the present embodiment in which metal foil is provided on one side or both sides ( A method of applying a circuit (wiring) process to a metal foil of a metal-clad laminate) by a known method can be mentioned.
The printed wiring board of the present invention may be a flexible printed wiring board.
[半導体パッケージ]
本実施形態の半導体パッケージは、本実施形態のプリント配線板を含有してなるものである。本実施形態の半導体パッケージは、本実施形態のプリント配線板の所定の位置に、公知の方法により、半導体チップ、メモリ等を搭載して製造することができる。
[Semiconductor package]
The semiconductor package of the present embodiment includes the printed wiring board of the present embodiment. The semiconductor package of the present embodiment can be manufactured by mounting a semiconductor chip, a memory, or the like at a predetermined position of the printed wiring board of the present embodiment by a known method.
以下、実施例及び比較例を示し、本実施形態について具体的に説明するが、本実施形態はこれらに限定されるものではない。
なお、各例で使用した成分の重量平均分子量及び水酸基当量は、以下の方法によって測定した。
Hereinafter, the present embodiment will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present embodiment is not limited thereto.
The weight average molecular weight and hydroxyl group equivalent of the components used in each example were measured by the following methods.
[1.重量平均分子量]
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により、標準ポリスチレンを用いた検量線から換算した。検量線は、標準ポリスチレン:TSKstandard POLYSTYRENE(Type;A−2500、A−5000、F−1、F−2、F−4、F−10、F−20、F−40)[東ソー株式会社製、商品名]を用いて3次式で近似した。GPCの測定条件を、以下に示す。
装置:
ポンプ:L−6200型[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
検出器:L−3300型RI[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
カラムオーブン:L−655A−52[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
カラム:ガードカラム;TSK Guardcolumn HHR−L+カラム;TSKgel G4000HHR+TSKgel G2000HHR(全て東ソー株式会社製、商品名)
カラムサイズ:6.0mm×40mm(ガードカラム)、7.8mm×300mm(カラム)
溶離液:テトラヒドロフラン
試料濃度:30mg/5mL
注入量:20μL
流量:1.00mL/分
測定温度:40℃
[1. Weight average molecular weight]
The weight average molecular weight was converted from the calibration curve using standard polystyrene by the gel permeation chromatography (GPC) method. The calibration curve is standard polystyrene: TSK standard POLYSTYRENE (Type; A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F-40) [manufactured by Tosoh Corporation, Product name] was used for approximation by a cubic equation. The measurement conditions of GPC are shown below.
apparatus:
Pump: L-6200 type [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Detector: L-3300 type RI [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Column oven: L-655A-52 [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Column: Guard column; TSK Guardcolum HHR-L + column; TSKgel G4000HHR + TSKgel G2000HHR (all manufactured by Tosoh Corporation, trade name)
Column size: 6.0 mm x 40 mm (guard column), 7.8 mm x 300 mm (column)
Eluent: tetrahydrofuran Sample concentration: 30 mg / 5 mL
Injection volume: 20 μL
Flow rate: 1.00 mL / min Measurement temperature: 40 ° C
[2.水酸基当量]
(A)フェノール系樹脂の水酸基当量(g/eq)は、自動滴定装置「COM−1700S」(平沼産業株式会社製)を用い、無水酢酸によるアセチル化法で滴定して求めた。
[2. Hydroxyvalent equivalent]
The hydroxyl group equivalent (g / eq) of the phenolic resin (A) was determined by titration by an acetylation method using acetic anhydride using an automatic titrator "COM-1700S" (manufactured by Hiranuma Sangyo Co., Ltd.).
[(A)フェノール系樹脂の合成]
合成例1
((A1)成分:フェノール系樹脂(A−1)の合成)
温度計、攪拌機及び冷却管を備えた内容量2Lのガラス製フラスコに、カルダノール300g(1.0mol)、メタノール150g、50%ホルムアルデヒド水溶液120g(2.0mol)を仕込み、その混合液に30%水酸化ナトリウム水溶液を2時間かけて滴下した。その後、45℃まで昇温し、6時間反応させた。次いで、得られた反応液に35%塩酸を添加して水酸化ナトリウムを中和した後、o−アリルフェノールを1,342g(10mol)添加し、シュウ酸を1.34g(o−アリルフェノールに対して0.1質量%)添加して系内を酸性にし、100℃まで昇温してから5時間反応を行った。その後、反応液の水洗を行ってから、過剰のo−アリルフェノールを留去し、フェノール系樹脂(A−1)を得た。
得られたフェノール系樹脂(A−1)の重量平均分子量(Mw)は1,412、水酸基当量は214g/eqであった。
[(A) Synthesis of phenolic resin]
Synthesis example 1
((A1) component: synthesis of phenolic resin (A-1))
A glass flask having a content of 2 L equipped with a thermometer, a stirrer and a cooling tube is charged with 300 g (1.0 mol) of cardanol, 150 g of methanol and 120 g (2.0 mol) of a 50% formaldehyde aqueous solution, and 30% water is added to the mixed solution. The aqueous sodium oxide solution was added dropwise over 2 hours. Then, the temperature was raised to 45 ° C. and the reaction was carried out for 6 hours. Next, 35% hydrochloric acid was added to the obtained reaction solution to neutralize sodium hydroxide, then 1,342 g (10 mol) of o-allylphenol was added, and 1.34 g (o-allylphenol) of oxalic acid was added. The inside of the system was made acidic by adding 0.1% by mass), the temperature was raised to 100 ° C., and then the reaction was carried out for 5 hours. Then, the reaction solution was washed with water, and then excess o-allylphenol was distilled off to obtain a phenolic resin (A-1).
The weight average molecular weight (Mw) of the obtained phenolic resin (A-1) was 1,412, and the hydroxyl group equivalent was 214 g / eq.
合成例2
((A2)成分:フェノール系樹脂(A−2)の合成)
温度計、攪拌機及び冷却管を備えた内容量2Lのガラス製フラスコに、p−(4−ペンチルシクロヘキシル)フェノール248g(1.0mol)、メタノール150g、50%ホルムアルデヒド水溶液120g(2.0mol)を仕込み、その混合液に30%水酸化ナトリウム水溶液を2時間かけて滴下した。その後、45℃まで昇温し、6時間反応させた。次いで、得られた反応液に35%塩酸を添加して水酸化ナトリウムを中和した後、o−アリルフェノールを1,342g(10mol)添加し、シュウ酸を1.34g(o−アリルフェノールに対して0.1質量%)添加して系内を酸性にし、100℃まで昇温してから5時間反応を行った。その後、反応液の水洗を行ってから、過剰のo−アリルフェノールを留去し、フェノール系樹脂(A−2)を得た。
得られたフェノール系樹脂(A−2)の重量平均分子量(Mw)は1,738、水酸基当量は238g/eqであった。
Synthesis example 2
(Component (A2): Synthesis of phenolic resin (A-2))
248 g (1.0 mol) of p- (4-pentylcyclohexyl) phenol, 150 g of methanol, and 120 g (2.0 mol) of a 50% formaldehyde aqueous solution are charged in a glass flask having a content of 2 L equipped with a thermometer, a stirrer and a cooling tube. , A 30% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise to the mixed solution over 2 hours. Then, the temperature was raised to 45 ° C. and the reaction was carried out for 6 hours. Next, 35% hydrochloric acid was added to the obtained reaction solution to neutralize sodium hydroxide, then 1,342 g (10 mol) of o-allylphenol was added, and 1.34 g (o-allylphenol) of oxalic acid was added. The inside of the system was made acidic by adding 0.1% by mass), the temperature was raised to 100 ° C., and then the reaction was carried out for 5 hours. Then, the reaction solution was washed with water, and then excess o-allylphenol was distilled off to obtain a phenolic resin (A-2).
The weight average molecular weight (Mw) of the obtained phenolic resin (A-2) was 1,738, and the hydroxyl group equivalent was 238 g / eq.
[(C)アクリル系ポリマーの合成]
合成例3
(アクリル系ポリマー(C−1)の合成)
表2に記載の単量体配合比率(質量基準)で混合して得られた単量体混合物(合計1000g)に、過酸化物として過酸化ラウロイルを5g、連鎖移動剤としてn−オクチルメルカプタンを0.45g溶解させ、混合液とした。
次に、撹拌機及びコンデンサを備えた5Lのオートクレーブに懸濁剤としてポリビニルアルコールを0.3g、イオン交換水を2,000g加えて撹拌しながら上記混合液を加え、撹拌回転数250回転/分、窒素雰囲気下において60℃で5時間、次いで90℃で2時間重合させ、樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を水洗、脱水及び乾燥し、メチルエチルケトンに加熱残分が30質量%となるように溶解させ、アクリル系ポリマー(C−1)の溶液を得た。
[(C) Synthesis of acrylic polymer]
Synthesis example 3
(Synthesis of acrylic polymer (C-1))
Lauroyl peroxide as a peroxide and n-octyl mercaptan as a chain transfer agent were added to the monomer mixture (1000 g in total) obtained by mixing at the monomer blending ratio (mass basis) shown in Table 2. 0.45 g was dissolved to prepare a mixed solution.
Next, 0.3 g of polyvinyl alcohol and 2,000 g of ion-exchanged water were added as a suspending agent to a 5 L autoclave equipped with a stirrer and a condenser, and the above mixed solution was added while stirring, and the stirring speed was 250 rpm. , Then polymerized at 60 ° C. for 5 hours and then at 90 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to obtain resin particles. The resin particles were washed with water, dehydrated and dried, and dissolved in methyl ethyl ketone so that the heating residue was 30% by mass to obtain a solution of an acrylic polymer (C-1).
合成例4及び5
(アクリル系ポリマー(C−2)及び(C−3)の合成)
合成例3において、単量体配合比率を、表2に記載の通りに変更した以外は合成例3と同様にして、アクリル系ポリマー(C−2)及び(C−3)の溶液を得た。
Synthesis Examples 4 and 5
(Synthesis of acrylic polymers (C-2) and (C-3))
In Synthesis Example 3, solutions of acrylic polymers (C-2) and (C-3) were obtained in the same manner as in Synthesis Example 3 except that the monomer compounding ratio was changed as shown in Table 2. ..
実施例1〜6、比較例1〜3
表3に示す(E)成分以外の各成分を表3に示す配合組成(表中の配合量は質量部であり、溶液(有機溶媒を除く)又は分散液の場合は固形分換算量である。)で配合し、メチルイソブチルケトンに溶解後、(E)成分を表3に記載の配合組成に従って配合し、不揮発分40質量%のワニスを得た。なお、表3に記載の各成分の詳細は以下の通りである。
Examples 1-6, Comparative Examples 1-3
Each component other than the component (E) shown in Table 3 has a compounding composition shown in Table 3 (the compounding amount in the table is a part by mass, and in the case of a solution (excluding an organic solvent) or a dispersion, it is a solid content equivalent amount. ), And after dissolving in methyl isobutyl ketone, the component (E) was blended according to the blending composition shown in Table 3 to obtain a varnish having a non-volatile content of 40% by mass. The details of each component shown in Table 3 are as follows.
[(A)フェノール系樹脂]
(A−1):合成例1で得たフェノール系樹脂(A−1)
(A−2):合成例2で得たフェノール系樹脂(A−2)
[(A) Phenolic resin]
(A-1): Phenolic resin (A-1) obtained in Synthesis Example 1.
(A-2): Phenolic resin (A-2) obtained in Synthesis Example 2.
[(B)熱硬化性樹脂]
エポキシ樹脂:テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量400g/mol)
[(B) Thermosetting resin]
Epoxy resin: Tetrabromobisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 400 g / mol)
[(C)アクリル系ポリマー]
(C−1)〜(C−3):合成例3〜5で得られたアクリル系ポリマー(C−1)〜(C−3)
[(C) Acrylic polymer]
(C-1) to (C-3): Acrylic polymers (C-1) to (C-3) obtained in Synthesis Examples 3 to 5.
[(D)特定の共重合樹脂]
(D−1)「SMA(登録商標)EF40」(スチレン/無水マレイン酸=4、Mw=11,000、CRAY VALLEY社製)
(D−2)「SMA(登録商標)3000」(スチレン/無水マレイン酸=2、Mw=9,500、CRAY VALLEY社製)
(D−3)「SMA(登録商標)EF80」(スチレン/無水マレイン酸=8、Mw=14,400、CRAY VALLEY社製)
(D−4)成分:SMA(登録商標)1000」(スチレン/無水マレイン酸=1、Mw=5,000、CRAY VALLEY社製)
[(D) Specific copolymer resin]
(D-1) "SMA (registered trademark) EF40" (styrene / maleic anhydride = 4, Mw = 11,000, manufactured by CRAY VALLEY)
(D-2) "SMA (registered trademark) 3000" (styrene / maleic anhydride = 2, Mw = 9,500, manufactured by CRAY VALLEY)
(D-3) "SMA (registered trademark) EF80" (styrene / maleic anhydride = 8, Mw = 14,400, manufactured by CRAY VALLEY)
(D-4) Ingredient: SMA (registered trademark) 1000 "(styrene / maleic anhydride = 1, Mw = 5,000, manufactured by CRAY VALLEY)
[(E)硬化促進剤]
・2−フェニルイミダゾール
[(E) Curing accelerator]
・ 2-Phenylimidazole
[(F)フィラー]
・シリカ:アミノシラン系カップリング剤により処理された溶融シリカ(平均粒子径:1.9μm、比表面積5.8m2/g)
[(F) Filler]
-Silica: Fused silica treated with an aminosilane-based coupling agent (average particle size: 1.9 μm, specific surface area of 5.8 m 2 / g)
各例で作製したワニスを用いて、以下の方法によってプリプレグ、樹脂付き銅箔及び銅張積層板を作製し、後述の方法によって各評価を行った。 Using the varnishes produced in each example, prepregs, copper foils with resin, and copper-clad laminates were produced by the following methods, and each evaluation was performed by the methods described below.
[プリプレグの作製]
各例で作製したワニスを、厚さ0.028mmのガラスクロス1037(旭シュエーベル株式会社製、商品名)に含浸後、140℃にて10分間加熱して乾燥させ、プリプレグを得た。
[Making prepreg]
The varnish produced in each example was impregnated with a glass cloth 1037 (manufactured by Asahi Schebel Co., Ltd., trade name) having a thickness of 0.028 mm, and then heated at 140 ° C. for 10 minutes to dry to obtain a prepreg.
[樹脂付き銅箔の作製]
各例で作製したワニスを、厚さ35μmの電解銅箔に塗工機により塗工し、140℃にて約6分間熱風乾燥させ、塗布厚さ50μmの樹脂付き銅箔を作製した。
[Making copper foil with resin]
The varnish produced in each example was applied to an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm by a coating machine and dried with hot air at 140 ° C. for about 6 minutes to prepare a copper foil with a resin having a coating thickness of 50 μm.
[銅張積層板の作製]
4枚重ねたプリプレグの両側に厚さ35μmの電解銅箔を接着面がプリプレグと合わさるように重ね、200℃にて60分間、4MPaの真空プレス条件で両面銅張積層板を作製した。
また、樹脂付き銅箔は樹脂面が向き合うように重ね、200℃にて80分間、4MPaの真空プレス条件で両面銅張積層板を作製した。
[Copper-clad laminate]
Electrolytic copper foils having a thickness of 35 μm were laminated on both sides of the four prepregs so that the adhesive surfaces were aligned with the prepregs, and a double-sided copper-clad laminate was prepared under vacuum pressing conditions of 4 MPa at 200 ° C. for 60 minutes.
Further, the copper foils with resin were laminated so that the resin surfaces faced each other, and a double-sided copper-clad laminate was prepared under vacuum pressing conditions of 4 MPa at 200 ° C. for 80 minutes.
(1)相分離構造の確認
相分離構造の確認は、樹脂付き銅箔から作製した両面銅張積層板の樹脂絶縁層の断面をミクロトームにて平滑化した後、過硫酸塩溶液でエッチングして得たサンプルを、SEM観察(装置名:SU−3500、日立ハイテクノロジーズ株式会社製、加速電圧10KV)することによって行った。なお、SEM観察において、3,000倍で相分離構造が確認されたものを相分離「有り」、相分離構造が確認されなかったものを相分離「無し」とした。結果を表3に示す。
(1) Confirmation of phase separation structure To confirm the phase separation structure, after smoothing the cross section of the resin insulating layer of the double-sided copper-clad laminate prepared from the copper foil with resin with a microtome, etching with a persulfate solution. The obtained sample was subjected to SEM observation (device name: SU-3500, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, acceleration voltage 10 KV). In the SEM observation, the phase separation structure was confirmed at 3,000 times as "presence", and the phase separation structure was not confirmed as phase separation "absence". The results are shown in Table 3.
(2)貯蔵弾性率
貯蔵弾性率の評価は、樹脂付き銅箔から作製した両面銅張積層板の銅箔を全面エッチングすることによって得た積層板を、幅5mm×長さ30mmに切断し、動的粘弾性測定装置(株式会社UBM製)を用いて貯蔵弾性率を測定した。25℃の貯蔵弾性率が4.0GPa以下であれば十分に低弾性であり、応力緩和効果を発現可能であり、プリント配線板のクラックの発生を抑制し得ると判断した。結果を表3に示す。
(2) Storage elastic modulus The storage elastic modulus was evaluated by cutting a laminated plate obtained by etching the entire surface of a copper foil of a double-sided copper-clad laminate prepared from a copper foil with resin into a width of 5 mm and a length of 30 mm. The storage elastic modulus was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device (manufactured by UBM Co., Ltd.). It was judged that if the storage elastic modulus at 25 ° C. is 4.0 GPa or less, the elasticity is sufficiently low, the stress relaxation effect can be exhibited, and the occurrence of cracks in the printed wiring board can be suppressed. The results are shown in Table 3.
(3)耐熱性
プリプレグから作製した両面銅張積層板を50mm四方の正方形に切り出して試験片を得た。その試験片を260℃のはんだ浴中に浮かべて、その時点から試験片の膨れが目視で認められる時点までに経過した時間を測定し、耐熱性の指標とした。なお、経過時間の測定は1,800秒までとし、1,800秒以上経過した場合(表3中では、「>1,800」と表記する。)は耐熱性が十分であると判断した。結果を表3に示す。
(3) Heat resistance A double-sided copper-clad laminate prepared from a prepreg was cut into a 50 mm square to obtain a test piece. The test piece was floated in a solder bath at 260 ° C., and the time elapsed from that point to the time when swelling of the test piece was visually recognized was measured and used as an index of heat resistance. The elapsed time was measured up to 1,800 seconds, and when 1,800 seconds or more passed (indicated as ">1,800" in Table 3), it was judged that the heat resistance was sufficient. The results are shown in Table 3.
(4)引張り伸び率(25℃及び125℃)
樹脂付き銅箔から作製した両面銅張積層板の銅箔を全面エッチングすることによって得た積層板を、幅10mm×長さ100mmに切断し、恒温槽設置型オートグラフ(株式会社島津製作所製)を用いて25℃及び125℃における引張り伸び率を測定した。25℃の引張り伸び率が2.5%以上及び125℃での引張り伸び率が6.0%以上であれば高伸び性であり、応力緩和効果を発現可能であると判断した。結果を表3に示す。
(4) Tensile elongation rate (25 ° C and 125 ° C)
The laminated plate obtained by etching the entire surface of the copper foil of the double-sided copper-clad laminate made from the copper foil with resin is cut into a width of 10 mm and a length of 100 mm, and is installed in a constant temperature bath (manufactured by Shimadzu Corporation). The tensile elongation at 25 ° C. and 125 ° C. was measured using. When the tensile elongation at 25 ° C. was 2.5% or more and the tensile elongation at 125 ° C. was 6.0% or more, it was judged that the elongation was high and the stress relaxation effect could be exhibited. The results are shown in Table 3.
(5)銅箔引き剥がし強さ(25℃及び125℃)
4枚重ねた上記プリプレグから作製した両面銅張積層板の銅箔を部分的にエッチングして、3mm幅の銅箔ラインを形成した。次に、恒温槽設置型剥離試験機(株式会社島津製作所製)を用い、温度25℃又は125℃の環境下に設定し、銅箔ラインを、接着面に対して90°方向に50mm/分の速度で引き剥がした際の荷重を測定し、金属箔との接着性の指標とした。25℃での銅箔引き剥がし強さが0.80kN/m以上及び125℃での銅箔引き剥がし強さが0.55kN/m以上であれば、金属箔との接着性が十分であると判断した。結果を表3に示す。
(5) Copper foil peeling strength (25 ° C and 125 ° C)
The copper foil of the double-sided copper-clad laminate prepared from the above-mentioned four prepregs was partially etched to form a copper foil line having a width of 3 mm. Next, using a constant temperature bath installation type peeling tester (manufactured by Shimadzu Corporation), set the temperature in an environment of 25 ° C or 125 ° C, and set the copper foil line at 50 mm / min in the 90 ° direction with respect to the adhesive surface. The load when peeled off at the speed of was measured and used as an index of adhesiveness with the metal foil. If the copper foil peeling strength at 25 ° C. is 0.80 kN / m or more and the copper foil peeling strength at 125 ° C. is 0.55 kN / m or more, the adhesiveness with the metal foil is sufficient. It was judged. The results are shown in Table 3.
(6)ガラス転移温度(Tg)
各例で作製した両面銅張積層板を銅エッチング液「過硫酸アンモニウム(APS)」(株式会社ADEKA製)に浸漬することにより銅箔を取り除いた5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置「Q400EM」(TAインスツルメンツ社製)を用い、評価基板の面方向(Z方向)の−50〜260℃における熱膨張曲線を得て、膨張量の変曲点をガラス転移温度とした。結果を表3に示す。
(6) Glass transition temperature (Tg)
The double-sided copper-clad laminate prepared in each example was immersed in a copper etching solution "ammonium persulfate (APS)" (manufactured by ADEKA Co., Ltd.) to prepare a 5 mm square evaluation substrate from which the copper foil was removed, and the TMA test apparatus " Using "Q400EM" (manufactured by TA Instruments), a thermal expansion curve in the plane direction (Z direction) of the evaluation substrate at -50 to 260 ° C. was obtained, and the change point of the expansion amount was defined as the glass transition temperature. The results are shown in Table 3.
表3から明らかなように、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を用いた実施例1〜6では、高いTgを有し、また十分な耐熱性及び低弾性率を有し、常温環境下及び高温環境下での引張り伸び率が高く、金属箔との接着強度が高くなった。(D)成分が(A)成分と反応してカルボン酸基を生じることによって、金属箔との接着強度が向上したものと推察する。高いTgが得られた正確なメカニズムは不明であるが、(D)成分が(B)成分と反応してエステル基を生じることで、結果的に高いTgの達成へとつながった。
一方、(D)成分を含有しない比較例1〜3では、低弾性は発現するが、Tgが低下し、更に、高温環境下での引張り伸び率が低下することがあり、常温環境下及び高温環境下での金属箔との接着強度が低くなった。
As is clear from Table 3, Examples 1 to 6 using the thermosetting resin composition of the present embodiment have high Tg, sufficient heat resistance and low elastic modulus, and are in a normal temperature environment. In addition, the tensile modulus was high in a high temperature environment, and the adhesive strength with the metal foil was high. It is presumed that the component (D) reacts with the component (A) to generate a carboxylic acid group, so that the adhesive strength with the metal foil is improved. The exact mechanism by which high Tg was obtained is unknown, but the reaction of component (D) with component (B) to form an ester group resulted in the achievement of high Tg.
On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3 which do not contain the component (D), low elasticity is exhibited, but Tg is lowered, and the tensile elongation rate in a high temperature environment may be lowered, and the tensile elongation rate in a high temperature environment may be lowered. The adhesive strength with the metal foil in the environment became low.
Claims (21)
(B)熱硬化性樹脂、
(C)アクリル系ポリマー、及び
(D)芳香族ビニル化合物に由来する構造単位と無水マレイン酸に由来する構造単位とを有する共重合樹脂、
を含有する、熱硬化性樹脂組成物であり、
前記(A)成分が、(A1)炭素数10〜25の鎖状脂肪族炭化水素基を有するフェノール系樹脂を含有する、熱硬化性樹脂組成物。 (A) Phenolic resin,
(B) Thermosetting resin,
A copolymer resin having (C) an acrylic polymer and (D) a structural unit derived from an aromatic vinyl compound and a structural unit derived from maleic anhydride.
Is a thermosetting resin composition containing
A thermosetting resin composition, wherein the component (A) contains (A1) a phenolic resin having a chain aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms.
(式中、R1は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜9の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい環形成原子数5〜15の芳香族炭化水素基、又は、前記脂肪族炭化水素基と前記芳香族炭化水素基との組み合わせを示す。R2は、炭素数10〜25の鎖状脂肪族炭化水素基を示す。Xは、水素原子、ヒドロキシ基又はヒドロキシメチル基を示す。) The component (A1) contains a structural unit derived from a phenolic compound represented by the following general formula (1) and a structural unit derived from a phenolic compound represented by the following general formula (2). The thermosetting resin composition according to claim 1.
(In the formula, R 1 is a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent, and an aromatic having 5 to 15 ring-forming atoms which may have a substituent. A group hydrocarbon group or a combination of the aliphatic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group is shown. R 2 represents a chain aliphatic hydrocarbon group having 10 to 25 carbon atoms, and X is hydrogen. Indicates an atom, hydroxy group or hydroxymethyl group.)
(Rc1は水素原子又はメチル基を示し、Rc2は炭素数1〜3の炭化水素基を示す。)
(Rc3は水素原子又はメチル基を示し、Rc4は脂環式炭化水素基を含む炭素数5〜22の炭化水素基を示す。)
(Rc5は水素原子又はメチル基を示し、Rc6は炭素数4〜10の鎖状炭化水素基を示す。)
(Rc7は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を示す。Zは、ヒドロキシ基を示すか、又は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、酸無水物基、アミノ基、アミド基及びエポキシ基からなる群から選択される1種以上の官能基を含む置換基を示す。) The component (C) is a structural unit (c1) represented by the following general formula (c1), a structural unit (c2) represented by the following general formula (c2), and a structure represented by the following general formula (c3). The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 4, which comprises a unit (c3) and a structural unit (c4) represented by the following general formula (c4).
(R c1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R c2 represents a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms.)
(R c3 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R c4 represents a hydrocarbon group having 5 to 22 carbon atoms including an alicyclic hydrocarbon group.)
(R c5 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R c6 represents a chain hydrocarbon group having 4 to 10 carbon atoms.)
(R c7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Z represents a hydroxy group or consists of a carboxy group, a hydroxy group, an acid anhydride group, an amino group, an amide group and an epoxy group. Indicates a substituent containing one or more functional groups selected from the group.)
(式中、RD1は、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基であり、RD2は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、水酸基又は(メタ)アクリロイル基である。xは、0〜3の整数である。但し、xが2又は3である場合、複数のRD2は同一であってもよいし、異なっていてもよい。) Claims 1 to 8, wherein the component (D) is a copolymer resin having a structural unit represented by the following general formula (Di) and a structural unit represented by the following formula (D-ii). The thermosetting resin composition according to any one of the items.
(In the formula, RD1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and RD2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and 6 to 20 carbon atoms. It is an aryl group, a hydroxyl group or a (meth) acryloyl group. X is an integer of 0 to 3. However, when x is 2 or 3, a plurality of R D2s may be the same or different. May be.)
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