JP2020072974A - Cell activation method and cell activation device - Google Patents
Cell activation method and cell activation device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020072974A JP2020072974A JP2020007903A JP2020007903A JP2020072974A JP 2020072974 A JP2020072974 A JP 2020072974A JP 2020007903 A JP2020007903 A JP 2020007903A JP 2020007903 A JP2020007903 A JP 2020007903A JP 2020072974 A JP2020072974 A JP 2020072974A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- atmospheric pressure
- less
- irradiated
- irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Dental Tools And Instruments Or Auxiliary Dental Instruments (AREA)
- Electrotherapy Devices (AREA)
- Surgical Instruments (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
本発明は、細胞賦活化方法、及び細胞賦活化装置に関する。 The present invention relates to a cell activation method and a cell activation device.
従来、大気圧プラズマの発生装置は半導体基板、ガラス基板、各種フィルム等の表面清浄化に利用されている。大気圧プラズマの発生方法としては、対向する電極間に交流電圧を印加し、電極間にグロー放電プラズマを発生させる方法が一般的である。グロー放電によるプラズマ処理は、電極間の放電空間に照射対象を設置するダイレクト方式と、放電空間から活性種を吹き出して照射対象に照射するリモート方式とに大別される。照射対象に対する電気的ダメージが懸念される場合にはリモート方式が採用される。 Conventionally, an atmospheric pressure plasma generator is used for cleaning the surface of semiconductor substrates, glass substrates, various films, and the like. As a method of generating atmospheric pressure plasma, a method of applying an AC voltage between opposing electrodes to generate glow discharge plasma between the electrodes is generally used. Plasma processing by glow discharge is roughly classified into a direct method in which an irradiation target is set in a discharge space between electrodes and a remote method in which active species are blown from the discharge space to irradiate the irradiation target. The remote method is adopted when there is concern about electrical damage to the irradiation target.
リモート方式のプラズマ装置において、図5に例示する電極配置が採用されることがある。図5は従来のプラズマ装置100のプラズマ発生部の模式的な断面図である。プラズマ装置100は、プラズマ生成用ガスが下端部から上端部に向けて導入されるガス管101と、その管の上端部の側面に配置された一対の電極102a,102bと、当該電極及び管状誘電体を収納するノズル103とを備える。ガス管101は中空であり、絶縁体である。ガス管101の上端部から放出されたガスが、上端部の上方において対向配置された一対の電極102a,102bの間(プラズマ発生部)で電離さることにより大気圧プラズマが生成される。当該大気圧プラズマは、ノズル103の照射口から外部へ向けて照射される。
In the remote type plasma device, the electrode arrangement illustrated in FIG. 5 may be adopted. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the plasma generation part of the
従来のプラズマ装置から照射される大気圧プラズマは温度が高いため、水分を含むソフトマテリアルの照射には適さないという問題がある。例えば、細胞、生体組織、生物個体等の生体に照射した場合に、細胞や組織に過度な熱ストレスが加わり、火傷する恐れがある。 Since atmospheric pressure plasma emitted from a conventional plasma device has a high temperature, there is a problem that it is not suitable for irradiation of soft material containing water. For example, when a living body such as a cell, a living tissue, or an individual living body is irradiated, excessive heat stress is applied to the cell or tissue, which may cause a burn.
上記問題を解決する目的で、特許文献1には常圧低温マイクロプラズマ噴射装置が開示されている。当該装置にはプラズマ発生部の正極に多数の孔が設けられており、その正極とガス管を兼ねる負極との間で2〜3kVの電圧を印加して、41℃程度の比較的低温の大気圧プラズマ(常圧プラズマ)を噴射できる、としている。
For the purpose of solving the above problems,
しかし、特許文献1に記載のプラズマ装置の正極は、プラズマを生成し且つプラズマを透過する直径100μm以下の多数の微細な孔を有するので、電極構造が複雑である。この電極の製造に際しては、MEMS分野で適用される微細パターニング技術が必要であり、電極の製造コストが嵩む問題がある。
However, since the positive electrode of the plasma device described in
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、製造が簡便なプラズマ装置、及びその使用方法を提供する。また、医療用途に適用可能な窒素ガスプラズマ及び窒素ガスプラズマの照射方法を提供する。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a plasma device that is easy to manufacture and a method of using the plasma device. Further, a nitrogen gas plasma applicable to medical use and a method of irradiating the nitrogen gas plasma are provided.
<1>プラズマを照射して細胞を賦活化する、細胞賦活化方法であって、
対向する電極間に、プラズマ生成用ガスを毎分0.1L以上5.0L以下で供給し、前記プラズマ発生ガスに周波数0.5kHz以上20kHz未満の電圧を5.0kVpss以上20kVpps未満で印加して、前記プラズマを前記細胞に照射する照射工程を有し、
前記照射工程を所定の期間を空けて2回以上行う、細胞賦活化方法。
<2>対向する電極と、
前記の対向する電極間に印加する電圧を周波数0.5kHz以上20kHz未満かつ電圧5.0kVpss以上20kVpps未満に制御する電源制御部と、
前記電極間へのプラズマ生成用ガスの導入量を毎分0.1L以上5.0L以下とする照射量制御部と、を有し、
前記電極間に電圧を印加してプラズマを生じ、前記プラズマを細胞に対して、所定の期間を空けて2回以上照射する、細胞賦活化装置。
<1> A cell activation method for activating cells by irradiating plasma, comprising:
A plasma generating gas is supplied at a rate of 0.1 L or more and 5.0 L or less per minute between opposing electrodes, and a voltage having a frequency of 0.5 kHz or more and less than 20 kHz is applied to the plasma generation gas at 5.0 kVpss or more and less than 20 kVpps. And an irradiation step of irradiating the cells with the plasma,
A cell activation method, wherein the irradiation step is performed twice or more with a predetermined time interval.
<2> Opposing electrodes,
A power supply control unit that controls the voltage applied between the opposing electrodes to a frequency of 0.5 kHz or more and less than 20 kHz and a voltage of 5.0 kVpss or more and less than 20 kVpps;
And a dose control unit for controlling the amount of the plasma generation gas introduced between the electrodes to be 0.1 L or more and 5.0 L or less per minute,
A cell activation device, wherein a voltage is applied between the electrodes to generate plasma, and the cells are irradiated with the plasma twice or more with a predetermined time interval.
また、本発明は、以下の態様を有する。
[1]大気圧プラズマ生成用ガスが導入される管状誘電体と、前記管状誘電体の内空部において前記管状誘電体の軸線方向に延びる、コイル状又は表面に凹凸を有する形状の内部電極と、前記管状誘電体の外側に、前記内部電極に沿う外部電極と、を備えていることを特徴とするプラズマ装置。
[2] 前記外部電極の形状が、前記管状誘電体の外周部を取り巻く筒状であることを特徴とする[1]に記載のプラズマ装置。
[3] 前記大気圧プラズマ生成用ガスが窒素ガスであることを特徴とする[1]又は[2]に記載のプラズマ装置。
[4] 大気圧プラズマの照射口が、ヒトの口腔内に挿入され得る大きさであることを特徴とする[1]〜[3]の何れか一項に記載のプラズマ装置。
[5] 生成された大気圧プラズマが、細胞、生体組織又は生物個体の治療若しくは賦活に使用されることを特徴とする[1]〜[4]の何れか一項に記載のプラズマ装置。
[6] 生成された大気圧プラズマの照射量を制御する照射量制御機器をさらに備えたことを特徴とする[1]〜[5]の何れか一項に記載のプラズマ装置。
[7] [1]〜[6]の何れか一項に記載のプラズマ装置の使用方法であって、前記外部電極と前記内部電極の間に、20kVpp未満且つ20kHz未満の交流を印加することによって、大気圧プラズマを生成することを特徴とするプラズマ装置の使用方法。
[8] 前記管状誘電体に導入される前記大気圧プラズマ生成用ガスの導入量を制御することによって、照射口から照射される大気圧プラズマの照射量を毎分5.0L未満に制御することを特徴とする[7]に記載のプラズマ装置の使用方法。
[9] 大気圧プラズマの温度が、照射口から1mm以上10mm以下の距離において、40℃以下となる様に、前記交流及び前記大気圧プラズマ生成用ガスの導入量のうち少なくとも何れか一方を制御することを特徴とする[7]又は[8]に記載のプラズマ装置の使用方法。
[10] 細胞、生体組織又は生物個体に照射されたときに、その被照射部分を清浄化若しくは賦活化する又はその被照射部分にある傷若しくは異常の治癒を促進することを特徴とする窒素ガスプラズマ。
[11] 窒素ガスプラズマを細胞、生体組織又は生物個体に照射することによって、その被照射部分を清浄化若しくは賦活化する又はその被照射部分にある傷若しくは異常の治癒を促進することを特徴とする窒素ガスプラズマの照射方法(ただし、前記生物個体がヒトである場合を除く)。
[12] 窒素ガスプラズマを、歯周組織又は歯に照射することを特徴とする[11]に記載の窒素ガスプラズマの照射方法。
[13] 窒素ガスプラズマを、上皮組織に照射することを特徴とする[11]に記載の窒素ガスプラズマの照射方法。
Further, the present invention has the following aspects.
[1] A tubular dielectric into which an atmospheric pressure plasma generating gas is introduced, and an internal electrode that extends in the axial direction of the tubular dielectric in the inner space of the tubular dielectric and has a coil shape or a shape having irregularities on the surface A plasma device comprising: an outer electrode extending along the inner electrode, the outer electrode being provided outside the tubular dielectric.
[2] The plasma device according to [1], wherein the external electrode has a tubular shape surrounding the outer peripheral portion of the tubular dielectric.
[3] The plasma device according to [1] or [2], wherein the atmospheric pressure plasma generating gas is nitrogen gas.
[4] The plasma device according to any one of [1] to [3], wherein the irradiation port for atmospheric pressure plasma has a size that can be inserted into a human oral cavity.
[5] The plasma device according to any one of [1] to [4], wherein the generated atmospheric pressure plasma is used for treatment or activation of cells, living tissues or living individuals.
[6] The plasma device according to any one of [1] to [5], further comprising a dose control device that controls a dose of the generated atmospheric pressure plasma.
[7] The method of using the plasma device according to any one of [1] to [6], wherein an alternating current of less than 20 kVpp and less than 20 kHz is applied between the external electrode and the internal electrode. , A method of using a plasma device, which comprises generating atmospheric pressure plasma.
[8] Controlling the amount of atmospheric pressure plasma emitted from the irradiation port to be less than 5.0 L / min by controlling the amount of the atmospheric pressure plasma generating gas introduced into the tubular dielectric. [7] The method of using the plasma device according to [7].
[9] At least one of the alternating current and the introduction amount of the atmospheric pressure plasma generation gas is controlled so that the temperature of the atmospheric pressure plasma is 40 ° C. or lower at a distance of 1 mm or more and 10 mm or less from the irradiation port. The method of using the plasma device according to [7] or [8].
[10] Nitrogen gas characterized by cleaning or activating the irradiated part or promoting healing of a wound or an abnormality in the irradiated part when irradiated to cells, biological tissues or individual organisms plasma.
[11] A method of irradiating cells, living tissues, or living individuals with nitrogen gas plasma to clean or activate the irradiated portion or to promote healing of a wound or abnormality in the irradiated portion. Irradiation method of nitrogen gas plasma (excluding the case where the living individual is a human).
[12] The method for irradiating nitrogen gas plasma according to [11], which comprises irradiating periodontal tissue or teeth with nitrogen gas plasma.
[13] The method for irradiating nitrogen gas plasma according to [11], which comprises irradiating the epithelial tissue with nitrogen gas plasma.
本発明のプラズマ装置は、比較的安価なコストで製造できる。
本発明のプラズマ装置によれば低温の大気圧プラズマを照射できる。この大気圧プラズマを生体やソフトマテリアルに照射し、その被照射面を清浄化できる。さらに、当該プラズマ照射により、生体を治療したり、賦活したりすることができる。
本発明のプラズマ装置の使用方法によれば、プラズマ発生部に備えられた電極間に所定の交流を印加することによって、低温の大気圧プラズマを容易に発生することができる。
本発明の窒素ガスプラズマ及びその照射方法によれば、被照射部分を清浄化若しくは賦活化する又はその被照射部分にある傷若しくは異常の治癒を促進することができる。
The plasma device of the present invention can be manufactured at a relatively low cost.
According to the plasma device of the present invention, low temperature atmospheric pressure plasma can be irradiated. A living body or a soft material can be irradiated with this atmospheric pressure plasma to clean the irradiated surface. Further, the plasma irradiation can treat or activate the living body.
According to the method of using the plasma device of the present invention, low-temperature atmospheric pressure plasma can be easily generated by applying a predetermined alternating current between the electrodes provided in the plasma generation unit.
According to the nitrogen gas plasma and the irradiation method thereof of the present invention, it is possible to clean or activate the irradiated portion or promote healing of a wound or abnormality in the irradiated portion.
《プラズマ装置》
本発明にかかる第一実施形態のプラズマ装置1の要部を図1に示す。
プラズマ装置1は、大気圧プラズマ生成用ガスGが電離されて大気圧プラズマPが発生するプラズマ発生部2と、大気圧プラズマPを外部へ向けて照射する照射口6と、を備える。
<Plasma device>
FIG. 1 shows a main part of the
The
プラズマ発生部2は、大気圧プラズマ生成用ガスGが導入される管状誘電体3と、管状誘電体3の内空部に設置され、管状誘電体3の軸線方向(矢印D1)に延びる、コイル状の内部電極4と、管状誘電体3の外側の外周部に設置され、内部電極4に沿って延びる外部電極5と、を備える。内部電極4及び外部電極5の構成材料は導電材であれば特に限定されず、公知のプラズマ装置の電極に使用される金属が適用できる。内部電極4と外部電極5には両電極間に電圧を印加する電源Eが接続されている。
The
管状誘電体3の第一端部(後端部)には大気圧プラズマ生成用ガスGを供給するボンベ(不図示)が配管を介して接続されている。管状誘電体3の構成材料は特に限定されず、公知のプラズマ装置に使用される誘電体材料が適用可能であり、例えば、ガラス、セラミックス、合成樹脂等が挙げられる。管状誘電体3の誘電率は低いほど好ましい。管状誘電体3の断面形状は特に限定されず、例えば、円、楕円、四角形、六角形等が挙げられる。
A cylinder (not shown) for supplying the atmospheric pressure plasma generating gas G is connected to the first end (rear end) of the tubular dielectric 3 through a pipe. The constituent material of the
カウリング7は、外部電極5、管状誘電体3及び内部電極4を内部空間に収納している。この構成により、外部から外部電極5又は内部電極4に不用意に接触して感電することが防止されている。カウリング7は絶縁材によって構成されていることが好ましい。
The
カウリング7の先端部の形状はテーパー状であり、その頂部に、大気圧プラズマPを導出する照射口6が開口している。照射口6は、管状誘電体3の先端部の上方において管状誘電体3の軸線の延長線上に位置している。
The shape of the tip of the
図2に、図1のx−x線で切断した断面図を示す。円筒状のカウリング7、円筒状の外部電極5、管状誘電体3、コイル状の内部電極4が、この順で外側から中心へ向けて同心円状に配置されている。外部電極5は管状誘電体3の外周面に密着して配置されている。内部電極4は管状誘電体3の内周面から所定距離で離間して配置されている。
FIG. 2 shows a sectional view taken along line xx of FIG. The
図3に、図1のy−y線で切断した断面図を示す。ただし、カウリング7は省略して図示していない。
図3に示すように、管状誘電体3、外部電極5及び内部電極4の長手方向は、同一方向(矢印D1方向)に沿う。この断面において、管状誘電体3の管壁3aを挟んで内部電極4のコイルの外周面が外部電極5の内周面に対向し、近接する箇所4pは、複数存在している。各箇所4pは互いに離間し、分散して配置されている。
上記配置により、電圧を印加された内部電極4が局所的に過度に加熱されることが防止され、低温の大気圧プラズマPが容易に生成される。
FIG. 3 shows a sectional view taken along the line yy of FIG. However, the
As shown in FIG. 3, the longitudinal directions of the
With the above arrangement, the
内部電極4のコイルの各箇所4pと外部電極5との距離は、同じであってもよく、異なっていてもよい。複数ある前記近接する箇所4pのうち、2カ箇所以上が大気圧プラズマを発生し得る距離で外部電極5の内周面に近接していることが好ましい。低温の大気圧プラズマを容易に発生し得る距離として、例えば、0.01〜2.0mmが挙げられる。
The distance between each
プラズマ装置1に備えられる内部電極4の形状は、コイル状に限定されず、外部電極5に対向する電極表面に凹凸を有する形状であってもよい。例えば、棒状又は筒状の内部電極4の外周面にイボ(突起)、溝、穴、貫通孔が複数形成された形状が挙げられる。内部電極4の断面形状は特に限定されず、例えば、円、楕円形、四角形、六角形等が挙げられる。
また、長さ方向に直交する断面において内部電極4の外周面の複数箇所で外部電極5の内面に対向する形状であれば、その他のいかなる形状であってもよい。
The shape of the
Further, any other shape may be used as long as it is a shape that faces the inner surface of the
図4に、本発明にかかる第二実施形態のプラズマ装置10のプラズマ発生部2の模式図を示す。第一実施形態のプラズマ装置1と同じ部材には、同じ符号を付している。プラズマ装置10の内部電極4’の外周面には、複数のイボ状突起4qが互いに離間し、分散して配置されている。図4の内部電極4’の外周面のうち外部電極5と重なる領域(図において隠れている領域)においてイボ状突起4qが上記の様に配置されている。外周面図4のx−x線で切断した模式的な断面は図2である。
FIG. 4 shows a schematic diagram of the
図4に示すように、管状誘電体3、外部電極5及び内部電極4’の長手方向は、同一の矢印D1方向に沿う。管状誘電体3の管壁3aを挟んで内部電極4’の外周面のイボ状突起4qが外部電極5の内周面に対向している。外部電極5の内周面に近接する箇所としてのイボ状突起4qは複数存在している。
上記配置により、電圧を印加された内部電極4’が局所的に過度に加熱されることが防止され、低温の大気圧プラズマPが容易に生成される。
As shown in FIG. 4, the longitudinal directions of the
With the above arrangement, the
外部電極5の形状は、内部電極4(以下、特に明記しない限り、内部電極4’と区別しない。)に沿って配置可能な形状であれば特に限定されず、例えば、円筒状、棒状、板状等の形状が挙げられる。これらのうち、円筒状が好ましく、管状誘電体3の外周面に密着して設置することが可能な内径を有する円筒状がより好ましい。この様な円筒状であることにより、内部電極4の外周面に外部電極5の内周面が確実に対向する様に、外部電極5を配置することができる。
The shape of the
外部電極5が棒状又は板状である場合、当該外部電極5が設置される個数は特に限定されず、1個でもよく、2個以上でもよい。2個以上が設置される場合、管状誘電体3の外周に均等の間隔で配置されると、大気圧プラズマ生成用ガスGの電離する箇所が分散されるので、好ましい。
When the
カウリング7の形状は特に限定されず、外部電極5及び内部電極4を内部空間に収納可能な形状であることが好ましい。管状誘電体3も同様に内部空間に収納されることが好ましいが、カウリング7の外へ管状誘電体3の先端部が突出していても構わない。カウリング7は、管状誘電体3の先端部から放出された大気圧プラズマPを、外部の照射対象に向けて照射する照射口6を有することが好ましい。
The shape of the
カウリング7はプラズマ発生部2で発生した大気圧プラズマを装置の外部へ照射するノズルとして機能することが好ましい。照射口6及び照射口6を構成するカウリング7のノズル部分がヒトの口腔内に挿入され得る大きさであると、大気圧プラズマPを歯科の治療又は審美の目的に容易に適用できる。
The
プラズマ装置1は、外部電極5と内部電極4の間に電圧を印加する電源Eの電圧および周波数を制御する、電源制御部(不図示)を備えることが好ましい。前記電源制御部として、例えば、公知の電源制御機器が挙げられる。
The
プラズマ装置1は、大気圧プラズマPの照射量を制御する照射量制御部(不図示)を備えることが好ましい。前記照射量制御部として、例えば、管状誘電体3に導入されるプラズマ生成用ガスGの導入量を制御する機器が挙げられる。具体的には、例えば、プラズマ生成用ガスGのボンベ(不図示)から配管を介して管状誘電体3に導入されるガスの流量を制御する、公知のマスフローコントローラが挙げられる。
The
以上で説明した様に、プラズマ装置1のプラズマ発生部2は単純な構造を有するため、比較的安価なコストで製造することができる。
As described above, the
《プラズマ装置の使用方法》
図1のプラズマ装置1の使用方法を例示する。管状誘電体3の下端部(第一端部)からその内空部へ、ボンベから供給されるプラズマ生成用ガスGを導入する。内空部に導入されたプラズマ生成用ガスGは、管状誘電体3の先端部(第二端部)に設置された内部電極4と外部電極5が対向する複数の箇所4pにおいて電離され、大気圧プラズマPになる。この際、内部電極4と外部電極5の間には電圧が印加される。
<How to use the plasma device>
The usage method of the
内部電極4の外周面と外部電極5の内周面とが対向する複数の箇所4pで発生した大気圧プラズマPは、管状誘電体3の先端部から放出され、カウリング7の内部空間において照射口6へ誘導される。照射口6を照射対象へ向けて、大気圧プラズマPを照射する。カウリング7の先端部の内部空間はテーパー形状とされており、その頂部に照射口6が設けられているので、カウリング7の先端部はノズルとして機能する。
Atmospheric pressure plasma P generated at a plurality of
管状誘電体3の内空部において、内部電極4の外周面と外部電極5の内周面が、管状誘電体3の管壁3aを挟んで互いに対向して配置されている。この配置により、大気圧プラズマ生成用ガスGが電離するための電界集中が起こる複数の箇所4pが分散されている。この結果、電圧を印加された内部電極4が局所的に過度に加熱されることが防止され、低温の大気圧プラズマPが容易に生成される。
内部電極4がコイル状である場合に限らず、表面に複数の凹凸が形成された前述の内部電極であれば同様に、低温の大気圧プラズマが容易に生成される。
In the inner space of the
Not only when the
一方、図5の従来のプラズマ装置100においては、電極102a,102bがガス管101の先端部の1箇所で局所的に近接しており、その局所に電界集中が起きるため、プラズマ発生時に電極が過熱し、生成される大気圧プラズマの温度が高くなる問題がある。
On the other hand, in the
プラズマ装置1においては、不図示の電源制御部により電極4,5間に印加される電圧および周波数を制御することによって、大気圧プラズマPに含まれる活性種の含有量及び大気圧プラズマPの温度を容易に制御することができる。
一例として、外部電極5と内部電極4の間に、20kVpp未満且つ20kHz未満の範囲で制御された交流を印加することによって、例えば40℃以下の大気圧プラズマPを発生させることができる。
In the
As an example, by applying a controlled alternating current in the range of less than 20 kVpp and less than 20 kHz between the
電極4,5間に印加する交流電圧は、5.0kVpp以上20kVpp未満が好ましく、6.0kVpp以上15kVpp未満がより好ましく、7.0kVpp以上10kVpp未満がさらに好ましい。ここで、交流電圧を表す単位「Vpp(Volt peak to peak)」は交流電圧波形の最高値と最低値の電位差である。
印加する交流電圧を上記各範囲の上限値未満にすることによって、発生する大気圧プラズマPの温度を低く抑えることができる。上記各範囲の下限値以上にすることによって、大気圧プラズマPを容易に発生させることができる。
The AC voltage applied between the
By setting the applied AC voltage to be less than the upper limit value of each of the above ranges, the temperature of the generated atmospheric pressure plasma P can be suppressed low. The atmospheric pressure plasma P can be easily generated by setting the upper limit of each range above.
電極4,5間に印加する交流の周波数は、0.5kHz以上20kHz未満が好ましく、1kHz以上15kHz未満がより好ましく、2kHz以上10kHz未満がさらに好ましく、3kHz以上9kHz未満が特に好ましく、4kHz以上8kHz未満が最も好ましい。
交流の周波数を上記各範囲の上限値未満にすることによって、発生する大気圧プラズマPの温度を低く抑えることができる。上記各範囲の下限値以上にすることによって、大気圧プラズマPを容易に発生させることができる。
The frequency of the alternating current applied between the
By setting the frequency of the alternating current to be less than the upper limit value of each of the above ranges, the temperature of the generated atmospheric pressure plasma P can be suppressed low. The atmospheric pressure plasma P can be easily generated by setting the upper limit of each range above.
管状誘電体3へのプラズマ生成用ガスGの導入量を制御することにより、照射口6から照射される大気圧プラズマPの照射量を毎分5.0L未満に制御することが好ましい。
プラズマ装置1において、プラズマ生成用ガスGの導入量と、大気圧プラズマPの照射量とはほぼ1:1で対応している。上記導入量を毎分5.0L未満に制御することによって、上記照射量を毎分5.0L未満に制御することができる。
It is preferable to control the irradiation amount of the atmospheric pressure plasma P irradiated from the
In the
上記導入量及び上記照射量は、各々、毎分0.1L以上5.0L未満が好ましく、毎分0.3L以上3.5L未満がより好ましく、毎分0.6L以上2.0L未満がさらに好ましい。
上記各範囲の下限値以上であると、大気圧プラズマPが被照射面に作用する効率が充分に高められる。
上記各範囲の上限値未満であると、大気圧プラズマPの被照射面の温度が過度に高まることを防止できる。さらに、被照射面が濡れている場合には、当該被照射面の急速な乾燥を防止できる。さらに、被照射面が患部である場合には、患者に痛みを与えることを防止できる。
The introduction amount and the irradiation amount are each preferably 0.1 L or more and less than 5.0 L per minute, more preferably 0.3 L or more and less than 3.5 L per minute, and further preferably 0.6 L or more and less than 2.0 L per minute. preferable.
When it is at least the lower limit value of each of the above ranges, the efficiency with which the atmospheric pressure plasma P acts on the irradiated surface is sufficiently enhanced.
When it is less than the upper limit of each of the above ranges, it is possible to prevent the temperature of the surface to be irradiated with the atmospheric pressure plasma P from rising excessively. Further, when the surface to be irradiated is wet, it is possible to prevent the surface to be irradiated from being rapidly dried. Furthermore, when the irradiated surface is the affected area, it is possible to prevent the patient from suffering pain.
照射口6から照射される大気圧プラズマPの温度が、照射口6から1mm以上10mm以下の距離で離れた位置(照射距離)において、40℃以下となる様に、交流電源の電圧及び周波数並びに大気圧プラズマ生成用ガスGの導入量のうち、少なくとも何れか一つを制御することが好ましい。
例えば、前述した電圧、周波数の好適な範囲に設定するか、又は前述した導入量の好適な範囲に設定することによって、上記位置における大気圧プラズマPの温度を40℃以下に制御することができる。
なお、上記位置における大気圧プラズマPの温度は、照射口6から空気中に大気圧プラズマPを照射した状態で、照射口6から上記位置に棒状熱電対の先端部を設置して測定される。
The voltage and frequency of the AC power supply and the temperature and the frequency of the AC power supply are set so that the temperature of the atmospheric pressure plasma P irradiated from the
For example, the temperature of the atmospheric pressure plasma P at the above-mentioned position can be controlled to 40 ° C. or lower by setting the voltage and frequency described above in a suitable range or by setting the introduction amount in a suitable range described above. ..
The temperature of the atmospheric pressure plasma P at the above position is measured by irradiating the atmospheric pressure plasma P in the air through the
管状誘電体3に導入する大気圧プラズマ生成用ガスGの種類は特に限定されず、例えば、酸素、ヘリウム、アルゴン等の公知のプラズマ生成用ガスの他、本発明者らが知る限り従来使用されることがなかった窒素ガスを使用することができる。
プラズマ装置1のプラズマ発生部2は、前述した様に、内部電極4の複数の箇所4pにおいて窒素ガスを効率的に電離して、低温の窒素ガスプラズマを容易に生成できる。
管状誘電体3に導入する大気圧プラズマ生成用ガスGは、1種のガスでもよく、2種以上を混合したガスでもよい。
The type of the atmospheric pressure plasma generation gas G to be introduced into the
As described above, the
The atmospheric pressure plasma generation gas G introduced into the
窒素ガスプラズマを生成する場合、管状誘電体3に導入する大気圧プラズマ生成用ガスGに含まれる窒素ガスの体積は、50%超であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、90〜100%であることがさらに好ましい。残りのガス成分の種類は特に限定されず、例えば、空気を窒素と混合して、窒素ガスプラズマを生成することができる。
When nitrogen gas plasma is generated, the volume of nitrogen gas contained in the atmospheric pressure plasma generation gas G introduced into the
《大気圧プラズマの利用》
プラズマ装置1で発生する大気圧プラズマPは、細胞、生体組織、生物個体等の生体に照射する目的で使用されることが好ましい。生体に大気圧プラズマPを照射することによって、当該生体を治療若しくは賦活することができる。例えば、切傷、擦傷、火傷等の外傷又はその他の異常がある患部に大気圧プラズマPを照射することによって、当該外傷及び異常の治癒を促進する効果が得られる。
<Use of atmospheric pressure plasma>
The atmospheric pressure plasma P generated in the
外傷や異常のある患部に大気圧プラズマPを照射する際に、患者に痛みを与えることを防ぐ目的で照射量を少なくすることが求められる場合がある。この場合、プラズマ装置1の管状誘電体3の後端部から導入するプラズマ生成用ガスGの導入量を少なくすることによって、照射口6から照射される大気圧プラズマPの照射量を少なくすることができる。
When the atmospheric pressure plasma P is applied to an affected area with trauma or abnormality, it may be required to reduce the irradiation dose for the purpose of preventing pain to the patient. In this case, the irradiation amount of the atmospheric pressure plasma P irradiated from the
大気圧プラズマPに含まれる活性種の濃度を高めることによって、前記治癒をより促進することが求められる場合がある。この場合、大気圧プラズマPを照射する際に、照射口6を被照射部分に対して0.01mm以上10mm以下の距離に近づけることによって、より高濃度の活性種を含む大気圧プラズマPを照射することができる。
プラズマ装置1から照射される大気圧プラズマPの温度を40℃以下に設定できるので、照射口6を被照射部分に対して近づけた場合にも、被照射部分の温度が過度に高くなる恐れがない。したがって、被照射部分が患部である場合にも、当該患部に火傷を負わせることなく照射することができる。
It may be required to further promote the healing by increasing the concentration of the active species contained in the atmospheric pressure plasma P. In this case, when the atmospheric pressure plasma P is irradiated, the
Since the temperature of the atmospheric pressure plasma P emitted from the
プラズマ装置1で発生した窒素ガスプラズマは、外傷や異常の治癒を促進する効果を有する。後述する実施例で示す様に、窒素ガスプラズマを、細胞、生体組織又は生物個体に照射することによって、その被照射部分を清浄化若しくは賦活化する又はその被照射部分にある傷若しくは異常を治癒することができる。
前記生体組織としては、内蔵等の各器官、体表や体腔の内面をおおう上皮組織、歯肉、歯槽骨、歯根膜及びセメント質等の歯周組織、歯、骨等が挙げられる。
The nitrogen gas plasma generated in the
Examples of the biological tissue include organs such as internal organs, epithelial tissue covering the surface of the body and the inner surface of the body cavity, periodontal tissue such as gingiva, alveolar bone, periodontal ligament and cementum, teeth and bone.
外傷や異常の治癒を促進する目的で窒素ガスプラズマを照射する場合、その照射頻度、照射回数及び照射期間は特に限定されず、例えば、毎分0.5L以上5.0Lの照射量で窒素ガスプラズマを患部に照射する場合、1日1〜5回、毎回10秒〜10分、1〜30日間、等の照射条件が、治癒を促進する観点から好ましい。 When irradiating nitrogen gas plasma for the purpose of promoting healing of trauma or abnormality, the irradiation frequency, the number of times of irradiation, and the irradiation period are not particularly limited. For example, nitrogen gas is irradiated at a dose of 0.5 L or more and 5.0 L per minute. When irradiating the affected area with plasma, irradiation conditions such as 1 to 5 times a day, 10 seconds to 10 minutes each time, 1 to 30 days are preferable from the viewpoint of promoting healing.
(温度測定)
プラズマ装置1を使用して、8.2kVpp、7kHzの交流を外部電極5と内部電極4の間に印加して、大気圧の窒素ガスプラズマを発生させた。照射口6から2mm又は10mmの距離に設置した棒状熱電対の先端部に向けて、窒素ガスプラズマを毎分1Lで照射し、その温度を測定した。
その結果、照射口6から2mmの距離においては約36℃であり、照射口6から10mmの距離においては約32℃であった。
(Temperature measurement)
Using the
As a result, it was about 36 ° C. at a distance of 2 mm from the
(創傷の治癒の促進1)
背中の2箇所に同等の創傷を負ったウサギを準備して、片方の創傷に対してのみ、約5mmの距離から大気圧の窒素ガスプラズマ(8.2kVpp、7kHz、毎分1L、40℃)を90秒間照射した。その結果、照射1日後には創傷の表面にかさぶたが形成され、照射3日後には創傷の面積が縮小し、治癒が進行していた。一方、比較対照のために窒素ガスプラズマを照射しなかった、残りの片方の創傷には、1日後には変化は無く、3日後以降にかさぶたが形成され始めた。
(Promotion of wound healing 1)
Prepare a rabbit with two wounds on the back, and apply nitrogen gas plasma (8.2kVpp, 7kHz, 1L / min 40 ℃) at atmospheric pressure from a distance of about 5mm for one wound only. Was irradiated for 90 seconds. As a result, a scab was formed on the surface of the wound one day after the irradiation, and the area of the wound was reduced three days after the irradiation, and the healing was progressing. On the other hand, the remaining one wound, which was not irradiated with nitrogen gas plasma for comparison and control, showed no change after 1 day, and scabs began to be formed after 3 days.
上記の窒素ガスプラズマを照射した創傷の7日後の細胞組織を観察したところ、厚い表皮が再生されており、線維芽細胞の増生があり、血管の新生があることが確認された。
一方、窒素ガスプラズマを照射しなかった比較対照の創傷における7日後の細胞組織を観察したところ、薄い表皮が再生されていたが、線維芽細胞の増生及び血管の新生は見られなかった。
When the cell tissue was observed 7 days after the wound irradiated with the above-mentioned nitrogen gas plasma, it was confirmed that the thick epidermis was regenerated, the proliferation of fibroblasts and the formation of blood vessels.
On the other hand, when the cell tissue of a comparative control wound that was not irradiated with nitrogen gas plasma was observed 7 days later, thin epidermis was regenerated, but neither fibroblast proliferation nor vascularization was observed.
(創傷の治癒の促進2)
背中の2箇所に同等の創傷を負った別のウサギを準備して、片方の創傷に対してのみ、1日1回、7日間続けて、上記と同様の大気圧の窒素ガスプラズマを照射した。その創傷の7日後の細胞組織を観察したところ、1回だけ照射した場合よりも厚い表皮が再生されており、線維芽細胞の旺盛な増生があり、多数の血管の新生があることが確認された。
一方、窒素ガスプラズマを照射しなかった比較対照の創傷における7日後の細胞組織を観察したところ、薄い表皮が再生されていたが、線維芽細胞の増生は少なく、血管の新生は見られなかった。
(Promotion of wound healing 2)
Another rabbit with two wounds on the back was prepared, and only one wound was irradiated with nitrogen gas plasma at atmospheric pressure similar to the above once a day for 7 consecutive days. .. Observation of the
On the other hand, when the cell tissue of a control wound that was not irradiated with nitrogen gas plasma was observed 7 days later, the thin epidermis was regenerated, but the proliferation of fibroblasts was little and no neovascularization was observed. ..
(創傷の治癒の促進3)
背中の3箇所に同等の創傷を負った普通ラット(SDラット)を準備した。
第一の創傷に対しては、創傷を負った直後に1回のみ、約1mmの距離から大気圧の窒素ガスプラズマ(8.2kVpp、7.4kHz、毎分1L、35℃)を90秒間照射した。
第二の創傷に対しては、創傷を負った直後に1回と、その後5日間にわたって一日に1回照射して、合計5回の窒素ガスプラズマを上記と同じ条件で照射した。
第三の創傷に対しては、窒素ガスプラズマを照射しなかった。
創傷を負った日から5日後の状態を比較したところ、第二の創傷(毎日照射)、第一の創傷(1回のみ照射)、第三の創傷(照射なし)の順で治癒が進んでいた。
上記の結果から、窒素ガスプラズマの照射が創傷の治癒を促進したと考えられる。
(Promotion of wound healing 3)
A normal rat (SD rat) having three wounds on the back was prepared.
Immediately after injuring the first wound, nitrogen gas plasma (8.2 kVpp, 7.4 kHz, 1 L / min, 35 ° C.) at atmospheric pressure was irradiated once for 90 seconds from a distance of about 1 mm. did.
The second wound was irradiated once immediately after the wound and then once a day for 5 days, for a total of 5 times of nitrogen gas plasma irradiation under the same conditions as above.
The third wound was not exposed to nitrogen gas plasma.
Comparing the conditions after 5 days from the wounded day, the healing progressed in the order of the second wound (daily irradiation), the first wound (only one irradiation), and the third wound (no irradiation). I was there.
From the above results, it is considered that irradiation with nitrogen gas plasma promoted wound healing.
(創傷の治癒の促進4)
糖尿病ラット(SDT Fatty)を用いて、上記の普通ラット(SDラット)と同様の試験を行った。その結果、上記と同様に、第二の創傷(毎日照射)、第一の創傷(1回のみ照射)、第三の創傷(照射なし)の順で治癒が進んでいたことを確認できた。
(Promotion of wound healing 4)
Using diabetic rats (SDT Fatty), the same test as the above-mentioned normal rats (SD rats) was performed. As a result, similar to the above, it was confirmed that the healing proceeded in the order of the second wound (daily irradiation), the first wound (only once irradiation), and the third wound (no irradiation).
以上の結果から、大気圧の窒素ガスプラズマの照射によって創傷の治癒が促進されることが明らかである。 From the above results, it is clear that irradiation of nitrogen gas plasma at atmospheric pressure promotes wound healing.
(バイオフィルムの除去)
抜歯されたヒトの大臼歯について、超音波スケーラーを用いて歯石及び汚れを取り除き、歯面研磨剤を用いて機械的に歯面を研磨し、超音波洗浄機を用いて研磨剤等を取り除き、エチレンオキサイドガスを用いて滅菌することにより、実験用の歯材料を得た。
歯材料の表面に歯周病菌(P.Gingivalis)を付着させ、培養することにより、歯材料の表面の広範囲にバイオフィルム(プラーク)を形成した。
歯材料の表面にこびり付いたバイオフィルムに対して、約1mmの距離から大気圧の窒素ガスプラズマ(8.2kVpp、7.4kHz、毎分1L、35℃)を90秒間照射した。
照射後の歯材料を水中で軽く濯いだ後、歯表面を観察したところ、照射した箇所のバイオフィルムは洗い落とされていた。一方、窒素ガスプラズマを照射しなかった箇所のバイオフィルムは付着したままであった。
(Removal of biofilm)
For extracted human molars, remove tartar and dirt using an ultrasonic scaler, mechanically polish the tooth surface with a tooth surface abrasive, remove the abrasive etc. using an ultrasonic cleaner, Experimental tooth material was obtained by sterilization with ethylene oxide gas.
By attaching periodontopathic bacteria (P. Gingivalis) to the surface of the tooth material and culturing, a biofilm (plaque) was formed over a wide area of the surface of the tooth material.
The biofilm clinging to the surface of the tooth material was irradiated with a nitrogen gas plasma at atmospheric pressure (8.2 kVpp, 7.4 kHz, 1 L / min, 35 ° C.) for 90 seconds from a distance of about 1 mm.
After rinsing the tooth material after irradiation lightly in water and observing the tooth surface, the biofilm in the irradiated area was washed off. On the other hand, the biofilm on the part not irradiated with the nitrogen gas plasma remained attached.
バイオフィルムが付着した歯材料に対して、窒素ガスプラズマの代わりに単なる窒素ガスを吹き付ける比較実験を行ったところ、バイオフィルムを除去することはできなかった。 When a comparative experiment in which a mere nitrogen gas was blown instead of the nitrogen gas plasma was performed on the tooth material to which the biofilm was attached, the biofilm could not be removed.
(歯周病の治療1)
健康なハムスターの第一臼歯の周辺に歯周病菌を感染させて、後日のPCR検査により歯周病菌が増殖したことを確認した。このハムスターの炎症を起こしている歯肉に対して、約1mmの距離から大気圧の窒素ガスプラズマ(8.2kVpp、7.4kHz、毎分1L、35℃)を90秒間照射した。
1日後に照射した箇所の歯肉を観察したところ、明らかに炎症が改善されていた。一方、窒素ガスプラズマを照射しなかた箇所の歯肉の炎症は改善されていなかった。
(Treatment of periodontal disease 1)
The periodontal disease bacteria were infected around the first molar of a healthy hamster, and it was confirmed by the PCR test at a later date that the periodontal disease bacteria were proliferated. The inflamed gingiva of this hamster was irradiated with a nitrogen gas plasma at atmospheric pressure (8.2 kVpp, 7.4 kHz, 1 L / min, 35 ° C.) for 90 seconds from a distance of about 1 mm.
Observation of the gingiva at the irradiated site one day later revealed that inflammation was clearly improved. On the other hand, the inflammation of the gingiva in the area not irradiated with nitrogen gas plasma was not improved.
(歯周病の治療2)
上記と同じ歯周炎を起こしているハムスターの歯肉に対して、約1mmの距離から大気圧の窒素ガスプラズマ(8.2kVpp、7.4kHz、毎分1L、35℃)を90秒間照射した。その後7日間にわたって一日に1回照射して、合計7回の窒素ガスプラズマを上記と同じ条件で照射した。
1回目の照射から7日後に、照射した箇所の歯肉を観察したところ、炎症が治まり、治癒していた。一方、窒素ガスプラズマを照射しなかた箇所の歯肉の炎症は殆ど改善されていなかった。
(Treatment of periodontal disease 2)
The gingiva of a hamster having the same periodontitis as above was irradiated with nitrogen gas plasma (8.2 kVpp, 7.4 kHz, 1 L / min, 35 ° C.) at atmospheric pressure for 90 seconds from a distance of about 1 mm. After that, the irradiation was performed once a day for 7 days, and the nitrogen gas plasma was irradiated 7 times in total under the same conditions as above.
Seven days after the first irradiation, the gingiva in the irradiated area was observed, and it was found that the inflammation had subsided and healed. On the other hand, the inflammation of the gingiva in the area not irradiated with the nitrogen gas plasma was hardly improved.
(歯周病の治療3)
4匹の健康なビーグル犬(体重約10kg)の左上の臼歯に糸を巻き、柔らかい餌を与えて、当該臼歯の周辺に汚れが付着し易い状態で21日間飼育することによって、当該臼歯の周辺に、触診により出血しない程度の歯肉炎を引き起こした。
(Treatment of periodontal disease 3)
Surrounding the molars of four healthy beagle dogs (body weight: about 10 kg) by winding a thread around the upper left molars, feeding them with soft food, and raising them for 21 days in a state where stains tend to adhere to the surrounding molars. In addition, palpation caused gingivitis to the extent that bleeding did not occur.
歯肉炎を患った上記4匹のビーグル犬のうちの2匹について、炎症を起こしている歯肉に対して、約1mmの距離から大気圧の窒素ガスプラズマ(8.2kVpp、7.4kHz、毎分1L、35℃)を90秒間照射した。このプラズマ照射を1日おきに1回ずつ、2週間にわたって合計7回行った。
1回目の照射から2週間後に、照射した箇所の歯肉を観察したところ、炎症が治まり、治癒していた。
About 2 of the above 4 beagle dogs suffering from gingivitis, nitrogen gas plasma at atmospheric pressure (8.2 kVpp, 7.4 kHz, per minute) was applied to the inflamed gingiva from a distance of about 1 mm. 1 L, 35 ° C.) for 90 seconds. This plasma irradiation was performed once every other day for a total of 7 times over 2 weeks.
Two weeks after the first irradiation, the gingiva at the irradiated site was observed, and it was found that the inflammation had subsided and healed.
歯肉炎を患った上記4匹のビーグル犬のうちの他の1匹について、炎症を起こしている歯肉に対して、約5mmの距離から単なる窒素ガス(毎分1L、20〜25℃)を90秒間吹き付けた。この吹き付けを1日おきに1回ずつ、2週間にわたって合計7回行った。
1回目の吹き付けから2週間後に、吹き付けた箇所の歯肉を観察したところ、歯肉の炎症は改善されていなかった。
About another one of the above four beagle dogs suffering from gingivitis, a simple nitrogen gas (1 L, 20 to 25 ° C.) was applied to the inflamed gingiva from a distance of about 5 mm for 90 minutes. Sprayed for seconds. This spraying was performed once every other day for a total of 7 times over 2 weeks.
Two weeks after the first spraying, when the gingiva at the sprayed site was observed, inflammation of the gingiva was not improved.
歯肉炎を患った上記4匹のビーグル犬のうちの残りの1匹については、何も処置しなかった。2週間後に歯肉を観察したところ、歯肉の炎症は改善されていなかった。 The remaining one of the four beagle dogs suffering from gingivitis was untreated. When the gingiva was observed after 2 weeks, the inflammation of the gingiva was not improved.
(歯根膜細胞の賦活化)
12ウェルプレートを使用して、ヒトの歯根膜細胞を石灰化用培地(細胞が石灰化すると赤く染まる試薬を含む)に播種し、公知方法により培養した。
3つのウェル内の培養細胞に対して、約1mm離れた上方から大気圧の窒素ガスプラズマ(8.2kVpp、7.4kHz、毎分1L、35℃)を90秒間照射した。翌日に当該ウェルを観察したところ、石灰化したことを示す赤色の細胞がウェル内の広い範囲に濃く観察された。
別の3つのウェル内の培養細胞に対して、約1mm離れた上方から単なる窒素ガス(毎分1L、20〜25℃)を90秒間吹き付けた。翌日に当該ウェルを観察したところ、石灰化したことを示す赤色の細胞がウェル内の一部の箇所に薄く観察された。
さらに別の3つのウェル内の培養細胞に対しては、何も処理を行わなかった。その翌日に当該ウェルを観察したところ、石灰化したことを示す赤色の細胞はウェル内に殆ど観察されなかった。
以上の結果から、上記窒素ガスプラズマの照射は、ヒトの歯根膜細胞を活性化し、その石灰化を促すことにより、歯槽骨と歯が接合して歯周病が改善されると考えられる。
(Activation of periodontal ligament cells)
Using a 12-well plate, human periodontal ligament cells were inoculated in a calcification medium (containing a reagent that stains red when the cells are calcified) and cultured by a known method.
The cultured cells in the three wells were irradiated with nitrogen gas plasma (8.2 kVpp, 7.4 kHz, 1 L / min, 35 ° C.) at atmospheric pressure for 90 seconds from above at a distance of about 1 mm. When the well was observed on the next day, red cells indicating calcification were darkly observed in a wide range in the well.
Nitrogen gas (1 L / min, 20 to 25 ° C.) was blown for 90 seconds from above at a distance of about 1 mm to the cultured cells in the other three wells. When the well was observed on the next day, red cells showing calcification were thinly observed in a part of the well.
No treatment was performed on the cultured cells in the other three wells. When the well was observed the next day, almost no red cells showing calcification were observed in the well.
From the above results, it is considered that the nitrogen gas plasma irradiation activates human periodontal ligament cells and promotes their calcification, whereby alveolar bone and teeth are joined and periodontal disease is improved.
本発明は、医療分野で利用可能である。 The present invention can be used in the medical field.
1…プラズマ装置、2…プラズマ発生部、3…管状誘電体、3a…管壁、4…内部電極、5…外部電極、6…照射口、7…カウリング、P…大気圧プラズマ、G…大気圧プラズマ生成用ガス、E…電源、100…従来のプラズマ装置、101…ガス管、102a…電極、102b…電極、103…ノズル
DESCRIPTION OF
Claims (2)
対向する電極間に、プラズマ生成用ガスを毎分0.1L以上5.0L以下で供給し、前記プラズマ発生ガスに周波数0.5kHz以上20kHz未満の電圧を5.0kVpss以上20kVpps未満で印加して、前記プラズマを前記細胞に照射する照射工程を有し、
前記照射工程を所定の期間を空けて2回以上行う、細胞賦活化方法。 A cell activation method for activating cells by irradiating plasma,
A plasma generating gas is supplied at a rate of 0.1 L or more and 5.0 L or less per minute between opposing electrodes, and a voltage having a frequency of 0.5 kHz or more and less than 20 kHz is applied to the plasma generation gas at 5.0 kVpss or more and less than 20 kVpps. And an irradiation step of irradiating the cells with the plasma,
A cell activation method, wherein the irradiation step is performed twice or more with a predetermined time interval.
前記の対向する電極間に印加する電圧を周波数0.5kHz以上20kHz未満かつ電圧5.0kVpss以上20kVpps未満に制御する電源制御部と、
前記電極間へのプラズマ生成用ガスの導入量を毎分0.1L以上5.0L以下とする照射量制御部と、を有し、
前記電極間に電圧を印加してプラズマを生じ、前記プラズマを細胞に対して、所定の期間を空けて2回以上照射する、細胞賦活化装置。 Opposing electrodes,
A power supply control unit that controls the voltage applied between the opposing electrodes to a frequency of 0.5 kHz or more and less than 20 kHz and a voltage of 5.0 kVpss or more and less than 20 kVpps;
And a dose control unit for controlling the amount of the plasma generation gas introduced between the electrodes to be 0.1 L or more and 5.0 L or less per minute,
A cell activation device, wherein a voltage is applied between the electrodes to generate plasma, and the cells are irradiated with the plasma twice or more with a predetermined time interval.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020172730A JP6966617B2 (en) | 2015-08-31 | 2020-10-13 | Oral cleansing method |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015170902 | 2015-08-31 | ||
JP2015170902 | 2015-08-31 | ||
JP2016024821A JP6651375B2 (en) | 2015-08-31 | 2016-02-12 | Plasma equipment |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016024821A Division JP6651375B2 (en) | 2015-08-31 | 2016-02-12 | Plasma equipment |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020172730A Division JP6966617B2 (en) | 2015-08-31 | 2020-10-13 | Oral cleansing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020072974A true JP2020072974A (en) | 2020-05-14 |
JP6912610B2 JP6912610B2 (en) | 2021-08-04 |
Family
ID=58280123
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016024821A Active JP6651375B2 (en) | 2015-08-31 | 2016-02-12 | Plasma equipment |
JP2020007903A Active JP6912610B2 (en) | 2015-08-31 | 2020-01-21 | Oral cell activation method and oral cell activation device |
JP2020172730A Active JP6966617B2 (en) | 2015-08-31 | 2020-10-13 | Oral cleansing method |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016024821A Active JP6651375B2 (en) | 2015-08-31 | 2016-02-12 | Plasma equipment |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020172730A Active JP6966617B2 (en) | 2015-08-31 | 2020-10-13 | Oral cleansing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JP6651375B2 (en) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6888996B2 (en) * | 2017-03-22 | 2021-06-18 | 株式会社オーク製作所 | Atmospheric pressure plasma generator |
TWI772443B (en) * | 2017-06-16 | 2022-08-01 | 日商積水化學工業股份有限公司 | Medical therapeutic apparatus, and method of producing cell activator for wound healing and anti-inflammatory action |
JP6677855B2 (en) * | 2017-06-16 | 2020-04-08 | 積水化学工業株式会社 | Active gas irradiation apparatus and method for treating animals other than humans |
WO2019045054A1 (en) * | 2017-08-31 | 2019-03-07 | 積水化学工業株式会社 | Active gas irradiation device |
JPWO2019093388A1 (en) * | 2017-11-08 | 2020-11-26 | 積水化学工業株式会社 | Plasma treatment device |
JPWO2019093375A1 (en) * | 2017-11-08 | 2020-11-19 | 積水化学工業株式会社 | Plasma treatment device |
GB2576477B (en) * | 2018-05-01 | 2022-02-16 | Creo Medical Ltd | Apparatus for treating urinary tract infections |
JP6936190B2 (en) * | 2018-06-21 | 2021-09-15 | 積水化学工業株式会社 | Plasma treatment device |
JP2020000405A (en) * | 2018-06-27 | 2020-01-09 | 積水化学工業株式会社 | Plasma therapeutic device |
US20210213298A1 (en) | 2018-06-29 | 2021-07-15 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Plasma application apparatus |
JP7333973B2 (en) * | 2019-06-24 | 2023-08-28 | エバーニュー・バイオテック・インコーポレイテッド | Plasma device with two gas inlets |
CN110478236B (en) * | 2019-09-10 | 2024-08-02 | 烟台海灵健康科技有限公司 | Electric moxibustion head, electric moxibustion therapeutic apparatus comprising same and use method of electric moxibustion therapeutic apparatus |
KR102481599B1 (en) * | 2020-01-17 | 2022-12-27 | (주)펨토사이언스 | Plasma device having exchangeable handpiece |
JP6915139B1 (en) * | 2020-09-11 | 2021-08-04 | 積水化学工業株式会社 | Irradiation equipment, plasma irradiation equipment |
JP7000523B1 (en) | 2020-09-16 | 2022-01-19 | 積水化学工業株式会社 | Plasma equipment |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10286316A (en) * | 1997-04-15 | 1998-10-27 | Mecs:Kk | Skin tissue improving device which irradiates gas which is changed into plasma |
CN201304180Y (en) * | 2008-12-10 | 2009-09-09 | 杨思泽 | A plasma cosmetic device |
KR20090112831A (en) * | 2008-04-25 | 2009-10-29 | 주식회사 하나에프비 | Apparatus for generating atmospheric pressure plasma and surface treatment method using the same |
US20130199540A1 (en) * | 2010-03-16 | 2013-08-08 | Christian Buske | Device for Plasma Treatment of Living Tissue |
JP2014212839A (en) * | 2013-04-23 | 2014-11-17 | 沖野 晃俊 | Method for caring biological cells and epidermis and the like using atmospheric pressure plasma, and device for caring biological cells and epidermis and the like using atmospheric pressure plasma |
JP2015084290A (en) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 立山マシン株式会社 | Atmospheric pressure plasma generator |
WO2015110785A1 (en) * | 2014-01-23 | 2015-07-30 | Linde Aktiengesellschaft | Non-thermal plasma |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0429628U (en) * | 1990-07-02 | 1992-03-10 | ||
JP2929768B2 (en) * | 1991-06-18 | 1999-08-03 | 株式会社明電舎 | Cylindrical plasma generator |
JP4923364B2 (en) * | 2001-09-10 | 2012-04-25 | 株式会社安川電機 | Reactive gas generator |
CN101227790B (en) * | 2008-01-25 | 2011-01-26 | 华中科技大学 | Plasma jet apparatus |
JP2010051941A (en) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Katsuya Tokumura | Plasma device |
KR20100058715A (en) * | 2008-11-25 | 2010-06-04 | 포항공과대학교 산학협력단 | Plasma apparatus for tooth bleaching and tooth bleaching method using the plasma apparatus |
CN101426327B (en) * | 2008-12-02 | 2012-01-25 | 华中科技大学 | Plasma jet device |
KR101001477B1 (en) * | 2009-02-27 | 2010-12-14 | 아주대학교산학협력단 | Atmospheric low-temperature micro plasma jet device for bio-medical application |
US8460283B1 (en) * | 2009-04-03 | 2013-06-11 | Old Dominion University | Low temperature plasma generator |
US10299887B2 (en) * | 2009-04-23 | 2019-05-28 | Nanova, Inc. | Atmospheric non-thermal gas plasma method for dental surface treatment |
GB201006327D0 (en) * | 2010-04-15 | 2010-06-02 | Linde Ag | Gas treatment methods |
GB201006330D0 (en) * | 2010-04-15 | 2010-06-02 | Linde Ag | Gas delivery devices and methods |
GB201016341D0 (en) * | 2010-09-28 | 2010-11-10 | Linde Ag | Active gases and treatment methods |
KR101171094B1 (en) * | 2011-07-05 | 2012-08-06 | 주식회사 메디플 | Plasma tooth bleaching apparatus using gas hybrid structure |
CN102625557A (en) * | 2012-03-30 | 2012-08-01 | 大连理工大学 | Generating device for atmospheric bare electrode cold plasma jet |
JP2013225421A (en) * | 2012-04-20 | 2013-10-31 | Tokyo Institute Of Technology | Multiple gas plasma jet apparatus |
CN103781271A (en) * | 2014-01-16 | 2014-05-07 | 中国科学院等离子体物理研究所 | Atmospheric pressure cold plasma generating device for wound healing |
GB201401144D0 (en) * | 2014-01-23 | 2014-03-12 | Linde Ag | Plasma device |
-
2016
- 2016-02-12 JP JP2016024821A patent/JP6651375B2/en active Active
-
2020
- 2020-01-21 JP JP2020007903A patent/JP6912610B2/en active Active
- 2020-10-13 JP JP2020172730A patent/JP6966617B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10286316A (en) * | 1997-04-15 | 1998-10-27 | Mecs:Kk | Skin tissue improving device which irradiates gas which is changed into plasma |
KR20090112831A (en) * | 2008-04-25 | 2009-10-29 | 주식회사 하나에프비 | Apparatus for generating atmospheric pressure plasma and surface treatment method using the same |
CN201304180Y (en) * | 2008-12-10 | 2009-09-09 | 杨思泽 | A plasma cosmetic device |
US20130199540A1 (en) * | 2010-03-16 | 2013-08-08 | Christian Buske | Device for Plasma Treatment of Living Tissue |
JP2014212839A (en) * | 2013-04-23 | 2014-11-17 | 沖野 晃俊 | Method for caring biological cells and epidermis and the like using atmospheric pressure plasma, and device for caring biological cells and epidermis and the like using atmospheric pressure plasma |
JP2015084290A (en) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 立山マシン株式会社 | Atmospheric pressure plasma generator |
WO2015110785A1 (en) * | 2014-01-23 | 2015-07-30 | Linde Aktiengesellschaft | Non-thermal plasma |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
平田孝道ら: "大気圧プラズマによる組織の活性化と医療応用", プラズマ・核融合学会誌, vol. 91, no. 12, JPN6020034610, 2015, pages 771 - 775, ISSN: 0004344175 * |
筒井千尋ら: "マイクロスポット大気圧プラズマ源による細胞および生体組織の活性化", 静電気学会誌, vol. 35, no. 1, JPN6020034612, 2011, pages 20 - 24, ISSN: 0004344176 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017050267A (en) | 2017-03-09 |
JP6651375B2 (en) | 2020-02-19 |
JP2021003631A (en) | 2021-01-14 |
JP6966617B2 (en) | 2021-11-17 |
JP6912610B2 (en) | 2021-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6912610B2 (en) | Oral cell activation method and oral cell activation device | |
JP6890198B2 (en) | Method for producing cell activator for wound treatment or anti-inflammatory | |
US20130026137A1 (en) | Device and method for generating a pulsed anisothermal atmospheric pressure plasma | |
Chutsirimongkol et al. | Non-thermal plasma for acne and aesthetic skin improvement | |
AU2006239843A8 (en) | Methods for non-thermal application of gas plasma to living tissue | |
WO2018230696A1 (en) | Active gas exposure device and method for treating non-human animals | |
JP2006526442A (en) | Treatment of biological materials including living cells by plasma generated by gas discharge | |
US20090143718A1 (en) | Plasma treatment probe | |
US20150112300A1 (en) | Method for enhanced trans-tissue delivery of therapeutic substances | |
US11458323B2 (en) | Plasma treatment unit | |
US10433411B2 (en) | Plasma generating apparatus, therapeutic method, and method for activating cell or living tissue | |
JP4469015B1 (en) | Alveolar bone regeneration device | |
WO2014020584A1 (en) | System and method for treating tissue | |
CN112741704B (en) | Plasma jet device for cleaning and/or whitening teeth | |
US20080206717A1 (en) | Treatment Apparatus | |
WO2020059809A1 (en) | Plasma irradiation device | |
JP2020000405A (en) | Plasma therapeutic device | |
WO2022202809A1 (en) | Medical plasma generating device, medical radiation gas generating method, and medical plasma radiating method | |
US20170296316A1 (en) | Method for enhanced remineralization of teeth | |
JP2020039673A (en) | Plasma type therapy apparatus | |
JP2019217092A (en) | Treatment method for teeth and surface modification method for teeth | |
Boonyawan et al. | Cold atmospheric plasma sources—An upcoming innovation in plasma medicine | |
JP2020044205A (en) | Plasma type therapeutic device | |
JP2019217050A (en) | Plasma treatment kit and treatment method | |
UA11844U (en) | Electrode for local darsonvalization |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200121 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200903 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200915 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20201109 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210209 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210325 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210527 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210615 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210708 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6912610 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |