JP2018161832A - Laminate film and antireflection film for molding - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、積層フィルムおよび成型用反射防止フィルムに関し、詳細には、良好な反射防止性を有し、かつ高倍率の成型用途に好適な積層フィルムおよび成型用反射防止フィルムに関する。 The present invention relates to a laminated film and an antireflection film for molding, and in particular, relates to a laminated film and an antireflection film for molding which have good antireflection properties and are suitable for high magnification molding applications.
携帯型パーソナルコンピュータ、モバイル機器、携帯電話、電子手帳等の電子機器筐体、あるいは車載用表示パネルの保護や加飾のために、インモールド成型加工やインサート成型加工に用いられる反射防止フィルムが提案されている(例えば、特許文献1、2)。
Proposal of anti-reflective film used for in-mold molding and insert molding to protect and decorate casings for electronic devices such as portable personal computers, mobile devices, mobile phones, electronic notebooks, and in-vehicle display panels (For example,
上記特許文献に開示された反射防止層は、高屈折率層と低屈折率層を逐次積層したものである。このような逐次積層の反射防止層は、単一層の反射防止層に比べて、成型倍率(延伸倍率)が大きくなるとクラックの発生が強くなる傾向にある。 The antireflection layer disclosed in the above patent document is a layer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are sequentially laminated. Such a sequentially laminated antireflection layer tends to generate cracks more strongly when the molding ratio (stretching ratio) is larger than that of a single-layer antireflection layer.
また、上記特許文献は、高倍率の成型、例えば面積比130%以上に延伸しても、クラックや白濁等の発生がなく、ヘイズ値の上昇が抑制された反射防止フィルムは具体的に開示されていない。 In addition, the above-mentioned patent document specifically discloses an antireflection film that is free from cracks and cloudiness even when molded at a high magnification, for example, stretched to an area ratio of 130% or more, and in which an increase in haze value is suppressed. Not.
そこで、本発明の目的は、良好な反射防止性を有しかつ高倍率成型に好適な積層フィルムおよび成型用反射防止フィルムを提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a laminated film and an antireflection film for molding which have good antireflection properties and are suitable for high magnification molding.
本発明の上記目的は、以下の発明によって達成される。
[1]基材フィルム上に直接またはアンダーコート層を介して、厚みが170nm以上の単一層からなる硬化樹脂層を有する積層フィルムであって、面積比130%まで延伸したときのヘイズ値(Hz1)と延伸前のヘイズ値(Hz0)との差の絶対値が0.30%以下であり、前記硬化樹脂層がシリカ粒子を含有し、硬化樹脂層の基材フィルムとは反対側の表面から厚み方向に100nmまでの領域Aに含まれるシリカ粒子数が硬化樹脂層に含まれる全シリカ粒子数の70%以上であることを特徴とする、積層フィルム。
[2]前記領域Aにおけるシリカ粒子数密度が、前記領域Aを除く全領域Bにおけるシリカ粒子数密度の2.0倍以上である、[1]に記載の積層フィルム。
[3]延伸前の視感反射率が1.70%未満である、[1]または[2]に記載の積層フィルム。
[4]前記シリカ粒子がフッ素化合物で表面処理されたものである、[1]〜[3]のいずれかに記載の積層フィルム。
[5]前記硬化樹脂層が、さらに金属酸化物粒子を含有する、[1]〜[4]のいずれかに記載の積層フィルム。
[6]前記領域Aを除く全領域Bにおける金属酸化物粒子数密度が前記領域Aにおける金属酸化物粒子数密度の2.0倍以上である、[5]に記載の積層フィルム。
[7][1]〜[5]のいずれかに記載の積層フィルムからなる成型用反射防止フィルム。
The above object of the present invention is achieved by the following invention.
[1] A laminated film having a cured resin layer composed of a single layer having a thickness of 170 nm or more on a base film directly or through an undercoat layer, and having a haze value (Hz1) when stretched to an area ratio of 130% ) And the haze value (Hz0) before stretching is 0.30% or less, the cured resin layer contains silica particles, and the surface of the cured resin layer opposite to the base film is from A laminated film, wherein the number of silica particles contained in the region A up to 100 nm in the thickness direction is 70% or more of the total number of silica particles contained in the cured resin layer.
[2] The laminated film according to [1], wherein the silica particle number density in the region A is 2.0 times or more of the silica particle number density in the entire region B except the region A.
[3] The laminated film according to [1] or [2], wherein the luminous reflectance before stretching is less than 1.70%.
[4] The laminated film according to any one of [1] to [3], wherein the silica particles are surface-treated with a fluorine compound.
[5] The laminated film according to any one of [1] to [4], wherein the cured resin layer further contains metal oxide particles.
[6] The laminated film according to [5], wherein the metal oxide particle number density in all regions B excluding the region A is 2.0 times or more the metal oxide particle number density in the region A.
[7] An antireflection film for molding comprising the laminated film according to any one of [1] to [5].
本発明によれば、良好な反射防止性を有し、かつ高倍率成型に好適な積層フィルムを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a laminated film having good antireflection properties and suitable for high-magnification molding.
積層フィルムは、基材フィルム上に直接またはアンダーコート層を介して、厚みが170nm以上の単一層からなる硬化樹脂層を有する。硬化樹脂層は、シリカ粒子を含有し、硬化樹脂層の基材フィルムとは反対側の表面から厚み方向に100nmまでの領域を領域A、該領域Aを除く全領域を領域Bとすると、領域Aに含まれるシリカ粒子数が硬化樹脂層に含まれる全シリカ粒子数の70%以上であることを特徴とする。ここで、硬化樹脂層に含まれる全シリカ粒子数は、領域Aに含まれるシリカ粒子数と領域Bに含まれるシリカ粒子数の合計である。 The laminated film has a cured resin layer composed of a single layer having a thickness of 170 nm or more on the base film directly or via an undercoat layer. When the cured resin layer contains silica particles, the region from the surface opposite to the base film of the cured resin layer to 100 nm in the thickness direction is defined as region A, and the entire region excluding the region A is defined as region B. The number of silica particles contained in A is 70% or more of the total number of silica particles contained in the cured resin layer. Here, the total number of silica particles contained in the cured resin layer is the sum of the number of silica particles contained in region A and the number of silica particles contained in region B.
本明細書において、単一層からなる硬化樹脂層とは、一つの塗料組成物(塗布液)を1回のみの塗工で形成された層を意味する。つまり、硬化樹脂層は、単一層であるにも拘らず、基材フィルムとは反対側の表面にシリカ粒子が相対的に高密度に局在した領域Aを有する。これによって、硬化樹脂層表面の反射率が低下し、積層フィルムに良好な反射防止性を付与することができる。 In the present specification, a cured resin layer composed of a single layer means a layer formed by applying one coating composition (coating liquid) only once. That is, although the cured resin layer is a single layer, it has a region A in which silica particles are localized at a relatively high density on the surface opposite to the base film. Thereby, the reflectance of the cured resin layer surface is lowered, and good antireflection properties can be imparted to the laminated film.
図1および図2は、本発明の積層フィルムの一例の模式断面図である。図1は、基材フィルム2上に直接に硬化樹脂層1が積層された態様を示し、図2は、基材フィルム2上にアンダーコート層3を介して硬化樹脂層1が積層された態様を示す。
1 and 2 are schematic cross-sectional views of an example of the laminated film of the present invention. FIG. 1 shows an embodiment in which the
硬化樹脂層1はシリカ粒子11を含有し、シリカ粒子11は基材フィルム2の反対側の表面近傍に高密度に局在している。つまり、硬化樹脂層1は、シリカ粒子11が相対的に高密度に局在した領域Aを有する。
The cured
硬化樹脂層1は、基材フィルム2とは反対側の表面1cから厚み方向に100nmまでの領域A(符号Aで示される領域)と、領域Aを除く全領域である領域B(符号Bで示される領域)とからなる。領域Aは、表面1cから厚み方向に100nmの位置に表面1cに概略平行に引かれた境界線1d(点線表示)までの領域であり、領域Bは境界線1dから基材フィルム側の境界線1eまでの領域である。ここで、境界線1d上に存在するシリカ粒子11aは、領域Aに含有すると定義する。
The cured
硬化樹脂層の領域Aおよび領域Bに含まれるシリカ粒子数は、硬化樹脂層の断面の撮影画像(断面写真)、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)による断面撮影画像から求めることができる。硬化樹脂層の断面撮影画像(断面写真)における、領域Aと領域Bとの境界線1dの特定、並びに領域Aおよび領域Bの特定については、実施例の項で詳細に説明する。
The number of silica particles contained in the region A and the region B of the cured resin layer can be obtained from a photographed image (cross-sectional photograph) of the cross section of the cured resin layer, for example, a cross-sectional photographed image using a transmission electron microscope (TEM). The specification of the
積層フィルムに良好な反射防止性を付与するには、領域Aが低屈折率層として十分に機能することが好ましく、領域Aがシリカ粒子を相対的に高密度に局在していることが好ましい。この観点から、領域Aに含まれるシリカ粒子数は、硬化樹脂層に含まれる全シリカ粒子数の80%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましい。上限は100%である。 In order to impart good antireflection properties to the laminated film, it is preferable that the region A functions sufficiently as a low refractive index layer, and it is preferable that the region A localizes silica particles at a relatively high density. . From this viewpoint, the number of silica particles contained in the region A is preferably 80% or more of the total number of silica particles contained in the cured resin layer, and more preferably 90% by mass or more. The upper limit is 100%.
また、積層フィルムに良好な反射防止性を付与するという観点から、領域Aにおけるシリカ粒子数密度(Asi)が領域Bにおけるシリカ粒子数密度(Bsi)より十分に高いことが好ましい。具体的には、(Asi)は、(Bsi)の2.0倍以上であることが好ましく、5.0倍以上であることがより好ましく、8.0倍以上であることが特に好ましい。上記倍率は高いほど好ましく、上限は特に限定されない。つまり、(Bsi)は0を含む。 Moreover, it is preferable that the silica particle number density (Asi) in the region A is sufficiently higher than the silica particle number density (Bsi) in the region B from the viewpoint of imparting good antireflection properties to the laminated film. Specifically, (Asi) is preferably 2.0 times or more of (Bsi), more preferably 5.0 times or more, and particularly preferably 8.0 times or more. The higher the magnification, the better. The upper limit is not particularly limited. That is, (Bsi) includes 0.
領域Aおよび領域Bにおけるシリカ粒子の数密度は、硬化樹脂層の断面の撮影画像(断面写真)、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)による断面撮影画像から求めることができる。詳細については、実施例の項で説明する。 The number density of the silica particles in the region A and the region B can be obtained from a photographed image (cross-sectional photograph) of a cross section of the cured resin layer, for example, a sectional photographed image by a transmission electron microscope (TEM). Details will be described in the section of the embodiment.
上記したように、硬化樹脂層が、シリカ粒子が相対的に高密度に局在した領域Aを有することにより、硬化樹脂層表面の視感反射率が1.70%未満、さらには1.50%未満を実現することができる。上記視感反射率は、積層フィルムの延伸前のものである。 As described above, since the cured resin layer has the region A in which the silica particles are localized at a relatively high density, the luminous reflectance on the surface of the cured resin layer is less than 1.70%, and further 1.50. % Can be realized. The luminous reflectance is that before stretching of the laminated film.
硬化樹脂層は、さらに金属酸化物粒子を含有することが好ましい。硬化樹脂層が金属酸化物粒子を含有することにより、シリカ粒子が領域Aに局在化しやすくなる。領域Aにシリカ粒子が局在化することにより、領域Bに金属酸化物粒子が局在化しやすくなる。 The cured resin layer preferably further contains metal oxide particles. When the cured resin layer contains the metal oxide particles, the silica particles are easily localized in the region A. When the silica particles are localized in the region A, the metal oxide particles are easily localized in the region B.
硬化樹脂層は、領域Bにおける金属酸化物粒子数密度が領域Aにおける金属酸化物粒子数密度より高いことが好ましい。 The cured resin layer preferably has a metal oxide particle number density in the region B higher than the metal oxide particle number density in the region A.
つまり、硬化樹脂層は、少なくともシリカ粒子および金属酸化物粒子を含有し、硬化樹脂層の基材フィルムとは反対側表面にシリカ粒子が相対的に高密度に局在した領域Aを有し、基材フィルム側に金属酸化物粒子が相対的に高密度に局在した領域Bを有することが好ましい。 That is, the cured resin layer contains at least silica particles and metal oxide particles, and has a region A where the silica particles are localized at a relatively high density on the surface opposite to the base film of the cured resin layer, It is preferable to have the region B where the metal oxide particles are localized at a relatively high density on the base film side.
図3は、本発明の積層フィルムの好ましい態様の一例の模式断面図であり、硬化樹脂層がさらに金属酸化物粒子を含有する態様を例示したものである。領域B(符号Bで表される領域)は、金属酸化物粒子12が相対的に高密度に局在した領域である。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an example of a preferred embodiment of the laminated film of the present invention, and illustrates an embodiment in which the cured resin layer further contains metal oxide particles. Region B (region represented by symbol B) is a region in which the metal oxide particles 12 are localized at a relatively high density.
図3は、図1の好ましい態様を示したものであるが、図2の硬化樹脂層についても図3の硬化樹脂層と同様に、領域Bが、金属酸化物粒子が相対的に高密度に局在した領域であることが好ましい。 FIG. 3 shows a preferred embodiment of FIG. 1, but the cured resin layer of FIG. 2 also has a relatively high density of metal oxide particles in the region B as in the cured resin layer of FIG. A localized region is preferred.
領域Aおよび領域Bにおける金属酸化物粒子数密度は、前述のシリカ粒子数密度の測定と同様にして、透過型電子顕微鏡(TEM)による断面撮影画像から求めることができる。詳細は、実施例の項で説明する。 The metal oxide particle number density in the region A and the region B can be obtained from a cross-sectional image taken by a transmission electron microscope (TEM) in the same manner as the measurement of the silica particle number density. Details will be described in the section of the embodiment.
良好な反射防止性を得るには、領域Bが高屈折率層として十分に機能することが好ましく、この観点から、領域Bにおける金属酸化物粒子数密度(Bm)は、領域Aにおける金属酸化物粒子数密度(Am)より十分に高いことが好ましい。具体的には、(Bm)は、(Am)の2.0倍以上であることが好ましく、5.0倍以上であることがより好ましく、8.0倍以上であることが特に好ましい。上記倍率は高いほど好ましく、上限は特に限定されない。つまり、(Am)は0を含む。 In order to obtain good antireflection properties, the region B preferably functions sufficiently as a high refractive index layer. From this viewpoint, the metal oxide particle number density (Bm) in the region B is determined by the metal oxide in the region A. It is preferable that it is sufficiently higher than the particle number density (Am). Specifically, (Bm) is preferably 2.0 times or more of (Am), more preferably 5.0 times or more, and particularly preferably 8.0 times or more. The higher the magnification, the better. The upper limit is not particularly limited. That is, (Am) includes 0.
上述したように、領域Aにシリカ粒子が高密度に局在し、領域Bに金属酸化物粒子が高密度に局在することが好ましい。すなわち、硬化樹脂層は、シリカ粒子と金属酸化物粒子とが相分離した構造を採ることが好ましい。これにより、積層フィルムの反射防止性が一段と良好になる。具体的には、視感反射率が0.70%未満、さらには0.50%未満を実現することができる。上記視感反射率は、積層フィルムの延伸前のものである。 As described above, it is preferable that the silica particles are localized at high density in the region A and the metal oxide particles are localized at high density in the region B. That is, the cured resin layer preferably has a structure in which silica particles and metal oxide particles are phase-separated. Thereby, the antireflection property of the laminated film is further improved. Specifically, it is possible to realize a luminous reflectance of less than 0.70%, and further less than 0.50%. The luminous reflectance is that before stretching of the laminated film.
ここで、相分離構造を採るとは、シリカ粒子が高密度に局在した領域Aと、金属酸化物粒子が高密度に局在した領域Bとの界面が明確に確認できることを意味する。上記界面は、透過型電子顕微鏡(TEM)による断面撮影画像にて確認することができる。詳細は、実施例の項で説明する。 Here, adopting the phase separation structure means that the interface between the region A where the silica particles are localized at a high density and the region B where the metal oxide particles are localized at a high density can be clearly confirmed. The interface can be confirmed by a cross-sectional image taken with a transmission electron microscope (TEM). Details will be described in the section of the embodiment.
積層フィルムは、面積比130%まで延伸されたときのヘイズ値(Hz1)と延伸前のヘイズ値(Hz0)との差の絶対値が0.30%以下である。つまり、積層フィルムは、面積比130%まで延伸してもクラックが発生しないか、もしくはクラックが発生しても極めて軽微であり、外観上の変化を確認できないことを意味する。ここで、面積比130%まで延伸するとは、正方形に切り出した積層フィルムを縦横同一比率(1.14倍)で二軸延伸することを意味する。 In the laminated film, the absolute value of the difference between the haze value (Hz1) when stretched to an area ratio of 130% and the haze value (Hz0) before stretching is 0.30% or less. That is, the laminated film does not generate cracks even when stretched to an area ratio of 130%, or it is very slight even if cracks occur, and it means that changes in appearance cannot be confirmed. Here, stretching to an area ratio of 130% means that a laminated film cut into a square is biaxially stretched at the same aspect ratio (1.14 times).
上記したような特性を有する積層フィルムは、高倍率の成型用途に適用することが可能となり、特に、成型用反射防止フィルムとして好適である。 The laminated film having the above-described characteristics can be applied to a high-magnification molding application, and is particularly suitable as an antireflection film for molding.
前述したように、単一層からなる硬化樹脂層は、従来の反射防止フィルムの一般的な積層構成、すなわち、高屈折率層と低屈折率層を逐次積層した積層構造とは明確に区別される。そして、単一層からなる硬化樹脂層は、従来の積層構造に比べて、延伸時におけるクラック発生傾向が小さくなるという特長がある。これは、従来の積層構造は、延伸時に高屈折率層と低屈折率層との界面でクラックが発生しやすくなるが、単一の硬化樹脂層は厚み方向に連続膜であるのでクラックが発生しにくいと推測される。 As described above, the cured resin layer composed of a single layer is clearly distinguished from a general laminated structure of a conventional antireflection film, that is, a laminated structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are sequentially laminated. . And the cured resin layer which consists of a single layer has the feature that the crack generation tendency at the time of extending | stretching becomes small compared with the conventional laminated structure. This is because cracks are likely to occur at the interface between the high refractive index layer and the low refractive index layer during stretching in the conventional laminated structure, but cracks occur because the single cured resin layer is a continuous film in the thickness direction. Presumably difficult to do.
また、単一層からなる硬化樹脂層は、従来の逐次積層構造の反射防止層に比べて、延伸後の視感反射率の上昇が抑制されるという特長がある。 Moreover, the cured resin layer which consists of a single layer has the feature that the raise of the luminous reflectance after extending | stretching is suppressed compared with the antireflection layer of the conventional sequential laminated structure.
以下、本発明の積層フィルムを構成する各要素について詳細に説明する。
[硬化樹脂層]
硬化樹脂層は、基材フィルム上に直接またはアンダーコート層を介して積層される。
Hereinafter, each element which comprises the laminated | multilayer film of this invention is demonstrated in detail.
[Hardened resin layer]
The cured resin layer is laminated on the base film directly or via an undercoat layer.
硬化樹脂層は、少なくともシリカ粒子と樹脂成分を含有する塗料組成物を硬化せしめた層である。硬化樹脂層の基材フィルムの反対側表面にシリカ粒子が相対的に高密度に局在した領域Aを形成させるには、例えば、シリカ粒子として、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子を用いることが好ましい。フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子は、表面自由エネルギーが相対的に小さくなり、塗布された塗料組成物の乾燥工程あるいは硬化工程で、空気側界面(基材フィルムとは反対側界面)に移動しやすくなり、領域Aが形成されやすくなると推測する。 The cured resin layer is a layer obtained by curing a coating composition containing at least silica particles and a resin component. In order to form the region A in which silica particles are localized at a relatively high density on the opposite surface of the base film of the cured resin layer, for example, silica particles surface-treated with a fluorine compound are used as the silica particles. Is preferred. Silica particles surface-treated with a fluorine compound have a relatively small surface free energy and move to the air side interface (the side opposite to the base film) during the drying or curing process of the applied coating composition. It is assumed that the region A is easily formed.
シリカ粒子をフッ素化合物で表面処理する方法としては、下記の(i)および(ii)の方法が挙げられる。効率よく表面処理するという観点から、(ii)の方法が好ましい。 Examples of the method for surface-treating silica particles with a fluorine compound include the following methods (i) and (ii). In view of efficient surface treatment, the method (ii) is preferable.
(i)下記の一般式(1)で示されるフッ素原子を有するオルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、および該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物からなる群の中から選ばれる少なくとも1つの化合物で表面処理する方法。 (I) at least selected from the group consisting of an organosilane compound having a fluorine atom represented by the following general formula (1), a hydrolyzate of the organosilane, and a partial condensate of the hydrolyzate of the organosilane Surface treatment with one compound.
Rf1−R1−Si(Q1)3 ・・・・一般式(1) Rf 1 -R 1 -Si (Q 1 ) 3 ... General formula (1)
一般式(1)中、Rf1はフルオロアルキル基、R1は炭素数1から6のアルキレン基またはアルキレンオキシ基、Q1は炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子または水酸基を表す。 In general formula (1), Rf 1 represents a fluoroalkyl group, R 1 represents an alkylene group or alkyleneoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and Q 1 represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom, or a hydroxyl group.
ここで、Rf1のフルオロアルキル基とは、アルキル基が持つ水素の一部あるいは全てがフッ素原子で置換された置換基である。フルオロアルキル基における炭素数は2〜20個の範囲が好ましく、3〜15個の範囲がより好ましく、4〜12個の範囲が特に好ましい。 Here, the fluoroalkyl group of Rf 1 is a substituent in which part or all of the hydrogen of the alkyl group is substituted with a fluorine atom. The number of carbon atoms in the fluoroalkyl group is preferably in the range of 2-20, more preferably in the range of 3-15, and particularly preferably in the range of 4-12.
一般式(1)の化合物として、具体的には下記の化合物を例示することができる。
C4F9CH2CH2Si(OCH3)3
C6F13CH2CH2Si(OCH3)3
C8F17CH2CH2Si(OCH3)3
C6F13CH2CH2CH2Si(OCH3)3
C6F13CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3
C6F13CH2CH2Si(OC2H5)3
C8F17CH2CH2CH2Si(OC2H5)3
C6F13CH2CH2CH2CH2Si(OC2H5)3
C6F13CH2CH2SiCl3
C6F13CH2CH2SiBr3
C6F13CH2CH2CH2SiCl3
C6F13CH2CH2Si(OCH3)Cl2
C6F13CH2CH2CH2CH2Si(OH)(OC2H5)2
Specific examples of the compound of the general formula (1) include the following compounds.
C 4 F 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
C 8 F 17 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2
C 6 F 13 CH 2 CH 2
C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5) 3
C 8 F 17 CH 2 CH 2
C 6 F 13 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 SiCl 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 SiBr 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 CH 2 SiCl 3
C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) C l2
C 6 F 13 CH 2 CH 2
(ii)下記の一般式(2)で示されるオルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、および該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物からなる群の中から選ばれる少なくとも1つの化合物で処理し、次いで下記一般式(3)で示されるフッ素化合物で表面処理する方法。 (Ii) at least one compound selected from the group consisting of an organosilane compound represented by the following general formula (2), a hydrolyzate of the organosilane, and a partial condensate of the hydrolyzate of the organosilane A method of treating and then surface-treating with a fluorine compound represented by the following general formula (3).
B−R2−Si(Q2)3 ・・・・一般式(2)
D−R3−Rf2 ・・・・一般式(3)
B—R 2 —Si (Q 2 ) 3 ... General formula (2)
DR 3 -Rf 2 ... General formula (3)
一般式(2)および(3)において、BおよびDはそれぞれ独立に反応性部位を表し、R2およびR3はそれぞれ独立に炭素数1から6のアルキレン基またはアルキレンオキシ基を表し、Q2は炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子または水酸基を表し、Rf2はフルオロアルキル基を表す。 In the general formulas (2) and (3), B and D each independently represent a reactive site, R 2 and R 3 each independently represent an alkylene group or alkyleneoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and Q 2 Represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom or a hydroxyl group, and Rf 2 represents a fluoroalkyl group.
BおよびDで表される反応性部位としては、例えばビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基などが挙げられる。 Examples of the reactive site represented by B and D include a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an epoxy group, a carboxyl group, and a hydroxyl group.
Rf2はフルオロアルキル基とは、アルキル基が持つ水素の一部あるいは全てがフッ素原子で置換された置換基である。フルオロアルキル基における炭素数は2〜20個の範囲が好ましく、3〜15個の範囲がより好ましく、4〜12個の範囲が特に好ましい。 Rf 2 is a fluoroalkyl group, which is a substituent in which part or all of the hydrogen of the alkyl group is substituted with a fluorine atom. The number of carbon atoms in the fluoroalkyl group is preferably in the range of 2-20, more preferably in the range of 3-15, and particularly preferably in the range of 4-12.
一般式(2)の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、およびこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基、ハロゲン原子あるいは水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。 Specific examples of the general formula (2) include acryloxyethyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxybutyltrimethoxysilane, acryloxypentyltrimethoxysilane, acryloxyhexyltrimethoxysilane, acryloxyheptyltri Methoxysilane, methacryloxyethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxybutyltrimethoxysilane, methacryloxyhexyltrimethoxysilane, methacryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxy Silane and compounds in which the methoxy group in these compounds is substituted with another alkoxyl group, halogen atom or hydroxyl group Things and the like.
一般式(3)の具体例としては、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロブチルエチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルメチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロデシルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロ−3−メトキシブチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、ヘキサデカフルオロノニル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロブチル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレートなどが挙げられる。 Specific examples of the general formula (3) include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, and 2-perfluorobutylethyl. (Meth) acrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-perfluorohexylethyl (meth) acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, perfluorooctylmethyl (Meth) acrylate, 2-perfluorooctylethyl (meth) acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-perfluorodecylethyl (meth) acrylate, 2-perfluoro-3-methyl Butylethyl (meth) acrylate 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl (meth) acrylate, 3-perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl (meth) ) Acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, dodecafluoroheptyl (meth) acrylate, hexadecafluorononyl (Meth) acrylate, hexafluorobutyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate and the like can be mentioned.
ここで、「・・・(メタ)アクリレート」は、「・・・アクリレート」と「メタクリレート」とを含む総称である。以下の説明において同様である。 Here, “... (Meth) acrylate” is a generic name including “... Acrylate” and “methacrylate”. The same applies to the following description.
シリカ粒子は、中空シリカ粒子および多孔質シリカ粒子が好ましく用いられる。特に、中空シリカ粒子が好ましい。中空シリカ粒子の屈折率は1.20〜1.40であり、通常のシリカ粒子の屈折率1.45〜1.47に比べて小さいので、硬化樹脂層が中空シリカ粒子を含有し、中空シリカが相対的に高密度に局在した領域Aを有することによって反射防止性が一段と向上する。 As the silica particles, hollow silica particles and porous silica particles are preferably used. In particular, hollow silica particles are preferred. The refractive index of the hollow silica particles is 1.20 to 1.40, which is smaller than the refractive index of 1.45 to 1.47 of ordinary silica particles, so that the cured resin layer contains hollow silica particles, and the hollow silica particles By having the region A localized at a relatively high density, the antireflection property is further improved.
中空シリカ粒子とは、粒子の内部に空洞を有するシリカ粒子であり、多孔質シリカ粒子とは、粒子の表面及び内部に細孔を有するシリカ粒子である。 The hollow silica particles are silica particles having cavities inside the particles, and the porous silica particles are silica particles having pores on the surface and inside of the particles.
中空シリカは、比較的比重が小さいため、硬化樹脂層の基材フィルムとは反対側表面にシリカ粒子が相対的に高密度に局在した領域Aを形成しやすく、さらに、領域Aの屈折率を相対的に小さくすることができるので、積層フィルムの反射防止性を高めることができる。 Since the hollow silica has a relatively small specific gravity, it is easy to form a region A in which silica particles are localized at a relatively high density on the surface opposite to the base film of the cured resin layer, and the refractive index of the region A Can be made relatively small, so that the antireflection property of the laminated film can be enhanced.
シリカ粒子の数平均粒子径は、硬化樹脂層表面にシリカ粒子が相対的に高密度に局在した領域Aを安定的に形成するという観点および透明性の観点から、100nm以下が好ましく、80nm以下がより好ましく、70nm以下が特に好ましい。シリカ粒子の数平均粒子径の下限は、特に限定されないが、現実的に安定して得られるシリカ粒子の数平均粒子径は5nm程度である。 The number average particle diameter of the silica particles is preferably 100 nm or less from the viewpoint of stably forming the region A where the silica particles are localized at a relatively high density on the surface of the cured resin layer and from the viewpoint of transparency. Is more preferable, and 70 nm or less is particularly preferable. The lower limit of the number average particle diameter of the silica particles is not particularly limited, but the number average particle diameter of the silica particles obtained in a practically stable manner is about 5 nm.
なお、シリカ粒子の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)により求めた粒子径をいう。例えば、シリカ粒子分散物を蒸発、乾固した状態のサンプルについて透過型電子顕微鏡で観察を行い、その際の測定倍率は10万倍とし、その撮影画面に存在する100個の粒子の最大径を測定しその平均値とした。 In addition, the number average particle diameter of a silica particle says the particle diameter calculated | required with the transmission electron microscope (TEM). For example, a sample in a state where the silica particle dispersion is evaporated and dried is observed with a transmission electron microscope, the measurement magnification at that time is 100,000, and the maximum diameter of 100 particles existing on the photographing screen is set. The average value was measured.
塗料組成物に含有される樹脂成分について説明する。樹脂成分としては、活性エネルギー線によって重合する化合物(モノマーあるいはオリゴマー)が好ましい。かかる化合物としては、分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アリル基、ビニル基等が挙げられる。 The resin component contained in the coating composition will be described. The resin component is preferably a compound (monomer or oligomer) that is polymerized by active energy rays. Such compounds include compounds having at least one ethylenically unsaturated group in the molecule. Here, examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an allyl group, and a vinyl group.
積層フィルムは、面積比130%まで延伸しても硬化樹脂層にクラックが発生しないか、もしくはクラックが発生しても極めて軽微であることが求められる。つまり、樹脂成分の重合密度が高くなると、延伸時に硬化樹脂層にクラックが発生しやすくなるので、樹脂成分の分子量と官能基数(エチレン性不飽和基数)をバランスさせることが好ましい。 The laminated film is required to have no crack in the cured resin layer even when stretched to an area ratio of 130%, or to be extremely slight even if a crack occurs. That is, if the polymerization density of the resin component is increased, cracks are likely to occur in the cured resin layer during stretching, so it is preferable to balance the molecular weight of the resin component with the number of functional groups (the number of ethylenically unsaturated groups).
一方、樹脂成分の分子量が大きくなり過ぎると、硬化樹脂層中にシリカ粒子の局在領域(領域A)が形成されないことがある。例えば、分子量(オリゴマーの場合は重量平均分子量)が25,000を超えると、領域Aが形成されないことがある。 On the other hand, if the molecular weight of the resin component becomes too large, the localized region (region A) of silica particles may not be formed in the cured resin layer. For example, when the molecular weight (weight average molecular weight in the case of an oligomer) exceeds 25,000, the region A may not be formed.
上記観点から、樹脂成分として、下記の(i)〜(iv)からなる群の中から選ばれる少なくとも1つの化合物を含有することが好ましい。 From the above viewpoint, it is preferable that the resin component contains at least one compound selected from the group consisting of the following (i) to (iv).
(i)分子内にエチレン性不飽和基を2個有し、分子量が300〜1,000のモノマーまたはオリゴマー
(ii)分子内にエチレン性不飽和基を2〜5個有し、分子量が1,000〜10,000のオリゴマー。
(iii)分子内にエチレン性不飽和基を3〜10個有し、分子量が10,000〜15,000のオリゴマー
(iv)分子内にエチレン性不飽和基を4〜25個有し、分子量が15,000〜25,000のオリゴマー
(I) A monomer or oligomer having two ethylenically unsaturated groups in the molecule and a molecular weight of 300 to 1,000 (ii) having 2 to 5 ethylenically unsaturated groups in the molecule and a molecular weight of 1 1,000 to 10,000 oligomers.
(Iii) an oligomer having 3 to 10 ethylenically unsaturated groups in the molecule and a molecular weight of 10,000 to 15,000 (iv) having 4 to 25 ethylenically unsaturated groups in the molecule, and having a molecular weight Of 15,000 to 25,000
上記(i)〜(iv)のオリゴマーの分子量は、重量平均分子量である。また、以下の説明において、一分子内のエチレン性不飽和基数を官能基数ということがある。例えば、分子内にエチレン性不飽和基を2個有する場合を2官能、10個有する場合を10官能ということがある。 The molecular weight of the oligomers (i) to (iv) is a weight average molecular weight. In the following description, the number of ethylenically unsaturated groups in one molecule may be referred to as the number of functional groups. For example, the case of having two ethylenically unsaturated groups in the molecule may be bifunctional and the case of having ten ethylenically unsaturated groups may be ten functional.
上記(i)のモノマーとしては、分子内にビスフェノール骨格を有するエポキシジ(メタ)アクリレート、分子内にポリアルキレングリコール(エチレングリコール、ポリプロピレングリコールなど)骨格を有するジ(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの中でも、分子内にビスフェノール骨格を有するエポキシジ(メタ)アクリレートが好ましい。 Examples of the monomer (i) include epoxy di (meth) acrylate having a bisphenol skeleton in the molecule and di (meth) acrylate having a polyalkylene glycol (ethylene glycol, polypropylene glycol, etc.) skeleton in the molecule. Among these, epoxy di (meth) acrylate having a bisphenol skeleton in the molecule is preferable.
分子内にビスフェノール骨格を有するエポキシジ(メタ)アクリレートとしては、ビスフェノールAジグリシジルエーテルのアクリル酸もしくはメタクリル酸付加物、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルのアクリル酸もしくはメタクリル酸付加物が挙げられる。 Examples of the epoxy di (meth) acrylate having a bisphenol skeleton in the molecule include an acrylic acid or methacrylic acid adduct of bisphenol A diglycidyl ether and an acrylic acid or methacrylic acid adduct of hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether.
上記(i)のオリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーが好ましい。例えば、フェニルグリシジルエーテル(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンオリゴマー、フェニルグリシジルエーテル(メタ)アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマー、プロピレングリコールジグリシジルエーテル(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンオリゴマー、プロピレングリコールジグリシジルエーテル(メタ)アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。 The oligomer (i) is preferably a urethane (meth) acrylate oligomer. For example, phenyl glycidyl ether (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate urethane oligomer, phenyl glycidyl ether (meth) acrylate isophorone diisocyanate urethane oligomer, propylene glycol diglycidyl ether (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate urethane oligomer, propylene glycol diglycidyl ether (meth) Examples thereof include acrylate isophorone diisocyanate urethane oligomers.
上記(ii)〜(iv)のオリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーが好ましい。例えば、分子内にビスフェノール骨格を有するエポキシジ(メタ)アクリレートの水酸基にポリイソシアネート化合物(例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネートなど)を反応させて得られたウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、さらに、上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーにウレタン結合を増量させるためにジオール化合物(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ペンタンジオール、ネオペンチルグリコールなど)を反応させたり、あるいはエチレン性不飽和基を増量させるために水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートなど)を反応させて得られたウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーが挙げられる。 As the oligomers (ii) to (iv), urethane (meth) acrylate oligomers are preferable. For example, a urethane (meth) acrylate oligomer obtained by reacting a polyisocyanate compound (for example, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, phenylene diisocyanate, etc.) with a hydroxyl group of an epoxy di (meth) acrylate having a bisphenol skeleton in the molecule, In order to increase the urethane bond to the urethane (meth) acrylate oligomer, a diol compound (for example, ethylene glycol, propylene glycol, polyethylene glycol, pentanediol, neopentyl glycol, etc.) is reacted, or the ethylenically unsaturated group is increased. (Meth) acrylate compounds having a hydroxyl group (for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, trimethylolethane (meta) Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) urethane obtained by reacting the acrylate) (meth) acrylate oligomer and the like.
塗料組成物は、さらに、分子内にエチレン性不飽和基を3〜8個有し、分子量が1,000以下の(メタ)アクリレートモノマーを含有することができる。この(メタ)アクリレートモノマーの含有量は、上記(i)〜(iv)の化合物の合計量100質量部に対して、30質量部以下が好ましく、20質量部以下がより好ましく、10質量部以下が特に好ましい。下限は、0〜2質量部である。 The coating composition can further contain a (meth) acrylate monomer having 3 to 8 ethylenically unsaturated groups in the molecule and a molecular weight of 1,000 or less. The content of the (meth) acrylate monomer is preferably 30 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the total amount of the compounds (i) to (iv). Is particularly preferred. The lower limit is 0 to 2 parts by mass.
(メタ)アクリレートモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、グリセリンプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Examples of the (meth) acrylate monomer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, glycerin propoxytri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) ) Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol Examples include octa (meth) acrylate.
塗料組成物は、さらに光重合開始剤を含むことが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。 The coating composition preferably further contains a photopolymerization initiator. Specific examples of such photopolymerization initiators include, for example, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methyl benzoylformate, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2, Carbonyl compounds such as 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiuram monosulfide, teto Sulfur compounds such as lamethylthiuram disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2-methylthioxanthone can be used. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(登録商標)184、イルガキュア907、イルガキュア379、イルガキュア819、イルガキュア127、イルガキュア500、イルガキュア754、イルガキュア250、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュアOXE01、DAROCUR(登録商標)TPO、DAROCUR1173等、日本シイベルヘグナー(株)製のSpeedcure(登録商標)MBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、Esacure(登録商標) ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46等、日本化薬(株)製のKAYACURE(登録商標) DETX−S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、KAYACURE DMBI等が挙げられる。 Moreover, generally the photoinitiator is marketed and they can be used. For example, Irgacure (registered trademark) 184, Irgacure 907, Irgacure 379, Irgacure 819, Irgacure 127, Irgacure 500, Irgacure 754, Irgacure 250, Irgacure 1800, Irgacure 1870, Irgacure OXEDA, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. (Registered trademark) TPO, DAROCUR1173, etc., Speedcure (registered trademark) MBB, Speedcure PBZ, Speedcure ITX, Speedcure CTX, Speedcure EDB, Ecure (registered trademark) ONE KAYACURE (registered trademark) D TX-S, KAYACURE CTX, KAYACURE BMS, KAYACURE DMBI, and the like.
上記光重合開始剤の含有量は、塗料組成物の固形分総量100質量%に対して0.1〜10質量%の範囲が好ましく、0.5〜8質量%の範囲がより好ましい。 The content of the photopolymerization initiator is preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, more preferably in the range of 0.5 to 8% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the coating composition.
塗料組成物は、さらに、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。かかる金属酸化物粒子としては、屈折率が1.60〜2.50のものが好ましく、例えば、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化チタン(TiO2)、酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化インジウム(In2O3)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、酸化アンチモン(Sb2O3)、およびインジウムスズ酸化物(In2O3)が挙げられる。これらの金属酸化物粒子の中でも、酸化ジルコニウム(ZrO2)および酸化チタン(TiO2)が好ましく、特に酸化ジルコニウム(ZrO2)が好ましい。 The coating composition preferably further contains metal oxide particles. Such metal oxide particles preferably have a refractive index of 1.60 to 2.50. For example, zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), antimony oxide (Sb 2 O 3 ), and indium tin oxide (In 2 O 3 ). Among these metal oxide particles, zirconium oxide (ZrO 2 ) and titanium oxide (TiO 2 ) are preferable, and zirconium oxide (ZrO 2 ) is particularly preferable.
金属酸化物粒子の数平均粒子径は、70nm以下が好ましく、50nm以下がより好ましく、30nm以下が特に好ましい。現実的に製造可能な数平均粒子径は1nm程度が下限である。 The number average particle diameter of the metal oxide particles is preferably 70 nm or less, more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 30 nm or less. The lower limit of the number average particle diameter that can be practically produced is about 1 nm.
なお、金属酸化物粒子の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)により求めた粒子径をいう。例えば、金属酸化物粒子分散物を蒸発、乾固した状態のサンプルについて透過型電子顕微鏡で観察を行い、その際の測定倍率は10万倍とし、その撮影画面に存在する100個の粒子の最大径を測定しその平均値とした。 The number average particle size of the metal oxide particles refers to the particle size obtained with a transmission electron microscope (TEM). For example, a sample in a state where the metal oxide particle dispersion is evaporated and dried is observed with a transmission electron microscope, the measurement magnification at that time is 100,000, and the maximum of 100 particles existing on the photographing screen The diameter was measured and taken as the average value.
シリカ粒子が相対的に高密度で局在した領域Aおよび金属酸化物粒子が相対的に高密度で局在した領域Bを有する硬化樹脂層は、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子、金属酸化物粒子、および樹脂成分を含有する塗料組成物を硬化せしめることによって得ることができる。
金属酸化物粒子が相対的に高密度で局在した領域Bを形成しやすくするために、金属酸化物粒子は、前述の一般式(2)および下記一般式(4)からなる群の中から選ばれる少なくとも1つの化合物で表面処理されていることが好ましい。
The cured resin layer having the region A in which the silica particles are localized at a relatively high density and the region B in which the metal oxide particles are localized at a relatively high density is composed of silica particles surface-treated with a fluorine compound, metal oxide It can be obtained by curing the coating composition containing the product particles and the resin component.
In order to facilitate formation of the region B where the metal oxide particles are relatively dense and localized, the metal oxide particles are selected from the group consisting of the general formula (2) and the following general formula (4). The surface treatment is preferably performed with at least one selected compound.
R4n−Si(Q3)4−n ・・・・一般式(4) R 4 n-Si (Q 3 ) 4-n ... General formula (4)
一般式(4)において、R4はアルキル基、Q3は炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子または水酸基を表し、nは1〜3のいずれかの整数を表す。 In the general formula (4), R 4 represents an alkyl group, Q 3 represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom or a hydroxyl group, and n represents any integer of 1 to 3.
一般式(4)の具体例としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシランなどが挙げられる。 Specific examples of the general formula (4) include, for example, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, n-propyltri Examples include methoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, and decyltrimethoxysilane.
硬化樹脂層は、厚みが170nm以上である。硬化樹脂層の厚みを170nm以上とすることにより、硬化樹脂層の基材フィルムとは反対側の表面に、シリカ粒子が相対的に高密度に局在した領域Aが形成されやすくなり、その結果、良好な反射防止性が得られる。上記観点から、硬化樹脂層の厚みは180nm以上が好ましく、190nm以上が特に好ましい。一方、硬化樹脂層の厚みが大きくなり過ぎると、シリカ粒子が相対的に高密度に局在した領域Aが形成されにくくなるので、上限の厚みは1,000nm未満が好ましく、800nm以下がより好ましく、さらに500nm以下が好ましく、250nm以下が特に好ましい。 The cured resin layer has a thickness of 170 nm or more. By setting the thickness of the cured resin layer to 170 nm or more, a region A in which silica particles are localized at a relatively high density is easily formed on the surface of the cured resin layer opposite to the base film, and as a result. Good antireflection properties can be obtained. From the above viewpoint, the thickness of the cured resin layer is preferably 180 nm or more, and particularly preferably 190 nm or more. On the other hand, if the thickness of the cured resin layer becomes too large, it becomes difficult to form the region A in which the silica particles are localized at a relatively high density. Therefore, the upper limit thickness is preferably less than 1,000 nm, and more preferably 800 nm or less. Furthermore, 500 nm or less is preferable, and 250 nm or less is particularly preferable.
硬化樹脂層が、シリカ粒子および金属酸化物粒子を含有し、硬化樹脂層の基材フィルムとは反対側の表面にシリカ粒子が相対的に高密度に局在した領域Aを有し、基材フィルム側に金属酸化物粒子が相対的に高密度に局在した領域Bを有する態様においては、領域Aと領域Bの相分離構造を形成させやすくするという観点から、硬化樹脂層の厚みは、170〜800nmの範囲が好ましく、180〜500nmの範囲がより好ましく、190〜250nmの範囲が特に好ましい。 The cured resin layer contains silica particles and metal oxide particles, and has a region A in which silica particles are localized at a relatively high density on the surface opposite to the substrate film of the cured resin layer. In the aspect having the region B in which the metal oxide particles are localized at a relatively high density on the film side, from the viewpoint of facilitating the formation of the phase separation structure of the region A and the region B, the thickness of the cured resin layer is: The range of 170 to 800 nm is preferable, the range of 180 to 500 nm is more preferable, and the range of 190 to 250 nm is particularly preferable.
また、上記の硬化樹脂層がシリカ粒子と金属酸化物粒子を含有する態様において、反射スペクトルにおけるボトム波長(最低反射率波長)を550nm付近に位置させるという観点からは、硬化樹脂層の厚みは180〜250nmの範囲が好ましく、180〜230nmの範囲がより好ましく、190〜220nmの範囲が特に好ましい。反射スペクトルにおけるボトム波長(最低反射率波長)を550nm付近、例えば550nm±20nmに位置させることにより視感反射率が小さくなるので好ましい。 In the embodiment in which the cured resin layer contains silica particles and metal oxide particles, the thickness of the cured resin layer is 180 from the viewpoint that the bottom wavelength (minimum reflectance wavelength) in the reflection spectrum is positioned near 550 nm. The range of ˜250 nm is preferable, the range of 180 to 230 nm is more preferable, and the range of 190 to 220 nm is particularly preferable. It is preferable to set the bottom wavelength (minimum reflectance wavelength) in the reflection spectrum at around 550 nm, for example, 550 nm ± 20 nm, because the luminous reflectance becomes small.
[塗料組成物]
硬化樹脂層を得るための塗料組成物は、前述したように、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子、樹脂成分および光重合開始剤を有機溶媒で溶解あるいは分散したものであることが好ましい。樹脂成分としては、前述の(i)〜(iv)からなる群の中から選ばれる少なくとも1つの化合物を含有することが好ましい。
[Coating composition]
As described above, the coating composition for obtaining the cured resin layer is preferably prepared by dissolving or dispersing silica particles surface-treated with a fluorine compound, a resin component, and a photopolymerization initiator in an organic solvent. The resin component preferably contains at least one compound selected from the group consisting of the aforementioned (i) to (iv).
有機溶媒は、特に限定されるものではないが、常圧での沸点が200℃以下の有機溶媒が好ましい。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール、n−ブタノール、tert−ブタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコール、フェニチルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられ、これらを単独もしくは複数種を組み合わせて用いることができる。 The organic solvent is not particularly limited, but an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or less at normal pressure is preferable. For example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, isobutanol, n-butanol, tert-butanol, ethoxyethanol, butoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethylene glycol Examples thereof include monobutyl ether and propylene glycol monomethyl ether, and these can be used singly or in combination.
塗料組成物は、さらに前述の金属酸化物粒子を含有することが好ましい。つまり、硬化樹脂層を得るための塗料組成物は、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子、樹脂成分、金属酸化物粒子、光重合開始剤および有機溶媒を含有することが好ましい。さらに、金属酸化物粒子は、前述の一般式(2)および下記一般式(4)からなる群の中の少なくとも1つの化合物で表面処理されていることが好ましい。 The coating composition preferably further contains the aforementioned metal oxide particles. That is, the coating composition for obtaining the cured resin layer preferably contains silica particles surface-treated with a fluorine compound, resin components, metal oxide particles, a photopolymerization initiator, and an organic solvent. Furthermore, the metal oxide particles are preferably surface-treated with at least one compound in the group consisting of the above-described general formula (2) and the following general formula (4).
塗料組成物の固形分濃度は、領域Aおよび領域Bを効率よく形成させる観点から、2〜20質量%の範囲が好ましく、3〜15質量%の範囲がより好ましく、さらに4〜10質量%の範囲が好ましく、5〜8質量%の範囲が特に好ましい。 From the viewpoint of efficiently forming the region A and the region B, the solid content concentration of the coating composition is preferably in the range of 2 to 20% by mass, more preferably in the range of 3 to 15% by mass, and further 4 to 10% by mass. The range is preferable, and the range of 5 to 8% by mass is particularly preferable.
塗料組成物における各成分の含有比率は、形成される硬化樹脂層の厚みに応じて適宜調整される。例えば、塗料組成物が、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子、樹脂成分および光重合開始剤を含有する場合、この塗料組成物を用いて、例えば厚みが170nm以上〜250nm以下の硬化樹脂層を得るには、塗料組成物の固形分総量100質量%に対して、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子を25〜65質量%、樹脂成分を30〜70質量%、光重合開始剤を0.5〜7質量%含有することが好ましい。 The content ratio of each component in the coating composition is appropriately adjusted according to the thickness of the formed cured resin layer. For example, when the coating composition contains silica particles surface-treated with a fluorine compound, a resin component, and a photopolymerization initiator, for example, a cured resin layer having a thickness of 170 nm to 250 nm is formed using the coating composition. In order to obtain, the total solid content of the coating composition is 100% by mass, the silica particles surface-treated with a fluorine compound are 25 to 65% by mass, the resin component is 30 to 70% by mass, and the photopolymerization initiator is 0.1%. It is preferable to contain 5-7 mass%.
同様に厚みが250nm超〜500nm以下の硬化樹脂層を得るには、塗料組成物の固形分総量100質量%に対して、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子を10〜50質量%、樹脂成分を40〜80質量%、光重合開始剤を0.5〜7質量%含有することが好ましい。同様に厚みが500nm超〜1,000nm未満の硬化樹脂層を得るには、塗料組成物の固形分総量100質量%に対して、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子を5〜35質量%、樹脂成分を50〜85質量%、光重合開始剤を0.5〜7質量%含有することが好ましい。 Similarly, in order to obtain a cured resin layer having a thickness of more than 250 nm to 500 nm or less, 10 to 50% by mass of silica particles surface-treated with a fluorine compound with respect to 100% by mass of the total solid content of the coating composition, a resin component It is preferable to contain 40-80 mass% and 0.5-7 mass% of photoinitiators. Similarly, in order to obtain a cured resin layer having a thickness of more than 500 nm to less than 1,000 nm, 5 to 35% by mass of silica particles surface-treated with a fluorine compound with respect to 100% by mass of the total solid content of the coating composition, It is preferable to contain 50-85 mass% of resin components and 0.5-7 mass% of photopolymerization initiators.
塗料組成物が、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子、樹脂成分、金属酸化物粒子および光重合開始剤を含有する場合、この塗料組成物を用いて厚みが170nm以上〜250nm以下の硬化樹脂層を得るには、塗料組成物の固形分総量100質量%に対して、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子を15〜55質量%、樹脂成分を10〜55質量%、金属酸化物粒子を10〜55質量%、光重合開始剤を0.5〜7質量%含有することが好ましい。 When the coating composition contains silica particles surface-treated with a fluorine compound, a resin component, metal oxide particles, and a photopolymerization initiator, a cured resin layer having a thickness of 170 nm to 250 nm using the coating composition To obtain 100% by mass of the total solid content of the coating composition, 15 to 55% by mass of silica particles surface-treated with a fluorine compound, 10 to 55% by mass of resin component, and 10 of metal oxide particles It is preferable to contain -55 mass% and 0.5-7 mass% of photoinitiators.
同様に厚みが250nm超〜500nm以下の硬化樹脂層を得るには、塗料組成物の固形分総量100質量%に対して、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子を10〜30質量%、樹脂成分を15〜55質量%、金属酸化物粒子を20〜70質量%、光重合開始剤を0.5〜7質量%含有することが好ましい。同様に厚みが500nm超〜1,000nm未満の硬化樹脂層を得るには、塗料組成物の固形分総量100質量%に対して、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子を5〜25質量%、樹脂成分を20〜55質量%、金属酸化物粒子を30〜65質量%、光重合開始剤を0.5〜7質量%含有することが好ましい。 Similarly, in order to obtain a cured resin layer having a thickness of more than 250 nm to 500 nm or less, 10 to 30% by mass of silica particles surface-treated with a fluorine compound with respect to 100% by mass of the total solid content of the coating composition, a resin component It is preferable to contain 15-55 mass% of metal oxide particles, 20-70 mass% of metal oxide particles, and 0.5-7 mass% of a photopolymerization initiator. Similarly, in order to obtain a cured resin layer having a thickness of more than 500 nm to less than 1,000 nm, 5 to 25% by mass of silica particles surface-treated with a fluorine compound with respect to 100% by mass of the total solid content of the coating composition, It is preferable to contain 20-55 mass% of resin components, 30-65 mass% of metal oxide particles, and 0.5-7 mass% of a photopolymerization initiator.
塗料組成物が、フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子、樹脂成分、金属酸化物粒子および光重合開始剤を含有する場合、樹脂成分と金属酸化物粒子との質量比は、60:40〜40:60の範囲が好ましく、55:45〜45〜55の範囲がより好ましい。上記範囲とすることにより、シリカ粒子と金属酸化物粒子の相分離構造が形成されやすくなり、かつ高倍率延伸におけるクラックの発生が抑制される。 When the coating composition contains silica particles surface-treated with a fluorine compound, a resin component, metal oxide particles, and a photopolymerization initiator, the mass ratio of the resin component to the metal oxide particles is 60:40 to 40 : 60 is preferable, and the range of 55:45 to 45 to 55 is more preferable. By setting it as the said range, it becomes easy to form the phase-separation structure of a silica particle and a metal oxide particle, and generation | occurrence | production of the crack in high magnification extending | stretching is suppressed.
硬化樹脂層の厚みは、塗料組成物の固形分濃度に応じて塗布時のウェット膜厚を調整することによって行うことができる。例えば、固形分濃度が5〜8質量%の塗料組成物を用いる場合、塗布時のウェット膜厚を6〜17μmの範囲で調整することによって乾燥膜厚(硬化後)が170nm以上〜250nm以下の硬化樹脂層が得られる。同様に、ウェット膜厚を10〜35μmの範囲で調整することによって乾燥膜厚(硬化後)が250nm超〜500nm以下の硬化樹脂層が得られる。同様に、ウェット膜厚を22〜71μmの範囲で調整することによって乾燥膜厚(硬化後)が500nm超〜1,000nm未満の硬化樹脂層が得られる。 The thickness of the cured resin layer can be adjusted by adjusting the wet film thickness at the time of application according to the solid content concentration of the coating composition. For example, when a coating composition having a solid content concentration of 5 to 8% by mass is used, the dry film thickness (after curing) is 170 nm to 250 nm by adjusting the wet film thickness at the time of application in the range of 6 to 17 μm. A cured resin layer is obtained. Similarly, a cured resin layer having a dry film thickness (after curing) of more than 250 nm to 500 nm or less is obtained by adjusting the wet film thickness in the range of 10 to 35 μm. Similarly, a cured resin layer having a dry film thickness (after curing) of more than 500 nm and less than 1,000 nm is obtained by adjusting the wet film thickness in the range of 22 to 71 μm.
[硬化樹脂層の形成]
硬化樹脂層は、前述した塗料組成物を基材フィルム上に直接またはアンダーコート層を介して塗布し、乾燥し、活性エネルギー線を照射し硬化して形成することができる。
塗料組成物の塗布方法としては、公知のウェットコーティング法を用いることができる。例えば、リバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法が挙げられる。
[Formation of cured resin layer]
The cured resin layer can be formed by applying the above-described coating composition directly on the base film or via an undercoat layer, drying, irradiating with active energy rays and curing.
As a coating method of the coating composition, a known wet coating method can be used. Examples of the coating method include a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, a spin coating method, and an extrusion coating method.
活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、α線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。 Examples of active energy rays include ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. Among these active energy rays, ultraviolet rays and electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferably used.
紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いられる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が500ppm以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。 Although it does not specifically limit as a light source for irradiating an ultraviolet-ray, For example, an ultraviolet fluorescent lamp, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp etc. can be used. . An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp are preferably used. In addition, when irradiating with ultraviolet rays, it is preferable to perform irradiation in an atmosphere having a low oxygen concentration, for example, an atmosphere having an oxygen concentration of 500 ppm or less because it can be cured efficiently.
紫外線の照射光量は、50mJ/cm2以上が好ましく、100mJ/cm2以上がより好ましく、特に150mJ/cm2以上が好ましい。上限は2000mJ/cm2以下が好ましく、1000mJ/cm2以下がより好ましい。 Irradiation light amount of the ultraviolet rays is preferably from 50 mJ / cm 2 or more, 100 mJ / cm 2 or more, and particularly 150 mJ / cm 2 or more. The upper limit is preferably 2000 mJ / cm 2 or less, and more preferably 1000 mJ / cm 2 or less.
[アンダーコート層]
硬化樹脂層は、基材フィルム上に直接またはアンダーコート層を介して積層される。アンダーコート層は、単一層であってもよいし、複数層が積層されたものでもあってもよい。
[Undercoat layer]
The cured resin layer is laminated on the base film directly or via an undercoat layer. The undercoat layer may be a single layer or a laminate of a plurality of layers.
アンダーコート層は、基材フィルムと硬化樹脂層との密着性を向上させる機能、基材フィルムを保護する機能、硬化樹脂層の塗布性を向上させる機能などを有する。 The undercoat layer has a function of improving the adhesion between the base film and the cured resin layer, a function of protecting the base film, a function of improving the applicability of the cured resin layer, and the like.
アンダーコート層は、樹脂を主成分として含有する層であることが好ましい。ここで、樹脂を主成分として含有するとは、樹脂をアンダーコート層の固形分総量100質量%に対して50質量%以上含有することを意味し、好ましくは60質量%以上が含有することであり、より好ましくは70質量%以上含有することであり、特に好ましくは80質量%以上含有することである。 The undercoat layer is preferably a layer containing a resin as a main component. Here, containing the resin as a main component means that the resin is contained in an amount of 50% by mass or more, preferably 60% by mass or more, based on the total solid content of the undercoat layer of 100% by mass. More preferably, the content is 70% by mass or more, and particularly preferably 80% by mass or more.
アンダーコート層は、樹脂成分を主成分として含有する塗料組成物を硬化せしめた層であることが好ましい。例えば、熱硬化性樹脂層あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂層であることが好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂層であることが好ましい。 The undercoat layer is preferably a layer obtained by curing a coating composition containing a resin component as a main component. For example, a thermosetting resin layer or an active energy ray curable resin layer is preferable, and an active energy ray curable resin layer is particularly preferable.
熱硬化性樹脂層は、少なくとも樹脂成分と架橋剤を含有する塗料組成物を硬化せしめた層である。ここで、樹脂成分としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独あるいは複数種併用することができる。架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メチロール化あるいはアルキロール化した尿素系架橋剤、アクリルアミド系架橋剤、ポリアミド系樹脂、アミドエポキシ化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などが挙げられる。 The thermosetting resin layer is a layer obtained by curing a coating composition containing at least a resin component and a crosslinking agent. Here, examples of the resin component include polyester resin, acrylic resin, urethane resin, polycarbonate resin, epoxy resin, alkyd resin, urea resin, and the like. These resins can be used alone or in combination. Examples of the crosslinking agent include melamine crosslinking agent, oxazoline crosslinking agent, carbodiimide crosslinking agent, isocyanate crosslinking agent, aziridine crosslinking agent, epoxy crosslinking agent, methylolated or alkylolized urea crosslinking agent, acrylamide crosslinking. Agents, polyamide resins, amide epoxy compounds, various silane coupling agents, various titanate coupling agents, and the like.
アンダーコート層は、積層フィルムを面積比130%まで延伸してもクラックが発生しないか、発生しても極めて軽微であることが求められる。この観点から、樹脂成分としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂が好ましく、特に、アクリル樹脂およびウレタン樹脂が好ましい。 The undercoat layer is required to generate no cracks even when the laminated film is stretched to an area ratio of 130%, or to be extremely slight even if it occurs. From this viewpoint, the resin component is preferably a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polycarbonate resin, or an epoxy resin, and particularly preferably an acrylic resin or a urethane resin.
活性エネルギー線硬化性樹脂層は、樹脂成分として活性エネルギー線によって重合する化合物(モノマーあるいはオリゴマー)を含有する塗料組成物を硬化せしめた層である。活性エネルギー線によって重合する化合物としては、分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物が挙げられる。 The active energy ray-curable resin layer is a layer obtained by curing a coating composition containing a compound (monomer or oligomer) that is polymerized by active energy rays as a resin component. Examples of the compound that is polymerized by active energy rays include compounds having at least one ethylenically unsaturated group in the molecule.
上記したようにアンダーコート層は、積層フィルムを面積比130%延伸してもクラックが発生しないか、発生しても極めて軽微であることが求められる。この観点から、活性エネルギー線硬化性樹脂層を得るための塗料組成物に含有させる樹脂成分としては、前述の硬化樹脂層の塗料組成物に含有させる樹脂成分と同様の化合物を用いることが好ましい。 As described above, the undercoat layer is required to generate no cracks even if the laminated film is stretched by 130% in area ratio, or to be extremely slight even if it occurs. From this viewpoint, it is preferable to use the same compound as the resin component contained in the coating composition for the cured resin layer as the resin component contained in the coating composition for obtaining the active energy ray-curable resin layer.
活性エネルギー線硬化性樹脂層を得るための塗料組成物は、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は、前述の硬化樹脂層の塗料組成物に含有させるのと同様の化合物を用いることができる。 The coating composition for obtaining the active energy ray-curable resin layer preferably further contains a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, the same compounds as those contained in the coating composition for the cured resin layer described above can be used.
活性エネルギー線硬化性樹脂層は、前述の硬化樹脂層と同様の方法を用いて形成することができる。 The active energy ray-curable resin layer can be formed using the same method as the above-described cured resin layer.
アンダーコート層の厚みは、クラックの発生を抑制するという観点から10μm以下が好ましく、7μm以下がより好ましく、5μm以下が特に好ましい。一方、基材フィルムを保護するという観点および基材フィルムと硬化樹脂層との密着性を向上させるという観点から、0.1μm以上が好ましく、0.3μm以上がより好ましく、0.5μm以上が特に好ましい。 The thickness of the undercoat layer is preferably 10 μm or less, more preferably 7 μm or less, and particularly preferably 5 μm or less from the viewpoint of suppressing the occurrence of cracks. On the other hand, from the viewpoint of protecting the base film and improving the adhesion between the base film and the cured resin layer, 0.1 μm or more is preferable, 0.3 μm or more is more preferable, and 0.5 μm or more is particularly preferable. preferable.
[基材フィルム]
基材フィルムとしては、プラスチックフィルムが好ましく用いられる。基材フィルムを構成する材料としては、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど)、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられ、これらの材料の単一フィルムもしくは2種以上の複合フィルムとして用いることができる。
[Base film]
As the substrate film, a plastic film is preferably used. The materials constituting the base film include polyester (for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polymethyl methacrylate, acrylic resin, polycarbonate, polystyrene, triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, poly chloride Examples include vinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion-crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane, etc., as a single film or a composite film of two or more of these materials Can be used.
上記基材フィルムの中でも、透明性や延伸性の観点から、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタンの単一フィルムもしくは2種以上の複合フィルムが好ましく用いられる。複合フィルムとしては、ポリカーボネートフィルムとポリメチルメタクリレートフィルムとの複合フィルムが好ましく用いられる。 Among the above base films, a single film of polyester, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyurethane or a composite film of two or more kinds is preferably used from the viewpoints of transparency and stretchability. As the composite film, a composite film of a polycarbonate film and a polymethyl methacrylate film is preferably used.
基材フィルムの厚みは、30〜500μmの範囲が好ましく、50〜400μmの範囲がより好ましく、75〜350μmの範囲が特に好ましい。 The thickness of the base film is preferably in the range of 30 to 500 μm, more preferably in the range of 50 to 400 μm, and particularly preferably in the range of 75 to 350 μm.
基材フィルムのヘイズ値は、積層フィルムの透明性を高めるという観点から、1.50%以下が好ましく、1.00%以下がより好ましく、さらに0.70%以下が好ましく、0.50%以下が特に好ましい。ヘイズ値の下限は0.00%である。 From the viewpoint of enhancing the transparency of the laminated film, the haze value of the base film is preferably 1.50% or less, more preferably 1.00% or less, further preferably 0.70% or less, and 0.50% or less. Is particularly preferred. The lower limit of the haze value is 0.00%.
基材フィルムのヘイズ値を1.5%以下にするには、基材フィルムは粒子を含有しないことが好ましい。 In order to set the haze value of the base film to 1.5% or less, the base film preferably does not contain particles.
[積層フィルム]
積層フィルムは、面積比130%まで延伸された後のヘイズ値(Hz1)と延伸前のヘイズ値(Hz0)との差の絶対値が0.30%以下である。好ましくは、Hz1とHz0との差の絶対値は0.20%以下であり、さらに好ましくは0.10%以下である。
[Laminated film]
In the laminated film, the absolute value of the difference between the haze value (Hz1) after being stretched to an area ratio of 130% and the haze value (Hz0) before being stretched is 0.30% or less. Preferably, the absolute value of the difference between Hz1 and Hz0 is 0.20% or less, more preferably 0.10% or less.
積層フィルムは、さらに延伸倍率が大きい用途にも適用できることが好ましい。つまり、積層フィルムは、面積比150%延伸した場合でも、ヘイズ値の上昇が抑制されていることが好ましい。ここで、面積比150%まで延伸するとは、正方形に切り出した積層フィルムを縦横同一比率(1.23倍)で二軸延伸することを意味する。 It is preferable that the laminated film can be applied to an application having a higher stretch ratio. That is, it is preferable that the increase in haze value of the laminated film is suppressed even when the area ratio is stretched by 150%. Here, stretching to an area ratio of 150% means that a laminated film cut into a square is biaxially stretched at the same longitudinal and lateral ratio (1.23 times).
具体的には、面積比150%まで延伸された後のヘイズ値(Hz2)と延伸前のヘイズ値(Hz0)との差の絶対値が0.30%以下であることが好ましく、0.20%以下であることがより好ましく、0.10%以下であることが特に好ましい。 Specifically, the absolute value of the difference between the haze value (Hz2) after stretching to an area ratio of 150% and the haze value (Hz0) before stretching is preferably 0.30% or less, and 0.20 % Or less is more preferable, and 0.10% or less is particularly preferable.
積層フィルムの延伸前のヘイズ値は、高い透明性を付与するという観点から、1.50%以下が好ましく、1.00%以下がより好ましく、0.50%以下が特に好ましい。 The haze value before stretching of the laminated film is preferably 1.50% or less, more preferably 1.00% or less, and particularly preferably 0.50% or less from the viewpoint of imparting high transparency.
本発明の積層フィルムは、成型用反射防止フィルムとして好適である。この観点から、積層フィルムは、延伸前の視感反射率(R0)が1.70%未満であることが好ましく、1.00%未満であることがより好ましく、さらに0.70%未満であることが好ましく、特に0.50%未満であることが好ましい。下限は、特に限定されないが、現実的には0.10%程度である。 The laminated film of the present invention is suitable as an antireflection film for molding. From this viewpoint, the laminated film preferably has a luminous reflectance (R0) before stretching of less than 1.70%, more preferably less than 1.00%, and further less than 0.70%. It is preferable that it is especially less than 0.50%. The lower limit is not particularly limited, but is practically about 0.10%.
積層フィルムは、面積比130%まで延伸したときの視感反射率(R1)と延伸前の視感反射率(R0)との差の絶対値が、0.60%以下が好ましく、0.50%以下がより好ましく、0.40%以下が特に好ましい。さらに、面積比150%まで延伸したときの視感反射率(R2)と延伸前の視感反射率(R0)との差の絶対値が、0.80%以下が好ましく、0.70%以下がより好ましく、0.60%以下が特に好ましい。 In the laminated film, the absolute value of the difference between the luminous reflectance (R1) when stretched to an area ratio of 130% and the luminous reflectance (R0) before stretching is preferably 0.60% or less, 0.50 % Or less is more preferable, and 0.40% or less is particularly preferable. Furthermore, the absolute value of the difference between the luminous reflectance (R2) when stretched to an area ratio of 150% and the luminous reflectance (R0) before stretching is preferably 0.80% or less, and 0.70% or less. Is more preferable, and 0.60% or less is particularly preferable.
積層フィルムは、良好な反射防止性を得るという観点から、硬化樹脂層の表面には他の層は積層されないことが好ましい。他の層を設ける場合は、上記観点から、他の層の厚みは20nm以下とすることが好ましい。他の層としては、防汚層(指紋付着などの汚染抑制や拭取り容易性が付与された機能層)や帯電防止層などが挙げられる。 From the viewpoint of obtaining good antireflection properties, the laminated film preferably has no other layer laminated on the surface of the cured resin layer. When other layers are provided, the thickness of the other layers is preferably 20 nm or less from the above viewpoint. Examples of the other layer include an antifouling layer (a functional layer to which contamination such as fingerprint adhesion is suppressed and easy to wipe) and an antistatic layer.
また、積層フィルムは、基材フィルムの硬化樹脂層が積層された面とは反対面に、帯電防止層、耐摩耗性層、色補正層、印刷層、透明導電層、ガスバリア層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層などの機能性層が積層されていてもよい。 In addition, the laminated film has an antistatic layer, an abrasion-resistant layer, a color correction layer, a printed layer, a transparent conductive layer, a gas barrier layer, a hologram layer, on the surface opposite to the surface on which the cured resin layer of the base film is laminated. Functional layers such as a release layer, an adhesive layer, and an adhesive layer may be laminated.
また、積層フィルムは、加飾成型、インモールド成型、あるいはインサート成型に好適であり、携帯電話やノートパソコン等の電式機器筐体の外装用フィルムとして、携帯電話のアイコンシートとして、あるいは車載用表示パネルの加飾フィルムとして好適である。 In addition, the laminated film is suitable for decorative molding, in-mold molding, or insert molding, and as an exterior film for an electric equipment housing such as a mobile phone or a notebook computer, as an icon sheet for a mobile phone, or for in-vehicle use. It is suitable as a decorative film for display panels.
上記の成型加工において、積層フィルムは、成型用金型にフィットするように、予めプレフォーム(加熱延伸)されることがある。プレフォームの加熱温度は、100〜170℃の範囲が一般的である。 In the above molding process, the laminated film may be preformed (heated and stretched) in advance so as to fit the molding die. The heating temperature of the preform is generally in the range of 100 to 170 ° C.
以下、本発明を実施例に基づき、具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。尚、実施例で用いた各物性値の評価法を以下に記載する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples. However, the present invention is not limited to the following examples. In addition, the evaluation method of each physical-property value used in the Example is described below.
[評価方法]
まず、各実施例および比較例における評価方法を説明する。評価n数は、特に断りのない限り、n=5とし算術平均値を求めた。
[Evaluation method]
First, an evaluation method in each example and comparative example will be described. The number of evaluation n was n = 5 unless otherwise specified, and the arithmetic average value was obtained.
(1)積層フィルムの延伸試験
積層フィルムから66mm四方のサンプルを切り出した。自動二軸延伸装置((株)井元製作所製のIMC−167D)を用いて、サンプルを、温度150℃、延伸速度200mm/分で面積比130%まで縦横同じ倍率(各々1.14倍)で延伸させた。延伸後のヘイズ値(Hz1)と延伸前のヘイズ値(Hz0)を測定し、延伸前後のヘイズ値差の絶対値(|Hz1−Hz0|)を求めた。
(1) Stretching test of laminated film A 66 mm square sample was cut out from the laminated film. Using an automatic biaxial stretching apparatus (IMC-167D manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd.), the sample was stretched at a temperature of 150 ° C. and a stretching speed of 200 mm / min. Stretched. The haze value after stretching (Hz1) and the haze value before stretching (Hz0) were measured, and the absolute value (| Hz1-Hz0 |) of the haze value difference before and after stretching was determined.
上記と同様にして、面積比150%まで縦横同じ倍率(各々1.23倍)で延伸させた。延伸後のヘイズ値(Hz2)と延伸前のヘイズ値(Hz0)を測定し、延伸前後のヘイズ値差の絶対値(|Hz2−Hz0|)を求めた。 In the same manner as described above, the film was stretched at the same vertical and horizontal magnification (each 1.23 times) to an area ratio of 150%. The haze value after stretching (Hz2) and the haze value before stretching (Hz0) were measured, and the absolute value (| Hz2-Hz0 |) of the haze value difference before and after stretching was determined.
<ヘイズ値の測定>
JIS K7136(2000)に基づき、日本電色工業(株)製の濁度計「NDH−4000」を用いて測定した。測定に際し、積層フィルムの硬化樹脂層の表面に光が入射するように配置する。
<Measurement of haze value>
Based on JIS K7136 (2000), it measured using the turbidimeter "NDH-4000" by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. In the measurement, it arrange | positions so that light may inject into the surface of the cured resin layer of a laminated | multilayer film.
(2)視感反射率の測定
上記(1)の延伸試験で得られた面積比130%まで延伸したサンプル、面積比150%まで延伸したサンプル、および延伸前のサンプルについて、それぞれ視感反射率を測定した。視感反射率の測定には、サンプル(積層フィルム)の硬化樹脂層とは反対側の面に黒粘着テープを貼り付けて作製した測定用サンプルを用いた。
(2) Measurement of luminous reflectance With respect to the sample stretched to an area ratio of 130%, the sample stretched to an area ratio of 150%, and the sample before stretching obtained in the stretching test of (1) above, the luminous reflectance was respectively obtained. Was measured. For the measurement of luminous reflectance, a measurement sample prepared by attaching a black adhesive tape to the surface of the sample (laminated film) opposite to the cured resin layer was used.
<測定>
分光光度計(島津製作所製、UV3150PC)を用いて、測定面(硬化樹脂層面)から5度の入射角で波長380〜780nmの範囲で反射率(片面反射)を算出し、視感反射率(JIS Z8701−1999において規定されている反射の刺激値Y)を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、JIS Z8701−1999に従って反射率(片面光線反射)を算出する。算出式は以下の通りである。
<Measurement>
Using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV3150PC), the reflectance (single-sided reflection) is calculated in the wavelength range of 380 to 780 nm at an incident angle of 5 degrees from the measurement surface (cured resin layer surface), and the luminous reflectance ( The reflection stimulation value Y) defined in JIS Z8701-1999 was determined. The spectral solid angle is measured with a spectrophotometer, and the reflectance (single-sided light reflection) is calculated according to JIS Z8701-1999. The calculation formula is as follows.
T=K・∫S(λ)・y(λ)・R(λ)・dλ(ただし、積分区間は380〜780nm) T = K · ∫S (λ) · y (λ) · R (λ) · dλ (however, the integration interval is 380 to 780 nm)
T:片面光線反射率
S(λ):色の表示に用いる標準の光の分布
y(λ):XYZ表示系における等色関数
R(λ):分光立体角反射率。
T:片面光線反射率
T: single-sided light reflectance S (λ): standard light distribution used for color display y (λ): color matching function R (λ) in XYZ display system: spectral solid angle reflectance.
T: single-sided light reflectance
(3)硬化樹脂層およびアンダーコート層の厚みの測定
積層フィルムの断面について、ミクロトームを用いて透過型電子顕微鏡(TEM)撮影用の超薄切片を作製し、透過型電子顕微鏡(日立製作所(株)製「H−7100FA」)にて、倍率1万〜10万倍で撮影した。この撮影画像から硬化樹脂層およびアンダーコート層の厚みを計測した。計測は、等間隔で30点実施し平均した。
(3) Measurement of thickness of cured resin layer and undercoat layer With respect to the cross section of the laminated film, an ultrathin section for transmission electron microscope (TEM) imaging was prepared using a microtome, and a transmission electron microscope (Hitachi, Ltd.) ) “H-7100FA”)) and a magnification of 10,000 to 100,000 times. The thickness of the cured resin layer and the undercoat layer was measured from this photographed image. Measurement was carried out at 30 points at equal intervals and averaged.
(4)領域Aと領域Bとの境界線1d、および領域Aと領域Bとの特定
上記(3)で撮影した硬化樹脂層の断面撮影画像について、硬化樹脂層の基材フィルムの反対側表面を表す線(図面の符号1c)上に等間隔で30点位置決めし、各点から硬化樹脂層の厚み方向に100nmの位置を特定し、これらの30点の特定点を直線で結んだ線を領域Aと領域Bとの境界線(図面の符号1d)とする。硬化樹脂層の基材フィルムの反対側表面から上記で形成した境界線までの領域が領域A、領域Aを除く全領域を領域Bとする。
(4) Identification of
(5)領域Aに含まれるシリカ粒子の含有比率
上記(4)で特定した領域Aおよび領域Bに存在するシリカ粒子数をそれぞれ計測する。ここで、領域Aと領域Bとの境界線上に存在するシリカ粒子は領域Aに含まれるとしてカウントする。領域Aと領域Bに含まれる合計のシリカ粒子数を硬化樹脂層に含まれる全シリカ粒子数とし、全シリカ粒子数に対する領域Aに含まれるシリカ粒子数の比率を以下の基準で評価した。
(5) Content ratio of silica particles contained in region A The number of silica particles present in region A and region B specified in (4) above is measured. Here, the silica particles existing on the boundary line between the region A and the region B are counted as being included in the region A. The total number of silica particles contained in region A and region B was taken as the total number of silica particles contained in the cured resin layer, and the ratio of the number of silica particles contained in region A to the total number of silica particles was evaluated according to the following criteria.
S;領域Aに含まれるシリカ粒子数が全シリカ粒子数の90%以上
A;領域Aに含まれるシリカ粒子数が全シリカ粒子数の80%以上90%未満
B;領域Aに含まれるシリカ粒子数が全シリカ粒子数の70%以上80%未満
C;領域Aに含まれるシリカ粒子数が全シリカ粒子数の70%未満
S; the number of silica particles contained in region A is 90% or more of the total number of silica particles A; the number of silica particles contained in region A is 80% or more and less than 90% of the total number of silica particles B; the silica particles contained in region A The number is 70% or more and less than 80% of the total number of silica particles C; the number of silica particles contained in the region A is less than 70% of the total number of silica particles
(6)硬化樹脂層の領域Aにおけるシリカ粒子の局在状態の評価
上記(4)で特定した領域Aおよび領域Bに存在するシリカ粒子数をそれぞれ計測する。ここで、領域Aと領域Bとの境界線上に存在するシリカ粒子は領域Aに含まれるとしてカウントする。
(6) Evaluation of localized state of silica particles in region A of the cured resin layer The number of silica particles present in region A and region B specified in (4) above is measured. Here, the silica particles existing on the boundary line between the region A and the region B are counted as being included in the region A.
<領域Aおよび領域Bにおけるシリカ粒子数密度の対比>
領域Aの厚みは100nmで一定であるので領域Aに存在するシリカ粒子数を領域Aにおけるシリカ粒子数密度(Asi)とし、領域Bにおけるシリカ粒子数密度(Bsi)は以下の式1で求める。
<Contrast of number density of silica particles in region A and region B>
Since the thickness of the region A is constant at 100 nm, the number of silica particles present in the region A is defined as the silica particle number density (Asi) in the region A, and the silica particle number density (Bsi) in the region B is obtained by the following
Bsi=bs/(bt/100) ・・・式1
Bsi = bs / (bt / 100)
式中、bsは領域Bに存在するシリカ粒子数、btは領域Bの厚み(nm)を表す。領域Bの厚み(bt)は、上記(3)で求めた硬化樹脂層の厚みから100nm(領域Aの厚み)を差し引いたものである。 In the formula, bs represents the number of silica particles present in the region B, and bt represents the thickness (nm) of the region B. The thickness (bt) of the region B is obtained by subtracting 100 nm (the thickness of the region A) from the thickness of the cured resin layer obtained in (3) above.
領域Aにおけるシリカ粒子の局在状態の評価は、以下の基準で行った。「S」〜「B」は、領域Aにシリカ粒子が相対的に高密度に局在していることを意味し、「C」は領域Aにシリカ粒子が相対的に高密度に局在していないことを意味する。「S」が最も良好である。 Evaluation of the localized state of the silica particles in the region A was performed according to the following criteria. “S” to “B” mean that silica particles are localized at a relatively high density in region A, and “C” means that silica particles are located at a relatively high density in region A. Means not. “S” is the best.
S;Bsi×8.0≦Asi
A;Bsi×5.0≦Asi<Bsi×8.0
B;Bsi×2.0≦Asi<Bsi×5.0
C;Bsi×2.0<Asi
S; Bsi × 8.0 ≦ Asi
A; Bsi × 5.0 ≦ Asi <Bsi × 8.0
B; Bsi × 2.0 ≦ Asi <Bsi × 5.0
C; Bsi × 2.0 <Asi
(7)硬化樹脂層の領域Bにおける金属酸化物粒子の局在状態の評価
上記(4)で特定した領域Aおよび領域Bに存在する金属酸化物粒子をそれぞれ計測する。ここで、領域Aと領域Bとの境界線上に存在する金属酸化物粒子は領域Aに含まれるとしてカウントする。
(7) Evaluation of localized state of metal oxide particles in region B of cured resin layer The metal oxide particles present in region A and region B specified in (4) above are measured. Here, the metal oxide particles present on the boundary line between the region A and the region B are counted as being included in the region A.
<領域Aおよび領域Bにおける金属酸化物粒子数密度の対比>
領域Aの厚みは100nmで一定であるので領域Aに存在する金属酸化物粒子数を領域Aにおける金属酸化物粒子数密度(Am)とし、領域Bにおける金属酸化物粒子数密度(Bm)は以下の式2で求める。
<Contrast of number density of metal oxide particles in region A and region B>
Since the thickness of the region A is constant at 100 nm, the number of metal oxide particles present in the region A is defined as the metal oxide particle number density (Am) in the region A, and the metal oxide particle number density (Bm) in the region B is as follows: It calculates | requires by
Bm=bm/(bt/100) ・・・式2
Bm = bm / (bt / 100)
式中、bmは領域Bに存在する金属酸化物粒子数、btは式1と同義である。
In the formula, bm is the number of metal oxide particles present in the region B, and bt is synonymous with
領域Bにおける金属酸化物粒子の局在状態の評価は、以下の基準で行った。「S」〜「B」は、領域Aに金属酸化物粒子が相対的に高密度に局在していることを意味し、「C」は領域Aに金属酸化物粒子が相対的に高密度に局在していないことを意味する。「S」が最も良好である。 The evaluation of the localized state of the metal oxide particles in the region B was performed according to the following criteria. “S” to “B” mean that the metal oxide particles are localized at a relatively high density in the region A, and “C” is a relatively high density of the metal oxide particles in the region A. Means not localized. “S” is the best.
S;Bm×8.0≦Am
A;Bm×5.0≦Am<Bm×8.0
B;Bm×2.0≦Am<Bm×5.0
C;Bm×2.0<Am
S; Bm × 8.0 ≦ Am
A; Bm × 5.0 ≦ Am <Bm × 8.0
B; Bm × 2.0 ≦ Am <Bm × 5.0
C; Bm × 2.0 <Am
(8)領域Aと領域Bの界面の確認
少なくともシリカ粒子と金属酸化物粒子を含有する塗料組成物を用いて形成された硬化樹脂層について、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて断面を観察することにより、シリカ粒子が相対的に高密度に局在した領域Aと、金属酸化物粒子が相対的に高密度に局在した領域Bとの界面が明確に確認できるかどうかを評価した。
(8) Confirmation of interface between region A and region B For a cured resin layer formed using a coating composition containing at least silica particles and metal oxide particles, observe a cross section using a transmission electron microscope (TEM). Thus, it was evaluated whether or not the interface between the region A in which the silica particles were localized at a relatively high density and the region B in which the metal oxide particles were localized at a relatively high density could be clearly confirmed.
界面の確認は以下の方法に従って行った。前述の(3)と同様にして硬化樹脂層の断面を撮影した画像(5万〜20万倍)を、スキャナーを用いてプレゼンテーションソフトウェア(Microsoft Power Point2003)に貼付した。次いで貼付した写真のイメージコントロール処理(コントラストを90%とする)を行い、コントラストを強調した。この際に、シリカ粒子が相対的に高密度に局在した領域Aと、金属酸化物粒子が相対的に高密度に局在した領域Bとの界面に明確な境界を引くことができる場合を、明確な界面があるとみなした(明確な境界を引くことができる場合を界面有りとして「○」で示し、明確な境界を引くことができない場合を界面無しとして「×」で示した。)。 The interface was confirmed according to the following method. The image (50,000 to 200,000 times) which image | photographed the cross section of the cured resin layer similarly to above-mentioned (3) was affixed on presentation software (Microsoft Power Point2003) using the scanner. Next, image control processing (contrast was set to 90%) of the attached photograph was performed to enhance the contrast. In this case, a case where a clear boundary can be drawn at the interface between the region A where the silica particles are localized at a relatively high density and the region B where the metal oxide particles are located at a relatively high density. , It was considered that there is a clear interface ("○" indicates that a clear boundary can be drawn, and "x" indicates that a clear boundary cannot be drawn). .
(9)基材フィルムのヘイズ値の測定
JIS K7136(2000)に基づき、日本電色工業(株)製の濁度計「NDH−4000」を用いて測定した。
(9) Measurement of haze value of substrate film Based on JIS K7136 (2000), it was measured using a turbidimeter “NDH-4000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
[実施例および比較例に使用した分散物および塗料組成物]
<シリカ粒子分散物b1の調製>
シリカ粒子として、中空シリカ粒子のイソプロピルアルコール分散物(日揮触媒化成株式会社製中空シリカ:固形分濃度20質量%、数平均粒子径60nm)15質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを1.37質量部と10質量%蟻酸水溶液0.17質量部、水0.306質量部とを混合し、70℃にて1時間撹拌した。次いで、フッ素化合物としてパーフルオロオクチルメチルアクリレートを1.38質量部および2,2−アゾビスイソブチロニトリルを0.057質量部加えた後、60分間90℃にて加熱撹拌した。次いで、イソプロピルアルコールを加えて希釈し、固形分3.5質量%の分散物(フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子分散物)を調製した。
[Dispersions and coating compositions used in Examples and Comparative Examples]
<Preparation of silica particle dispersion b1>
As silica particles, isopropyl alcohol dispersion of hollow silica particles (hollow silica manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd .: solid content concentration 20 mass%, number average particle diameter 60 nm) is added to 1.37 methacryloxypropyltrimethoxysilane. A mass part, 0.17 mass part of 10 mass% formic acid aqueous solution, and 0.306 mass part of water were mixed, and it stirred at 70 degreeC for 1 hour. Next, after adding 1.38 parts by mass of perfluorooctylmethyl acrylate and 0.057 parts by mass of 2,2-azobisisobutyronitrile as a fluorine compound, the mixture was heated and stirred at 90 ° C. for 60 minutes. Subsequently, isopropyl alcohol was added for dilution to prepare a dispersion (solid dispersion of silica particles surface-treated with a fluorine compound) having a solid content of 3.5% by mass.
<シリカ粒子分散物b2>
シリカ粒子として、中空シリカ粒子のイソプロピルアルコール分散物(日揮触媒化成株式会社製中空シリカ:固形分濃度20質量%、数平均粒子径60nm)をそのまま用いた。このシリカ粒子はフッ素化合物で表面処理されていない。
<Silica particle dispersion b2>
As the silica particles, an isopropyl alcohol dispersion of hollow silica particles (JGC Catalysts & Chemicals, Inc. hollow silica: solid content concentration 20 mass%, number average particle diameter 60 nm) was used as it was. The silica particles are not surface-treated with a fluorine compound.
<酸化ジルコニウム分散物c1>
酸化ジルコニウムメタノール分散物(日産化学株式会社製:固形分濃度31質量%、数平均粒子径15nm)167質量部を用い、メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを15質量部滴下、均一に攪拌した。次いで、これに20%酢酸水溶液2.0質量部、イオン交換水5.4質量部を滴下し、滴下終了後35℃で30分、60℃で3時間反応させた。さらに、置換溶媒としてメチルイソブチルケトン200質量部を加え、ロータリーエバポレーターにて、50℃、680mmHgにて脱メタノール処理を行い、最終的にメチルイソブチルケトンで固形分濃度30質量%に調製、精密ろ過をして分散物(前記一般式(2)の化合物で表面処理された酸化ジルコニウム粒子分散物)を得た。
<Zirconium oxide dispersion c1>
Using 167 parts by mass of zirconium oxide methanol dispersion (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd .: solid content concentration 31% by mass, number average particle size 15 nm), 15 parts by mass of methacryloxypropyltrimethoxysilane was added dropwise and stirred uniformly. Next, 2.0 parts by mass of a 20% aqueous acetic acid solution and 5.4 parts by mass of ion-exchanged water were added dropwise thereto, and reacted at 35 ° C. for 30 minutes and at 60 ° C. for 3 hours. Furthermore, 200 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added as a substitution solvent, and methanol removal treatment was performed at 50 ° C. and 680 mmHg with a rotary evaporator. Finally, the solid content concentration was adjusted to 30% by mass with methyl isobutyl ketone, and microfiltration was performed. Thus, a dispersion (zirconium oxide particle dispersion surface-treated with the compound of the general formula (2)) was obtained.
[硬化樹脂層用塗料組成物]
<塗料組成物a1>
樹脂成分として、ビスフェノール骨格を有する2官能エポキシアクリレート(共栄社化学(株)のエポキシエステル3000A;分子量484)を21.0質量部、トリデカフルオロオクチルアクリレート(大阪有機化学工業(株)製「ビスコート」(登録商標)型番13F)を5.0質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
[Coating composition for cured resin layer]
<Coating composition a1>
As a resin component, 21.0 parts by mass of a bifunctional epoxy acrylate having a bisphenol skeleton (epoxy ester 3000A of Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; molecular weight 484), tridecafluorooctyl acrylate (“Biscoat” manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) (Registered Trademark) Model No. 13F) is 5.0 parts by mass, the silica particle dispersion b1 is 27.8 parts by mass in terms of solid content, and a photopolymerization initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.). 1.4 parts by mass is dissolved, dispersed and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether), and a solid content concentration is 6.4% by mass A composition was prepared.
<塗料組成物a2>
樹脂成分として、2官能のウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)製「アートレジン」(登録商標)UN−353(重量平均分子量5,000)を21.0質量部、トリデカフルオロオクチルアクリレート(大阪有機化学工業(株)製「ビスコート」(登録商標)型番13F)を5.0質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a2>
As a resin component, 21.0 parts by mass of a bifunctional urethane acrylate oligomer ("Art Resin" (registered trademark) UN-353 (weight average molecular weight 5,000) manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), tridecafluorooctyl acrylate (Osaka) 5.0 parts by mass of “Biscoat” (registered trademark) Model No. 13F) manufactured by Organic Chemical Industry Co., Ltd., 27.8 parts by mass of the silica particle dispersion b1 in terms of solid content, a photopolymerization initiator ((Ciba 1.4 parts by mass of Irgacure 907 manufactured by Specialty Chemicals Co., Ltd. is dissolved, dispersed and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to obtain a solid. A coating composition having a partial concentration of 6.4% by mass was prepared.
<塗料組成物a3>
樹脂成分として、20官能のウレタンアクリレートオリゴマー(大成ファインケミカル(株)の商品名「アクリット8BR−930MB」、重量平均分子量16,000)を21.0質量部、トリデカフルオロオクチルアクリレート(大阪有機化学工業(株)製「ビスコート」(登録商標)型番13F)を5.0質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、稀釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a3>
As a resin component, 21.0 parts by mass of a 20-functional urethane acrylate oligomer (trade name “Acryt 8BR-930MB” of Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 16,000), tridecafluorooctyl acrylate (Osaka Organic Chemical Industry) "Biscoat" (Registered Trademark) Model No. 13F) manufactured by Co., Ltd., 5.0 parts by mass, 27.8 parts by mass of the silica particle dispersion b1 in terms of solid content, a photopolymerization initiator ((Ciba Specialty Chemicals) (Irgacure 907) 1.4 parts by mass was dissolved, dispersed and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether), and the solid content concentration was A coating composition of 6.4% by mass was prepared.
<塗料組成物a4>
樹脂成分として、3〜4官能のペンタエリスリトール(トリ/テトラ)アクリレート(新中村化学工業(株)商品名「NKエステルA−TMM−3L」、分子量298〜382)を21.0質量部、トリデカフルオロオクチルアクリレート(大阪有機化学工業(株)製「ビスコート」(登録商標)型番13F)を5.0質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、稀釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a4>
As a resin component, 21.0 parts by mass of 3-4 functional pentaerythritol (tri / tetra) acrylate (trade name “NK Ester A-TMM-3L”, molecular weight 298-382) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 5.0 parts by mass of decafluorooctyl acrylate (Osaka Organic Chemical Co., Ltd. “Biscoat” (registered trademark) model number 13F), 27.8 parts by mass of the above silica particle dispersion b1 in terms of solid content,
<塗料組成物a5>
樹脂成分として、6官能のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(ダイセルサイテック(株)製「DPHA」商品名、分子量524)を21.0質量部、トリデカフルオロオクチルアクリレート(大阪有機化学工業(株)製「ビスコート」(登録商標)型番13F)を5.0質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、稀釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a5>
As a resin component, 21.0 parts by mass of hexafunctional dipentaerythritol hexaacrylate ("DPHA" trade name, molecular weight 524, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), tridecafluorooctyl acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) "Biscoat" (registered trademark) model number 13F) is 5.0 parts by mass, the silica particle dispersion b1 is 27.8 parts by mass in terms of solid content, a photopolymerization initiator (Irgacure manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 907) 1.4 parts by mass is dissolved, dispersed, and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to obtain a solid content concentration of 6.4% by mass. A coating composition was prepared.
<塗料組成物a6>
樹脂成分として、10官能のウレタンアクリレートオリゴマー(ダイセル・オルネクス(株)製の商品名「KRM8452」、重量平均分子量1,200)を21.0質量部、トリデカフルオロオクチルアクリレート(大阪有機化学工業(株)製「ビスコート」(登録商標)型番13F)を5.0質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、稀釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a6>
As a resin component, 21.0 parts by mass of a 10-functional urethane acrylate oligomer (trade name “KRM8452” manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd., weight average molecular weight 1,200), tridecafluorooctyl acrylate (Osaka Organic Chemical Industry ( "Biscoat" (Registered Trademark) Model No. 13F), 5.0 parts by mass, 27.8 parts by mass of the silica particle dispersion b1 in terms of solid content, a photopolymerization initiator ((Ciba Specialty Chemicals ( Irgacure 907) 1.4 parts by mass is dissolved, dispersed, and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to obtain a solid content concentration of 6 A 4% by weight coating composition was prepared.
<塗料組成物a7>
樹脂成分として、ビスフェノール骨格を有する2官能エポキシアクリレート(共栄社化学(株)のエポキシエステル3000A;分子量484)を17.3質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、上記の金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム粒子)分散物c1を固形分換算で18.1質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a7>
As a resin component, 17.3 parts by mass of a bifunctional epoxy acrylate having a bisphenol skeleton (epoxy ester 3000A of Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; molecular weight 484) and 27.8 parts by mass of the above silica particle dispersion b1 in terms of solid content , 18.1 parts by mass of the above-mentioned metal oxide particle (zirconium oxide particle) dispersion c1 in terms of solid content and 1.4 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Then, it was dissolved, dispersed and diluted in an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to prepare a coating composition having a solid content concentration of 6.4% by mass.
<塗料組成物a8>
樹脂成分として、2官能のウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)製「アートレジン」(登録商標)UN−353、重量平均分子量5,000)を17.3質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、上記の金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム粒子)分散物c1を固形分換算で18.1質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a8>
As a resin component, 17.3 parts by mass of a bifunctional urethane acrylate oligomer (“Art Resin” (registered trademark) UN-353, weight average molecular weight 5,000, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), the above silica particle dispersion b1 27.8 parts by mass in terms of solid content, 18.1 parts by mass of the above metal oxide particle (zirconium oxide particle) dispersion c1 in terms of solid content, photopolymerization initiator ((Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Irgacure 907) 1.4 parts by mass was dissolved, dispersed, and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to obtain a solid content concentration of 6.4. A mass% coating composition was prepared.
<塗料組成物a9>
樹脂成分として、20官能のウレタンアクリレートオリゴマー(大成ファインケミカル(株)の商品名「アクリット8BR−930MB」、重量平均分子量16,000)を17.3質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、上記の金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム粒子)分散物c1を固形分換算で18.1質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a9>
As a resin component, 17.3 parts by mass of a 20-functional urethane acrylate oligomer (trade name “Acryt 8BR-930MB” of Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 16,000), and the silica particle dispersion b1 as a solid content 27.8 parts by weight in terms of conversion, 18.1 parts by weight in terms of solid content of the above-mentioned metal oxide particle (zirconium oxide particle) dispersion c1, and a photopolymerization initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ) 1.4 parts by mass is dissolved, dispersed and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to obtain a solid content concentration of 6.4% by mass. A coating composition was prepared.
<塗料組成物a10>
樹脂成分として、3〜4官能のペンタエリスリトール(トリ/テトラ)アクリレート(新中村化学工業(株)商品名「NKエステルA−TMM−3L」、分子量298〜382)を17.3質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、上記の金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム粒子)分散物c1を固形分換算で18.1質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a10>
As a resin component, 17.3 parts by mass of 3-4 functional pentaerythritol (tri / tetra) acrylate (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name “NK Ester A-TMM-3L”, molecular weight 298-382), 27.8 parts by weight of the silica particle dispersion b1 in terms of solid content, 18.1 parts by weight of the metal oxide particle (zirconium oxide particle) dispersion c1 in terms of solids, and a photopolymerization initiator ((Ciba 1.4 parts by mass of Irgacure 907 manufactured by Specialty Chemicals Co., Ltd. is dissolved, dispersed and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to obtain a solid. A coating composition having a partial concentration of 6.4% by mass was prepared.
<塗料組成物a11>
樹脂成分として、6官能のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(ダイセルサイテック(株)製「DPHA」商品名、分子量524)を17.3質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、上記の金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム粒子)分散物c1を固形分換算で18.1質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a11>
As the resin component, 17.3 parts by mass of hexafunctional dipentaerythritol hexaacrylate (“DPHA” trade name, molecular weight 524, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) and 27.8 of the above silica particle dispersion b1 in terms of solid content are used. Parts by weight, 18.1 parts by weight of the above-mentioned metal oxide particle (zirconium oxide particle) dispersion c1 in terms of solid content, 1.4 parts by weight of photopolymerization initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Parts are dissolved, dispersed and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to prepare a coating composition having a solid content concentration of 6.4% by mass. did.
<塗料組成物a12>
樹脂成分として、10官能のウレタンアクリレートオリゴマー(ダイセル・オルネクス(株)製の商品名「KRM8452」、重量平均分子量1,200)を17.3質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で27.8質量部、上記の金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム粒子)分散物c1を固形分換算で18.1質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a12>
As a resin component, 10 functional urethane acrylate oligomer (trade name “KRM8452” manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd., weight average molecular weight 1,200) is 17.3 parts by mass, and the above silica particle dispersion b1 is converted into solid content 27.8 parts by mass, 18.1 parts by mass of the above metal oxide particle (zirconium oxide particle) dispersion c1 in terms of solid content, a photopolymerization initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 1.4 parts by mass is dissolved, dispersed and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether), and a solid content concentration is 6.4% by mass A composition was prepared.
<塗料組成物a13>
樹脂成分として、2官能のウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)製「アートレジン」(登録商標)UN−353;重量平均分子量5,000)を21.6質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で18.3質量部、上記の金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム粒子)分散物c1を固形分換算で22.5質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.7質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Paint composition a13>
As a resin component, 21.6 parts by mass of a bifunctional urethane acrylate oligomer ("Art Resin" (registered trademark) UN-353; weight average molecular weight 5,000, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), the above silica particle dispersion b1 18.3 parts by mass in terms of solid content, 22.5 parts by mass of the above-mentioned metal oxide particle (zirconium oxide particle) dispersion c1 in terms of solid content, photopolymerization initiator ((Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 1.7 parts by mass of Irgacure 907) are dissolved, dispersed, and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to obtain a solid content concentration of 6.4. A mass% coating composition was prepared.
<塗料組成物a14>
樹脂成分として、2官能のウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)製「アートレジン」(登録商標)UN−353(重量平均分子量5,000)を25.1質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で10.6質量部、上記の金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム粒子)分散物c1を固形分換算で26.2質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)2.0質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Paint composition a14>
As a resin component, 25.1 parts by mass of a bifunctional urethane acrylate oligomer ("Art Resin" (registered trademark) UN-353 (weight average molecular weight 5,000) manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), the above silica particle dispersion b1 Is 10.6 parts by mass in terms of solid content, 26.2 parts by mass of the above metal oxide particle (zirconium oxide particle) dispersion c1 in terms of solid content, and a photopolymerization initiator ((Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.). Irgacure 907) 2.0 parts by mass is dissolved, dispersed, and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to obtain a solid content concentration of 6.4. A mass% coating composition was prepared.
<塗料組成物a15>
樹脂成分として、2官能のウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)製「アートレジン」(登録商標)UN−353(重量平均分子量5,000)を27.2質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で6.6質量部、上記の金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム粒子)分散物c1を固形分換算で28.3質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)2.1質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a15>
As a resin component, 27.2 parts by weight of a bifunctional urethane acrylate oligomer ("Art Resin" (registered trademark) UN-353 (weight average molecular weight 5,000) manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), the above silica particle dispersion b1 6.6 parts by mass in terms of solid content, 28.3 parts by mass of the above metal oxide particle (zirconium oxide particle) dispersion c1 in terms of solid content, photopolymerization initiator ((Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Irgacure 907) 2.1 parts by mass was dissolved, dispersed, and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to obtain a solid content concentration of 6.4. A mass% coating composition was prepared.
<塗料組成物a16>
樹脂成分として、6官能のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(ダイセルサイテック(株)製「DPHA」商品名、分子量524)を21.0質量部、上記のシリカ粒子分散物b2を固形分換算で27.8質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、稀釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a16>
As the resin component, 21.0 parts by mass of hexafunctional dipentaerythritol hexaacrylate (“DPHA” trade name, molecular weight 524, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) and 27.8 of the above silica particle dispersion b2 in terms of solid content are used. Parts by weight, 1.4 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 13: 1 (mass ratio) mixed solvent of an organic solvent (methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) ) Was dissolved, dispersed, and diluted to prepare a coating composition having a solid content concentration of 6.4% by mass.
<塗料組成物a17>
樹脂成分として、6官能のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(ダイセルサイテック(株)製「DPHA」商品名、分子量524)を17.3質量部、上記のシリカ粒子分散物b2を固形分換算で27.8質量部、上記の金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム粒子)分散物c1を固形分換算で18.1質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が6.4質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition a17>
As the resin component, 17.3 parts by mass of hexafunctional dipentaerythritol hexaacrylate (“DPHA” trade name, molecular weight 524, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) and 27.8 of the above silica particle dispersion b2 in terms of solid content are used. Parts by weight, 18.1 parts by weight of the above-mentioned metal oxide particle (zirconium oxide particle) dispersion c1 in terms of solid content, 1.4 parts by weight of photopolymerization initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Parts are dissolved, dispersed and diluted with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) to prepare a coating composition having a solid content concentration of 6.4% by mass. did.
[アンダーコート層(UC層)用塗料組成物]
<塗料組成物d1>
2官能のウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)「アートレジン」(登録商標)UN−6200;重量平均分子量6,500)を100質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(ダイセルサイテック(株)製「DPHA」商品名、分子量524)を20質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア」(登録商標)184)5質量部量を有機溶媒(メチルエチルケトン)で希釈して、固形分濃度が20質量%になるように調製した。
[Coating composition for undercoat layer (UC layer)]
<Coating composition d1>
100 parts by mass of difunctional urethane acrylate oligomer (Negami Kogyo Co., Ltd. “Art Resin” (registered trademark) UN-6200; weight average molecular weight 6,500), dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., “DPHA”) "Product name, molecular weight 524) 20 parts by weight, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals" Irgacure "(registered trademark) 184) 5 parts by weight diluted with an organic solvent (methyl ethyl ketone), The solid concentration was adjusted to 20% by mass.
[逐次積層用の高屈折率層および低屈折率層の塗料組成物]
<高屈折率層用塗料組成物e1>
樹脂成分として、ビスフェノール骨格を有する2官能エポキシアクリレート(共栄社化学(株)のエポキシエステル3000A;分子量484)を17.5質量部、上記の金属酸化物粒子(酸化ジルコニウム粒子)分散物c1を固形分換算で18.1質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が3.7質量%の塗料組成物を調製した。
[Coating composition of high refractive index layer and low refractive index layer for sequential lamination]
<Coating composition e1 for high refractive index layer>
As a resin component, 17.5 parts by mass of a bifunctional epoxy acrylate having a bisphenol skeleton (epoxy ester 3000A of Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; molecular weight 484) and the above-mentioned metal oxide particle (zirconium oxide particle) dispersion c1 as a solid content 18.1 parts by mass in terms of conversion, 1.4 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 13: 1 of an organic solvent (methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) A coating composition having a solid content concentration of 3.7% by mass was prepared by dissolving, dispersing, and diluting with (mass ratio) mixed solvent).
<低屈折率層用塗料組成物f1>
樹脂成分として、ビスフェノール骨格を有する2官能エポキシアクリレート(共栄社化学(株)のエポキシエステル3000A;分子量484)を17.5質量部、上記のシリカ粒子分散物b1を固形分換算で30.0質量部、光重合開始剤((チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア907)1.4質量部を、有機溶媒(メチルイソブチルケトンとエチレングリコールモノブチルエーテルとの13:1(質量比)混合溶媒)で溶解、分散、希釈して、固形分濃度が3.0質量%の塗料組成物を調製した。
<Coating composition f1 for low refractive index layer>
As a resin component, 17.5 parts by mass of a bifunctional epoxy acrylate having a bisphenol skeleton (epoxy ester 3000A of Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; molecular weight 484) and 30.0 parts by mass of the above silica particle dispersion b1 in terms of solid content , 1.4 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) with an organic solvent (13: 1 (mass ratio) mixed solvent of methyl isobutyl ketone and ethylene glycol monobutyl ether) By dissolving, dispersing and diluting, a coating composition having a solid content concentration of 3.0% by mass was prepared.
[実施例1]
厚みが125μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東レ(株)製のルミラー(登録商標)U48、ヘイズ値0.85)の一方の面に、塗料組成物a1をグラビアコーターで乾燥厚みが200nmとなるように塗布し、80℃で乾燥後、紫外線を400mJ/cm2の照射光量にて照射し硬化させて硬化樹脂層を形成して、積層フィルムを得た。
[Example 1]
On one surface of a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 125 μm (Lumirror (registered trademark) U48 manufactured by Toray Industries, Inc., haze value 0.85), the coating composition a1 is dried with a gravure coater to a thickness of 200 nm. After being coated at 80 ° C., ultraviolet rays were irradiated with an irradiation light amount of 400 mJ / cm 2 and cured to form a cured resin layer to obtain a laminated film.
[実施例2]
塗料組成物a2に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Example 2]
A cured resin layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating composition a2 was changed to obtain a laminated film.
[実施例3]
塗料組成物a3に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Example 3]
A laminated resin film was obtained by forming a cured resin layer in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed to the coating composition a3.
[比較例1]
塗料組成物a4に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Comparative Example 1]
A cured resin layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating composition was changed to the coating composition a4 to obtain a laminated film.
[比較例2]
塗料組成物a5に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Comparative Example 2]
A laminated resin film was obtained by forming a cured resin layer in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed to the coating composition a5.
[比較例3]
塗料組成物a6に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Comparative Example 3]
A laminated resin film was obtained by forming a cured resin layer in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed to the coating composition a6.
[比較例4]
塗料組成物a16に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Comparative Example 4]
A cured resin layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating composition was changed to the coating composition a16 to obtain a laminated film.
[実施例4〜6]
実施例1〜3において、基材フィルムを、厚み125μmのポリカーボネート層とポリメチルメタクリレート層との2層積層フィルム(PC/PMMA;住友化学工業(株)製「テクノロイ」(登録商標)型番「C001」、ヘイズ値0.30%)に変更し、ポリメチルメタクリレート層(PMMA)側に硬化樹脂層を積層する以外は、実施例1〜3と同様にして積層フィルムを作製した。
[Examples 4 to 6]
In Examples 1 to 3, the base film is a two-layer laminated film of a polycarbonate layer having a thickness of 125 μm and a polymethyl methacrylate layer (PC / PMMA; “Technoloy” (registered trademark) model number “C001” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). The haze value was changed to 0.30%), and a laminated film was produced in the same manner as in Examples 1 to 3 except that a cured resin layer was laminated on the polymethyl methacrylate layer (PMMA) side.
[実施例7〜9]
実施例1〜3において、基材フィルムと硬化樹脂層との間に、下記のアンダーコート層(UC層)を配置する以外は、実施例1〜3と同様にして積層フィルムを作製した。
[Examples 7 to 9]
In Examples 1 to 3, laminated films were produced in the same manner as in Examples 1 to 3 except that the following undercoat layer (UC layer) was disposed between the base film and the cured resin layer.
<アンダーコート層(UC層)の積層>
アンダーコート層用塗料組成物d1をグラビアコーターで乾燥厚みが2μmとなるように塗布し、80℃で乾燥後、紫外線を400mJ/cm2の照射光量にて照射し硬化させて、アンダーコート層を形成した。
<Lamination of undercoat layer (UC layer)>
The undercoat layer coating composition d1 was applied with a gravure coater so that the dry thickness was 2 μm, dried at 80 ° C., and then irradiated with UV light at an irradiation light amount of 400 mJ / cm 2 to cure the undercoat layer. Formed.
[評価]
上記の実施例および比較例で作製した積層フィルムについて、前述の評価項目に従って測定および評価した結果を表1に示す。
[Evaluation]
Table 1 shows the results of measurement and evaluation of the laminated films prepared in the above Examples and Comparative Examples according to the above-described evaluation items.
[実施例11]
塗料組成物a7に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Example 11]
A laminated resin film was obtained by forming a cured resin layer in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed to the coating composition a7.
[実施例12]
塗料組成物a8に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Example 12]
A laminated resin film was obtained by forming a cured resin layer in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed to the coating composition a8.
[実施例13]
塗料組成物a9に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Example 13]
A cured resin layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed to the coating composition a9 to obtain a laminated film.
[比較例11]
塗料組成物a10に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Comparative Example 11]
A laminated resin film was obtained by forming a cured resin layer in the same manner as in Example 1 except that the coating composition was changed to the coating composition a10.
[比較例12]
塗料組成物a11に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Comparative Example 12]
A laminated resin film was obtained by forming a cured resin layer in the same manner as in Example 1 except that the coating composition was changed to the coating composition a11.
[比較例13]
塗料組成物a12に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Comparative Example 13]
A laminated resin film was obtained by forming a cured resin layer in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed to the coating composition a12.
[比較例14]
塗料組成物a17に変更する以外は、実施例1と同様にして硬化樹脂層を形成して積層フィルムを得た。
[Comparative Example 14]
A laminated resin film was obtained by forming a cured resin layer in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed to the coating composition a17.
[実施例14〜16]
実施例11〜13において、基材フィルムを、厚み125μmのポリカーボネート層とポリメチルメタクリレート層との2層積層フィルム(PC/PMMA;住友化学工業(株)製「テクノロイ」(登録商標)型番「C001」、ヘイズ値0.30%)に変更し、ポリメチルメタクリレート層(PMMA)側に硬化樹脂層を積層する以外は、実施例11〜13と同様にして積層フィルムを作製した。
[Examples 14 to 16]
In Examples 11 to 13, the base film was formed of a two-layer laminated film of a polycarbonate layer having a thickness of 125 μm and a polymethyl methacrylate layer (PC / PMMA; “Technoloy” (registered trademark) model number “C001” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). The haze value was changed to 0.30%), and a laminated film was produced in the same manner as in Examples 11 to 13 except that a cured resin layer was laminated on the polymethyl methacrylate layer (PMMA) side.
[実施例17〜19]
実施例11〜13において、基材フィルムと硬化樹脂層との間に、アンダーコート層(UC層)を配置する以外は、実施例11〜13と同様にして積層フィルムを作製した。
[Examples 17 to 19]
In Examples 11 to 13, laminated films were produced in the same manner as in Examples 11 to 13, except that an undercoat layer (UC layer) was disposed between the base film and the cured resin layer.
<アンダーコート層(UC層)の積層>
上記のアンダーコート層用塗料組成物d1をグラビアコーターで乾燥厚みが2μmとなるように塗布し、80℃で乾燥後、紫外線を400mJ/cm2の照射光量にて照射し硬化させて、アンダーコート層を形成した。
<Lamination of undercoat layer (UC layer)>
The undercoat layer coating composition d1 is applied with a gravure coater so that the dry thickness is 2 μm, dried at 80 ° C., and then cured by irradiating with UV light at an irradiation light amount of 400 mJ / cm 2. A layer was formed.
[実施例20〜22]
実施例14〜16において、基材フィルムと硬化樹脂層との間に、アンダーコート層(UC層)を配置する以外は、実施例14〜16と同様にして積層フィルムを作製した。
[Examples 20 to 22]
In Examples 14 to 16, laminated films were produced in the same manner as in Examples 14 to 16, except that an undercoat layer (UC layer) was disposed between the base film and the cured resin layer.
<アンダーコート層(UC層)の積層>
上記のアンダーコート層用塗料組成物d1をグラビアコーターで乾燥厚みが2μmとなるように塗布し、80℃で乾燥後、紫外線を400mJ/cm2の照射光量にて照射し硬化させて、アンダーコート層を形成した。
<Lamination of undercoat layer (UC layer)>
The undercoat layer coating composition d1 is applied with a gravure coater so that the dry thickness is 2 μm, dried at 80 ° C., and then cured by irradiating with UV light at an irradiation light amount of 400 mJ / cm 2. A layer was formed.
[比較例15]
実施例17と同様にして、基材フィルム(PETフィルム)の一方の面にアンダーコート層(UC層)を積層し、このアンダーコート層上に高屈折率層および低屈折率層をこの順に逐次に積層して積層フィルムを得た。
[Comparative Example 15]
In the same manner as in Example 17, an undercoat layer (UC layer) was laminated on one surface of a base film (PET film), and a high refractive index layer and a low refractive index layer were sequentially formed on the undercoat layer in this order. To obtain a laminated film.
<高屈折率層の積層>
上記の高屈折率層用塗料組成物e1をグラビアコーターで乾燥厚みが100nmとなるように塗布し、80℃で乾燥後、紫外線を400mJ/cm2の照射光量にて照射し硬化させて、高屈折率層を形成した。
<Lamination of high refractive index layer>
The high refractive index layer coating composition e1 was applied with a gravure coater so that the dry thickness was 100 nm, dried at 80 ° C., and then irradiated with ultraviolet light at an irradiation light amount of 400 mJ / cm 2 to be cured. A refractive index layer was formed.
<低屈折率層の積層>
上記の低屈折率層用塗料組成物f1をグラビアコーターで乾燥厚みが100nmとなるように塗布し、80℃で乾燥後、紫外線を400mJ/cm2の照射光量にて照射し硬化させて、低屈折率層を形成した。
<Lamination of low refractive index layer>
The low refractive index coating composition f1 is applied with a gravure coater so as to have a dry thickness of 100 nm, dried at 80 ° C., and then irradiated with UV light at an irradiation light amount of 400 mJ / cm 2 to be cured. A refractive index layer was formed.
[評価]
上記の実施例および比較例で作製した積層フィルムについて、前述の評価項目に従って測定および評価した結果を表2に示す。
[Evaluation]
Table 2 shows the results of measurement and evaluation of the laminated films prepared in the above Examples and Comparative Examples according to the above-described evaluation items.
[実施例31]
実施例7と同様にして、基材フィルム(PETフィルム)の一方の面にアンダーコート層(UC層)を積層し、このアンダーコート層上に硬化樹脂層用塗料組成物a13をグラビアコーターで乾燥厚みが300nmとなるように塗布し、80℃で乾燥後、紫外線を400mJ/cm2の照射光量にて照射し硬化させて硬化樹脂層を形成して、積層フィルムを得た。
[Example 31]
In the same manner as in Example 7, an undercoat layer (UC layer) was laminated on one surface of a base film (PET film), and the cured resin layer coating composition a13 was dried on the undercoat layer with a gravure coater. The film was applied to a thickness of 300 nm, dried at 80 ° C., and then cured by irradiating with ultraviolet light at an irradiation light amount of 400 mJ / cm 2 to form a cured resin layer, thereby obtaining a laminated film.
[実施例32]
塗料組成物a14に変更し、かつ硬化樹脂層の乾燥厚みを500nmに変更する以外は、実施例31と同様にして、積層フィルムを得た。
[Example 32]
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 31 except that the coating composition a14 was changed and the dry thickness of the cured resin layer was changed to 500 nm.
[実施例33]
塗料組成物a15に変更し、かつ硬化樹脂層の乾燥厚みを800nmに変更する以外は、実施例31と同様にして、積層フィルムを得た。
[Example 33]
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 31 except that the coating composition was changed to the coating composition a15 and the dry thickness of the cured resin layer was changed to 800 nm.
[評価]
上記の実施例で作製した積層フィルムについて、前述の評価項目に従って測定および評価した結果を表3に示す。
[Evaluation]
Table 3 shows the results of measurement and evaluation of the laminated films produced in the above examples according to the evaluation items described above.
1 硬化樹脂層
2 基材フィルム
3 アンダーコート層
11 シリカ粒子
12 金属酸化物粒子
A 領域A
B 領域B
DESCRIPTION OF
B area B
Claims (7)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2018161832A true JP2018161832A (en) | 2018-10-18 |
Family
ID=63860694
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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Country Status (1)
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