JP2018173166A - 遮熱断熱基板 - Google Patents

Abstract

【課題】耐擦傷性に優れた遮熱断熱基板を提供する。
【解決手段】本発明の遮熱断熱基板は、透明基板層と赤外線反射層を含む遮熱断熱基板であって、該赤外線反射層の該透明基板層と反対の側にトップコート層と保護トップコート層を備え、該トップコート層が、周期表第１３族または第１４族の１種以上が主成分となる酸化物または窒化物、酸化窒化物、非酸化窒化物であり、周期表第３族または第４族の１種以上の成分を含み、該保護トップコート層が配位結合型材料を含む。
【選択図】図１

Description

本発明は遮熱断熱基板に関する。

遮熱断熱基板は、遮熱機能と断熱機能を兼ね備えた基板である。このような遮熱断熱基板は、例えば、窓ガラスに貼着された場合、赤外線反射機能によって、室外から室内への日射熱（近赤外線）の流入、および、室内から室外への暖房熱（遠赤外線）の流出を抑制することができ、年間を通じての室内の快適性の向上と省エネルギー効果の向上を実現することができる。

このような遮熱断熱基板として、近年、透明基板層と赤外線反射層を含む遮熱断熱基板が提案されている（特許文献１、２）。赤外線反射層は、例えば、金属層の両側に金属酸化物層を備える構成を有し、近赤外線の反射による遮熱性向上と遠赤外線の反射による断熱性向上を両立させることができる。

遮熱断熱基板自体や、窓ガラスに貼着した遮熱断熱基板は、通常使用時のひっかきや清掃時の拭き作業などによって表面に傷が付きやすい。

特開２０１６−９３８９２号公報 特開２０１６−９４０１２号公報

本発明の課題は、耐擦傷性に優れた遮熱断熱基板を提供することにある。

本発明の遮熱断熱基板は、
透明基板層と赤外線反射層を含む遮熱断熱基板であって、
該赤外線反射層の該透明基板層と反対の側にトップコート層と保護トップコート層を備え、
該トップコート層が、周期表第１３族または第１４族の１種以上が主成分となる酸化物または窒化物、酸化窒化物、非酸化窒化物であり、周期表第３族または第４族の１種以上の成分を含み、
該保護トップコート層が配位結合型材料を含む。

一つの実施形態においては、上記保護トップコート層が、３０℃〜７５℃の範囲内に軟化温度を有さない。

一つの実施形態においては、上記トップコート層が上記赤外線反射層と上記保護トップコート層の間に配置されている。

一つの実施形態においては、上記赤外線反射層と上記トップコート層と上記保護トップコート層がこの順に直接に積層されてなる。

一つの実施形態においては、上記トップコート層の厚みが０．５ｎｍ〜５００ｎｍである。

一つの実施形態においては、上記保護トップコート層の厚みが５ｎｍ〜５００ｎｍである。

一つの実施形態においては、上記トップコート層が、ＳｉとＺｒを含む酸化物または酸化窒化物、ＳｉとＹを含む酸化物または酸化窒化物、ＳｉとＴｉを含む酸化物または酸化窒化物から選ばれる少なくとも１種を含む。

一つの実施形態においては、上記トップコート層がドライプロセスによって形成された層であり、上記保護トップコート層が塗布によって形成された層である。

本発明によれば、耐擦傷性に優れた遮熱断熱基板を提供することができる。

本発明の遮熱断熱基板の一つの実施形態を示す概略断面図である。 本発明の遮熱断熱基板の一つの実施形態を示す概略断面図である。 本発明の遮熱断熱基板の使用形態の一例を模式的に表す断面図である。 実施例２６において得られた保護トップコート層の軟化温度の測定結果を示す図である。

≪１．遮熱断熱基板の概要≫
本発明の遮熱断熱基板は、透明基板層と赤外線反射層を含み、該赤外線反射層の該透明基板層と反対の側にトップコート層と保護トップコート層を備える。

本発明の遮熱断熱基板においては、好ましくは、トップコート層がドライプロセスによって形成された層であり、保護トップコート層が塗布によって形成された層である。本発明の遮熱断熱基板が、このようなトップコート層と保護トップコート層を備えることにより、トップコート層と保護トップコート層の密着性がより高められ、本発明の遮熱断熱基板の耐擦傷性がより向上し、赤外線反射層の耐久性をより高めることができる。

トップコート層と保護トップコート層の配置としては、トップコート層が赤外線反射層と保護トップコート層の間に配置されていてもよいし、保護トップコート層が赤外線反射層とトップコート層の間に配置されていてもよい。本発明の効果をより発現し得る点で、トップコート層と保護トップコート層の配置としては、好ましくは、トップコート層が赤外線反射層と保護トップコート層の間に配置されている形態であり、より好ましくは、赤外線反射層とトップコート層と保護トップコート層がこの順に直接に積層されてなる形態である。

図１は、本発明の遮熱断熱基板の一つの実施形態を示す概略断面図である。図１において、遮熱断熱基板１００は、透明基板層１０と赤外線反射層２０とトップコート層３０と保護トップコート層４０とを備える。

本発明の遮熱断熱基板は、透明基板層の赤外線反射層と反対の側、透明基板層と赤外線反射層との間、赤外線反射層とトップコート層との間、トップコート層と保護トップコート層との間、保護トップコート層のトップコート層と反対の側、のそれぞれに、必要に応じて、任意の適切な他の層を備えていてもよい。このような他の層は１層でもよいし、２層以上でもよい。また、このような他の層は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

図２は、本発明の遮熱断熱基板の一つの実施形態を示す概略断面図である。図２において、遮熱断熱基板１００は、透明基板層１０とアンダーコート層６０と赤外線反射層２０とトップコート層３０と保護トップコート層４０と保護フィルム７０とを備える。図２において、赤外線反射層２０は、第一金属酸化物層２２ａ、金属層２１、第二金属酸化物層２２ｂの３層からなる。図２に示す一つの実施形態においては、好ましくは、本発明の遮熱断熱基板は、透明基板層１０とアンダーコート層６０と赤外線反射層２０とトップコート層３０と保護トップコート層４０と保護フィルム７０とがこの順に直接に積層されてなる。

本発明の遮熱断熱基板は、透明基板層の赤外線反射層と反対の側に、粘着剤層を備えていてもよい。さらに、セパレータフィルムが、このような粘着剤層の表面に備えられていてもよい。

本発明の遮熱断熱基板の可視光線透過率は、好ましくは３０％以上であり、より好ましくは３０％〜８５％であり、さらに好ましくは４５％〜８０％であり、特に好ましくは５５％〜８０％であり、最も好ましくは５５％〜７５％である。なお、可視光線透過率は、ＪＩＳ−Ａ５７５９−２００８（建築窓ガラス用フィルム）に準じて測定される。

≪２．透明基板層≫
透明基板層は、好ましくは、透明板状部材、透明フィルム、または、これらの複合体である。透明板状部材としては、例えば、ガラス、アクリル板、ポリカーボネート板などが挙げられる。透明フィルムは、好ましくは可撓性の透明フィルムである。透明基板層の可視光線透過率は、好ましくは１０％以上であり、より好ましくは８０％以上であり、さらに好ましくは８５％以上であり、特に好ましくは８８％以上であり、最も好ましくは９０％以上である。なお、可視光線透過率は、ＪＩＳ−Ａ５７５９−２００８（建築窓ガラス用フィルム）に準じて測定される。

透明基板層の厚みは、好ましくは０．２ｍｍ〜４０ｍｍであり、より好ましくは０．５ｍｍ〜３０ｍｍであり、さらに好ましくは１ｍｍ〜２４ｍｍであり、特に好ましくは１．５ｍｍ〜１８ｍｍであり、最も好ましくは２ｍｍ〜１２ｍｍである。

透明基板層の厚みは、透明基板層がフィルムの場合は、好ましくは５μｍ〜５００μｍであり、より好ましくは１０μｍ〜３００μｍであり、さらに好ましくは２０μｍ〜２００μｍであり、特に好ましくは３０μｍ〜１００μｍである。

透明基板層がフィルムの場合、透明基板層を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などが挙げられ、耐熱性に優れる等の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。

≪３．アンダーコート層≫
透明基板層の赤外線反射層の側の表面上には、アンダーコート層が備えられていてもよい。透明基板層の表面上にアンダーコート層が備えられていることにより、本発明の遮熱断熱基板の機械的強度が高められ得るとともに、本発明の遮熱断熱基板の耐擦傷性が高められ得る。

アンダーコート層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ〜５μｍであり、より好ましくは０．２μｍ〜５μｍであり、さらに好ましくは０．２μｍ〜３μｍであり、特に好ましくは０．５μｍ〜３μｍであり、最も好ましくは１μｍ〜２μｍである。アンダーコート層の厚みが上記範囲内にあれば、本発明の遮熱断熱基板の機械的強度が高められ得るとともに、本発明の遮熱断熱基板の耐擦傷性がより高められ得る。

アンダーコート層は、好ましくは硬化型樹脂の硬化被膜であり、例えば、任意の適切な紫外線硬化型樹脂の硬化被膜を透明基板層上に付設する方式により形成できる。アンダーコート層は、好ましくは、有機樹脂を含む樹脂組成物から形成される樹脂層であり、有機樹脂としては、例えば、紫外線硬化樹脂が挙げられる。有機樹脂としての紫外線硬化樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂、オキセタン系樹脂などが挙げられる。

アンダーコート層の表面（透明基板層と反対の側）には、密着性向上等の目的で、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、ケン化処理、カップリング剤による処理などの表面改質処理が行われてもよい。

≪４．反射防止層≫
透明基板層と赤外線反射層との間には、反射防止層が備えられていてもよい。反射防止層が備えられていることにより、本発明の遮熱断熱基板の透明性が向上し得る。また、反射防止層が備えられていることにより、本発明の遮熱断熱基板の密着性が向上し得る。

反射防止層の厚みは、好ましくは３０ｎｍ以下であり、より好ましくは１ｎｍ〜３０ｎｍであり、さらに好ましくは１ｎｍ〜２０ｎｍであり、特に好ましくは１ｎｍ〜１５ｎｍである。

反射防止層の製膜方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。このような製膜方法としては、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、電子線蒸着法等のドライプロセスによる製膜方法が挙げられる。反射防止層の製膜方法としては、好ましくは、直流スパッタ法による製膜方法である。直流スパッタ法による製膜方法を採用する場合、複数の製膜室を備える巻取り式スパッタ装置を用いれば、これら複数層を１パスで形成することが可能となる。このため、反射防止層の生産性が大幅に向上し得るだけでなく、ひいては、本発明の遮熱断熱基板の生産性が大幅に向上し得る。

≪５．赤外線反射層≫
赤外線反射層は、近赤外線の反射による遮熱性向上と遠赤外線の反射による断熱性向上を両立させることができる層であれば、任意の適切な層を採用し得る。

赤外線反射層の一つの実施形態は、第一金属酸化物層、金属層、第二金属酸化物層をこの順に備え、第一金属酸化物層および第二金属酸化物層は金属層に直接積層されてなる。この実施形態においては、赤外線反射層は、好ましくは、第一金属酸化物層、金属層、第二金属酸化物層の３層からなり、第一金属酸化物層、金属層、第二金属酸化物層をこの順に備える。このような赤外線反射層の一つの実施形態は、例えば、特開２０１６−９３８９２号公報、特開２０１６−９４０１２号公報などに記載の実施形態を援用し得る。

金属層は、赤外線反射の中心的な役割を有する。積層数を増加させることなく可視光線透過率と近赤外線反射率を高める観点から、金属層は、好ましくは、銀を主成分とする銀合金層または金を主成分とする金合金層である。例えば、銀は高い自由電子密度を有するため、近赤外線・遠赤外線の高い反射率を実現することができる。したがって、赤外線反射層を構成する層の積層数が少ない場合でも、近赤外線の反射による遮熱性向上と遠赤外線の反射による断熱性向上を両立させることができる。

金属層が銀を主成分とする銀合金層である場合、金属層中の銀の含有割合は、好ましくは８５重量％〜９９．９重量％であり、より好ましくは９０重量％〜９９．８重量％であり、さらに好ましくは９５重量％〜９９．７重量％であり、特に好ましくは９７重量％〜９９．６重量％である。金属層中の銀の含有割合が高いほど、透過率および反射率の波長選択性を高め、可視光線透過率を高めることができる。一方、銀は、水分、酸素、塩素等が存在する環境下に暴露された場合や、紫外光や可視光が照射された場合に、酸化や腐食等の劣化を生じる場合がある。このため、金属層は、耐久性を高める目的で、銀以外の金属を含有する銀合金層であることが好ましく、具体的には、上記のように、金属層中の銀の含有割合が９９．９重量％以下であることが好ましい。

金属層が銀を主成分とする銀合金層である場合、金属層は、上記のように、耐久性を高める目的から、銀以外の金属を含有することが好ましい。金属層中の銀以外の金属の含有割合は、好ましくは０．１重量％〜１５重量％であり、より好ましくは０．２重量％〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．３重量％〜５重量％であり、特に好ましくは０．４重量％〜３重量％である。銀以外の金属としては、例えば、パラジウム（Ｐｄ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、ビスマス（Ｂｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、ガリウム（Ｇａ）などが挙げられ、高い耐久性を付与できる観点から、パラジウム（Ｐｄ）が好ましい。

金属酸化物層（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層）は、金属層との界面における可視光線の反射量を制御して、高い可視光線透過率と高い赤外線反射率とを両立させる等の目的で設けられる。金属酸化物層は、金属層の劣化を防止するための保護層としても機能し得る。赤外線反射層における反射および透過の波長選択性を高める観点から、金属酸化物層の可視光に対する屈折率は、好ましくは１．５以上であり、より好ましくは１．６以上であり、さらに好ましくは１．７以上である。

金属酸化物層（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層）は、好ましくは、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｎ等の金属の酸化物、あるいはこれらの金属の複合酸化物を含む。金属酸化物層は、より好ましくは、酸化亜鉛を含有する複合金属酸化物を含む。金属酸化物層は、好ましくは非晶質である。金属酸化物層が酸化亜鉛を含有する非晶質層である場合、金属酸化物層自体の耐久性が高められるとともに、金属層に対する保護層としての作用が増大するため、金属層の劣化が抑制され得る。

金属酸化物層（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層）は、特に好ましくは、酸化亜鉛を含有する複合金属酸化物である。この場合、金属酸化物層中（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層のそれぞれ中）の酸化亜鉛の含有割合は、金属酸化物の合計１００重量部に対して、好ましくは３重量部以上であり、より好ましくは５重量部以上であり、さらに好ましくは７重量部以上である。酸化亜鉛の含有割合が上記範囲内にあれば、金属酸化物層が非晶質層となりやすく、耐久性が高められる傾向がある。一方、酸化亜鉛の含有割合が過度に大きいと、耐久性が低下したり、可視光線透過率が低下したりするおそれがある。そのため、金属酸化物層中の酸化亜鉛の含有割合は、金属酸化物の合計１００重量部に対して、好ましくは６０重量部以下でありより好ましくは５０重量部以下であり、さらに好ましくは４０重量部以下である。

酸化亜鉛を含有する複合金属酸化物としては、可視光線透過率、屈折率、耐久性の全てを満足し得る観点から、インジウム−亜鉛複合酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛−錫複合酸化物（ＺＴＯ）、インジウム−錫−亜鉛複合酸化物（ＩＴＺＯ）が好ましい。これらの複合酸化物は、さらに、ＡｌやＧａ等の金属や、これらの金属の酸化物を含有していてもよい。

金属層および金属酸化物層（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層）の厚みは、赤外線反射層が、可視光線を透過し近赤外線を選択的に反射するように、材料の屈折率等を勘案して適宜に設定され得る。金属層の厚みは、好ましくは５ｎｍ〜５０ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍ〜２５ｎｍであり、さらに好ましくは１０ｎｍ〜１８ｎｍである。金属酸化物層の厚み（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層のそれぞれの厚み）は、好ましくは１ｎｍ〜８０ｎｍであり、より好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍであり、さらに好ましくは１ｎｍ〜４０ｎｍであり、特に好ましくは２ｎｍ〜３０ｎｍである。本発明の遮熱断熱基板は、好ましくは機械的強度が高められ得るので、金属酸化物層の厚み（第一金属酸化物層および第二金属酸化物層のそれぞれの厚み）を従来品レベルよりも薄くすることが可能となる。

金属層および金属酸化物層の製膜方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。このような製膜方法としては、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、電子線蒸着法等のドライプロセスによる製膜方法が挙げられる。金属層および金属酸化物層の製膜方法としては、好ましくは、直流スパッタ法による製膜方法である。直流スパッタ法による製膜方法を採用する場合、複数の製膜室を備える巻取り式スパッタ装置を用いれば、これら複数層を１パスで形成することが可能となる。このため、赤外線反射層の生産性が大幅に向上し得るだけでなく、ひいては、本発明の遮熱断熱基板の生産性が大幅に向上し得る。また、直流スパッタするターゲットは、導電性を付与するために導電性の不純物を添加されていてもよく、一部を還元性としてもよい。そのため、成膜される反射防止層にも該不純物が混入したり、層の組成が化学量論組成と異なったりする場合があるが、本発明の効果を奏する限りは問題とならない。

赤外線反射層の別の一つの実施形態としては、例えば、特開２０１４−３０９１０号公報に記載の基材層の実施形態を援用し得る。

≪６．トップコート層≫
本発明の遮熱断熱基板においては、トップコート層が、好ましくは、ドライプロセスによって形成された層である。ドライプロセスとしては、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、電子線蒸着法等のドライプロセスが挙げられる。トップコート層の製膜方法としては、好ましくは、スパッタ法による製膜方法であり、より好ましくは、直流スパッタ法による製膜方法である。直流スパッタ法による製膜方法を採用する場合、複数の製膜室を備える巻取り式スパッタ装置を用いれば、これら複数層を１パスで形成することが可能となる。このため、トップコート層の生産性が大幅に向上し得るだけでなく、ひいては、本発明の遮熱断熱基板の生産性が大幅に向上し得る。本発明の遮熱断熱基板が、このようなトップコート層を備えることにより、トップコート層と保護トップコート層の密着性が高められ、本発明の遮熱断熱基板の耐擦傷性が向上し、赤外線反射層の耐久性を高めることができる。特に、本発明の遮熱断熱基板のコットン耐擦傷性とスチールウール耐擦傷性とを両立して高め得る。

本発明の遮熱断熱基板は、特定のトップコート層を有することにより、好ましくは、透明性が高い。

トップコート層は、好ましくは、周期表第１３族または第１４族の１種以上が主成分となる酸化物または窒化物、酸化窒化物、非酸化窒化物であり、周期表第３族または第４族の１種以上の成分を含む。トップコート層は、より好ましくは、第１４族の１種以上が主成分となる酸化物または窒化物、酸化窒化物、非窒化物または非酸化物であり、周期表第３族または第４族の１種以上の成分を含む。トップコート層は、さらに好ましくは、ＳｉとＺｒを含む酸化物または酸化窒化物、ＳｉとＹを含む酸化物または酸化窒化物、ＳｉとＴｉを含む酸化物または酸化窒化物から選ばれる少なくとも１種を含む。トップコート層は、特に好ましくは、ＳｉとＺｒを含む酸化物、ＳｉとＹを含む酸化物、ＳｉとＴｉを含む酸化物から選ばれる少なくとも１種を含む。

第１４族の元素は最外殻電子が４つのためイオンになりにくい。第１３族の元素は最外殻電子が３つのため陰イオンになりにくい。そのため、窒化物、酸化窒化物、非窒化物または非酸化物の硬度が高くなると考察される。

周期表第３族または第４族の元素の添加は、主成分元素の結晶緻密化、分子構造の最密化などによって、強度の増加や耐腐食性、耐熱性を向上させる。

周期表第３族または第４族の元素の添加量は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは０．０１ａｔｍ％〜４９．９ａｔｍ％であり、より好ましくは０．０５ａｔｍ％〜４０．０ａｔｍ％であり、さらに好ましくは０．１ａｔｍ％〜４０．０ａｔｍ％であり、特に好ましくは０．５ａｔｍ％〜３５．０ａｔｍ％である。周期表第３族または第４族の元素の添加量が少ない場合は、マトリックス全体に均一に元素が挿入されないために、本発明の効果が発現できないおそれがある。一方、周期表第３族または第４族の元素の添加量が多すぎる場合は、主成分との相溶性が悪くなり、本発明の効果が発現できないおそれがある。相溶性は相図によって確認することができる。

トップコート層の厚みは、好ましくは０．５ｎｍ〜３０ｎｍであり、より好ましくは１ｎｍ〜２５ｎｍであり、さらに好ましくは２ｎｍ〜２０ｎｍであり、特に好ましくは３ｎｍ〜１５ｎｍである。トップコート層の厚みが上記範囲内にあれば、本発明の遮熱断熱基板は、より優れた耐擦傷性を発現できる。

≪７．保護トップコート層≫
本発明の遮熱断熱積基板においては、保護トップコート層が、好ましくは、塗布によって形成された層である。塗布による保護トップコート層の形成は、例えば、後述するような材料を溶剤に溶解させて溶液を調製し、この溶液をトップコート層上に塗布し、溶媒を乾燥させた後、紫外線や電子線等の照射や熱エネルギーの付与によって、硬化させることによる形成が挙げられる。本発明の遮熱断熱基板が、このような保護トップコート層を備えることにより、トップコート層と保護トップコート層の密着性が高められ、本発明の遮熱断熱基板の耐擦傷性が向上し、赤外線反射層の耐久性を高めることができる。特に、本発明の遮熱断熱基板のコットン耐擦傷性とスチールウール耐擦傷性とを両立して高め得る。

保護トップコート層は、高い可視光線の透過率を有することが好ましい。

保護トップコート層は、遠赤外線の吸収が小さいことが好ましい。保護トップコート層において遠赤外線の吸収が小さいと、室内の遠赤外線が赤外線反射層によって室内に反射されるため、断熱効果が高められ得る。保護トップコート層による遠赤外線吸収量を小さくする方法としては、保護トップコート層の材料として遠赤外線の吸収率が小さいものを用いる方法、保護トップコート層の厚みを小さくする方法などが挙げられる。一方、保護トップコート層において遠赤外線の吸収が大きいと、室内の遠赤外線が保護トップコート層で吸収され、赤外線反射層によって反射されることなく、熱伝導により外部に放熱されるため、断熱性が低下するおそれがある。

保護トップコート層の材料として遠赤外線の吸収率が小さいものを用いれば、保護トップコート層の厚みが大きい場合でも、遠赤外線吸収量を小さく保つことができ、赤外線反射層に対する保護効果を高めることができる。遠赤外線の吸収が小さい保護トップコート層の材料としては、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合、Ｃ−Ｏ結合、芳香族環などの含有量が小さい化合物が好適に用いられる。このような化合物としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンや、シクロオレフィン系ポリマー等の脂環式ポリマー、ゴム系ポリマーなどが挙げられる。

保護トップコート層は、遠赤外線吸収量を小さくする観点から、その厚みは、好ましくは５００ｎｍ以下であり、より好ましくは３００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは２００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１５０ｎｍ以下であり、特に好ましくは１２０ｎｍ以下であり、最も好ましくは１００ｎｍ以下である。保護トップコート層の光学膜厚（屈折率と物理的な膜厚の積）が可視光の波長範囲と重複すると、界面での多重反射干渉によって、本発明の遮熱断熱基板の表面が虹模様に見える「虹彩現象」を生じる場合がある。一般的な樹脂の屈折率は１．５程度であるため、虹彩現象を抑制する観点からも保護トップコート層の厚みは２００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

保護トップコート層は、それに機械的強度および化学的強度を付与するとともに、本発明の遮熱断熱基板の耐久性を高める観点から、その厚みは、好ましくは５ｎｍ以上であり、より好ましくは１５ｎｍ以上であり、さらに好ましくは３０ｎｍ以上であり、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。

保護トップコート層の厚みが上記範囲内にあれば、保護トップコート層の表面側での反射光と赤外線反射層側界面での反射光との多重反射干渉により、可視光線の反射率を低下させることができる。そのため、赤外線反射層の光吸収による反射率低下効果に加えて、保護トップコート層による反射防止効果が得られ、本発明の遮熱断熱基板の視認性がさらに高められ得る。

保護トップコート層の材料としては、可視光線透過率が高く、機械的強度および化学的強度に優れるものが好ましい。保護トップコート層の材料としては、例えば、有機樹脂、無機材料、有機成分と無機成分が化学結合した有機無機ハイブリッド材料などが挙げられる。有機樹脂は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。無機材料は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。有機無機ハイブリッド材料は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

有機樹脂としては、例えば、活性光線硬化型あるいは熱硬化型の有機樹脂が挙げられ、具体的には、例えば、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。本発明の効果をより発現させ得る点で、有機樹脂としては、好ましくは、アクリル系樹脂である。

無機材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、サイアロン（ＳｉＡｌＯＮ）などが挙げられる。

保護トップコート層としては、好ましくは、有機樹脂を含む樹脂組成物から形成される樹脂層、有機無機ハイブリッド材料を含む組成物から形成される樹脂層が挙げられ、より好ましくは、有機樹脂を含む樹脂組成物から形成される樹脂層が挙げられる。

保護トップコート層は、好ましくは、配位結合型材料を含む。配位結合型材料としては、他の化合物と配位結合を形成し得る材料であれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な配位結合型材料を採用し得る。配位結合型材料は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。保護トップコート層が配位結合型材料を含むことにより、例えば、トップコート層が該保護トップコート層と直接に積層されている場合に、これらの２層の間に配位結合性の結合力が発現して密着性が向上し得る。特に、トップコート層が金属酸化物を含有する場合、保護トップコート層中の酸性基がトップコート層中の金属酸化物と配位結合性の高い親和力を発現し得る。また、トップコート層と保護トップコート層との密着性が向上することにより、表面保護層の強度が向上し得るため、赤外線反射層の耐久性を高め得る。

配位結合型材料としては、好ましくは、孤立電子対を持つ基を有する化合物であり、該孤立電子対を持つ基としては、例えば、リン原子、硫黄原子、酸素原子、窒素原子などの配位原子を有する基が挙げられ、具体的には、例えば、リン酸基、硫酸基、チオール基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。

配位結合型材料は、好ましくは、金属イオンとの作用によって密着力を高め得る。配位結合型材料は、他の樹脂材料等との密着力を高めるために、反応性基を有していてもよい。

配位結合型材料としては、好ましくは、酸性基と重合性官能基とを同一分子中に有するエステル化合物が挙げられる。

酸性基と重合性官能基とを同一分子中に有するエステル化合物としては、リン酸、硫酸、シュウ酸、コハク酸、フタル酸、フマル酸、マレイン酸等の多価の酸と、エチレン性不飽和基、シラノール基、エポキシ基等の重合性官能基と水酸基とを分子中に有する化合物とのエステルが挙げられる。なお、このようなエステル化合物は、ジエステルやトリエステル等の多価エステルでもよいが、多価の酸の少なくとも１つの酸性基がエステル化されていないことが好ましい。

保護トップコート層の機械的強度および化学的強度を高める観点から、酸性基と重合性官能基とを同一分子中に有するエステル化合物は、重合性官能基として（メタ）アクリロイル基を含有することが好ましい。酸性基と重合性官能基とを同一分子中に有するエステル化合物は、分子中に複数の重合性官能基を有していてもよい。酸性基と重合性官能基とを同一分子中に有するエステル化合物としては、好ましくは、一般式（Ａ）で表される、リン酸モノエステル化合物またはリン酸ジエステル化合物が挙げられる。なお、リン酸モノエステルとリン酸ジエステルとを併用することもできる。酸性基と重合性官能基とを同一分子中に有するエステル化合物として、一般式（Ａ）で表される、リン酸モノエステル化合物またはリン酸ジエステル化合物を採用すると、リン酸ヒドロキシ基は金属酸化物との親和性に優れるため、トップコート層が保護トップコート層と直接に積層されている場合であって該トップコート層が金属酸化物を含有する場合、これらの２層の間の密着性がより向上し得る。

一般式（Ａ）中、Ｘは水素原子またはメチル基を表し、（Ｙ）は−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_５−基を表す。ｎは０または１であり、ｐは１または２である。

保護トップコート層中の配位結合型材料の含有割合は、好ましくは１重量％〜２０重量％であり、より好ましくは１．５重量％〜１７．５重量％であり、さらに好ましくは２重量％〜１５重量％であり、特に好ましくは２．５重量％〜１２．５重量％である。保護トップコート層中の配位結合型材料の含有割合が過度に小さいと、強度や密着性の向上効果が十分に得られないおそれがある。保護トップコート層中の配位結合型材料の含有割合が過度に大きいと、保護トップコート層形成時の硬化速度が小さくなって硬度が低下したりするおそれや、保護トップコート層表面の滑り性が低下して耐擦傷性が低下したりするおそれがある。

保護トップコート層は、好ましくは、３０℃〜７５℃の範囲内に軟化温度を有さない。保護トップコート層は、より好ましくは、２５℃〜７５℃の範囲内に軟化温度を有さず、さらに好ましくは、２０℃〜８０℃の範囲内に軟化温度を有さず、特に好ましくは、１５℃〜８５℃の範囲内に軟化温度を有さず、最も好ましくは、１０℃〜９０℃の範囲内に軟化温度を有さない。保護トップコート層が上記の温度範囲内に軟化温度を有さないと、実使用環境中において保護トップコート層の物性が変化し難く、安定した耐擦傷性および耐凹み性を得ることができるという効果を発現し得る。なお、軟化温度の測定方法については、後述する。

保護トップコート層の材料として有機樹脂あるいは有機・無機ハイブリッド材料が用いられる場合、架橋構造が導入されることが好ましい。架橋構造が形成されることによって、保護トップコート層の機械的強度および化学的強度が高められ、赤外線反射層に対する保護機能が増大する。このような架橋構造の中でも、酸性基と重合性官能基とを同一分子中に有するエステル化合物に由来する架橋構造が導入されることが好ましい。

保護トップコート層の材料には、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等のカップリング剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、可塑剤、着色防止剤、難燃剤、帯電防止剤等の添加剤が含まれていてもよい。これらの添加剤の含有量としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な含有量を採用し得る。

保護トップコート層の形成方法としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な形成方法を採用し得る。このような形成方法としては、例えば、保護トップコート層の原料溶液をトップコート層上に塗布し、溶媒を乾燥させた後、紫外線や電子線等の照射や熱エネルギーの付与によって、硬化させる方法が挙げられる。

≪８．保護フィルム≫
保護トップコート層のトップコート層と反対の側には、保護フィルムが備えられていてもよい。

保護フィルムの厚みは、好ましくは１０μｍ〜１５０μｍであり、より好ましくは２５μｍ〜１００μｍであり、さらに好ましくは３０μｍ〜７５μｍであり、特に好ましくは３５μｍ〜６５μｍであり、最も好ましくは３５μｍ〜５０μｍである。

≪９．その他の構成部材≫
透明基板層の赤外線反射層と反対の側には、接着剤層が備えられていてもよい。接着剤層は、例えば、窓ガラス等との貼り合せに用いられ得る。

接着剤層としては、可視光線透過率が高く、透明基板層との屈折率差が小さいものが好ましい。接着剤層の材料としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な材料を採用し得る。このような材料としては、例えば、アクリル系粘着剤（アクリル系感圧接着剤）が挙げられる。アクリル系粘着剤（アクリル系感圧接着剤）は、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性を示し、耐候性や耐熱性等に優れることから、接着剤層の材料として好適である。

接着剤層としては、可視光線の透過率が高く、かつ、紫外線透過率が小さいものが好ましい。接着剤層の紫外線透過率を小さくすることにより、太陽光等の紫外線に起因する赤外線反射層の劣化を抑制し得る。接着剤層の紫外線透過率を小さくする観点から、接着剤層は紫外線吸収剤を含有することが好ましい。なお、紫外線吸収剤を含有する透明基板層等を用いることによっても、屋外からの紫外線に起因する赤外線反射層の劣化を抑制し得る。

接着剤層の露出面は、本発明の遮熱断熱基板が実用に供されるまでの間、露出面の汚染防止等を目的として、セパレータが仮着されてカバーされていることが好ましい。このようなセパレータにより、通例の取扱状態で、接着剤層の露出面の外部との接触による汚染を防止し得る。

≪１０．遮熱断熱基板の用途≫
本発明の遮熱断熱基板は、建物や乗り物等の窓、植物等を入れる透明ケース、冷凍もしくは冷蔵のショーケース等に用いることができ、冷暖房効果の向上や急激な温度変化を防ぐ作用を有し得る。

図３は、本発明の遮熱断熱基板の使用形態の一例を模式的に表す断面図である。この使用形態において、本発明の遮熱断熱基板１００は、透明基板層１０側が、任意の適切な接着剤層８０を介して、建物や自動車の窓１０００の室内側に貼り合せて配置される。図３に模式的に示すように、本発明の遮熱断熱基板１００は、屋外からの可視光（ＶＩＳ）を透過して室内に導入するとともに、屋外からの近赤外線（ＮＩＲ）を赤外線反射層２０で反射する。近赤外線反射により、太陽光等に起因する室外からの熱の室内への流入が抑制される（遮熱効果が発揮される）ため、例えば、夏場の冷房効率を高めることができる。さらに、赤外線反射層２０は、暖房器具９０から放射される室内の遠赤外線（ＦＩＲ）を反射するため、断熱効果が発揮され、冬場の暖房効率を高めることができる。また、本発明の遮熱断熱基板１００は、赤外線反射層２０を備えることにより可視光の反射率が低減されるため、ショーケースやショーウィンドウ等に用いた場合に、商品等の視認性を低下させることなく、遮熱性と断熱性を付与することができる。

本発明の遮熱断熱基板は、例えば、特開２０１３−６１３７０号公報に開示されているように、枠体等に嵌め込んで用いることもできる。このような形態では、接着剤層を設ける必要がないため、接着剤層による遠赤外線の吸収が生じない。このため、透明基板層として、例えば、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合、Ｃ−Ｏ結合、芳香族環等の官能基の含有量が少ない材料（例えば、環状ポリオレフィン）を用いることにより、透明基板層側からの遠赤外線を赤外線反射層で反射させることができ、本発明の遮熱断熱基板の両面側に断熱性を付与できる。このような構成は、例えば、冷蔵ショーケースや冷凍ショーケース等で特に有用である。

本発明の遮熱断熱基板は、透明基板層が、例えば、透明板状部材（例えば、ガラス、アクリル板、ポリカーボネート板など）や、該透明板状部材と透明フィルムの複合体である場合には、例えば、そのまま、建物や自動車の窓などに適用できる。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。なお、実施例等における、試験および評価方法は以下のとおりである。なお、「部」と記載されている場合は、特記事項がない限り「重量部」を意味し、「％」と記載されている場合は、特記事項がない限り「重量％」を意味する。

＜各層の膜厚＞
トップコート層、金属酸化物層、金属層の膜厚は、集束イオンビーム加工観察装置（日立製作所製、製品名「ＦＢ−２１００」）を用いて、集束イオンビーム（ＦＩＢ）法により試料を加工し、その断面を、電界放出形透過電子顕微鏡（日立製作所製、製品名「ＨＦ−２０００」）により観察して求めた。
保護トップコート層、アンダーコート層の膜厚は、瞬間マルチ測光システム（大塚電子製、製品名「ＭＣＰＤ３０００」）を用い、測定対象側から光を入射させた際の可視光の反射率の干渉パターンから、計算により求めた。

＜放射率＞
測定用の遮熱断熱基板を室温に２４時間放置し、その遮熱断熱基板の透明基板層側の面を、厚み２５μｍの粘着剤層（日東電工社製、製品名「ＨＪ−９１５０Ｗ」）を介して厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製）に貼り合せたものを試料として用い、放射率計（Ｄｅｖｉｃｅｓ ａｎｄ Ｓｅｒｖｉｃｅｓ社製、Ｍｏｄｅｌ ＡＥ１）を用いて赤外線反射層の透明基板層と反対の側を測定した。なお、実際の試験の際の温度、湿度の実測値は、温度２３℃、湿度５０％ＲＨであった。
〇：放射率が０．２０以下。
△：放射率が０．２０以上０．４０未満。
×：放射率が０．４０以上。

＜コットン耐擦傷性試験＞
測定用の遮熱断熱基板を室温に２４時間放置し、その遮熱断熱基板の透明基板層側の面を、厚み２５μｍの粘着剤層（日東電工社製、製品名「ＨＪ−９１５０Ｗ」）を介してアルミ板に貼り合せたものを試料として用いた。学振摩耗試験機を用いて、試験用綿布（金巾３号）で５００ｇの荷重を加えながら、アルミ板上の遮熱断熱基板の、赤外線反射層の透明基板層と反対の側の最表面を、１０００往復擦った。試験後の試料への傷、剥離の有無を目視で評価し、以下の評価基準に従い、評価した。なお、実際の試験の際の温度、湿度の実測値は、温度２３℃、湿度５０％ＲＨであった。
○：表面に傷が認められず剥離が生じていないもの。
△：表面に若干の傷が認められるが剥離は生じていないもの。
×：表面に多数の傷や剥離が認められるもの。

＜スチールウール（ＳＷ）耐擦傷性試験＞
測定用の遮熱断熱基板を室温に２４時間放置した後、その透明基板層側の面を、厚み２５μｍの粘着剤層（日東電工社製、製品名「ＨＪ−９１５０Ｗ」）を介して厚み１．３ｍｍのガラス板に貼り合せたものを試料として用いた。１０連式ペン試験機を用いて、スチールウール（ボンスター製、＃００００）で１０００ｇの荷重を加えながら、ガラス板上の遮熱断熱基板の、赤外線反射層の透明基板層と反対の側の最表面を、１０往復擦った。試験後の試料への傷、剥離の有無を目視で評価し、以下の評価基準に従い、評価した。なお、実際の試験の際の温度、湿度の実測値は、温度２３℃、湿度５０％ＲＨであった。
〇：表面に傷が認められず剥離が生じていないもの。
△：表面に若干の傷が認められるが剥離は生じていないもの。
×：表面に多数の傷や剥離が認められるもの。

＜結露サイクル１８０回後のスチールウール（ＳＷ）耐擦傷性試験＞
測定用の遮熱断熱基板を室温に２４時間放置した後、その透明基板層側の面を、厚み２５μｍの粘着剤層（日東電工社製、製品名「ＨＪ−９１５０Ｗ」）を介して厚み１．３ｍｍのガラス板に貼り合せたものを試料として用いた。結露サイクル試験機を用いて、試料を結露環境で保存した後、１０連式ペン試験機を用いて、スチールウール（ボンスター製、＃００００）で１０００ｇの荷重を加えながら、ガラス板上の遮熱断熱基板の、赤外線反射層の透明基板層と反対の側の最表面を、１０往復擦った。結露試験は、−１０℃で１０分間保存、５０℃９０％ＲＨで１０分間保存、常温（温度２３℃、湿度５０％ＲＨ）で１０分間保存を１サイクルとした。上記１サイクルを１８０回繰り返した。試験後の試料への傷、剥離の有無を目視で評価し、以下の評価基準に従い、評価した。
〇：表面に傷が認められず剥離が生じていないもの。
△：表面に若干の傷が認められるが剥離は生じていないもの。
×：表面に多数の傷や剥離が認められるもの。

＜軟化温度の測定＞
軟化温度は、日立ハイテクサイエンス製のＡＦＭ５３００Ｅ／ＮａｎｏＮａｖｉ２／Ｎａｎｏ−ＴＡ２を用いて、コンタクトモードでカンチレバーの温度を１０℃〜３００℃に変化させながら１０μｍスキャンすることで測定した。軟化温度は、この測定で得られた曲線の変曲点であり、変曲点は変曲点前後の曲線の接線の交点として求めた。

〔実施例１〕
（透明基板層上へのアンダーコート層の形成）
厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）の一方の面に、アクリル系紫外線硬化型ハードコート層（ＪＳＲ製、Ｚ７５４０）を２μｍの厚みで形成した。詳しくは、グラビアコーターにより、上記ハードコート層の溶液を塗布し、８０℃で乾燥後、超高圧水銀ランプにより積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、硬化を行い、透明基板層上へアンダーコート層を形成した。
（第一金属酸化物層、金属層、第二金属酸化物層、トップコート層の形成）
巻取式スパッタ装置を用いて、上記透明基板層上に形成されたアンダーコート層上に、直流マグネトロンスパッタ法により、膜厚３０ｎｍの亜鉛−錫複合酸化物（ＺＴＯ）層、膜厚１５ｎｍのＡｇ−Ｐｄ合金層、膜厚３０ｎｍの亜鉛−錫複合酸化物（ＺＴＯ）層、および、膜厚１０ｎｍのＳｉＺｒＯ_ｘ層（Ｓｉ：６６ａｔｍ％、Ｚｒ：３４ａｔｍ％）を順次形成し、上記アンダーコート層上に、第一金属酸化物層、金属層、第二金属酸化物層、トップコート層をこの順に形成した。
ＺＴＯ層の形成には、酸化亜鉛と酸化錫と金属亜鉛粉末とを、８．５：８３：８．５の重量比で焼結させたターゲットを用い、電力密度：２．６７Ｗ／ｃｍ^２、プロセス圧力：０．４Ｐａの条件でスパッタを行った。この際、スパッタ製膜室へのガス導入量を、Ａｒ：Ｏ_２が９８：２（体積比）となるように調整した。
Ａｇ−Ｐｄ合金層の形成には、銀：パラジウムを９６．４：３．６の重量比で含有する金属ターゲットを用い、電力密度：１．３３Ｗ／ｃｍ^２、プロセス圧力：０．４Ｐａの条件でスパッタを行った。
ＳｉＺｒＯ_ｘ層の形成にはＳｉ：Ｚｒを６７：３３の原子量比で焼結させたターゲットを用い、電力密度：２．６７Ｗ／ｃｍ^２、プロセス圧力：０．４Ｐａの条件でスパッタを行った。この際、スパッタ製膜室へのガス導入量を、Ａｒ：Ｏ_２が６０：４０（体積比）となるように調整した。
（保護トップコート層の形成）
上記トップコート層上に、配位結合型材料を有するフッ素系の紫外線硬化型樹脂からなる保護トップコート層を６０ｎｍの膜厚で形成した。詳しくは、フッ素系ハードコート樹脂溶液（ＪＳＲ製、商品名「ＪＵＡ２０４」）の固形分１００重量部に対して、リン酸エステル化合物（日本化薬製、商品名「ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２１」）を５重量部添加した溶液を、スピンコーターを用いて塗布し、６０℃で１分間乾燥後、窒素雰囲気下で超高圧水銀ランプにより積算光量４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、硬化を行った。なお、上記リン酸エステル化合物は、分子中に１個のアクリロイル基を有するリン酸モノエステル化合物（上記の一般式（Ａ）において、Ｘがメチル基、ｎ＝０、ｐ＝１である化合物）と分子中に２個のアクリロイル基を有するリン酸ジエステル化合物（上記の一般式（Ａ）において、Ｘがメチル基、ｎ＝０、ｐ＝２である化合物）との混合物である。
（遮熱断熱基板）
以上のようにして、透明基板層（厚み５０μｍ）／アンダーコート層（厚み２μｍ）／第一金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／金属層（厚み１５ｎｍ）／第二金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／トップコート層（厚み１０ｎｍ）／保護トップコート層（厚み６０ｎｍ）の構成を有する遮熱断熱基板（１）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例２〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層の形成にＳｉ：Ｚｒを９７：３の原子量比で焼結させたターゲットを用いた以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（２）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例３〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層に代えてＳｉＹＯ_ｘ層の形成にＳｉ：Ｙを９４：６の原子量比で焼結させたターゲットを用いた以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（３）を得た。

〔実施例４〕
ＳｉＹＯ_ｘ層の形成にＳｉ：Ｙを９７：３の原子量比で焼結させたターゲットを用いた以外は、実施例３と同様に行い、遮熱断熱基板（４）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例５〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層に代えてＳｉＴｉＯ_ｘ層の形成にＳｉ：Ｔｉを９９：１の原子量比で焼結させたターゲットを用いた以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（５）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例６〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層に代えてＳｉＡｌＺｒＯ_ｘ層の形成にＳｉ：Ａｌ：Ｚｒを６０：３０：１０の原子量比で焼結させたターゲットを用いた以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（６）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例７〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層に代えてＳｉＡｌＹＯ_ｘ層の形成にＳｉ：Ａｌ：Ｙを６０：３７：３の原子量比で焼結させたターゲットを用いた以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（７）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例８〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層に代えてＳｉＡｌＺｒＮ_ｘＯ_Ｙ層の形成にＳｉ：Ａｌ：Ｚｒを６０：３０：１０の原子量比で焼結させたターゲットを用いた以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（８）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例９〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層に代えてＳｉＡｌＹＮ_ｘＯ_Ｙ層の形成にＳｉ：Ａｌ：Ｙを６０：３９：１の原子量比で焼結させたターゲットを用いた以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（９）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例１０〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（１０）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例１１〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、実施例２と同様に行い、遮熱断熱基板（１１）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例１２〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、実施例３と同様に行い、遮熱断熱基板（１２）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例１３〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、実施例４と同様に行い、遮熱断熱基板（１３）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例１４〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、実施例５と同様に行い、遮熱断熱基板（１４）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例１５〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、実施例６と同様に行い、遮熱断熱基板（１５）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例１６〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、実施例７と同様に行い、遮熱断熱基板（１６）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例１７〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、実施例８と同様に行い、遮熱断熱基板（１７）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例１８〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、実施例９と同様に行い、遮熱断熱基板（１８）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例１９〕
保護トップコート層の厚みを１００ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様に行い、透明基板層（厚み５０μｍ）／アンダーコート層（厚み２μｍ）／第一金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／金属層（厚み１５ｎｍ）／第二金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／トップコート層（厚み１０ｎｍ）／保護トップコート層（厚み１００ｎｍ）の構成を有する遮熱断熱基板（１９）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例２０〕
保護トップコート層の厚みを４００ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様に行い、透明基板層（厚み５０μｍ）／アンダーコート層（厚み２μｍ）／第一金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／金属層（厚み１５ｎｍ）／第二金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／トップコート層（厚み１０ｎｍ）／保護トップコート層（厚み４００ｎｍ）の構成を有する遮熱断熱基板（２０）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例２１〕
保護トップコート層の厚みを８００ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様に行い、透明基板層（厚み５０μｍ）／アンダーコート層（厚み２μｍ）／第一金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／金属層（厚み１５ｎｍ）／第二金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／トップコート層（厚み１０ｎｍ）／保護トップコート層（厚み８００ｎｍ）の構成を有する遮熱断熱基板（２１）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例２２〕
トップコート層の厚みを１００ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様に行い、透明基板層（厚み５０μｍ）／アンダーコート層（厚み２μｍ）／第一金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／金属層（厚み１５ｎｍ）／第二金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／トップコート層（厚み１００ｎｍ）／保護トップコート層（厚み６０ｎｍ）の構成を有する遮熱断熱基板（２２）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例２３〕
トップコート層の厚みを４００ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様に行い、透明基板層（厚み５０μｍ）／アンダーコート層（厚み２μｍ）／第一金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／金属層（厚み１５ｎｍ）／第二金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／トップコート層（厚み４００ｎｍ）／保護トップコート層（厚み６０ｎｍ）の構成を有する遮熱断熱基板（２３）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例２４〕
トップコート層の厚みを８００ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様に行い、透明基板層（厚み５０μｍ）／アンダーコート層（厚み２μｍ）／第一金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／金属層（厚み１５ｎｍ）／第二金属酸化物層（厚み３０ｎｍ）／トップコート層（厚み８００ｎｍ）／保護トップコート層（厚み６０ｎｍ）の構成を有する遮熱断熱基板（２４）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例２５〕
保護トップコート層に含まれる配位結合型材料として、リン酸エステル化合物（日本化薬製、商品名「ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２１」）に代えて、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート−コハク酸変性物（共栄社化学製、商品名「ライトアクリレート ＤＰＥ−６Ａ−ＭＳ」）を用いた以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（２５）を得た。
結果を表１に示した。

〔実施例２６〕
保護トップコート層の形成を下記のように変更した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（２６）を得た。
結果を表１に示した。
また、得られた保護トップコート層の軟化温度の測定結果を図４に示した。軟化温度は９５℃であった。
（保護トップコート層の形成）
上記トップコート層上に、配位結合型材料を有するアクリル系の紫外線硬化型樹脂からなる保護トップコート層を６０ｎｍの膜厚で形成した。詳しくは、アクリル系ハードコート樹脂溶液（アイカ工業製、商品名「Ｚ−７７３」）の固形分１００重量部に対して、シリカ粒子（日産化学製、商品名「ＰＧＭ−ＡＣ−２１４０Ｙ」）を５０重量部、リン酸エステル化合物（日本化薬製、商品名「ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２１」）を５重量部添加し、フッ素系添加剤（ダイキン工業製、商品名「オプツールＤＡＣ−ＨＰ」）を１０重量部添加した溶液を、スピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間乾燥後、窒素雰囲気下で超高圧水銀ランプにより積算光量４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、硬化を行った。なお、上記リン酸エステル化合物は、分子中に１個のアクリロイル基を有するリン酸モノエステル化合物（上記の一般式（１）において、Ｘがメチル基、ｎ＝０、ｐ＝１である化合物）と分子中に２個のアクリロイル基を有するリン酸ジエステル化合物（上記の一般式（１）において、Ｘがメチル基、ｎ＝０、ｐ＝２である化合物）との混合物である。

〔実施例２７〕
保護トップコート層の硬化に用いる紫外線照射量として、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ^２に代えて、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２とした以外は、実施例２６と同様に行い、遮熱断熱基板（２７）を得た。
結果を表１に示した。
また、得られた保護トップコート層の軟化温度は７０℃であった。

〔比較例１〕
保護トップコート層を形成しなかった以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ１）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例２〕
保護トップコート層を形成しなかった以外は、実施例２と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ２）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例３〕
保護トップコート層を形成しなかった以外は、実施例３と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ３）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例４〕
保護トップコート層を形成しなかった以外は、実施例４と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ４）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例５〕
保護トップコート層を形成しなかった以外は、実施例５と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ５）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例６〕
保護トップコート層を形成しなかった以外は、実施例６と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ６）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例７〕
保護トップコート層を形成しなかった以外は、実施例７と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ７）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例８〕
保護トップコート層を形成しなかった以外は、実施例８と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ８）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例９〕
保護トップコート層を形成しなかった以外は、実施例９と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ９）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例１０〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層に代えてＺｒＯ_２層を形成した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ１０）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例１１〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層に代えてＳｉＯ_２層を形成した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ１１）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例１２〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層に代えてＡｌ_２Ｏ_３層を形成した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ１２）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例１３〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層に代えてＳｉＳｎＯ_ｘ層の形成にＳｉ：Ｓｎを５０：５０の原子量比で焼結させたターゲットを用いた以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ１３）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例１４〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層に代えてＳｉ層を形成した以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ１４）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例１５〕
ＳｉＺｒＯ_ｘ層を形成しなかった以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ１５）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例１６〕
保護トップコート層の形成を、配位結合型材料を用いないで行った以外は、実施例１と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ１６）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例１７〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、比較例１と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ１７）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例１８〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、比較例１０と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ１８）を得た。
結果を表２に示した。

〔比較例１９〕
透明基板層として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラーＵ４８」、可視光透過率９３％）に代えて、厚み３ｍｍのフロート板ガラス（松浪硝子製、可視光透過率９１％）を用いた以外は、比較例１１と同様に行い、遮熱断熱基板（Ｃ１９）を得た。
結果を表２に示した。

本発明の遮熱断熱基板は、例えば、建物や乗り物等の窓、植物等を入れる透明ケース、冷凍もしくは冷蔵のショーケース等に利用することができる。

１０ 透明基板層
２０ 赤外線反射層
２１ 金属層
２２ａ 第一金属酸化物層
２２ｂ 第二金属酸化物層
３０ トップコート層
４０ 保護トップコート層
６０ アンダーコート層
７０ 保護フィルム
８０ 接着剤層
９０ 暖房器具
１００ 遮熱断熱基板
１０００ 窓

Claims (8)

1. 透明基板層と赤外線反射層を含む遮熱断熱基板であって、
   該赤外線反射層の該透明基板層と反対の側にトップコート層と保護トップコート層を備え、
   該トップコート層が、周期表第１３族または第１４族の１種以上が主成分となる酸化物または窒化物、酸化窒化物、非酸化窒化物であり、周期表第３族または第４族の１種以上の成分を含み、
   該保護トップコート層が配位結合型材料を含む、
   遮熱断熱基板。
2. 前記保護トップコート層が、３０℃〜７５℃の範囲内に軟化温度を有さない、請求項１に記載の遮熱断熱基板。
3. 前記トップコート層が前記赤外線反射層と前記保護トップコート層の間に配置されている、請求項１または２に記載の遮熱断熱基板。
4. 前記赤外線反射層と前記トップコート層と前記保護トップコート層がこの順に直接に積層されてなる、請求項３に記載の遮熱断熱基板。
5. 前記トップコート層の厚みが０．５ｎｍ〜５００ｎｍである、請求項１から４までのいずれかに記載の遮熱断熱基板。
6. 前記保護トップコート層の厚みが５ｎｍ〜５００ｎｍである、請求項１から５までのいずれかに記載の遮熱断熱基板。
7. 前記トップコート層が、ＳｉとＺｒを含む酸化物または酸化窒化物、ＳｉとＹを含む酸化物または酸化窒化物、ＳｉとＴｉを含む酸化物または酸化窒化物から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１から６までのいずれかに記載の遮熱断熱基板。
8. 前記トップコート層がドライプロセスによって形成された層であり、前記保護トップコート層が塗布によって形成された層である、請求項１から７までのいずれかに記載の遮熱断熱基板。