JP2019521910A - 準スパース光学照明 - Google Patents
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Abstract
Description
特許請求の範囲内で、説明した実施形態における改変が可能であり、また他の実施形態も可能である。
Claims (20)
- 装置であって、
マイクロミラーを含むDMD、及び
前記DMDのマイクロミラーを照明するための光源であって、前記DMDのマイクロミラーの第1のセットを照明する第1のビームプロファイルを生成するための第1の光源と、前記DMDのマイクロミラーの第2のセットを照明する第2のビームプロファイルを生成するための第2の光源とを含む、前記光源、
を含み、
前記第1及び第2のビームプロファイルが、前記DMDの少なくともいくつかのマイクロミラー上で部分的に重なり、前記第1の光源が、感知される走行条件に応答してパワー及び明るさを調節するために前記第2の光源とは独立してソース変調され、前記DMDの前記マイクロミラーが、前記感知された走行条件に応答して変調される、
装置。 - 請求項1に記載の装置であって、前記光源が、前記DMDのマイクロミラーの第3のセットを照明する第3のビームプロファイルを生成するための第3の光源を含み、前記第2及び第3のビームプロファイルが、前記DMDのマイクロミラー上で重なり、前記第3の光源が、前記感知された走行条件に応答してパワー及び明るさを調節するために前記第1及び第2の光源とは独立してソース変調される、装置。
- 請求項2に記載の装置であって、前記第1の光源が、前記感知された走行条件が左旋回であることに応答して、パワー及び明るさを調節するためにソース変調され、前記第3の光源が、前記感知された走行条件が右旋回であることに応答して、パワー及び明るさを調節するためにソース変調され、前記DMDの前記マイクロミラーが、前記感知された走行条件が左又は右旋回であることに応答して変調される、装置。
- 請求項1に記載の装置であって、前記DMDの前記マイクロミラーからの反射光を収集するために、投影光学系によって形成される投影瞳が、前記第1、第2、及び第3のビームプロファイルによってスパースに満たされ、前記DMDのエタンデュ(etendue)がスパースに満たされる、装置。
- 請求項2に記載の装置であって、前記光源が、前記DMDのマイクロミラーを照明するそれぞれの第4、第5、及び第6のビームプロファイルを生成するための第4、第5、及び第6の光源を含み、前記第4、第5、及び第6のビームプロファイルの近接するペアが、前記DMDのマイクロミラー上で部分的に重なり、各光源が、感知される走行条件に応答してパワー及び明るさを調節するために前記他の光源とは独立してソース変調される、装置。
- 請求項3に記載の装置であって、前記光源の各々が、発光ダイオード、レーザ、及びレーザ照明蛍光体のうちの1つである、装置。
- 請求項2に記載の装置であって、前記DMDのアクティブ表面より上方に配置されるミラーを含み、前記光源のうちの一つ又は複数が前記DMDの前記アクティブ表面より下方に配置され、前記光源のうちの前記一つ又は複数が前記ミラーを照射するために前記DMDの前記アクティブ表面より下にあり、前記ミラーが前記DMDの前記ミラー上に入射光を反射するように配置される、装置。
- 請求項2に記載の装置であって、それぞれの光源から前記DMDの前記マイクロミラーに向かう光をコリメート、ビーム整形、及び集束するための、照明光学要素の第1、第2、及び第3のセットを含み、前記光源の各々が、前記DMDの前記マイクロミラーの方を向くように傾斜される、装置。
- 請求項2に記載の装置であって、前記第1、第2、及び第3の光源から前記DMDの前記マイクロミラーに向かう光をコリメート、ビーム整形、及び集束するための、照明光学要素のセットを含み、前記光源の各々が、前記DMDの前記マイクロミラーの方を向くように傾斜される、装置。
- 請求項2に記載の装置であって、前記第1、第2、及び第3の光源から前記DMDの前記マイクロミラーに向かう光をコリメート、ビーム整形、及び集束するための、照明光学要素のセットを含み、前記光源の各々が、前記DMDの前記マイクロミラーを照明するために、前記DMDの平面に平行な平面に配置される、装置。
- システムであって、
マイクロミラーを含むDMD、
前記DMDのマイクロミラーの第1のセットを照明する第1のビームプロファイルを生成するための第1の光源、
前記DMDのマイクロミラーの第2のセットを照明する第2のビームプロファイルを生成するための第2の光源であって、前記第1及び第2のビームプロファイルが前記DMDのマイクロミラー上で部分的に重なる、前記第2の光源、
前記DMDのマイクロミラーの第3のセットを照明する第3のビームプロファイルを生成するための第3の光源であって、前記第2及び第3のビームプロファイルが前記DMDのマイクロミラー上で部分的に重なる、前記第3の光源、及び、
前記第1の光源から前記DMD上に光を反射させるため、及び前記第3の光源から前記DMD上に光を反射させるためのミラー、
を含む、システム。 - 請求項11に記載のシステムであって、前記DMDのマイクロミラーからの反射光を収集するために投影光学系によって形成される投影瞳が、前記第1、第2、及び第3のビームプロファイルによってスパースに満たされ、前記DMDのエタンデュがスパースに満たされる、システム。
- 請求項12に記載のシステムであって、照明光学要素が、近接ビームのビームプロファイルを部分的に重ねるように配置される、システム。
- 請求項11に記載のシステムであって、第1の光源からの光が、前記DMDのマイクロミラーが第1のミラー位置にあるとき投影レンズ内へ操向され、前記DMDの前記マイクロミラーが第2のミラー位置にあるとき、前記投影レンズから離れて操向され、第2の光源からの光が、前記DMDの前記マイクロミラーが前記第2のミラー位置にあるとき、前記レンズ内へ操向され、前記DMDの前記マイクロミラーが前記第1のミラー位置にあるとき、前記投影レンズから離れて操向され、前記DMDの前記マイクロミラーが、前記第1と第2のミラー位置を交互にするようにデューティサイクルされる、システム。
- 請求項11に記載のシステムであって、前記ミラーが、非対称F(焦点長さ)値に従って入射光を反射させるための凹面ミラーである、システム。
- 請求項15に記載のシステムであって、前記ミラーが、前記第2の光源からの光を前記DMD上に反射させるためのものである、システム。
- 請求項11に記載のシステムであって、光を、前記DMD上に入射するように又は前記DMDによって反射されるように、部分的に制約するように結合される、スパース開口を含む、システム。
- 請求項11に記載のシステムであって、
感知される走行条件を感知するための入力電子機器、及び、
感知される走行条件に応答してパワー及び明るさを調節するために、前記第2及び第3の光源とは独立して前記第1の光源をソース変調するための、プロセッサ、
を含む、システム。 - 方法であって、
DMDのマイクロミラーの第1のセットを照明するために、第1の光源から第1のビームプロファイルを生成すること、
前記DMDのマイクロミラーの第2のセットを照明するために、第2の光源から第2のビームプロファイルを生成することであって、前記第1のビームプロファイル及び前記第2のビームプロファイルが前記DMD上で重なる、前記第2のビームプロファイルを生成すること、
前記DMDのマイクロミラーの第3のセットを照明するために、第3の光源から第3のビームプロファイルを生成することであって、前記第2のビームプロファイル及び前記第3のビームプロファイルが前記DMD上で重なる、前記第3のビームプロファイルを生成すること、
感知される走行条件に応答してパワー及び明るさを調節するために、前記第2及び第3の光源とは独立して前記第1の光源を変調すること、
を含む、方法。 - 請求項19に記載の方法であって、前記第1の光源からの光を前記DMD上に反射させること、及び、前記第3の光源からの光を前記DMD上にと反射させること、
を更に含む、方法。
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