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JP2018106783A - 磁気テープ装置およびヘッドトラッキングサーボ方法 - Google Patents

磁気テープ装置およびヘッドトラッキングサーボ方法 Download PDF

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JP2018106783A JP2016254434A JP2016254434A JP2018106783A JP 2018106783 A JP2018106783 A JP 2018106783A JP 2016254434 A JP2016254434 A JP 2016254434A JP 2016254434 A JP2016254434 A JP 2016254434A JP 2018106783 A JP2018106783 A JP 2018106783A
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栄貴 小沢
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徹也 金子
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Naruto Kasada
成人 笠田
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Abstract

【課題】サーボヘッドとしてTMRヘッドを搭載した磁気テープ装置を提供すること。【解決手段】磁気テープとサーボヘッドとを含む磁気テープ装置であって、上記磁気テープ装置における磁気テープ搬送速度は18m/秒以下であり、上記サーボヘッドはサーボパターン読み取り素子としてトンネル磁気抵抗効果型素子を含む磁気ヘッドであり、上記磁気テープは非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、上記磁性層はサーボパターンを有し、かつ上記磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角は48.0〜53.0°の範囲である磁気テープ装置。ヘッドトラッキングサーボ方法。【選択図】なし

Description

本発明は、磁気テープ装置およびヘッドトラッキングサーボ方法に関する。
記録媒体に情報を記録する方式の1つとして、磁気記録が挙げられる。磁気記録では、情報が磁化パターンとして磁気記録媒体に記録される。そして磁気記録媒体に記録された情報は、磁化パターンから得られる磁気的な信号を磁気ヘッドにより読み取ることによって再生される。かかる再生のために用いられる磁気ヘッドとして、各種磁気ヘッドが提案されている(例えば特許文献1参照)。
特開2004−185676号公報
近年の情報量の莫大な増大に伴い、磁気記録媒体には記録容量を高めること(高容量化)が求められている。高容量化のための手段としては、磁気記録媒体の記録密度を高めることが挙げられる。しかし、記録密度を高めるほど磁性層から得られる磁気的な信号(具体的には漏れ磁界)は微弱になる傾向があるため、再生ヘッドとして、微弱な信号を感度よく読み取ることができる高感度な磁気ヘッドを用いることが望ましい。磁気ヘッドの感度に関しては、磁気抵抗効果を動作原理とするMR(Magnetoresistive)ヘッドが、従来使用されていたインダクティブヘッドと比べて優れていると言われている。
MRヘッドとしては、特許文献1の段落0003に記載されているように、AMR(Anisotropic magnetoresistive)ヘッドおよびGMR(Giant magnetoresistive)ヘッドが知られている。GMRヘッドは、AMRヘッドより感度が高いと言われているMRヘッドである。更に、特許文献1の段落0004等に記載されているTMR(Tunnel magnetoresistive)ヘッドは、更なる高感度化の可能性が期待されているMRヘッドである。
一方、磁気記録の記録再生方式は、浮上型と摺動型に大別される。また、磁気記録により情報が記録される磁気記録媒体は、磁気ディスクと磁気テープとに大別される。以下において、磁気記録媒体として磁気ディスクを含むドライブを「磁気ディスク装置」といい、磁気記録媒体として磁気テープを含むドライブを「磁気テープ装置」という。
磁気ディスク装置は一般にHDD(Hard disk drive)と呼ばれ、浮上型の記録再生方式を採用している。磁気ディスク装置では、磁気ディスク回転時の空気流によって磁気ディスクと磁気ヘッドとの所定の間隔を維持できるように、磁気ヘッドスライダの磁気ディスク対向面の形状および磁気ヘッドスライダを支えるヘッドサスペンションアセンブリが設計される。かかる磁気ディスク装置では、磁気ディスクと磁気ヘッドが接触しない状態で情報の記録および再生が行われる。このような記録再生方式が浮上型である。これに対し、磁気テープ装置は摺動型の記録再生方式を採用している。磁気テープ装置では、情報の記録および再生時には、磁気テープの磁性層表面と磁気ヘッドとが接触し摺動する。
特許文献1には、磁気ディスク装置において情報を再生するための再生ヘッドとしてTMRヘッドを使用することが提案されている。これに対し、磁気テープ装置における再生ヘッドとしてのTMRヘッドの使用については、現在、将来的な使用の可能性が予測されているに留まり、現実の使用には至っていない。
ところで、磁気テープでは、通常、情報は磁気テープのデータバンド上に記録される。これによりデータバンドにデータトラックが形成される。磁気テープの高容量化のための手段としては、データトラックの幅を狭くすることにより、磁気テープの幅方向に、より多くのデータトラックを配置して記録密度を高めることが挙げられる。しかしデータトラックの幅を狭くすると、磁気テープを磁気テープ装置内で搬送して情報の記録および/または再生を行う際、磁気テープの位置変動によって、磁気ヘッドがデータトラックに正確に追従することが困難となり、記録および/または再生時にエラーを起こし易くなってしまう。そこで、かかるエラーの発生を抑制するための手段として、近年、磁性層にサーボパターンを形成しヘッドトラッキングサーボを行うことが提案され、実用化されている。ヘッドトラッキングサーボの中で、磁気サーボ方式のヘッドトラッキングサーボでは、サーボパターンを磁気テープの磁性層に形成し、このサーボパターンをサーボヘッドにより読み取ってヘッドトラッキングサーボを行う。ヘッドトラッキングサーボとは、磁気テープ装置において磁気ヘッドの位置を制御することをいう。ヘッドトラッキングサーボは、より詳しくは次のように行われる。
まずサーボヘッドにより、磁性層に形成されているサーボパターンを読み取る(即ち、サーボ信号を再生する)。サーボパターンを読み取ることにより得られた値に応じて、磁気テープ装置内で磁気ヘッドの位置を制御する。これにより、情報の記録および/または再生のために磁気テープ装置内で磁気テープを搬送する際、磁気テープの位置が変動しても、磁気ヘッドがデータトラックに追従する精度を高めることができる。例えば、磁気テープを磁気テープ装置内で搬送して情報の記録および/または再生を行う際、磁気テープの位置が磁気ヘッドに対して幅方向に変動しても、ヘッドトラッキングサーボを行うことにより、磁気テープ装置内で磁気テープの幅方向における磁気ヘッドの位置を制御することができる。こうして、磁気テープ装置において磁気テープに正確に情報を記録すること、および/または、磁気テープに記録されている情報を正確に再生すること、が可能となる。
上記サーボパターンは、磁性層の特定の位置を磁化することによって形成される。ヘッドトラッキングサーボが可能な磁気テープには、通常、サーボパターンを有する領域(「サーボバンド」と呼ばれる。)が長手方向に沿って複数本存在する。2本のサーボバンドに挟まれた領域が、データバンドである。情報の記録はデータバンド上で行われ、データバンドには複数のデータトラックが長手方向に沿って形成される。磁気テープの高容量化のためには、情報が記録される領域であるデータバンドが磁性層により多く存在することが好ましい。そのための手段としては、情報が記録される領域ではないサーボバンドの幅を狭くすることにより、磁性層においてデータバンドが占める割合を増やすことが考えられる。この点に関して本発明者らは、サーボバンドの幅が狭くなるとサーボパターンのリードトラック幅が狭くなるため、サーボパターン読み取り時のSNR(Signal−to−Noise−Ratio)を確保するためには、サーボヘッドとして高感度な磁気ヘッドを使用することが望ましいと考えた。そのための磁気ヘッドとして、本発明者らは、特許文献1に磁気ディスク装置において再生ヘッドとして使用することが提案されているTMRヘッドに着目した。先に記載したように、磁気テープ装置については、TMRヘッドは、情報を再生するための再生ヘッドとしての将来的な使用の可能性が予測されているに留まり、サーボヘッドとしてTMRヘッドを使用することは提案すらされていない。しかし本発明者らは、ヘッドトラッキングサーボを行う磁気テープ装置において、サーボヘッドとしてTMRヘッドを使用することができれば、今後の磁気テープの更なる高感度化に対応することが可能になると考えた。
即ち、本発明の目的は、サーボヘッドとしてTMRヘッドを搭載した磁気テープ装置を提供することにある。
TMRヘッド等のMRヘッドの動作原理である磁気抵抗効果とは、磁界の変化によって電気抵抗が変化する現象である。MRヘッドは、磁気記録媒体から発生する漏れ磁界の変化を抵抗値(電気抵抗)の変化として検出し、この抵抗値の変化を電圧の変化に変換することによって情報を再生する。TMRヘッドをサーボヘッドとして使用する場合には、サーボパターンが形成された磁性層から発生する漏れ磁界の変化を抵抗値(電気抵抗)変化として検出し、この抵抗値の変化を電圧の変化に変換することによって、サーボパターンが読み取られる(サーボ信号が再生される)。特許文献1の段落0007に記載されているようにTMRヘッドは一般に抵抗値が高いと言われているものの、TMRヘッドにおいて抵抗値の大きな低下が発生することは、TMRヘッドの感度低下を引き起こし、その結果、サーボヘッドにより再生されるサーボ信号の信号強度の低下と、これに伴うSNR低下の原因となる。これにより、ヘッドトラッキングサーボのヘッド位置制御の精度は低下してしまう。
本発明者らは上記目的を達成するために検討を重ねる中で、ヘッドトラッキングサーボを行う磁気テープ装置においてサーボヘッドとしてTMRヘッドを使用すると、TMRヘッドにおいて抵抗値(電気抵抗)の顕著な低下が発生するという、従来まったく知られていなかった現象を見出した。TMRヘッドにおける抵抗値の低下とは、TMRヘッドに含まれるトンネル磁気抵抗効果型素子を構成する2つの電極を繋ぐ配線に電気抵抗測定器を当てて測定される電気抵抗の低下である。この抵抗値が顕著に低下する現象は、磁気ディスク装置におけるTMRヘッド使用時にも、磁気ディスク装置または磁気テープ装置におけるGMRヘッド等の他のMRヘッド使用時にも、見られない。即ち、TMRヘッド使用時にTMRヘッドにおいて抵抗値の顕著な低下が発生することは、従来認識すらされていなかった。磁気ディスク装置と磁気テープ装置の記録再生方式の違い、詳しくは、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの接触の有無が、磁気テープ装置において発生するTMRヘッドの抵抗値の顕著な低下が、磁気ディスク装置では見られない理由と考えられる。また、TMRヘッドが、磁気テープが搬送される方向に、絶縁層(トンネルバリア層)を挟んで2つの電極を有するという、現在実用化されている他のMRヘッドにはない特殊な構造を有することが、TMRヘッドにおいて発生する抵抗値の顕著な低下が他のMRヘッドでは見られない理由と考えられる。
これに対し、本発明者らは、上記現象を見出したうえで更なる鋭意検討を重ねた結果、更に以下の点を新たに見出した。
磁気テープ装置において磁気テープを低速で搬送することは、記録再生特性の劣化を抑制するうえで望ましい。しかし、磁気テープ装置において磁気テープを所定速度以下の低速で搬送すると(具体的には磁気テープ搬送速度を18m/秒以下とすると)、情報の記録および/または再生時にヘッドトラッキングサーボを行うためにサーボパターンを読み取るTMRヘッドの抵抗値の低下が特に著しく発生する。
ただし、かかる抵抗値の低下は、磁気テープとして以下に詳述する磁気テープを使用することによって抑制することができる。
以上の知見に基づき、本発明の一態様は完成された。
即ち、本発明の一態様は、
磁気テープと、サーボヘッドと、を含む磁気テープ装置であって、
上記磁気テープ装置における磁気テープ搬送速度は18m/秒以下であり、
上記サーボヘッドは、サーボパターン読み取り素子としてトンネル磁気抵抗効果型素子(以下、「TMR素子」とも記載する。)を含む磁気ヘッド(以下、「TMRヘッド」とも記載する。)であり、
上記磁気テープは、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、
上記磁性層は、サーボパターンを有し、かつ
上記磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角は、48.0〜53.0°の範囲である、磁気テープ装置、
に関する。
また、本発明の一態様は、
磁気テープ装置において磁気テープの磁性層が有するサーボパターンをサーボヘッドによって読み取ることを含むヘッドトラッキングサーボ方法であって、
上記磁気テープ装置における磁気テープ搬送速度は18m/秒以下であり、
上記サーボヘッドは、サーボパターン読み取り素子としてトンネル磁気抵抗効果型素子を含む磁気ヘッドであり、
上記磁気テープは、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、
上記磁性層は、サーボパターンを有し、かつ
上記磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角は、48.0〜53.0°の範囲である、ヘッドトラッキングサーボ方法、
に関する。
以下において、1−ブロモナフタレンに対する接触角を、1−ブロモナフタレン接触角とも記載する。1−ブロモナフタレン接触角は、液滴法により測定される値とする。具体的には、1−ブロモナフタレン接触角とは、雰囲気温度25℃および相対湿度25%の測定環境において、θ/2法により、あるサンプルについて6回測定を行い得られた値の算術平均をいうものとする。測定条件の具体的態様の一例は、実施例について後述する。
上記磁気テープ装置および上記ヘッドトラッキングサーボ方法の一態様は、以下の通りである。
一態様では、上記磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角は、48.2〜52.5°の範囲である。
一態様では、上記磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRaは、2.8nm以下である。
一態様では、上記中心線平均表面粗さRaは、2.5nm以下である。
一態様では、上記磁気テープは、上記非磁性支持体と上記磁性層との間に非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有し、上記磁性層と上記非磁性層との合計厚みは1.8μm以下である。
一態様では、上記磁性層と上記非磁性層との合計厚みは、1.1μm以下である。
本発明の一態様によれば、18m/秒以下の磁気テープ搬送速度で搬送される磁気テープの磁性層が有するサーボパターンをTMRヘッドによって読み取る際、TMRヘッドにおいて抵抗値の顕著な低下が発生することを抑制することができる。
データバンドおよびサーボバンドの配置例を示す。 LTO(Linear−Tape−Open) Ultriumフォーマットテープのサーボパターン配置例を示す。
[磁気テープ装置]
本発明の一態様は、
磁気テープと、サーボヘッドと、を含む磁気テープ装置であって、
上記磁気テープ装置における磁気テープ搬送速度は18m/秒以下であり、
上記サーボヘッドは、サーボパターン読み取り素子としてトンネル磁気抵抗効果型素子を含む磁気ヘッドであり、
上記磁気テープは、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、
上記磁性層は、サーボパターンを有し、かつ
磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角は、48.0〜53.0°の範囲である、磁気テープ装置、
に関する。
磁気テープ装置における磁気テープ搬送速度は、走行速度とも呼ばれる。本発明および本明細書において、「磁気テープ搬送速度」とは、サーボヘッドによってサーボパターンの読み取りが行われる際に磁気テープ装置内で搬送される磁気テープとサーボヘッドとの相対速度である。磁気テープ装置において、サーボヘッドとしてTMRヘッドを使用し、かつ磁気テープ搬送速度18m/秒以下という特定条件下で磁気テープが搬送される場合、従来の磁気テープを適用すると、サーボヘッドとして使用されるTMRヘッドにおいて抵抗値(電気抵抗)が顕著に低下する現象が発生してしまう。この現象は、本発明者によって新たに見出された現象である。かかる現象が発生する理由を、本発明者らは以下のように考えている。
TMRヘッドは、トンネル磁気抵抗効果を利用する磁気ヘッドであって、絶縁層(トンネルバリア層)を挟んで2つの電極を有する。2つの電極間に位置するトンネルバリア層は絶縁層であるため、2つの電極間に電圧を印加しても、通常は電極間に電流は流れないかほとんど流れない。しかし、磁気テープからの漏れ磁界の影響を受けたフリー層の磁界の向きによって、トンネル効果により電流(トンネル電流)が流れ、トンネル磁気抵抗効果によって、トンネル電流が流れる量の変化が抵抗値の変化として検出される。この抵抗値の変化を電圧の変化に変換することによって、磁気テープに形成されたサーボパターンを読み取る(サーボ信号を再生する)ことができる。
また、MRヘッドの構造としては、CIP(Current−In−Plane)構造とCPP(Current−Perpendicular−to−Plane)構造とがあり、TMRヘッドはCPP構造を有する磁気ヘッドである。CPP構造のMRヘッドでは、MR素子の膜面に垂直な方向、即ち磁気テープに形成されたサーボパターンを読み取る際に磁気テープが搬送される方向に電流が流れる。これに対し、他のMRヘッド、例えばGMRヘッドの中で近年広く用いられているスピンバルブ型GMRヘッドは、CIP構造を有する。CIP構造を有するMRヘッドでは、MR素子の膜面内方向、即ち磁気テープに形成されたサーボパターンを読み取る際に磁気テープが搬送される方向と直交する方向に電流が流れる。
以上のように、TMRヘッドは現在実用化されている他のMRヘッドにはない特殊な構造を有する。このため、2つの電極間に1箇所でも短絡(損傷によってできた迂回路)が発生すると抵抗値が顕著に低下してしまう。このように2つの電極間に1箇所でも短絡が発生すると抵抗値が顕著に低下することは、他のMRヘッドでは起こらない現象である。また、浮上型の記録再生方式を採用する磁気ディスク装置では、磁気ディスクと磁気ヘッドは接触しないため、短絡を引き起こす損傷は発生し難い。これに対し、摺動型の記録再生方式を採用する磁気テープ装置では、何ら対策を施さない場合には、磁気テープとの摺動によって、TMRヘッドが衝撃を受けて損傷し短絡が起こりやすい。中でも、磁気テープの搬送速度が低速になると、TMRヘッドによってサーボパターンを読み取る際に、TMRヘッドの同一箇所が磁気テープと接触する時間はより長くなるため、損傷がより発生し易くなると考えられる。このことが、磁気テープ搬送速度が18m/秒以下の磁気テープ装置においてサーボヘッドとしてTMRヘッドを使用すると、TMRヘッドの抵抗値低下が特に著しく発生する理由と本発明者らは推察している。
これに対し本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、かつ上記磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角(1−ブロモナフタレン接触角)が48.0〜53.0°の範囲である磁気テープによって、磁気テープ搬送速度が18m/秒以下の磁気テープ装置においてサーボヘッドとして使用されるTMRヘッドの抵抗値低下が特に著しく発生する現象を抑制することが可能になることを新たに見出した。1−ブロモナフタレン接触角が48.0〜53.0°の範囲である磁気テープがTMRヘッドとの接触時にTMRヘッドに対して適度な親和性を示すことにより、磁気テープとTMRヘッドとの円滑な摺動がもたらされると考えられる。その結果、TMRヘッドの抵抗値低下を抑制することが可能になると、本発明者らは推察している。
ただし、以上は本発明者らの推察であって、本発明を何ら限定するものではない。
なお1−ブロモナフタレン接触角については、特開2016−51493号公報に、磁気記録媒体の走行耐久性を高めるために、磁気記録媒体において磁性層の1−ブロモナフタレン接触角等を特定の範囲とすることが開示されている。しかし、先に詳述したように、磁気テープ装置においてサーボヘッドとしてTMRヘッドを使用することは、従来提案すらされていない。しかも、サーボヘッドとしてTMRヘッドを搭載する磁気テープ装置では、特定の磁気テープ搬送速度(具体的には18m/秒以下)において、TMRヘッドの抵抗値低下が特に顕著に発生することは、従来まったく知られていなかった現象である。かかる現象に対して1−ブロモナフタレン接触角が影響を及ぼすこと、および1−ブロモナフタレン接触角を48.0〜53.0°の範囲に規定することにより上記現象の抑制が可能になることは、特開2016−51493号公報には何ら示唆はなく、本発明者らの鋭意検討の結果、初めて見出されたことである。
以下、上記磁気テープ装置について、更に詳細に説明する。以下に記載の「TMRヘッドの抵抗値低下」とは、特記しない限り、磁気テープ搬送速度が18m/秒以下の磁気テープ装置において、サーボヘッドとしてTMRヘッドを使用してサーボパターンの読み取りを行う際に発生するTMRヘッドの抵抗値の顕著な低下をいうものとする。
<磁気テープ>
<<1−ブロモナフタレン接触角>>
上記磁気テープの磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角は、48.0〜53.0°の範囲である。1−ブロモナフタレン接触角は、値が小さいほど磁気テープ(詳しくは磁性層表面)とTMRヘッドとの親和性が高く、値が大きいほど磁気テープとTMRヘッドとの親和性が低いことを意味すると、本発明者らは考えている。そして、48.0〜53.0°の範囲の1−ブロモナフタレン接触角を示す磁性層表面は、TMRヘッドとの接触時にTMRヘッドに対して適度な親和性を示すことにより安定な接触状態を実現することができ、これによりTMRヘッドの抵抗値低下を抑制することができると推察される。TMRヘッドの抵抗値低下をより一層抑制する観点から、磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角は、48.2°以上であることが好ましく、48.5°以上であることが更に好ましく、49.0°以上であることが一層好ましく、49.5°以上であることがより一層好ましい。同様の観点から、磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角は、52.8°以下であることが好ましく、52.5°以下であることがより好ましい。
磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角は、1−ブロモナフタレン接触角を調整可能な成分(以下、「1−ブロモナフタレン接触角調整成分」ともいう。)を使用し、かかる成分の含有量を調整することによって、制御することができる。例えば、1−ブロモナフタレン接触角調整成分として、1−ブロモナフタレン接触角の値を大きくする作用を奏することができる成分を用いて、この成分の含有量を増量することにより、1−ブロモナフタレン接触角の値を大きくすることができる。
1−ブロモナフタレン接触角調整成分の一例としては、潤滑剤を挙げることができる。更に、詳細を後述するポリマーを挙げることもできる。例えば、潤滑剤および後述のポリマーからなる群から選ばれる一種以上の1−ブロモナフタレン接触角調整成分を用いることにより、磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角が48.0〜53.0°の範囲の磁気テープを得ることができる。一態様では、1−ブロモナフタレン接触角調整成分として、一種以上の潤滑剤を使用し、後述のポリマーを使用せずに磁性層を形成することができる。また、他の一態様では、1−ブロモナフタレン接触角調整成分として、一種以上の後述のポリマーを使用し、潤滑剤を使用せずに磁性層を形成することができる。更に他の一態様では、1−ブロモナフタレン接触角調整成分として、一種以上の潤滑剤と一種以上の後述のポリマーとを併用して磁性層を形成することができる。
<<1−ブロモナフタレン接触角調整成分>>
1−ブロモナフタレン接触角調整成分は、磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角を調整可能な成分である。以下において、1−ブロモナフタレン接触角調整成分を、1−ブロモナフタレン接触角調整剤ともいう。ここで調整可能とは、1−ブロモナフタレン接触角を変化させる作用を奏することができることをいう。かかる作用を奏することは、1−ブロモナフタレン接触角調整成分の有無により、磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角が変化することによって、確認することができる。1−ブロモナフタレン接触角調整成分は、1−ブロモナフタレン接触角の値を大きくする作用を奏することが好ましい。1−ブロモナフタレン接触角調整成分の一態様は潤滑剤であり、他の一態様は後述するポリマーである。以下、これら成分について、順次説明する。
(潤滑剤)
潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド等の各種磁気記録媒体に通常使用される各種潤滑剤を挙げることができる。 磁性層に含まれる潤滑剤が多いほど、磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角の値は大きくなる傾向がある。
例えば、脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、およびパルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。なお脂肪酸は、金属塩等の塩の形態で磁性層に含まれていてもよい。
脂肪酸エステルとしては、上記各種脂肪酸のエステル、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。
脂肪酸アミドとしては、各種脂肪酸のアミド、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。
脂肪酸含有量は、磁性層形成用組成物において、強磁性粉末100.0質量部あたり、例えば0〜10.0質量部であり、好ましくは0.1〜10.0質量部であり、より好ましくは0.5〜8.0質量部であり、更に好ましくは1.0〜7.0質量部である。脂肪酸として二種以上の異なる脂肪酸を使用する場合、含有量とは、それらの合計含有量をいうものとする。この点は、他の成分についても同様である。即ち、本発明および本明細書では、ある成分は、特記しない限り、一種含まれてもよく二種以上含まれていてもよい。ある成分として二種以上が含まれる場合、この成分の含有量とは、特記しない限り、二種以上の合計含有量をいうものとする。
脂肪酸エステル含有量は、磁性層形成用組成物における脂肪酸エステル含有量として、強磁性粉末100.0質量部あたり、例えば0.1〜10.0質量部であり、好ましくは0.5〜8.0質量部であり、より好ましくは1.0〜7.0質量部である。
脂肪酸アミド含有量は、磁性層形成用組成物において、強磁性粉末100.0質量部あたり、例えば0〜3.0質量部であり、好ましくは0〜2.0質量部であり、より好ましくは0〜1.0質量部である。
また、上記磁気テープが非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する場合、非磁性層に潤滑剤が含まれてもよく、含まれなくてもよい。非磁性層に含まれる潤滑剤は、通常、少なくとも一部は磁性層側に移行し磁性層に存在し得る。非磁性層形成用組成物における脂肪酸含有量は、非磁性粉末100.0質量部あたり、例えば0〜10.0質量部であり、好ましくは1.0〜10.0質量部であり、より好ましくは1.0〜7.0質量部である。脂肪酸エステル含有量は、非磁性粉末100.0質量部あたり、例えば0〜10.0質量部であり、好ましくは0.1〜8.0質量部である。非磁性層形成用組成物における脂肪酸アミド含有量は、非磁性粉末100.0質量部あたり、例えば0〜3.0質量部であり、好ましくは0〜1.0質量部である。
脂肪酸と脂肪酸の誘導体の一種以上とを併用することが好ましく、脂肪酸エステルおよび脂肪酸アミドからなる群から選択される一種以上と脂肪酸とを併用することがより好ましく、脂肪酸、脂肪酸エステルおよび脂肪酸アミドを併用することがより好ましい。
脂肪酸と脂肪酸の誘導体(エステル、アミド等)とを併用する場合、脂肪酸誘導体の脂肪酸由来部位は、併用される脂肪酸と同様または類似の構造を有することが好ましい。例えば、一例として、脂肪酸としてステアリン酸を用いる場合には、ステアリン酸ブチル等のステアリン酸エステルおよび/またはステアリン酸アミドを使用することは好ましい。
また、潤滑剤としては、特開2009−96798号公報の段落0111に記載されているものを用いることもできる。
(含窒素ポリマー)
1−ブロモナフタレン接触角調整成分の一態様としては、含窒素ポリマーを挙げることができる。含窒素ポリマーに含まれるポリマー鎖が、磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角を高めることに寄与すると推察される。含窒素ポリマーとは、構造中に窒素原子を含むポリマーをいう。好ましい含窒素ポリマーとしては、アミン系ポリマーの一種であるポリアルキレンイミン系ポリマー、およびポリアルキレンイミン系ポリマー以外のアミン系ポリマー等を挙げることができる。ポリアルキレンイミン系ポリマーとは、ポリアルキレンイミン鎖を1つ以上含むポリマーである。ポリアルキレンイミン系ポリマーの詳細については、特開2016−51493号公報の段落0035〜0077を参照できる。また、アミン系ポリマーの詳細については、特開2016−51493号公報の段落0078〜0080を参照できる。
また、一態様では、含窒素ポリマーは、重量平均分子量が、磁性層に含まれる結合剤の重量平均分子量を超えない範囲にあるポリマーであることが好ましい。例えば、上記含窒素ポリマーの重量平均分子量は、80,000以下、60,000以下、40,000以下、35,000以下、30,000以下、20,000以下、または10,000以下であることができる。また、含窒素ポリマーの重量平均分子量は、例えば1,000以上、1,500以上、2,000以上、または3,000以上であることができる。特記しない限り、本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記条件を挙げることができる。後述の実施例に示す重量平均分子量は、特記しない限り、下記測定条件によって測定された値をポリスチレン換算して求めた値である。
GPC装置:HLC−8120(東ソー社製)
カラム:TSK gel Multipore HXL−M(東ソー社製、7.8mmID(inner diameter(内径))×30.0cm)
溶離液:テトラヒドロフラン(THF)
含窒素ポリマーを使用して磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角を調整する場合、磁性層における含窒素ポリマーの含有量は、強磁性粉末100.0質量部に対して0.5質量部以上とすることが好ましく、1.0質量部以上とすることがより好ましい。高密度記録の観点からは、強磁性粉末の充填率を高くするために磁性層における他の成分の含有量は相対的に低くすることが好ましい。この点からは、磁性層における含窒素ポリマーの含有量は、強磁性粉末100.0質量部に対して50.0質量部以下とすることが好ましく、40.0質量部以下とすることがより好ましく、30.0質量部以下とすることが更に好ましく、20.0質量部以下とすることが一層好ましく、15.0質量部以下とすることがより一層好ましい。
次に、上記磁気テープに含まれる磁性層等について、更に詳細に説明する。
<<磁性層>>
(強磁性粉末)
磁性層に含まれる強磁性粉末としては、各種磁気記録媒体の磁性層において通常用いられる強磁性粉末を使用することができる。強磁性粉末として平均粒子サイズの小さいものを使用することは、磁気テープの記録密度向上の観点から好ましい。この点から、強磁性粉末としては、平均粒子サイズが50nm以下の強磁性粉末を用いることが好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、強磁性粉末の平均粒子サイズは10nm以上であることが好ましい。
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることができる。強磁性六方晶フェライト粉末の平均粒子サイズは、記録密度向上と磁化の安定性の観点から、10nm以上50nm以下であることが好ましく、20nm以上50nm以下であることがより好ましい。強磁性六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開2011−225417号公報の段落0012〜0030、特開2011−216149号公報の段落0134〜0136、および特開2012−204726号公報の段落0013〜0030を参照できる。
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末の平均粒子サイズは、記録密度向上と磁化の安定性の観点から、10nm以上50nm以下であることが好ましく、20nm以上50nm以下であることがより好ましい。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開2011−216149号公報の段落0137〜0141および特開2005−251351号公報の段落0009〜0023を参照できる。
本発明および本明細書において、特記しない限り、強磁性粉末等の各種粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定される値とする。
粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率100000倍で撮影し、総倍率500000倍になるように印画紙にプリントして粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子(一次粒子)のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した500個の粒子について行う。こうして得られた500個の粒子の粒子サイズの算術平均を、粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡H−9000型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトKS−400を用いて行うことができる。
本発明および本明細書において、強磁性粉末およびその他の粉末についての平均粒子サイズとは、特記しない限り、上記方法により求められる平均粒子サイズをいうものとする。後述の実施例に示す平均粒子サイズは、特記しない限り、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡H−9000型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトKS−400を用いて測定された値である。本発明および本明細書において、粉末とは、複数の粒子の集合を意味する。例えば、強磁性粉末とは、複数の強磁性粒子の集合を意味する。また、複数の粒子の集合とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、後述する結合剤、添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。粒子との語を、粉末を表すために用いることもある。
粒子サイズ測定のために磁気テープから試料粉末を採取する方法としては、例えば特開2011−048878号公報の段落0015に記載の方法を採用することができる。
本発明および本明細書において、特記しない限り、粉末を構成する粒子のサイズ(粒子サイズ)は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
(1)針状、紡錘状、柱状(ただし、高さが底面の最大長径より大きい)等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
(2)板状または柱状(ただし、厚みまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい)の場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
(3)球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。
また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の(長軸長/短軸長)の値を求め、上記500個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、特記しない限り、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で(1)の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく(2)の場合は、厚みまたは高さを各々指し、(3)の場合は、長軸と短軸の区別がないから、(長軸長/短軸長)は、便宜上1とみなす。
そして、特記しない限り、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義(1)の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義(2)の場合、平均粒子サイズは平均板径であり、平均板状比とは、(最大長径/厚みまたは高さ)の算術平均である。同定義(3)の場合、平均粒子サイズは、平均直径(平均粒径、平均粒子径ともいう)である。
磁性層における強磁性粉末の含有量(充填率)は、好ましくは50〜90質量%の範囲であり、より好ましくは60〜90質量%の範囲である。磁性層の強磁性粉末以外の成分は、少なくとも、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上と結合剤であり、任意に一種以上の更なる添加剤が含まれ得る。磁性層において強磁性粉末の充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。
(結合剤)
上記磁気テープは塗布型磁気テープであって、磁性層に、強磁性粉末とともに結合剤を含む。結合剤としては、一種以上の樹脂を使用する。樹脂は、ホモポリマーでもよく、コポリマー(共重合体)でもよい。結合剤としては、塗布型磁気記録媒体の結合剤として通常使用される各種樹脂を用いることができる。例えば、結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選ばれる樹脂を単独で用いるか、または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、後述する非磁性層および/またはバックコート層においても結合剤として使用することができる。以上の結合剤については、特開2010−24113号公報の段落0028〜0031を参照できる。結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば10,000以上200,000以下であることができる。
また、結合剤とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤は、一態様では加熱により硬化反応(架橋反応)が進行する化合物である熱硬化性化合物であることができ、他の一態様では光照射により硬化反応(架橋反応)が進行する光硬化性化合物であることができる。硬化剤は、磁性層形成工程の中で硬化反応が進行することにより、少なくとも一部は、結合剤等の他の成分と反応(架橋)した状態で磁性層に含まれ得る。好ましい硬化剤は、熱硬化性化合物であり、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開2011−216149号公報の段落0124〜0125を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物中に、結合剤100.0質量部に対して例えば0〜80.0質量部、磁性層等の各層の強度向上の観点からは好ましくは50.0〜80.0質量部の量で使用することができる。
(その他成分)
磁性層には、上記の各種成分とともに、必要に応じて一種以上の添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して使用することができる。または、公知の方法で合成された化合物を添加剤として使用することもできる。添加剤の一例として、上記の硬化剤が挙げられる。また、磁性層に含まれ得る添加剤としては、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラック等を挙げることができる。
添加剤の一例としては、非磁性粉末を挙げることもできる。非磁性粉末の一態様は、研磨剤として機能することができる非磁性粉末(以下、「研磨剤」と記載する。)である。研磨剤を含む磁性層には、特開2013−131285号公報の段落0012〜0022に記載の分散剤を、研磨剤の分散性を向上するために含有させることができる。また、研磨剤については、同公報の段落0023〜0024も参照できる。
また、非磁性粉末の一態様は、磁性層表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性フィラー(以下、「突起形成剤」と記載する。)である。突起形成剤としては、無機酸化物粉末、無機酸化物コロイド粒子等を用いることができる。本発明および本明細書において、「コロイド粒子」とは、少なくとも、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエンもしくは酢酸エチル、または上記溶媒の二種以上を任意の混合比で含む混合溶媒の少なくとも1つの有機溶媒100mLあたり1g添加した際に、沈降せず分散しコロイド分散体をもたらすことのできる粒子をいうものとする。突起形成剤については、特開2011−048878号公報の段落0013〜0028を参照できる。なお後述の実施例に示すコロイダルシリカ(シリカコロイド粒子)の平均粒子サイズは、特開2011−048878号公報の段落0015に平均粒径の測定方法として記載されている方法により求められた値であり、後述の実施例に示す変動係数は同段落に記載されている方法により求められた値である。後述の実施例に示す真球度は、特開2011−048878号公報の段落0020に円形度の測定方法として記載されている方法により求められた値である。また、他の一態様では、突起形成剤は、カーボンブラックであることも好ましい。
(磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRa)
磁気テープにおいて磁性層の表面平滑性を高めることは、電磁変換特性の向上につながる。磁性層の表面平滑性については、磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRaを指標とすることができる。本発明および本明細書において、磁気テープの磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRaとは、原子間力顕微鏡(AFM;Atomic Force Microscope)により面積40μm×40μmの領域で測定される値とする。測定条件の一例としては、下記の測定条件を挙げることができる。後述の実施例に示す中心線平均表面粗さRaは、下記測定条件下での測定によって求めた値である。
AFM(Veeco社製Nanoscope4)により磁気テープの磁性層表面の面積40μm×40μmの領域を測定する。スキャン速度(探針移動速度)は40μm/秒、分解能は512pixel×512pixelとする。
電磁変換特性向上の観点からは、一態様では、上記磁気テープの磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRaは、2.8nm以下であることが好ましく、2.5nm以下であることがより好ましく、2.3nm以下であることが更に好ましく、2.0nm以下であることが一層好ましい。ところで、本発明者らの検討によれば、磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRaが2.5nm以下であると、何ら対策を施さないとTMRヘッドの抵抗値低下がより一層顕著に発生する傾向が見られた。ただし、上記Raが2.5nm以下の場合に発生するTMRヘッドの抵抗値の顕著な低下も、本発明の一態様にかかる磁気テープ装置であれば抑制することができる。また、磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRaは、1.2nm以上または1.3nm以上であることができる。ただし電磁変換特性向上の観点からは上記Raが低いほど好ましいため、上記例示した値を下回ってもよい。
磁性層の表面平滑性、即ち磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRaは、公知の方法により制御することができる。例えば、磁性層に含まれる各種粉末(例えば、強磁性粉末、任意に含まれ得る非磁性粉末等)のサイズ、磁気テープの製造条件等を調整することにより、磁性層の表面平滑性を制御することができる。また、磁性層表面を表面処理することによって、磁性層の表面平滑性を高める(即ち中心線平均表面粗さRaの値を小さくする)こともできる。例えば、磁性層表面の表面処理としては、特開平5−62174号公報に記載の研磨手段を用いる研磨処理を挙げることもできる。かかる研磨処理については、同公報の段落0005〜0032および全図面を参照できる。
<<非磁性層>>
次に非磁性層について説明する。上記磁気テープは、非磁性支持体上に直接磁性層を有していてもよく、非磁性支持体と磁性層との間に非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有していてもよい。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質の粉末でも有機物質の粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開2011−216149号公報の段落0146〜0150を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開2010−24113号公報の段落0040〜0041も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量(充填率)は、好ましくは50〜90質量%の範囲であり、より好ましくは60〜90質量%の範囲である。
非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤の種類および含有量、添加剤の種類および含有量等に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。
上記磁気テープの非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が10mT以下であるか、保磁力が7.96kA/m(100Oe)以下であるか、または、残留磁束密度が10mT以下であり、かつ保磁力が7.96kA/m(100Oe)以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。
<<非磁性支持体>>
次に、非磁性支持体について説明する。非磁性支持体(以下、単に「支持体」とも記載する。)としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。これらの支持体には、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、加熱処理等を行ってもよい。
<<バックコート層>>
上記磁気テープは、非磁性支持体の磁性層を有する表面とは反対の表面側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有することもできる。バックコート層には、カーボンブラックおよび無機粉末のいずれか一方または両方が含有されていることが好ましい。バックコート層に含まれる結合剤および任意に含まれ得る各種添加剤については、磁性層および/または非磁性層の処方に関する公知技術を適用することができる。
<<各種厚み>>
非磁性支持体の厚みは、好ましくは3.0〜6.0μmである。
磁性層の厚みは、近年求められている高密度記録化の観点からは0.15μm以下であることが好ましく、0.1μm以下であることがより好ましい。磁性層の厚みは、更に好ましくは0.01〜0.1μmの範囲である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する2層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。2層以上に分離する場合の磁性層の厚みとは、これらの層の合計厚みとする。
非磁性層の厚みは、例えば0.1〜1.5μmであり、0.1〜1.0μmであることが好ましい。
ところで、磁気テープは、通常、磁気テープカートリッジに収容されて流通され、使用される。磁気テープカートリッジの1巻あたりの記録容量を高めるためには、磁気テープカートリッジ1巻に収められる磁気テープ全長を長くすることが望ましい。そのためには、磁気テープを薄くする(以下、「薄型化」と記載する。)ことが求められる。磁気テープの薄型化のための手段の1つとして、非磁性支持体上に非磁性層と磁性層とをこの順に有する磁気テープについては、磁性層と非磁性層との合計厚みを薄くすることが挙げられる。上記磁気テープが非磁性層を有する場合、磁気テープの薄型化の観点からは、磁性層と非磁性層との合計厚みは、1.8μm以下であることが好ましく、1.5μm以下であることがより好ましく、1.1μm以下であることが更に好ましい。本発明者らの検討によれば、磁性層と非磁性層との合計厚みが1.1μm以下であると、何ら対策を施さないとTMRヘッドの抵抗値低下がより一層顕著に発生する傾向が見られた。ただし、磁性層と非磁性層との合計厚みが1.1μm以下の場合に発生するTMRヘッドの抵抗値の顕著な低下も、本発明の一態様にかかる磁気テープ装置であれば抑制することができる。また、磁性層と非磁性層との合計厚みは、例えば0.1μm以上、または0.2μm以上であることができる。
バックコート層の厚みは、0.9μm以下であることが好ましく、0.1〜0.7μmの範囲であることが更に好ましい。
磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において厚み方向の1箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した2箇所以上の複数箇所、例えば2箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。
<<製造方法>>
(各層形成用組成物の調製)
磁性層、非磁性層またはバックコート層を形成するための組成物は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒としては、塗布型磁気記録媒体を製造するために一般に使用される各種有機溶媒を用いることができる。中でも、塗布型磁気記録媒体に通常使用される結合剤の溶解性の観点からは、各層形成用組成物には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン溶媒の一種以上が含まれることが好ましい。各層形成用組成物における溶媒量は特に限定されるものではなく、通常の塗布型磁気記録媒体の各層形成用組成物と同様にすることができる。また、各層形成用組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含むことができる。個々の工程はそれぞれ2段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられるすべての原料は、どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を2つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。磁性層形成用組成物については、強磁性粉末を含有する分散液(磁性液)、研磨剤を含有する分散液(研磨剤液)および突起形成剤を含有する分散液(突起形成剤液)をそれぞれ別に分散して調製した後、同時または順次、潤滑剤等の他の成分と混合し磁性層形成用組成物を調製することが好ましい。潤滑剤、硬化剤および溶媒の一部または全部を、磁性液、研磨剤液および突起形成剤液を混合した混合液に添加してもよい。また、磁気テープの製造工程では、従来の公知の製造技術を一部または全部の工程において用いることができる。混練工程では、オープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダ等の強い混練力をもつニーダを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平1−106338号公報および特開平1−79274号公報に記載されている。また、各層形成用組成物を分散させるために、ガラスビーズおよび/またはその他のビーズを用いることができる。このような分散ビーズとしては、高比重の分散ビーズであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、およびスチールビーズが好適である。これら分散ビーズは、ビーズ径と充填率を最適化して用いることが好ましい。分散機は公知のものを使用することができる。
(塗布工程)
磁性層は、磁性層形成用組成物を非磁性支持体表面に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開2010−231843号公報の段落0066を参照できる。
(その他の工程)
磁気テープ製造のためのその他の各種工程については、特開2010−231843号公報の段落0067〜0069を参照できる。磁性層表面の表面処理については、先に記載した通り、特開平5−62174号公報も参照できる。
(サーボパターンの形成)
磁性層へのサーボパターンの形成は、サーボパターン記録ヘッド(「サーボライトヘッド(servo write head)」とも呼ばれる。)により、磁性層の特定の位置を磁化することにより行われる。ヘッドトラッキングサーボを可能とするためのサーボパターンの形状および磁性層における配置は公知である、上記磁気テープの磁性層が有するサーボパターンについては、公知技術を適用することができる。例えば、ヘッドトラッキングサーボの方式としては、タイミングベースサーボ方式と振幅ベースサーボ方式が知られている。上記磁気テープの磁性層が有するサーボパターンは、いずれの方式のヘッドトラッキングサーボを可能とするサーボパターンでもよい。また、タイミングベースサーボ方式でのヘッドトラッキングサーボを可能とするサーボパターンと振幅ベースサーボ方式でのヘッドトラッキングサーボを可能とするサーボパターンとが磁性層に形成されていてもよい。
以上説明した磁気テープは、通常、磁気テープカートリッジに収容され、磁気テープカートリッジが磁気テープ装置に装着される。磁気テープカートリッジでは、一般に、カートリッジ本体内部に磁気テープがリールに巻き取られた状態で収容されている。リールは、カートリッジ本体内部に回転可能に備えられている。磁気テープカートリッジとしては、カートリッジ本体内部にリールを1つ具備する単リール型の磁気テープカートリッジおよびカートリッジ本体内部にリールを2つ具備する双リール型の磁気テープカートリッジが広く用いられている。単リール型の磁気テープカートリッジは、磁気テープへのデータ(磁気信号)の記録および/または再生のために磁気テープ装置(ドライブ)に装着されると、磁気テープカートリッジから磁気テープが引き出されてドライブ側のリールに巻き取られる。磁気テープカートリッジから巻き取りリールまでの磁気テープ搬送経路に、サーボヘッドが配置されている。磁気テープカートリッジ側のリール(供給リール)とドライブ側のリール(巻き取りリール)との間で、磁気テープの送り出しと巻き取りが行われる。この間、サーボヘッドと磁気テープの磁性層表面とが接触し摺動することにより、サーボヘッドによってサーボパターンの読み取りが行われる。これに対し、双リール型の磁気テープカートリッジは、供給リールと巻き取りリールの両リールが、磁気テープカートリッジ内部に具備されている。本発明の一態様にかかる磁気テープは、単リール型および双リール型のいずれの磁気テープカートリッジに収容されてもよい。磁気テープカートリッジの構成は公知である。
<サーボヘッド>
上記磁気テープ装置は、サーボヘッドとして、TMRヘッドを含む。TMRヘッドは、トンネル磁気抵抗効果型素子(TMR素子)を含む磁気ヘッドである。TMR素子は、磁気テープの磁性層に形成されたサーボパターンを読み取るためのサーボパターン読み取り素子として、磁気テープからの漏れ磁界の変化を、トンネル磁気抵抗効果を利用して抵抗値(電気抵抗)の変化として検出する役割を果たすことができる。検出された抵抗値の変化が電圧の変化に変換されることによって、サーボパターンを読み取る(サーボ信号を再生する)ことができる。
上記磁気テープ装置に含まれるTMRヘッドとしては、トンネル磁気抵抗効果型素子(TMR素子)を含む公知の構成のTMRヘッドを用いることができる。例えば、TMRヘッドの構造、TMRヘッドを構成する各部の材料等の詳細については、TMRヘッドに関する公知技術を適用することができる。
TMRヘッドはいわゆる薄膜ヘッドである。TMRヘッドに含まれるTMR素子は、少なくとも、2つの電極層と、トンネルバリア層と、フリー層と、固定層と、を有する。TMRヘッドは、これらの層の断面が、磁気テープと摺動する面の側に向いた状態でTMR素子を含んでいる。2つの電極層の間にトンネルバリア層が位置し、トンネルバリア層は絶縁層である。一方、フリー層および固定層は、磁性層である。フリー層は磁化自由層とも呼ばれ、外部磁界によって磁化方向が変化する層である。これに対し、固定層は、外部磁界によって磁化方向が変化しない層である。2つの電極間にはトンネルバリア層(絶縁層)が位置しているため、電圧を印加しても、通常、電流は流れないかほとんど流れない。しかし、磁気テープからの漏れ磁界の影響を受けたフリー層の磁化方向によって、トンネル効果により電流(トンネル電流)が流れる。トンネル電流が流れる量は、固定層の磁化方向とフリー層の磁化方向との相対角度によって変化し、相対角度が小さいほどトンネル電流が流れる量は多くなる。このトンネル電流が流れる量の変化は、トンネル磁気抵抗効果によって、抵抗値の変化として検出される。そして、この抵抗値の変化を電圧の変化に変換することによって、サーボパターンを読み取ることができる。TMRヘッドの構成の一例については、例えば、特開2004−185676号公報の図1を参照することができる。ただし、かかる図面に示されている態様に限定されるものではない。特開2004−185676号公報の図1では、2つの電極層と2つのシールド層が示されている。ただし、シールド層が電極層を兼ねる構成のTMRヘッドも公知であり、かかる構成のTMRヘッドも使用可能である。TMRヘッドでは、トンネル磁気抵抗効果によって、2つの電極間に電流(トンネル電流)が流れて電気抵抗が変化する。TMRヘッドはCPP構造を有する磁気ヘッドであるため、電流が流れる方向は、磁気テープの搬送方向である。なお本発明および本明細書において、「直交」とは、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。上記誤差の範囲とは、例えば、厳密な直交±10°未満の範囲を意味し、厳密な直交±5°以内であることが好ましく、±3°以内であることがより好ましい。TMRヘッドの抵抗値低下とは、2つの電極を繋ぐ配線に電気抵抗測定器を当てて測定される電気抵抗の低下であって、電流が流れていない状態での2つの電極間の電気抵抗の低下を意味する。この電気抵抗の著しい低下によって、ヘッドトラッキングサーボのヘッド位置制御の精度は低下してしまう。このTMRヘッドの抵抗値低下は、磁性層にサーボパターンを有する磁気テープとして磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角が48.0〜53.0°の範囲の磁気テープを用いることにより抑制することができる。
上記サーボヘッドは、少なくともサーボパターン読み取り素子としてTMR素子を含む磁気ヘッドである。サーボヘッドには、磁気テープに記録された情報を再生するための再生素子が含まれていてもよく、含まれていなくてもよい。即ち、サーボヘッドと再生ヘッドは、1つの磁気ヘッドであってもよく分離した磁気ヘッドであってもよい。以上の点は、磁気テープに情報の記録を行うための記録素子についても同様である。
<磁気テープ搬送速度>
上記磁気テープ装置における磁気テープ搬送速度は18m/秒以下である。磁気テープ搬送速度は、通常、磁気テープ装置の制御部において設定される。磁気テープ装置内で磁気テープを低速で搬送することは、記録再生特性の劣化を抑制するうえで望ましい。しかし、サーボヘッドとしてTMRヘッドを含む磁気テープ装置において磁気テープ搬送速度が18m/秒以下であると、サーボヘッドとして使用されるTMRヘッドの抵抗値低下が特に顕著に発生してしまう。かかる抵抗値低下は、本発明の一態様にかかる磁気テープ装置では、磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角が48.0〜53.0°の範囲の磁気テープを用いることにより抑制することができる。磁気テープ搬送速度は18m/秒以下であり、15m/秒以下または10m/秒以下であってもよい。また、磁気テープ搬送速度は、例えば1m/秒以上であることができる。
[ヘッドトラッキングサーボ方法]
本発明の一態様は、
磁気テープ装置において磁気テープの磁性層が有するサーボパターンをサーボヘッドによって読み取ることを含むヘッドトラッキングサーボ方法であって、
上記磁気テープ装置における磁気テープ搬送速度は18m/秒以下であり、
上記サーボヘッドは、サーボパターン読み取り素子としてトンネル磁気抵抗効果型素子を含む磁気ヘッドであり、
上記磁気テープは、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、
上記磁性層は、サーボパターンを有し、かつ
上記磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角は、48.0〜53.0°の範囲である、ヘッドトラッキングサーボ方法、
に関する。サーボパターンの読み取りは、磁気テープを搬送しながら(走行させながら)磁気テープとサーボヘッドとを接触させ摺動させることによって行われる。上記ヘッドトラッキングサーボ方法において用いられる磁気テープ、サーボヘッド等の詳細は、先に本発明の一態様にかかる磁気テープ装置について記載した通りである。
以下に、ヘッドトラッキングサーボの具体的態様の1つとして、タイミングベースサーボ方式のヘッドトラッキングサーボについて記載する。ただし本発明におけるヘッドトラッキングサーボは、下記具体的態様に限定されるものではない。
タイミングベースサーボ方式のヘッドトラッキングサーボ(以下、「タイミングベースサーボ」と記載する。)では、二種以上の異なる形状の複数のサーボパターンを磁性層に形成し、サーボヘッドが、異なる形状の2つのサーボパターンを読み取った時間間隔と、同種の形状の2つのサーボパターンを読み取った時間間隔と、によりサーボヘッドの位置を認識する。こうして認識されたサーボヘッドの位置に基づき、磁気テープの幅方向における磁気ヘッドの位置が制御される。ここで位置制御が行われる磁気ヘッドは、一態様では磁気テープに記録された情報を再生する磁気ヘッド(再生ヘッド)であり、他の一態様では磁気テープに情報を記録する磁気ヘッド(記録ヘッド)である。
図1に、データバンドおよびサーボバンドの配置例を示す。図1中、磁気テープ1の磁性層には、複数のサーボバンド10が、ガイドバンド12に挟まれて配置されている。2本のサーボバンドに挟まれた複数の領域11が、データバンドである。サーボパターンは、磁化領域であって、サーボライトヘッドにより磁性層の特定の領域を磁化することによって形成される。サーボライトヘッドにより磁化する領域(サーボパターンを形成する位置)は規格により定められている。例えば、業界標準規格であるLTOUltriumフォーマットテープには、磁気テープ製造時に、図2に示すようにテープ幅方向に対して傾斜した複数のサーボパターンが、サーボバンド上に形成される。詳しくは、図2中、サーボバンド10上のサーボフレームSFは、サーボサブフレーム1(SSF1)およびサーボサブフレーム2(SSF2)から構成される。サーボサブフレーム1は、Aバースト(図2中、符号A)およびBバースト(図2中、符号B)から構成される。AバーストはサーボパターンA1〜A5から構成され、BバーストはサーボパターンB1〜B5から構成される。一方、サーボサブフレーム2は、Cバースト(図2中、符号C)およびDバースト(図2中、符号D)から構成される。CバーストはサーボパターンC1〜C4から構成され、DバーストはサーボパターンD1〜D4から構成される。このような18本のサーボパターンが5本と4本のセットで、5、5、4、4、の配列で並べられたサブフレームに配置され、サーボフレームを識別するために用いられる。図2には、説明のために1つのサーボフレームを示した。ただし、実際には、タイミングベースサーボ方式のヘッドトラッキングサーボが行われる磁気テープの磁性層では、各サーボバンドに、複数のサーボフレームが走行方向に配置されている。図2中、矢印は走行方向を示している。例えば、LTO Ultriumフォーマットテープは、通常、磁性層の各サーボバンドに、テープ長1mあたり5000以上のサーボフレームを有する。サーボヘッドは、磁気テープ装置内で搬送される磁気テープの磁性層表面と接触し摺動しながら、複数のサーボフレームにおいて順次サーボパターンの読み取りを行う。
タイミングベースサーボ方式のヘッドトラッキングサーボでは、異なる形状の2つのサーボパターンをサーボヘッドが読み取った(サーボ信号を再生した)時間間隔と、同種の形状の2つのサーボパターンを読み取った時間間隔と、によりサーボヘッドの位置を認識する。時間間隔は、通常、サーボ信号の再生波形のピークの時間間隔として求められる。例えば、図2に示す態様では、AバーストのサーボパターンとCバーストのサーボパターンが同種の形状のサーボパターンであり、BバーストのサーボパターンとDバーストのサーボパターンが同種の形状のサーボパターンである。AバーストのサーボパターンおよびCバーストのサーボパターンは、BバーストのサーボパターンおよびDバーストのサーボパターンとは形状が異なるサーボパターンである。異なる形状の2つのサーボパターンをサーボヘッドが読み取った時間間隔とは、例えば、Aバーストのいずれかのサーボパターンを読み取った時間とBバーストのいずれかのサーボパターンを読み取った時間との間隔である。同種の形状の2つのサーボパターンをサーボヘッドが読み取った時間間隔とは、例えば、Aバーストのいずれかのサーボパターンを読み取った時間とCバーストのいずれかのサーボパターンを読み取った時間との間隔である。タイミングベースサーボ方式のヘッドトラッキングサーボは、上記の時間間隔が設定値からずれた場合、時間間隔のズレは磁気テープの幅方向の位置変動に起因して発生することを前提とするシステムである。設定値とは、磁気テープが幅方向で位置変動を起こさずに走行する場合の時間間隔である。タイミングベースサーボシステムでは、求められた時間間隔の設定値からのズレの程度に応じて、磁気ヘッドを幅方向に移動させる。詳しくは、時間間隔の設定値からのズレが大きいほど、磁気ヘッドを幅方向に大きく移動させる。この点は、図1および図2に示す態様に限定されずタイミングベースサーボシステム全般に当てはまる。
タイミングベースサーボ方式のヘッドトラッキングサーボの詳細については、例えば、米国特許第5689384号、米国特許第6542325号、および米国特許第7876521号に記載の技術をはじめとする公知技術を適用することができる。また、振幅ベースサーボ方式のヘッドトラッキングサーボの詳細については、例えば、米国特許第5426543号および米国特許第5898533号をはじめとする公知技術を適用することができる。
更に本発明の一態様によれば、サーボヘッドとしてTMRヘッドを使用し、磁気テープの磁性層が有するサーボパターンを読み取る際の磁気テープ搬送速度が18m/秒以下である磁気テープ装置において使用される磁気テープであって、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、上記磁性層はサーボパターンを有し、かつ上記磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角が48.0〜53.0°の範囲である磁気テープも提供される。かかる磁気テープの詳細も、先に本発明の一態様にかかる磁気テープ装置について記載した通りである。
以下に、本発明を実施例に基づき説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。以下に記載の「部」、「%」の表示は、特に断らない限り、「質量部」、「質量%」を示す。
下記の1−ブロモナフタレン接触角調整剤Aとしては、特開2016−51493号公報の段落0115〜0124に記載の方法によって合成されたポリアルキレンイミン系ポリマーを用いた。下記の1−ブロモナフタレン接触角調整剤Bとしては、市販のアミン系ポリマー(ビックケミー社製DISPERBYK−102)を用いた。
[実施例1]
各層形成用組成物の処方を、下記に示す。
(磁性層形成用組成物)
(磁性液)
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末:100.0部
(Hc:196kA/m(2460Oe)、平均粒子サイズ(平均板径)24nm)
オレイン酸:2.0部
塩化ビニル共重合体(日本ゼオン製MR−104):10.0部
SONa基含有ポリウレタン樹脂:4.0部
(重量平均分子量70000、SONa基:0.07meq/g)
1−ブロモナフタレン接触角調整剤(種類:表1参照):表1参照
メチルエチルケトン:150.0部
シクロヘキサノン:150.0部
(研磨剤液)
α−アルミナ(BET(Brunauer−Emmett−Teller)比表面積:19m/g、真球度:1.4):6.0部
SONa基含有ポリウレタン樹脂
(重量平均分子量70000、SONa基:0.1meq/g):0.6部
2,3−ジヒドロキシナフタレン:0.6部
シクロヘキサノン:23.0部
(突起形成剤液)
コロイダルシリカ(平均粒子サイズ:表1参照、変動係数:7%、真球度:1.03):2.0部
メチルエチルケトン:8.0部
(その他成分)
ステアリン酸:表1参照
ステアリン酸アミド:0.3部
ステアリン酸ブチル:6.0部
メチルエチルケトン:110.0部
シクロヘキサノン:110.0部
ポリイソシアネート(日本ポリウレタン製コロネート(登録商標)L):3.0部
(非磁性層形成用組成物)
カーボンブラック(平均粒子サイズ:16nm、DBP(Dibutyl phthalate)吸油量:74cm/100g):100.0部
トリオクチルアミン:4.0部
塩化ビニル共重合体(日本ゼオン製MR−104):19.0部
SONa基含有ポリウレタン樹脂
(重量平均分子量50000、SONa基:0.07meq/g):12.0部
メチルエチルケトン:370.0部
シクロヘキサノン:370.0部
ステアリン酸:2.0部
ステアリン酸アミド:0.3部
ステアリン酸ブチル:2.0部
(バックコート層形成用組成物)
ベンガラ(平均粒子サイズ:0.15μm、平均針状比:7、BET比表面積:52m/g):80.0部
カーボンブラック(平均粒子サイズ:16nm、DBP吸油量:74cm/100g):20.0部
フェニルホスホン酸:3.0部
塩化ビニル共重合体(日本ゼオン製MR−104):12.0部
SONa基含有ポリウレタン樹脂
(重量平均分子量50000、SONa基:0.07meq/g):8.0部
αアルミナ(BET比表面積:17m/g):5.0部
メチルエチルケトン:370.0部
シクロヘキサノン:370.0部
ステアリン酸:表1参照
ステアリン酸アミド:0.3部
ステアリン酸ブチル:2.0部
ポリイソシアネート(日本ポリウレタン製コロネートL):5.0部
1.磁気テープの作製
(磁性層形成用組成物の作製)
磁性層形成用組成物を、以下の方法によって作製した。
上記磁性液の成分をオープンニーダにより混練および希釈処理した後、横型ビーズミル分散機により、粒径0.1mmのジルコニア(ZrO)ビーズ(以下、「Zrビーズ」と記載する。)を用い、ビーズ充填率80体積%、ローター先端周速10m/秒で、1パスあたりの滞留時間を2分とし、30パスの分散処理を行い磁性液を得た。
上記研磨剤液の成分を混合して粒径0.3mmのZrビーズとともに横型ビーズミル分散機に入れ、ビーズ体積/(研磨剤液体積+ビーズ体積)が80%になるように調整し、120分間ビーズミル分散処理を行った。処理後の液を取り出し、フロー式の超音波分散濾過装置を用いて、超音波分散濾過処理を施して研磨剤液を得た。
磁性液、突起形成剤液および研磨剤液と、上記のその他成分をディゾルバー攪拌機に導入し、周速10m/秒で30分間攪拌した後、フロー式超音波分散機により流量7.5kg/分で3パス処理した後に、1μmのフィルタで濾過して磁性層形成用組成物を作製した。
(非磁性層形成用組成物の作製)
非磁性層形成用組成物を、以下の方法によって作製した。
潤滑剤(ステアリン酸、ステアリン酸アミドおよびステアリン酸ブチル)を除く上記成分を、オープンニーダにより混練および希釈処理した後、横型ビーズミル分散機により分散処理を実施した。得られた分散液に、潤滑剤(ステアリン酸、ステアリン酸アミドおよびステアリン酸ブチル)を添加して、ディゾルバー攪拌機にて攪拌および混合処理を施して非磁性層形成用組成物を作製した。
(バックコート層形成用組成物の作製)
バックコート層形成用組成物を、以下の方法によって作製した。
ポリイソシアネートおよび潤滑剤(ステアリン酸、ステアリン酸アミドおよびステアリン酸ブチル)を除く上記成分を、ディゾルバー攪拌機に導入し、周速10m/秒で30分間攪拌した後、横型ビーズミル分散機により分散処理を実施した。得られた分散液に、ポリイソシアネートおよび潤滑剤(ステアリン酸、ステアリン酸アミドおよびステアリン酸ブチル)を添加して、ディゾルバー攪拌機にて攪拌および混合処理を施し、バックコート層形成用組成物を作製した。
(磁気テープの作製)
厚み4.0μmの非磁性支持体(ポリアミド支持体)の一方の表面に、乾燥後の厚みが表1に示す厚みになるように非磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させた後、バックコート層形成用組成物を、非磁性支持体の非磁性層を形成した表面とは反対側の表面に乾燥後の厚みが0.50μmになるように塗布し乾燥させた。一度巻き取りロールに巻き取った非磁性支持体を雰囲気温度70℃の環境下で36時間熱処理した。
熱処理後の非磁性層上に、乾燥後の厚みが表1に示す厚みになるように磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させた。
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダで速度40m/min、線圧300kg/cm(294kN/m)、および表1に示すカレンダ温度(カレンダロールの表面温度)で表面平滑化処理(カレンダ処理)を行った。その後、雰囲気温度70℃の環境下で36時間熱処理を行った。熱処理後、1/2インチ(0.0127メートル)幅にスリットを行った。
続いて、特開平5−62174号公報に記載のダイヤモンドホイールを用いて表面処理(同公報の図1〜図3に示されている態様)を行い、磁性層にサーボパターンを形成するための磁気テープを作製した。
作製した磁気テープの磁性層を消磁した状態で、サーボ試験機に搭載されたサーボライトヘッドによって、LTO Ultriumフォーマットにしたがう配置および形状のサーボパターンを磁性層に形成した。これにより、磁性層に、LTO Ultriumフォーマットにしたがう配置でデータバンド、サーボバンド、およびガイドバンドを有し、かつサーボバンド上にLTO Ultriumフォーマットにしたがう配置および形状のサーボパターンを有する磁気テープが作製された。なお上記サーボ試験機は、サーボライトヘッドおよびサーボヘッドを備えている。このサーボ試験機を後述する評価でも使用した。
作製した磁気テープの各層厚みを、以下の方法により求めた。形成した非磁性層および磁性層の厚みが表1に示す厚みであり、バックコート層および非磁性支持体の厚みが上記厚みであることが確認された。
磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビームにより露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡によって断面観察を行った。断面観察において厚み方向の2箇所において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めた。
以上の方法によって作製した磁気テープの一部を下記評価に使用し、他の一部を後述するTMRヘッドの抵抗値測定のために使用した。
2.磁気テープの物性評価
(1)磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRa
原子間力顕微鏡(AFM、Veeco社製Nanoscope4)を用い、磁気テープの磁性層表面において測定面積40μm×40μmの範囲を測定し、中心線平均表面粗さRaを求めた。スキャン速度(探針移動速度)は40μm/秒、分解能は512pixel×512pixelとした。
(2)磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角
接触角測定機(協和界面科学社製接触角測定装置DropMaster700)により、以下の方法により磁性層表面において1−ブロモナフタレン接触角の測定を行った。
ロール状に巻き取った磁気テープをロールの端部から一定長さ切り取り得られたテープサンプルを、バックコート層表面がスライドガラス表面と接触するようにスライドガラス上に設置した。テープサンプル表面(磁性層表面)に測定用液体(1−ブロモナフタレン)2.0μlを滴下し、滴下した液体が安定した液滴を形成したことを目視で確認した後、上記接触角測定機に付随の接触角解析ソフトウェアFAMASにより液滴像を解析し、テープサンプルと液滴の接触角を測定した。接触角の算出はθ/2法によって行い、1サンプルにつき6回測定した平均値を1−ブロモナフタレン接触角とした。測定は、雰囲気温度25℃および相対湿度25%の環境で行い、以下の解析条件で接触角を求めた。
手法:液滴法(θ/2法)
着滴認識:自動
着滴認識ライン(針先からの距離):50dot
アルゴリズム:自動
イメージモード:フレーム
スレッシホールドレベル:自動
3.サーボヘッドの抵抗値測定
上記サーボ試験機のサーボヘッドを、HDD用再生ヘッドとして市販されているTMRヘッド(素子幅70nm)と交換した。このサーボ試験機において上記1.で作製した磁気テープを、磁性層表面とサーボヘッドとを接触させ摺動させながら搬送した。磁気テープのテープ長は1000mであり、上記搬送時の磁気テープ搬送速度(磁気テープとサーボヘッドとの相対速度)を表1に示す値として、磁気テープの搬送(走行)を合計4,000パス行った。1パス毎にサーボヘッドを磁気テープの幅方向に2.5μmずつ移動させ、400パス搬送毎にサーボヘッドの抵抗値(電気抵抗)を測定し、初期値(0パスでの抵抗値)に対する抵抗値低下率を、以下の式によって求めた。
抵抗値低下率(%)=[(初期値−400パス搬送後の抵抗値)/初期値]×100
抵抗値(電気抵抗)の測定は、TMRヘッドに含まれるTMR素子の2つの電極を繋ぐ配線に電気抵抗測定器(三和電気計器株式会社製のデジタルマルチメータ(型番:DA−50C))を当てて行った。算出された抵抗値低下率が30%以上であった場合、抵抗値低下が発生したと判断してサーボヘッドを新品のヘッドに交換し、次の400パス以降の搬送および抵抗値測定を行った。抵抗値低下回数が1回以上であることは、抵抗値の低下が顕著であることを意味する。4,000パス走行において1回も抵抗値低下率が30%以上にならなかった場合、抵抗値低下回数を0回とした。抵抗値低下回数0回の場合、測定された抵抗値低下率の最大値を表1に示す。
[実施例2〜8、比較例1〜15]
1.磁気テープの作製
表1に示す各種条件を表1に示すように変更した点以外、実施例1と同様に磁気テープを作製した。
2.磁気テープの物性評価
作製した磁気テープの各種物性を、実施例1と同様に評価した。
3.サーボヘッドの抵抗値測定
作製した磁気テープを使用して、実施例1と同様の方法によってサーボヘッドの抵抗値測定を行った。磁気テープ搬送速度は表1に示す値とした。実施例2〜8および比較例7〜15では、サーボヘッドとして、実施例1と同様のTMRヘッドを使用した。比較例1〜6では、サーボヘッドとして、市販のスピンバルブ型GMRヘッド(素子幅70nm)を使用した。このGMRヘッドは、磁気テープの搬送方向と直交する方向に、MR素子を挟んで2つの電極を有するCIP構造を有する磁気ヘッドであった。これら2つの電極を繋ぐ配線に電気抵抗測定器を当てて、実施例1と同様に抵抗値測定を行った。
以上の結果を、表1に示す。
表1に示すように、サーボヘッドとしてGMRヘッドを使用した比較例1〜6では、磁気テープ搬送速度が18m/秒以下であって、磁気テープの磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角が48.0〜53.0°の範囲外であってもサーボヘッドの抵抗値の顕著な低下は見られなかった。また、サーボヘッドとしてTMRヘッドを使用したものの磁気テープ搬送速度が18m/秒を超えていた比較例7でも、磁気テープの磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角が48.0〜53.0°の範囲外であってもサーボヘッドの抵抗値の顕著な低下は見られなかった。これに対し、サーボヘッドとしてTMRヘッドを使用し、磁気テープ搬送速度が18m/秒以下であり、かつ磁気テープの磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角が48.0〜53.0°の範囲外であった比較例8〜15では、サーボヘッドの抵抗値の顕著な低下が発生した。
これに対し、サーボヘッドとしてTMRヘッドを使用し、磁気テープ搬送速度が18m/秒以下であり、かつ磁気テープの磁性層表面において測定される1−ブロモナフタレン接触角が48.0〜53.0°の範囲内であった実施例1〜8では、サーボヘッド(TMRヘッド)の抵抗値の顕著な低下を抑制することができた。
本発明は、高密度記録された情報を高感度再生することが望まれる磁気記録用途において有用である。

Claims (12)

  1. 磁気テープと、サーボヘッドと、を含む磁気テープ装置であって、
    前記磁気テープ装置における磁気テープ搬送速度は18m/秒以下であり、
    前記サーボヘッドは、サーボパターン読み取り素子としてトンネル磁気抵抗効果型素子を含む磁気ヘッドであり、
    前記磁気テープは、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、
    前記磁性層は、サーボパターンを有し、かつ
    前記磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角は、48.0〜53.0°の範囲である、磁気テープ装置。
  2. 前記磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角は、48.2〜52.5°の範囲である、請求項1に記載の磁気テープ装置。
  3. 前記磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRaは2.8nm以下である、請求項1または2に記載の磁気テープ装置。
  4. 前記中心線平均表面粗さRaは2.5nm以下である、請求項3に記載の磁気テープ装置。
  5. 前記磁気テープは、前記非磁性支持体と前記磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有し、
    前記磁性層と前記非磁性層との合計厚みは1.8μm以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の磁気テープ装置。
  6. 前記磁性層と前記非磁性層との合計厚みは1.1μm以下である、請求項5に記載の磁気テープ装置。
  7. 磁気テープ装置において磁気テープの磁性層が有するサーボパターンをサーボヘッドによって読み取ることを含むヘッドトラッキングサーボ方法であって、
    前記磁気テープ装置における磁気テープ搬送速度は18m/秒以下であり、
    前記サーボヘッドは、サーボパターン読み取り素子としてトンネル磁気抵抗効果型素子を含む磁気ヘッドであり、
    前記磁気テープは、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、
    前記磁性層は、サーボパターンを有し、かつ
    前記磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角は、48.0〜53.0°の範囲である、ヘッドトラッキングサーボ方法。
  8. 前記磁性層の表面において測定される1−ブロモナフタレンに対する接触角は、48.2〜52.5°の範囲である、請求項7に記載のヘッドトラッキングサーボ方法。
  9. 前記磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRaは2.8nm以下である、請求項7または8に記載のヘッドトラッキングサーボ方法。
  10. 前記中心線平均表面粗さRaは2.5nm以下である、請求項9に記載のヘッドトラッキングサーボ方法。
  11. 前記磁気テープは、前記非磁性支持体と前記磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有し、
    前記磁性層と前記非磁性層との合計厚みは1.8μm以下である、請求項7〜10のいずれか1項に記載のヘッドトラッキングサーボ方法。
  12. 前記磁性層と前記非磁性層との合計厚みは1.1μm以下である、請求項11に記載のヘッドトラッキングサーボ方法。
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