JP2018124528A - 光配向膜用組成物、光配向膜、光学積層体および画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明の課題は、配向性に優れた光配向膜を作製することができる光配向膜用組成物、ならびに、それを用いて作製した光配向膜、光学積層体および画像表示装置を提供することである。【解決手段】シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含有する、光配向膜用組成物。【選択図】なし
Description
本発明は、光配向膜用組成物、光配向膜、光学積層体および画像表示装置に関する。
光学補償シートや位相差フィルムなどの光学フィルムは、画像着色解消や視野角拡大のために、様々な画像表示装置で用いられている。
光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶性化合物からなる光学異方性層を使用することが提案されている。
光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶性化合物からなる光学異方性層を使用することが提案されている。
このような光学異方性層は、液晶性化合物を配向させるために、光学異方性層を形成する支持体上に配向膜を設けることが知られており、また、この配向膜として、ラビング処理に代えて光配向処理を施した光配向膜が知られている。
例えば、特許文献１には、「（Ａ）成分である光二量化部位及び熱架橋部位を有するアクリル共重合体と（Ｂ）成分である架橋剤とを含有する、光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。」が記載されており（［請求項１］）、また、（Ａ）成分の光二量化部位がシンナモイル基である態様が記載されている（［請求項３］）。
本発明者らは、特許文献１等に記載された従来の光配向膜用組成物について検討したところ、光配向膜用組成物を形成する支持体（例えば、ポリマーフィルム、偏光子など）の材料に起因する光配向処理の条件によっては、形成される光配向膜の配向性が不十分となる問題があることを明らかとした。
そこで、本発明は、配向性に優れた光配向膜を作製することができる光配向膜用組成物、ならびに、それを用いて作製した光配向膜、光学積層体および画像表示装置を提供することを課題とする。
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、シンナメート基を含む構成単位を有する重合体と、シンナメート基を有する低分子化合物とを含有する組成物を用いることにより、形成される光配向膜の配向性が良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
［１］ シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、
シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含有する、光配向膜用組成物。
［２］ 低分子化合物Ｂの分子量が、２００〜５００である、［１］に記載の光配向膜用組成物。
［３］ 低分子化合物Ｂの含有量が、重合体Ａの構成単位ａ１の質量に対して１０〜５００質量％である、［１］または［２］に記載の光配向膜用組成物。
［４］ 低分子化合物Ｂが、下記式（Ｂ１）で表される化合物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
ここで、式（Ｂ１）中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ1は、水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ2は、１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ1は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
［５］ 重合体Ａが、更に、架橋性基を含む構成単位ａ２を有する、［１］〜［４］のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
［６］ 更に、架橋性基を有する架橋剤Ｃを含有する、［１］〜［５］のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含有する、光配向膜用組成物。
［２］ 低分子化合物Ｂの分子量が、２００〜５００である、［１］に記載の光配向膜用組成物。
［３］ 低分子化合物Ｂの含有量が、重合体Ａの構成単位ａ１の質量に対して１０〜５００質量％である、［１］または［２］に記載の光配向膜用組成物。
［４］ 低分子化合物Ｂが、下記式（Ｂ１）で表される化合物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
ここで、式（Ｂ１）中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ1は、水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ2は、１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ1は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
［５］ 重合体Ａが、更に、架橋性基を含む構成単位ａ２を有する、［１］〜［４］のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
［６］ 更に、架橋性基を有する架橋剤Ｃを含有する、［１］〜［５］のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
［７］ ［１］〜［６］のいずれかに記載の光配向膜用組成物を用いて作製し、光配向性組成物に含まれる重合体Ａおよび低分子化合物Ｂのシンナメート基が二量化したシクロブタン環、および／または、シンナメート基が異性化した構造を有する光配向膜。
［８］ ［７］に記載の光配向膜と、光配向膜上に設けられ、液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する、光学積層体。
［９］ 支持体と、光配向膜と、光学異方性層とをこの順に有する、［８］に記載の光学積層体。
［１０］ ［８］または［９］のいずれかに記載の光学積層体を有する、画像表示装置。
［８］ ［７］に記載の光配向膜と、光配向膜上に設けられ、液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する、光学積層体。
［９］ 支持体と、光配向膜と、光学異方性層とをこの順に有する、［８］に記載の光学積層体。
［１０］ ［８］または［９］のいずれかに記載の光学積層体を有する、画像表示装置。
本発明によれば、配向性に優れた光配向膜を作製することができる光配向膜用組成物、ならびに、それを用いて作製した光配向膜、光学積層体および画像表示装置を提供することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
［光配向膜用組成物］
本発明の光配向膜用組成物は、シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含有する、光配向膜用の組成物である。
ここで、本明細書において、シンナメート基とは、桂皮酸またはその誘導体を基本骨格として含有する桂皮酸構造を有する基であって、下記式（Ｉ）または下記式（ＩＩ）で表される基をいう。
（式中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ1は水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ2は１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。＊は結合手であることを示す。）
Ｒ1の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していていてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられる。
本発明の光配向膜用組成物は、シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含有する、光配向膜用の組成物である。
ここで、本明細書において、シンナメート基とは、桂皮酸またはその誘導体を基本骨格として含有する桂皮酸構造を有する基であって、下記式（Ｉ）または下記式（ＩＩ）で表される基をいう。
（式中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ1は水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ2は１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。＊は結合手であることを示す。）
Ｒ1の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していていてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられる。
本発明の光配向膜用組成物は、上述した通り、重合体Ａおよび低分子化合物Ｂをいずれも含有するため、作製される光配向膜の配向性が良好となる。これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
光配向膜用組成物を形成する支持体の材料によって光配向処理の温度条件を緩和させた場合等において、低分子化合物Ｂを含有しない組成物を用いた場合に配向が十分に進行しないことは、重合体Ａの主鎖によりシンナメート基の運動性が制限されているためと考えている。本発明においては、高分子鎖により熱運動が制限されることのない低分子化合物Ｂを配合することにより、重合体Ａを含む光配向膜の低分子化合物Ｂの配向が補助または起点となることで、重合体Ａのシンナメート基の配向性をも向上することができたと考えられる。
光配向膜用組成物を形成する支持体の材料によって光配向処理の温度条件を緩和させた場合等において、低分子化合物Ｂを含有しない組成物を用いた場合に配向が十分に進行しないことは、重合体Ａの主鎖によりシンナメート基の運動性が制限されているためと考えている。本発明においては、高分子鎖により熱運動が制限されることのない低分子化合物Ｂを配合することにより、重合体Ａを含む光配向膜の低分子化合物Ｂの配向が補助または起点となることで、重合体Ａのシンナメート基の配向性をも向上することができたと考えられる。
以下に、本発明の光配向膜用組成物が含有する重合体Ａおよび低分子化合物Ｂならびに任意成分について詳述する。
〔重合体Ａ〕
本発明の光配向膜用組成物が含有する重合体Ａは、シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体であれば特に限定されず、従来公知の重合体を用いることができる。
重合体Ａの主骨格は、例えばポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン、（メタ）アクリル系重合体、シクロオレフィン系重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリアセタール誘導体、ポリスチレン誘導体、ポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体等により形成される骨格を挙げることができる。特に樹脂フィルム上に配向層を設けるにあたっては、溶剤溶解性と膜の取り扱い性に優れる点から（メタ）アクリル系重合体及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種とすることが好ましい。
本発明の光配向膜用組成物が含有する重合体Ａは、シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体であれば特に限定されず、従来公知の重合体を用いることができる。
重合体Ａの主骨格は、例えばポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン、（メタ）アクリル系重合体、シクロオレフィン系重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリアセタール誘導体、ポリスチレン誘導体、ポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体等により形成される骨格を挙げることができる。特に樹脂フィルム上に配向層を設けるにあたっては、溶剤溶解性と膜の取り扱い性に優れる点から（メタ）アクリル系重合体及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種とすることが好ましい。
重合体Ａの好ましい分子量範囲は、塗布に際しての溶剤溶解性や溶液の粘度、および配向処理後の配向規制力発現およびその維持の観点で、重量平均分子量で１０００〜５０００００であるのが好ましく、２０００〜３０００００であるのがより好ましく、３０００〜２０００００であるのが更に好ましい。
ここで、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン（ＰＳ）換算値として定義され、本発明におけるＧＰＣによる測定は、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈ、ＨＺ４０００、ＨＺ２０００を用いて測定することができる。
ここで、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン（ＰＳ）換算値として定義され、本発明におけるＧＰＣによる測定は、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈ、ＨＺ４０００、ＨＺ２０００を用いて測定することができる。
＜シンナメート基を含む構成単位ａ１＞
上記重合体Ａが有するシンナメート基を含む構成単位ａ１としては、たとえば（メタ）アクリル系重合体およびポリオルガノシロキサンを例にとると、下記式（Ａ１）、（Ａ２）で表される繰り返し単位を好適に用いることができる。
上記重合体Ａが有するシンナメート基を含む構成単位ａ１としては、たとえば（メタ）アクリル系重合体およびポリオルガノシロキサンを例にとると、下記式（Ａ１）、（Ａ２）で表される繰り返し単位を好適に用いることができる。
ここで、式（Ａ１）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を表し、式（Ａ２）中、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、もしくは酸素原子を介して他のケイ素原子と結合していることを表わす。
式（Ａ１）および式（Ａ２）中、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｙは上記式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表わされるシンナメート基であることを表す。
また、Ｒ2の炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等が挙げられ、中でも、メチル基、エチル基であるのが好ましい。Ｒ2の炭素数１〜６のアルコキシ基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブトキシ基等が挙げられ、中でも、メトキシ基、エトキシ基であるのが好ましい。
式（Ａ１）および式（Ａ２）中、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｙは上記式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表わされるシンナメート基であることを表す。
また、Ｒ2の炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等が挙げられ、中でも、メチル基、エチル基であるのが好ましい。Ｒ2の炭素数１〜６のアルコキシ基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブトキシ基等が挙げられ、中でも、メトキシ基、エトキシ基であるのが好ましい。
また、Ｌとして用いうる構造として、具体的には、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｐｈ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｐｈ−Ｐｈ−、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｃｙ−等が挙げられる。ここで、Ｐｈは置換基を有していてもよい２価のベンゼン環（例えば、フェニレン基など）を表し、Ｃｙは置換基を有していてもよい２価のシクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン−１，４−ジイル基など）などが挙げられる。ここで、ｍおよびｎは１〜４の整数を表す。
上記式（Ａ１）で表される構成単位としては、より具体的には、例えば、以下の構成単位が挙げられる。
一方、上記式（Ａ２）で表される構成単位としては、より具体的には、例えば、以下の構成単位が挙げられる。
上記式（Ａ１）、（Ａ２）のＹ（上記式（Ｉ）および（ＩＩ）で表されるシンナメート基）の他の例としては、特開２０１５−０２６０５０号公報の［００１６］段落に記載された以下の構造に置換したものが挙げられる。なお、下記構造中、＊は、重合体の主鎖構造との結合位置を示す。
＜架橋性基を含む構成単位ａ２＞
本発明においては、配向性がより向上する理由から、上記重合体Ａが、更に、架橋性基を含む構成単位ａ２を有しているのが好ましい。
上記架橋性基は、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基であるのが好ましい。
上記架橋性基を有する構成単位ａ２としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基、エチレン性不飽和基、および、ブロックイソシアネート基よりなる群から選ばれた少なくとも１つを含む構成単位が挙げられる。
これらのうち、エポキシ基および／またはオキセタニル基を有する構成単位であることが好ましい。なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
本発明においては、配向性がより向上する理由から、上記重合体Ａが、更に、架橋性基を含む構成単位ａ２を有しているのが好ましい。
上記架橋性基は、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基であるのが好ましい。
上記架橋性基を有する構成単位ａ２としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基、エチレン性不飽和基、および、ブロックイソシアネート基よりなる群から選ばれた少なくとも１つを含む構成単位が挙げられる。
これらのうち、エポキシ基および／またはオキセタニル基を有する構成単位であることが好ましい。なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
エポキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、α−エチルアクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第４１６８４４３号公報の段落００３１〜００３５に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、特開２００１−３３０９５３号公報の段落００１１〜００１６に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどが挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
上記エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位ａ２−１を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。
上記エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位ａ２−１を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。
これらの中でも好ましいものは、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル、及び、メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルである。これらの構成単位は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。なお、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ、上述した式（Ａ１）および式（Ａ２）中のＲ1およびＲ2と同義である。
上記架橋性基を有する構成単位ａ２の他の例としては、エチレン性不飽和基を有する構成単位が挙げられる。上記エチレン性不飽和基を有する構成単位としては、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位が好ましく、末端にエチレン性不飽和基を有し、炭素数３〜１６の側鎖を有する構成単位がより好ましい。
エチレン性不飽和基を有する構成単位については、特開２０１１−２１５５８０号公報の段落００７２〜００９０の記載、及び、特開２００８−２５６９７４号公報の段落００１３〜００３１の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
エチレン性不飽和基を有する構成単位については、特開２０１１−２１５５８０号公報の段落００７２〜００９０の記載、及び、特開２００８−２５６９７４号公報の段落００１３〜００３１の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
上記では、架橋性基を有する構成単位を形成するために用いうる化合物を例示したが、必ずしもこうした化合物を用いて形成する必要はなく、例えば重合体Ａの中間体に架橋性基をペンダントすることによって形成してもよい。
＜他の構成単位＞
本発明においては、上記重合体Ａは、上述した構成単位ａ１および構成単位ａ２以外の他の構成単位を有していてもよい。共重合体に他の構成単位が含まれることにより、例えば基材密着性、溶剤溶解性、耐熱性等を高めることができる。
基材密着性や溶剤溶解性の観点からは、重合体Ａの極性を調整する官能基、たとえば、親水性を付与する観点では水酸基やカルボン酸基、イオン性基を含有する構成単位を、親油性を付与する観点では高級アルキル基や芳香族基を有する構成単位を、それぞれ付与できる。基材密着性と溶剤溶解性の両立の観点では、５員環以上の複素環、環状ケトン、芳香環を有する構成単位を付与すると好ましい。また、耐熱性を高める観点からは、剛直な構造を有する構成単位を付与できる。
本発明においては、上記重合体Ａは、上述した構成単位ａ１および構成単位ａ２以外の他の構成単位を有していてもよい。共重合体に他の構成単位が含まれることにより、例えば基材密着性、溶剤溶解性、耐熱性等を高めることができる。
基材密着性や溶剤溶解性の観点からは、重合体Ａの極性を調整する官能基、たとえば、親水性を付与する観点では水酸基やカルボン酸基、イオン性基を含有する構成単位を、親油性を付与する観点では高級アルキル基や芳香族基を有する構成単位を、それぞれ付与できる。基材密着性と溶剤溶解性の両立の観点では、５員環以上の複素環、環状ケトン、芳香環を有する構成単位を付与すると好ましい。また、耐熱性を高める観点からは、剛直な構造を有する構成単位を付与できる。
＜含有量＞
本発明においては、上記重合体Ａの含有量は、後述する有機溶媒を含有する場合、溶媒１００質量部に対して０．１〜５０質量部であるのが好ましく、０．５〜１０質量部であるのがより好ましい。
本発明においては、上記重合体Ａの含有量は、後述する有機溶媒を含有する場合、溶媒１００質量部に対して０．１〜５０質量部であるのが好ましく、０．５〜１０質量部であるのがより好ましい。
〔低分子化合物Ｂ〕
本発明の光配向膜用組成物が含有する低分子化合物Ｂは、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい化合物である。
本発明の光配向膜用組成物は、上述した通り、低分子化合物Ｂを含有することにより、作製される光配向膜の配向性が良好となる。
本発明の光配向膜用組成物が含有する低分子化合物Ｂは、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい化合物である。
本発明の光配向膜用組成物は、上述した通り、低分子化合物Ｂを含有することにより、作製される光配向膜の配向性が良好となる。
本発明においては、配向性がより向上する理由から、上記低分子化合物Ｂの分子量が２００〜５００であるのが好ましく、２００〜４００であるのがより好ましい。
上記低分子化合物Ｂとしては、例えば、下記式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。
ここで、式（Ｂ１）中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ1は、水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ2は、１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ1は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｒ1の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していていてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられ、中でも、炭素数１〜２０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜６のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が更に好ましい。
また、Ｒ2の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、置換基を有していていてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられ、中でも、炭素数１〜２０の鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０の分岐鎖状のアルキル基がより好ましい。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ1がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基等が挙げられる。
また、Ｒ1の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していていてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられ、中でも、炭素数１〜２０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜６のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が更に好ましい。
また、Ｒ2の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、置換基を有していていてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられ、中でも、炭素数１〜２０の鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０の分岐鎖状のアルキル基がより好ましい。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ1がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基等が挙げられる。
上記式（Ｂ１）で表される化合物としては、具体的には、例えば、オクチルシンナメート、エチル−４−イソプロピルシンナメート、エチル−２，４−ジイソプロピルシンナメート、メチル−２，４−ジイソプロピルシンナメート、プロピル−ｐ−メトキシシンナメート、イソプロピル−ｐ−メトキシシンナメート、イソアミル−ｐ−メトキシシンナメート、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート、２−エトキシエチル−ｐ−メトキシシンナメート、２−ヘキシルデカニル−ｐ−メトキシシンナメート、シクロヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート等が挙げられる。
＜含有量＞
本発明においては、作製される光配向膜の配向性がより良好となる理由から、上記低分子化合物Ｂの含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の質量に対して１０〜５００質量％であるのが好ましく、３０〜３００質量％であるのが好ましい。
また、上記低分子化合物Ｂの含有量は、後述する有機溶媒を含有する場合、溶媒１００質量部に対して０．０１〜５０質量部であるのが好ましく、０．１〜１０質量部であるのがより好ましい。
本発明においては、作製される光配向膜の配向性がより良好となる理由から、上記低分子化合物Ｂの含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の質量に対して１０〜５００質量％であるのが好ましく、３０〜３００質量％であるのが好ましい。
また、上記低分子化合物Ｂの含有量は、後述する有機溶媒を含有する場合、溶媒１００質量部に対して０．０１〜５０質量部であるのが好ましく、０．１〜１０質量部であるのがより好ましい。
〔架橋剤Ｃ〕
本発明の光配向膜用組成物は、配向性がより向上する理由から、架橋性基を含む構成単位ａ２を有する重合体Ａとは別に、架橋性基を有する架橋剤Ｃを含有していることが好ましい。
上記架橋剤Ｃの分子量は、１０００以下であるのが好ましく、１００〜５００であるのがより好ましい。
本発明の光配向膜用組成物は、配向性がより向上する理由から、架橋性基を含む構成単位ａ２を有する重合体Ａとは別に、架橋性基を有する架橋剤Ｃを含有していることが好ましい。
上記架橋剤Ｃの分子量は、１０００以下であるのが好ましく、１００〜５００であるのがより好ましい。
上記架橋性基は、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基であるのが好ましい。
上記架橋剤Ｃとしては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物（保護されたイソシアナト基を有する化合物）、アルコキシメチル基含有化合物等が挙げられる。
これらのうち、以下に具体例を示す、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
上記架橋剤Ｃとしては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物（保護されたイソシアナト基を有する化合物）、アルコキシメチル基含有化合物等が挙げられる。
これらのうち、以下に具体例を示す、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
＜分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物＞
分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、脂肪族エポキシ化合物等を挙げることができる。
これらは市販品として入手できる。例えば、デナコールＥＸ−６１１、ＥＸ−６１２、ＥＸ−６１４、ＥＸ−６１４Ｂ、ＥＸ−６２２、ＥＸ−５１２、ＥＸ−５２１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−４２１、ＥＸ−３１３、ＥＸ−３１４、ＥＸ−３２１、ＥＸ−２１１、ＥＸ−２１２、ＥＸ−８１０、ＥＸ−８１１、ＥＸ−８５０、ＥＸ−８５１、ＥＸ−８２１、ＥＸ−８３０、ＥＸ−８３２、ＥＸ−８４１、ＥＸ−９１１、ＥＸ−９４１、ＥＸ−９２０、ＥＸ−９３１、ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ、ＤＬＣ−２０１、ＤＬＣ−２０３、ＤＬＣ−２０４、ＤＬＣ−２０５、ＤＬＣ−２０６、ＤＬＣ−３０１、ＤＬＣ−４０２（以上ナガセケムテックス（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、２０８１、３０００、ＥＨＰＥ３１５０、エポリードＧＴ４０１、セルビナースＢ０１３４、Ｂ０１７７（（株）ダイセル製）、などが挙げられる。
これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、脂肪族エポキシ化合物等を挙げることができる。
これらは市販品として入手できる。例えば、デナコールＥＸ−６１１、ＥＸ−６１２、ＥＸ−６１４、ＥＸ−６１４Ｂ、ＥＸ−６２２、ＥＸ−５１２、ＥＸ−５２１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−４２１、ＥＸ−３１３、ＥＸ−３１４、ＥＸ−３２１、ＥＸ−２１１、ＥＸ−２１２、ＥＸ−８１０、ＥＸ−８１１、ＥＸ−８５０、ＥＸ−８５１、ＥＸ−８２１、ＥＸ−８３０、ＥＸ−８３２、ＥＸ−８４１、ＥＸ−９１１、ＥＸ−９４１、ＥＸ−９２０、ＥＸ−９３１、ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ、ＤＬＣ−２０１、ＤＬＣ−２０３、ＤＬＣ−２０４、ＤＬＣ−２０５、ＤＬＣ−２０６、ＤＬＣ−３０１、ＤＬＣ−４０２（以上ナガセケムテックス（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、２０８１、３０００、ＥＨＰＥ３１５０、エポリードＧＴ４０１、セルビナースＢ０１３４、Ｂ０１７７（（株）ダイセル製）、などが挙げられる。
これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
＜分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物＞
分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。
分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。
＜ブロックイソシアネート化合物＞
ブロックイソシアネート化合物は、イソシアネート基が化学的に保護されたブロックイソシアネート基を有する化合物であれば特に制限はないが、硬化性の観点から、１分子内に２以上のブロックイソシアネート基を有する化合物であることが好ましい。
なお、本発明におけるブロックイソシアネート基とは、熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であり、例えば、ブロック剤とイソシアネート基とを反応させイソシアネート基を保護した基が好ましく例示できる。また、上記ブロックイソシアネート基は、９０℃〜２５０℃の熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であることが好ましい。
また、ブロックイソシアネート化合物としては、その骨格は特に限定されるものではなく、１分子中にイソシアネート基を２個有するものであればどのようなものでもよく、脂肪族、脂環族又は芳香族のポリイソシアネートであってよいが、例えば２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３−トリメチレンジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，９−ノナメチレンジイソシアネート、１，１０−デカメチレンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、２，２’−ジエチルエーテルジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ｏ−キシレンジイソシアネート、ｍ−キシレンジイソシアネート、ｐ−キシレンジイソシアネート、メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、シクロヘキサン−１，３−ジメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジメチレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−メチレンジトリレン−４，４’−ジイソシアネート、４，４’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、テトラクロロフェニレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、水素化１，３−キシリレンジイソシアネート、水素化１，４−キシリレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物及びこれらの化合物から派生するプレポリマー型の骨格の化合物を好適に用いることができる。これらの中でも、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）やジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）が特に好ましい。
ブロックイソシアネート化合物は、イソシアネート基が化学的に保護されたブロックイソシアネート基を有する化合物であれば特に制限はないが、硬化性の観点から、１分子内に２以上のブロックイソシアネート基を有する化合物であることが好ましい。
なお、本発明におけるブロックイソシアネート基とは、熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であり、例えば、ブロック剤とイソシアネート基とを反応させイソシアネート基を保護した基が好ましく例示できる。また、上記ブロックイソシアネート基は、９０℃〜２５０℃の熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であることが好ましい。
また、ブロックイソシアネート化合物としては、その骨格は特に限定されるものではなく、１分子中にイソシアネート基を２個有するものであればどのようなものでもよく、脂肪族、脂環族又は芳香族のポリイソシアネートであってよいが、例えば２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３−トリメチレンジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，９−ノナメチレンジイソシアネート、１，１０−デカメチレンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、２，２’−ジエチルエーテルジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ｏ−キシレンジイソシアネート、ｍ−キシレンジイソシアネート、ｐ−キシレンジイソシアネート、メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、シクロヘキサン−１，３−ジメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジメチレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−メチレンジトリレン−４，４’−ジイソシアネート、４，４’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、テトラクロロフェニレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、水素化１，３−キシリレンジイソシアネート、水素化１，４−キシリレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物及びこれらの化合物から派生するプレポリマー型の骨格の化合物を好適に用いることができる。これらの中でも、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）やジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）が特に好ましい。
ブロックイソシアネート化合物の母構造としては、ビウレット型、イソシアヌレート型、アダクト型、２官能プレポリマー型等を挙げることができる。
上記ブロックイソシアネート化合物のブロック構造を形成するブロック剤としては、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール系化合物、イミド系化合物等を挙げることができる。これらの中でも、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物から選ばれるブロック剤が特に好ましい。
上記ブロックイソシアネート化合物のブロック構造を形成するブロック剤としては、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール系化合物、イミド系化合物等を挙げることができる。これらの中でも、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物から選ばれるブロック剤が特に好ましい。
ブロックイソシアネート化合物は、市販品として入手可能であり、例えば、コロネートＡＰステーブルＭ、コロネート２５０３、２５１５、２５０７、２５１３、２５５５、ミリオネートＭＳ−５０（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＢ−８３０、Ｂ−８１５Ｎ、Ｂ−８２０ＮＳＵ、Ｂ−８４２Ｎ、Ｂ−８４６Ｎ、Ｂ−８７０Ｎ、Ｂ−８７４Ｎ、Ｂ−８８２Ｎ（以上、三井化学（株）製）、デュラネート１７Ｂ−６０ＰＸ、１７Ｂ−６０Ｐ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｘ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ、ＭＦ−Ｂ６０Ｘ、ＭＦ−Ｂ６０Ｂ、ＭＦ−Ｋ６０Ｘ、ＭＦ−Ｋ６０Ｂ、Ｅ４０２−Ｂ８０Ｂ、ＳＢＮ−７０Ｄ、ＳＢＢ−７０Ｐ、Ｋ６０００（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、デスモジュールＢＬ１１００、ＢＬ１２６５ ＭＰＡ／Ｘ、ＢＬ３５７５／１、ＢＬ３２７２ＭＰＡ、ＢＬ３３７０ＭＰＡ、ＢＬ３４７５ＢＡ／ＳＮ、ＢＬ５３７５ＭＰＡ、ＶＰＬＳ２０７８／２、ＢＬ４２６５ＳＮ、ＰＬ３４０、ＰＬ３５０、スミジュールＢＬ３１７５（以上、住化バイエルウレタン（株）製）等を好ましく使用することができる。
＜含有量＞
本発明においては、上記架橋剤Ｃを含有する場合の含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の１００質量部に対して１〜１０００質量部であるのが好ましく、１０〜５００質量部であるのが好ましい。
また、上記架橋剤Ｃを含有する場合の含有量は、後述する有機溶媒を含有する場合、溶媒１００質量部に対して０．０５〜５０質量部であるのが好ましく、１〜１０質量部であるのがより好ましい。
本発明においては、上記架橋剤Ｃを含有する場合の含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の１００質量部に対して１〜１０００質量部であるのが好ましく、１０〜５００質量部であるのが好ましい。
また、上記架橋剤Ｃを含有する場合の含有量は、後述する有機溶媒を含有する場合、溶媒１００質量部に対して０．０５〜５０質量部であるのが好ましく、１〜１０質量部であるのがより好ましい。
〔有機溶媒〕
本発明の光配向膜用組成物は、光配向膜を作製する作業性等の観点から、有機溶媒を含有するのが好ましい。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明の光配向膜用組成物は、光配向膜を作製する作業性等の観点から、有機溶媒を含有するのが好ましい。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
〔その他の成分Ｄ〕
本発明の光配向性組成物は、上記以外の他の成分を含有してもよく、例えば、架橋促進剤、密着改良剤、レベリング剤、可塑剤などが挙げられる。架橋促進剤としては、種々の金属塩キレート化合物や、潜在性酸発生剤などが例示される。密着改良剤、レベリング剤、可塑剤等は、塗布用組成物に加えることが従来知られている種々の公知の素材を利用することができる。
本発明の光配向性組成物は、上記以外の他の成分を含有してもよく、例えば、架橋促進剤、密着改良剤、レベリング剤、可塑剤などが挙げられる。架橋促進剤としては、種々の金属塩キレート化合物や、潜在性酸発生剤などが例示される。密着改良剤、レベリング剤、可塑剤等は、塗布用組成物に加えることが従来知られている種々の公知の素材を利用することができる。
［光配向膜］
本発明の光配向膜は、上述した本発明の光配向膜用組成物を用いて作製され、光配向性組成物に含まれる重合体Ａおよび低分子化合物Ｂのシンナメート基が二量化したシクロブタン環、および／または、上記シンナメート基が異性化した構造を有する光配向膜である。
本発明の光配向膜は、上述した本発明の光配向膜用組成物を用いて作製され、光配向性組成物に含まれる重合体Ａおよび低分子化合物Ｂのシンナメート基が二量化したシクロブタン環、および／または、上記シンナメート基が異性化した構造を有する光配向膜である。
光配向膜の膜厚としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０〜１０００ｎｍが好ましく、１０〜３００ｎｍがより好ましい。
更に、本発明においては、光配向膜材料としてＷＯ２０１４−１７１３７６やＷＯ２０１４−０７３６５８に記載の材料を用いることもできる。
〔製造方法〕
本発明の光配向膜は、上述した本発明の光配向膜用組成物を用いる以外は従来公知の製造方法により製造することができ、例えば、上述した本発明の光配向膜用組成物を支持体表面に塗布する塗布工程と、光配向膜用組成物の塗膜に対し、偏光または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する光照射工程とを有する製造方法により作製することができる。
なお、支持体については、後述する本発明の光学積層体において説明する。
本発明の光配向膜は、上述した本発明の光配向膜用組成物を用いる以外は従来公知の製造方法により製造することができ、例えば、上述した本発明の光配向膜用組成物を支持体表面に塗布する塗布工程と、光配向膜用組成物の塗膜に対し、偏光または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する光照射工程とを有する製造方法により作製することができる。
なお、支持体については、後述する本発明の光学積層体において説明する。
＜塗布工程＞
塗布工程における塗布方法は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーティング、ダイコーティング、グラビアコーティング、フレキソ印刷、インクジェット印刷などが挙げられる。
塗布工程における塗布方法は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーティング、ダイコーティング、グラビアコーティング、フレキソ印刷、インクジェット印刷などが挙げられる。
＜光照射工程＞
光照射工程において、光配向膜用組成物の塗膜に対して照射する偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、楕円偏光などが挙げられ、中でも、直線偏光が好ましい。
また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、塗膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、θが２０〜８０°であることが好ましい。
光照射工程において、光配向膜用組成物の塗膜に対して照射する偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、楕円偏光などが挙げられ、中でも、直線偏光が好ましい。
また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、塗膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、θが２０〜８０°であることが好ましい。
偏光または非偏光における波長としては、光配向膜用組成物の塗膜に、液晶分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、例えば、紫外線、近紫外線、可視光線などが挙げられる。中でも、２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの近紫外線が特に好ましい。
また、偏光または非偏光を照射するための光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。このような光源から得た紫外線や可視光線に対して、干渉フィルタや色フィルタなどを用いることで、照射する波長範囲を制限することができる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタや偏光プリズムを用いることで、直線偏光を得ることができる。
また、偏光または非偏光を照射するための光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。このような光源から得た紫外線や可視光線に対して、干渉フィルタや色フィルタなどを用いることで、照射する波長範囲を制限することができる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタや偏光プリズムを用いることで、直線偏光を得ることができる。
偏光または非偏光の積算光量としては、光配向膜用組成物の塗膜に、液晶分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はなく、特に制限はないが、１〜３００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、５〜１００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましい。
偏光または非偏光の照度としては、光配向膜用組成物の塗膜に、液晶分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、０．１〜３００ｍＷ／ｃｍ2が好ましく、１〜１００ｍＷ／ｃｍ2がより好ましい。
偏光または非偏光の照度としては、光配向膜用組成物の塗膜に、液晶分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、０．１〜３００ｍＷ／ｃｍ2が好ましく、１〜１００ｍＷ／ｃｍ2がより好ましい。
［光学積層体］
本発明の光学積層体は、上述した本発明の光配向膜と、光配向膜上に設けられ、液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する、光学積層体である。
また、本発明の光学積層体は、更に支持体を有しているのが好ましく、具体的には、支持体と光配向膜と光学異方性層とをこの順に有しているのが好ましい。
本発明の光学積層体は、上述した本発明の光配向膜と、光配向膜上に設けられ、液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する、光学積層体である。
また、本発明の光学積層体は、更に支持体を有しているのが好ましく、具体的には、支持体と光配向膜と光学異方性層とをこの順に有しているのが好ましい。
図１（Ａ）〜（Ｄ）は、それぞれ本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。なお、図１（Ａ）〜（Ｄ）は、いずれも模式図であり、各層の厚みの関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。
図１（Ａ）に示す光学積層体１０は、光配向膜１と、光学異方性層２とをこの順で有する。
図１（Ｂ）に示す光学積層体２０は、支持体３と、光配向膜１と、光学異方性層２とをこの順で有する。
図１（Ｃ）に示す光学積層体３０は、ポリマーフィルム３ｂおよび偏光子３ａと、光配向膜１と、光学異方性層２とをこの順で有する。
図１（Ｄ）に示す光学積層体４０は、支持体３と、光配向膜１と、第１光学異方性層２ａおよび第２光学異方性層２ｂとをこの順で有する。
図１（Ａ）に示す光学積層体１０は、光配向膜１と、光学異方性層２とをこの順で有する。
図１（Ｂ）に示す光学積層体２０は、支持体３と、光配向膜１と、光学異方性層２とをこの順で有する。
図１（Ｃ）に示す光学積層体３０は、ポリマーフィルム３ｂおよび偏光子３ａと、光配向膜１と、光学異方性層２とをこの順で有する。
図１（Ｄ）に示す光学積層体４０は、支持体３と、光配向膜１と、第１光学異方性層２ａおよび第２光学異方性層２ｂとをこの順で有する。
〔光学異方性層〕
本発明の光学積層体が有する光学異方性層は、液晶性化合物を含有する光学異方性層であれば特に限定されず、従来公知の光学異方性層を適宜採用して用いることができる。
このような光学異方性層は、重合性基を有する液晶性化合物を含有する組成物（以下、「光学異方性層形成用組成物」ともいう。）を硬化させて得られる層であるのが好ましく、単層構造であってもよく、複数層を積層した構造（積層体）であってもよい。
以下に、光学異方性層形成用組成物が含有している液晶性化合物および任意の添加剤にういて説明する。
本発明の光学積層体が有する光学異方性層は、液晶性化合物を含有する光学異方性層であれば特に限定されず、従来公知の光学異方性層を適宜採用して用いることができる。
このような光学異方性層は、重合性基を有する液晶性化合物を含有する組成物（以下、「光学異方性層形成用組成物」ともいう。）を硬化させて得られる層であるのが好ましく、単層構造であってもよく、複数層を積層した構造（積層体）であってもよい。
以下に、光学異方性層形成用組成物が含有している液晶性化合物および任意の添加剤にういて説明する。
＜液晶性化合物＞
光学異方性層形成用組成物が含有する液晶性化合物は、重合性基を有する液晶性化合物である。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
本発明においては、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましく、棒状液晶性化合物を用いるのがより好ましい。
光学異方性層形成用組成物が含有する液晶性化合物は、重合性基を有する液晶性化合物である。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
本発明においては、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましく、棒状液晶性化合物を用いるのがより好ましい。
本発明においては、上述の液晶性化合物の固定化のために、重合性基を有する液晶性化合物を用いるが、液晶性化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。なお、液晶性化合物が２種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。なお、液晶性化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。
また、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基またはアクリロイル基を意味する表記である。
棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
＜添加剤＞
光学異方性層形成用組成物には、上述した液晶性化合物以外の成分が含まれていてもよい。
例えば、光学異方性層形成用組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ、オキシムエステル類などが挙げられる。
重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
光学異方性層形成用組成物には、上述した液晶性化合物以外の成分が含まれていてもよい。
例えば、光学異方性層形成用組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ、オキシムエステル類などが挙げられる。
重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
また、光学異方性層形成用組成物には、塗工膜の均一性、膜の強度の点から、重合性モノマーが含まれていてもよい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶性化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。
重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物の全質量に対して、１〜５０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶性化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。
重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物の全質量に対して、１〜５０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましい。
また、光学異方性層形成用組成物には、塗工膜の均一性、膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。
本発明の界面活性剤の構成単位の１つは、一般式（３）で表され、光または熱または酸または塩基の刺激により開裂する構造部位を有する連結基を含む。光または熱または酸または塩基の刺激により開裂する構造部位を有する連結基と、低極性置換基を同一分子内に有することが好ましく、酸の刺激により開裂する構造部位を有する連結基とフッ素基を同一分子内に有することがさらに好ましい。
一般式（３）中、Ｒ２〜Ｒ５が水素原子であり、ｍａが１または２であり、ｎａが４または６であり、Ｘがフッ素原子であることが好ましい。
（化合物例）
一般式（３）で表される繰り返し単位は単量体の重合により得ることができる。一般式（３）で表される繰り返し単位を与える好ましい単量体の具体例を以下に示す。
一般式（３）で表される繰り返し単位は単量体の重合により得ることができる。一般式（３）で表される繰り返し単位を与える好ましい単量体の具体例を以下に示す。
本発明の重合体の構成単位の１つは一般式（４）で表される化合物である。
一般式（４）中、Ｌは置換もしくは無置換の脂肪族鎖状基、置換もしくは無置換の脂肪族環状基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換のヘテロアリール基からなる群より選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基であり、脂肪族鎖状基または環状基またはその組合せであることが好ましく、炭素数２〜８の脂肪族鎖状基または環状基であることが最も好ましい。Ｙは水素原子または炭素数１〜１８の有機基を表し、水素原子、またはメトキシ基、シクロヘキシル基であることが最も好ましい。Ｒ６は水素原子、またはメチル基であることが好ましい。
以下に一般式（４）で表される繰り返し単位を与える好ましい単量体の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
次に、一般式（３）と（４）で表される繰り返し単位を有する共重合体の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
また、本発明における重合体は、必要に応じて、一般式（３）で表される繰り返し単位及び一般式（４）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位（その他の繰り返し単位）を有していてもよい。
本発明の重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００〜５０００００が好ましく、１５００〜４０００００がより好ましく、２０００〜３０００００が特に好ましい。
本発明の重合体の数平均分子量（Ｍｎ）は、５００〜２５００００が好ましく、１０００〜２０００００がより好ましく、１５００〜１５００００が特に好ましい。
本発明の重合体の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．００〜２０．００が好ましく、１．００〜１８．００がより好ましく、１．００〜１６．００が特に好ましい。
なお、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって下記の条件で測定された値である。
本発明の重合体の数平均分子量（Ｍｎ）は、５００〜２５００００が好ましく、１０００〜２０００００がより好ましく、１５００〜１５００００が特に好ましい。
本発明の重合体の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．００〜２０．００が好ましく、１．００〜１８．００がより好ましく、１．００〜１６．００が特に好ましい。
なお、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって下記の条件で測定された値である。
また、光学異方性層形成用組成物には有機溶媒が含まれていてもよい。有機溶媒としては、上述した本発明の光配向膜用組成物において説明したものと同様のものを挙げることができる。
また、光学異方性層形成用組成物には、偏光子界面側垂直配向剤、空気界面側垂直配向剤など垂直配向促進剤、偏光子界面側水平配向剤、空気界面側水平配向剤など水平配向促進剤などの各種配向剤が含まれていてもよい。
さらに、光学異方性層形成用組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、ポリマーなどが含まれていてもよい。
さらに、光学異方性層形成用組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、ポリマーなどが含まれていてもよい。
このような成分を有する光学異方性層形成用組成物を用いた光学異方性層の形成方法は特に限定されず、例えば、上述した本発明の光配向膜上に、光学異方性層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施すことにより形成することができる。
光学異方性層形成用組成物の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層形成用組成物の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
本発明においては、上記光学異方性層の厚みについては特に限定されないが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがより好ましい。
また、本発明においては、上記光学異方性層をポジティブＡプレートとして機能させたい場合、棒状液晶性化合物をホモジニアス（水平）配向させた光学異方性層であるのが好ましい。
また、ポジティブＡプレートが生じる斜め入射方向の位相差変化を調節するため、上記光学異方性層は、棒状液晶性化合物をホモジニアス（水平）配向させた第１光学異方性層と、棒状液晶性化合物をホメオトロピック（垂直）配向させた第２光学異方性層とを有しているのが好ましい。
また、ポジティブＡプレートが生じる斜め入射方向の位相差変化を調節するため、上記光学異方性層は、棒状液晶性化合物をホモジニアス（水平）配向させた第１光学異方性層と、棒状液晶性化合物をホメオトロピック（垂直）配向させた第２光学異方性層とを有しているのが好ましい。
更に、本発明においては、上記光学異方性層の配向性がより向上する理由から、光学異方性層が、上述した光学異方性層形成用組成物をスメクチック相に配向した後に重合（配向を固定化）して得られる層であるのが好ましい。
本発明の光学異方性層は、支持体を有してもよいし、光学異方性層のみ支持体から剥離して使用してもよい。
本発明の光学積層体が有する光学異方性層は、優れた視野角特性を付与する観点から、下記式（ＩＩ）を満たすのが好ましい。
０．７５＜（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩ）
ここで、式（ＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
また、面内レターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
０．７５＜（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩ）
ここで、式（ＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
また、面内レターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
〔支持体〕
本発明の光学積層体は、上述したように、光学異方性層を形成するための基材として支持体を有していてもよい。
このような支持体としては、例えば、偏光子、ポリマーフィルム等が挙げられ、これらが組み合わされたもの、例えば、偏光子とポリマーフィルムとの積層体、ポリマーフィルムと偏光子とポリマーフィルムとの積層体などであってもよい。また、支持体は必要に応じて光配向層と光学異方性層と剥離可能に設けられていてもよい。
本発明の光学積層体は、上述したように、光学異方性層を形成するための基材として支持体を有していてもよい。
このような支持体としては、例えば、偏光子、ポリマーフィルム等が挙げられ、これらが組み合わされたもの、例えば、偏光子とポリマーフィルムとの積層体、ポリマーフィルムと偏光子とポリマーフィルムとの積層体などであってもよい。また、支持体は必要に応じて光配向層と光学異方性層と剥離可能に設けられていてもよい。
＜偏光子＞
本発明においては、本発明の光学積層体を画像表示装置に用いる場合は、支持体として偏光子を用いることができる。
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であれば特に限定されず、従来公知の吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第５０４８１２０号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、取り扱い性の点から、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマー、特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子であることが好ましい。
本発明においては、本発明の光学積層体を画像表示装置に用いる場合は、支持体として偏光子を用いることができる。
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であれば特に限定されず、従来公知の吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第５０４８１２０号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、取り扱い性の点から、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマー、特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子であることが好ましい。
偏光子の厚みは特に限定されないが、１〜６０μｍであるのが好ましく、１〜３０μｍであるのがより好ましく、２〜２０μｍであるのが更に好ましい。
＜ポリマーフィルム＞
ポリマーフィルムは、特に限定されず、通常用いるポリマーフィルム（例えば、偏光子保護フィルムなど）を用いることができる。
ポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、具体的には、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
ポリマーフィルムは、特に限定されず、通常用いるポリマーフィルム（例えば、偏光子保護フィルムなど）を用いることができる。
ポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、具体的には、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
これらのうち、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」ともいう。）を好ましく用いることができる。
また、加工性および光学性能の観点から、アクリル系ポリマーを用いるのも好ましい。
アクリル系ポリマーとしては、ポリメチルメタクリレートや、特開２００９−９８６０５号公報の段落［００１７］〜［０１０７］に記載されるラクトン環含有重合体等が挙げられる。
また、加工性および光学性能の観点から、アクリル系ポリマーを用いるのも好ましい。
アクリル系ポリマーとしては、ポリメチルメタクリレートや、特開２００９−９８６０５号公報の段落［００１７］〜［０１０７］に記載されるラクトン環含有重合体等が挙げられる。
ポリマーフィルムの厚さは特に限定されないが、光学積層体の厚みを薄くできる等の理由から４０μｍ以下が好ましい。下限は特に限定されないが通常５μｍ以上である。
本発明においては、本発明の光配向膜用組成物を用いる優位性が高くなる理由から、支持体のガラス転移温度が１３０℃以下であるのが好ましい。このような支持体は、従来の光配向膜用組成物では光配向膜の形成や配向処理の際の熱によってシワや変形を生じやすいが、本発明によればそういった困難を生じることなく光配向膜を形成することができる。
ここで、本明細書においては、示差走査熱量測定装置（Ｘ−ＤＳＣ７０００（アイティー計測制御（株）製））にて、支持体のサンプル２０ｍｇを測定パンに入れ、これを窒素寄留中で速度１０℃／分で３０℃から１２０℃まで昇温して１５分間保持した後、３０℃まで−２０℃／分で冷却した。この後、再度３０℃から２５０℃まで昇温して、ベースラインが低温側から偏奇し始める温度をガラス転移温度Ｔｇとする。
ここで、本明細書においては、示差走査熱量測定装置（Ｘ−ＤＳＣ７０００（アイティー計測制御（株）製））にて、支持体のサンプル２０ｍｇを測定パンに入れ、これを窒素寄留中で速度１０℃／分で３０℃から１２０℃まで昇温して１５分間保持した後、３０℃まで−２０℃／分で冷却した。この後、再度３０℃から２５０℃まで昇温して、ベースラインが低温側から偏奇し始める温度をガラス転移温度Ｔｇとする。
また、本発明においては、上記支持体の厚みについては特に限定されないが、１〜１００μｍであるのが好ましく、５〜５０μｍであるのがより好ましい。なお、上記支持体の厚みとは、偏光子およびポリマーフィルムをいずれも有している場合は、これらの厚みの合計の厚みをいう。
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学積層体を有する、画像表示装置である。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。これらに対し、表示画質を向上させるための光学補償のために使用することもできるし、外光が表示素子で反射されることによる表示画質の低下を抑制するために使用することもできる。
本発明の画像表示装置は、本発明の光学積層体を有する、画像表示装置である。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。これらに対し、表示画質を向上させるための光学補償のために使用することもできるし、外光が表示素子で反射されることによる表示画質の低下を抑制するために使用することもできる。
〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置は、上述した本発明の光学積層体と、液晶セルとを有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の光学積層体を用いるのが好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置は、上述した本発明の光学積層体と、液晶セルとを有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の光学積層体を用いるのが好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、及び特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
〔有機ＥＬ表示装置〕
有機ＥＬ表示装置において、本発明の光学積層体を、偏光子、光学異方性層、有機ＥＬパネルがこの順になるように配置することにより、外部光が有機ＥＬパネルの電極等に反射して表示コントラストを低下させる現象を抑制し高画質の表示を可能にできる。有機ＥＬパネルとしては公知の構成が広く利用でき、また、さらにタッチパネルを具備するものであることができる。
有機ＥＬ表示装置において、本発明の光学積層体を、偏光子、光学異方性層、有機ＥＬパネルがこの順になるように配置することにより、外部光が有機ＥＬパネルの電極等に反射して表示コントラストを低下させる現象を抑制し高画質の表示を可能にできる。有機ＥＬパネルとしては公知の構成が広く利用でき、また、さらにタッチパネルを具備するものであることができる。
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
〔重合体Ａの合成〕
＜重合体Ａ１＞
冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）１質量部、および、溶媒としてジエチレングリコールメチルエチルエーテル１８０質量部を仕込んだ。ここに、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート１００質量部を加え、フラスコ内を窒素置換した後、緩やかに攪拌をした。溶液温度を８０℃に上昇させ、この温度を５時間維持することにより、エポキシ基を有するポリメタクリレートを約３５重量％含有する重合体溶液を得た。得られたエポキシ含有ポリメタクリレートの重量平均分子量Ｍｗは２５，０００であった。
次いで、別の反応容器中に、上記で得たエポキシ含有ポリメタクリレートを含む溶液２８６質量部（ポリメタクリレートに換算して１００質量部）、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１２０質量部、触媒としてテトラブチルアンモニウムブロミド２０質量部、および、希釈溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を仕込み、窒素雰囲気下、９０℃において１２時間、撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００質量部を加えて希釈し、これを３回水洗した。水洗後の有機相を大過剰のメタノール中に投入して重合体を沈殿させ、回収した沈殿物を４０℃において１２時間真空乾燥することにより、光配向性基を有する下記重合体Ａ１を得た。
＜重合体Ａ１＞
冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）１質量部、および、溶媒としてジエチレングリコールメチルエチルエーテル１８０質量部を仕込んだ。ここに、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート１００質量部を加え、フラスコ内を窒素置換した後、緩やかに攪拌をした。溶液温度を８０℃に上昇させ、この温度を５時間維持することにより、エポキシ基を有するポリメタクリレートを約３５重量％含有する重合体溶液を得た。得られたエポキシ含有ポリメタクリレートの重量平均分子量Ｍｗは２５，０００であった。
次いで、別の反応容器中に、上記で得たエポキシ含有ポリメタクリレートを含む溶液２８６質量部（ポリメタクリレートに換算して１００質量部）、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１２０質量部、触媒としてテトラブチルアンモニウムブロミド２０質量部、および、希釈溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を仕込み、窒素雰囲気下、９０℃において１２時間、撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００質量部を加えて希釈し、これを３回水洗した。水洗後の有機相を大過剰のメタノール中に投入して重合体を沈殿させ、回収した沈殿物を４０℃において１２時間真空乾燥することにより、光配向性基を有する下記重合体Ａ１を得た。
＜重合体Ａ２＞
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ含有ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンについて、1Ｈ−ＮＭＲ分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ含有ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンについて、1Ｈ−ＮＭＲ分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ含有ポリオルガノシロキサン１０．５質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亞合成株式会社製、商品名「アロニックスＭ−５３００」、アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．４質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体０．５質量部、テトラヒドロ焦性粘液酸（和光純薬工業株式会社製）０．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、９０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、反応溶液と等量（質量）の酢酸ブチルで希釈し、３回水洗した。この溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（重合体Ａ２）を含む溶液を得た。この重合体Ａ２の重量平均分子量Ｍｗは１０，０００であった。
〔低分子化合化合物Ｂの合成〕
＜低分子化合物Ｂ１＞
メトキシ桂皮酸（３．５６ｇ、２０ｍｍｏｌ）、２−ヘキシル−１−デカノール（４．８ｇ、２０ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン（０．２ｇ、２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（以下、「ＴＨＦ」と略す）３０ｍｌに溶解させ、０℃で撹拌した。
上記ＴＨＦ溶液に対して、ジシクロヘキシルカルボジイミド（４．１２６ｇ、２０ｍｍｏｌ）を添加し、室温で６時間撹拌した。
次いで、ＴＨＦを留去した後、酢酸エチルを１５０ｍｌ加え、析出固体をフィルターろ過で除去した。酢酸エチル３０ｍｌで洗浄した後、濾液に含まれる酢酸エチルを留去し、粗体８ｇを得た。粗体をシリカゲルカラム（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）にて単離精製し、下記式で表される低分子化合物Ｂ１を得た。
＜低分子化合物Ｂ１＞
メトキシ桂皮酸（３．５６ｇ、２０ｍｍｏｌ）、２−ヘキシル−１−デカノール（４．８ｇ、２０ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン（０．２ｇ、２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（以下、「ＴＨＦ」と略す）３０ｍｌに溶解させ、０℃で撹拌した。
上記ＴＨＦ溶液に対して、ジシクロヘキシルカルボジイミド（４．１２６ｇ、２０ｍｍｏｌ）を添加し、室温で６時間撹拌した。
次いで、ＴＨＦを留去した後、酢酸エチルを１５０ｍｌ加え、析出固体をフィルターろ過で除去した。酢酸エチル３０ｍｌで洗浄した後、濾液に含まれる酢酸エチルを留去し、粗体８ｇを得た。粗体をシリカゲルカラム（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）にて単離精製し、下記式で表される低分子化合物Ｂ１を得た。
＜低分子化合物Ｂ２＞
下記式で表される低分子化合物Ｂ２（ノムコートＴＡＢ，日清オリイオ社製）を用いた。
下記式で表される低分子化合物Ｂ２（ノムコートＴＡＢ，日清オリイオ社製）を用いた。
〔架橋剤Ｃ〕
架橋剤Ｃ１として、多官能エポキシ化合物（エポリードＧＴ４０１，ダイセル社製）を用いた。
架橋剤Ｃ１として、多官能エポキシ化合物（エポリードＧＴ４０１，ダイセル社製）を用いた。
〔化合物Ｄ１〕
架橋促進を目的とし、化合物Ｄ１として熱酸発生剤（サンエイドＳＩ−６０、三新化学工業株式会社）を用いた。
架橋促進を目的とし、化合物Ｄ１として熱酸発生剤（サンエイドＳＩ−６０、三新化学工業株式会社）を用いた。
〔化合物Ｅ１〕
１００ｍＬのオートクレーブに、ノムコートＴＡＢ（日清オイリオ社製）１０質量部、酢酸ブチル２０質量部、パラジウム活性炭５質量部を仕込み、水素置換した後、わずかに加圧して、室温で６時間撹拌した。反応終了後、反応溶液をセライトろ過し、ろ液を３回水洗した。この溶液を濃縮し、クロマトグラフィー精製（シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサン混合溶離液）を２回繰り返し、最終的に、下記式Ｅ１で表される光配向性基を有さないｐ−メトキシフェニルプロピオン酸２−エチルヘキシル（以下、「化合物Ｅ１」という。）を得た。
１００ｍＬのオートクレーブに、ノムコートＴＡＢ（日清オイリオ社製）１０質量部、酢酸ブチル２０質量部、パラジウム活性炭５質量部を仕込み、水素置換した後、わずかに加圧して、室温で６時間撹拌した。反応終了後、反応溶液をセライトろ過し、ろ液を３回水洗した。この溶液を濃縮し、クロマトグラフィー精製（シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサン混合溶離液）を２回繰り返し、最終的に、下記式Ｅ１で表される光配向性基を有さないｐ−メトキシフェニルプロピオン酸２−エチルヘキシル（以下、「化合物Ｅ１」という。）を得た。
［実施例１〜１１および比較例１〜２］
〔光配向膜用組成物の調製〕
酢酸ブチルに対して、重合体Ａ、低分子化合物Ｂなどを下記表１に示す質量部で各々添加・攪拌した後、孔径１μｍのフィルターでろ過することにより、固形分濃度７．５重量％の液晶配向剤を調製した。なお、得られた液晶配向剤では、重合体Ａ並びに他の成分は添加した量どおりに溶媒に十分に溶解していた。
〔光配向膜用組成物の調製〕
酢酸ブチルに対して、重合体Ａ、低分子化合物Ｂなどを下記表１に示す質量部で各々添加・攪拌した後、孔径１μｍのフィルターでろ過することにより、固形分濃度７．５重量％の液晶配向剤を調製した。なお、得られた液晶配向剤では、重合体Ａ並びに他の成分は添加した量どおりに溶媒に十分に溶解していた。
〔光学異方性層形成用組成物の調製〕
下記組成（液晶１〜４）の光学異方性層用塗布液を調製した。
下記組成（液晶１〜４）の光学異方性層用塗布液を調製した。
─────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液（液晶１）
─────────────────────────────────
・下記液晶性化合物Ｌ−１ ８０．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ−２ ２０．００質量部
・重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４、ＢＡＳＦ社製）
３．００質量部
・重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ社製）
３．００質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｇ−１） ０．２０質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液（液晶１）
─────────────────────────────────
・下記液晶性化合物Ｌ−１ ８０．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ−２ ２０．００質量部
・重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４、ＢＡＳＦ社製）
３．００質量部
・重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ社製）
３．００質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｇ−１） ０．２０質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液（液晶２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−３ ４２．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ−４ ４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ０．５０質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｇ−１） ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
光学異方性層用塗布液（液晶２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−３ ４２．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ−４ ４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ０．５０質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｇ−１） ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液（液晶３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記液晶性化合物Ｌ−３ ４２．００質量部
・上記液晶性化合物Ｌ−４ ４２．００質量部
・上記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ０．５０質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｇ−１） ０．１５質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｇ−２） ０．１５質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液（液晶３）
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・上記液晶性化合物Ｌ−３ ４２．００質量部
・上記液晶性化合物Ｌ−４ ４２．００質量部
・上記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ０．５０質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｇ−１） ０．１５質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｇ−２） ０．１５質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液（液晶４）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記液晶性化合物Ｌ−３ ４２．００質量部
・上記液晶性化合物Ｌ−４ ４２．００質量部
・上記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ０．５０質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｇ−１） ０．１５質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｇ−３） ０．１５質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液（液晶４）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記液晶性化合物Ｌ−３ ４２．００質量部
・上記液晶性化合物Ｌ−４ ４２．００質量部
・上記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ０．５０質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｇ−１） ０．１５質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｇ−３） ０．１５質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
─────────────────────────────────
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
下記の化合物Ｆ ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
メタノール（第２溶剤） ６４質量部
─────────────────────────────────
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
─────────────────────────────────
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
下記の化合物Ｆ ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
メタノール（第２溶剤） ６４質量部
─────────────────────────────────
（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
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平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶剤） １１質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
─────────────────────────────────
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
─────────────────────────────────
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶剤） １１質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
─────────────────────────────────
（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これを実施例１の光学フィルムとした。実施例１の光学フィルムのコア層は厚み３６μｍ、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚み２μｍであった。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これを実施例１の光学フィルムとした。実施例１の光学フィルムのコア層は厚み３６μｍ、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚み２μｍであった。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
〔光学積層体の作製〕
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した各光配向膜用組成物をバーコーターで塗布した。
塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ2、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、先に調製した液晶１または２（光学異方性層形成用組成物）をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ2、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、光学積層体を作製した。得られた光学積層体の面内レターデーションは１４０ｎｍであった。
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した各光配向膜用組成物をバーコーターで塗布した。
塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ2、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、先に調製した液晶１または２（光学異方性層形成用組成物）をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ2、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、光学積層体を作製した。得られた光学積層体の面内レターデーションは１４０ｎｍであった。
＜吸収比＞
セルロースアシレートフィルム１上に、光配向膜を形成した後、液晶塗布を模擬してメチルエチルケトンをスピンコート法によって塗布し、乾燥させ、積層体サンプルを作製した。
グラントムソン偏光子を備えた紫外可視近赤外分光光度計（日本分光社製Ｖ−７２００）を用いて、直線偏光の測定光を入射させ、作製した積層体サンプルの波長２９０ｎｍにおける吸光度を測定した。測定した値からセルロースアシレートフィルム１の吸光度を差し引いて、光配向膜単独の吸光度を求めた。
光配向膜作製時に照射した偏光紫外線の偏光方向と平行方向の吸光度をＡｐ、直交方向の吸光度をＡｃとして、吸収比（Ａｃ／Ａｐ）を求めた。結果を下記表１に示す。なお、吸収比が高いほど配向度が高いことを示す。
セルロースアシレートフィルム１上に、光配向膜を形成した後、液晶塗布を模擬してメチルエチルケトンをスピンコート法によって塗布し、乾燥させ、積層体サンプルを作製した。
グラントムソン偏光子を備えた紫外可視近赤外分光光度計（日本分光社製Ｖ−７２００）を用いて、直線偏光の測定光を入射させ、作製した積層体サンプルの波長２９０ｎｍにおける吸光度を測定した。測定した値からセルロースアシレートフィルム１の吸光度を差し引いて、光配向膜単独の吸光度を求めた。
光配向膜作製時に照射した偏光紫外線の偏光方向と平行方向の吸光度をＡｐ、直交方向の吸光度をＡｃとして、吸収比（Ａｃ／Ａｐ）を求めた。結果を下記表１に示す。なお、吸収比が高いほど配向度が高いことを示す。
＜配向性＞
作製した光学積層体について、偏光顕微鏡を用いて消光位から２度ずらした状態で観察した。その結果、以下の基準で評価した。結果を下記表１に示す。
ＡＡＡ：液晶ダイレクタがキメ細かく整って配向し、表示性能が非常に優れる
ＡＡ：液晶ダイレクタが均一に整って配向し、表示性能が優れる
Ａ：液晶ダイレクタの乱れがなく、面状が安定している
Ｂ：液晶ダイレクタの乱れがごくわずかであり、面状が安定している
Ｃ：液晶ダイレクタの乱れが部分的であり、面状が安定している
Ｄ：液晶ダイレクタが大幅に乱れて面状が安定せず、表示性能が非常に劣る
作製した光学積層体について、偏光顕微鏡を用いて消光位から２度ずらした状態で観察した。その結果、以下の基準で評価した。結果を下記表１に示す。
ＡＡＡ：液晶ダイレクタがキメ細かく整って配向し、表示性能が非常に優れる
ＡＡ：液晶ダイレクタが均一に整って配向し、表示性能が優れる
Ａ：液晶ダイレクタの乱れがなく、面状が安定している
Ｂ：液晶ダイレクタの乱れがごくわずかであり、面状が安定している
Ｃ：液晶ダイレクタの乱れが部分的であり、面状が安定している
Ｄ：液晶ダイレクタが大幅に乱れて面状が安定せず、表示性能が非常に劣る
表１に示す結果から、重合体Ａのみを配合し、低分子化合物Ｂを配合せずに調製した場合は、配向性が劣ることが分かった（比較例１および２）。
これに対し、重合体Ａおよび低分子化合物Ｂをいずれも配合して調製した場合は、配向性が良好となることが分かった（実施例１〜１１）。
特に、実施例１〜４の対比から、低分子化合物Ｂの含有量は、重合体Ａの質量に対して５０〜５００質量％であると、配向性がより良好となることが分かった。
また、実施例７および８の対比から、光学異方性層がスメクチック性を示す液晶性化合物で形成されている場合は、配向性が更に良好となることが分かった。
これに対し、重合体Ａおよび低分子化合物Ｂをいずれも配合して調製した場合は、配向性が良好となることが分かった（実施例１〜１１）。
特に、実施例１〜４の対比から、低分子化合物Ｂの含有量は、重合体Ａの質量に対して５０〜５００質量％であると、配向性がより良好となることが分かった。
また、実施例７および８の対比から、光学異方性層がスメクチック性を示す液晶性化合物で形成されている場合は、配向性が更に良好となることが分かった。
〔有機ＥＬ用反射防止板（円偏光板）の評価〕
（ポジティブＣプレート膜１の作製）
仮支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ−ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた（これをセルロースアシレートフィルム２とする）。セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。
─────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
─────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ−１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ） １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
─────────────────────────────────
（ポジティブＣプレート膜１の作製）
仮支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ−ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた（これをセルロースアシレートフィルム２とする）。セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。
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アルカリ溶液の組成（質量部）
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ−１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ） １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
─────────────────────────────────
上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム２を用い、下記の組成の配向膜形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
─────────────────────────────────
配向膜Ｃ形成用塗布液の組成
─────────────────────────────────
ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
─────────────────────────────────
─────────────────────────────────
配向膜Ｃ形成用塗布液の組成
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ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
─────────────────────────────────
上記で作成した配向膜を有するセルロースアシレートフィルム２上に、下記塗布液Ｎを塗布し、６０℃６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、重合性棒状液晶化合物を垂直配向させ、ポジティブＣプレート膜１を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。
─────────────────────────────────
光学異方性膜用塗布液Ｎの組成
─────────────────────────────────
液晶化合物Ｌ−１ ８０質量部
液晶化合物Ｌ−２ ２０質量部
垂直配液晶化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２） ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────
─────────────────────────────────
光学異方性膜用塗布液Ｎの組成
─────────────────────────────────
液晶化合物Ｌ−１ ８０質量部
液晶化合物Ｌ−２ ２０質量部
垂直配液晶化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２） ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────
（円偏光板の作製）
（実施例７１）
実施例７の光学積層体の光学異方性層側に、粘着剤を介して上記で作成したポジティブＣプレート膜１を転写し、セルロースアシレートフィルム２は除去した。また、光学積層体のセルロースアシレートフィルム１側に粘着剤を介して偏光板を貼り合わせて円偏光板を得た。
（実施例７１）
実施例７の光学積層体の光学異方性層側に、粘着剤を介して上記で作成したポジティブＣプレート膜１を転写し、セルロースアシレートフィルム２は除去した。また、光学積層体のセルロースアシレートフィルム１側に粘着剤を介して偏光板を貼り合わせて円偏光板を得た。
（有機ＥＬパネルへの実装・評価）
次に、有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ ＳＩＩを分解し、円偏光板を剥離して、上記で作成した円偏光板、ポジティブＣプレート側がパネル側となるよう粘着剤を介して貼合し、表示装置を作製した。
表示装置に白表示、黒表示、画像表示をして、極角６０度から蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察して、表示品位を下記の基準で評価した。
Ａ：黒浮きが全く視認されない（優良）。
Ｂ：黒浮きがごくわずかに視認されるが許容できる（許容）。
Ｃ：黒浮きが明確に視認できる。
次に、有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ ＳＩＩを分解し、円偏光板を剥離して、上記で作成した円偏光板、ポジティブＣプレート側がパネル側となるよう粘着剤を介して貼合し、表示装置を作製した。
表示装置に白表示、黒表示、画像表示をして、極角６０度から蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察して、表示品位を下記の基準で評価した。
Ａ：黒浮きが全く視認されない（優良）。
Ｂ：黒浮きがごくわずかに視認されるが許容できる（許容）。
Ｃ：黒浮きが明確に視認できる。
（実施例８１、実施例９１、比較例１０１）
実施例７の光学積層体に代えて、実施例８、実施例９、比較例１の光学積層体を用いたものをそれぞれ実施例８１、実施例９１、比較例１０１として実装ならびに評価を行った。結果を表２に示す。
実施例７の光学積層体に代えて、実施例８、実施例９、比較例１の光学積層体を用いたものをそれぞれ実施例８１、実施例９１、比較例１０１として実装ならびに評価を行った。結果を表２に示す。
表２に示す結果から、本発明の光配向膜を用いて形成した光学積層体は、有機ＥＬ表示装置に用いた場合でも表示機能の著しい向上をもたらすことは明らかである。
１ 光配向膜
２ 光学異方性層
２ａ 第１光学異方性層
２ｂ 第２光学異方性層
３ 支持体
３ａ 偏光子
３ｂ ポリマーフィルム
１０，２０，３０，４０ 光学積層体
２ 光学異方性層
２ａ 第１光学異方性層
２ｂ 第２光学異方性層
３ 支持体
３ａ 偏光子
３ｂ ポリマーフィルム
１０，２０，３０，４０ 光学積層体
Claims (10)
- シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、
シンナメート基を有し、前記重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含有する、光配向膜用組成物。 - 前記低分子化合物Ｂの分子量が、２００〜５００である、請求項１に記載の光配向膜用組成物。
- 前記低分子化合物Ｂの含有量が、前記重合体Ａの前記構成単位ａ１の質量に対して１０〜５００質量％である、請求項１または２に記載の光配向膜用組成物。
- 前記低分子化合物Ｂが、下記式（Ｂ１）で表される化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物。
ここで、前記式（Ｂ１）中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ1は、水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ2は、１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ1は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。 - 前記重合体Ａが、更に、架橋性基を含む構成単位ａ２を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物。
- 更に、架橋性基を有する架橋剤Ｃを含有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物。
- 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物を用いて作製し、
前記光配向性組成物に含まれる重合体Ａおよび低分子化合物Ｂのシンナメート基が二量化したシクロブタン環、および／または、前記シンナメート基が異性化した構造を有する光配向膜。 - 請求項７に記載の光配向膜と、前記光配向膜上に設けられ、液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する、光学積層体。
- 支持体と、前記光配向膜と、前記光学異方性層とをこの順に有する、請求項８に記載の光学積層体。
- 請求項８または９に記載の光学積層体を有する、画像表示装置。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| JP2017014659 | 2017-01-30 | ||
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020110819A1 (ja) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 光学積層フィルムロールの製造方法、および、光学積層フィルムロール |
| JP2020177217A (ja) * | 2019-04-18 | 2020-10-29 | Jsr株式会社 | 積層体及び積層体の製造方法 |
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| WO2022024683A1 (ja) * | 2020-07-29 | 2022-02-03 | 富士フイルム株式会社 | バインダー組成物、化合物、バインダー層、光学積層体、光学積層体の製造方法、および、画像表示装置 |
-
2017
- 2017-05-26 JP JP2017104963A patent/JP2018124528A/ja active Pending
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|---|---|---|---|---|
| JPWO2020110819A1 (ja) * | 2018-11-28 | 2021-10-14 | 富士フイルム株式会社 | 光学積層フィルムロールの製造方法、および、光学積層フィルムロール |
| WO2020110819A1 (ja) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 光学積層フィルムロールの製造方法、および、光学積層フィルムロール |
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| JP7228049B2 (ja) | 2019-08-29 | 2023-02-22 | 富士フイルム株式会社 | 光配向性ポリマー、バインダー組成物、バインダー層、光学積層体、光学積層体の製造方法、画像表示装置 |
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| KR20220038126A (ko) * | 2019-08-29 | 2022-03-25 | 후지필름 가부시키가이샤 | 광배향성 폴리머, 바인더 조성물, 바인더층, 광학 적층체, 광학 적층체의 제조 방법, 화상 표시 장치 |
| CN114364711A (zh) * | 2019-08-29 | 2022-04-15 | 富士胶片株式会社 | 光取向性聚合物、粘合剂组合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法、图像显示装置 |
| JPWO2021039803A1 (ja) * | 2019-08-29 | 2021-03-04 | ||
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