JP2019503336A - ピラゾール化合物またはその塩、それらの製造方法、除草組成物およびその使用 - Google Patents

Abstract

ピラゾール化合物またはその塩、その製造方法、除草組成物およびその使用を開示する。ピラゾール化合物またはその塩は以下の式（Ｉ）に示す構造を有するものである：

［式中、Ｒは、

［式中、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロゲン化アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシルまたはハロゲンを表し、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、同一であっても異なっていてもよい。］を表し、Ｒ_１は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルを表し；Ｒ_２は、水素またはＣ１〜Ｃ４アルキルを表し；Ｒ_３は、水素またはＣ１〜Ｃ６アルキル、置換されていてもよいフェニル、置換されていてもよいピリジル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシルカルボニルメチルなどを表す]。ピラゾール構造を有する化合物は、イヌビエに対して優れた除草効果を有するだけでなく、出芽後の適用でもコメに安全である。さらに驚くべきことに、それはぺノキススラム、キンクロラック、シハロホップ−ブチルおよびプロパニルなどの主要な除草剤に耐性を有するイヌビエに良好な防除効果を有する。

Description

本発明は殺虫剤の技術分野、特にピラゾール化合物またはその塩、その製造方法、除草組成物およびその使用に関する。

イヌビエは稲田で最も注目されている雑草であって、特に直まき技術の開発とともに、イヌビエの管理が成長還元（growing returns）を増加させるための鍵となっている。例えば、ＡＬＳ阻害剤（例えば、ペノキススラム、トリアファモンなど）およびＡＣＣａｓｅ阻害剤（例えば、シハロホップ−ブチル、メタミホップ、フェノキサプロプ−ｐ−エチル、クレホキシジムなど）などの多数のイヌビエ除草剤が開発されてきたものの、これら阻害剤を大量に適用したことで、イヌビエの耐性がますます深刻となってきた。現在、多数のイヌビエの生物型が主要なイヌビエ除草剤に耐性を有するまで進化したことが報告されている。したがって、現在の主流のイヌビエ除草剤に交差耐性を有しない除草剤を開発することが急務である。

先行技術での上記課題を解決するために、本発明は、ピラゾール化合物またはその塩、その製造方法、除草組成物およびその使用を提供する。驚くべきことに、ピラゾール化合物はイヌビエに対して良好な効果を有するのみならず、発芽後に適用された際にコメにも安全であることが見出された。さらに驚くべきことに、それはペノキススラム、キンクロラック（quinclorac）、シハロホップ−ブチルおよびプロパニルなどの主要な除草剤に耐性を有するイヌビエに優れた効果を示した。

上記の目的を達成するために、本発明は以下の技術的な解決を提供する。

下記式（Ｉ）のピラゾール化合物またはその塩：

［式中、
Ｒは、

［式中、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロゲン化アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシルまたはハロゲンを表し、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、同一であっても異なっていてもよい］を表し、
Ｒ_１は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルを表し；
Ｒ_２は、水素またはＣ１〜Ｃ４アルキルを表し；
Ｒ_３は、水素またはＣ１〜Ｃ６アルキル、置換されていてもよいフェニル、置換されていてもよいピリジル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニルメチル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシルカルボニルメチル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロゲン化アルキルスルホニル、フェニルスルホニルまたはアルキル、アルコキシルもしくはハロゲンで置換されたフェニルスルホニル、ベンゾイルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたベンゾイル、フェノキシルカルボニルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたフェノキシルカルボニル、ベンゾイルメチルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたベンゾイルメチル、フェノキシルカルボニルメチルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたフェノキシルカルボニルメチルを表す]。

好ましくは、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、水素、メチル、メトキシル、フルオロメチルまたは塩素を表し、ここでＲ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｒ_１は、メチル、エチルまたはイソプロピルを表し；
Ｒ_２は、水素、メチル、エチルまたはシクロプロピルを表し；
Ｒ_３は、水素またはＣ１〜Ｃ６アルキル、置換されていてもよいフェニル、置換されていてもよいピリジル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニルメチル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシルカルボニルメチル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロゲン化アルキルスルホニル、フェニルスルホニルまたはアルキル、アルコキシルもしくはハロゲンで置換されたフェニルスルホニル、ベンゾイルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたベンゾイル、フェノキシルカルボニルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたフェノキシルカルボニル、ベンゾイルメチルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたベンゾイルメチル、フェノキシルカルボニルメチルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたフェノキシルカルボニルメチルを表す。

下記式（ＩＩＩ）の化合物：

［式中、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロゲン化アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシルまたはハロゲンを表し、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、同一であっても異なっていてもよい］。

好ましくは、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、水素、メチル、メトキシルまたは塩素を表し、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、同一であっても異なっていてもよい。

下記式（Ｖ）の化合物：

［式中、
Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロゲン化アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシルまたはハロゲンを表し、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ_１は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルを表し；
Ｒ_２は、水素またはＣ１〜Ｃ４アルキルを表す］。

好ましくは、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、水素、メチル、メトキシルまたは塩素を表し、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｒ_１は、メチル、エチルまたはイソプロピルを表し；
Ｒ_２は、水素、メチル、エチルまたはシクロプロピルを表す。

上記の定義について、使用した用語は、単独または他の用語と組み合わせて以下の基を表す：
ハロゲンはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素を表す；
アルキルは直鎖状アルキルまたは分岐状アルキルを表す；
ハロゲン化アルキルは水素の全てまたは部分がハロゲン原子と置換されている直鎖状か分岐状アルキルを表す；
アルコキシルはアルキルを酸素原子と結合させることによって形成された官能基を表す。

式（Ｉ）の化合物は、従来の方法を通じて、必要に応じて、対応する塩を形成することができる。この塩は、農業的に許容可能であることを条件として、任意の形態をとることができ、その例としては、アルカリ金属塩（例えば、ナトリウム塩またはカリウム塩）、アルカリ土類金属塩（例えば、マグネシウム塩またはカルシウム塩）あるいはアンモニウム塩（例えば、ジメチルアミン塩またはトリエチルアミン塩）が挙げられる。

本発明の化合物は、１つ以上の立体異性体の形態で存在していてもよい。立体異性体は、鏡像異性体、ジアステレオ異性体および幾何異性体を含んでなる、これらの立体異性体およびそれらの混合物の全てが本発明の範囲内である。

また、本発明では２−クロロ−３−ブロモメチル−４−メチルスルホニル安息香酸を出発材料として使用した、式（Ｉ）のピラゾール化合物またはその塩の製造方法も開示されている。

また、本発明では以下の工程を含んでなる、式（Ｉ−１）のピラゾール化合物またはその塩の製造方法も開示されている：
（１）化合物２−クロロ−３−ブロモメチル−４−メチルスルホニル安息香酸を式（ＩＩ）の化合物と反応させて式（ＩＩＩ）の化合物を得る工程；
（２）式（ＩＩＩ）の化合物を式（ＩＶ）の化合物と反応させて式（Ｖ）の化合物を得る工程；
（３）式（Ｖ）の化合物を転位反応に供し、Ｒ３が水素である（即ち、式（Ｉ−１））式（Ｉ）の化合物を得る工程；式（Ｉ−１）のピラゾール化合物またはその塩は、以下の反応経路を介して製造してもよい：

上述のアルキル化反応は溶媒の存在下で行われる必要がある。使用する溶媒は反応に不活性である。このような溶媒は、一般に、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯなどの非プロトン性溶媒または混合溶媒であり、好ましくはアセトニトリルである。

上述のＮ−アルキル化反応は、一般に、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの金属水素化物であるアルカリ、好ましくは水素化ナトリウムの存在下で行われる必要がある。

上述のＮ−アルキル化反応の反応温度は一般に−１０〜３０℃、好ましくは０〜１０℃であり、反応時間は０．５〜４８時間、好ましくは１〜１２時間である。

反応時間を減らし、エステル化反応率を増やすことを目的として、上述のエステル化反応は、通常２つの工程を含んでなる：式（ＩＩＩ）の化合物をその対応する塩化アシルに転化させる第一工程；この塩化アシルを式（ＩＶ）の化合物と反応させて式（Ｖ）の化合物を得る第二工程。即ち、式（Ｖ）の化合物は式（ＩＩＩ’）の化合物を式（ＩＶ）の化合物と反応させることによって得られる。式（ＩＩＩ’）の化合物は以下の通りである：

［式中、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、上記で定義した通りである］。

式（ＩＩＩ）の化合物は、以下の経路を通じて式（ＩＩＩ’）の化合物に転化させることができる：

［式中、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、上で定義した通りである］。

上述のエステル化反応は溶媒の存在下で行われる必要がある。使用する溶媒は反応に不活性である。このような溶媒は、一般に極性または非極性である非プロトン性溶媒である。例としては、アセトニトリル、メチルベンゼン、ジメチルベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラヒドロフランまたはアセトンなどであり、好ましくは１，２−ジクロロエタンである。

エステル化反応の第二工程は、脱酸剤の存在下で行う必要があり、使用するこの脱酸剤は、無機または有機の通常のアルカリである。このような１つ以上のアルカリは、炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、重炭酸塩類（例えば、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム）、アミン類（例えば、ジメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン）およびピリジン類（例えば、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン）から選択して使用することができ、トリエチルアミンが好ましい。

エステル化反応の反応温度は一般に−１０〜５０℃、好ましくは０〜１０℃であり、反応時間は０．５〜２４時間、好ましくは１〜６時間である。

転位反応は、エステル化反応の反応系で行われる。あるいはむしろ、反応溶液を、エステル化反応後に一切の後処理なく転位反応に直接使用することができる。したがって、転位反応に必要な溶媒は、上述のエステル化反応でのものと同一である。

上述の転位反応は、２つの工程を含んでなる：第一に、式（Ｖ）の化合物の転位；第二に、系のｐＨの調節。即ち、第一工程後に必要量の水を系に添加し、系を酸性に調節する。通常、ｐＨ調節のための酸は塩酸である。

転位反応の第一工程の反応温度は一般に０〜１００℃の間、好ましくは４０〜６０℃であり、反応時間は０．５〜２４時間、好ましくは１〜６時間である。ｐＨ調節工程の反応温度は１０〜５０℃、好ましくは１０〜２５℃である。

必要に応じて、転移反応前に適当な量の触媒を添加する。本発明において、触媒は好ましくはアセトンシアノヒドリンである。

経路で関連している式（ＩＩＩ）および式（Ｖ）の化合物は、新規の中間体であり、本発明の化合物を製造するために使用することができる。

化合物の多様性を増やすために、Ｒ_３を水素とする式（Ｉ）（即ち、式（Ｉ−１））の化合物の構造は、分子設計を通じて適宜組換えられ、このようにしてＲ_３を非水素とする式（Ｉ）（即ち、式（Ｉ’））の化合物が抽出される。本発明に関係する式（Ｉ’）のピラゾール化合物は、式（Ｉ−１）の化合物を式（ＶＩ）の化合物と反応させることによって製造される。反応経路は以下の通りである：

［式中、Ｙは、ハロゲン、好ましくは塩素、臭素およびヨウ素を表す］。

上述の式（Ｉ’）は溶媒の存在下で調製する必要がある。使用する溶媒は反応に不活性でなければならない。このような溶媒は、一般に極性または非極性である非プロトン性溶媒であり、例えば、アセトニトリル、メチルベンゼン、ジメチルベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラヒドロフランまたはアセトンであり、好ましくはアセトニトリルまたはジクロロメタンである。

上述の式（Ｉ’）は脱酸剤の存在下で調製する必要があり、使用するこの脱酸剤は、無機または有機の通常のアルカリである。このような１つ以上のアルカリは、炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、重炭酸塩類（例えば、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム）、アミン類（例えば、ジメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン）およびピリジン類（例えば、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン）から選択して使用することができ、トリエチルアミンまたは炭酸カリウムが好ましい。

式（Ｉ’）の調製のための反応温度は通常−１０〜５０℃の間、好ましくは０〜２０℃であり、反応時間は０．１〜１２時間、好ましくは０．５〜３時間である。

また、除草上有効量の少なくとも1つのピラゾール化合物またはその塩を含んでなる除草組成物も開示される。

また、除草組成物は調製補助剤を含んでなる。

また、除草上有効量の少なくとも1つのピラゾール化合物またはその塩または除草組成物を植物または有害植物が存在する領域に適用する工程を含んでなる、有害植物を防除する方法も開示される。

有害植物の防除での、少なくとも1つのピラゾール化合物またはその塩または除草組成物の使用は、好ましくは、ピラゾール化合物またはその塩を、所望の作物の中の有害植物を防除するために適用し、好ましくは、この所望の作物は遺伝子組換え作物またはゲノム編集技術によって処理された作物である。

本発明による式（Ｉ）の化合物は、広範囲の経済的に重要な単子葉および双子葉の有害植物に対して顕著な除草活性を有する。また活性化合物は、地下茎、根茎または他の多年生器官から芽を出し、かつ防除が困難である多年生雑草に効果的に作用する。本文脈では、物質が播種前、出芽前または出芽後に適用されたか否かは、概して重要ではない。具体的には、本発明による化合物によって防除することができる、いくつかの代表的な単子葉および双子葉の雑草相（weed flora）を例として言及してもよく、これらが特定の種への制限となることはない。活性化合物が効果的に作用を及ぼす雑草種の例は、単子葉植物からは、カラスムギ属（Avena）、ドクムギ属（Lolium）、スズメノテッポウ属（Alopecurus）、ファラリス（Phalaris）、ヒエ属（Echinochloa）、メヒシバ属（Digitaria）、セタリア属（Setaria）、同様に一年生植物のカヤツリグサ属（Cyperus）および多年生植物からは、コムギダマシ属（Agropyron）、ギョウギシバ属（Cynodon）、チガヤ(Imperata)およびモロコシ属（Sorghum）、同様に多年生植物のカヤツリグサ属（Cyperus）である。

双子葉植物の雑草種の場合、活性範囲は、例えばヤエムグラ属（Galium）、スミレ属（Viola）、クワガタソウ属（Veronica）、オドリコソウ属（Lamium）、コハコベ属（Stellaria）、アマランサス（Amaranthus）、シロガラシ属（Sinapis）、サツマイモ属（Ipomoea）、キシゴジカ属（Sida）、シカギク属（Matricaria）および多年生植物からのアブチロン属（Abutilon）ならびに多年生雑草の場合、セイヨウヒルガオ属（Convolvulus）、アザミ属（Cirsium）、スイバ属（Rumex）およびヨモギ属（Artemisia）に及ぶ。また、本発明による活性化合物は、稲作という特定の状態下で発生する、例えば、イヌビエ（Echinochloa）、オモダカ属（Sagittaria）、サジオモダカ属（Alisma）、ハリイ属（Eleocharis）、ホタルイ属（Scirpus）およびカヤツリグサ属（Cyperus）などの有害植物の顕著な防除も達成する。発明による化合物を発芽前に土壌表面に適用した場合、雑草の苗の出現は完全に防止されるか、または雑草は子葉段階に達するまで成長するが、その後成長が止み、次第に３〜４週間経過すると完全に枯死する。発明による化合物を発芽前に土壌表面に適用した場合、雑草の苗の出現は完全に防止されるか、または雑草は子葉段階に達するまで成長するが、その後成長が止み、次第に３〜４週間経過すると完全に枯死する。特に、本発明による化合物は、セイヨウヌカボ属（Apera spica venti）、シロザ（Chenopodium album）、ヒメオドリコソウ（Lamium purpureum）、ソバカズラ（Polygonum convulvulus）、コハコベ（Stellaria media）、フラサバソウ（Veronica hederifolia）、オオイヌフグリ（Veronica persica）、サンシキスミレ（Viola tricolor）に対して、ならびにアマランサス（Amaranthus）、ヤエムグラ属（Galium）およびコキア（Kochia）種に対して優れた活性を呈する。

本発明による化合物は単子葉および双子葉の雑草に対して優れた除草効果を有するものの、例えば、小麦、大麦、ライ麦、コメ、トウモロコシ、テンサイ、綿およびダイズなどの経済的に重要な作物は全く損傷されないか、またはその損傷は無視できる程度である。特に、それらは例えば、小麦、大麦、トウモロコシなどの作物、特に小麦で優れた適合性を有する。これらの理由で、本化合物は、農業利用のための植え付けまたは観葉植物の植え付けで望ましくない植物成長を選択的に防除するのに非常に好適である。

それらの除草特性のために、これら活性化合物は、既知の遺伝子組換え植物または未だ開発されていない遺伝子組換え植物の作物中の有害植物を防除するために使用してもよい。一般にトランスジェニック植物は、特に有意な特性、例えば、特定の殺虫剤、具体的には特定の除草剤への耐性、植物病害あるいは、特定の昆虫もしくは菌類、細菌またはウイルスなどの微生物などの植物病害の原因細菌への耐性を有している。他の特別の特性は、例えば、量、品質、保存安定性、組成および収穫製品の特定の成分に関している。したがって、増加したデンプン含量または組換え品質のデンプンを有するトランスジェニック植物または収穫製品の異なる脂肪酸組成を有するものが既知である。

本発明による式（Ｉ）の化合物またはそれらの塩の使用は、好ましくは、有用な植物および観葉植物（例えば、小麦、大麦、ライ麦、オーツ麦、キビ、コメ、キャッサバおよびトウモロコシなどの作物）の経済的に重要なトランスジェニック作物で行うか、またはテンサイ、綿、ダイズ、菜種、ジャガイモ、トマト、マメおよび他の野菜種の作物で行う。式（Ｉ）の化合物は、好ましくは、除草剤の植物毒素効果に耐性であるか、遺伝子操作によって耐性が付与された有用な植物の作物中の除草剤として使用することができる。

既知の植物と比較して組換え特性を有する新規の植物を製造する従来の方法は、例えば、伝統的な育種法および突然変異体の生成を含んでなる。あるいは、組換え特性を有する新規の植物は遺伝子工学方法を用いて生成することができる(例えば、EP-A 0 221 044、 EP-A 0 131 624を参照のこと)。例えば、植物中に合成されたデンプンを組換えることを目的とした、作物植物中の遺伝子操作変化 (例えば、WO 92/11376、WO 92/14827、WO 91/19806)、グルホシネート (例えば、EP-A 0 242 236、EP-A 0 242 246を参照のこと)、グリフォサート型(WO 92/00377)またはスルホニル尿素型(EP-A 0 257 993、米国特許第5,013,659号)の特定の除草剤に耐性であるトランスジェニック作物、植物に特定の有害生物への耐性を付与するバチルス・チューリンゲンシス（Bacillus thuringiensis）毒素（Ｂｔ毒素）を産生させる能力を有するトランスジェニック作物、例えば、綿（EP-A 0 142 924、EP-A 0 193 259）、組換え脂肪酸粗製を有するトランスジェニック作物（WO 91/13972）のいくつかの事例が記載されている。

組換え特性を有する新規のトランスジェニック植物の製造を可能にする多数の分子生物学技術は基本的に既知である;例えば、Sambrook et al., 1989, Molecular Cloning, A Laboratory Manual, 2nd ed. Cold Spring Harbor Laboratory Press, Cold Spring Harbor, N.Y.; or Winnacker "Gene und Klone" [Genes and Clones], VCH Weinheim, 2nd edition 1996, or Christou, "Trends in Plant Science" 1 (1996) 423-431を参照のこと。そのような遺伝子操作手技を実施するために、プラスミド中に核酸分子を導入することが可能であり、それによってＤＮＡ配列の組換えにより配列中での突然変異生成または変化の発生が可能となる。上述の標準的方法を使用して、例えば、塩基を置換して部分的配列を除去するか、あるいは天然または合成の配列を加えることが可能である。ＤＮＡ断片を互いに結合させるために、断片にアダプターまたはリンカーを付着させることができる。

遺伝子産物の活性が低減した植物細胞は、例えば、少なくとも１つの適当なアンチセンスＲＮＡ、センスＲＮＡを発現させて共抑制効果を達成することにより、または上述の遺伝子産物の転写物を特異的に開裂する、少なくとも１つの適当に構築されたリボザイムを発現させることによって製造することができる。

この目的のために、存在していてもよい任意のフランキング配列を含む遺伝子産物のコード配列全体を含んでなるＤＮＡ分子とコード配列の部分（これら部分は、細胞中のアンチセンス効果を引き起こすのに十分長い必要がある）のみを含んでなるＤＮＡ分子の両方を使用することが可能である。また、遺伝子産物のコード配列に高い相同性を有するが、完全に同一ではないＤＮＡ配列を使用することも可能である。

植物中で核酸分子を発現させる場合、合成されたタンパク質を、植物細胞の任意の所望の区画中に局地化することができる。しかしながら、特定の区画中で局在化を達成するために、例えば、コード領域を、特定の区画への局在化を確保するＤＮＡ配列と結合させることが可能である。そのような配列は、当業者に公知である（例えば、Braun et al., EMBO J. 11 (1992), 3219-3227; Wolter et al., Proc. Natl. Acad. Sci. USA 85 (1988), 846-850; Sonnewald et al., Plant J. 1 (1991), 95-106を参照のこと)。

トランスジェニック植物細胞は、既知の技術を使用して、完全植物に再生することができる。原則として、トランスジェニック植物は、任意の所望の植物種の植物、即ち、単子葉植物および双子葉植物両方であってもよい。このように、相同（＝天然）の遺伝子または遺伝子配列の過剰発現、抑制または阻害、あるいは異種（＝外来）の遺伝子または遺伝子配列の発現によって組換え特性を有するトランスジェニック植物を得ることが可能である。

本発明による活性化合物をトランスジェニック作物で使用する場合、他の作物で観察可能な有害な植物に対する効果に加えて、それぞれのトランスジェニック作物への適用に特異的な効果が頻繁にあり、それは例えば、組換え雑草または特異的に広範囲な雑草が防除可能であること、適用に用いることができる改良された適用率、トランスジェニック作物が耐性である除草剤との好ましく良好な化合性能ならびにトランスジェニック作物の成長および収量である。したがって、本発明は、トランスジェニック作物中の有害な植物を防除するための除草剤としての本発明による化合物の使用をも提供する。

さらに、本発明による物質は作物での顕著な成長調節特性を有している。それらは植物代謝の調節に関与し、これを、例えば、乾燥および妨げられた成長を刺激することによって、植物構成物質の目標とする防除および収穫の促進に使用することができる。またさらに、それらはプロセスにおいて植物を破壊せずに、所望しない植物成長を通常調節し抑制するのに好適である。植物成長の抑制は、単子葉および双子葉の作物に重要な役割を果たし、その理由としては、これによって倒伏を減少させるかまたは完全に防止することができるためである。

本発明による化合物は水和剤（wettable powders）、乳剤（emulsifiable concentrate）、噴霧可能溶液、粉末または顆粒の形態での慣習的な製剤で適用することができる。したがって、本発明は、式（Ｉ）の化合物を含んでなる除草組成物をも提供する。式（Ｉ）の化合物は、普及している生物学的および／または物理化学的なパラメーターに依存する種々の方法で製剤化することができる。好適な製剤の選択肢の例は次のとおりである：水和剤（ＷＰ）、水溶性粉末（ＳＰ）、水溶性剤（water-soluble concentrate）、乳剤（ＥＣ）、水中油型乳剤および油中水型乳剤などの乳剤（ＥＷ）、噴霧可能溶液、懸濁剤（suspension concentrate）（ＳＣ）、油性分散剤または水性分散剤、油混和性溶液、粉末（ＤＰ）、カプセル懸濁剤（ＣＳ）、種子粉衣組成物、散布用および土壌適用用の顆粒剤、微粒剤の解体の顆粒剤（ＧＲ）、噴霧顆粒剤、粉衣顆粒剤および吸着顆粒剤、水分散性顆粒剤（ＷＧ）、水溶性顆粒剤（ＳＧ）、ＵＬＶ製剤、マイクロカプセルおよびワックス。これらの個々の製剤類型は原則としては既知であり、例えば、Winnacker-Kuhler, "Chemische Technologie" [Chemical Technology], Volume 7, C. Hauser Verlag Munich, 4th. Edition 1986; Wade van Valkenburg, "Pesticide Formulations"、Marcel Dekker, N.Y., 1973; K. Martens, "Spray Drying" Handbook, 3rd Ed. 1979, G. Goodwin Ltd. Londonに記載されている。

例えば、不活性材料、界面活性剤、溶媒および他の添加剤などの必要な製剤助剤も同様に既知であり、例えば、Watkins, "Handbook of Insecticide Dust Diluents and Carriers", 2nd Ed., Darland Books、Caldwell N.J., H. v. Olphen, "Introduction to Clay Colloid Chemistry"; 2nd Ed., J. Wiley & Sons, N.Y.; C. Marsden, "Solvents Guide"; 2nd Ed., Interscience, N.Y. 1963; McCutcheon's "Detergents and Emulsifiers Annual", MC Publ. Corp., Ridgewood N.J.; Sisley and Wood, "Encyclopedia of Surface Active Agents", Chem. Publ. Co. Inc., N.Y. 1964; Schonfeldt, "Grenzflchenaktive thylenoxidaddukte" [Surface-active ethylene oxide adducts], Wiss. Verlagsgesell., Stuttgart 1976; Winnacker-Kuchler, "Chemische Technologie" [Chemical Technology], Volume 7, C. Hauser Verlag Munich, 4th Edition 1986に記載されている。

水和剤は、水中で均一に分散可能であって、かつ活性化合物と同様に希釈剤または不活性物質に加えて、イオン性および／または非イオン性型の界面活性剤(湿潤剤、分散剤)、例えば、ポリエトキシ化アルキルフェノール類、ポリエトキシ化脂肪族アルコール類、ポリエトキシ化脂肪族アミン類、脂肪族アルコールポリグリコールエーテルスルフェート類、アルカンスルホネート類、アルキルベンゼンスルホネート類、リグニンスルホン酸ナトリウム、２，２’−ジナフチルメタン−６，６’−二スルホン酸ナトリウム、ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウムまたはオレオイルメチルタウリン酸ナトリウムを含有する調合物である。水和剤を調製するために、例えば、ハンマー製粉機、ファン型製粉機および空気ジェット粉砕機のような慣習的な装置で除草活性化合物を微細に製粉し、製剤助剤との混合を同時に行うか、またはその後に行う。

乳剤は、1つ以上のイオン性および／または非イオン性型の界面活性剤(乳化剤)を添加して、有機溶媒(例えば、ブタノール、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、キシレンまたは比較的高沸点の芳香族化合物または炭化水素あるいは溶媒の混合物)中で活性化合物を溶解させることによって調製する。使用することができる乳化剤の例は、Ｃａドデシルベンゼンスルホネートなどのアルキルアリールスルホン酸カルシウム類または脂肪酸ポリグリコールエステル類などの非イオン性乳化剤、アルキルアリールポリグリコールエーテル類、脂肪族アルコールポリグリコールエーテル類、プロピレンオキシド−エチレンオキシド縮合物、アルキルポリエーテル類、ソルビタンエステル類、例えば、ソルビタン脂肪酸エステル類またはポリオキシエチレンソルビタンエステル類、例えば、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルである。

粉末は、活性化合物を、微粉化した固形物質(例えば、滑石、自然な粘土、例えば、カオリン、ベントナイトおよび葉ろう石など、またはケイソウ土)で粉砕することにより得られる。懸濁剤は、水性または油性でもよい。それらは、例えば、他の製剤類型の場合で、例えば、既に上記した界面活性剤を加えても加えなくても、市販の慣習的なビーズ粉砕機を使用した湿式ミル挽きによってて調製することができる。

乳剤、例えば、水中油型乳剤（ＥＷ）は、例えば、他の製剤類型の場合で、例えば、水性の有機溶媒および所望に応じて既に上記した界面活性剤を使用して、撹拌機、コロイド粉砕機および／または静的ミキサーによって調製することができる。

顆粒剤は、活性化合物を吸収性、顆粒化不活性物質上に噴霧するか、または活性化合物を、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ナトリウムまたは鉱油などの粘着性バインダーによって、砂、カオリナイトまたは顆粒化不活性物質などの担体の表面上に適用することによって調製することができる。同様に好適な活性化合物も、必要に応じて肥料と混合して、慣習的な肥料顆粒剤の調製方法で粒状にすることもできる。一般的に水分散性顆粒剤は、噴霧乾燥、流動床造粒、ディスク造粒、高速ミキサーを使用する混合および固形不活性物質無しの押出しなどの慣習的方法によって調製される。

ディスク、流動床、押出しおよび噴霧による顆粒剤の調製については、例えば、"Spray-Drying Handbook" 3rd ed. 1979, G. Goodwin Ltd., London; J. E. Browning, "Agglomeration", Chemical and Engineering 1967、147ページ以降; "Perry’s Chemical Engineer’s Handbook", 5th Ed., McGraw-Hill, New York 1973, pp. 8-57に記載の方法を参照のこと。作物保護製品の製剤に関するさらなる詳述は、例えば、G. C. Klingman, "Weed Control as a Science", John Wiley and Sons Inc., New York, 1961、81-96ページおよびJ. D. Freyer, S. A. Evans, "Weed Control Handbook", 5th Ed., Blackwell Scientific Publications, Oxford, 1968、101-103ページを参照のこと。

概して農薬製剤は、式（Ｉ）の活性化合物を、０．１〜９９重量％、具体的には０．１〜９５重量％含有する。水和剤では、活性化合物の濃度は、例えば、約１０〜９０重量％であって、慣習的な製剤構成物質からなる残余物は１００重量％までである。乳剤では、活性化合物の濃度は、例えば、約１〜９０重量％、好ましくは５〜８０重量％であってよい。粉末形態の製剤は、活性化合物を１〜３０重量％、好ましくは最も一般的に活性化合物を５〜２０重量％含有し、一方で噴霧可能溶液は、活性化合物を約０．０５〜８０重量％、好ましくは２〜５０重量％含有する。水分散性顆粒剤の場合、活性化合物の含有量は、活性化合物が液体または固体の形態であるか、および使用した造粒化助剤、フィラーに部分的に依存する。水分散性顆粒剤では、活性化合物の含有量は、例えば、１〜９５重量％の間、好ましくは１０〜８０重量％の間である。

さらに、前記活性化合物の製剤は、それぞれが慣習的なものである、粘着付与剤、湿潤剤、分散剤、乳化剤、浸透剤、保存剤、不凍剤、溶媒、フィラー、担体、着色剤、泡止剤、蒸発抑制剤、pH調節剤および粘性調節剤を含んでいてもよい。

これらの製剤に基づいて、例えば、成分調合済みまたはタンク混合の形態で、他の殺虫性活性物質、例えば、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤および殺真菌剤、同様に解毒剤、肥料および／または成長調節物質と一緒に組合わせ物を生産することも可能である。

混合製剤またはタンク混合での、本発明による活性化合物と組み合わせることができる好適な活性化合物は、例えば、World Herbicide New Product Technology Handbook, China Agricultural Science and Farming Techniques Press, 2010.9およびそこで引用されている文献に記載されている既知の活性化合物である。例えば、式（Ｉ）の化合物と組み合わせることができる除草剤として、次の活性化合物に言及してもよい（注：化合物は、国際標準化機構（ＩＳＯ）に従った「慣用名」または、適切な場合、慣習的なコード番号と一緒に化学名によって名づけられている）：アセトクロール、ブタクロール、アラクロール、プロピソクロール、メトラクロール、ｓ−メトラクロール、プレチラクロール、プロパクロール、エタクロール（ethachlor）、ナプロパミド（napropamide）およびＲ−左ナプロパミド（R-left handed napropamide）、プロパニル、メフェナセット、ジフェナミド、ジフルフェニカン、エタプロクロール（ethaprochlor）、ベフルブタミド（beflubutamid）、ブロモブチド（bromobutide）、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、エトベンザニド、フルフェナセト（flufenacet）、テニルクロール、メタザクロール（metazachlor）、イソキサベン（isoxaben）、フラムプロプ−Ｍ−メチル（flamprop-M-methyl）、フラムプロプ−Ｍ−プロピル（flamprop-M-propyl）、アリドクロル、ペトキサミド（pethoxamid）、クロラノクリル（chloranocryl）、シプラジン（cyprazine）、メフルイジド、モナリド（monalide）、デラクロール（delachlor）、プリナクロール（prynachlor）、
テルブクロール（terbuchlor）、キシラクロール（xylachlor）、ジメタクロール（dimethachlor）、シサニリド（cisanilide）、トリメキサクロール（trimexachlor）、クロメプロプ（clomeprop）、プロピザミド、ペンタノクロール（pentanochlor）、カルベタミド、ベンゾイルプロプ-エチル、シプラゾール、ブテナクロール（butenachlor）、テブタム（tebutam）、ベンジプラム（benzipram）、１３７９、ジクロフルアニド、ナプロアニリド、ジエタチル-エチル（diethatyl-ethyl）、ナプタラム、フルフェナセト（flufenacet）、ベンザドクス、クロールチアミド、クロロフタルイミド、イソカルバミド、ピコリナフェン（picolinafen）、アトラジン、シマジン、プロメトリン、シアナトリン（cyanatryn）、シメトリン、アメトリン、プロパジン、ジプロペトリン、ＳＳＨ−１０８、テルブトリン、ターブチルアジン（terbuthylazine）、トリアジフラム（triaziflam）、シプラジン（cyprazine）、プログリナジン（proglinazine）、トリエタジン（trietazine）、プロメトン、シメトン（simetone）、アジプロトリン（aziprotryne）、デスメトリン、ジメタメトリン、プロシアジン（procyazine）、メソプラジン（mesoprazine）、セブチラジン（sebuthylazine）、セクブメトン、テルブメトン、メトプロトリン（methoprotryne）、シアナトリン（cyanatryn）、イパジン（ipazine）、クロラジン（chlorazine）、アトラトン（atraton）、ペンディメタリン、エグリナジン（eglinazine）、シアヌル酸、インダジフラム（indaziflam）、クロルスルフロン、メトスルフロン−メチル、ベンスルフロンメチル（bensulfuron methyl）、クロリムロン−エチル、トリベヌロン−メチル、チフェンスルフロン-メチル（thifensulfuron-methyl）、ピラゾスルフロン-エチル（pyrazosulfuron-ethyl）、メソスルフロン（mesosulfuron）、ヨードスルフロン-メチル・ナトリウム（iodosulfuron-methyl sodium）、フォラムスルフロン（foramsulfuron）、シノスルフロン（cinosulfuron）、トリアスルフロン（triasulfuron）、スルホメツロン・メチル（sulfometuron methyl）、ニコスルフロン（nicosulfuron）、エタメトスルフロン-メチル（ethametsulfuron-methyl）、アミドスルフロン（amidosulfuron）、エトキシスルフロン、シクロスルファムロン、リムスルフロン（rimsulfuron）、アジムスルフロン、フラザスルフロン、モノスルフロン（monosulfuron）、モノスルフロン-エステル（monosulfuron-ester）、フルカルバゾン-ナトリウム（flucarbazone-sodium）、フルピルスルフロン-メチル（flupyrsulfuron-methyl）、ハロスルフロン−メチル、オキサスルフロン（oxasulfuron）、イマゾスルフロン、プリミスルフロン（primisulfuron）、
プロポキシカルバゾン（propoxycarbazone）、プロスルフロン（prosulfuron）、スルホスルフロン（sulfosulfuron）、トリフロキシスルフロン（trifloxysulfuron）、トリフルスルフロン−メチル（triflusulfuron-methyl）、トリトスルフロン（tritosulfuron）、メトスルフロンメチル・ナトリウム（sodium metsulfuron methyl）、フルセトスルフロン（flucetosulfuron）、ＨＮＰＣ−Ｃ、オルトスルファムロン（orthosulfamuron）、プロピリスルフロン（propyrisulfuron）、メタゾスルフロン（metazosulfuron）、アシフルオルフェン（acifluorfen）、フォメサフェン（fomesafen）、ラクトフェン（lactofen）、フルオログリコフェン（fluoroglycofen）、オキシフルオルフェン（oxyfluorfen）、クロルニトロフェン、アクロニフェン（aclonifen）、エトキシフェン-エチル（ethoxyfen-ethyl）、ビフェノックス、ニトロフルオルフェン（nitrofluorfen）、クロメトキシフェン（chlomethoxyfen）、フルオロドイフェン、フルオロニトロフェン（fluoronitrofen）、フリルオキシフェン（furyloxyfen）、ニトロフェン、ＴＯＰＥ、ＤＭＮＰ、ＰＰＧ１０１３、ＡＫＨ−７０８８、ハロサフェン（halosafen）、クロルトルロン（chlortoluron）、イソプロツロン（isoproturon）、リニュロン、ジウロン、ダイムロン、フルオメツロン、ベンズチアズロン、メタベンズチアズロン、クミルロン、エチジムロン（ethidimuron）、イソウロン（isouron）、テブチウロン、ブツロン（buturon）、クロルブロムロン、メチルジムロン（methyldymron）、フェノベンズロン（phenobenzuron）、ＳＫ−８５、メトブロムロン、メトクスロン（metoxuron）、アフェシン（afesin）、モヌロン、シズロン、フェヌロン、フルオチウロン（fluothiuron）、ネブロン、クロロクスロン、ノルロン（noruron）、イソノルロン（isonoruron）、３−シクロオクチル−１、
チアズフルロン（thiazfluron）、テブチウロン、ジェノクスロン（difenoxuron）、パラフルロン（parafluron）、メチルアミントリブニル（methylamine tribunil）、カルブチラート、トリメツロン（trimeturon）、ジメフロン（dimefuron）、モノイソウロン（monisouron）、アニスロン（anisuron）、メチウロン（methiuron）、クロルエツロン（chloreturon）、テトラフルロン（tetrafluron）、フェンメジファム、フェンメジファム-エチル、デスメディファム、アスラム、テルブカルブ（terbucarb）、バルバン、プロファム、クロルプロファム、ロウメート（rowmate）、スウェプ（swep）、クロルブファム（chlorbufam）、カルボキサゾール、クロルプロカルブ（chlorprocarb）、フェナスルファム（fenasulam）、ＢＣＰＣ、ＣＰＰＣ、カルバスルファム（carbasulam）、ブチレート、ベンチオカルブ、ベルノレート、モリネート、トリアレート、ジメピペレート（dimepiperate）、エスプロカルブ、ピリブチカルブ、シクロアート、アバデクス（avadex）、ＥＰＴＣ、エチオレート、オルベンカルブ（orbencarb）、ペブレート、プロスルホカルブ（prosulfocarb）、チオカルバジル（tiocarbazil）、ＣＤＥＣ、ジメキサノ（dimexano）、イソポリネート（isopolinate）、メチオベンカルブ（methiobencarb）、２，４−Ｄブチルエステル、ＭＣＰＡ−Ｎａ、２，４−Ｄイソオクチルエステル、ＭＣＰＡイソオクチルエステル、２，４−Ｄナトリウム塩、２，４−Ｄジメチルアミン塩（2,4-D dimethyla mine salt）、ＭＣＰＡ−チオエチル、ＭＣＰＡ、２，４−Ｄプロピオン酸、高２，４−Ｄプロピオン酸塩、２，４−Ｄ酪酸、ＭＣＰＡプロピオン酸、ＭＣＰＡプロピオン酸塩、ＭＣＰＡ酪酸、２，４，５−Ｄ、２，４，５−Ｄプロピオン酸、２，４，５−Ｄ酪酸、
ＭＣＰＡアミン塩、ジカンバ、エルボン、クロルフェナク（chlorfenac）、セゾン（saison）、TBA、クロラムベン、メトキシ−TBA、ジクロフォップ-メチル、フルアジホップ・ブチル、フルアジホップ−p-ブチル、ハロキシホップ−メチル、ハロキシホップ−P、キザロホップ−エチル、キザロホップ-p-エチル（quizalofop-ethyl）、フェノキサプロプ−エチル（fenoxaprop-ethy）、フェノキサプロプ-p−エチル（fenoxaprop-p-ethyl）、
プロパキザホップ（propaquizafop）、シハロホップ−ブチル、メタミホップ（metamifop）、クロジナホップ-プロパルギル（clodinafop-propargyl）、フェンチアプロプ-エチル（fenthiaprop-ethyl）、クロロアジホップ（chloroazifop-propynyl）、ポッペナート-メチル（poppenate-methyl）、トリホプシメ（trifopsime）、イソキサピリホップ（isoxapyrifop）、パラコート、ジクワット、オリザリン（oryzalin）、エタルフルラリン（ethalfluralin）、イソプロパリン（isopropalin）、ニトラリン、プロフルラリン、プロジナミン（prodinamine）、ベンフルラリン（benfluralin）、フルクロラリン（fluchloraline）、ジニトラミナ（dinitramina）、ジプロパリン（dipropalin）、クロルニジン（chlornidine）、メタルプロパリン（methalpropalin）、ジノプロプ（dinoprop）、グリフォサート、アニロホス、グルホシネート・アンモニウム、アミプロホスメチル、スルホセート（sulphosate）、ピペロフォス（piperophos）、ビアラフォス-ナトリウム（bialaphos-sodium）、ベンスリド、ブタミホス、フォカルブ（phocarb）、２，４−ＤＥＰ、Ｈ−９２０１、ジトロン（zytron）、イマザピル（imazapyr）、イマゼタピル（imazethapyr）、イマザキン（imazaquin）、イマザモックス（imazamox）、イマザモックス・アンモニウム塩（imazamox ammonium salt）、イマザピック（imazapic）、イマザメタベンズ-
メチル（imazamethabenz-methyl）、フルオキシピル（fluroxypyr）、フルオキシピル・イソオクチル・エステル（fluroxypyr isooctyl ester）、クロピラリド（clopyralid）、ピクロラム、トリクロピル（trichlopyr）、ジチオピル（dithiopyr）、ハロキシジン（haloxydine）、３，５，６−トリクロロ−２−ピリジノール、チアゾピル（thiazopyr）、フルリドン、アミノピラリド（aminopyralid）、ジフルフェンゾピル（diflufenzopyr）、トリクロピル−ブトチル（triclopyr-butotyl）、クリオジネート（Cliodinate）、
セトキシジム、クレトジム、シクロキシジム、アロキシジム（alloxydim）、クレホキシジム（clefoxydim）、ブトロキシジム（butroxydim）、トラルコキシジム（tralkoxydim）、テプラロキシジム、ブチダゾール（buthidazole）、メトリブジン、ヘキサジノン（hexazinone）、メタミトロン、エチオジン（ethiozin）、アメトリジオン（ametridione）、アミブジン（amibuzin）、ブロモキシニル、オクタン酸ブロモキシニル、オクタン酸イオキシニル、イオキシニル、ジクロベニル、ジフェナトリル、ピラクロニル、クロロキシニル（chloroxynil）、ヨードボニル（iodobonil）、フルメトスルファム（flumetsulam）、フロラスルファム（florasulam）、ペノキススラム、メトスルファム（metosulam）、クロランスルファム-メチル（cloransulam-methyl）、ジクロスルファム（diclosulam）、ピロクススルファム（pyroxsulam）、ベンフレセート、ビスピリバックナトリウム塩、ピリベンゾキシム（pyribenzoxim）、ピリフタリド、ピリミノバック−メチル、ピリチオバック-ナトリウム、ベンゾビシロン（benzobicylon）、メソトリオン（mesotrione）、スルコトリオン（sulcotrione）、テンボトリオン（tembotrione）、テフリルトリオン（tefuryltrione）、ビシクロピロン（bicyclopyrone）、ケトピラドクス（ketodpiradox）、イソキサフルトール（isoxaflutole）、クロマゾン（clomazone）、フェノキサスルホン（fenoxasulfone）、メチオゾリン（methiozolin）、フルアゾレート（fluazolate）、ピラフルフェン−エチル、ピラゾリネート、ジフェンゾコート、ピラゾキシフェン、ベンゾフェナプ（benzofenap）、ニピラクロフェン（nipyraclofen）、ピラスルホトール（pyrasulfotole）、トプラメゾン（topramezone）、ピロキサスルフォン（pyroxasulfone）、カフェンストロール、フルポキサム（flupoxam）、アミノトリアゾール、アミカルバゾン（amicarbazone）、アザフェニジン、カルフェントラゾンエチル、スルフェントラゾン（sulfentrazone）、ベンカルバゾン（bencarbazone）、ベンズフェンジソン（benzfendizone）、ブタフェナシル、ブロマシル、イソシル、レナシル、ターバシル、フルプロパシル（flupropacil）、シニドンエチル、フルミクロラク-ペンチル（flumiclorac-pentyl）、フルミオキサジン、プロピザミド、ＭＫ−１２９、フルメジン（flumezin）、ペンタクロロフェノール、ジノセブ、ジノテルブ（dinoterb）、酢酸ジノテルブ（dinoterb acetate）、ジノサム（dinosam）、DNOC、クロロニトロフェン（chloronitrophene）、酢酸メジノテルブ、ジノフェナート（dinofenate）、オキサジアルギル、オキサジアゾン、ペントキサゾン、フルフェナセト（Flufenacet）、フルチアセットメチル、フェントラザミド、フルフェンピル-エチル（flufenpyr-ethyl）、ピラゾン、ブロムピラゾン（brompyrazon）、メトフルラゾン（metflurazon）、クサキラ（kusakira）、ジミダゾン（dimidazon）、オキサピラゾン、ノルフルラゾン、ピリダホル（pyridafol）、キンクロラック、キンメラック（quinmerac）、ベンタゾン、ピリデート、オキサジクロメホン、ベナゾリン（benazolin）、クロマゾン（clomazone）、シンメチリン、ＺＪ０７０２、ピリバムベンズ−プロピル、インダノファン、塩素酸ナトリウム、ダラポン、トリクロロ酢酸、モノクロロ酢酸、ヘキサクロロアセトン、フルプロパネート、シペルクアット（cyperquat）、
ブロモフェノキシム、エプロナズ、メタゾール、フルルタモン（flurtamone）、ベンフレセート、エソフメセート（ethofumesate）、チオクロリム（tioclorim）、クロルタール（chlorthal）、フルオロクロリドン、タブロン（tavron）、アクロレイン、ベントラニル、トリジファン（tridiphane）、クロルフェンプロプメチル、チジアリゾナイミン（thidiarizonaimin）、フェニソファム（phenisopham）、ブソキシノン（busoxinone）、メトキシフェノン、サフルフェナシル（saflufenacil）、クラシホス（clacyfos）、クロロポン（chloropon）、アロラック（alorac）、ジエタムクアット（diethamquat）、エトニプロミド（etnipromid）、イプリミダム（iprymidam）、イプフェンカルバゾン（ipfencarbazone）、チエンカルバゾン-メチル（thiencarbazone-methyl）、ピリスルファン（pyrimisulfan）、クロルフルラゾール（chlorflurazole）、トリプロピンダン（tripropindan）、スルグリカピン（sulglycapin）、プロスルファリン（prosulfalin）、カムベンジクロール（cambendichlor）、アミノシクロピラクロール（aminocyclopyrachlor）、ロデタニル（rodethanil）、ベノキサコル（benoxacor）、フェンクロリム（fenclorim）、フルラゾール（flurazole）、フェンクロラゾール-エチル（fenchlorazole-ethyl）、クロキントセト−メキシル（cloquintocet-mexyl）、オキサベトリニル（oxabetrinil）、ＭＧ／９１、シオメトリニル（cyometrinil）、ＤＫＡ−２４、メフェンピル−ジエチル、フリラゾール（furilazole）、フキソフェニム（fluxofenim）、イソキサジフェン-エチル（isoxadifen-ethyl）、ジクロルミド（dichlormid）、ハラウキシフェン-メチル（halauxifen-methyl）、ＤＯＷ８４８、ＵＢＨ−５０９、Ｄ４８９、ＬＳ ８２−５５６、ＫＰＰ−３００、ＮＣ−３２４、ＮＣ−３３０、ＫＨ−２１８、ＤＰＸ−Ｎ８１８９、ＳＣ−０７４４、ＤＯＷＣＯ５３５、ＤＫ−８９１０、Ｖ−５３４８２、ＰＰ−６００、ＭＢＨ−００１、ＫＩＨ−９２０１、ＥＴ−７５１、ＫＩＨ−６１２７およびＫＩＨ−２０２３。

市販の形態で存在する、使用する製剤は、適切な場合、例えば、水和剤、乳剤、分散物および水分散性顆粒剤の場合での水の使用など、慣習的な方法で希釈する。粉末、土壌適用用または散布用の顆粒剤および噴霧可能な溶液の形態での生成物は、通常、使用に先立って他の不活性物質でさらに希釈しない。要求される式（Ｉ）の化合物の適用率は、温度、湿度、使用する除草剤の性質などの外部条件に応じて変化する。それは、広い範囲に及んでもよく、例えば、０．００１〜１．０ｋｇ／ｈａの間、好ましくは０．００５〜７５０ｇ／ｈａの間、特に好ましくは０．００５〜２５０ｇ／ｈａの間の反応性物質であってよい。

化合物の経済性、種類および生物活性を考慮して、我々は好ましくはいくつかの化合物を合成し、その一部を選択し、以下の表に列挙した。特定の化合物の構造および対応する情報を表1に示す。表1中の化合物は、本発明の更なる説明を目的として列挙されるものであり、本発明について何ら限定されるものではない。当業者においては本発明の主題が次の化合物により限定されると解釈されるべきものでない。本発明と関係する物理的性質データはキャリブレーションされていない。

本発明を実施するための特定の形態
上記の本発明の内容は、以下の実施態様でさらに説明され、当業者においては、実施例によって制限されていると解釈するべきではなく；本発明の内容に基づいて達成された任意の技術も、本発明の範囲内に含まれるものとする。実施態様の技術的パラメーターおよび生産収量は最適化することなく示される。

実施例１
表１の化合物０１を調製する方法は実施態様で詳説されている。

工程１：中間体（ａ１）の合成

アセトニトリル５０ｍｌを、２５０ｍｌの三口フラスコに添加した。フラスコを氷水浴に置き、温度を５〜１０℃で管理した。ＮａＨを３．０ｇ（０．０７５ｍｏｌ）計量し、三口フラスコにゆっくりと添加した。温度を１０℃未満で管理した。その後、４−メチルピラゾール３ｇ（０．０３６ｍｏｌ）を小量のアセトニトリル中に溶解させ、溶液を、滴下漏斗に入れ、０℃で反応システム中に滴状添加した。添加後、混合物を氷水浴条件下で撹拌した。システムの温度が安定した際に、２−クロロ−３−ブロモメチル−４−メチルスルホニル安息香酸を１０ｇ（０．０３３ｍｏｌ）計量し、１０℃以下に管理された温度で、バッチでシステムにゆっくりと添加した。システムを氷水浴中で撹拌した。原料が完全に消費されるまで、反応をＨＰＬＣで追跡した。回転式蒸発によってアセトニトリルを除去した。残渣に水２００ｍｌを添加した。ＨＣｌを滴状添加し、得られた混合物を室温で撹拌し、固形粒子を沈殿させた。固形粒子をを吸引濾過で回収してオフホワイト色固体、即ち、中間体（ａ）をを得た。中間体をさらなる使用のために乾燥炉で乾燥させた。

工程２：中間体（ｂ）の合成

中間体（ａ）を１０ｇ（０．０３０ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌのフラスコに添加し、次に５０ｍｌのジクロロエタンおよび触媒として少量のＤＭＦを添加した。その後、塩化オキサリル５ｇ（０．０３９ｍｏｌ）を小量のジクロロエタン中に溶解させた。溶液を、滴下漏斗に入れ、室温で反応システム中に投入した。投入後、システムを室温で約２時間撹拌し続け、中間体（ｂ）を含有する反応溶液を得た。反応溶液は、一切の処理なく、次の反応に使用した。

工程３：化合物０１の合成

１，３−ジメチル−５−ピラゾル−オールを４．０ｇ（０．０３６ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌの三口フラスコに添加した。１，２−ジクロロエタン５０ｍｌを加えて溶解させた。トリエチルアミンを１２ｇ（０．１２ｍｏｌ）計量し、システムに添加した。中間体（ｂ）（０．０３０ｍｏｌ）を含有する反応溶液を、氷水浴およびアルゴン保護の条件下でシステム中に投入した。１時間後、反応をＨＰＬＣで追跡した。原料が完全に消費された後、中間体（ｃ）を含有する反応溶液を得た。トリエチルアミン３．０ｇ（０．０３０ｍｏｌ）およびアセトンシアノヒドリン０．５ｍｌを、アルゴン保護下で５０〜６０℃の管理した温度にて中間体（ｃ）を含有する反応溶液に添加し、２時間反応を行った。ＨＰＬＣを使用して反応を追跡した。反応が完了した際に水１００ｍｌを添加し、次に、ｐＨが約３に調節されるまで、室温で撹拌しながらＨＣｌでゆっくりと投入した。水層を抽出によって除去した。有機層を、２００ｍｌの水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって有機溶媒を除去して淡褐色粉末固体、即ち化合物０１を８．１ｇ得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は９３．９％であり、収率は６７．８％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例２〜４では、それぞれ化合物０２〜化合物０４の合成を開示しているが、その合成方法は実施例１と類似していたため、ここではそれらの説明を記載しない。

実施例５
本実施例では表１の化合物０５の合成を開示する。

工程１：中間体（ｄ）の合成

アセトニトリルを５０ｍｌ計量し、２５０ｍｌの三口フラスコに添加し、温度を５〜１０℃で管理してフラスコを氷水浴に入れた。ＮａＨを４．４ｇ（０．１１ｍｏｌ）計量し、１０℃以下に管理された温度でフラスコにゆっくり添加した。４−クロロピラゾールを４．６ｇ（０．０４５ｍｏｌ）計量し、小量のアセトニトリルで溶解させ、溶液を滴下漏斗に入れ、システムが約０℃に低下した際に、滴状添加した。添加後、得られた反応溶液を氷水浴中で撹拌し続けた。システムの温度が安定した後に、２−クロロ−３−ブロモメチル−４−メチルスルホニル安息香酸を１０ｇ（０．０３３ｍｏｌ）計量し、１０℃以下に管理された温度にてバッチでシステムに添加し、氷水浴中で撹拌し続けた。原料が完全に消費されるまで、反応をＨＰＬＣで追跡した。アセトニトリルを回転式蒸発によって除去した。残渣に水２００ｍｌを添加し、次にＨＣｌをゆっくりと滴状添加し、室温で撹拌して固形粒子を沈殿させた。固形粒子を吸引濾過によって回収してオフホワイト固体、即ち中間体（ｄ）を得た。中間体をさらなる使用のために乾燥炉内で乾燥させた。

工程２：中間体（ｅ）の合成

中間体（ｄ）を１０.５ｇ（０．０３０ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌのフラスコに添加し、ジクロロエタン５０ｍｌおよび触媒として小量のＤＭＦを添加した。次いで、塩化オキサリルを５ｇ（０．０３９ｍｏｌ）計量し、小量のジクロロエタン中に溶解させた。溶液を滴下漏斗に入れ、室温でシステムに投入した。添加後、システムを室温で約２時間撹拌し続け、中間体（ｅ）を含有する反応溶液を得た。反応溶液は、一切の処理なく次の反応に直接使用した。

工程３：化合物０５の合成

１−メチル−３−エチル−５−ピラゾル−オールを４．５ｇ（０．０３６ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌの三口フラスコに添加し、１，２−ジクロロエタン５０ｍｌを添加し、溶解させた。トリエチルアミンを１２ｇ（０．１２ｍｏｌ）計量し、システムに入れた。アルゴン保護での氷水浴中システムに中間体（ｅ）を含有している反応溶液（０．０３０ｍｏｌ）を投入した。１時間後、反応をＨＰＬＣで追跡し、原料が完全に消費された後に、中間体（ｆ）を含有している反応溶液が得られた。トリエチルアミン３．０ｇ（０．０３０ｍｏｌ）およびアセトンシアノヒドリン０．５ｍｌを、アルゴン保護で４０〜５０℃に管理された温度にて中間体（ｆ）を含有している反応溶液に添加し、２時間反応を行った。反応をＨＰＬＣで追跡した。反応が完了した際に、水１００ｍｌを添加し、続けてｐＨが約３に調節されるまでＨＣｌを室温で撹拌しながらゆっくり滴状添加した。水層を抽出によって除去し、有機層を２００ｍｌの水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって有機溶媒を除去して暗褐色粉末固体、即ち化合物０５を６．７ｇ得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は８６．８％であり、収率は４２．４％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例６では、化合物６の合成を開示しているが、その合成方法は実施例５と類似していたため、ここではそれらの説明を記載しない。

実施例７
本実施例では表１の化合物０７の合成を開示する。

工程１：中間体（ａ）の合成
実施例１を参照のこと。

工程２：中間体（ｂ）の合成
実施例１を参照のこと。

工程３：化合物０７の合成

１−メチル−５−ピラゾル−オールを３．２ｇ（０．０３３ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌの三口フラスコに添加し、１，２−ジクロロエタン５０ｍｌを添加し、溶解させた。トリエチルアミン１０ｇ（０．１０ｍｏｌ）を計量し、システムに添加した。中間体（ｂ）を含有している反応溶液（０．０３０ｍｏｌ）を、氷水浴およびアルゴン保護の条件下で投入した。１時間反応を行った後に反応をＨＰＬＣで追跡し、原料が完全に消費された後に、中間体（ｇ）を含有している反応溶液が得られた。トリエチルアミン３．０ｇ（０．０３０ｍｏｌ）およびアセトンシアノヒドリン０．５ｍｌを、アルゴン保護下で５０〜６０℃に管理された温度にて中間体（ｇ）を含有している反応溶液に添加した。２時間後、反応をＨＰＬＣで追跡した。反応が完了した際に、水１００ｍｌを添加し、次いでｐＨが約３に調節されるまで、室温で撹拌しながらＨＣｌをゆっくりと滴状添加した。水層を抽出によって除去した。有機層を２００ｍｌの水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって濃縮して８．３ｇの淡褐色粉末固体、即ち化合物０７を得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は９６．５％であり、収率は７２．４％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例８〜１０では、表１中の化合物０８〜化合物１０の合成をそれぞれ開示しているが、その合成方法は実施例７と類似していたため、ここではそれらの説明を記載しない。

実施例１１
本実施例では表１の化合物１１の合成を開示する。

工程１：中間体（ｄ）の合成
実施例５を参照のこと。

工程２：中間体（ｅ）の合成
実施例５を参照のこと。

工程３：化合物１１の合成

１−メチル−３−シクロプロピル−５−ピラゾル−オールを４．６ｇ（０．０３３ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌの三口フラスコに添加し、１，２−ジクロロエタン５０ｍｌを添加し、溶解させた。トリエチルアミン１０ｇ（０．１０ｍｏｌ）をシステムに添加した。中間体（ｅ）を含有している反応溶液（０．０３０ｍｏｌ）を、氷水浴およびアルゴン保護の条件下でシステムに投入した。１時間反応を行った後に反応をＨＰＬＣで追跡した。原料が完全に消費された際に、中間体（ｈ）を含有している反応溶液が得られた。トリエチルアミン３．０ｇ（０．０３０ｍｏｌ）およびアセトンシアノヒドリン０．５ｍｌを、アルゴン保護下で４０〜５０℃に管理された温度にて中間体（ｈ）を含有している反応溶液に添加した。２時間後、反応をＨＰＬＣで追跡した。反応が完了した際に、水１００ｍｌを添加し、次いでｐＨが約３に調節されるまで、室温で撹拌しながらＨＣｌをゆっくりと一滴ずつ添加した。水層を抽出によって除去した。有機層を２００ｍｌの水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって濃縮して６．６ｇの暗褐色粉末固体、即ち化合物１１を得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は８３．１％であり、収率は５６．５％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例１２〜１４では、表１中の化合物１２〜化合物１４の合成をそれぞれ開示しているが、その合成方法は実施例１１と類似していたため、ここではそれらの説明を記載しない。

実施例１５
本実施例では表１の化合物１５の合成を開示する。

工程１：中間体（ｉ）の合成

アセトニトリルを５０ｍｌ計量し、２５０ｍｌの三口フラスコに添加した。フラスコを氷水浴に入れて温度を５〜１０℃に管理した。ＮａＨ３．０ｇ（０．７５ｍｏｌ）を、１０℃に管理された温度でフラスコにゆっくり添加した。次いで、ピラゾール２．４ｇ（０．０３６ｍｏｌ）を小量のアセトニトリル中に溶解させ、得られた溶液を滴下漏斗に入れ、システムが約０℃に低下した際に、一滴ずつ添加した。投入後、システムを氷水浴条件下で撹拌し続けた。システムの温度が安定した際に、２−クロロ−３−ブロモメチル−４−メチルスルホニル安息香酸を１０ｇ（０．０３３ｍｏｌ）計量し、１０℃以下に管理された温度にてバッチでシステムに添加し、氷水浴中で撹拌し続けた。原料が完全に消費されるまで、反応をＨＰＬＣで追跡した。アセトニトリルを回転式蒸発によって除去し、続けて水２００ｍｌを添加した。ＨＣｌをゆっくりと一滴ずつ添加し、室温で撹拌して固形粒子を沈殿させた。固形粒子を吸引濾過によって回収してオフホワイト固体、即ち中間体（ｉ）を得た。中間体をさらなる使用のために乾燥炉内で乾燥させた。

工程２：中間体（ｊ）の合成

中間体（ｉ）を１０ｇ（０．０３０ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌのフラスコに添加し、ジクロロエタン５０ｍｌを添加した。触媒として小量のＤＭＦを投入した。次いで、塩化オキサリルを５ｇ（０．０３９ｍｏｌ）計量し、小量のジクロロエタン中に溶解させ、得られた溶液を滴下漏斗に入れ、室温でシステムに投入した。投入後、システムを室温で約２時間撹拌し続け、中間体（ｊ）を含有する反応溶液を得た。反応溶液は、一切の処理なく次の反応に直接使用した。

工程３：化合物１５の合成

１−メチル−３−シクロプロピル−５−ピラゾル−オールを１．９ｇ（０．０１５ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌの三口フラスコに添加し、１，２−ジクロロエタン５０ｍｌを添加し、溶解させた。トリエチルアミン４．０ｇ（０．４０ｍｏｌ）をシステムに添加した。中間体（ｊ）を含有している１，２−ジクロロエタン溶液（（ｊ）を０．０１０ｍｏｌ含有）を、氷水浴およびアルゴン保護の条件下でシステムに投入した。１時間反応を行った後に反応をＨＰＬＣで追跡した。原料が完全に消費された後に、中間体（ｋ）を含有している反応溶液が得られた。トリエチルアミン１．０ｇ（０．０１０ｍｏｌ）およびアセトンシアノヒドリン数滴を、アルゴン保護下で５０〜６０℃に管理された温度にて中間体（ｋ）を含有している反応溶液に添加し、反応を２時間行った。反応をＨＰＬＣで追跡した。反応が完了した際に、水１００ｍｌを添加し、ｐＨが約３に調節されるまで、室温で撹拌しながらＨＣｌをゆっくりと一滴ずつ添加した。水層を抽出によって除去した。有機層を２００ｍｌの水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって濃縮して３．６ｇの淡褐色粉末固体、即ち化合物１５を得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は９５．６％であり、収率は８１．５％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例１６〜１７では、表１中の化合物１６〜化合物１７の合成をそれぞれ開示しているが、その合成方法は実施例１５と類似していたため、ここではそれらの説明を記載しない。

実施例１８
本実施例では表１の化合物１８の合成を開示する。

工程１：中間体（ｉ）の合成
実施例１５を参照のこと。

工程２：中間体（ｊ）の合成
実施例１５を参照のこと。

工程３：化合物１８の合成

１−エチル−５−ピラゾル−オールを１．７ｇ（０．０１５ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌの三口フラスコに添加し、１，２−ジクロロエタン５０ｍｌを添加し、溶解させた。トリエチルアミンを４．０ｇ（０．０４０ｍｏｌ）計量し、システムに添加した。中間体（ｊ）を含有している１，２−ジクロロエタン溶液（（ｊ）を０．０１０ｍｏｌ含有）を、氷水浴およびアルゴン保護の条件下でシステムに投入した。１時間反応を行った後に反応をＨＰＬＣで追跡した。原料が完全に消費された際に、中間体（ｌ）を含有している反応溶液が得られた。トリエチルアミン１．０ｇ（０．０１０ｍｏｌ）およびアセトンシアノヒドリン数滴を、アルゴン保護下で５０〜６０℃に管理された温度にて中間体（ｌ）を含有している反応溶液に添加し、反応を２時間行った。反応をＨＰＬＣで追跡した。反応が完了した際に、水１００ｍｌを添加し、次いでｐＨが約３に調節されるまで、室温で撹拌しながらＨＣｌをゆっくりと一滴ずつ添加した。水層を抽出によって除去した。有機層を２００ｍｌの水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって濃縮して３．５ｇの淡褐色粉末固体、即ち化合物１８を得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は９４．９％であり、収率は８１．３％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例１９〜２０では、表１中の化合物１９〜化合物２０の合成をそれぞれ開示しているが、その合成方法は実施例１８と類似していたため、ここではそれらの説明を記載しない。

実施例２１
本実施例では表１の化合物２１の合成を開示する。

工程１：中間体（ｉ）の合成
実施例１５を参照のこと。

工程２：中間体（ｊ）の合成
実施例１５を参照のこと。

工程３：化合物２１の合成

１−メチル−３−シクロプロピル−５−ピラゾル−オールを１．８ｇ（０．０１２ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌの三口フラスコに添加し、１，２−ジクロロエタン５０ｍｌを添加し、溶解させた。トリエチルアミン３．０ｇ（０．０４０ｍｏｌ）を、システムに添加した。中間体（ｊ）を含有している１，２−ジクロロエタン溶液（（ｊ）を０．０１０ｍｏｌ含有）を、氷水浴およびアルゴン保護の条件下でシステムに投入した。１時間反応を行った後に反応をＨＰＬＣで追跡した。原料が完全に消費された際に、中間体（ｍ）を含有している反応溶液が得られた。トリエチルアミン１．０ｇ（０．０１０ｍｏｌ）およびアセトンシアノヒドリン数滴を、アルゴン保護下で５０〜６０℃に管理された温度にて中間体（ｍ）を含有している反応溶液に添加し、反応を２時間行った。反応をＨＰＬＣで追跡した。反応が完了した際に、水１００ｍｌを添加し、ｐＨが約３に調節されるまで、室温で撹拌しながらＨＣｌをゆっくりと一滴ずつ添加した。水層を抽出によって除去した。有機層を２００ｍｌの水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって濃縮して３．９ｇの淡褐色粉末固体、即ち化合物２１を得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は９３．６％であり、収率は８１．４％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例２２〜２３では、表１中の化合物２２〜化合物２３の合成をそれぞれ開示しているが、その合成方法は実施例２１と類似していたため、ここではそれらの説明を記載しない。

実施例２４
本実施例では表１の化合物２４の特定の合成方法を開示する。

工程１：中間体（ｉ）の合成
実施例１５を参照のこと。

工程２：中間体（ｊ）の合成
実施例１５を参照のこと。

工程３：化合物２４の合成

１，３−ジエチル−５−ピラゾル−オールを１．７ｇ（０．０１２ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌの三口フラスコに添加し、１，２−ジクロロエタンの５０ｍｌを添加し、溶解させた。トリエチルアミンを３．０ｇ（０．０３０ｍｏｌ）計量し、システムに添加した。中間体（ｊ）を含有している１，２−ジクロロエタン溶液（（ｊ）を０．０１０ｍｏｌ含有）を、氷水浴およびアルゴン保護の条件下でシステムに投入した。１時間反応を行った後に反応をＨＰＬＣで追跡した。原料が完全に消費された際に、中間体（ｎ）を含有している反応溶液が得られた。トリエチルアミン１．０ｇ（０．０１０ｍｏｌ）およびアセトンシアノヒドリン数滴を、アルゴン保護下で５０〜６０℃に管理された温度にて中間体（ｎ）を含有している反応溶液に添加し、反応を２時間行った。反応をＨＰＬＣで追跡した。反応が完了した際に、水１００ｍｌを添加し、続けてｐＨが約３になるまで、室温で撹拌しながらＨＣｌをゆっくりと一滴ずつ添加した。水層を抽出によって除去した。有機層を２００ｍｌの水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって濃縮して３．９ｇの淡褐色粉末固体、即ち化合物２４を得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は９２．１％であり、収率は８２．３％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例２５〜２６では、表１中の化合物２５〜化合物２６の合成をそれぞれ開示しているが、その合成方法は実施例２４と類似していたため、ここではそれらの説明を記載しない。

実施例２７
本実施例では表１の化合物２４の合成を開示する。

工程１：中間体（ｉ）の合成
実施例１５を参照のこと。

工程２：中間体（ｊ）の合成
実施例１５を参照のこと。

工程３：化合物２７の合成
本実施例では表１の化合物２７の合成を開示する。化合物２７は次の経路を介して合成することができる。

１−イソプロピル−３−シクロプロピル−５−ピラゾル−オールを２．０ｇ（０．０１２ｍｏｌ）計量し、２５０ｍｌの三口フラスコに添加し、１，２−ジクロロエタン５０ｍｌを添加し、溶解させた。トリエチルアミンを３．０ｇ（０．０３０ｍｏｌ）計量し、システムに添加した。中間体（ｊ）を含有している１，２−ジクロロエタン溶液（（ｊ）を０．０１０ｍｏｌ含有）を、氷水浴およびアルゴン保護の条件下でシステムに投入した。１時間反応を行った後に反応をＨＰＬＣで追跡した。原料が完全に消費された際に、中間体（ｏ）を含有している反応溶液が得られた。トリエチルアミン１．０ｇ（０．０１０ｍｏｌ）およびアセトンシアノヒドリン数滴を、アルゴン保護下で５０〜６０℃に管理された温度にて中間体（ｏ）を含有している反応溶液に添加し、反応を２時間行った。反応をＨＰＬＣで追跡した。反応が完了した際に、水１００ｍｌを添加し、続けてｐＨが約３に調節されるまで、室温で撹拌しながらＨＣｌをゆっくりと一滴ずつ添加した。水層を抽出によって除去した。有機層を２００ｍｌの水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって濃縮して４．０ｇの淡褐色粉末固体、即ち化合物２７を得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は９１．８％であり、収率は７９．３％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例２８〜３０では、表１中の化合物２８〜化合物３０の合成をそれぞれ開示しているが、その合成方法は実施例２７と類似していたため、ここではそれらの説明を記載しない。

実施例３１
本実施例では表１の化合物３１を開示する。化合物３１は次の経路を介して合成することができる。

化合物０１を２．２ｇ（０．００５ｍｏｌ）計量し、１００ｍｌのフラスコに添加し、アセトニトリル１５ｍｌおよびトリエチルアミン１．０ｇ（０．０１０ｍｏｌ）を添加し、氷水浴条件下で撹拌した。クロロギ酸エチル０．９ｇ（０．００７ｍｏｌ）をアセトニトリル１０ｍｌ中に溶解させ、滴下漏斗に入れ、氷水浴条件下で投入した。投入後、混合物を氷水浴中で恒温条件下にて反応させた。化合物０１が完全に消費されるまで、反応をＨＰＬＣで追跡した。反応が完了した際に、水１００ｍｌおよび酢酸エチル１００ｍｌを添加した。水層を抽出によって除去した。有機層を１００ｍｌの飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって濃縮して淡褐色固体を得た。９５％エチルアルコール中での再結晶化を行った後に淡黄色粉末、即ち化合物３１を１．４ｇ得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は９２．９％であり、収率は６１．８％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例３２
本実施例では表１の化合物３２の合成を開示する。化合物３２は次の経路を介して合成することができる。

化合物０１を２．２ｇ（０．００５ｍｏｌ）計量し、１００ｍｌのフラスコに添加し、アセトニトリル１５ｍｌおよび炭酸カリウム１．４ｇ（０．０１０ｍｏｌ）を添加し、氷水浴条件下で撹拌した。塩化エタンスルホニル０．８ｇ（０．００６ｍｏｌ）をアセトニトリル１０ｍｌ中に溶解させ、滴下漏斗に入れ、氷水浴条件下で投入した。投入後、混合物を氷水浴中で恒温条件下にて反応させた。化合物０１が完全に消費されるまで、反応をＨＰＬＣで追跡した。反応が完了した際に、水１００ｍｌおよび酢酸エチル１００ｍｌを添加した。水層を抽出によって除去した。有機層を１００ｍｌの飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって濃縮して淡黄色固体を得た。９５％エチルアルコール中での再結晶化を行った後に淡黄色粉末、即ち化合物３２を１．６ｇ得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は９５．１％であり、収率は６５．３％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例３３
本実施例では表１の化合物３３の合成を開示する。化合物３３は次の経路を介して合成した。

化合物０４を２．２０ｇ（０．００５ｍｏｌ）計量し、１００ｍｌのフラスコに添加し、アセトニトリル２０ｍｌおよび炭酸カリウム１．４０ｇ（０．０１０ｍｏｌ）を添加し、氷水浴条件下で撹拌した。塩化トルエンスルホニル０．９５ｇ（０．００５ｍｏｌ）をアセトニトリル１０ｍｌ中に溶解させ、滴下漏斗に入れ、氷水浴条件下で投入した。投入後、混合物を氷水浴中で恒温条件下にて反応させた。化合物０４が完全に消費されるまで、反応をＨＰＬＣで追跡した。反応が完了した際に、水１００ｍｌおよび酢酸エチル１００ｍｌを添加した。水層を抽出によって除去した。有機層を１００ｍｌの飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発によって濃縮して褐色固体を得た。９５％エチルアルコール中での再結晶化を行った後に淡褐色粉末、即ち化合物２９を１．５ｇ得た。ＨＰＬＣによって決定された含有量は９５．５％であり、収率は４８．５％であった。

^１Ｈ ＮＭＲデータ：表１を参照のこと。

実施例３４〜４０では、表１中の化合物３４〜化合物４０の合成をそれぞれ開示しているが、その合成方法は実施例３３と類似していたため、ここではそれらの説明を記載しない。

生物活性評価：
有害な植物損傷の活性レベル基準（即ち、成長抑制率）は、以下のとおりである：
レベル１０：完全に枯死；
レベル９：成長抑制率９０％超；
レベル８：成長抑制率８０％超；
レベル７：成長抑制率７０％超；
レベル６：成長抑制率６０％超；
レベル５：成長抑制率５０％超；
レベル４：成長抑制率３０％超；
レベル３：成長抑制率２０％超；
レベル２：成長抑制率１０％超；
レベル１：成長抑制率１〜１０％超；
レベル０：効果なし
上記の成長制御率は生体重制御率である。

単子葉および双子葉の雑草種子ならびに主要作物種子（即ち、小麦、トウモロコシ、コメ、大豆、綿、油料種子、キビおよびモロコシ属）を土壌と一緒にプラスチックポットに入れた。その後、土で０．５〜２ｃｍ覆い、良好な温室環境中で種子を成長させた。試験植物を播種から２〜３週間後に２〜３葉期で処理した。本発明の試験化合物をそれぞれアセトンで溶解させ、次に８０ ｔｗｅｅｎを添加し、一定量の水で一定の濃度まで希釈した。溶液を噴霧器で植物に噴霧した。その後、植物を温室内で３週間培養した。３週後の雑草防除効果の実験結果を表２に列挙する。

表２は、出芽後に適用された本発明の化合物の多くは、コメに安全であり、イヌビエに良好な効果を有することを示している。同時に、ほとんどの化合物はトウモロコシおよび小麦にも安全であり、雑草および広葉雑草を防除するためにトウモロコシおよび小麦に使用することができる。

稲田での移植したコメの安全性評価および雑草防除効果評価：
稲田土を１／１，０００，０００ｈａポットに入れた。ヒエ属（ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ）、イヌホタルイ属（ｓｃｉｒｐｕｓ ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、タウコギ（ｂｉｄｅｎｓ ｔｒｉｐａｒｔｉｔｅ）、オモダカ（ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｔｒｉｆｏｌｉａ）の種子を播種し、優しく土で覆い、次に、温室内で０．５〜１ｃｍの貯水状態下で放置した。オモダカ（ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｔｒｉｆｏｌｉａ）の塊茎を翌日または２日後に植えた。その後、それを３〜４ｃｍの貯水で維持した。ヒエ属（ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ）、イヌホタルイ属（ｓｃｉｒｐｕｓ ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）およびタウコギ（ｂｉｄｅｎｓ ｔｒｉｐａｒｔｉｔｅ）が０．５葉期に達し、かつオモダカ（ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｔｒｉｆｏｌｉａ）が初生葉期の時点に達した際に、本発明の化合物の共通の調製方法によって調製したＷＰまたはＳＣ水希釈剤を、特定の有効量を達成するためにピペットで均一に滴下することによって雑草を処理した。

さらに、１／１，０００，０００ｈａポットに入れた稲田土は貯水を深さ３〜４ｃｍに維持するために水平にした。翌日、３葉期コメ（ジャポニカ米）を移植深さ３ｃｍで移植した。本発明の化合物を移植から５日間後に同一の方法で処理した。

本発明の化合物の処理から１４日後の、ヒエ属（ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ）、イヌホタルイ属（ｓｃｉｒｐｕｓ ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、タウコギ（ｂｉｄｅｎｓ ｔｒｉｐａｒｔｉｔｅ）およびオモダカ（ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｔｒｉｆｏｌｉａ）の産出条件および 本発明の化合物の処理から２１日後のコメの産出条件をそれぞれ肉眼で評価した。雑草防除効果を１〜１０の活性標準レベルで評価し、表３に示す。

注：イヌビエ、トウシンソウなどのホタルイ属、クワイおよびセンダングサ属の種子を、中国黒竜江省から回収した。試験では、雑草がピラゾスルフロン−エチルの一般的適用率では耐性を有することが示されている。

同時に、幾つかの試験度に、本発明の化合物が、シバ属（ｚｏｙｓｉａ ｊａｐｏｎｉｃａ）、ギョウギシバ（ｂｅｒｍｕｄａ ｇｒａｓｓ）、ヒロハノウシノケグサ（ｔａｌｌ ｆｅｓｃｕｅ）、チゴツナギ（ｂｌｕｅｇｒａｓｓ）、ライグラス（ｒｙｅｇｒａｓｓ）およびシーショアスズメノヒエ属（ｓｅａｓｈｏｒｅ ｐａｓｐａｌｕｍ ）等の多数のイネ科草（ｇｒａｍｉｎｅａｅ ｇｒａｓｓ）に良好な選択性を有し、多数の重要なイネ科雑草および広葉雑草を防除することができることが見出された。また、化合物は、異なる除草剤適用方法での、大豆、綿、油ヒマワリ、ジャガイモ、果樹類および野菜類の試験で優れた選択性および商品価値を示す。

Claims (17)

1. 下記式（Ｉ）のピラゾール化合物またはその塩：
   

   

   ［式中、
   Ｒは、
   

   

   ［式中、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロゲン化アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシルまたはハロゲンを表し、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、同一であっても異なっていてもよい］を表し、
   Ｒ_１は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルを表し；
   Ｒ_２は、水素またはＣ１〜Ｃ４アルキルを表し；
   Ｒ_３は、水素またはＣ１〜Ｃ６アルキル、置換されていてもよいフェニル、置換されていてもよいピリジル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニルメチル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシルカルボニルメチル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロゲン化アルキルスルホニル、フェニルスルホニルまたはアルキル、アルコキシルもしくはハロゲンで置換されたフェニルスルホニル、ベンゾイルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたベンゾイル、フェノキシルカルボニルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたフェノキシルカルボニル、ベンゾイルメチルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたベンゾイルメチル、フェノキシルカルボニルメチルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたフェノキシルカルボニルメチルを表す]。
2. Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’が、水素、メチル、メトキシル、フルオロメチルまたは塩素を表し、ここでＲ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、同一であっても異なっていてもよく；
   Ｒ_１が、メチル、エチルまたはイソプロピルを表し；
   Ｒ_２が、水素、メチル、エチルまたはシクロプロピルを表し；
   Ｒ_３が、水素またはＣ１〜Ｃ６アルキル、置換されていてもよいフェニル、置換されていてもよいピリジル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニルメチル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシルカルボニルメチル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４ハロゲン化アルキルスルホニル、フェニルスルホニルまたはアルキル、アルコキシルもしくはハロゲンで置換されたフェニルスルホニル、ベンゾイルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたベンゾイル、フェノキシルカルボニルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたフェノキシルカルボニル、ベンゾイルメチルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたベンゾイルメチル、フェノキシルカルボニルメチルまたはハロゲン、ニトロ、アルキルもしくはアルコキシルで置換されたフェノキシルカルボニルメチルを表す、請求項１に記載のピラゾール化合物またはその塩。
3. 下記式（ＩＩＩ）の化合物：
   

   

   ［式中、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロゲン化アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシルまたはハロゲンを表し、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、同一であっても異なっていてもよい］。
4. 下記式（Ｖ）の化合物：
   

   

   ［式中、
   Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロゲン化アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシルまたはハロゲンを表し、Ｒ’、Ｒ’’およびＲ’’’は、同一であっても異なっていてもよく、
   Ｒ_１は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルを表し；
   Ｒ_２は、水素またはＣ１〜Ｃ４アルキルを表す］。
5. ２−クロロ−３−ブロモメチル−４−メチルスルホニル安息香酸：
   

   

   を出発材料として使用する、請求項１または２に記載のピラゾール化合物またはその塩の製造方法。
6. 以下の工程を含んでなる、請求項５に記載の方法：
   （１）前記化合物２−クロロ−３−ブロモメチル−４−メチルスルホニル安息香酸を式（ＩＩ）の化合物と反応させて式（ＩＩＩ）の化合物を製造する工程；
   （２）前記式（ＩＩＩ）の化合物を式（ＩＶ）の化合物と反応させて式（Ｖ）の化合物を得る工程；
   （３）前記式（Ｖ）の化合物を転位反応に供し、Ｒ_３が水素である式（Ｉ）の化合物を得る工程であって、
   該式（ＩＩ）の化合物が以下の通り示され：
   

   

   該式（ＩＩＩ）の化合物が以下の通り示され：
   

   

   該式（ＩＶ）の化合物が以下の通り示され：
   

   

   該式（Ｖ）の化合物が以下の通り示される、方法：
   

   
7. 工程（１）が、溶媒およびアルカリの存在下で、０〜１０℃の反応温度にて、１〜１２時間行われ、該溶媒がアセトニトリルまたはＤＭＦであって、かつ該アルカリが水素化ナトリウムである、請求項６に記載の方法。
8. 工程（２）が、溶媒および脱酸剤の存在下で、０〜１０℃の反応温度にて、１〜６時間行われ、該溶媒が１，２−ジクロロエタンであって、該脱酸剤がトリエチルアミンである、請求項６に記載の方法。
9. 工程（３）が、溶媒および触媒の存在下で、４０〜６０℃の反応温度にて、１〜６時間行われ、該溶媒が１，２−ジクロロエタンであって、該触媒がアセトンシアノヒドリンである、請求項６に記載の方法。
10. 次の工程（４）をさらに含んでなる、請求項６に記載の方法であって、工程（４）がＲ_３を水素とする式（Ｉ）の化合物を式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（Ｉ）の化合物を、Ｒ_３を非水素基とする式（Ｉ）の化合物を得る工程であって、該式（ＶＩ）の化合物は、以下により示されるものである、方法：
    

    

    ［式中、Ｙはハロゲン、好ましくは塩素、臭素またはヨウ素を表す］。
11. 前記工程（４）が、溶媒および脱酸剤の存在下で、０〜２０℃の反応温度にて、０．５〜３時間行われ、該溶媒がアセトニトリルまたはジクロロメタンであって、かつ該脱酸剤がトリエチルアミンまたは炭酸カリウムである、請求項１０に記載の方法。
12. 除草上有効量の、請求項１または２に記載の少なくとも１つのピラゾール化合物またはその塩を含んでなる、除草組成物。
13. さらに調製補助剤を含んでなる、請求項１２に記載の除草組成物。
14. 除草上有効量の、請求項１または２に記載の少なくとも１つのピラゾール化合物もしくはその塩または請求項１２もしくは１３に記載の除草組成物を、植物または植物が存在する領域に適用する工程を含んでなる、有害植物を防除する方法。
15. 有害植物の防除における、請求項１または２に記載の少なくとも１つのピラゾール化合物もしくはその塩または請求項１２もしくは１３に記載の除草組成物の使用。
16. 前記ピラゾール化合物またはその塩が、所望の作物中の有害植物の防除に使用される、請求項１５に記載の使用。
17. 前記所望の作物が、遺伝子組換え作物またはゲノム編集技術により処理された作物である、請求項１６に記載の使用。