[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2020079311A - ３−ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法 - Google Patents

３−ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2020079311A
JP2020079311A JP2020030605A JP2020030605A JP2020079311A JP 2020079311 A JP2020079311 A JP 2020079311A JP 2020030605 A JP2020030605 A JP 2020030605A JP 2020030605 A JP2020030605 A JP 2020030605A JP 2020079311 A JP2020079311 A JP 2020079311A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
saturated
branched
linear
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020030605A
Other languages
English (en)
Inventor
マリア・ダルコ
Maria Dalko
クザヴィエ・マラ
Xavier Marat
ジュリアン・イス
Hitce Julien
チャオ−ジュン・リ
Chao-Jun Li
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LOreal SA
Original Assignee
LOreal SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LOreal SA filed Critical LOreal SA
Publication of JP2020079311A publication Critical patent/JP2020079311A/ja
Priority to JP2022068786A priority Critical patent/JP2022105049A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P17/00—Drugs for dermatological disorders
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/347—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups
    • C07C51/377—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups by splitting-off hydrogen or functional groups; by hydrogenolysis of functional groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/33—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing oxygen
    • A61K8/36—Carboxylic acids; Salts or anhydrides thereof
    • A61K8/365—Hydroxycarboxylic acids; Ketocarboxylic acids
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q19/00—Preparations for care of the skin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
    • C07C45/54—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition of compounds containing doubly bound oxygen atoms, e.g. esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
    • C07C45/69—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by addition to carbon-to-carbon double or triple bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C47/00—Compounds having —CHO groups
    • C07C47/20—Unsaturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C47/222—Unsaturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms with only carbon-to-carbon triple bonds as unsaturation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
    • C07C49/597—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring of a five-membered ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/09—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides from carboxylic acid esters or lactones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/347—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups
    • C07C51/377—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups by splitting-off hydrogen or functional groups; by hydrogenolysis of functional groups
    • C07C51/38—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups by splitting-off hydrogen or functional groups; by hydrogenolysis of functional groups by decarboxylation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/01—Saturated compounds having only one carboxyl group and containing hydroxy or O-metal groups
    • C07C59/11—Saturated compounds having only one carboxyl group and containing hydroxy or O-metal groups containing rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40—Unsaturated compounds
    • C07C59/42—Unsaturated compounds containing hydroxy or O-metal groups
    • C07C59/54—Unsaturated compounds containing hydroxy or O-metal groups containing six-membered aromatic rings and other rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40—Unsaturated compounds
    • C07C59/42—Unsaturated compounds containing hydroxy or O-metal groups
    • C07C59/56—Unsaturated compounds containing hydroxy or O-metal groups containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40—Unsaturated compounds
    • C07C59/58—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C07C59/64—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40—Unsaturated compounds
    • C07C59/58—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C07C59/72—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings and other rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/333—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C67/343—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
    • C07C67/347—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by addition to unsaturated carbon-to-carbon bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/67—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
    • C07C69/675—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids of saturated hydroxy-carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/67—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
    • C07C69/716—Esters of keto-carboxylic acids or aldehydo-carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/73—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
    • C07C69/732—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids of unsaturated hydroxy carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/73—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
    • C07C69/734—Ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/74—Esters of carboxylic acids having an esterified carboxyl group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
    • C07C69/757—Esters of carboxylic acids having an esterified carboxyl group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D213/28—Radicals substituted by singly-bound oxygen or sulphur atoms
    • C07D213/30—Oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/06—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
    • C07C2601/08—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being saturated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/06—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
    • C07C2601/10—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being unsaturated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14—The ring being saturated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Dermatology (AREA)
  • Birds (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】本発明の目的は、3-ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される化合物を、アクロレイン、アルキン、及びマロン酸エステル誘導体から合成するための新規の方法を提供することである。本発明の目的はまた、その使用によって使用者にとって不快な、刺痛、つっぱり感、熱感、及び赤みがもたらされる従来技術の化合物の欠点を克服し、皮膚の落屑を促進し、且つ/又は表皮の再生を刺激することが可能な新規の化合物を提供することである。【解決手段】本発明は、式（I）：［式中、R1は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を有する炭化水素基である］の化合物に関する。【選択図】なし

Description

本発明は、3-ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される化合物を調製する方法、及びまた3-ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される化合物、及び皮膚の落屑を促進し、且つ/又は表皮の再生を刺激し、且つ/又は皮膚の老化を阻止するための3-ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される化合物の使用に関する。本発明はまた、皮膚の落屑を促進し、且つ/又は表皮の再生を刺激し、且つ/又は内因性及び/若しくは外因性の皮膚の老化を阻止するために使用することができる組成物、特に、化粧用組成物に関する。
落屑は、皮膚の上層を構成する表皮が常に再生されているという事実と関連する自然現象である。表皮はいくつかの細胞層から構成され、その最も深い層は未分化細胞からなる基底層である。時間とともに、これらの細胞は、落屑によって除去される死細胞である角質細胞が表皮表面に形成されるまで、分化し、表皮表面に移動し、同時にそれらのいくつもの層を構成する。この表面での損失は、基底細胞から表皮表面への細胞の移動によって補われる。恒久的な皮膚の再生が存在する。角質層を強制的に除去すると、再生が促進され、老化を阻止することが可能になる。
同時に、これらの細胞はその分化を継続し、その最終段階が角質細胞である。これらは実際は、表皮の最終層、すなわち、角質層とも呼ばれる最外層を構成する死んだ細胞である。
内因性又は外因性の因子に起因する皮膚の老化は、皺や小皺の出現、シミの出現を伴う荒れた外観にさせる皮膚黄変、弾力性、柔軟性、及び堅さを減少させるエラスチンやコラーゲン繊維の乱れ、又は毛細血管拡張症の出現をもたらす。
これらの老化の徴候の一部は、内因性の又は生理的な老化、すなわち、加齢又は時間生物学的老化と関連する「正常」な老化とより特に関連しているが、残りは、外因性の老化、すなわち、一般的に環境によって生じる老化に更に特有のものであり、これは、より特定すると、日光、光、又はその他の照射に曝露されることによる光老化である。
本発明は、内因性の又は生理学的な老化、また外因性の老化に焦点を当てる。
内因性の老化による皮膚の変化は、内因性因子が関与する遺伝的にプログラムされた老化の結果である。この内因性の老化によって、特に、皮膚細胞の再生が遅くなり、このことは、皮下脂肪組織の減少や細かな皺及び小皺の出現等の好ましくない臨床的変化の出現によって、且つ弾性線維の数及び厚さの増加、弾性組織膜の垂直線維の損失、及びこの弾性組織の細胞における大きい不規則な線維芽細胞の存在等の組織病理学的変化によって本質的に反映される。
これに対し、外因性の老化は、深い皺や、たるんで日焼けした皮膚の形成等の臨床変化、及び上部真皮における弾性物質の過度の蓄積や、コラーゲン線維の退化等の組織病理学的変化をもたらす。
皮膚の老化を阻止することを意図した種々の薬剤は、従来技術において公知である。
従って、US-A-4 603 146の特許では、皮膚老化を阻止する目的で、化粧用組成物にレチノイン酸及びその誘導体を使用することが記載されている。
更に、多くの特許及び刊行物(例えば、EP-A-413528の出願を参照されたい)、また多くの市販の化粧品用組成物は、皮膚の老化を処置するために、乳酸、グリコール酸、又はクエン酸等のα-ヒドロキシ酸を使用することを教示している。
最後に、β-ヒドロキシ酸、より特にサリチル酸またその誘導体は、その落屑特性が知られている(WO-A-93/10756及びUS-A-4 767 750を参照されたい)。
これらすべての化合物は落屑を促進すること、すなわち表皮の角質層の表面にある死細胞を除去することによって、皮膚の老化に対する作用を有する。この「落屑」特性は、多くの場合に不適切ではあるが、角質溶解特性とも呼ばれている。
しかし、これらの従来技術の化合物は、使用者にとっては不快な、刺痛、つっぱり感、熱感、及び赤みからなる副作用も有している。
また、EP 1 333 021の出願から、ジャスモン酸誘導体を含む化粧用組成物又は医薬組成物、また皮膚の落屑を促進し、且つ/又は表皮の再生を刺激し、且つ/又は皮膚の老化を阻止するためのこれらの誘導体の使用が知られている。
本発明による方法は、3-ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規の化合物の合成を可能にし、従来技術の方法で使用される試薬を用いて、特に、EP 1 333 021の出願の合成で使用されるジャスモン酸メチルの使用によっては得ることができない大きな構造多様性を示す化合物ファミリーの合成を可能にする。
更に、本発明による方法は、グリーンケミストリーの原則を忠実に守った環境に優しい方法であり、グリーンケミストリーの原則としては、より特定すると、工程a)と工程b)とが同一の反応器中で行われる場合に、特に、限られた数の工程、可能な限り少ない原子の使用、環境に対する影響が抑えられた再生可能な溶媒の使用、及び廃棄物の最小化が挙げられる。
更に、本発明による方法を用いて合成された化合物は、皮膚の落屑の促進及び/又は表皮の再生の刺激の点から十分な特性を有する。
更に、抗老化剤として使用される本発明による化合物は、従来技術の化合物と少なくとも同程度に効率的な作用を有するが、従来技術の欠点は有しない。
US-A-4 603 146 EP-A-413528 WO-A-93/10756 US-A-4 767 750 EP 1 333 021
Tanaka及びFu (J. Am. Chem. Soc. 2001、123、11492頁) Griffinら、Biochem. J. 2002、368巻、377〜396頁
従って、本発明の目的は、3-ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される化合物を、アクロレイン、アルキン、及びマロン酸エステル誘導体から合成するための新規の方法を提供することである。この合成方法は、広範囲の化合物ファミリーを得ることを可能にし、そのうちのいくつかは以前に記載されたことがない。
本発明の目的はまた、その使用によって使用者にとって不快な、刺痛、つっぱり感、熱感、及び赤みがもたらされる従来技術の化合物の欠点を克服し、皮膚の落屑を促進し、且つ/又は表皮の再生を刺激することが可能な新規の化合物を提供することである。
従って、第1の態様によれば、本発明は式(I)の化合物：
Figure 2020079311
［式中、R1は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、
R2は
- -OR31、-NR31R41、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で任意選択により置換されていてもよい、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、1〜12個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基であって、R31及びR41は、互いに独立に、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す、炭化水素系基、
- Arは、フェニル又はピリジル基から選ばれる芳香核であり、R22は、芳香核Arの置換基を表し、水素、-OR'、-NO2、ハロゲン、-NH2、-CF3、及び-R'から選ばれ、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、飽和若しくは不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系基、又はフェニル基を表す、-Ar-R22基、
- R23は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の非隣接の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表し、Phは、フェニル基を表す、-R23-Ph基、
- R24は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表し、R34は、-COOR、又はNH、O、若しくはS基で任意選択により割り込まれている、直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系基の置換基を表し、R'は、水素原子、tert-ブチル基等の、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、1〜6個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、又はフェニル基を表す、-R24-NH-R34基、
- R25は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表す、-CO-O-R25基
から選ばれる基を表す］、
並びにまたこれらの光学異性体、ジアステレオ異性体、及び/又は対応する塩を調製するための方法であって、
以下の工程：
a) アクロレインに式R2C≡CHのアルキンを1,4付加する工程であって、R2は上記式(I)で定義された通りである、工程と、
b) 工程a)の最後に得られた生成物を、分子内ヒドロアシル化によって環化する工程と、
c) 工程b)で生じたシクロペンテノンにマロン酸エステル誘導体CH2(CO2CH2Ph)(CO2R0)を1,4付加する工程であって、式中、式(I)においてR1が水素原子である場合は-R0は-CH2Phであり、式(I)においてR1が水素原子でない場合はR0はR1である、工程と、
d) 工程c)で得られた生成物を還元及び脱カルボキシル化する工程と、
が行われる方法に関する。
第2の態様によれば、本発明は、皮膚の落屑を促進し、且つ/又は表皮の再生を刺激し、且つ/又は皮膚の老化を阻止するための式(I)の化合物の使用であって、式中、R1及びR2は上記で定義された通りであり、ただしR2がペンチル基でありR1が水素原子又はメチル基である式(I)の化合物を除く、式(I)の化合物の使用に関する。
更に別のその態様によれば、本発明は式(I)の化合物：
Figure 2020079311
［式中、R1は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、
R2は
- -OR31、-NR31R41、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で任意選択により置換されていてもよい、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、1〜12個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基（ここで、R31及びR41は、互いに独立に、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す）（但し、R2がペンチル基でありR1が水素原子又はメチル基である式(I)の化合物を除く）、
- Arは、フェニル又はピリジル基から選ばれる芳香核であり、R22は、水素、-OR'、-NO2、ハロゲン、-NH2、-CF3、及び-R'から選ばれる置換基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、飽和若しくは不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系基、又はフェニル基を表す、-Ar-R22基、
- R23は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の非隣接の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表し、Phは、フェニル基を表す、-R23-Ph基（但し、化合物
Figure 2020079311
を除く）、
- R24は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表し、R34は、-COOR'置換基を表すか、又はNH、O、若しくはS基で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、1〜6個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、又はフェニル基を表す、-R24-NH-R34基、
- R25は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表す、-CO-O-R25基（但し、化合物
Figure 2020079311
を除く）
から選ばれる基を表す］、
及びまたこれらの光学異性体、ジアステレオ異性体、及び/又は対応する塩に関する。
本発明に従って使用され得る塩は、特に、ナトリウム、カリウム、若しくはカルシウム等のアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の塩から、又は亜鉛、マグネシウム、若しくはストロンチウムの塩、天然アミノ酸、特に、リシン及びアルギニン、若しくは第4級アンモニウム塩等の有機アミン塩から選ばれる。
本発明はまた、本発明による式(I)の化合物を含む、組成物、特に、化粧用組成物に関する。
本発明は、以下に続く詳細な説明及び実施例を読むとより明らかに理解されるであろう。
「1〜12個の炭素原子を含む炭化水素系基」という用語は、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、又は12個の炭素原子を含む炭化水素系基を意味することを意図する。
「ハロゲン原子」という用語は、F、Cl、Br、及びIから選ばれる原子を意味することを意図する。
本発明は、3-ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される化合物を、アクロレイン、アルキン、及びマロン酸エステル誘導体から合成するための新規の方法であって、以下の工程：
a) アクロレインに式R2C≡CHのアルキンを1,4付加する工程であって、R2は上記式(I)で定義された通りである、工程と、
b) 工程a)の最後に得られた生成物を、分子内ヒドロアシル化によって環化する工程と、
c) 工程b)で生じたシクロペンテノンにマロン酸エステル誘導体CH2(CO2CH2Ph)(CO2R0)を1,4付加する工程であって、式中、式(I)においてR1が水素原子である場合は-R0は-CH2Phであり、式(I)においてR1が水素原子でない場合はR0はR1である、工程と、
d) 工程c)で得られた生成物を還元及び脱カルボキシル化する工程と
が行われる方法に関する。
本発明による方法は、特に環境に優しく、特に、工程a)と工程b)とが同一の反応器中で連続する場合に、グリーンケミストリーの原則：限られた数の工程、資源の消費を最小限にするための可能な限り少ない原子の使用、化学量論量よりも触媒量でのいくつかの試薬の使用、環境に対する影響が抑えられた再生可能な溶媒の使用、及び廃棄物の最小化を忠実に守っている。
更に、出発基質、特に、アクロレインは容易に入手可能である。
この方法は、全合成経路が極めて最短であること、その上、アルキンを1,4付加するために出発製品としてアクロレインが使用されることを特徴とするが、アクロレインは、非常に不安定であり且つ非常に反応性が高く、重合しやすいために、使用するのが「困難」である基質である。
更に、操作条件、特に、Pd(OAc)2/PMe3触媒系によって、アクロレインの分解と比較して、1,4付加を高めることが確かに可能になる。
この方法を、以下のスキーム1に要約する。
Figure 2020079311
工程a)
工程a)において、式R2C≡CHの純粋なアルキンのアクロレインへの1,4付加が行われる。アルキン及びアクロレインは、水中で又は有機溶媒中又は少なくとも2種類の混和性若しくは非混和性溶媒の混合物中、触媒存在下で、30℃から140℃の間、好ましくは100から120℃の間の温度に加熱する。好ましくは、溶媒は、水、アセトン、トルエン/水混合物、又はトルエン/アセトン混合物である。
より特定すると、アクロレイン及びアルキンR2C≡CHは、トルエン、ベンゼン、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、THF、Me-THF、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジクロロメタン、及びアセトニトリルから選ばれる、好ましくは少なくとも2種類の混和性又は非混和性溶媒の混合物である有機溶媒中、Mt-aと呼ばれ、0.001当量〜0.5当量の範囲の触媒量で導入される遷移金属の存在下、5分〜24時間の範囲で、30〜140℃に加熱する。
好ましくは、工程a)は、任意選択によりホスフィンと組み合わせてもよいパラジウム錯体、特に、Pd(OAc)2、Pd(TFA)2、Pd(OPiv)2、PdCl2、及びPd2dba3から選ばれるパラジウム錯体、又は任意選択によりホスフィンと組み合わせてもよいロジウム錯体である触媒存在下で行われる。
遷移金属Mt-aは、ホスフィンと組み合わせたロジウムの錯体であってもよい。
有利には、パラジウム錯体は、PMe3、PPh3、P(n-Bu)3、又はPCy3等のホスフィンと組み合わせる。
特に好ましくは、触媒量で導入される遷移金属は、トリメチルホスフィンと組み合わせたパラジウムの錯体である。好ましくは、触媒は、Pd(OAc)2であり、ホスフィンはPMe3である。これらは、1/3のPd(OAc)2/PMe3モル比で有利に使用される。
1つの変形例によれば、触媒は、0.001〜0.1当量の範囲の量のPd(OAc)2及び0.001〜0.3当量の範囲の量のPMe3を、トルエン中、2〜60分の範囲で、好ましくは40〜140℃の範囲の温度で加熱することによって形成される。
1つの変形例によれば、反応は、トルエン、ベンゼン、水、メタノール、アセトン、メチルエチルケトン、THF、Me-THF、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジクロロメタン、及びアセトニトリルから選ばれる2種類の溶媒の混合物中で、有利には、トルエンと、水、メタノール、アセトン、又はアセトニトリル等のより極性のある溶媒との混合物中で行われる。
特に好ましくは、反応は、トルエンと水との混合物、又はトルエンとアセトンとの混合物中で行われる。
反応の最後に、反応混合物は、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、酢酸エチル、又は酢酸イソプロピル等の有機溶媒で希釈し、相を分離する。水性相は、例えば、同じ有機溶媒で3回抽出し、有機相を合わせ、MgSO4で乾燥し、減圧下で濃縮する。
反応の最後に、得られた生成物は、工程bに進む前に、任意選択により単離してもよい。
本発明の1つの好ましい変形例において、工程a及び工程bは、工程aから得られる中間体を単離することを除いて、同一の反応器中で行う。この変形例によれば、更により好ましくは、工程a及び工程bは同一の溶媒系中で行う。
或いは、工程a)の反応からの生成物（中間体A）を単離することが望ましい場合、残留物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の従来の方法に従って精製することができる。
工程b)
工程b)において、分子内ヒドロアシル化が行われ、工程a)から得られた生成物は環化される。工程b)の最後に、シクロペンテノンが得られる。
工程a)から得られた生成物である中間体Aは、有機溶媒中、触媒の存在下で、40℃から140℃の間の温度に加熱する。
工程aから得られた付加体は、少なくとも1種類の溶媒中、Mt-bと呼ばれ、工程aで使用されたものと同一であり又は異なり、触媒量、好ましくは0.001当量〜0.5当量の範囲で導入された遷移金属の存在下、好ましくは5分〜24時間の範囲で、40〜140℃に加熱する。有利には、溶媒は、トルエン、ベンゼン、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、THF、Me-THF、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジクロロメタン、及びアセトニトリルから選ばれる。
好ましくは、触媒量で導入される遷移金属[Mt-b]は、ホスフィンと組み合わせたパラジウムの錯体、ホスフィンと組み合わせたロジウムの錯体、ホスフィンと組み合わせたルテニウムの錯体、又はホスフィンと組み合わせたイリジウムの錯体である。
特に好ましくは、触媒量で導入される遷移金属は、エチレンビス(ジフェニルホスフィン)(dppe)、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(dppp)、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(dppb)、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(dppf)、1,1'-ビナフタレン-2,2'-ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)(BINAP)、及び2,2'-ビス(ジ-p-トリルホスフィノ)-1,1'-ビナフチル(tol-BINAP)等の二座ホスフィンから選ばれるホスフィンと組み合わせたロジウムの錯体である。このロジウムによって触媒される分子内ヒドロアシル化反応のための条件は、特に、Tanaka及びFu (J. Am. Chem. Soc. 2001、123、11492頁)に記載されている。
1つの特定の実施形態において、ロジウム錯体[Rh(dppe)]2(BF4)2 (0.001当量〜0.5当量)及び中間体A (1当量) は、水、トルエン、ジクロロメタン、THF、Me-THF、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、又はアセトニトリル等の溶媒中に不活性雰囲気下で溶解する。反応混合物は、18から150℃の間の温度で、5分〜72時間の範囲で撹拌する。室温に戻した後、アセトニトリルを添加し、溶媒を減圧下で留去する。残留物は、蒸留及びシリカゲルカラムクロマトグラフィー等の従来の方法に従って精製する。式Bのシクロペンテノンは、こうして得られる。
工程c)
工程c)において、工程b)から得られた式Bのシクロペンテノンに、マロン酸エステル誘導体Mの1,4付加を行う。マロン酸エステル誘導体は、有機溶媒中、強塩基で処理し、次いで、シクロペンテノンと接触させる。
より詳細には、マロン酸エステル誘導体Mは、好ましくはN,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert-ブタノール、THF、Me-THF、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、又はジクロロメタンから選ばれる少なくとも1つの有機溶媒中、5分〜24時間の範囲で、強塩基で処理し、次いで、工程b)から得られたシクロペンテノンと接触させる。
好ましくは、強塩基は、マグネシウムジエタノレート、カリウムtert-ブタノレート、ナトリウムメトキシド、又はリチウムジイソプロピルアミドである。
好ましくは、溶媒は、メタノール、N,N-ジメチルホルムアミド、tert-ブタノール、又はTHFである。
本発明の1つの好ましい実施形態によれば、1当量のマロン酸エステルCH2(CO2CH2Ph)(CO2R0)は、有機溶媒中に溶解し、その溶媒は、好ましくはN,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、THF、又はジエチルエーテルである。
次いで、1〜10当量の範囲の量のマロン酸エステルMは、好ましくはマグネシウムジエタノレート、カリウムtert-ブタノレート、ナトリウムメトキシド、又はリチウムジイソプロピルアミドから選ばれる1〜5当量の範囲の量の強塩基と、-78℃から30℃の間の温度で処理する。
反応媒体を、5〜120分の範囲で撹拌し、次いで、反応溶媒中に予め溶解した1当量のシクロペンテノンBを滴下により添加する。
反応混合物は、5分〜24時間の範囲で撹拌し、次いで-30から0℃の間の温度に冷却する。過剰の塩基を、飽和NH4Cl水溶液を添加することによって中和し、次いで、付加体Cを、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、酢酸エチル、又は酢酸イソプロピル等の有機溶媒を使用して、1〜4回抽出する。有機相を合わせ、Na2SO4で乾燥し、減圧下で濃縮する。残留物は、中間体Cを単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の従来の方法に従って精製する。
工程d
工程d)において、中間体Cの還元及び脱カルボキシル化は、同時に行う。中間体Cは、水素化触媒存在下、少なくとも1種類の有機溶媒中で、ヒドリド供与体と接触させる。次いで、反応混合物は、50から200℃の間、好ましくは100から200℃の間の温度に加熱する。
工程c)から得られた付加体Cは、好ましくはトルエン、ベンゼン、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、THF、Me-THF、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジクロロメタン、及びアセトニトリルから選ばれる少なくとも1種類の溶媒中、Mt-aと呼ばれ、0.001当量〜0.5当量の範囲の触媒量で導入される水素化触媒の存在下、5分〜24時間の範囲で、ヒドリド供与体と接触させる。次いで、反応混合物は、オートクレーブ中、50から200℃の間の温度で、5分〜24時間の範囲で加熱する。
好ましくは、ヒドリド供与体は、二水素（dihydrogen）又はシクロヘキサンであり、溶媒は、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、THF、Me-THF、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、及びジクロロメタンから選ばれる。
好ましくは、水素化触媒は、パラジウム、ルテニウム、イリジウム、及びロジウムから選ばれる少なくとも1種類の金属をベースとする。特に好ましくは、水素化触媒はパラジウム／炭素である。
本発明の1つの好ましい実施形態によれば、メタノール、エタノール、イソプロピル、THF、Me-THF、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、及びジクロロメタン等の有機溶媒中に予め溶解した中間体Cは、二水素（dihydrogen）雰囲気下、パラジウム炭素等の水素化触媒存在下、5分〜24時間の範囲で、18から100℃の間の温度で撹拌する。次いで、水素は、アルゴン流を通すことによって除去し、混合物を、50から180℃の間の温度に加熱する。室温に戻した後、水素化触媒をセライトで濾別する。ろ液は、減圧下で濃縮し、残留物は、化合物(I)を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
本発明による方法は、特に、一般的な手法で以下に述べられる化合物を得ること、また、本発明による新規の化合物の好ましいファミリー、及び以下に述べられる新規な個々の化合物、及びまたこれらの光学異性体、ジアステレオ異性体、及び対応する塩を得ることを可能にする。
本発明による方法は、式(I)の化合物を得ることを有利に可能にし、式中、R1は、水素又はエチル基であり、R2は上記で定義された通りである。
本発明による方法は、特に、式(I)の化合物であって、式中、R1は、水素原子、又はエチル基等の、直鎖状若しくは分岐鎖状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基を表し、R2は、-OR31、NR31R41、COOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1個又は2個の基で任意選択により置換されていてもよい、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、1〜12個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基であり、R31及びR41は、互いに独立に、水素原子、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基を表す、化合物、並びにまたこれらの塩、異性体、及び溶媒和物を得ることを可能にする。
本発明による方法は、特に、以下の表１に示される下記の化合物、及びまたこれらの光学異性体、ジアステレオ異性体、及び/又は対応する塩を得ることを可能にする。
Figure 2020079311
Figure 2020079311
Figure 2020079311
Figure 2020079311
Figure 2020079311
Figure 2020079311
Figure 2020079311
Figure 2020079311
Figure 2020079311
本発明による調製方法はまた、残りの説明で示されるすべての変形例において述べられる化合物を得ることを可能にする。
本発明はまた、皮膚の落屑を促進し、表皮の再生を刺激し、皮膚の老化の徴候を阻止し、肌色の明るさを改善し、且つ/又は顔の皮膚の皺を伸ばすための、少なくとも1つの式(I)
Figure 2020079311
 ［式中、R1及びR2は、上述の通りである］
の化合物、及びまたこれらの光学異性体、ジアステレオ異性体、及び対応する塩（R2がペンチル基であるとR1は水素原子又はメチル基である式(I)の化合物を除く）の美容的使用に関する。
より特定すると、本発明は、皮膚の落屑を促進し、表皮の再生を刺激し、皮膚の老化の徴候を阻止し、肌色の明るさを改善し、且つ/又は顔の皮膚の皺を伸ばすための、少なくとも1つの式(I)の化合物
Figure 2020079311
 ［式中、R1は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、
R2は、
- -OR31、-NR31R41、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で任意選択により置換されていてもよい、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、1〜12個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基であって、R31及びR41は、互いに独立に、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す、炭化水素系基、
- Arは、フェニル又はピリジル基から選ばれる芳香核であり、R22は、水素、-OR'、-NO2、ハロゲン、-NH2、-CF3、及び-R'から選ばれる置換基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、飽和若しくは不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系基、又はフェニル基を表す、-Ar-R22基、
- R23は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の非隣接の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表す、-R23-Ph基、
- R24は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表し、R34は、-COOR'置換基を表すか、又はNH、O、若しくはS基で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、1〜6個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、又はフェニル基を表す、-R24-NH-R34基、
- R25は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表す、-CO-O-R25基
から選ばれる基を表す］（R2がペンチル基でありR1が水素原子又はメチル基である式(I)の化合物を除く）
の美容的使用に関する。
特に、本発明の状況の中で使用される化合物は式(I)
［式中、R1は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、
R2は、
- -OR31、-NR31R41、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で任意選択により置換されていてもよい、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、1〜7個又は9〜11個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基であって、R31及びR41は、互いに独立に、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す、炭化水素系基；
- 5〜7個の炭素原子を含む環状飽和炭化水素系基、又は1、2、3、4、若しくは6個の炭素原子を含む直鎖状飽和炭化水素系基であり、これらの基は-OR31、-NHR31、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で場合によって置換されていてもよく、R31は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す、炭化水素系基、
から選ばれる基を表す］
又はこれらの光学異性体、ジアステレオ異性体、及び/若しくは対応する塩に一致する。
本発明はまた、式(I)の化合物：
Figure 2020079311
 ［式中、R1は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、
R2は、
- -OR31、-NR31R41、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で任意選択により置換されていてもよい、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、1〜12個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基（ここで、R31及びR41は、互いに独立に、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す）（但し、R2がペンチル基でありR1が水素原子又はメチル基である式(I)の化合物は除く）；
- Arは、フェニル又はピリジル基から選ばれる芳香核であり、R22は、水素、-OR'、-NO2、ハロゲン、-NH2、-CF3、及び-R'から選ばれる置換基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、飽和若しくは不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系基、又はフェニル基を表す、-Ar-R22基；
- R23は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の非隣接の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表す、-R23-Ph基（但し、化合物
Figure 2020079311
 を除く）；
- R24は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表し、R34は、-COOR'置換基を表すか、又はNH、O、若しくはS基で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、1〜6個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、又はフェニル基を表す、-R24-NH-R34基；
- R25は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表す-CO-O-R25基（但し、化合物
Figure 2020079311
 を除く）
から選ばれる基を表す］
に関する。
好ましい化合物の第1の群は、式(I)の化合物から選ばれ、式中、R1は上記で定義された通りであり、好ましくは、R1は水素又はエチル基であり、
R2は、-OR31、-NHR31、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で置換されている、3〜12個の炭素原子を含む直鎖状飽和炭化水素系基を表し、R31は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表し、又は
R2は、-OR31、-NHR31、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で場合によって置換されていてもよい5〜7個の炭素原子を含む、環状飽和炭化水素系基から選ばれる基を表し、R31は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表し；
R2は、-OR31、-NHR31、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で任意選択により置換されていてもよい、3〜12個の炭素原子を含む分岐鎖状飽和炭化水素系基を表し、R31は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す。
特に、下記の好ましい化合物が挙げられる。
Figure 2020079311
好ましい化合物の第2の群は、式(I)の化合物から選ばれ、式中、R1は上記で定義された通りであり、好ましくは、R1は、水素、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、好ましくはエチルであり、
R2は、-Ar-R22基であり、Arは、フェニル又はピリジル芳香核であり、
- R22は、水素、-OR'、-NO2、-F、-Br、-NH2、-CF3、及び-R'から選ばれる芳香核Arの置換基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、又はフェニル基を表す。
特に、下記の好ましい化合物が挙げられる。
Figure 2020079311
Figure 2020079311
Figure 2020079311
好ましい化合物の第3の群は、式(I)の化合物から選ばれ、式中、R1は上記で定義された通りであり、好ましくは、R1は水素、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、好ましくはエチルであり、
R2は-R23-Ph基であり、R23は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1個の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系基を表す。
特に、下記の好ましい化合物が挙げられる。
Figure 2020079311
好ましい化合物の第4の群は、式(I)の化合物から選ばれ、式中、R1は、上記で定義された通りであり、好ましくは、R1は、水素、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、好ましくはエチルであり、
R2は、-R24-NH-R34基であり、R24は、1〜4個の炭素原子を含む直鎖状飽和炭化水素系2価基を表し、R34は、-COOR'置換基を表すか、又は酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、1〜4個の炭素原子を含む直鎖状飽和炭化水素系基を表し、R'は、直鎖状又は分岐鎖状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基を表す。
特に、下記の好ましい化合物が挙げられる。
Figure 2020079311
好ましい化合物の第4の群は、式(I)の化合物から選ばれ、式中、R1は、上記で定義された通りであり、好ましくは、R1は、水素、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、好ましくはエチルであり、
R2は、-CO-O-R25基であり、-R25は、水素原子、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基を表す。
特に、下記の好ましい化合物が挙げられる。
Figure 2020079311
本発明はまた、本発明による少なくとも1つの化合物を含む、組成物、特に化粧用組成物に関する。
本発明による組成物に使用し得る式(I)の化合物の量は、所望の効果に明らかに依存し、皮膚の落屑を促進し、且つ/又は表皮の再生を刺激し、それによって内因性及び/若しくは外因性の皮膚の老化を阻止することに有効な量でなければならない。
例として、本発明に従って使用され得る式(I)の化合物の量は、例えば、組成物の総質量に対して、0.001質量%〜20質量%、好ましくは0.1質量%〜10質量%、特に0.5質量%〜5質量%の範囲であり得る。
本発明による化合物を単独で又は混合で含む組成物は、更に生理学的に許容される媒体、すなわち、皮膚、頭皮、爪、粘膜、眼、及び毛髪、又は身体の任意の他の皮膚領域等のすべてのケラチン物質に適合する媒体を含み得る。この組成物は、化粧用組成物であり得、従って、化粧品に許容される媒体を含み得る。
生理学的に許容される媒体としては、水、C1〜C8アルコール、特に、エタノール、イソプロパノール、tert-ブタノール、又はn-ブタノール等の有機溶媒；グリセロール等のポリオール；ブチレングリコール、イソプレングリコール、プロピレングリコール、ペンチレングリコール、又はPEG-8等のポリエチレングリコール等のグリコール；ポリオールエーテルを含み得る。
組成物はまた、想定されている出願の分野で通常は使用される、油、ゴム、及びワックスを含み得る脂肪相を含み得る。本発明で使用することができる油又はワックスとしては、鉱油、植物油、動物油、合成油、シリコーン油又はワックス、及びフッ素油、C12〜C30脂肪アルコール、C12〜C30脂肪酸、及びC12〜C50脂肪エステルが挙げられ得る。
組成物がエマルションであるとき、脂肪相の割合は、組成物の総質量に対して、0.1質量%〜80質量%、好ましくは、5質量%〜50質量%の範囲であり得る。エマルション形態の組成物中で使用される油、ワックス、乳化剤、及び共乳化剤は、化粧品に従来使用されるものから選ばれる。乳化剤及び共乳化剤は、組成物の総質量に対して、0.3質量%〜30質量%、好ましくは0.5質量%〜20質量%を範囲とする割合で組成物中に存在する。エマルションはまた、脂質ビヒクルを含み得る。
組成物はまた、界面活性剤、乳化剤、親水性又は親油性のゲル化剤、親水性又は親油性の添加剤、保存剤、抗酸化剤、溶媒、芳香剤、充填剤、遮蔽剤、臭気吸収剤、着色剤、及び化粧品用活性薬剤等の、当該分野において一般的である化粧品用補助剤を含み得る。これらの様々な補助剤の量は、化粧品分野で従来使用される量であり、例えば、組成物の総質量の0.01%〜10%である。これらの補助剤は、それらの性質に応じて、脂肪相及び/又は水性相に導入し得る。
親水性活性薬剤のうち、タンパク質又はタンパク質水解物、アミノ酸、ポリオール、尿素、アラントイン、糖及び糖誘導体、水溶性ビタミン、植物抽出物、並びにヒドロキシ酸が挙げられ得る。
親油性活性薬剤としては、レチノール（ビタミンA）及びその誘導体、トコフェロール（ビタミンE）及びその誘導体、必須脂肪酸、セラミド、精油、並びにサリチル酸及びその誘導体が挙げられ得る。
本発明によれば、組成物は少なくとも1つの式(I)の化合物を
- 毛髪の再生を改善し、且つ/又は脱毛を遅くする薬剤、毛髪の再生を促進する薬剤、
- 皮膚の分化及び/又は増殖及び/又は色素沈着を調節する薬剤、
- 抗菌剤、
- 駆虫薬、
- 抗真菌剤、
- 抗ウイルス剤、
- ステロイド性及び非ステロイド性抗炎症薬、
- 麻酔薬、
- 止痒剤、
- 角質溶解剤、
- フリーラジカルスカベンジャー、
- 抗脂漏薬、
- フケ防止剤、
- 抗ざ瘡剤、
- 植物、海洋、又は細菌起源の抽出物
等の他の活性薬剤と組み合わせてよい。
組成物は、想定され得るすべての配合物形態で提供することができる。
特に、組成物は、水性溶液、アルコール溶液、水性アルコール溶液、又は油性溶液；ローション又はセラム型の分散体；油中水型、水中油型、又は多層型のエマルション；懸濁剤；マイクロカプセル又は微粒子；イオン型及び/又は非イオン型の小胞性分散体；水性若しくは油性のローション又はセラム形態のローション；カプセル剤、顆粒剤、シロップ剤、又は錠剤；フォーム、固形製剤；加圧下の噴射剤も含むエアロゾル組成物の形態であり得る。
組成物は、顔、手、足、主な解剖学上の襞、又は身体のための清浄用、保護用、処置用、又は手入れ用組成物、例えば、昼用クリーム、夜用クリーム、メイクアップ落としクリーム、日焼け止め組成物、保護若しくは手入れ用ボディミルク、アフターサンミルク、清浄用ローション等の皮膚手入れ用ローション、ゲル、若しくはフォーム、又は人工日焼け用組成物；ファンデーション等の身体又は顔に化粧をするための組成物；入浴用組成物；例えば殺菌剤を含む脱臭用組成物；アフターシェイブ組成物；脱毛用組成物；虫さされ忌避組成物の形態であり得る。
本発明による組成物は、身体、顔、及び/又は頭皮の皮膚を手入れすること、特に、皮膚の落屑を促進し、表皮の再生を刺激し、皮膚の老化の徴候を阻止し、肌色の明るさを改善し、且つ/又は顔の皮膚の皺を伸ばすことを意図する、化粧用組成物として極めて特定の用途が見い出される。
下記の実施例は、本発明の範囲を限定することなく、それを例示する。
Ｉ．化合物の調製
（実施例１）化合物5の調製
Figure 2020079311
工程a：
トルエン (0.30当量、0.15mmol、1ml) 中のPMe3の1M溶液をPd(OAc)2 (0.1当量、0.05mmol、11.2mg) に添加する。混合物を、Pd(OAc)2が完全に溶解するような方法で、アルゴン下、10分にわたって110℃に加熱する。室温に戻した後、反応媒体を、水0.5mlを添加することによって希釈し、次いで、1-デシン (1当量、0.5mmol) 及びアクロレイン (5当量、2.5mmol) の混合物を添加する。混合物を、17時間にわたって60℃に加熱する (TLCでは1-デシンは完全に消失している) 。室温に戻した後、反応混合物をジエチルエーテルで希釈し、相を分離する。水性相をジエチルエーテルで3回抽出し、次いで有機相を合わせ、MgSO4で乾燥し、減圧下で濃縮する。残留物を、中間体A-5を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィー (ヘキサン/酢酸エチル：95/5) によって精製し、収率は62%である。
工程b：
中間体A-5を、この種類の反応に関してTanaka and Fu (J. Am. Chem. Soc. 2001、123、11492頁) によって記載されている条件に従い、ロジウムが触媒する分子内ヒドロアシル化反応によって環化する。
ロジウム[Rh(dppe)]2(BF4)2錯体 (0.1当量) 及び中間体A-5 (1当量) を、シュレンク管中のアセトンに不活性雰囲気下で溶解する。管を密閉し、反応混合物を90℃の温度で16時間にわたって撹拌する。室温に戻した後、アセトニトリルを添加し、溶媒を減圧下で留去する。残留物を、中間体B-5を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
工程c：
5当量のマロン酸エステル誘導体CH2(CO2CH2Ph)(CO2CH2Ph)を、THF中に溶解する。
次いで、マロン酸エステル誘導体を、5当量の強塩基：マグネシウムジエタノレートで、-78℃から30℃の間の温度で処理する。
反応媒体を30分にわたって撹拌し、次いで、反応溶媒中に予め溶解した1当量のシクロペンテノンB-5を滴下により添加する。
反応混合物を4時間にわたって撹拌し、次いで、-30から0℃の間の温度に冷却する。過剰の塩基を、飽和NH4Cl水溶液を添加することによって中和し、付加体C-5を、酢酸エチルを使用して3回抽出する。有機相を合わせ、Na2SO4で乾燥し、減圧下で濃縮する。残留物を、中間体C5を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
工程d：
エタノール中に予め溶解した中間体C-5を、二水素（dihydrogen）雰囲気下、パラジウム-炭素触媒存在下、4時間にわたって、18から100℃の間の温度で撹拌する。次いで、水素を、アルゴン流を通すことによって除去し、混合物を150℃で4時間にわたって加熱する。室温に戻した後、水素化触媒を、セライトを通して濾別する。ろ液を、減圧下で濃縮し、残留物は、化合物5を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
（実施例２）化合物9の調製
Figure 2020079311
工程a：
中間体A-9を、1-デシンを5-メチルヘキサ-1-インで置き換え、反応時間を17時間にすることによって、中間体A-5と厳密には類似した方法で得る。収率51%。
1H NMRスペクトル及び質量スぺクトルは、予想された構造と一致する。
工程b：
中間体A-9を、この種類の反応に関してTanaka and Fu (J. Am. Chem. Soc. 2001、123、11492頁) によって記載されている条件に従い、ロジウムが触媒する分子内ヒドロアシル化反応によって環化する。
ロジウム[Rh(dppe)]2(BF4)2錯体 (0.1当量) 及び中間体A-9 (1当量) を、シュレンク管中のアセトンに不活性雰囲気下で溶解する。管を密閉し、反応混合物を90℃の温度で16時間にわたって撹拌する。室温に戻した後、アセトニトリルを添加し、溶媒を減圧下で留去する。残留物を、中間体B-9を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
工程c：
5当量のマロン酸エステル誘導体CH2(CO2CH2Ph)(CO2CH2Ph)を、THF中に溶解する。
次いで、マロン酸エステル誘導体を、5当量の強塩基：マグネシウムジエタノレートで、-78℃から30℃の間の温度で処理する。
反応媒体を、30分にわたって撹拌し、次いで、反応溶媒中に予め溶解した1当量のシクロペンテノンB-9を滴下により添加する。
反応混合物を4時間にわたって撹拌し、次いで、-30から0℃の間の温度に冷却する。過剰の塩基を、飽和NH4Cl水溶液を添加することによって中和し、付加体C-9を、酢酸エチルを使用して3回抽出する。有機相を合わせ、Na2SO4で乾燥し、減圧下で濃縮する。残留物を、中間体C-9を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
工程d：
エタノール中に予め溶解した中間体C-9を、二水素（dihydrogen）雰囲気下、パラジウム-炭素触媒存在下、4時間にわたって、18から100℃の間の温度で撹拌する。次いで、水素を、アルゴン流を通すことによって除去し、混合物を150℃で4時間にわたって加熱する。室温に戻した後、水素化触媒を、セライトを通して濾別する。ろ液を、減圧下で濃縮し、残留物は、化合物9を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
（実施例３）化合物12の調製
Figure 2020079311
工程a：
中間体A-12は、1-デシンをフェニルアセチレンで置き換え、反応時間を3時間にすることによって、中間体A-5と厳密には類似した方法で得る。収率70%。
1H NMRスペクトル及び質量スぺクトルは、予想された構造と一致する。
工程b：
中間体A-12を、この種類の反応に関してTanaka and Fu (J. Am. Chem. Soc. 2001、123、11492頁) によって記載されている条件に従い、ロジウムが触媒する分子内ヒドロアシル化反応によって環化する。
ロジウム[Rh(dppe)]2(BF4)2錯体 (0.1当量) 及び中間体A-12 (1当量) を、シュレンク管中のアセトンに不活性雰囲気下で溶解する。管を密閉し、反応混合物を90℃の温度で16時間にわたって撹拌する。室温に戻した後、アセトニトリルを添加し、溶媒を減圧下で留去する。残留物を、中間体B-12を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する(収率31%)。
工程c：
5当量のマロン酸エステル誘導体CH2(CO2CH2Ph)(CO2CH2Ph)を、THF中に溶解する。
次いで、マロン酸エステル誘導体を、5当量の強塩基：マグネシウムジエタノレートで、-78℃から30℃の間の温度で処理する。
反応媒体を、30分にわたって撹拌し、次いで、反応溶媒中に予め溶解した1当量のシクロペンテノンB-12を滴下により添加する。
反応混合物を4時間にわたって撹拌し、次いで、-30から0℃の間の温度に冷却する。過剰の塩基を、飽和NH4Cl水溶液を添加することによって中和し、付加体C-12を、酢酸エチルを使用して3回抽出する。有機相を合わせ、Na2SO4で乾燥し、減圧下で濃縮する。残留物を、中間体C-12を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
工程d：
エタノール中に予め溶解した中間体C-12を、二水素（dihydrogen）雰囲気下、パラジウム-炭素触媒存在下、4時間にわたって、18から100℃の間の温度で撹拌する。次いで、水素を、アルゴン流を通すことによって除去し、混合物を150℃で4時間にわたって加熱する。室温に戻した後、水素化触媒を、セライトを通して濾別する。ろ液を、減圧下で濃縮し、残留物は、化合物12を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
（実施例４）化合物13の調製
Figure 2020079311
工程a：
中間体A-13は、1-デシンを(4-メトキシフェニル)アセチレンで置き換え、反応時間を3時間にすることによって、中間体A-5と厳密には類似した方法で得る。収率73%。
1H NMRスペクトル及び質量スぺクトルは、予想された構造と一致する。
工程b：
中間体A-13を、この種類の反応に関してTanaka and Fu (J. Am. Chem. Soc. 2001、123、11492頁) によって記載されている条件に従い、ロジウムが触媒する分子内ヒドロアシル化反応によって環化する。
ロジウム[Rh(dppe)]2(BF4)2錯体 (0.1当量) 及び中間体A-13 (1当量) を、シュレンク管中のアセトンに不活性雰囲気下で溶解する。管を密閉し、反応混合物を90℃の温度で16時間にわたって撹拌する。室温に戻した後、アセトニトリルを添加し、溶媒を減圧下で留去する。残留物を、中間体B-13を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
工程c：
5当量のマロン酸エステル誘導体CH2(CO2CH2Ph)(CO2CH2Ph)を、THF中に溶解する。
次いで、マロン酸エステル誘導体を、5当量の強塩基：マグネシウムジエタノレートで、-78℃から30℃の間の温度で処理する。
反応媒体を、30分にわたって撹拌し、次いで、反応溶媒中に予め溶解した1当量のシクロペンテノンB-13を滴下により添加する。
反応混合物を4時間にわたって撹拌し、次いで、-30から0℃の間の温度に冷却する。過剰の塩基を、飽和NH4Cl水溶液を添加することによって中和し、付加体C-13を、酢酸エチルを使用して3回抽出する。有機相を合わせ、Na2SO4で乾燥し、減圧下で濃縮する。残留物を、中間体C-13を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
工程d：
エタノール中に予め溶解した中間体C-13を、二水素（dihydrogen）雰囲気下、パラジウム-炭素触媒存在下、4時間にわたって、18から100℃の間の温度で撹拌する。次いで、水素を、アルゴン流を通すことによって除去し、混合物を150℃で4時間にわたって加熱する。室温に戻した後、水素化触媒を、セライトを通して濾別する。ろ液を、減圧下で濃縮し、残留物は、化合物13を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
（実施例５）化合物21の調製
Figure 2020079311
工程a：
中間体A-21は、1-デシンを((4-トリフルオロメチル)フェニル)アセチレンで置き換え、反応時間を17時間にすることによって、中間体A-5と厳密には類似した方法で得る。収率38%。
1H NMRスペクトル及び質量スぺクトルは、予想された構造と一致する。
工程b：
中間体A-21を、この種類の反応に関してTanaka and Fu (J. Am. Chem. Soc. 2001、123、11492頁) によって記載されている条件に従い、ロジウムが触媒する分子内ヒドロアシル化反応によって環化する。
ロジウム[Rh(dppe)]2(BF4)2錯体 (0.1当量) 及び中間体A-21 (1当量) を、シュレンク管中のアセトンに不活性雰囲気下で溶解する。管を密閉し、反応混合物を90℃の温度で16時間にわたって撹拌する。室温に戻した後、アセトニトリルを添加し、溶媒を減圧下で留去する。残留物を、中間体B-21を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
工程c：
5当量のマロン酸エステル誘導体CH2(CO2CH2Ph)(CO2CH2Ph)を、THF中に溶解する。
次いで、マロン酸エステル誘導体を、5当量の強塩基：マグネシウムジエタノレートで、-78℃から30℃の間の温度で処理する。
反応媒体を、30分にわたって撹拌し、次いで、反応溶媒中に予め溶解した1当量のシクロペンテノンB-21を滴下により添加する。
反応混合物を4時間にわたって撹拌し、次いで、-30から0℃の間の温度に冷却する。過剰の塩基を、飽和NH4Cl水溶液を添加することによって中和し、付加体C-21を、酢酸エチルを使用して3回抽出する。有機相を合わせ、Na2SO4で乾燥し、減圧下で濃縮する。残留物を、中間体C-21を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
工程d：
エタノール中に予め溶解した中間体C-21を、二水素（dihydrogen）雰囲気下、パラジウム-炭素触媒存在下、4時間にわたって、18から100℃の間の温度で撹拌する。次いで、水素を、アルゴン流を通すことによって除去し、混合物を150℃で4時間にわたって加熱する。室温に戻した後、水素化触媒を、セライトを通して濾別する。ろ液を、減圧下で濃縮し、残留物は、化合物21を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
（実施例６）化合物38の調製
Figure 2020079311
工程a：
間体A-38を、1-デシンを1-ヒドロキシ-1-フェニルプロパ-2-インに置き換え、反応時間を3時間にすることによって、中間体A-5と厳密には類似した方法で得る。収率４３％。
1H NMRスペクトル及び質量スぺクトルは、予想された構造と一致する。
工程b：
中間体A-38を、この種類の反応に関してTanaka and Fu (J. Am. Chem. Soc. 2001、123、11492頁) によって記載されている条件に従い、ロジウムが触媒する分子内ヒドロアシル化反応によって環化する。
ロジウム[Rh(dppe)]2(BF4)2錯体 (0.1当量) 及び中間体A-38 (1当量) を、シュレンク管中のアセトンに不活性雰囲気下で溶解する。管を密閉し、反応混合物を90℃の温度で16時間にわたって撹拌する。室温に戻した後、アセトニトリルを添加し、溶媒を減圧下で留去する。残留物を、中間体B-38を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
工程c：
5当量のマロン酸エステル誘導体CH2(CO2CH2Ph)(CO2CH2Ph)を、THF中に溶解する。
次いで、マロン酸エステル誘導体を、5当量の強塩基：マグネシウムジエタノレートで、-78℃から30℃の間の温度で処理する。
反応媒体を、30分にわたって撹拌し、次いで、反応溶媒中に予め溶解した1当量のシクロペンテノンB-38を滴下により添加する。
反応混合物を4時間にわたって撹拌し、次いで、-30から0℃の間の温度に冷却する。過剰の塩基を、飽和NH4Cl水溶液を添加することによって中和し、付加体C-38を、酢酸エチルを使用して3回抽出する。有機相を合わせ、Na2SO4で乾燥し、減圧下で濃縮する。残留物を、中間体C-38を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
工程d：
エタノール中に予め溶解した中間体C-38を、二水素（dihydrogen）雰囲気下、パラジウム-炭素触媒存在下、4時間にわたって、18から100℃の間の温度で撹拌する。次いで、水素を、アルゴン流を通すことによって除去し、混合物を150℃で4時間にわたって加熱する。室温に戻した後、水素化触媒を、セライトを通して濾別する。ろ液を、減圧下で濃縮し、残留物は、化合物38を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する。
（実施例７）化合物1の調製
Figure 2020079311
工程a：
中間体B-1 (CAS: 24105-07-5) を、シクロペンタノンとブチルアルデヒドとの間の塩基性媒体中での縮合によって、当業者に公知の方法で得る。収率60%。
1H NMRスペクトル及び質量スぺクトルは、予想された構造と一致する。
工程c：
5当量のマロン酸エステル誘導体CH2(CO2Me)(CO2Me)を、メタノール中に溶解する。
次いで、マロン酸エステル誘導体を、5当量の強塩基：ナトリウムメタノレートで、23℃で処理する。
反応媒体を、6時間にわたって撹拌し、次いで、反応溶媒中に予め溶解した1当量のシクロペンテノンB-1を滴下により添加する。
反応混合物を4時間にわたって撹拌する。過剰の塩基を、飽和NH4Cl水溶液を添加することによって中和し、付加体C-1を、酢酸エチルを使用して3回抽出する。有機相を合わせ、Na2SO4で乾燥し、減圧下で濃縮する。残留物を、中間体C-1を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する (収率95%) 。
工程d：
エタノール中に予め溶解した中間体C-1を、水素化ホウ素ナトリウム存在下又は二水素（dihydrogen）雰囲気下でのパラジウム炭素触媒存在下で、4時間にわたって、23℃で撹拌する。一度、この部分の反応を終了させ、反応粗成物を処理し、混合物を4時間にわたってDMSO中で150℃に加熱した。ろ液を、減圧下で濃縮し、残留物は、化合物1を単離するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する (収率40%) 。
1H NMRスペクトル及び質量スぺクトルは、予想された構造と一致する。
II. 表皮再生及びバリア効果
特に、上記実施例1で述べられた調製方法に従って得られた化合物5の、表皮の再生及び皮膚のバリア効果に与える影響を、ケラチノサイト中のTGM1及びTGM3転写産物の発現を測定することによってin vitroで評価した。
トランスグルタミナーゼは、アミノアシルトランスフェラーゼである。これは、一般的に不水溶性のタンパク質ポリマーの形態である。これらの生体ポリマーは、安定なバリア及び構造を生み出すため、身体に必須である。従って、トランスグルタミナーゼは、とりわけ皮膚及び毛髪の合成に関与している。特に、トランスグルタミナーゼ3(TGM3)は、表皮トランスグルタミナーゼである (Griffinら、Biochem. J. 2002、368巻、377〜396頁を参照されたい)。
プロトコール
ヒト表皮ケラチノサイトを、テストされる化合物の存在下又は非存在下（対照）で24時間インキュベートした。インキューベーションの終わりに、全RNAを抽出した後、定量化した。次いで、TGM1及びTGM3転写産物の発現を、LightCycler（登録商標）480システムを用い、且つSYBR（登録商標）Green（Qiagen）取り込み技術に従った、2段階RT-qPCR法を用いて測定した。これらの転写産物の発現を、2つのハウスキーピング遺伝子、RPL13A及びGAPDHの発現と比較して標準化した。実験は繰り返し3回行った（N=3）。
Figure 2020079311
結果
結果は、対象と比較した倍数変化(fc)として表される。
中等度の刺激: 1.5<fc<2
明らかな刺激: 2<fc<3
強い刺激: fc>3
中等度の阻害: 0.5<fc<0.7
明らかな阻害: fc<0.5
Figure 2020079311
化合物5 (100μm) は、TGM1及びTGM3転写産物の発現を中等度に刺激する。
これらの結果より、本発明による化合物5は、TGM1及びTGM3トランスグルタミナーゼの発現の増加に対して有意な効果を有することが示される。
トランスグルタミナーゼの発現におけるこの増加は、表皮の角質層の強化、またバリア機能の改善を反映し、皮膚の萎縮及び薄化を遅らせることを可能にする。
これらの結果により、特に、バリア機能を強化することによって、化合物5の皮膚に対する抗老化効果が示される。

Claims (16)

  1. 式（I）を有する化合物：
    Figure 2020079311
     ［式中、R1は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、
    R2は、
    - -OR31、-NR31R41、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で任意選択により置換されていてもよい、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、1〜12個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基（ここで、R31及びR41は、互いに独立に、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す）（但し、R2がペンチル基でありR1が水素原子又はメチル基である式（I）の化合物は除く）；
    - -Ar-R22基（ここで、Arは、フェニル又はピリジル基から選ばれる芳香核であり、R22は、水素、-OR'、-NO2、ハロゲン、-NH2、-CF3、及び-R'から選ばれる置換基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、飽和若しくは不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系基、又はフェニル基を表す）；
    - -R23-Ph基（ここで、R23は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の非隣接の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表す）（但し、化合物
    Figure 2020079311
     を除く）；
    - -R24-NH-R34基（ここで、R24は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表し、R34は、-COOR'置換基を表すか、又はNH、O、若しくはS基で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、1〜6個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、又はフェニル基を表す）；及び
    - -CO-O-R25基（ここで、R25は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表す）（但し、化合物
    Figure 2020079311
     を除く）
    から選ばれる基を表す］
    、又はこれらの光学異性体、ジアステレオ異性体、及び/若しくは対応する塩。
  2. R1は、請求項1で規定の通りであり、好ましくは、R1は水素又はエチル基であり、
    R2は、-OR31、-NHR31、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で置換されている、3〜12個の炭素原子を含む直鎖状飽和炭化水素系基を表し、R31は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表し；又は、
    R2は、-OR31、-NHR31、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で場合によって置換されていてもよい、5〜7個の炭素原子を含む環状飽和炭化水素系基から選ばれる基を表し（ここで、R31は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す）；又は、
    R2は、-OR31、-NHR31、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で任意選択により置換されていてもよい、3〜12個の炭素原子を含む分岐鎖状飽和炭化水素系基を表す（ここで、R31は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す）、請求項１に記載の式（I）の化合物。
  3. 以下の化合物
    Figure 2020079311
     から選ばれる、請求項１又は２に記載の式（I）の化合物。
  4. R1は、請求項１で規定の通りであり、好ましくは、R1は水素又はエチル基であり、R2は、-Ar-R22基を表し、Arは、フェニル又はピリジル芳香核であり、R22は、水素、-OR'、-NO2、-F、-Br、-NH2、-CF3、及び-R'から選ばれる芳香核Arの置換基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、又はフェニル基を表す、請求項１に記載の式（I）の化合物。
  5. R1は、請求項1で規定の通りであり、好ましくは、R1は、水素又はエチル基であり、R2は、-R23-Ph基であり、R23は、1個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1個の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、飽和又は不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む直鎖状炭化水素系基を表す、請求項１に記載の式（I）の化合物（但し、以下の化合物
    Figure 2020079311
     を除く）。
  6. R1は、請求項1で規定の通りであり、好ましくは、R1は、水素又はエチル基であり、R2は、-R24-NH-R34基であり、R24は、1〜4個の炭素原子を含む直鎖状飽和炭化水素系2価基を表し、R34は、-COOR'置換基を表すか、又は酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、1〜4個の炭素原子を含む直鎖状飽和炭化水素系基を表し、R'は、直鎖状又は分岐鎖状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基を表す、請求項１に記載の式（I）の化合物。
  7. R1は、請求項1で規定の通りであり、好ましくは、R1は、水素又はエチル基であり、R2は、-CO-O-R25基であり、-R25は、水素原子、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、1〜4個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基を表す、請求項１に記載の式（I）の化合物（但し、下記化合物
    Figure 2020079311
     を除く）。
  8. 請求項１から７のいずれか一項に記載の少なくとも1つの化合物を含む、組成物、特に、化粧用組成物。
  9. 前記化合物が、組成物の総質量に対して、0.01質量%〜20質量%、好ましくは0.5質量%〜10質量%、特に1質量%〜5質量%の量で存在する、請求項８に記載の組成物。
  10. 皮膚の落屑を促進し、表皮の再生を刺激し、皮膚の老化の徴候を阻止し、肌色の明るさを改善し、且つ/又は顔の皮膚の皺を伸ばすための、少なくとも1つの下記式（I）：
    Figure 2020079311
     ［式中、R1は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、
    R2は、
    - -OR31、-NR31R41、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で任意選択により置換されていてもよい、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、1〜12個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基（ここで、R31及びR41は、互いに独立に、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す）；
    - -Ar-R22基（ここで、Arは、フェニル又はピリジル基から選ばれる芳香核であり、R22は、水素、-OR'、-NO2、ハロゲン、-NH2、-CF3、及び-R'から選ばれる置換基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、飽和若しくは不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系基、又はフェニル基を表す）；
    - -R23-Ph基（ここで、R23は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の非隣接の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表し、Phは、フェニル基を表す）；
    - -R24-NH-R34基（ここで、R24は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表し、R34は、-COOR'置換基を表すか、又はNH、O、若しくはS基で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、1〜6個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、又はフェニル基を表す）；及び
    - -CO-O-R25基（ここで、R25は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表す）
    から選ばれる基を表す］
    の化合物、又はこれらの光学異性体、ジアステレオ異性体、及び/若しくは対応する塩（但し、R2がペンチル基でありR1が水素原子又はメチル基である式（I）の化合物を除く）の美容的使用。
  11. 少なくとも1つの式（I）：
    Figure 2020079311
     ［式中、R1は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、
    R2は、
    - -OR31、-NR31R41、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で任意選択により置換されていてもよい、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、1〜7個又は9〜11個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基であって、R31及びR41は、互いに独立に、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す、炭化水素系基；
    - 5〜7個の炭素原子を含む環状飽和炭化水素系基、又は1、2、3、4、6個の炭素原子を含む直鎖状飽和炭化水素系基であって、これらの基は-OR31、-NHR31、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で場合によって置換されていてもよく、R31は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す、炭化水素系基
    から選ばれる基を表す］
    の化合物、又はこれらの光学異性体、ジアステレオ異性体、及び/若しくは対応する塩（但し、R2がペンチル基でありR1が水素原子又はメチル基である式（I）の化合物を除く）の請求項１０に記載の使用。
  12. 式（I）の化合物が、
    Figure 2020079311
     から選ばれる、請求項１０に記載の使用。
  13. 下記式（I）：
    Figure 2020079311
     ［式中、R1は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、
    R2は、
    - -OR31、-NR31R41、-COOR31、-OCOR31、及びハロゲンから選ばれる同一でも異なっていてもよい1〜3個の基で任意選択により置換されていてもよい、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、1〜12個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基であって、R31及びR41は、互いに独立に、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を表す、炭化水素系基；
    - -Ar-R22基（ここで、Arは、フェニル又はピリジル基から選ばれる芳香核であり、R22は、水素、-OR'、-NO2、ハロゲン、-NH2、-CF3、及び-R'から選ばれる置換基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、飽和若しくは不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系基、又はフェニル基を表す）；
    - -R23-Ph基（ここで、R23は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の非隣接の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜6個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表す）；
    - -R24-NH-R34基（ここで、R24は、1〜3個の-OH基で任意選択により置換されていてもよく、且つ/又は1〜3個の酸素原子で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状又は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系2価基を表し、R34は、-COOR'置換基を表すか、又はNH、O、若しくはS基で任意選択により割り込まれていてもよい、直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜4個の炭素原子を含む炭化水素系基を表し、R'は、水素原子、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状の、1〜6個の炭素原子を含む飽和炭化水素系基、又はフェニル基を表す）；
    - -CO-O-R25基（ここで、R25は、水素原子、フェニル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状の、飽和若しくは不飽和の、1〜8個の炭素原子を含む炭化水素系基を表す）
    から選ばれる基を表す］
    の化合物、及びまたこれらの光学異性体、ジアステレオ異性体、及び/又は対応する塩を調製するための方法であって、
    以下の工程：
    a) アクロレインに式R2C≡CHのアルキンを1,4付加する工程であって、R2は上記式（I）で規定の通りである、工程と、
    b) 工程a)の最後に得られた生成物を、分子内ヒドロアシル化によって環化する工程と、
    c) 工程b)で生じたシクロペンテノンにマロン酸エステル誘導体CH2(CO2CH2Ph)(CO2R0)を1,4付加する工程であって、これについて、式（I）においてR1が水素原子である場合は-R0は-CH2Phであり、式(I)においてR1が水素原子でない場合はR0はR1である、工程と、
    d) 工程c)で得られた生成物を還元及び脱カルボキシル化する工程と
    が行われる方法。
  14. 工程a)が、任意選択によりホスフィンと組み合わせてもよい、パラジウム錯体、特にPd(OAc)2、Pd(TFA)2、Pd(OPiv)2、PdCl2、及びPd2dba3から選ばれるパラジウム錯体、又は任意選択によりホスフィンと組み合わせてもよい、ロジウム錯体である触媒の存在下で行われる、請求項１３に記載の方法。
  15. 前記触媒がPd(OAc)2であり、ホスフィンがPMe3であり、特に、約1/3のPd(OAc)2/PMe3モル比で接触させる、請求項１３に記載の方法。
  16. 工程a)において、アルキン及びアクロレインが、有機溶媒中、好ましくは、トルエン、ベンゼン、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、THF、Me-THF、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジクロロメタン、及びアセトニトリルから選ばれる少なくとも2種類の混和性又は非混和性溶媒の混合物である有機溶媒中で、30℃から140℃の間の温度に加熱される、請求項１３から１５のいずれか一項に記載の方法。
JP2020030605A 2015-03-13 2020-02-26 ３−ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法 Pending JP2020079311A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022068786A JP2022105049A (ja) 2015-03-13 2022-04-19 ３－ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1500493 2015-03-13
FR1500493A FR3033559B1 (fr) 2015-03-13 2015-03-13 Procede de synthese de nouveaux composes derives d'acide 3-hydroxy-cyclopentyl acetique

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017548141A Division JP6749335B2 (ja) 2015-03-13 2016-03-14 ３−ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022068786A Division JP2022105049A (ja) 2015-03-13 2022-04-19 ３－ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2020079311A true JP2020079311A (ja) 2020-05-28

Family

ID=53483881

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017548141A Expired - Fee Related JP6749335B2 (ja) 2015-03-13 2016-03-14 ３−ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法
JP2020030605A Pending JP2020079311A (ja) 2015-03-13 2020-02-26 ３−ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法
JP2022068786A Pending JP2022105049A (ja) 2015-03-13 2022-04-19 ３－ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017548141A Expired - Fee Related JP6749335B2 (ja) 2015-03-13 2016-03-14 ３−ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022068786A Pending JP2022105049A (ja) 2015-03-13 2022-04-19 ３－ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法

Country Status (10)

Country Link
US (2) US10654788B2 (ja)
EP (2) EP3901129B1 (ja)
JP (3) JP6749335B2 (ja)
KR (3) KR102137403B1 (ja)
CN (1) CN107428649B (ja)
BR (1) BR112017019462B1 (ja)
ES (1) ES2931836T3 (ja)
FR (1) FR3033559B1 (ja)
RU (1) RU2726412C2 (ja)
WO (1) WO2016146588A1 (ja)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5432457A (en) * 1977-08-18 1979-03-09 Sagami Chem Res Center Preparation of 2-alkyl-3-hydroxycyclo-pentylacetic acid esters and perfume composition containing the same
JPS6226248A (ja) * 1985-07-29 1987-02-04 T Hasegawa Co Ltd シス−２−アルキル−３−アルコキシカルボニルメチルシクロペンタノ−ル
JP2003238388A (ja) * 2002-02-04 2003-08-27 L'oreal Sa ジャスモン酸誘導体を含有する組成物と落屑促進のためのこれら誘導体の使用
JP2004231658A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 L'oreal Sa 乾燥肌を処置するための（ジヒドロ）ジャスモン酸誘導体の使用
JP2005047917A (ja) * 2003-07-28 2005-02-24 L'oreal Sa 落屑剤としての（ジヒドロ）ジャスモン酸誘導体の使用
FR2979232A1 (fr) * 2011-08-23 2013-03-01 Oreal Compositions cosmetiques sous la forme d'emulsions eau-dans-huile comprenant un derive d'acide jasmonique et un elastomere de silicone emulsionnant
WO2013165478A1 (en) * 2012-05-02 2013-11-07 Bedoukian Research, Inc. Control and repellency of bed bugs
JP2014500284A (ja) * 2010-12-20 2014-01-09 ロレアル ククルビン酸化合物およびアクリルコポリマーを含む化粧用組成物
JP2014500285A (ja) * 2010-12-20 2014-01-09 ロレアル ククルビン酸化合物および疎水性イヌリンを含む化粧用組成物
JP2014510761A (ja) * 2011-04-05 2014-05-01 ロレアル ククルビン酸化合物と、スルホンおよびアクリルポリマーのブレンドとを含む化粧料組成物

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1539268A (en) * 1976-12-23 1979-01-31 Ici Ltd Prostane derivatives
JPS5432471A (en) * 1977-08-18 1979-03-09 Sagami Chem Res Center 8-aklyl-3-oxo-2-oxabicyclo(3,2,1)-octanes, their preparation, and perfume composition containing the same
JPS5432456A (en) * 1977-08-18 1979-03-09 Sagami Chem Res Center Preparation of jasmonic acid analogue
US4603146A (en) 1984-05-16 1986-07-29 Kligman Albert M Methods for retarding the effects of aging of the skin
FR2581542B1 (fr) 1985-05-07 1988-02-19 Oreal Compositions topiques destinees au traitement de la peau a base de derives de l'acide salicylique
JPS61282343A (ja) * 1985-06-08 1986-12-12 T Hasegawa Co Ltd シス−２−アルキル−３−アルコキシカルボニルメチルシクロペンタノンの製法
JPH0694442B2 (ja) * 1986-09-29 1994-11-24 長谷川香料株式会社 〔２ｓ＊，３ｒ＊〕−２−（２ｚ−ペンテニル）−３−アルコキシカルボニルメチル−シクロペンタノンの製法
US5091171B2 (en) 1986-12-23 1997-07-15 Tristrata Inc Amphoteric compositions and polymeric forms of alpha hydroxyacids and their therapeutic use
JPH07110838B2 (ja) * 1990-08-30 1995-11-29 理化学研究所 植物生育調節剤
JPH0578541A (ja) * 1991-09-20 1993-03-30 Sekisui Chem Co Ltd ポリ酢酸ビニル系エマルジヨン組成物
ATE238763T1 (de) 1991-11-25 2003-05-15 Richardson Vicks Inc Verwendung von salicylsäure zur kontrolle von hautfalten und/oder hautatrophie
DE69607565T2 (de) * 1995-06-08 2000-12-14 Firmenich S.A., Genf/Geneve Verfahren zur herstellung von ungesättigten cycloalifatischen ketonen
US8603502B2 (en) * 2002-02-04 2013-12-10 L'oreal S.A. Compositions comprising jasmonic acid derivatives and use of these derivatives
US20040185075A1 (en) * 2003-01-31 2004-09-23 Maria Dalko Use of at least one (dihydro)jasmonic acid derivative for treating dry skin
JP4156462B2 (ja) 2003-07-16 2008-09-24 花王株式会社 酢酸エステル誘導体の製造法
DE102004009440A1 (de) 2004-02-24 2005-09-15 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von 4-Alkinalen durch Umsetzung von α,β-ungesättigten Aldehyden mit endständigen Alkinen
JP2010111633A (ja) 2008-11-07 2010-05-20 Chiba Univ グアニジン化合物及びグアニジン化合物のポリマー固定化複合体
US10111429B2 (en) * 2012-05-02 2018-10-30 Bedoukian Research, Inc. Feeding deterrence in agricultural pests such as hemiptera, lepidoptera and coleoptera

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5432457A (en) * 1977-08-18 1979-03-09 Sagami Chem Res Center Preparation of 2-alkyl-3-hydroxycyclo-pentylacetic acid esters and perfume composition containing the same
JPS6226248A (ja) * 1985-07-29 1987-02-04 T Hasegawa Co Ltd シス−２−アルキル−３−アルコキシカルボニルメチルシクロペンタノ−ル
JP2003238388A (ja) * 2002-02-04 2003-08-27 L'oreal Sa ジャスモン酸誘導体を含有する組成物と落屑促進のためのこれら誘導体の使用
JP2004231658A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 L'oreal Sa 乾燥肌を処置するための（ジヒドロ）ジャスモン酸誘導体の使用
JP2005047917A (ja) * 2003-07-28 2005-02-24 L'oreal Sa 落屑剤としての（ジヒドロ）ジャスモン酸誘導体の使用
JP2014500284A (ja) * 2010-12-20 2014-01-09 ロレアル ククルビン酸化合物およびアクリルコポリマーを含む化粧用組成物
JP2014500285A (ja) * 2010-12-20 2014-01-09 ロレアル ククルビン酸化合物および疎水性イヌリンを含む化粧用組成物
JP2014510761A (ja) * 2011-04-05 2014-05-01 ロレアル ククルビン酸化合物と、スルホンおよびアクリルポリマーのブレンドとを含む化粧料組成物
FR2979232A1 (fr) * 2011-08-23 2013-03-01 Oreal Compositions cosmetiques sous la forme d'emulsions eau-dans-huile comprenant un derive d'acide jasmonique et un elastomere de silicone emulsionnant
WO2013165478A1 (en) * 2012-05-02 2013-11-07 Bedoukian Research, Inc. Control and repellency of bed bugs

Also Published As

Publication number Publication date
RU2726412C2 (ru) 2020-07-14
WO2016146588A1 (fr) 2016-09-22
US10654788B2 (en) 2020-05-19
FR3033559B1 (fr) 2020-11-20
JP2022105049A (ja) 2022-07-12
US10995051B2 (en) 2021-05-04
RU2017131026A (ru) 2019-04-15
KR20170127003A (ko) 2017-11-20
ES2931836T3 (es) 2023-01-03
CN107428649B (zh) 2022-01-28
US20180057440A1 (en) 2018-03-01
JP2018509422A (ja) 2018-04-05
BR112017019462B1 (pt) 2020-11-24
KR20200091492A (ko) 2020-07-30
EP3268339A1 (fr) 2018-01-17
FR3033559A1 (fr) 2016-09-16
US20200131108A1 (en) 2020-04-30
RU2017131026A3 (ja) 2019-04-15
CN107428649A (zh) 2017-12-01
EP3901129A1 (fr) 2021-10-27
KR20220000400A (ko) 2022-01-03
KR102137403B1 (ko) 2020-07-24
JP6749335B2 (ja) 2020-09-02
EP3901129B1 (fr) 2022-09-14
BR112017019462A2 (pt) 2018-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3803327B2 (ja) ジャスモン酸誘導体を含有する組成物と落屑促進のためのこれら誘導体の使用
JP2003238331A (ja) シクロペンタン誘導体を含有する組成物と落屑促進のためのその用途
FR2991985A1 (fr) Procede de depigmentation des matieres keratiniques a l&#39;aide de nouveaux composes derives de resorcinol
JP6760939B2 (ja) Ｎ−アシルアミノ−アミドファミリーの化合物、それらを含む組成物、及び使用
JP6749335B2 (ja) ３−ヒドロキシシクロペンチル酢酸から誘導される新規化合物の合成方法
FR3067027B1 (fr) Derives de resorcinol pour leur utilisation cosmetique
CN111132965B (zh) 针对其美容用途的间苯二酚衍生物
JP3955585B2 (ja) 落屑剤としての（ジヒドロ）ジャスモン酸誘導体の使用
JP6802162B2 (ja) 皮膚老化を阻止するための新規な１，２−ジフェニルエチレングリコール化合物及びその美容的使用
CN107108422B (zh) 1-(3,4-二取代)苯基-2-(3,4-二取代)苯基乙烷化合物及其用途
JP6983656B2 (ja) 新規１−フェニルモノ−又は−ポリヒドロキシプロパン化合物、それらの組成物及び美容的使用
FR3019039A1 (fr) Composition cosmetique et/ou dermatologique pour la coloration de la peau

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200228

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210329

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20210628

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210806

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20211220