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JP2020172439A - 縮合複素環化合物の製造方法 - Google Patents

縮合複素環化合物の製造方法 Download PDF

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JP2020172439A
JP2020172439A JP2017133641A JP2017133641A JP2020172439A JP 2020172439 A JP2020172439 A JP 2020172439A JP 2017133641 A JP2017133641 A JP 2017133641A JP 2017133641 A JP2017133641 A JP 2017133641A JP 2020172439 A JP2020172439 A JP 2020172439A
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JP2017133641A
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登 阿部
Noboru Abe
登 阿部
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Nihon Nohyaku Co Ltd
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Nihon Nohyaku Co Ltd
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
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    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
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  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

【課題】殺虫剤として有用な縮合複素環化合物の新規で工業的に有利な製造方法の提供。【解決手段】式（１）で表される農園芸用殺虫剤として有用な化合物。（Ｒ１及びＲ２は各々独立にＨ、ハロゲンハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基、ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルチオ基等；ｎは０〜２の整数）置換ベンゾオキサゾールと、２位ハロゲン置換ピリジン誘導体とのＣ‐Ｈ結合活性化遷移金属触媒クロスカップリング反応と、それに続いて、塩基存在下、エチルメルカプタンを反応させて、生成した化合物に酸化反応を行うことにより、式（１）で表される化合物を生成する、縮合複素環化合物の製造方法。【選択図】なし

Description

本発明は、殺虫剤として有用な縮合複素環化合物の製造方法に関する。
本発明の縮合複素環化合物は、殺虫剤、特に農園芸用殺虫剤及び動物用外部寄生虫防除薬として有用である。その製造方法として、特許文献１において開示されている、一旦アミド結合を形成してからの環化反応を行う方法等が報告されている。
しかし、いずれの方法にも本発明のような置換ベンゾオキサゾールと、２‐ハロゲン置換ピリジン誘導体とのＣ‐Ｈ結合活性化遷移金属触媒クロスカップリング反応を経由するような方法に関しては、具体的な開示も示唆もされていない。
国際公開２０１６／１２１９９７パンフレット
本発明の課題は、殺虫剤として有用な縮合複素環化合物の新規で工業的に有利な製造方法を提供することである。
本発明者は前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、置換ベンゾオキサゾールと、２位ハロゲン置換ピリジン誘導体とのＣ‐Ｈ結合活性化遷移金属触媒クロスカップリング反応と、それに続く反応により、殺虫剤として有用な縮合複素環化合物の、短工程かつ高収率な製造方法を見出し、本発明を完成させた。
即ち本発明は、
［１］一般式（１）
｛式中、Ｒ１は、
(a1) 水素原子；
(a2) ハロゲン原子；
(a3) （Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
(a4) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
(a5) （Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基;
(a6) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基;
(a7) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルチオ基；
(a8) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルスルフィニル基；又は
(a9) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルスルホニル基を示す。
Ｒ２は、
(b1) 水素原子；
(b2) ハロゲン原子；
(b3) （Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
(b4) （Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル基；
(b5) （Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基；
(b6) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
(b7) ハロ（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル基；
(b8) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基；
(b9) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルチオ基；
(b10) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルスルフィニル基；又は
(b11) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルスルホニル基を示す。
ｎは、０〜２の整数を示す。}
で表される化合物を製造する方法であって、
一般式（４）
（式中、Ｒ１は、前記と同じ。）
で表される化合物と、一般式（３）
（式中、Ｒ２は、前記と同じくし、Ｘ及びＹは、ハロゲン原子を示す。）
で表される化合物とを、反応させ、生成した一般式（２）
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは、前記に同じ。）で表される化合物を、塩基存在下、エチルメルカプタンを反応させることにより生成した、一般式（１‐１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、前記に同じ。）
で表される化合物に対して、酸化反応を行うことを特徴とする、製造方法、
［２］一般式（１）
｛式中、Ｒ１、Ｒ２及びｎは、前記に同じ。}
で表される化合物を製造する方法であって、
一般式（４）
（式中、Ｒ１は、前記に同じ。）
で表される化合物と、一般式（３）
（式中、Ｒ２、Ｘ及びＹは、前記に同じ。）
で表される化合物とを、反応させることで、一般式（２）
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは、前記に同じ。）で表される化合物を製造する工程を含む、製造方法、
［３］一般式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びｎは、前記に同じ。）
で表される化合物を製造する方法であって、
一般式（２）
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは、前記に同じ。）
で表される化合物を、塩基存在下、エチルメルカプタンを反応させることにより、一般式（１‐１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、前記に同じ。）
で表される化合物を製造する工程を含む、製造方法、
［４］一般式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びｎは、前記に同じ。）
で表される化合物を製造する方法であって、
一般式（１‐１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、前記に同じ。）
で表される化合物に対して、酸化反応を行うことを特徴とする、製造方法、
［５］前記の、一般式（４）で表される化合物と、一般式(３)で表される化合物との反応において、触媒として遷移金属触媒を用いることを特徴とする、［１］又は［２］に記載の製造方法。
［６］Ｒ１が、
(a2) ハロゲン原子；
(a4) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
(a6) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基; 又は
(a7) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルチオ基である、
［１］乃至［５］のいずれかに記載の製造方法。
［７］Ｒ２が、
(b2) ハロゲン原子；
(b3) （Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
(b4) （Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル基；
(b6) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
(b8) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基；又は
(b9) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルチオ基である、
［１］乃至［６］のいずれかに記載の製造方法。
等に関する。
本発明によれば、目的化合物を効率的且つ経済的有利に工業的規模で製造することができる。
本明細書中に記載する各置換基を説明する。「ハロ」とは「ハロゲン原子」を意味し、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はフッ素原子を示す。
「（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基」とは、例えばメチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、ノルマルペンチル基、イソペンチル基、ターシャリーペンチル基、ネオペンチル基、２，３−ジメチルプロピル基、１−エチルプロピル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、ノルマルヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、３，３−ジメチルブチル基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキル基を示す。
「（Ｃ３‐Ｃ６）シクロアルキル基」とは、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素原子数３〜６個の環状のアルキル基を示し、「（Ｃ１‐Ｃ６）アルコキシ基」としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、セカンダリーブトキシ基、ターシャリーブトキシ基、ノルマルペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ターシャリーペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、２，３‐ジメチルプロピルオキシ基、１‐エチルプロピルオキシ基、１‐メチルブチルオキシ基、ノルマルヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、１，１，２‐トリメチルプロピルオキシ基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルコキシ基を示す。
「（Ｃ１‐Ｃ６）アルキルチオ基」としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ノルマルプロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ノルマルブチルチオ基、セカンダリーブチルチオ基、ターシャリーブチルチオ基、ノルマルペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ターシャリーペンチルチオ基、ネオペンチルチオ基、２，３‐ジメチルプロピルチオ基、１‐エチルプロピルチオ基、１‐メチルブチルチオ基、ノルマルヘキシルチオ基、イソヘキシルチオ基、１，１，２‐トリメチルプロピルチオ基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキルチオ基を示す。
「（Ｃ１‐Ｃ６）アルキルスルフィニル基」としては、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ノルマルプロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ノルマルブチルスルフィニル基、セカンダリーブチルスルフィニル基、ターシャリーブチルスルフィニル基、ノルマルペンチルスルフィニル基、イソペンチルスルフィニル基、ターシャリーペンチルスルフィニル基、ネオペンチルスルフィニル基、２，３‐ジメチルプロピルスルフィニル基、１‐エチルプロピルスルフィニル基、１‐メチルブチルスルフィニル基、ノルマルヘキシルスルフィニル基、イソヘキシルスルフィニル基、１，１，２‐トリメチルプロピルスルフィニル基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキルスルフィニル基を示す。
「（Ｃ１‐Ｃ６）アルキルスルホニル基」としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ノルマルプロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ノルマルブチルスルホニル基、セカンダリーブチルスルホニル基、ターシャリーブチルスルホニル基、ノルマルペンチルスルホニル基、イソペンチルスルホニル基、ターシャリーペンチルスルホニル基、ネオペンチルスルホニル基、２，３‐ジメチルプロピルスルホニル基、１‐エチルプロピルスルホニル基、１‐メチルブチルスルホニル基、ノルマルヘキシルスルホニル基、イソヘキシルスルホニル基、１，１，２‐トリメチルプロピルスルホニル基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキルスルホニル基を示す。
上記「（Ｃ１‐Ｃ６）アルキル基」、「（Ｃ１‐Ｃ６）アルコキシ基」、「（Ｃ１‐Ｃ６）アルキルチオ基」、「（Ｃ１‐Ｃ６）アルキルスルフィニル基」、「（Ｃ１‐Ｃ６）アルキルスルホニル基」、「（Ｃ３‐Ｃ６）シクロアルキル基」の置換し得る位置に１又は２以上のハロゲン原子が置換されていても良く、置換されるハロゲン原子が２以上の場合は、ハロゲン原子は同一又は異なっても良い。
それぞれ、「ハロ（Ｃ１‐Ｃ６）アルキル基」、「ハロ（Ｃ１‐Ｃ６）アルコキシ基」、「ハロ（Ｃ１‐Ｃ６）アルキルチオ基」、「ハロ（Ｃ１‐Ｃ６）アルキルスルフィニル基」、「ハロ（Ｃ１‐Ｃ６）アルキルスルホニル基」、「ハロ（Ｃ３‐Ｃ６）シクロアルキル基」と示す。
「（Ｃ１−Ｃ６）」、「（Ｃ１−Ｃ３）」等の表現は各種置換基の炭素原子数の範囲を示し、例えば、「（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基」の場合は直鎖又は分岐鎖状の炭素数１〜６個のアルキル基を示し、「（Ｃ１−Ｃ３）アルキル基」の場合は直鎖又は分岐鎖状の炭素数１〜３個のアルキル基を示す。
本発明の製造方法に含まれる一般式（１）、（１−１）、（２）、（３）（４）で表される化合物は、その構造式中に１つ又は複数個の不斉中心を有する場合があり、２種以上の光学異性体及びジアステレオマーが存在する場合もあり、本発明の製造方法は各々の光学異性体及びそれらが任意の割合で含まれる混合物をも全て包含するものである。
本発明の好ましい実施態様を示す。
Ｒ１として好ましくは、
(a2) ハロゲン原子；
(a4) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
(a6) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基; 又は
(a7) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルチオ基であり、
Ｒ２として好ましくは、
(b2) ハロゲン原子；
(b3) （Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
(b4) （Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル基；
(b6) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
(b8) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基；又は
(b9) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルチオ基である。
本発明に関与する反応は以下のように図示される。
製造方法１
｛式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ及びＹは前記に同じ。｝
即ち、下記工程［ａ］乃至［ｃ］の製造方法により、一般式（１）で表される化合物を製造することができる。
工程［ａ］ 一般式（４）で表される化合物と、一般式（３）で表される化合物とを反応させることにより、一般式（２）で表される化合物を製造する工程。
工程［ｂ］ 一般式（２）で表される化合物と、エタンチオール又はその塩等と反応させることにより、一般式（１−１）で表される化合物を製造する工程。
工程［ｃ］ 一般式（１−１）で表される化合物を酸化することにより、一般式（１）で表される化合物を製造する工程。
工程［ａ］の製造方法
一般式（２）で表される化合物は、一般式（４）で表される化合物と、一般式（３）で表される化合物とを、遷移金属触媒、塩基及び不活性溶媒存在下反応させることにより製造することができる。
本反応で使用することができる触媒としては入手可能な０価または２価のパラジウム金属や塩（錯体を含む）などのパラジウム化合物を使用することができ、活性炭などに担持されても良い。好ましくは、パラジウム（０）／炭素、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、塩化パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）クロリド、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、［１，１’‐ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウムジクロリド、［１，１’‐ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］パラジウムジクロリド、［１，１’‐ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン］パラジウムジクロリド、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、ビス（アセトニトリル）パラジウム）ジクロリド、ビス（ベンゾニトリル）パラジウムジクロリド、ジクロロ(１，５‐シクロオクタジエン)パラジウム、アリルパラジウムクロリド２量体、シクロペンタジエニルアリルパラジウム、アリル［１，３‐ビス(メシチル)イミダゾール‐２‐イリデン］クロロパラジウム等公知のパラジウム触媒を挙げる事ができ、酢酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウム（０）／炭素、アリル［１，３‐ビス(メシチル)イミダゾール‐２‐イリデン］クロロパラジウムが好ましい。触媒としての使用量は、一般式（４）で表される化合物に対して通常０．００１モル％〜１０モル％の範囲から適宜選択すればよい。
本反応で使用することができるホスフィン系配位子としては、例えば、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（Ｐｈ２ＰＣＨ３）、トリフリルホスフィン（Ｐ(２‐ｆｕｒｙｌ)３）、トリ（ｏ‐トリル）ホスフィン（Ｐ(o‐ｔｏｌ)３）、トリ（シクロヘキシル）ホスフィン（ＰＣｙ３）、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン（ＰｈＰＣｙ２）、トリ（ｔ‐ブチル）ホスフィン（Ｐ(ｔ‐Ｂｕ)３）、トリ‐ｔｅｒｔ‐ブチルホスホニウムテトラフルオロボラート、トリ‐ｔｅｒｔ‐ブチルホスホニウムテトラフェニルボラート、トリ（ｔ‐ブチル）ホスフィン（Ｐ（ｔ‐Ｂｕ）３）・ＣＦ３ＳＯ３Ｈ、２‐（ジ‐ｔ‐ブチルホスフィノ）ビフェニル（ＪｏｈｎＰｈｏｓ）、２-ジシクロヘキシルホスフィノ‐２’，４‘，６’‐トリイソプロピルビフェニル（Ｘｐｈｏｓ）、２，２’‐ビス（ジフェニルホスフィノ）‐１，１’‐ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、１，１’‐ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ＤＰＰＦ）、１，１’‐ビス（ジ‐ｔ‐ブチルホスフィノ）フェロセン（ＤｔＢＰＦ）、Ｎ，Ｎ‐ジメチル‐１‐［２‐（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン、１‐［２‐（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルメチルエーテル、４，５‐ビス(ジフェニルホスフィノ) ‐９，９ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）、４，６‐ビス(ジフェニルホスフィノ)フェノキサジン（ＮＩＸａｎｔｐｈｏｓ）、ビス[２‐(ジフェニルホスフィノ)フェニル]エーテル（ＤＰＥｐｈｏｓ）、１，２‐ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、１，３‐ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、１，４‐ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、等のホスフィン系配位子や、イミダゾル‐２‐イリデンカルベン類等のホスフィンミミック系配位子（アンゲバンテ・ケミー・インターナショナル・エディション・イン・イングリッシュ（Ａｎｇｅｗａｎｄｔｅ Ｃｈｅｍｉｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｅｄｉｔｉｏｎ ｉｎ Ｅｎｇｌｉｓｈ) 第３６巻、第２１６３頁（１９９７年）参照）等が挙げられる。好ましくは、１，３‐ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、２，２’‐ビス（ジフェニルホスフィノ）‐１，１’‐ビナフチル、４，５‐ビス(ジフェニルホスフィノ) ‐９，９ジメチルキサンテン、ビス[２‐(ジフェニルホスフィノ)フェニル]エーテルが好ましい。配位子としての使用量は、一般式（４）で表される化合物に対して通常０．００１モル％〜２０モル％の範囲から適宜選択すればよい。
本反応で使用できる塩基としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化物、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の酢酸塩、りん酸三ナトリウム、りん酸三カリウム等のリン酸塩、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド、リチウムターシャリーブトキサイド、ナトリウムターシャリーブトキサイド、カリウムターシャリーブトキサイド等のアルコキサイド等、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属ヒドリド類、ピリジン、ピコリン、ルチジン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジシクロヘキシルメチルアミン等の有機塩基等が挙げられる。１種又は２種以上を使用してもよい。好ましくは、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムである。塩基の使用量としては、一般式（４）で表される化合物１モルに対して通常１倍モル〜１０倍モルの範囲から適宜選択すればよい。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、水等を挙げることができ、好ましくは、トルエン、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ‐ジメチルアセトアミドである。これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式（４）で表される化合物１モルに対して通常０．１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよい。
本反応は等モル反応であるので、各化合物を等モル使用すればよいが、いずれかの化合物を過剰に用いることもできる。反応温度は通常約０℃から２００℃の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜４８時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。また単離せずに次の反応に用いることもできる。
工程［ｂ］の製造方法
一般式（１−１）で表される化合物は、一般式（２）で表される化合物に、塩基、触媒及び不活性溶媒存在下で式（１‐２）で表されるエタンチオール又はその塩を反応させることにより製造することができる。
本反応で使用できる塩基としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化物、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の酢酸塩、りん酸三ナトリウム、りん酸三カリウム等のリン酸塩、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド、リチウムターシャリーブトキサイド、ナトリウムターシャリーブトキサイド、カリウムターシャリーブトキサイド等のアルコキサイド等、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属ヒドリド類、ピリジン、ピコリン、ルチジン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジシクロヘキシルメチルアミン等の有機塩基等が挙げられる。１種又は２種以上を使用してもよい。好ましくは、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムである。塩基の使用量としては、一般式（２）で表される化合物１モルに対して通常１倍モル〜１０倍モルの範囲から適宜選択すればよい。
本反応で使用できる触媒としては、テトラ‐ｎ‐ブチルアンモニウムクロリド、テトラ‐ｎ‐ブチルアンモニウムブロミド、テトラ‐ｎ‐ブチルアンモニウムヨージド、テトラ‐ｎ‐オクチルアンモニウムクロリド、テトラ‐ｎ‐オクチルアンモニウムブロミド、テトラ‐ｎ‐オクチルアンモニウムヨージド等が挙げられ、その使用量としては、一般式（２）で表される化合物１モルに対して通常０．０１モル〜１モルの範囲から適宜選択すれば良い。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、水等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式（２）で表される化合物１モルに対して通常０．１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよい。
本反応は等モル反応であるので、各化合物を等モル使用すればよいが、いずれかの化合物を過剰に用いることもできる。反応温度は通常約０℃から２００℃の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜４８時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。また単離せずに次の反応に用いることもできる。
工程［ｃ］の製造方法
一般式（１）で表される化合物は、一般式（１‐１）で表される化合物を、不活性溶媒中、酸化剤と反応させることにより製造することができる。
本反応で使用する酸化剤としては、例えば、過酸化水素水、過安息香酸、ｍ‐クロル過安息香酸などの過酸化物などが挙げられる。これら酸化剤は、一般式（１‐１）で表される化合物に対して通常１倍モル〜５倍モルの範囲で適宜選択することができる。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、蟻酸、酢酸等の有機酸類、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアセトアミド、１，３‐ジメチル‐２‐イミダゾリジノン、水等の極性溶媒を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。その使用量は、一般式（１−１）で表される化合物１モルに対して通常０．１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよい。
本反応における反応温度は、通常−１０℃から使用する不活性溶媒の還流温度の範囲で適宜選択すればよい。反応時間は反応規模、反応温度などにより変化し、一定ではないが通常数分〜４８時間の範囲で適宜選択すればよい。反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。
以下に本発明の代表的な実施例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１．
２‐（３‐クロロ‐５‐シクロプロピルピリジン‐２‐イル）‐５‐トリフルオロメチルチオ‐ベンゾオキサゾールの製造
５-トリフルオロメチルチオベンズオキサゾール（９０．８ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ)、 ５‐シクロプロピル‐２,３‐ジクロロピリジン（７４．８ｍｇ、０．３２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１１０．９ｍｇ、０．８０ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（４．７ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）、１，３-​ビス(ジフェニルホスフィノ)​プロパン（１７．７ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ）及び１．６ｍＬのＮ，Ｎ-ジメチルアセトアミドの混合物を１２０℃で５時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却、水を加えて酢酸エチルで抽出、抽出液を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、表題の化合物（９２．６ｍｇ）を得た。
収率：９５％
物性：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ ) δ（ｐｐｍ） ８．５３（１Ｈ，ｄ），８．２３（１Ｈ，ｓ），７．７２（２Ｈ，ｄ），７．５０（１Ｈ，ｄ），２．０５−１．９８（１Ｈ，ｍ），１．２４−１．１９（２Ｈ，ｍ），０．９１−０．８７（２Ｈ，ｍ）
実施例２．
２‐（３‐エチルチオ‐５‐シクロプロピルピリジン‐２‐イル）‐５‐トリフルオロメチル‐ベンゾオキサゾールの製造
２‐（３‐クロロ‐５‐シクロプロピルピリジン‐２‐イル）‐５‐トリフルオロメチル‐ベンゾオキサゾール（０．３７ｇ、１ｍｍｏｌ）、４ｍLのトルエン及び４ｍLの４０％水酸化ナトリウム水溶液の混合物を５℃まで冷却した。ここにエチルメルカプタン（０．１２ｇ、１．９ｍｍｏｌ）及びテトラ-ｎ-オクチルアンモニウムブロミド（５５ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を加えた後、４０℃で１時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却、水を加えてトルエンで抽出、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、表題の化合物（０．３９ｇ）を得た。
収率：９９％
物性：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ ） δ（ｐｐｍ） ８．３２（１Ｈ，ｄ），８．２４（１Ｈ，ｓ），７．７２−７．６７（２Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄ），３．０５（２Ｈ，ｑ），２．０４−１．９７（１Ｈ，ｍ），１．４７（３Ｈ，ｔ），１．２１−１．１６（２Ｈ，ｍ），０．９０−０．８６（２Ｈ，ｍ）
実施例３．
２‐（３‐エチルスルホニル‐５‐シクロプロピルピリジン‐２‐イル）‐５‐トリフルオロメチル‐ベンゾオキサゾールの製造
２‐（３‐エチルチオ‐５‐シクロプロピルピリジン‐２‐イル）‐５‐トリフルオロメチル‐ベンゾオキサゾール（０．３９ｇ、０．９８ｍｍｏｌ）、メタンスルホン酸（９．６ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）、酢酸（０．１３ｇ、２ｍｍｏｌ） 及び４ｍLのトルエンの混合物を５０℃まで加温した。ここに３５％過酸化水素水（０．２９ｇ、３ｍｍｏｌ）を３時間かけて分割添加、更に同温度で２時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却、炭酸水素ナトリウム水溶液、チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、表題の化合物（０．３６ｇ）を得た。
収率：８５％
物性：１ＨＮＭＲ (ＣＤＣｌ３,ＴＭＳ) δ（ｐｐｍ） ８．７６（１Ｈ，ｄ），８．１６（１Ｈ，ｄ），８．１２（１Ｈ，ｄ），７．７５（１Ｈ，ｄｄ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ），４．０３（２Ｈ，ｑ），２．１５−２．０９（１Ｈ，ｍ），１．４２（３Ｈ，ｔ），１．３１−１．２６（２Ｈ，ｍ），０．９９−０．９５（２Ｈ，ｍ）
参考例１
５‐シクロプロピル‐２,３‐ジクロロピリジンの製造
酢酸パラジウム（２８．４ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、 トリ(ｏ-トリル)ホスフィン（７７．９ｍｇ、０．２６ ｍｍｏｌ）、 炭酸カリウム（２．０７ｇ、１５ｍｍｏｌ）、 シクロプロピルボロン酸（０．５１ｇ、５．９ｍｍｏｌ）、 ５-ブロモ-２,３-ジクロロピリジン（１．１４ｇ、５ ｍｍｏｌ）、１８ｍＬのトルエン及び１ｍＬの水の混合物を８０℃、４時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却、水を加えてトルエンで抽出、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、表題の化合物（０．８７ｇ）を得た。
収率：９２％
物性：１Ｈ ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,ＴＭＳ) δ（ｐｐｍ） ８．１０（１Ｈ，ｄ），７．３７（１Ｈ，ｄ），１．９２−１．８５（１Ｈ，ｍ），１．１１−１．０４（２Ｈ，ｍ），０．７５−０．７１（２Ｈ，ｍ）
次に、本発明の製造方法を用いて製造することができる化合物の具体例を表１に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。ＮＭＲデータは表２に示す。

Claims (7)

  1. 一般式（１）
    ｛式中、Ｒ１は、
    (a1) 水素原子；
    (a2) ハロゲン原子；
    (a3) （Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
    (a4) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
    (a5) （Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基;
    (a6) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基;
    (a7) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルチオ基；
    (a8) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルスルフィニル基；又は
    (a9) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルスルホニル基を示す。
    Ｒ２は、
    (b1) 水素原子；
    (b2) ハロゲン原子；
    (b3) （Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
    (b4) （Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル基；
    (b5) （Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基；
    (b6) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
    (b7) ハロ（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル基；
    (b8) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基；
    (b9) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルチオ基；
    (b10) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルスルフィニル基；又は
    (b11) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルスルホニル基を示す。
    ｎは、０〜２の整数を示す。}
    で表される化合物を製造する方法であって、
    一般式（４）
    （式中、Ｒ１は、前記と同じ。）
    で表される化合物と、一般式（３）
    （式中、Ｒ２は、前記と同じくし、Ｘ及びＹは、ハロゲン原子を示す。）
    で表される化合物とを、反応させ、生成した一般式（２）
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは、前記に同じ。）で表される化合物を、塩基存在下、エチルメルカプタンを反応させることにより生成した、一般式（１‐１）
    （式中、Ｒ１及びＲ２は、前記に同じ。）
    で表される化合物に対して、酸化反応を行うことを特徴とする、製造方法。
  2. 一般式（１）
    ｛式中、Ｒ１、Ｒ２及びｎは、前記に同じ。}
    で表される化合物を製造する方法であって、
    一般式（４）
    （式中、Ｒ１は、前記に同じ。）
    で表される化合物と、一般式（３）
    （式中、Ｒ２、Ｘ及びＹは、前記に同じ。）
    で表される化合物とを、反応させることで、一般式（２）
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは、前記に同じ。）で表される化合物を製造する工程を含む、製造方法。
  3. 一般式（１）
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びｎは、前記に同じ。）
    で表される化合物を製造する方法であって、
    一般式（２）
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは、前記に同じ。）
    で表される化合物を、塩基存在下、エチルメルカプタンを反応させることにより、一般式（１‐１）
    （式中、Ｒ１及びＲ２は、前記に同じ。）
    で表される化合物を製造する工程を含む、製造方法。
  4. 一般式（１）
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びｎは、前記に同じ。）
    で表される化合物を製造する方法であって、
    一般式（１‐１）
    （式中、Ｒ１及びＲ２は、前記に同じ。）
    で表される化合物に対して、酸化反応を行うことを特徴とする、製造方法。
  5. 前記の、一般式（４）で表される化合物と、一般式(３)で表される化合物との反応において、触媒として遷移金属触媒を用いることを特徴とする、請求項１又は２に記載の製造方法。
  6. Ｒ１が、
    (a2) ハロゲン原子；
    (a4) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
    (a6) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基; 又は
    (a7) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルチオ基である、
    請求項1乃至５のいずれか一項に記載の製造方法。
  7. Ｒ２が、
    (b2) ハロゲン原子；
    (b3) （Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
    (b4) （Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル基；
    (b6) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基；
    (b8) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ基；又は
    (b9) ハロ（Ｃ１−Ｃ６）アルキルチオ基である、
    請求項１乃至６のいずれか一項に記載の製造方法。

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