JP2020017758A - 保護膜形成用複合シート - Google Patents
保護膜形成用複合シート Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020017758A JP2020017758A JP2019191282A JP2019191282A JP2020017758A JP 2020017758 A JP2020017758 A JP 2020017758A JP 2019191282 A JP2019191282 A JP 2019191282A JP 2019191282 A JP2019191282 A JP 2019191282A JP 2020017758 A JP2020017758 A JP 2020017758A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- forming
- adhesive layer
- film
- sensitive adhesive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 title claims abstract description 512
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 167
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 307
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 102
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 99
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims abstract description 68
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 253
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 95
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 82
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 51
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 51
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 43
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 38
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 claims description 34
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 9
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 claims description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 abstract description 77
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 42
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 72
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 43
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 40
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 32
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 30
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 28
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 27
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 27
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 26
- 239000002585 base Substances 0.000 description 25
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 18
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 18
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 17
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 16
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 15
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 11
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 10
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 10
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 8
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 6
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 6
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 5
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 5
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)-2-phenyl-1h-imidazol-5-yl]methanol Chemical compound N1C(CO)=C(CO)N=C1C1=CC=CC=C1 UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 4
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007648 laser printing Methods 0.000 description 4
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 4
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 3
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- FWWWRCRHNMOYQY-UHFFFAOYSA-N 1,5-diisocyanato-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(N=C=O)C=C1N=C=O FWWWRCRHNMOYQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFSYUSUFCBOHGU-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-2-[(4-isocyanatophenyl)methyl]benzene Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=CC=C1N=C=O LFSYUSUFCBOHGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STFXXRRQKFUYEU-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C STFXXRRQKFUYEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- FFBZKUHRIXKOSY-UHFFFAOYSA-N aziridine-1-carboxamide Chemical compound NC(=O)N1CC1 FFBZKUHRIXKOSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229920000092 linear low density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004707 linear low-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- RUEBPOOTFCZRBC-UHFFFAOYSA-N (5-methyl-2-phenyl-1h-imidazol-4-yl)methanol Chemical compound OCC1=C(C)NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 RUEBPOOTFCZRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=C(CN=C=O)C=C1 OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- QZKVUSSYPPWURQ-UHFFFAOYSA-N 1-methylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C QZKVUSSYPPWURQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDDUSDYMEXVQNJ-UHFFFAOYSA-N 1H-imidazole silane Chemical compound [SiH4].N1C=NC=C1 ZDDUSDYMEXVQNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(CN(C)C)=C(O)C(CN(C)C)=C1 AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC(Cl)=C3SC2=C1 UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxy-1,5-bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2,4-dimethylpentan-3-one Chemical compound C=1C=C(OCCO)C=CC=1CC(C)(O)C(=O)C(O)(C)CC1=CC=C(OCCO)C=C1 LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRRQSCPPOIUNGX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(O)C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 LRRQSCPPOIUNGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRNDGUSDBCARGC-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyacetophenone Chemical compound COCC(=O)C1=CC=CC=C1 YRNDGUSDBCARGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEHFRMABGJJCPF-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)N=C=O JEHFRMABGJJCPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFVPHBIAMDFPTB-UHFFFAOYSA-N C12(C(=O)C(=O)C(CC1)C2(C)C)C.C(C)(C)C2=CC=1C(C3=CC=CC=C3SC1C(=C2)C(C)C)=O Chemical compound C12(C(=O)C(=O)C(CC1)C2(C)C)C.C(C)(C)C2=CC=1C(C3=CC=CC=C3SC1C(=C2)C(C)C)=O LFVPHBIAMDFPTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWPYBAJTDILQPY-UHFFFAOYSA-N Methoxyphenone Chemical compound C1=C(C)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC(C)=C1 BWPYBAJTDILQPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWGWXYUPRTXVSY-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1=CC=C(C)C=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1=CC=C(C)C=C1 GWGWXYUPRTXVSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282376 Panthera tigris Species 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- ATMLPEJAVWINOF-UHFFFAOYSA-N acrylic acid acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C ATMLPEJAVWINOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N allyl isocyanate Chemical compound C=CCN=C=O HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- LWBAXCVPGQEHGO-UHFFFAOYSA-N benzene 2-hydroxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 LWBAXCVPGQEHGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001638 boron Chemical class 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000006841 cyclic skeleton Chemical group 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- RJLZSKYNYLYCNY-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;isocyanic acid Chemical group N=C=O.CCOC(N)=O RJLZSKYNYLYCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000005247 gettering Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N methyl (2s)-2,6-diisocyanatohexanoate Chemical compound COC(=O)[C@@H](N=C=O)CCCCN=C=O AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- OPECTNGATDYLSS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2-sulfonyl chloride Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S(=O)(=O)Cl)=CC=C21 OPECTNGATDYLSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N tetraphenylphosphonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- IUCJMVBFZDHPDX-UHFFFAOYSA-N tretamine Chemical compound C1CN1C1=NC(N2CC2)=NC(N2CC2)=N1 IUCJMVBFZDHPDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950001353 tretamine Drugs 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XOALFFJGWSCQEO-UHFFFAOYSA-N tridecyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C XOALFFJGWSCQEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D163/00—Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09J133/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09J133/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67132—Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
- C09J2203/326—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
Description
本願は、2015年6月5日に、日本に出願された特願2015−114714号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
本発明の保護膜形成用複合シートにおいては、前記アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が11〜18であることが好ましい。
即ち、本発明は以下の態様を含む。
[1]基材上に粘着剤層を備え、前記粘着剤層上に保護膜形成用フィルムを備えてなり、前記粘着剤層は活性エネルギー線硬化性を有し、前記保護膜形成用フィルムは熱硬化性を有する保護膜形成用複合シートであって、
前記保護膜形成用複合シートは、これを前記保護膜形成用フィルムにより半導体ウエハの裏面に貼付した後、前記保護膜形成用フィルムを加熱によって硬化させて保護膜とし、次いで、前記半導体ウエハをダイシングして半導体チップとした後、活性エネルギー線の照射によって前記粘着剤層を硬化させてから、前記半導体チップをその裏面に貼付された前記保護膜とともにピックアップすることによって、保護膜付き半導体チップを製造するために用いるものであり、
前記粘着剤層は、少なくとも前記保護膜形成用フィルムと接触している層において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有し、
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有し、
前記粘着剤層が、光重合開始剤として、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン」を含有する、保護膜形成用複合シート。
[2]前記保護膜形成用フィルムが、エポキシ樹脂と、加熱によって溶解し、かつ前記エポキシ樹脂に対して硬化活性を示す熱硬化剤と、イミダゾール類と、を含有する、[1]に記載の保護膜形成用複合シート。
[3]前記アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が11〜18である、[1]又は[2]に記載の保護膜形成用複合シート。
本発明に係る保護膜形成用複合シートは、基材上に粘着剤層を備え、前記粘着剤層上に保護膜形成用フィルムを備えてなり、前記粘着剤層は活性エネルギー線硬化性を有し、前記保護膜形成用フィルムは熱硬化性を有する保護膜形成用複合シートであって、前記保護膜形成用複合シートは、これを前記保護膜形成用フィルムにより半導体ウエハの裏面に貼付した後、前記保護膜形成用フィルムを加熱によって硬化させて保護膜とし、次いで、前記半導体ウエハをダイシングして半導体チップとした後、活性エネルギー線の照射によって前記粘着剤層を硬化させてから、前記半導体チップをその裏面に貼付された前記保護膜とともにピックアップすることによって、保護膜付き半導体チップを製造するために用いるものであり、前記粘着剤層は、少なくとも前記保護膜形成用フィルムと接触している層において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有し、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有するものである。
すなわち、本発明に係る保護膜形成用複合シートの1つの側面は、
基材と、粘着剤層と、保護膜形成用フィルムとを含む保護膜形成用複合シートであって、
前記粘着剤層は前記基材上に積層されており、前記保護膜形成用フィルムは前記粘着剤層上に積層されており;
前記粘着剤層は、
活性エネルギー線硬化性を有し、
少なくとも前記保護膜形成用フィルムと接触している層において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有し、
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する共重合体であり;
前記保護膜形成用フィルムは熱硬化性を有し;
前記保護膜形成用フィルムにより前記保護膜形成用複合シートを半導体ウエハの裏面に貼付すること、
前記貼付された保護膜形成用複合シートにおける前記保護膜形成用フィルムを加熱によって硬化させて保護膜を形成すること、
前記保護膜が形成された半導体ウエハをダイシングして半導体チップとすること、及び
活性エネルギー線の照射によって前記粘着剤層を硬化させてから、前記半導体チップの裏面に貼付された前記保護膜とともに、前記半導体チップをピックアップすること、を含む保護膜付き半導体チップ製造のための、
保護膜形成用複合シートである。なお、本明細書においては、基材及び粘着剤層の積層構造体を、「支持シート」と称することがある。また、前記保護膜形成用複合シートにおいて、前記保護膜形成用フィルムを加熱によって硬化させて保護膜とした複合シートや、前記粘着剤層を活性エネルギー線の照射によって硬化させた複合シートも、前記基材、粘着剤層又はその硬化物、及び保護膜の積層構造が維持されている限り、保護膜形成用複合シートと称する。
以下、本発明に係る保護膜形成用複合シートの各構成について、詳細に説明する。
基材の材質は、各種樹脂であることが好ましく、その具体的な例としては、ポリエチレン(低密度ポリエチレン(LDPEと略すことがある)、直鎖低密度ポリエチレン(LLDPEと略すことがある)、高密度ポリエチレン(HDPE等と略すことがある))、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニルフィル、塩化ビニル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリウレタンアクリレート、ポリイミド、エチレン・酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート、フッ素樹脂、これらのいずれかの樹脂の水添加物、変性物、架橋物又は共重合物等が挙げられる。
なお、本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、「アクリル酸」及び「メタクリル酸」の両方を包含する概念とする。
本明細書における「厚さ」は、JIS K 7130:1999(ISO 4593:1993)で規定される手法により求めることができる。
なお、基材が複数層からなる場合には、各層の合計の厚さが、上記の好ましい基材の厚さとなるようにするとよい。
前記粘着剤層は、活性エネルギー線硬化性を有し、少なくとも前記保護膜形成用フィルムと接触している層において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有する。ただし、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する。
「誘導される」とは、重合するために化学構造が変化することを意味する。
なお、本明細書において、「活性エネルギー線」とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するものを意味し、その例として、紫外線、電子線等が挙げられる。
紫外線は、例えば、紫外線源として高圧水銀ランプ、ヒュージョンHランプ又はキセノンランプ等を用いることで照射できる。電子線は、電子線加速器等によって発生させたものを照射できる。
次に、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有する前記粘着剤組成物、並びに前記粘着剤組成物及び粘着剤の含有成分について説明する。
((メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体)
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する。なお、本明細書において、単なる「(メタ)アクリル酸アルキルエステル」との記載は、特に断りのない限り、上記の「アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステル」を意味するものとする。
上記のなかでも、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸イソステアリルが好ましい。
換言すると、上述のアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位の含有量は、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を構成する全構成単位の総質量に対して、30質量%以上であることが好ましく、35質量%以上であることがより好ましい。
すなわち、上述のアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルの割合は、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体の調整に用いた全てのモノマーの総質量に対して、30質量%以上100質量%以下であればよく、30質量%以上95質量%以下であってもよく、30質量%以上90質量%以下であってもよく、30質量%以上85質量%以下であってもよい。
さらに別の側面として、上記含有量は、35質量%以上100質量%以下であってもよく、35質量%以上95質量%以下であってもよく、35質量%以上90質量%以下であってもよく、35質量%以上85質量%以下であってもよい。
さらに別の側面として、上記含有量は、40質量%以上80質量%以下であってもよい。
またさらに別の側面として、上述のアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位の含有量は、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を構成する全構成単位の総質量に対して、30質量%以上100質量%以下であればよく、30質量%以上95質量%以下であってもよく、30質量%以上90質量%以下であってもよく、30質量%以上85質量%以下であってもよい。
またさらに別の側面として、上記含有量は、35質量%以上100質量%以下であってもよく、35質量%以上95質量%以下であってもよく、35質量%以上90質量%以下であってもよく、35質量%以上85質量%以下であってもよい。
またさらに別の側面として、上記含有量は、40質量%以上80質量%以下であってもよい。
すなわち、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体の含有量は、粘着剤層の総質量に対して、75質量%以上100質量%以下であればよく、75質量%以上97質量%以下であることが好ましく、80質量%以上95質量%以下であることがより好ましい。
また別の側面として、前記粘着剤組成物中の(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体の含有量は、前記粘着剤組成物中の溶媒以外の全成分の総質量に対して、75質量%以上100質量%以下であればよく、75質量%以上97質量%以下であることが好ましく、80質量%以上95質量%以下であることがより好ましい。
前記イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基(−N=C=O)を有する架橋剤であれば特に限定されず、好ましいものとしては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート;2,6−トリレンジイソシアネート;1,3−キシリレンジイソシアネート;1,4−キシレンジイソシアネート;ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート;ジフェニルメタン−2,4’−ジイソシアネート;3−メチルジフェニルメタンジイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート;イソホロンジイソシアネート;ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート;ジシクロヘキシルメタン−2,4’−ジイソシアネート;トリメチロールプロパン等のポリオールのすべて若しくは一部の水酸基に、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート及びキシリレンジイソシアネートの少なくとも1種を付加した化合物;リジンジイソシアネート等が挙げられる。
前記光重合開始剤は、公知のものでよく、具体的には、例えば、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、α−ヒドロキシ−α,α’−ジメチルアセトフェノン、2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン等のα−ケトール系化合物;メトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)−フェニル]−2−モルホリノプロパン−1等のアセトフェノン系化合物;ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物;ベンジルジメチルケタール等のケタール系化合物;2−ナフタレンスルホニルクロリド等の芳香族スルホニルクロリド系化合物;1−フェノン−1,1−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム等の光活性オキシム系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;チオキサンソン、2−クロロチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、2,4−ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、2,4−ジクロロチオキサンソン、2,4−ジエチルチオキサンソン、2,4−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物;カンファーキノン;ハロゲン化ケトン;アシルホスフィノキシド;アシルホスフォナート等が挙げられる。
前記粘着剤組成物は、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体以外に、さらに溶媒を含有するものが好ましい。
前記溶媒は、特に限定されないが、好ましい溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の炭素数7〜9の炭化水素;メタノール、エタノール、2−プロパノール、イソブチルアルコール(2−メチルプロパン−1−オールともいう)、1−ブタノール等の炭素数1〜6のアルコール;酢酸エチル等のエステル;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン;テトラヒドロフラン等のエーテル;ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド(すなわち、アミド結合を有する化合物)等が挙げられる。
上記のなかでも、メチルエチルケトン、トルエン、酢酸エチルが好ましい。
前記粘着剤組成物が含有する溶媒は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。
前記粘着剤組成物は、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体以外に、本発明の効果を損なわない範囲内において、前記イソシアネート系架橋剤、光重合開始剤及び溶媒のいずれにも該当しないその他の成分を含有していてもよい。
前記その他の成分は公知のものでよく、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されないが、好ましいものとしては、例えば、染料、顔料、劣化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、シリコーン化合物、連鎖移動剤等の各種添加剤が挙げられる。
一方、前記粘着剤層が複数層からなる場合には、上述のように、これら複数層のうち、保護膜形成用フィルムと接触している層(すなわち、最上層)を、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有する層とすることで、本発明の効果が得られる。さらに、これら複数層のうち、前記基材と接触している層(すなわち、粘着剤層の厚さ方向において、基材に隣接している層、以下最下層ということがある)を、例えば、基材との密着性が特に高くなるような層とすることで、前記保護膜形成用複合シートは、使用時の安定性がより向上する。このように、前記粘着剤層を複数層からなる積層体とすることで、粘着剤層を全体として二以上の特性を有する層に調節できるという利点を有する。
前記保護膜形成用フィルムは、熱硬化性を有するものであり、感圧接着性を有していてもよいし、加熱して軟化させることで各種被着体に貼付可能であってもよい。保護膜形成用フィルムは、熱硬化を経て最終的には耐衝撃性が高い保護膜となり、この保護膜はせん断強度にも優れ、厳しい高温・高湿度条件下においても十分な接着特性を保持し得る。
好ましい保護膜形成用フィルムとしては、例えば、重合体成分(A)及び熱硬化性成分(B)を含有するものが挙げられる。重合体成分(A)は、重合性化合物が重合反応して形成されたとみなせる成分である。
また、熱硬化性成分(B)は、熱により硬化(重合)反応し得る成分である。なお、本発明において重合反応には、重縮合反応も含まれる。
保護膜形成用フィルムは、これを構成するための成分を含有する保護膜形成用組成物から形成できる。保護膜形成用組成物中の、常温で気化しない成分同士の含有量の比率は、通常、保護膜形成用フィルムの前記成分同士の含有量の比率と同じとなる。
好ましい保護膜形成用組成物としては、例えば、重合体成分(A)及び熱硬化性成分(B)を含有するものが挙げられ、重合体成分(A)、熱硬化性成分(B)及び硬化促進剤(C)を含有するものがより好ましい。 次に、前記保護膜形成用組成物及び保護膜形成用フィルムの含有成分について説明する。
重合体成分(A)は、保護膜形成用フィルムに造膜性や、可撓性等を付与するための重合体化合物である。重合体成分(A)は、熱硬化性成分(B)にも該当する場合がある。
例えば、フェノキシ樹脂や、側鎖にエポキシ基を有するアクリル系樹脂等は、重合体成分(A)に該当し、かつ熱硬化性成分(B)にも該当することがある。このような成分は、重合体成分(A)として取り扱う。
重合体成分(A)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
アクリル系樹脂の重量平均分子量(Mw)は、10000〜2000000であることが好ましく、100000〜1500000であることがより好ましい。アクリル系樹脂の重量平均分子量が前記下限値以上であることで、後述する保護膜と、硬化後の前記粘着剤層との接着力が抑制されて、保護膜付き半導体チップのピックアップ性がより向上する。
また、アクリル系樹脂の重量平均分子量が前記上限値以下であることで、被着体の凹凸面へ保護膜形成用フィルムが追従し易くなり、被着体と保護膜形成用フィルムとの間でボイド等の発生がより抑制される。
なお、本明細書において、「重量平均分子量」とは、特に断りのない限り、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)法により測定されるポリスチレン換算値である。
(メタ)アクリル酸シクロアルキル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、(メタ)アクリル酸イミド等の環状骨格を有する(メタ)アクリル酸エステル;
(メタ)アクリル酸ヒドロキシメチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル等の水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル;
(メタ)アクリル酸グリシジル等のグリシジル基含有(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。
また、アクリル系樹脂は、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン、N−メチロールアクリルアミド等のモノマーが共重合されたものでもよい。
アクリル系樹脂を構成するモノマーは、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。
このように、保護膜形成用フィルムが、重合体成分(A)としてアクリル系樹脂を含有する場合、保護膜形成用フィルムのアクリル系樹脂の含有量は、保護膜形成用フィルムの総質量に対して、5〜50質量%であることが好ましい。
熱硬化性成分(B)は、保護膜形成用フィルムを硬化させて、硬質の保護膜を形成するための成分である。熱硬化性成分(B)は、重合体成分(A)にも該当する場合があるが、このような成分は重合体成分(A)として取り扱う。
熱硬化性成分(B)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
エポキシ系熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂(B11)及び熱硬化剤(B12)からなる。
エポキシ系熱硬化性樹脂は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
不飽和炭化水素基を有するエポキシ樹脂としては、例えば、多官能系エポキシ樹脂のエポキシ基の一部が不飽和炭化水素基を含む基に変換されてなる化合物が挙げられる。
ここでいう「数平均分子量」は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により測定したポリスチレン換算の値である。
エポキシ樹脂(B11)のエポキシ当量は、100〜1100g/eqであることが好ましく、150〜1000g/eqであることがより好ましい。
熱硬化剤(B12)としては、例えば、1分子中にエポキシ基と反応し得る官能基を2個以上有する化合物が挙げられる。前記官能基としては、例えば、フェノール性水酸基、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシ基、酸基が無水物化された基等が挙げられ、フェノール性水酸基、アミノ基、又は酸基が無水物化された基であることが好ましく、フェノール性水酸基又はアミノ基であることがより好ましく、アミノ基であることが特に好ましい。
熱硬化剤(B12)のうち、アミノ基を有するアミン系硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミド(以下、「DICY」と略記することがある)等が挙げられる。
不飽和炭化水素基を有する熱硬化剤(B12)としては、例えば、フェノール樹脂の水酸基の一部が、不飽和炭化水素基を有する基で置換されてなる化合物、フェノール樹脂の芳香環に、不飽和炭化水素基を有する基が直接結合してなる化合物等が挙げられる。
熱硬化剤(B12)における前記不飽和炭化水素基は、上述の不飽和炭化水素基を有するエポキシ樹脂における不飽和炭化水素基と同様のものである。
前記固体分散型潜在性硬化剤は、常温では保護膜形成用フィルムにおいて、エポキシ樹脂(B11)中に安定して分散しているが、加熱によってエポキシ樹脂(B11)と相溶し、エポキシ樹脂(B11)と反応する。前記固体分散型潜在性硬化剤を用いることで、前記保護膜形成用複合シートの保存安定性が顕著に向上する。例えば、保護膜形成用フィルムから隣接する前記粘着剤層へのこの硬化剤の移動が抑制され、保護膜形成用フィルムの熱硬化性の低下が効果的に抑制される。そして、保護膜形成用フィルムの加熱による熱硬化度がより高くなるため、後述する保護膜付き半導体チップのピックアップ性がより向上する。
また、熱硬化剤(B12)の前記含有量が前記上限値以下であることで、保護膜形成用フィルムの吸湿率が低減されて、パッケージ信頼性がより向上する。
硬化促進剤(C)は、保護膜形成用組成物の硬化速度を調整するための成分である。
好ましい硬化促進剤(C)としては、例えば、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の第3級アミン;2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール類(すなわち、少なくとも1個の水素原子が水素原子以外の基で置換されたイミダゾール);トリブチルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン等の有機ホスフィン類(少なくとも1個の水素原子が有機基で置換されたホスフィン);テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩等が挙げられる。
上記のなかでも、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾールが好ましい。
すなわち、保護膜形成用フィルムの1つの側面は、重合体成分(A)と、エポキシ樹脂(B11)と、熱硬化剤(B12)として前記固体分散型潜在性硬化剤と、硬化促進剤(C)としてイミダゾール類と、を含む。
保護膜形成用組成物及び保護膜形成用フィルムが含有する前記他の成分としては、例えば、充填材(D)、カップリング剤(E)、架橋剤(F)、汎用添加剤(G)等が挙げられる。
保護膜形成用組成物は、通常、充填材(D)を含有することにより、熱膨張係数の調整が容易となる。したがって、このような保護膜形成用組成物を用いて、硬化後の保護膜の熱膨張係数を半導体チップに対して最適化することで、パッケージ信頼性を向上させることができる。
また、通常、充填材(D)を含有する保護膜形成用組成物を用いることにより、硬化後の保護膜の吸湿率を低減することもできる。
好ましい無機充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、タルク、炭酸カルシウム、チタンホワイト、ベンガラ、炭化珪素、窒化ホウ素等の粉末;これらシリカ等を球形化したビーズ;これらシリカ等の単結晶繊維;ガラス繊維等が挙げられる。
これらの中でも、無機充填材は、シリカフィラー又はアルミナフィラーであることが好ましい。
カップリング剤(E)として、無機化合物又は有機化合物と反応する官能基を有するものを用いることにより、保護膜形成用フィルムの被着体に対する接着性及び密着性を向上させることができる。また、カップリング剤(E)を含有することで、保護膜形成用フィルムを硬化して得られた保護膜は、耐熱性を損なうことなく、耐水性が向上する。
好ましい前記シランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−6−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−6−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、イミダゾールシラン等が挙げられる。
重合体成分(A)として、他の化合物と結合可能な、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アミノ基、水酸基、カルボキシ基、イソシアネート基等の官能基を有する、上述のアクリル系樹脂を用いる場合、この官能基を他の化合物と結合させて架橋するために、架橋剤(F)を用いることができる。架橋剤(F)を用いて架橋することにより、保護膜形成用フィルムの初期接着力及び凝集力を調節できる。
汎用添加剤(G)としては、例えば、公知の可塑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、顔料、染料、ゲッタリング剤等が挙げられる。
保護膜形成用組成物は、希釈によってその取り扱い性が向上することから、さらに溶媒を含有するものが好ましい。
保護膜形成用組成物が含有する溶媒は、上述の粘着剤組成物における溶媒と同様のものでよい。
保護膜形成用組成物が含有する溶媒は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。
保護膜形成用組成物が溶媒を含有する場合の溶媒の含有量は、前記保護膜形成用組成物の総質量に対して、前記保護膜形成用組成物の固形分濃度が35〜75質量%となる量であることが好ましい。
保護膜形成用フィルムの別の側面は、重合体成分(A)と、熱硬化性成分(B)と、硬化促進剤(C)と、所望により、充填材(D)、カップリング剤(E)、架橋剤(F)及び汎用添加剤(G)からなる群から選択される少なくとも1つと、を含む。
さらに、前記熱硬化性成分(B)は、エポキシ樹脂(B11)と、熱硬化剤(B12)として前記固体分散型潜在性硬化剤とを含み、かつ前記硬化促進剤(C)はイミダゾール類を含むことが好ましい。
溶媒を用いる場合には、溶媒を溶媒以外のいずれかの配合成分と混合してこの配合成分を予め希釈しておくことで用いてもよいし、溶媒以外のいずれかの配合成分を予め希釈しておくことなく、溶媒をこれら配合成分と混合することで用いてもよい。
ここに示す保護膜形成用複合シート1は、基材11上に粘着剤層12を備え、粘着剤層12上に保護膜形成用フィルム13を備えてなるものであり、支持シート10の粘着剤層12上に、保護膜形成用フィルム13を備えた構成を有する。また、保護膜形成用複合シート1は、さらに保護膜形成用フィルム13上に剥離フィルム14を備えている。保護膜形成用フィルム13と接触している粘着剤層12は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有する層である。
なお、剥離フィルム14と、粘着剤層12の表面12a又は保護膜形成用フィルム13の表面13aと、の間には、空隙部が存在していてもよい。例えば、保護膜形成用フィルム13の表面13aのうち、符号130aで示す領域(粘着剤層12側の領域)と、粘着剤層12の表面12aのうち、符号120aで示す領域(保護膜形成用フィルム13側の領域)とは、剥離フィルム14との間で前記空隙部が生じ易い。すなわち、保護膜形成用フィルム13と、粘着剤層12との境界近傍でかつ剥離フィルム14と接する領域においては、空隙部が生じ易い。
ここに示す保護膜形成用複合シート2は、粘着剤層12の表面12aの全面に保護膜形成用フィルム23が積層され、保護膜形成用フィルム23の表面23aの一部に治具用接着剤層15が積層され、保護膜形成用フィルム23の表面23aのうち、治具用接着剤層15が積層されていない露出面と、治具用接着剤層15の表面15a(上面及び側面)の上に、剥離フィルム14が積層されている点以外は、図1に示す保護膜形成用複合シート1と同じものである。保護膜形成用フィルム23と接触している粘着剤層12は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有するものである。
すなわち、本発明に係る保護膜形成用複合シートの1つの側面は、
基材と、粘着剤層と、保護膜形成用フィルムと、治具用接着剤層と、剥離フィルムと、を含み、
前記粘着剤層は前記基材上に積層されており、
前記粘着剤層の表面全面に前記保護膜形成用フィルムが積層されており、
前記保護膜形成用フィルムの表面の一部に前記治具用接着剤層が積層されており、
前記保護膜形成用フィルムの表面のうち、前記治具用接着剤層が積層されていない露出面と、前記治具用接着剤層の上面及び側面上に、前記剥離フィルムが積層されており、
前記保護膜形成用フィルムと接触している前記粘着剤層は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上18以下の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有する、
保護膜形成用複合シートである。
すなわち、治具用接着剤層15と保護膜形成用フィルム23との境界近傍で、かつ剥離フィルム14と接する領域においては、空隙部が生じ易い、
ここに示す保護膜形成用複合シート3は、粘着剤層12に代えて、基材11側から第1粘着剤層321及び第2粘着剤層322がこの順に積層されてなる2層構造の粘着剤層32を備えている点以外は、図1に示す保護膜形成用複合シート1と同じものである。
保護膜形成用複合シート3を上方から見下ろして平面視したときに、第2粘着剤層322は、保護膜形成用フィルム13と面積が同じであり、保護膜形成用フィルム13とは周縁部が重なるように配置されている。保護膜形成用フィルム13は、粘着剤層32における基材側とは反対側の表面32a(すなわち、第2粘着剤層322の表面322a)上に設けられている。そして、第1粘着剤層321は、基材11の表面11aの全面を被覆する様に設けられており、上記のように平面視したときに、第1粘着剤層321は第2粘着剤層322よりも面積が大きい。
すなわち、本発明に係る保護膜形成用複合シートの1つの側面は、
基材と、第1の粘着剤層と、第2の粘着剤層と、保護膜形成用フィルムと、治具用接着剤層と、剥離フィルムと、を含み、
前記第1の粘着剤層は、前記基材上に、前記基材上面を被覆する様に設けられており、
前記第2の粘着剤層は前記第1の粘着剤層上に設けられており、
前記保護膜形成用フィルムは、前記第2の粘着剤層上に、前記第2の粘着剤層と周縁部が重なるように設けられており、
前記剥離フィルムは、前記保護膜形成用フィルムの上面及び側面と、前記第2の粘着剤層の側面と、前記第1の粘着剤層における前記第2の粘着剤層が積層されていない面上に積層されており、
上方から見下ろして平面視したときに、
前記第2粘着剤層は、前記保護膜形成用フィルムと面積が同じであり、
前記第1粘着剤層は前記第2粘着剤層よりも面積が大きく、
前記第2粘着剤層は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上18以下の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有する、
保護膜形成用複合シートである。
ここに示す保護膜形成用複合シート4は、粘着剤層12に代えて、基材11側から第1粘着剤層421及び第2粘着剤層422がこの順に積層されてなる2層構造の粘着剤層42を備えている点以外は、図2に示す保護膜形成用複合シート2と同じものである。
保護膜形成用複合シート4を上方から見下ろして平面視したときに、第1粘着剤層421及び第2粘着剤層422は、いずれも保護膜形成用フィルム23と面積が同じである。
保護膜形成用フィルム23は、粘着剤層42の表面42a(すなわち、第2粘着剤層422の表面422a)上に設けられている。
すなわち、本発明に係る保護膜形成用複合シートの1つの側面は、
基材と、第1の粘着剤層と、第2の粘着剤層と、保護膜形成用フィルムと、治具用接着剤層と、剥離フィルムと、を含み、
前記第1の粘着剤層は前記基材上に積層されており、
前記第2の粘着剤層は前記第1の粘着剤層上に積層されており、
前記第2の粘着剤層上に前記保護膜形成用フィルムが積層されており、
前記保護膜形成用フィルムの表面の一部に前記治具用接着剤層が積層されており、
前記保護膜形成用フィルムの表面のうち、前記治具用接着剤層が積層されていない露出面と、前記治具用接着剤層の上面及び側面上に、前記剥離フィルムが積層されており、
上方から見下ろして平面視したときに、
前記第1粘着剤層、前記第2粘着剤層422、及び前記保護膜形成用フィルム23は面積が同じであり、
前記保護膜形成用フィルムと接触している前記第2の粘着剤層は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上18以下の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有する、
保護膜形成用複合シートである。
例えば、図3に示す保護膜形成用複合シート3においては、これを上方から見下ろして平面視したときに、第2粘着剤層322は、保護膜形成用フィルム13と面積が同じであり、第1粘着剤層321よりも面積が小さくなっているが、第2粘着剤層322は、保護膜形成用フィルム13と面積が同じでなくてもよく、例えば、保護膜形成用フィルム13よりも面積が大きくてもよく、この場合、第2粘着剤層322は第1粘着剤層321と面積が同じであってもよい。
本発明に係る保護膜形成用複合シートは、例えば、基材上に前記粘着剤組成物から粘着剤層を形成し、前記粘着剤層上に前記保護膜形成用組成物から保護膜形成用フィルムを形成することで製造できる。
この場合の粘着剤層及び保護膜形成用フィルムの形成条件は、上述の方法と同じである。
本発明に係る保護膜形成用複合シートの使用方法は、以下に示すとおりである。
すなわち、まず、保護膜形成用複合シートの保護膜形成用フィルムに半導体ウエハの裏面を貼付するとともに、保護膜形成用複合シートをダイシング装置に固定する。
次いで、保護膜形成用フィルムを加熱(例えば、130℃で2時間加熱)によって硬化させて保護膜とする。半導体ウエハの表面(電極形成面)にバックグラインドテープが貼付されている場合には、通常、このバックグラインドテープを半導体ウエハから取り除いてから、保護膜を形成する。
これに対して、例えば、先に説明した文献「特開2011−228450号公報」(特許文献1)に記載の従来の保護膜形成用複合シートの場合、半導体チップのピックアップを行うときには、保護膜形成用フィルムは未硬化又は部分硬化された状態にとどまっており、半導体チップをボンディングして封止材でキュアするときに同時に、この未硬化又は部分硬化の保護膜形成用フィルムが完全に又はほぼ完全に硬化される。すなわち、この従来の保護膜形成用複合シートを用いた場合、半導体ウエハのダイシング及び半導体チップのピックアップを行う段階において、これらウエハ及びチップの裏面に貼付されているフィルム(膜)は、本発明におけるものとは特性が全く相違する。そして、この文献には、保護膜形成用フィルムの硬化をダイシングの前に行う場合に適した、粘着剤層及び保護膜形成用フィルムの組成については、何ら開示されていない。
基材と、粘着剤層と、保護膜形成用フィルムとを含む保護膜形成用複合シートであって、
前記粘着剤層は前記基材上に積層されており、前記保護膜形成用フィルムは前記粘着剤層上に積層されており;
前記粘着剤層は、
活性エネルギー線硬化性を有し、
少なくとも前記保護膜形成用フィルムと接触している層において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有し、
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上18以下の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する共重合体であり;
前記保護膜形成用フィルムは熱硬化性を有し;
前記保護膜形成用複合シートを25mm×150mmの大きさに切断した後、シリコンウエハに70℃で貼付し、次いで、前記保護膜形成用複合シートを130℃で2時間加熱して、前記保護膜形成用フィルムを硬化させて保護膜を形成させたとき、剥離角度180°、測定温度23℃、引張速度300mm/分の条件下での硬化前の前記粘着剤層と前記保護膜との剥離力(粘着剤層硬化前剥離力)が、2000mN/25mm以上であり、好ましくは2300mN/25mm以上、6300mN/25mm以下である、保護膜形成用複合シートである。
さらに、前記保護膜形成用複合シートは、照度220mW/cm2、光量190mJ/cm2の条件で、前記保護膜形成用複合シートに紫外線を照射して、前記粘着剤層を硬化させたとき、剥離角度180°、測定温度23℃、引張速度300mm/分の条件下での、硬化後の前記粘着剤層と前記保護膜との剥離力(粘着剤層硬化後剥離力)が、2000mN/25mm以下であり、好ましくは500mN/25mm以上、1500mN/25mm以下であってもよい。
基材と、粘着剤層と、保護膜形成用フィルムとを含む保護膜形成用複合シートであって、
前記粘着剤層は前記基材上に積層されており、前記保護膜形成用フィルムは前記粘着剤層上に積層されており;
前記粘着剤層は、
活性エネルギー線硬化性を有し、
少なくとも前記保護膜形成用フィルムと接触している層が、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体と、イソシアネート系架橋剤と、光重合開始剤と、溶媒と、所望によりその他の成分と、を含む(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有し、
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上18以下の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する共重合体であり、好ましくはアクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル及びアクリル酸イソステアリルからなる群から選択される少なくとも1つであり;
前記アルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位の含有量は、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を構成する全構成単位の総質量に対して、30質量%以上100質量%以下であり、好ましくは、35〜85質量%以下であり、より好ましくは40〜80質量%以下であり;
前記保護膜形成用フィルムは熱硬化性を有し;かつ
重合体成分(A)、
好ましくはアクリル系樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、アクリルウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系ポリマー、及びフェノキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1つ、
より好ましくはアクリル系重合体と;
熱硬化性成分(B)、
好ましくはエポキシ樹脂(B11)及び熱硬化剤(B12)、
より好ましくは、多官能系エポキシ樹脂、ビフェニル化合物、ビスフェノールAジグリシジルエーテル及びその水添物、オルソクレゾールノボラックエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェニレン骨格型エポキシ樹脂、及び2官能以上のエポキシ化合物からなる群から選択される少なくとも1つと、オニウム塩、二塩基酸ヒドラジド、ジシアンジアミド、及び硬化剤のアミン付加物からなる群から選択される少なくとも1つ、
さらにより好ましくは、ビスフェノールA型エポキシ樹脂及びジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1つと、ジシアンジアミドと;
硬化促進剤(C)、好ましくは2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾールと;
所望により、溶媒、充填材(D)、カップリング剤(E)、架橋剤(F)及び汎用添加剤(G)からなる群から選択される少なくとも1つと、
を含み;
前記保護膜形成用複合シートを25mm×150mmの大きさに切断した後、シリコンウエハに70℃で貼付し、次いで、前記保護膜形成用複合シートを130℃で2時間加熱して、前記保護膜形成用フィルムを硬化させて保護膜を形成させたとき、剥離角度180°、測定温度23℃、引張速度300mm/分の条件下での硬化前の前記粘着剤層と前記保護膜との剥離力(粘着剤層硬化前剥離力)が、2000mN/25mm以上であり、好ましくは2300mN/25mm以上、6300mN/25mm以下である、保護膜形成用複合シートである。
さらに、前記保護膜形成用複合シートは、照度220mW/cm2、光量190mJ/cm2の条件で、前記保護膜形成用複合シートに紫外線を照射して、前記粘着剤層を硬化させたとき、剥離角度180°、測定温度23℃、引張速度300mm/分の条件下での、硬化後の前記粘着剤層と前記保護膜との剥離力(粘着剤層硬化後剥離力)が、2000mN/25mm以下であり、好ましくは500mN/25mm以上、1500mN/25mm以下であってもよい。
保護膜付き半導体チップ製造のための、保護膜形成用複合シートの使用であって
前記保護膜形成用複合シートは、基材と、粘着剤層と、保護膜形成用フィルムとを含み、
前記粘着剤層は前記基材上に積層されており、前記保護膜形成用フィルムは前記粘着剤層上に積層されており;
前記粘着剤層は、
活性エネルギー線硬化性を有し、
少なくとも前記保護膜形成用フィルムと接触している層において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有し、
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上18以下の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する共重合体であり;
前記保護膜形成用フィルムは熱硬化性を有し;
前記保護膜形成用複合シートを25mm×150mmの大きさに切断した後、シリコンウエハに70℃で貼付し、次いで、前記保護膜形成用複合シートを130℃で2時間加熱して、前記保護膜形成用フィルムを硬化させて保護膜を形成させたとき、剥離角度180°、測定温度23℃、引張速度300mm/分の条件下での硬化前の前記粘着剤層と前記保護膜との剥離力(粘着剤層硬化前剥離力)が、2000mN/25mm以上であり、好ましくは2300mN/25mm以上、6300mN/25mm以下である、
前記保護膜形成用複合シートの使用である。
さらに、前記保護膜形成用複合シートは、照度220mW/cm2、光量190mJ/cm2の条件で、前記保護膜形成用複合シートに紫外線を照射して、前記粘着剤層を硬化させたとき、剥離角度180°、測定温度23℃、引張速度300mm/分の条件下での、硬化後の前記粘着剤層と前記保護膜との剥離力(粘着剤層硬化後剥離力)が、2000mN/25mm以下であり、好ましくは500mN/25mm以上、1500mN/25mm以下であってもよい。
前記製造方法は、
保護膜形成用フィルムにより保護膜形成用複合シートを半導体ウエハの裏面に貼付すること、
前記貼付された保護膜形成用複合シートにおける前記保護膜形成用フィルムを加熱によって硬化させて保護膜を形成すること、
前記保護膜が形成された半導体ウエハをダイシングして半導体チップとすること、及び
活性エネルギー線の照射によって前記保護膜形成用複合シートにおける粘着剤層を硬化させてから、前記半導体チップの裏面に貼付された前記保護膜とともに、前記半導体チップをピックアップすること、を含み;
前記保護膜形成用複合シートは、基材と、前記粘着剤層と、前記保護膜形成用フィルムとを含み、前記粘着剤層は前記基材上に積層されており、前記保護膜形成用フィルムは前記粘着剤層上に積層されており;
前記粘着剤層は、
活性エネルギー線硬化性を有し、
少なくとも前記保護膜形成用フィルムと接触している層において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有し、
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上18以下の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有する共重合体であり;
前記保護膜形成用フィルムは熱硬化性を有する、
保護膜付き半導体チップの製造方法である。
<保護膜形成用複合シートの製造>
図1に示す構成の保護膜形成用複合シートを製造した。より具体的には、以下のとおりである。
基材であるポリプロピレンフィルム(厚さ80μm、三菱樹脂社製)の一方の表面上に、粘着剤組成物を塗布し、乾燥させて、紫外線硬化型の粘着剤層(厚さ10μm)を形成して、支持シートを得た。前記粘着剤組成物は、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体100質量部(固形分)、3官能キシリレンジイソシアネート系架橋剤(三井武田ケミカル社製「タケネートD110N」)6.6質量部(固形分)、及び光重合開始剤(BASF社製「イルガキュア127」)3.0質量部(固形分)を含有し、メチルエチルケトン、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて、固形分濃度を30質量%に調節したものである。また、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、アクリル酸2−エチルヘキシル(以下、「2EHA」と略記することがある)80質量部と、アクリル酸2−ヒドロキシルエチル(以下、「HEA」と略記することがある)20質量部とを共重合させて得られたプレ共重合体に、さらに2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(メタクリル酸2−イソシアナトエチル、以下、「MOI」と略記することがある)21.4質量部(HEA中の水酸基の総モル数に対して、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート中のイソシアネート基の総モル数が0.8倍となる量)を反応させて得られた、重量平均分子量1100000の紫外線硬化型アクリル系共重合体である。(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体製造時のモノマー成分の配合量を表1に示す。なお、表1中、モノマー成分の欄の「−」との記載は、そのモノマー成分が未配合であることを意味する。
ポリエチレンテレフタレート製フィルムの片面がシリコーン処理により剥離処理された剥離フィルム(リンテック社製「SP−PET381031」、厚さ38μm)の前記剥離処理面に、保護膜形成用組成物を塗布し、乾燥させて、保護膜形成用フィルム(厚さ25μm)を形成した。前記保護膜形成用組成物は、下記の各成分を表2に示す量(固形分)で配合し、メチルエチルケトン、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて、固形分濃度を55質量%に調節したものである。
次いで、この保護膜形成用フィルムを、上記で得られた支持シートの粘着剤層の表面上に貼り合わせることで、保護膜形成用フィルムの粘着剤層が設けられた側とは反対側の表面に前記剥離フィルムを備えた保護膜形成用複合シートを得た。
(A)−1:アクリル酸メチル85質量部、及びアクリル酸2−ヒドロキシエチル15質量部を共重合してなるアクリル系重合体(重量平均分子量370000、ガラス転移温度6℃)
(熱硬化性成分(B))
・エポキシ樹脂(B11)
(B11)−1:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製「jER828」、エポキシ当量184〜194g/eq)
(B11)−2:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製「jER1055」、エポキシ当量800〜900g/eq)
(B11)−3:ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC社製「エピクロンHP−7200HH」、エポキシ当量255〜260g/eq)
・熱硬化剤(B12)
(B12)−1:ジシアンジアミド(固体分散型潜在性硬化剤、ADEKA社製「アデカハードナーEH−3636AS」、活性水素量21g/eq)
(硬化促進剤(C))
(C)−1:2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール(四国化成工業社製「キュアゾール2PHZ」)
(充填材(D))
(D)−1:シリカフィラー(アドマテックス社「SC2050MA」、平均粒子径0.5μm)
(カップリング剤(E))
(E)−1:シランカップリング剤(日本ユニー社製「A−1110」)
(汎用添加剤(G))
(G)−1:カーボンブラック(着色剤、三菱化学社製「#MA650」、平均粒径28nm)
[ダイシング時のチップ飛びの抑制]
上記で得られた保護膜形成用複合シートから剥離フィルムを除去した後、露出した保護膜形成用フィルムを、シリコンウエハ(直径6インチ、厚さ100μm)のドライポリッシュ研削面に70℃で貼付するとともに、露出した粘着剤層をリングフレームに貼付して、30分間静置した。
次いで、保護膜形成用複合シートを130℃で2時加熱して、保護膜形成用フィルムを硬化させて保護膜を形成した。
次いで、ダイシング装置を用いて、5mm×5mmの大きさにシリコンウエハをダイシングして、チップを得た。このとき、チップ飛びの有無を目視で確認し、チップ飛びが1個もなかった場合を「A」とし、チップ飛びが1個以上あった場合を「B」とした。結果を表3に示す。
上記で得られた保護膜形成用複合シートから剥離フィルムを除去した後、露出した保護膜形成用フィルムを、シリコンウエハ(直径6インチ、厚さ100μm)のドライポリッシュ研削面に70℃で貼付するとともに、露出した粘着剤層をリングフレームに貼付して、30分間静置した。
次いで、保護膜形成用複合シートを130℃で2時間加熱して、保護膜形成用フィルムを硬化させて保護膜を形成した。
次いで、ダイシング装置を用いて、5mm×5mmの大きさにシリコンウエハをダイシングして、チップを得た。そして、紫外線照射装置(リンテック社製「RAD2000m/8」)を用いて、照度220mW/cm2、光量190mJ/cm2の条件で、基材側から保護膜形成用複合シートに、高圧水銀灯を光源とする紫外線を照射して、粘着剤層を硬化させた。
次いで、ダイボンダー(キャノンマシナリー社製「BESTEM−D02」)を用いて、20個のチップをピックアップし、割れ又は欠けが生じたチップが1個もなかった場合を「A」とし、割れ又は欠けが生じたチップが1個以上あった場合を「B」とした。結果を表3に示す。
上記で得られた保護膜形成用複合シートを25mm×150mmの大きさに切断した後、剥離フィルムを除去して、露出した保護膜形成用フィルムを、ラミネーター(Fuji社製「LAMIPACKERLPD3214」)を用いて、シリコンウエハ(直径6インチ、厚さ500μm)のドライポリッシュ研削面に70℃で貼付した。
次いで、保護膜形成用複合シートを130℃で2時間加熱して、保護膜形成用フィルムを硬化させて保護膜を形成し、試験片(1)を作製した。
この試験片(1)について、精密万能試験機(島津製作所製「オートグラフAG−IS)を用いて、剥離角度180°、測定温度23℃、引張速度300mm/分の条件で、支持シート(硬化前の粘着剤層と基材との積層体)を保護膜から剥がす引っ張り試験を行い、このときの荷重を測定して、硬化前の粘着剤層と保護膜との剥離力(硬化前粘着剤層剥離力)とした。なお、前記荷重の測定値としては、支持シートを長さ100mmに渡って剥がしたときの測定値のうち、最初に長さ10mm分だけ剥がしたときと、最後に長さ10mm分だけ剥がしたときの、それぞれの測定値を有効値から除外したものを採用した。
結果を表3に示す。表3中の「剥離力(mN/25mm)」の欄における「粘着剤層硬化前」の数値が該当する結果である。
上記のものと同じ試験片(1)を作製した。
次いで、紫外線照射装置(リンテック社製「RAD2000m/8」)を用いて、照度220mW/cm2、光量190mJ/cm2の条件で、基材側から保護膜形成用複合シートに、高圧水銀灯を光源とする紫外線を照射して、粘着剤層を硬化させて、試験片(2)を作製した。
この試験片(2)について、上記の試験片(1)の場合と同じ方法で、支持シート(硬化後の粘着剤層と基材との積層体)を保護膜から剥がす引っ張り試験を行い、硬化後の粘着剤層と保護膜との剥離力(硬化後粘着剤層剥離力)とした。結果を表3に示す。表3中の「剥離力(mN/25mm)」の欄における「粘着剤層硬化後」の数値が該当する結果である。
[実施例2]
粘着剤層の形成時において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体として、上述の重量平均分子量1100000のものに代えて、表1に示すように、2EHA40質量部と、酢酸ビニル(以下、「VAc」と略記することがある)40質量部と、HEA20質量部とを共重合させて得られたプレ共重合体に、さらにMOI21.4質量部(HEA中の水酸基の総モル数に対して、MOI中のイソシアネート基の総モル数が0.8倍となる量)を反応させて得られた、重量平均分子量500000の紫外線硬化型アクリル系共重合体を用いた点以外は、実施例1と同じ方法で、保護膜形成用複合シートを製造及び評価した。結果を表3に示す。
粘着剤層の形成時において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体として、上述の重量平均分子量1100000のものに代えて、表1に示すように、メタクリル酸ラウリル(以下、「LMA」と略記することがある)80質量部と、HEA20質量部とを共重合させて得られたプレ共重合体に、さらにMOI21.4質量部(HEA中の水酸基の総モル数に対して、MOI中のイソシアネート基の総モル数が0.8倍となる量)を反応させて得られた、重量平均分子量600000の紫外線硬化型アクリル系共重合体を用いた点以外は、実施例1と同じ方法で、保護膜形成用複合シートを製造及び評価した。結果を表3に示す。
粘着剤層の形成時において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体として、上述の重量平均分子量1100000のものに代えて、表1に示すように、アクリル酸イソステアリル(以下、「ISTA」と略記することがある)80質量部と、HEA20質量部とを共重合させて得られたプレ共重合体に、さらにMOI21.4質量部(HEA中の水酸基の総モル数に対して、MOI中のイソシアネート基の総モル数が0.8倍となる量)を反応させて得られた、重量平均分子量600000の紫外線硬化型アクリル系共重合体を用いた点以外は、実施例1と同じ方法で、保護膜形成用複合シートを製造及び評価した。結果を表3に示す。
粘着剤層の形成時において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体として、上述の重量平均分子量1100000のものに代えて、表1に示すように、アクリル酸ブチル(以下、「BA」と略記することがある)40質量部と、VAc40質量部と、HEA20質量部とを共重合させて得られたプレ共重合体に、さらにMOI21.4質量部(HEA中の水酸基の総モル数に対して、MOI中のイソシアネート基の総モル数が0.8倍となる量)を反応させて得られた、重量平均分子量600000の紫外線硬化型アクリル系共重合体を用いた点以外は、実施例1と同じ方法で、保護膜形成用複合シートを製造及び評価した。結果を表3に示す。
粘着剤層の形成時において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体として、上述の重量平均分子量1100000のものに代えて、表1に示すように、BA40質量部と、メタクリル酸メチル(以下、「MMA」と略記することがある)40質量部と、HEA20質量部とを共重合させて得られたプレ共重合体に、さらにMOI21.4質量部(HEA中の水酸基の総モル数に対して、MOI中のイソシアネート基の総モル数が0.8倍となる量)を反応させて得られた、重量平均分子量600000の紫外線硬化型アクリル系共重合体を用いた点以外は、実施例1と同じ方法で、保護膜形成用複合シートを製造及び評価した。結果を表3に示す。
粘着剤層の硬化前後における剥離力の比([粘着剤層硬化前剥離力]/[粘着剤層硬化後剥離力])は、実施例1は4.6、実施例2は4.2、実施例3は14.3、実施例4は1.8となっており、実施例1〜3で特に大きくなっており、なかでも実施例3は際立って大きく、前記アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が12とその近傍の値である場合に、本発明の効果が特に高くなることが示唆された。
Claims (3)
- 基材上に粘着剤層を備え、前記粘着剤層上に保護膜形成用フィルムを備えてなり、前記粘着剤層は活性エネルギー線硬化性を有し、前記保護膜形成用フィルムは熱硬化性を有する保護膜形成用複合シートであって、
前記保護膜形成用複合シートは、これを前記保護膜形成用フィルムにより半導体ウエハの裏面に貼付した後、前記保護膜形成用フィルムを加熱によって硬化させて保護膜とし、次いで、前記半導体ウエハをダイシングして半導体チップとした後、活性エネルギー線の照射によって前記粘着剤層を硬化させてから、前記半導体チップをその裏面に貼付された前記保護膜とともにピックアップすることによって、保護膜付き半導体チップを製造するために用いるものであり、
前記粘着剤層は、少なくとも前記保護膜形成用フィルムと接触している層において、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含有し、
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が8以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位を有し、
前記粘着剤層が、光重合開始剤として、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン」を含有する、保護膜形成用複合シート。 - 前記保護膜形成用フィルムが、エポキシ樹脂と、加熱によって溶解し、かつ前記エポキシ樹脂に対して硬化活性を示す熱硬化剤と、イミダゾール類と、を含有する、請求項1に記載の保護膜形成用複合シート。
- 前記アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素数が11〜18である、請求項1又は2に記載の保護膜形成用複合シート。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015114714 | 2015-06-05 | ||
JP2015114714 | 2015-06-05 | ||
JP2017522277A JP6630956B2 (ja) | 2015-06-05 | 2016-06-03 | 保護膜形成用複合シート及び保護膜付き半導体チップの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017522277A Division JP6630956B2 (ja) | 2015-06-05 | 2016-06-03 | 保護膜形成用複合シート及び保護膜付き半導体チップの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020017758A true JP2020017758A (ja) | 2020-01-30 |
JP6924243B2 JP6924243B2 (ja) | 2021-08-25 |
Family
ID=57441268
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017522277A Active JP6630956B2 (ja) | 2015-06-05 | 2016-06-03 | 保護膜形成用複合シート及び保護膜付き半導体チップの製造方法 |
JP2019191282A Active JP6924243B2 (ja) | 2015-06-05 | 2019-10-18 | 保護膜形成用複合シート |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017522277A Active JP6630956B2 (ja) | 2015-06-05 | 2016-06-03 | 保護膜形成用複合シート及び保護膜付き半導体チップの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6630956B2 (ja) |
KR (1) | KR102509165B1 (ja) |
CN (1) | CN107615454B (ja) |
SG (1) | SG11201709978PA (ja) |
TW (2) | TWI745029B (ja) |
WO (1) | WO2016195071A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230047922A (ko) | 2021-10-01 | 2023-04-10 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 백그라인드 테이프 |
KR20230047921A (ko) | 2021-10-01 | 2023-04-10 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 반도체 가공용 점착 테이프에 사용되는 점착제 조성물, 및 해당 점착제 조성물을 사용한 점착 테이프 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI641494B (zh) * | 2015-11-04 | 2018-11-21 | 日商琳得科股份有限公司 | 第一保護膜形成用片、第一保護膜形成方法以及半導體晶片的製造方法 |
CN109789666B (zh) * | 2017-03-30 | 2024-06-04 | 琳得科株式会社 | 保护膜形成用复合片 |
CN112154536B (zh) * | 2018-09-11 | 2024-09-17 | 琳得科株式会社 | 保护膜形成用膜、保护膜形成用复合片、检查方法及识别方法 |
JP7500169B2 (ja) * | 2019-08-30 | 2024-06-17 | リンテック株式会社 | 保護膜形成用複合シート |
JP7312679B2 (ja) * | 2019-11-19 | 2023-07-21 | 日東電工株式会社 | 粘着剤付き光学フィルムおよびその製造方法 |
JP7534944B2 (ja) | 2020-12-10 | 2024-08-15 | リンテック株式会社 | 保護膜付きワークの製造方法及び保護膜形成フィルム付きワークの製造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008143924A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Nitto Denko Corp | 再剥離型粘着剤組成物、及び粘着テープ又はシート |
JP2011228450A (ja) * | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Nitto Denko Corp | ダイシングテープ一体型半導体裏面用フィルム |
WO2012018083A1 (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-09 | 日東電工株式会社 | 電子部品の製造方法 |
WO2012165368A1 (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-06 | 電気化学工業株式会社 | 粘着シート |
WO2014030699A1 (ja) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | リンテック株式会社 | 保護膜形成層付ダイシングシートおよびチップの製造方法 |
WO2014142151A1 (ja) * | 2013-03-13 | 2014-09-18 | リンテック株式会社 | 保護膜形成用複合シート、保護膜形成用複合シートの製造方法および保護膜付チップの製造方法 |
WO2014199993A1 (ja) * | 2013-06-14 | 2014-12-18 | 電気化学工業株式会社 | 半導体検査用の耐熱性粘着シート |
JP2015005598A (ja) * | 2013-06-20 | 2015-01-08 | 古河電気工業株式会社 | 半導体ウエハ表面保護用粘着テープ |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
MY138566A (en) * | 2004-03-15 | 2009-06-30 | Hitachi Chemical Co Ltd | Dicing/die bonding sheet |
EP2151858A2 (en) * | 2008-08-04 | 2010-02-10 | Nitto Denko Corporation | Dicing die-bonding film |
JP5210346B2 (ja) * | 2010-04-19 | 2013-06-12 | 電気化学工業株式会社 | 粘着シート及び電子部品の製造方法 |
CN102337089B (zh) * | 2010-07-07 | 2014-01-29 | 古河电气工业株式会社 | 晶片加工用胶带和使用其的半导体加工方法 |
JP5781302B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-09-16 | 日東電工株式会社 | 放射線硬化型粘着剤組成物及び粘着シート |
JP5965824B2 (ja) * | 2012-11-26 | 2016-08-10 | 積水化学工業株式会社 | 後硬化テープ及び接合部材の接合方法 |
JP6180139B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2017-08-16 | リンテック株式会社 | 保護膜形成用複合シートおよび保護膜形成用フィルム付チップの製造方法 |
US10030174B2 (en) * | 2013-03-27 | 2018-07-24 | Lintec Corporation | Composite sheet for forming protective film |
KR102215668B1 (ko) * | 2013-03-28 | 2021-02-15 | 린텍 가부시키가이샤 | 보호막 형성용 복합 시트, 보호막이 있는 칩 및 보호막이 있는 칩의 제조 방법 |
KR20210130275A (ko) * | 2013-08-01 | 2021-10-29 | 린텍 가부시키가이샤 | 보호막 형성용 복합 시트 |
-
2016
- 2016-06-03 TW TW109127845A patent/TWI745029B/zh active
- 2016-06-03 CN CN201680032214.4A patent/CN107615454B/zh active Active
- 2016-06-03 SG SG11201709978PA patent/SG11201709978PA/en unknown
- 2016-06-03 JP JP2017522277A patent/JP6630956B2/ja active Active
- 2016-06-03 TW TW105117577A patent/TWI705116B/zh active
- 2016-06-03 WO PCT/JP2016/066588 patent/WO2016195071A1/ja active Application Filing
- 2016-06-03 KR KR1020177036132A patent/KR102509165B1/ko active IP Right Grant
-
2019
- 2019-10-18 JP JP2019191282A patent/JP6924243B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008143924A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Nitto Denko Corp | 再剥離型粘着剤組成物、及び粘着テープ又はシート |
JP2011228450A (ja) * | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Nitto Denko Corp | ダイシングテープ一体型半導体裏面用フィルム |
WO2012018083A1 (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-09 | 日東電工株式会社 | 電子部品の製造方法 |
WO2012165368A1 (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-06 | 電気化学工業株式会社 | 粘着シート |
WO2014030699A1 (ja) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | リンテック株式会社 | 保護膜形成層付ダイシングシートおよびチップの製造方法 |
WO2014142151A1 (ja) * | 2013-03-13 | 2014-09-18 | リンテック株式会社 | 保護膜形成用複合シート、保護膜形成用複合シートの製造方法および保護膜付チップの製造方法 |
WO2014199993A1 (ja) * | 2013-06-14 | 2014-12-18 | 電気化学工業株式会社 | 半導体検査用の耐熱性粘着シート |
JP2015005598A (ja) * | 2013-06-20 | 2015-01-08 | 古河電気工業株式会社 | 半導体ウエハ表面保護用粘着テープ |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230047922A (ko) | 2021-10-01 | 2023-04-10 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 백그라인드 테이프 |
KR20230047921A (ko) | 2021-10-01 | 2023-04-10 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 반도체 가공용 점착 테이프에 사용되는 점착제 조성물, 및 해당 점착제 조성물을 사용한 점착 테이프 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201706387A (zh) | 2017-02-16 |
TW202043416A (zh) | 2020-12-01 |
TWI705116B (zh) | 2020-09-21 |
JPWO2016195071A1 (ja) | 2018-03-22 |
TWI745029B (zh) | 2021-11-01 |
JP6924243B2 (ja) | 2021-08-25 |
SG11201709978PA (en) | 2017-12-28 |
KR20180016411A (ko) | 2018-02-14 |
CN107615454B (zh) | 2020-12-18 |
KR102509165B1 (ko) | 2023-03-10 |
CN107615454A (zh) | 2018-01-19 |
JP6630956B2 (ja) | 2020-01-15 |
WO2016195071A1 (ja) | 2016-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6924243B2 (ja) | 保護膜形成用複合シート | |
JP6885966B2 (ja) | ダイシングダイボンディングシート、及び半導体チップの製造方法 | |
JPWO2019172438A1 (ja) | 保護膜形成用複合シート及び保護膜付き半導体チップの製造方法 | |
KR102552837B1 (ko) | 필름상 접착제 복합 시트 및 반도체 장치의 제조 방법 | |
JP6678641B2 (ja) | フィルム状接着剤複合シート及び半導体装置の製造方法 | |
JPWO2019182009A1 (ja) | ダイボンディングフィルム、ダイシングダイボンディングシート、及び半導体チップの製造方法 | |
JP5785420B2 (ja) | 保護膜形成用シートおよび半導体チップの製造方法 | |
JP6521823B2 (ja) | ダイシングダイボンディングシート | |
JP6304852B2 (ja) | 熱硬化性樹脂フィルムと第2保護膜形成フィルムのキット、熱硬化性樹脂フィルム、第1保護膜形成用シート及び半導体ウエハ用第1保護膜の形成方法 | |
KR102544368B1 (ko) | 보호막 형성용 시트 | |
WO2020218516A1 (ja) | 第三積層体の製造方法 | |
JP7540884B2 (ja) | キット、及び、そのキットを用いる第三積層体の製造方法 | |
JPWO2019189173A1 (ja) | 半導体チップの製造方法 | |
JP7540885B2 (ja) | キット、及び、そのキットを用いる第三積層体の製造方法 | |
WO2021166991A1 (ja) | 裏面保護膜形成用複合体、第一積層体の製造方法、第三積層体の製造方法、及び裏面保護膜付き半導体装置の製造方法 | |
WO2022210087A1 (ja) | フィルム状接着剤、ダイシングダイボンディングシート、半導体装置の製造方法、フィルム状接着剤の使用、ダイシングダイボンディングシートの使用、及び、半導体ウエハのリワーク方法 | |
JP2016143676A (ja) | ダイボンディングシート | |
JP2022146907A (ja) | 治具固定用粘着シート、保護膜形成用複合シート、及び保護膜付きチップの製造方法 | |
JPWO2020175423A1 (ja) | 熱硬化性樹脂フィルム及び第1保護膜形成用シート | |
JPWO2020175421A1 (ja) | 熱硬化性樹脂フィルム及び第1保護膜形成用シート | |
JPWO2020175428A1 (ja) | 第1保護膜付きワーク加工物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191018 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200911 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201027 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210511 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210705 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210720 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210730 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6924243 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |