JP2018172646A - Composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、組成物に関する。 The present invention relates to a composition.
各種の表示装置、光学素子、建築材料、自動車部品、工場設備などにおいては、基材の表面に液滴が付着することにより基材が汚れたり、腐食したり、またこの汚れや腐食によって所望の性能が発揮できないなど、様々な問題が生じることがある。そのため、これらの分野においては、基材表面の撥水性が良好であることが求められる。 In various display devices, optical elements, building materials, automobile parts, factory equipment, etc., the base material becomes dirty or corroded due to liquid droplets adhering to the surface of the base material. Various problems may occur, such as inability to demonstrate performance. Therefore, in these fields, the substrate surface is required to have good water repellency.
例えば特許文献1には、テトラエトキシシラン、フルオロアルキルシラン及びITO超微粒子を含む混合溶液が記載されている。特許文献2には、テトラアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン及び金属アルコキシドを含む被覆用組成物を調製したことが記載されている。特許文献3には、オクチルトリエトキシシラン又はデシルトリエトキシシランと、テトラエトキシシランとを含む組成物が記載されている。 For example, Patent Document 1 describes a mixed solution containing tetraethoxysilane, fluoroalkylsilane, and ITO ultrafine particles. Patent Document 2 describes that a coating composition containing tetraalkoxysilane, methyltrimethoxysilane, and metal alkoxide was prepared. Patent Document 3 describes a composition containing octyltriethoxysilane or decyltriethoxysilane and tetraethoxysilane.
従来から知られる上記の組成物では、液滴滑り性が十分に満足できるものではない場合があった。 In the above-described compositions known hitherto, there are cases where the droplet slipperiness is not sufficiently satisfactory.
本発明は、以下の発明を含む。
[1]式(1)で表されるシラン化合物(A)、式(2)で表されるシラン化合物(B)及び粗さ調整剤(C)を含み、前記粗さ調整剤(C)の含有量が、前記シラン化合物(A)及び前記シラン化合物(B)の合計100質量部に対して、1質量部以上20質量部以下である組成物。
R1は、炭素数6以上の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−に置き換わっていてもよい。
X1は、加水分解性基を表す。]
R2は、炭素数1〜5の炭化水素基を表す。
X2は、加水分解性基を表す。
nは、0又は1の整数を表す。]
[2]前記粗さ調整剤(C)が、メジアン径が10nm以上500nm以下の金属酸化物粒子である[1]に記載の組成物。
[3]前記シラン化合物(A)と前記シラン化合物(B)とのモル比(B/A)が、2以上100以下である[1]又は[2]に記載の組成物。
[4]前記シラン化合物(A)と前記シラン化合物(B)の合計の含有率が、組成物100質量%中、1質量%以上50質量%以下である[1]〜[3]のいずれかに記載の組成物。
[5][1]〜[4]のいずれかに記載の組成物を硬化した膜。
[6]ISO25178に準拠して算出した表面の算術平均高さSaが、0.04μm以上0.90μm以下である[5]に記載の膜。
[7]表面抵抗値が7.5×1013Ω/sq以下であり、ISO25178に準拠して算出した表面の算術平均高さSaが、0.04μm以上となる撥水膜。
[8][5]〜[7]のいずれかに記載の膜を有する物品。
The present invention includes the following inventions.
[1] A silane compound (A) represented by formula (1), a silane compound (B) represented by formula (2), and a roughness modifier (C), wherein the roughness modifier (C) The composition whose content is 1 mass part or more and 20 mass parts or less with respect to a total of 100 mass parts of the said silane compound (A) and the said silane compound (B).
R 1 represents a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O—.
X 1 represents a hydrolyzable group. ]
R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.
X 2 represents a hydrolyzable group.
n represents an integer of 0 or 1. ]
[2] The composition according to [1], wherein the roughness modifier (C) is metal oxide particles having a median diameter of 10 nm to 500 nm.
[3] The composition according to [1] or [2], wherein a molar ratio (B / A) between the silane compound (A) and the silane compound (B) is 2 or more and 100 or less.
[4] Any of [1] to [3], wherein a total content of the silane compound (A) and the silane compound (B) is 1% by mass or more and 50% by mass or less in 100% by mass of the composition. A composition according to 1.
[5] A film obtained by curing the composition according to any one of [1] to [4].
[6] The film according to [5], wherein the arithmetic average height Sa of the surface calculated in accordance with ISO25178 is 0.04 μm or more and 0.90 μm or less.
[7] A water repellent film having a surface resistance value of 7.5 × 10 13 Ω / sq or less and an arithmetic average height Sa of a surface calculated in accordance with ISO25178 of 0.04 μm or more.
[8] An article having the film according to any one of [5] to [7].
本発明の組成物から形成される膜は、液滴滑り性が良好である。 The film formed from the composition of the present invention has good droplet slipperiness.
本発明の組成物は、式(1)で表されるシラン化合物(A)、式(2)で表されるシラン化合物(B)及び粗さ調整剤(C)を含み、前記粗さ調整剤(C)の含有量が、前記シラン化合物(A)及び前記シラン化合物(B)の合計100質量部に対して、1質量部以上20質量部以下であることを特徴とする。 The composition of this invention contains the silane compound (A) represented by Formula (1), the silane compound (B) represented by Formula (2), and a roughness regulator (C), The said roughness regulator Content of (C) is 1 to 20 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of the silane compound (A) and the silane compound (B).
X1は、加水分解性基を表す。]
X 1 represents a hydrolyzable group. ]
シラン化合物(A)及びシラン化合物(B)を含むことで、膜の撥水性が良好となり、粗さ調整剤(C)を所定割合で含むことで、膜の表面に適度な粗さを付与することができるため、撥水性を維持しつつ液滴滑り性を向上することができる。粗さ調整剤(C)の含有量は、シラン化合物(A)及びシラン化合物(B)の合計100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、より好ましくは2質量部以上、さらに好ましくは3質量部以上であり、好ましくは30質量部以下、より好ましくは20質量部以下、さらに好ましくは15質量部以下、ことさら好ましくは10質量部以下である。
なお以下に例示する各成分及び官能基は、それぞれ、単独で、或いは組み合わせて使用することができる。
By including the silane compound (A) and the silane compound (B), the water repellency of the film is improved, and by including the roughness adjusting agent (C) in a predetermined ratio, an appropriate roughness is imparted to the surface of the film. Therefore, the slipperiness of the droplets can be improved while maintaining water repellency. The content of the roughness adjusting agent (C) is preferably 1 part by mass or more, more preferably 2 parts by mass or more, and still more preferably with respect to 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B). It is 3 parts by mass or more, preferably 30 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less, further preferably 15 parts by mass or less, and even more preferably 10 parts by mass or less.
In addition, each component and functional group illustrated below can be used individually or in combination, respectively.
シラン化合物(B)に対するシラン化合物(A)の比率が一定の範囲内であると、良好な外観を維持しつつ液滴滑り性を向上することができるために好ましい。シラン化合物(A)の含有量は、シラン化合物(B)100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、より好ましくは2質量部以上、さらに好ましくは4質量部以上であり、好ましくは70質量部以下、より好ましくは40質量部以下、さらに好ましくは10質量部以下である。 It is preferable for the ratio of the silane compound (A) to the silane compound (B) to be within a certain range because the droplet slipperiness can be improved while maintaining a good appearance. The content of the silane compound (A) is preferably 1 part by mass or more, more preferably 2 parts by mass or more, still more preferably 4 parts by mass or more, preferably 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silane compound (B). It is not more than part by mass, more preferably not more than 40 parts by mass, still more preferably not more than 10 parts by mass.
前記シラン化合物(A)を表す式(1)において、R1は、飽和炭化水素基であることが好ましく、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であることがより好ましく、直鎖状アルキル基であることがさらに好ましい。R1で表される炭化水素基としては、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
R1で表される炭化水素基の炭素数は、6以上、好ましくは7以上、より好ましくは8以上であり、好ましくは30以下、より好ましくは20以下、さらに好ましくは15以下である。
In the formula (1) representing the silane compound (A), R 1 is preferably a saturated hydrocarbon group, more preferably a linear or branched alkyl group, and a linear alkyl group. More preferably. Examples of the hydrocarbon group represented by R 1 include a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, and a dodecyl group.
The hydrocarbon group represented by R 1 has 6 or more, preferably 7 or more, more preferably 8 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, and even more preferably 15 or less.
前記炭化水素基に含まれる−CH2−が−O−に置き換わった基としては、アルキレンオキシ単位を1又は2以上含む基が挙げられる。前記アルキレンオキシ単位としては、エチレンオキシ単位、プロピレンオキシ単位が挙げられ、エチレンオキシ単位が好ましい。前記炭化水素基に含まれる−CH2−が−O−に置き換わった基としては、−R3−(R4−O)n1−R5が好ましい。R3は単結合又は炭素数1〜4の2価の炭化水素基を表し、R4は炭素数2〜3の2価の炭化水素基を表し、R5は水素原子又は炭素数1〜4の1価の炭化水素基を表し、n1は1〜10の整数を表す。ただし、該基に含まれる炭素及び酸素の数の合計は6以上である。
R3で表される2価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の2価の飽和炭化水素基が挙げられる。R3としては、2価の炭化水素基であることが好ましい。
R4で表される2価の炭化水素基としては、エチレン基、プロピレン基等の2価の飽和炭化水素基が挙げられる。
R5で表される1価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の1価の飽和炭化水素基が挙げられる。R5としては、1価の炭化水素基であることが好ましい。
Examples of the group in which —CH 2 — contained in the hydrocarbon group is replaced by —O— include groups containing one or more alkyleneoxy units. Examples of the alkyleneoxy unit include ethyleneoxy units and propyleneoxy units, with ethyleneoxy units being preferred. The group in which —CH 2 — contained in the hydrocarbon group is replaced by —O— is preferably —R 3 — (R 4 —O) n1 —R 5 . R 3 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, R 4 represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 3 carbon atoms, and R 5 represents a hydrogen atom or 1 to 4 carbon atoms. In which n1 represents an integer of 1 to 10. However, the total number of carbon and oxygen contained in the group is 6 or more.
Examples of the divalent hydrocarbon group represented by R 3 include divalent saturated hydrocarbon groups such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and a butylene group. R 3 is preferably a divalent hydrocarbon group.
Examples of the divalent hydrocarbon group represented by R 4 include divalent saturated hydrocarbon groups such as an ethylene group and a propylene group.
Examples of the monovalent hydrocarbon group represented by R 5 include monovalent saturated hydrocarbon groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. R 5 is preferably a monovalent hydrocarbon group.
式(1)において、X1で表される加水分解性基としては、加水分解によりヒドロキシ基(シラノール基)を与える基が挙げられ、好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アセトキシ基、塩素原子及びイソシアネート基等が挙げられる。X1としては、炭素数1〜6(より好ましくは1〜4)のアルコキシ基又はシアノ基が好ましく、炭素数1〜6(より好ましくは1〜4)のアルコキシ基がより好ましく、全てのX1が炭素数1〜6(より好ましくは1〜4)のアルコキシ基であることがさらに好ましい。3つのX1は同一であっても異なっていてもよく、同一であることが好ましい。
シラン化合物(A)としては、R1が炭素数7〜13の直鎖状アルキル基であり、全てのX1が同一の基であって、炭素数1〜6(より好ましくは1〜4)のアルコキシ基であるものが好ましい。
In the formula (1), examples of the hydrolyzable group represented by X 1 include groups that give a hydroxy group (silanol group) by hydrolysis, and preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, and a hydroxy group. Group, acetoxy group, chlorine atom and isocyanate group. X 1 is preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4) or a cyano group, more preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4), and all X 1 is more preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4). The three X 1 s may be the same or different and are preferably the same.
Silane compound as the (A), R 1 is a linear alkyl group having 7 to 13 carbon atoms, all of X 1 are the same group, having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4) Those having an alkoxy group are preferred.
シラン化合物(A)としては、具体的には、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ノニルトリメトキシシラン、ノニルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ウンデシルトリメトキシシラン、ウンデシルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、トリデシルトリメトキシシラン、トリデシルトリエトキシシラン、ブタデシルトリメトキシシラン、ブタデシルトリエトキシシラン、ペンタデシルトリメトキシシラン、ペンタデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、ヘプタデシルトリメトキシシラン、ヘプタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン等が挙げられ、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ブタデシルトリメトキシシラン、ブタデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシランが好ましい。 Specific examples of the silane compound (A) include hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, nonyltrimethoxysilane, nonyltri. Ethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane, undecyltrimethoxysilane, undecyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, tridecyltrimethoxysilane, tridecyltriethoxysilane, butadecyltri Methoxysilane, butadecyltriethoxysilane, pentadecyltrimethoxysilane, pentadecyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxy Silane, heptadecyltrimethoxysilane, heptadecyltriethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, etc. Methoxysilane, dodecyltriethoxysilane, butadecyltrimethoxysilane, butadecyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, and octadecyltriethoxysilane are preferred.
シラン化合物(A)の含有量は、組成物100質量部中、好ましくは0.01質量部以上、より好ましくは0.1質量部以上、さらに好ましくは0.2質量部以上であり、好ましくは10質量部以下、より好ましくは5質量部以下、さらに好ましくは3質量部以下である。 The content of the silane compound (A) is preferably 0.01 parts by mass or more, more preferably 0.1 parts by mass or more, further preferably 0.2 parts by mass or more, preferably 100 parts by mass of the composition. It is 10 mass parts or less, More preferably, it is 5 mass parts or less, More preferably, it is 3 mass parts or less.
前記シラン化合物(B)を表す式(2)において、R2は、飽和炭化水素基であることが好ましく、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であることがより好ましく、直鎖状アルキル基であることがさらに好ましい。R2で表される炭化水素基としては、メチル基、エチル基及びプロピル基等が挙げられる。 In the formula (2) representing the silane compound (B), R 2 is preferably a saturated hydrocarbon group, more preferably a linear or branched alkyl group, and a linear alkyl group. More preferably. Examples of the hydrocarbon group represented by R 2 include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.
式(2)において、X2で表される加水分解性基としては、X1で表される加水分解性基と同様の基が挙げられ、好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基、シアノ基、アセトキシ基、塩素原子及びイソシアネート基等が挙げられ、アルコキシ基中のアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であることがより好ましい。X2としては、炭素数1〜6(より好ましくは1〜4)のアルコキシ基又はイソシアネート基が好ましく、炭素数1〜6(より好ましくは1〜4)のアルコキシ基がより好ましく、全てのX2が炭素数1〜6(より好ましくは1〜4)のアルコキシ基であることがさらに好ましい。3つのX2は同一であっても異なっていてもよく、同一であることが好ましい。
式(2)において、nは0であることが好ましい。
In the formula (2), examples of the hydrolyzable group represented by X 2 include the same groups as the hydrolyzable group represented by X 1 , preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms and a cyano group. , An acetoxy group, a chlorine atom, an isocyanate group, and the like, and the alkyl group in the alkoxy group is more preferably a linear or branched alkyl group. X 2 is preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4) or an isocyanate group, more preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4), and all X More preferably, 2 is an alkoxy group having 1 to 6 (more preferably 1 to 4) carbon atoms. The three X 2 s may be the same or different and are preferably the same.
In the formula (2), n is preferably 0.
シラン化合物(B)としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン等が挙げられ、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが好ましい。 Examples of the silane compound (B) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, and methyltributoxysilane. Silane and tetraethoxysilane are preferred.
シラン化合物(B)の含有量は、シラン化合物(A)1モルに対して、通常1モル以上、好ましくは2モル以上、より好ましくは5モル以上、さらに好ましくは10モル以上であり、通常100モル以下であり、好ましくは60モル以下、より好ましくは40モル以下、さらに好ましくは30モル以下である。 Content of a silane compound (B) is 1 mol or more normally with respect to 1 mol of silane compounds (A), Preferably it is 2 mol or more, More preferably, it is 5 mol or more, More preferably, it is 10 mol or more, and is 100 normally. Or less, preferably 60 mol or less, more preferably 40 mol or less, and even more preferably 30 mol or less.
シラン化合物(A)及びシラン化合物(B)の合計の含有率は、組成物100質量%中、好ましくは1質量%以上、より好ましくは3質量%以上、さらに好ましく5質量%以上であり、好ましくは50質量%以下、より好ましくは40質量%以下、さらに好ましくは25質量%以下である。 The total content of the silane compound (A) and the silane compound (B) is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 5% by mass or more, preferably in 100% by mass of the composition. Is 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and still more preferably 25% by mass or less.
シラン化合物(A)は、1種のみを用いてもよいし、複数を併用してもよい。シラン化合物(B)は、1種のみを用いてもよいし、複数を併用してもよい。 A silane compound (A) may use only 1 type and may use multiple together. A silane compound (B) may use only 1 type and may use multiple.
前記粗さ調整剤(C)は、本発明の組成物から硬化物として形成される膜の表面粗さを調整する作用を有するものであればよい。
前記粗さ調整剤(C)としては、例えば、高分子粒子及び金属粒子や金属酸化物粒子などの無機粒子が挙げられ、前記粗さ調整剤(C)を均一に分散させる観点からは、好ましくは無機粒子であり、より好ましくは金属酸化物粒子である。金属酸化物粒子としては、具体的には、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化マンガン、酸化イットリウム(III)、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化インジウム(III)、酸化錫(II)、酸化錫(IV)、三酸化アンチモン等の単独金属酸化物;酸化インジウム錫やスズ−アンチモン系酸化物(特にアンチモンドープ酸化錫)等の複合金属酸化物;等の粒子が挙げられ、二酸化ケイ素、酸化錫(IV)及びスズ−アンチモン系酸化物(特にアンチモンドープ酸化錫)の粒子が好ましい。膜外観の観点から、酸化錫(IV)やスズ−アンチモン系酸化物(特にアンチモンドープ酸化錫)の粒子がより好ましい。
The said roughness regulator (C) should just have an effect | action which adjusts the surface roughness of the film | membrane formed as a hardened | cured material from the composition of this invention.
Examples of the roughness adjusting agent (C) include polymer particles and inorganic particles such as metal particles and metal oxide particles, and are preferable from the viewpoint of uniformly dispersing the roughness adjusting agent (C). Are inorganic particles, more preferably metal oxide particles. Specific examples of the metal oxide particles include silicon dioxide, titanium oxide, manganese oxide, yttrium (III) oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, indium (III) oxide, tin oxide (II), and tin oxide. (IV), single metal oxides such as antimony trioxide; composite metal oxides such as indium tin oxide and tin-antimony oxides (especially antimony-doped tin oxide); Particles of (IV) and tin-antimony oxide (particularly antimony-doped tin oxide) are preferred. From the viewpoint of film appearance, tin (IV) oxide or tin-antimony oxide (particularly antimony-doped tin oxide) particles are more preferable.
前記粗さ調整剤(C)は、粒子であることが好ましい。粗さ調整剤(C)のメジアン径は、好ましくは500nm以下、より好ましくは100nm以下、さらに好ましくは50nm以下であり、例えば10nm以上、さらには15nm以上であってもよい。粗さ調整剤(C)の粒子径が小さいほど、得られる膜の透明性を維持することができ、粒子径が一定以上大きいと、組成物の安定性が改善される傾向がある。 The roughness adjuster (C) is preferably a particle. The median diameter of the roughness adjusting agent (C) is preferably 500 nm or less, more preferably 100 nm or less, still more preferably 50 nm or less, and may be, for example, 10 nm or more, further 15 nm or more. As the particle size of the roughness adjusting agent (C) is smaller, the transparency of the resulting film can be maintained. When the particle size is larger than a certain value, the stability of the composition tends to be improved.
前記粗さ調整剤(C)の25℃の水に対する溶解性は、好ましくは0〜100mg/100mL、より好ましくは0〜10mg/100mL、さらに好ましくは0〜5mg/100mLである。 The solubility of the roughness modifier (C) in water at 25 ° C. is preferably 0 to 100 mg / 100 mL, more preferably 0 to 10 mg / 100 mL, and still more preferably 0 to 5 mg / 100 mL.
前記粗さ調整剤(C)の密度は、好ましくは3g/cm3以上、より好ましくは4g/cm3以上、さらに好ましくは5g/cm3以上であり、好ましくは8g/cm3以下、より好ましくは7.5g/cm3以下である。 The density of the roughness adjusting agent (C) is preferably 3 g / cm 3 or more, more preferably 4 g / cm 3 or more, further preferably 5 g / cm 3 or more, preferably 8 g / cm 3 or less, more preferably Is 7.5 g / cm 3 or less.
前記粗さ調整剤(C)の表面抵抗値は、好ましくは1014Ω/sq以下、より好ましくは1012Ω/sq以下、さらに好ましくは1010Ω/sq以下であり、例えば102Ω/sq以上、さらには103Ω/sq以上であってもよい。 The surface resistance value of the roughness adjusting agent (C) is preferably 10 14 Ω / sq or less, more preferably 10 12 Ω / sq or less, still more preferably 10 10 Ω / sq or less, for example 10 2 Ω / sq. It may be sq or more, and further 10 3 Ω / sq or more.
粗さ調整剤(C)は、1種のみを用いてもよいし、複数を併用してもよい。 As the roughness adjusting agent (C), only one kind may be used, or a plurality thereof may be used in combination.
本発明の組成物は、さらに溶媒(D)を含むことが好ましい。溶媒としては、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アミド系溶媒等の親水性有機溶媒が挙げられる。これらの溶媒は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 The composition of the present invention preferably further contains a solvent (D). Examples of the solvent include hydrophilic organic solvents such as alcohol solvents, ether solvents, ketone solvents, ester solvents and amide solvents. These solvent may use only 1 type and may use 2 or more types together.
アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール等が挙げられ、エーテル系溶媒としては、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられ、ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられ、エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられ、アミド系溶剤としては、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。中でも、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒を用いることが好ましい。
溶媒は、後述する基材の材質に合わせて調整することができ、例えば基材に有機系材料を用いる場合はケトン系溶媒を用いることが好ましく、基材に無機系材料を用いる場合はアルコール系溶媒を用いることが好ましい。
Examples of alcohol solvents include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, butanol, ethylene glycol, propylene glycol, and diethylene glycol. Ether solvents include dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, and ketones. Examples of the solvent include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Examples of the ester solvent include ethyl acetate and butyl acetate. Examples of the amide solvent include dimethylformamide. Of these, alcohol solvents and ketone solvents are preferably used.
The solvent can be adjusted according to the material of the base material to be described later. For example, when an organic material is used for the base material, a ketone solvent is preferably used, and when an inorganic material is used for the base material, an alcohol system is used. It is preferable to use a solvent.
本発明の組成物は、シラン化合物(A)及びシラン化合物(B)の加水分解・重縮合用の触媒(E)を含んでいてもよく、含んでいなくともよい。前記触媒(E)としては、塩酸、硝酸、酢酸等の酸性化合物、アンモニア、アミン等の塩基性化合物、アルミニウムエチルアセトアセテート化合物等の有機金属化合物等を用いることができる。
触媒(E)を含む場合、触媒(E)の含有量は、シラン化合物(A)及びシラン化合物(B)の合計100質量部に対して、好ましくは0.001質量部以上、より好ましくは0.005質量部以上、さらに好ましくは0.01質量部以上であり、好ましくは3質量部以下、より好ましくは1質量部以下、さらに好ましくは0.1質量部以下である。
The composition of the present invention may or may not contain a silane compound (A) and a catalyst (E) for hydrolysis / polycondensation of the silane compound (B). As said catalyst (E), acidic compounds, such as hydrochloric acid, nitric acid, and an acetic acid, basic compounds, such as ammonia and an amine, organometallic compounds, such as an aluminum ethyl acetoacetate compound, etc. can be used.
When the catalyst (E) is contained, the content of the catalyst (E) is preferably 0.001 part by mass or more, more preferably 0 with respect to 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B). 0.005 parts by mass or more, more preferably 0.01 parts by mass or more, preferably 3 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or less, and further preferably 0.1 parts by mass or less.
本発明の組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤等のその他の成分を含有していてもよい。 The composition of the present invention is an antioxidant, a rust inhibitor, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a fungicide, an antibacterial agent, an anti-bioadhesive agent, a deodorant, and a pigment as long as the effects of the present invention are not impaired. In addition, other components such as various additives such as a flame retardant and an antistatic agent may be contained.
本発明の組成物は、シラン化合物(A)、シラン化合物(B)及び粗さ調整剤(C)並びに必要に応じて用いる溶媒(D)、触媒(E)及びその他の成分を混合することにより製造することができる。混合順序は特に限定されないが、例えば、シラン化合物(A)、シラン化合物(B)及び必要に応じて用いる溶媒(D)とを混合し、次いで、必要に応じて用いる触媒(E)と混合した後、粗さ調整剤(C)を混合してもよい。このような順序で混合することにより、組成物のゲル化を防止することができる。
前記粗さ調整剤(C)は、予め溶媒(D)の一部に分散させ、粗さ調整剤(C)含有液としてから、シラン化合物(A)、シラン化合物(B)等と混合してもよい。粗さ調整剤(C)を予め分散させる場合、分散溶媒と、組成物調製時に用いる溶媒とは、同一でも異なっていてもよい。粗さ調整剤(C)を、予め溶媒(D)の一部に分散させる場合、粗さ調整剤(C)の含有率は、該分散液100質量%中、好ましくは10質量%以上、より好ましくは15質量%以上であり、好ましくは40質量%以下、より好ましくは30質量%以下である。
The composition of the present invention is obtained by mixing the silane compound (A), the silane compound (B), the roughness adjusting agent (C), and the solvent (D), catalyst (E) and other components used as necessary. Can be manufactured. Although the mixing order is not particularly limited, for example, the silane compound (A), the silane compound (B) and the solvent (D) used as necessary are mixed, and then mixed with the catalyst (E) used as necessary. Thereafter, the roughness adjusting agent (C) may be mixed. By mixing in such an order, gelation of the composition can be prevented.
The roughness adjuster (C) is preliminarily dispersed in a part of the solvent (D) to obtain a roughness adjuster (C) -containing liquid, and then mixed with the silane compound (A), the silane compound (B) and the like. Also good. When the roughness adjusting agent (C) is dispersed in advance, the dispersion solvent and the solvent used in preparing the composition may be the same or different. When the roughness adjusting agent (C) is previously dispersed in a part of the solvent (D), the content of the roughness adjusting agent (C) is preferably 10% by mass or more in 100% by mass of the dispersion. Preferably it is 15 mass% or more, Preferably it is 40 mass% or less, More preferably, it is 30 mass% or less.
本発明の組成物の硬化物である膜も本発明の技術的範囲に包含される。
前記膜表面の算術平均高さSaは、好ましくは0.90μm以下、より好ましくは0.8μm以下、さらに好ましくは0.1μm以下であり、好ましくは0.04μm以上、より好ましくは0.05μm以上である。
前記膜の表面粗さは、ISO25178に準拠して算出することができる。前記膜の表面粗さの算出の基礎となる画像は、例えば、光学顕微鏡(特に、共焦点レーザー顕微鏡)により取得することができる。
A film which is a cured product of the composition of the present invention is also included in the technical scope of the present invention.
The arithmetic average height Sa of the film surface is preferably 0.90 μm or less, more preferably 0.8 μm or less, still more preferably 0.1 μm or less, preferably 0.04 μm or more, more preferably 0.05 μm or more. It is.
The surface roughness of the film can be calculated in accordance with ISO25178. An image serving as a basis for calculating the surface roughness of the film can be obtained by, for example, an optical microscope (particularly, a confocal laser microscope).
前記膜に対する水の接触角は、好ましくは90°以上、より好ましくは95°以上、さらに好ましくは100°以上であり、120°以下であってもよく、115°以下であってもよい。 The contact angle of water with respect to the film is preferably 90 ° or more, more preferably 95 ° or more, still more preferably 100 ° or more, 120 ° or less, or 115 ° or less.
前記膜の表面抵抗値は、好ましくは250×1013Ω/sq以下、より好ましくは200×1013Ω/sq以下、さらに好ましくは170×1013Ω/sq以下、ことさら好ましくは7.5×1013Ω/sq以下であり、1012Ω/sq以上であってもよく、1013Ω/sq以上であってもよい。 The surface resistance value of the film is preferably 250 × 10 13 Ω / sq or less, more preferably 200 × 10 13 Ω / sq or less, further preferably 170 × 10 13 Ω / sq or less, and even more preferably 7.5 ×. 10 13 Ω / sq or less, 10 12 Ω / sq or more, or 10 13 Ω / sq or more.
前記膜の厚さは、好ましくは10nm以上、より好ましくは20nm以上、さらに好ましくは50nm以上であり、好ましくは500nm以下、より好ましくは300nm以下、さらに好ましくは200nm以下である。 The thickness of the film is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, still more preferably 50 nm or more, preferably 500 nm or less, more preferably 300 nm or less, and even more preferably 200 nm or less.
本発明の硬化膜の別の形態は、表面抵抗値が7.5×1013Ω/sq以下であり、かつ膜表面の算術平均高さSaが、0.04μm以上となる撥水膜である。 Another form of the cured film of the present invention is a water-repellent film having a surface resistance value of 7.5 × 10 13 Ω / sq or less and an arithmetic average height Sa of the film surface of 0.04 μm or more. .
前記撥水膜の表面抵抗値は、好ましくは、5.0×1013Ω/sq以下、より好ましくは4.0×1013Ω/sq以下であり、1012Ω/sq以上であってもよく、1013Ω/sq以上であってもよい。 The surface resistance value of the water repellent film is preferably 5.0 × 10 13 Ω / sq or less, more preferably 4.0 × 10 13 Ω / sq or less, and even 10 12 Ω / sq or more. It may be 10 13 Ω / sq or more.
前記撥水膜の算術平均高さSaは、好ましくは0.9μm以下、より好ましくは0.8μm以下、さらに好ましくは0.1μm以下であり、好ましくは0.04μm以上、より好ましくは0.05μm以上である。 The arithmetic average height Sa of the water repellent film is preferably 0.9 μm or less, more preferably 0.8 μm or less, still more preferably 0.1 μm or less, preferably 0.04 μm or more, more preferably 0.05 μm. That's it.
前記撥水膜に対する水の接触角は、好ましくは90°以上、より好ましくは95°以上、さらに好ましくは100°以上であり、120°以下であってもよく、115°以下であってもよい。 The contact angle of water with respect to the water repellent film is preferably 90 ° or more, more preferably 95 ° or more, further preferably 100 ° or more, 120 ° or less, or 115 ° or less. .
前記撥水膜の厚さは、好ましくは10nm以上、より好ましくは20nm以上、さらに好ましくは50nm以上であり、好ましくは500nm以下、より好ましくは300nm以下、さらに好ましくは200nm以下である。 The thickness of the water repellent film is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, further preferably 50 nm or more, preferably 500 nm or less, more preferably 300 nm or less, and further preferably 200 nm or less.
前記膜は、本発明の組成物と基材とを接触させ、シラン化合物(A)及びシラン化合物(B)に含まれる加水分解性基を加水分解及び重縮合することで形成することができる。 The said film | membrane can be formed by making the composition and base material of this invention contact, and hydrolyzing and polycondensing the hydrolysable group contained in a silane compound (A) and a silane compound (B).
本発明の組成物を基材と接触させる方法としては、組成物を基材にコーティングする方法が挙げられる。該コーティング方法としては、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコート法、バーコート法、手塗り(布等に液を染み込ませ、基材に塗りこむ方法)、かけ流し(液をスポイトなどを用いて基材にそのままかけ、塗布する方法)、霧吹き(霧吹きを用いて基材に塗布する方法)、あるいはこれらを組み合わせた方法などが挙げられる。作業性の観点から、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、手塗り、かけ流し、霧吹きあるいはこれらを組み合わせた方法が好ましい。
本発明の組成物を基材と接触させた状態で、空気中、常温で静置(例えば10時間〜48時間)することで、空気中の水分が取り込まれ、加水分解性基の加水分解・重縮合が促進され、基材上に皮膜を形成できる。得られた皮膜を更に乾燥させることも好ましい。
Examples of the method of bringing the composition of the present invention into contact with a substrate include a method of coating the composition on a substrate. Examples of the coating method include spin coating method, dip coating method, spray coating method, roll coating method, bar coating method, hand coating (a method in which a liquid is soaked in a cloth, etc., and applied to a substrate), and a pouring (liquid is applied). For example, a method of directly applying to a base material using a dropper or the like, spraying (a method of applying to a base material using a spray), or a combination of these. From the viewpoint of workability, a spin coating method, a spray coating method, hand coating, pouring, spraying, or a combination of these is preferable.
By leaving the composition of the present invention in contact with the base material in the air at room temperature (for example, 10 hours to 48 hours), moisture in the air is taken in and hydrolysis of the hydrolyzable group is performed. Polycondensation is promoted and a film can be formed on the substrate. It is also preferable to further dry the obtained film.
本発明の組成物を基材と接触させる際、作業性の観点から、必要に応じて溶媒(希釈溶媒)で希釈してもよい。前記希釈溶媒としては、前記組成物に含まれていてもよい溶媒と同様の溶媒を挙げることができ、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒が好ましい。基材が有機系材料の場合は、ケトン系溶媒を用いることが好ましく、基材が無機系材料の場合は、アルコール系溶媒を用いることが好ましい。希釈倍率は、好ましくは2〜50倍、より好ましくは3〜20倍である。 When contacting the composition of this invention with a base material, you may dilute with a solvent (dilution solvent) as needed from a viewpoint of workability | operativity. As said dilution solvent, the solvent similar to the solvent which may be contained in the said composition can be mentioned, An alcohol solvent and a ketone solvent are preferable. When the substrate is an organic material, a ketone solvent is preferably used. When the substrate is an inorganic material, an alcohol solvent is preferably used. The dilution factor is preferably 2 to 50 times, more preferably 3 to 20 times.
本発明の組成物を接触させる基材の形状は、平面、曲面のいずれでもよいし、多数の面が組み合わさった三次元的構造でもよい。また基材の材質としては、有機系材料、無機系材料が挙げられる。前記有機系材料としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、アクリル−スチレン共重合樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂等の熱可塑性樹脂;フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂;等が挙げられ、無機系材料としては、セラミックス;ガラス;鉄、シリコン、銅、亜鉛、アルミニウム等の金属;前記金属を含む合金;等が挙げられる。 The shape of the substrate with which the composition of the present invention is brought into contact may be either a flat surface or a curved surface, or may be a three-dimensional structure in which a large number of surfaces are combined. Examples of the material for the substrate include organic materials and inorganic materials. Examples of the organic material include thermoplastic resins such as acrylic resin, polycarbonate resin, polyester resin, styrene resin, acrylic-styrene copolymer resin, cellulose resin, and polyolefin resin; phenol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, Examples of inorganic materials include ceramics; glass; metals such as iron, silicon, copper, zinc, and aluminum; alloys containing the above metals; etc. Is mentioned.
前記基材には予め易接着処理を施しておいてもよい。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等の親水化処理が挙げられる。また、樹脂、シランカップリング剤、テトラアルコキシシラン等によるプライマー処理を用いてもよい。また、樹脂、シランカップリング剤、テトラアルコキシシラン等によるプライマー処理を施しても良いし、ポリシラザンなどのガラス皮膜を基材に予め塗布しておいても良い。 The substrate may be subjected to an easy adhesion treatment in advance. Examples of the easy adhesion treatment include hydrophilic treatment such as corona treatment, plasma treatment, and ultraviolet treatment. Further, primer treatment with a resin, a silane coupling agent, tetraalkoxysilane, or the like may be used. In addition, primer treatment with a resin, a silane coupling agent, tetraalkoxysilane, or the like may be performed, or a glass film such as polysilazane may be applied to the substrate in advance.
本発明の組成物を用いることで、液滴滑り性に優れた膜を提供することができる。該膜は、表示装置、光学素子、建築材料、自動車部品、工場設備などに有用である。 By using the composition of the present invention, it is possible to provide a film having excellent droplet slipperiness. The film is useful for display devices, optical elements, building materials, automobile parts, factory equipment, and the like.
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。以下においては、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を意味する。
本発明における測定方法は、以下の通りである。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples, but may be appropriately modified within a range that can meet the purpose described above and below. Of course, it is possible to implement them, and they are all included in the technical scope of the present invention. In the following, “part” means “part by mass” and “%” means “% by mass” unless otherwise specified.
The measuring method in the present invention is as follows.
〔外観目視評価〕
照度1000ルクスの環境において、皮膜を目視にて観察し、着色や異物の有無(以下、まとめて「汚れ」と記載する)を官能評価にて、以下の通り評価した。
◎:汚れが確認できない
○:注意深く見ると汚れが確認できる
×:容易に汚れが確認できる
(Visual appearance evaluation)
In an environment with an illuminance of 1000 lux, the film was visually observed, and the presence or absence of coloring or foreign matter (hereinafter collectively referred to as “dirt”) was evaluated by sensory evaluation as follows.
◎: Dirt cannot be confirmed ○: Dirt can be confirmed by careful observation ×: Dirt can be easily confirmed
〔接触角評価〕
接触角測定装置(DM700、協和界面科学社製)を用いて、液滴法(解析方法:θ/2法、水滴量:3.0μL)にて、皮膜の表面の水の接触角を測定した。
[Contact angle evaluation]
Using a contact angle measuring device (DM700, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), the water contact angle on the surface of the film was measured by the droplet method (analysis method: θ / 2 method, water droplet amount: 3.0 μL). .
〔滑落速度〕
20度に傾けた基板上に50μLの水滴を滴下し、初期滴下位置から1.5cm滑落する時間を測定し、滑落速度を算出した。なお、2分以内に水滴が1.5cm以上滑落しない場合は×:滑落せず、とした。
[Sliding speed]
A 50 μL water droplet was dropped on the substrate tilted at 20 degrees, and the sliding time of 1.5 cm from the initial dropping position was measured to calculate the sliding speed. In addition, when a water droplet did not slide down 1.5 cm or more within 2 minutes, it was set as x: not sliding down.
〔表面抵抗値測定〕
測定試料を平板試料用大径電極(東亜ディーケーケー株式会社製 SME−8310)に設置して、10Vの電圧を印加し、デジタル絶縁計(東亜ディーケーケー株式会社製 DSM−8103)にて4分後の抵抗値を測定し、その値をもとに表面抵抗値を算出した。
(Surface resistance measurement)
A measurement sample was placed on a large-diameter electrode for a flat plate sample (SME-8310 manufactured by Toa DKK Corporation), a voltage of 10 V was applied, and after 4 minutes with a digital insulation meter (DSM-8103 manufactured by Toa DKK Corporation) The resistance value was measured, and the surface resistance value was calculated based on the measured value.
〔表面粗さの測定〕
レーザー顕微鏡(OLS4000、オリンパス製)を用いて、得られた膜の表面を拡大倍率20倍で観察した。算術平均高さSaはISO25178に準拠して評価した。算術平均高さSaはN=2の平均値とした。
[Measurement of surface roughness]
The surface of the obtained film was observed at a magnification of 20 times using a laser microscope (OLS4000, manufactured by Olympus). The arithmetic average height Sa was evaluated according to ISO25178. The arithmetic average height Sa was an average value of N = 2.
実施例1
シラン化合物(A)としてデシルトリメトキシシラン0.29g、シラン化合物(B)としてオルトケイ酸テトラエチル(テトラエトキシシラン)5.99gを、主溶剤としての2−ブタノン(関東化学株式会社製)12.07gに溶解させ、室温で20分撹拌した。得られた溶液に触媒としての塩酸(0.01mol/L水溶液)8.32gを混合し、室温で24時間撹拌して、試料溶液を作製した。前記試料溶液に粗さ調整剤(C)含有液としてS−2000(メジアン径15〜20nmの酸化スズからなる粒子を含む20質量%メチルイソブチルケトン分散液、三菱マテリアル電子化成株式会社製)0.315g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、1.0質量部)を添加し、30分間超音波処理により粗さ調整剤(C)を試料溶液中に分散させ、コーティング組成物を得た。得られたコーティング組成物を2−ブタノンにより希釈倍率3倍で希釈し、塗布溶液を得た。基材としてアクリル板(住友化学株式会社製)上に霧吹きにより塗布溶液を約700μL吹き付け、スピンコータ(MIKASA社製)により、回転数300rpm、60secの条件で製膜した後、室温にて乾燥させてコーティング被膜を得た。
Example 1
0.29 g of decyltrimethoxysilane as the silane compound (A), 5.99 g of tetraethyl orthosilicate (tetraethoxysilane) as the silane compound (B), and 12.07 g of 2-butanone (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) as the main solvent And stirred at room temperature for 20 minutes. 8.32 g of hydrochloric acid (0.01 mol / L aqueous solution) as a catalyst was mixed with the obtained solution and stirred at room temperature for 24 hours to prepare a sample solution. S-2000 (20 mass% methyl isobutyl ketone dispersion containing particles of tin oxide having a median diameter of 15 to 20 nm, manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.) as a liquid containing a roughness adjusting agent (C) in the sample solution. 315 g (the roughness modifier (C) is 1.0 part by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the silane compound (A) and the silane compound (B)), and is subjected to roughness by ultrasonic treatment for 30 minutes. The modifier (C) was dispersed in the sample solution to obtain a coating composition. The obtained coating composition was diluted with 2-butanone at a dilution ratio of 3 to obtain a coating solution. About 700 μL of the coating solution was sprayed on an acrylic plate (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) as a substrate by spraying, and the film was formed on a spin coater (manufactured by MIKASA) under conditions of a rotation speed of 300 rpm and 60 sec, and then dried at room temperature A coating film was obtained.
実施例2
粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000の添加量を1.57g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、5質量部)に変更した以外は、実施例1と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 2
The addition amount of S-2000 as a liquid containing a roughness modifier (C) is 1.57 g (the roughness modifier (C) is 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)). A coating film was produced in the same manner as in Example 1 except that the content was changed to 5 parts by mass.
実施例3
粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000の添加量を3.14g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、10質量部)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 3
3.14 g of the addition amount of S-2000 as the liquid containing the roughness adjusting agent (C) (the roughness adjusting agent (C) is based on 100 parts by mass of the silane compound (A) and the silane compound (B)). A coating film was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 10 parts by mass.
実施例4
コーティング組成物を希釈せずに使用したこと以外は、実施例3と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 4
A coating film was prepared in the same manner as in Example 3 except that the coating composition was used without being diluted.
実施例5
シラン化合物(A)としてデシルトリメトキシシラン0.29g、シラン化合物(B)としてオルトケイ酸テトラエチル(テトラエトキシシラン)5.99gを、主溶剤としての2−プロパノール(関東化学株式会社製)11.7gに溶解させ、室温で20分撹拌した。得られた溶液に触媒としての塩酸(0.01mol/L水溶液)8.32gを混合し、室温で24時間撹拌して、試料溶液を作製した。前記試料溶液に粗さ調整剤(C)含有液としてS−2000(メジアン径15〜20nmの酸化スズからなる粒子を含む20質量%メチルイソブチルケトン分散液、三菱マテリアル電子化成株式会社製)0.314g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、1.0質量部)を添加し、30分間超音波処理により粗さ調整剤(C)を試料溶液中に分散させ、2−プロパノールにより希釈倍率3倍で希釈し、塗布溶液を得た。基材として、照射速度800mm/sec、ギャップ10mm、照射回数1回の条件で、大気圧プラズマ装置(富士機械社製)により基材表面を活性化させたガラス基板(Corning社製「EAGLE XG」)を使用した。それ以外は、実施例1と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 5
0.29 g of decyltrimethoxysilane as the silane compound (A), 5.99 g of tetraethyl orthosilicate (tetraethoxysilane) as the silane compound (B), 11.7 g of 2-propanol (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) as the main solvent And stirred at room temperature for 20 minutes. 8.32 g of hydrochloric acid (0.01 mol / L aqueous solution) as a catalyst was mixed with the obtained solution and stirred at room temperature for 24 hours to prepare a sample solution. S-2000 (20 mass% methyl isobutyl ketone dispersion containing particles of tin oxide having a median diameter of 15 to 20 nm, manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.) as a liquid containing a roughness adjusting agent (C) in the sample solution. 314 g (the roughness adjusting agent (C) is 1.0 part by mass with respect to 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)), and is roughened by ultrasonic treatment for 30 minutes. The adjusting agent (C) was dispersed in the sample solution and diluted with 2-propanol at a dilution ratio of 3 to obtain a coating solution. As a base material, a glass substrate (“EAGLE XG” manufactured by Corning) with the surface of the base material activated by an atmospheric pressure plasma apparatus (manufactured by Fuji Machinery Co., Ltd.) under the conditions of an irradiation speed of 800 mm / sec, a gap of 10 mm, and a single irradiation. )It was used. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the coating film.
実施例6
粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000の添加量を3.14g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、10質量部)に変更したこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 6
3.14 g of the addition amount of S-2000 as the liquid containing the roughness adjusting agent (C) (the roughness adjusting agent (C) is based on 100 parts by mass of the silane compound (A) and the silane compound (B)). The coating film was prepared in the same manner as in Example 5 except that the amount was changed to 10 parts by mass.
実施例7
粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000の添加量を4.71g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、15質量部)に変更したこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 7
The amount of S-2000 added as the liquid containing the roughness adjusting agent (C) is 4.71 g (the roughness adjusting agent (C) is 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B). A coating film was produced in the same manner as in Example 5 except that the amount was changed to 15 parts by mass).
実施例8
粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000の添加量を6.28g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、20質量部)に変更したこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 8
The amount of S-2000 added as the liquid containing the roughness adjusting agent (C) is 6.28 g (the roughness adjusting agent (C) is 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)). A coating film was produced in the same manner as in Example 5 except that the amount was changed to 20 parts by mass.
実施例9
粗さ調整剤(C)含有液として、S−2000を0.314g用いる代わりに、T−1(メジアン径100nmのスズ−アンチモン系酸化物からなる粒子を含む20質量%3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール分散液、三菱マテリアル電子化成株式会社製)を1.57g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、5質量部)用いたこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 9
Instead of using 0.314 g of S-2000 as the roughness adjusting agent (C) -containing liquid, T-1 (20 mass% 3-methoxy-3-containing particles composed of tin-antimony oxide having a median diameter of 100 nm) 1.57 g of methyl-1-butanol dispersion (manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.) (roughness adjuster (C) is 100 parts by mass of silane compound (A) and silane compound (B)). 5 parts by mass) A coating film was prepared in the same manner as in Example 5 except that it was used.
実施例10
粗さ調整剤(C)含有液としてS−2000を0.314g用いる代わりに、粗さ調整剤(C)としてSiO2粉末(アドマファインSO−E1、メジアン径250nm、株式会社アドマテックス製)を0.31g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、5質量部)用いたこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 10
Instead of using 0.314 g of S-2000 as the roughness adjusting agent (C) -containing liquid, SiO 2 powder (Admafine SO-E1, median diameter 250 nm, manufactured by Admatechs Co., Ltd.) is used as the roughness adjusting agent (C). Except that 0.31 g (the roughness modifier (C) was 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)) was used in the same manner as in Example 5. Thus, a coating film was prepared.
実施例11
粗さ調整剤(C)含有液としてS−2000を0.314g用いる代わりに、粗さ調整剤(C)としてSiO2粉末(アドマファインSO−E2、メジアン径500nm、株式会社アドマテックス製)を0.31g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、5質量部)用いたこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 11
Instead of using 0.314 g of S-2000 as the roughness adjusting agent (C) -containing liquid, SiO 2 powder (Admafine SO-E2, median diameter 500 nm, manufactured by Admatechs Co., Ltd.) is used as the roughness adjusting agent (C). Except that 0.31 g (the roughness modifier (C) was 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)) was used in the same manner as in Example 5. Thus, a coating film was prepared.
実施例12
粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000の添加量を1.57g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、5質量部)に変更したこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 12
The added amount of S-2000 as the liquid containing the roughness adjusting agent (C) is 1.57 g (the roughness adjusting agent (C) is 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)). A coating film was produced in the same manner as in Example 5 except that the content was changed to 5 parts by mass).
実施例13
粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000の添加量を1.57g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、5質量部)に変更し、2−プロパノールによる希釈倍率を7倍としたこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 13
The added amount of S-2000 as the liquid containing the roughness adjusting agent (C) is 1.57 g (the roughness adjusting agent (C) is 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)). The coating film was prepared in the same manner as in Example 5 except that the dilution ratio with 2-propanol was changed to 7 times.
実施例14
粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000の添加量を1.57g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、5質量部)に変更し、2−プロパノールによる希釈倍率を10倍としたこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 14
The added amount of S-2000 as the liquid containing the roughness adjusting agent (C) is 1.57 g (the roughness adjusting agent (C) is 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)). The coating film was prepared in the same manner as in Example 5 except that the dilution ratio with 2-propanol was changed to 10 times.
実施例15
粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000の添加量を1.57g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、5質量部)に変更し、2−プロパノールによる希釈倍率を20倍としたこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 15
The added amount of S-2000 as the liquid containing the roughness adjusting agent (C) is 1.57 g (the roughness adjusting agent (C) is 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)). The coating film was prepared in the same manner as in Example 5 except that the dilution ratio with 2-propanol was changed to 20 times.
実施例16
シラン化合物(A)としてデシルトリメトキシシランを0.29g用いる代わりに0.79g用い、シラン化合物(B)としてオルトケイ酸テトラエチル(テトラエトキシシラン)を5.99g用いる代わりに1.25g用い、主溶剤として2−プロパノール(関東化学株式会社製)を11.7g用いる代わりに4.25g用い、触媒としての塩酸(0.01mol/L水溶液)を8.32g用いる代わりに2.34g用い、粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000を0.314g用いる代わりに0.51g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、5質量部)用いたこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 16
Instead of using 0.29 g of decyltrimethoxysilane as the silane compound (A), 0.79 g is used as the silane compound (B), and using 1.25 g of tetraethyl orthosilicate (tetraethoxysilane) as the silane compound (B) as the main solvent. Rather than using 11.7 g of 2-propanol (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), 4.25 g was used, and instead of using 8.32 g of hydrochloric acid (0.01 mol / L aqueous solution) as a catalyst, 2.34 g was used to adjust the roughness. Instead of using 0.314 g of S-2000 as the agent (C) -containing liquid, 0.51 g (the roughness adjusting agent (C) is based on 100 parts by mass of the silane compound (A) and the silane compound (B)) 5 parts by mass) was used in the same manner as in Example 5 except that a coating film was prepared.
実施例17
シラン化合物(A)としてデシルトリメトキシシランを0.29g用いる代わりに0.15g用い、シラン化合物(B)としてオルトケイ酸テトラエチル(テトラエトキシシラン)を5.99g用いる代わりに1.92g用い、主溶剤として2−プロパノール(関東化学株式会社製)を11.7g用いる代わりに3.94g用い、触媒としての塩酸(0.01mol/L水溶液)を8.32g用いる代わりに2.74g用い、粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000を0.314g用いる代わりに0.52g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、5質量部)用いたこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 17
Instead of using 0.29 g of decyltrimethoxysilane as the silane compound (A), 0.15 g is used, and instead of using 5.99 g of tetraethyl orthosilicate (tetraethoxysilane) as the silane compound (B), 1.92 g is used as the main solvent. Rather than using 11.7 g of 2-propanol (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), using 3.94 g, and using 2.74 g of hydrochloric acid (0.01 mol / L aqueous solution) as a catalyst instead of using 8.32 g, the roughness was adjusted. Instead of using 0.314 g of S-2000 as the agent (C) -containing liquid, 0.52 g (roughness adjusting agent (C) is based on 100 parts by mass of the silane compound (A) and the silane compound (B). 5 parts by mass) was used in the same manner as in Example 5 except that a coating film was prepared.
実施例18
シラン化合物(A)としてデシルトリメトキシシランを0.29g用いる代わりに0.06g用い、シラン化合物(B)としてオルトケイ酸テトラエチル(テトラエトキシシラン)を5.99g用いる代わりに2.02g用い、主溶剤として2−プロパノール(関東化学株式会社製)を11.7g用いる代わりに3.89g用い、触媒としての塩酸(0.01mol/L水溶液)を8.32g用いる代わりに2.80g用い、粗さ調整剤(C)含有液としてのS−2000を0.314g用いる代わりに0.52g(粗さ調整剤(C)は、シラン化合物(A)とシラン化合物(B)との合計100質量部に対して、5質量部)用いたこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Example 18
Instead of using 0.29 g of decyltrimethoxysilane as the silane compound (A), 0.06 g is used, and instead of using 5.99 g of tetraethyl orthosilicate (tetraethoxysilane) as the silane compound (B), the main solvent is used. Roughness adjustment was performed using 3.89 g instead of 11.7 g of 2-propanol (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) and 2.80 g of hydrochloric acid (0.01 mol / L aqueous solution) as a catalyst instead of using 8.32 g. Instead of using 0.314 g of S-2000 as the agent (C) -containing liquid, 0.52 g (roughness adjusting agent (C) is based on 100 parts by mass of the silane compound (A) and the silane compound (B). 5 parts by mass) was used in the same manner as in Example 5 except that a coating film was prepared.
比較例1
粗さ調整剤(C)を添加しなかったこと以外は、実施例1と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Comparative Example 1
A coating film was produced in the same manner as in Example 1 except that the roughness adjusting agent (C) was not added.
比較例2
粗さ調整剤(C)を添加しなかったこと以外は、実施例5と同様にして、コーティング被膜を作製した。
Comparative Example 2
A coating film was produced in the same manner as in Example 5 except that the roughness adjusting agent (C) was not added.
実施例1〜18、比較例1〜2のコーティング被膜について、外観目視、接触角、表面抵抗値、滑落速度、表面粗さの評価結果を表1に示す。ただし、表面抵抗値及び滑落速度の向上倍率は、基板としてアクリル基板を用いた場合は比較例1の数値を基準値とし、基板としてガラス基板を用いた場合は比較例2の数値を基準値として、各実施例における表面抵抗値で対応する基準値を割った値、又は各実施例における滑落速度の値を対応する基準値で割った値を表す。 Table 1 shows the evaluation results of visual appearance, contact angle, surface resistance value, sliding speed, and surface roughness for the coating films of Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 and 2. However, the improvement ratio of the surface resistance value and the sliding speed is based on the numerical value of Comparative Example 1 when an acrylic substrate is used as the substrate, and the numerical value of Comparative Example 2 when the glass substrate is used as the substrate. The value obtained by dividing the corresponding reference value by the surface resistance value in each example, or the value obtained by dividing the sliding speed value in each example by the corresponding reference value.
本発明の組成物を用いることにより、液滴滑り性に優れた膜を提供することができる。該膜は、表示装置、光学素子、建築材料、自動車部品、工場設備などに有用である。 By using the composition of the present invention, it is possible to provide a film having excellent droplet sliding properties. The film is useful for display devices, optical elements, building materials, automobile parts, factory equipment, and the like.
Claims (8)
前記粗さ調整剤(C)の含有量が、前記シラン化合物(A)及び前記シラン化合物(B)の合計100質量部に対して、1質量部以上20質量部以下である組成物。
R1は、炭素数6以上の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−に置き換わっていてもよい。
X1は、加水分解性基を表す。]
R2は、炭素数1〜5の炭化水素基を表す。
X2は、加水分解性基を表す。
nは、0又は1の整数を表す。] Including a silane compound (A) represented by the formula (1), a silane compound (B) represented by the formula (2) and a roughness adjusting agent (C),
The composition whose content of the said roughness regulator (C) is 1 to 20 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of the said silane compound (A) and the said silane compound (B).
R 1 represents a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O—.
X 1 represents a hydrolyzable group. ]
R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.
X 2 represents a hydrolyzable group.
n represents an integer of 0 or 1. ]
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