JP2020171906A - 触媒およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、高活かつ高収率で目的物を得られる新規触媒およびその製造方法に関するものであり、特に不飽和アルデヒド、不飽和カルボン酸、又は共役ジエンを酸化的に製造する際に、高活性、高収率を実現するものである。特に、炭素原子数４以上のモノオレフィン原料から酸化脱水素反応により共役ジオレフィン、具体的にはｎ−ブテン原料から酸化脱水素反応によりブタジエンを製造する際に効果が大きく、高活性かつ高収率な運転を可能とする触媒およびその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】シリカ（ＳｉＯ２）及びアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を不活性成分として含有する触媒であって、シリカの含有量とアルミナの含有量の重量比率が１：０．０１〜１：５０．００である、ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。【選択図】なし

Description

本発明は、高活かつ高収率で目的物を得られる新規触媒およびその製造方法に関するものであり、特に不飽和アルデヒド、不飽和カルボン酸、又は共役ジエンを酸化的に製造する際に、高活性、高収率を実現するものである。
特に、炭素原子数４以上のモノオレフィン原料から酸化脱水素反応により共役ジオレフィン、具体的にはｎ−ブテン原料から酸化脱水素反応によりブタジエンを製造する際に効果が大きく、高活性かつ高収率な運転を可能とする触媒およびその製造方法を特徴とする。

従来、合成ゴム等の原料であるブタジエンは、工業的にはナフサ留分の熱分解および抽出により製造されているが、今後、ブタジエンの市場への安定供給の悪化が懸念されることから、新たなブタジエンの製造方法が求められている。そこで、ｎ−ブテンと分子状酸素を含む混合ガスから、触媒の存在下でｎ−ブテンを酸化脱水素する方法が注目されている。

工業プラントでの経済性の観点から、目的生成物であるブタジエンを高い収率および選択率で得られる点のみならず、通常（以下、通常とは一般的なビスマスモリブデート触媒を使用する酸化脱水素反応での反応浴温度を示す。）より低い反応浴温度においても高活性を維持し、運転することが求められる。すなわち、触媒が高活性および高選択率を示すことにより、反応後に残存する原料ｎ−ブテンをリサイクルするプロセスにおいても高い経済優位性を示すことができる。工業プラントにおける熱媒のランニングコストを抑制するため、低い反応浴温度でも高活性である触媒が求められている。

上記ｎ−ブテン原料から酸化脱水素反応によるブタジエン製造プロセスにおいて、殊に高活性または高選択率を示す触媒の研究については既に数多くの報告がなされている。特許文献１は、特定の元素比におけるビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒に関するものである。

特許文献２は、調合順序や調合液のｐＨ等を規定したビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒の製造方法に関するものである。

特許文献３は、触媒細孔の大きさを制御したビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒に関するものである。

特許文献４は、触媒の酸量かつ比表面積を制御したビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒に関するものである。

しかしながら、特許文献１〜４の触媒では、プラントでの運転制御の観点で工業用触媒として十分な性能が得られておらず、更なる改良が望まれていた。また、ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒においては、従来よりシリカ及びアルミナが不活性担体として使用されてきたものの、シリカ及びアルミナの両方を含む検討はこれまで実施されておらず、さらにシリカ及びアルミナがどの程度の比率で共存すれば、良好な触媒性能を示すのかは不明確であった。

国際公開第２０１４／０８６６４１号 特許第５４８３１１４号公報 国際公開第２０１３／１６１７０２号 特開２０１３−１４６６５５号公報

本発明は、高活かつ高収率で目的物を得られる新規触媒およびその製造方法に関するものであり、特に不飽和アルデヒド、不飽和カルボン酸、又は共役ジエンを酸化的に製造する際に、高活性、高収率を実現するものである。
特に、炭素原子数４以上のモノオレフィン原料から酸化脱水素反応により共役ジオレフィン、具体的にはｎ−ブテン原料から酸化脱水素反応によりブタジエンを製造する際に効果が大きく、高活性かつ高収率な運転を可能とする触媒およびその製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意研究の結果、炭素原子数４以上のモノオレフィンと分子状酸素を含む混合ガスから接触酸化脱水素反応により共役ジオレフィンを製造するプロセスにおいて、シリカ（ＳｉＯ_２）及びアルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）を含有し、その含有量比が特定の範囲にある触媒を使用することで、より高活性かつ高収率で共役ジオレフィンを製造することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
なお、本発明の触媒は、ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒であるが、本明細書中では単に触媒と表現する場合もある。
また本明細書中「〜」は以上以下を意味する。すなわち「〜」を挟む前後の数値は含むものとする。

即ち、本発明は以下１）〜９）に関する。
１）
シリカ（ＳｉＯ_２）及びアルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）を不活性成分として含有する触媒であって、シリカの含有量とアルミナの含有量の重量比率が１：０．０１〜１：５０．００である、ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
２）
シリカ（ＳｉＯ_２）及びアルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）を不活性成分として含有する触媒であって、平均粒子径が２．５０ｍｍ以上４．４９ｍｍ以下である、上記１）に記載のビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
３）
活性成分としての触媒組成が、下記式（１）で表される上記１）又は２）に記載の共役ジオレフィン化合物製造用ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
Ｍｏ_１２Ｂｉ_ａＦｅ_ｂＣｏ_ｃＮｉ_ｄＸ_ｅＹ_ｆＺ_ｇ・・・・（１）

（式中、Ｘはリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムから選ばれるアルカリ金属の少なくとも１種の元素を示し、Ｙはマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムから選ばれるアルカリ土類金属の少なくとも１種の元素を示し、Ｚはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロビウム、アンチモン、タングステン、鉛、亜鉛、タリウムから選ばれる少なくとも１種の元素を示し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、およびｇは各々モリブデン１２に対するビスマス、鉄、コバルト、ニッケル、Ｘ、Ｙ、Ｚの原子比を示し、０．３＜ａ＜３．５、０．６＜ｂ＜３．４、５．０＜ｃ＜８．０、０．０＜ｄ＜３．０、０．０＜ｅ＜０．５、０．０≦ｆ≦４．０、０≦ｇ≦２．０の範囲にあり、式（１）中に記載はないが酸素原子Ｏは他の元素の酸化状態を満足させる適当な原子比となる）。
４）
シリカ及びアルミナが不活性担体として触媒に含有されている上記１）乃至３）のいずれか一項に記載の、炭素原子数４以上のモノオレフィン化合物と分子状酸素を含む混合ガスを原料とした接触酸化脱水素反応による共役ジオレフィン化合物製造用ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
５）
不活性担体の気孔率が、０％以上６０％以下である上記４）に記載の共役ジオレフィン化合物製造用ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
６）
不活性担体の吸水率が、２％以上５０％以下である上記４）又は５）に記載の共役ジオレフィン化合物製造用ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
７）
炭素原子数４以上のモノオレフィン化合物と分子状酸素を含む混合ガスから接触酸化脱水素反応により共役ジオレフィン化合物を製造するための上記１）乃至６）のいずれか一項に記載の共役ジオレフィン化合物製造用ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
８）
下記工程を含むことを特徴とする上記１）乃至７）のいずれか一項に記載のビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒の製造方法、
工程（Ａ１）：複合金属酸化物の各金属を含有する化合物を含む混合溶液またはスラリーを２０℃以上９０℃以下の条件下で調製し、スプレー乾燥して乾燥粉体を得る工程、
工程（Ａ２）：工程（Ａ１）で得られた乾燥粉体を予備焼成し、予備焼成粉体を得る工程、
工程（Ａ３）：工程（Ａ２）で得られた予備焼成粉体を成形し、成形品を得る工程、
工程（Ａ４）：工程（Ａ３）で得られた成形品を本焼成する工程。
９） 予備焼成の温度が２００℃以上６００℃以下であり、本焼成温度が２００℃以上６００℃以下である上記８）に記載のビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒の製造方法。

本発明の触媒は、酸化反応用触媒として非常に有用である。特に酸化脱水素反応に好適に用いられ、オレフィンからジオレフィンを製造する触媒として有用な機能を有する。 従って、本発明の触媒を使用することにより、製造効率及び生産性が高く、高収率にブタジエンを生成することができる。 本発明の触媒の別の利点として、反応の長期安定性が挙げられる。特にオレフィンからジオレフィンを製造する触媒においては、反応中に炭素（コーク状物質）の析出（コーキング）が生じ、特に固定床型反応器においては触媒が破損される、あるいは反応管内の圧力損失が増大し安定に反応が継続できなくなる点が課題として挙げられる。本発明の触媒を使用することで、炭素析出の前駆体物質の触媒内部の滞留およびそれらの堆積によるコーキングを抑制することができ、高収率かつ安定に反応を長期間継続させることができる。

炭素原子数４以上のモノオレフィンと分子状酸素を含む混合ガスから接触酸化脱水素反応により共役ジオレフィンを製造する反応に使用でき、好ましくはｎ−ブテンと分子状酸素を含む混合ガスから接触酸化脱水素反応によりブタジエンを製造する反応に使用できる触媒およびその製造方法であり、以下その詳細について説明する。

本発明における炭素原子数４以上のモノオレフィンとは、炭素−炭素二重結合１個を含む炭素原子数４以上の不飽和炭化水素であり、ブテン、ペンテン、へキセン、ヘプテン、オクテン、ノネンおよびデセン等が挙げられ、ｎ−ブテンとは１−ブテン、トランス−２−ブテン、シス−２−ブテン、イソブチレンのうち、単一成分のガス、もしくは少なくとも一つの成分を含む混合ガスを意味するものとし、共役ジオレフィン化合物とは、１つの単結合を介して結合している２つの炭素−炭素二重結合をもつ炭化水素化合物であり、好ましくはブタジエン、特に好ましくは１，３−ブタジエンを意味するものとする。

本発明において高活性とは、通常より低い反応浴温度において、後述するｎ−ブテン転化率が一定以上の値を示すこと、および同じ反応浴温度においてより高いｎ−ブテン転化率の値を示すこと、のいずれかまたはその両方を意味し、本発明において活性および転化率とは、特に断りがない限り後述するｎ−ブテン転化率と同義、また収率とは後述するブタジエン収率と同義、さらに選択率とは後述するブタジエン選択率と同義である。後述するようにｎ−ブテン転化率が低い反応浴温度および反応条件で触媒を運転する場合、商業プラントでは一般にリサイクルプロセスを行う。リサイクルプロセスとは、反応器を通過した生成ガスおよび／または生成液の一部または全部より、生成物および副生成物を一定量除去した後のガス成分（リサイクルガス）を、再度反応器に流通反応させるプロセスのことを意味し、リサイクルガスはその他原料ガスと混合されて必要に応じ適宜加温されるプロセスを含む。後述する実施例で示すような、リサイクルプロセスを使用しない（ワンパス）での選択率とは、リサイクルプロセスにおける収率と同義であり、それゆえ本発明における高収率とは、ワンパスにおける選択率が高いことを含む。

［シリカの含有量とアルミナの含有量の重量比率］
本発明の共役ジオレフィン化合物製造用触媒は、触媒中にシリカ（ＳｉＯ_２）とアルミナ（ＡｌＯ_３）を含有し、その重量比率（ＳｉＯ_２：Ａｌ_２Ｏ_３）が１：０．０１〜１：５０．００である。シリカとアルミナは一般的には、不活性成分とされ、過度な反応の進行を抑え、適切にコントロールしたり、触媒の物理的硬度を調整したりする成分とされている。従って、シリカやアルミナの触媒中での含有量については従来から鋭意検討されてきた。しかし、本発明者は、シリカとアルミナの反応をコントロールする程度の違い、それぞれの物理的硬度に与える影響の違い等に着目し、鋭意検討した結果、その重量比率が１：０．０１〜１：５０．００である場合に、触媒の性能を大幅に向上できることを発見し、本発明に至った。

本発明において、シリカとアルミナの重量比率とは、触媒中に含有するシリカの重量を１としたアルミナとの重量比率を意味し、不活性成分としてのシリカおよび不活性成分としてのアルミナの化学状態は触媒反応において当業者にとって触媒反応に対して不活性と見なされるならば、結晶相や表面粗さ等物性含めその詳細を問わないが、たとえばシリカに関しては結晶性シリカ、シリカゲルや非結晶性シリカが挙げられ、特に結晶性シリカが好ましく、アルミナに関してはアランダムやα−アルミナが挙げられ、特にα−アルミナが好ましい。また本発明においてシリカ及びアルミナが前記の化学状態を満たすための製法も当業者であれば明らかなように、１０００℃以上の温度で焼成されたものを指す。すなわちたとえば、シリカゾルを出発原料の一部として６００℃以下の温度で焼成された触媒のシリカは、不活性成分としてのシリカではなく活性成分としてのシリカとなる。そして、シリカとアルミナの比率は１：０．０１〜１：５０．００であれば良いが、好ましくは１：０．１０〜１：２５．００であり、更に好ましくは１：０．２０〜１：１０．００であり、特に好ましくは１：０．３０〜１：６．００、最も好ましくは１：２．００〜１：３．５０である。また本発明において不活性成分とは、当業者にとって触媒反応に対して不活性と見なされるならばその詳細を定義しないが、たとえば後述する反応条件において転化率が０．１％以下のものを指す。
本発明においてシリカとアルミナの重量比率は、その他の不活性成分も含め内部標準を加えた、あるいは絶対検量線にて当業者にとって自明な方法で校正された各種元素分析装置にて測定される実測値により算出されるものとする。その詳細な測定方法は、上記の範囲内であれば問わないが、例えば蛍光Ｘ線測定による以下方法となる。測定装置として、リガク社製Ｐｒｉ ｍｉｎｉを用い、測定温度は３５℃、測定圧力は１Ｐａ、測定時間４５分、光源としてＰｄ管球を用い、Ｘ線強度は４０ｋｅＶ（１．２５ｍＡ）、分光結晶としてＬｉＦｌを使用し、検出器としてＳＣおよびＦ−ＰＣの両方を使用する。
本発明においてシリカ、アルミナは触媒活性成分と共存しても、後記するように、不活性担体として触媒活性成分を担持させた形で存在しても良い。なお、共存するとは活性成分と合せて、例えば混練された場合等を意味する。

［平均粒子径］
本発明の触媒の形状は、特に制限されるものではく、球状、円柱状、リング状等を挙げることができるが、好ましくは球状である。球状とは、実質的に球状であることを意味し、真球である必要はない。
そしてその平均粒子径は、無作為にサンプリングした一部の触媒について測定したものであればその詳細を問わないが、例えば３００個以上の触媒を測定すれば良い。
なお、測定方法としては、各触媒球の長さ（Ｌ）、幅（Ｂ）、厚さ（Ｔ）の平均から求めた三軸平均径による。
本発明の触媒は、上記方法で求めた平均粒子径が２．５０ｍｍ以上４．４９ｍｍ以下である場合が好ましい。そして、より好ましい上限は４．４７ｍｍであり、更に好ましくは４．４５ｍｍであり、特に好ましくは４．４３ｍｍである。またより好ましい下限は３．００ｍｍであり、更に好ましくは３．３０ｍｍであり、特に好ましくは３．６０ｍｍである。従って、最も好ましい平均粒子径は３．６０ｍｍ以上４．４３ｍｍ以下である。
この平均粒子径は、大きくなると酸化的脱水素反応自体が発熱反応であるがために触媒内部の蓄熱効果が高くなり、目的生成物のブタジエン選択率が低下する傾向があり、平均粒子径が小さくなると反応器内のガスの流れ方が複雑かつ不均一になり、望ましくない副反応が生じるために目的生成物のブタジエン選択率が低下する傾向がある。このため前述の通り、酸化的脱水素反応における球状触媒の平均粒子径には、望ましい数値範囲が生じることになることが本発明者らによって明らかにされた。

［気孔率］
本発明において使用される不活性担体の気孔率は、０％以上６０％以下であることが好ましく、より好ましい上限は５５％、さらに好ましい上限は５０％、最も好ましい上限は４７％であり、より好ましい下限は１０％、さらに好ましい下限は２０％、最も好ましい下限は３０％である。本気孔率の測定は、当業者であれば容易に知りえる一般的な方法であればその詳細を問わないが、好ましくはＪＩＳ Ｒ２２０５に規定される方法となる。

［吸水率］
本発明において使用される不活性担体の吸水率は、２％以上５０％以下であることが好ましく、より好ましい上限は３０％、さらに好ましい上限は２８％、最も好ましい上限は２５％であり、より好ましい下限は８％、さらに好ましい下限は１５％、最も好ましい下限は１８％である。本吸水率の測定は、当業者であれば容易に知りえる一般的な方法であればその詳細を問わないが、好ましくはＪＩＳ Ｒ２２０５に規定される方法となる。

［触媒組成］
本発明の共役ジオレフィン化合物製造用触媒は、その反応に寄与する活性成分として下記式（１）で表される組成である場合が好ましい（本発明の触媒活性成分）。
Ｍｏ_１２Ｂｉ_ａＦｅ_ｂＣｏ_ｃＮｉ_ｄＸ_ｅＹ_ｆＺ_ｇ・・・（１）
上記式（１）中、Ｘはリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムから選ばれるアルカリ金属の少なくとも１種の元素を示す。このうち好ましくはカリウム、ルビジウム、セシウムあり、さらに好ましくはセシウムである。
Ｙはマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムから選ばれるアルカリ土類金属の少なくとも１種の元素を示す。このうち好ましくはマグネシウム、カルシウム、ストロンチウムであり、さらに好ましくはマグネシウム、カルシウムである。
Ｚはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロビウム、アンチモン、タングステン、鉛、亜鉛、タリウムから選ばれる少なくとも１種の元素を示す。このうち好ましくはランタン、セリウム、プラセオジム、サマリウム、アンチモン、タングステン、鉛、亜鉛、タリウムであり、さらに好ましくはラセリウム、プラセオジム、タングステン、鉛、タリウムである。
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、およびｇは各々モリブデン１２に対するビスマス、鉄、コバルト、ニッケル、Ｘ、Ｙ、Ｚの原子比を示す。それぞれの範囲として、０．３＜ａ＜３．５、０．６＜ｂ＜３．４、５．０＜ｃ＜８．０、０．０＜ｄ＜３．０、０．０＜ｅ＜０．５、０．０≦ｆ≦４．０、０．０≦ｇ≦２．０が好ましいが、さらに好ましくは０．５＜ａ＜１．７、１．２＜ｂ＜３．０、５．５＜ｃ＜７．２、０．８＜ｄ＜２．５、０．０１＜ｅ＜０．２、０．０≦ｆ≦１．５、０．０≦ｇ≦１．５であり、式（１）中に記載はないが酸素原子Ｏは他の元素の酸化状態を満足させる適当な原子比となる。ただし、上記活性成分とは別に不活性成分として含まれるシリカとアルミナの含有比は、上述の通りである。

［不活性担体］
本発明の共役ジオレフィン化合物製造用触媒は、不活性担体に担持された触媒であっても良い。不活性担体としてはシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、ニオビア、シリカアルミナ、炭化ケイ素、炭化物、およびこれらの混合物など公知の物質が挙げられる。そして、不活性担体としてシリカ及び／又はアルミナを使用する場合、活性成分と共存するシリカ、アルミナと合せて、上記シリカの含有量とアルミナの含有量の重量比率を算出する。なお、シリカ及びアルミナが不活性担体として触媒に含有されている場合が好ましい。上記含有比率の範囲内であれば、シリカ及びアルミナの一方のみが不活性担体として用いられていても、双方が不活性担体として用いられていても良く、またシリカの一部やアルミナの一部が不活性担体として使用されていても良いが、シリカ及びアルミナの双方が全量不活性担体として使用されている場合が最も好ましい。その好ましい組成比については上述の通りである。
不活性担体への担持の方法は特に制限はないが、バインダーを用いた転動造粒法によりコーティングさせる方法が好ましい。
またその際の担持率は、以下式によって算出される。
担持率（質量％）＝（成形に使用した予備焼成粉体の質量）／｛（成形に使用した予備焼成粉体の質量）＋（成形に使用した担体の質量）｝×１００
上記担持率としての好ましい上限は、７０％であり、さらに好ましくは６０％である。担持率が高くなると、触媒中の活性成分の厚みは増す傾向にあり、その内部で蓄熱または発熱反応が生じ、好ましくない副反応により選択率は低下し、さらに副反応により原料ガス中の分子状酸素を消費するために触媒層の下層側で反応に必要な分子状酸素が不足し、入口ガス組成にもよるが結果として転化率が下がることがある。これは、不活性担体として本発明の範囲外の担体を使用した場合にも触媒内部で蓄熱または発熱が生じるため同様の結果を招く。
また好ましい下限は、２５％であり、さらに好ましくは３５％である。担持率が低くなると充填体積当たりの活性成分が減るために低活性となり、商業プラントとして必要な転化率で反応をするには反応浴温度を上げる必要があり、結果的にランニングコストの増加及び反応浴温度上昇による選択率低下が生じることとなる。なお不活性担体としては、シリカ及びアルミナを含有し、その比率が上記の範囲内であれば他の不活性成分を含有しても良い。他の不活性成分とは例えばチタニア、ジルコニア、ニオビア、炭化ケイ素、炭化物、およびこれらの混合物などである。
なお本発明の実施例においては、最終形態の触媒の粒径を揃えるよう調製しているが、不活性担体の嵩比重が異なるために、上記式の定義の通り担持率が若干変わりうる。

本発明の触媒を得るための各金属元素の原料としては特に制限はないが、各金属元素を少なくとも一種含む硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、アンモニウム塩、有機酸塩、酢酸塩、炭酸塩、次炭酸塩、塩化物、無機酸、無機酸の塩、ヘテロポリ酸、ヘテロポリ酸の塩、水酸化物、酸化物、金属、合金等、またはこれらの混合物を用いることができる。このうち好ましいのは硝酸塩原料である。硝酸塩原料を用いることにより、本発明のように調合液にアルカリ溶液を添加した場合でも、調合液は共沈または沈殿を生じず、適度な粘度のスラリーとなり、スプレー乾燥による乾燥が可能となり、高い生産性で触媒の製造が可能となり、製造コストを低く抑えることが可能となる。すなわち、本発明では原料において硝酸塩原料またはそれに準ずる酸成分を適度に含んだ原料を使用することにより、上記の通り製造コストを低く抑えることが可能となる。各金属元素の酸成分の含有率としては、各金属元素単独での原料の飽和水溶液のｐＨで規定でき、−２．０以上１０．０以下が好ましく、−１．０以上７．０以下がさらに好ましく、０．０以上５．０以下が最も好ましい。

本発明の触媒の調製法としては特に制限はないが、好ましいのは触媒活性成分を粉末として得た後、有機助剤を添加または使用することなく成形する方法であり、以下に詳細を記載する。なお、以下では各工程の順を好ましい例として記載しているが、最終的な触媒製品を得るための各工程の順番、工程数、各工程の組み合わせについて制限はないものとする。

本発明の製造方法に使用する調合液とは、後述する触媒の製造工程（Ａ１）または（Ｂ１）において調製される、触媒活性成分である複合金属酸化物の原料のうち少なくとも一成分を含む混合溶液またはスラリーを意味するものとする。

本発明の触媒の製造方法としては、その詳細は後述するが、下記工程を含むことを特徴とする：
工程（Ａ１）：複合金属酸化物の各金属を含有する化合物を含む混合溶液またはスラリーを２０℃以上９０℃以下の条件下で調製し、該混合溶液またはスラリーのｐＨを前日の範囲内に適宜制御するようアルカリ溶液を添加し、スプレー乾燥して乾燥粉体を得る工程。
上記工程（Ａ１）において調合液のｐＨが高すぎると後述する乾燥噴霧（スプレー乾燥）法においては、触媒活性成分原料が共沈または一部沈殿が生じるために流路での目詰まり等が発生し均一な乾燥粉体が得られない、またはスプレー乾燥設備（スプレードライヤー）が安定して実施できない点が課題として生じうる。調合液のｐＨが高すぎることによる触媒活性成分原料の共沈または一部沈殿を避ける目的で、公知である分散剤を必要に応じて必要量投入する方法も本発明に包括される。

さらに下記工程を含むことを特徴とする：
工程（Ａ２）：工程（Ａ１）で得られた乾燥粉体を予備焼成し、予備焼成粉体を得る工程、
工程（Ａ３）：工程（Ａ２）で得られた予備焼成粉体を成形し、成形品を得る工程、
工程（Ａ４）：工程（Ａ３）で得られた成形品を本焼成する工程。

工程（Ａ１）調合と乾燥
触媒活性成分原料の混合溶液またはスラリーを調製し、沈殿法、ゲル化法、共沈法、水熱合成法等の工程を経た後、乾燥噴霧（スプレー乾燥、スプレードライ）法、蒸発乾固法、ドラム乾燥法、凍結乾燥法等の公知の乾燥方法を用いて、本発明の乾燥粉体を得る。この混合溶液またはスラリーは、溶媒として水、有機溶剤、またはこれらの混合溶液のいずれでも良く、また適宜混合溶液またはスラリーにｐＨ調整をする目的でアルカリ溶液を添加することが可能であり、触媒活性成分の原料濃度も制限はなく、さらに、この混合溶液またはスラリーの液温、雰囲気等の調合条件および乾燥条件について特に制限はないが、最終的な触媒の性能、機械的強度、成形性や生産効率等を考慮して適切な範囲を選択されるべきである。このうち本発明において最も好ましいのは、２０℃から９０℃の条件下で触媒活性成分の原料の混合溶液またはスラリーを形成させ、適宜アルカリ溶液によりｐＨを調整し、これを噴霧乾燥器に導入して乾燥器出口温度が７０℃から１５０℃、得られる乾燥粉体の平均粒径が１０μｍから７００μｍとなるよう熱風入口温度、噴霧乾燥器内部の圧力、およびスラリーの流量を調節する方法である。また、本工程の混合溶液またはスラリーの調製から前記乾燥までにおいて、後述する無機助剤または／および有機助剤を任意の量で添加することも本発明の触媒の製造方法に属するものとする。さらに、上記アルカリ溶液の種類に関しても公知なアルカリ溶液であればその濃度や成分および溶媒に制限はないが、アンモニア水や炭酸アンモニウム水溶液が好ましい。

工程（Ａ２）予備焼成
こうして得られた乾燥粉体を２００℃以上６００℃以下で予備焼成し、平均粒径が１０μｍから１００μｍである予備焼成粉体を得ることができる。この予備焼成の条件に関しても、焼成時間や焼成時の雰囲気について特に制限はなく、焼成の手法も流動床、ロータリーキルン、マッフル炉、トンネル焼成炉など特に制限はなく、最終的な触媒の性能、機械的強度、成形性や生産効率等を考慮して適切な範囲を選択されるべきである。このうち本発明において最も好ましいのは、トンネル焼成炉において３００℃以上６００℃以下の範囲で１時間以上１２時間以下、空気雰囲気下による方法である。また、本工程の予備焼成前または予備焼成後において、後述する無機助剤または／および有機助剤を任意の量で添加することも本発明の触媒の製造方法に属するものとする。

工程（Ａ３）成形
こうして得られた予備焼成粉体をそのまま触媒として使用することもできるが、成形して使用することもできる。成形品の形状は球状、円柱状、リング状など特に制限されないが、一連の調製で最終的に得られる触媒における機械的強度、反応器、調製の生産効率等を考慮して選択するべきである。成形方法についても特に制限はないが、以下に示す担体や有機助剤、無機助剤、バインダー等を予備焼成粉体に添加して円柱状、リング状に成形する際には打錠成形機や押出成形機などを用い、球状に成形する際には造粒機などを用いて成形品を得る。予備焼成粉体を不活性球状担体に担持した球状の被覆成形品を得る方法が好ましい。

無機助剤の添加量は、予備焼成粉体の質量に対して０．１質量％から２５質量％であり、０．３質量％から１０質量％が好ましく、０．５質量％から５質量％が最も好ましい。また無機助剤の材質および成分組成にも特に制限はないが、たとえばＥガラスのような無アルカリガラスや、シラン処理等各種化学的な不活性化処理を行ったガラスが、触媒反応に対する副生成物の生成などの悪影響を与えない点でより好ましい。また、無機助剤は、成形の前に粉砕工程を実施しても良く、粉砕の方法としては特に制限はないが、例えばボールミル、ロッドミル、ＳＡＧミル、ジェットミル、自主粉砕ミル、ハンマーミル、ペレットミル、ディスクミル、ローラーミル、高圧粉砕ロール、ＶＳＩミルなどを単独または組み合わせて実施され、この粉砕の対象は無機助剤単独でもよいが、予備焼成粉体その他成形工程に添加される触媒原料を混合したものでもよい。

本発明の触媒に使用する無機助剤とは、主に６００℃の熱処理においても焼失しない任意の無機物による任意の形状の助剤であり、後述する本焼成工程によりそのすべてが焼失しないものとする。無機助剤は、後述する本焼成工程においても残留するため、予備焼成粉体同士を結びつける役割があり、破損にかかる負荷が触媒に生じた際にも破損を抑制する効果が生じる。本発明において無機助剤の材質としてモース硬度は特に限定されないが、たとえば任意の硫化鉱物、酸化鉱物、ハロゲン化鉱物、無機酸塩鉱物、有機鉱物等を単独または組み合わせたものをガラス転移温度以上で熱処理したもののうちモース硬度が２以上のものが好ましく、これら材質の原料としては無機酸塩鉱物がさらに好ましい。また無機助剤に対して、酸処理、アルカリ処理、およびシラン処理等を各々単独または組み合わせて実施することで、触媒反応に不活性となる点で好適となる。

本発明の触媒に使用する有機助剤とは、主に２００℃以上６００℃以下の熱処理により焼失する有機物よりなる任意の粉状、顆粒状、繊維状、鱗片状の助剤とし、後述する本焼成工程によりその一部またはすべてが焼失するものとし、たとえばポリエチレングリコールや各種エステルなどの重合物またはポリマービーズ、高吸水性樹脂の乾燥体または任意の吸水率による吸水物、各種界面活性剤、小麦粉または精製デンプン等の各種デンプン類、および結晶性またはアモルファス状のセルロースおよびその誘導体、が挙げられる。

ここで、本発明の触媒に使用するバインダーとは、その分子直径が予備焼成粉体の平均粒径に対して０．００１以下の範囲である化合物群からなる単独または組み合わせにより構成される液体とし、例えば次のようなものが挙げられる。すなわち、液状の有機溶剤、有機物の分散体、水溶性有機溶剤、およびそれらと水の任意の割合での混合物であり、特に制限はないが、グリセリン等の多価アルコールの水溶液またはイオン交換水が好ましく、さらにイオン交換水が成形性の観点から最も好ましい。バインダーは水または有機物を含むため、後述する本焼成工程にてその一部またはすべてが焼失するが、一般にバインダーに使用される有機物の分子直径は予備焼成粉体の平均粒径と比較すると十分に小さい。また、このバインダーに前記触媒原料の溶液を使用することで、工程（Ａ１）とは異なる態様で触媒の最表面に元素を導入することも可能である。

コーティングによる担持成形の方法としてバインダーの使用量は、予備焼成粉体１００質量部に対して２質量部から６０質量部であり、１０質量部から５０質量部がより好ましい。本発明の反応は酸化的脱水素であり発熱反応であるため、触媒内部の放熱のため、さらには生成した共役ジオレフィンの効率的な拡散による、コーク状物質の生成および／または滞留の抑制のため、担持成形が最も好ましい成形方法である。

工程（Ａ４）本焼成
このようにして得られた予備焼成粉体または成形品は、比表面積パラメータＳを特定の範囲内にするために反応に使用する前に２００℃以上６００℃以下、好ましくは４００℃以上６００℃以下、さらに好ましくは５００℃以上６００℃以下で再度焼成（本焼成）することが好ましい。本焼成に関しても、焼成時間や焼成時の雰囲気について特に制限はなく、焼成の手法も流動床、ロータリーキルン、マッフル炉、トンネル焼成炉など特に制限はなく、最終的な触媒の性能、機械的強度や生産効率等を考慮して適切な範囲を選択されるべきである。このうち本発明において最も好ましいのは、トンネル焼成炉において４８０℃以上６００℃以下、好ましくは５００℃以上５８０℃以下、さらに好ましくは５１０℃以上５５０℃以下、最も好ましくは５１５℃以上５３５℃以下の温度範囲で１時間から１２時間、好ましくは１時間から８時間、さらに好ましくは２時間から６時間、好ましくは空気雰囲気下による方法である。

次に、以下では（Ｂ）法による触媒調製方法を記載する。以下では各工程を順に記載しているが、最終的な触媒を得るための各工程の順番、工程数、各工程の組み合わせについて制限はないものとする。

工程（Ｂ１）含浸
触媒活性成分が導入された溶液またはスラリーを調製し、ここに成形担体または（Ａ）法で得た触媒を含浸させ、成形品を得る。ここで、含浸による触媒活性成分の担持手法はディップ法、インシピエントウェットネス法、イオン交換法、ｐＨスイング法など特に制限はなく、前記溶液または前記スラリーの溶媒として水、有機溶剤、またはこれらの混合溶液のいずれでも良く、触媒活性成分の原料濃度も制限はなく、さらに、前記混合溶液または前記スラリーの液温、液にかかる圧力、液の周囲の雰囲気についても特に制限はないが、最終的な触媒の性能、機械的強度、成形性や生産効率等を考慮して適切な範囲を選択されるべきである。また、前記成形担体および前記（Ａ）法で得た触媒のいずれも形状は球状、円柱状、リング状、粉末状など特に制限はなく、さらに材質、粒径、吸水率、機械的強度も特に制限はない。

工程（Ｂ２）乾燥
こうして得られた前記成形品を、蒸発乾固法、ドラム乾燥法、凍結乾燥法等の公知の乾燥方法を用いて２０℃以上２００℃以下の範囲において熱処理を行い、本発明の触媒成形乾燥体を得る。焼成時間や焼成時の雰囲気について特に制限はなく、焼成の手法も流動床、ロータリーキルン、マッフル炉、トンネル焼成炉など特に制限はなく、最終的な触媒の性能、機械的強度、成形性や生産効率等を考慮して適切な範囲を選択されるべきである。

工程（Ｂ３）本焼成
こうして得られた前記触媒成形乾燥体を、蒸発乾固法、ドラム乾燥法、凍結乾燥法等の公知の乾燥方法を用いて２００℃以上６００℃以下、好ましくは４００℃以上６００℃以下、さらに好ましくは５００℃以上６００℃以下で熱処理を行い、本発明の触媒を得る。ここで、焼成時間や焼成時の雰囲気について特に制限はなく、焼成の手法も流動床、ロータリーキルン、マッフル炉、トンネル焼成炉など特に制限はなく、最終的な触媒の性能、機械的強度、成形性や生産効率等を考慮して適切な範囲を選択されるべきである。このうち本発明において最も好ましいのは、トンネル焼成炉において４８０℃以上６００℃以下、好ましくは５００℃以上５８０℃以下、さらに好ましくは５１０℃以上５５０℃以下、最も好ましくは５１５℃以上５３５℃以下の温度範囲で１時間から１２時間、好ましくは１時間から８時間、さらに好ましくは２時間から６時間、好ましくは空気雰囲気下による方法である。

本発明において全製造工程とは、触媒原料から本発明の触媒を得るまでの、工程（Ａ１）から工程（Ａ４）および工程（Ｂ１）から工程（Ｂ３）の単独または組み合わせによる全ての工程である。本発明において成形工程とは、工程（Ａ３）のうちその一部またはその全部である。

［調合液のｐＨの測定］
ｐＨの測定方法に関しては、公知である方法を適用すればその制限はないが、例えば次の方法が挙げられる。ＨＡＮＮＡ製ｐＨｅｐ５を、ｐＨ４．０１および７．０１のｐＨ標準液により２点校正し、測定対象に１０秒以上浸漬させ浸漬中にそのｐＨを確認する。この作業を１セットとし、測定箇所を変えて２セット以上確認したｐＨを平均化し、その触媒の調合液のｐＨとする。校正は、必要に応じてｐＨ１０．０１のｐＨ標準液を加えて３点校正とし、また校正から測定作業までの時間間隔が３時間以上経過した場合には再校正することとする。

本発明の触媒を使用すれば、炭素原子数４以上のモノオレフィンと分子状酸素を含む混合ガスから接触酸化脱水素反応により共役ジオレフィンを製造するプロセス、特にｎ−ブテン原料から酸化脱水素反応によりブタジエンを製造するプロセスにおいて、高活性かつ高収率でブタジエンを得ることが可能である。また、本発明の触媒を使用すれば、上記の通り、炭素析出の前駆体物質の触媒内部の滞留およびそれらの堆積によるコーキングを抑制することができ、高収率かつ安定に反応を長期間継続させることができる。

本発明の触媒を使用して炭素原子数４以上のモノオレフィンから共役ジオレフィンを製造する反応の条件は、原料ガス組成として１容量％から２０容量％のモノオレフィン、５容量％から２０容量％の分子状酸素、０容量％から６０容量％の水蒸気及び０容量％から９４容量％の不活性ガス、例えば窒素、炭酸ガスを含む混合ガスを用い、反応浴温度としては２００℃から５００℃の範囲であり、反応圧力としては常圧から１０気圧の圧力下、本発明の触媒成形体に対する原料ガスの空間速度（ＧＨＳＶ）は３５０ｈｒ^−１から７０００ｈｒ^−１の範囲、より好ましくは５００ｈｒ^−１から４０００ｈｒ^−１の範囲となる。反応の形態として固定床、移動床、および流動床の中で制約はないが、固定床が好ましい。さらにｎ−ブテンに含まれる１−ブテンのモル組成比は０以上９０未満、好ましくは１以上６０未満、より好ましくは１以上４０未満であり、シス−２−ブテンのモル組成比は０以上９０未満、好ましくは１以上６０未満、より好ましくは１以上４０未満であり、トランス−２−ブテンのモル組成比は０以上９０未満、好ましくは１以上６０未満、より好ましくは１以上４０未満である。また、ブテン原料には調達元によりｎ−ブタンが含まれることがあるが、ｎ−ブタンは前記反応浴温度領域にて本発明の触媒のようなビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒においては反応性がなく、前記不活性ガスと同様に扱うこととし、そのモノオレフィンにおけるモル組成比は０以上９０未満、好ましくは０以上５０未満、さらに好ましくは０以上１０未満である。

本発明の触媒を炭素原子数４以上のモノオレフィンから共役ジオレフィンを製造する反応、特にｎ−ブテンからブタジエンを製造する反応において使用することで、高活性かつ高収率で共役ジオレフィンを製造することができ、これらの結果として公知のブタジエン製造プロセスと比較して、本プロセスによるブタジエンの価格競争力の向上が期待できる。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下において、％は特に断りがない限りモル％を意味する。また、以下においてｎ−ブテン転化率、ブタジエン収率、ＴＯＳの定義とは、以下の通りである。当業者にとって明らかなように、以下の触媒性能の計算にあたっては、校正された純標準ガス等によって、十分な精度で校正を行った各種ガスクロマトグラフィーを用いることとする。

ｎ−ブテン転化率（モル％）＝（反応したｎ−ブテンのモル数／供給したｎ−ブテンのモル数）×１００
ブタジエン収率（モル％）＝（生成したブタジエンのモル数／供給したｎ−ブテンのモル数）×１００
ＴＯＳ＝混合ガス流通時間（時間）

［実施例１（触媒１の調製）］
ヘプタモリブデン酸アンモニウム８００質量部を８０℃に加温した純水３０００質量部に完全溶解させた（母液１）。次に、硝酸セシウム２．９質量部を純水３３ｍｌに溶解させて、母液１に加えた。次に、硝酸第二鉄３２０質量部、硝酸コバルト７１４質量部及び硝酸ニッケル２５２質量部を６０℃に加温した純水６８２ｍｌに溶解させ、母液１に加えた。続いて硝酸ビスマス１６５質量部を６０℃に加温した純水１７４ｍｌに硝酸（６０質量％）４２質量部を加えて調製した硝酸水溶液に溶解させ母液１に加えた。前述の母液１をスプレードライ法にて乾燥し、得られた乾燥粉体を４４０℃、５時間の条件で予備焼成した。こうして得られた予備焼成粉体（仕込み原料から計算される原子比はＭｏ：Ｂｉ：Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ：Ｃｓ＝１２：０．９：２．１：６．５：２．３：０．０４に対して５質量％分の結晶性セルロースを添加し、十分混合した後、転動造粒法にてバインダーとして３３質量％グリセリン溶液を用い、平均粒径４．０ｍｍの不活性の担体１（シリカ：アルミナ＝１：２．６０の重量比、気孔率＝４５％、吸水率＝２３％）に、担持率が４０質量％となるように球状に担持成形し、平均粒径４．４ｍｍの触媒を得た。（本発明の触媒１）

［実施例２（触媒２の調製）］
不活性な担体として平均粒径３．２ｍｍの不活性の担体２（シリカ：アルミナ＝１：２．６０の重量比、気孔率＝４５％、吸水率＝２３％）に、担持率が５０質量％となるように球状に担持成形した以外は実施例１と同様に触媒を調製し、平均粒径４．４ｍｍの触媒を得た。（本発明の触媒２）

［実施例３（触媒３の調製）］
不活性な担体として平均粒径３．８ｍｍの不活性の担体３（シリカ：アルミナ＝１：２．６０の重量比、気孔率＝４５％、吸水率＝２３％）に、担持率が５０質量％となるように球状に担持成形した以外は実施例１と同様に触媒を調製し、平均粒径４．４ｍｍの触媒を得た。（本発明の触媒３）

［実施例４（触媒４の調製）］
不活性な担体として平均粒径４．５ｍｍの不活性の担体４（シリカ：アルミナ＝１：２．６０の重量比、気孔率＝４５％、吸水率＝２３％）に、担持率が５０質量％となるように球状に担持成形した以外は実施例１と同様に触媒を調製し、平均粒径５．３ｍｍの触媒を得た。（本発明の触媒４）

［実施例５（触媒７の調製）］
不活性な担体として平均粒径３．８ｍｍの不活性の担体７（シリカ：アルミナ＝１：０．３９の重量比、気孔率＝４５％、吸水率＝２０％）に、担持率が５０質量％となるように球状に担持成形した以外は実施例１と同様に触媒を調製し、平均粒径４．４ｍｍの触媒を得た。（本発明の触媒７）

［実施例６（触媒８の調製）］
不活性な担体として平均粒径３．８ｍｍの不活性の担体８（シリカ：アルミナ＝１：５．７７の重量比、気孔率＝３６％、吸水率＝１４％）に、担持率が４５質量％となるように球状に担持成形した以外は実施例１と同様に触媒を調製し、平均粒径４．４ｍｍの触媒を得た。（本発明の触媒８）

［比較例１（触媒９の調製）］
不活性な担体として平均粒径３．８ｍｍの不活性の担体９（シリカ：アルミナ＝１：０．００の重量比、気孔率＝５７％、吸水率＝２９％）に、担持率が４９質量％となるように球状に担持成形した以外は実施例１と同様に触媒を調製し、平均粒径４．４ｍｍの触媒を得た。（本発明の触媒９）

［比較例２（触媒１０の調製）］
不活性な担体として平均粒径３．８ｍｍの不活性の担体１０（シリカ：アルミナ＝１：９９２．９０の重量比、気孔率＝５２％、吸水率＝２８％）に、担持率が４８質量％となるように球状に担持成形した以外は実施例１と同様に触媒を調製し、平均粒径４．４ｍｍの触媒を得た。（本発明の触媒１０）

上記実施例および比較例で得られた触媒を、以下の方法により反応評価した。各触媒５３ｍｌをステンレス鋼反応管に充填し、ガス体積比率がｎ−ブテン：酸素：窒素：水蒸気＝１：０．８：７：１の混合ガスを用い、常圧下、ＧＨＳＶ１２００ｈｒ^−１の条件で、反応浴温度３４０℃にてＴＯＳ２０時間以上のエージング反応後、反応管出口で、コンデンサーにより液成分とガス成分を分離し、ガス成分中の各成分を各々水素炎イオン化検出器と熱伝導検出器が装着されたガスクロマトグラフで定量分析した。ガスクロマトグラフにより得られた各データはファクター補正し、ｎ−ブテン転化率、ブタジエン収率を算出した。なお、本反応で使用したｎ−ブテンのモル組成比は、１−ブテン：シス−２−ブテン：トランス−２−ブテン＝３３．４：３３．３：３３．３であった。

表１に実施例１〜４について、各々の担体のシリカ：アルミナ重量比率、さらに対応する試験例と比較試験例による反応浴温度３４０℃におけるｎ−ブテン転化率、ブタジエン収率の結果を示す。表１より明らかなように、本発明により高いＧＨＳＶかつｎ−ブテン濃度の条件にもかかわらず、ｎ−ブテン転化率およびブタジエン収率が共に高い触媒を得ることができ、触媒の平均粒径及び担持率と明らかな相関があることが分かった。

表２に実施例３、５、６、および比較例１、２について、表１と同様の試験結果を示す。ガスクロマトグラフ測定時のファクターの測定方法が出口ガス組成を模した混合ガスによりファクター補正し、ｎ−ブテン転化率、ブタジエン収率を算出したため、表１と異なる転化率、ブタジエン収率を示している。表２より明らかなように、ブタジエン収率はシリカとアルミナ重量比率より最適範囲があることが分かる。

表１、２の結果より、本願発明の構成を充足する実施例１〜６はＢＴ３４０℃におけるｎ−ブテン転化率、ブタジエン収率共に高いことが確認された。

本発明によれば、炭素原子数４以上のモノオレフィンと分子状酸素を含む混合ガスから接触酸化脱水素反応により共役ジオレフィンを高活性かつ高収率で製造することが可能である。

Claims (9)

1. シリカ（ＳｉＯ_２）及びアルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）を不活性成分として含有する触媒であって、シリカの含有量とアルミナの含有量の重量比率が１：０．０１〜１：５０．００である、ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
2. シリカ（ＳｉＯ_２）及びアルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）を不活性成分として含有する触媒であって、平均粒子径が２．５０ｍｍ以上４．４９ｍｍ以下である、請求項１に記載のビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
3. 活性成分としての触媒組成が、下記式（１）で表される請求項１又は２に記載の共役ジオレフィン化合物製造用ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
   
   Ｍｏ_１２Ｂｉ_ａＦｅ_ｂＣｏ_ｃＮｉ_ｄＸ_ｅＹ_ｆＺ_ｇ・・・・（１）
   
   （式中、Ｘはリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムから選ばれるアルカリ金属の少なくとも１種の元素を示し、Ｙはマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムから選ばれるアルカリ土類金属の少なくとも１種の元素を示し、Ｚはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロビウム、アンチモン、タングステン、鉛、亜鉛、タリウムから選ばれる少なくとも１ 種の元素を示し、
   ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、およびｇは各々モリブデン１２に対するビスマス、鉄、コバルト、ニッケル、Ｘ、Ｙ、Ｚの原子比を示し、０．３＜ａ＜３．５、０．６＜ｂ＜３．４、５．０＜ｃ＜８．０、０．０＜ｄ＜３．０、０．０＜ｅ＜０．５、０．０≦ｆ≦４．０、０≦ｇ≦２．０の範囲にあり、式（１）中に記載はないが酸素原子Ｏは他の元素の酸化状態を満足させる適当な原子比となる）。
4. シリカ及びアルミナが不活性担体として触媒に含有されている請求項１乃至３のいずれか一項に記載の、炭素原子数４以上のモノオレフィン化合物と分子状酸素を含む混合ガスを原料とした接触酸化脱水素反応による共役ジオレフィン化合物製造用ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
5. 不活性担体の気孔率が、０％以上６０％以下である請求項４に記載の共役ジオレフィン化合物製造用ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
6. 不活性担体の吸水率が、２％以上５０％以下である請求項４又は５に記載の共役ジオレフィン化合物製造用ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
7. 炭素原子数４以上のモノオレフィン化合物と分子状酸素を含む混合ガスから接触酸化脱水素反応により共役ジオレフィン化合物を製造するための請求項１乃至６のいずれか一項に記載の共役ジオレフィン化合物製造用ビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒。
8. 下記工程を含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載のビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒の製造方法、
   工程（Ａ１）：複合金属酸化物の各金属を含有する化合物を含む混合溶液またはスラリーを２０℃以上９０℃以下の条件下で調製し、スプレー乾燥して乾燥粉体を得る工程、
   工程（Ａ２）：工程（Ａ１）で得られた乾燥粉体を予備焼成し、予備焼成粉体を得る工程、
   工程（Ａ３）：工程（Ａ２）で得られた予備焼成粉体を成形し、成形品を得る工程、
   工程（Ａ４）：工程（Ａ３）で得られた成形品を本焼成する工程。
9. 予備焼成の温度が２００℃以上６００℃以下であり、本焼成温度が２００℃以上６００℃以下である請求項８に記載のビスマスモリブデート複合金属酸化物触媒の製造方法。