JP2019532185A - 低融点金属または合金粉末アトマイズ製造プロセス - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2016年8月24日に出願された同時係属中の米国仮特許出願第62/378,734号の優先権の恩典を主張する。この文書はその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
実施例1:Sn−3%Ag−0.5%Cu(SAC305)
この例示的な試験では、Sn−3%Ag−0.5%Cu(SAC305)のアトマイゼーションを、20kgのバッチサイズを有する大きなアトマイザ中で、本明細書で記載されるアトマイズ製造プロセスおよびアトマイズ装置を用いて実施した。
実施例2の試験では、Sn−58%Bi(SnBi)のアトマイゼーションを、約20Kgのバッチサイズを有するより大規模なアトマイザにおいて、本明細書で記載されるアトマイズ製造プロセスおよびアトマイズ装置を用いて実施した。
実施例3の試験では、InSn(Sn−50%In)のアトマイゼーションを、約24Kgのバッチサイズを有するより大規模なアトマイザにおいて本明細書で記載されるアトマイズ製造プロセスおよびアトマイズ装置を用いて実施した。
実施例4の試験では、Biのアトマイゼーションを、約16Kgのバッチサイズを有するより大規模なアトマイザにおいて、本明細書で記載されるアトマイズ製造プロセスおよびアトマイズ装置を用いて実施した。
Claims (55)
- 低融点金属または合金粉末アトマイズ製造プロセスであって、
供給管を通して前記低融点金属または合金の溶融物を提供すること;
前記溶融物を前記供給管の中心軸に対してある分流角で分流させて分流溶融物を得ること;
前記分流溶融物をアトマイズエリアに向かわせること;ならびに
少なくとも1つのアトマイズガスストリームを前記アトマイズエリアに提供すること
を含み、
前記アトマイズプロセスは前記アトマイズプロセスのために使用されるアトマイズチャンバ内にて水の存在下で実施される、プロセス。 - 低融点金属または合金粉末アトマイズ製造プロセスであって、
供給管を通して前記低融点金属または合金の溶融物を提供すること;
前記溶融物をダイバータを通してアトマイズエリアに送達させること;
少なくとも1つのアトマイズガスストリームを前記アトマイズエリアに提供すること;
前記アトマイズプロセスのために使用されるアトマイズチャンバに水を送達させること
を含み、
前記アトマイズエリアに送達される前に、前記溶融物は前記ダイバータ中で前記供給管の中心軸に対してある分流角で分流される、プロセス。 - 低融点金属または合金粉末アトマイズ製造プロセスであって、
供給管を通して前記低融点金属または合金の溶融物を提供すること;
前記溶融物をアトマイズエリアに向かわせること;ならびに
前記アトマイズエリアに、少なくとも300m/sの平均ガス速度を有する少なくとも1つのアトマイズガスストリームを提供すること
を含み、
前記アトマイズエリアにおける前記アトマイズガス対前記低融点金属の比はアトマイズする金属の1cm3あたり約5000〜約30000cm3のガスであり、よって20ミクロン未満の平均粒子直径および約2.0より低い幾何標準偏差を有する粉末の分布を提供する、プロセス。 - 低融点金属または合金粉末アトマイズ製造プロセスであって、
供給管を通して前記低融点金属または合金の溶融物を提供すること;
任意で前記溶融物を前記供給管の中心軸に対してある分流角で分流させて任意で分流された溶融物を得ること;
前記任意で分流された溶融物をアトマイズエリアに向かわせること;ならびに
前記アトマイズエリアに、少なくとも300m/sの速度を有する少なくとも1つのアトマイズガスストリームを提供すること
を含み、
前記アトマイズエリアにおける前記アトマイズガス対前記低融点金属の比はアトマイズする金属の1cm3あたり約5000〜約30000cm3のガスであり、よって約2.0より低い幾何標準偏差を有する粉末粒子サイズの分布を提供する、プロセス。 - 前記分流角(90−β)は約30〜約70°である、請求項1、2または4のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記分流角は約10〜約90°である、請求項1、2または4のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記アトマイズガスと前記溶融物の間で形成される角度は約10〜約90°である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記アトマイズガスと前記溶融物の間で形成される角度は約40〜約90°である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記プロセスは低融点金属を提供することを含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記低融点金属は約150℃〜約500℃の融点を有する、請求項9に記載のプロセス。
- 前記アトマイズエリアにおける前記アトマイズガス対前記低融点金属の比はアトマイズする金属の1cm3あたり約10000〜約20000cm3のガスである、請求項8〜10のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記アトマイズエリアにおける前記アトマイズガス対前記低融点金属の比はアトマイズする金属の1cm3あたり約5000〜約30000cm3のガスである、請求項8〜10のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記低融点金属はZn、In、Sn、Pb、Se、Te、およびBiから選択される元素である、請求項1〜13のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記プロセスは低融点合金を提供することを含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記低融点合金は約75℃〜約500℃の液相線を有する、請求項14に記載のプロセス。
- 前記低融点合金は約100℃〜約300℃の液相線を有する、請求項13に記載のプロセス。
- アトマイズガス対前記低融点合金の比は金属の1cm3あたり約10000〜約20000cm3のガスである、請求項13〜15のいずれか一項に記載のプロセス。
- アトマイズガス対前記低融点合金の比は金属の1cm3あたり約5000〜約30000cm3のガスである、請求項13〜15のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記低融点合金はCu、Sb、Zn、In、Mg、Sn、Pb、Ag、Se、Te、Ga、およびBiから選択される少なくとも1つの元素を含む、請求項14〜18のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記アトマイズガスストリームは約300m/s〜約700m/sの速度を有する、請求項1〜19のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記アトマイズガスストリームは約450m/s〜約600m/sの速度を有する、請求項1〜19のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記アトマイズガスストリームは超音速を有する、請求項1〜19のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記アトマイズガスは前記アトマイズヘッドに対して非垂直に配向される少なくとも1つのガス入口を通してアトマイズヘッドに送達され、前記ガス入口はガス出口の前に前記アトマイズヘッドにおいて旋回運動を提供する、請求項1〜22のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記アトマイズヘッドへの少なくとも2つのガス入口は前記供給管の中心軸に対してオフセットされ、前記アトマイズエリアにおいて前記中心軸周りに動的回転効果を生成する、請求項1〜22のいずれか一項に記載のプロセス。
- よって約2.0以下の幾何標準偏差を有する粉末粒子サイズ分布を提供する、請求項1〜24のいずれか一項に記載のプロセス。
- よって約1.5〜約1.8の幾何標準偏差を有する粉末粒子サイズ分布を提供する、請求項1〜24のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記アトマイズチャンバは約0〜約20%の酸素を含む、請求項1〜26のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記水は前記水の酸化還元電位を低減するために少なくとも1つの添加物を含む、請求項1〜22のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記水の酸化還元電位は前記アトマイゼーション前に低減されている、請求項1〜28のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記アトマイズチャンバにおいて使用される前記水の温度は前記アトマイズプロセスにおける粉末酸化を低減するように低下される、請求項1〜28のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記低融点金属の前記溶融物は少なくとも1つの溶融物分流チャネルを通して分流されかつ前記分流角は前記供給管の中心軸と前記少なくとも1つの溶融物分流チャネルの間で形成される、請求項1〜30のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記合金溶融物は少なくとも2つの溶融物分流チャネルを通して分流されかつ前記分流角は前記供給管の中心軸と前記少なくとも2つの溶融物分流チャネルの間で形成される、請求項1〜30のいずれか一項に記載のプロセス。
- 少なくとも1つの水の噴流は前記アトマイズチャンバ中に噴霧される、請求項1〜32のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記少なくとも1つの水の噴流は前記アトマイズチャンバの少なくとも1つの壁上に噴霧される、請求項33のいずれか一項に記載のプロセス。
- よって約20μm未満の平均粒子サイズを有する粉末を提供する、請求項1〜34のいずれか一項に記載のプロセス。
- よって約10μm未満の平均粒子サイズを有する粉末を提供する、請求項1〜34のいずれか一項に記載のプロセス。
- よって約3μm〜約20μmの平均粒子サイズを有する粉末を提供する、請求項1〜34のいずれか一項に記載のプロセス。
- よって前記粉末の少なくとも約70%が約25μm未満の平均粒子サイズを有する粉末を提供する、請求項1〜34のいずれか一項に記載のプロセス。
- よって前記粉末の少なくとも約80%が約25μm未満の平均粒子サイズを有する粉末を提供する、請求項1〜34のいずれか一項に記載のプロセス。
- よって前記粉末の少なくとも約85%が約25μm未満の粒子サイズを有する粉末を提供する、請求項1〜34のいずれか一項に記載のプロセス。
- よって前記粉末の少なくとも約70%が約1μm〜約15μmの粒子サイズを有する粉末を提供する、請求項1〜34のいずれか一項に記載のプロセス。
- よって前記粉末の少なくとも約75%が約1μm〜約15μmの平均粒子サイズを有する粉末を提供する、請求項1〜34のいずれか一項に記載のプロセス。
- よって前記粉末の少なくとも約80%が約1μm〜約15μmの粒子サイズを有する粉末を提供する、請求項1〜34のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記生成される粉末は粉末酸化を回避するために真空乾燥される、請求項1〜43のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記生成される粉末は乾燥段階の前にほとんどの水を除去するために有機溶媒で洗浄される、請求項1〜44のいずれか一項に記載のプロセス。
- 低融点金属または合金粉末を製造するためのアトマイズ装置であって、
前記低融点金属または合金の溶融物を提供するための供給管;
前記溶融物を前記供給管の中心軸に対してある分流角で分流させて分流溶融物を得るため、かつ前記分流溶融物を前記アトマイズ装置のアトマイズエリアに向かわせるための、前記供給管と流体連絡された、ダイバータ;
少なくとも1つのアトマイズガスストリームを前記アトマイズチャンバの内側に配置された前記アトマイズエリアに提供するための少なくとも1つのアトマイズガス注入器;ならびに
水を前記アトマイズ装置のアトマイズチャンバ内で提供するための少なくとも1つの水入口
を含む装置。 - 前記ダイバータは溶融物分流導管を含み、前記分流導管は前記供給管の中心軸に対してある分流角で配向される、請求項46に記載のアトマイズ装置。
- 前記ダイバータは少なくとも2つの溶融物分流導管を含み、前記少なくとも2つの溶融物分流導管の各々は前記供給管の中心軸に対してある分流角で配向される、請求項46に記載のアトマイズ装置。
- 少なくとも1つのガス入口をさらに含み、前記少なくとも1つのガス入口は前記アトマイズヘッドにおける旋回運動ならびに前記アトマイズエリアおよび前記アトマイズチャンバにおける動的回転運動を提供するように前記アトマイズヘッドに対し非垂直である、請求項46〜48のいずれか一項に記載のアトマイズ装置。
- 少なくとも1つの非垂直ガス入口は前記アトマイズヘッドにおいて円形流を生成し前記アトマイズエリアおよび前記アトマイズチャンバにおけるガスの動的回転運動をもたらす、請求項46〜48のいずれか一項に記載のアトマイズ装置。
- 少なくとも2つのガス入口は前記アトマイズヘッドに対し非垂直であり前記アトマイズヘッドにおける旋回効果ならびに前記アトマイズエリアおよび前記アトマイズチャンバにおける動的回転効果を生成する、請求項46〜48のいずれか一項に記載のアトマイズ装置。
- 前記少なくとも1つの水入口は前記アトマイズチャンバの内側に配置される、請求項46〜48のいずれか一項に記載のアトマイズ装置。
- 前記少なくとも1つの水入口は前記粉末を冷却するための水を提供するのに好適である、請求項46〜52のいずれか一項に記載のアトマイズ装置。
- 前記少なくとも1つの水入口は前記粉末を前記ふるい分け/乾燥エリアに輸送するための水を提供するのに好適である、請求項46〜52のいずれか一項に記載のアトマイズ装置。
- 前記少なくとも1つの水入口は前記粉末の選別/ふるい分けを促進するための水を提供するのに好適である、請求項46〜52のいずれか一項に記載のアトマイズ装置。
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