JP2018203637A - 2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミン及びピリミジン化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、有害生物防除効力を有する5−クロロ−4−エチル−6−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチルアミノ]ピリミジン、及びその製造中間体である2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの工業的に優位に実施可能な製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】4−(トリフルオロメチル)ベンズアルデヒドから一工程で合成できる式(1)(式中、R1はメチル基またはエチル基を表す。)で示される化合物を、C1−C3カルボン酸溶媒中、貴金属触媒の存在下で、特定の条件で水素化することにより、高収率で2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンを製造することができる。【選択図】なし
Description
本発明は、有害生物防除効力を有するピリミジン化合物、及びその製造中間体である2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの製造方法に関する。
特許文献1には、5−クロロ−4−エチル−6−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチルアミノ]ピリミジンが有害生物防除効力を有することが記載されている。5−クロロ−4−エチル−6−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチルアミノ]ピリミジンの製造法として、例えば特許文献1には、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンと4,5−ジクロロ−6−エチルピリミジンとを反応させる方法が記載されている。
2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの製造方法として、特許文献2には、4−(トリフルオロメチル)ベンズアルデヒドを出発物質として、ニトロメタンと反応して、β−ニトロスチレン化合物とした後、リチウムアルミニウムハイドライドを用いて還元する方法が記載されているが、ニトロメタンやリチウムアルミニウムハイドライドの工業的な取扱いには、多大な防災対策が必要となる。
また、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの製造方法として、非特許文献1には、4−トリフルオロメチル安息香酸を出発物質として、リチウムアルミニウムハイドライド還元してベンジルアルコール化合物とした後、臭素化してベンジルブロマイド化合物とし、さらにシアノ化してベンジルシアノ化合物とした後、リチウムアルミニウムハイドライド還元する方法が記載されているが、工程数が多く、さらには、リチウムアルミニウムハイドライドの工業的な取扱いには、多大な防災対策が必要となる。
また、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの製造方法として、非特許文献1には、4−トリフルオロメチル安息香酸を出発物質として、リチウムアルミニウムハイドライド還元してベンジルアルコール化合物とした後、臭素化してベンジルブロマイド化合物とし、さらにシアノ化してベンジルシアノ化合物とした後、リチウムアルミニウムハイドライド還元する方法が記載されているが、工程数が多く、さらには、リチウムアルミニウムハイドライドの工業的な取扱いには、多大な防災対策が必要となる。
J.Org.Chem.,46巻,4247(1981年)
本発明は、有害生物防除効力を有する5−クロロ−4−エチル−6−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチルアミノ]ピリミジン、及びその製造中間体である2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの工業的に優位に実施可能な製造方法を提供することを課題とする。
本発明者は、上記課題を解決すべく検討した結果、4−(トリフルオロメチル)ベンズアルデヒドから一工程で合成できる式(1)
(式中、R1はメチル基またはエチル基を表す。)
で示される化合物を、C1−C3カルボン酸溶媒中、貴金属触媒の存在下で、特定の条件で水素化することにより、高収率で2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンを製造する方法を見出した。
(式中、R1はメチル基またはエチル基を表す。)
で示される化合物を、C1−C3カルボン酸溶媒中、貴金属触媒の存在下で、特定の条件で水素化することにより、高収率で2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンを製造する方法を見出した。
すなわち、本発明は以下の通りである。
[1] 工程(a):水素雰囲気下、貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)
(式中、R1はメチル基またはエチル基を表す。)
で示される化合物及び強酸を同時に添加して還元反応を行い、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンを得る工程;
を含む2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンまたはその強酸塩の製造方法。
[2] 貴金属触媒が、パラジウム、白金及びロジウムからなる群より選ばれる1以上の貴金属からなる触媒である[1]に記載の製造方法。
[3] 貴金属触媒が、活性炭、シリカゲル及びアルミナからなる群より選ばれる1以上の坦体に坦持された触媒である[2]に記載の製造方法。
[4] 強酸が、硫酸である[1]〜[3]のいずれか1つに記載の製造方法。
[5] 反応温度が40〜60℃である[1]〜[4]のいずれか1つに記載の製造方法。
[6] [1]〜[5]のいずれか1つに記載の工程(a)及び工程(b)を含む式(3)
(式中、R2は水素原子またはフッ素原子を表す。)
で示される化合物の製造方法:
工程(b):2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンと式(2)
(式中、R2は水素原子またはフッ素原子を表す。)
で示される化合物とを反応させて式(3)で示される化合物を得る工程。
[1] 工程(a):水素雰囲気下、貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)
(式中、R1はメチル基またはエチル基を表す。)
で示される化合物及び強酸を同時に添加して還元反応を行い、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンを得る工程;
を含む2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンまたはその強酸塩の製造方法。
[2] 貴金属触媒が、パラジウム、白金及びロジウムからなる群より選ばれる1以上の貴金属からなる触媒である[1]に記載の製造方法。
[3] 貴金属触媒が、活性炭、シリカゲル及びアルミナからなる群より選ばれる1以上の坦体に坦持された触媒である[2]に記載の製造方法。
[4] 強酸が、硫酸である[1]〜[3]のいずれか1つに記載の製造方法。
[5] 反応温度が40〜60℃である[1]〜[4]のいずれか1つに記載の製造方法。
[6] [1]〜[5]のいずれか1つに記載の工程(a)及び工程(b)を含む式(3)
(式中、R2は水素原子またはフッ素原子を表す。)
で示される化合物の製造方法:
工程(b):2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンと式(2)
(式中、R2は水素原子またはフッ素原子を表す。)
で示される化合物とを反応させて式(3)で示される化合物を得る工程。
本発明により、有害生物防除効力を有するピリミジン化合物、及びその製造中間体である2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンを工業的に優位に製造することができる。
以下、本発明について説明する。
工程(a)について説明する。工程(a)では、水素雰囲気下、貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)で示される化合物及び強酸を同時に添加して還元反応を行い、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンを得ることができる。
式(1)で示される化合物において、R1は、メチル基又はエチル基であり、好ましくはメチル基である。
式(1)で示される化合物は、市販品として入手可能である。また、例えばTetrahedron Letters, Vol. 45, 7625-7627(2004).に記載の方法に準じて合成することもできる。
式(1)で示される化合物は、市販品として入手可能である。また、例えばTetrahedron Letters, Vol. 45, 7625-7627(2004).に記載の方法に準じて合成することもできる。
貴金属触媒としては、パラジウム金属、酸化パラジウム、白金金属、酸化白金、ロジウム金属、及び酸化ロジウムが挙げられる。貴金属触媒は、担体に坦持された触媒であることが好ましい。
担体としては、炭素、ケイ酸塩、アルミナ、ゼオライト、硫酸バリウム及び炭酸カルシウム等が挙げられる。好ましくは、炭素である。
これら貴金属触媒は、貴金属触媒の重量に対して、通常、0.5〜20重量%、好ましくは5〜15重量%の貴金属元素を含むものである。
貴金属触媒の使用量は、貴金属元素を基準として、式(1)で示される化合物1モルに対して、通常、0.001〜0.05モル、好ましくは、0.002〜0.02モルである。
担体としては、炭素、ケイ酸塩、アルミナ、ゼオライト、硫酸バリウム及び炭酸カルシウム等が挙げられる。好ましくは、炭素である。
これら貴金属触媒は、貴金属触媒の重量に対して、通常、0.5〜20重量%、好ましくは5〜15重量%の貴金属元素を含むものである。
貴金属触媒の使用量は、貴金属元素を基準として、式(1)で示される化合物1モルに対して、通常、0.001〜0.05モル、好ましくは、0.002〜0.02モルである。
溶媒として用いられるC1−C3カルボン酸(即ち、C1−C3カルボン酸溶媒)としては、ギ酸、酢酸及びプロピオン酸が挙げられ、好ましくはギ酸または酢酸である。
溶媒の使用量は、式(1)で示される化合物1重量部に対して、通常、1〜100重量部であり、好ましくは1〜30重量部である。
溶媒の使用量は、式(1)で示される化合物1重量部に対して、通常、1〜100重量部であり、好ましくは1〜30重量部である。
強酸を添加することで、副反応が抑えられ、目的とする反応の選択性が向上する。
強酸としては、硫酸、塩酸、リン酸、メタンスルホン酸等が挙げられるが、硫酸が好ましく用いられる。
強酸の使用量は、式(1)で示される化合物1当量に対して、水素イオン当量として、通常、1〜6当量であり、好ましくは2〜4当量である。
強酸としては、硫酸、塩酸、リン酸、メタンスルホン酸等が挙げられるが、硫酸が好ましく用いられる。
強酸の使用量は、式(1)で示される化合物1当量に対して、水素イオン当量として、通常、1〜6当量であり、好ましくは2〜4当量である。
ここで、貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)で示される化合物及び強酸を同時に添加する方法としては、具体的には、
(1)貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)で示される化合物及び強酸を同時且つ別々に添加する、
(2)貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)で示される化合物及び強酸の混合物を添加する、
方法が挙げられる。操作性の観点から、(1)の方法がより好ましい。
(1)貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)で示される化合物及び強酸を同時且つ別々に添加する、
(2)貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)で示される化合物及び強酸の混合物を添加する、
方法が挙げられる。操作性の観点から、(1)の方法がより好ましい。
貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)で示される化合物及び強酸を同時且つ別々に添加するとは、工程(a)の反応系(即ち、水素雰囲気下、貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒に、式(1)で示される化合物及び強酸を添加して得られる組成物)における、式(1)で示される化合物及び強酸の水素イオンの当量比が1:3に近い値、具体的には1:1〜1:6、好ましくは1:2〜1:4の範囲内に保つことができるように、添加速度(例えば滴下速度)等の条件を調整して実施することである。
貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)で示される化合物及び強酸を同時且つ別々に添加することは、例えば、貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)で示される化合物及び強酸を別々の添加口から添加することにより実施できる。
式(1)で示される化合物の添加に際しては、通常これを溶媒と混合した溶液として用いる。その溶媒は、C1−C3カルボン酸である。
強酸の添加に際しては、これを溶媒で希釈して用いることもできる。その溶媒は、C1−C3カルボン酸である。
強酸の添加に際しては、これを溶媒で希釈して用いることもできる。その溶媒は、C1−C3カルボン酸である。
貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に、式(1)で示される化合物及び強酸の混合物の添加するとは、例えば、式(1)で示される化合物及び強酸を混合して得られた混合物を、貴金属触媒及びC1−C3カルボン酸溶媒の混合物に対して添加することにより実施できる。
式(1)で示される化合物及び強酸の混合物は、式(1)で示される化合物1当量に対して、水素イオン当量として、通常1〜6当量、好ましくは2〜4当量の強酸を混合することにより調製できる。
式(1)で示される化合物及び強酸の混合物は、式(1)で示される化合物1当量に対して、水素イオン当量として、通常1〜6当量、好ましくは2〜4当量の強酸を混合することにより調製できる。
式(1)で示される化合物及び強酸の混合物の添加に際しては、通常これを溶媒と混合した溶液として用いる。その溶媒は、C1−C3カルボン酸である。式(1)で示される化合物及び強酸の混合物は、式(1)で示される化合物が有するシアノ基の加水分解を防ぐため、30℃以下に保持することが好ましい。
反応温度は、通常、20〜80℃、好ましくは、40〜60℃である。
反応時間は0.1〜24時間の範囲内である。
反応には、水素ガスが用いられる。水素ガスの圧力は、通常、常圧〜2MPa、好ましくは0.1〜1.5MPaである。
反応時間は0.1〜24時間の範囲内である。
反応には、水素ガスが用いられる。水素ガスの圧力は、通常、常圧〜2MPa、好ましくは0.1〜1.5MPaである。
反応終了後は、例えば、貴金属触媒をろ過して除去し、溶媒を留去後に、有機溶媒で希釈し、アルカリ水で中和後、有機溶媒を留去することで、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンを得ることができる。さらに蒸留やカラムクロマトグラフィー等で精製することもできる。
2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンは、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの強酸塩として得ることもできる。2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの強酸塩としては、例えば、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミン硫酸塩が挙げられる。
次に、工程(b)について説明する。2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンと式(2)で示される化合物とを反応させて式(3)で示される化合物を得ることができる。
式(2)で示される化合物は、市販品として入手可能である。また、例えば米国特許5523404号公報に記載の方法に準じて合成することもできる。
反応は、通常溶媒中で行われる。
溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類;トルエン、キシレン、クメン、モノクロロベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサン等の炭化水素類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄化合物類;テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、モノグライム、ジグライム等のエーテル類;N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;アセトニトリル、プロピルニトリル等のニトリル類;水;及びこれらの混合物が挙げられ、好ましくは芳香族炭化水素類又はアミド類である。
溶媒の使用量は、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミン1重量部に対して、通常、1〜100重量部、好ましくは1〜30重量部である。
反応は、通常溶媒中で行われる。
溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類;トルエン、キシレン、クメン、モノクロロベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサン等の炭化水素類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄化合物類;テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、モノグライム、ジグライム等のエーテル類;N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;アセトニトリル、プロピルニトリル等のニトリル類;水;及びこれらの混合物が挙げられ、好ましくは芳香族炭化水素類又はアミド類である。
溶媒の使用量は、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミン1重量部に対して、通常、1〜100重量部、好ましくは1〜30重量部である。
式(2)で示される化合物の使用量は、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミン1モルに対して、通常、0.5〜3モル、好ましくは、0.8〜1.5モルである。
反応は、通常、塩基の存在下で行われる。
塩基としては、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物;ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムメチラート、カリウムエチラート、カリウムtert−ブトキシド等の金属アルコラート類;トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジアザビシクロウンデセン等の有機アミン等が挙げられる。
塩基の使用量は、式(2)で示される化合物1モルに対して、通常、1〜5モルである。
反応は、相間移動触媒の存在下で行ってもよい。相間移動触媒としては、テトラブチルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド等が挙げられる。相間移動触媒の使用量は、式(2)で示される化合物1モルに対して、0.01〜0.5モルである。
反応温度は、通常0℃〜150℃、好ましくは0℃〜100℃の範囲内である。
反応時間は、0.1〜48時間の範囲内である。
反応は、通常、塩基の存在下で行われる。
塩基としては、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物;ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムメチラート、カリウムエチラート、カリウムtert−ブトキシド等の金属アルコラート類;トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジアザビシクロウンデセン等の有機アミン等が挙げられる。
塩基の使用量は、式(2)で示される化合物1モルに対して、通常、1〜5モルである。
反応は、相間移動触媒の存在下で行ってもよい。相間移動触媒としては、テトラブチルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド等が挙げられる。相間移動触媒の使用量は、式(2)で示される化合物1モルに対して、0.01〜0.5モルである。
反応温度は、通常0℃〜150℃、好ましくは0℃〜100℃の範囲内である。
反応時間は、0.1〜48時間の範囲内である。
反応終了後、例えば、水を加え、有機溶媒で抽出し、有機溶媒を留去することにより式(3)で示される化合物を単離することができる。さらに晶析やカラムクロマトグラフィーにより精製することもできる。
式(3)で示される化合物としては、5−クロロ−4−エチル−6−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチルアミノ]ピリミジン及び5−クロロ−4−(1−フルオロエチル)−6−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチルアミノ]ピリミジンが挙げられる。
以下、本発明を実施例等により説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。
ガスクロマトグラフィー測定条件
・測定機器:島津製作所製 GC−2010
・カラム: DB−5 長さ30m、内径250μm、膜厚1.00μm(アジレント・テクノロジー製)
・カラム温度:150℃から320℃まで10℃/分で昇温、320℃で10分保持
・ヘリウムガス流速:1.0mL/min
・注入量:1μL
・測定機器:島津製作所製 GC−2010
・カラム: DB−5 長さ30m、内径250μm、膜厚1.00μm(アジレント・テクノロジー製)
・カラム温度:150℃から320℃まで10℃/分で昇温、320℃で10分保持
・ヘリウムガス流速:1.0mL/min
・注入量:1μL
(参考例1)
窒素雰囲気下、2Lフラスコに、シアン化ナトリウム39.4g、水160g、トルエン250g及びテトラブチルアンモニウムブロマイド4.45gを加え、内温15℃まで冷却した。同温度で撹拌している混合物に対し、4−(トリフルオロメチル)ベンズアルデヒド100gとトルエン125gとの混合液及び、無水酢酸70.5gとトルエン140gとの混合液を、2時間かけて同時且つ別々に滴下した。滴下終了後、同温度で1時間撹拌した後、静置して分液した。得られた油層を水200gで2回洗浄した後、減圧下でトルエンを留去した。得られた残渣に、イソプロピルアルコール10g及びヘキサン300gを加えた後、撹拌すると結晶化した。得られた結晶をろ過し、減圧下で乾燥し、α−アセトキシ−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンアセトニトリルを130g(収率93%)得た。
窒素雰囲気下、2Lフラスコに、シアン化ナトリウム39.4g、水160g、トルエン250g及びテトラブチルアンモニウムブロマイド4.45gを加え、内温15℃まで冷却した。同温度で撹拌している混合物に対し、4−(トリフルオロメチル)ベンズアルデヒド100gとトルエン125gとの混合液及び、無水酢酸70.5gとトルエン140gとの混合液を、2時間かけて同時且つ別々に滴下した。滴下終了後、同温度で1時間撹拌した後、静置して分液した。得られた油層を水200gで2回洗浄した後、減圧下でトルエンを留去した。得られた残渣に、イソプロピルアルコール10g及びヘキサン300gを加えた後、撹拌すると結晶化した。得られた結晶をろ過し、減圧下で乾燥し、α−アセトキシ−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンアセトニトリルを130g(収率93%)得た。
(実施例1)
ステンレス製オートクレーブに、室温で、酢酸60g、10%Pd/C(50%ウェット品)6g及び硫酸1.8gを加え、密閉した。窒素ガスを0.2MPaまで加圧後、常圧に戻す操作を3回繰り返した。その後、水素ガスを0.2MPaまで加圧し、常圧に戻す操作を3回繰り返した後、水素ガスを0.8MPaまで加圧した。内容物を撹拌しながら、オートクレーブを内温60℃まで加温した後、2台の定量ポンプを使用して、α−アセトキシ−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンアセトニトリル60gと酢酸45gとの混合液及び、硫酸32.1gと酢酸72gとの混合液を、内容物に対し、3.5時間かけて同時且つ別々に添加した。添加終了後、同温度で1時間撹拌した後、室温まで冷却し、オートクレーブ内部を窒素ガスで置換した。得られた反応混合物を濾過し、濾取した触媒を少量の酢酸で洗浄した。濾液と洗浄液を合わせ、減圧下で濃縮して酢酸を留去した。得られた残渣に、トルエン300gを加え、撹拌下で、pHメーターでpHをモニターしながら、pHが12になるまで5%水酸化ナトリウム水溶液を加えた。分液後、得られた油層を水150gで1回洗浄した後、一部をサンプリングして、ガスクロマトフィー面積百分率法にて分析すると、分析用の希釈溶媒と酢酸を除いた2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの純度は95%であった。残りの油層を、減圧下で濃縮して、トルエンを留去した後、得られた残渣を10cmのビグリュー管を用いて減圧下で単蒸留した。本留分として、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンを37.4g(収率80%)得た。ガスクロマトフィー面積百分率法にて純度を測定したところ、純度は98%であった。
ステンレス製オートクレーブに、室温で、酢酸60g、10%Pd/C(50%ウェット品)6g及び硫酸1.8gを加え、密閉した。窒素ガスを0.2MPaまで加圧後、常圧に戻す操作を3回繰り返した。その後、水素ガスを0.2MPaまで加圧し、常圧に戻す操作を3回繰り返した後、水素ガスを0.8MPaまで加圧した。内容物を撹拌しながら、オートクレーブを内温60℃まで加温した後、2台の定量ポンプを使用して、α−アセトキシ−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンアセトニトリル60gと酢酸45gとの混合液及び、硫酸32.1gと酢酸72gとの混合液を、内容物に対し、3.5時間かけて同時且つ別々に添加した。添加終了後、同温度で1時間撹拌した後、室温まで冷却し、オートクレーブ内部を窒素ガスで置換した。得られた反応混合物を濾過し、濾取した触媒を少量の酢酸で洗浄した。濾液と洗浄液を合わせ、減圧下で濃縮して酢酸を留去した。得られた残渣に、トルエン300gを加え、撹拌下で、pHメーターでpHをモニターしながら、pHが12になるまで5%水酸化ナトリウム水溶液を加えた。分液後、得られた油層を水150gで1回洗浄した後、一部をサンプリングして、ガスクロマトフィー面積百分率法にて分析すると、分析用の希釈溶媒と酢酸を除いた2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの純度は95%であった。残りの油層を、減圧下で濃縮して、トルエンを留去した後、得られた残渣を10cmのビグリュー管を用いて減圧下で単蒸留した。本留分として、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンを37.4g(収率80%)得た。ガスクロマトフィー面積百分率法にて純度を測定したところ、純度は98%であった。
(実施例2)
ステンレス製オートクレーブに、室温で、酢酸20g、10%Pd/C(50%ウェット品)2g及び硫酸0.6gを加え、密閉した。窒素ガスを0.2MPaまで加圧後、常圧に戻す操作を3回繰り返した。その後、水素ガスを0.2MPaまで加圧し、常圧に戻す操作を3回繰り返した後、水素ガスを0.8MPaまで加圧した。内容物を撹拌しながら、オートクレーブを内温53℃まで加温した後、2台の定量ポンプを使用して、α−アセトキシ−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンアセトニトリル20gと酢酸15gとの混合液及び、硫酸10.7gと酢酸24gとの混合液を、内容物に対し、3.5時間かけて同時且つ別々に添加した。添加終了後、同温度で1時間撹拌した後、室温まで冷却し、オートクレーブ内部を窒素ガスで置換した。得られた反応混合物を、濾過し、濾取した触媒を少量の酢酸で洗浄した。濾液と洗浄液を合わせ、減圧下で濃縮して酢酸を留去した。得られた残渣に、トルエン100gを加え、撹拌下で、pHメーターでpHをモニターしながら、pHが12になるまで5%水酸化ナトリウム水溶液を加えた。分液後、得られた油層を水50gで1回洗浄した後、一部をサンプリングして、ガスクロマトフィー面積百分率法にて分析すると、分析用の希釈溶媒と酢酸成分を除いた2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの純度は95%であった。
ステンレス製オートクレーブに、室温で、酢酸20g、10%Pd/C(50%ウェット品)2g及び硫酸0.6gを加え、密閉した。窒素ガスを0.2MPaまで加圧後、常圧に戻す操作を3回繰り返した。その後、水素ガスを0.2MPaまで加圧し、常圧に戻す操作を3回繰り返した後、水素ガスを0.8MPaまで加圧した。内容物を撹拌しながら、オートクレーブを内温53℃まで加温した後、2台の定量ポンプを使用して、α−アセトキシ−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンアセトニトリル20gと酢酸15gとの混合液及び、硫酸10.7gと酢酸24gとの混合液を、内容物に対し、3.5時間かけて同時且つ別々に添加した。添加終了後、同温度で1時間撹拌した後、室温まで冷却し、オートクレーブ内部を窒素ガスで置換した。得られた反応混合物を、濾過し、濾取した触媒を少量の酢酸で洗浄した。濾液と洗浄液を合わせ、減圧下で濃縮して酢酸を留去した。得られた残渣に、トルエン100gを加え、撹拌下で、pHメーターでpHをモニターしながら、pHが12になるまで5%水酸化ナトリウム水溶液を加えた。分液後、得られた油層を水50gで1回洗浄した後、一部をサンプリングして、ガスクロマトフィー面積百分率法にて分析すると、分析用の希釈溶媒と酢酸成分を除いた2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの純度は95%であった。
(比較例1)
ステンレス製オートクレーブに、室温で、酢酸44g、10%Pd/C(50%ウェット品)2g及び硫酸11.3gを加え、密閉した。窒素ガスを0.2MPaまで加圧後、常圧に戻す操作を3回繰り返した。その後、水素ガスを0.2MPaまで加圧し、常圧に戻す操作を3回繰り返した後、水素ガスを0.8MPaまで加圧した。内容物を撹拌しながら、オートクレーブを内温53℃まで加温した後、1台の定量ポンプを使用して、α−アセトキシ−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンアセトニトリル20gと酢酸15gとの混合液を、内容物に対し、3.5時間かけて添加した。添加終了後、同温度で1時間撹拌した後、室温まで冷却し、オートクレーブ内部を窒素ガスで置換した。得られた反応混合物を、濾過し、濾取した触媒を少量の酢酸で洗浄した。濾液と洗浄液を合わせ、減圧下で濃縮して酢酸を留去した。得られた残渣に、トルエン100gを加え、撹拌下で、pHメーターでpHをモニターしながら、pHが12になるまで5%水酸化ナトリウム水溶液を加えた。分液後、得られた油層を水50gで1回洗浄した後、一部をサンプリングして、ガスクロマトフィー面積百分率法にて分析すると、分析用の希釈溶媒と酢酸成分を除いた2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの純度は5%であった。
ステンレス製オートクレーブに、室温で、酢酸44g、10%Pd/C(50%ウェット品)2g及び硫酸11.3gを加え、密閉した。窒素ガスを0.2MPaまで加圧後、常圧に戻す操作を3回繰り返した。その後、水素ガスを0.2MPaまで加圧し、常圧に戻す操作を3回繰り返した後、水素ガスを0.8MPaまで加圧した。内容物を撹拌しながら、オートクレーブを内温53℃まで加温した後、1台の定量ポンプを使用して、α−アセトキシ−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンアセトニトリル20gと酢酸15gとの混合液を、内容物に対し、3.5時間かけて添加した。添加終了後、同温度で1時間撹拌した後、室温まで冷却し、オートクレーブ内部を窒素ガスで置換した。得られた反応混合物を、濾過し、濾取した触媒を少量の酢酸で洗浄した。濾液と洗浄液を合わせ、減圧下で濃縮して酢酸を留去した。得られた残渣に、トルエン100gを加え、撹拌下で、pHメーターでpHをモニターしながら、pHが12になるまで5%水酸化ナトリウム水溶液を加えた。分液後、得られた油層を水50gで1回洗浄した後、一部をサンプリングして、ガスクロマトフィー面積百分率法にて分析すると、分析用の希釈溶媒と酢酸成分を除いた2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの純度は5%であった。
(実施例3)
窒素雰囲気下、200mlのセパラブルフラスコで、炭酸カリウム5.9g、ジメチルホルムアミド15.3g及び水0.4gを混合し、60℃に昇温した。得られた混合物に対し、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミン7.9g及び3,4−ジクロロ−6−エチルピリミジン(37重量%、キシレン溶液)20.5gを同時且つ別々に滴下し、同温度で6時間撹拌した。得られた反応混合物、水30.6g及びキシレン11.1gを混合し、55℃で分液した。得られた油層を水15.3gで2回洗浄した後に、蒸発晶析し、生じた固体を濾取した。得られた固体を水15.3gで洗浄した後に、減圧下で乾燥し、5−クロロ−4−エチル−6−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチルアミノ]ピリミジン11.6g(収率86%)を得た。
窒素雰囲気下、200mlのセパラブルフラスコで、炭酸カリウム5.9g、ジメチルホルムアミド15.3g及び水0.4gを混合し、60℃に昇温した。得られた混合物に対し、2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミン7.9g及び3,4−ジクロロ−6−エチルピリミジン(37重量%、キシレン溶液)20.5gを同時且つ別々に滴下し、同温度で6時間撹拌した。得られた反応混合物、水30.6g及びキシレン11.1gを混合し、55℃で分液した。得られた油層を水15.3gで2回洗浄した後に、蒸発晶析し、生じた固体を濾取した。得られた固体を水15.3gで洗浄した後に、減圧下で乾燥し、5−クロロ−4−エチル−6−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチルアミノ]ピリミジン11.6g(収率86%)を得た。
本発明により、有害生物防除効力を有するピリミジン化合物、及びその製造中間体である2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンを工業的に優位に実施可能な方法で製造することができる。
Claims (6)
- 貴金属触媒が、パラジウム、白金及びロジウムからなる群より選ばれる1以上の貴金属からなる触媒である請求項1に記載の製造方法。
- 貴金属触媒が、活性炭、シリカゲル及びアルミナからなる群より選ばれる1以上の坦体に坦持された触媒である請求項2に記載の製造方法。
- 強酸が、硫酸である請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 反応温度が40〜60℃である請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2017107505A JP2018203637A (ja) | 2017-05-31 | 2017-05-31 | 2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミン及びピリミジン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2017107505A JP2018203637A (ja) | 2017-05-31 | 2017-05-31 | 2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミン及びピリミジン化合物の製造方法 |
Publications (1)
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2017
- 2017-05-31 JP JP2017107505A patent/JP2018203637A/ja active Pending
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