JP2019537064A - Self-luminous photosensitive resin composition, color filter and image display device manufactured using the same - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 65
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 61
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 86
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 65
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims description 65
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 55
- -1 tetrahydrofurfuryl group Chemical group 0.000 claims description 54
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 17
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 15
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 6
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 claims description 3
- 125000006518 morpholino carbonyl group Chemical group [H]C1([H])OC([H])([H])C([H])([H])N(C(*)=O)C1([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 3
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000003860 C1-C20 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 2
- 125000002425 furfuryl group Chemical group C(C1=CC=CO1)* 0.000 claims description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000923 (C1-C30) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 23
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 42
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 39
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 30
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 23
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 21
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 18
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 18
- MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 12
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 7
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000661 Mercury cadmium telluride Inorganic materials 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 6
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CWTMXRBURASPSI-UHFFFAOYSA-N cyclodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCCCCCC1 CWTMXRBURASPSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 3
- YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-pyren-1-ylbutanoate Chemical compound C=1C=C(C2=C34)C=CC3=CC=CC4=CC=C2C=1CCCC(=O)ON1C(=O)CCC1=O YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 3
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 3
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 3
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 2
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006736 (C6-C20) aryl group Chemical group 0.000 description 2
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-propoxyethoxy)ethoxy]propane Chemical compound CCCOCCOCCOCCC BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 2
- YTZSKPAYFHSKOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dichlorophenyl)-2-[2-(2,3-dichlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=C(Cl)C=CC=2)Cl)=C1Cl YTZSKPAYFHSKOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-2-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BERJMFPEDDOMCI-UHFFFAOYSA-N 2-amino-2-methyl-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(N)CC)=CC=C1N1CCOCC1 BERJMFPEDDOMCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 2-chloroprop-2-enenitrile Chemical compound ClC(=C)C#N OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SKKHNUKNMQLBTJ-UHFFFAOYSA-N 3-bicyclo[2.2.1]heptanyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1CC2C(OC(=O)C(=C)C)CC1C2 SKKHNUKNMQLBTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JPQXNTOALKRJMH-UHFFFAOYSA-N 5-methoxypentyl acetate Chemical compound COCCCCCOC(C)=O JPQXNTOALKRJMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPQAKYPOZRXKFA-UHFFFAOYSA-N 6-Undecanone Chemical compound CCCCCC(=O)CCCCC ZPQAKYPOZRXKFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017115 AlSb Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004611 CdZnTe Inorganic materials 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004262 HgTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000764773 Inna Species 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002665 PbTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005642 SnTe Inorganic materials 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-methoxybutan-1-ol Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)OC IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethoxyethane Chemical compound CC(O)=O.CCOCC KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000000306 component Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001162 cycloheptenyl group Chemical group C1(=CCCCCC1)* 0.000 description 2
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000000522 cyclooctenyl group Chemical group C1(=CCCCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 2
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHLKSLMMWAKNBM-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCCCO GHLKSLMMWAKNBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid group Chemical group C(CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)(=O)O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 2
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N tellanylidenelead Chemical compound [Pb]=[Te] OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007704 wet chemistry method Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 2
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZAZXIUFBCPZGB-QZOPMXJLSA-N (z)-octadec-9-enoic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O YZAZXIUFBCPZGB-QZOPMXJLSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKVSAZTYCZKNDX-UHFFFAOYSA-N 1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)CCC)=CC=C1N1CCOCC1 JKVSAZTYCZKNDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-propoxythioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(OCCC)=CC=C2Cl VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- VYMSWGOFSKMMCE-UHFFFAOYSA-N 10-butyl-2-chloroacridin-9-one Chemical compound ClC1=CC=C2N(CCCC)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 VYMSWGOFSKMMCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIJSCOPBBPNHFC-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-2-phenylethanethioic s-acid Chemical compound SC(=O)C(Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 UIJSCOPBBPNHFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAMXITINZBKDFX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylethanethioic S-acid Chemical compound COC(C(=S)O)(C1=CC=CC=C1)OC XAMXITINZBKDFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC(Cl)=C3SC2=C1 UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASUQXIDYMVXFKU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibromo-9,9-dimethylfluorene Chemical compound C1=C(Br)C=C2C(C)(C)C3=CC=C(Br)C=C3C2=C1 ASUQXIDYMVXFKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIRUERQWPNHWRC-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzodioxol-5-ylmethyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(CC=2C=C3OCOC3=CC=2)=N1 QIRUERQWPNHWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMUCYYAIQOHAHC-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)-2-methyl-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(C)N(CC)CC)=CC=C1N1CCOCC1 PMUCYYAIQOHAHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOADWBBFXCDCTC-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-2-methyl-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(C)N(C)C)=CC=C1N1CCOCC1 HOADWBBFXCDCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl benzoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIVZFLKJXSKCGT-UHFFFAOYSA-N 2-(naphthalen-1-ylamino)acetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(NCC(=O)O)=CC=CC2=C1 SIVZFLKJXSKCGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCNPOZMLKGDJGP-QPJJXVBHSA-N 2-[(e)-2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1\C=C\C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MCNPOZMLKGDJGP-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound O1C(C)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=CC=2OC=CC=2)=N1 PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCIXSWUEIKSTQC-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(N)CC)=CC=C1N1CCOCC1 QCIXSWUEIKSTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGKQNQUCEXZOGC-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)hexan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(N)CCCC)=CC=C1N1CCOCC1 GGKQNQUCEXZOGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEXCLIGLLLOSNL-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)pentan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(N)CCC)=CC=C1N1CCOCC1 MEXCLIGLLLOSNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WORSXZKXKAZXAO-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(N)C)=CC=C1N1CCOCC1 WORSXZKXKAZXAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYAFRZYYXMGGH-UHFFFAOYSA-N 2-amino-2-ethyl-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(N)(CC)CC)=CC=C1N1CCOCC1 OWYAFRZYYXMGGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDZZCZJFIUYSEU-UHFFFAOYSA-N 2-amino-2-methyl-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(N)C)=CC=C1N1CCOCC1 SDZZCZJFIUYSEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYCFRIATIOXYQB-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-2-phenylethanethioic s-acid Chemical compound SC(=O)C(Cl)C1=CC=CC=C1 BYCFRIATIOXYQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SURWYRGVICLUBJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=C(OC)C3=CC(CC)=CC=C3C(OC)=C21 SURWYRGVICLUBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJBSPUKPEDBNKQ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-prop-1-en-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 IJBSPUKPEDBNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIEYAQYHZORRJA-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-2-phenylethanethioic s-acid Chemical compound COC(C(S)=O)C1=CC=CC=C1 AIEYAQYHZORRJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUMSWPABSJYNFI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-(methylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(C)NC)=CC=C1N1CCOCC1 SUMSWPABSJYNFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLECPOVKQFMGCC-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-phenylbutanethioic s-acid Chemical compound CCC(C)(C(S)=O)C1=CC=CC=C1 FLECPOVKQFMGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNPDWKCPNKYNSI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-phenylpropanethioic s-acid Chemical compound SC(=O)C(C)(C)C1=CC=CC=C1 SNPDWKCPNKYNSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZCJYMOBWVJQGV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthyloxyacetic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OCC(=O)O)=CC=C21 RZCJYMOBWVJQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPBXTDYPAMPILJ-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbutanethioic s-acid Chemical compound CCC(C(S)=O)C1=CC=CC=C1 PPBXTDYPAMPILJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXOFPUCWZCAFJX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanethioic s-acid Chemical compound SC(=O)CC1=CC=CC=C1 IXOFPUCWZCAFJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCICNMFOICNGHZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpropanethioic s-acid Chemical compound SC(=O)C(C)C1=CC=CC=C1 FCICNMFOICNGHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXVXVOLXMVYIT-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 2-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(C)C ARXVXVOLXMVYIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHFGMFYKZBWPRW-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,1-diol Chemical compound CCC(C)CC(O)O YHFGMFYKZBWPRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWFDADDJOUNDL-UHFFFAOYSA-N 9,10-diethoxy-2-ethylanthracene Chemical compound CCC1=CC=C2C(OCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCC)C2=C1 FUWFDADDJOUNDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJNKQJAJXSUJBO-UHFFFAOYSA-N 9,10-diethoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCC)C2=C1 GJNKQJAJXSUJBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWJMBKSFTTXMLL-UHFFFAOYSA-N 9,10-dimethoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=C(C=CC=C3)C3=C(OC)C2=C1 JWJMBKSFTTXMLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- CCRGGUIBRMFUMG-UHFFFAOYSA-N COC1=C(C2=CC=CC=C2C=C1)C1=NC=NC=N1 Chemical compound COC1=C(C2=CC=CC=C2C=C1)C1=NC=NC=N1 CCRGGUIBRMFUMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical group COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N Padimate O Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000005036 alkoxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000000038 blue colorant Substances 0.000 description 1
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000008358 core component Substances 0.000 description 1
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene titanium Chemical class [Ti].C1C=CC=C1.C1C=CC=C1 KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N cyclopentylcyclopentane Chemical group C1CCCC1C1CCCC1 MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical class OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910052949 galena Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N hexane Substances CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 125000001800 methanetriyl group Chemical group C(*)(*)* 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- GYVGXEWAOAAJEU-UHFFFAOYSA-N n,n,4-trimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C)C=C1 GYVGXEWAOAAJEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000012994 photoredox catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011369 resultant mixture Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052950 sphalerite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphane Chemical compound CCCCCCCCP(CCCCCCCC)CCCCCCCC RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
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- G02B5/20—Filters
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- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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Abstract
本発明は、自発光感光性樹脂組成物に関し、より詳細には、散乱粒子およびアルカリ可溶性樹脂を含み、前記アルカリ可溶性樹脂は、アクリル当量が300〜2,000g/eqであることを含むことによって、ハードベーク工程中に光効率の低下および感光特性の不良の問題がなく、輝度特性に優れた高品質のカラーフィルターを提供できる自発光感光性樹脂組成物に関する。【選択図】図1The present invention relates to a self-luminous photosensitive resin composition, more specifically, including a scattering particle and an alkali-soluble resin, wherein the alkali-soluble resin includes an acrylic equivalent of 300 to 2,000 g / eq. The present invention also relates to a self-luminous photosensitive resin composition capable of providing a high-quality color filter having excellent luminance characteristics without problems of a decrease in light efficiency and poor photosensitive characteristics during a hard baking process. [Selection diagram] Fig. 1
Description
本発明は、自発光感光性樹脂組成物、これを利用して製造されたカラーフィルターおよび画像表示装置に関する。 The present invention relates to a self-luminous photosensitive resin composition, a color filter manufactured using the same, and an image display device.
ディスプレイ産業は、CRT(cathode−ray tube)からPDP(plasma display panel)、OLED(organic light−emitting diode)、LCD(liquid−crystal display)等と代表される平板ディスプレイに急激な変化を進めてきた。そのうち、LCDは、薄く、軽くかつ優れた解像度と低電力消耗などの長所があるので、ほぼすべての産業において使用される画像表示装置として広く用いられており、今後も大きい市場拡大が予想される。 2. Description of the Related Art The display industry has been rapidly changing from a cathode-ray tube (CRT) to a plasma display panel (PDP), an organic light-emitting diode (OLED), and a liquid-crystal display (LCD). . Among them, LCDs are thin, light, and have advantages such as excellent resolution and low power consumption, so they are widely used as image display devices used in almost all industries, and large market expansion is expected in the future. .
LCDは、光源から発生した白色光が液晶セルを通過するのに伴い、透過率が調節され、赤色、緑色、青色のカラーフィルターを透過して出る3原色が混合されて、フルカラーを具現する。 In the LCD, as white light generated from a light source passes through a liquid crystal cell, transmittance is adjusted, and three primary colors that are transmitted through red, green, and blue color filters are mixed to realize a full color.
カラーフィルターは、白色光から赤色、緑色および青色の三つの色を抽出して微細な画素単位で可能にする薄膜フィルム型光学部品であって、一つの画素のサイズが数十から数百マイクロメートル程度である。このようなカラーフィルターは、それぞれの画素間の境界部分を遮光するために、透明基板上に定められたパターンで形成されたブラックマトリックス層およびそれぞれの画素を形成するために複数の色(通常、赤色(R)、緑色(G)および青色(B))の3原色を定めた順序で配列した画素部が順に積層された構造を取っている。 A color filter is a thin film film type optical component that extracts three colors of red, green and blue from white light and enables it in fine pixel units.The size of one pixel is tens to hundreds of micrometers. It is about. Such a color filter includes a black matrix layer formed in a pattern defined on a transparent substrate and a plurality of colors (usually, It has a structure in which pixel portions in which three primary colors of red (R), green (G) and blue (B)) are arranged in a predetermined order are sequentially stacked.
したがって、カラーフィルターは、LCDにおいて色を表現する核心的な部品であって、平板ディスプレイの普及に伴い、ノートパソコン、モニター、携帯端末など幅広い用途に採用されてきた。より生き生きした画質具現と他のディスプレイとの品質優位のために、高色純度、高透過および低反射型カラーフィルターの製造技術が活発に研究されている。 Therefore, the color filter is a core component for expressing colors in the LCD, and has been adopted for a wide range of uses such as a notebook computer, a monitor, and a portable terminal with the spread of flat panel displays. In order to realize more vivid image quality and superior quality to other displays, manufacturing techniques of high color purity, high transmission and low reflection type color filters are being actively researched.
一般的に、カラーフィルターは、顔料分散法、電着法、印刷法、染色法、転写法、インクジェット方式などにより3種以上の色相を透明基板上にコーティングして製造する。最近、品質、程度、性能面において優れた顔料分散型の感光性樹脂を利用した顔料分散法が主流をなす。 Generally, a color filter is manufactured by coating three or more hues on a transparent substrate by a pigment dispersion method, an electrodeposition method, a printing method, a dyeing method, a transfer method, an inkjet method, or the like. Recently, a pigment dispersion method using a pigment-dispersion type photosensitive resin excellent in quality, degree, and performance has become mainstream.
カラーフィルターを具現する方法の一つである顔料分散法は、黒色マトリックスが提供された透明な基質の上に着色剤をはじめとしてアルカリ可溶性樹脂、光重合単量体、光重合開始剤、エポキシ樹脂、溶剤、その他添加剤を含む感光性樹脂組成物をコーティングし、形成しようとする形態のパターンを露光した後、非露光部位を溶剤で除去して熱硬化させる一連の過程を繰り返すことによって、着色薄膜を形成する方法であって、携帯電話、ノートパソコン、モニター、テレビなどのLCDを製造するのに活発に応用されている。 The pigment dispersion method, which is one of the methods for realizing a color filter, is based on a transparent substrate provided with a black matrix, including a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and an epoxy resin. After coating the photosensitive resin composition containing the solvent, other additives, and exposing the pattern in the form to be formed, by repeating a series of steps of removing the non-exposed portions with a solvent and heat curing, coloring This is a method of forming a thin film, and is actively applied to manufacture LCDs for mobile phones, notebook computers, monitors, televisions, and the like.
顔料は、溶剤に溶けずに、微細な粒子状態で存在するので、最近に要求されるさらに鮮明でかつさらに多様な色相を表示するには限界点に到達した。他方で、染料は、顔料より色特性に優れていて、顔料を染料に代替しようとする研究が進行されてきた。しかし、染料も、光や溶剤に対する耐久性が劣るので、これを改善することと、染料が溶剤に溶けるが、カラーフィルターの生産に使用される溶剤に対する十分な溶解度を確保することなどの問題点が残っている。 Since the pigment is not dissolved in the solvent but exists in a fine particle state, it has reached a critical point for displaying sharper and more diverse hues recently required. On the other hand, dyes have better color characteristics than pigments, and research has been conducted to replace pigments with dyes. However, dyes also have poor durability to light and solvents, so there is a problem of improving this and securing sufficient solubility in the solvents used in the production of color filters, although the dyes are soluble in the solvents. Remains.
また、染料や顔料を着色剤として利用する場合、光源の透過効率を低下させる問題を引き起こす。前記透過効率の低下は、結果的に画像表示装置の色再現性を低減するようになって、結局のところ、高品質の画面具現を困難にする。 Further, when a dye or a pigment is used as a colorant, a problem that transmission efficiency of a light source is reduced is caused. The reduction in the transmission efficiency results in a reduction in color reproducibility of the image display device, and ultimately makes it difficult to realize a high quality screen.
これにより、優れたパターン特性だけでなく、さらに多様な色相表現、高い色再現率と共に、高輝度および高明暗比などさらに向上した性能が要求されるのに伴い、染料や顔料の代わりに自体発光する量子ドットの使用が提案された。 As a result, in addition to excellent pattern characteristics, a variety of hue expressions, high color reproducibility, and even higher performance such as high brightness and a high contrast ratio are required. The use of quantum dots has been proposed.
量子ドットは、光源により自体発光し、可視光線および赤外線領域の光を発生させるために使用され得る。量子ドットは、バルク励起子ボーア半径(bulk exciton Bohr radius)よりさらに小さい、1nm〜20nmの直径を通常的に有するII−VI、III−V、IV−VI材料の小さい結晶である。量子閉じ込め効果(quantum confinement effect)によって、量子ドットの電子状態間のエネルギーの差異は、量子ドットの組成および物理的サイズの両方の関数である。したがって、量子ドットの光学および光電子特性は、量子ドットの物理的サイズを変化させることによって、チューニングおよび調整され得る。量子ドットは、吸収開始(onset)波長よりさらに短い波長を吸収し、吸収開始波長で光を放出する。量子ドットの発光スペクトルの帯域幅は、温度依存性ドップラー拡大(Doppler broadening)、ハイゼンベルク不確定性原理(Heisenberg Uncertainty Principle)および量子ドットのサイズ分布と関連する。与えられた量子ドットにおいて、量子ドットの放出帯域は、サイズを変化させることによって制御され得る。したがって、量子ドットは、通常の染料や顔料を利用して到達不可な(unattainable)色の範囲を生成することができる。 Quantum dots emit themselves by the light source and can be used to generate light in the visible and infrared regions. Quantum dots are small crystals of II-VI, III-V, IV-VI materials that typically have diameters between 1 nm and 20 nm, even smaller than the bulk exciton Bohr radius. Due to the quantum confinement effect, the difference in energy between the electronic states of a quantum dot is a function of both the composition and physical size of the quantum dot. Thus, the optical and optoelectronic properties of a quantum dot can be tuned and tuned by changing the physical size of the quantum dot. Quantum dots absorb wavelengths shorter than the onset absorption wavelength and emit light at the onset absorption wavelength. The bandwidth of the emission spectrum of a quantum dot is related to the temperature-dependent Doppler broadening, the Heisenberg Uncertainty Principle, and the size distribution of the quantum dot. For a given quantum dot, the emission band of the quantum dot can be controlled by varying the size. Thus, quantum dots can generate a range of unattachable colors using ordinary dyes and pigments.
しかしながら、量子ドットは、ナノ水準のサイズによって本質的に非散乱粒子である。したがって、光が、量子ドットが含まれたカラーフィルターを通過するとき、他の染料や顔料の場合より格別に短い光学経路を有する。カラーフィルターの厚さが十分でない場合、多くの光が量子ドットにより吸収される。これにより、カラーフィルターの厚さを調節したり量子ドットの濃度を増加させたり散乱粒子を導入するなどの方法が提案されているが、このうち厚さや濃度を調節する場合、色均一性の観点から問題点が発生する。 However, quantum dots are essentially non-scattering particles due to their nano-level size. Thus, when light passes through a color filter containing quantum dots, it has a much shorter optical path than other dyes and pigments. If the color filters are not thick enough, much light will be absorbed by the quantum dots. Accordingly, methods such as adjusting the thickness of a color filter, increasing the concentration of quantum dots, and introducing scattering particles have been proposed. Causes problems.
これにより、カラーフィルターに散乱粒子を導入する方式において、特許文献1は、自発光感光性樹脂組成物、これから製造されたカラーフィルターを含む画像表示装置に関し、より詳細には、量子ドット、散乱粒子、光重合性化合物、光重合開始剤、アルカリ可溶性樹脂および溶剤を含む自発光感光性樹脂組成物、これから製造されたカラーフィルターを含むことを特徴としている。 Accordingly, in a method of introducing scattering particles into a color filter, Patent Document 1 relates to a self-luminous photosensitive resin composition, an image display device including a color filter manufactured therefrom, and more specifically, quantum dots, scattering particles. And a self-luminous photosensitive resin composition containing a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, an alkali-soluble resin, and a solvent, and a color filter produced therefrom.
また、特許文献2は、カラーフィルターおよびこれを利用した画像表示装置に関し、基材;基材上に形成された量子ドットを含む第1画素層;および第1画素層上に形成された散乱粒子を含む第2画素層が積層構造を有することを特徴としている。 Further, Patent Document 2 relates to a color filter and an image display device using the same, a base material; a first pixel layer including quantum dots formed on the base material; and scattering particles formed on the first pixel layer. Is characterized in that the second pixel layer including the above has a laminated structure.
前記先行文献の場合、量子ドットおよびアルカリ可溶性樹脂を含んでいて、光効率低下を解消する点は記載しているが、カラーフィルターパターン内の散乱体の沈降を防止する点は認識していないことが分かる。 In the case of the above-mentioned prior art document, it includes quantum dots and an alkali-soluble resin, and describes that the reduction in light efficiency is eliminated, but it does not recognize the point of preventing sedimentation of scatterers in the color filter pattern. I understand.
本発明は、前述したような問題を解決するためのものであって、特定のアルカリ可溶性樹脂および散乱粒子を共に含むことによって、カラーフィルターパターン内の散乱体が沈降せず、かつ、輝度の低下および光維持率の不良の問題がないため、優れたカラーフィルターを製造できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 The present invention is to solve the above-described problem, and by including both a specific alkali-soluble resin and scattering particles, the scatterers in the color filter pattern do not settle, and the luminance is reduced. Another object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition capable of producing an excellent color filter because there is no problem of poor light retention.
また、本発明は、前記自発光感光性樹脂組成物で製造されたカラーフィルターおよびこれを含む画像表示装置を提供することを目的とする。 Another object of the present invention is to provide a color filter manufactured using the self-luminous photosensitive resin composition and an image display device including the same.
前記目的を達成するための本発明の実施例による自発光感光性樹脂組成物は、散乱粒子およびアルカリ可溶性樹脂を含み、前記アルカリ可溶性樹脂は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が3000〜15000であり、アクリル当量が300〜2000g/eqであることを特徴とする。 The self-luminous photosensitive resin composition according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes scattering particles and an alkali-soluble resin, and the alkali-soluble resin has a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 3,000 to 15,000, The acrylic equivalent is 300 to 2000 g / eq.
また、本発明は、前記自発光感光性樹脂組成物で製造されたカラーフィルターおよびこれを含む画像表示装置を特徴とする。 In addition, the present invention is characterized by a color filter manufactured using the self-luminous photosensitive resin composition and an image display device including the same.
上記したように、本発明による自発光感光性樹脂組成物は、散乱粒子およびポリスチレン換算の重量平均分子量が3000〜15000であり、アクリル当量が300〜2000g/eqであるアルカリ可溶性樹脂を含むことによって、カラーフィルターパターン内の散乱体が沈降せず、かつ、輝度の低下および光維持率の不良の問題がないため、優れたカラーフィルターを製造することができる。 As described above, the self-luminous photosensitive resin composition according to the present invention comprises a scattering particle and an alkali-soluble resin having a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3,000 to 15,000 and an acrylic equivalent of 300 to 2,000 g / eq. An excellent color filter can be manufactured because the scatterers in the color filter pattern do not settle and there is no problem of a decrease in luminance and a poor light retention ratio.
本発明の自発光感光性樹脂組成物は、散乱粒子およびアルカリ可溶性樹脂を含み、前記アルカリ可溶性樹脂は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が3000〜15000であり、アクリル当量が300〜2000g/eqであることを特徴とする。 The self-luminous photosensitive resin composition of the present invention contains scattering particles and an alkali-soluble resin, and the alkali-soluble resin has a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3000 to 15000 and an acrylic equivalent of 300 to 2000 g / eq. It is characterized by the following.
以下、自発光感光性樹脂組成物に関して詳細に説明すれば、次の通りである。 Hereinafter, the self-luminous photosensitive resin composition will be described in detail as follows.
アルカリ可溶性樹脂
本発明の自発光感光性樹脂組成物に含有されるアルカリ可溶性樹脂は、感光性樹脂層の非露光部をアルカリ可溶性に作って除去され得るようにし、露光領域を残留させる役割をする。また、本発明のアルカリ可溶性樹脂は、重合可能な不飽和結合を有することによって、露光段階で量子ドット表面の周辺に効果的に保護層を形成して、POB工程での高温および酸素ラジカルなどの影響を最大限排除させて高い輝度を維持することができる。
Alkali-Soluble Resin The alkali-soluble resin contained in the self-luminous photosensitive resin composition of the present invention makes the non-exposed portion of the photosensitive resin layer alkali-soluble so that it can be removed, and serves to leave exposed regions. . In addition, the alkali-soluble resin of the present invention has a polymerizable unsaturated bond, thereby effectively forming a protective layer around the surface of the quantum dot in the exposure step, and preventing high temperature and oxygen radicals in the POB process. High luminance can be maintained by eliminating the influence as much as possible.
前記アルカリ可溶性樹脂は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が3000〜15000であることが好ましく、前記アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が前記範囲内にある場合、散乱体の沈降性を緩和させる効果を奏することができる。 The alkali-soluble resin preferably has a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 3,000 to 15,000, and when the weight-average molecular weight of the alkali-soluble resin is within the above range, it has an effect of reducing sedimentation of the scatterer. Can be.
また、前記アルカリ可溶性樹脂は、アクリル当量が300〜2000g/eqであることが好ましく、500〜1000g/eqであることがより好ましい。前記アルカリ可溶性樹脂のアクリル当量が前記範囲以内の場合には、カラーフィルター工程中に消光される現象を防止することができる。他方で、アルカリ可溶性樹脂のアクリル当量が前記範囲を超過する場合には、効果的に量子ドットを保護できる能力が不十分であり、散乱体が沈降するのを防止しにくいので不適合であり、アクリル当量が前記範囲未満の場合、発光効率および沈降性の面において良好であるが、現像時に溶解せずに、剥離される問題点がある。 The alkali-soluble resin preferably has an acrylic equivalent of 300 to 2000 g / eq, and more preferably 500 to 1000 g / eq. When the acrylic equivalent of the alkali-soluble resin is within the above range, the phenomenon of quenching during the color filter step can be prevented. On the other hand, if the acrylic equivalent of the alkali-soluble resin exceeds the above range, the ability to effectively protect the quantum dots is insufficient, and it is difficult to prevent the scatterers from settling, so it is incompatible and acrylic. When the equivalent is less than the above range, the luminous efficiency and the sedimentation property are good, but there is a problem that it is not dissolved at the time of development and peeled off.
特に、本発明によるアルカリ可溶性樹脂は、重量平均分子量とアクリル当量を上記のように調節することによって、自発光感光性樹脂組成物のパターンで組成が均一に分布して、光散乱が効果的に起こることによって、散乱体が沈降する問題を防止することができ、輝度の低下および光維持率の不良をも防止することができる効果がある。 In particular, the alkali-soluble resin according to the present invention, by adjusting the weight average molecular weight and the acrylic equivalent as described above, the composition is uniformly distributed in the pattern of the self-luminous photosensitive resin composition, and light scattering is effectively performed. When this occurs, it is possible to prevent the problem of the scatterer sedimenting, and it is possible to prevent a decrease in luminance and a poor light retention rate.
前記アルカリ可溶性樹脂の酸価は、30〜150mgKOH/gの範囲が好ましい。酸価は、アクリル系重合体1gを中和するのに必要な水酸化カリウムの量(mg)として測定される値であって、溶解性に関与する。前記アルカリ可溶性樹脂の酸価が前記範囲に属するようになると、現像液中の溶解性が向上して、非露出部が容易に溶解し、感度が増加して、結果的に露出部のパターンが現像時に残っていて、残膜率(film remaining ratio)が改善される利点がある。前記アルカリ可溶性樹脂の酸価が前記範囲未満の場合、アルカリ現像液に対する溶解性が低くなり、基板に残渣を残すおそれがあり、酸価が前記範囲を超過する場合には、パターンの剥がれが生じる可能性が高くなりえる。 The acid value of the alkali-soluble resin is preferably in the range of 30 to 150 mgKOH / g. The acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of the acrylic polymer, and is related to solubility. When the acid value of the alkali-soluble resin falls within the above range, the solubility in the developer is improved, the unexposed portion is easily dissolved, the sensitivity is increased, and as a result, the pattern of the exposed portion is increased. There is an advantage that the film remains at the time of development and the film remaining ratio is improved. If the acid value of the alkali-soluble resin is less than the above range, the solubility in an alkali developing solution is low, there is a risk of leaving a residue on the substrate, and if the acid value exceeds the above range, pattern peeling occurs. Probability can be high.
前記アルカリ可溶性樹脂の分子量分布は、1.0〜6.0であることが好ましく、1.5〜4.0であることがより好ましい。前記アルカリ可溶性樹脂の分子量分布が前記範囲以内である場合、現像性に優れている。 The molecular weight distribution of the alkali-soluble resin is preferably from 1.0 to 6.0, and more preferably from 1.5 to 4.0. When the molecular weight distribution of the alkali-soluble resin is within the above range, the developing property is excellent.
前記条件を満たすアルカリ可溶性樹脂を含む自発光感光性樹脂組成物の場合、露光段階で量子ドット表面に効果的に保護層を形成すると共に、マトリックス(Matirx)内の硬化度が高まるのに伴い、散乱体がパターン下部に沈降せずに、量子ドットと均一に分布し得るように助ける。 In the case of a self-luminous photosensitive resin composition containing an alkali-soluble resin that satisfies the above conditions, a protective layer is effectively formed on the surface of the quantum dots in the exposure step, and the degree of curing in the matrix (Matirx) increases, It helps the scatterers to be evenly distributed with the quantum dots without settling at the bottom of the pattern.
前記アルカリ可溶性樹脂は、重合可能な不飽和結合を有しているものであれば、特に限定されないが、使用可能な単量体の具体的な例としては、3−(アクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシ−3−プロピ−2−ノイルオキシ−プロピル)−2−メチル−2−プロピノエート、(2−オキシダニル−3−プロピ−2−ノイルオキシ−プロピル)−2−ブチノエート、1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキノンジ(メタ)アクリレート、1,4−フェニレンジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、2−プロピノイルオキシメチル−2−プロピノエート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,12−ドデケインジオールダイ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロマントリ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ジウレタンジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートなどが挙げられる。 The alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it has a polymerizable unsaturated bond. Specific examples of usable monomers include 3- (acryloyloxy) -2- Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxy-3-prop-2-noyloxy-propyl) -2-methyl-2-propinoate, (2-oxydanyl-3-prop-2-noyloxy-propyl) -2-butinoate, 1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, hydroquinone di (meth) acrylate, 1,4-phenylenedi (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediol di ( Meth) acrylate, 2-propinoyloxymethyl-2-propinoate, triethylene glycol Di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,12-dodecanediol di (meth) acrylate, trimethylolpromantri (meth) Acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, diurethane di (meth) acrylate, neopentyl glycol diacrylate, and the like are included.
特に前記アルカリ可溶性樹脂は、下記化学式1で表される反復単位を含む場合、さらに効果的に沈降性を制御することができる。 In particular, when the alkali-soluble resin includes a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1, the sedimentation can be more effectively controlled.
[化学式1]
[Chemical Formula 1]
アルキルオキシ基、またはC1〜C30のアルキルオキシカルボニルアミノアルキル基であり、前記アルキル基、アルキルオキシ基またはアルキルオキシカルボニルアミノアルキル基は、C1〜C20のアルキル基、C1〜C20のアルコキシ基、C1〜C20のアラルキル基、C6〜C20のアリール基、C1〜C20のアシルオキシ基、C1〜C20のアシル基、C1〜C20のアルコキシカルボニル基、C6〜C20のアリールカルボニル基、C1〜C20のジアルキルアミノ基、C1〜C20のアルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、フリル基、フルフリル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロフルフリル基、C1〜C20のアルキルチオ基、トリメチルシリル基、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、チエニル基、モルホリノ基、またはモルホリノカルボニル基で置換可能であり、
R3は、−R5−R6−COOHで表され、
R5は、−O−C(=O)−であり、
R6は、C1〜C30のアルキレン、C2〜C30のアルケニレン、−R7−C(=O)−R8−、−R9−C(=O)−O−R10−、−R11−O−R12−、−R13−C(=O)−N−(R14R15)−、−R−C(=O)−NR16−C(=O)R17−、−R18−C(=O)−N(R19)(C(=O))−R20−、−R21−C(=NR22)(R23)−、−CH=CH−O−C(=O)−R24−、−CH=CH−O−C−R25−、−CH=CH−O−C(=O)−N(R26)(R27)−、C6〜C30のアリレン基、C5〜C30のヘテロアリレン基、C6〜C30のシクロアルキレン基を含み、
R7〜R27は、互いに同一でも異なってもよく、それぞれ独立して、水素、C1〜C30のアルキレン、C6〜C30のアリレン基またはC6〜C30のシクロアルキレン基であり、
R4は、C1〜C20のアルキル(メタ)アクリレート基である。
Alkyl group or an alkyloxycarbonyl aminoalkyl group of C 1 -C 30,, wherein the alkyl group, alkyloxy group or alkyloxycarbonyl aminoalkyl group is an alkyl group of C 1 ~C 20, C 1 ~C 20 An alkoxy group, a C 1 -C 20 aralkyl group, a C 6 -C 20 aryl group, a C 1 -C 20 acyloxy group, a C 1 -C 20 acyl group, a C 1 -C 20 alkoxycarbonyl group, arylcarbonyl group C 6 ~C 20, C 1 ~C 20 dialkylamino group, alkylamino group of C 1 -C 20, halogen atom, a cyano group, a furyl group, furfuryl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrofurfuryl group , an alkylthio group of C 1 -C 20, a trimethylsilyl group, a trifluoromethyl group, Cal Hexyl group, a thienyl group, may be substituted with a morpholino group or a morpholinocarbonyl group,
R 3 is represented by —R 5 —R 6 —COOH;
R 5 is —OC (= O) —;
R 6 is alkylene of C 1 -C 30, alkenylene C 2 ~C 30, -R 7 -C (= O) -R 8 -, - R 9 -C (= O) -O-R 10 -, -R 11 -O-R 12 -, - R 13 -C (= O) -N- (R 14 R 15) -, - R-C (= O) -NR 16 -C (= O) R 17 - , -R 18 -C (= O) -N (R 19) (C (= O)) - R 20 -, - R 21 -C (= NR 22) (R 23) -, - CH = CH-O -C (= O) -R 24 - , - CH = CH-O-C-R 25 -, - CH = CH-O-C (= O) -N (R 26) (R 27) -, C 6 -C 30 arylene group, C 5 -C 30 heteroarylene group, C 6 -C 30 cycloalkylene group,
R 7 to R 27 may be the same or different from each other, and each independently represents hydrogen, C 1 to C 30 alkylene, C 6 to C 30 arylene, or C 6 to C 30 cycloalkylene. ,
R 4 is a C 1 -C 20 alkyl (meth) acrylate group.
この際、前記R2は、C1〜C20のアルキル基、C1〜C20のアルキルオキシ基、またはC1〜C20のアルキルオキシカルボニルアミノアルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、プロピレン基、ブチル基、エチレンオキシ基、ジエチレンオキシ基、トリエチレンオキシ基、エチルオキシカルボニルアミノエチル基がさらに好ましく、この際、これらは、3価形態の官能基である。 In this case, R 2 is preferably a C 1 -C 20 alkyl group, a C 1 -C 20 alkyloxy group, or a C 1 -C 20 alkyloxycarbonylaminoalkyl group, and is preferably a methyl group, an ethyl group. More preferred are a group, a propylene group, a butyl group, an ethyleneoxy group, a diethyleneoxy group, a triethyleneoxy group and an ethyloxycarbonylaminoethyl group, in which case these are trivalent functional groups.
この際、前記R4は、C1〜C12のアルキル(メタ)アクリレート基であることが好ましく、アクリレートまたはメチルアクリレート基であることがさらに好ましい。 In this case, R 4 is preferably a C 1 -C 12 alkyl (meth) acrylate group, and more preferably an acrylate or methyl acrylate group.
この際、前記R6は、C1〜C20のアルキレン、C2〜C20のアルケニレン、C6〜C20のアリレン基、またはC6〜C20のシクロアルキレン基であり、これらは、カルボキシル基で置換または非置換されることが好ましい。また、R6は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン、ペンチレン、エテニレン、2−メチル−エテニレン、ジメチルプロピレン基、ブチレン基、シクロヘキシレン基、4−シクロヘキシニル基、ビシクロ[4.4.0]デシレン基、ビシクロ[2.2.1]−2−ヘプチニレン基、フェニレン基、カルボキシフェニレン、またはナフタレニル基であることがより好ましい。 In this case, R 6 is a C 1 to C 20 alkylene, a C 2 to C 20 alkenylene, a C 6 to C 20 arylene group, or a C 6 to C 20 cycloalkylene group. It is preferably substituted or unsubstituted with a group. R 6 represents a methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene, pentylene, ethenylene, 2-methyl-ethenylene, dimethylpropylene group, butylene group, cyclohexylene group, 4-cyclohexynyl group, bicyclo [4.4 .0] decylene group, bicyclo [2.2.1] -2-heptynylene group, phenylene group, carboxyphenylene, or naphthalenyl group.
本明細書で言及する「アルキル基」は、直鎖状または分岐状を含み、一例として、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピレン、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、またはn−デシルなどを含み、アルキレンは、アルキルの2価形態を意味する。 "Alkyl group" as referred to herein includes linear or branched, and as an example, methyl, ethyl, n-propyl, i-propylene, n-butyl, isobutyl, t-butyl, n-pentyl, Alkylene means the divalent form of alkyl, including n-hexyl, n-octyl, or n-decyl and the like.
本明細書で言及する「アリール基」は、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、スチルベニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントリル、またはピレニルなどを含み、アリルレンは、アリールの2価形態を意味する。 An "aryl group" as referred to herein includes phenyl, biphenyl, terphenyl, stilbenyl, naphthyl, anthracenyl, phenanthryl, or pyrenyl, and the like, where arylene refers to the divalent form of aryl.
本明細書で言及する「シクロアルキル基」は、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、アダマンチル、ボルニル、ノルボルニルおよびノルボルネニルとこれらが縮合された形態であるジシクロペンチル、ジシクロヘキシル、ジシクロヘプチル、ジアダマンチル、ジボルニル、ジノルボルニルまたはジノルボルネニルなどを含み、シクロアルキレンは、シクロアルキルの2価形態を意味する。 As used herein, the term `` cycloalkyl group '' refers to cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, adamantyl, bornyl, norbornyl and norbornenyl, and dicyclopentyl, dicyclohexyl, dicycloheptyl, diadamantyl, dibornyl, which is a condensed form thereof. Including dinorbornyl or dinorbornenyl, cycloalkylene means the divalent form of cycloalkyl.
前記アルカリ可溶性樹脂は、単一重合体であるか、他の不飽和単量体との共重合体または他の不飽和単量体で重合された高分子とブレンディングの形態で使用することができる。この際、共重合体の場合、交互共重合体、ランダム共重合体またはブロック共重合体の形態であってもよく、本発明で特に限定しない。 The alkali-soluble resin may be used as a homopolymer, a copolymer with another unsaturated monomer, or a blend with a polymer polymerized with another unsaturated monomer. In this case, the copolymer may be in the form of an alternating copolymer, a random copolymer or a block copolymer, and is not particularly limited in the present invention.
前記共重合可能な単量体の種類は、特に限定されず、具体的な例を例示すると、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アミノエチル(メタ)アクリレートなどの不飽和カルボン酸の非置換または置換アルキルエステル化合物;シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘプチル(メタ)アクリレート、シクロオクチル(メタ)アクリレート、メンチル(メタ)アクリレート、シクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキセニル(メタ)アクリレート、シクロヘプテニル(メタ)アクリレート、シクロオクテニル(メタ)アクリレート、メンタジエニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ピナニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、ピネニル(メタ)アクリレートおよびトリシクロデシルメタクリレートなどの脂環式置換基を含む不飽和カルボン酸エステル化合物;オリゴエチレングリコールモノアルキル(メタ)アクリレートなどのグリコール類のモノ飽和カルボン酸エステル化合物;ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレートなどの芳香環を有する置換基を含む不飽和カルボン酸エステル化合物;スチレン、?−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル化合物;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル、(メタ)アクリロニトリル、?−クロロアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物;N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−ベンジルマレイミドなどのマレイミド化合物などが挙げられる。 The type of the copolymerizable monomer is not particularly limited, and specific examples include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth). Unsubstituted or substituted alkyl ester compounds of unsaturated carboxylic acids such as acrylate and aminoethyl (meth) acrylate; cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate, cyclo Octyl (meth) acrylate, menthyl (meth) acrylate, cyclopentenyl (meth) acrylate, cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, Dienyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, pinanyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, pinenyl (meth) acrylate and tricyclodecyl methacrylate Saturated carboxylate compounds; monosaturated carboxylate compounds of glycols such as oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylate; unsaturated containing substituents having an aromatic ring such as benzyl (meth) acrylate and phenoxy (meth) acrylate Carboxylic acid ester compounds; aromatic vinyl compounds such as styrene,? -Methylstyrene and vinyltoluene; vinyl carboxylic acid esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; (meth) acrylonitrile ? Lil, - vinyl cyanide compounds such as chloro acrylonitrile; N- cyclohexyl maleimide, N- phenylmaleimide, and the like maleimide compounds such as N- benzyl maleimide.
前記アルカリ可溶性樹脂の含量は、自発光感光性樹脂組成物100重量%に対して、5〜80重量%で含むことが好ましく、10〜70重量%で含むことがより好ましい。前記アルカリ可溶性樹脂の含量が前記範囲以内に含まれる場合には、現像液への溶解性が十分であるので、パターン形成が容易であり、現像時に露光部の画素部分の膜減少が防止されて、非画素部分の欠落性が良好になる。 The content of the alkali-soluble resin is preferably from 5 to 80% by weight, more preferably from 10 to 70% by weight, based on 100% by weight of the self-luminous photosensitive resin composition. When the content of the alkali-soluble resin is contained within the above range, the solubility in a developing solution is sufficient, so that pattern formation is easy, and a film reduction in a pixel portion of an exposed portion during development is prevented. In addition, the missing property of the non-pixel portion is improved.
散乱粒子
前記散乱粒子は、カラーフィルターの光効率を増加させるために使用する。光源から照射された光は、カラーフィルターに臨界角をもって入射されるが、この際、入射された光や量子ドットにより自発放出される自発放出光は、散乱粒子に会って、光経路の増加によって発光強度が強くなって、結果的にカラーフィルターの光効率を増加させる。前記散乱粒子は、通常の無機材料がいずれも可能であり、好ましくは金属酸化物を使用する。
Scattering particles The scattering particles are used to increase the light efficiency of a color filter. The light emitted from the light source is incident on the color filter at a critical angle.In this case, the incident light and the spontaneous emission light spontaneously emitted by the quantum dots meet scattering particles and increase the optical path. The light emission intensity is increased, thereby increasing the light efficiency of the color filter. The scattering particles can be any of ordinary inorganic materials, and preferably use metal oxides.
前記金属酸化物は、Li、Be、B、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Rb、Sr、Y、Mo、Cs、Ba、La、Hf、W、Tl、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Ti、Sb、Sn、Zr、Nb、Ce、Ta、Inおよびこれらの組合せよりなる群から選ばれる1種の金属を含む酸化物が可能である。 The metal oxide is Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Rb, Sr, Y, Mo, Cs, Ba, La, Hf, W, Tl, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Ti, Sb, Sn, Zr, An oxide containing one metal selected from the group consisting of Nb, Ce, Ta, In and combinations thereof is possible.
具体的にAl2O3、SiO2、ZnO、ZrO2、BaTiO3、TiO2、Ta2O5、Ti3O5、ITO、IZO、ATO、ZnO−Al、Nb2O3、SnO、MgOおよびこれらの組合せよりなる群から選ばれる1種が可能である。必要な場合、アクリレートなどの不飽和結合を有する化合物で表面処理された材質も使用可能である。 Specifically, Al 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, ZrO 2 , BaTiO 3 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , Ti 3 O 5 , ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, Nb 2 O 3 , SnO, MgO And one selected from the group consisting of these and combinations thereof. If necessary, a material surface-treated with a compound having an unsaturated bond such as acrylate can also be used.
前記散乱粒子は、カラーフィルターの発光強度を十分に向上させることができるように、平均粒径および全体組成物内で含量を限定する。散乱粒子は、10〜1000nmの平均粒径を有することが好ましく、50〜500nmの範囲の平均粒径を有することがより好ましい。散乱粒子のサイズが非常に小さい場合、量子ドットから放出された光の十分な散乱効果を期待できず、これとは反対に、非常に大きい場合には、組成物内に沈んだり均一な品質の自発光層の表面が得られない。 The scattering particles have an average particle size and a limited content in the entire composition so that the emission intensity of the color filter can be sufficiently improved. The scattering particles preferably have an average particle size of 10 to 1000 nm, more preferably have an average particle size in the range of 50 to 500 nm. If the size of the scattering particles is very small, a sufficient scattering effect of the light emitted from the quantum dots cannot be expected.On the other hand, if the size is very large, the light will sink into the composition or have a uniform quality. The surface of the self-luminous layer cannot be obtained.
また、散乱粒子は、自発光感光性樹脂組成物100重量%内で0.1〜50重量%を使用することができ、好ましくは0.5〜30重量%で使用することができる。散乱粒子の含量が前記範囲未満であれば、得ようとする発光強度を確保することができず、前記範囲を超過する場合には、これ以上の発光強度の増加効果が不十分であると共に、組成物の安定性の低下問題が発生し得る。 The scattering particles may be used in an amount of 0.1 to 50% by weight, preferably 0.5 to 30% by weight, within 100% by weight of the self-luminous photosensitive resin composition. If the content of the scattering particles is less than the above range, the emission intensity to be obtained cannot be secured, and if the content exceeds the above range, the effect of further increasing the emission intensity is insufficient, Problems with reduced stability of the composition can occur.
本発明による自発光感光性樹脂組成物は、前記アルカリ可溶性樹脂に金属酸化物である散乱粒子を共に含むことによって、散乱粒子は時間が経つにつれて沈降するのを防止することができるという特徴がある。 The self-luminous photosensitive resin composition according to the present invention is characterized in that the alkali-soluble resin contains scattering particles that are metal oxides together, so that the scattering particles can be prevented from settling over time. .
量子ドット
本発明の感光性樹脂組成物は、量子ドット粒子を含む。量子ドットとは、ナノサイズの半導体物質である。原子が分子を成し、分子は、クラスターという小さい分子の集合体を構成してナノ粒子を成すが、このようなナノ粒子が特に半導体特性を帯びているとき、これを量子ドットという。
Quantum Dots The photosensitive resin composition of the present invention contains quantum dot particles. Quantum dots are nano-sized semiconductor materials. Atoms form molecules, and molecules form clusters of small molecules called clusters to form nanoparticles. When such nanoparticles have semiconductor characteristics, they are called quantum dots.
前記量子ドットは、外部からエネルギーを受けて励起状態になると、自体的に該当するエネルギーバンドギャップによるエネルギーを放出する。 When the quantum dots receive energy from the outside and enter an excited state, the quantum dots themselves emit energy with a corresponding energy band gap.
本発明の感光性樹脂組成物は、このような量子ドット粒子を含み、これから製造されたカラーフィルターは、光照射によって発光(光ルミネセンス)することができる。 The photosensitive resin composition of the present invention contains such quantum dot particles, and a color filter manufactured therefrom can emit light (photoluminescence) by light irradiation.
カラーフィルターを含む通常の画像表示装置では、白色光がカラーフィルターを透過してカラーが具現されるが、この過程で光の一部がカラーフィルターに吸収されるので、光効率が低下する。 In a general image display apparatus including a color filter, white light is transmitted through the color filter to realize a color. In this process, a part of the light is absorbed by the color filter, so that light efficiency is reduced.
しかしながら、本発明の感光性樹脂組成物で製造されたカラーフィルターを含む場合には、カラーフィルターが光源の光により自体発光するので、さらに優れた光効率を具現することができる。また、色相を有する光が放出されるものであるから、さらに色再現性に優れ、光ルミネセンスにより全方向に光が放出されるので、視野角も改善され得る。 However, when a color filter manufactured using the photosensitive resin composition of the present invention is included, the color filter emits light by the light of the light source, thereby realizing higher light efficiency. In addition, since light having a hue is emitted, color reproducibility is further improved, and light is emitted in all directions by photoluminescence, so that the viewing angle can be improved.
前記量子ドット粒子は、光による刺激で発光できる量子ドット粒子であれば、特に限定されず、例えばII−VI族半導体化合物;III−V族半導体化合物;IV−VI族半導体化合物;IV族元素またはこれを含む化合物;およびこれらの組合せよりなる群から選択することができる。これらは、単独または2種以上混合して使用することができる。前記II−VI族半導体化合物は、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、およびこれらの混合物よりなる群から選択される二元素化合物;CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTeおよびこれらの混合物よりなる群から選択される三元素化合物;およびCdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTeおよびこれらの混合物よりなる群から選ばれる四元素化合物よりなる群から選択することができ、前記III−V族半導体化合物は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物;GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる三元素化合物;およびGaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる四元素化合物よりなる群から選ばれ、前記IV−VI族半導体化合物は、SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物;SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる三元素化合物;およびSnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる四元素化合物よりなる群から選択することができ、前記IV族元素またはこれを含む化合物は、Si、Ge、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる元素化合物;およびSiC、SiGe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物よりなる群から選択することができる。 The quantum dot particle is not particularly limited as long as it is a quantum dot particle that can emit light when stimulated by light. For example, a II-VI semiconductor compound; a III-V semiconductor compound; a IV-VI semiconductor compound; Compounds containing the same; and combinations thereof. These can be used alone or in combination of two or more. The II-VI group semiconductor compound is a two-element compound selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, and a mixture thereof; CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSe, Zn, Se, HgZnSe, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdZnS, CdZn; , CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe and a mixture thereof. The group III-V semiconductor compound can be selected from the group consisting of quaternary compounds, wherein the group III-V semiconductor compound is GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, and mixtures thereof. A two-element compound selected from the group consisting of: GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP, and a mixture thereof. A selected three-element compound; and GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, selected from the group consisting of quaternary compounds selected from the group consisting of nAlNSb, InAlPAs, InAlPSb, and mixtures thereof, wherein the IV-VI group semiconductor compound is SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and these. A binary element selected from the group consisting of mixtures; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, a ternary compound selected from the group consisting of SnPbSe, SnPbTe, and mixtures thereof; And a group consisting of four-element compounds selected from the group consisting of Si, Ge, and mixtures thereof. Element compounds selected from the group consisting of SiC, SiGe, and mixtures thereof.
前記量子ドット粒子は、均質な(homogeneous)単一構造;コア−シェル(core−shell)、グラジエント(gradient)構造などのような二重構造;またはこれらの混合構造であってもよい。 The quantum dot particles may have a homogenous single structure; a double structure such as a core-shell or a gradient structure; or a mixed structure thereof.
前記コア−シェル(core−shell)の二重構造で、それぞれのコア(core)とシェル(shell)を成す物質は、前記言及された互いに異なる半導体化合物からなり得る。例えば、前記コアは、CdSe、CdS、ZnS、ZnSe、CdTe、CdSeTe、CdZnS、PbSe、AgInZnSおよびZnOよりなる群から選ばれる一つ以上の物質を含むことができるが、これらに限定されるものではない。前記シェルは、CdSe、ZnSe、ZnS、ZnTe、CdTe、PbS、TiO、SrSeおよびHgSeよりなる群から選ばれる一つ以上の物質を含むことができるが、これらに限定されるものではない。 In the core-shell double structure, the material forming each core and shell may be made of the above-mentioned different semiconductor compounds. For example, the core may include one or more materials selected from the group consisting of CdSe, CdS, ZnS, ZnSe, CdTe, CdSeTe, CdZnS, PbSe, AgInZnS, and ZnO, but are not limited thereto. Absent. The shell may include, but is not limited to, one or more materials selected from the group consisting of CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, and HgSe.
通常のカラーフィルターの製造に使用される着色感光性樹脂組成物が、色相の具現のために赤色、緑色、青色の着色剤を含むことと同様に、光ルミネセンス量子ドット粒子も、赤色量子ドット粒子、緑色量子ドット粒子および青色量子ドット粒子に分類され得、本発明による量子ドット粒子は、赤色量子ドット粒子、緑色量子ドット粒子または青色量子ドット粒子であってもよい。 Photoluminescent quantum dot particles, red quantum dots, as well as the colored photosensitive resin composition used in the manufacture of ordinary color filters, as well as including red, green, blue colorants for the implementation of hue Particles, green quantum dot particles and blue quantum dot particles, and the quantum dot particles according to the present invention may be red, green or blue quantum dot particles.
前記量子ドット粒子は、湿式化学工程(wet chemical process)、有機金属化学蒸着工程または分子線エピタキシ工程により合成され得る。湿式化学工程は、有機溶剤に前駆体物質を入れて粒子を成長させる方法である。結晶が成長するとき、有機溶剤が自然に量子ドット結晶の表面に配位されて、分散剤の役割をして、結晶の成長を調節するようになるので、有機金属化学蒸着(MOCVD、metal organic chemical vapor deposition)や分子線エピタキシー(MBE、molecular beam epitaxy)のような気相蒸着法よりさらに容易かつ低価格の工程を通じてナノ粒子の成長を制御することができる。 The quantum dot particles may be synthesized by a wet chemical process, a metal organic chemical vapor deposition process, or a molecular beam epitaxy process. The wet chemistry process is a method of growing particles by putting a precursor substance in an organic solvent. When the crystal grows, the organic solvent is naturally coordinated on the surface of the quantum dot crystal and acts as a dispersant to control the growth of the crystal. Therefore, metal organic chemical vapor deposition (MOCVD, metal organic) is performed. Nanoparticle growth can be controlled through an easier and less expensive process than a vapor deposition method such as chemical vapor deposition or molecular beam epitaxy (MBE).
本発明による量子ドット粒子の含量は、特に限定されず、例えば自発光感光性樹脂組成物の固形分の総重量%のうち3〜80重量%で含まれることが好ましく、5〜70重量%で含まれることがより好ましい。量子ドットの含量が前記範囲未満である場合には、発光効率が不十分になり得、前記範囲を超過する場合には、相対的に他の組成の含量が不十分であるので、画素パターンを形成しにくい問題がある。 The content of the quantum dot particles according to the present invention is not particularly limited. More preferably, it is included. When the content of the quantum dots is less than the above range, the luminous efficiency may be insufficient, and when the content exceeds the above range, the content of other compositions is relatively insufficient, so that the pixel pattern may be reduced. There is a problem that it is difficult to form.
光重合性化合物
本発明の量子ドット感光性樹脂組成物に含有される光重合性化合物は、光および後述する光重合開始剤の作用で重合できる化合物であって、単官能単量体、二官能単量体、その他の多官能単量体などが挙げられる。
Photopolymerizable compound The photopolymerizable compound contained in the quantum dot photosensitive resin composition of the present invention is a compound that can be polymerized by the action of light and a photopolymerization initiator described below, and is a monofunctional monomer or a bifunctional monomer. Monomers and other polyfunctional monomers.
単官能単量体の具体例としては、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、N−ビニルピロリドンなどが挙げられる。 Specific examples of the monofunctional monomer include nonylphenyl carbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, N-vinylpyrrolidone, and the like.
二官能単量体の具体例としては、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイルオキシエチル)エーテル、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and bisphenol. A (bis (acryloyloxyethyl) ether), 3-methylpentanediol di (meth) acrylate and the like can be mentioned.
その他の多官能単量体の具体例としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Specific examples of other polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate and the like.
これらのうち、二官能以上の多官能単量体が好ましく使用される。 Among them, bifunctional or higher polyfunctional monomers are preferably used.
前記光重合性化合物は、自発光感光性樹脂組成物の固形分の総重量%に対して5〜70重量%含まれることが好ましく、7〜65重量%で含まれることがより好ましい。前記光重合性化合物が前記範囲内に含まれる場合には、画素部の強度や平滑性が良好になり得る。 The photopolymerizable compound is preferably contained in an amount of 5 to 70% by weight, more preferably 7 to 65% by weight, based on the total weight of the solid content of the self-luminous photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is included in the range, the strength and smoothness of the pixel portion can be improved.
光重合開始剤
本発明による光重合開始剤は、制限されないが、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物およびオキシム化合物よりなる群から選ばれる1種以上の化合物を含むことがより好ましい。
Photopolymerization Initiator The photopolymerization initiator according to the present invention is not limited, but more preferably contains one or more compounds selected from the group consisting of triazine-based compounds, acetophenone-based compounds, biimidazole-based compounds, and oxime compounds.
前記光重合開始剤を含有する自発光感光性樹脂組成物は、高感度であり、前記組成物を使用して形成される画素ピクセルは、その画素部の強度やパターン性が良好になりえる。 The self-luminous photosensitive resin composition containing the photopolymerization initiator has high sensitivity, and a pixel pixel formed using the composition can have good strength and patternability of the pixel portion.
また、前記光重合開始剤に光重合開始補助剤を併用する場合、これらを含有する自発光感光性樹脂組成物がさらに高感度になって、この組成物を使用してカラーフィルターを形成するときの生産性が向上するので好ましい。 Further, when a photopolymerization initiator is used in combination with the photopolymerization initiator, the self-luminous photosensitive resin composition containing these becomes more sensitive, and a color filter is formed using this composition. This is preferable because the productivity of the compound is improved.
前記トリアジン系化合物としては、例えば2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシナフチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−ピペロニル−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−1,3,5−トリアジンなどが挙げられる。 Examples of the triazine-based compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine and 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4- (Methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxy Styryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4 -Bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino- 2-methylfe Le) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like. .
前記アセトフェノン系化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタル、2−ヒドロキシ−1−[4−(2−ヒドキシエトキシ)フェニル]−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパン−1−オンのオリゴマーなどが挙げられる。また、下記化学式2で表される化合物が挙げられる。 Examples of the acetophenone-based compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, and 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxyethoxy). Phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino- Examples thereof include oligomers of 1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one. Further, a compound represented by the following chemical formula 2 may be mentioned.
[化学式2]
[Chemical formula 2]
前記化学式2で、R28〜R31は、それぞれ独立して、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基で置換または非置換されたフェニル基、炭素数1〜12のアルキル基で置換または非置換されたベンジル基、または炭素数1〜12のアルキル基で置換または非置換されたナフチル基を示す。 In Formula 2, R 28 to R 31 may be each independently the same or different, and may be a phenyl group substituted or unsubstituted with a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. A benzyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a naphthyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
前記化学式2で表される化合物の具体例としては、2−メチル−2−アミノ(4−モルホリノフェニル)エタン−1−オン、2−エチル−2−アミノ(4−モルホリノフェニル)エタン−1−オン、2−プロピル−2−アミノ(4−モルホリノフェニル)エタン−1−オン、2−ブチル−2−アミノ(4−モルホリノフェニル)エタン−1−オン、2−メチル−2−アミノ(4−モルホリノフェニル)プロパン−1−オン、2−メチル−2−アミノ(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、2−エチル−2−アミノ(4−モルホリノフェニル)プロパン−1−オン、2−エチル−2−アミノ(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、2−メチル−2−メチルアミノ(4−モルホリノフェニル)プロパン−1−オン、2−メチル−2−ジメチルアミノ(4−モルホリノフェニル)プロパン−1−オン、2−メチル−2−ジエチルアミノ(4−モルホリノフェニル)プロパン−1−オンなどが挙げられる。 Specific examples of the compound represented by Chemical Formula 2 include 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one and 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one. On, 2-propyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-butyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-methyl-2-amino (4- Morpholinophenyl) propan-1-one, 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2-ethyl -2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-methyl-2-methylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2-methyl- - dimethylamino (4-morpholinophenyl) propane-1-one, such as 2-methyl-2-diethylamino (4-morpholinophenyl) propane-1-one and the like.
前記ビイミダゾール化合物としては、例えば2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(2,3−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(アルコキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(トリアルコキシフェニル)ビイミダゾール、4,4’,5,5’位置のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物などが挙げられる。これらのうち、2,2’ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(2,3−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾールが好ましく使用され得る。 Examples of the biimidazole compound include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl) -4 , 4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, imidazole compounds in which the phenyl group at the 4,4', 5,5 'position is substituted by a carboalkoxy group Is mentioned. Of these, 2,2'bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4', 5 , 5'-Tetraphenylbiimidazole may be preferably used.
前記オキシム化合物としては、下記化学式の化合物が挙げられる。 Examples of the oxime compound include compounds represented by the following chemical formula.
また、本発明の効果を損傷しない程度であれば、この分野において通常使用されているその他の光重合開始剤などを追加に併用することもできる。その他の光重合開始剤としては、例えばベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、アントラセン系化合物などが挙げられる。これらは、それぞれ単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。 Further, as long as the effects of the present invention are not impaired, other photopolymerization initiators commonly used in this field can be additionally used. Examples of other photopolymerization initiators include benzoin-based compounds, benzophenone-based compounds, thioxanthone-based compounds, and anthracene-based compounds. These can be used alone or in combination of two or more.
前記ベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。 Examples of the benzoin-based compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether.
前記ベンゾフェノン系化合物としては、例えばベンゾフェノン、0−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4,4’−ジ(N、N’−ジメチルアミノ)−ベンゾフェノンなどが挙げられる。 Examples of the benzophenone-based compound include benzophenone, methyl 0-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenylsulfide, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) ) Benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4,4'-di (N, N'-dimethylamino) -benzophenone and the like.
前記チオキサントン系化合物としては、例えば2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。 Examples of the thioxanthone-based compound include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like.
前記アントラセン系化合物としては、例えば9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。 Examples of the anthracene-based compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, and 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene.
その他、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−エチルアントラキノン、ベンジル、9,10−フェナトレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物などをその他の光重合開始剤として挙げられる。 In addition, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenathrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compounds and the like As other photopolymerization initiators.
また、本発明で光重合開始剤に組み合わせて使用できる光重合開始補助剤としては、アミン化合物、カルボン酸化合物などよりなる群から選ばれる1種以上の化合物が好ましく使用され得る。 Further, as the photopolymerization initiation auxiliary that can be used in combination with the photopolymerization initiator in the present invention, one or more compounds selected from the group consisting of an amine compound, a carboxylic acid compound and the like can be preferably used.
前記光重合開始補助剤のうちアミン化合物の具体例としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどの脂肪族アミン化合物、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(通称:ミヒラーケトン)、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンなどの芳香族アミン化合物が挙げられる。アミン化合物としては、芳香族アミン化合物が好ましく使用される。 Specific examples of the amine compound among the photopolymerization initiation assistants include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine; methyl 4-dimethylaminobenzoate; ethyl 4-dimethylaminobenzoate; Isoamyl dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone), Aromatic amine compounds such as 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone are exemplified. As the amine compound, an aromatic amine compound is preferably used.
前記カルボン酸化合物の具体例としては、フェニルチオ酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、N−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、N−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸などの芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。 Specific examples of the carboxylic acid compound include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid, and dichlorophenylthioacetic acid. Examples include aromatic heteroacetic acids such as acetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.
本発明の光重合開始剤は、自発光感光性樹脂組成物の固形分の総重量%のうち0.1〜20重量%で含まれることが好ましく、1〜10重量%で含まれることがより好ましい。前記光重合開始剤の含量が前記範囲内に含まれる場合には、自発光感光性樹脂組成物が高感度化されて、画素部の強度や、この画素部の表面での平滑性が良好になり得る。 The photopolymerization initiator of the present invention is preferably contained in an amount of 0.1 to 20% by weight, more preferably 1 to 10% by weight, based on the total weight of the solid content of the self-luminous photosensitive resin composition. preferable. When the content of the photopolymerization initiator is included in the range, the self-luminous photosensitive resin composition is highly sensitive, and the strength of the pixel portion and the smoothness on the surface of the pixel portion are improved. Can be.
また、本発明の光重合開始補助剤は、自発光感光性樹脂組成物の固形分の総重量%のうち0.1〜2重量%で含まれることが好ましく、1〜10重量%で含まれることがより好ましい。光重合開始補助剤の使用量が前記の範囲にあれば、自発光感光性樹脂組成物の感度効率性がさらに高まり、この組成物を使用して形成されるカラーフィルターの生産性が向上することができる。 Further, the photopolymerization initiation auxiliary agent of the present invention is preferably contained in an amount of 0.1 to 2% by weight, preferably 1 to 10% by weight based on the total weight% of the solid content of the self-luminous photosensitive resin composition. Is more preferable. If the amount of the photopolymerization initiation auxiliary agent is within the above range, the sensitivity efficiency of the self-luminous photosensitive resin composition is further increased, and the productivity of a color filter formed using this composition is improved. Can be.
溶剤
本発明による溶剤は、特に限定されず、当該分野において通常的に使用される有機溶剤であってもよい。
Solvent The solvent according to the present invention is not particularly limited, and may be an organic solvent commonly used in the art.
具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのアルキレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのプロピレングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類;3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチルなどのエステル類;?−ブチロラクトンなどの環状エステル類;などが挙げられる。これらは、単独または2種以上混合して使用することができる。 Specific examples include alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether. Diethylene glycol dialkyl ethers such as methylcellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; propylene glycol dialkyl ethers such as propylene glycol monomethyl ether; propylene glycol monomethyl ether acetate; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as lenglycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene; methyl ethyl ketone, acetone and methyl Ketones such as amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin; esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate Cyclic esters such as? -Butyrolactone; and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
本発明による溶剤の含量は、特に限定されず、例えば感光性樹脂組成物の総重量%のうち60〜90重量%で含まれることが好ましく、70〜85重量%で含まれることが好ましい。前記溶剤の含量が前記範囲以内である場合には、塗布性が良好になり得る。 The content of the solvent according to the present invention is not particularly limited. For example, the content is preferably 60 to 90% by weight, and more preferably 70 to 85% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition. When the content of the solvent is within the above range, the coatability may be improved.
<カラーフィルター>
また、本発明は、前記感光性樹脂組成物で製造されたカラーフィルターを提供する。
<Color filter>
The present invention also provides a color filter manufactured using the photosensitive resin composition.
本発明のカラーフィルターは、画像表示装置に適用される場合に、表示装置光源の光により発光するので、さらに優れた光効率を具現することができる。また、色相を有する光が放出されるものであるから、さらに色再現性に優れ、光ルミネセンスにより全方向に光が放出されるので、視野角も改善され得る。 When the color filter of the present invention is applied to an image display device, the color filter emits light by light from a light source of the display device, so that it is possible to realize more excellent light efficiency. In addition, since light having a hue is emitted, color reproducibility is further improved, and light is emitted in all directions by photoluminescence, so that the viewing angle can be improved.
カラーフィルターは、基板および前記基板の上部に形成されたパターン層を含む。 The color filter includes a substrate and a pattern layer formed on the substrate.
基板は、カラーフィルター自体基板であることもあって、またはディスプレイ装置などにカラーフィルターが位置する部位であってもよく、特に制限されない。前記基板は、ガラス、シリコン(Si)、シリコン酸化物(SiOx)または高分子基板であってもよく、前記高分子基板は、ポリエーテルスルホン(polyethersulfone、PES)またはポリカーボネート(polycarbonate、PC)等であってもよい。 The substrate may be the color filter itself, or may be a portion where the color filter is located in a display device or the like, and is not particularly limited. The substrate may be glass, silicon (Si), silicon oxide (SiO x ), or a polymer substrate, and the polymer substrate may be polyethersulfone (PES), polycarbonate (polycarbonate, PC), or the like. It may be.
パターン層は、本発明の感光性樹脂組成物を含む層であって、前記感光性樹脂組成物を塗布し、所定のパターンで露光、現像および熱硬化して形成された層であってもよい。 The pattern layer is a layer containing the photosensitive resin composition of the present invention, and may be a layer formed by applying the photosensitive resin composition, exposing in a predetermined pattern, developing, and heat curing. .
前記感光性樹脂組成物で形成されたパターン層は、赤色量子ドット粒子を含有する赤色パターン層、緑色量子ドット粒子を含有する緑色パターン層、および青色量子ドット粒子を含有する青色パターン層を具備することができる。光の照射時に、赤色パターン層は、赤色光を、緑色パターン層は、緑色光を、青色パターン層は、青色光を放出する。 The pattern layer formed of the photosensitive resin composition includes a red pattern layer containing red quantum dot particles, a green pattern layer containing green quantum dot particles, and a blue pattern layer containing blue quantum dot particles. be able to. Upon light irradiation, the red pattern layer emits red light, the green pattern layer emits green light, and the blue pattern layer emits blue light.
このような場合に、画像表示装置への適用時に、光源の放出光が特に限定されないが、さらに優れた色再現性の観点から、青色光を放出する光源を使用することができる。 In such a case, when applied to an image display device, the light emitted from the light source is not particularly limited, but from the viewpoint of more excellent color reproducibility, a light source that emits blue light can be used.
本発明の他の一具現例によれば、前記パターン層は、赤色パターン層、緑色パターン層および青色パターン層のうち2種の色相のパターン層だけを具備することもできる。このような場合には、前記パターン層は、量子ドット粒子を含有しない透明パターン層をさらに具備する。 According to another embodiment of the present invention, the pattern layer may include only two types of pattern layers of a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer. In such a case, the pattern layer further includes a transparent pattern layer containing no quantum dot particles.
2種の色相のパターン層だけを具備する場合には、含まない残りの色相を示す波長の光を放出する光源を使用することができる。例えば、赤色パターン層および緑色パターン層を含む場合には、青色光を放出する光源を使用することができる。このような場合に、赤色量子ドット粒子は、赤色光を、緑色量子ドット粒子は、緑色光を放出し、透明パターン層は、青色光がそのまま透過して青色を示す。 When only two types of pattern layers are provided, a light source that emits light having a wavelength indicating the remaining hues that are not included can be used. For example, when a red pattern layer and a green pattern layer are included, a light source that emits blue light can be used. In such a case, the red quantum dot particles emit red light, the green quantum dot particles emit green light, and the transparent pattern layer transmits blue light as it is and displays blue.
前記のような基板およびパターン層を含むカラーフィルターは、各パターンの間に形成された隔壁をさらに含むことができ、ブラックマトリックスをさらに含むこともできる。また、カラーフィルターのパターン層の上部に形成された保護膜をさらに含むこともできる。 The color filter including the substrate and the pattern layer may further include a partition formed between the patterns, and may further include a black matrix. In addition, the color filter may further include a protective layer formed on the pattern layer of the color filter.
<画像表示装置>
また、本発明は、前記カラーフィルターを含む画像表示装置を提供する。
<Image display device>
Further, the present invention provides an image display device including the color filter.
本発明のカラーフィルターは、通常の液晶表示装置だけでなく、電界発光表示装置、プラズマ表示装置、電界放出表示装置など各種画像表示装置に適用が可能である。 The color filter of the present invention can be applied not only to a general liquid crystal display device but also to various image display devices such as an electroluminescent display device, a plasma display device, and a field emission display device.
本発明の画像表示装置は、赤色量子ドット粒子を含有する赤色パターン層、緑色量子ドット粒子を含有する緑色パターン層、および青色量子ドット粒子を含有する青色パターン層を含むカラーフィルターを具備することができる。このような場合に、画像表示装置への適用時に、光源の放出光は、特に限定されないが、さらに優れた色再現性の観点から、好ましくは青色光を放出する光源を使用することができる The image display device of the present invention may include a color filter including a red pattern layer containing red quantum dot particles, a green pattern layer containing green quantum dot particles, and a blue pattern layer containing blue quantum dot particles. it can. In such a case, when applied to an image display device, the emission light of the light source is not particularly limited, but from the viewpoint of more excellent color reproducibility, a light source that preferably emits blue light can be used.
本発明の他の一具現例によれば、本発明の画像表示装置は、赤色パターン層、緑色パターン層および青色パターン層のうち2種の色相のパターン層だけを含むカラーフィルターを具備することもできる。このような場合に、は、前記カラーフィルターは、量子ドット粒子を含有しない透明パターン層をさらに具備する。 According to another embodiment of the present invention, the image display device of the present invention may include a color filter including only two types of pattern layers of a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer. it can. In such a case, the color filter further includes a transparent pattern layer containing no quantum dot particles.
2種の色相のパターン層だけを具備する場合には、含まない残りの色相を示す波長の光を放出する光源を使用することができる。例えば、赤色パターン層および緑色パターン層を含む場合には、青色光を放出する光源を使用することができる。このような場合に、赤色量子ドット粒子は、赤色光を、緑色量子ドット粒子は、緑色光を放出し、透明パターン層は、青色光がそのまま透過して青色を示す。 When only two types of pattern layers are provided, a light source that emits light having a wavelength indicating the remaining hues that are not included can be used. For example, when a red pattern layer and a green pattern layer are included, a light source that emits blue light can be used. In such a case, the red quantum dot particles emit red light, the green quantum dot particles emit green light, and the transparent pattern layer transmits blue light as it is and displays blue.
本発明の画像表示装置は、光効率に優れていて、高い輝度を示し、色再現性に優れており、広い視野角を有する。 The image display device of the present invention has excellent light efficiency, high luminance, excellent color reproducibility, and a wide viewing angle.
以下では、実施例を通じて本発明をより詳細に説明する。しかしながら、下記実施例は、本発明をより具体的に説明するためのものであって、本発明の範囲が下記実施例によって限定されるものではない。下記実施例は、本発明の範囲内で当業者によって適切に修正、変更され得る。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the following examples are for describing the present invention more specifically, and the scope of the present invention is not limited to the following examples. The following embodiments can be appropriately modified and changed by those skilled in the art within the scope of the present invention.
製造例1.CdSe(コア)/ZnS(シェル)構造の光ルミネセンス緑色量子ドット粒子Aの合成
CdO(0.4mmol)と亜鉛アセテート(Zinc acetate)(4mmol)、オレイン酸(Oleic acid)(5.5mL)を1−オクタデセン(1−Octadecene)(20mL)と共に反応器に入れ、150℃に加熱して反応させた。以後、亜鉛にオレイン酸が置換されることによって生成された酢酸(acetic acid)を除去するために、前記反応物を100mTorrの真空下に20分間放置した。その後、310℃の熱を加えて透明な混合物を得た後、これを310℃で20分間維持した後、0.4mmolのSe粉末と2.3mmolのS粉末を3mLのトリオクチルホスフィン(trioctylphosphine)に溶解させたSeおよびS溶液をCd(OA)2およびZn(OA)2溶液が入っている反応器に迅速に注入した。これから得た混合物を310℃で5分間成長させた後、アイスバス(ice bath)を利用して成長を中断させた。その後、エタノールで沈殿させて遠心分離機を利用して量子ドットを分離し、余分の不純物は、クロロホルム(chloroform)とエタノールを利用して洗浄することによって、オレイン酸で安定化された、コア粒径とシェル厚さの合計が3〜5nmである粒子が分布したCdSe(コア)/ZnS(シェル)構造の量子ドット粒子Aを収得した。
Production Example 1. Synthesis of Photoluminescent Green Quantum Dot Particle A with CdSe (Core) / ZnS (Shell) Structure CdO (0.4 mmol), zinc acetate (Zinc acetate) (4 mmol), and oleic acid (Oleic acid) (5.5 mL) The mixture was placed in a reactor together with 1-octadecene (20 mL) and heated to 150 ° C. to react. Thereafter, in order to remove acetic acid generated by substituting oleic acid for zinc, the reactant was left under a vacuum of 100 mTorr for 20 minutes. Thereafter, a clear mixture was obtained by applying heat at 310 ° C., and the mixture was maintained at 310 ° C. for 20 minutes. Then, 0.4 mmol of Se powder and 2.3 mmol of S powder were mixed with 3 mL of trioctylphosphine. Was rapidly injected into the reactor containing the Cd (OA) 2 and Zn (OA) 2 solutions. The resultant mixture was grown at 310 ° C. for 5 minutes, and then stopped using an ice bath. Thereafter, the quantum dots were precipitated with ethanol and separated using a centrifuge, and the extra impurities were washed with chloroform and ethanol to remove the core particles stabilized with oleic acid. Quantum dot particles A having a CdSe (core) / ZnS (shell) structure in which particles having a total of 3 to 5 nm in diameter and shell thickness were distributed were obtained.
製造例2−1.アルカリ可溶性樹脂(E−1)の合成
撹拌器、温度計還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド40重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸50重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-1. Preparation of a flask equipped with a stirrer for synthesizing an alkali-soluble resin (E-1), a thermometer reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen inlet tube, on the other hand, 40 parts by weight of N-benzylmaleimide and 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meta-t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA"), and 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether The mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel for the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and mixed by stirring to prepare a dropping funnel for a chain transfer agent.
以後、フラスコにPGMEA 395重量部を導入し、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に置換した後、撹拌しつつ、フラスコの温度を90℃まで昇温した。次に、モノマーおよび連鎖移動剤を滴下漏斗から滴下を開始した。滴下は、90を維持しつつ、それぞれ2時間の間行い、1時間後に110℃に昇温して3時間維持した後、その後、室温まで冷却しつつ、固形分29.1重量%、重量平均分子量10,000、酸価が140mgKOH/gである樹脂E−1を得た。 Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Next, the monomer and the chain transfer agent were dropped from the dropping funnel. Dropping is performed for 2 hours while maintaining 90, and after 1 hour, the temperature is raised to 110 ° C. and maintained for 3 hours, and then, while cooling to room temperature, the solid content is 29.1% by weight, the weight average Resin E-1 having a molecular weight of 10,000 and an acid value of 140 mgKOH / g was obtained.
製造例2−2:アルカリ可溶性樹脂(E−2)の合成
撹拌器、温度計還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド40重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸50重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-2 Synthesis of Alkali-Soluble Resin (E-2) A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared, while 40 parts by weight of N-benzylmaleimide was added. 10 parts by weight of cyclodecyl methacrylate, 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meth-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter, referred to as “PGMEA”), propylene glycol monomethyl ether After adding 20 parts by weight, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel for the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and mixed by stirring to prepare a dropping funnel for a chain transfer agent.
以後、フラスコにPGMEA 395重量部を導入し、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に置換した後、撹拌しつつ、フラスコの温度を90℃まで昇温した。次に、モノマーおよび連鎖移動剤を滴下漏斗から滴下を開始した。滴下は、90℃を維持しつつ、それぞれ2時間の間行い、1時間後に110℃に昇温して3時間維持した後、ガス導入管を導入させて、酸素/窒素=5/95(v/v)の混合ガスのバブリングを開始した。次に、グリシジルメタクリレート5重量部、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)0.4重量部、トリエチルアミン0.8重量部をフラスコ内に投入して110で8時間反応を継続し、その後、室温まで冷却しつつ、固形分29.1重量%、重量平均分子量10,000、酸価が130mgKOH/g、アクリル当量が4300g/eqである樹脂E−2を得た。 Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Next, the monomer and the chain transfer agent were dropped from the dropping funnel. Dropping is performed for 2 hours while maintaining 90 ° C., and after 1 hour, the temperature is raised to 110 ° C. and maintained for 3 hours. Then, a gas introducing pipe is introduced, and oxygen / nitrogen = 5/95 (v / V) Bubbling of the mixed gas was started. Next, 5 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 parts by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), and 0.8 parts by weight of triethylamine are charged into the flask, and the mixture is reacted at 110 for 8 hours. After that, while cooling to room temperature, a resin E-2 having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 10,000, an acid value of 130 mg KOH / g, and an acrylic equivalent of 4300 g / eq was obtained.
製造例2−3:アルカリ可溶性樹脂(E−3)の合成
撹拌器、温度計還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド40重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸50重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-3: Synthesis of alkali-soluble resin (E-3) A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen inlet tube was prepared. On the other hand, 40 parts by weight of N-benzylmaleimide, 10 parts by weight of cyclodecyl methacrylate, 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meth-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter, referred to as “PGMEA”), propylene glycol monomethyl ether After adding 20 parts by weight, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel for the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and mixed by stirring to prepare a dropping funnel for a chain transfer agent.
以後、フラスコにPGMEA 395重量部を導入し、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に置換した後、撹拌しつつ、フラスコの温度を90℃まで昇温した。次に、モノマーおよび連鎖移動剤を滴下漏斗から滴下を開始した。滴下は、90℃を維持しつつ、それぞれ2時間の間行い、1時間後に110℃に昇温して3時間維持した後、ガス導入管を導入させて、酸素/窒素=5/95(v/v)の混合ガスのバブリングを開始した。次に、グリシジルメタクリレート15重量部、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)0.4重量部、トリエチルアミン0.8重量部をフラスコ内に投入して110℃で8時間反応を継続し、その後、室温まで冷却しつつ、固形分29.1重量%、重量平均分子量10,000、酸価が110mgKOH/g、アクリル当量が1450g/eqである樹脂E−3を得た。 Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Next, the monomer and the chain transfer agent were dropped from the dropping funnel. Dropping is performed for 2 hours while maintaining 90 ° C., and after 1 hour, the temperature is raised to 110 ° C. and maintained for 3 hours. Then, a gas introducing pipe is introduced, and oxygen / nitrogen = 5/95 (v / V) Bubbling of the mixed gas was started. Next, 15 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 parts by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), and 0.8 parts by weight of triethylamine are charged into the flask and the mixture is heated at 110 ° C. for 8 hours. The reaction was continued, and then, while cooling to room temperature, a resin E-3 having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 10,000, an acid value of 110 mgKOH / g, and an acrylic equivalent of 1450 g / eq was obtained. .
製造例2−4:アルカリ可溶性樹脂(E−4)の合成
撹拌器、温度計還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド40重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸50重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-4: Synthesis of alkali-soluble resin (E-4) A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen inlet tube was prepared. On the other hand, 40 parts by weight of N-benzylmaleimide, 10 parts by weight of cyclodecyl methacrylate, 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meth-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter, referred to as “PGMEA”), propylene glycol monomethyl ether After adding 20 parts by weight, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel for the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and mixed by stirring to prepare a dropping funnel for a chain transfer agent.
以後、フラスコにPGMEA 395重量部を導入し、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に置換した後、撹拌しつつ、フラスコの温度を90℃まで昇温した。次に、モノマーおよび連鎖移動剤を滴下漏斗から滴下を開始した。滴下は、90℃を維持しつつ、それぞれ2時間の間行い、1時間後に110℃に昇温して3時間維持した後、ガス導入管を導入させて、酸素/窒素=5/95(v/v)の混合ガスのバブリングを開始した。次に、グリシジルメタクリレート30重量部、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)0.4重量部、トリエチルアミン0.8重量部をフラスコ内に投入して110℃で8時間反応を継続し、その後、室温まで冷却しつつ、固形分29.1重量%、重量平均分子量10,000、酸価が85mgKOH/g、アクリル当量が725g/eqである樹脂E−4を得た。 Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Next, the monomer and the chain transfer agent were dropped from the dropping funnel. Dropping is performed for 2 hours while maintaining 90 ° C., and after 1 hour, the temperature is raised to 110 ° C. and maintained for 3 hours. Then, a gas introducing pipe is introduced, and oxygen / nitrogen = 5/95 (v / V) Bubbling of the mixed gas was started. Next, 30 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 part by weight of 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), and 0.8 part by weight of triethylamine are charged into a flask and the mixture is heated at 110 ° C. for 8 hours. The reaction was continued, and then, while cooling to room temperature, a resin E-4 having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 10,000, an acid value of 85 mgKOH / g, and an acrylic equivalent of 725 g / eq was obtained. .
製造例2−5:アルカリ可溶性樹脂(E−5)の合成
撹拌器、温度計還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド35重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸55重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-5: Synthesis of Alkali-Soluble Resin (E-5) A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared. On the other hand, 35 parts by weight of N-benzylmaleimide, 10 parts by weight of cyclodecyl methacrylate, 55 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meth-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as “PGMEA”), propylene glycol monomethyl ether After charging 20 parts by weight, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel for the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and mixed by stirring to prepare a dropping funnel for a chain transfer agent.
以後、フラスコにPGMEA 395重量部を導入し、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に置換した後、撹拌しつつ、フラスコの温度を90℃まで昇温した。次に、モノマーおよび連鎖移動剤を滴下漏斗から滴下を開始した。滴下は、90℃を維持しつつ、それぞれ2時間の間行い、1時間後に110℃に昇温して3時間維持した後、ガス導入管を導入させて、酸素/窒素=5/95(v/v)の混合ガスのバブリングを開始した。次に、グリシジルメタクリレート50重量部、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)0.4重量部、トリエチルアミン0.8重量部をフラスコ内に投入して110℃で8時間反応を継続し、その後、室温まで冷却しつつ、固形分29.1重量%、重量平均分子量10,000、酸価が60mgKOH/g、アクリル当量が435g/eqである樹脂E−5を得た。 Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Next, the monomer and the chain transfer agent were dropped from the dropping funnel. Dropping is performed for 2 hours while maintaining 90 ° C., and after 1 hour, the temperature is raised to 110 ° C. and maintained for 3 hours. Then, a gas introducing pipe is introduced, and oxygen / nitrogen = 5/95 (v / V) Bubbling of the mixed gas was started. Next, 50 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 parts by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), and 0.8 parts by weight of triethylamine are charged into a flask and the mixture is heated at 110 ° C. for 8 hours. The reaction was continued, and then, while cooling to room temperature, a resin E-5 having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 10,000, an acid value of 60 mg KOH / g, and an acrylic equivalent of 435 g / eq was obtained. .
製造例2−6:アルカリ可溶性樹脂(E−6)の合成
撹拌器、温度計還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド35重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸55重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート2重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-6: Synthesis of alkali-soluble resin (E-6) A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen inlet tube was prepared. On the other hand, 35 parts by weight of N-benzylmaleimide, 10 parts by weight of cyclodecyl methacrylate, 55 parts by weight of acrylic acid, 2 parts by weight of meth-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA"), propylene glycol monomethyl ether After adding 20 parts by weight, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel for the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and mixed by stirring to prepare a dropping funnel for a chain transfer agent.
以後、フラスコにPGMEA 395重量部を導入し、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に置換した後、撹拌しつつ、フラスコの温度を90℃まで昇温した。次に、モノマーおよび連鎖移動剤を滴下漏斗から滴下を開始した。滴下は、90℃を維持しつつ、それぞれ2時間の間行い、1時間後に110℃に昇温して3時間維持した後、ガス導入管を導入させて、酸素/窒素=5/95(v/v)の混合ガスのバブリングを開始した。次に、グリシジルメタクリレート50重量部、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)0.4重量部、トリエチルアミン0.8重量部をフラスコ内に投入して110℃で8時間反応を継続し、その後、室温まで冷却しつつ、固形分29.1重量%、重量平均分子量30,000、酸価が65mgKOH/g、アクリル当量が435g/eqである樹脂E−6を得た。 Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Next, the monomer and the chain transfer agent were dropped from the dropping funnel. Dropping is performed for 2 hours while maintaining 90 ° C., and after 1 hour, the temperature is raised to 110 ° C. and maintained for 3 hours. Then, a gas introducing pipe is introduced, and oxygen / nitrogen = 5/95 (v / V) Bubbling of the mixed gas was started. Next, 50 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 parts by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), and 0.8 parts by weight of triethylamine are charged into a flask and the mixture is heated at 110 ° C. for 8 hours. The reaction was continued, and then, while cooling to room temperature, a resin E-6 having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 30,000, an acid value of 65 mg KOH / g, and an acrylic equivalent of 435 g / eq was obtained. .
製造例2−7.アルカリ可溶性樹脂(E−7)の合成
撹拌器、温度計還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド40重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸50重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-7. Preparation of a flask equipped with a stirrer for synthesizing an alkali-soluble resin (E-7), a thermometer reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen inlet tube, on the other hand, 40 parts by weight of N-benzylmaleimide and 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meta-t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA"), and 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether The mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel for the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and mixed by stirring to prepare a dropping funnel for a chain transfer agent.
以後、フラスコにPGMEA 395重量部を導入し、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に置換した後、撹拌しつつ、フラスコの温度を90℃まで昇温した。次に、モノマーおよび連鎖移動剤を滴下漏斗から滴下を開始した。滴下は、90℃を維持しつつ、それぞれ2時間の間行い、1時間後に110℃に昇温して3時間維持した後、ガス導入管を導入させて、酸素/窒素=5/95(v/v)の混合ガスのバブリングを開始した。次に、グリシジルメタクリレート30重量部、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)0.4重量部、トリエチルアミン0.8重量部をフラスコ内に投入して110℃で8時間反応を継続した。その後、反応液の温度を常温に下げ、コハク酸無水物6.0部を投入し、80℃で6時間反応した。その後、室温まで冷却しつつ、固形分29.1重量%、重量平均分子量10,000、酸価が85mgKOH/g、アクリル当量が720g/eqである樹脂E−7を得た。 Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Next, the monomer and the chain transfer agent were dropped from the dropping funnel. Dropping is performed for 2 hours while maintaining 90 ° C., and after 1 hour, the temperature is raised to 110 ° C. and maintained for 3 hours. Then, a gas introducing pipe is introduced, and oxygen / nitrogen = 5/95 (v / V) Bubbling of the mixed gas was started. Next, 30 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 part by weight of 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), and 0.8 part by weight of triethylamine are charged into a flask and the mixture is heated at 110 ° C. for 8 hours. The reaction was continued. Thereafter, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature, 6.0 parts of succinic anhydride was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 6 hours. Thereafter, while cooling to room temperature, a resin E-7 having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 10,000, an acid value of 85 mgKOH / g, and an acrylic equivalent of 720 g / eq was obtained.
実施例1〜8および比較例1〜5:自発光感光性樹脂組成物の製造
下記表1に記載されたように、それぞれ成分を混合した後、全体固形分が20重量%になるように、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した後、十分に撹拌して、自発光感光性樹脂組成物を得た。
Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5: Production of a self-luminous photosensitive resin composition As shown in Table 1 below, after each component was mixed, the total solid content was 20% by weight. After dilution with propylene glycol monomethyl ether acetate, the mixture was sufficiently stirred to obtain a self-luminous photosensitive resin composition.
この際、実施例および比較にそれぞれに含まれた全体アルカリ可溶性樹脂に対するポリスチレン換算重量平均分子量およびアクリル当量は、下記表2に示した。 At this time, the weight average molecular weight in terms of polystyrene and the acrylic equivalent relative to the total alkali-soluble resin contained in each of Examples and Comparative Examples are shown in Table 2 below.
カラーフィルター(ガラス基板)の製造例
前記実施例1〜8および比較例1〜5で製造された自発光感光性樹脂組成物を利用してカラーフィルターを製造した。すなわち、前記それぞれの自発光感光性樹脂組成物をスピンコーティング法でガラス基板の上に塗布した後、加熱板の上に載置し、100℃の温度で3分間維持して薄膜を形成させた。次に、前記薄膜の上に横×縦20mm×20mmの正四角形の透過パターンと1μm〜100μmのライン/スペースパターンを有する試験フォトマスクを載置し、試験フォトマスクとの間隔を100μmとして紫外線を照射した。
Production Example of Color Filter (Glass Substrate) A color filter was produced using the light-emitting photosensitive resin compositions produced in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5. That is, each of the self-luminous photosensitive resin compositions was applied on a glass substrate by a spin coating method, and then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C. for 3 minutes to form a thin film. . Next, a test photomask having a square transmission pattern of 20 mm × 20 mm in width and a line / space pattern of 1 μm to 100 μm is placed on the thin film. Irradiated.
この際、紫外線光源は、ウシオ電機社製の超高圧水銀ランプ(商品名USH−250D)を利用して大気雰囲気下に200mJ/cm2の露光量(365nm)で光照射し、特別な光学フィルターは使用しなかった。前記で紫外線が照射された薄膜をpH10.5のKOH水溶液現像溶液に80秒間浸漬して現像した。この薄膜が施されたガラス基板を蒸留水を使用して洗浄した後、窒素ガスを吹いて乾燥し、150℃の加熱オーブンで10分間加熱してカラーフィルターパターンを製造した。前記で製造された自発光カラーパターンのフィルムの厚さは、3.0μmであった。 At this time, an ultraviolet light source is irradiated with light at a light exposure of 200 mJ / cm 2 (365 nm) under the atmosphere using an ultra-high pressure mercury lamp (trade name: USH-250D) manufactured by Ushio Inc. Was not used. The thin film irradiated with the ultraviolet rays was immersed in a KOH aqueous solution developing solution having a pH of 10.5 for 80 seconds and developed. The glass substrate provided with the thin film was washed using distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 150 ° C. for 10 minutes to produce a color filter pattern. The thickness of the self-luminous color pattern film manufactured as described above was 3.0 μm.
発光強度(Intensity)の測定
前記自発光画素が形成されたカラーフィルターのうち20mm×20mmの正四角形のパターンで形成されたパターン(Pattern)部に365nm Tube型4W UV照射機(VL−4LC、Vilber LOURMAT)を用いて光変換された領域を測定し、実施例1〜8および比較例1〜5は、550nmの領域での光強度(Intensity)をSpectrum meter(Ocean Optics社製)を利用して測定した。測定された光強度(Intensity)が高いほど優れた自発光特性を発揮するものと判断することができ、発光強度(Intensity)の測定結果を下記表3に示した。また、ハードベーク(Hard bake)を230℃で60分間行って、ハードベーク前の発光強度と後の強度を測定し、発光効率が維持される水準を確認して、表3に発光強度維持率で示した。
Measurement of Light Emission (Intensity) A 365 nm Tube type 4W UV irradiator (VL-4LC, Vilber) is provided on a pattern (Pattern) portion formed of a square pattern of 20 mm × 20 mm in the color filter in which the self-luminous pixels are formed. LOURMAT) was used to measure the light-converted region. In Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5, the light intensity (Intensity) in the region of 550 nm was measured using a spectrum meter (Ocean Optics). It was measured. It can be determined that the higher the measured light intensity (Intensity), the more excellent the self-luminous property is exhibited. The measurement results of the light emission intensity (Intensity) are shown in Table 3 below. Further, a hard bake was performed at 230 ° C. for 60 minutes to measure the light emission intensity before and after the hard bake, and the level at which the light emission efficiency was maintained was confirmed. Indicated by.
TiO 2 沈降性の測定
前記で製造したカラーパターン基板をエネルギー分散型分光分析法(Energy−dispersive X−ray spectroscopy、EDX)装備を使用して、基板内のチタニウム(Ti)元素の分布を確認し、これを通じて、パターン下部のTiO2沈降性程度を把握し、これは、図1および図2を通じて確認することができる。
Measurement of TiO 2 sedimentability The distribution of the titanium (Ti) element in the substrate was confirmed using the energy-dispersive X-ray spectroscopy (EDX) equipment of the color pattern substrate manufactured above. Through this, the degree of TiO 2 sedimentation at the bottom of the pattern is grasped, which can be confirmed through FIGS. 1 and 2.
<評価基準>
◎:TiO2沈降なし。
○:TiO2がパターン内部に一部領域だけ沈降した状態
△:TiO2がパターン内部の半分水準に沈降した状態
×:パターンの下部に完全にTiO2が沈降した状態
<Evaluation criteria>
A: No TiO 2 sedimentation.
:: TiO 2 settled in a partial area inside the pattern △: TiO 2 settled to half the level inside the pattern ×: TiO 2 settled completely at the bottom of the pattern
前記表3から明らかなように、実施例1〜8で請求範囲内の二重結合当量および分子量を有するアルカリ可溶性樹脂を使用する場合、発光強度および維持率が高いと共に、パターン内での沈降性を抑制することができることを確認することができる。特に化学式1の単量体を含むアルカリ可溶性樹脂を使用した実施例4および実施例8は、パターン内のTiO2沈降性が完全に制御することができることを確認することができる。 As is apparent from Table 3, when an alkali-soluble resin having a double bond equivalent weight and a molecular weight within the scope of the claims is used in Examples 1 to 8, the emission intensity and the retention rate are high and the sedimentation in the pattern is high. Can be suppressed. In particular, in Examples 4 and 8 using an alkali-soluble resin containing the monomer of Formula 1, it can be confirmed that the TiO 2 sedimentability in the pattern can be completely controlled.
他方で、比較例1、2および5を参照すると、二重結合当量が2000g/eq以上である場合、発光強度および維持率が低いと共に、パターンの下部にTiO2が沈殿していることを確認することができ、比較例3〜4を参照すると、重量平均分子量が15000以上である場合、発光強度および維持率は高く維持されるが、沈降性を抑制することができないことを確認することができる。
On the other hand, referring to Comparative Examples 1, 2 and 5, it was confirmed that when the double bond equivalent was 2000 g / eq or more, the emission intensity and the retention were low, and that TiO 2 was precipitated at the bottom of the pattern. According to Comparative Examples 3 and 4, when the weight average molecular weight is 15,000 or more, it can be confirmed that the emission intensity and the retention rate are maintained high, but the sedimentation property cannot be suppressed. it can.
前記アルカリ可溶性樹脂は、重合可能な不飽和結合を有しているものであれば、特に限定されないが、使用可能な単量体の具体的な例としては、3−(アクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシ−3−プロピ−2−ノイルオキシ−プロピル)−2−メチル−2−プロピノエート、(2−オキシダニル−3−プロピ−2−ノイルオキシ−プロピル)−2−ブチノエート、1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキノンジ(メタ)アクリレート、1,4−フェニレンジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、2−プロピノイルオキシメチル−2−プロピノエート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,12−ドデケインジオールダイ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ジウレタンジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートなどが挙げられる。 The alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it has a polymerizable unsaturated bond. Specific examples of usable monomers include 3- (acryloyloxy) -2- Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxy-3-prop-2-noyloxy-propyl) -2-methyl-2-propinoate, (2-oxydanyl-3-prop-2-noyloxy-propyl) -2-butinoate, 1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, hydroquinone di (meth) acrylate, 1,4-phenylenedi (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediol di ( Meth) acrylate, 2-propinoyloxymethyl-2-propinoate, triethylene glycol Di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane Sa Njioruji (meth) acrylate, 1,12-dodecane Kane diol die (meth) acrylate, trimethylolpropane path entry (meth) acrylate , Bisphenol A di (meth) acrylate, diurethane di (meth) acrylate, neopentyl glycol diacrylate, and the like.
(上記化学式1で、
R 1 は、水素またはメチル基であり、
R 2 は、C 1 〜C 30 のアルカントリイル基、C 1 〜C 30 のアルカントリイルオキシ基、またはC1〜C30のアルカントリイルオキシカルボニルアミノアルキル基であり、前記アルカントリイル基、アルカントリイルオキシ基またはアルカントリイルオキシカルボニルアミノアルキル基は、C1〜C20のアルキル基、C1〜C20のアルコキシ基、C1〜C20のアラルキル基、C6〜C20のアリール基、C1〜C20のアシルオキシ基、C1〜C20のアシル基、C1〜C20のアルコキシカルボニル基、C6〜C20のアリールカルボニル基、C1〜C20のジアルキルアミノ基、C1〜C20のアルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、フリル基、フルフリル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロフルフリル基、C1〜C20のアルキルチオ基、トリメチルシリル基、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、チエニル基、モルホリノ基、またはモルホリノカルボニル基で置換可能であり、
R3は、−R5−R6−COOHで表され、
R5は、−O−C(=O)−であり、
R6は、C1〜C30のアルキレン、C2〜C30のアルケニレン、−R7−C(=O)−R8−、−R9−C(=O)−O−R10−、−R11−O−R12−、−R13−C(=O)−N−(R14R15)−、−R−C(=O)−NR16−C(=O)R17−、−R18−C(=O)−N(R19)(C(=O))−R20−、−R21−C(=NR22)(R23)−、−CH=CH−O−C(=O)−R24−、−CH=CH−O−C−R25−、−CH=CH−O−C(=O)−N(R26)(R27)−、C6〜C30のアリレン基、C5〜C30のヘテロアリレン基、またはC6〜C30のシクロアルキレン基を含み、
R7〜R27は、互いに同一でも異なってもよく、それぞれ独立して、水素、C1〜C30のアルキレン、C6〜C30のアリレン基またはC6〜C30のシクロアルキレン基であり、
R4は、C1〜C20のアルキル(メタ)アクリレート基である。)
(In the above chemical formula 1,
R 1 is hydrogen or a methyl group,
R 2 is a C 1 -C 30 alkanetriyloxy group, a C 1 -C 30 alkanetriyloxy group, or a C 1 -C 30 alkanetriyloxycarbonylaminoalkyl group, wherein the alkanetriyl group , An alkanetriyloxy group or an alkanetriyloxycarbonylaminoalkyl group is a C 1 -C 20 alkyl group, a C 1 -C 20 alkoxy group, a C 1 -C 20 aralkyl group, a C 6 -C 20 Aryl group, C 1 -C 20 acyloxy group, C 1 -C 20 acyl group, C 1 -C 20 alkoxycarbonyl group, C 6 -C 20 arylcarbonyl group, C 1 -C 20 dialkylamino group , C 1 -C 20 alkylamino, halogen, cyano, furyl, furfuryl, tetrahydrofuryl, tetra A lahydrofurfuryl group, a C 1 to C 20 alkylthio group, a trimethylsilyl group, a trifluoromethyl group, a carboxyl group, a thienyl group, a morpholino group, or a morpholinocarbonyl group,
R 3 is represented by —R 5 —R 6 —COOH;
R 5 is —OC (= O) —;
R 6 is alkylene of C 1 -C 30, alkenylene C 2 ~C 30, -R 7 -C (= O) -R 8 -, - R 9 -C (= O) -O-R 10 -, -R 11 -O-R 12 -, - R 13 -C (= O) -N- (R 14 R 15) -, - R-C (= O) -NR 16 -C (= O) R 17 - , -R 18 -C (= O) -N (R 19) (C (= O)) - R 20 -, - R 21 -C (= NR 22) (R 23) -, - CH = CH-O -C (= O) -R 24 - , - CH = CH-O-C-R 25 -, - CH = CH-O-C (= O) -N (R 26) (R 27) -, C 6 -C 30 arylene group, C 5 -C 30 heteroarylene group, or C 6 -C 30 cycloalkylene group,
R 7 to R 27 may be the same or different from each other, and each independently represents hydrogen, C 1 to C 30 alkylene, C 6 to C 30 arylene, or C 6 to C 30 cycloalkylene. ,
R 4 is a C 1 -C 20 alkyl (meth) acrylate group. )
この際、前記R2は、C1〜C20のアルカントリイル基、C1〜C20のアルカントリイルオキシ基、またはC1〜C20のアルカントリイルオキシカルボニルアミノアルキル基であることが好ましく、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、エタントリイルオキシ基、ジエタントリイルオキシ基、トリエタントリイルオキシ基、エタントリイルオキシカルボニルアミノエチル基がさらに好ましく、この際、これらは、3価形態の官能基である。 At this time, R 2 may be a C 1 -C 20 alkanetriyloxy group, a C 1 -C 20 alkanetriyloxy group, or a C 1 -C 20 alkanetriyloxycarbonylaminoalkyl group. preferably, methanetriyl group, ethanetriyl group, tri-yl group, Butantoriiru group, ethanetriyl group, Jietantoriiru oxy group, triethyl tanto Riiru group, more preferably ethanetriyl oxycarbonyl aminoethyl group, this time, it is the trivalent form It is a functional group.
本明細書で言及する「アルキル基」は、直鎖状または分岐状を含み、一例として、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピレン、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、またはn−デシルなどを含み、アルキレンは、アルキルの2価形態を意味し、アルカントリイルは、アルキルの3価形態を意味する。 "Alkyl group" as referred to herein includes linear or branched, and as an example, methyl, ethyl, n-propyl, i-propylene, n-butyl, isobutyl, t-butyl, n-pentyl, Alkylene means a divalent form of alkyl and alkanetriyl means a trivalent form of alkyl, including n-hexyl, n-octyl or n-decyl and the like .
前記共重合可能な単量体の種類は、特に限定されず、具体的な例を例示すると、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アミノエチル(メタ)アクリレートなどの不飽和カルボン酸の非置換または置換アルキルエステル化合物;シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘプチル(メタ)アクリレート、シクロオクチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、シクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキセニル(メタ)アクリレート、シクロヘプテニル(メタ)アクリレート、シクロオクテニル(メタ)アクリレート、ペンタジエニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ピナニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、ピネニル(メタ)アクリレートおよびトリシクロデシルメタクリレートなどの脂環式置換基を含む不飽和カルボン酸エステル化合物;オリゴエチレングリコールモノアルキル(メタ)アクリレートなどのグリコール類のモノ飽和カルボン酸エステル化合物;ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレートなどの芳香環を有する置換基を含む不飽和カルボン酸エステル化合物;スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル化合物;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル、(メタ)アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物;N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−ベンジルマレイミドなどのマレイミド化合物などが挙げられる。 The type of the copolymerizable monomer is not particularly limited, and specific examples include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth). Unsubstituted or substituted alkyl ester compounds of unsaturated carboxylic acids such as acrylate and aminoethyl (meth) acrylate; cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate, cyclo octyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, cyclopentenyl (meth) acrylate, cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, pen Dienyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, pinanyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, pinenyl (meth) acrylate and tricyclodecyl methacrylate Saturated carboxylate compounds; monosaturated carboxylate compounds of glycols such as oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylate; unsaturated containing substituents having an aromatic ring such as benzyl (meth) acrylate and phenoxy (meth) acrylate carboxylic acid ester compounds; styrene, alpha - methyl styrene, aromatic vinyl compounds such as vinyl toluene; vinyl acetate, vinyl carboxylates such as vinyl propionate, (meth) acrylo Tolyl, alpha - vinyl cyanide compounds such as chloro acrylonitrile; N- cyclohexyl maleimide, N- phenylmaleimide, and the like maleimide compounds such as N- benzyl maleimide.
前記量子ドット粒子は、光による刺激で発光できる量子ドット粒子であれば、特に限定されず、例えばII−VI族半導体化合物;III−V族半導体化合物;IV−VI族半導体化合物;IV族元素またはこれを含む化合物;およびこれらの組合せよりなる群から選択することができる。これらは、単独または2種以上混合して使用することができる。前記II−VI族半導体化合物は、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、およびこれらの混合物よりなる群から選択される二元素化合物;CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTeおよびこれらの混合物よりなる群から選択される三元素化合物;およびCdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTeおよびこれらの混合物よりなる群から選ばれる四元素化合物よりなる群から選択することができ、前記III−V族半導体化合物は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物;GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる三元素化合物;およびGaAlNP、GaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる四元素化合物よりなる群から選ばれ、前記IV−VI族半導体化合物は、SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物;SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる三元素化合物;およびSnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる四元素化合物よりなる群から選択することができ、前記IV族元素またはこれを含む化合物は、Si、Ge、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる元素化合物;およびSiC、SiGe、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる二元素化合物よりなる群から選択することができる。 The quantum dot particle is not particularly limited as long as it is a quantum dot particle that can emit light when stimulated by light. For example, a II-VI semiconductor compound; a III-V semiconductor compound; a IV-VI semiconductor compound; Compounds containing the same; and combinations thereof. These can be used alone or in combination of two or more. The II-VI group semiconductor compound is a two-element compound selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, and a mixture thereof; CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSe, Zn, Se, HgZnSe, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdZnS, CdZn; , CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe and a mixture thereof. The group III-V semiconductor compound can be selected from the group consisting of quaternary compounds, wherein the group III-V semiconductor compound is GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb and mixtures thereof two element compound selected from the group consisting of; GaNP, selected GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, from our and the group consisting of a mixture thereof Ternary compounds; and GaAlNP , GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, The group IV-VI semiconductor compound is selected from the group consisting of quaternary compounds selected from the group consisting of InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb, and mixtures thereof, and the IV-VI group semiconductor compound is SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and these. A binary element selected from the group consisting of mixtures; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, a ternary compound selected from the group consisting of SnPbSe, SnPbTe, and mixtures thereof; And a group consisting of four-element compounds selected from the group consisting of Si, Ge, and mixtures thereof. Element compound selected et; and SiC, can be selected SiGe, and from the group consisting of two element compound selected from the group consisting of mixtures.
具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのアルキレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのプロピレングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類;3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチルなどのエステル類;γ−ブチロラクトンなどの環状エステル類;などが挙げられる。これらは、単独または2種以上混合して使用することができる。 Specific examples include alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether. Diethylene glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol ether ethers such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; propylene glycol dialkyl ethers such as propylene glycol monomethyl ether; propylene glycol monomethyl ether acetate; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as lenglycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene; methyl ethyl ketone, acetone and methyl Ketones such as amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin; esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate Cyclic esters such as γ -butyrolactone; and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
製造例2−1.アルカリ可溶性樹脂(E−1)の合成
撹拌器、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド40重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸50重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-1. Synthesis of Alkali-Soluble Resin (E-1) A flask equipped with a stirrer, thermometer , reflux condenser, dropping funnel and nitrogen inlet tube was prepared, while 40 parts by weight of N-benzylmaleimide and 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate were prepared. Parts, 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meta-t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter, referred to as “PGMEA”), and 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether Thereafter, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel of the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and mixed by stirring to prepare a dropping funnel of a chain transfer agent.
以後、フラスコにPGMEA 395重量部を導入し、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に置換した後、撹拌しつつ、フラスコの温度を90℃まで昇温した。次に、モノマーおよび連鎖移動剤を滴下漏斗から滴下を開始した。滴下は、90℃を維持しつつ、それぞれ2時間の間行い、1時間後に110℃に昇温して3時間維持した後、その後、室温まで冷却しつつ、固形分29.1重量%、重量平均分子量10,000、酸価が140mgKOH/gである樹脂E−1を得た。 Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Next, the monomer and the chain transfer agent were dropped from the dropping funnel. Dropping is performed for 2 hours while maintaining 90 ° C., and after 1 hour, the temperature is raised to 110 ° C. and maintained for 3 hours, and then, while cooling to room temperature, the solid content is 29.1% by weight, Resin E-1 having an average molecular weight of 10,000 and an acid value of 140 mgKOH / g was obtained.
製造例2−2:アルカリ可溶性樹脂(E−2)の合成
撹拌器、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド40重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸50重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-2: Synthesis of alkali-soluble resin (E-2) A flask equipped with a stirrer, a thermometer , a reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared, while 40 parts by weight of N-benzylmaleimide was prepared. 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meth-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as “PGMEA”), propylene glycol monomethyl After adding 20 parts by weight of ether, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel of the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred and mixed to prepare a dropping funnel of a chain transfer agent. .
以後、フラスコにPGMEA 395重量部を導入し、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に置換した後、撹拌しつつ、フラスコの温度を90℃まで昇温した。次に、モノマーおよび連鎖移動剤を滴下漏斗から滴下を開始した。滴下は、90℃を維持しつつ、それぞれ2時間の間行い、1時間後に110℃に昇温して3時間維持した後、ガス導入管を導入させて、酸素/窒素=5/95(v/v)の混合ガスのバブリングを開始した。次に、グリシジルメタクリレート5重量部、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)0.4重量部、トリエチルアミン0.8重量部をフラスコ内に投入して110℃で8時間反応を継続し、その後、室温まで冷却しつつ、固形分29.1重量%、重量平均分子量10,000、酸価が130mgKOH/g、アクリル当量が4300g/eqである樹脂E−2を得た。 Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Next, the monomer and the chain transfer agent were dropped from the dropping funnel. Dropping is performed for 2 hours while maintaining 90 ° C., and after 1 hour, the temperature is raised to 110 ° C. and maintained for 3 hours. Then, a gas introducing pipe is introduced, and oxygen / nitrogen = 5/95 (v / V) Bubbling of the mixed gas was started. Next, 5 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 parts by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 0.8 parts by weight of triethylamine were charged into the flask, and the mixture was heated at 110 ° C. for 8 hours. The reaction was continued, and then, while cooling to room temperature, a resin E-2 having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 10,000, an acid value of 130 mg KOH / g, and an acrylic equivalent of 4300 g / eq was obtained. .
製造例2−3:アルカリ可溶性樹脂(E−3)の合成
撹拌器、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド40重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸50重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-3: Synthesis of alkali-soluble resin (E-3) A flask equipped with a stirrer, a thermometer , a reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen inlet tube was prepared, while 40 parts by weight of N-benzylmaleimide was prepared. 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meth-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as “PGMEA”), propylene glycol monomethyl After adding 20 parts by weight of ether, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel of the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred and mixed to prepare a dropping funnel of a chain transfer agent. .
製造例2−4:アルカリ可溶性樹脂(E−4)の合成
撹拌器、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド40重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸50重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-4: Synthesis of Alkali-Soluble Resin (E-4) A flask equipped with a stirrer, a thermometer , a reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen inlet tube was prepared, while 40 parts by weight of N-benzylmaleimide was prepared. 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meth-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as “PGMEA”), propylene glycol monomethyl After adding 20 parts by weight of ether, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel of the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred and mixed to prepare a dropping funnel of a chain transfer agent. .
製造例2−5:アルカリ可溶性樹脂(E−5)の合成
撹拌器、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド35重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸55重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-5: Synthesis of alkali-soluble resin (E-5) A flask equipped with a stirrer, a thermometer , a reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen inlet tube was prepared, while 35 parts by weight of N-benzylmaleimide was prepared. 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, 55 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meth-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as “PGMEA”), propylene glycol monomethyl After adding 20 parts by weight of ether, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel of the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred and mixed to prepare a dropping funnel of a chain transfer agent. .
製造例2−6:アルカリ可溶性樹脂(E−6)の合成
撹拌器、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド35重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸55重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート2重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-6: Synthesis of alkali-soluble resin (E-6) A flask equipped with a stirrer, a thermometer , a reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen inlet tube was prepared, while 35 parts by weight of N-benzylmaleimide was prepared. 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, 55 parts by weight of acrylic acid, 2 parts by weight of meth-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as “PGMEA”), propylene glycol monomethyl After adding 20 parts by weight of ether, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel of the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred and mixed to prepare a dropping funnel of a chain transfer agent. .
製造例2−7.アルカリ可溶性樹脂(E−7)の合成
撹拌器、温度計、還流冷却管、滴下漏斗および窒素導入管を具備したフラスコを準備し、一方、N−ベンジルマレイミド40重量部、トリシクロデシルメタクリレート10重量部、アクリル酸50重量部、メタt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート4重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)20重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル20重量部を投入後、撹拌混合して、モノマーの滴下漏斗を準備し、n−ドデカンチオール6重量部、PGMEA 24重量部を入れて撹拌混合して、連鎖移動剤の滴下漏斗を準備した。
Production Example 2-7. Synthesis of Alkali-Soluble Resin (E-7) A flask equipped with a stirrer, thermometer , reflux condenser, dropping funnel and nitrogen inlet tube was prepared, while 40 parts by weight of N-benzylmaleimide and 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate were prepared. Parts, 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of meta-t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter, referred to as “PGMEA”), and 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether Thereafter, the mixture was stirred and mixed to prepare a dropping funnel of the monomer, and 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and mixed by stirring to prepare a dropping funnel of a chain transfer agent.
Claims (12)
前記アルカリ可溶性樹脂は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が3000〜15000であり、アクリル当量が300〜2000g/eqであることを特徴とする自発光感光性樹脂組成物。 Including scattering particles and an alkali-soluble resin,
A self-luminous photosensitive resin composition, wherein the alkali-soluble resin has a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3,000 to 15,000 and an acrylic equivalent of 300 to 2,000 g / eq.
量子ドット、光重合性化合物、光重合開始剤および溶剤の中から選ばれる一つ以上の成分をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の自発光感光性樹脂組成物。 The self-luminous photosensitive resin composition,
The self-luminous photosensitive resin composition according to claim 1, further comprising one or more components selected from a quantum dot, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
下記化学式1で表される反復単位を含むことを特徴とする請求項1に記載の自発光感光性樹脂組成物:
[化学式1]
(前記化学式1で、
R1は、水素またはメチル基であり、
R2は、C1〜C30のアルキル基、C1〜C30のアルキルオキシ基、または C1〜C30のアルキルオキシカルボニルアミノアルキル基であり、前記アルキル基、アルキルオキシ基またはアルキルオキシカルボニルアミノアルキル基は、C1〜C20のアルキル基、C1〜C20のアルコキシ基、C1〜C20のアラルキル基、C6〜C20のアリール基、C1〜C20のアシルオキシ基、C1〜C20のアシル基、C1〜C20のアルコキシカルボニル基、C6〜C20のアリールカルボニル基、C1〜C20のジアルキルアミノ基、C1〜C20のアルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、フリル基、フルフリル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロフルフリル基、C1〜C20のアルキルチオ基、トリメチルシリル基、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、チエニル基、モルホリノ基、またはモルホリノカルボニル基で置換可能であり、
R3は、−R5−R6−COOHで表され、
R5は、−O−C(=O)−であり、
R6は、C1〜C30のアルキレン、C2〜C30のアルケニレン、−R7−C(=O)−R8−、−R9−C(=O)−O−R10−、−R11−O−R12−、−R13−C(=O)−N−(R14R15)−、−R−C(=O)−NR16−C(=O)R17−、−R18−C(=O)−N(R19)(C(=O))−R20−、−R21−C(=NR22)(R23)−、−CH=CH−O−C(=O)−R24−、−CH=CH−O−C−R25−、−CH=CH−O−C(=O)−N(R26)(R27)−、C6〜C30のアリレン基、C5〜C30のヘテロアリレン基、C6〜C30のシクロアルキレン基を含み、
R7〜R27は、互いに同一でも異なってもよく、それぞれ独立して、水素、C1〜C30のアルキレン、C6〜C30のアリレン基またはC6〜C30のシクロアルキレン基であり、
R4は、C1〜C20のアルキル(メタ)アクリレート基である)。 The alkali-soluble resin,
The self-luminous photosensitive resin composition according to claim 1, comprising a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1:
[Chemical Formula 1]
(In the above chemical formula 1,
R 1 is hydrogen or a methyl group,
R 2 is a C 1 -C 30 alkyl group, a C 1 -C 30 alkyloxy group, or a C 1 -C 30 alkyloxycarbonylaminoalkyl group, wherein the alkyl group, the alkyloxy group, or the alkyloxycarbonyl aminoalkyl groups, C 1 -C 20 alkyl, C 1 -C 20 alkoxy group, an aralkyl group of C 1 -C 20, aryl group of C 6 -C 20, an acyloxy group of C 1 -C 20, C 1 -C 20 acyl group, C 1 -C 20 alkoxycarbonyl group, C 6 -C 20 arylcarbonyl group, a dialkylamino group of C 1 -C 20, alkyl amino group of C 1 -C 20, halogen atom, a cyano group, a furyl group, furfuryl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrofurfuryl group, alkyl C 1 -C 20 O group, a trimethylsilyl group, a trifluoromethyl group, a carboxyl group, a thienyl group, may be substituted with a morpholino group or a morpholinocarbonyl group,
R 3 is represented by —R 5 —R 6 —COOH;
R 5 is —OC (= O) —;
R 6 is alkylene of C 1 -C 30, alkenylene C 2 ~C 30, -R 7 -C (= O) -R 8 -, - R 9 -C (= O) -O-R 10 -, -R 11 -O-R 12 -, - R 13 -C (= O) -N- (R 14 R 15) -, - R-C (= O) -NR 16 -C (= O) R 17 - , -R 18 -C (= O) -N (R 19) (C (= O)) - R 20 -, - R 21 -C (= NR 22) (R 23) -, - CH = CH-O -C (= O) -R 24 - , - CH = CH-O-C-R 25 -, - CH = CH-O-C (= O) -N (R 26) (R 27) -, C 6 -C 30 arylene group, C 5 -C 30 heteroarylene group, C 6 -C 30 cycloalkylene group,
R 7 to R 27 may be the same or different from each other, and each independently represents hydrogen, C 1 to C 30 alkylene, C 6 to C 30 arylene, or C 6 to C 30 cycloalkylene. ,
R 4 is a C 1 -C 20 alkyl (meth) acrylate group).
酸価が30〜150mgKOH/gであることを特徴とする請求項1に記載の自発光感光性樹脂組成物。 The alkali-soluble resin,
The self-luminous photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the acid value is 30 to 150 mgKOH / g.
分子量分布が1.0〜6.0であることを特徴とする請求項1に記載の自発光感光性樹脂組成物。 The alkali-soluble resin,
The self-luminous photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the molecular weight distribution is 1.0 to 6.0.
前記自発光感光性樹脂組成物100重量%に対して、5〜80重量%で含むことを特徴とする請求項1に記載の自発光感光性樹脂組成物。 The alkali-soluble resin,
The light-emitting photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the light-emitting photosensitive resin composition is contained in an amount of 5 to 80% by weight based on 100% by weight of the light-emitting photosensitive resin composition.
平均粒径が10〜1000nmであることを特徴とする請求項1に記載の自発光感光性樹脂組成物。 The scattering particles,
The self-luminous photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the average particle size is 10 to 1000 nm.
平均粒径が10〜1000nmであることを特徴とする請求項1に記載の自発光感光性樹脂組成物。 The scattering particles,
The self-luminous photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the average particle size is 10 to 1000 nm.
Li、Be、B、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Rb、Sr、Y、Mo、Cs、Ba、La、Hf、W、Tl、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Ti、Sb、Sn、Zr、Nb、Ce、Ta、Inおよびこれらの組合せよりなる群から選ばれる1種の金属を含む金属酸化物であることを特徴とする請求項1に記載の自発光感光性樹脂組成物。 The scattering particles,
Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Rb, Sr, Y, Mo, Cs, Ba, La, Hf, W, Tl, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Ti, Sb, Sn, Zr, Nb, Ce, Ta, The self-luminous photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the composition is a metal oxide containing one kind of metal selected from the group consisting of In and a combination thereof.
An image display device comprising the color filter according to claim 11.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2016-0154714 | 2016-11-21 | ||
KR1020160154714A KR102554277B1 (en) | 2016-11-21 | 2016-11-21 | Self emission type photosensitive resin composition, color filter manufactured using thereof and image display device having the same |
PCT/KR2017/009803 WO2018093028A1 (en) | 2016-11-21 | 2017-09-07 | Self-luminescent photosensitive resin composition, color filter prepared by using same, and image display device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019537064A true JP2019537064A (en) | 2019-12-19 |
JP6872017B2 JP6872017B2 (en) | 2021-05-19 |
Family
ID=62145135
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019527208A Active JP6872017B2 (en) | 2016-11-21 | 2017-09-07 | Self-luminous photosensitive resin composition, color filter and image display device manufactured using this |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6872017B2 (en) |
KR (1) | KR102554277B1 (en) |
CN (1) | CN109997079B (en) |
TW (1) | TWI770083B (en) |
WO (1) | WO2018093028A1 (en) |
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KR102153733B1 (en) | 2015-01-26 | 2020-09-08 | 동우 화인켐 주식회사 | Color filter and image display device using the same |
-
2016
- 2016-11-21 KR KR1020160154714A patent/KR102554277B1/en active IP Right Grant
-
2017
- 2017-09-07 CN CN201780071640.3A patent/CN109997079B/en active Active
- 2017-09-07 WO PCT/KR2017/009803 patent/WO2018093028A1/en active Application Filing
- 2017-09-07 JP JP2019527208A patent/JP6872017B2/en active Active
- 2017-11-17 TW TW106139997A patent/TWI770083B/en active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6872017B2 (en) | 2021-05-19 |
TW201829726A (en) | 2018-08-16 |
WO2018093028A1 (en) | 2018-05-24 |
KR20180056860A (en) | 2018-05-30 |
KR102554277B1 (en) | 2023-07-11 |
TWI770083B (en) | 2022-07-11 |
CN109997079B (en) | 2023-03-10 |
CN109997079A (en) | 2019-07-09 |
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Legal Events
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