JP2020171315A - 反応処理容器、反応処理容器の製造方法および反応処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (14)
- 樹脂から成る基板と、
前記基板の主面に形成された溝状の流路と、
前記基板の主面上に形成されたゲートと、
を備えることを特徴とする反応処理容器。 - 前記基板は、少なくとも一辺を含み、
前記ゲートは、前記基板の一辺近傍に形成されることを特徴とする請求項1に記載の反応処理容器。 - 前記流路に通じる一対の空気連通口が前記基板に形成されており、
前記ゲートは、前記一対の空気連通口の間に形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の反応処理容器。 - 前記流路は、直線状の流路を含み、
前記ゲートは、前記直線状の流路に垂直な仮定垂直線と前記基板の一辺との交点近傍に形成されることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の反応処理容器。 - 前記直線状の流路の底面は、前記基板の主面と平行な平面に形成されることを特徴とする請求項4に記載の反応処理容器。
- 前記流路は、試料を繰り返し往復移動することにより前記試料にサーマルサイクルが付与されて前記試料に所定の反応を生じさせる反応流路を含み、
前記反応流路は、互いに異なる温度に維持される第1領域および第2領域を含み、
前記第1領域と前記第2領域は、前記直線状の流路により接続されることを特徴とする請求項4または5に記載の反応処理容器。 - 前記基板は、前記反応流路の近傍にウェルドラインを有することを特徴とする請求項6に記載の反応処理容器。
- 前記反応流路は、曲線状の流路と直線状の流路とを組み合わせた流路を含み、
前記ウェルドラインと前記反応流路の一部とが交差していることを特徴とする請求項7に記載の反応処理容器。 - 前記ウェルドラインと前記反応流路の一部との交点近傍の前記反応流路内に凹部を備えないことを特徴とする請求項8に記載の反応処理容器。
- 前記反応流路の深さは、0.55mm〜0.95mmであり、前記反応流路のテーパ角は、10°〜30°であることを特徴とする請求項6から9のいずれかに記載の反応処理容器。
- 前記直線状の流路の底面幅は、0.5mm〜0.8mmであることを特徴とする請求項4から10のいずれかに記載の反応処理容器。
- 前記直線状の流路の深さは、0.8mm〜1.25mmであり、前記直線状の流路のテーパ角は、10°〜30°であることを特徴とする請求項11に記載の反応処理容器。
- 請求項1から12のいずれかに記載された反応処理容器の製造方法であって、
前記溝状の流路に対応する凸形状を有する金型に前記ゲートから樹脂を注入する工程を備えることを特徴とする反応処理容器の製造方法。 - 請求項1から12のいずれかに記載された反応処理容器を用いることを特徴とする反応処理方法。
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