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JP2020080519A - Surface acoustic wave element - Google Patents

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JP2020080519A
JP2020080519A JP2018213939A JP2018213939A JP2020080519A JP 2020080519 A JP2020080519 A JP 2020080519A JP 2018213939 A JP2018213939 A JP 2018213939A JP 2018213939 A JP2018213939 A JP 2018213939A JP 2020080519 A JP2020080519 A JP 2020080519A
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直人 松岡
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Abstract

To provide a small surface acoustic wave element capable of exciting a piston mode.SOLUTION: The surface acoustic wave element includes: a piezoelectric substrate 11; a pair of bus bars 2a, 2b formed on an upper surface of the piezoelectric substrate; and a pair of IDT electrodes provided with a plurality of electrode fingers 3a, 3b extending from the bus bars 2a, 2b in a comb shape. Gap regions RB are formed on both sides of an intersection region ZAB provided so that the electrode fingers 3a, 3b intersect. In the gap region RB, propagation velocity control films 4a, 4b for reducing a propagation velocity of a surface acoustic wave by an effect of mass loading to excite a surface acoustic wave in piston mode are provided.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は周波数信号を弾性表面波に変換する弾性表面波素子に関する。   The present invention relates to a surface acoustic wave element that converts a frequency signal into a surface acoustic wave.

Q値が高くスプリアスの少ない弾性表面波素子として、ピストンモードで動作するものが開発されている(例えば特許文献1、2)。ピストンモードは、弾性表面波(SAW:Surface Acoustic Wave)の振動モードの1つであり、後述の図2(a)に示すように、励振領域ではSAWの振幅がほぼ一定である一方、その外部側の領域にて急激に振幅が減少する振幅分布を示す。   As a surface acoustic wave element having a high Q value and low spurious, one operating in a piston mode has been developed (for example, Patent Documents 1 and 2). The piston mode is one of the vibration modes of a surface acoustic wave (SAW), and as shown in FIG. 2A described later, the SAW amplitude is substantially constant in the excitation region, An amplitude distribution in which the amplitude sharply decreases in the region on the side is shown.

SAWの励振にあたっては、バスバーに多数の電極指を接続した櫛歯電極が用いられる。弾性表面波素子(SAW素子)は、電極指の並び方向に見て、電極指が交差するように2つの櫛歯電極を対向して配置したIDT(Interdigital Transducer)電極が設けられる。一方の櫛歯電極に所定の周波数を有する周波数信号を入力することによりSAWが励振され、他方の櫛歯電極へと伝播する。   When exciting the SAW, comb-teeth electrodes in which a large number of electrode fingers are connected to a bus bar are used. The surface acoustic wave element (SAW element) is provided with an IDT (Interdigital Transducer) electrode in which two comb-teeth electrodes are arranged so as to face each other so that the electrode fingers cross each other when viewed in the arrangement direction of the electrode fingers. The SAW is excited by inputting a frequency signal having a predetermined frequency to one of the comb-teeth electrodes and propagates to the other comb-teeth electrode.

特許文献1、2に記載の技術は、対向して配置された2つのバスバー間の領域について、バスバーが伸びる方向に沿って中央の領域、その両脇の2領域、さらに両脇の2領域の5つ(特許文献1:中央領域、エッジ領域、ギャップ領域、特許文献2:中央励起領域、内縁領域、外縁領域)に分けている。そして、中央の両脇の領域に位置する電極指(特許文献1は「電極部」と記載)の幅を大きくしたり、狭くしたりすることなどによりピストンモードを得ている。また、特許文献1では、ギャップ領域のギャップ長寸法を1〜3音響波長程度確保する必要がある旨が記載されている。   The techniques described in Patent Documents 1 and 2 are, for a region between two bus bars arranged facing each other, a central region along the direction in which the bus bar extends, two regions on both sides thereof, and further two regions on both sides. It is divided into five (Patent Document 1: central region, edge region, gap region, and Patent Document 2: central excitation region, inner edge region, outer edge region). Then, the piston mode is obtained by increasing or decreasing the width of the electrode fingers located in the regions on both sides of the center (described in Patent Document 1 as "electrode part"). Further, Patent Document 1 describes that it is necessary to secure a gap length dimension of the gap region of about 1 to 3 acoustic wavelengths.

しかしながらこれらの手法は、通常のIDT電極に比べギャップ長の寸法(特許文献1のギャップ領域や特許文献2の外縁領域の寸法)が長くなるため、素子(特許文献1:音響波装置、特許文献2:電気音響変換器)が大型化してしまう問題がある。
なお、特許文献3には、主要弾性波の閉込めを目的として、IDT電極の電極指が交差していないギャップ領域(特許文献3には中間領域と記載)に誘電体膜を設ける技術が記載されているが、ピストンモードの励振を目的としたものではない。
However, in these methods, the size of the gap length (the size of the gap region of Patent Document 1 or the outer edge region of Patent Document 2) becomes longer than that of a normal IDT electrode, so that the element (Patent Document 1: Acoustic Wave Device, Patent Document) 2: There is a problem that the electroacoustic transducer) becomes large.
Note that Patent Document 3 describes a technique of providing a dielectric film in a gap region (described as an intermediate region in Patent Document 3) where electrode fingers of an IDT electrode do not intersect for the purpose of confining a main elastic wave. However, it is not intended to excite the piston mode.

特許第5221616号公報Japanese Patent No. 5221616 特許第5503020号公報Japanese Patent No. 5503020 特許第6181719号公報Japanese Patent No. 6181719

本発明はこのような事情の下になされたものであり、ピストンモードの励振が可能な小型の弾性表面波素子を提供する。   The present invention has been made under such circumstances, and provides a small surface acoustic wave element capable of exciting a piston mode.

本弾性表面波素子は、圧電基板と、
前記圧電基板上に形成された一対のバスバーと、これらバスバーの各々から対向するバスバーに向かって互いに櫛歯状に伸び出す複数の電極指と、を備え、これら複数の電極指の並び方向に沿って見たとき、一方のバスバーに接続された電極指と、他方のバスバーに接続された電極指とが交差する領域である交差領域と、この交差領域よりも各バスバー側に位置し、前記一方のバスバーに接続された電極指と、前記他方のバスバーに接続された電極指とが交差していない領域であるギャップ領域とが形成された一対のIDT電極と、
質量負荷効果により前記ギャップ領域における弾性表面波の伝播速度を低下させて、前記交差領域における弾性表面波の伝播速度との速度差が、前記交差領域にピストンモードの弾性表面波を励振させる速度差となるように、前記ギャップ領域の上面側に形成された伝播速度調節膜と、を備えたことを特徴とする。
The surface acoustic wave device includes a piezoelectric substrate and
A pair of bus bars formed on the piezoelectric substrate, and a plurality of electrode fingers extending in a comb-like shape from each of the bus bars toward the opposing bus bars are provided. As seen from the above, an electrode finger connected to one of the busbars and an intersecting area that is an area where the electrode fingers connected to the other busbar intersect, and each of the busbars is positioned closer to the busbar than the intersecting area. A pair of IDT electrodes formed with a gap region which is a region where the electrode fingers connected to the bus bar of No. 1 and the electrode fingers connected to the other bus bar do not intersect,
The propagation velocity of the surface acoustic wave in the gap region is reduced by the mass loading effect, and the velocity difference from the propagation velocity of the surface acoustic wave in the intersecting region causes a velocity difference that excites the piston mode surface acoustic wave in the intersecting region. And a propagation velocity adjusting film formed on the upper surface side of the gap region.

上述の弾性表面波素子は、以下の構成を備えていてもよい。
(a)前記伝播速度調節膜は、前記交差領域内の各電極指の先端部と、バスバーとの間にグレーティング状に形成されていること。
(b)隣り合って配置された電極指の中心線間の距離dに対し、当該電極指の延伸方向に沿って見た前記ギャップ領域の幅が0.1d〜2dの範囲内であること。
(c)前記バスバーの上面側には、前記交差領域及びギャップ領域よりも、各バスバーにおける弾性波の減衰が大きくなるようにするための調節膜が形成されていること。
(d)前記電極指が形成された弾性表面波素子の上面側には、前記圧電基板の温度−周波数特性とは反対の方向に周波数が変化する温度−周波数特性を有する誘電体膜が形成され、前記伝播速度調節膜は、前記誘電体膜の上面側に形成されていること。ここで例えば前記圧電基板は、LiNbOであり、前記誘電体膜は酸化ケイ素、酸窒化ケイ素またはフッ素ドープ酸化ケイ素であること。
(e)前記伝播速度調節膜は、前記ギャップ領域の圧電基板の上面と接するように形成された誘電体膜であること。
The surface acoustic wave device described above may have the following configuration.
(A) The propagation velocity adjusting film is formed in a grating shape between the tip of each electrode finger in the intersecting region and the bus bar.
(B) The width of the gap region as viewed along the extending direction of the electrode fingers is within the range of 0.1d to 2d with respect to the distance d between the center lines of the electrode fingers arranged adjacent to each other.
(C) An adjustment film is formed on the upper surface side of the bus bar so that the attenuation of elastic waves in each bus bar is larger than that in the intersection region and the gap region.
(D) A dielectric film having a temperature-frequency characteristic in which the frequency changes in a direction opposite to the temperature-frequency characteristic of the piezoelectric substrate is formed on the upper surface side of the surface acoustic wave element on which the electrode fingers are formed. The propagation velocity adjusting film is formed on the upper surface side of the dielectric film. Here, for example, the piezoelectric substrate is LiNbO 3 , and the dielectric film is silicon oxide, silicon oxynitride, or fluorine-doped silicon oxide.
(E) The propagation velocity adjusting film is a dielectric film formed in contact with the upper surface of the piezoelectric substrate in the gap region.

本発明によれば、一対のIDT電極の電極指が交差する交差領域の両脇に形成されたギャップ領域に、弾性表面波の伝播速度を低下させる伝播速度調節膜を設け、交差領域における弾性表面波の伝播速度との速度差を調節するので、従来のIDT電極に長いギャップ長寸法を設けなくとも、ピストンモードの弾性表面波を励振することができる。   According to the present invention, a propagation velocity adjusting film for reducing the propagation velocity of a surface acoustic wave is provided in the gap regions formed on both sides of the intersection region where the electrode fingers of the pair of IDT electrodes intersect, and the elastic surface in the intersection region is provided. Since the velocity difference from the wave propagation velocity is adjusted, the piston mode surface acoustic wave can be excited without providing the conventional IDT electrode with a long gap length dimension.

実施の形態に係るSAW素子の平面図及び縦断側面図である。3A and 3B are a plan view and a vertical sectional side view of a SAW element according to an embodiment. 前記SAW素子の作用説明図である。It is an explanatory view of an operation of the SAW element. 他の実施の形態に係るSAW素子の平面図及び縦断側面図である。It is the top view and vertical side view of the SAW element concerning other embodiments. 実施例のSAW素子に係る周波数−アドミタンス特性図である。It is a frequency-admittance characteristic figure concerning the SAW element of an example. 比較例のSAW素子に係る周波数−アドミタンス特性図である。It is a frequency-admittance characteristic figure concerning the SAW element of a comparative example.

以下、図1を参照しながら実施の形態に係る弾性表面波素子(SAW素子)の構成例について説明する。図1(a)は本例のSAW素子を模式的に示した拡大平面図、図1(b)、(c)は、各々、A−A’、B−B’の位置を模式的に示した縦断側面図である。
図1に示すSAW素子は、SAWを励振させる矩形状の圧電基板11上に形成されたIDT電極を備える。以下の説明では、矩形状の圧電基板11の長辺に沿った方向を縦方向(図1(a)中のX方向)、短辺に沿った方向を横方向(同図中のY方向)ともいう。
Hereinafter, a configuration example of the surface acoustic wave element (SAW element) according to the embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1A is an enlarged plan view schematically showing the SAW element of this example, and FIGS. 1B and 1C schematically show positions AA′ and BB′, respectively. FIG.
The SAW element shown in FIG. 1 includes an IDT electrode formed on a rectangular piezoelectric substrate 11 that excites SAW. In the following description, the direction along the long side of the rectangular piezoelectric substrate 11 is the vertical direction (X direction in FIG. 1A), and the direction along the short side is the horizontal direction (Y direction in FIG. 1). Also called.

IDT電極は、例えば圧電基板11の各長辺に沿って縦方向に伸びるように設けられ、各々信号ポート12a、12bに接続された2本のバスバー2a、2bと、各バスバー2a、2bから横方向に向けて伸びるように形成された多数本の電極指3a、3bとを備えている。
圧電基板11を構成する圧電材料としては、例えばニオブ酸リチウム(LiNbO)や窒化アルミニウム(AlN)、窒化スカンジウムアルミニウム(ScAlN)、タンタル酸リチウム(LiTaO)などを用いる場合を例示することができる。
The IDT electrode is provided, for example, so as to extend in the vertical direction along each long side of the piezoelectric substrate 11, and has two bus bars 2a and 2b respectively connected to the signal ports 12a and 12b and laterally from each bus bar 2a and 2b. It is provided with a large number of electrode fingers 3a, 3b formed so as to extend in the direction.
Examples of the piezoelectric material forming the piezoelectric substrate 11 include the case where lithium niobate (LiNbO 3 ), aluminum nitride (AlN), scandium aluminum nitride (ScAlN), lithium tantalate (LiTaO 3 ) or the like is used. .

図1(a)に示すように、一方のバスバー2aに接続された電極指3aは、対向する位置に配置されたバスバー2b側へ向けて伸び出すように設けられている。また他方のバスバー2bに接続された電極指3bは、前記一方のバスバー2aへ向けて伸び出すように設けられている。そして、電極指3a、3bの並び方向に沿って見たとき、一方のバスバー2aに接続された電極指3aと、他方のバスバー2bに接続された電極指3bとが互い違いに交差して配置されている。
バスバー2a、2b、電極指3a、3bは、例えば銅(Cu)により構成されている。
As shown in FIG. 1A, the electrode fingers 3a connected to one of the bus bars 2a are provided so as to extend toward the side of the bus bar 2b arranged at the opposite position. The electrode fingers 3b connected to the other bus bar 2b are provided so as to extend toward the one bus bar 2a. When viewed along the arrangement direction of the electrode fingers 3a and 3b, the electrode fingers 3a connected to the one bus bar 2a and the electrode fingers 3b connected to the other bus bar 2b are arranged so as to alternate with each other. ing.
The bus bars 2a and 2b and the electrode fingers 3a and 3b are made of, for example, copper (Cu).

上述のように、電極指3a、3bが交差して配置された領域は、IDT電極の交差領域ZABに相当する。また、交差領域ZABから見て各バスバー2a、2b側には、一方のバスバー2a、2bに接続された電極指3a、3bの先端部が、他方のバスバー2b、2aに到達していないことにより、電極指3a、3bが交差していない領域が2つ形成されている。これらの領域はギャップ領域RBに相当する。また、各バスバー2a、2bが形成されている2つの領域をバスバー2a、2bとも呼ぶ。   As described above, the region where the electrode fingers 3a and 3b are arranged so as to intersect each other corresponds to the intersection region ZAB of the IDT electrodes. Further, since the tip ends of the electrode fingers 3a and 3b connected to one of the bus bars 2a and 2b do not reach the other bus bar 2b and 2a on the bus bar 2a and 2b side as viewed from the intersection area ZAB, , Two regions where the electrode fingers 3a and 3b do not intersect are formed. These regions correspond to the gap region RB. The two regions in which the bus bars 2a and 2b are formed are also called bus bars 2a and 2b.

さらに本例のSAW素子は、圧電基板11を構成する圧電材料の温度−周波数特性の影響を補償する温度補償機能を備えたTC(Temperature Compensate)−SAW素子として構成されている。
図1(b)、(c)の縦断側面図に示すように、TC−SAW素子においては、IDT電極(バスバー2a、2b、電極指3a、3b)が形成された圧電基板11の上面に、誘電体膜5が形成(以下、「装荷」ともいう)されている。図1(a)においては、電極指3a、3bの上面側に誘電体膜5が装荷されていることを表すため、電極指3a、3bの形成位置(輪郭線)を破線で示してある。
Further, the SAW element of this example is configured as a TC (Temperature Compensate)-SAW element having a temperature compensation function for compensating the influence of the temperature-frequency characteristics of the piezoelectric material forming the piezoelectric substrate 11.
As shown in the vertical side views of FIGS. 1B and 1C, in the TC-SAW element, on the upper surface of the piezoelectric substrate 11 on which the IDT electrodes (bus bars 2a, 2b, electrode fingers 3a, 3b) are formed, The dielectric film 5 is formed (hereinafter, also referred to as “loading”). In FIG. 1A, in order to show that the dielectric film 5 is loaded on the upper surface side of the electrode fingers 3a and 3b, the formation positions (contour lines) of the electrode fingers 3a and 3b are indicated by broken lines.

TC−SAW素子に装荷される誘電体膜5は、圧電基板11の圧電材料とは反対の周波数温度特性を有するものが用いられる。例えば圧電基板11の圧電材料が、温度の上昇に伴って励振される周波数が低下する負の周波数温度特性を有している場合には、温度の上昇に伴って周波数が上昇する正の周波数温度特性を有する誘電体膜5が装荷される。反対に正の周波数温度特性を有する圧電材料からなる圧電基板11に対しては、負の周波数温度特性を有する誘電体膜5が装荷される。このように、圧電基板11とは反対の周波数温度特性を持つ誘電体膜5を装荷することにより、SAW素子の周囲の温度変化の影響を低減することができる。   As the dielectric film 5 loaded on the TC-SAW element, one having a frequency temperature characteristic opposite to that of the piezoelectric material of the piezoelectric substrate 11 is used. For example, when the piezoelectric material of the piezoelectric substrate 11 has a negative frequency-temperature characteristic in which the excited frequency decreases with increasing temperature, the positive frequency temperature increases with increasing temperature. A dielectric film 5 having characteristics is loaded. On the contrary, the piezoelectric substrate 11 made of a piezoelectric material having a positive frequency temperature characteristic is loaded with the dielectric film 5 having a negative frequency temperature characteristic. As described above, by loading the dielectric film 5 having the frequency-temperature characteristic opposite to that of the piezoelectric substrate 11, the influence of the temperature change around the SAW element can be reduced.

例えば既述のLiNbOは負の周波数温度特性を有する。そこで、LiNbOにより構成された圧電基板11に対しては、正の周波数温度特性を有する二酸化ケイ素、酸窒化ケイ素(元素の含有比率に特段の限定はなく、SiNOであってもよいし、SiOに窒素をドープしたものであってもよい)やフッ素をドープした二酸化ケイ素の誘電体膜5を装荷する場合を例示することができる。これらの材料からなる誘電体膜5は、CVD(Chemical Vapor Deposition)やスパッタリングなどの手法によって装荷することができる。 For example, the above-mentioned LiNbO 3 has a negative frequency temperature characteristic. Therefore, for the piezoelectric substrate 11 made of LiNbO 3 , silicon dioxide or silicon oxynitride having a positive frequency-temperature characteristic (the content ratio of elements is not particularly limited, SiNO may be used, or SiO 2 may be used). 2 may be doped with nitrogen) or fluorine-doped silicon dioxide dielectric film 5 may be loaded. The dielectric film 5 made of these materials can be loaded by a technique such as CVD (Chemical Vapor Deposition) or sputtering.

本例のSAW素子は、以上に説明した構成に加え、ピストンモードのSAWを励振するための構成を備えている。
本件発明者は、横方向に沿って見たとき、図2(a)に細い実線で示すように、交差領域ZABにおけるSAWの伝播速度よりも、ギャップ領域RB側のSAWの伝播速度を十分に低くすることにより、同図中に太い実線で示す振幅分布を有するピストンモードのSAWを励振することが可能であることを把握している。
The SAW element of this example has a configuration for exciting piston mode SAW in addition to the configuration described above.
When viewed in the lateral direction, the inventor of the present application makes the SAW propagation speed on the gap region RB side sufficiently higher than the SAW propagation speed on the intersection region ZAB, as shown by a thin solid line in FIG. It is understood that it is possible to excite the piston mode SAW having the amplitude distribution indicated by the thick solid line in the figure by lowering it.

そこで本例のSAW素子は、図1(a)〜(c)に示すように、当該SAW素子に装荷された誘電体膜5のさらに上面側に、質量負荷効果により各ギャップ領域RBのSAWの伝播速度を低下させるための伝播速度調節膜4a、4bが形成されている。
質量負荷効果を得ることを目的として形成される伝播速度調節膜4a、4bの構成材料に特段の限定はないが、成膜のしやすさや比重の大きさなどを考慮して、金属や誘電体が選択される。本例のSAW素子は、比較的成膜がしやすく比重の大きなチタン(Ti)を伝播速度調節膜4a、4bとしている。
Therefore, in the SAW element of this example, as shown in FIGS. 1A to 1C, the SAW of each gap region RB is provided on the upper surface side of the dielectric film 5 loaded on the SAW element due to the mass load effect. Propagation velocity adjusting films 4a and 4b for reducing the propagation velocity are formed.
There is no particular limitation on the constituent material of the propagation velocity adjusting films 4a and 4b formed for the purpose of obtaining the mass loading effect, but in consideration of the ease of film formation and the size of the specific gravity, a metal or a dielectric is used. Is selected. In the SAW element of this example, titanium (Ti), which is relatively easy to form and has a large specific gravity, is used as the propagation velocity adjusting films 4a and 4b.

ピストンモードのSAWを励振させるためには、交差領域ZAB側のSAWの伝播速度と、ギャップ領域RB側のSAWの伝播速度との速度差が大きくなるに従って、ギャップ領域RBの横方向の幅寸法が小さくなるように、SAW素子の設計を行う必要がある。逆にいうと、所定の幅寸法を有するギャップ領域RBを備えたSAW素子を設計したとき、上述の速度差を十分に大きくすればピストンモードのSAWを励振することが可能になるといえる。   In order to excite the piston mode SAW, as the speed difference between the SAW propagation speed on the crossing area ZAB side and the SAW propagation speed on the gap area RB side increases, the lateral width dimension of the gap area RB increases. It is necessary to design the SAW element so that it becomes smaller. Conversely, when designing the SAW element having the gap region RB having a predetermined width dimension, it can be said that the piston mode SAW can be excited if the speed difference is sufficiently large.

この観点で本例のSAW素子の概略の設計変数を示しておくと、SAW素子の設計周波数に対応する波長λに対し、電極指3a、3bの中心線間の距離dは、λ/2に設定される。また、小型のSAW素子を構成する観点では、ギャップ領域RBの幅寸法は、0.1d〜2d(0.05λ〜1λ)、好適には0.8d〜1.0d(0.4λ〜0.5λ)程度に設定される。   From this point of view, the general design variables of the SAW element of this example are shown below. For the wavelength λ corresponding to the design frequency of the SAW element, the distance d between the center lines of the electrode fingers 3a and 3b is λ/2. Is set. From the viewpoint of configuring a small SAW element, the width dimension of the gap region RB is 0.1d to 2d (0.05λ to 1λ), preferably 0.8d to 1.0d (0.4λ to 0. 5λ) is set.

実際にピストンモードが励振される構成となっているか否か(ピストンモードが励振される速度差が得られているか否か)は、シミュレーションにより事前に確認することができる。
質量負荷効果を利用する本例のSAW素子において、ギャップ領域RBにおけるSAWの伝播速度の低下幅は、伝播速度調節膜4a、4bの構成材料(比重)の選択や、伝播速度調節膜4a、4bの厚さを変化させることなどによって調節することができる。
Whether or not the piston mode is actually excited (whether or not the speed difference at which the piston mode is excited is obtained) can be confirmed in advance by simulation.
In the SAW element of the present example utilizing the mass loading effect, the width of decrease in the SAW propagation velocity in the gap region RB depends on the selection of the constituent material (specific gravity) of the propagation velocity adjusting films 4a and 4b and the propagation velocity adjusting films 4a and 4b. The thickness can be adjusted by changing the thickness.

ここで図1(a)中に砂状のハッチングを付して示すように、本例のSAW素子は、ギャップ領域RBに隣接する交差領域ZAB内に配置された各電極指3a、3bの先端部に隣接した位置に、電極指状に伝播速度調節膜4a、4bを形成したグレーティング構造となっている。発明者は、このようなグレーティング構造の伝播速度調節膜4a、4bは、例えばギャップ領域RBの全面に伝播速度調節膜42を形成する場合にと比較して、SAWの伝播速度を低減する効果が大きいことを把握している。   Here, as shown in FIG. 1(a) with sand-like hatching, the SAW element of this example has a tip of each electrode finger 3a, 3b arranged in the intersection area ZAB adjacent to the gap area RB. It has a grating structure in which the propagation velocity adjusting films 4a and 4b are formed like electrode fingers at positions adjacent to the portions. The inventor has found that the propagation velocity adjusting films 4a and 4b having such a grating structure have an effect of reducing the propagation velocity of the SAW as compared with the case where the propagation velocity adjusting film 42 is formed on the entire surface of the gap region RB. I know it is big.

また、本例のSAW素子においては、誘電体膜5の上面側であって、バスバー2a、2bが形成された各バスバー領域SBの上面側に、伝播速度調節膜4a、4bと同じ材料からなるバスバー領域膜41が形成されている。そして、上述の伝播速度調節膜4a、4bは、当該バスバー領域膜41と一体に形成されている。
このように、比較的大きな面積を有するバスバー領域膜41と共に伝播速度調節膜4a、4bを形成することにより、個別には非常に小さなグレーティング形状の伝播速度調節膜4a、4bの配置位置や形状、寸法などをより精度よく形成することができる。
In the SAW element of this example, the same material as the propagation speed adjusting films 4a and 4b is formed on the upper surface side of the dielectric film 5 and on the upper surface side of each bus bar region SB in which the bus bars 2a and 2b are formed. The bus bar region film 41 is formed. The above-described propagation velocity adjusting films 4a and 4b are formed integrally with the bus bar region film 41.
Thus, by forming the propagation velocity adjusting films 4a and 4b together with the bus bar region film 41 having a relatively large area, the arrangement positions and shapes of the propagation velocity adjusting films 4a and 4b each having a very small grating shape, The dimensions and the like can be formed more accurately.

以上に説明した伝播速度調節膜4a、4bを設けることにより、本例のSAW素子はピストンモードのSAWを励振可能な構成となる。一方で、ギャップ領域RBに隣接して配置されているバスバー領域SBにおける弾性波の減衰が小さいと、バスバー2a、2b側にSAWが漏洩してしまい、十分に大きな振幅を持つピストンモードを励振できない場合がある。   By providing the propagation velocity adjusting films 4a and 4b described above, the SAW element of this example has a configuration capable of exciting the piston mode SAW. On the other hand, when the attenuation of the elastic wave in the busbar region SB arranged adjacent to the gap region RB is small, the SAW leaks to the busbars 2a, 2b side, and the piston mode having a sufficiently large amplitude cannot be excited. There are cases.

SAWの漏洩を抑える観点では、図2(b)に細い実線で示すように、バスバー領域SBの弾性波の減衰は、交差領域ZABやギャップ領域RBよりも大幅に大きくなる構成とすることが好ましい。
そこで本例のSAW素子は、各バスバー2a、2bの上部側のバスバー領域SBに調節膜6を成膜することにより、当該領域の弾性波の減衰を増大させている。
From the viewpoint of suppressing the leakage of SAW, it is preferable that the attenuation of elastic waves in the busbar region SB is significantly larger than that in the intersection region ZAB and the gap region RB, as indicated by the thin solid line in FIG. 2B. .
Therefore, in the SAW element of this example, the attenuation of the elastic wave in the region is increased by forming the adjustment film 6 in the busbar region SB on the upper side of each busbar 2a, 2b.

調節膜6の構成材料としては、信号ポート12a、12bに接続される配線などの構成材料と共通のアルミニウム(Al)を例示することができる。これにより、配線と一体に調節膜6を形成することが可能となり、SAW素子を製造する際の工程数の増加を抑制できる。
十分な大きさの弾性波の減衰を得るため、バスバー2a、2b、電極指3a、3bを構成する銅膜、誘電体膜5、伝播速度調節膜42及び伝播速度調節膜42を構成する金属膜や誘電体膜よりも厚い調節膜6が形成される。SAW素子においてピストンモードのSAWを励振することができれば、調節膜6の膜厚に特段の限定はないが、既述の波長λの40%程度以上の厚さを例示することができる。
As a constituent material of the adjustment film 6, aluminum (Al), which is common to constituent materials such as wirings connected to the signal ports 12a and 12b, can be exemplified. As a result, the adjustment film 6 can be formed integrally with the wiring, and an increase in the number of steps for manufacturing the SAW element can be suppressed.
In order to obtain a sufficient amount of elastic wave attenuation, the copper film forming the bus bars 2a, 2b, the electrode fingers 3a, 3b, the dielectric film 5, the propagation speed adjusting film 42, and the metal film forming the propagation speed adjusting film 42. The adjustment film 6 thicker than the dielectric film is formed. If the SAW element can excite the piston mode SAW, the thickness of the adjustment film 6 is not particularly limited, but the thickness of about 40% or more of the wavelength λ described above can be exemplified.

上述の構成を備えるSAW素子において、設計周波数の周波数信号が印加されると、ギャップ領域RBに設けた伝播速度調節膜4a、4bの作用によってピストンモードのSAWが励振される。
また、調節膜6によってバスバー領域SBにおける弾性波の減衰が大きくなっていることで、SAWの漏洩を抑え、交差領域ZAB内に振幅の大きなSAWを励振させることができる。
In the SAW element having the above-described configuration, when a frequency signal of the design frequency is applied, the piston mode SAW is excited by the action of the propagation velocity adjusting films 4a and 4b provided in the gap region RB.
Moreover, since the attenuation of the elastic wave in the busbar area SB is increased by the adjustment film 6, it is possible to suppress the leakage of the SAW and excite the SAW having a large amplitude in the intersection area ZAB.

ここで、バスバー領域SBの弾性波の減衰を大きくして、バスバー領域SB内における高次の横モードの振幅を抑制することにより、SAW素子全体で当該高次の横モードの正負の振幅を十分に打消し合う構成とすることができる。高次の横モードは、スプリアス応答として観察され、SAW素子の挿入損失の増大を招く要因となる。   Here, by increasing the attenuation of the elastic wave in the busbar area SB and suppressing the amplitude of the higher-order transverse mode in the busbar area SB, the positive and negative amplitudes of the higher-order transverse mode are sufficient in the entire SAW element. It can be configured to cancel each other. The higher-order transverse mode is observed as a spurious response, which causes an increase in insertion loss of the SAW element.

例えば図2(b)には、2次の高次の横モードの振幅分布を太線で示している。バスバー領域SBにおける弾性波の減衰を大きくすることにより、調節膜6を設けていない場合の振幅分布(同図中に破線で示してある)と比較して、高次の横モードの振幅が抑えられる。この結果、高次の横モードが発生したとしても、SAW素子内で互いに打ち消し合い、スプリアス応答の発生を抑制することができる。   For example, in FIG. 2B, the amplitude distribution of the second-order higher-order transverse mode is indicated by a thick line. By increasing the attenuation of the elastic wave in the busbar region SB, the amplitude of the higher-order transverse mode is suppressed as compared with the amplitude distribution (indicated by the broken line in the figure) when the adjustment film 6 is not provided. Be done. As a result, even if higher-order transverse modes occur, they can cancel each other out in the SAW element and suppress the generation of spurious responses.

本実施の形態のSAW素子によれば以下の効果がある。一対のIDT電極の電極指3a、3bが交差する交差領域ZABの両脇に形成されたギャップ領域RBに、SAWの伝播速度を低下させる伝播速度調節膜4a、4bを設け、交差領域ZABにおけるSAWの伝播速度との速度差を調節するので、従来のIDT電極に新たな領域を追加することなくピストンモードのSAWを励振することができる。   The SAW element of this embodiment has the following effects. Propagation velocity adjusting films 4a and 4b for reducing the propagation velocity of SAW are provided in the gap region RB formed on both sides of the intersection region ZAB where the electrode fingers 3a and 3b of the pair of IDT electrodes intersect, and the SAW in the intersection region ZAB is provided. Since the velocity difference with the propagation velocity of the is adjusted, the piston mode SAW can be excited without adding a new region to the conventional IDT electrode.

ここで図1(a)を用いて説明した例のように、グレーティング構造の伝播速度調節膜4a、4bを設けることは必須の要件ではない。構成材料の選択や膜厚の調節などにより、ギャップ領域RB側のSAWの伝播速度の低減効果が十分に得られる場合には、図3に示すようにギャップ領域RBの全面を覆う伝播速度調節膜42を形成してもよい。
また、バスバー領域SB側のバスバー領域膜41と一体に伝播速度調節膜4a、4b、42を形成することも必須ではなく、十分な加工精度が得られる場合には、バスバー領域膜41を省略して伝播速度調節膜4a、4b、42のみを設けてもよい。
Here, it is not an essential requirement to provide the propagation velocity adjusting films 4a and 4b having the grating structure as in the example described with reference to FIG. When the effect of reducing the propagation velocity of the SAW on the gap region RB side can be sufficiently obtained by selecting the constituent material and adjusting the film thickness, the propagation velocity adjusting film covering the entire surface of the gap region RB as shown in FIG. 42 may be formed.
Further, it is not essential to integrally form the propagation velocity adjusting films 4a, 4b, 42 with the busbar region film 41 on the busbar region SB side, and when sufficient processing accuracy can be obtained, the busbar region film 41 may be omitted. Thus, only the propagation velocity adjusting films 4a, 4b, 42 may be provided.

さらには、ピストンモードを励振するSAW素子は、誘電体膜5が装荷されたTC−SAW素子でなくてもよい。この場合には、電極指3a、3bが形成された圧電基板11上に直接、伝播速度調節膜4a、4b、42が形成されることになる。従って、電極指3a、3bやバスバー2a、2bの短絡を防止する観点から、例えば誘電体により伝播速度調節膜4a、4b、42を形成する場合が好適である。またこのとき、伝播速度調節膜4a、4b、42は、酸化テルルのように、SAWの伝播速度が低い誘電体を採用してもよい。但し、金属によって伝播速度調節膜4a、4bを形成することが禁止されるものではなく、電極指3a、3bやバスバー2a、2bとの接触を避けつつ、ギャップ領域RBに金属の伝播速度調節膜4a、4bをグレーティング状に形成してもよい。   Furthermore, the SAW element that excites the piston mode may not be the TC-SAW element loaded with the dielectric film 5. In this case, the propagation velocity adjusting films 4a, 4b and 42 are directly formed on the piezoelectric substrate 11 on which the electrode fingers 3a and 3b are formed. Therefore, from the viewpoint of preventing short-circuiting of the electrode fingers 3a, 3b and the bus bars 2a, 2b, it is preferable to form the propagation velocity adjusting films 4a, 4b, 42 with a dielectric material, for example. At this time, the propagation speed adjusting films 4a, 4b, 42 may be made of a dielectric material having a low SAW propagation speed, such as tellurium oxide. However, the formation of the propagation velocity adjusting films 4a and 4b is not prohibited by the metal, and the metal propagation velocity adjusting film is formed in the gap region RB while avoiding contact with the electrode fingers 3a and 3b and the bus bars 2a and 2b. 4a and 4b may be formed in a grating shape.

以上に説明したSAW素子は、図1、図3に示す単体のSAW素子にて電子部品として利用することができる。また、圧電基板11を縦方向に広げ、IDT電極の前後に、グレーティング反射器を設けてもよい。
さらに当該SAW素子は、複数のSAW素子をラダー状に接続したラダー型フィルタのように、共通の圧電基板11に複数のIDT電極を設ける場合にも適用することができる。
The SAW element described above can be used as an electronic component in the single SAW element shown in FIGS. 1 and 3. Further, the piezoelectric substrate 11 may be expanded in the vertical direction, and grating reflectors may be provided before and after the IDT electrode.
Further, the SAW element can also be applied to a case where a plurality of IDT electrodes are provided on the common piezoelectric substrate 11 like a ladder type filter in which a plurality of SAW elements are connected in a ladder shape.

そしてフィルタ、デュプレクサ、クアッドプレクサ、その他フィルタ機能を有するデバイスに本例のSAW素子は用いることができる。また当該デバイスは、PAMiD、PAiD、PADなどと呼ばれるパワーアンプデュプレクサモジュール(Power Amp Integrated Duplexer)、DiFEMなどと呼ばれるダイバーシティ受信用モジュール(Diversity Front End Module)に組み込むことができる。   The SAW element of this example can be used for a filter, a duplexer, a quadplexer, and other devices having a filter function. In addition, the device can be incorporated into a power amplifier duplexer module (Power Amp Integrated Duplexer) called PAMiD, PAiD, PAD, etc., and a diversity reception module (Diversity Front End Module) called DiFEM.

伝播速度調節膜4a、4bの有無に応じたSAW素子の周波数特性をシミュレーションにより確認した。
A.シミュレーション条件
(実施例)
図1を用いて説明した、ギャップ領域RBにグレーティング構造の伝播速度調節膜4a、4bを備えたSAW素子のシミュレーションモデルを作成し、周波数−アドミタンス特性を調べた。その結果を図4に示す。
(比較例)
伝播速度調節膜4a、4b及びバスバー領域膜41が設けられていない点を除き、実施例と同様の構成のSAW素子のシミュレーションモデルを作成し、周波数−アドミタンス特性を調べた。その結果を図5に示す。
The frequency characteristics of the SAW element depending on the presence or absence of the propagation velocity adjusting films 4a and 4b were confirmed by simulation.
A. Simulation conditions (Example)
A simulation model of a SAW element having the propagation velocity adjusting films 4a and 4b having the grating structure in the gap region RB described with reference to FIG. 1 was prepared, and the frequency-admittance characteristic was investigated. The result is shown in FIG.
(Comparative example)
A simulation model of a SAW device having the same configuration as that of the example was prepared except that the propagation velocity adjusting films 4a and 4b and the bus bar region film 41 were not provided, and the frequency-admittance characteristic was investigated. The result is shown in FIG.

B.シミュレーション結果
図4に示す実施例のシミュレーション結果によれば、SAWの共振点、反共振点が確認され、SAW素子として利用可能な特性を備えていることが確認できた。また、高次の横モードに起因するスプリアスも観察されず、挿入損失の小さいSAW素子を構成することができた。
B. Simulation Results According to the simulation results of the example shown in FIG. 4, the resonance point and anti-resonance point of the SAW were confirmed, and it was confirmed that the SAW element has the characteristics that can be used. Further, spurious caused by higher-order transverse modes was not observed, and a SAW element with small insertion loss could be constructed.

一方、図5に示すように、比較例に係るSAW素子においては、高次の横モードに起因する多数のスプリアスが確認され、実施例のSAW素子と比べて挿入損失が大きくなることが分かる。
このように、実施例と比較例の対比からも、伝播速度調節膜4a、4bを備えた実施例に係るSAW素子は、スプリアスの少ない良好な特性を有することが確認された。
On the other hand, as shown in FIG. 5, in the SAW element according to the comparative example, many spurious components due to the higher-order transverse modes were confirmed, and it can be seen that the insertion loss becomes larger than that of the SAW element of the example.
As described above, also from the comparison between the example and the comparative example, it was confirmed that the SAW element according to the example including the propagation velocity adjusting films 4a and 4b had good characteristics with less spurious.

ZAB 交差領域
RB ギャップ領域
11 圧電基板
2a、2b バスバー
3a、3b 電極指
4a、4b 伝播速度調節膜
5 誘電体膜
6 調節膜
ZAB Crossing area RB Gap area 11 Piezoelectric substrates 2a, 2b Busbars 3a, 3b Electrode fingers 4a, 4b Propagation speed adjusting film 5 Dielectric film 6 Adjusting film

Claims (7)

圧電基板と、
前記圧電基板上に形成された一対のバスバーと、これらバスバーの各々から対向するバスバーに向かって互いに櫛歯状に伸び出す複数の電極指と、を備え、これら複数の電極指の並び方向に沿って見たとき、一方のバスバーに接続された電極指と、他方のバスバーに接続された電極指とが交差する領域である交差領域と、この交差領域よりも各バスバー側に位置し、前記一方のバスバーに接続された電極指と、前記他方のバスバーに接続された電極指とが交差していない領域であるギャップ領域とが形成された一対のIDT電極と、
質量負荷効果により前記ギャップ領域における弾性表面波の伝播速度を低下させて、前記交差領域における弾性表面波の伝播速度との速度差が、前記交差領域にピストンモードの弾性表面波を励振させる速度差となるように、前記ギャップ領域の上面側に形成された伝播速度調節膜と、を備えたことを特徴とする弾性表面波素子。
A piezoelectric substrate,
A pair of bus bars formed on the piezoelectric substrate and a plurality of electrode fingers extending in a comb-like shape from each of the bus bars toward the opposing bus bars are provided. As seen from the above, an electrode finger connected to one of the busbars and an intersecting area that is an area where the electrode fingers connected to the other busbar intersect, and each of the busbars is positioned closer to the busbar than the intersecting area. A pair of IDT electrodes in which a gap region which is a region where the electrode finger connected to the bus bar of No. 1 and the electrode finger connected to the other bus bar do not intersect,
The propagation velocity of the surface acoustic wave in the gap region is reduced by the mass loading effect, and the velocity difference from the propagation velocity of the surface acoustic wave in the intersecting region causes a velocity difference that excites the piston mode surface acoustic wave in the intersecting region. And a propagation velocity adjusting film formed on the upper surface side of the gap region.
前記伝播速度調節膜は、前記交差領域内の各電極指の先端部と、バスバーとの間にグレーティング状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波素子。   The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the propagation velocity adjusting film is formed in a grating shape between the tip end portion of each electrode finger in the intersecting region and the bus bar. 隣り合って配置された電極指の中心線間の距離dに対し、当該電極指の延伸方向に沿って見た前記ギャップ領域の幅が0.1d〜2dの範囲内であることを特徴とする請求項1または2に記載の弾性表面波素子。   The width of the gap region as viewed along the extending direction of the electrode fingers is within the range of 0.1d to 2d with respect to the distance d between the center lines of the electrode fingers arranged adjacent to each other. The surface acoustic wave device according to claim 1. 前記バスバーの上面側には、前記交差領域及びギャップ領域よりも、各バスバーにおける弾性波の減衰が大きくなるようにするための調節膜が形成されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の弾性表面波素子。   The adjustment film for increasing the attenuation of elastic waves in each bus bar is formed on the upper surface side of the bus bar more than in the intersection region and the gap region. The surface acoustic wave device according to any one of claims. 前記電極指が形成された弾性表面波素子の上面側には、前記圧電基板の温度−周波数特性とは反対の方向に周波数が変化する温度−周波数特性を有する誘電体膜が形成され、前記伝播速度調節膜は、前記誘電体膜の上面側に形成されていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の弾性表面波素子。   A dielectric film having a temperature-frequency characteristic in which a frequency changes in a direction opposite to a temperature-frequency characteristic of the piezoelectric substrate is formed on an upper surface side of the surface acoustic wave element on which the electrode fingers are formed, and the propagation is performed. 5. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the speed adjustment film is formed on the upper surface side of the dielectric film. 前記圧電基板は、LiNbOであり、前記誘電体膜は酸化ケイ素、酸窒化ケイ素またはフッ素ドープ酸化ケイ素であることを特徴とする請求項5に記載の弾性表面波素子。 The surface acoustic wave device according to claim 5, wherein the piezoelectric substrate is LiNbO 3 , and the dielectric film is silicon oxide, silicon oxynitride, or fluorine-doped silicon oxide. 前記伝播速度調節膜は、前記ギャップ領域の圧電基板の上面と接するように形成された誘電体膜であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の弾性表面波素子。   The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the propagation velocity adjusting film is a dielectric film formed so as to be in contact with an upper surface of the piezoelectric substrate in the gap region.
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