JP2019160174A - 液晶表示パネル - Google Patents
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Abstract
【課題】配線迂回部の面積を抑制することのできる液晶表示パネルを提供する。【解決手段】液晶表示パネルは(1)、表示領域(30)と非表示領域(10)とを有する基板(100)と、複数の第1配線と、上記複数の第1配線とは異なる層に形成された複数の第2配線と、上記複数の第1配線とも上記複数の第2配線とも異なる層に形成された複数のタッチパネル線(60)と、複数のタッチパネル線(60)の各々に各々が接続された複数のタッチパネル電極(70te)と、基板(100)の一端に配置され、複数のタッチパネル線(60)に接続されたセンシング部(80)とを備え、センシング部(80)から見て非表示領域(10)よりも遠い位置に配置されているタッチパネル電極(70te)には、センシング部(80)からのタッチパネル線(60)からの少なくとも何れかが、基板(100)の他端において折り返されたうえで接続されている。【選択図】図1
Description
本発明は、液晶表示パネルに関する。
従来、タッチセンサ機能を内蔵した液晶表示パネルにおいて、その基板に穴あき部を形成する場合がある。この場合、断線や短絡等に起因して歩留りが低下する。逆に、歩留りを確保した場合は上記基板における表示領域が狭くなる。
その原因は、穴あき部には基板が存在せず、配線自体が不可能であるため、その周囲に、ゲート線、データ線やタッチパネル線(TP線)などの配線を迂回させるための配線迂回部を設ける必要があるためである。また、この配線迂回部は液晶を封入するためのシール材の形成領域でもあるため、一定の幅は必要であるが、表示領域が小さくならないように幅狭であることが好ましい。そのため、配線迂回部では各配線が密集することになり、配線幅を細くする必要が生じたり、配線間が狭くなったりするため、断線や短絡が生じやすくなる。
例えば、特許文献1には、貫通孔の周辺部に画素駆動回路に接続される低電圧電源線及び高電圧電源線を纏めてこれらの電源線の配設スペースを節約し、走査線がこれらの電源線と平面視で交差する部分においては、走査線を絶縁層上の別の層に設けることで、表示面積を確保することができる表示装置が記載されている。
しかしながら、特許文献1の技術をそのまま用いて、単にある配線を別の層に設ける構成にしたとしても、タッチパネル線を備える構成において、歩留りを低下させずに配線迂回部の面積を抑制することは難しい。
本発明は、前記の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、タッチパネル線を備える構成において、配線迂回部の面積を抑制することのできる液晶表示パネルを提供することにある。
前記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る液晶表示パネルは、表示領域と非表示領域とを有する基板と、複数の第1配線と、上記複数の第1配線とは異なる層に、当該複数の第1配線と交差して形成された複数の第2配線と、上記複数の第1配線とも上記複数の第2配線とも異なる層に形成された複数のタッチパネル線と、上記複数のタッチパネル線の各々に各々が接続された複数のタッチパネル電極と、上記基板の一端に配置され、上記複数のタッチパネル線に接続されたセンシング部とを備え、上記センシング部から見て上記非表示領域よりも遠い位置に配置されているタッチパネル電極には、上記センシング部からのタッチパネル線からの少なくとも何れかが、上記基板の他端において折り返されたうえで接続されている。
本発明の一態様によれば、タッチパネル線を備える構成において、配線迂回部の面積を抑制することのできる液晶表示パネルを提供することができる。
〔実施形態1〕
図1〜図6を参照して、本発明に係る実施形態1について以下に説明する。
図1〜図6を参照して、本発明に係る実施形態1について以下に説明する。
(液晶表示パネルの全体構成)
以下、図1を参照して、本実施形態に係る液晶表示パネルの全体構成について説明する。図1は、本実施形態に係る液晶表示パネル1の全体を示す図である。図1に示すように、液晶表示パネル1は、所定の間隔を空けて対向配置された、例えばガラス基板のような基板(アレイ基板)100および対向基板と、これら一対の基板の間に封入された液晶層を備えており、表示領域30と非表示領域10とを有する。また、図1には、液晶表示パネル1は、略円形(センシング部のみ直線部を備える)の外形を備える液晶パネルであって、その略中央部に円形の非表示領域10を備える構成を例示している。非表示領域10の周囲は表示領域30で囲まれており、非表示領域10の全ての領域、または、少なくとも一部の領域では、基板100も略円形状にくり抜かれている。また、図1における符号80は例えば基板100の一端、例えば図示の下部端に配置されたセンシング部を示す。センシング部80は、後述する複数のタッチパネル電極における電位の変化に基づいて、当該液晶パネルにユーザがタッチしたタッチ位置を検出する。なお、センシング部80は、例えば、後述するソース線40へデータ信号を出力するソースドライバ部に含まれる場合もある。
以下、図1を参照して、本実施形態に係る液晶表示パネルの全体構成について説明する。図1は、本実施形態に係る液晶表示パネル1の全体を示す図である。図1に示すように、液晶表示パネル1は、所定の間隔を空けて対向配置された、例えばガラス基板のような基板(アレイ基板)100および対向基板と、これら一対の基板の間に封入された液晶層を備えており、表示領域30と非表示領域10とを有する。また、図1には、液晶表示パネル1は、略円形(センシング部のみ直線部を備える)の外形を備える液晶パネルであって、その略中央部に円形の非表示領域10を備える構成を例示している。非表示領域10の周囲は表示領域30で囲まれており、非表示領域10の全ての領域、または、少なくとも一部の領域では、基板100も略円形状にくり抜かれている。また、図1における符号80は例えば基板100の一端、例えば図示の下部端に配置されたセンシング部を示す。センシング部80は、後述する複数のタッチパネル電極における電位の変化に基づいて、当該液晶パネルにユーザがタッチしたタッチ位置を検出する。なお、センシング部80は、例えば、後述するソース線40へデータ信号を出力するソースドライバ部に含まれる場合もある。
また、符号20は非表示領域10の周囲に設けられた配線迂回領域を示し、符号40はデータ線(ソース線とも呼ばれる)を示し、符号50はゲート線(走査線とも呼ばれる)を示す。符号Zはゲート線50へ走査信号を出力するゲートドライバ部を示す。
また、符号60はタッチパネル線を示し、符号70はタッチパネル線60が接続するタッチパネル電極(コモン電極とも呼ばれる)を示す。また、ゲート線50はデータ線40とは異なる層にデータ線40と交差して形成され、タッチパネル線60はデータ線40ともゲート線50とも異なる層に形成される。
なお、ここでは、非表示領域10において、基板100がくり抜かれている構成を示したが、必ずしも基板100はくり抜かれていなくてもよい。例えば、非表示領域10に基板100が存在している場合であっても、その周囲に配線迂回領域を設けることで、非表示領域10に配置される配線を無くした構成とすれば、非表示領域10の透過率を向上させることができる。このような構成は、非表示領域10の背面に、バックライトを配置せずに、スロットマシンのドラム(リール)を配置するような遊技機において好適である。
また、本実施形態を含む以下の各実施形態には、基本構成として、基板側にタッチセンサの基本構成となるタッチパネル電極等が集約されている構成、所謂フルインセルタッチパネル構成とする。
また液晶表示パネルを構成する各画素の画素電極に対して、液晶層を介して共通の電極となる上記のコモン電極も基板側に形成される。このコモン電極は、例えば2mm〜6mm程度の長さの辺を有する複数の矩形電極(非表示領域の近傍では、矩形でない場合も有り)に分割され、それぞれが少なくとも1本のタッチパネル線と接続されることで、タッチタッチパネル電極(TP電極とも呼ばれる)として機能する。
タッチセンサとして機能する期間(センシング期間)と、各画素に画像信号を書き込む期間(書き込み期間)とは、それぞれ別であり、書き込み期間において、複数のタッチパネル電極は同じ定電位とされる。
各画素に対応するスイッチング素子は酸化物半導体型薄膜トランジスタを想定している。これは、センサ精度の高い(書き込み期間に対するセンシング期間の比率が高い)インセルタッチパネルを想定し、各画素へ充電時間が短い場合に好適なスイッチング素子とするためであるが、画面サイズや解像度、センサ精度に応じて、a-Siやp-Siの薄膜トランジスタ等でも使用可能である。
具体的には、図1に示すように、液晶表示パネル1は複数のデータ線40、複数のゲート線50、および複数のタッチパネル線60を備えている。また、本実施形態において、1つのタッチパネル電極70に1本のタッチパネル線60が対応しているとする。
また、センシング部80から見て非表示領域10よりも遠い位置に配置されている1つのタッチパネル電極、例えば非表示領域10に隣接している図示のタッチパネル電極70には、センシング部80からの複数のタッチパネル線60の1本が、基板100の他端、例えば図示する上部端において折り返されたうえで接続されている。
本実施形態において、それぞれのタッチパネル電極70サイズは、それぞれの画素よりも大きいので、センシング部80によるセンシングのために必要なタッチパネル線60の本数は、一般に、データ線40の本数よりも少ない。一方で、本実施形態では、後述するように、各タッチパネル線60は、データ線40に沿って配置(データ線40の上層に配置)される。
このため、従来のように、タッチパネル線60を折り返さない構成においては、対応するタッチパネル線が存在しないデータ線40(上層にタッチパネル線60が形成されていないデータ線)が生じ得る。本明細書では、このようなデータ線のことを便宜的に「余剰データ線」と呼ぶことにする。
本実施形態では、上述のような余剰データ線に沿って(より具体的にはその上層に)、上述した折り返し後のタッチパネル線60を形成することによって、従来であれば、利用されなかった配線領域を好適に利用してタッチパネル線を引き回すことができる。
図2の(a)は図1のA部の拡大図であり、(b)は(a)の接続部65の断面図である。詳細は後述するが、本実施形態において、接続部65はデータ線40のタッチパネル線層60における繋ぎ換え部を指す。図2の(b)に示すように、液晶表示パネル1は、多層積層構成となっている。図2の(b)にはゲート線層を図示しないが、液晶表示パネル1は、基板100上にゲート絶縁膜50a、データ線層40、第1絶縁膜51、タッチパネル線層60、および第2絶縁膜71がこの順に形成されている。
なお、本明細書において、「データ線層」とは、広義の意味で、データ線が形成される層のことを指し、狭義の意味で、そのような層に形成されたデータ線自体のことを指す。その他の「線層」との表現についても同様である。
以上のように、本実施形態において、液晶表示パネル1は、表示領域30と非表示領域10とを有する基板100と、複数の第1配線(本実施形態ではデータ線40を指す)と、複数の第1配線40とは異なる層に、複数の第1配線40と交差して形成された複数の第2配線(本実施形態ではゲート線50を指す)と、複数の第1配線40とも複数の第2配線50とも異なる層に形成された複数のタッチパネル線60と、複数のタッチパネル線60の各々に各々が接続された複数のタッチパネル電極70と、基板100の一端に配置され、複数のタッチパネル線60に接続されたセンシング部80とを備え、センシング部80から見て非表示領域10よりも遠い位置に配置されているタッチパネル電極70には、センシング部80からのタッチパネル線60からの少なくとも何れかが、基板100の他端において折り返されたうえで接続されている。
上記の構成によれば、タッチパネル線60を備える構成において、配線迂回部20にはタッチパネル線60を配置する必要がなくなるため、配線迂回部20の面積を抑制することのできる液晶表示パネル1を提供することができる。
以下、図2を参照して、液晶表示パネル1の構成について詳細に説明する。上述したように、図2の(a)は図1のA部の拡大図であり、(b)は(a)の接続部65の断面図である。図2に示す例では、複数の第1配線40のそれぞれは、データ線40s、40(s+1)、40(s+2)、40(s+3)、…である。同様に、複数の第2配線50のそれぞれは、ゲート線50g、50(g+1)、…である。また、複数(図2の(a)に示す例では形状が互いに異なる12個)のタッチパネル電極70にはそれぞれタッチパネル線が接続されている。
ここで、データ線40s、40(s+1)、40(s+2)、40(s+3)、…におけるsとは、Sourceの頭文字であると共に、それぞれのデータ線を互いに識別するためのインデックスであり、0以上の整数である。また、ゲート線50g、50(g+1)、…におけるgとは、Gateの頭文字であると共に、それぞれのゲート線を互いに識別するためのインデックスであり、0以上の整数である。以下、このようなインデックスとして、n、m等を用いることもある。
また、本実施形態に係る液晶表示パネル1では、図2の(a)に示すように、第1配線40の少なくとも何れかは、非表示領域10の周囲に設けられた配線迂回領域20において、タッチパネル線60と同じ層に形成された接続線、例えば接続線60t(s+1)、60t(s+3)を経由している。
ここで、接続線60t(s+1)、60t(s+3)における60tはタッチパネル線60と同じ層に形成されたことを表し、その(s+1)および(s+3)はデータ線40(s+1)および40(s+3)のそれぞれに対応することを表す。この記載方法は以下にも同様である。
上記の構成によれば、配線迂回領域20において、タッチパネル線60と同じ層に形成された接続線を用いて一部のデータ線40を接続することにより、タッチパネル線層60を有効に利用することができる。また、隣接するデータ線の短絡が発生する確率を低減できる。また、データ線40の配置密度を過度に増加させることなく、配線迂回領域20の面積を低減することができる。
また、本実施形態に係る液晶表示パネル1では、図1および図2に示すように、センシング部80から見て非表示領域10よりも近い位置に配置されているタッチパネル電極には、センシング部80からのタッチパネル線60が折り返されることなく接続されている。
具体的には、例えば図1に示す例では、センシング部80から見て非表示領域10よりも近い位置に配置された6つのタッチパネル電極にそれぞれ接続される6本のタッチパネル線は、折り返されずに、センシング部80から延伸している構成となっている。
上記の構成によれば、センシング部から見て非表示領域よりも近い位置に配置されているタッチパネル電極に接続されるタッチパネル線は、配線迂回領域を通らないため、シンプルな接続態様にすることができ、タッチパネル線の長さを長くしないでよいため、断線が発生する確率を低減することができる。
以下、図3を参照して、液晶表示パネル1の構成についてさらに説明する。図3の(a)は、図1における液晶表示パネル1が備える1つの単位画素3の平面図であり、(b)は(a)のX-X’箇所の断面を示す断面図であり、(c)は(a)のY-Y’箇所の断面を示す断面図である。
図3の(a)に示すように、単位画素3は間隔Wを有するタッチパネル電極70mおよびタッチパネル電極70nを備えている。単位画素3は、タッチパネル電極70mとタッチパネル線60mとを接続するための接続部65m1および65m2を備える。また、タッチパネル線60mおよび60(m−1)はそれぞれその下層に配置されたデータ線40mおよび40(m−1)と、第1絶縁膜51を介して重畳している。なお、タッチパネル線60(m−1)はタッチパネル電極70mを含むタッチパネル電極列のいずれにも接続されない。また、符号50mはゲート線を示す。
また、図3の(b)に示すように、液晶表示パネルにおいて、基板100上に基板100を覆うようにゲート絶縁膜50aが形成されている。また、ゲート絶縁膜50a上にデータ線層40mが配置されている。また、データ線層40m上にデータ線層40mを覆うように第1絶縁膜51が形成されている。また、第1絶縁膜51上の、データ線層40mに対応する箇所にタッチパネル線層60mが配置され、同じ層のタッチパネル線層60mと離間した他の箇所に透明導電膜からなる画素電極層52が配置されている。上記各層の上に当該各層を覆うように第2絶縁膜71が形成されている。最後に、第2絶縁膜71上に、開口部73およびスリット72を介してそれぞれタッチパネル線層60mおよび画素電極層52に対応する箇所を露出させる透明導電膜からなるタッチパネル電極70mが形成されている。
このように、特に図3の(b)に示すように、本実施形態に係る液晶表示パネルにおいて、タッチパネル線60mは、第1配線40(本実施形態ではデータ線層40m)とも第2配線50(本実施形態ではゲート線層50m)とも異なる層において、第1配線40に沿って設けられている。
また、本実施形態に係る液晶表示パネルにおいて、タッチパネル線60mは、第1絶縁膜51を介して複数の第1配線40の一部であるデータ線層40mの上側に形成されている。また、第1配線40の一部の上側とは、第1配線40mの、基板とは反対側のことを指す。
ゲート絶縁膜50aは、例えば、二酸化ケイ素(SiO2)および窒化珪素(SiNx)等の無機絶縁材料によって形成することができる。ここでは、窒化珪素(SiNx)上に二酸化ケイ素(SiO2)を形成した積層膜とする。また、第1絶縁膜51は、例えば、感光剤を含むアクリル樹脂等の有機絶縁材料によって形成されていてもよいし、ゲート絶縁膜50aのように二酸化ケイ素(SiO2)および窒化珪素(SiNx)等の無機絶縁材料によって形成されていてもよい。ここでは、二酸化ケイ素(SiO2)上に窒化珪素(SiNx)を形成した積層膜とする。
タッチパネル線層60mは、例えば、チタン(Ti)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)またはITO(透明導電膜)やこれらの積層膜によって形成することができる。また、第2絶縁膜71は、例えば、窒化珪素(SiNx)等の無機絶縁材料によって形成することができる。
データ線層40mは導電層であり、例えば、チタン(Ti)、銅(Cu)、クロム(Cr)、アルミニウム(Al)、金(Au)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)またはこれらの合金や積層膜等の金属材料によって形成することができる。本実施形態において、銅(Cu)およびモチタン(Ti)からなる2重構成によって形成することが好ましい。
また、図3の(c)において、上記のデータ線層40mと同構成のゲート線層50mを図示している。また、ゲート絶縁膜50a上に酸化物半導体膜53が図示されている。その他の構成につい上記に説明しているためその説明を省略する。
なお、基板100と対向基板のうち液晶層に接する最内面には、液晶層に含まれる液晶分子を配向させるための配向膜がそれぞれ形成されている。
ここで、タッチパネル電極70は、画素電極52に対するコモン電極として機能する。互いに重畳する画素電極52とタッチパネル電極70との間に電位差が生じると、スリット72の縁と画素電極52との間には、基板100の板面に沿う成分を含むフリンジ電界が生じるので、そのフリンジ電界を利用して液晶層に含まれる液晶分子の配向状態を制御することができる。つまり、本実施形態に係る液晶表示パネル1は、FFS(Fringe Field Switching)モードとされる。
(変形例1)
本変形例は、実施形態1と相違する構成は主に配線迂回領域において接続線を用いてゲート線50を接続することにある。以下、この相違点を中心的に説明する。
本変形例は、実施形態1と相違する構成は主に配線迂回領域において接続線を用いてゲート線50を接続することにある。以下、この相違点を中心的に説明する。
以下、図4を参照して、液晶表示パネル1aの構成について説明する。本変形例において実施形態1と共通する部材には、同一の部材番号を付し、特に必要がない限りその詳細な説明を繰り返さない。図4は実施形態1に係る液晶表示パネルの変形例1の、前記図2の(a)に相当する図である。
図4に示すように、複数の第1配線40のそれぞれは、データ線40s、40(s+1)、40(s+2)、40(s+3)、…である。同様に、複数の第2配線50のそれぞれは、ゲート線50g、50(g+1)、…であり、複数(図示では形状が互いに異なる12個)のタッチパネル電極70aにはそれぞれタッチパネル線が接続されている。
また、本変形例に係る液晶表示パネル1aでは、図4に示すように、第2配線50の少なくとも何れかは、非表示領域10aの周囲に設けられた配線迂回領域20aにおいて、タッチパネル線と同じ層に形成された接続線、例えば接続線60tgを経由している。
ここで、接続線60tgにおける60tはタッチパネル線と同じ層に形成されたことを表し、そのgはゲート線50gに対応することを表す。
上記の構成によっても、実施形態1と同様な効果を奏することができる。
(変形例2)
本変形例は、上記の変形例1と相違する構成は主に非表示領域の形状が円形状ではなく例えば矩形であることにある。以下、この相違点を中心的に説明する。
本変形例は、上記の変形例1と相違する構成は主に非表示領域の形状が円形状ではなく例えば矩形であることにある。以下、この相違点を中心的に説明する。
以下、図5を参照して、液晶表示パネル1bの構成について説明する。本変形例において実施形態1と共通する部材には、同一の部材番号を付し、特に必要がない限りその詳細な説明を繰り返さない。図5は実施形態1に係る液晶表示パネルの変形例2の、前記図2の(a)に相当する図である。
図5に示すように、複数の第1配線40のそれぞれは、データ線40s1、40(s1+1)、…である。同様に、複数の第2配線50のそれぞれは、ゲート線50g1、50(g1+1)、50(g1+2)、50(g1+3)、…であり、複数(図示では形状が互いに異なる)のタッチパネル電極70bにはそれぞれタッチパネル線が接続されている。
また、本変形例に係る液晶表示パネル1bでは、図5に示すように、第2配線50の少なくとも何れかは、非表示領域10bの周囲に設けられた配線迂回領域20bにおいて、タッチパネル線60aと同じ層に形成された接続線、例えば接続線60tg1、60t(g1+2)を経由している。
ここで、接続線60tg1、60t(g1+2)における60tはタッチパネル線と同じ層に形成されたことを表し、そのg1および(g1+2)はゲート線50g1およびゲート線50(g1+2)にそれぞれ対応することを表す。
上記の構成によっても、実施形態1および上記の変形例1と同様な効果を奏することができる。
また、上記の説明では、接続線によってデータ線40またはゲート線50の一部を接続する構成を説明したが、これに限定されるものではなく、例えばデータ線とゲート線との両方に対して、上記接続線を適用しても良い。
(画素配列態様)
以下、図6を参照して、液晶表示パネルの画素配列態様について説明する。図6は、画素配列態様を説明するための図であり、(a)は縦画素(縦ストライプ画素または縦長画素とも言う)を示す図であり、(b)は横画素(横ストライプ画素または横長画素とも言う)を示す図である。
以下、図6を参照して、液晶表示パネルの画素配列態様について説明する。図6は、画素配列態様を説明するための図であり、(a)は縦画素(縦ストライプ画素または縦長画素とも言う)を示す図であり、(b)は横画素(横ストライプ画素または横長画素とも言う)を示す図である。
図6の(a)に示す液晶表示パネル1cの画素配列態様と、図6の(b)に示す液晶表示パネル1dの画素配列態様とを比較すると、横画素配列態様は、縦画素配列態様に対して、表示領域と非表示領域とを有する基板と対向して配置する対向基板のカラーフィルタの配列方向を90度回転させた構成であり、ゲート線50の本数が増加する(例えば3倍になる)ことの代わりに、データ線40の本数がその分減少する(例えば3分の1になる)構成になる。そこで、画素配列態様が図6の(b)に示す例では、配線迂回領域におけるデータ線より、ゲート線の本数が多くなったとしても上記の変形例2の構成を適用することにより、実施形態1および上記の変形例1と同様な効果を奏することができる。
〔実施形態2〕
以上、非表示領域は、液晶表示パネルの中央に、円形状または矩形に設けられている構成を説明したが、それに限定されない。例えば、非表示領域は、液晶表示パネルの周辺に設けられていてもよい。すなわち、非表示領域が、完全に表示領域に囲まれずに、少なくとも一部が表示領域に囲まれるような構成であってもよい。また、非表示領域の形状はその他の形状であってもよい。
以上、非表示領域は、液晶表示パネルの中央に、円形状または矩形に設けられている構成を説明したが、それに限定されない。例えば、非表示領域は、液晶表示パネルの周辺に設けられていてもよい。すなわち、非表示領域が、完全に表示領域に囲まれずに、少なくとも一部が表示領域に囲まれるような構成であってもよい。また、非表示領域の形状はその他の形状であってもよい。
図7は、本実施形態2に係る液晶表示パネル1eの全体を示す図である。例えばほぼ矩形状の外形(表示領域)の側辺に接するように非表示領域が形成される構成(図7の左右両側の半円形状)においても、図7に示すように、複数の第1配線40のそれぞれは、データ線40s2、40(s2+1)、…である。同様に、複数の第2配線50のそれぞれは、ゲート線50g2、50(g2+1)、50(g2+2)、50(g2+3)、…であり、複数(図示では形状が互いに異なる)のタッチパネル電極70eにはそれぞれタッチパネル線が接続されている。また、符号Z1はゲート線へ走査信号を出力するゲートドライバ部を示す。
また、本実施形態に係る液晶表示パネル1eでは、図7に示すように、第1配線40の少なくとも何れかは、非表示領域の周囲に設けられた配線迂回領域において、タッチパネル線と同じ層に形成された接続線、例えば接続線60t(s2+1)を経由している。
ここで、接続線60t(s2+1)における60tはタッチパネル線60と同じ層に形成されたことを表し、その(s2+1)はデータ線40(s2+1)に対応することを表す。
上記の構成によっても、上記の実施形態1およびその変形例と同様な効果を奏することができる。
〔実施形態3〕
以下、図8を参照して、本実施形態3に係る液晶表示パネルの構成について説明する。図8は、本実施形態3に係る液晶表示パネル1fの全体を示す図である。例えばほぼ矩形状の外形(表示領域)のコーナ部に非表示領域が形成される構成(図8の左右両側の下部)においても、図8に示すように、複数の第1配線40のそれぞれは、データ線40s3、40(s3+1)、である。同様に、複数の第2配線50のそれぞれは、ゲート線50g3、50(g3+1)、50(g3+2)、…であり、複数(図示では形状が互いに異なる)のタッチパネル電極70fにはそれぞれタッチパネル線が接続されている。また、符号Z2はゲート線へ走査信号を出力するゲートドライバ部を示す。
以下、図8を参照して、本実施形態3に係る液晶表示パネルの構成について説明する。図8は、本実施形態3に係る液晶表示パネル1fの全体を示す図である。例えばほぼ矩形状の外形(表示領域)のコーナ部に非表示領域が形成される構成(図8の左右両側の下部)においても、図8に示すように、複数の第1配線40のそれぞれは、データ線40s3、40(s3+1)、である。同様に、複数の第2配線50のそれぞれは、ゲート線50g3、50(g3+1)、50(g3+2)、…であり、複数(図示では形状が互いに異なる)のタッチパネル電極70fにはそれぞれタッチパネル線が接続されている。また、符号Z2はゲート線へ走査信号を出力するゲートドライバ部を示す。
また、本実施形態に係る液晶表示パネル1fでは、図8に示すように、第1配線40の少なくとも何れかは、非表示領域の周囲に設けられた配線迂回領域において、タッチパネル線と同じ層に形成された接続線、例えば接続線60t(s3+1)を経由している。
ここで、接続線60t(s3+1)における60tはタッチパネル線60と同じ層に形成されたことを表し、その(s3+1)はデータ線40(s3+1)に対応することを表す。
上記の構成によっても、上記の実施形態1およびその変形例と実施形態2と同様な効果を奏することができる。
また、上記の説明では、第1配線40はデータ線であり、第2の配線50はゲート線である構成を例示して説明したが、これに限定されるものではなく、例えば第1配線40はゲート線であり、第2の配線50はデータ線であってもよい。
また、上記の説明では、非表示領域は、基板が存在しない領域であってもよいし、基板が存在するが、画素が配置されていない領域であってもよい。
〔まとめ〕
本発明の態様1に係る液晶表示パネル(1)は、表示領域(30)と非表示領域(10)とを有する基板(100)と、複数の第1配線(40)と、複数の第1配線(40)とは異なる層に、複数の第1配線(40)と交差して形成された複数の第2配線(50)と、複数の第1配線(40)とも複数の第2配線(50)とも異なる層に形成された複数のタッチパネル線(60)と、複数のタッチパネル線(60)の各々に各々が接続された複数のタッチパネル電極(70te)と、基板(100)の一端に配置され、複数のタッチパネル線(60)に接続されたセンシング部(80)とを備え、センシング部(80)から見て非表示領域(10)よりも遠い位置に配置されているタッチパネル電極(70te)には、センシング部(80)からのタッチパネル線(60)からの少なくとも何れかが、基板(100)の他端において折り返されたうえで接続されている。
本発明の態様1に係る液晶表示パネル(1)は、表示領域(30)と非表示領域(10)とを有する基板(100)と、複数の第1配線(40)と、複数の第1配線(40)とは異なる層に、複数の第1配線(40)と交差して形成された複数の第2配線(50)と、複数の第1配線(40)とも複数の第2配線(50)とも異なる層に形成された複数のタッチパネル線(60)と、複数のタッチパネル線(60)の各々に各々が接続された複数のタッチパネル電極(70te)と、基板(100)の一端に配置され、複数のタッチパネル線(60)に接続されたセンシング部(80)とを備え、センシング部(80)から見て非表示領域(10)よりも遠い位置に配置されているタッチパネル電極(70te)には、センシング部(80)からのタッチパネル線(60)からの少なくとも何れかが、基板(100)の他端において折り返されたうえで接続されている。
上記の構成によれば、ゲート線(50)、データ線(40)、およびタッチパネル線(60)を備える構成において、配線迂回部(20)の面積を抑制することのできる液晶表示パネル(1)を提供することができる。
本発明の態様2に係る液晶表示パネル(1)は、前記態様1において、第1配線(40)及び第2配線(50)の少なくとも何れかは、非表示領域(10)の周囲に設けられた配線迂回領域(20)において、タッチパネル線(60)と同じ層に形成された接続線を経由していてもよい。
上記の構成によれば、配線迂回領域(20)において、タッチパネル線(60)と同じ層に形成された接続線を用いて一部のデータ線(40)を接続することにより、タッチパネル線層(60)を有効に利用することができる。また、隣接するゲート線の短絡が発生する確率を低減できる。また、データ線(40)の配置密度を過度に増加させることなく、配線迂回領域(20)の面積を低減することができる。
本発明の態様3に係る液晶表示パネル(1)は、前記態様1または2において、センシング部(80)から見て非表示領域(10)よりも近い位置に配置されているタッチパネル電極(70te)には、センシング部(80)からのタッチパネル線(60)が折り返されることなく接続されていてもよい。
上記の構成によれば、センシング部から見て非表示領域よりも近い位置に配置されているタッチパネル電極に接続されるタッチパネル線は、配線迂回領域を通らないため、シンプルな接続態様にすることができ、タッチパネル線の長さを長くしないでよいため、断線が発生する確率を低減することができる。
本発明の態様4に係る液晶表示パネル(1)は、前記態様1〜3の何れかにおいて、タッチパネル線(60)は、第1配線(40)とも第2配線(50)とも異なる層において、第1配線(40)に沿って設けられていてもよい。
本発明の態様5に係る液晶表示パネル(1)は、前記態様1〜4の何れかにおいて、複数のタッチパネル線(60)は、絶縁層(51)を介して複数の第1配線(40)の一部の上側に形成されていてもよい。
本発明の態様6に係る液晶表示パネル(1)は、前記態様1〜5の何れかにおいて、第1配線(40)は、データ線であり、第2配線(50)は、ゲート線であってもよい。
本発明の態様7に係る液晶表示パネル(1)は、前記態様1において、第1配線(40)は、ゲート線であり、第2配線は、データ線であってもよい。
本発明は前述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態も、本発明の技術的範囲に含まれる。各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることによって、新しい技術的特徴を形成することもできる。
1、1a〜1f 液晶表示パネル
3 単位画素
10、10a、10b 非表示領域
20、20a、20b 配線迂回領域
30、30a、30b 表示領域
40(40s、40(s+1)〜40(s3+1))、40m 第1配線(データ線)
50(50g、50(g+1)〜50(g3+2))、50m 第2配線(ゲート線)
60、60m タッチパネル線
60t(s+1)〜60t(s3+1)、60tg〜60t(g1+2) 接続線
65、65a、65b、65e、65f 接続部
70、70a、70b、70e、70f、70m タッチパネル電極
80 センシング部
100 基板
3 単位画素
10、10a、10b 非表示領域
20、20a、20b 配線迂回領域
30、30a、30b 表示領域
40(40s、40(s+1)〜40(s3+1))、40m 第1配線(データ線)
50(50g、50(g+1)〜50(g3+2))、50m 第2配線(ゲート線)
60、60m タッチパネル線
60t(s+1)〜60t(s3+1)、60tg〜60t(g1+2) 接続線
65、65a、65b、65e、65f 接続部
70、70a、70b、70e、70f、70m タッチパネル電極
80 センシング部
100 基板
Claims (7)
- 表示領域と非表示領域とを有する基板と、
複数の第1配線と、
上記複数の第1配線とは異なる層に、当該複数の第1配線と交差して形成された複数の第2配線と、
上記複数の第1配線とも上記複数の第2配線とも異なる層に形成された複数のタッチパネル線と、
上記複数のタッチパネル線の各々に各々が接続された複数のタッチパネル電極と、
上記基板の一端に配置され、上記複数のタッチパネル線に接続されたセンシング部と、
を備え、
上記センシング部から見て上記非表示領域よりも遠い位置に配置されているタッチパネル電極には、上記センシング部からのタッチパネル線からの少なくとも何れかが、上記基板の他端において折り返されたうえで接続されている
ことを特徴とする液晶表示パネル。 - 上記第1配線及び上記第2配線の少なくとも何れかは、
上記非表示領域の周囲に設けられた配線迂回領域において、上記タッチパネル線と同じ層に形成された接続線を経由している
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。 - 上記センシング部から見て上記非表示領域よりも近い位置に配置されている上記タッチパネル電極には、上記センシング部からの上記タッチパネル線が折り返されることなく接続されている
ことを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示パネル。 - 上記タッチパネル線は、上記第1配線とも上記第2配線とも異なる層において、上記第1配線に沿って設けられている
ことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の液晶表示パネル。 - 上記複数のタッチパネル線は、絶縁層を介して上記複数の第1配線の一部の上側に形成されている
ことを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の液晶表示パネル。 - 上記第1配線は、データ線であり、上記第2配線は、ゲート線である
ことを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の液晶表示パネル。 - 上記第1配線は、ゲート線であり、上記第2配線は、データ線である
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。
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