JP2019065101A - Resin material for plating, plated resin component, method for producing resin material for plating, and method for producing plated resin component - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、めっき用樹脂材、めっき樹脂部材、めっき用樹脂材の製造方法、及びめっき樹脂部材の製造方法に関する。 The present disclosure relates to a plating resin material, a plating resin member, a method of manufacturing the plating resin material, and a method of manufacturing the plating resin member.
めっき用樹脂の材料は、ABS樹脂を始め、ABS/PC樹脂、PP樹脂等がある。ところが、これらの材料では、耐熱性や強度に限界がある。一方、ポリアミド(ナイロン)も使用されているが、寸法安定性・物性面から水回り環境では使いにくい。
エンジニアリングプラスチックであるSPS樹脂は、めっきに適したグレードが存在している。この樹脂は、耐熱性がABS樹脂やPP樹脂に比べ高い。ところが、衝撃強度が十分でなく、強度が必要な部材には使いにくい。
そこで、スーパーエンジニアリングプラスチック(以下「スーパーエンプラ」という)を用いることが考えられている(例えば、特許文献1参照)。スーパーエンプラは、耐熱性、強度ともに高い。そして、スーパーエンプラの使用用途を拡大するために、スーパーエンプラへのめっきが望まれている。
Materials for the plating resin include ABS resin, ABS / PC resin, PP resin and the like. However, these materials have limitations in heat resistance and strength. On the other hand, polyamide (nylon) is also used, but it is difficult to use in a water environment because of dimensional stability and physical properties.
The SPS resin which is an engineering plastic has a grade suitable for plating. This resin is higher in heat resistance than ABS resin and PP resin. However, impact strength is not sufficient, and it is difficult to use for a member that requires strength.
Therefore, it is considered to use super engineering plastic (hereinafter referred to as "super engineering plastic") (see, for example, Patent Document 1). Super engineering plastic is high in both heat resistance and strength. And in order to expand the use application of super engineering plastic, plating to super engineering plastic is desired.
しかし、スーパーエンプラの場合には、めっき層の密着性は必ずしも十分でなかった。そこで、めっき層の密着性が高いスーパーエンプラのめっき用樹脂材が切望されていた。
特に、低コストで成形性が良く、汎用性の高いPPS樹脂(ポリフェニレンサルファイド樹脂)を用いためっき用樹脂材は、期待されている。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、PPS樹脂を用いためっき用樹脂材、及びこれを用いためっき樹脂部材を提供することを目的とするものである。本発明は、以下の形態として実現することが可能である。
However, in the case of super engineering plastic, the adhesion of the plating layer is not always sufficient. Then, the resin material for plating of super engineering plastic with high adhesiveness of a plating layer was desired.
In particular, a resin material for plating using a PPS resin (polyphenylene sulfide resin) which is low in cost, good in moldability and high in versatility is expected.
This invention is made in view of the said situation, and it aims at providing the resin material for plating using PPS resin, and the plating resin member using the same. The present invention can be realized as the following modes.
〔1〕
ポリフェニレンサルファイド樹脂及び無機フィラーを含有するめっき用樹脂材であって、
めっきされる表面は、アンカー孔を有しており、
前記表面における前記アンカー孔の面積割合が、前記表面を100%とした場合に、7〜25%であるめっき用樹脂材。
[1]
It is a resin material for plating containing polyphenylene sulfide resin and an inorganic filler,
The surface to be plated has anchor holes and
The resin material for plating whose area ratio of the said anchor hole in the said surface is 7 to 25% when the said surface is made into 100%.
〔2〕
〔1〕に記載のめっき用樹脂材の前記表面にめっき層が形成されためっき樹脂部材。
[2]
The plating resin member by which the plating layer was formed in the said surface of the resin material for plating as described in [1].
〔3〕
ポリフェニレンサルファイド樹脂及び無機フィラーを含有する樹脂材の表面から、前記無機フィラーを除去することで、アンカー孔を形成するめっき用樹脂材の製造方法。
[3]
The manufacturing method of the resin material for plating which forms an anchor hole by removing the said inorganic filler from the surface of the resin material containing polyphenylene sulfide resin and an inorganic filler.
〔4〕
ポリフェニレンサルファイド樹脂及び無機フィラーを含有する樹脂材の表面部を削った後に、露出した面に存在する前記無機フィラーを除去することでアンカー孔を形成するめっき用樹脂材の製造方法。
[4]
A method for producing a resin material for plating, wherein anchor holes are formed by removing the inorganic filler present on the exposed surface after shaving a surface portion of a resin material containing a polyphenylene sulfide resin and an inorganic filler.
〔5〕
ポリフェニレンサルファイド樹脂及び無機フィラーを含有する樹脂材の表面から、前記無機フィラーを除去することで、アンカー孔を形成してめっき用樹脂材とするめっき用樹脂材形成工程と、
前記めっき用樹脂材にめっき層を形成するめっき工程と、を備えるめっき樹脂部材の製造方法。
[5]
A step of forming a resin material for plating, wherein anchor holes are formed by removing the inorganic filler from the surface of a resin material containing a polyphenylene sulfide resin and an inorganic filler;
And a plating step of forming a plating layer on the resin material for plating.
〔6〕
ポリフェニレンサルファイド樹脂及び無機フィラーを含有する樹脂材の表面部を削った後に、露出した面に存在する前記無機フィラーを除去することでアンカー孔を形成してめっき用樹脂材とするめっき用樹脂材形成工程と、
前記めっき用樹脂材にめっき層を形成するめっき工程と、を備えるめっき樹脂部材の製造方法。
[6]
After shaving a surface portion of a resin material containing a polyphenylene sulfide resin and an inorganic filler, an anchor hole is formed by removing the inorganic filler present on the exposed surface to form a resin material for plating as a resin material for plating Process,
And a plating step of forming a plating layer on the resin material for plating.
〔1〕のめっき用樹脂材を用いると、めっき層の密着性が良好となる。
〔2〕のめっき樹脂部材では、めっき層の密着性が高い。
〔3〕のめっき用樹脂材の製造方法によれば、めっき層の密着性が良好なめっき用樹脂材を製造することができる。
〔4〕のめっき用樹脂材の製造方法によれば、樹脂材の表面部を削った後に、露出した面に存在する無機フィラーを除去しているため、アンカー孔を形成しやすく、めっき層の密着性が非常に良好なめっき用樹脂材を製造することができる。
〔5〕のめっき樹脂部材の製造方法によれば、めっき層の密着性が高いめっき樹脂部材を製造することができる。
〔6〕のめっき樹脂部材の製造方法によれば、樹脂材の表面部を削った後に、露出した面に存在する無機フィラーを除去しているため、アンカー孔を形成しやすく、めっき層の密着性が極めて高いめっき樹脂部材を製造することができる。
When the resin material for plating of [1] is used, the adhesion of the plating layer becomes good.
In the plated resin member of [2], the adhesion of the plated layer is high.
According to the method for producing a resin material for plating of [3], it is possible to produce a resin material for plating in which the adhesion of the plating layer is good.
According to the method for producing a resin material for plating of [4], since the inorganic filler present on the exposed surface is removed after the surface portion of the resin material is scraped, anchor holes can be easily formed. It is possible to manufacture a plating resin material with very good adhesion.
According to the method for producing a plated resin member of [5], it is possible to produce a plated resin member with high adhesion of the plated layer.
According to the method for producing a plated resin member of [6], after scraping the surface portion of the resin material, the inorganic filler present on the exposed surface is removed, so that anchor holes can be easily formed, and adhesion of the plating layer It is possible to manufacture a plated resin member having extremely high properties.
本発明について、本発明による典型的な実施形態の非限定的な例を挙げ、言及された複数の図面を参照しつつ以下の詳細な記述にて更に説明する。
以下、本発明の実施形態を詳しく説明する。なお、本明細書において、数値範囲について「〜」を用いた記載では、特に断りがない限り、下限値及び上限値を含むものとする。例えば、「10〜20」という記載では、下限値である「10」、上限値である「20」のいずれも含むものとする。すなわち、「10〜20」は、「10以上20以下」と同じ意味である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In the present specification, in the description using “to” for the numerical value range, the lower limit value and the upper limit value are included unless otherwise noted. For example, in the description of "10 to 20", both of the lower limit "10" and the upper limit "20" are included. That is, "10 to 20" has the same meaning as "10 to 20".
1.めっき用樹脂材
本発明のめっき用樹脂材1は、図1に示されるように、ポリフェニレンサルファイド樹脂3及び無機フィラー5を含有する。そして、めっきされる表面は、アンカー孔7を有している。めっきされる表面におけるアンカー孔7の面積割合は、めっきされる表面全体を100%とした場合に、7〜25%である。
1. Resin Material for Plating The resin material 1 for plating of the present invention contains a polyphenylene sulfide resin 3 and an inorganic filler 5 as shown in FIG. And, the surface to be plated has anchor holes 7. The area ratio of the anchor holes 7 in the surface to be plated is 7 to 25% when the entire surface to be plated is 100%.
(1)ポリフェニレンサルファイド樹脂
本発明で用いられるポリフェニレンサルファイド樹脂3は、下記構造式(I)で示される繰り返し単位を有する重合体である。ポリフェニレンサルファイド樹脂3は、耐熱性の観点からは上記構造式(I)で示される繰り返し単位を好ましくは70モル%以上、より好ましくは90モル%以上含むことが好ましい。ポリフェニレンサルファイド樹脂3は、ホモポリマーであってもコポリマーであってもよい。
ポリフェニレンサルファイド樹脂3は、例えば、特公昭45−3368号公報や特公昭63−33775号公報に開示されている方法で得ることができる。本発明に使用するポリフェニレンサルファイド樹脂の溶融粘度、重量平均分子量は、特に限定されない。重量平均分子量40000〜150000の範囲のポリフェニレンサルファイド樹脂3が好適に用いられる。
(1) Polyphenylene Sulfide Resin The polyphenylene sulfide resin 3 used in the present invention is a polymer having a repeating unit represented by the following structural formula (I). The polyphenylene sulfide resin 3 preferably contains 70 mol% or more, more preferably 90 mol% or more of the repeating unit represented by the structural formula (I) from the viewpoint of heat resistance. The polyphenylene sulfide resin 3 may be a homopolymer or a copolymer.
The polyphenylene sulfide resin 3 can be obtained, for example, by the method disclosed in Japanese Patent Publication No. 45-3368 and Japanese Patent Publication No. 63-33775. The melt viscosity and weight average molecular weight of the polyphenylene sulfide resin used in the present invention are not particularly limited. Polyphenylene sulfide resin 3 having a weight average molecular weight of 40,000 to 150,000 is suitably used.
コポリマーの場合の他の繰り返し単位としては、特に限定されないが、置換又は非置換のベンゼン環にS原子が結合した構造を有する繰り返し単位が好ましい。例えば、特開2014−065841号公報に記載されている下記構造式で示される繰り返し単位が例示される。 Although it does not specifically limit as another repeating unit in the case of a copolymer, The repeating unit which has a structure which S atom couple | bonded with the substituted or unsubstituted benzene ring is preferable. For example, the repeating unit shown by following Structural formula described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-065841 is illustrated.
(2)無機フィラー(無機充填材)
無機フィラー5は、特に限定されない。無機フィラー5としては、酸溶液等の液体に溶解する物質が好ましい。無機フィラーとしては、例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウムからなる群より選ばれる1種以上であることが好ましい。コスト的に有利で、液体に溶けやすいという観点から、炭酸カルシウムが特に好ましい。
また、めっき用樹脂材1中の無機フィラー5の含有量は、特に限定されない。めっき用樹脂材1の全体を100質量部としたときに、無機フィラー5の含有量は、好ましくは1〜60質量部であり、より好ましくは5〜60質量部であり、特に好ましくは10〜60質量部である。この範囲内とすると、流動性がよく射出成形しやすくなる。
なお、無機フィラー5の形状は、特に限定されず、不定形、燐片状、球状のいずれの形態であってもよい。
(2) Inorganic filler (inorganic filler)
The inorganic filler 5 is not particularly limited. As the inorganic filler 5, a substance which is soluble in a liquid such as an acid solution is preferable. The inorganic filler is preferably, for example, one or more selected from the group consisting of calcium carbonate, magnesium carbonate and magnesium hydroxide. Calcium carbonate is particularly preferred in terms of cost advantages and solubility in liquid.
Further, the content of the inorganic filler 5 in the plating resin material 1 is not particularly limited. The content of the inorganic filler 5 is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 5 to 60 parts by mass, particularly preferably 10 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the entire resin material 1 for plating. 60 parts by mass. Within this range, the flowability is good and injection molding is easy.
In addition, the shape of the inorganic filler 5 is not specifically limited, Any form of an indeterminate form, scaly shape, and spherical shape may be sufficient.
(3)他の成分
本発明のめっき用樹脂材1には、ポリフェニレンサルファイド樹脂3以外の樹脂が含まれていてもよい。他の樹脂は、特に限定されないが、例えば、ナイロン6(PA6)、ナイロン66(PA66)、ナイロン610(PA610)、ナイロン11(PA11)、ナイロン12(PA12)、芳香族系ナイロンなどのポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシルジメチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、カルボキシル基やカルボン酸エステル基や酸無水物基やエポキシ基などの官能基を有するオレフィン系コポリマー、ポリオレフィン系エラストマー、ポリエーテルエステルエラストマー、ポリエーテルアミドエラストマー、ポリアミドイミド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリアリルサルフォン樹脂、ポリケトン樹脂、ポリアリレート樹脂、液晶ポリマー、ポリエーテルケトン樹脂、ポリチオエーテルケトン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、四フッ化ポリエチレン樹脂、エポキシ基含有ポリオレフィン共重合体等が挙げられる。
(3) Other Components The resin material 1 for plating of the present invention may contain a resin other than the polyphenylene sulfide resin 3. Other resins are not particularly limited, and examples thereof include polyamides such as nylon 6 (PA 6), nylon 66 (PA 66), nylon 610 (PA 610), nylon 11 (PA 11), nylon 12 (PA 12) and aromatic nylon. Polyester resin such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexyl dimethylene terephthalate, polynaphthalene terephthalate, polyethylene, polypropylene, polytetrafluoroethylene, carboxyl group, carboxylic ester group, acid anhydride group, epoxy group, etc. Containing olefin copolymers, polyolefin elastomers, polyether ester elastomers, polyether amide elastomers, polyamide imides, polyacetals, polyimides, polyesters Terimide, polyether sulfone, modified polyphenylene ether resin, polysulfone resin, polyaryl sulfone resin, polyketone resin, polyarylate resin, liquid crystal polymer, polyether ketone resin, polythioether ketone resin, polyether ether ketone resin, polyamide imide resin, Examples thereof include polyethylene tetrafluoride resins and epoxy group-containing polyolefin copolymers.
本発明のめっき用樹脂材1には、樹脂及び無機フィラー5以外の他の成分を添加することができる。他の成分としては、特に限定されない。例えば酸化防止剤や耐熱安定剤(ヒンダードフェノール系、ヒドロキノン系、ホスファイト系およびこれらの置換体等)、耐候剤(レゾルシノール系、サリシレート系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダードアミン系等)、離型剤及び滑剤(モンタン酸及びその金属塩、そのエステル、そのハーフエステル、ステアリルアルコール、ステアラミド、各種ビスアミド、ビス尿素及びポリエチレンワックス等)、顔料(硫化カドミウム、フタロシアニン、着色用カーボンブラック等)、染料(ニグロシン等)、結晶核剤(タルク、シリカ、カオリン、クレー等)、可塑剤(p−オキシ安息香酸オクチル、N−ブチルベンゼンスルホンアミド等)、帯電防止剤(アルキルサルフェート型アニオン系帯電防止剤、4級アンモニウム塩型カチオン系帯電防止剤、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレートのような非イオン系帯電防止剤、ベタイン系両性帯電防止剤等)、難燃剤(例えば、赤燐、燐酸エステル、メラミンシアヌレート、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の水酸化物、ポリリン酸アンモニウム、臭素化ポリスチレン、臭素化ポリフェニレンエーテル、臭素化ポリカーボネート、臭素化エポキシ樹脂あるいはこれらの臭素系難燃剤と三酸化アンチモンとの組み合わせ等)、熱安定剤、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸リチウムなどの滑剤、紫外線防止剤、着色剤、難燃剤および発泡剤などの通常の添加剤を添加することができる。 Components other than resin and the inorganic filler 5 can be added to the resin material 1 for plating of this invention. The other components are not particularly limited. For example, antioxidants, heat-resistant stabilizers (hindered phenols, hydroquinones, phosphites, and their substitutes), weathering agents (resorcinol, salicylates, benzotriazoles, benzophenones, hindered amines, etc.), Additives and lubricants (Montanic acid and its metal salts, their esters, their half esters, stearyl alcohol, stearamide, various bisamides, bisureas, polyethylene waxes, etc.), pigments (cadmium sulfide, phthalocyanines, carbon blacks for coloring, etc.), dyes (Nigrosin etc.), crystal nucleating agent (talc, silica, kaolin, clay etc.), plasticizers (octyl p-oxybenzoate, N-butylbenzenesulfonamide etc.), antistatic agent (alkyl sulfate type anionic antistatic agent) , Quaternary ammonium salts Cationic antistatic agent, nonionic antistatic agent such as polyoxyethylene sorbitan monostearate, betaine amphoteric antistatic agent, etc., flame retardant (eg, red phosphorus, phosphoric ester, melamine cyanurate, magnesium hydroxide) , Hydroxides such as aluminum hydroxide, ammonium polyphosphate, brominated polystyrene, brominated polyphenylene ether, brominated polycarbonate, brominated epoxy resin, or combinations of these brominated flame retardants with antimony trioxide, etc.), heat stable Conventional additives such as agents, lubricants such as aluminum stearate, lithium stearate, UV inhibitors, colorants, flame retardants and blowing agents can be added.
本発明のめっき用樹脂材1に含まれる、ポリフェニレンサルファイド樹脂3及び無機フィラー5以外の他の成分の量は、めっき用樹脂材1の全体を100質量部としたときに、通常10質量部以下であり、好ましくは、5質量部以下であり、より好ましくは3質量部以下である。この範囲内とすると、めっき用樹脂材1の強度等の物性を十分に確保することができる。 The amount of components other than the polyphenylene sulfide resin 3 and the inorganic filler 5 contained in the resin material 1 for plating of the present invention is usually 10 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the entire resin material 1 for plating Preferably it is 5 mass parts or less, More preferably, it is 3 mass parts or less. Within this range, physical properties such as strength of the plating resin material 1 can be sufficiently secured.
(4)アンカー孔
めっき用樹脂材1のめっきされる表面は、アンカー孔7を有している。アンカー孔7の平面形状は、特に限定されない。めっきされる表面におけるアンカー孔7の面積割合は、めっきされる表面全体を100%とした場合に、7〜25%であり、好ましくは9〜25%であり、より好ましくは11〜25%である。この範囲内とすると、めっき用樹脂材1の強度等の物性を確保した上で、アンカー効果を十分に発揮できる。
ここで、アンカー孔7の面積割合の算出方法について説明する。
<1>めっき用樹脂材1を用意する。
<2>SEM(2次電子像、500倍)で画像を撮影する(図4の上図参照)。
<3>画像を下記ソフトを使用して、2値化処理する(図4の下図参照)。この処理によりアンカー孔7が黒となり、アンカー孔7が形成されていない場所が白となる。そして、下記式によりアンカー孔7の面積割合を求める。なお、下記式において樹脂面積とは、アンカー孔7が形成されていない場所の面積を意味する。
アンカー孔の面積割合(%)
={アンカー孔面積(黒)/(アンカー孔面積(黒)+樹脂面積(白))}×100
・2値化処理ソフト:azpt136→_Azpainter.exe(アプリケーション)を使用する。
・面積の定量化ソフト:i2a100→I2A.exe(アプリケーション)を使用する。
(4) Anchor Hole The surface of the plating resin material 1 to be plated has an anchor hole 7. The planar shape of the anchor hole 7 is not particularly limited. The area ratio of the anchor holes 7 in the surface to be plated is 7 to 25%, preferably 9 to 25%, more preferably 11 to 25%, based on 100% of the entire surface to be plated. is there. Within this range, after securing physical properties such as the strength and the like of the plating resin material 1, the anchor effect can be sufficiently exhibited.
Here, a method of calculating the area ratio of the anchor hole 7 will be described.
<1> A resin material 1 for plating is prepared.
<2> An image is taken with a SEM (secondary electron image, 500 ×) (see the upper diagram in FIG. 4).
The <3> image is binarized using the following software (see the lower diagram in FIG. 4). By this processing, the anchor holes 7 become black, and the places where the anchor holes 7 are not formed become white. And the area ratio of the anchor hole 7 is calculated | required by the following formula. In the following formula, the resin area means the area of the place where the anchor hole 7 is not formed.
Anchor hole area ratio (%)
= {Anchor hole area (black) / (Anchor hole area (black) + resin area (white))} × 100
・ Binarization processing software: azpt136 → _Azpainter. Use exe (application).
Area quantification software: i2a100 → I2A. Use exe (application).
アンカー孔7の深さは、特に限定されない。アンカー孔7の深さは、最も深いアンカー孔7で、めっき用樹脂材1の表面から5〜100μmであることが好ましく、10〜50μmであることがより好ましく、10〜45μmであることが更に好ましい。この範囲内とすると、めっき用樹脂材1の強度等の物性を確保した上で、アンカー効果を十分に発揮できる。アンカー孔の深さは、めっき用樹脂材1の断面を顕微鏡(光学顕微鏡、電子顕微鏡)によって観察することで測定できる。 The depth of the anchor holes 7 is not particularly limited. The depth of the anchor hole 7 is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 50 μm, and still more preferably 10 to 45 μm from the surface of the resin material 1 for plating at the deepest anchor hole 7. preferable. Within this range, after securing physical properties such as the strength and the like of the plating resin material 1, the anchor effect can be sufficiently exhibited. The depth of the anchor holes can be measured by observing the cross section of the plating resin material 1 with a microscope (optical microscope, electron microscope).
2.めっき樹脂部材
めっき樹脂部材10では、図2に示されるように、めっき用樹脂材1の表面にめっき層11が形成されている。めっき層11は、単一の金属皮膜で形成されていてもよく、複数の金属皮膜からなる多層皮膜で形成されていてもよい。金属皮膜としては、銅めっき皮膜、ニッケルめっき皮膜、クロムめっき皮膜が例示される。加飾性、強度、寿命等の観点から、最上層をクロムめっき皮膜とする多層皮膜で形成することが好ましい。このような多層皮膜のめっき層としては、例えば銅めっき皮膜、ニッケルめっき皮膜及びクロムめっき皮膜を順次形成したものを好適に例示できる。
また、めっき層11の厚みは、特に限定されない。厚みは、強度、寿命等の観点から、好ましくは5〜100μmであり、より好ましくは10〜60μmであり、更に好ましくは10〜30μmである。
2. Plating Resin Member In the plating resin member 10, as shown in FIG. 2, the plating layer 11 is formed on the surface of the resin member 1 for plating. The plating layer 11 may be formed of a single metal film, or may be formed of a multilayer film formed of a plurality of metal films. Examples of the metal film include a copper plating film, a nickel plating film, and a chromium plating film. It is preferable to form it by the multilayer film which makes an uppermost layer a chromium plating film from a viewpoint of decoration property, intensity | strength, a lifetime, etc. As a plating layer of such a multilayer film, what formed in order a copper plating film, a nickel plating film, and a chromium plating film can be illustrated suitably, for example.
Further, the thickness of the plating layer 11 is not particularly limited. The thickness is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 60 μm, and still more preferably 10 to 30 μm from the viewpoint of strength, life and the like.
3.めっき用樹脂材の製造方法
(1)第1のめっき用樹脂材の製造方法
第1のめっき用樹脂材1の製造方法を図3(1)(2)を参照しつつ説明する。
第1のめっき用樹脂材1の製造方法では、ポリフェニレンサルファイド樹脂3及び無機フィラー5を含有する樹脂材20の表面から、無機フィラー5を除去することで、アンカー孔7を形成する。すなわち、樹脂材3の表面から、無機フィラー5を除去することで、表面を粗化する。無機フィラー5を除去することで、アンカー孔7を形成する手段は、特に限定されない。手段として、物理的処理、化学的処理のいずれも採用することができる。また、物理的処理、化学的処理における条件も特に限定されない。
この製造方法では、図3(1)の工程において、樹脂材20の表面を脱脂、洗浄することが好ましい。脱脂には通常、界面活性剤が好適に用いられる。
この第1のめっき用樹脂材1の製造方法は、図3に模式的に例示された工程を備える。アンカー孔7を形成する手段は、化学的処理が好ましく、無機フィラー5を溶解可能なエッチング剤が用いられることが好ましい。エッチング剤としては、例えば、無機酸、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、キシレン等が好適に用いられる。無機酸として、硝酸、硫酸、塩酸、重クロム酸、重クロム酸/硫酸混液、クロム酸、及びクロム酸/硫酸混液からなる群より選択される1種以上が用いらることが好ましい。
3. Method of Manufacturing Resin Material for Plating (1) Method of Manufacturing First Resin Material for Plating A method of manufacturing the first resin material for plating 1 will be described with reference to FIGS. 3 (1) and 3 (2).
In the manufacturing method of the first resin material 1 for plating, the anchor holes 7 are formed by removing the inorganic filler 5 from the surface of the resin material 20 containing the polyphenylene sulfide resin 3 and the inorganic filler 5. That is, the surface is roughened by removing the inorganic filler 5 from the surface of the resin material 3. The means for forming the anchor holes 7 by removing the inorganic filler 5 is not particularly limited. As a means, either physical treatment or chemical treatment can be adopted. In addition, conditions in physical treatment and chemical treatment are not particularly limited.
In this manufacturing method, it is preferable to degrease and wash the surface of the resin material 20 in the process of FIG. 3 (1). Usually, a surfactant is suitably used for degreasing.
The method of manufacturing the first plating resin material 1 includes the steps schematically illustrated in FIG. 3. The means for forming the anchor holes 7 is preferably a chemical treatment, and it is preferable that an etchant capable of dissolving the inorganic filler 5 be used. As an etching agent, an inorganic acid, trichloroethane, trichloroethylene, xylene etc. are used suitably, for example. As the inorganic acid, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, dichromic acid, a mixed solution of dichromic acid / sulfuric acid, chromic acid, and a mixed solution of chromic acid / sulfuric acid.
(2)第2のめっき用樹脂材の製造方法
第2のめっき用樹脂材1の製造方法では、ポリフェニレンサルファイド樹脂3及び無機フィラー5を含有する樹脂材20の表面部(スキン層)を削った後に、露出した面に存在する無機フィラー5を除去することでアンカー孔7を形成する。
この第2のめっき用樹脂材1の製造方法では、ポリフェニレンサルファイド樹脂3及び無機フィラー5を含有する樹脂材20の表面部を削ることが特徴である。表面部を削った後は、第1のめっき用樹脂材1の製造方法と同様の工程を有する。この同様の工程についての説明は、上記3.(1)の説明をそのまま適用できる。
ここでは、樹脂材20の表面部を削る工程について説明する。ポリフェニレンサルファイド樹脂3及び無機フィラー5を含有する樹脂材の表面部は、耐薬品性が高い。すなわち、樹脂材の表面部は、その内側よりもポリフェニレンサルファイド樹脂3の割合が高くなっている。従って、射出成形等で成形した樹脂材20(成形品)に、そのまま物理的処理、化学的処理を適用しても、無機フィラー5が除去されて形成するアンカー孔7が少なくなるおそれがある。第2のめっき用樹脂材1の製造方法では、耐薬品性が高い表面部を削ってから、上述の物理的処理、化学的処理を適用する。無機フィラー5を十分に露出した状態で、上述の物理的処理、化学的処理を適用するから、アンカー機能を備えたアンカー孔7が十分に形成される。
(2) Second Method of Manufacturing Resin Material for Plating In the second method of manufacturing resin material 1 for plating, the surface portion (skin layer) of resin material 20 containing polyphenylene sulfide resin 3 and inorganic filler 5 was scraped. Later, the anchor holes 7 are formed by removing the inorganic filler 5 present on the exposed surface.
The second method for manufacturing the plating resin material 1 is characterized in that the surface portion of the resin material 20 containing the polyphenylene sulfide resin 3 and the inorganic filler 5 is scraped. After the surface portion is scraped, the same steps as the method of manufacturing the first resin material for plating 1 are included. The description of this same process is the same as that described in 3. above. The description of (1) can be applied as it is.
Here, the process of shaving the surface portion of the resin material 20 will be described. The surface portion of the resin material containing the polyphenylene sulfide resin 3 and the inorganic filler 5 has high chemical resistance. That is, in the surface portion of the resin material, the ratio of the polyphenylene sulfide resin 3 is higher than that of the inner side. Therefore, even if physical treatment or chemical treatment is applied as it is to the resin material 20 (molded article) molded by injection molding or the like, the inorganic filler 5 may be removed to reduce the number of anchor holes 7 formed. In the second method for manufacturing the plating resin material 1, after the surface portion having high chemical resistance is scraped, the above-mentioned physical treatment and chemical treatment are applied. Since the above-mentioned physical treatment and chemical treatment are applied with the inorganic filler 5 sufficiently exposed, the anchor holes 7 with an anchor function are sufficiently formed.
表面部を削る方法は、特に限定されない。表面部を削る方法としては、研磨(研削)、ドライブラスト、液体ホーニング、ウエットブラスト等の公知の方法を採用できる。また、表面部を削る方法として、これらの方法を組み合わせてもよい。密着強度をコントロールできるという観点から、ウェットブラストが好適である。ウェットブラストによれば、マイルドに削ることができる。なお、ウェットブラストに用いる研磨材は特に限定されず、好ましくはアルミナ、ジルコニア、ガラス等を用いることができる。また、ウェットブラストの際の圧力も特に限定されず、好ましくは0.1〜0.4Mpaとすることができる。ウェットブラストの際の処理時間も特に限定されず、好ましくは20〜80秒とすることができる。
表面部を削る工程における、削る厚みについては、特に限定されない。削る厚みは、好ましくは0.5〜30.0μmであり、より好ましくは0.5〜20.0μmであり、更に好ましくは0.5〜15.0μmである。この範囲内であると、ポリフェニレンサルファイド樹脂3の含有割合が多い部分を十分に除去でき、しかも、削り過ぎによるめっき用樹脂材1の強度低下も少ない。
The method of shaving the surface portion is not particularly limited. As a method of scraping the surface portion, known methods such as polishing (grinding), dry blast, liquid honing, wet blasting and the like can be adopted. Moreover, you may combine these methods as a method of shaving a surface part. Wet blasting is preferable from the viewpoint of controlling the adhesion strength. According to wet blasting, it can be shaved mildly. In addition, the abrasives used for wet blasting are not specifically limited, Preferably an alumina, a zirconia, glass etc. can be used. Moreover, the pressure in the case of wet blasting is not specifically limited, either, Preferably it can be 0.1-0.4 Mpa. The treatment time in wet blasting is not particularly limited, and can be preferably 20 to 80 seconds.
The thickness to be cut in the step of cutting the surface portion is not particularly limited. The thickness to be removed is preferably 0.5 to 30.0 μm, more preferably 0.5 to 20.0 μm, and still more preferably 0.5 to 15.0 μm. Within this range, a portion having a high content of polyphenylene sulfide resin 3 can be sufficiently removed, and the strength reduction of resin material 1 for plating due to excessive shaving is also small.
なお、上述の第1及び第2のめっき用樹脂材の製造方法では、ポリフェニレンサルファイド樹脂3及び無機フィラー5については、上述の1.(1)(2)の説明をそのまま適用することができる。 In addition, in the manufacturing method of the above-mentioned 1st and 2nd resin material for plating, about polyphenylene sulfide resin 3 and the inorganic filler 5, above-mentioned 1.. (1) The description of (2) can be applied as it is.
4.めっき樹脂部材の製造方法
(1)第1のめっき樹脂部材10の製造方法
第1のめっき樹脂部材10の製造方法は、ポリフェニレンサルファイド樹脂3及び無機フィラー5を含有する樹脂材20の表面から、無機フィラー5を除去することで、アンカー孔7を形成してめっき用樹脂材1とするめっき用樹脂材形成工程と、めっき用樹脂材1にめっき層11を形成するめっき工程、を備える。
(1.1)めっき用樹脂材形成工程
めっき用樹脂材形成工程は、上述の「3.(1) 第1のめっき用樹脂材の製造方法」と同じ手法を採用することができる。すなわち、めっき用樹脂材形成工程は、上述の3.(1)の記載内容をそのまま適用できるため、ここでは詳細な説明は省略する。
4. Method of Manufacturing Plating Resin Member (1) Method of Manufacturing First Plating Resin Member 10 In the method of manufacturing the first plating resin member 10, the surface of the resin material 20 containing the polyphenylene sulfide resin 3 and the inorganic filler 5 is inorganic By removing the filler 5, the step of forming the anchor holes 7 to form the plating resin material 1 as the plating resin material 1 and the plating step of forming the plating layer 11 on the plating resin material 1 are provided.
(1.1) Resin material formation process for plating The resin material formation process for plating can employ | adopt the same method as above-mentioned "3. (1) manufacturing method of the 1st resin material for plating". That is, in the plating resin material forming step, the above-mentioned 3. The contents described in (1) can be applied as they are, so detailed description will be omitted here.
(1.2)めっき工程
ここでは、めっき用樹脂材1の表面にめっき層11を形成するめっき工程を説明する。めっき工程は、樹脂材に対する一般的な化学めっき、一般的な電気めっきと同様な工程を採用できる。その一例を、図3(3)(4)(5)を参照しつつ説明する。
めっき工程は、この例では、化学めっき用触媒付与工程(図3(3))、化学めっき工程(図3(4))、電気めっき工程(図3(5))を備えている。
(1.2) Plating process Here, the plating process which forms the plating layer 11 in the surface of the resin material 1 for plating is demonstrated. The plating process can adopt the same process as general chemical plating and general electroplating on a resin material. An example thereof will be described with reference to FIGS. 3 (3) (4) (5).
In this example, the plating process includes a chemical plating catalyst application process (FIG. 3 (3)), a chemical plating process (FIG. 3 (4)), and an electroplating process (FIG. 3 (5)).
(1.2.1)極性付与工程(任意工程)
図3(3)の化学めっき用触媒付与工程に先だって、めっき用樹脂材1のめっきを施す表面に、電荷を付与するために、極性をもつ化合物で処理してもよい。この工程は、任意であり、極性付与工程ともいう。
この処理における処理剤としては、例えば、メチルアミン,エチルアミン,プロピルアミン,イソプロピルアミン,ブチルアミンに代表される脂肪族第一アミン、ジメチルアミン,ジエチルアミン,ジプロピルアミンに代表される脂肪族第二アミン、トリメチルアミン,トリエチルアミン,トリプロピルアミンに代表される脂肪族第三アミン、アリルアミン,ジアリルアミンに代表される脂肪族不飽和アミン、シクロプロピルアミン,シクロブチルアミン,シクロペンチルアミンに代表される脂環式アミン、アニリンに代表される芳香族アミン、アルキルスルホン酸,α−オレフィンスルホン酸,アルキルベンゼンスルホン酸,アルキルナフタレンスルホン酸,アルキルエーテルスルホン酸,アルキルフェニルエーテルスルホン酸,アルキルジフェニルエーテルスルホン酸,スルホコハク酸,ジアルキルスルホコハク酸,メチルタウリン酸,β−ナフタレンスルホン酸,ホルマリン縮合物、あるいはポリアクリル酸,ポリビニルスルホン酸,ポリメタクリル酸,ポリスチレンスルホン酸、ポリヒドロキシエチルメタクリレート,ポリビニルアルコール,ポリビニルアルコール共重合体,ポリ酢酸ビニルの部分ケン化物,酢酸ビニル共重合体の部分ケン化物、エチレンイミン,ポリエチレンイミン,ポリエチレンオキシド,ポリプロピレンオキシド,ポリエチレンオキシド−ポリプロピレンオキシド共重合体,ポリビニルメチルエーテル,ポリビニルメチルエーテル共重合体,ピロリドン,ポリN−ビニルピロリドン,ポリビニルオキサゾリン,ポリアクリルアミド,ポリアクリルアミド共重体などの水溶液または塩の水溶液が好ましく例示される。これらの中で、脂肪族第一アミンやポリエチレンイミンの塩のように置換アンモニウム塩を有するものが特に好適である。これらの水溶液は一種用いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。
(1.2.1) Polarization process (optional process)
Prior to the chemical plating catalyst application step of FIG. 3 (3), the surface to be plated with the plating resin material 1 may be treated with a polar compound in order to apply an electric charge. This step is optional and is also referred to as a polarization application step.
Examples of the treating agent in this treatment include primary aliphatic amines such as methylamine, ethylamine, propylamine, isopropylamine and butylamine, and secondary aliphatic amines such as dimethylamine, diethylamine and dipropylamine. Aliphatic tertiary amines represented by trimethylamine, triethylamine and tripropylamine, aliphatic unsaturated amines represented by allylamine and diallylamine, cyclopropylamine, cyclobutylamine and cycloaliphatic amines represented by cyclopentylamine, and aniline Representative aromatic amines, alkyl sulfonic acids, α-olefin sulfonic acids, alkyl benzene sulfonic acids, alkyl naphthalene sulfonic acids, alkyl ether sulfonic acids, alkyl phenyl ether sulfonic acids, alkyl Phenyl ether sulfonic acid, sulfosuccinic acid, dialkyl sulfosuccinic acid, methyl tauric acid, β-naphthalene sulfonic acid, formalin condensate, or polyacrylic acid, polyvinyl sulfonic acid, polymethacrylic acid, polystyrene sulfonic acid, polyhydroxyethyl methacrylate, polyvinyl alcohol , Polyvinyl alcohol copolymer, partially saponified polyvinyl acetate, partially saponified vinyl acetate copolymer, ethyleneimine, polyethyleneimine, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyethylene oxide-polypropylene oxide copolymer, polyvinyl methyl ether, Polyvinyl methyl ether copolymer, pyrrolidone, poly (N-vinyl pyrrolidone), polyvinyl oxazoline, polyacrylamide, poly (acrylamide) Aqueous solutions or salts such as co-critical condition is preferably exemplified. Among these, those having substituted ammonium salts such as aliphatic primary amines and salts of polyethyleneimine are particularly preferable. These aqueous solutions may be used alone or in combination of two or more.
処理条件については特に制限はないが、10〜60℃の範囲の温度において、1〜10分処理することが好ましい。この極性付与工程を行うことで、化学めっき用触媒21がつきやすくなり、金属膜(化学めっき皮膜)23が形成されやすく、所望のめっき樹脂部材10が得られる。 Although there is no restriction | limiting in particular about processing conditions, It is preferable to process at the temperature of 10-60 degreeC for 1 to 10 minutes. By performing this polarity application step, the chemical plating catalyst 21 is easily attached, the metal film (chemical plating film) 23 is easily formed, and the desired plating resin member 10 is obtained.
(1.2.2)化学めっき用触媒付与工程(図3(3))
化学めっき用触媒付与工程は、次工程の化学めっきを進行させるための工程である。化学めっき用触媒21を付与する方法は特に限定されない。この工程では、従来から、樹脂成形体のめっき処理において慣用されている方法を用いることができる。
例えば、触媒粒子として負電荷をもつ塩化第一スズと塩化パラジウムのコロイドを用いる。まず、キャタライジングにより、極性付与工程で極性が付与されためっき用樹脂材1の表面にスズとパラジウムのコロイド物質を析出させ、次いでアクセレーションにより、スズを離脱させ、パラジウムのみを残すことによって、化学めっき用触媒21を付与する方法を採用できる。
また、次の方法も採用できる。まず、センシタイジング(感応性付与処理)として、例えば塩化第一スズ溶液に、極性付与工程で極性が付与されためっき用樹脂材1を浸漬させて、めっき用樹脂材1の表面に還元力のあるイオン性スズを吸着させる処理を行う。その後、アクチベーション(活性化処理)として、例えば塩化パラジウム溶液にこのめっき用樹脂材1を浸漬させて、上記スズの作用でパラジウムを析出させる処理により、化学めっき用触媒21を付与することができる。
(1.2.2) Chemical plating catalyst application process (FIG. 3 (3))
The chemical plating catalyst application step is a step for advancing chemical plating in the next step. The method for applying the chemical plating catalyst 21 is not particularly limited. In this step, methods conventionally used conventionally in plating of resin molded articles can be used.
For example, colloids of stannous chloride and palladium chloride having a negative charge are used as catalyst particles. First, a colloidal substance of tin and palladium is deposited on the surface of the plating resin material 1 to which polarity is imparted in the polarization step by catalyzing, and then tin is released by acceleration, leaving only palladium. A method of applying the chemical plating catalyst 21 can be adopted.
Also, the following method can be adopted. First, as the sensitising (sensitivity imparting treatment), for example, the plating resin material 1 to which polarity is imparted in the polarity imparting step is immersed in a stannous chloride solution to reduce the reduction power on the surface of the plating resin material 1. Treatment to adsorb some ionic tin. Thereafter, as the activation (activation treatment), the chemical plating catalyst 21 can be applied by, for example, immersing the plating resin material 1 in a palladium chloride solution and depositing palladium by the action of the tin.
(1.2.3)化学めっき工程(図3(4))
化学めっき工程は、化学めっき用触媒付与工程を経ためっき用樹脂材1の表面において、金属イオンを還元析出させ、金属膜23を形成させる工程である。この化学めっき工程については特に限定されず、従来、樹脂成形体のめっき処理において慣用されている方法を用いることができる。例えば10〜50℃程度の還元剤を含有する銅塩又はニッケル塩水溶液に、化学めっき用触媒付与工程を経ためっき用樹脂材1を2〜20分間程度浸漬することにより、その表面に銅めっき皮膜又はニッケルめっき皮膜を形成することができる。
(1.2.3) Chemical plating process (Figure 3 (4))
The chemical plating step is a step of reducing and precipitating metal ions on the surface of the resin material for plating 1 having passed the chemical plating catalyst application step to form the metal film 23. It does not specifically limit about this chemical plating process, The method conventionally used in the plating process of the resin molding can be used conventionally. For example, by immersing the resin material 1 for plating, which has undergone the catalyst application step for chemical plating, in a copper salt or nickel salt aqueous solution containing a reducing agent at about 10 to 50 ° C. for about 2 to 20 minutes, a copper plating film is formed on the surface. Alternatively, a nickel plating film can be formed.
(1.2.4)電気めっき工程(図3(5))
電気めっき工程は、化学めっき工程で形成された金属膜(化学めっき皮膜)23は薄くて強度などが小さいので、この上に、電気めっきを施してめっき皮膜(めっき層11)を強化させる工程である。電気めっき皮膜25は、単一の金属皮膜であってもよく、複数の金属皮膜からなる多層皮膜であってもよい。意匠上の加飾性、強度、寿命などの点から、最上層をクロムめっき皮膜とする多層皮膜が好ましい。このような多層皮膜としては、例えば銅めっき皮膜、ニッケルめっき皮膜及びクロムめっき皮膜を電気めっきにより順次設けた形態を好ましく挙げることができる。電気めっきの方法については特に制限はなく、従来、樹脂成形体のめっき処理において慣用されている方法を用いることができる。
なお、金属膜23及び電気めっき皮膜25の両方を合わせた層がめっき層11に相当する。
(1.2.4) Electroplating process (Fig. 3 (5))
In the electroplating process, the metal film (chemical plating film) 23 formed in the chemical plating process is thin and its strength and the like are small. Therefore, in the process of applying electroplating on this to strengthen the plating film (plating layer 11) is there. The electroplating film 25 may be a single metal film or may be a multilayer film consisting of a plurality of metal films. From the viewpoint of decorativeness, strength, life and the like on the design, a multilayer coating having a chromium plating film as the uppermost layer is preferable. As such a multilayer film, the form which provided sequentially a copper plating film, a nickel plating film, and a chromium plating film by electroplating, for example can be mentioned preferably. There is no particular limitation on the method of electroplating, and methods conventionally used in the plating treatment of resin moldings can be used.
A layer obtained by combining both the metal film 23 and the electroplating film 25 corresponds to the plating layer 11.
(2)第2のめっき樹脂部材の製造方法
第2のめっき樹脂部材10の製造方法は、ポリフェニレンサルファイド樹脂3及び無機フィラー5を含有する樹脂材20の表面部(スキン層)を削った後に、露出した面に存在する無機フィラー5を除去することでアンカー孔7を形成してめっき用樹脂材1とするめっき用樹脂材形成工程と、めっき用樹脂材1にめっき層11を形成するめっき工程と、を備える。
(2.1)めっき用樹脂材形成工程
めっき用樹脂材形成工程は、上述の「3.(2) 第2のめっき用樹脂材の製造方法」と同じ手法を採用することができる。すなわち、めっき用樹脂材形成工程は、上述の3(2)の記載内容をそのまま適用できるため、ここでは詳細な説明は省略する。
(2.2)めっき工程
めっき工程は、上述の「4.(1) 第1のめっき樹脂部材の製造方法」と同じ手法を採用することができる。すなわち、めっき工程は、上述の「(1.2)めっき工程」の記載内容をそのまま適用できるため、ここでは詳細な説明は省略する。
(2) Method of Manufacturing Second Plating Resin Member In the method of manufacturing the second plating resin member 10, after the surface portion (skin layer) of the resin member 20 containing the polyphenylene sulfide resin 3 and the inorganic filler 5 is scraped, Resin material forming step for forming the anchor holes 7 by removing the inorganic filler 5 present on the exposed surface to make the resin material 1 for plating, and plating step for forming the plating layer 11 on the resin material 1 for plating And.
(2.1) Resin material formation process for plating The resin material formation process for plating can employ | adopt the same method as above-mentioned "3. (2) manufacturing method of the resin material for 2nd plating"". That is, since the contents of description of 3 (2) of the above-mentioned can be applied as it is to the resin material formation process for plating, detailed explanation is omitted here.
(2.2) Plating process The plating process can employ the same method as the above-mentioned "4. (1) First method of manufacturing a plated resin member". That is, since the description content of the above-mentioned "(1.2) plating process" can be applied as it is to a plating process, detailed description is abbreviate | omitted here.
なお、第1及び第2のめっき樹脂部材10の製造方法では、ポリフェニレンサルファイド樹脂3及び無機フィラー5については、上述の1.(1)(2)の説明をそのまま適用することができる。 In addition, in the manufacturing method of the 1st and 2nd plating resin member 10, about polyphenylene sulfide resin 3 and the inorganic filler 5, above-mentioned 1. above-mentioned. (1) The description of (2) can be applied as it is.
以下、実施例により更に具体的に説明する。実験例1、2は比較例に該当し、実験例3〜8は実施例に該当する。 Hereinafter, the present invention will be more specifically described by way of examples. Experimental Examples 1 and 2 correspond to Comparative Examples, and Experimental Examples 3 to 8 correspond to Examples.
1.めっき樹脂部材の作製
(実験例1)
ポリフェニレンサルファイド樹脂80質量部、炭酸カルシウム20質量部の割合で混合したコンパウンドを原料として、射出成形を行い成形体を得た。炭酸カルシウムとしては、平均粒径19μmのものを使用した。
この成形体の表面部を研磨機によって削った。そして、硝酸を用いたエッチングで、アンカー孔を形成した。その後、表面にパラジウムを付着させ、一般的な装飾めっきに用いられる硫酸銅めっきを施した。
アンカー孔の面積割合は、4.5%であった。
1. Preparation of plating resin member (experimental example 1)
Injection molding was performed using as a raw material the compound mixed in the ratio of 80 mass parts of polyphenylene sulfide resin and 20 mass parts of calcium carbonate, and the molded object was obtained. As calcium carbonate, one having an average particle diameter of 19 μm was used.
The surface portion of this molded body was scraped by a grinder. Then, the anchor holes were formed by etching using nitric acid. Thereafter, palladium was attached to the surface and subjected to copper sulfate plating used for general decorative plating.
The area ratio of the anchor holes was 4.5%.
(実験例2)
ポリフェニレンサルファイド樹脂80質量部、炭酸カルシウム20質量部の割合で混合したコンパウンドを原料として、射出成形を行い成形体を得た。炭酸カルシウムとしては、平均粒径26μmのものを使用した。
この成形体の表面部を研磨機によって削った。そして、硝酸を用いたエッチングで、アンカー孔を形成した。その後、表面にパラジウムを付着させ、一般的な装飾めっきに用いられる硫酸銅めっきを施した。
アンカー孔の面積割合は、6.6%であった。
(Experimental example 2)
Injection molding was performed using as a raw material the compound mixed in the ratio of 80 mass parts of polyphenylene sulfide resin and 20 mass parts of calcium carbonate, and the molded object was obtained. As calcium carbonate, one having an average particle diameter of 26 μm was used.
The surface portion of this molded body was scraped by a grinder. Then, the anchor holes were formed by etching using nitric acid. Thereafter, palladium was attached to the surface and subjected to copper sulfate plating used for general decorative plating.
The area ratio of the anchor holes was 6.6%.
(実験例3)
ポリフェニレンサルファイド樹脂80質量部、炭酸カルシウム20質量部の割合で混合したコンパウンドを原料として、射出成形を行い成形体を得た。炭酸カルシウムとしては、平均粒径45μmのものを使用した。
この成形体の表面部を研磨機によって削った。そして、硝酸を用いたエッチングで、アンカー孔を形成した。その後、表面にパラジウムを付着させ、一般的な装飾めっきに用いられる硫酸銅めっきを施した。
アンカー孔の面積割合は、7.1%であった。
(Experimental example 3)
Injection molding was performed using as a raw material the compound mixed in the ratio of 80 mass parts of polyphenylene sulfide resin and 20 mass parts of calcium carbonate, and the molded object was obtained. As calcium carbonate, one having an average particle diameter of 45 μm was used.
The surface portion of this molded body was scraped by a grinder. Then, the anchor holes were formed by etching using nitric acid. Thereafter, palladium was attached to the surface and subjected to copper sulfate plating used for general decorative plating.
The area ratio of the anchor holes was 7.1%.
(実験例4)
ポリフェニレンサルファイド樹脂40質量部、炭酸カルシウム60質量部の割合で混合したコンパウンドを原料として、射出成形を行い成形体を得た。炭酸カルシウムとしては、平均粒径15μmのものを使用した。
この成形体の表面部をウエットブラスト処理(研磨材:アルミナ#2000、0.3MPa、40s)によって削った。そして、硝酸を用いたエッチングで、アンカー孔を形成した。その後、表面にパラジウムを付着させ、一般的な装飾めっきに用いられる硫酸銅めっきを施した。
アンカー孔の面積割合は、9.3%であった。
(Experimental example 4)
Injection molding was performed using as a raw material the compound mixed in the ratio of 40 mass parts of polyphenylene sulfide resin, and 60 mass parts of calcium carbonate, and the molded object was obtained. As calcium carbonate, one having an average particle diameter of 15 μm was used.
The surface portion of this molded body was scraped by wet blasting (abrasive: alumina # 2000, 0.3 MPa, 40 s). Then, the anchor holes were formed by etching using nitric acid. Thereafter, palladium was attached to the surface and subjected to copper sulfate plating used for general decorative plating.
The area ratio of the anchor holes was 9.3%.
(実験例5)
ポリフェニレンサルファイド樹脂40質量部、炭酸カルシウム60質量部の割合で混合したコンパウンドを原料として、射出成形を行い成形体を得た。炭酸カルシウムとしては、平均粒径15μmのものを使用した。
この成形体の表面部をウエットブラスト処理(研磨材:アルミナ#2000、0.35MPa、40s)によって削った。そして、硝酸を用いたエッチングで、アンカー孔を形成した。その後、表面にパラジウムを付着させ、一般的な装飾めっきに用いられる硫酸銅めっきを施した。
アンカー孔の面積割合は、11.4%であった。
(Experimental example 5)
Injection molding was performed using as a raw material the compound mixed in the ratio of 40 mass parts of polyphenylene sulfide resin, and 60 mass parts of calcium carbonate, and the molded object was obtained. As calcium carbonate, one having an average particle diameter of 15 μm was used.
The surface portion of this molded body was scraped by wet blasting (abrasive: alumina # 2000, 0.35 MPa, 40 s). Then, the anchor holes were formed by etching using nitric acid. Thereafter, palladium was attached to the surface and subjected to copper sulfate plating used for general decorative plating.
The area ratio of the anchor holes was 11.4%.
(実験例6)
ポリフェニレンサルファイド樹脂40質量部、炭酸カルシウム60質量部の割合で混合したコンパウンドを原料として、射出成形を行い成形体を得た。炭酸カルシウムとしては、平均粒径26μmのものを使用した。
この成形体の表面部を研磨機によって削った。そして、硝酸を用いたエッチングで、アンカー孔を形成した。その後、表面にパラジウムを付着させ、一般的な装飾めっきに用いられる硫酸銅めっきを施した。
アンカー孔の面積割合は、15.5%であった。
(Experimental example 6)
Injection molding was performed using as a raw material the compound mixed in the ratio of 40 mass parts of polyphenylene sulfide resin, and 60 mass parts of calcium carbonate, and the molded object was obtained. As calcium carbonate, one having an average particle diameter of 26 μm was used.
The surface portion of this molded body was scraped by a grinder. Then, the anchor holes were formed by etching using nitric acid. Thereafter, palladium was attached to the surface and subjected to copper sulfate plating used for general decorative plating.
The area ratio of the anchor holes was 15.5%.
(実験例7)
ポリフェニレンサルファイド樹脂40質量部、炭酸カルシウム60質量部の割合で混合したコンパウンドを原料として、射出成形を行い成形体を得た。炭酸カルシウムとしては、平均粒径35μmのものを使用した。
この成形体の表面部を研磨機によって削った。そして、硝酸を用いたエッチングで、アンカー孔を形成した。その後、表面にパラジウムを付着させ、一般的な装飾めっきに用いられる硫酸銅めっきを施した。
アンカー孔の面積割合は、19.3%であった。
(Experimental example 7)
Injection molding was performed using as a raw material the compound mixed in the ratio of 40 mass parts of polyphenylene sulfide resin, and 60 mass parts of calcium carbonate, and the molded object was obtained. As calcium carbonate, one having an average particle diameter of 35 μm was used.
The surface portion of this molded body was scraped by a grinder. Then, the anchor holes were formed by etching using nitric acid. Thereafter, palladium was attached to the surface and subjected to copper sulfate plating used for general decorative plating.
The area ratio of the anchor holes was 19.3%.
(実験例8)
ポリフェニレンサルファイド樹脂40質量部、炭酸カルシウム60質量部の割合で混合したコンパウンドを原料として、射出成形を行い成形体を得た。炭酸カルシウムとしては、平均粒径45μmのものを使用した。
この成形体の表面部を研磨機によって削った。そして、硝酸を用いたエッチングで、アンカー孔を形成した。その後、表面にパラジウムを付着させ、一般的な装飾めっきに用いられる硫酸銅めっきを施した。
アンカー孔の面積割合は、20.7%であった。
(Experimental example 8)
Injection molding was performed using as a raw material the compound mixed in the ratio of 40 mass parts of polyphenylene sulfide resin, and 60 mass parts of calcium carbonate, and the molded object was obtained. As calcium carbonate, one having an average particle diameter of 45 μm was used.
The surface portion of this molded body was scraped by a grinder. Then, the anchor holes were formed by etching using nitric acid. Thereafter, palladium was attached to the surface and subjected to copper sulfate plating used for general decorative plating.
The area ratio of the anchor holes was 20.7%.
なお、上述の実験例において、アンカー孔を形成した後のめっきは、具体的には次のように行った。
めっきは、奥野製薬工業(株)のCRPプロセス(http://www.okuno.co.jp/index.html参照)に準じて行った。
アンカー孔を形成した後、CRPコンディショナー551(商品名、奥野製薬工業(株)製)を用いて極性付与工程を行った。次に、希塩酸を用いてプリディップを行った。そして、CRPキャタリスト85(商品名、奥野製薬工業(株)製)を用いて化学めっき用触媒付与工程を行った。次いで、硫酸(80mL/L、40℃)を用いてアクセレーションした。
次に、化学めっき工程を行った。この化学めっき工程では、次の組成の水溶液を用いた。
化学ニッケルA(商品名、奥野製薬工業(株)製):160mL/L
化学ニッケルB(商品名、奥野製薬工業(株)製):160mL/L
次に、電気めっき工程を行った。この電気めっき工程では、次の組成の水溶液を用いた。
硫酸銅 :200g/L
硫酸 :50g/L
塩素イオン:70mg/L
トップルチナMU(商品名、奥野製薬工業(株)製):5mL/L
トップルチナA(商品名、奥野製薬工業(株)製) :0.5mL/L
In addition, in the above-mentioned experiment example, plating after forming an anchor hole was specifically performed as follows.
The plating was performed according to the CUP process (see http://www.okuno.co.jp/index.html) of Okuno Pharmaceutical Industries, Ltd.
After the anchor holes were formed, a polarization applying step was performed using a CRP conditioner 551 (trade name, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.). Next, pre-dip was performed using dilute hydrochloric acid. And the catalyst provision process for chemical plating was performed using the CRP catalyst 85 (brand name, Okuno Pharmaceutical Industries Co., Ltd. product made). Then, it was accelerated using sulfuric acid (80 mL / L, 40 ° C.).
Next, a chemical plating process was performed. In the chemical plating step, an aqueous solution of the following composition was used.
Chemical Nickel A (trade name, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.): 160 mL / L
Chemical Nickel B (trade name, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.): 160 mL / L
Next, an electroplating step was performed. In the electroplating step, an aqueous solution of the following composition was used.
Copper sulfate: 200 g / L
Sulfuric acid: 50 g / L
Chloride ion: 70 mg / L
Top Lucina MU (trade name, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.): 5 mL / L
Top Lucina A (trade name, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.): 0.5 mL / L
2.めっき樹脂部材の評価方法
各めっき樹脂部材のめっき層に幅10mmの切込みを入れ、速度25mm/minで引きはがしたときの負荷を計測した。このようにして、各めっき樹脂部材のピール強度を測定した。
2. Evaluation Method of Plating Resin Member A cut of 10 mm in width was made in the plating layer of each plating resin member, and the load when peeled at a speed of 25 mm / min was measured. Thus, the peel strength of each plating resin member was measured.
3.めっき樹脂部材の評価結果
結果を表1に示す。この表1から、アンカー孔の面積割合が7〜25%である場合に、ピール強度が高いことが確認された。
3. Evaluation results of the plated resin member The results are shown in Table 1. From this Table 1, it was confirmed that the peel strength is high when the area ratio of the anchor holes is 7 to 25%.
4.実施例の効果
以上のように、アンカー孔の面積割合が7〜25%であると、めっき層の密着性が高くなることが確認された。めっき樹脂部材は、金属光沢を有するため、外観が良好である。また、めっき樹脂部材に用いられる成形品は、樹脂製であるから各種成形法により成形できる。よって、めっき樹脂部材は、形状の自由度が高いとともに、コスト的にも有利である。なお、アンカー孔の面積割合を25%よりも大きくするためには、炭酸カルシウムの割合を多くする必要があるが、この場合には流動性が悪く、射出成形しにくかった。
4. Effect of Example As described above, it was confirmed that the adhesion of the plating layer is increased when the area ratio of the anchor holes is 7 to 25%. The plated resin member has a metallic luster and therefore has a good appearance. In addition, since the molded product used for the plating resin member is made of resin, it can be molded by various molding methods. Therefore, the plating resin member has a high degree of freedom in shape and is advantageous in cost. In addition, in order to make the area ratio of an anchor hole larger than 25%, it is necessary to increase the ratio of a calcium carbonate, However, In this case, fluidity | liquidity was bad and it was difficult to carry out injection molding.
本発明は上記で詳述した実施形態に限定されず、本発明の請求項に示した範囲で様々な変形又は変更が可能である。 The invention is not limited to the embodiments detailed above, but various modifications or alterations are possible within the scope of the claims of the invention.
本発明は、幅広い用途に適用することができる。特に、耐熱性、強度、及び耐衝撃性が要求される水回りの樹脂部材に好適に利用できる。水回りの樹脂部材としては、例えば、水及び/又は温水が通る通水部材が挙げられる。 The invention can be applied to a wide variety of applications. In particular, it can be suitably used for resin members around water where heat resistance, strength, and impact resistance are required. As a resin member around water, for example, a water passing member through which water and / or warm water passes can be mentioned.
1…めっき用樹脂材
3…ポリフェニレンサルファイド樹脂
5…無機フィラー
7…アンカー孔
10…めっき樹脂部材
11…めっき層
20…樹脂材
21…化学めっき用触媒
23…金属膜(化学めっき皮膜)
25…電気めっき皮膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Resin material for plating 3 ... Polyphenylene sulfide resin 5 ... Inorganic filler 7 ... Anchor hole 10 ... Plating resin member 11 ... Plating layer 20 ... Resin material 21 ... Catalyst for chemical plating 23 ... Metal film (chemical plating film)
25 ... Electroplated film
Claims (6)
めっきされる表面は、アンカー孔を有しており、
前記表面における前記アンカー孔の面積割合が、前記表面を100%とした場合に、7〜25%であるめっき用樹脂材。 It is a resin material for plating containing polyphenylene sulfide resin and an inorganic filler,
The surface to be plated has anchor holes and
The resin material for plating whose area ratio of the said anchor hole in the said surface is 7 to 25% when the said surface is made into 100%.
前記めっき用樹脂材にめっき層を形成するめっき工程と、を備えるめっき樹脂部材の製造方法。 A step of forming a resin material for plating, wherein anchor holes are formed by removing the inorganic filler from the surface of a resin material containing a polyphenylene sulfide resin and an inorganic filler;
And a plating step of forming a plating layer on the resin material for plating.
前記めっき用樹脂材にめっき層を形成するめっき工程と、を備えるめっき樹脂部材の製造方法。 After shaving a surface portion of a resin material containing a polyphenylene sulfide resin and an inorganic filler, an anchor hole is formed by removing the inorganic filler present on the exposed surface to form a resin material for plating as a resin material for plating Process,
And a plating step of forming a plating layer on the resin material for plating.
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