JP2019026691A - High molecule piezoelectric film and manufacturing method therefor, piezoelectric film piece and manufacturing method therefor, laminate and piezoelectric element - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、高分子圧電フィルム及びその製造方法、圧電フィルム片及びその製造方法、積層体、並びに、圧電素子に関する。 The present disclosure relates to a polymer piezoelectric film and a manufacturing method thereof, a piezoelectric film piece and a manufacturing method thereof, a laminate, and a piezoelectric element.
近年、光学活性を有するヘリカルキラル高分子(例えばポリ乳酸系高分子)を用いた高分子圧電材料が報告されている。
例えば、ポリ乳酸の成形物を延伸処理することで、常温で、10pC/N程度の圧電率を示す高分子圧電材料が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
また、ポリ乳酸結晶を高配向にするために、鍛造法と呼ばれる特殊な配向方法により18pC/N程度の高い圧電性を出すことも報告されている(例えば、特許文献2参照)。
In recent years, polymer piezoelectric materials using a helical chiral polymer having optical activity (for example, polylactic acid polymer) have been reported.
For example, a polymer piezoelectric material that exhibits a piezoelectric constant of about 10 pC / N at room temperature by stretching a molded product of polylactic acid has been disclosed (for example, see Patent Document 1).
In addition, in order to make polylactic acid crystals highly oriented, it has also been reported that high piezoelectricity of about 18 pC / N is obtained by a special orientation method called a forging method (see, for example, Patent Document 2).
特許文献1又は特許文献2に示される高分子圧電材料等、従来の高分子圧電フィルムでは、ポリ乳酸の分子配向方向と高分子圧電フィルムの長手方向とが平行となっている。このため、上記高分子圧電フィルムを原反とし、原反から圧電フィルム片を採取して圧電素子を作製するためには、原反の長手方向と交差する方向(例えば、原反の長手方向に対して45°の方向)を長手方向とする圧電フィルム片を採取する必要がある。よって必然的に、原反の幅方向両端部に、圧電フィルム片として採取することができない領域(即ち、廃棄すべき無駄な領域)が生じる。
以上の理由により、従来の高分子圧電フィルムでは、この高分子圧電フィルムを原反とし、原反から圧電フィルム片を採取する際の歩留まりが低いという問題がある。
In a conventional polymer piezoelectric film such as the polymer piezoelectric material disclosed in Patent Document 1 or Patent Document 2, the molecular orientation direction of polylactic acid and the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film are parallel to each other. For this reason, in order to produce a piezoelectric element by using the polymer piezoelectric film as a raw material and collecting a piezoelectric film piece from the raw material, a direction crossing the longitudinal direction of the raw material (for example, in the longitudinal direction of the raw material) On the other hand, it is necessary to collect a piezoelectric film piece having a longitudinal direction of 45 °. Therefore, inevitably, areas that cannot be collected as piezoelectric film pieces (that is, useless areas to be discarded) are generated at both ends in the width direction of the original fabric.
For the above reasons, the conventional polymer piezoelectric film has a problem that the yield is low when the polymer piezoelectric film is used as an original fabric and a piezoelectric film piece is collected from the original fabric.
また、従来、圧電フィルム片を用いた圧電素子(アクチュエーター、センサー等)を製造する際には、まず、原反としての圧電フィルムから複数の圧電フィルム片を採取し、採取した複数の圧電フィルム片それぞれの両面に電極層を設けることにより、複数の積層体(両面に電極層が設けられた圧電フィルム片)を製造していた。次いで、複数の積層体を接着層(例えば、粘着層、硬化層等)を介して重ね合わせることにより、圧電フィルムを製造していた。
しかし、上記従来の圧電素子を製造する方法は、圧電素子を製造するために取り扱う部品(即ち、積層体)の数が多く、また、原反から採取する圧電フィルム片の数も多く、煩雑であった。また、複数の積層体を重ね合わせる際の角度合わせの操作も煩雑であった。
Conventionally, when a piezoelectric element (actuator, sensor, etc.) using a piezoelectric film piece is manufactured, first, a plurality of piezoelectric film pieces are collected from the piezoelectric film as a raw material, and the plurality of piezoelectric film pieces obtained are collected. A plurality of laminates (piezoelectric film pieces provided with electrode layers on both sides) were manufactured by providing electrode layers on both sides. Next, a piezoelectric film was manufactured by superimposing a plurality of laminated bodies via an adhesive layer (for example, an adhesive layer, a hardened layer, etc.).
However, the above-described conventional method for manufacturing a piezoelectric element is complicated because it requires a large number of parts (that is, laminates) to be manufactured to manufacture the piezoelectric element and a large number of piezoelectric film pieces collected from the original fabric. there were. In addition, the operation of adjusting the angle when stacking a plurality of laminated bodies is complicated.
本開示は、上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本開示の目的は、圧電フィルム片を採取するための原反として用いた場合に、圧電フィルム片を採取する際の歩留まりが向上され、圧電素子を簡易にかつ高歩留まりで製造できる高分子圧電フィルム、及び、上記高分子圧電フィルムの製造に適した高分子圧電フィルムの製造方法を提供することである。
また、本開示の目的は、圧電素子を簡易に製造できる圧電フィルム片及び積層体、並びに、上記圧電フィルム片の製造に適した圧電フィルム片の製造方法を提供することである。
また、本開示の目的は、簡易に製造できる圧電素子を提供することである。
This indication is made in view of the above, and makes it a subject to achieve the following objects.
That is, an object of the present disclosure is to provide a polymer that can improve the yield when collecting a piezoelectric film piece when used as a raw material for collecting a piezoelectric film piece, and can easily manufacture a piezoelectric element at a high yield. A piezoelectric film and a method for producing a polymer piezoelectric film suitable for producing the polymer piezoelectric film are provided.
Moreover, the objective of this indication is providing the manufacturing method of the piezoelectric film piece suitable for manufacture of the piezoelectric film piece and laminated body which can manufacture a piezoelectric element simply, and the said piezoelectric film piece.
Another object of the present disclosure is to provide a piezoelectric element that can be easily manufactured.
上記課題を解決するための具体的手段は以下の態様が含まれる。
<1> 重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%である高分子圧電フィルムであって、
長尺形状を有し、
長手方向長さが10m以上であり、
幅方向一端部における前記ヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向Laと、幅方向他端部における前記ヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向Lbと、の平面視角度θ1が、70°〜110°であり、
長手方向と前記分子配向方向Laとの平面視角度θ2が、35°〜55°であり、
長手方向と前記分子配向方向Lbとの平面視角度θ3が、35°〜55°である高分子圧電フィルム。
<2> 可視光線に対する内部ヘイズが、10%以下である<1>に記載の高分子圧電フィルム。
<3> マイクロ波透過型分子配向計で測定される基準厚さを50μmとしたときの規格化分子配向MORcが、3.5〜15.0である<1>又は<2>に記載の高分子圧電フィルム。
<4> 25℃において変位法により測定される圧電定数d14が、1.0pm/V以上である<1>〜<3>のいずれか1つに記載の高分子圧電フィルム。
<5> 前記ヘリカルキラル高分子(A)が、下記式(1)で表される繰り返し単位を含む主鎖を有するポリ乳酸系高分子である<1>〜<4>のいずれか1つに記載の高分子圧電フィルム。
Specific means for solving the above problems include the following modes.
<1> A polymeric piezoelectric film comprising a helical chiral polymer (A) having an optical activity of weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and having a crystallinity of 20% to 80% obtained by DSC method. And
Has a long shape,
The longitudinal length is 10 m or more,
The planar view angle θ1 between the molecular orientation direction La of the helical chiral polymer (A) at one end in the width direction and the molecular orientation direction Lb of the helical chiral polymer (A) at the other end in the width direction is 70 °. ~ 110 °,
The planar view angle θ2 between the longitudinal direction and the molecular orientation direction La is 35 ° to 55 °,
A polymer piezoelectric film having a planar view angle θ3 between a longitudinal direction and the molecular orientation direction Lb of 35 ° to 55 °.
<2> The polymer piezoelectric film according to <1>, wherein the internal haze with respect to visible light is 10% or less.
<3> The high molecular weight according to <1> or <2>, wherein the normalized molecular orientation MORc is 3.5 to 15.0 when the reference thickness measured with a microwave transmission type molecular orientation meter is 50 μm. Molecular piezoelectric film.
Polymeric piezoelectric film according to the piezoelectric constant d 14 is measured by the displacement method in <4> 25 ° C., one of is 1.0 pm / V or more <1> to <3>.
<5> In any one of <1> to <4>, the helical chiral polymer (A) is a polylactic acid polymer having a main chain including a repeating unit represented by the following formula (1). The polymeric piezoelectric film as described.
<6> 前記ヘリカルキラル高分子(A)は、光学純度が95.00%ee以上である<1>〜<5>のいずれか1つに記載の高分子圧電フィルム。
<7> 前記ヘリカルキラル高分子(A)の含有量が、高分子圧電フィルム全量に対し、80質量%以上である<1>〜<6>のいずれか1つに記載の高分子圧電フィルム。
<6> The polymeric piezoelectric film according to any one of <1> to <5>, wherein the helical chiral polymer (A) has an optical purity of 95.00% ee or more.
<7> The polymer piezoelectric film according to any one of <1> to <6>, wherein the content of the helical chiral polymer (A) is 80% by mass or more based on the total amount of the polymer piezoelectric film.
<8> 重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%である圧電フィルム片であって、
一端部における前記ヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向と、他端部における前記ヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向と、の平面視角度が、70°〜110°である圧電フィルム片。
<8> A piezoelectric film piece comprising a helical chiral polymer (A) having an optical activity having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and having a crystallinity of 20% to 80% obtained by a DSC method. ,
Piezoelectric film in which a planar view angle between the molecular orientation direction of the helical chiral polymer (A) at one end and the molecular orientation direction of the helical chiral polymer (A) at the other end is 70 ° to 110 ° Fragment.
<9> <8>に記載の圧電フィルム片と、
前記圧電フィルム片の少なくとも一方の面の側に配置された電極層と、
を備える積層体。
<10> 更に、前記電極層から見て、圧電フィルム片が配置されている側とは反対側に配置された接着層を備える<9>に記載の積層体。
<9> The piezoelectric film piece according to <8>,
An electrode layer disposed on at least one side of the piezoelectric film piece;
A laminate comprising:
<10> Furthermore, the laminated body as described in <9> provided with the contact bonding layer arrange | positioned on the opposite side to the side by which the piezoelectric film piece is arrange | positioned seeing from the said electrode layer.
<11> <8>に記載の圧電フィルム片、又は、<9>若しくは<10>に記載の積層体を備える圧電素子。
<12> <10>に記載の積層体を備え、
前記積層体は、前記接着層が内側となり、かつ、前記圧電フィルム片の一端部と前記圧電フィルム片の他端部とが平面視で重なる方向に曲げ変形されている圧電素子。
<11> A piezoelectric element comprising the piezoelectric film piece according to <8> or the laminate according to <9> or <10>.
<12> The laminate according to <10> is provided,
The laminated body is a piezoelectric element in which the adhesive layer is on the inner side and the one end of the piezoelectric film piece and the other end of the piezoelectric film piece are bent and deformed in a direction overlapping in plan view.
<13> 重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含む長尺形状の未延伸フィルムを準備する工程と、
前記長尺形状の未延伸フィルムに対し、フィルムの幅方向両端部の温度であるTe1からフィルムの幅方向中央部の温度であるTc1を差し引いた差が3℃〜15℃であり、前記Te1から前記ヘリカルキラル高分子(A)のガラス転移温度であるTgを差し引いた差が10℃〜40℃であり、縦延伸倍率が2.0倍〜5.0倍であり、横延伸倍率が2.0倍〜5.0倍である条件の同時二軸延伸を施すことにより、二軸延伸フィルムを得る工程と、
前記二軸延伸フィルムに対し、80℃〜160℃の温度の熱処理を施すことにより、高分子圧電フィルムを得る工程と、
を含む高分子圧電フィルムの製造方法。
<13> preparing a long unstretched film containing a helical chiral polymer (A) having an optical activity having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000;
The difference which subtracted Tc1 which is the temperature of the width direction center part of the film from Te1 which is the temperature of the width direction both ends of the film with respect to the said long unstretched film is 3 to 15 degreeC, and from said Te1 The difference obtained by subtracting Tg which is the glass transition temperature of the helical chiral polymer (A) is 10 ° C to 40 ° C, the longitudinal draw ratio is 2.0 times to 5.0 times, and the transverse draw ratio is 2. A step of obtaining a biaxially stretched film by performing simultaneous biaxial stretching under conditions of 0 times to 5.0 times;
A step of obtaining a polymer piezoelectric film by subjecting the biaxially stretched film to a heat treatment at a temperature of 80 ° C. to 160 ° C .;
A method for producing a polymer piezoelectric film comprising:
<14> <1>〜<7>のいずれか1つに記載の高分子圧電フィルムを準備する工程と、
前記高分子圧電フィルムから、前記高分子圧電フィルムの前記幅方向一端部の少なくとも一部と前記幅方向他端部の少なくとも一部とを含む圧電フィルム片を採取する工程と、
を含む圧電フィルム片の製造方法。
<14> a step of preparing the polymer piezoelectric film according to any one of <1> to <7>;
From the polymer piezoelectric film, collecting a piezoelectric film piece including at least a part of the one end in the width direction of the polymer piezoelectric film and at least a part of the other end in the width direction;
The manufacturing method of the piezoelectric film piece containing this.
本開示によれば、圧電フィルム片を採取するための原反として用いた場合に、圧電フィルム片を採取する際の歩留まりが向上され、圧電素子を簡易にかつ高歩留まりで製造できる高分子圧電フィルム、及び、上記高分子圧電フィルムの製造に適した高分子圧電フィルムの製造方法が提供される。
また、本開示によれば、圧電素子を簡易に製造できる圧電フィルム片及び積層体、並びに、上記圧電フィルム片の製造に適した圧電フィルム片の製造方法が提供される。
また、本開示によれば、簡易に製造できる圧電素子が提供される。
According to the present disclosure, when used as a raw material for collecting a piezoelectric film piece, the yield at the time of collecting the piezoelectric film piece is improved, and the piezoelectric film can be manufactured easily and at a high yield. And the manufacturing method of the polymeric piezoelectric film suitable for manufacture of the said polymeric piezoelectric film is provided.
Moreover, according to this indication, the manufacturing method of the piezoelectric film piece suitable for manufacture of the piezoelectric film piece and laminated body which can manufacture a piezoelectric element simply, and the said piezoelectric film piece is provided.
Moreover, according to this indication, the piezoelectric element which can be manufactured easily is provided.
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「フィルム」は、一般的に「フィルム」と呼ばれているものだけでなく、一般的に「シート」と呼ばれているものをも包含する概念である。
また、本明細書において、「主面」とは、フィルムの全表面のうち端面以外の面、即ち、面積が最も大きい面を指す。以下では、単に「面」というときは、主面を指すものとする。
In this specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
Further, in the present specification, “film” is a concept including not only what is generally called “film” but also what is generally called “sheet”.
Moreover, in this specification, a "main surface" refers to surfaces other than an end surface among all the surfaces of a film, ie, a surface with the largest area. In the following, the term “surface” refers to the main surface.
〔高分子圧電フィルム〕
本開示の高分子圧電フィルムは、重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%である高分子圧電フィルムであって、長尺形状を有し、長手方向長さが10m以上であり、幅方向一端部における上記ヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向Laと、幅方向他端部における上記ヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向Lbと、の平面視角度θ1が、70°〜110°であり、長手方向と分子配向方向Laとの平面視角度θ2が、35°〜55°であり、長手方向と分子配向方向Lbとの平面視角度θ3が、35°〜55°である高分子圧電フィルムである。
[Polymer piezoelectric film]
The polymer piezoelectric film of the present disclosure includes a helical chiral polymer (A) having an optical activity having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000, and a crystallinity obtained by a DSC method is 20% to 80%. A polymer piezoelectric film having a long shape, a longitudinal length of 10 m or more, a molecular orientation direction La of the helical chiral polymer (A) at one end in the width direction, and the other end in the width direction The planar viewing angle θ1 of the helical chiral polymer (A) with respect to the molecular orientation direction Lb is from 70 ° to 110 °, and the planar viewing angle θ2 between the longitudinal direction and the molecular orientation direction La is from 35 ° to 55. It is a polymer piezoelectric film in which the planar view angle θ3 between the longitudinal direction and the molecular orientation direction Lb is 35 ° to 55 °.
本開示の高分子圧電フィルムにおける分子配向方向(即ち、分子配向方向La及び分子配向方向Lb)は、上記ヘリカルキラル高分子(A)が正の複屈折率を有する材料である場合には進相軸を意味し、上記ヘリカルキラル高分子(A)が負の複屈折率を有する材料である場合には遅相軸を意味する。
本開示における分子配向方向は、株式会社フォトニックライティス社製「複屈折評価システム」WPA−100を用いて測定できる。
The molecular orientation directions (that is, the molecular orientation direction La and the molecular orientation direction Lb) in the polymer piezoelectric film of the present disclosure are advanced when the helical chiral polymer (A) is a material having a positive birefringence. It means an axis, and when the helical chiral polymer (A) is a material having a negative birefringence, it means a slow axis.
The molecular orientation direction in the present disclosure can be measured using a “birefringence evaluation system” WPA-100 manufactured by Photonic Lightis Co., Ltd.
本開示の高分子圧電フィルムにおいて、「平面視角度」とは、高分子圧電フィルムの法線方向から見た場合の角度を意味する。
本開示の高分子圧電フィルムにおいて、「幅方向一端部」とは、高分子圧電フィルムの幅方向の一端を含む、全幅長の25%の領域を意味する。
本開示の高分子圧電フィルムにおいて、「幅方向他端部」とは、高分子圧電フィルムの幅方向の他端を含む、全幅長の25%の領域を意味する。
In the polymer piezoelectric film of the present disclosure, the “plan view angle” means an angle when viewed from the normal direction of the polymer piezoelectric film.
In the polymer piezoelectric film of the present disclosure, “one end in the width direction” means a region of 25% of the entire width including one end in the width direction of the polymer piezoelectric film.
In the polymer piezoelectric film of the present disclosure, “the other end in the width direction” means a region of 25% of the total width including the other end in the width direction of the polymer piezoelectric film.
従来の圧電フィルムでは、分子配向方向と圧電フィルムの長手方向とが平行となっていた。このため、従来は、圧電フィルムを原反とし、原反から、圧電素子作製用の圧電フィルム片を採取するためには、原反の長手方向に対して傾斜する方向(例えば、原反の長手方向に対して45°の方向)を長手方向とする圧電フィルム片を採取する必要があった。この理由は、原反の長手方向に対して平行な方向を長手方向とするフィルム片を採取した場合には、採取されたフィルム片が圧電性(例えば、後述の圧電定数d14)を示さないためである。
上述した事情により、従来の圧電フィルム(原反)から圧電素子作製用の圧電フィルム片を採取する場合、必然的に、原反の幅方向両端部に、圧電フィルム片として採取することができない領域(即ち、廃棄すべき無駄な領域)が生じていた。
以上の理由により、従来の圧電フィルムでは、この圧電フィルムを原反とし、原反から圧電フィルム片を採取する際の歩留まりが低いという問題があった。
In the conventional piezoelectric film, the molecular orientation direction and the longitudinal direction of the piezoelectric film are parallel. For this reason, conventionally, in order to extract a piezoelectric film piece for producing a piezoelectric element from a raw film using a piezoelectric film as a raw fabric, a direction inclined with respect to the longitudinal direction of the original fabric (for example, the longitudinal direction of the original fabric) It was necessary to collect a piezoelectric film piece having a longitudinal direction of 45 ° with respect to the direction. This is because, when a film piece whose longitudinal direction is parallel to the longitudinal direction of the original fabric is collected, the collected film piece does not exhibit piezoelectricity (for example, a piezoelectric constant d 14 described later). Because.
Due to the circumstances described above, when collecting a piezoelectric film piece for producing a piezoelectric element from a conventional piezoelectric film (original fabric), it is inevitably an area that cannot be collected as a piezoelectric film piece at both ends in the width direction of the original fabric. (That is, useless areas to be discarded) have occurred.
For the above reasons, the conventional piezoelectric film has a problem that the yield is low when the piezoelectric film is used as an original fabric and a piezoelectric film piece is collected from the original fabric.
従来の圧電フィルムに対し、本開示の高分子圧電フィルムでは、分子配向方向La及び分子配向方向Lbが、いずれも圧電フィルムの長手方向に対して平行ではなく、いずれも圧電フィルムの長手方向に対して35°〜55°の角度にて傾斜している。
このため、本開示の高分子圧電フィルムでは、圧電フィルム片を採取するための原反として用いたときに、原反の幅方向両端部において、廃棄すべき無駄な領域を少なくすることができる。
従って、本開示の高分子圧電フィルムでは、圧電フィルム片を採取する際の歩留まり(以下、「材料歩留まり」ともいう)が向上する。
In contrast to the conventional piezoelectric film, in the polymer piezoelectric film of the present disclosure, the molecular orientation direction La and the molecular orientation direction Lb are not parallel to the longitudinal direction of the piezoelectric film, and both are relative to the longitudinal direction of the piezoelectric film. It is inclined at an angle of 35 ° to 55 °.
For this reason, in the polymer piezoelectric film of the present disclosure, when it is used as a raw material for collecting a piezoelectric film piece, it is possible to reduce wasteful areas to be discarded at both ends in the width direction of the raw material.
Therefore, in the polymer piezoelectric film of the present disclosure, the yield when collecting the piezoelectric film pieces (hereinafter also referred to as “material yield”) is improved.
また、従来、圧電フィルム片を用いた圧電素子(アクチュエーター、センサー等)を製造する際には、まず、原反としての圧電フィルムから複数の圧電フィルム片を採取し、採取された複数の圧電フィルム片のそれぞれの両面に電極層を設けることにより、複数の積層体(両面に電極層が設けられた圧電フィルム片)を製造していた。次いで、複数の積層体を接着層(例えば、粘着層、硬化層等)を介して重ね合わせることにより、圧電フィルムを製造していた。
しかし、上記従来の圧電素子を製造する方法は、圧電素子を製造するために取り扱う部品(即ち、積層体)の数が多く、また、原反から採取する圧電フィルム片の数も多く、煩雑であった。また、複数の積層体を重ね合わせる際の角度合わせの操作(詳細には、複数の積層体間で、分子配向方向が略平行となるように重ね合わせる操作)も煩雑であった。
Conventionally, when a piezoelectric element (actuator, sensor, etc.) using a piezoelectric film piece is manufactured, first, a plurality of piezoelectric film pieces are collected from the piezoelectric film as an original fabric, and the plurality of collected piezoelectric films are collected. A plurality of laminates (piezoelectric film pieces provided with electrode layers on both sides) were manufactured by providing electrode layers on both sides of each piece. Next, a piezoelectric film was manufactured by superimposing a plurality of laminated bodies via an adhesive layer (for example, an adhesive layer, a hardened layer, etc.).
However, the above-described conventional method for manufacturing a piezoelectric element is complicated because it requires a large number of parts (that is, laminates) to be manufactured to manufacture the piezoelectric element and a large number of piezoelectric film pieces collected from the original fabric. there were. In addition, the operation of aligning the angles when superimposing a plurality of laminated bodies (specifically, the operation of superposing the plurality of laminated bodies so that the molecular orientation directions are substantially parallel) is also complicated.
本開示の高分子圧電フィルムを用いて圧電素子を製造する場合には、本開示の高分子圧電フィルムから、高分子圧電フィルムの幅方向一端部の少なくとも一部及び高分子圧電フィルムの幅方向他端部の少なくとも一部を含む圧電フィルム片を採取し、採取された圧電フィルム片を(必要に応じ、圧電フィルム片に対して電極層及び接着層を形成した後に)曲げ変形させることにより、圧電素子を製造することができる。詳細には、上記圧電フィルム片において、一端部の分子配向方向と、他端部の分子配向方向と、の平面視角度が、70°〜110°となっている。この圧電フィルム片を、その一端部及び他端部の中間点付近を中心として曲げ変形させ、一端部の分子配向方向と他端部の分子配向方向とが略平行となるように重ね合わせることにより、圧電素子を製造することができる。これにより、圧電フィルム片の両面に電極層が設けられた複数の積層体を重ね合わせる従来の方法と比較して、部品(積層体及び圧電フィルム片)の数を減らすことができる。
また、上記圧電フィルム片を用いて圧電素子を製造する場合には、圧電フィルム片の両面に電極層が設けられた複数の積層体を重ね合わせる従来の方法と比較して、原反である圧電フィルムから採取する圧電フィルム片の数も減らすことができる。
更に、上記圧電フィルム片を用いて圧電素子を製造する場合には、圧電フィルム片を、その一端部及び他端部の中間点付近を中心として曲げ変形させることにより、一端部の分子配向方向と他端部の分子配向方向との角度合わせ(即ち、一端部の分子配向方向と他端部の分子配向方向とが略平行となるように重ね合わせること)が容易となる。
以上の理由により、本開示の高分子圧電フィルムを用いることにより、圧電素子を簡易に製造することができる。
When a piezoelectric element is manufactured using the polymer piezoelectric film of the present disclosure, at least a part of one end in the width direction of the polymer piezoelectric film, the width direction of the polymer piezoelectric film, and the like from the polymer piezoelectric film of the present disclosure. Piezoelectric film pieces including at least a part of the end portion are collected, and the collected piezoelectric film pieces are bent and deformed (after an electrode layer and an adhesive layer are formed on the piezoelectric film pieces as necessary) An element can be manufactured. Specifically, in the piezoelectric film piece, the planar view angle between the molecular orientation direction at one end and the molecular orientation direction at the other end is 70 ° to 110 °. This piezoelectric film piece is bent and deformed around the middle point between its one end and the other end, and is superposed so that the molecular orientation direction at one end and the molecular orientation direction at the other end are substantially parallel. A piezoelectric element can be manufactured. Thereby, the number of parts (laminated body and piezoelectric film piece) can be reduced compared with the conventional method of laminating | stacking the several laminated body in which the electrode layer was provided on both surfaces of the piezoelectric film piece.
In addition, when a piezoelectric element is manufactured using the above-described piezoelectric film piece, the piezoelectric film is a raw material as compared with a conventional method in which a plurality of laminated bodies each having electrode layers provided on both sides of the piezoelectric film piece are overlaid. The number of piezoelectric film pieces collected from the film can also be reduced.
Furthermore, when manufacturing a piezoelectric element using the above-mentioned piezoelectric film piece, the piezoelectric film piece is bent and deformed around the middle point between the one end and the other end thereof, so that the molecular orientation direction at one end Angle alignment with the molecular orientation direction of the other end portion (that is, superposition so that the molecular orientation direction of one end portion and the molecular orientation direction of the other end portion are substantially parallel) becomes easy.
For the above reasons, a piezoelectric element can be easily manufactured by using the polymer piezoelectric film of the present disclosure.
また、上述のとおり、本開示の高分子圧電フィルムは、圧電フィルム片を採取するための原反として用いたときに、圧電フィルム片を採取する際の歩留まりが向上する。
従って、本開示の高分子圧電フィルムを用いることにより、圧電素子を高歩留まりで製造することができる。
In addition, as described above, when the polymer piezoelectric film of the present disclosure is used as a raw material for collecting a piezoelectric film piece, the yield when collecting the piezoelectric film piece is improved.
Therefore, by using the polymer piezoelectric film of the present disclosure, the piezoelectric element can be manufactured with a high yield.
本開示の高分子圧電フィルムを用いた圧電素子として、好ましくは、圧電フィルム片の両面に電極層が形成された構造を有する積層体を備え、この積層体が、圧電フィルム片の一端部と圧電フィルム片の他端部とが平面視で重なる方向に曲げ変形されている構造の圧電素子(以下、「圧電素子A」ともいう)である。
この圧電素子Aは、ベンディングアクチュエーター(例えば、図4、図6、及び図7に示すベンディングアクチュエーター120。詳細は後述する。)として好適である。
The piezoelectric element using the polymer piezoelectric film of the present disclosure preferably includes a laminated body having a structure in which electrode layers are formed on both surfaces of the piezoelectric film piece, and the laminated body includes one end portion of the piezoelectric film piece and a piezoelectric element. It is a piezoelectric element (hereinafter also referred to as “piezoelectric element A”) having a structure in which the other end of the film piece is bent and deformed in the direction of overlapping in plan view.
The piezoelectric element A is suitable as a bending actuator (for example, the bending actuator 120 shown in FIGS. 4, 6, and 7; details will be described later).
本開示の高分子圧電フィルムは、長尺形状のフィルムである。
本開示の高分子圧電フィルムの長手方向長さは、10m以上である。
上記長手方向長さが10m以上であることにより、高分子圧電フィルムから圧電フィルム片を採取(例えば打ち抜く)作業を、ロールツーロール方式によって連続的に行うことがより容易となる。
The polymer piezoelectric film of the present disclosure is a long film.
The longitudinal length of the polymer piezoelectric film of the present disclosure is 10 m or more.
When the length in the longitudinal direction is 10 m or more, it is easier to continuously perform the operation of collecting (for example, punching out) the piezoelectric film pieces from the polymer piezoelectric film by the roll-to-roll method.
本開示の高分子圧電フィルムの長手方向長さとしては、15m以上が好ましい。
また、本開示の高分子圧電フィルムの長手方向長さとしては、3000m以下が好ましく、2000m以下がより好ましい。
The longitudinal length of the polymer piezoelectric film of the present disclosure is preferably 15 m or more.
Further, the length in the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film of the present disclosure is preferably 3000 m or less, and more preferably 2000 m or less.
本開示の高分子圧電フィルムの幅方向長さには特に制限はないが、上記幅方向長さは、例えば、60mm〜2000mmとすることができ、150mm〜1000mmが好ましく、200mm〜600mmがより好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular in the width direction length of the polymeric piezoelectric film of this indication, The said width direction length can be 60 mm-2000 mm, for example, 150 mm-1000 mm are preferable, and 200 mm-600 mm are more preferable. .
本開示の高分子圧電フィルムの膜厚には特に制限はないが、10μm〜400μmが好ましく、10μm〜200μmがより好ましく、10μm〜100μmが更に好ましく、10μm〜80μmが特に好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular in the film thickness of the polymeric piezoelectric film of this indication, 10 micrometers-400 micrometers are preferable, 10 micrometers-200 micrometers are more preferable, 10 micrometers-100 micrometers are still more preferable, 10 micrometers-80 micrometers are especially preferable.
本開示の高分子圧電フィルムは、二軸延伸フィルムであることが好ましい。
本開示の高分子圧電フィルムは、二軸延伸時のボーイング現象の程度を適切な範囲に制御することによって製造できる。
本開示の高分子圧電フィルムの好ましい製造方法については後述する。
The polymer piezoelectric film of the present disclosure is preferably a biaxially stretched film.
The polymer piezoelectric film of the present disclosure can be manufactured by controlling the extent of the bowing phenomenon during biaxial stretching to an appropriate range.
A preferred method for producing the polymer piezoelectric film of the present disclosure will be described later.
本開示の高分子圧電フィルムにおいて、分子配向方向Laと分子配向方向Lbとの平面視角度(θ1)は、前述のとおり70°〜110°であるが、好ましくは80°〜100°であり、より好ましくは85°〜95°である。
本開示の高分子圧電フィルムにおいて、高分子圧電フィルムの長手方向と分子配向方向Laとの平面視角度(θ2)は、前述のとおり35°〜55°であるが、好ましくは40°〜50°であり、より好ましくは42.5°〜47.5°である。
本開示の高分子圧電フィルムにおいて、高分子圧電フィルムの長手方向と分子配向方向Lbとの平面視角度(θ3)は、前述のとおり35°〜55°であるが、好ましくは40°〜50°であり、より好ましくは42.5°〜47.5°である。
θ2とθ3との差(絶対値)は、0°〜10°であることが好ましく、0°〜5°であることがより好ましい
In the polymer piezoelectric film of the present disclosure, the planar view angle (θ1) between the molecular orientation direction La and the molecular orientation direction Lb is 70 ° to 110 ° as described above, preferably 80 ° to 100 °, More preferably, it is 85 ° to 95 °.
In the polymer piezoelectric film of the present disclosure, the planar view angle (θ2) between the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film and the molecular orientation direction La is 35 ° to 55 ° as described above, and preferably 40 ° to 50 °. And more preferably 42.5 ° to 47.5 °.
In the polymer piezoelectric film of the present disclosure, the planar view angle (θ3) between the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film and the molecular orientation direction Lb is 35 ° to 55 ° as described above, and preferably 40 ° to 50 °. And more preferably 42.5 ° to 47.5 °.
The difference (absolute value) between θ2 and θ3 is preferably 0 ° to 10 °, and more preferably 0 ° to 5 °.
本明細書中において、高分子圧電フィルムの長手方向と分子配向方向Laとの平面視角度θ2は、高分子圧電フィルムの長手方向と分子配向方向Laとの平面視角度のうち、小さい方の角度を意味する。例えば、高分子圧電フィルムの長手方向と分子配向方向Laとの平面視角度が45°及び135°である場合には、θ2は45°とする。
高分子圧電フィルムの長手方向と分子配向方向Lbとの平面視角度θ3についても同様である。
In this specification, the planar view angle θ2 between the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film and the molecular orientation direction La is the smaller of the planar view angles between the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film and the molecular orientation direction La. Means. For example, when the planar view angles between the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film and the molecular orientation direction La are 45 ° and 135 °, θ2 is set to 45 °.
The same applies to the planar viewing angle θ3 between the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film and the molecular orientation direction Lb.
<一実施形態>
次に、図面を参照しながら、本開示の一実施形態について説明する。しかし、本開示は、以下の一実施形態に限定されることはない。
各図面に共通の要素については、同一の符号を付すことがあり、重複した説明を省略することがある。
<One Embodiment>
Next, an embodiment of the present disclosure will be described with reference to the drawings. However, the present disclosure is not limited to the following embodiment.
Elements common to the drawings may be given the same reference numerals, and redundant description may be omitted.
図1は、本開示の一実施形態に係る高分子圧電フィルム10を概念的に示す概略平面図である。
図2は、高分子圧電フィルム10から採取された圧電フィルム片100を概念的に示す概略斜視図である。
図1及び図2中の矢印は、それぞれ、高分子圧電フィルム10及び圧電フィルム片100中におけるヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向を示している。
FIG. 1 is a schematic plan view conceptually showing a polymer piezoelectric film 10 according to an embodiment of the present disclosure.
FIG. 2 is a schematic perspective view conceptually showing the piezoelectric film piece 100 taken from the polymer piezoelectric film 10.
The arrows in FIGS. 1 and 2 indicate the molecular orientation directions of the helical chiral polymer (A) in the polymer piezoelectric film 10 and the piezoelectric film piece 100, respectively.
図1に示されるように、高分子圧電フィルム10は、MD方向を長手方向とし、TD方向を幅方向とする長尺形状のフィルムである。
高分子圧電フィルム10の長手方向長さ(MD方向の長さ)は、10m以上であり、好ましい範囲は前述のとおりである。
高分子圧電フィルム10の幅方向長さ(TD方向の長さ)の好ましい範囲、及び高分子圧電フィルム10の厚さの好ましい範囲は前述のとおりである。
高分子圧電フィルム10は、重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%である高分子圧電フィルムである。
As shown in FIG. 1, the polymer piezoelectric film 10 is a long film having the MD direction as the longitudinal direction and the TD direction as the width direction.
The longitudinal length of the polymer piezoelectric film 10 (length in the MD direction) is 10 m or more, and the preferred range is as described above.
The preferable range of the width direction length (length in the TD direction) of the polymer piezoelectric film 10 and the preferable range of the thickness of the polymer piezoelectric film 10 are as described above.
The polymer piezoelectric film 10 includes a helical chiral polymer (A) having an optical activity having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000, and a polymer having a crystallinity of 20% to 80% obtained by a DSC method. It is a piezoelectric film.
ここで、「MD方向」とはフィルムの流れる方向(Machine Direction)を指し、「TD方向」とは、MD方向と直交し、かつ、フィルムの主面と平行な方向(Transverse Direction)を指す(以下、同様である)。 Here, “MD direction” refers to the direction in which the film flows (Machine Direction), and “TD direction” refers to the direction (Transverse Direction) that is orthogonal to the MD direction and parallel to the main surface of the film ( The same applies hereinafter).
高分子圧電フィルム10の幅方向一端部12において、ヘリカルキラル高分子(A)は分子配向方向Laに分子配向している。
また、高分子圧電フィルム10の幅方向他端部14において、ヘリカルキラル高分子(A)は分子配向方向Lbに分子配向している。
高分子圧電フィルム10において、分子配向方向Laと分子配向方向Lbとの平面視角度θ1は、90°である。但し、本開示の高分子圧電フィルムにおけるθ1は、前述のとおり、70°〜110°であればよい。
高分子圧電フィルム10において、分子配向方向Laと長手方向(MD方向)との平面視角度θ2は、45°である。但し、本開示の高分子圧電フィルムにおけるθ2は、前述のとおり、35°〜55°であればよい。
高分子圧電フィルム10において、分子配向方向Lbと長手方向(MD方向)とのなす角度θ3は、45°である。但し、本開示の高分子圧電フィルムにおけるθ3は、前述のとおり、35°〜55°であればよい。
At one end 12 in the width direction of the polymer piezoelectric film 10, the helical chiral polymer (A) is molecularly oriented in the molecular orientation direction La.
Further, at the other end 14 in the width direction of the polymer piezoelectric film 10, the helical chiral polymer (A) is molecularly oriented in the molecular orientation direction Lb.
In the polymer piezoelectric film 10, the planar view angle θ1 between the molecular orientation direction La and the molecular orientation direction Lb is 90 °. However, θ1 in the polymer piezoelectric film of the present disclosure may be 70 ° to 110 ° as described above.
In the polymer piezoelectric film 10, the planar viewing angle θ2 between the molecular orientation direction La and the longitudinal direction (MD direction) is 45 °. However, θ2 in the polymer piezoelectric film of the present disclosure may be 35 ° to 55 ° as described above.
In the polymer piezoelectric film 10, an angle θ3 formed by the molecular orientation direction Lb and the longitudinal direction (MD direction) is 45 °. However, θ3 in the polymer piezoelectric film of the present disclosure may be 35 ° to 55 ° as described above.
図1及び図2に示されるように、高分子圧電フィルム10を原反とし、高分子圧電フィルム10の幅方向一端部12の一部及び他端部14の一部を含む圧電フィルム片100を採取することができる。
圧電フィルム片100は、矩形状(短冊状)のフィルム片である。
圧電フィルム片100において、圧電フィルム片100の長手方向一端部12Aは、高分子圧電フィルム10の幅方向一端部12の一部である。
また、圧電フィルム片100において、圧電フィルム片100の長手方向他端部14Aは、高分子圧電フィルム10の幅方向他端部14の一部である。
言い換えれば、高分子圧電フィルム10の長手方向と圧電フィルム片100の幅方向とが一致している。
従って、高分子圧電フィルム10から、多数の矩形状(短冊状)の圧電フィルム片100を、無駄なく(即ち、高歩留まりで)採取することができる。つまり、高分子圧電フィルム10から多数の圧電フィルム片100を採取するにあたり、特に高分子圧電フィルム10の幅方向両端部において、廃棄すべき無駄な領域を少なくすることができる。
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, a piezoelectric film piece 100 that includes a polymer piezoelectric film 10 as a raw material and includes a part of one end 12 in the width direction and a part of the other end 14 of the polymer piezoelectric film 10. Can be collected.
The piezoelectric film piece 100 is a rectangular (strip-shaped) film piece.
In the piezoelectric film piece 100, the longitudinal direction one end portion 12 </ b> A of the piezoelectric film piece 100 is a part of the width direction one end portion 12 of the polymer piezoelectric film 10.
In the piezoelectric film piece 100, the other end portion 14 </ b> A in the longitudinal direction of the piezoelectric film piece 100 is a part of the other end portion 14 in the width direction of the polymer piezoelectric film 10.
In other words, the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film 10 coincides with the width direction of the piezoelectric film piece 100.
Therefore, a large number of rectangular (strip-shaped) piezoelectric film pieces 100 can be collected from the polymer piezoelectric film 10 without waste (that is, at a high yield). That is, when collecting a large number of piezoelectric film pieces 100 from the polymer piezoelectric film 10, it is possible to reduce wasteful areas to be discarded, particularly at both ends in the width direction of the polymer piezoelectric film 10.
次に、図3〜図5を参照し、圧電フィルム片100を用いたベンディングアクチュエーター120について説明する。ベンディングアクチュエーター120は、前述の圧電素子Aの一例である。
図3は、本開示の一実施形態に係るベンディングアクチュエーター120の製造に用いられる積層体110(曲げ変形される前の積層体)を概念的に示す概略斜視図である。
図4は、本開示の一実施形態に係るベンディングアクチュエーター120を概念的に示す概略斜視図である。
図5は、本開示の一実施形態に係るベンディングアクチュエーター120のうち、圧電フィルム片100のみを示す概略斜視図である。
Next, the bending actuator 120 using the piezoelectric film piece 100 will be described with reference to FIGS. The bending actuator 120 is an example of the piezoelectric element A described above.
FIG. 3 is a schematic perspective view conceptually showing a stacked body 110 (a stacked body before bending deformation) used for manufacturing the bending actuator 120 according to an embodiment of the present disclosure.
FIG. 4 is a schematic perspective view conceptually showing a bending actuator 120 according to an embodiment of the present disclosure.
FIG. 5 is a schematic perspective view showing only the piezoelectric film piece 100 in the bending actuator 120 according to the embodiment of the present disclosure.
ベンディングアクチュエーター120を作製するためには、まず、図3に示されるように、圧電フィルム片100と、圧電フィルム片100の一方の面の全面に形成された全面電極層102と、圧電フィルム片100の他方の面の全面に形成された全面電極層104と、全面電極層102から見て圧電フィルム片100が配置されている側とは反対側に(即ち、圧電フィルム片100から見て全面電極層102の外側に)配置された接着層106と、を備える積層体110を準備する。
全面電極層102と接着層106との間には、アンカーコーティング層等のその他の層(不図示)が介在していてもよい。接着層106としては、粘着層又は硬化層を用いることができる。
In order to manufacture the bending actuator 120, first, as shown in FIG. 3, the piezoelectric film piece 100, the entire surface electrode layer 102 formed on the entire surface of one surface of the piezoelectric film piece 100, and the piezoelectric film piece 100 The entire surface electrode layer 104 formed on the entire other surface of the electrode and the side opposite to the side where the piezoelectric film piece 100 is disposed when viewed from the entire surface electrode layer 102 (that is, the entire surface electrode when viewed from the piezoelectric film piece 100) A laminate 110 is provided comprising an adhesive layer 106 disposed on the outside of the layer 102.
Other layers (not shown) such as an anchor coating layer may be interposed between the entire surface electrode layer 102 and the adhesive layer 106. As the adhesive layer 106, an adhesive layer or a cured layer can be used.
次に、図3に示される積層体110を、接着層106が内側となり、かつ、圧電フィルム片100の一端部12Aと圧電フィルム片100の他端部14Aとが平面視で重なる方向に、曲げ変形させることにより、図4に示されるベンディングアクチュエーター120を製造する。
図5に示されるように、ベンディングアクチュエーター120中の圧電フィルム片100は、圧電フィルム片100の長手方向の中心線で曲げられ、圧電フィルム片100の長手方向一端部12Aと他端部14Aとが対向している。その結果、一端部12の分子配向方向Laと他端部14の分子配向方向Lbとが略平行となっている。
図2に示すように、曲げ変形させる前の圧電フィルム片100において、分子配向方向Laと分子配向方向Lbとは、長手方向の中心線に対して線対称となっている。このため、長手方向の中心線で圧電フィルム片100を曲げ変形させることにより、分子配向方向Laと分子配向方向Lbとを略平行とすることは容易である(図5参照)。即ち、圧電フィルム片100を曲げ変形させる上記方法でベンディングアクチュエーター120を製造することにより、上層(他端部14A)及び下層(一端部12A)における分子配向方向の角度合わせが容易となる。
Next, the laminate 110 shown in FIG. 3 is bent in a direction in which the adhesive layer 106 is inside and the one end 12A of the piezoelectric film piece 100 and the other end 14A of the piezoelectric film piece 100 overlap in plan view. By deforming, the bending actuator 120 shown in FIG. 4 is manufactured.
As shown in FIG. 5, the piezoelectric film piece 100 in the bending actuator 120 is bent at the center line in the longitudinal direction of the piezoelectric film piece 100, and the longitudinal direction one end portion 12 </ b> A and the other end portion 14 </ b> A of the piezoelectric film piece 100 are formed. Opposite. As a result, the molecular orientation direction La of the one end portion 12 and the molecular orientation direction Lb of the other end portion 14 are substantially parallel.
As shown in FIG. 2, in the piezoelectric film piece 100 before bending deformation, the molecular orientation direction La and the molecular orientation direction Lb are axisymmetric with respect to the center line in the longitudinal direction. For this reason, it is easy to make the molecular orientation direction La and the molecular orientation direction Lb substantially parallel by bending and deforming the piezoelectric film piece 100 along the center line in the longitudinal direction (see FIG. 5). That is, by manufacturing the bending actuator 120 by the above-described method in which the piezoelectric film piece 100 is bent and deformed, the angle alignment in the molecular orientation direction in the upper layer (the other end portion 14A) and the lower layer (the one end portion 12A) becomes easy.
次に、図6及び図7を参照し、ベンディングアクチュエーター120の動作について説明する。
図6及び図7は、いずれも、ベンディングアクチュエーター120に交流電圧が印加される様子を示す概略断面図である。
図6は、ベンディングアクチュエーター120において、圧電フィルム片100の一端部12Aと他端部14Aとが離れる方向の力F1が働く時の様子を示しており、図7は、ベンディングアクチュエーター120において、圧電フィルム片100の一端部12Aと他端部14Aとが近づく方向の力F2が働く時の様子を示している。
Next, the operation of the bending actuator 120 will be described with reference to FIGS.
6 and 7 are schematic cross-sectional views showing a state in which an AC voltage is applied to the bending actuator 120. FIG.
FIG. 6 shows a state in which a force F1 in a direction in which the one end portion 12A and the other end portion 14A of the piezoelectric film piece 100 are separated acts in the bending actuator 120. FIG. The state when the force F2 in the direction in which the one end portion 12A and the other end portion 14A of the piece 100 approach is shown.
図6及び図7に示されるように、ベンディングアクチュエーター120には、外側に位置する全面電極層104と、内側に位置する全面電極層102と、の間に交流電圧が印加される。この交流電圧の印加により、圧電フィルム片100の厚さ方向の電界が生じる。 このとき、圧電フィルム片100の一端部12A及び他端部14Aには、反対方向の(言い換えれば逆位相の)電界が生じる。一方、ベンディングアクチュエーター120において、圧電フィルム片100の一端部12A及び他端部14Aの分子配向方向(分子配向方向La及び分子配向方向Lb)は略平行となっている。
従って、ベンディングアクチュエーター120では、交流電圧が印加されることにより、圧電フィルム片100の一端部12Aと他端部14Aとの間には、反対向きの力(図6中の力F1及び図7中の力F2)が交互に発生する。
以上の結果、ベンディングアクチュエーター120では、交流電圧が印加されることにより、圧電フィルム片100の一端部12と他端部14とがベンディング振動する(即ち、ベンディングアクチュエーター120が動作する)。
As shown in FIGS. 6 and 7, an alternating voltage is applied to the bending actuator 120 between the entire surface electrode layer 104 positioned on the outer side and the entire surface electrode layer 102 positioned on the inner side. The application of the AC voltage generates an electric field in the thickness direction of the piezoelectric film piece 100. At this time, an electric field in the opposite direction (in other words, in reverse phase) is generated in the one end portion 12A and the other end portion 14A of the piezoelectric film piece 100. On the other hand, in the bending actuator 120, the molecular orientation directions (the molecular orientation direction La and the molecular orientation direction Lb) of the one end portion 12A and the other end portion 14A of the piezoelectric film piece 100 are substantially parallel.
Therefore, in the bending actuator 120, an alternating voltage is applied between the one end portion 12A and the other end portion 14A of the piezoelectric film piece 100 (force F1 in FIG. 6 and FIG. 7). Force F2) is generated alternately.
As a result, in the bending actuator 120, the alternating voltage is applied, whereby the one end portion 12 and the other end portion 14 of the piezoelectric film piece 100 bend and vibrate (that is, the bending actuator 120 operates).
次に、図8を参照し、既述の本実施形態に係る高分子圧電フィルム10との対比のために、従来の高分子圧電フィルムの一例である比較用高分子圧電フィルム210について説明する。
図8は、比較用高分子圧電フィルム210を概念的に示す概略平面図である。
図8に示されるように、比較用高分子圧電フィルム210では、ヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向が、面内において全て同じ方向(長手方向、即ちMD方向)となっている。即ち、比較用高分子圧電フィルム210では、幅方向一端部212におけるヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向R1と、幅方向他端部214におけるヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向R2と、が平行となっている。
比較用高分子圧電フィルム210から圧電フィルム片を採取する際には、例えば、比較用圧電フィルム片300A及び300Bのように、比較用高分子圧電フィルム210の長手方向に対し交差する方向(例えば、比較用高分子圧電フィルム210の長手方向に対し45°の方向)を長手方向とする圧電フィルム片を採取する必要がある。このように採取しなければ、充分な圧電性(例えば、圧電定数d14)が得られないためである。このため、比較用高分子圧電フィルム210から圧電フィルム片を採取する際には、廃棄部分220A及び220B等の廃棄すべき部分が生じることになる。
従って、比較用高分子圧電フィルム210から圧電フィルム片を採取する際の歩留まりは、高分子圧電フィルム10から圧電フィルム片100を採取する際の歩留まりと比較して低くなる。
Next, for comparison with the polymer piezoelectric film 10 according to the above-described embodiment, a comparative polymer piezoelectric film 210 as an example of a conventional polymer piezoelectric film will be described with reference to FIG.
FIG. 8 is a schematic plan view conceptually showing the comparative polymer piezoelectric film 210.
As shown in FIG. 8, in the comparative polymer piezoelectric film 210, the molecular orientation directions of the helical chiral polymer (A) are all the same in the plane (longitudinal direction, that is, MD direction). That is, in the comparative polymer piezoelectric film 210, the molecular orientation direction R1 of the helical chiral polymer (A) at one end portion 212 in the width direction and the molecular orientation direction R2 of the helical chiral polymer (A) at the other end portion 214 in the width direction. And are parallel.
When collecting a piezoelectric film piece from the comparative polymer piezoelectric film 210, for example, a direction intersecting the longitudinal direction of the comparative polymer piezoelectric film 210 (for example, the comparative piezoelectric film pieces 300A and 300B) (for example, It is necessary to collect a piezoelectric film piece having a longitudinal direction of 45 ° with respect to the longitudinal direction of the comparative polymer piezoelectric film 210. This is because sufficient piezoelectricity (for example, the piezoelectric constant d 14 ) cannot be obtained unless it is collected in this way. For this reason, when the piezoelectric film piece is collected from the comparative polymer piezoelectric film 210, there are portions to be discarded such as the discarding portions 220A and 220B.
Therefore, the yield when collecting the piezoelectric film piece from the comparative polymer piezoelectric film 210 is lower than the yield when collecting the piezoelectric film piece 100 from the polymer piezoelectric film 10.
また、比較用高分子圧電フィルム210を材料とし、前述のベンディングアクチュエーター120と同様の機能を有するベンディングアクチュエーターを製造する場合には、比較用圧電フィルム片300A及び300Bのように、2枚の圧電フィルム片を採取する必要がある。そして比較用圧電フィルム片300A及び300Bのそれぞれの両面に全面電極層を形成し、両者を互いの分子配向方向が略平行となるように重ね合わせる必要がある。即ち、この場合には、ベンディングアクチュエーターを製造するために、圧電フィルム片の両面に電極層が形成された構造の積層体を2つ準備し、2つの積層体を接着層を介して貼り合わせる必要がある。その理由は、仮に比較用高分子圧電フィルム210から1枚の圧電フィルム片を採取し、本開示の実施形態と同様の手法により、即ち、圧電フィルム片を曲げ変形させることによりベンディングアクチュエーターを製造しようとしても、圧電フィルム片の一端部と他端部との分子配向方向を略平行とすることが困難であるためである。
これに対し、前述のとおり、本開示の実施形態では、高分子圧電フィルム10から採取する圧電フィルム片の数が1枚で済む。
以上のように、比較用高分子圧電フィルム210を材料とし、前述のベンディングアクチュエーター120と同様の機能を有するベンディングアクチュエーターを製造する場合、本開示の実施形態と比較して、部品の数が2倍に増えるため、製造工程が煩雑となる。
更に、2つの積層体の角度合わせの操作も、本開示の実施形態と比較して煩雑である。
In the case of manufacturing a bending actuator having the same function as that of the above-described bending actuator 120 using the comparative polymer piezoelectric film 210 as a material, two piezoelectric films are used like the comparative piezoelectric film pieces 300A and 300B. It is necessary to collect a piece. Then, it is necessary to form full-surface electrode layers on both surfaces of each of the comparative piezoelectric film pieces 300A and 300B, and to superimpose them so that their molecular orientation directions are substantially parallel to each other. That is, in this case, in order to manufacture a bending actuator, it is necessary to prepare two laminates having a structure in which electrode layers are formed on both sides of a piezoelectric film piece, and to bond the two laminates through an adhesive layer. There is. The reason for this is that a single piezoelectric film piece is taken from the comparative polymer piezoelectric film 210 and a bending actuator is manufactured by the same method as in the embodiment of the present disclosure, that is, by bending the piezoelectric film piece. This is because it is difficult to make the molecular orientation directions of the one end and the other end of the piezoelectric film piece substantially parallel.
On the other hand, as described above, in the embodiment of the present disclosure, only one piezoelectric film piece is collected from the polymer piezoelectric film 10.
As described above, when manufacturing a bending actuator having the same function as that of the bending actuator 120 using the comparative polymer piezoelectric film 210 as a material, the number of components is doubled as compared with the embodiment of the present disclosure. Therefore, the manufacturing process becomes complicated.
Furthermore, the operation of adjusting the angle of the two stacked bodies is also complicated as compared with the embodiment of the present disclosure.
以上、本開示の一実施形態について説明したが、本開示は上記一実施形態に限定されるものではない。
より詳細には、高分子圧電フィルム10から採取される圧電フィルム片は、圧電フィルム片100には制限されない。
例えば、高分子圧電フィルム10から、幅方向一端部が高分子圧電フィルム10の幅方向一端部の一部に相当し、幅方向他端部が高分子圧電フィルム10の幅方向他端部に相当する矩形状の圧電フィルム片を採取してもよい。
また、高分子圧電フィルム10から、高分子圧電フィルム10の幅方向一端部及び他端部のいずれか一方を含む矩形状のフィルム片を採取してもよい。
更には、採取する圧電フィルムの形状も矩形状には限定されず、矩形以外の多角形状、楕円形状(円形状を含む)、不定形状であってもよい。
Although one embodiment of the present disclosure has been described above, the present disclosure is not limited to the one embodiment.
More specifically, the piezoelectric film piece collected from the polymer piezoelectric film 10 is not limited to the piezoelectric film piece 100.
For example, from the polymer piezoelectric film 10, one end in the width direction corresponds to a part of one end in the width direction of the polymer piezoelectric film 10, and the other end in the width direction corresponds to the other end in the width direction of the polymer piezoelectric film 10. A rectangular piezoelectric film piece may be collected.
Moreover, you may extract | collect the rectangular-shaped film piece containing either one of the width direction one end part and the other end part of the polymer piezoelectric film 10 from the polymer piezoelectric film 10. FIG.
Furthermore, the shape of the piezoelectric film to be collected is not limited to a rectangular shape, and may be a polygonal shape other than a rectangular shape, an elliptical shape (including a circular shape), or an indefinite shape.
また、本開示の高分子圧電フィルムは、ベンディングアクチュエーターの材料としてだけでなく、センサー等のその他の圧電素子の材料としても利用可能である。 The polymer piezoelectric film of the present disclosure can be used not only as a material for a bending actuator but also as a material for other piezoelectric elements such as a sensor.
次に、本開示の高分子圧電フィルム(例えば上述の高分子圧電フィルム10)について更に詳細に説明する。 Next, the polymer piezoelectric film of the present disclosure (for example, the polymer piezoelectric film 10 described above) will be described in more detail.
<ヘリカルキラル高分子(A)>
本開示の高分子圧電フィルムは、重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含む。
ここで、「光学活性を有するヘリカルキラル高分子」とは、分子構造が螺旋構造であり分子光学活性を有する高分子を指す。
<Helical chiral polymer (A)>
The polymer piezoelectric film of the present disclosure includes a helical chiral polymer (A) having an optical activity having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000.
Here, the “helical chiral polymer having optical activity” refers to a polymer having a helical structure and a molecular optical activity.
上記ヘリカルキラル高分子(A)としては、例えば、ポリペプチド、セルロース誘導体、ポリ乳酸系高分子、ポリプロピレンオキシド、ポリ(β―ヒドロキシ酪酸)等を挙げることができる。
上記ポリペプチドとしては、例えば、ポリ(グルタル酸γ−ベンジル)、ポリ(グルタル酸γ−メチル)等が挙げられる。
上記セルロース誘導体としては、例えば、酢酸セルロース、シアノエチルセルロース等が挙げられる。
Examples of the helical chiral polymer (A) include polypeptides, cellulose derivatives, polylactic acid polymers, polypropylene oxide, poly (β-hydroxybutyric acid), and the like.
Examples of the polypeptide include poly (glutarate γ-benzyl), poly (glutarate γ-methyl), and the like.
Examples of the cellulose derivative include cellulose acetate and cyanoethyl cellulose.
上記ヘリカルキラル高分子(A)としては、例えば、ポリペプチド、セルロース誘導体、ポリ乳酸系高分子、ポリプロピレンオキシド、ポリ(β―ヒドロキシ酪酸)等を挙げることができる。
上記ポリペプチドとしては、例えば、ポリ(グルタル酸γ−ベンジル)、ポリ(グルタル酸γ−メチル)等が挙げられる。
上記セルロース誘導体としては、例えば、酢酸セルロース、シアノエチルセルロース等が挙げられる。
Examples of the helical chiral polymer (A) include polypeptides, cellulose derivatives, polylactic acid polymers, polypropylene oxide, poly (β-hydroxybutyric acid), and the like.
Examples of the polypeptide include poly (glutarate γ-benzyl), poly (glutarate γ-methyl), and the like.
Examples of the cellulose derivative include cellulose acetate and cyanoethyl cellulose.
ヘリカルキラル高分子(A)は、高分子圧電フィルムの圧電性を向上する観点から、光学純度が95.00%ee以上であることが好ましく、96.00%ee以上であることがより好ましく、99.00%ee以上であることがさらに好ましく、99.99%ee以上であることがさらにより好ましい。望ましくは100.00%eeである。ヘリカルキラル高分子(A)の光学純度を上記範囲とすることで、圧電性を発現する高分子結晶のパッキング性が高くなり、その結果、圧電性が高くなるものと考えられる。 The helical chiral polymer (A) preferably has an optical purity of 95.00% ee or more, more preferably 96.00% ee or more, from the viewpoint of improving the piezoelectricity of the polymer piezoelectric film. More preferably, it is 99.00% ee or more, and even more preferably 99.99% ee or more. Desirably, it is 100.00% ee. By setting the optical purity of the helical chiral polymer (A) within the above range, the packing property of the polymer crystal that exhibits piezoelectricity is enhanced, and as a result, the piezoelectricity is considered to be enhanced.
ここで、ヘリカルキラル高分子(A)の光学純度は、下記式にて算出した値である。
光学純度(%ee)=100×|L体量−D体量|/(L体量+D体量)
すなわち、ヘリカルキラル高分子(A)の光学純度は、
『「ヘリカルキラル高分子(A)のL体の量〔質量%〕とヘリカルキラル高分子(A)のD体の量〔質量%〕との量差(絶対値)」を「ヘリカルキラル高分子(A)のL体の量〔質量%〕とヘリカルキラル高分子(A)のD体の量〔質量%〕との合計量」で割った(除した)数値』に、『100』をかけた(乗じた)値である。
Here, the optical purity of the helical chiral polymer (A) is a value calculated by the following formula.
Optical purity (% ee) = 100 × | L body weight−D body weight | / (L body weight + D body weight)
That is, the optical purity of the helical chiral polymer (A) is
“The amount difference (absolute value) between the amount of L-form (mass%) of helical chiral polymer (A) and the amount of D-form (mass%) of helical chiral polymer (A)” (absolute value) ” Multiply by (100) the value divided by (the total amount of (A) L-form [mass%] and helical chiral polymer (A) D-form [mass%]] ". (Multiplied).
なお、ヘリカルキラル高分子(A)のL体の量〔質量%〕とヘリカルキラル高分子(A)のD体の量〔質量%〕は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を用いた方法により得られる値を用いる。具体的な測定の詳細については後述する。 The amount of L-form [mass%] of the helical chiral polymer (A) and the amount of D-form [mass%] of the helical chiral polymer (A) are obtained by a method using high performance liquid chromatography (HPLC). Use the value obtained. Details of the specific measurement will be described later.
上記ヘリカルキラル高分子(A)としては、光学純度を上げ、圧電性を向上させる観点から、下記式(1)で表される繰り返し単位を含む主鎖を有する高分子が好ましい。 The helical chiral polymer (A) is preferably a polymer having a main chain containing a repeating unit represented by the following formula (1) from the viewpoint of increasing optical purity and improving piezoelectricity.
上記式(1)で表される繰り返し単位を主鎖とする高分子としては、ポリ乳酸系高分子が挙げられる。
ここで、ポリ乳酸系高分子とは、「ポリ乳酸(L−乳酸及びD−乳酸から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位のみからなる高分子)」、「L−乳酸又はD−乳酸と、該L−乳酸又はD−乳酸と共重合可能な化合物とのコポリマー」、又は、両者の混合物をいう。
ポリ乳酸系高分子の中でも、ポリ乳酸が好ましく、L−乳酸のホモポリマー(PLLA)又はD−乳酸のホモポリマー(PDLA)が最も好ましい。
Examples of the polymer having the repeating unit represented by the formula (1) as a main chain include polylactic acid-based polymers.
Here, the polylactic acid polymer is “polylactic acid (polymer consisting only of repeating units derived from a monomer selected from L-lactic acid and D-lactic acid)”, “L-lactic acid or D-lactic acid, and L -A copolymer of a compound copolymerizable with lactic acid or D-lactic acid ", or a mixture of both.
Among the polylactic acid polymers, polylactic acid is preferable, and L-lactic acid homopolymer (PLLA) or D-lactic acid homopolymer (PDLA) is most preferable.
ポリ乳酸は、乳酸がエステル結合によって重合し、長く繋がった高分子である。
ポリ乳酸は、ラクチドを経由するラクチド法;溶媒中で乳酸を減圧下加熱し、水を取り除きながら重合させる直接重合法;などによって製造できることが知られている。
ポリ乳酸としては、L−乳酸のホモポリマー、D−乳酸のホモポリマー、L−乳酸及びD−乳酸の少なくとも一方の重合体を含むブロックコポリマー、及び、L−乳酸及びD−乳酸の少なくとも一方の重合体を含むグラフトコポリマーが挙げられる。
Polylactic acid is a polymer in which lactic acid is polymerized by an ester bond and connected for a long time.
It is known that polylactic acid can be produced by a lactide method via lactide; a direct polymerization method in which lactic acid is heated in a solvent under reduced pressure and polymerized while removing water.
As polylactic acid, homopolymer of L-lactic acid, homopolymer of D-lactic acid, block copolymer including at least one polymer of L-lactic acid and D-lactic acid, and at least one of L-lactic acid and D-lactic acid A graft copolymer containing a polymer may be mentioned.
上記「L−乳酸又はD−乳酸と共重合可能な化合物」としては、グリコール酸、ジメチルグリコール酸、3−ヒドロキシ酪酸、4−ヒドロキシ酪酸、2−ヒドロキシプロパン酸、3−ヒドロキシプロパン酸、2−ヒドロキシ吉草酸、3−ヒドロキシ吉草酸、4−ヒドロキシ吉草酸、5−ヒドロキシ吉草酸、2−ヒドロキシカプロン酸、3−ヒドロキシカプロン酸、4−ヒドロキシカプロン酸、5−ヒドロキシカプロン酸、6−ヒドロキシカプロン酸、6−ヒドロキシメチルカプロン酸、マンデル酸等のヒドロキシカルボン酸;グリコリド、β−メチル−δ−バレロラクトン、γ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン等の環状エステル;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、テレフタル酸等の多価カルボン酸及びこれらの無水物;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、テトラメチレングリコール、1,4−ヘキサンジメタノール等の多価アルコール;セルロース等の多糖類;α−アミノ酸等のアミノカルボン酸;等を挙げることができる。 Examples of the “compound copolymerizable with L-lactic acid or D-lactic acid” include glycolic acid, dimethyl glycolic acid, 3-hydroxybutyric acid, 4-hydroxybutyric acid, 2-hydroxypropanoic acid, 3-hydroxypropanoic acid, 2- Hydroxyvaleric acid, 3-hydroxyvaleric acid, 4-hydroxyvaleric acid, 5-hydroxyvaleric acid, 2-hydroxycaproic acid, 3-hydroxycaproic acid, 4-hydroxycaproic acid, 5-hydroxycaproic acid, 6-hydroxycaprone Acids, hydroxycarboxylic acids such as 6-hydroxymethylcaproic acid, mandelic acid; cyclic esters such as glycolide, β-methyl-δ-valerolactone, γ-valerolactone, ε-caprolactone; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, Glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, azelaic acid, sebacic acid, un Polyvalent carboxylic acids such as candioic acid, dodecanedioic acid, terephthalic acid and the like; ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butane Diol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl Polyhydric alcohols such as glycol, tetramethylene glycol and 1,4-hexanedimethanol; polysaccharides such as cellulose; aminocarboxylic acids such as α-amino acids;
上記「L−乳酸又はD−乳酸と、該L−乳酸又はD−乳酸と共重合可能な化合物とのコポリマー」としては、らせん結晶を生成可能なポリ乳酸シーケンスを有する、ブロックコポリマー又はグラフトコポリマーが挙げられる。 The “copolymer of L-lactic acid or D-lactic acid and a compound copolymerizable with the L-lactic acid or D-lactic acid” includes a block copolymer or a graft copolymer having a polylactic acid sequence capable of forming a helical crystal. Can be mentioned.
また、ヘリカルキラル高分子(A)中におけるコポリマー成分に由来する構造の濃度は20mol%以下であることが好ましい。
例えば、ヘリカルキラル高分子(A)が、ポリ乳酸系高分子である場合、ポリ乳酸系高分子中における、乳酸に由来する構造と、乳酸と共重合可能な化合物(コポリマー成分)に由来する構造と、のモル数の合計に対して、コポリマー成分に由来する構造の濃度が20mol%以下であることが好ましい。
The concentration of the structure derived from the copolymer component in the helical chiral polymer (A) is preferably 20 mol% or less.
For example, when the helical chiral polymer (A) is a polylactic acid polymer, the structure derived from lactic acid and the structure derived from a compound copolymerizable with lactic acid (copolymer component) in the polylactic acid polymer It is preferable that the concentration of the structure derived from the copolymer component is 20 mol% or less with respect to the total number of moles.
ポリ乳酸系高分子は、例えば、特開昭59−096123号公報、及び特開平7−033861号公報に記載されている乳酸を直接脱水縮合して得る方法;米国特許2,668,182号及び4,057,357号等に記載されている乳酸の環状二量体であるラクチドを用いて開環重合させる方法;などにより製造することができる。 Polylactic acid polymers are obtained by, for example, direct dehydration condensation of lactic acid described in JP-A-59-096123 and JP-A-7-033861; US Pat. No. 2,668,182 and A method of ring-opening polymerization using lactide, which is a cyclic dimer of lactic acid, as described in US Pat. No. 4,057,357.
さらに、上記各製造方法により得られたポリ乳酸系高分子は、光学純度を95.00%ee以上とするために、例えば、ポリ乳酸をラクチド法で製造する場合、晶析操作により光学純度を95.00%ee以上の光学純度に向上させたラクチドを、重合することが好ましい。 Furthermore, the polylactic acid polymer obtained by the above production methods has an optical purity of 95.00% ee or higher. For example, when polylactic acid is produced by the lactide method, the optical purity is improved by crystallization operation. It is preferable to polymerize lactide having an optical purity of 95.00% ee or higher.
−重量平均分子量−
ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量(Mw)は、前述のとおり5万〜100万である。
ヘリカルキラル高分子(A)のMwが5万以上であることにより、高分子圧電フィルムの機械的強度が向上する。上記Mwは、10万以上であることが好ましく、20万以上であることがさらに好ましい。
一方、ヘリカルキラル高分子(A)のMwが100万以下であることにより、成形(例えば押出成形)によって高分子圧電フィルムを得る際の成形性が向上する。上記Mwは、80万以下であることが好ましく、30万以下であることがさらに好ましい。
-Weight average molecular weight-
The weight average molecular weight (Mw) of the helical chiral polymer (A) is 50,000 to 1,000,000 as described above.
When Mw of the helical chiral polymer (A) is 50,000 or more, the mechanical strength of the polymer piezoelectric film is improved. The Mw is preferably 100,000 or more, and more preferably 200,000 or more.
On the other hand, when the Mw of the helical chiral polymer (A) is 1,000,000 or less, the moldability when a polymer piezoelectric film is obtained by molding (for example, extrusion molding) is improved. The Mw is preferably 800,000 or less, and more preferably 300,000 or less.
また、ヘリカルキラル高分子(A)の分子量分布(Mw/Mn)は、高分子圧電フィルムの強度の観点から、1.1〜5であることが好ましく、1.2〜4であることがより好ましい。さらに1.4〜3であることが好ましい。 Further, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the helical chiral polymer (A) is preferably 1.1 to 5 and more preferably 1.2 to 4 from the viewpoint of the strength of the polymer piezoelectric film. preferable. Furthermore, it is preferable that it is 1.4-3.
なお、ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)は、ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)を用い、下記GPC測定方法により、測定された値を指す。ここで、Mnは、ヘリカルキラル高分子(A)の数平均分子量である。 In addition, the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of helical chiral polymer (A) point out the value measured by the following GPC measuring method using gel permeation chromatograph (GPC). Here, Mn is the number average molecular weight of the helical chiral polymer (A).
−GPC測定装置−
Waters社製GPC−100
−カラム−
昭和電工社製、Shodex LF−804
−サンプルの調製−
ヘリカルキラル高分子(A)を40℃で溶媒(例えば、クロロホルム)へ溶解させ、濃度1mg/mLのサンプル溶液を準備する。
−測定条件−
サンプル溶液0.1mlを溶媒〔クロロホルム〕、温度40℃、1ml/分の流速でカラムに導入する。
-GPC measuring device-
Waters GPC-100
-Column-
Made by Showa Denko KK, Shodex LF-804
-Sample preparation-
The helical chiral polymer (A) is dissolved in a solvent (for example, chloroform) at 40 ° C. to prepare a sample solution having a concentration of 1 mg / mL.
-Measurement conditions-
0.1 ml of the sample solution is introduced into the column at a solvent [chloroform], a temperature of 40 ° C., and a flow rate of 1 ml / min.
カラムで分離されたサンプル溶液中のサンプル濃度を示差屈折計で測定する。ポリスチレン標準試料にてユニバーサル検量線を作成し、ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)を算出する。 The sample concentration in the sample solution separated by the column is measured with a differential refractometer. A universal calibration curve is created with a polystyrene standard sample, and the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the helical chiral polymer (A) are calculated.
ヘリカルキラル高分子(A)の例であるポリ乳酸系高分子としては、市販のポリ乳酸を用いることができる。
市販品としては、例えば、PURAC社製のPURASORB(PD、PL)、三井化学社製のLACEA(H−100、H−400)、NatureWorks LLC社製のIngeoTM biopolymer、等が挙げられる。
ヘリカルキラル高分子(A)としてポリ乳酸系高分子を用いるときに、ポリ乳酸系高分子の重量平均分子量(Mw)を5万以上とするためには、ラクチド法、又は直接重合法によりポリ乳酸系高分子を製造することが好ましい。
Commercially available polylactic acid can be used as the polylactic acid polymer that is an example of the helical chiral polymer (A).
Examples of commercially available products, PURAC Co. PURASORB (PD, PL), manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. of LACEA (H-100, H- 400), NatureWorks LLC Corp. Ingeo TM Biopolymer, and the like.
When using a polylactic acid polymer as the helical chiral polymer (A), in order to make the weight average molecular weight (Mw) of the polylactic acid polymer 50,000 or more, polylactic acid is obtained by the lactide method or the direct polymerization method. It is preferable to produce a polymer.
本開示の高分子圧電フィルムは、上述したヘリカルキラル高分子(A)を、1種のみ含有していてもよいし、2種以上含有していてもよい。
高分子圧電フィルム中におけるヘリカルキラル高分子(A)の含有量(2種以上である場合には総含有量)は、本開示の効果をより効果的に奏する観点からは、高分子圧電フィルムの全量に対し、80質量%以上が好ましい。
The polymer piezoelectric film of the present disclosure may contain only one type of the helical chiral polymer (A) described above, or may contain two or more types.
The content of the helical chiral polymer (A) in the polymer piezoelectric film (the total content when there are two or more) is from the viewpoint of more effectively achieving the effects of the present disclosure. 80 mass% or more is preferable with respect to the whole quantity.
<安定化剤>
本開示の高分子圧電フィルムは、更に、一分子中に、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を有する重量平均分子量が200〜60000の安定化剤(B)を含有することが好ましい。これにより、耐湿熱性をより向上させることができる。
<Stabilizer>
The polymer piezoelectric film of the present disclosure further includes a stabilizer having a weight average molecular weight of 200 to 60000 having one or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group in one molecule. It is preferable to contain (B). Thereby, heat-and-moisture resistance can be improved more.
安定化剤(B)としては、国際公開第2013/054918号パンフレットの段落0039〜0055に記載された「安定化剤(B)」を用いることができる。 As the stabilizer (B), “stabilizer (B)” described in paragraphs 0039 to 0055 of International Publication No. 2013/054918 pamphlet can be used.
安定化剤(B)として用い得る、一分子中にカルボジイミド基を含む化合物(カルボジイミド化合物)としては、モノカルボジイミド化合物、ポリカルボジイミド化合物、環状カルボジイミド化合物が挙げられる。
モノカルボジイミド化合物としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ビス−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミド、等が好適である。
また、ポリカルボジイミド化合物としては、種々の方法で製造したものを使用することができる。従来のポリカルボジイミドの製造方法(例えば、米国特許第2941956号明細書、特公昭47−33279号公報、J.0rg.Chem.28,2069−2075(1963)、Chemical Review 1981,Vol.81 No.4、p619−621)により、製造されたものを用いることができる。具体的には特許4084953号公報に記載のカルボジイミド化合物を用いることもできる。
ポリカルボジイミド化合物としては、ポリ(4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド)、ポリ(N,N’−ジ−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミド)、ポリ(1,3,5−トリイソプロピルフェニレン−2,4−カルボジイミド、等が挙げられる。
環状カルボジイミド化合物は、特開2011−256337号公報に記載の方法などに基づいて合成することができる。
カルボジイミド化合物としては、市販品を用いてもよく、例えば、東京化成製、B2756(商品名)、日清紡ケミカル社製、カルボジライトLA−1、ラインケミー社製、Stabaxol P、Stabaxol P400、Stabaxol I(いずれも商品名)等が挙げられる。
Examples of the compound containing a carbodiimide group (carbodiimide compound) that can be used as the stabilizer (B) include a monocarbodiimide compound, a polycarbodiimide compound, and a cyclic carbodiimide compound.
As the monocarbodiimide compound, dicyclohexylcarbodiimide, bis-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide, and the like are preferable.
Moreover, as a polycarbodiimide compound, what was manufactured by the various method can be used. Conventional methods for producing polycarbodiimides (for example, U.S. Pat. No. 2,941,956, JP-B-47-33279, J.0rg.Chem.28, 2069-2075 (1963), Chemical Review 1981, Vol. 81 No. 1). 4, p619-621) can be used. Specifically, a carbodiimide compound described in Japanese Patent No. 4084953 can also be used.
Examples of the polycarbodiimide compound include poly (4,4′-dicyclohexylmethanecarbodiimide), poly (N, N′-di-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide), poly (1,3,5-triisopropylphenylene-2, 4-carbodiimide and the like.
The cyclic carbodiimide compound can be synthesized based on the method described in JP2011-256337A.
Commercially available products may be used as the carbodiimide compound, for example, manufactured by Tokyo Chemical Industry, B2756 (trade name), manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd., Carbodilite LA-1, manufactured by Rhein Chemie, Stabaxol P, Stabaxol P400, Stabaxol I (all Product name).
安定化剤(B)として用い得る、一分子中にイソシアネート基を含む化合物(イソシアネート化合物)としては、イソシアン酸3−(トリエトキシシリル)プロピル、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,2’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、等が挙げられる。 Examples of the compound (isocyanate compound) containing an isocyanate group in one molecule that can be used as the stabilizer (B) include 3- (triethoxysilyl) propyl isocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate. Diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,2′-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, Etc.
安定化剤(B)として用い得る、一分子中にエポキシ基を含む化合物(エポキシ化合物)としては、フェニルグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールA−ジグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。 Examples of the compound (epoxy compound) containing an epoxy group in one molecule that can be used as the stabilizer (B) include phenyl glycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, bisphenol A-diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A-diglycidyl ether. Phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, epoxidized polybutadiene and the like.
安定化剤(B)の重量平均分子量は、上述のとおり200〜60000であるが、200〜30000がより好ましく、300〜18000がさらに好ましい。
分子量が上記範囲内ならば、安定化剤(B)がより移動しやすくなり、耐湿熱性改良効果がより効果的に奏される。
安定化剤(B)の重量平均分子量は、200〜900であることが特に好ましい。なお、重量平均分子量200〜900は、数平均分子量200〜900とほぼ一致する。また、重量平均分子量200〜900の場合、分子量分布が1.0である場合があり、この場合には、「重量平均分子量200〜900」を、単に「分子量200〜900」と言い換えることもできる。
As described above, the weight average molecular weight of the stabilizer (B) is 200 to 60000, more preferably 200 to 30000, and still more preferably 300 to 18000.
When the molecular weight is within the above range, the stabilizer (B) is more easily moved, and the effect of improving heat and moisture resistance is more effectively exhibited.
The weight average molecular weight of the stabilizer (B) is particularly preferably 200 to 900. In addition, the weight average molecular weight 200-900 substantially corresponds with the number average molecular weight 200-900. Further, when the weight average molecular weight is 200 to 900, the molecular weight distribution may be 1.0. In this case, “weight average molecular weight 200 to 900” can be simply referred to as “molecular weight 200 to 900”. .
高分子圧電フィルムが安定化剤(B)を含有する場合、上記高分子圧電フィルムは、安定化剤を1種のみ含有してもよいし、2種以上含有してもよい。
高分子圧電フィルムが安定化剤(B)を含む場合、安定化剤(B)の含有量は、ヘリカルキラル高分子(A)100質量部に対し、0.01質量部〜10質量部であることが好ましく、0.01質量部〜5質量部であることがより好ましく、0.1質量部〜3質量部であることがさらに好ましく、0.5質量部〜2質量部であることが特に好ましい。
上記含有量が0.01質量部以上であると、耐湿熱性がより向上する。
また、上記含有量が10質量部以下であると、透明性の低下がより抑制される。
When the polymer piezoelectric film contains the stabilizer (B), the polymer piezoelectric film may contain only one kind of stabilizer or two or more kinds.
When the polymeric piezoelectric film contains the stabilizer (B), the content of the stabilizer (B) is 0.01 parts by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the helical chiral polymer (A). It is preferably 0.01 parts by mass to 5 parts by mass, more preferably 0.1 parts by mass to 3 parts by mass, and particularly preferably 0.5 parts by mass to 2 parts by mass. preferable.
When the content is 0.01 parts by mass or more, the heat and humidity resistance is further improved.
Moreover, the transparency fall is suppressed more as the said content is 10 mass parts or less.
安定化剤(B)の好ましい態様としては、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を有し、且つ、数平均分子量が200〜900の安定化剤(B1)と、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を1分子内に2以上有し、且つ、重量平均分子量が1000〜60000の安定化剤(B2)とを併用するという態様が挙げられる。なお、数平均分子量が200〜900の安定化剤(B1)の重量平均分子量は、大凡200〜900であり、安定化剤(B1)の数平均分子量と重量平均分子量とはほぼ同じ値となる。
安定化剤として安定化剤(B1)と安定化剤(B2)とを併用する場合、安定化剤(B1)を多く含むことが透明性向上の観点から好ましい。
具体的には、安定化剤(B1)100質量部に対して、安定化剤(B2)が10質量部〜150質量部の範囲であることが、透明性と耐湿熱性の両立という観点から好ましく、50質量部〜100質量部の範囲であることがより好ましい。
A preferred embodiment of the stabilizer (B) is a stabilizer having one or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group, and having a number average molecular weight of 200 to 900. (B1) and a stabilizer having two or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group in one molecule, and having a weight average molecular weight of 1000 to 60000 ( A mode in which B2) is used in combination is exemplified. The weight average molecular weight of the stabilizer (B1) having a number average molecular weight of 200 to 900 is about 200 to 900, and the number average molecular weight and the weight average molecular weight of the stabilizer (B1) are almost the same value. .
When the stabilizer (B1) and the stabilizer (B2) are used in combination as the stabilizer, it is preferable that a large amount of the stabilizer (B1) is contained from the viewpoint of improving the transparency.
Specifically, it is preferable that the stabilizer (B2) is in the range of 10 parts by mass to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the stabilizer (B1) from the viewpoint of achieving both transparency and wet heat resistance. More preferably, it is in the range of 50 to 100 parts by mass.
以下、安定化剤(B)の具体例(安定化剤B−1〜B−3)を示す。 Hereinafter, specific examples (stabilizers B-1 to B-3) of the stabilizer (B) are shown.
以下、上記安定化剤B−1〜B−3について、化合物名、市販品等を示す。
・安定化剤B−1 … 化合物名は、ビス−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミドである。重量平均分子量(この例では、単なる「分子量」に等しい)は、363である。市販品としては、ラインケミー社製「Stabaxol I」、東京化成社製「B2756」が挙げられる。
・安定化剤B−2 … 化合物名は、ポリ(4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド)である。市販品としては、重量平均分子量約2000のものとして、日清紡ケミカル社製「カルボジライトLA−1」が挙げられる。
・安定化剤B−3 … 化合物名は、ポリ(1,3,5−トリイソプロピルフェニレン−2,4−カルボジイミド)である。市販品としては、重量平均分子量約3000のものとして、ラインケミー社製「Stabaxol P」が挙げられる。また、重量平均分子量20000のものとして、ラインケミー社製「Stabaxol P400」が挙げられる。
Hereinafter, with respect to the stabilizers B-1 to B-3, compound names, commercial products, and the like are shown.
Stabilizer B-1 The compound name is bis-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide. The weight average molecular weight (in this example, simply equal to “molecular weight”) is 363. Commercially available products include “Stabaxol I” manufactured by Rhein Chemie and “B2756” manufactured by Tokyo Chemical Industry.
Stabilizer B-2 The compound name is poly (4,4′-dicyclohexylmethanecarbodiimide). As a commercially available product, “Carbodilite LA-1” manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd. may be mentioned as having a weight average molecular weight of about 2000.
Stabilizer B-3 The compound name is poly (1,3,5-triisopropylphenylene-2,4-carbodiimide). As a commercially available product, “Stabaxol P” manufactured by Rhein Chemie Co., Ltd. can be mentioned as having a weight average molecular weight of about 3000. Further, “Stabaxol P400” manufactured by Rhein Chemie is listed as having a weight average molecular weight of 20,000.
<その他の成分>
本開示の高分子圧電フィルムは、必要に応じ、その他の成分を含有してもよい。
その他の成分としては、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂等の公知の樹脂;シリカ、ヒドロキシアパタイト、モンモリロナイト等の公知の無機フィラー;フタロシアニン等の公知の結晶核剤;安定化剤(B)以外の安定化剤;等が挙げられる。
無機フィラー及び結晶核剤としては、国際公開第2013/054918号の段落0057〜0058に記載された成分を挙げることもできる。
<Other ingredients>
The polymer piezoelectric film of the present disclosure may contain other components as necessary.
Other components include known resins such as polyvinylidene fluoride, polyethylene resin and polystyrene resin; known inorganic fillers such as silica, hydroxyapatite and montmorillonite; known crystal nucleating agents such as phthalocyanine; other than stabilizer (B) And the like.
Examples of the inorganic filler and the crystal nucleating agent include components described in paragraphs 0057 to 0058 of International Publication No. 2013/054918.
<圧電定数d14(変位法)>
本開示の高分子圧電フィルムは、圧電定数が大きいこと(好ましくは、25℃において変位法で測定した圧電定数d14が1.0pm/V以上であること)が好ましい。
ここで、「変位法で測定した圧電定数d14」とは、32mm×5mmの高分子圧電フィルムの両面に導電層が形成されてなる圧電定数測定用サンプルの一対の導電層間に10Hz、300Vppの正弦波の交流電圧を印加し、このときの変位の最大値と最小値との差分距離を変位量(mp−p)として測定し、測定された変位量(mp−p)を基準長30mmで割った値を歪量とし、この歪量をフィルムに印加した電界強度((印加電圧(V))/(フィルム厚))で割った値に2を乗じた値を指す。
この「変位法で測定した圧電定数d14」は、例えば、特許4934235号公報の段落0058〜0059に記載の方法によって測定できる。
<Piezoelectric constant d 14 (displacement method)>
Polymeric piezoelectric film of the present disclosure, it piezoelectric constant is large (preferably, it is the piezoelectric constant d 14 measured by a displacement method at 25 ° C. is 1.0 pm / V or more) is preferable.
Here, the “piezoelectric constant d 14 measured by the displacement method” is 10 Hz, 300 Vpp between a pair of conductive layers of a piezoelectric constant measurement sample in which a conductive layer is formed on both sides of a 32 mm × 5 mm polymer piezoelectric film. A sine wave AC voltage is applied, and the difference distance between the maximum value and the minimum value of the displacement at this time is measured as a displacement amount (mp-p), and the measured displacement amount (mp-p) is measured at a reference length of 30 mm. A value obtained by dividing the value obtained by dividing the value obtained by dividing the value by the electric field strength ((applied voltage (V)) / (film thickness)) applied to the film by 2 is indicated.
This “piezoelectric constant d 14 measured by the displacement method” can be measured, for example, by the method described in paragraphs 0058 to 0059 of Japanese Patent No. 4934235.
以下、圧電定数d14(変位法)の測定方法の一例を示す。
まず、高分子圧電フィルムから採取された40mm×40mmの正方形形状の試験片の両面に、蒸着装置(例えば、株式会社昭和真空SIP−600)を用いてアルミニウム(Al)を蒸着することにより、Alの導電層を形成する。
次に、両面にAlの導電層が形成された40mm×40mmの試験片を、高分子圧電フィルムの延伸方向(MD方向)に対して45°なす方向に32mm、45°なす方向に直交する方向に5mmにカットして、32mm×5mmの矩形のフィルムを採取する。これを、圧電定数測定用サンプルとする。得られた圧電定数測定用サンプルに、10Hz、300Vppの正弦波の交流電圧を印加したときの、フィルムの変位の最大値と最小値の差分距離を、キーエンス社製レーザ分光干渉型変位計SI−1000により計測する。計測した変位量(mp−p)を、フィルムの基準長30mmで割った値を歪量とし、この歪量をフィルムに印加した電界強度((印加電圧(V))/(フィルム厚))で割った値に2を乗じた値を圧電定数d14(pm/V)とする。なお、この計測は25℃の条件下で行う。
Hereinafter, an example of a method for measuring the piezoelectric constant d 14 (displacement method) will be described.
First, aluminum (Al) is vapor-deposited on both surfaces of a 40 mm × 40 mm square test piece collected from a polymer piezoelectric film using a vapor deposition apparatus (for example, Showa Vacuum SIP-600 Co., Ltd.). The conductive layer is formed.
Next, a 40 mm × 40 mm test piece with an Al conductive layer formed on both sides is 32 mm in the direction of 45 ° with respect to the stretching direction (MD direction) of the polymer piezoelectric film, and the direction perpendicular to the direction of 45 °. Cut to 5 mm and collect a rectangular film of 32 mm × 5 mm. This is a piezoelectric constant measurement sample. The difference distance between the maximum value and the minimum value of the displacement of the film when a sine wave AC voltage of 10 Hz, 300 Vpp was applied to the obtained piezoelectric constant measurement sample was measured using the Keyence Corporation Laser Spectral Interference Displacement Meter SI- Measured by 1000. The value obtained by dividing the measured displacement (mp-p) by the reference length of the film 30 mm is used as the amount of strain, and the amount of strain is expressed by the electric field intensity ((applied voltage (V)) / (film thickness)) A value obtained by multiplying the divided value by 2 is defined as a piezoelectric constant d 14 (pm / V). In addition, this measurement is performed on 25 degreeC conditions.
圧電定数d14は高ければ高いほど、高分子圧電フィルムに印加される電圧に対する高分子圧電フィルムの変位が大きくなり、また、高分子圧電フィルムに印加される力に対して発生する電圧が大きくなり、高分子圧電フィルムとして有用である。
具体的には、本開示の高分子圧電フィルムの圧電定数d14(即ち、25℃における変位法で測定した圧電定数d14)は、1.0pm/V以上であることが好ましく、2.0pm/V以上であることがより好ましく、2.5pm/V以上であることが更に好ましく、3.0pm/V以上であることが更に好ましい。
また、圧電定数d14の上限は特に限定されないが、透明性などとのバランスの観点からは、15pm/V以下であることが好ましい。
The higher piezoelectric constant d 14, the displacement of the piezoelectric polymer film to the voltage applied to the piezoelectric polymer film is increased, also increases the voltage generated with respect to force applied to the piezoelectric polymer film It is useful as a polymer piezoelectric film.
Specifically, the piezoelectric constant d 14 (that is, the piezoelectric constant d 14 measured by the displacement method at 25 ° C.) of the polymer piezoelectric film of the present disclosure is preferably 1.0 pm / V or more, and 2.0 pm. / V or higher is more preferable, 2.5 pm / V or higher is further preferable, and 3.0 pm / V or higher is further preferable.
The upper limit of the piezoelectric constant d 14 is not particularly limited, from the viewpoint of balance between and transparency, it is preferably not more than 15 pm / V.
<透明性(内部ヘイズ)>
本開示の高分子圧電フィルムは、可視光線に対する内部ヘイズ(以下、単に「内部ヘイズ」ともいう)が10%以下であることが好ましい。
ここで、可視光線に対する内部ヘイズは、高分子圧電フィルムの透明性に関する指標である。
高分子圧電フィルムの内部ヘイズは、透明性及び縦裂強度をより向上させる観点からは、5.0%以下が好ましく、2.0%以下が好ましく、1.0%以下がより好ましい。高分子圧電フィルムの前記内部ヘイズの下限値は特に限定はないが、下限値としては、例えば0.01%が挙げられる。
ここで高分子圧電フィルムの内部ヘイズは、高分子圧電フィルムの外表面の形状によるヘイズを除外したヘイズを指す。
高分子圧電フィルムの内部ヘイズは、厚さ0.03mm〜0.05mmの高分子圧電フィルムに対して、JIS−K7105に準拠して、ヘイズ測定機〔(有)東京電色社製、TC−HIII DPK〕を用いて25℃で測定したときの値であり、測定方法の詳細は実施例において詳述する。
<Transparency (internal haze)>
The polymer piezoelectric film of the present disclosure preferably has an internal haze with respect to visible light (hereinafter also simply referred to as “internal haze”) of 10% or less.
Here, the internal haze with respect to visible light is an index relating to the transparency of the polymer piezoelectric film.
The internal haze of the polymer piezoelectric film is preferably 5.0% or less, more preferably 2.0% or less, and even more preferably 1.0% or less from the viewpoint of further improving transparency and longitudinal crack strength. The lower limit value of the internal haze of the polymer piezoelectric film is not particularly limited, and examples of the lower limit value include 0.01%.
Here, the internal haze of the polymer piezoelectric film refers to the haze excluding the haze due to the shape of the outer surface of the polymer piezoelectric film.
The internal haze of the polymer piezoelectric film was measured according to JIS-K7105 with respect to the polymer piezoelectric film having a thickness of 0.03 mm to 0.05 mm [TC Density Co., Ltd., TC- HIII DPK] is a value measured at 25 ° C., and details of the measuring method will be described in detail in Examples.
<規格化分子配向MORc>
本開示の高分子圧電フィルムは、規格化分子配向MORcが3.5〜15.0であることが好ましい。
ここで、規格化分子配向MORcは、ヘリカルキラル高分子(A)の配向の度合いを示す指標である「分子配向度MOR」に基づいて定められる値である。
分子配向度MOR(Molecular Orientation Ratio)は、以下のようなマイクロ波測定法により測定される。
すなわち、高分子圧電フィルム(例えば、フィルム状の高分子圧電フィルム)を、周知のマイクロ波分子配向度測定装置(マイクロ波透過型分子配向計ともいう)のマイクロ波共振導波管中に、マイクロ波の進行方向に高分子圧電フィルムの面(フィルム面)が垂直になるように配置する。そして、振動方向が一方向に偏ったマイクロ波を試料に連続的に照射した状態で、高分子圧電フィルムをマイクロ波の進行方向と垂直な面内で0〜360°回転させて、試料を透過したマイクロ波強度を測定することにより分子配向度MORを求める。
<Normalized molecular orientation MORc>
The polymer piezoelectric film of the present disclosure preferably has a normalized molecular orientation MORc of 3.5 to 15.0.
Here, the normalized molecular orientation MORc is a value determined based on “molecular orientation degree MOR” which is an index indicating the degree of orientation of the helical chiral polymer (A).
The molecular orientation degree MOR (Molecular Orientation Ratio) is measured by the following microwave measurement method.
That is, a polymer piezoelectric film (for example, a film-like polymer piezoelectric film) is placed in a microwave resonant waveguide of a well-known microwave molecular orientation measuring device (also referred to as a microwave transmission type molecular orientation meter). It arrange | positions so that the surface (film surface) of a polymeric piezoelectric film may become perpendicular | vertical to the advancing direction of a wave. Then, in a state where the sample is continuously irradiated with the microwave whose vibration direction is biased in one direction, the polymer piezoelectric film is rotated 0 to 360 ° in a plane perpendicular to the traveling direction of the microwave, and the sample is transmitted. The degree of molecular orientation MOR is obtained by measuring the measured microwave intensity.
規格化分子配向MORcは、基準厚さtcを50μmとしたときの分子配向度MORであって、下記式により求めることができる。
MORc=(tc/t)×(MOR−1)+1
(tc:補正したい基準厚さ、t:高分子圧電フィルムの厚さ)
規格化分子配向MORcは、公知の分子配向計、例えば王子計測機器株式会社製マイクロ波方式分子配向計MOA−2012AやMOA−6000等により、4GHzもしくは12GHz近傍の共振周波数で測定することができる。
The normalized molecular orientation MORc is a molecular orientation degree MOR when the reference thickness tc is 50 μm, and can be obtained by the following formula.
MORc = (tc / t) × (MOR-1) +1
(Tc: reference thickness to be corrected, t: thickness of polymer piezoelectric film)
The normalized molecular orientation MORc can be measured with a known molecular orientation meter such as a microwave molecular orientation meter MOA-2012A or MOA-6000 manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., at a resonance frequency in the vicinity of 4 GHz or 12 GHz.
規格化分子配向MORcは、例えば、高分子圧電フィルムが延伸フィルムである場合には、延伸前の加熱処理条件(加熱温度及び加熱時間)や、延伸条件(延伸温度及び延伸速度)等によって制御されうる。 For example, when the polymer piezoelectric film is a stretched film, the normalized molecular orientation MORc is controlled by the heat treatment conditions (heating temperature and heating time) before stretching, the stretching conditions (stretching temperature and stretching speed), and the like. sell.
なお、規格化分子配向MORcは、位相差量(レターデーション)をフィルムの厚さで除した複屈折率Δnに変換することもできる。具体的には、レターデーションは大塚電子株式会社製RETS100を用いて測定することができる。またMORcとΔnとは大凡、直線的な比例関係にあり、かつΔnが0の場合、MORcは1になる。
例えば、ヘリカルキラル高分子(A)がポリ乳酸系高分子であり、かつ、高分子圧電フィルムの複屈折率Δnを測定波長550nmで測定した場合、規格化分子配向MORcの好ましい範囲の下限である2.0は、複屈折率Δn 0.005に変換できる。また、後述する、高分子圧電フィルムの規格化分子配向MORcと結晶化度の積の好ましい範囲の下限である40は、高分子圧電フィルムの複屈折率Δnと結晶化度の積が0.1に変換することができる。
The normalized molecular orientation MORc can be converted into a birefringence Δn obtained by dividing the retardation amount (retardation) by the thickness of the film. Specifically, retardation can be measured using RETS100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. MORc and Δn are approximately in a linear proportional relationship, and when Δn is 0, MORc is 1.
For example, when the helical chiral polymer (A) is a polylactic acid polymer and the birefringence Δn of the polymer piezoelectric film is measured at a measurement wavelength of 550 nm, it is the lower limit of the preferred range of the normalized molecular orientation MORc. 2.0 can be converted to birefringence Δn 0.005. Further, 40, which is the lower limit of the preferred range of the product of the normalized molecular orientation MORc and crystallinity of the polymer piezoelectric film, described later, is the product of the birefringence Δn and crystallinity of the polymer piezoelectric film of 0.1. Can be converted to
<結晶化度>
本開示の高分子圧電フィルムの結晶化度は、前述のとおり、20%〜80%である。
ここで、高分子圧電フィルムの結晶化度は、DSC法によって求められるものである。
結晶化度が20%以上であることにより、高分子圧電フィルムの圧電性が高く維持される。結晶化度が80%以下であることにより、高分子圧電フィルムの透明性が高く維持され、また、結晶化度が80%以下であることにより、延伸時に白化や破断がおきにくいので、高分子圧電フィルムを製造しやすい。
従って、高分子圧電フィルムの結晶化度は20%〜80%であるが、上記結晶化度は、好ましくは25%〜70%であり、より好ましくは30%〜50%である。
<Crystallinity>
The crystallinity of the polymer piezoelectric film of the present disclosure is 20% to 80% as described above.
Here, the degree of crystallinity of the polymer piezoelectric film is determined by the DSC method.
When the degree of crystallinity is 20% or more, the piezoelectricity of the polymer piezoelectric film is maintained high. When the degree of crystallinity is 80% or less, the transparency of the polymer piezoelectric film is maintained high, and when the degree of crystallinity is 80% or less, whitening and breakage hardly occur during stretching. Easy to manufacture piezoelectric film.
Therefore, the crystallinity of the polymer piezoelectric film is 20% to 80%, but the crystallinity is preferably 25% to 70%, more preferably 30% to 50%.
<規格化分子配向MORcと結晶化度との積>
本開示の高分子圧電フィルムにおいて、規格化分子配向MORcと結晶化度との積は、好ましくは40〜700、より好ましくは75〜680、更に好ましくは90〜660、更に好ましくは125〜650、特に好ましくは150〜350である。
上記の積が40〜700の範囲にあれば、高分子圧電フィルムの圧電性と透明性とのバランスが良好であり、かつ寸法安定性も高く、圧電素子として好適に用いることができる。
本開示の高分子圧電フィルムでは、例えば、高分子圧電フィルムを製造する際の結晶化及び延伸の条件を調整することにより、上記の積を上記範囲に調整することができる。
<Product of normalized molecular orientation MORc and crystallinity>
In the polymer piezoelectric film of the present disclosure, the product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity is preferably 40 to 700, more preferably 75 to 680, still more preferably 90 to 660, still more preferably 125 to 650, Especially preferably, it is 150-350.
When the above product is in the range of 40 to 700, the polymer piezoelectric film has a good balance between piezoelectricity and transparency and has high dimensional stability, and can be suitably used as a piezoelectric element.
In the polymer piezoelectric film of the present disclosure, for example, the product can be adjusted to the above range by adjusting the crystallization and stretching conditions when the polymer piezoelectric film is manufactured.
以上で説明した本開示の高分子圧電フィルムは、上述したとおり、圧電フィルム片を採取するための原反(材料)として用いられることが好ましい。
切り出された圧電フィルム片は、その少なくとも一方の面の側に電極層が配置され、電極層と圧電フィルム片とを備える積層体の状態で用いられることが好ましい。
上記圧電フィルム片及び上記積層体は、圧電素子の構成部品として用いられることが好ましい。
As described above, the polymer piezoelectric film of the present disclosure described above is preferably used as an original fabric (material) for collecting a piezoelectric film piece.
The cut-out piezoelectric film piece is preferably used in the state of a laminate in which an electrode layer is disposed on at least one surface side and the electrode layer and the piezoelectric film piece are provided.
The piezoelectric film piece and the laminate are preferably used as components of a piezoelectric element.
圧電フィルム片、積層体、及び圧電素子については特に制限はなく、例えば、国際公開第2013/054918号の記載を適宜参照することができる。 There is no restriction | limiting in particular about a piezoelectric film piece, a laminated body, and a piezoelectric element, For example, the description of international publication 2013/054918 can be referred suitably.
<高分子圧電フィルムの好ましい製造方法>
次に、本開示の高分子圧電フィルムの好ましい製造方法である、製法Aについて説明する。
製法Aは、
ヘリカルキラル高分子(A)を含む長尺形状の未延伸フィルムを準備する工程(以下、「準備工程」ともいう)と、
上記長尺形状の未延伸フィルムに対し、フィルムの幅方向両端部の温度であるTe1からフィルムの幅方向中央部の温度であるTc1を差し引いた差が3℃〜15℃であり、Te1からヘリカルキラル高分子(A)のガラス転移温度であるTgを差し引いた差が10℃〜40℃であり、縦延伸倍率が2.0倍〜5.0倍であり、横延伸倍率が2.0倍〜5.0倍である条件の同時二軸延伸を施すことにより、二軸延伸フィルムを得る工程(以下、「延伸工程」ともいう)と、
二軸延伸フィルムに対し、80℃〜160℃の温度の熱処理を施すことにより、前記高分子圧電フィルムを得る工程(以下、「熱処理工程」ともいう)と、
を含む。
製法Aは、必要に応じ、その他の工程を含んでいてもよい。
<Preferred production method of polymer piezoelectric film>
Next, production method A, which is a preferred method for producing the polymer piezoelectric film of the present disclosure, will be described.
Process A is
A step of preparing an elongated unstretched film containing the helical chiral polymer (A) (hereinafter also referred to as “preparation step”);
The difference obtained by subtracting Tc1 which is the temperature of the central part in the width direction of the film from Te1 which is the temperature at both ends in the width direction of the long-shaped unstretched film is 3 ° C to 15 ° C. The difference obtained by subtracting Tg which is the glass transition temperature of the chiral polymer (A) is 10 ° C to 40 ° C, the longitudinal draw ratio is 2.0 times to 5.0 times, and the transverse draw ratio is 2.0 times. A step of obtaining a biaxially stretched film by performing simultaneous biaxial stretching under a condition of ˜5.0 times (hereinafter also referred to as “stretching step”);
A step of obtaining the polymer piezoelectric film by subjecting the biaxially stretched film to a heat treatment at a temperature of 80 ° C. to 160 ° C. (hereinafter, also referred to as “heat treatment step”);
including.
The manufacturing method A may include other steps as necessary.
製法Aでは、上記条件を満足する同時二軸延伸により、ボーイング現象の程度(即ち、ボーイング量)を適切な範囲に制御することができる。ボーイング量を適切な範囲に制御することにより、θ1が70°〜110°であり、θ2が35°〜55°であり、θ3が35°〜55°である、本開示の高分子圧電フィルムを製造することができる。 In production method A, the degree of the bowing phenomenon (that is, the amount of bowing) can be controlled within an appropriate range by simultaneous biaxial stretching that satisfies the above conditions. By controlling the bowing amount to an appropriate range, the polymer piezoelectric film of the present disclosure in which θ1 is 70 ° to 110 °, θ2 is 35 ° to 55 °, and θ3 is 35 ° to 55 °. Can be manufactured.
(準備工程)
製法Aは、ヘリカルキラル高分子(A)を含む長尺形状の未延伸フィルムを準備する準備工程を含む。
(Preparation process)
The manufacturing method A includes a preparation step of preparing an elongated unstretched film containing the helical chiral polymer (A).
未延伸フィルムは、非晶状態のフィルムであってもよいし、予備結晶化されたフィルム(以下、「予備結晶化フィルム」ともいう)であってもよい。
ここで、非晶状態のフィルムとは、結晶化度が3%未満であるフィルムをいう。
また、予備結晶化フィルムとは、結晶化度が3%以上(好ましくは3%〜70%)であるフィルムを指す。
また、結晶化度は、既述の本開示の高分子圧電フィルムの結晶化度と同様の方法によって測定される値を指す。
The unstretched film may be an amorphous film or a pre-crystallized film (hereinafter also referred to as “pre-crystallized film”).
Here, the amorphous film refers to a film having a crystallinity of less than 3%.
The pre-crystallized film refers to a film having a crystallinity of 3% or more (preferably 3% to 70%).
The crystallinity indicates a value measured by the same method as the crystallinity of the polymer piezoelectric film of the present disclosure described above.
未延伸フィルムの厚さは、最終的に得られる高分子圧電フィルムの厚みと延伸倍率によって主に決められるが、好ましくは50μm〜1000μmであり、より好ましくは200μm〜800μm程度である。
準備工程は、予め製造された未延伸フィルムを単に準備する工程であってもよいし、未延伸フィルムを製造する工程であってもよい。
The thickness of the unstretched film is mainly determined by the thickness of the polymer piezoelectric film finally obtained and the stretch ratio, but is preferably 50 μm to 1000 μm, more preferably about 200 μm to 800 μm.
The preparation step may be a step of simply preparing an unstretched film manufactured in advance, or a step of manufacturing an unstretched film.
未延伸フィルムの製造は、例えば、ヘリカルキラル高分子(A)単体又はヘリカルキラル高分子(A)を含む組成物を、ヘリカルキラル高分子(A)の融点Tm(℃)以上の温度に加熱し、次いでフィルム形状に成形することにより行うことができる。
成形は、押し出し成形などの公知の手法にて行うことができる。
未延伸フィルムを製造する方法としては、例えば、国際公開第2013/054918号の段落0065〜0080に記載の予備結晶化フィルムの製造方法を参照してもよい。
The production of the unstretched film is performed, for example, by heating the helical chiral polymer (A) alone or a composition containing the helical chiral polymer (A) to a temperature equal to or higher than the melting point Tm (° C.) of the helical chiral polymer (A). Then, it can carry out by shape | molding in a film shape.
Molding can be performed by a known method such as extrusion molding.
As a method for producing an unstretched film, for example, a method for producing a pre-crystallized film described in paragraphs 0065 to 0080 of International Publication No. 2013/054918 may be referred to.
未延伸フィルムとしての予備結晶化フィルムは、押し出し直後の非晶状態のフィルムを、以下の範囲の温度Tにて保持することによって得ることができる。
温度Tでの保持時間は、5秒〜60分が好ましく、10秒〜30分がより好ましい。
Tg−40℃≦T≦Tg+40℃
(Tgは、ヘリカルキラル高分子(A)のガラス転移温度を表す)
A pre-crystallized film as an unstretched film can be obtained by holding an amorphous film immediately after extrusion at a temperature T in the following range.
The holding time at the temperature T is preferably 5 seconds to 60 minutes, and more preferably 10 seconds to 30 minutes.
Tg−40 ° C. ≦ T ≦ Tg + 40 ° C.
(Tg represents the glass transition temperature of the helical chiral polymer (A))
(延伸工程)
製法Aは、長尺形状の未延伸フィルムに対し、フィルムの幅方向両端部の温度であるTe1からフィルムの幅方向中央部の温度であるTc1を差し引いた差(以下、「差〔Te1−Tc1〕」ともいう)が3℃〜15℃であり、Te1からヘリカルキラル高分子(A)のガラス転移温度であるTgを差し引いた差(以下、「差〔Te1−Tg〕」ともいう)が10℃〜40℃であり、縦延伸倍率が2.0倍〜5.0倍であり、横延伸倍率が2.0倍〜5.0倍である条件を満足する同時二軸延伸を施すことにより、二軸延伸フィルムを得る延伸工程を含む。
(Stretching process)
In the production method A, for a long unstretched film, a difference obtained by subtracting Tc1 which is the temperature at the center in the width direction of the film from Te1 which is the temperature at both ends in the width direction of the film (hereinafter referred to as “difference [Te1-Tc1 ] ”Is 3 ° C. to 15 ° C., and a difference obtained by subtracting Tg which is the glass transition temperature of the helical chiral polymer (A) from Te1 (hereinafter also referred to as“ difference [Te1-Tg] ”) is 10 By performing simultaneous biaxial stretching that satisfies the conditions of -40 ° C to 40 ° C, a longitudinal draw ratio of 2.0 times to 5.0 times, and a transverse draw ratio of 2.0 times to 5.0 times And a stretching step for obtaining a biaxially stretched film.
同時二軸延伸において、差〔Te1−Tc1〕は、3℃〜15℃である。
差〔Te1−Tc1〕が3℃以上であると、幅方向両端部の延伸変形量が幅方向中央部の延伸変形量と比較して大きくなり、その結果、適度なボーイング量が得られ易い。このため、差〔Te1−Tc1〕が3℃以上であると、θ2が35°〜55°であり、θ3が35°〜55°である本開示の高分子圧電フィルムを製造し易い。上記効果をより効果的に得る観点から、差〔Te1−Tc1〕は、5℃以上であることが好ましい。
差〔Te1−Tc1〕が15℃以下であると、幅方向両端部の延伸変形量が過剰となることを抑制でき、その結果、フィルム全体でのボーイング量が過剰となることを抑制できる。このため、差〔Te1−Tc1〕が15℃以下であると、θ2及びθ3の各々が35°未満となることを抑制できる。上記効果をより効果的に得る観点から、差〔Te1−Tc1〕は、10℃以下であることが好ましい。
In simultaneous biaxial stretching, the difference [Te1-Tc1] is 3 ° C to 15 ° C.
When the difference [Te1−Tc1] is 3 ° C. or more, the amount of stretching deformation at both ends in the width direction becomes larger than the amount of stretching deformation at the center portion in the width direction, and as a result, an appropriate amount of bowing is easily obtained. For this reason, when the difference [Te1-Tc1] is 3 ° C. or more, it is easy to produce the polymer piezoelectric film of the present disclosure in which θ2 is 35 ° to 55 ° and θ3 is 35 ° to 55 °. From the viewpoint of obtaining the above effect more effectively, the difference [Te1-Tc1] is preferably 5 ° C. or more.
When the difference [Te1-Tc1] is 15 ° C. or less, it is possible to suppress an excessive amount of stretching deformation at both ends in the width direction, and as a result, it is possible to suppress an excessive amount of bowing in the entire film. For this reason, it can suppress that each of (theta) 2 and (theta) 3 will be less than 35 degrees that difference [Te1-Tc1] is 15 degrees C or less. From the viewpoint of obtaining the above effect more effectively, the difference [Te1-Tc1] is preferably 10 ° C. or less.
同時二軸延伸において、差〔Te1−Tg〕は、10℃〜40℃である条件である。
差〔Te1−Tg〕が10℃以上であると、幅方向両端部の延伸変形量をある程度大きくすることができるので、適度なボーイング量が得られ易い。このため、差〔Te1−Tg〕が10℃以上であると、θ2が35°〜55°であり、θ3が35°〜55°である本開示の高分子圧電フィルムを製造し易い。
差〔Te1−Tg〕が40℃以下であると、幅方向両端部の延伸変形量が過剰となることを抑制できるので、θ2及びθ3の各々が35°未満となることを抑制できる。上記効果をより効果的に得る観点から、差〔Te1−Tg〕は、35℃以下であることが好ましく、30℃以下であることがより好ましい。
In simultaneous biaxial stretching, the difference [Te1-Tg] is a condition of 10 ° C to 40 ° C.
When the difference [Te1−Tg] is 10 ° C. or more, the amount of stretching deformation at both ends in the width direction can be increased to some extent, so that an appropriate amount of bowing is easily obtained. For this reason, when the difference [Te1-Tg] is 10 ° C. or more, it is easy to produce the polymer piezoelectric film of the present disclosure in which θ2 is 35 ° to 55 ° and θ3 is 35 ° to 55 °.
When the difference [Te1−Tg] is 40 ° C. or less, it is possible to suppress the amount of stretching deformation at both ends in the width direction from being excessive, and thus it is possible to suppress each of θ2 and θ3 from being less than 35 °. From the viewpoint of obtaining the above effect more effectively, the difference [Te1-Tg] is preferably 35 ° C. or less, and more preferably 30 ° C. or less.
また、Te1としては、60℃〜100℃も好ましく、70℃〜95℃も好ましく、75℃〜90℃も好ましい。 Moreover, as Te1, 60 to 100 degreeC is also preferable, 70 to 95 degreeC is also preferable, and 75 to 90 degreeC is also preferable.
また、同時二軸延伸において、フィルムの幅方向中央部の温度であるTc1からヘリカルキラル高分子(A)のガラス転位温度であるTgを差し引いた差(以下、「差〔Tc1−Tg〕」ともいう)には特に制限はないが、差〔Tc1−Tg〕は、5℃〜35℃であることが好ましく、10℃〜30℃であることがより好ましい。 In addition, in simultaneous biaxial stretching, a difference obtained by subtracting Tg, which is the glass transition temperature of the helical chiral polymer (A), from Tc1, which is the temperature in the center in the width direction of the film (hereinafter referred to as “difference [Tc1-Tg]”). The difference [Tc1-Tg] is preferably 5 ° C to 35 ° C, more preferably 10 ° C to 30 ° C.
Te1(フィルムの幅方向両端部の温度)は、フィルムの幅方向一端を含む幅方向長さ50mmの領域(以下、「領域A」とする)及びフィルムの幅方向他端を含む幅方向長さ50mmの領域(以下、「領域B」とする)における、10点の温度の平均値を意味する。
Tc1(フィルムの幅方向中央部の温度)は、領域A及び領域Bを除いた領域における、10点の温度の平均値を意味する。
フィルムの温度は、非接触赤外温度計(例えば、キーエンス社製の非接触赤外温度計)を用いて測定することができる。
Te1 (temperature at both ends in the width direction of the film) is a width direction length including the width direction end of the film (hereinafter referred to as "region A") including the width direction end of the film and the width direction length of the film. It means an average value of 10 temperatures in a 50 mm region (hereinafter referred to as “region B”).
Tc1 (temperature in the center in the width direction of the film) means an average value of 10 temperatures in the region excluding the region A and the region B.
The temperature of the film can be measured using a non-contact infrared thermometer (for example, a non-contact infrared thermometer manufactured by Keyence Corporation).
同時二軸延伸において、縦延伸倍率は2.0倍〜5.0倍である。この範囲で、ボーイング量が適切な範囲に調整され得る。縦延伸倍率は2.5倍〜4.5倍が好ましく、3.0倍〜4.0倍がより好ましい。
ここで、縦延伸倍率とは、フィルムの長手方向の延伸倍率(即ち、MD方向の延伸倍率)を意味する。
In simultaneous biaxial stretching, the longitudinal stretching ratio is 2.0 to 5.0 times. In this range, the bowing amount can be adjusted to an appropriate range. The longitudinal draw ratio is preferably 2.5 times to 4.5 times, more preferably 3.0 times to 4.0 times.
Here, the longitudinal stretch ratio means the stretch ratio in the longitudinal direction of the film (that is, the stretch ratio in the MD direction).
同時二軸延伸において横延伸倍率は2.0倍〜5.0倍である。この範囲で、ボーイング量が適切な範囲に調整され得る。
横延伸倍率は2.5倍〜4.5倍が好ましく、3.0倍〜4.0倍がより好ましい。
ここで、横延伸倍率とは、フィルムの幅方向の延伸倍率(即ち、TD方向の延伸倍率)を意味する。
In the simultaneous biaxial stretching, the transverse stretching ratio is 2.0 times to 5.0 times. In this range, the bowing amount can be adjusted to an appropriate range.
The transverse stretch ratio is preferably 2.5 times to 4.5 times, more preferably 3.0 times to 4.0 times.
Here, the transverse stretch ratio means the stretch ratio in the width direction of the film (that is, the stretch ratio in the TD direction).
(熱処理工程)
製法Aは、二軸延伸フィルムに対し、80℃〜160℃の温度の熱処理を施すことにより、本開示の高分子圧電フィルムを得る熱処理工程を含む。
上記熱処理により、二軸延伸フィルムの結晶化を進行させることができる。これにより、結晶化度が20%〜80%である本開示の高分子圧電フィルムが得られる。
熱処理の温度は、100℃〜155℃が好ましい。
(Heat treatment process)
Manufacturing method A includes a heat treatment step of obtaining a polymer piezoelectric film of the present disclosure by performing a heat treatment at a temperature of 80 ° C. to 160 ° C. on the biaxially stretched film.
By the heat treatment, crystallization of the biaxially stretched film can be advanced. Thereby, the polymer piezoelectric film of the present disclosure having a crystallinity of 20% to 80% is obtained.
The temperature of the heat treatment is preferably 100 ° C to 155 ° C.
熱処理の時間は、1秒〜5分であることが好ましく、5秒〜3分であることがより好ましく、10秒〜2分であることがさらに好ましい。熱処理の時間が5分以下であると生産性に優れる。一方、熱処理の時間が1秒以上であると、フィルムの結晶化度をより向上させることができる。 The heat treatment time is preferably 1 second to 5 minutes, more preferably 5 seconds to 3 minutes, and further preferably 10 seconds to 2 minutes. When the heat treatment time is 5 minutes or less, the productivity is excellent. On the other hand, when the heat treatment time is 1 second or longer, the crystallinity of the film can be further improved.
熱処理は、同時二軸延伸によって得られた二軸延伸フィルムに対し、同時二軸延伸時における縦延伸倍率及び横延伸倍率の少なくとも一方を例えば5%〜30%(好ましくは5%〜20%)縮小させた状態で行うことが好ましい。
一般に、熱処理では、二軸延伸フィルムの結晶化が進行することにより、二軸延伸フィルムの体積変化が起こり、その結果、分子配向方向La及び分子配向方向Lbが変化する。
そこで、同時二軸延伸によって得られた二軸延伸フィルムに対し、同時二軸延伸時における縦延伸倍率及び横延伸倍率の少なくとも一方を5%〜30%(好ましくは5%〜20%)縮小させた状態で熱処理を行うことにより、θ1、θ2、及びθ3の各々を上述した範囲により調整しやすくなる。
For the heat treatment, for the biaxially stretched film obtained by simultaneous biaxial stretching, at least one of the longitudinal stretching ratio and the lateral stretching ratio at the time of simultaneous biaxial stretching is, for example, 5% to 30% (preferably 5% to 20%). It is preferable to carry out in a reduced state.
Generally, in heat treatment, the crystallization of a biaxially stretched film causes a change in volume of the biaxially stretched film, and as a result, the molecular orientation direction La and the molecular orientation direction Lb change.
Therefore, the biaxially stretched film obtained by simultaneous biaxial stretching is reduced by 5% to 30% (preferably 5% to 20%) at least one of the longitudinal stretching ratio and the lateral stretching ratio during simultaneous biaxial stretching. By performing the heat treatment in the above state, each of θ1, θ2, and θ3 can be easily adjusted within the above-described range.
同時二軸延伸工程及び熱処理工程は、好ましくは、同時二軸延伸テンタを用いて行う。
同時二軸延伸テンタの構造としては、
同時二軸延伸テンタ内の複数の領域を、それぞれ独立に温度調節できる構造、
同時二軸延伸テンタ内が複数の区域にわけられ、各区域を、それぞれ独立に温度調節できる構造、
等が挙げられる。
The simultaneous biaxial stretching step and the heat treatment step are preferably performed using a simultaneous biaxial stretching tenter.
As the structure of the simultaneous biaxial stretching tenter,
A structure in which the temperature in each of the plurality of regions in the simultaneous biaxial stretching tenter can be adjusted independently,
A structure in which the simultaneous biaxial stretching tenter is divided into a plurality of areas, and the temperature of each area can be adjusted independently,
Etc.
上記差〔Te1−Tc1〕が3℃〜15℃であることを満足させる具体的な方法には特に制限はないが、
フィルム両端に相当する部分のみ加熱されるロール又はドラムを用いてフィルム両端部を加熱し、かつ、フィルム中央部をヒーターで加熱する方法;
フィルムの両端部にはめ込む構造のヒーターを用いてフィルム両端部を加熱し、かつ、フィルム中央部をヒーターで加熱する方法;
等が挙げられる。
There is no particular limitation on the specific method for satisfying that the difference [Te1-Tc1] is 3 ° C. to 15 ° C.,
A method in which both ends of the film are heated using a roll or drum heated only in portions corresponding to both ends of the film, and the center of the film is heated with a heater;
A method of heating both ends of the film using a heater having a structure fitted to both ends of the film, and heating the center of the film with a heater;
Etc.
同時二軸延伸テンタにおけるクリップの駆動方式としては、パンタグラフ駆動方式、スクリュー駆動方式、リニアモーター駆動方式、などが挙げられる。
特に、クリップの駆動方式がリニアモーター駆動方式である同時二軸延伸テンタは、生産性が高く、延伸条件の自由度も高いため、製法Aの実施にあたり、極めて有効である。
Examples of the driving method of the clip in the simultaneous biaxial stretching tenter include a pantograph driving method, a screw driving method, a linear motor driving method, and the like.
In particular, the simultaneous biaxial stretching tenter in which the clip driving method is a linear motor driving method is extremely effective in carrying out the manufacturing method A because of high productivity and high flexibility in stretching conditions.
〔圧電フィルム片〕
本開示の圧電フィルム片は、重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%である圧電フィルム片であって、一端部におけるヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向と、他端部におけるヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向と、の平面視角度が、70°〜110°である。
[Piezoelectric film piece]
The piezoelectric film piece of the present disclosure includes a helical chiral polymer (A) having an optical activity having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000, and a crystallinity obtained by DSC method is 20% to 80%. It is a film piece, Comprising: The planar view angle of the molecular orientation direction of the helical chiral polymer (A) in one end part and the molecular orientation direction of the helical chiral polymer (A) in the other end part is 70 ° to 110 °. It is.
本開示の圧電フィルム片の一例としては、前述した圧電フィルム片100が挙げられる。
本開示の圧電フィルム片の材質及び物性(結晶化度等)は、本開示の高分子圧電フィルムと同様であり、好ましい範囲も同様である。
An example of the piezoelectric film piece of the present disclosure includes the piezoelectric film piece 100 described above.
The material and physical properties (such as crystallinity) of the piezoelectric film piece of the present disclosure are the same as those of the polymer piezoelectric film of the present disclosure, and the preferred range is also the same.
本開示の圧電フィルム片の平面視における形状としては、本開示の高分子圧電フィルムから採取される際の歩留まり(即ち、材料歩留まり)の点から、矩形状が好ましく、長方形状がより好ましい。
本開示の圧電フィルム片は、圧電フィルム片の長手方向一端部におけるヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向と、圧電フィルム片の長手方向他端部におけるヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向と、の平面視角度が、70°〜110°であることが好ましい。
The shape of the piezoelectric film piece of the present disclosure in plan view is preferably a rectangular shape, more preferably a rectangular shape, from the viewpoint of yield (ie, material yield) when collected from the polymer piezoelectric film of the present disclosure.
The piezoelectric film piece of the present disclosure includes a molecular orientation direction of the helical chiral polymer (A) at one longitudinal end portion of the piezoelectric film piece and a molecular orientation of the helical chiral polymer (A) at the other longitudinal end portion of the piezoelectric film piece. It is preferable that the planar view angle with respect to the direction is 70 ° to 110 °.
<圧電フィルム片の好ましい製造方法>
次に、本開示の圧電フィルム片の好ましい製造方法である、製法Xについて説明する。
製法Xは、
本開示の高分子圧電フィルムを準備する工程と、
高分子圧電フィルムから、高分子圧電フィルムの幅方向一端部の少なくとも一部と幅方向他端部の少なくとも一部とを含む圧電フィルム片を採取する工程と、
を含む。
<Preferable manufacturing method of piezoelectric film piece>
Next, production method X, which is a preferred method for producing the piezoelectric film piece of the present disclosure, will be described.
Process X is
Preparing a polymer piezoelectric film of the present disclosure;
A step of collecting a piezoelectric film piece including at least a part of one end in the width direction of the polymer piezoelectric film and at least a part of the other end in the width direction from the polymer piezoelectric film;
including.
本開示の高分子圧電フィルムを準備する工程は、予め用意された高分子圧電フィルムを単に準備するだけの工程であってもよいし、高分子圧電フィルムを製造する工程であってもよい。
高分子圧電フィルムを製造する工程としては、前述の製法A(本開示の高分子圧電フィルムの好ましい製造方法)によって高分子圧電フィルムを製造する工程が好ましい。
The step of preparing the polymer piezoelectric film of the present disclosure may be a step of merely preparing a polymer piezoelectric film prepared in advance, or a step of manufacturing a polymer piezoelectric film.
As a process for producing a polymer piezoelectric film, a process for producing a polymer piezoelectric film by the above-mentioned production method A (a preferred method for producing a polymer piezoelectric film of the present disclosure) is preferable.
採取される圧電フィルム片は、長方形状の圧電フィルム片であることが好ましい。
この場合、採取される長方形状の圧電フィルム片の長手方向一端部が、高分子圧電フィルムの幅方向一端部の少なくとも一部に対応し、かつ、採取される長方形状の圧電フィルム片の長手方向他端部が、高分子圧電フィルムの幅方向他端部の少なくとも一部に対応する配置で、長方形状の圧電フィルム片を採取することが好ましい。
The collected piezoelectric film piece is preferably a rectangular piezoelectric film piece.
In this case, one end in the longitudinal direction of the collected rectangular piezoelectric film piece corresponds to at least a part of one end in the width direction of the polymer piezoelectric film, and the longitudinal direction of the collected rectangular piezoelectric film piece It is preferable to collect a rectangular piezoelectric film piece with the other end portion corresponding to at least a part of the other end portion in the width direction of the polymer piezoelectric film.
高分子圧電フィルムからの圧電フィルム片の採取は、打ち抜き、切り出し、等の公知の方法によって行うことができる。 Collection of the piezoelectric film piece from the polymer piezoelectric film can be performed by a known method such as punching or cutting.
〔積層体〕
本開示の積層体は、上述した本開示の圧電フィルム片と、この圧電フィルム片の少なくとも一方(好ましくは両方)の面の側に配置された電極層と、を備える。
本開示の積層体は、積層体は、必要に応じ、その他の部材を備えていてもよい。
本開示の積層体は、圧電素子として機能し得る。
本開示の積層体の一例としては、前述した積層体110が挙げられる(図3)。
[Laminate]
The laminate of the present disclosure includes the above-described piezoelectric film piece of the present disclosure and an electrode layer disposed on at least one (preferably both) surfaces of the piezoelectric film piece.
The laminated body of this indication may be provided with other members as needed.
The laminate of the present disclosure can function as a piezoelectric element.
As an example of the laminated body of the present disclosure, the above-described laminated body 110 can be cited (FIG. 3).
<電極層>
本開示の積層体は、一方の面の側のみに電極層を備えていてもよいし、両方の面の側に電極層を備えていてもよい。
また、本開示の積層体は、一方の面の側につき、電極層を2層以上備えていてもよい。
<Electrode layer>
The laminated body of this indication may be provided with the electrode layer only in the side of one surface, and may be provided with the electrode layer in the side of both surfaces.
Moreover, the laminated body of this indication may be provided with two or more electrode layers per one surface side.
また、電極層は、圧電フィルム片に接して設けられていてもよいし、圧電フィルム片との間に、公知のアンカーコーティング層等の他の層を介して設けられていてもよい。
また、電極層が、圧電フィルム片に接して設けられる場合、圧電フィルム片の電極層との接触面には、コロナ放電処理、フレーム処理、オゾン処理等の表面活性化処理が施されていてもよい。
Moreover, the electrode layer may be provided in contact with the piezoelectric film piece, or may be provided via another layer such as a known anchor coating layer between the piezoelectric film piece.
Further, when the electrode layer is provided in contact with the piezoelectric film piece, the contact surface with the electrode layer of the piezoelectric film piece may be subjected to surface activation treatment such as corona discharge treatment, flame treatment, ozone treatment, etc. Good.
上記電極層は、圧電フィルム片の全面(即ち、面全体)に形成された全面電極層であることが好ましい。更に、全面電極層は、圧電フィルム片の両面の全体にそれぞれ形成されることが好ましい。
即ち、本開示の積層体の好ましい態様は、上述した第1態様又は第2態様に係る圧電フィルム片と、この圧電フィルム片の両面の全面にそれぞれ形成された一対の全面電極層と、を備える態様である。
上記好ましい態様の積層体は、更に、上記圧電フィルム片から見て前記一対の全面電極層の少なくとも一方の外側に配置された接着層を備えることがより好ましい。
接着層を備える態様の積層体としては、上述した積層体110(図3)が挙げられる。
The electrode layer is preferably a full surface electrode layer formed on the entire surface of the piezoelectric film piece (that is, the entire surface). Furthermore, the entire surface electrode layer is preferably formed on both surfaces of the piezoelectric film piece.
That is, a preferable aspect of the laminate of the present disclosure includes the above-described piezoelectric film piece according to the first aspect or the second aspect, and a pair of full-surface electrode layers respectively formed on both surfaces of the piezoelectric film piece. It is an aspect.
More preferably, the laminate according to the preferred aspect further includes an adhesive layer disposed outside at least one of the pair of full-surface electrode layers as viewed from the piezoelectric film piece.
As a laminated body of an aspect provided with an adhesive layer, the above-described laminated body 110 (FIG. 3) is exemplified.
上記電極層(例えば上記全面電極層。以下同じ。)の材質には特に制限はないが、例えば、Al、Ag、Au、Cu、Ag−Pd合金、ITO、ZnO、IZO(登録商標)、導電性ポリマー等が挙げられる。
電極層には、上記材質が1種のみ含まれていても、2種以上含まれていてもよい。
電極層には、電極層としての導電性を維持できる範囲でれば、上記材質以外にも、導電性を有しない成分(バインダー成分等)が含まれていてもよい。
The material of the electrode layer (for example, the entire surface electrode layer; the same shall apply hereinafter) is not particularly limited. For example, Al, Ag, Au, Cu, Ag—Pd alloy, ITO, ZnO, IZO (registered trademark), conductive Include a functional polymer.
The electrode layer may contain only one type of the above material or two or more types.
The electrode layer may contain a component having no conductivity (such as a binder component) in addition to the above materials as long as the conductivity of the electrode layer can be maintained.
電極層は、透明性を有することが好ましい。
具体的には、電極層は、可視光線に対する内部ヘイズが、50%以下であることが好ましく、40%以下であることがより好ましく、30%以下であることが更に好ましく、20%以下であることが特に好ましい。
透明性の観点からは、電極層の材質は、ITO、ZnO、IZO(登録商標)、導電性ポリマー等が好ましい。
The electrode layer preferably has transparency.
Specifically, the electrode layer preferably has an internal haze with respect to visible light of 50% or less, more preferably 40% or less, further preferably 30% or less, and 20% or less. It is particularly preferred.
From the viewpoint of transparency, the material of the electrode layer is preferably ITO, ZnO, IZO (registered trademark), conductive polymer, or the like.
電極層の厚さには特に制限はないが、10nm〜1000nmが好ましく、30nm〜600nmがより好ましく、50nm〜300nmが特に好ましい。
厚さが10nm以上であると、導電性をより高くすることができる。
また、厚さが1000nm以下であると、積層体全体としての圧電性がより高く維持される。
Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of an electrode layer, 10 nm-1000 nm are preferable, 30 nm-600 nm are more preferable, 50 nm-300 nm are especially preferable.
When the thickness is 10 nm or more, the conductivity can be further increased.
Further, when the thickness is 1000 nm or less, the piezoelectricity of the entire laminate is maintained higher.
電極層は、蒸着、スパッタリング、塗布形成(必要に応じ更に乾燥や焼成を含む)等、公知の方法によって形成することができる。 The electrode layer can be formed by a known method such as vapor deposition, sputtering, coating formation (including further drying and baking as necessary).
<接着層>
本開示の積層体は、電極層から見て、圧電フィルム片が配置されている側とは反対側に配置された接着層を備えることが好ましい。
本開示の積層体において、電極層が、圧電フィルム片の両方の面の側に配置されている場合には、接着層は、少なくとも一方の電極層の側に設けられていればよい。
接着層は、電極層に接して設けられていてもよいし、電極層との間に、公知のアンカーコーティング層等の他の層を介して設けられていてもよい。
また、接着層が、電極層に接して設けられる場合、電極層の接着層との接触面には、コロナ放電処理、フレーム処理、オゾン処理等の表面活性化処理が施されていてもよい。
<Adhesive layer>
It is preferable that the laminated body of this indication is equipped with the contact bonding layer arrange | positioned on the opposite side to the side by which the piezoelectric film piece is arrange | positioned seeing from an electrode layer.
In the laminated body of the present disclosure, when the electrode layers are disposed on both sides of the piezoelectric film piece, the adhesive layer may be provided on at least one of the electrode layers.
The adhesive layer may be provided in contact with the electrode layer, or may be provided between the electrode layer via another layer such as a known anchor coating layer.
In the case where the adhesive layer is provided in contact with the electrode layer, a surface activation treatment such as corona discharge treatment, flame treatment, or ozone treatment may be performed on the contact surface of the electrode layer with the adhesive layer.
上記接着層において、「接着」とは広義の接着を意味し、「接着」の概念には、粘着も含まれるものとする。
上記接着層としては、粘着層、硬化層等が挙げられる。
In the adhesive layer, “adhesion” means adhesion in a broad sense, and the concept of “adhesion” includes tackiness.
Examples of the adhesive layer include an adhesive layer and a cured layer.
接着層の膜厚は特に限定されるものではないが、上記膜厚は、例えば0.01μm〜10μmとすることができる。 Although the film thickness of an adhesion layer is not specifically limited, The said film thickness can be 0.01 micrometer-10 micrometers, for example.
(粘着層)
粘着層としては、例えば、両面をセパレータでラミネートしてある両面テープ(OCA;Optical Clear Adhensive)の粘着層を用いることができる。
また、上記粘着層は、溶剤系、無溶剤系、水系などの粘着コート液、UV硬化型OCR(Optical Clear Resin)、ホットメルト接着剤、などを用いて形成することもできる。
(Adhesive layer)
As the adhesive layer, for example, an adhesive layer of a double-sided tape (OCA; Optical Clear Adhesive) in which both surfaces are laminated with a separator can be used.
The pressure-sensitive adhesive layer can also be formed using a solvent-based, solvent-free, water-based or other pressure-sensitive adhesive coating solution, UV curable OCR (Optical Clear Resin), hot melt adhesive, or the like.
OCAとしては、光学用透明粘着シートLUCIACSシリーズ(日東電工株式会社製)や高透明両面テープ5400Aシリーズ(積水化学工業株式会社製)、光学粘着シートOpteriaシリーズ(リンテック株式会社製)、高透明性接着剤転写テープシリーズ(住友スリーエム株式会社製)、SANCUARYシリーズ(株式会社サンエー化研製)などが挙げられる。 As OCA, optical transparent adhesive sheet LUCIACS series (manufactured by Nitto Denko Corporation), highly transparent double-sided tape 5400A series (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), optical adhesive sheet Optia series (manufactured by Lintec Corporation), high transparency adhesive Agent transfer tape series (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), SANCUARY series (manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd.), etc.
粘着コート液としては、SKダインシリーズ(綜研化学株式会社製)、ファインタックシリーズ(DIC株式会社製)、ボンコートシリーズ、LKGシリーズ(藤倉化成株式会社製)、コーポニールシリーズ(日本合成化学工業株式会社製)などが挙げられる。 Adhesive coating liquids include SK Dyne Series (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), Fine Tack Series (manufactured by DIC Corporation), Bon Coat Series, LKG Series (manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.), Coponille Series (Nippon Gosei Chemical Co., Ltd.) Company-made).
粘着層としては、高分子圧電フィルムの加熱を防ぐ観点から、OCAの粘着層、OCRを用いて形成された粘着層、高分子圧電フィルム以外の部材に粘着コート液を塗布して形成した粘着層、高分子圧電フィルム以外の部材にホットメルト接着剤を使用して形成した粘着層が好ましい。 As the adhesive layer, from the viewpoint of preventing the heating of the polymer piezoelectric film, an OCA adhesive layer, an adhesive layer formed using OCR, an adhesive layer formed by applying an adhesive coating solution to a member other than the polymer piezoelectric film An adhesive layer formed using a hot melt adhesive on a member other than the polymer piezoelectric film is preferred.
(硬化層)
硬化層の材料としては、特に限定されるものではないが、例えばアクリル系化合物、メタクリル系化合物、ビニル系化合物、アリル系化合物、ウレタン系化合物、エポキシ系化合物、エポキシド系化合物、グリシジル系化合物、オキセタン系化合物、メラミン系化合物、セルロース系化合物、エステル系化合物、シラン系化合物、シリコーン系化合物、シロキサン系化合物、シリカ−アクリルハイブリット化合物、及びシリカ−エポキシハイブリット化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の材料(硬化性樹脂)を含むことが好ましい。
これらの中でも、アクリル系化合物、エポキシ系化合物、シラン系化合物がより好ましい。
(Cured layer)
The material of the hardened layer is not particularly limited. For example, acrylic compound, methacrylic compound, vinyl compound, allyl compound, urethane compound, epoxy compound, epoxide compound, glycidyl compound, oxetane Compound, melamine compound, cellulose compound, ester compound, silane compound, silicone compound, siloxane compound, silica-acryl hybrid compound, and at least one material selected from the group consisting of silica-epoxy hybrid compounds (Curable resin) is preferably included.
Among these, acrylic compounds, epoxy compounds, and silane compounds are more preferable.
硬化層に含まれる材料としては、上記硬化性樹脂の中でも、活性エネルギー線(紫外線、電子線、放射線等)照射により硬化された活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましい。
また硬化層にはその目的に応じて屈折率調整剤や紫外線吸収剤、レベリング剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤などの各種有機物、無機物を添加することもできる。
As the material contained in the cured layer, among the curable resins, active energy ray curable resins cured by irradiation with active energy rays (ultraviolet rays, electron beams, radiations, etc.) are preferable.
In addition, various organic substances such as a refractive index adjusting agent, an ultraviolet absorber, a leveling agent, an antistatic agent, and an antiblocking agent, and inorganic substances can be added to the cured layer depending on the purpose.
硬化層を形成する方法としては、従来一般的に用いられていた公知の方法が適宜使用できるが、例えばウェットコート法が挙げられる。例えば、硬化層を形成するための材料(硬化性樹脂、添加剤等)が分散または溶解されたコート液を塗布することで、硬化層が形成される。
さらに必要に応じて、上記の通り塗布された前記材料(硬化性樹脂等)に対して熱や活性エネルギー線(紫外線、電子線、放射線等)照射により硬化性樹脂を硬化させる。
As a method for forming the cured layer, known methods that have been conventionally used can be used as appropriate, and examples thereof include a wet coating method. For example, the hardened layer is formed by applying a coating liquid in which a material for forming the hardened layer (curable resin, additive, etc.) is dispersed or dissolved.
Further, if necessary, the curable resin is cured by applying heat or active energy rays (ultraviolet rays, electron beams, radiation, etc.) to the material (curable resin or the like) applied as described above.
尚、硬化層に含まれる材料としては、上記硬化性樹脂の中でも、活性エネルギー線(紫外線、電子線、放射線等)照射により硬化された活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことで、製造効率が向上し、また硬化樹脂層の形成によって生じる高分子圧電フィルムの性能低下をより抑制することができる。 In addition, as a material contained in a hardened layer, the active energy ray curable resin hardened | cured by irradiation of active energy rays (an ultraviolet ray, an electron beam, radiation, etc.) among the said curable resin is preferable. By including the active energy ray-curable resin, the production efficiency is improved, and the performance degradation of the polymer piezoelectric film caused by the formation of the cured resin layer can be further suppressed.
また、上記硬化性樹脂層は、架橋密度を高める観点から、三次元架橋構造を有する三次元架橋樹脂を含むことが好ましい。
三次元架橋構造を有する硬化物を作製する手段としては、硬化性樹脂として重合性官能基を3つ以上有するモノマー(3官能以上のモノマー)を用いる方法、重合性官能基を3つ以上有する架橋剤(3官能以上の架橋剤)を用いる方法等が挙げられ、また架橋剤として有機過酸化物などの架橋剤を用いる方法も挙げられる。尚、これらの手段を複数組み合わせて用いてもよい。
Moreover, it is preferable that the said curable resin layer contains the three-dimensional crosslinked resin which has a three-dimensional crosslinked structure from a viewpoint of raising a crosslinking density.
As a means for producing a cured product having a three-dimensional crosslinked structure, a method using a monomer having three or more polymerizable functional groups (a monomer having three or more functional groups) as a curable resin, or a crosslinking having three or more polymerizable functional groups. Examples include a method using a crosslinking agent (a trifunctional or higher functional crosslinking agent), and a method using a crosslinking agent such as an organic peroxide as a crosslinking agent. A plurality of these means may be used in combination.
3官能以上のモノマーとしては、例えば、1分子中に3つ以上の(メタ)アクリル基を有する(メタ)アクリル化合物や、1分子中に3つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the tri- or higher functional monomer include (meth) acrylic compounds having three or more (meth) acrylic groups in one molecule, and epoxy compounds having three or more epoxy groups in one molecule. .
本明細書中において、「(メタ)アクリル基」とは、アクリル基及びメタクリル基の少なくとも一方を表す。
また、「1分子中に3つ以上の(メタ)アクリル基を有する」とは、1分子中にアクリル基及びメタクリル基の少なくとも一方を有し、かつ、1分子中におけるアクリル基及びメタクリル基の総数が3つ以上であることを指す。
In the present specification, “(meth) acrylic group” represents at least one of an acrylic group and a methacrylic group.
Further, “having three or more (meth) acrylic groups in one molecule” means having at least one of an acrylic group and a methacrylic group in one molecule, and an acrylic group and a methacrylic group in one molecule. The total number is 3 or more.
ここで、硬化層に含まれる材料が三次元架橋構造を有する硬化物であるか否かを確認する方法としては、ゲル分率を測定する方法が挙げられる。
具体的には、硬化層を溶剤に24時間浸漬した後の不溶分からゲル分率を導くことができる。特に溶剤が水などの親水性の溶媒でも、トルエンのような新油性の溶媒でも、ゲル分率が一定以上のものが三次元架橋構造を有すると推定することができる。
Here, as a method for confirming whether or not the material contained in the cured layer is a cured product having a three-dimensional cross-linked structure, a method of measuring the gel fraction can be mentioned.
Specifically, the gel fraction can be derived from the insoluble matter after the cured layer is immersed in a solvent for 24 hours. In particular, it can be presumed that a solvent having a gel fraction of a certain level or more has a three-dimensional crosslinked structure, whether the solvent is a hydrophilic solvent such as water or a new oily solvent such as toluene.
〔圧電素子〕
本開示の圧電素子は、上述した本開示の圧電フィルム片、又は、上述した積層体を含む。
本開示の圧電素子の特に好ましい態様は、上述した本開示の積層体であって接着層を備える態様の積層体を備え、かつ、この積層体は、接着層が内側となり、かつ、圧電フィルム片の上記一端部と圧電フィルム片の上記他端部とが平面視で重なるように曲げ変形されている態様である。
かかる好ましい態様の一例として、上述したベンディングアクチュエーター120が挙げられる。
本開示の圧電素子の詳細(変形例、バリエーション等)については、「高分子圧電フィルム」の項で説明したとおりである。
〔Piezoelectric element〕
The piezoelectric element of the present disclosure includes the above-described piezoelectric film piece of the present disclosure or the above-described laminated body.
A particularly preferable aspect of the piezoelectric element of the present disclosure includes the above-described laminated body of the present disclosure that includes an adhesive layer, and the laminated body includes the adhesive layer on the inner side and the piezoelectric film piece. The one end of the piezoelectric film and the other end of the piezoelectric film piece are bent and deformed so as to overlap in a plan view.
An example of such a preferred embodiment is the bending actuator 120 described above.
Details (modifications, variations, etc.) of the piezoelectric element of the present disclosure are as described in the section “Polymer Piezoelectric Film”.
以下、本開示を実施例により更に具体的に説明するが、本開示はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present disclosure will be described in more detail with reference to examples. However, the present disclosure is not limited to the following examples unless the gist of the present disclosure is exceeded.
〔実施例1〕
<高分子圧電フィルムの作製>
原料として、ヘリカルキラル高分子(A)の一例である、NatureWorks LLC社製のポリ乳酸(品名:IngeoTM biopolymer、銘柄:4032D、重量平均分子量Mw:20万、融点(Tm):166℃、ガラス転移温度(Tg):57℃〜60℃)を準備した。
準備した原料を押出成形機ホッパーに入れて、220℃〜230℃に加熱しながらTダイから押し出し、55℃のキャストロールに0.5分間接触させることにより、未延伸フィルムとして、長尺形状の厚さ150μmの予備結晶化フィルムを製膜した。予備結晶化フィルムの結晶化度を測定したところ5.63%であった。
[Example 1]
<Production of polymer piezoelectric film>
As the raw material, which is an example of a helical chiral polymer (A), NatureWorks LLC Corp. polylactic acid (product name: Ingeo TM Biopolymer, brand: 4032D, weight average molecular weight Mw: 20 million in the melting point (Tm): 166 ° C., a glass A transition temperature (Tg): 57 ° C. to 60 ° C. was prepared.
The prepared raw material is put into an extrusion molding machine hopper, extruded from a T-die while being heated to 220 ° C. to 230 ° C., and brought into contact with a cast roll at 55 ° C. for 0.5 minutes. A pre-crystallized film having a thickness of 150 μm was formed. The crystallinity of the pre-crystallized film was measured and found to be 5.63%.
上記予備結晶化フィルムに対し、リニアモーター駆動の同時二軸延伸テンタを用い、同時二軸延伸及び熱処理を施した。以下、詳細を説明する。 The preliminary crystallized film was subjected to simultaneous biaxial stretching and heat treatment using a linear motor driven simultaneous biaxial stretching tenter. Details will be described below.
本実施例の同時二軸延伸テンタは、MD方向に対して平行な2列のガイドレールを備え、これら2列のガイドレールに沿って設けられた2列のクリップ群を備える。2列のクリップ群により、フィルムの幅方向両端部が把持される。
2列のクリップ群における各クリップは、リニアモーター駆動によってガイドレールに沿って移動できる。これにより、MD方向のクリップ間隔を、リニアモーター駆動によって変更(即ち、拡大又は縮小)できる。
一方、2列のガイドレールの間隔も、リニアモーター駆動によって変更できる。2列のガイドレールの間隔をリニアモーター駆動によって変更することにより、TD方向のクリップ間隔を変更できる。
また、本実施例の同時二軸延伸テンタは、MD方向の上流側から順に、同時二軸延伸を行うための延伸ゾーン、及び、熱処理を行うための熱処理ゾーンを備えている。
延伸ゾーンでは、フィルムの幅方向両端部及びフィルムの幅方向中央部に対し、それぞれ独立した、加温及び温度調節を行えるようになっている。延伸ゾーンでは、MD方向のクリップ間隔及びTD方向のクリップ間隔を拡大することにより、所望とする縦延伸倍率及び横延伸倍率による同時二軸延伸を行うことができる。
熱処理ゾーンでは、延伸ゾーンとは独立した加温及び温度調節を行えるようになっている。熱処理ゾーンでは、MD方向のクリップ間隔及びTD方向のクリップ間隔を縮小することにより、同時二軸延伸時の縦延伸倍率及び横延伸倍率の各々を縮小できる。
The simultaneous biaxial stretching tenter of the present embodiment includes two rows of guide rails parallel to the MD direction, and includes two rows of clip groups provided along these two rows of guide rails. The two groups of clips hold both ends of the film in the width direction.
Each clip in the two rows of clip groups can move along the guide rail by a linear motor drive. Thereby, the clip interval in the MD direction can be changed (that is, enlarged or reduced) by driving the linear motor.
On the other hand, the interval between the two guide rails can also be changed by driving the linear motor. The clip interval in the TD direction can be changed by changing the interval between the two guide rails by driving the linear motor.
Moreover, the simultaneous biaxial stretching tenter of the present embodiment includes a stretching zone for performing simultaneous biaxial stretching and a heat treatment zone for performing heat treatment in order from the upstream side in the MD direction.
In the stretching zone, independent heating and temperature adjustment can be performed on both ends in the width direction of the film and the central portion in the width direction of the film. In the stretching zone, simultaneous biaxial stretching can be performed at a desired longitudinal stretching ratio and lateral stretching ratio by increasing the clip interval in the MD direction and the clip interval in the TD direction.
In the heat treatment zone, heating and temperature adjustment can be performed independently of the stretching zone. In the heat treatment zone, by reducing the clip interval in the MD direction and the clip interval in the TD direction, each of the longitudinal draw ratio and the transverse draw ratio during simultaneous biaxial stretching can be reduced.
上記予備結晶化フィルムを上記同時二軸延伸テンタに供給し、予備結晶化フィルムの幅方向両端部を、2列のクリップ群によって把持した。
次に、予備結晶化フィルムに対し、フィルムの幅方向両端部の温度であるTe1が85℃であり、フィルムの幅方向中央部の温度であるTc1が80℃であり、長手方向(MD方向)の延伸倍率(即ち、縦延伸倍率)が3.5倍であり、幅方向(TD方向)の収縮率(即ち、横延伸倍率)が3.5倍である条件の同時二軸延伸を施した。上記縦延伸倍率及び上記横延伸倍率の同時二軸延伸は、MD方向のクリップ間隔及びTD方向のクリップ間隔を拡大することにより行った。
次に、上記同時二軸延伸後の二軸延伸フィルムに対し、縦延伸倍率を10%縮小させ、かつ、横延伸倍率を15%縮小させた状態で、110℃、5秒間の条件の熱処理を施すことにより、厚さ16μm、長手方向長さ50m、全幅長(幅方向長さ)200mmの長尺形状の高分子圧電フィルムを得た。縦延伸倍率及び横延伸倍率の縮小は、MD方向のクリップ間隔及びTD方向のクリップ間隔を縮小することにより行った。
The pre-crystallized film was supplied to the simultaneous biaxial stretching tenter, and both end portions in the width direction of the pre-crystallized film were held by two rows of clip groups.
Next, with respect to the pre-crystallized film, Te1 which is the temperature at both ends in the width direction of the film is 85 ° C., Tc1 which is the temperature at the center portion in the width direction of the film is 80 ° C., and the longitudinal direction (MD direction) The film was subjected to simultaneous biaxial stretching under the conditions that the stretching ratio (that is, the longitudinal stretching ratio) was 3.5 times and the shrinkage rate (that is, the transverse stretching ratio) in the width direction (TD direction) was 3.5 times. . Simultaneous biaxial stretching of the longitudinal stretching ratio and the lateral stretching ratio was performed by enlarging the clip interval in the MD direction and the clip interval in the TD direction.
Next, the biaxially stretched film after the simultaneous biaxial stretching is subjected to heat treatment under conditions of 110 ° C. for 5 seconds with the longitudinal stretching ratio reduced by 10% and the transverse stretching ratio reduced by 15%. By applying, an elongated polymer piezoelectric film having a thickness of 16 μm, a length in the longitudinal direction of 50 m, and a total width (length in the width direction) of 200 mm was obtained. The reduction in the longitudinal draw ratio and the transverse draw ratio was performed by reducing the clip interval in the MD direction and the clip interval in the TD direction.
<測定及び評価>
上記で得られた高分子圧電フィルムについて、以下の測定及び評価を行った。
<Measurement and evaluation>
The polymer piezoelectric film obtained above was subjected to the following measurements and evaluations.
(ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量及び分子量分布)
ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)を用い、下記GPC測定方法により、上記高分子圧電フィルムに含まれるヘリカルキラル高分子(A)(ポリ乳酸)の重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)を測定した。
結果を表1に示す。
(Weight average molecular weight and molecular weight distribution of helical chiral polymer (A))
Using gel permeation chromatograph (GPC), the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of helical chiral polymer (A) (polylactic acid) contained in the polymer piezoelectric film by the following GPC measurement method Was measured.
The results are shown in Table 1.
−GPC測定方法−
・測定装置
Waters社製GPC−100
・カラム
昭和電工社製、Shodex LF−804
・サンプル溶液の調製
上記高分子圧電フィルムを採取したサンプルを溶媒〔クロロホルム〕に溶解させ、濃度1mg/mLのサンプル溶液を準備した。
・測定条件
サンプル溶液0.1mLを溶媒(クロロホルム)、温度40℃、1mL/分の流速でカラムに導入し、カラムで分離されたサンプル溶液中のサンプル濃度を示差屈折計で測定した。ポリ乳酸の重量平均分子量(Mw)は、ポリスチレン標準試料に基づいて作成したユニバーサル検量線に基づき、算出した。
-GPC measurement method-
・ Measurement device Waters GPC-100
・ Column Showa Denko KK, Shodex LF-804
-Preparation of sample solution The sample which extract | collected the said polymeric piezoelectric film was dissolved in the solvent [chloroform], and the sample solution with a density | concentration of 1 mg / mL was prepared.
Measurement conditions 0.1 mL of the sample solution was introduced into the column at a solvent (chloroform), a temperature of 40 ° C. and a flow rate of 1 mL / min, and the sample concentration in the sample solution separated by the column was measured with a differential refractometer. The weight average molecular weight (Mw) of polylactic acid was calculated based on a universal calibration curve created based on a polystyrene standard sample.
(ヘリカルキラル高分子(A)の光学純度)
上記高分子圧電フィルムに含まれるヘリカルキラル高分子(A)(ポリ乳酸)の光学純度を、以下のようにして測定した。
(Optical purity of helical chiral polymer (A))
The optical purity of the helical chiral polymer (A) (polylactic acid) contained in the polymer piezoelectric film was measured as follows.
まず、50mLの三角フラスコに、上記高分子圧電フィルムから採取した1.0gのサンプルを入れ、ここに、IPA(イソプロピルアルコール)2.5mL及び5.0mol/L水酸化ナトリウム溶液5mLを加え、サンプル溶液とした。
次に、このサンプル溶液が入った三角フラスコを温度40℃の水浴に入れ、ポリ乳酸が完全に加水分解するまで、約5時間攪拌した。
上記約5時間の撹拌後のサンプル溶液を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸溶液を20mL加えて中和し、三角フラスコを密栓してよくかき混ぜた。
次に、上記でかき混ぜたサンプル溶液の1.0mLを25mLのメスフラスコに取り分け、ここに下記組成の移動相を加え、25mLのHPLC試料溶液1を得た。
得られたHPLC試料溶液1をHPLC装置に5μL注入し、下記HPLC測定条件にてHPLC測定を行った。得られた測定結果から、ポリ乳酸のD体に由来するピークの面積とポリ乳酸のL体に由来するピークの面積とを求め、L体の量とD体の量とを算出した。
得られた結果に基づき、光学純度(%ee)を求めた。
結果を表1に示す。
First, in a 50 mL Erlenmeyer flask, 1.0 g of a sample collected from the above polymer piezoelectric film is put, and 2.5 mL of IPA (isopropyl alcohol) and 5 mL of a 5.0 mol / L sodium hydroxide solution are added to the sample. It was set as the solution.
Next, the Erlenmeyer flask containing the sample solution was placed in a water bath at a temperature of 40 ° C. and stirred for about 5 hours until the polylactic acid was completely hydrolyzed.
The sample solution after stirring for about 5 hours was cooled to room temperature, neutralized by adding 20 mL of 1.0 mol / L hydrochloric acid solution, and the Erlenmeyer flask was sealed and mixed well.
Next, 1.0 mL of the sample solution stirred above was placed in a 25 mL volumetric flask, and a mobile phase having the following composition was added thereto to obtain 25 mL of HPLC sample solution 1.
5 μL of the obtained HPLC sample solution 1 was injected into the HPLC apparatus, and HPLC measurement was performed under the following HPLC measurement conditions. From the obtained measurement results, the area of the peak derived from the D-form of polylactic acid and the area of the peak derived from the L-form of polylactic acid were determined, and the amount of L-form and the amount of D-form were calculated.
Based on the obtained results, the optical purity (% ee) was determined.
The results are shown in Table 1.
−HPLC測定条件−
・カラム
光学分割カラム、(株)住化分析センター製 SUMICHIRAL OA5000
・HPLC装置
日本分光社製 液体クロマトグラフィ
・カラム温度
25℃
・移動相の組成
1.0mM−硫酸銅(II)緩衝液/IPA=98/2(V/V)
(この移動相において、硫酸銅(II)、IPA、及び水の比率は、硫酸銅(II)/IPA/水=156.4mg/20mL/980mLである。)
・移動相流量
1.0mL/分
・検出器
紫外線検出器(UV254nm)
-HPLC measurement conditions-
・ Column Optical resolution column, SUMICHIRAL OA5000 manufactured by Sumika Chemical Analysis Co., Ltd.
・ HPLC equipment: JASCO Corporation liquid chromatography column temperature: 25 ℃
-Composition of mobile phase 1.0 mM-copper (II) sulfate buffer / IPA = 98/2 (V / V)
(In this mobile phase, the ratio of copper (II) sulfate, IPA, and water is copper (II) sulfate / IPA / water = 156.4 mg / 20 mL / 980 mL).
・ Mobile phase flow rate 1.0mL / min ・ Detector UV detector (UV254nm)
(結晶化度)
上記高分子圧電フィルムから10mgのサンプルを採取し、採取されたサンプルについて、示差走査型熱量計(パーキンエルマー社製DSC−1)を用い、昇温速度10℃/分の条件で測定を行い、融解吸熱曲線を得た。得られた融解吸熱曲線から、上記高分子圧電フィルムの結晶化度を求めた。
結果を表1に示す。
(Crystallinity)
A sample of 10 mg was collected from the polymer piezoelectric film, and the collected sample was measured using a differential scanning calorimeter (DSC-1 manufactured by Perkin Elmer Co., Ltd.) at a temperature rising rate of 10 ° C./min. A melting endotherm curve was obtained. The crystallinity of the polymer piezoelectric film was determined from the obtained melting endotherm curve.
The results are shown in Table 1.
(内部ヘイズ)
以下の方法により、高分子圧電フィルムの内部ヘイズ(H1)を測定した。
結果を表1に示す。
まず、ガラス板2枚の間に、シリコンオイル(信越化学工業株式会社製信越シリコーン(商標)、型番:KF96−100CS)のみを挟んだ積層体1を準備し、この積層体1の厚さ方向のヘイズ(以下、ヘイズ(H2)とする)を測定した。
次に、上記高分子圧電フィルムから採取したサンプルの表面をシリコンオイルで均一に濡らし、次いでこのサンプルを上記のガラス板2枚の間に挟むことにより、積層体2を準備し、この積層体2の厚さ方向のヘイズ(以下、ヘイズ(H3)とする)を測定した。
次に、下記式のようにこれらの差をとることにより、高分子圧電フィルムの内部ヘイズ(H1)を得た。
内部ヘイズ(H1)=ヘイズ(H3)−ヘイズ(H2)
(Internal haze)
The internal haze (H1) of the polymer piezoelectric film was measured by the following method.
The results are shown in Table 1.
First, a laminate 1 in which only silicon oil (Shin-Etsu Silicone (trademark) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., model number: KF96-100CS) is sandwiched between two glass plates is prepared, and the thickness direction of the laminate 1 is prepared. The haze (hereinafter referred to as haze (H2)) was measured.
Next, the surface of the sample collected from the polymer piezoelectric film is uniformly wetted with silicon oil, and then the sample is sandwiched between the two glass plates to prepare the laminate 2. The haze in the thickness direction (hereinafter referred to as haze (H3)) was measured.
Next, the internal haze (H1) of the polymer piezoelectric film was obtained by taking these differences as in the following formula.
Internal haze (H1) = Haze (H3) -Haze (H2)
ここで、ヘイズ(H2)及びヘイズ(H3)の測定は、それぞれ、下記測定条件下で下記装置を用いて行った。
測定装置:東京電色社製、HAZE METER TC−HIIIDPK
試料サイズ:幅30mm×長さ30mm
測定条件:JIS−K7105に準拠
測定温度:室温(25℃)
Here, the measurement of haze (H2) and haze (H3) was respectively performed using the following apparatus under the following measurement conditions.
Measuring device: manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd., HAZE METER TC-HIIIDPK
Sample size: 30mm width x 30mm length
Measurement conditions: Conforms to JIS-K7105 Measurement temperature: Room temperature (25 ° C.)
(規格化分子配向MORc)
上記高分子圧電フィルムの幅方向一端部(幅方向一端を含む幅方向長さ50mmの領域。)から50mm(高分子圧電フィルムの長手方向)×30mm(高分子圧電フィルムの幅方向)のサイズのサンプルを採取し、採取したサンプルについて、王子計測機器株式会社製マイクロ波方式分子配向計MOA6000を用いて規格化分子配向MORcを測定した。基準厚さtcは、50μmに設定した。
結果を表1に示す。
(Standardized molecular orientation MORc)
The polymer piezoelectric film has a size of 50 mm (longitudinal direction of the polymer piezoelectric film) × 30 mm (width direction of the polymer piezoelectric film) from one end in the width direction (region having a width direction length of 50 mm including one end in the width direction). Samples were collected, and with respect to the collected samples, normalized molecular orientation MORc was measured using a microwave molecular orientation meter MOA6000 manufactured by Oji Scientific Instruments. The reference thickness tc was set to 50 μm.
The results are shown in Table 1.
(MORcと結晶化度との積)
上記高分子圧電フィルムにおける、規格化分子配向MORcと結晶化度との積を算出した。
結果を表1に示す。
(Product of MORc and crystallinity)
The product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity in the polymer piezoelectric film was calculated.
The results are shown in Table 1.
(圧電定数d14)
上記高分子圧電フィルムの幅方向一端部(幅方向一端を含む幅方向長さ50mmの領域。以下同じ。)から40mm×40mmのサイズのサンプルを採取し、採取したサンプルを用い、前述した変位法(25℃)による圧電定数d14の測定方法の一例に従い、圧電定数d14を測定した。
結果を表1に示す。
(Piezoelectric constant d 14 )
A sample having a size of 40 mm × 40 mm is collected from one end in the width direction of the polymer piezoelectric film (a region having a width direction length of 50 mm including one end in the width direction, the same applies hereinafter), and the displacement method described above is performed using the collected sample. The piezoelectric constant d 14 was measured according to an example of a method for measuring the piezoelectric constant d 14 at (25 ° C.).
The results are shown in Table 1.
(分子配向方向Laと高分子圧電フィルムの長手方向との平面視角度θ2)
株式会社フォトニックライティス社製「複屈折評価システム」WPA−100を用い、上記高分子圧電フィルムの幅方向一端部(詳細には、幅方向一端を含む幅方向長さ50mmの領域)における進相軸方向をベクトル表示させ、この方向を、分子配向方向Laとした。この結果に基づき、分子配向方向Laと高分子圧電フィルムの長手方向との平面視角度θ2を求めた。
結果を表1に示す。
(Planar angle θ2 between the molecular orientation direction La and the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film)
Using a “birefringence evaluation system” WPA-100 manufactured by Photonic Lightis Co., Ltd., progress in one end of the polymer piezoelectric film in the width direction (specifically, a region having a width direction length of 50 mm including one end in the width direction) The phase axis direction is displayed as a vector, and this direction is defined as a molecular orientation direction La. Based on this result, the planar viewing angle θ2 between the molecular orientation direction La and the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film was determined.
The results are shown in Table 1.
(分子配向方向Lbと高分子圧電フィルムの長手方向との平面視角度θ3)
株式会社フォトニックライティス社製「複屈折評価システム」WPA−100を用い、上記高分子圧電フィルムの幅方向他端部(詳細には、幅方向他端を含む幅方向長さ50mmの領域)における進相軸方向をベクトル表示させ、この方向を、分子配向方向Lbとした。この結果に基づき、分子配向方向Lbと高分子圧電フィルムの長手方向との平面視角度θ3を求めた。
結果を表1に示す。
(Planar angle θ3 between the molecular orientation direction Lb and the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film)
Using the “birefringence evaluation system” WPA-100 manufactured by Photonic Lightis Co., Ltd., the other end in the width direction of the polymer piezoelectric film (specifically, a region having a length in the width direction of 50 mm including the other end in the width direction) The fast axis direction in is represented by a vector, and this direction was defined as the molecular orientation direction Lb. Based on this result, the planar viewing angle θ3 between the molecular orientation direction Lb and the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film was determined.
The results are shown in Table 1.
(分子配向方向Laと分子配向方向Lbとの平面視角度θ1)
上記の方法でそれぞれ求めた分子配向方向La及び分子配向方向Lbに基づき、分子配向方向Laと分子配向方向Lbとの平面視角度θ1を求めた。
結果を表1に示す。
(Plane viewing angle θ1 between molecular orientation direction La and molecular orientation direction Lb)
Based on the molecular orientation direction La and the molecular orientation direction Lb obtained by the above methods, the planar viewing angle θ1 between the molecular orientation direction La and the molecular orientation direction Lb was obtained.
The results are shown in Table 1.
〔実施例2〕
実施例1において、同時二軸延伸及び熱処理の条件を、以下のように変更したこと以外は実施例1と同様の操作を行った。
結果を表1に示す。
[Example 2]
In Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the conditions for simultaneous biaxial stretching and heat treatment were changed as follows.
The results are shown in Table 1.
−実施例2の同時二軸延伸の条件(実施例1との相違点)−
縦延伸倍率を3.7倍に変更し、Tc1を85°に変更し、Te1を90°に変更した。
−実施例2の熱処理の条件(実施例1との相違点)−
同時二軸延伸後の二軸延伸フィルムに対し、縦延伸倍率も横延伸倍率も縮小させずに熱処理を施した。
-Conditions for simultaneous biaxial stretching in Example 2 (Differences from Example 1)-
The longitudinal draw ratio was changed to 3.7 times, Tc1 was changed to 85 °, and Te1 was changed to 90 °.
-Conditions for heat treatment of Example 2 (Differences from Example 1)-
The biaxially stretched film after simultaneous biaxial stretching was subjected to a heat treatment without reducing the longitudinal stretching ratio and the lateral stretching ratio.
表1に示すように、実施例1及び2では、重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、結晶化度が20%〜80%であり、θ1が70°〜110°であり、θ2が35°〜55°であり、θ3が35°〜55°である高分子圧電フィルムが得られた。
従って、実施例1及び2の高分子圧電フィルムから、高分子圧電フィルムの幅方向(TD方向)を長手方向とする長方形状の圧電フィルム片(例えば、図1及び図2に示す圧電フィルム片100参照)を、無駄なく(即ち、高歩留まりで)採取することができる。具体的には、高分子圧電フィルムから多数の上記圧電フィルム片を採取するにあたり、特に高分子圧電フィルムの幅方向両端部において、廃棄すべき無駄な領域を少なくすることができる。
例えば、1つの圧電フィルム片の各辺についてそれぞれ5%の余白部を設ける場合、理論上、高分子圧電フィルムから材料歩留まり81%にて、圧電フィルム片を採取することができる。
算出式:
材料歩留まり=(1−0.05×2)×(1−0.05×2)×100=81(%)
As shown in Table 1, Examples 1 and 2 include a helical chiral polymer (A) having an optical activity with a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000, and a crystallinity of 20% to 80%. , Θ1 is 70 ° to 110 °, θ2 is 35 ° to 55 °, and θ3 is 35 ° to 55 °.
Therefore, from the polymer piezoelectric films of Examples 1 and 2, a rectangular piezoelectric film piece whose longitudinal direction is the width direction (TD direction) of the polymer piezoelectric film (for example, the piezoelectric film piece 100 shown in FIGS. 1 and 2). Can be collected without waste (ie, with high yield). Specifically, when a large number of the piezoelectric film pieces are collected from the polymer piezoelectric film, it is possible to reduce wasteful areas to be discarded, particularly at both ends in the width direction of the polymer piezoelectric film.
For example, in the case where 5% margin is provided for each side of one piezoelectric film piece, it is theoretically possible to collect the piezoelectric film piece from a polymer piezoelectric film with a material yield of 81%.
Formula:
Material yield = (1-0.05 × 2) × (1-0.05 × 2) × 100 = 81 (%)
10 高分子圧電フィルム
12 高分子圧電フィルムの幅方向一端部
12A 圧電フィルム片の長手方向一端部
12A 長手方向一端部
14 高分子圧電フィルムの幅方向他端部
14A 圧電フィルム片の長手方向他端部
100 圧電フィルム片
102、104 全面電極層
106 接着層
110 積層体
120 アクチュエーター
120 ベンディングアクチュエーター
210 比較用高分子圧電フィルム
212 幅方向一端部
214 幅方向他端部
220A、220B 廃棄部分
300A、300B 比較用圧電フィルム片
La 高分子圧電フィルムの幅方向一端部におけるヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向
Lb 高分子圧電フィルムの幅方向他端部におけるヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向
θ1 分子配向方向Laと分子配向方向Lbとの平面視角度
θ2 高分子圧電フィルムの長手方向と分子配向方向Laとの平面視角度
θ3 高分子圧電フィルムの長手方向と分子配向方向Lbとの平面視角度
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Polymer piezoelectric film 12 The width direction one end part 12A of a polymer piezoelectric film The longitudinal direction one end part 12A of a piezoelectric film piece The longitudinal direction one end part 14 The width direction other end part 14A of a polymer piezoelectric film The longitudinal direction other end part 100 Piezoelectric film pieces 102, 104 Whole surface electrode layer 106 Adhesive layer 110 Laminate 120 Actuator 120 Bending actuator 210 Comparative polymer piezoelectric film 212 Width direction one end 214 Width direction other end 220A, 220B Discarded portion 300A, 300B Comparative piezoelectric Film piece La Molecular orientation direction L of the helical chiral polymer (A) at one end in the width direction of the polymer piezoelectric film Lb Molecular orientation direction θ1 of the helical chiral polymer (A) at the other end in the width direction of the polymer piezoelectric film Molecular orientation Plane of direction La and molecular orientation direction Lb Viewing angle θ2 Planar viewing angle θ3 between the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film and the molecular orientation direction La3 Planar viewing angle between the longitudinal direction of the polymer piezoelectric film and the molecular orientation direction Lb
Claims (14)
長尺形状を有し、
長手方向長さが10m以上であり、
幅方向一端部における前記ヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向Laと、幅方向他端部における前記ヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向Lbと、の平面視角度θ1が、70°〜110°であり、
長手方向と前記分子配向方向Laとの平面視角度θ2が、35°〜55°であり、
長手方向と前記分子配向方向Lbとの平面視角度θ3が、35°〜55°である高分子圧電フィルム。 A polymer piezoelectric film comprising a helical chiral polymer (A) having an optical activity having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and having a crystallinity of 20% to 80% obtained by a DSC method,
Has a long shape,
The longitudinal length is 10 m or more,
The planar view angle θ1 between the molecular orientation direction La of the helical chiral polymer (A) at one end in the width direction and the molecular orientation direction Lb of the helical chiral polymer (A) at the other end in the width direction is 70 °. ~ 110 °,
The planar view angle θ2 between the longitudinal direction and the molecular orientation direction La is 35 ° to 55 °,
A polymer piezoelectric film having a planar view angle θ3 between a longitudinal direction and the molecular orientation direction Lb of 35 ° to 55 °.
一端部における前記ヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向と、他端部における前記ヘリカルキラル高分子(A)の分子配向方向と、の平面視角度が、70°〜110°である圧電フィルム片。 A piezoelectric film piece comprising a helical chiral polymer (A) having an optical activity of a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and having a crystallinity of 20% to 80% obtained by a DSC method,
Piezoelectric film in which a planar view angle between the molecular orientation direction of the helical chiral polymer (A) at one end and the molecular orientation direction of the helical chiral polymer (A) at the other end is 70 ° to 110 ° Fragment.
前記圧電フィルム片の少なくとも一方の面の側に配置された電極層と、
を備える積層体。 A piezoelectric film piece according to claim 8,
An electrode layer disposed on at least one side of the piezoelectric film piece;
A laminate comprising:
前記積層体は、前記接着層が内側となり、かつ、前記圧電フィルム片の前記一端部と前記圧電フィルム片の前記他端部とが平面視で重なるように曲げ変形されている圧電素子。 A laminate according to claim 10 is provided,
The laminated body is a piezoelectric element that is bent and deformed so that the adhesive layer is inside, and the one end portion of the piezoelectric film piece and the other end portion of the piezoelectric film piece overlap in a plan view.
前記長尺形状の未延伸フィルムに対し、フィルムの幅方向両端部の温度であるTe1からフィルムの幅方向中央部の温度であるTc1を差し引いた差が3℃〜15℃であり、前記Te1から前記ヘリカルキラル高分子(A)のガラス転移温度であるTgを差し引いた差が10℃〜40℃であり、縦延伸倍率が2.0倍〜5.0倍であり、横延伸倍率が2.0倍〜5.0倍である条件の同時二軸延伸を施すことにより、二軸延伸フィルムを得る工程と、
前記二軸延伸フィルムに対し、80℃〜160℃の温度の熱処理を施すことにより、高分子圧電フィルムを得る工程と、
を含む高分子圧電フィルムの製造方法。 Preparing an elongated unstretched film containing a helical chiral polymer (A) having an optical activity having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000,
The difference which subtracted Tc1 which is the temperature of the width direction center part of the film from Te1 which is the temperature of the width direction both ends of the film with respect to the said long unstretched film is 3 to 15 degreeC, and from said Te1 The difference obtained by subtracting Tg which is the glass transition temperature of the helical chiral polymer (A) is 10 ° C to 40 ° C, the longitudinal draw ratio is 2.0 times to 5.0 times, and the transverse draw ratio is 2. A step of obtaining a biaxially stretched film by performing simultaneous biaxial stretching under conditions of 0 times to 5.0 times;
A step of obtaining a polymer piezoelectric film by subjecting the biaxially stretched film to a heat treatment at a temperature of 80 ° C. to 160 ° C .;
A method for producing a polymer piezoelectric film comprising:
前記高分子圧電フィルムから、前記高分子圧電フィルムの前記幅方向一端部の少なくとも一部と前記幅方向他端部の少なくとも一部とを含む圧電フィルム片を採取する工程と、
を含む圧電フィルム片の製造方法。 Preparing a polymer piezoelectric film according to any one of claims 1 to 7,
From the polymer piezoelectric film, collecting a piezoelectric film piece including at least a part of the one end in the width direction of the polymer piezoelectric film and at least a part of the other end in the width direction;
The manufacturing method of the piezoelectric film piece containing this.
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09300457A (en) * | 1996-05-20 | 1997-11-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of polyester support, and polyester support, and photographic photosensitive film |
JP2003260734A (en) * | 2002-03-11 | 2003-09-16 | Unitika Ltd | Co-biaxially orientated film of polylactic acid and method of manufacturing the same |
JP2013251363A (en) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Teijin Ltd | Actuator, and method of moving object by using the same |
JP2014027055A (en) * | 2012-07-25 | 2014-02-06 | Teijin Ltd | Method for producing piezoelectric body |
-
2017
- 2017-07-27 JP JP2017145372A patent/JP6917818B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09300457A (en) * | 1996-05-20 | 1997-11-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of polyester support, and polyester support, and photographic photosensitive film |
JP2003260734A (en) * | 2002-03-11 | 2003-09-16 | Unitika Ltd | Co-biaxially orientated film of polylactic acid and method of manufacturing the same |
JP2013251363A (en) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Teijin Ltd | Actuator, and method of moving object by using the same |
JP2014027055A (en) * | 2012-07-25 | 2014-02-06 | Teijin Ltd | Method for producing piezoelectric body |
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