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JP2019009192A - Light transmitting plate with light emitting function - Google Patents

Light transmitting plate with light emitting function Download PDF

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JP2019009192A
JP2019009192A JP2017121607A JP2017121607A JP2019009192A JP 2019009192 A JP2019009192 A JP 2019009192A JP 2017121607 A JP2017121607 A JP 2017121607A JP 2017121607 A JP2017121607 A JP 2017121607A JP 2019009192 A JP2019009192 A JP 2019009192A
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light transmissive
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led die
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励起 多田
明彦 半谷
Akihiko Hanya
明彦 半谷
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Abstract

【課題】光透過性基板にLEDダイを直接搭載した構造でありながら、光の取り出し効率を向上させる。【解決手段】光透過性基板2と、光透過性基板2の表面に設けられた配線パターン3と、配線パターン3に接合されたLEDダイ1とを有する光透過プレートが提供される。光透過性基板2のLEDダイ1が搭載されている領域の裏面側には、反射膜4が配置されている。配線パターン3の少なくとも一部と、反射膜4は、いずれも導電性粒子を焼結した導電材料により構成されている。【選択図】図1PROBLEM TO BE SOLVED: To improve light extraction efficiency while having a structure in which an LED die is directly mounted on a light transmissive substrate. SOLUTION: A light transmitting plate having a light transmitting substrate 2, a wiring pattern 3 provided on the surface of the light transmitting substrate 2, and an LED die 1 joined to the wiring pattern 3 is provided. A reflective film 4 is arranged on the back surface side of the region where the LED die 1 of the light transmissive substrate 2 is mounted. At least a part of the wiring pattern 3 and the reflective film 4 are both made of a conductive material obtained by sintering conductive particles. [Selection diagram] Fig. 1

Description

本発明は、1以上の光源を搭載し、発光可能な光透過プレートに関する。   The present invention relates to a light transmissive plate on which one or more light sources are mounted and can emit light.

クレジットカード等の樹脂製の基板にLEDを搭載し、その発光色を変えることで決済情報を表示する構成が特許文献1に開示されている。また、特許文献2には、樹脂製のICカードに有機EL発光パネルを搭載し、その発光位置または発光パターンにより、残額を表示する構成が開示されている。   Patent Document 1 discloses a configuration in which an LED is mounted on a resin substrate such as a credit card and payment information is displayed by changing the emission color. Patent Document 2 discloses a configuration in which an organic EL light-emitting panel is mounted on a resin IC card, and the remaining amount is displayed by the light emission position or light emission pattern.

一方、特許文献3には、透明な基板上に、導電性粒子を分散した溶液を塗布した後、光を照射することにより導電性粒子を焼結して配線パターンを形成し、この配線パターン上に発光素子等を搭載した構成が開示されている。導電性粒子を光焼結することにより、基板の温度上昇が局所的になるため、透明基板の全体を加熱する必要がなく、基板の透明性を保ちながら直接配線パターンを形成することができる。   On the other hand, in Patent Document 3, after applying a solution in which conductive particles are dispersed on a transparent substrate, the conductive particles are sintered by irradiating light to form a wiring pattern. Discloses a configuration in which a light emitting element or the like is mounted. By photo-sintering the conductive particles, the temperature rise of the substrate becomes local. Therefore, it is not necessary to heat the entire transparent substrate, and a wiring pattern can be formed directly while maintaining the transparency of the substrate.

特開2008−234595号公報JP 2008-234595 A 特開2008−217215号公報JP 2008-217215 A 特開2016−184621号公報JP, 2006-184621, A

LEDを樹脂製基板に搭載する場合、LEDダイがサブマウント等にダイボンディング等されたパッケージ化されたLEDを用いるのが、一般的である。その理由は、LEDダイをダイボンディングやワイヤボンディングにより基板に接合する際に基板が加熱される温度(180℃以上)が、樹脂製基板に変形を生じさせるためである。一方、有機EL素子は、樹脂製のフィルムの上に、直接搭載することはできるが、有機ELは湿度に弱いため防湿構造をとる必要があり、現状は、有機ELをガラス製の筐体内に封入する必要がある。LEDパッケージも有機EL素子のガラス製筐体も厚みがあるため、薄型化の妨げになる。   When an LED is mounted on a resin substrate, it is common to use a packaged LED in which an LED die is die-bonded to a submount or the like. The reason is that the temperature at which the substrate is heated (180 ° C. or higher) when the LED die is bonded to the substrate by die bonding or wire bonding causes deformation of the resin substrate. On the other hand, the organic EL element can be directly mounted on a resin film. However, since the organic EL is vulnerable to humidity, it is necessary to take a moisture-proof structure. At present, the organic EL is placed in a glass casing. It is necessary to enclose. Since the LED package and the glass casing of the organic EL element have a large thickness, they hinder thinning.

一方、特許文献3のように、光により導電性粒子を焼結する方法を用いることにより、基板にダメージを与えることなく、配線パターンを形成し、LEDダイを基板上の配線パターンに直接接合することが可能になる。   On the other hand, by using a method of sintering conductive particles with light as in Patent Document 3, a wiring pattern is formed without damaging the substrate, and the LED die is directly bonded to the wiring pattern on the substrate. It becomes possible.

しかしながら、LEDダイを透明基板に直接搭載した場合、光の取り出し効率が低いという問題が生じる。   However, when the LED die is directly mounted on the transparent substrate, there arises a problem that the light extraction efficiency is low.

本発明の目的は、光透過性基板にLEDダイを直接搭載した構造でありながら、光の取り出し効率を向上させることにある。   An object of the present invention is to improve the light extraction efficiency while having a structure in which an LED die is directly mounted on a light-transmitting substrate.

上記目的を達成するために、本発明によれば、光透過性基板と、光透過性基板の表面に設けられた配線パターンと、配線パターンに接合されたLEDダイとを有する光透過プレートが提供される。光透過性基板のLEDダイが搭載されている領域の裏面側には、反射膜が配置されている。配線パターンの少なくとも一部と、反射膜は、いずれも導電性粒子を焼結した導電材料により構成されている。   To achieve the above object, according to the present invention, there is provided a light transmissive plate having a light transmissive substrate, a wiring pattern provided on the surface of the light transmissive substrate, and an LED die bonded to the wiring pattern. Is done. A reflective film is disposed on the back side of the region where the LED die of the light transmissive substrate is mounted. At least a part of the wiring pattern and the reflective film are both made of a conductive material obtained by sintering conductive particles.

本発明によれば、光透過性基板にLEDダイを直接搭載した構造でありながら、光の取り出し効率を向上させることができる。   According to the present invention, the light extraction efficiency can be improved while the LED die is directly mounted on the light-transmitting substrate.

第1の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの断面図。Sectional drawing of the light transmissive plate provided with the light emission function of 1st Embodiment. 第1の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの(a)部分断面図、(b)部分上面図。The (a) partial sectional view of the light transmissive plate provided with the light emission function of 1st Embodiment, (b) Partial top view. (a)第1の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの発する光の指向特性を示す説明図、(b)比較例の発する光の指向特性を示す説明図。(A) Explanatory drawing which shows the directivity characteristic of the light which the light transmissive plate provided with the light emission function of 1st Embodiment emits, (b) Explanatory drawing which shows the directivity characteristic of the light which a comparative example emits. 第1の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの別の例の断面図。Sectional drawing of another example of the light transmissive plate provided with the light emission function of 1st Embodiment. 第1の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの別の例の部分断面図。The fragmentary sectional view of another example of the light transmission plate provided with the light emission function of 1st Embodiment. 第1の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの別の例の部分断面図。The fragmentary sectional view of another example of the light transmission plate provided with the light emission function of 1st Embodiment. 第1の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートに、さらに光透過膜を備えた構成の部分断面図。FIG. 3 is a partial cross-sectional view of a configuration in which a light transmissive plate having a light emitting function according to the first embodiment is further provided with a light transmissive film. (a)および(b)第1の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートに、さらにレンズを備えた構成の部分断面図。(A) And (b) The fragmentary sectional view of the structure which further provided the lens in the light transmissive plate provided with the light emission function of 1st Embodiment. (a)〜(e)第1の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの製造方法を示す断面図。(A)-(e) Sectional drawing which shows the manufacturing method of the light transmissive plate provided with the light emission function of 1st Embodiment. (a)〜(c)第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの部分断面図。(A)-(c) The fragmentary sectional view of the light transmissive plate provided with the light emission function of 2nd Embodiment. (a)〜(e)第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの部分上面図。(A)-(e) The partial top view of the light transmissive plate provided with the light emission function of 2nd Embodiment. 第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートに、さらに光透過膜を備えた構成の部分断面図。The fragmentary sectional view of the structure which further provided the light transmissive film in the light transmissive plate provided with the light emission function of 2nd Embodiment. 第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートに、さらに光透過膜を備えた構成の部分断面図。The fragmentary sectional view of the structure which further provided the light transmissive film in the light transmissive plate provided with the light emission function of 2nd Embodiment. (a)および(b)第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの光透過膜に切り欠きを備えた構成の部分断面図。(A) And (b) The fragmentary sectional view of the structure provided with the notch in the light transmissive film of the light transmissive plate provided with the light emission function of 2nd Embodiment. (a)および(b)第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの光透過膜に切り欠きを備えた構成の部分断面図。(A) And (b) The fragmentary sectional view of the structure provided with the notch in the light transmissive film of the light transmissive plate provided with the light emission function of 2nd Embodiment. 第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの光透過膜に切り欠きを備えた構成の(a)および(b)は部分断面図、(c)および(d)は部分上面図。(A) And (b) of the structure provided with the notch in the light transmissive film | membrane of the light transmissive plate provided with the light emission function of 2nd Embodiment is a partial sectional view, (c) And (d) is a partial top view. (a)〜(d)第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートに、さらにレンズを備えた構成の部分断面図。(A)-(d) The fragmentary sectional view of the structure further equipped with the lens in the light transmissive plate provided with the light emission function of 2nd Embodiment. (a)〜(d)第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートに、さらにレンズを備えた構成の部分断面図。(A)-(d) The fragmentary sectional view of the structure further equipped with the lens in the light transmissive plate provided with the light emission function of 2nd Embodiment. (a)〜(g)第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの製造方法を示す説明図。(A)-(g) Explanatory drawing which shows the manufacturing method of the light transmissive plate provided with the light emission function of 2nd Embodiment. (a)〜(g)第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの製造方法を示す説明図。(A)-(g) Explanatory drawing which shows the manufacturing method of the light transmissive plate provided with the light emission function of 2nd Embodiment. (a)第3の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの部分断面図、(b)は、比較例の光透過プレートの部分断面図。(A) The fragmentary sectional view of the light transmissive plate provided with the light emission function of 3rd Embodiment, (b) is the fragmentary sectional view of the light transmissive plate of a comparative example. (a)第3の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの別の例の部分断面図、(b)は、比較例の光透過プレートの部分断面図。(A) Partial sectional drawing of another example of the light transmissive plate provided with the light emission function of 3rd Embodiment, (b) is a fragmentary sectional view of the light transmissive plate of a comparative example. 第3の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートのさらに別の例の部分断面図。The fragmentary sectional view of another example of the light transmission plate provided with the light emission function of 3rd Embodiment.

本発明の一実施形態について図面を用いて説明する。   An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

<第1の実施形態>
第1の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートは、図1に断面図を、図2(a)、(b)に一部の断面図と上面図を示したように、光透過性基板2と、光透過性基板2の表面に設けられた配線パターン3と、配線パターン3に接合されたLEDダイ1とを備えている。光透過性基板2のLEDダイ1が搭載されている領域の裏面側には、反射膜4が配置されている。配線パターン3の少なくとも一部と、反射膜4は、いずれも導電性粒子を焼結した導電材料により構成されている。また、LEDダイ1は、導電性粒子を焼結した導電材料によって配線パターン3に接合されている。
<First Embodiment>
The light transmissive plate having the light emitting function of the first embodiment is light transmissive as shown in FIG. 1 with a cross-sectional view and FIGS. 2A and 2B with a partial cross-sectional view and a top view. A substrate 2, a wiring pattern 3 provided on the surface of the light transmissive substrate 2, and an LED die 1 bonded to the wiring pattern 3 are provided. A reflective film 4 is disposed on the back side of the region where the LED die 1 of the light transmissive substrate 2 is mounted. At least a part of the wiring pattern 3 and the reflective film 4 are both made of a conductive material obtained by sintering conductive particles. The LED die 1 is bonded to the wiring pattern 3 with a conductive material obtained by sintering conductive particles.

上述のように、配線パターン3を導電性粒子を焼結した導電材料により構成し、LEDダイ1も導電性粒子を焼結した導電材料によって配線パターン3に接合することにより、熱や光等の電磁波やマイクロ波等による局所的な加熱により、線幅の細い配線パターン3、ならびに、LEDダイ1と配線パターン3との微小な接合部を形成できる。よって、光透過性基板2が樹脂であっても、加熱により透明性を損なうことなく、また、光透過性基板を変形させずにLEDダイ1を光透過性基板2上に実装することができる。   As described above, the wiring pattern 3 is made of a conductive material obtained by sintering conductive particles, and the LED die 1 is also bonded to the wiring pattern 3 by a conductive material obtained by sintering conductive particles, thereby allowing heat, light, etc. By local heating with electromagnetic waves, microwaves, or the like, the wiring pattern 3 with a narrow line width and the minute junction between the LED die 1 and the wiring pattern 3 can be formed. Therefore, even if the light-transmitting substrate 2 is a resin, the LED die 1 can be mounted on the light-transmitting substrate 2 without losing transparency by heating and without deforming the light-transmitting substrate. .

パッケージ化されていないLEDダイ1は、一般的には数mm角程度以下と微小であるため、光透過性基板2上に実装することにより、薄く、かつ、発光機能を備えた光透過プレートを提供できる。このとき、光透過性基板2として樹脂製のフィルムを用いた場合には、さらに薄く、かつ、柔軟な光透過プレート(フィルム)を提供できる。   Since the LED die 1 that is not packaged is generally as small as a few mm square or less, it is mounted on the light transmissive substrate 2 to form a thin light transmissive plate having a light emitting function. Can be provided. At this time, when a resin film is used as the light transmissive substrate 2, a thinner and more flexible light transmissive plate (film) can be provided.

また、本実施形態では、光透過性基板2のLEDダイ1が搭載されている領域の裏面側に反射膜4が配置されている。これにより、LEDダイ1が出射した光のうち、裏面側に出射された光を図3(a)のように反射膜4により上方に向かって反射することができる。よって、LEDダイ1の発した光の上方からの取り出し効率を、反射膜4がない場合よりも向上させることができる。   Moreover, in this embodiment, the reflective film 4 is arrange | positioned at the back surface side of the area | region in which the LED die 1 of the transparent substrate 2 is mounted. Thereby, the light radiate | emitted to the back side among the light radiate | emitted by LED die 1 can be reflected upwards with the reflecting film 4 like Fig.3 (a). Therefore, the extraction efficiency from above of the light emitted by the LED die 1 can be improved as compared with the case where the reflective film 4 is not provided.

また、本実施形態では、反射膜4も導電性粒子を焼結した導電材料により構成されているため、光透過性基板2の透明性を損なうことなく形成することができる。   Further, in the present embodiment, since the reflective film 4 is also composed of a conductive material obtained by sintering conductive particles, it can be formed without impairing the transparency of the light transmissive substrate 2.

LEDダイ1、配線パターン3および反射膜4は、面積が小さいため、光透過性基板2の全体に対する光を遮蔽する面積も小さい。よって、光透過性基板2に複数のLEDダイ1を図1のように搭載することにより、LEDダイ1を点灯させていない場合には、外光が、微小なLEDダイ1、配線パターン3および反射膜4の間を通って光が光透過性基板2を透過する光透過プレートとなる。   Since the LED die 1, the wiring pattern 3, and the reflective film 4 have a small area, the area that shields the light from the entire light transmissive substrate 2 is also small. Therefore, by mounting a plurality of LED dies 1 on the light-transmitting substrate 2 as shown in FIG. 1, when the LED dies 1 are not lit, external light is transmitted to the minute LED dies 1, the wiring pattern 3, and the like. A light transmissive plate is formed in which light passes through the reflective film 4 and passes through the light transmissive substrate 2.

一方、LEDダイ1を点灯させた場合には、外光は光透過性基板2を透過し、かつ、LEDダイ1から発せられた光が、直接、および、反射膜4および配線パターン3で反射されて、上方に出射される発光プレートとなる。   On the other hand, when the LED die 1 is turned on, the external light is transmitted through the light-transmitting substrate 2, and the light emitted from the LED die 1 is reflected directly and by the reflective film 4 and the wiring pattern 3. Thus, the light emitting plate is emitted upward.

このとき、図3(a)に示したように、LEDダイ1の発光する光の指向特性は、反射膜4が配置されていることにより、横方向への光の強度を、反射膜が配置されていない比較例の構成(図3(b))よりも強くする事も出来る。よって、隣り合うLEDダイ1の発する光の指向特性の重なりが大きく、光透過性基板2の主平面方向の発光強度ムラを比較例よりも低減することができる。また、隣り合うLEDダイ1の発光波長が異なる場合には、指向特性の重なりが大きいため、混色ムラを比較例よりも低減することができる。   At this time, as shown in FIG. 3A, the directivity characteristic of the light emitted from the LED die 1 is such that the reflection film 4 is arranged so that the intensity of the light in the lateral direction is arranged by the reflection film. It can also be made stronger than the configuration of the comparative example (FIG. 3B) that has not been performed. Therefore, the overlapping of the directivity characteristics of the light emitted by the adjacent LED dies 1 is large, and the light emission intensity unevenness in the main plane direction of the light transmissive substrate 2 can be reduced as compared with the comparative example. Further, when the light emission wavelengths of the adjacent LED dies 1 are different, the overlapping of directivity characteristics is large, so that the mixed color unevenness can be reduced as compared with the comparative example.

なお、図4〜図6に示すように、光透過性基板2の裏面側にもLEDダイ1が搭載されていてもよい。この場合、図4のように、裏面側のLEDダイ1が反射膜4に接合され、反射膜4は、裏面側に搭載されたLEDダイ1の配線パターン3を兼用する構成にしてもよい。また、図5のように、光透過性基板2の上面の、裏面側のLEDダイ1が配置されている領域に、第2の反射膜4を配置してもよい。裏面側のLEDダイ1の発光方向を上方(光透過性基板2側)に向けることにより、上面側に搭載したLEDダイ1、および、裏面側に搭載したLEDダイ1の両方が、上方に向けて光を発する光透過プレートを提供できる。このとき、図6のように、上面側の第2の反射膜4によって、裏面側のLEDダイ1が上方に発した光を反射し、さらに裏面側の反射膜4により反射して上方に向けて出射する構成にすることもできる。また、裏面側のLEDダイ1の発光方向を下方(光透過性基板2とは逆側)に向けることにより、光透過性基板2の上方からも下方からも光を発する両面発光の光透過プレートを提供することも可能である。また、これらの場合、隣り合うLEDダイ1の発光波長が異なる場合には、反射膜4による光反射によりLEDダイ1からの指向特性(拡散性)が変化し、より混色性を高めることができる。   As shown in FIGS. 4 to 6, the LED die 1 may also be mounted on the back side of the light transmissive substrate 2. In this case, as shown in FIG. 4, the LED die 1 on the back surface side may be bonded to the reflective film 4, and the reflective film 4 may be configured to also serve as the wiring pattern 3 of the LED die 1 mounted on the back surface side. Further, as shown in FIG. 5, the second reflective film 4 may be disposed in the region where the LED die 1 on the back surface side is disposed on the upper surface of the light transmissive substrate 2. By directing the light emitting direction of the LED die 1 on the back side upward (light transmissive substrate 2 side), both the LED die 1 mounted on the top surface side and the LED die 1 mounted on the back surface side are directed upward. Thus, a light transmission plate that emits light can be provided. At this time, as shown in FIG. 6, light emitted upward from the LED die 1 on the back surface is reflected by the second reflective film 4 on the upper surface side, and further reflected by the reflective film 4 on the back surface side and directed upward. It can also be configured to emit light. Further, the light emitting plate of double-sided light emission that emits light from above or below the light-transmitting substrate 2 by directing the light emitting direction of the LED die 1 on the back side downward (opposite to the light-transmitting substrate 2). Can also be provided. Further, in these cases, when the emission wavelengths of the adjacent LED dies 1 are different, the directivity (diffusibility) from the LED die 1 is changed by the light reflection by the reflective film 4, and the color mixing property can be further improved. .

また、図7のように、光透過性基板2の表面に、LEDダイを埋め込むように光透過膜5を配置してもよい。このように、光透過膜5を配置することにより、LEDダイ1と光透過膜5の屈折率差が、LEDダイ1と空気との屈折率差よりも小さいため、LEDダイ1の光取り出し効率を向上させることができる。また、バリア性を有する光透過膜5を用いることにより、LEDダイ1および配線パターン3の耐腐食性を向上させることができる。また、図7のように、基板2の裏面側にもバリア性のある光透過膜6を配置することにより、反射膜4の耐腐食性を向上させることができる。   Further, as shown in FIG. 7, the light transmissive film 5 may be disposed on the surface of the light transmissive substrate 2 so as to embed the LED die. Thus, by arranging the light transmissive film 5, the difference in refractive index between the LED die 1 and the light transmissive film 5 is smaller than the difference in refractive index between the LED die 1 and air. Can be improved. Moreover, the corrosion resistance of the LED die 1 and the wiring pattern 3 can be improved by using the light-transmitting film 5 having a barrier property. In addition, as shown in FIG. 7, the corrosion resistance of the reflective film 4 can be improved by disposing a light-transmitting film 6 having a barrier property on the back side of the substrate 2.

さらに、図8(a)、(b)のように、LEDダイの上方の光透過膜5の表面にレンズ7やフレネルレンズ8を配置してもよい。これにより、光透過膜5からの光取り出し効率を向上させたり、配向性や指向性等の光学特性のコントロールを行ったりすることができる。フレネルレンズ8を用いた場合には、レンズ7を用いた場合と比べ、薄型化が可能となる。レンズ7やフレネルレンズ8を光透過膜5の表面に形成する方法としては、例えば、切削加工法や、金型等により転写法の他、別途成形しておいたレンズを接合する方法等を用いることができる。また、レンズ7やフレネルレンズ8は、光透過膜5と一体の構造にすることもできる。   Further, as shown in FIGS. 8A and 8B, a lens 7 and a Fresnel lens 8 may be disposed on the surface of the light transmission film 5 above the LED die. Thereby, the light extraction efficiency from the light transmission film 5 can be improved, and the optical characteristics such as orientation and directivity can be controlled. When the Fresnel lens 8 is used, the thickness can be reduced as compared with the case where the lens 7 is used. As a method of forming the lens 7 and the Fresnel lens 8 on the surface of the light transmission film 5, for example, a cutting method, a transfer method using a mold or the like, a method of bonding a separately molded lens, or the like is used. be able to. Further, the lens 7 and the Fresnel lens 8 may be integrated with the light transmission film 5.

また、本実施形態の光透過プレートは、配線パターン3の少なくとも一部が導電性粒子を焼結した導電材料によって構成されている。導電性粒子の焼結には、局所的な加熱を用いる。例えば、光やマイクロ波等の電磁波を照射することによる加熱焼結を行う。具体的には、電磁波としては、紫外光、可視光、赤外光、マイクロ波の波長域のものを含むものを用いることができる。電磁波焼結の場合、必要に応じて電磁波を集束して、光透過性基板2上の配線パターン3を形成すべき箇所に配置した導電性粒子に照射する。これにより、配線パターン3の形成時の加熱領域が、集束された電磁波のスポット径程度と極めて局所的になり、局所的な熱を周囲の光透過性基板2に熱伝導させ、空気中に放熱することができる。この手法を実施することにより、光透過性基板2の温度上昇を抑制することができ、光透過性基板2にダメージを与えることなく、配線パターン3を形成することができる。したがって、光透過性基板2として樹脂等も用いることができる。   In the light transmission plate of this embodiment, at least a part of the wiring pattern 3 is made of a conductive material obtained by sintering conductive particles. Local heating is used to sinter the conductive particles. For example, heat sintering is performed by irradiating electromagnetic waves such as light and microwaves. Specifically, electromagnetic waves including those in the wavelength range of ultraviolet light, visible light, infrared light, and microwave can be used. In the case of electromagnetic wave sintering, the electromagnetic wave is focused as necessary and irradiated to the conductive particles arranged at the location where the wiring pattern 3 on the light transmissive substrate 2 is to be formed. As a result, the heating area at the time of forming the wiring pattern 3 becomes extremely local, about the spot diameter of the focused electromagnetic wave, and local heat is conducted to the surrounding light-transmitting substrate 2 to dissipate heat into the air. can do. By implementing this method, the temperature rise of the light transmissive substrate 2 can be suppressed, and the wiring pattern 3 can be formed without damaging the light transmissive substrate 2. Therefore, a resin or the like can be used as the light transmissive substrate 2.

また、電磁波焼結では、必要に応じて熱による焼結と組み合わせることで配線の幅に対する厚さの比(アスペクト比)が大きく、電気的に低抵抗な、微細な配線パターン3を形成することができるため、配線パターン3が光透過性基板2を覆う面積を小さくすることが出来る。配線パターン3が外光やLEDダイ1からの光を遮蔽する面積を小さくすることができ、光透過性基板2の透明性を維持することができる。特に、配線パターン3は、幅よりも厚さの方が大きいことが望ましい。これにより、配線パターン3が光透過性基板2を覆う面積を小さくすることができるとともに、電気的に低抵抗にできる。特に、配線パターン3の幅に対する厚みの比率は、厚み/幅=1/100以上であることが望ましく、厚み/幅=5/100以上であるとより望ましく、厚み/幅=10/100以上である場合には特に望ましい。また、配線パターン3に大電流を供給する場合は、厚み/幅=20/100以上であることが望ましい。   In addition, in the electromagnetic wave sintering, a fine wiring pattern 3 having a large thickness ratio (aspect ratio) with respect to the width of the wiring and electrically low resistance can be formed by combining with sintering by heat as necessary. Therefore, the area where the wiring pattern 3 covers the light transmissive substrate 2 can be reduced. The area where the wiring pattern 3 shields external light and light from the LED die 1 can be reduced, and the transparency of the light-transmitting substrate 2 can be maintained. In particular, it is desirable that the wiring pattern 3 has a thickness larger than a width. As a result, the area of the wiring pattern 3 covering the light-transmitting substrate 2 can be reduced and the electrical resistance can be reduced. In particular, the ratio of the thickness to the width of the wiring pattern 3 is desirably thickness / width = 1/100 or more, more desirably thickness / width = 5/100 or more, and thickness / width = 10/100 or more. It is particularly desirable in some cases. When supplying a large current to the wiring pattern 3, it is desirable that the thickness / width = 20/100 or more.

配線パターン3の大きさは、一例としては、幅1μm以上、厚み1nm〜50μm程度に形成する。また、配線パターン3の電気抵抗率は、10−4Ω・cm以下であることが望ましく、特に、10−6Ω・cmオーダーの低抵抗であることが望ましい。 For example, the wiring pattern 3 is formed to have a width of 1 μm or more and a thickness of about 1 nm to 50 μm. The electrical resistivity of the wiring pattern 3 is preferably 10 −4 Ω · cm or less, and particularly preferably a low resistance on the order of 10 −6 Ω · cm.

なお、配線パターン3に使用する導電性粒子含有インク材料が吸収する波長であって、かつ、光透過性基板2が透過する波長の電磁波を用いることにより、配線パターン3を形成する際に電磁波を集束させることなく照射して微細な配線パターン3を形成することも可能である。この場合も、光透過性基板2は、電磁波を透過するため、全体に電磁波を照射しても、光透過性基板2自身の電磁波吸収による温度上昇は生じず、配線パターン3の部分のみ加熱することが可能である。   In addition, when the electromagnetic wave of the wavelength which the conductive particle containing ink material used for the wiring pattern 3 absorbs and the wavelength which the transparent substrate 2 permeate | transmits is used, when forming the wiring pattern 3, electromagnetic waves are generated. It is also possible to form a fine wiring pattern 3 by irradiation without focusing. Also in this case, since the light-transmitting substrate 2 transmits electromagnetic waves, even if the entire surface is irradiated with electromagnetic waves, the light-transmitting substrate 2 itself does not increase in temperature due to absorption of electromagnetic waves, and only the portion of the wiring pattern 3 is heated. It is possible.

また、電磁波焼結等により、配線パターン3が光透過性基板2に直接固着するように配線パターン3を形成することにより、配線パターン3は、LEDダイ1の発光時の発熱を熱伝導して効率よく光透過性基板2に伝導することができる。これにより、LEDダイ1の放熱性能を高めることができる。   Further, by forming the wiring pattern 3 so that the wiring pattern 3 is directly fixed to the light-transmitting substrate 2 by electromagnetic wave sintering or the like, the wiring pattern 3 conducts heat when the LED die 1 emits light. The light can be efficiently conducted to the light transmissive substrate 2. Thereby, the heat dissipation performance of the LED die 1 can be enhanced.

なお、配線パターン3の一部を、導電性粒子を焼結した導電材料以外の材料で形成してもよい。例えば、基板2の表面に銅箔等の金属物質を貼り付けた後にエッチング法等で所望の配線形状にし、必要に応じてめっき付けした配線パターン3を形成してもよい。   A part of the wiring pattern 3 may be formed of a material other than a conductive material obtained by sintering conductive particles. For example, after a metal material such as copper foil is attached to the surface of the substrate 2, a desired wiring shape may be formed by an etching method or the like, and a wiring pattern 3 plated as necessary may be formed.

LEDダイ1は、電磁波焼結により配線パターンに接合されていることが望ましい。電磁波焼結法を用いることにより、光透過性基板2の温度上昇を抑制しつつ、LEDダイ1を配線パターン3に接合することができる。なお、配線パターン3の形成時に、同時にLEDダイ1を配線パターン3に接合してもよいし、配線パターン3の形成後に、導電性粒子を含有する物質を配線パターン3の上に塗布等し、さらにLEDダイ1を搭載した後、電磁波焼結によりLEDダイ1と配線パターン3とを接合しても良い。   The LED die 1 is preferably bonded to the wiring pattern by electromagnetic wave sintering. By using the electromagnetic wave sintering method, the LED die 1 can be bonded to the wiring pattern 3 while suppressing the temperature rise of the light transmissive substrate 2. The LED die 1 may be bonded to the wiring pattern 3 at the same time as the wiring pattern 3 is formed, or after the wiring pattern 3 is formed, a substance containing conductive particles is applied onto the wiring pattern 3. Further, after the LED die 1 is mounted, the LED die 1 and the wiring pattern 3 may be joined by electromagnetic wave sintering.

LEDダイ1と配線パターン3との接合を電磁波焼結により行うことにより、光透過性基板2が湾曲し、歪応力が加わっても、接合部に破断や剥離を生じにくく、耐久性を高めることができる。   By joining the LED die 1 and the wiring pattern 3 by electromagnetic wave sintering, even if the light-transmitting substrate 2 is curved and strain stress is applied, it is difficult to cause breakage or peeling at the joint, thereby improving durability. Can do.

なお、図1では、配線パターン3を、光透過性基板2のLEDダイ1の搭載面に形成した例を示しているが、配線パターン3の一部は、光透過性基板2の裏面に配置してもよい。このとき、裏面側に配置した配線パターン3の一部に、反射膜4を兼用させてもよい。   FIG. 1 shows an example in which the wiring pattern 3 is formed on the mounting surface of the LED die 1 of the light transmissive substrate 2, but a part of the wiring pattern 3 is arranged on the back surface of the light transmissive substrate 2. May be. At this time, the reflective film 4 may also be used in part of the wiring pattern 3 arranged on the back surface side.

本実施形態において、光透過性基板2としては、例えば10〜1000μm厚さの薄い基板やフィルムを用いることができる。そのような薄い基板2であっても本実施形態のように電磁波焼結によりLEDダイ1を実装できる。光透過性基板2の材質としては、例えば、ガラス、PS(ポリスチレン)、PP(ポリプロピレン)、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、ポリイミド、アクリル、エポキシ、シリコーンなどの有機成分を主体とした物などを用いることができる。光透過性基板2は、例えば、溶融押出成形法、溶液流延法、カレンダー法等の公知の方法で形成することができる。光透過性基板2と配線パターン3や反射膜4を構成する導電材料との密着性を向上させるために、光透過性基板2に表面処理を施してもよい。例えば、プラズマ処理、UV(紫外線)処理、カップリング剤を塗布等する処理を行う。   In the present embodiment, as the light transmissive substrate 2, for example, a thin substrate or film having a thickness of 10 to 1000 μm can be used. Even with such a thin substrate 2, the LED die 1 can be mounted by electromagnetic wave sintering as in this embodiment. Examples of the material of the light transmissive substrate 2 include glass, PS (polystyrene), PP (polypropylene), PC (polycarbonate), PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), polyimide, acrylic, epoxy, silicone, and the like. A material mainly composed of the organic component can be used. The light transmissive substrate 2 can be formed by a known method such as a melt extrusion method, a solution casting method, or a calendar method. In order to improve the adhesion between the light transmissive substrate 2 and the conductive material constituting the wiring pattern 3 or the reflective film 4, the light transmissive substrate 2 may be subjected to a surface treatment. For example, plasma treatment, UV (ultraviolet) treatment, treatment for applying a coupling agent, or the like is performed.

配線パターン3の形成に用いる導電性粒子は、例えば、Au、Ag、Cu、Pd、ITO、Ni、Pt、Feなどの導電性金属および導電性金属酸化物のうちの1つ以上を用いることができる。電磁波による焼結では効率的に行うため、導電性粒子を含むインクの電磁波吸収特性を高める事が望ましく、導電性粒子の一部または全部がナノサイズ形状となっていることが望ましい。含まれる粒子サイズは一例として10〜150nmである。   As the conductive particles used for forming the wiring pattern 3, for example, one or more of conductive metals and conductive metal oxides such as Au, Ag, Cu, Pd, ITO, Ni, Pt, and Fe are used. it can. In order to efficiently perform the sintering using electromagnetic waves, it is desirable to improve the electromagnetic wave absorption characteristics of the ink containing the conductive particles, and it is desirable that some or all of the conductive particles have a nano-sized shape. The included particle size is, for example, 10 to 150 nm.

LEDダイ1としては、所望の波長の光を発するものを用いる。   As the LED die 1, one that emits light of a desired wavelength is used.

光透過膜5、6の材質としては、光を透過する膜であることが望ましい。その材質としては、例えば、ガラス、シリコーン、エポキシ、PS(ポリスチレン)、PP(ポリプロピレン)、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、ポリイミド等を用いることができる。特に、バリア性を有する材質であることが望ましく、例えば、EVOH(エチレンビニルアルコール共重合体)、エポキシ、シリコーン、アクリル等を用いることが好ましい。   The material of the light transmission films 5 and 6 is preferably a film that transmits light. Examples of the material include glass, silicone, epoxy, PS (polystyrene), PP (polypropylene), PC (polycarbonate), PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), and polyimide. In particular, a material having a barrier property is desirable. For example, EVOH (ethylene vinyl alcohol copolymer), epoxy, silicone, acrylic, or the like is preferably used.

<<発光機能を備えた光透過プレートの製造方法>>
つぎに、第1の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの製造方法を図9(a)〜(e)を用いて説明する。ここでは、配線パターン3を、導電性粒子と溶媒や分散剤を含んだインクを電磁波である光を用いて焼結する例について説明する。
<< Method of manufacturing light transmissive plate with light emitting function >>
Next, a method for manufacturing a light transmissive plate having a light emitting function according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. Here, an example in which the wiring pattern 3 is sintered using light that is an electromagnetic wave, ink containing conductive particles, a solvent, and a dispersant will be described.

まず、図9(a)のように、導電性粒子が分散された溶液(インク)を用意し、これを光透過性基板2の表面に所望の形状で塗布する。塗布方法は、例えば、インクジェット、ディスペンス、フレキソ、グラビア、グラビアオフセット、スクリーン印刷手法などの方法を用いる事が可能である。これにより、光透過性基板2の表面に、導電性粒子の膜121を形成する。必要に応じて膜121を加熱し、溶媒を蒸発させて乾燥させる。なお、膜121の形状は、形成すべき配線パターン3の形状になるように塗布してもよいし、一様な膜であってもよい。一様な膜である場合、配線パターン3以外の領域は、後工程で除去する。   First, as shown in FIG. 9A, a solution (ink) in which conductive particles are dispersed is prepared and applied to the surface of the light-transmitting substrate 2 in a desired shape. As the coating method, for example, a method such as inkjet, dispensing, flexo, gravure, gravure offset, screen printing method, or the like can be used. As a result, a film 121 of conductive particles is formed on the surface of the light transmissive substrate 2. If necessary, the film 121 is heated to evaporate the solvent and dry it. The film 121 may be applied so as to have the shape of the wiring pattern 3 to be formed, or may be a uniform film. In the case of a uniform film, the region other than the wiring pattern 3 is removed in a subsequent process.

形成した未焼結の膜121の微粒子を焼結させるため、例えば電磁波や光を照射することで局所的に配線部のみ加熱し、導電性粒子を焼結させる。電磁波は、フラッシュランプの様な光のパルス波、レーザー光の様な連続波、マイクロ波の様な長波長の電磁波を用いることができる。ここでは、一例として、光を用いる。まず、図9(b)のように、LEDダイ1を、その電極31aが膜121に接触するように、未焼結の配線パターン3に搭載する。つぎに、図9(c)のように、光透過性基板2を透過させて光束12を膜121に照射する。この方法により、例えば配線パターン3の形成と、LEDダイ1と配線パターン3との接続とを、光束12の照射により同時にまたは連続して行うことができる。具体的には、光透過性基板2の、膜121が形成されていない側から、光束12を電極31aと光透過性基板2の間の領域に照射して、膜121の導電性粒子を電磁波焼結し、電極31aとの接続領域となる配線パターン3を形成する。さらに、光束12を照射し、他の配線パターン3も形成する。形成順序は、他の配線パターンを形成した後にLEDダイ1の電極接続領域となる配線パターン3を形成しても良い。   In order to sinter the formed fine particles of the unsintered film 121, for example, by irradiating electromagnetic waves or light, only the wiring portion is locally heated to sinter the conductive particles. As the electromagnetic wave, a pulse wave of light like a flash lamp, a continuous wave like laser light, or an electromagnetic wave with a long wavelength like microwaves can be used. Here, light is used as an example. First, as shown in FIG. 9B, the LED die 1 is mounted on the unsintered wiring pattern 3 so that the electrode 31 a contacts the film 121. Next, as shown in FIG. 9C, the film 121 is irradiated with the light beam 12 through the light transmissive substrate 2. By this method, for example, the formation of the wiring pattern 3 and the connection between the LED die 1 and the wiring pattern 3 can be performed simultaneously or successively by irradiation with the light flux 12. Specifically, the light beam 12 is applied to the region between the electrode 31a and the light transmissive substrate 2 from the side of the light transmissive substrate 2 where the film 121 is not formed, and the conductive particles of the film 121 are irradiated with electromagnetic waves. The wiring pattern 3 which becomes a connection area | region with the electrode 31a is formed by sintering. Further, the light flux 12 is irradiated to form another wiring pattern 3. As for the formation order, the wiring pattern 3 that becomes the electrode connection region of the LED die 1 may be formed after another wiring pattern is formed.

また、配線パターン3形成後、配線パターン3と電極31aの間に未焼結の導電性粒子含有インクをさらに塗布し、LEDダイ1の電極31aを搭載した後、さらに光束12を照射することで電極接続領域を形成することも可能である。   In addition, after the wiring pattern 3 is formed, unsintered conductive particle-containing ink is further applied between the wiring pattern 3 and the electrode 31a, and after the electrode 31a of the LED die 1 is mounted, the light flux 12 is further irradiated. It is also possible to form an electrode connection region.

つぎに、図9(d)のように、光透過性基板2の裏面に、導電性粒子が分散された溶液(インク)等を、反射膜4の形状に塗布し、未焼結の膜121を形成する。溶液および塗布方法は、図9(a)の工程と同様である。   Next, as shown in FIG. 9D, a solution (ink) in which conductive particles are dispersed is applied to the back surface of the light transmissive substrate 2 in the shape of the reflective film 4, and the unsintered film 121 is applied. Form. The solution and coating method are the same as in the step of FIG.

最後に、図9(e)のように、光束12を照射して膜121を焼結し、反射膜4を形成する。以上により、発光機能を備えた光透過プレートを製造することができる。
なお、パターン3と反射膜4が同時に焼結出来る様に、両者に光が照射される構造を取ることも可能である。
Finally, as shown in FIG. 9E, the light beam 12 is irradiated to sinter the film 121 to form the reflective film 4. As described above, a light transmissive plate having a light emitting function can be manufactured.
It is also possible to adopt a structure in which both the pattern 3 and the reflective film 4 are irradiated with light so that the pattern 3 and the reflective film 4 can be sintered simultaneously.

光束12が照射された導電性粒子が焼結されるメカニズムについてさらに説明する。膜121のうち、光束12が照射された領域は、導電性粒子が光のエネルギーを吸収して温度が上昇する。これにより、導電性粒子は、その粒子を構成する材料のバルクの融点よりも低い温度で溶融するとともに、導電性粒子の温度上昇に伴い、溶融した導電性ナノ粒子は、隣接する粒子と直接融合する。これにより、導電性粒子同士が焼結され、光透過性基板2の上面に導電性の配線パターン3が形成される。このとき、溶融した導電性粒子は、光透過性基板2に固着する。特に、図9(c)の工程のように、光透過性基板2の膜121が形成されていない側の面から光束12を照射することにより、光透過性基板2と配線パターン3の界面の固着強度を高めることができる。   The mechanism by which the conductive particles irradiated with the light beam 12 are sintered will be further described. In the region of the film 121 irradiated with the light flux 12, the conductive particles absorb the energy of light and the temperature rises. As a result, the conductive particles melt at a temperature lower than the bulk melting point of the material constituting the particles, and as the temperature of the conductive particles rises, the molten conductive nanoparticles directly fuse with adjacent particles. To do. Thereby, the conductive particles are sintered, and the conductive wiring pattern 3 is formed on the upper surface of the light-transmitting substrate 2. At this time, the melted conductive particles adhere to the light transmissive substrate 2. In particular, as in the step of FIG. 9C, the light beam 12 is irradiated from the surface of the light transmissive substrate 2 where the film 121 is not formed, so that the interface between the light transmissive substrate 2 and the wiring pattern 3 is irradiated. Fixing strength can be increased.

なお、上述のように、膜121の光束12の照射を受けた領域の導電性粒子は、光を照射することにより温度が上昇し、この熱は、導電性粒子の焼結に用いられるとともに、周囲の膜121および光透過性基板2に伝導し、放熱される。よって、膜121のうち光束12の照射を受けた領域のみ、もしくは、その光束12の照射を受けた領域とその近傍領域のみが、導電性粒子が焼結される温度に到達し、その外側領域の膜121や光透過性基板2の温度は、それらを構成する材料を溶融させたり変質させたりする温度には到達しない。すなわち、本実施形態では、膜121の一部領域のみに光束12を照射することにより、光透過性基板2の温度上昇を抑制することができ、光透過性基板2の電磁波焼結による変形や歪、白濁等の変質を防止することができる。また、光透過性基板2がフレキシブルである場合にはそのフレキシブル性を維持することができる。但し、光照射の方法は当該方法に限られず、光透過性基板全体にフラッシュ光などを照射し、膜121を焼結させることもできる。   As described above, the temperature of the conductive particles in the region of the film 121 that has been irradiated with the light flux 12 rises when irradiated with light, and this heat is used for sintering of the conductive particles, The heat is conducted to the surrounding film 121 and the light-transmitting substrate 2 to be radiated. Therefore, only the region of the film 121 that has been irradiated with the light beam 12 or only the region that has been irradiated with the light beam 12 and its neighboring region reach the temperature at which the conductive particles are sintered, and the outer region thereof. The temperature of the film 121 and the light-transmitting substrate 2 does not reach the temperature at which the materials constituting them are melted or altered. That is, in this embodiment, the temperature rise of the light transmissive substrate 2 can be suppressed by irradiating only a partial region of the film 121 with the light flux 12, and deformation of the light transmissive substrate 2 due to electromagnetic wave sintering or Deformation such as distortion and cloudiness can be prevented. Further, when the light transmissive substrate 2 is flexible, the flexibility can be maintained. However, the light irradiation method is not limited to this method, and the film 121 can be sintered by irradiating the entire light-transmitting substrate with flash light or the like.

図9(c)、(e)の工程では、形成される配線パターン3および反射膜4が多孔質(ポーラス)となるように形成することが望ましい。すなわち、隣接する導電性粒子同士は、全体が完全に溶融して混ざりあうのではなく、接触する界面で焼結され、焼結後の導電性粒子間の少なくとも一部に空孔を形成するような温度で電磁波焼結することが望ましい。例えば、光束12として、レーザー光を用い、通過する光透過性基板2を溶融させない程度の照射強度で膜121に照射することにより、光束12が照射された膜121の領域に短時間に比較的大きなエネルギーを投入でき、導電性粒子を加熱して溶融させ焼結できるとともに、レーザー光の光束12の照射を停止することにより、周囲の膜121や光透過性基板2への熱伝導により速やかに冷却することができるため、多孔質の配線パターンを形成することができる。言い換えると、膜121をレーザー光の光束12で焼結するときに、膜121が適切な温度になるように、光束12の照射強度を調節することで、多孔質の配線パターン3を形成できる。具体例としては、光透過性基板2として、延伸されたポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(融点250℃程度、耐熱温度150℃程度)を用い、光透過性基板2の形状が維持されるようにレーザー光の光束12の強度を調整して光透過性基板2の裏面から膜121に照射し、膜121の導電性粒子を焼結した場合、多孔質の配線パターン3を形成することができる。   In the steps of FIGS. 9C and 9E, it is desirable to form the wiring pattern 3 and the reflective film 4 to be porous. That is, the adjacent conductive particles are not completely melted and mixed together, but are sintered at the contact interface so that pores are formed in at least a part between the sintered conductive particles. It is desirable to perform electromagnetic wave sintering at a certain temperature. For example, by using a laser beam as the light beam 12 and irradiating the film 121 with an irradiation intensity that does not melt the light-transmitting substrate 2 that passes therethrough, the region of the film 121 irradiated with the light beam 12 is relatively short in a short time. A large amount of energy can be input, and the conductive particles can be heated and melted and sintered, and the irradiation of the laser light beam 12 is stopped, so that the heat conduction to the surrounding film 121 and the light-transmitting substrate 2 is quicker. Since it can cool, a porous wiring pattern can be formed. In other words, when the film 121 is sintered with the laser beam 12, the porous wiring pattern 3 can be formed by adjusting the irradiation intensity of the beam 12 so that the film 121 has an appropriate temperature. As a specific example, a stretched polyethylene terephthalate (PET) film (melting point: about 250 ° C., heat resistant temperature: about 150 ° C.) is used as the light transmissive substrate 2, and a laser is used so that the shape of the light transmissive substrate 2 is maintained. When the intensity of the light beam 12 is adjusted to irradiate the film 121 from the back surface of the light-transmitting substrate 2 and the conductive particles of the film 121 are sintered, the porous wiring pattern 3 can be formed.

配線パターン3が多孔質である場合には、上述したように、配線パターン3自体が追随性(可撓性)を有するため、フレキシブルな光透過性基板2を変形させた場合にも、それに伴って配線パターン3が追随するため、配線パターン3が光透過性基板2からはがれにくく、ひび割れ等も生じにくい。よって、断線の生じにくい、フレキシブルな基板2を提供することができる。   When the wiring pattern 3 is porous, as described above, the wiring pattern 3 itself has followability (flexibility). Therefore, even when the flexible light-transmitting substrate 2 is deformed, the wiring pattern 3 itself is accompanied. Since the wiring pattern 3 follows the wiring pattern 3, the wiring pattern 3 is hardly peeled off from the light-transmitting substrate 2 and is not easily cracked. Therefore, it is possible to provide a flexible substrate 2 that is less likely to cause disconnection.

なお、図9(c)、(e)の工程において、膜121へ照射する際の光束12の形状は、マスクを通過させることにより配線パターン3の形状に整形してから照射してもよいし、照射スポットが円形や矩形の光束12を走査させて配線パターン3を描いてもよい。   9C and 9E, the shape of the light beam 12 when irradiating the film 121 may be irradiated after being shaped into the shape of the wiring pattern 3 by passing through a mask. Alternatively, the wiring pattern 3 may be drawn by scanning the light beam 12 whose irradiation spot is circular or rectangular.

LEDダイ1の周囲に光透過膜5を、裏面側に光透過膜6を設ける場合には、未硬化の樹脂を光透過性基板2に例えばスプレーコーティング、ディップコーティング、ウェットコーティング等の方法で塗布し、硬化させる。あるいは、予めフィルム状に成型したものを、例えばラミネート法、ヒートシール等の方法で接合してもよいし、自己粘着性のものをその粘着性を利用して接合してもよい。   When the light transmissive film 5 is provided around the LED die 1 and the light transmissive film 6 is provided on the back side, an uncured resin is applied to the light transmissive substrate 2 by a method such as spray coating, dip coating, or wet coating. And cure. Or what was previously shape | molded into the film form may be joined by methods, such as a lamination method and a heat seal, for example, and a self-adhesive thing may be joined using the adhesiveness.

具体的には、例えば、未硬化の光透過膜5の材料を所望の方法でLEDダイ1の周囲に充填してから熱やUVなど所望の方法で硬化させる方法を用いることができる。また、LEDダイ1を挟んで、光透過性基板2と対向するように別の光透過性基板を配置し、2枚の光透過性基板の間隙に毛細管現象や真空注入技術により樹脂を充填させた後、所望の方法で硬化させることも可能である。光透過膜5、6の材質としては、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂等の光透過性の樹脂材料を用いることができる。   Specifically, for example, a method in which the material of the uncured light transmission film 5 is filled around the LED die 1 by a desired method and then cured by a desired method such as heat or UV can be used. In addition, another light-transmitting substrate is disposed so as to face the light-transmitting substrate 2 with the LED die 1 interposed therebetween, and the gap between the two light-transmitting substrates is filled with resin by capillary action or vacuum injection technique. After that, it can be cured by a desired method. As a material of the light transmissive films 5 and 6, for example, a light transmissive resin material such as an epoxy resin, a silicone resin, a urethane resin, a fluorine resin, an acrylic resin, or the like can be used.

なお、図8(a),(b)のように、光透過膜5の上にレンズ7やフレネルレンズ8を配置する場合、予め別体として成形しておいたレンズ7およびフレネルレンズ8を光透過膜5の上に搭載してもよいし、光透過膜5をレンズ7やフレネルレンズ8の形状に成形することにより、光透過膜5と一体にレンズ7やフレネルレンズ8を形成することもできる。レンズ7やフレネルレンズ8を別体として成形する場合、その材質は、光透過膜5,6の材質と同様に、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂等の光透過性の樹脂材料を用いることができる。   8A and 8B, when the lens 7 and the Fresnel lens 8 are disposed on the light transmission film 5, the lens 7 and the Fresnel lens 8 that are molded in advance as separate bodies are used as light. The lens 7 and the Fresnel lens 8 may be formed integrally with the light transmissive film 5 by forming the light transmissive film 5 into the shape of the lens 7 and the Fresnel lens 8. it can. When the lens 7 and the Fresnel lens 8 are molded separately, the material is light transmissive such as epoxy resin, silicone resin, urethane resin, fluororesin, acrylic resin, etc., similar to the material of the light transmissive films 5 and 6. Can be used.

図9(c)の工程において、光束12を光透過性基板2の膜121が設けられている側の面から照射することももちろん可能である。この場合、LEDダイ1を搭載する電極の接続部分には電磁波焼結を使用できないが、他の配線パターン3は焼結できるため、電極接続部と配線パターン形成の工程をパラレルに実施することも可能である。   In the step of FIG. 9C, it is of course possible to irradiate the light beam 12 from the surface of the light transmissive substrate 2 on which the film 121 is provided. In this case, electromagnetic wave sintering cannot be used for the connection part of the electrode on which the LED die 1 is mounted. However, since the other wiring pattern 3 can be sintered, the electrode connection part and the wiring pattern forming process may be performed in parallel. Is possible.

なお、照射する光束12の波長は、膜121に含まれる導電性粒子に吸収される波長を用いる。照射する光は、紫外、可視、赤外いずれの光であってもよいし、マイクロ波であってもよい。例えば導電性粒子として、Ag、Cu、Au、Pdなどを用いた場合、400〜600nmの可視光を用いることができる。   Note that the wavelength of the light beam 12 to be irradiated is a wavelength that is absorbed by the conductive particles included in the film 121. Irradiation light may be ultraviolet, visible, or infrared light, or may be microwaves. For example, when Ag, Cu, Au, Pd or the like is used as the conductive particles, visible light of 400 to 600 nm can be used.

図9の各工程を終了後、光を照射していない膜121の領域がある場合は、焼結が生じないため、この後の工程で除去する。例えば、有機溶媒等を用いて膜121を除去することが可能である。また、追加して光を照射したり、加熱をしたりすることによって、膜121を焼結させることもできる。   After completion of each step in FIG. 9, if there is a region of the film 121 that is not irradiated with light, sintering does not occur and is removed in a subsequent step. For example, the film 121 can be removed using an organic solvent or the like. In addition, the film 121 can be sintered by additionally irradiating light or heating.

配線パターン3および反射膜4を形成する工程で用いる導電性微粒子を含むインクについてさらに説明する。このインクは、1μm以下のナノサイズ導電性粒子が分散された溶液である。導電性粒子は、例えば、Au、Ag、Cu、Pd、ITO、Ni、Pt、Feなどの導電性金属および導電性金属酸化物のうちの1つ以上を用いることができる。導電性粒子の粒子径は、1μm未満のナノ粒子のみであってもよいし、1μm未満のナノ粒子と1μm以上のマイクロ粒子とが混合されていてもよい。溶液の溶媒は、有機溶媒や水を用いることが好ましいが、エポキシやシリコーン、ウレタン樹脂に含有させても良い。溶媒には、分散性を向上させる添加剤(ポリマー成分等)を添加し、また固着力を向上させるために樹脂成分(エポキシやシリコーン、ウレタンなど)を添加しても良い。   The ink containing conductive fine particles used in the process of forming the wiring pattern 3 and the reflective film 4 will be further described. This ink is a solution in which nano-sized conductive particles of 1 μm or less are dispersed. As the conductive particles, for example, one or more of conductive metals and conductive metal oxides such as Au, Ag, Cu, Pd, ITO, Ni, Pt, and Fe can be used. The particle diameter of the conductive particles may be only nanoparticles of less than 1 μm, or nanoparticles of less than 1 μm and microparticles of 1 μm or more may be mixed. The solvent of the solution is preferably an organic solvent or water, but may be contained in epoxy, silicone, or urethane resin. Additives (polymer component, etc.) that improve dispersibility may be added to the solvent, and resin components (epoxy, silicone, urethane, etc.) may be added to improve the adhesion.

<第2の実施形態>
第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートについて、図10(a)〜(c)および図11(a)〜(e)を用いて説明する。
<Second Embodiment>
The light transmissive plate having the light emitting function of the second embodiment will be described with reference to FIGS. 10 (a) to 10 (c) and FIGS. 11 (a) to 11 (e).

図10(a)のように、第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートは、第1の実施形態と同様に、光透過性基板2と、光透過性基板2の表面に設けられた配線パターン3と、配線パターン3に接合されたLEDダイ1とを備えている。配線パターン3の少なくとも一部は、導電性粒子を焼結した導電材料により構成され、LEDダイ1は、導電性粒子を焼結した導電材料によって配線パターン3に接合されている。これら第1の実施形態と同じ符号を付したものは、第1の実施形態と同様の構成である。   As shown in FIG. 10A, the light transmissive plate having the light emitting function of the second embodiment is provided on the surface of the light transmissive substrate 2 and the light transmissive substrate 2 as in the first embodiment. And the LED die 1 bonded to the wiring pattern 3. At least a part of the wiring pattern 3 is made of a conductive material obtained by sintering conductive particles, and the LED die 1 is joined to the wiring pattern 3 by a conductive material obtained by sintering conductive particles. Those having the same reference numerals as those of the first embodiment have the same configuration as that of the first embodiment.

第2の実施形態では、光透過性基板2には、LEDダイ1の近傍に、光透過性基板2の厚さ方向に切り欠き11が設けられ、切り欠き11には、反射材料が充填されている。   In the second embodiment, the light transmissive substrate 2 is provided with a notch 11 in the thickness direction of the light transmissive substrate 2 in the vicinity of the LED die 1, and the notch 11 is filled with a reflective material. ing.

このように、反射材料が充填された切り欠き11を設けることにより、LEDダイ1から発せられた光の一部が、光透過性基板2に入射した後、光透過性基板2の面内方向に進む場合であっても、これを上方に向けて反射することができる。よって、LEDダイ1の上方への光の取り出し効率を向上させることができるとともに、光透過性基板2を面内方向に光が導波するのを防止することができる。   Thus, by providing the notch 11 filled with the reflective material, after a part of the light emitted from the LED die 1 enters the light transmissive substrate 2, the in-plane direction of the light transmissive substrate 2 is obtained. Even in the case of proceeding to the step, it can be reflected upward. Therefore, the light extraction efficiency above the LED die 1 can be improved, and light can be prevented from being guided in the in-plane direction through the light transmissive substrate 2.

切り欠き11は、図11(a)〜(e)のように、LEDダイ1を取り囲むように1以上設けられている。図11(a)、(c)から(e)の例は、配線パターン3を避けるため、切り欠き11は複数に分割されている。   As shown in FIGS. 11A to 11E, one or more cutouts 11 are provided so as to surround the LED die 1. 11A, 11C to 11E, the notch 11 is divided into a plurality of parts in order to avoid the wiring pattern 3.

また、切り欠き11は、光透過性基板2の表面に対して傾斜していることが望ましい。この傾斜角度を制御することにより、光透過性基板2を通って切り欠き11の反射材料に到達した光を反射する方向を制御することができる。   Further, it is desirable that the notch 11 is inclined with respect to the surface of the light transmissive substrate 2. By controlling this inclination angle, the direction in which the light that reaches the reflective material of the notch 11 through the light-transmitting substrate 2 is reflected can be controlled.

光透過性基板2の裏面に反射膜4が配置され、切り欠き11が取り囲む領域が、反射膜4によって覆われていることが望ましい。これにより、光透過性基板2の裏面に到達した光を、反射膜4によって上方に反射することができるため、上方への光の取り出し効率がさらに向上する。   Desirably, the reflective film 4 is disposed on the back surface of the light-transmitting substrate 2 and the region surrounded by the notch 11 is covered with the reflective film 4. Thereby, since the light that has reached the back surface of the light transmissive substrate 2 can be reflected upward by the reflective film 4, the upward light extraction efficiency is further improved.

また、切り欠き11は、図10(b)のように、光透過性基板2の厚みの途中まで設けられた構成(ハーフカット)であってもよい。切り欠き11が厚みの途中までしかない構造であって、一部の光を上方に向けて反射することができるため、光の取り出し効率向上の効果は得られる。   Moreover, the notch 11 may have a configuration (half cut) provided halfway through the thickness of the light-transmitting substrate 2 as shown in FIG. Since the notch 11 has a structure only extending to the middle of the thickness and can reflect part of the light upward, an effect of improving the light extraction efficiency can be obtained.

切り欠き11は、図10(c)のように、光透過性基板2の裏面側から切り欠いた構造にしてもよい。後述するように、切り欠き11は、ルーター加工やレーザー加工、金型によるプレス加工等によって形成できるが、レーザー加工の場合、図10(c)に示したように、レーザー入射側の切り欠きの径が、レーザー出射側の切り欠きの径よりも大きくなるという特徴がある。この特徴を利用して、例えば図10(c)のように、切り欠き11の側面を傾斜させることができる。   The cutout 11 may have a structure cut out from the back side of the light-transmitting substrate 2 as shown in FIG. As will be described later, the notch 11 can be formed by router processing, laser processing, press processing using a mold, or the like. In the case of laser processing, as shown in FIG. The diameter is larger than the notch diameter on the laser emission side. Using this feature, the side surface of the notch 11 can be inclined as shown in FIG.

切り欠き11に充填する反射材料は、散乱剤を分散させた樹脂等、どのようなものであってもよいが、導電性粒子を焼結した導電材料を用いてもよい。特に、切り欠き11を充填する材料が、配線パターン3を構成する導電性粒子を焼結した導電材料と同じものである場合、配線パターン3を形成する工程と連続してまたは同時に形成することができるため望ましい。   The reflection material filled in the notch 11 may be any material such as a resin in which a scattering agent is dispersed, but a conductive material obtained by sintering conductive particles may be used. In particular, when the material filling the notch 11 is the same as the conductive material obtained by sintering the conductive particles constituting the wiring pattern 3, it can be formed continuously or simultaneously with the step of forming the wiring pattern 3. This is desirable because it can be done.

また、図12、図13に示したように、光透過性基板2の表面を、LEDダイ1を埋め込むように光透過膜5で覆ってもよい。この場合、図14(a),(b)および図15(a),(b)のように、光透過膜5のLEDダイ1の近傍に、光透過膜5の厚さ方向に第2の切り欠き12を設け、第2の切り欠き12にも、反射材料を充填してもよい。第2の切り欠き12は、光透過膜5の厚み方向の全体に設けてもよいし、ハーフカットでもよい。なお、第2の切り欠き12は、光透過膜5の上部から切り欠いて設けてもよいし、光透過膜5または光透過性基板2の裏面側から切り欠いて設けてことも可能である。   Further, as shown in FIGS. 12 and 13, the surface of the light transmissive substrate 2 may be covered with a light transmissive film 5 so as to embed the LED die 1. In this case, as shown in FIGS. 14 (a) and 14 (b) and FIGS. 15 (a) and 15 (b), in the vicinity of the LED die 1 of the light transmitting film 5, the second direction in the thickness direction of the light transmitting film 5 is provided. A cutout 12 may be provided, and the second cutout 12 may be filled with a reflective material. The second notch 12 may be provided in the entire thickness direction of the light transmission film 5 or may be a half cut. The second cutout 12 may be cut out from the top of the light transmissive film 5 or may be cut out from the back side of the light transmissive film 5 or the light transmissive substrate 2. .

これにより、光透過膜5を横方向に進む光を、反射材料が充填された第2の切り欠き12によって反射して、上方に向けて出射させることができるため、上方からの光の取り出し効率をさらに高めることができる。   Accordingly, light traveling in the lateral direction through the light transmission film 5 can be reflected by the second notch 12 filled with the reflective material and emitted upward, so that the light extraction efficiency from above can be obtained. Can be further enhanced.

切り欠き11と第2の切り欠き12は、図14(a)、図15(a)のように連続するように形成してもよいし、図14(b)、図15(b)のように不連続に形成してもよい。   The notch 11 and the second notch 12 may be formed continuously as shown in FIGS. 14 (a) and 15 (a), or as shown in FIGS. 14 (b) and 15 (b). It may be formed discontinuously.

また、図16(a)、(b)のように、光透過性基板2には切り欠き11を設けず、光透過膜5のみに切り欠き12を設けてもよい。切り欠き12は、その上面図を図16(c)に示したように、LEDダイ1を取り囲むように連続して設けてよいし、図16(d)のように配線パターン3を避けて複数に分割して設けてもよい。   Further, as shown in FIGS. 16A and 16B, the notch 11 may not be provided in the light transmissive substrate 2, and the notch 12 may be provided only in the light transmissive film 5. As shown in FIG. 16C, the notch 12 may be continuously provided so as to surround the LED die 1, or a plurality of notches 12 avoiding the wiring pattern 3 as shown in FIG. You may divide and provide.

また、図17(a)〜(d)および図18(a)〜(d)に示したように、LEDダイ1の上方の光透過膜5の表面にレンズ7またはフレネルレンズ8を配置してもよい。これにより、レンズ7またはフレネルレンズ8の作用により、LEDダイ1の出射光の取り出し効率をさらに向上させることできるとともに、配向性や指向性等の光学特性をコントロールすることができる。   Further, as shown in FIGS. 17A to 17D and FIGS. 18A to 18D, a lens 7 or a Fresnel lens 8 is arranged on the surface of the light transmission film 5 above the LED die 1. Also good. Thereby, the action of the lens 7 or the Fresnel lens 8 can further improve the extraction efficiency of the emitted light of the LED die 1 and can control optical characteristics such as orientation and directivity.

つぎに、第2の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの製造方法について説明する。ここでは、図10(a)の光透過プレートを製造する例について以下説明する。   Next, a method for manufacturing a light transmissive plate having a light emitting function according to the second embodiment will be described. Here, the example which manufactures the light transmissive plate of Fig.10 (a) is demonstrated below.

まず、図19(a),(b)のように、光透過性基板2を用意し、切り欠き11を形成する。切り欠き11の形成方法としては、例えばルーター、旋盤、レーザー加工、金型での転写等の加工技術を用いる。レーザー加工の場合、切り欠きの方向や角度、深さ等のサイズ、形状、位置等を調節することができる。   First, as shown in FIGS. 19A and 19B, the light-transmitting substrate 2 is prepared, and the notch 11 is formed. As a method of forming the notch 11, for example, a processing technique such as a router, a lathe, laser processing, or transfer with a mold is used. In the case of laser processing, the size, shape, position, etc. of the notch direction, angle, depth, etc. can be adjusted.

つぎに、図19(c)のように、第1の実施形態の図9(a)の工程と同様に、導電性粒子が分散されたインクを塗布等し、配線パターン3となる未硬化の膜121を形成するとともに、切り欠き11にもインクを充填し、未硬化の充填部123を形成する。   Next, as shown in FIG. 19C, as in the step of FIG. 9A of the first embodiment, an uncured resin that becomes the wiring pattern 3 is formed by applying ink in which conductive particles are dispersed. In addition to forming the film 121, the notch 11 is also filled with ink to form an uncured filling portion 123.

図19(d)のように、第1の実施形態の図9(b)の工程と同様に、LEDダイ1を膜121上に搭載する。   As shown in FIG. 19D, the LED die 1 is mounted on the film 121 as in the step of FIG. 9B of the first embodiment.

そして、図19(e)の工程では、図9(c)の工程と同様に、光束12(を膜121に照射して導電性粒子を焼結し、配線パターン3を形成しつつ、配線パターン3とLEDダイ1とを接合するとともに、充填部123にも照射して、導電性粒子を焼結し、反射材料を形成する。光束12の照射は、膜121と充填部123とに対して同時に行ってもよいし、別々に行ってもよい。   Then, in the process of FIG. 19E, as in the process of FIG. 9C, the conductive film is sintered by irradiating the light beam 12 (to the film 121 to form the wiring pattern 3, while the wiring pattern 3 is formed. 3 and the LED die 1 are bonded, and the filling portion 123 is also irradiated to sinter the conductive particles to form a reflective material, and the irradiation of the light beam 12 is applied to the film 121 and the filling portion 123. It may be performed simultaneously or separately.

つぎに、図19(f)、(g)の工程では、図9(d)、(e)の工程と同様に、導電性粒子が分散されたインクにより、反射膜4となる未硬化の膜121を形成し、光束12を照射して焼結し、反射膜4を形成する。以上により、図10(a)の発光機能を備えた光透過プレートを製造できる。   Next, in the steps of FIGS. 19 (f) and 19 (g), as in the steps of FIGS. 9 (d) and 9 (e), an uncured film that becomes the reflective film 4 with the ink in which conductive particles are dispersed. 121 is formed, irradiated with the light beam 12 and sintered to form the reflective film 4. As described above, the light transmission plate having the light emitting function of FIG.

つぎに、図10(a)の光透過プレートを製造する別の方法を、図20(a)〜(g)を用いて説明する。図20(a)〜(g)の製造方法は、切り欠き11を形成するタイミングが、図19(a)〜(g)の製造方法とは異なる。   Next, another method for manufacturing the light transmission plate of FIG. 10A will be described with reference to FIGS. The manufacturing method of FIGS. 20A to 20G is different from the manufacturing method of FIGS. 19A to 19G in the timing of forming the notch 11.

まず、図20(a),(b)のように、切り欠き11を形成する前に、配線パターン3となる未硬化の膜121を形成し、LEDダイ1を搭載する。この状態で、図20(c)のように切り欠き11を形成し、導電性粒子が分散されたインクを充填し、充填部123を形成する。その後、図20(e)の工程で、図19(e)の工程と同様に、光束12を照射して膜121を焼結することにより、配線パターン3を形成しつつ配線パターン3をLEDダイ1と接合するとともに、充填部123を焼結し、反射材料に変化させる。図20(f)、(g)の工程は、図19(f)、(g)の工程と同様に反射膜4を形成する。以上により、図10(a)の発光機能を備えた光透過プレートを製造できる。   First, as shown in FIGS. 20A and 20B, before forming the notch 11, an uncured film 121 to be the wiring pattern 3 is formed, and the LED die 1 is mounted. In this state, the notch 11 is formed as shown in FIG. 20C, and the filling portion 123 is formed by filling the ink in which the conductive particles are dispersed. Thereafter, in the step of FIG. 20E, as in the step of FIG. 19E, the film 121 is sintered by irradiating the light flux 12 to form the wiring pattern 3 while the wiring pattern 3 is formed on the LED die. 1 and the filler 123 is sintered and changed to a reflective material. In the steps of FIGS. 20F and 20G, the reflective film 4 is formed in the same manner as the steps of FIGS. 19F and 19G. As described above, the light transmission plate having the light emitting function of FIG.

切り欠き11は、配線パターン3の形成の前に形成してもよいし、後に形成してもよい。配線パターン3となる未硬化の膜121または反射膜4となる未硬化の膜121の形成前に、切り欠き11を形成してもよい。切り欠き11への導電性粒子分散インクの充填は、配線パターン3となる膜121または反射膜4となる膜121の形成と同時に行ってもよいし、別々に行ってもよい。配線パターン3となる膜121、反射膜4となる膜121、および切り欠き11内の導電性粒子分散インクの焼結は、それぞれ個別に行うことももちろん可能であるし、光が一括に照射出来る構造を取ることにより、同時に光を照射して一括で焼結することも可能である。また、切り欠き11内で焼結された導電性粒子分散インクは、導電性を有するためビアとしても利用することができる。   The notch 11 may be formed before or after the wiring pattern 3 is formed. The notches 11 may be formed before the formation of the uncured film 121 to be the wiring pattern 3 or the uncured film 121 to be the reflective film 4. Filling the cutout 11 with the conductive particle-dispersed ink may be performed simultaneously with the formation of the film 121 to be the wiring pattern 3 or the film 121 to be the reflective film 4 or may be performed separately. The film 121 that becomes the wiring pattern 3, the film 121 that becomes the reflective film 4, and the conductive particle-dispersed ink in the notch 11 can be individually sintered, and can be irradiated with light collectively. By adopting a structure, it is also possible to sinter simultaneously by irradiating light. In addition, the conductive particle-dispersed ink sintered in the notch 11 has conductivity and can also be used as a via.

図19および図20のいずれの製造工程も配線パターン3と切り欠き11の反射材料とを同時に焼結可能であるため、製造工程を大幅に増加させることなく、反射材料を充填した切り欠き11を備えた光透過プレートを製造できる。   19 and 20 can sinter the wiring pattern 3 and the reflective material of the cutout 11 at the same time, so that the cutout 11 filled with the reflective material can be formed without significantly increasing the production process. The provided light transmission plate can be manufactured.

<第3の実施形態>
第3の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートについて、図21〜図23を用いて説明する。
<Third Embodiment>
The light transmissive plate provided with the light emitting function of the third embodiment will be described with reference to FIGS.

第1の実施形態において図3〜図6を用いて説明したように、本実施形態の反射膜4を備えた光透過プレートは、発光波長の異なる複数のLEDダイ1を搭載した場合、混色性を高めることができる。第3の実施形態では、混色性を高めた光透過プレートの別の構成について説明する。   As described with reference to FIGS. 3 to 6 in the first embodiment, the light transmission plate provided with the reflective film 4 of the present embodiment has a color mixing property when a plurality of LED dies 1 having different emission wavelengths are mounted. Can be increased. In the third embodiment, another configuration of the light transmission plate with improved color mixing will be described.

図21(a)は、第3の実施形態の発光機能を備えた光透過プレートの部分断面図であり、第1の実施形態の図5の光透過プレートと類似した構成であるが、光透過性基板2の裏面側に配置された反射膜4と、裏面側に反射されたLEDダイ1Yの配線パターン3とが連結され、反射膜4と配線パターン3とが、配線としての機能と反射膜としての機能とを互いに兼用している。   FIG. 21A is a partial cross-sectional view of the light transmissive plate having the light emitting function of the third embodiment, and has a configuration similar to that of the light transmissive plate of FIG. 5 of the first embodiment. The reflective film 4 disposed on the back surface side of the conductive substrate 2 is connected to the wiring pattern 3 of the LED die 1Y reflected on the back surface side, and the reflective film 4 and the wiring pattern 3 serve as a wiring and a reflective film. The functions are shared with each other.

光透過性基板2の上面に配置されたLEDダイ1Bは、青色光を発し、裏面側に配置されたLEDダイ1Yは、黄色光を発する。他の構成は、第1の実施形態の図5の構成と同様である。   The LED die 1B disposed on the upper surface of the light transmissive substrate 2 emits blue light, and the LED die 1Y disposed on the back surface side emits yellow light. Other configurations are the same as those of the first embodiment shown in FIG.

このように、光透過性基板2の裏面側の反射膜4と配線パターン3とを連結することにより、両者が光透過性基板2の裏面を覆う面積が大きくなるため、上面のLEDダイ1Bから下方に出射のされた青色光を、光透過性基板2の裏面の反射膜4と配線パターン3により上方に向けて反射することができる。よって、光透過性基板2の上面に搭載されたLEDダイ1Bの発する青色光と、裏面に搭載されたLEDダイ1Yの発する黄色光の混色性を高めることができる。   Thus, by connecting the reflective film 4 on the back surface side of the light transmissive substrate 2 and the wiring pattern 3, the area of the both covering the back surface of the light transmissive substrate 2 is increased. The blue light emitted downward can be reflected upward by the reflective film 4 and the wiring pattern 3 on the back surface of the light-transmitting substrate 2. Therefore, the color mixing property of the blue light emitted from the LED die 1B mounted on the upper surface of the light transmissive substrate 2 and the yellow light emitted from the LED die 1Y mounted on the rear surface can be enhanced.

これについて、反射膜4を備えない比較例である図21(b)の光透過プレートと、図21(a)の第3の実施形態の光透過プレートを対比してさらに説明する。   This will be further described by comparing the light transmissive plate of FIG. 21B, which is a comparative example not including the reflective film 4, with the light transmissive plate of the third embodiment of FIG. 21A.

LEDダイ1B,1Yからの発光強度は、通常、中心部(発光面に対して略垂直方向)の発光強度が大きく、周辺部の発光強度が小さくなる。このとき、それぞれのLEDダイ1B,1Yから一定以上の発光量が出射される角度範囲の領域を、青色光を発光するLEDダイ1Bについては領域LB、黄色光を発光するLEDダイ1Yについては領域LYと呼ぶ。図21(b)の比較例のように、反射膜4が配置されていない場合、領域LBと領域LYが重なり合う領域LWにおいては、青色光と黄色光が適度に混色した、所望の色度範囲の白色光を得ることができる。一方、その周辺部については、青色光と黄色光のどちらか一方の光の発光強度のほうがより大きくなり、所望の色度範囲の白色光を得にくい。   As for the light emission intensity from the LED dies 1B and 1Y, the light emission intensity in the central portion (substantially perpendicular to the light emitting surface) is usually large and the light emission intensity in the peripheral portion is small. At this time, a region in an angular range where a light emission amount equal to or greater than a certain amount is emitted from each of the LED dies 1B and 1Y, a region LB for the LED die 1B that emits blue light, and a region for the LED die 1Y that emits yellow light. Called LY. When the reflective film 4 is not disposed as in the comparative example of FIG. 21B, in a region LW where the region LB and the region LY overlap, a desired chromaticity range in which blue light and yellow light are appropriately mixed. White light can be obtained. On the other hand, at the peripheral portion, the emission intensity of one of the blue light and the yellow light becomes larger, and it is difficult to obtain white light in a desired chromaticity range.

このとき、第3の実施形態の図21(a)の光透過プレートのように、光透過性基板2の下面に連結された反射膜4と配線パターン3が配置されていると、LEDダイ1Bの下面側から出射された青色光の一部が、光透過性基板2と、反射膜4および配線パターン3との接触面(界面)で反射され、上面方向へと放出される。これにより、青色光の一部の光BLBは、比較例である図21(b)において青色光が出射される領域LWよりも外側の領域であって、かつ、黄色光の出射領域LYに放出される。よって、比較例(図21(b))では青色光が到達しなかった当該範囲に、本実施形態の図21(a)の構成では青色光が到達し、所望の色度範囲の白色光を得ることができる。   At this time, when the reflective film 4 and the wiring pattern 3 connected to the lower surface of the light-transmitting substrate 2 are arranged as in the light-transmitting plate of FIG. 21A of the third embodiment, the LED die 1B. Part of the blue light emitted from the lower surface side of the light is reflected at the contact surface (interface) between the light transmissive substrate 2, the reflective film 4 and the wiring pattern 3, and is emitted toward the upper surface. As a result, part of the blue light BLB is emitted from the region LW where the blue light is emitted in the comparative example of FIG. 21B, and is emitted to the yellow light emission region LY. Is done. Therefore, in the comparative example (FIG. 21B), blue light reaches the range where blue light did not reach, and in the configuration of FIG. 21A of the present embodiment, the blue light reaches white light in a desired chromaticity range. Can be obtained.

また、光透過性基板2として、フレキシブルな基板を用いた場合、光透過性基板2が曲がると、これに追随して光透過性基板2と配線パターン3との接触面も曲がるため、光透過性基板2が曲がった状態のときにも、混色性を高める効果を発揮することができる。   Further, when a flexible substrate is used as the light transmissive substrate 2, if the light transmissive substrate 2 bends, the contact surface between the light transmissive substrate 2 and the wiring pattern 3 also bends accordingly. Even when the conductive substrate 2 is bent, the effect of enhancing the color mixing property can be exhibited.

なお、厳密に言うと光透過性基板2に光が入射するときと出射するきに光の屈折が生じたり、光透過性基板2にて界面反射が生じたりするが、当該現象については図21では省略して記載している。   Strictly speaking, refraction of light occurs when light enters and exits the light-transmitting substrate 2 or interface reflection occurs at the light-transmitting substrate 2, and this phenomenon is illustrated in FIG. Is omitted.

図22(a)は、第3の実施形態の光透過プレートの別の例であり、LEDダイ1BおよびLEDダイ1Yの両者がともに光透過性基板2の上面に配置されている。光透過性基板2のLEDダイ1B、1Yが搭載されている領域の裏面には、それぞれ反射膜4が配置され、反射膜4は連結されている。   FIG. 22A is another example of the light transmission plate of the third embodiment, and both the LED die 1 </ b> B and the LED die 1 </ b> Y are arranged on the upper surface of the light transmission substrate 2. Reflective films 4 are disposed on the back surfaces of the regions where the LED dies 1B and 1Y of the light transmissive substrate 2 are mounted, and the reflective films 4 are connected.

図22(a)の光透過プレートにおいて、LEDダイ1Bの下面側から出射された光BLBおよびLEDダイ1Yの下面側から出射された光BLYの両者の一部は、光透過性基板2と配線パターン3との接触面で反射され、上面方向へと放出される。これにより、本実施形態の図22(a)の構成を比較例の反射膜が配置されていない図22(b)の構成と比較すると、比較例(図22(b))では青色光が到達しなかった範囲に、本実施形態の図22(a)の構成では青色光が到達し、所望の色度範囲の白色光を得ることができることがわかる。   In the light transmissive plate of FIG. 22A, a part of both the light BLB emitted from the lower surface side of the LED die 1B and the light BLY emitted from the lower surface side of the LED die 1Y are part of the light transmissive substrate 2 and the wiring. The light is reflected at the contact surface with the pattern 3 and emitted toward the upper surface. Accordingly, when the configuration of FIG. 22A of this embodiment is compared with the configuration of FIG. 22B in which the reflective film of the comparative example is not disposed, blue light reaches the comparative example (FIG. 22B). It can be seen that blue light reaches the range that has not been reached in the configuration of FIG. 22A of the present embodiment, and white light in a desired chromaticity range can be obtained.

図23は、第3の実施形態の光透過プレートのさらに別の例であり、図21(a)の光透過プレートの構成に、裏面側のLEDダイ1Yの出射光の一部LYを反射する微小な反射膜4を光透過性基板2の上面に配置したものである。これにより、図23のように、LEDダイ1Yの出射した黄色光の一部LYは、光透過性基板2と上面側の反射膜4の接触面で反射され、さらに、光透過性基板2と裏面側の反射膜4の接触面で反射されて、上方に放出される。よって、図21(a)の構成では黄色光が到達しなかった領域LBに、図23の構成では黄色光LYが到達し、所望の色度範囲の白色光が得られるという効果を、図21(a)の効果に加えて達成することができる。   FIG. 23 shows still another example of the light transmissive plate of the third embodiment. The light transmissive plate of FIG. 21A reflects a part LY of the emitted light from the LED die 1Y on the back surface side. A minute reflective film 4 is disposed on the upper surface of the light-transmitting substrate 2. Accordingly, as shown in FIG. 23, a part of the yellow light LY emitted from the LED die 1Y is reflected by the contact surface between the light transmissive substrate 2 and the reflection film 4 on the upper surface side. The light is reflected by the contact surface of the reflective film 4 on the back side and emitted upward. Therefore, the effect that the yellow light LY reaches the region LB in which the yellow light did not reach in the configuration of FIG. 21A and the white light in the desired chromaticity range can be obtained in the configuration of FIG. This can be achieved in addition to the effect of (a).

このように、第3の実施形態の光透過プレートは、所望の色度範囲の白色光が得られる領域を従来よりも広げることができ、混色性を高めることができる。   As described above, the light transmissive plate of the third embodiment can expand a region where white light in a desired chromaticity range can be obtained, and can improve color mixing.

上述してきた第1ないし第3の実施形態の光透過プレートは、透明状態と発光状態とを切り替え可能であるため、例えば、自動車のフロントガラスやリアガラス等に用いることにより、通常の状態では透明であり、必要に応じて、発光させて表示や照明を行うことができる。よって、フロントガラスに表示を行うヘッドアップディスプレイや、緊急時に後続車両にリアガラス上で所定の表示を行う構造を実現できる。   Since the light transmissive plate of the first to third embodiments described above can be switched between a transparent state and a light emitting state, it is transparent in a normal state by using it, for example, on a windshield or rear glass of an automobile. Yes, display and illumination can be performed by emitting light as necessary. Therefore, it is possible to realize a head-up display for displaying on the windshield and a structure for performing predetermined display on the rear glass for the following vehicle in an emergency.

また、これら以外にも、照明機器(点発光/面発光照明、フレキシブル照明、自動車用照明(インテリア、エクステンション)など)、表示機器(シースルーディスプレイ、ウェアラブルディスプレイ、ヘッドアップディスプレイなど)、演出機器(遊技機器(パチンコ)用の演出照明・表示など)等に好適に用いることができる。   In addition to these, lighting equipment (point emission / surface emission lighting, flexible lighting, automotive lighting (interior, extension), etc.), display equipment (see-through display, wearable display, head-up display, etc.), production equipment (game) It can be used suitably for equipment (pachinko) such as lighting and display).

1…LEDダイ、2…光透過性基板、3…配線パターン、4…反射層、5、6…光透過膜、7…レンズ、8…フレネルレンズ、11…切り欠き

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... LED die, 2 ... Light transmissive board | substrate, 3 ... Wiring pattern, 4 ... Reflective layer 5, 6 ... Light transmissive film, 7 ... Lens, 8 ... Fresnel lens, 11 ... Notch

Claims (21)

光透過性基板と、前記光透過性基板の表面または裏面またはその両方に設けられた配線パターンと、前記配線パターンに接合されたLEDダイとを有し、
前記光透過性基板の前記LEDダイが搭載されている領域の裏面側には、反射膜が配置され、
前記配線パターンの少なくとも一部と、前記反射膜の少なくとも一部は、いずれも導電性粒子を焼結した導電材料により構成されていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。
A light transmissive substrate, a wiring pattern provided on the front surface or the back surface of the light transmissive substrate or both, and an LED die bonded to the wiring pattern;
On the back side of the region where the LED die of the light transmissive substrate is mounted, a reflective film is disposed,
At least a part of the wiring pattern and at least a part of the reflective film are both made of a conductive material obtained by sintering conductive particles.
請求項1に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記LEDダイは、前記導電性粒子を焼結した導電材料によって前記配線パターンに接合されていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   The light transmission plate having a light emitting function according to claim 1, wherein the LED die is bonded to the wiring pattern by a conductive material obtained by sintering the conductive particles. Light transmission plate provided. 請求項1または2に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記反射膜は、配線パターンを兼用していることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   3. A light transmissive plate having a light emitting function according to claim 1, wherein the reflective film also serves as a wiring pattern. 請求項3に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記光透過性基板には、裏面側にもLEDダイが搭載され、前記裏面側のLEDダイは、前記反射膜に接合され、前記反射膜は、前記裏面側に搭載されたLEDダイの配線パターンを兼用していることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   4. The light transmissive plate having a light emitting function according to claim 3, wherein an LED die is mounted on the back surface side of the light transmissive substrate, and the LED die on the back surface side is bonded to the reflective film. The light-transmitting plate having a light emitting function, wherein the reflective film also serves as a wiring pattern of an LED die mounted on the back surface side. 請求項1ないし4のいずれか1項に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記光透過性基板の表面は、前記LEDダイを埋め込むように配置された光透過膜で覆われていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   5. The light transmissive plate having a light emitting function according to claim 1, wherein a surface of the light transmissive substrate is covered with a light transmissive film disposed so as to bury the LED die. A light-transmitting plate having a light emitting function. 請求項5に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記LEDダイの位置の前記光透過膜の表面には、レンズが配置されていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   6. The light-transmitting plate having the light-emitting function according to claim 5, wherein a lens is disposed on a surface of the light-transmitting film at the position of the LED die. Transmission plate. 請求項1ないし6のいずれか1項に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記反射膜は、前記LEDダイよりも大きいことを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   The light transmissive plate having the light emitting function according to claim 1, wherein the reflective film is larger than the LED die. 請求項1ないし7のいずれか1項に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記光透過性基板には、前記LEDダイの近傍に、前記光透過性基板の厚さ方向に切り欠きが設けられ、前記切り欠きには、反射材料が充填されていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   The light transmissive plate having the light emitting function according to claim 1, wherein the light transmissive substrate is disposed in the vicinity of the LED die and in a thickness direction of the light transmissive substrate. A light transmissive plate having a light emitting function, wherein a cutout is provided, and the cutout is filled with a reflective material. 請求項8に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記切り欠きは、前記LEDダイを取り囲むように形成され、前記反射膜は、前記切り欠きが取り囲む領域を少なくとも一部を覆うように配置されていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   9. The light transmission plate having a light emitting function according to claim 8, wherein the cutout is formed so as to surround the LED die, and the reflective film covers at least a part of a region surrounded by the cutout. A light transmissive plate having a light emitting function, characterized in that the light transmissive plate is arranged as described above. 請求項1ないし9のいずれか1項に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記LEDダイは2つ以上搭載されており、かつ、前記2つ以上のLEDダイは、発光波長が異なる2種類以上のLEDダイを含んでいることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   The light transmission plate having the light emitting function according to claim 1, wherein two or more LED dies are mounted, and the two or more LED dies have an emission wavelength. A light transmissive plate having a light emitting function, comprising two or more types of LED dies different from each other. 光透過性基板と、前記光透過性基板の表面に設けられた配線パターンと、前記配線パターンに接合されたLEDダイとを有し、
前記配線パターンの少なくとも一部は、導電性粒子を焼結した導電材料により構成され、
前記光透過性基板には、前記LEDダイの近傍に厚さ方向に切り欠きが設けられ、前記切り欠きには、反射材料が充填されていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。
A light transmissive substrate, a wiring pattern provided on the surface of the light transmissive substrate, and an LED die bonded to the wiring pattern;
At least a part of the wiring pattern is made of a conductive material obtained by sintering conductive particles,
A light transmissive plate having a light emitting function, wherein the light transmissive substrate is provided with a cutout in a thickness direction in the vicinity of the LED die, and the cutout is filled with a reflective material. .
請求項11に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記LEDダイは、前記導電性粒子を焼結した導電材料によって前記配線パターンに接合されていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   The light transmission plate having a light emitting function according to claim 11, wherein the LED die is bonded to the wiring pattern by a conductive material obtained by sintering the conductive particles. Light transmission plate provided. 請求項11または12に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記反射材料は、導電性粒子を焼結した導電材料であることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   13. The light transmissive plate having a light emitting function according to claim 11, wherein the reflective material is a conductive material obtained by sintering conductive particles. 請求項13に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記反射材料は、前記配線パターンを構成する導電性粒子を焼結した導電材料と同じものであることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   14. A light transmissive plate having a light emitting function according to claim 13, wherein the reflective material is the same as a conductive material obtained by sintering conductive particles constituting the wiring pattern. Light transmissive plate with 請求項11ないし14のいずれか1項に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記切り欠きは、前記LEDダイを取り囲むように設けられ、かつ、前記基板の表面に対して傾斜していることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   The light transmission plate having the light emitting function according to claim 11, wherein the notch is provided so as to surround the LED die and is inclined with respect to a surface of the substrate. A light-transmitting plate having a light emitting function characterized by 請求項11ないし15のいずれか1項に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記切り欠きは、前記基板の厚み方向の途中まで設けられていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   The light transmission plate having the light emitting function according to any one of claims 11 to 15, wherein the notch is provided partway along a thickness direction of the substrate. Light transmission plate provided. 請求項11ないし16のいずれか1項に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記光透過性基板の表面は、前記LEDダイを埋め込むように配置された光透過膜で覆われ、
前記光透過膜には、前記LEDダイの近傍に厚さ方向に第2の切り欠きが設けられ、前記第2の切り欠きには、反射材料が充填されていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。
17. The light transmissive plate having the light emitting function according to claim 11, wherein a surface of the light transmissive substrate is covered with a light transmissive film disposed so as to embed the LED die. ,
The light transmissive film is provided with a second notch in the thickness direction in the vicinity of the LED die, and the second notch is filled with a reflective material. Light transmission plate provided.
請求項11ないし17のいずれか1項に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記光透過性基板の前記LEDダイが搭載されている領域の裏面側には、反射膜が配置され、
前記反射膜は、導電性粒子を焼結した導電材料により構成されていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。
18. A light transmissive plate having a light emitting function according to claim 11, wherein a reflective film is disposed on a back surface side of a region of the light transmissive substrate on which the LED die is mounted. And
The light-transmitting plate having a light emitting function, wherein the reflective film is made of a conductive material obtained by sintering conductive particles.
請求項1ないし18のいずれか1項に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記LEDダイは、電磁波焼結により前記配線パターンに接合されていることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   The light transmission plate having the light emitting function according to any one of claims 1 to 18, wherein the LED die is bonded to the wiring pattern by electromagnetic wave sintering. Light transmission plate provided. 請求項1ないし19のいずれか1項に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記配線パターンは、幅に対する厚みの比率(=厚み/幅)が1/100以上であることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   20. The light transmission plate having the light emitting function according to claim 1, wherein the wiring pattern has a thickness ratio (= thickness / width) of 1/100 or more. A light-transmitting plate with a characteristic light-emitting function. 請求項1ないし20のいずれか1項に記載の発光機能を備えた光透過プレートであって、前記配線パターンは、前記光透過性基板を構成する前記複数層の表面に直接固着していることを特徴とする発光機能を備えた光透過プレート。   21. A light transmissive plate having a light emitting function according to claim 1, wherein the wiring pattern is directly fixed to a surface of the plurality of layers constituting the light transmissive substrate. A light transmission plate with a light emitting function characterized by
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