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JP2018051636A - Soft sheet manufacturing method and soft sheet polishing device - Google Patents

Soft sheet manufacturing method and soft sheet polishing device Download PDF

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JP2018051636A
JP2018051636A JP2016186647A JP2016186647A JP2018051636A JP 2018051636 A JP2018051636 A JP 2018051636A JP 2016186647 A JP2016186647 A JP 2016186647A JP 2016186647 A JP2016186647 A JP 2016186647A JP 2018051636 A JP2018051636 A JP 2018051636A
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JP
Japan
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polishing
soft sheet
surface plate
polished
roll
Prior art date
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Pending
Application number
JP2016186647A
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Japanese (ja)
Inventor
檜山 正太郎
Shotaro Hiyama
正太郎 檜山
佑樹 長野
Yuki Nagano
佑樹 長野
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Mitsubishi Materials Techno Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Techno Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a soft sheet manufacturing method and a soft sheet polishing device which can manufacture a soft sheet including a polishing pad with high quality and efficiency by polishing a soft sheet to be polished, with high accuracy.SOLUTION: A polishing pad polishing device 100 comprises: a soft sheet holding surface plate 20 that holds a polishing pad P onto a polishing side surface of a surface plate main body 22; a polishing roll 40 that relatively moves while rotating with respect to the soft sheet holding surface plate 20; a rotationally driving part that rotationally drives the polishing roll 40; a relatively moving/driving part 13 that relatively moves the soft sheet holding surface plate 20 and the polishing roll 40; and a decompressing pump 60 that decompresses the surface plate main body 22. The surface plate main body 22 is formed of a three-dimensional porus body, where the surface plate main body 22 is decompressed by the decompressing pump 60 so that the polishing pad P is suctioned and held on the polishing side surface.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、被研磨軟質シートを高精度に研磨することにより、研磨パッドをはじめとする軟質シートを高品質かつ効率的に製造することが可能な軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置に関する。   The present invention relates to a soft sheet manufacturing method and a soft sheet polishing apparatus capable of manufacturing a soft sheet including a polishing pad with high quality and efficiency by polishing a soft sheet to be polished with high accuracy.

周知のように、ウェーハ等の基板を研磨する基板研磨装置においては、定盤に貼着した研磨パッドに対して基板を押圧、相対移動させることによって基板を研磨することが広く行われている(例えば、特許文献1参照。)。   As is well known, in a substrate polishing apparatus that polishes a substrate such as a wafer, it is widely practiced to polish the substrate by pressing and relatively moving the substrate against a polishing pad attached to a surface plate ( For example, see Patent Document 1.)

このような基板研磨で用いられる研磨パッドには、基板の研磨品質に応じた高い平面度を確保する必要がある。
また、研磨シートに限定されず、プラスチック、ゴムをはじめとする軟質シートを高品質に製造する場合には、材料となる被研磨軟質シートを高精度に研磨することが必要な場合がある。
A polishing pad used in such substrate polishing needs to ensure high flatness according to the polishing quality of the substrate.
Moreover, it is not limited to a polishing sheet, When manufacturing a soft sheet | seat including plastics and rubber | gum with high quality, it is necessary to grind | polish the to-be-polished soft sheet | seat used as material with high precision.

そこで、被研磨軟質シートを高精度に研磨することにより、厚さが均一で高い平面度を有する軟質シートを製造することを目的とする種々の研磨装置が開示されている(例えば、特許文献2参照。)。   Then, various grinding | polishing apparatuses aiming at manufacturing the soft sheet | seat with uniform thickness and high flatness by grind | polishing a to-be-polished soft sheet | seat with high precision are disclosed (for example, patent document 2). reference.).

特許文献2に記載のシート材研磨装置は、例えば、図3に示すような上部に多数の細孔が形成された真空箱の内部を真空にして、この細孔を介して被研磨シートを吸引して保持し、この保持された被研磨シートを研磨することで、軟質シートの研磨精度を向上させようとするものである。   In the sheet material polishing apparatus described in Patent Document 2, for example, the inside of a vacuum box having a large number of pores formed in the upper part as shown in FIG. 3 is evacuated, and the sheet to be polished is sucked through the pores. Then, the polishing accuracy of the soft sheet is improved by polishing the held sheet to be polished.

特開平9−155721号公報JP-A-9-155721 特開2000−158303号公報JP 2000-158303 A

しかしながら、特許文献2に記載のシート研磨装置では、被研磨シートを多数の細孔を介して吸引するので、被研磨シートの研磨面に吸引による凹部が形成され、吸引が解除されると、この凹部が元の位置に復元して突出することから、軟質シートに十分な平面度を確保することが困難な場合がある。   However, in the sheet polishing apparatus disclosed in Patent Document 2, since the sheet to be polished is sucked through a large number of pores, a concave portion is formed by suction on the polishing surface of the sheet to be polished. Since the concave portion is restored to the original position and protrudes, it may be difficult to ensure sufficient flatness for the soft sheet.

そこで、被研磨軟質シートを高精度に研磨することにより、研磨パッドをはじめとする軟質シートを高品質かつ効率的に製造することが可能な軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置に対する要求がある。   Therefore, there is a demand for a soft sheet manufacturing method and a soft sheet polishing apparatus that can manufacture a soft sheet including a polishing pad with high quality and efficiency by polishing the soft sheet to be polished with high accuracy.

本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであって、被研磨軟質シートを高精度に研磨することにより、研磨パッドをはじめとする軟質シートを高品質かつ効率的に製造することが可能とされる軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and by polishing a soft sheet to be polished with high accuracy, it is possible to manufacture a soft sheet including a polishing pad with high quality and efficiency. It is an object of the present invention to provide a soft sheet manufacturing method and a soft sheet polishing apparatus.

前記課題を解決するため、この発明は以下の手段を提案している。
請求項1に記載の発明は、軟質シート製造方法であって、三次元多孔質体によって形成された定盤本体の内部を減圧して、前記定盤本体の研磨側面に配置した被研磨軟質シートを吸引して保持し、回転された研磨ロールと前記定盤本体に保持された被研磨軟質シートとを相対移動させることにより、前記被研磨軟質シートを研磨して軟質シートを製造することを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention proposes the following means.
Invention of Claim 1 is a soft sheet manufacturing method, Comprising: The inside of the surface plate main body formed of the three-dimensional porous body is pressure-reduced, The to-be-polished soft sheet arrange | positioned on the grinding | polishing side surface of the said surface plate main body And polishing the soft sheet to be polished to produce a soft sheet by relatively moving the rotated polishing roll and the soft soft sheet held on the surface plate main body. And

請求項6に記載の発明は、軟質シート研磨装置であって、定盤本体を有し、前記定盤本体の研磨側面に軟質シートを保持する軟質シート保持定盤と、前記軟質シート保持定盤に対して回転しながら相対移動可能とされる研磨ロールと、前記研磨ロールを回転駆動する回転駆動部と、前記軟質シート保持定盤と前記研磨ロールとを相対移動する相対移動駆動部と、前記定盤本体の内部を減圧する減圧手段と、を備え、前記定盤本体は三次元多孔質体によって形成され、前記減圧手段によって前記定盤本体の内部を減圧することにより、前記研磨側面に配置された軟質シートを吸引して保持するように構成されていることを特徴とする。   The invention according to claim 6 is a soft sheet polishing apparatus having a surface plate body, a soft sheet holding surface plate for holding a soft sheet on the polishing side of the surface plate body, and the soft sheet holding surface plate A polishing roll that is capable of relative movement while rotating, a rotation drive unit that rotationally drives the polishing roll, a relative movement drive unit that relatively moves the soft sheet holding surface plate and the polishing roll, A pressure reducing means for decompressing the inside of the surface plate body, and the surface plate body is formed of a three-dimensional porous body, and is disposed on the polishing side surface by decompressing the inside of the surface plate body by the pressure reducing means. It is configured to suck and hold the formed soft sheet.

この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、三次元多孔質体によって形成された定盤本体の内部を減圧して、定盤本体22の研磨側面に配置した被研磨軟質シートを吸着保持するので、被研磨軟質シートを容易かつ安定して保持させることができる。
また、定盤本体の研磨側面に被研磨軟質シートを吸着保持することで、被研磨軟質シートと定盤本体の間から気泡が確実に除去され、その状態で研磨ロールと被研磨軟質シートを相対移動させて被研磨軟質シートを研磨するので、研磨後の軟質シートに凹凸が発生するのが抑制されて、被研磨軟質シートを高精度に研磨することができる。
その結果、高品質な軟質シートを効率的に製造することができ、ひいては、軟質シートを製造する際の生産性を向上することができる。
According to the soft sheet manufacturing method and the soft sheet polishing apparatus according to the present invention, the inner surface of the platen body formed by the three-dimensional porous body is decompressed, and the soft sheet to be polished is disposed on the polishing side surface of the platen body 22. Therefore, the soft sheet to be polished can be easily and stably held.
Also, by adsorbing and holding the soft sheet to be polished on the polishing side of the surface plate body, air bubbles are surely removed from between the soft sheet to be polished and the surface plate body, and in this state, the polishing roll and the soft sheet to be polished are relative to each other. Since the soft sheet to be polished is moved and polished, the soft sheet after polishing is prevented from being uneven, and the soft sheet to be polished can be polished with high accuracy.
As a result, a high-quality soft sheet can be produced efficiently, and as a result, productivity when producing the soft sheet can be improved.

この明細書において、三次元多孔質体とは、表面に多数の孔が開口し、内部に形成された空隙によって流体(空気等)が任意の方向に流通可能とされた3次元網目構造をいう。なお、3次元網目構造は、例えば、スポンジや海綿等のように空隙が不規則に形成されているもののほか、空隙又は3次元網目構造をなす基材が規則性を形成されていてもよい。
また、例えば、特定の部位に形成した吸引部から空気を吸引(減圧)した場合に、あらかじめ設定した部位(例えば、特定の面、又は吸引部を除く全表面)から空気が流入した場合であっても、定盤本体内部を減圧された状態に維持可能であることが好適である。
In this specification, the three-dimensional porous body refers to a three-dimensional network structure in which a large number of holes are opened on the surface, and fluid (air or the like) can flow in any direction by voids formed inside. . In addition, the three-dimensional network structure may have regularity formed on the base material forming the voids or the three-dimensional network structure in addition to the voids irregularly formed, such as sponge or sponge.
In addition, for example, when air is sucked (reduced pressure) from a suction part formed in a specific part, the air flows from a preset part (for example, a specific surface or the entire surface excluding the suction part). However, it is preferable that the inside of the surface plate body can be maintained in a decompressed state.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の軟質シート製造方法であって、前記三次元多孔質体として多孔質セラミックスを用いることを特徴とする。   The invention described in claim 2 is the method for producing a flexible sheet according to claim 1, wherein porous ceramics are used as the three-dimensional porous body.

請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の軟質シート研磨装置であって、三次元多孔質体は、多孔質セラミックスにより形成されていることを特徴とする。   The invention described in claim 7 is the soft sheet polishing apparatus according to claim 6, wherein the three-dimensional porous body is formed of porous ceramics.

この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、三次元多孔質体が多孔質セラミックスとされているので、研磨圧等により変形するのが抑制され、被研磨軟質シートを安定して研磨することができる。
また、定盤本体が経年変化により摩耗、劣化することが抑制され、長期間にわたって安定した品質を確保することができる。
According to the soft sheet manufacturing method and the soft sheet polishing apparatus according to the present invention, since the three-dimensional porous body is made of porous ceramics, deformation due to polishing pressure or the like is suppressed, and the soft sheet to be polished is stabilized. Can be polished.
In addition, it is possible to suppress the wear and deterioration of the surface plate body due to secular change, and to ensure stable quality over a long period of time.

請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の軟質シート製造方法であって、前記定盤本体を石定盤基部に保持させて前記被研磨軟質シートを研磨することを特徴とする。   Invention of Claim 3 is a soft sheet manufacturing method of Claim 1 or 2, Comprising: The said surface plate main body is hold | maintained at a stone surface plate base, and the said to-be-polished soft sheet is grind | polished, It is characterized by the above-mentioned. To do.

請求項8に記載の発明は、請求項6又は7に記載の軟質シート研磨装置であって、前記軟質シート保持定盤は、前記定盤本体を保持する石定盤基部を備えていることを特徴とする。   Invention of Claim 8 is a soft sheet grinding | polishing apparatus of Claim 6 or 7, Comprising: The said soft sheet holding | maintenance surface plate is equipped with the stone surface plate base part which hold | maintains the said surface plate main body. Features.

この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、定盤本体を堅固な石定盤基部に保持させて被研磨軟質シートを研磨するので、定盤本体がしっかりと保持されるとともに、高い減衰能を確保することができ、外部の振動によって研磨品質が影響されるのを抑制することができる。
その結果、軟質シートの研磨品質を効率的に向上することができる。
According to the soft sheet manufacturing method and the soft sheet polishing apparatus according to the present invention, the surface plate body is held on the solid stone surface plate base to polish the soft sheet to be polished, so that the surface plate body is firmly held. High damping ability can be ensured, and the influence of polishing quality due to external vibration can be suppressed.
As a result, it is possible to efficiently improve the polishing quality of the soft sheet.

請求項4に記載の発明は、請求項1から3のいずれか1項に記載の軟質シート製造方法であって、前記定盤本体と前記研磨ロールとは共加工されていることを特徴とする。   Invention of Claim 4 is a soft sheet manufacturing method of any one of Claim 1 to 3, Comprising: The said surface plate main body and the said polishing roll are co-processed, It is characterized by the above-mentioned. .

請求項9に記載の発明は、請求項6から8のいずれか1項に記載の軟質シート研磨装置であって、前記定盤本体と前記研磨ロールとは、共加工されていることを特徴とする。   The invention according to claim 9 is the soft sheet polishing apparatus according to any one of claims 6 to 8, wherein the surface plate body and the polishing roll are co-processed. To do.

この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、定盤本体と研磨ロールとが共加工されているので、定盤本体と研磨ロールの間隔が均一に維持されて間隔がばらつくのを抑制することができる。
その結果、軟質シートの研磨精度を向上することができる。
According to the soft sheet manufacturing method and the soft sheet polishing apparatus according to the present invention, since the surface plate main body and the polishing roll are co-processed, the interval between the surface plate main body and the polishing roll is maintained uniformly, and the interval varies. Can be suppressed.
As a result, the polishing accuracy of the soft sheet can be improved.

請求項5に記載の発明は、請求項1から4のいずれか1項に記載の軟質シート製造方法であって、前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離に基づいて、前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整しながら前記被研磨軟質シートを研磨することを特徴とする。   Invention of Claim 5 is a soft sheet manufacturing method of any one of Claim 1 to 4, Comprising: Based on the relative distance of the said grinding | polishing roll and the said to-be-polished soft sheet | seat surface, the said constant value is provided. The to-be-polished soft sheet is polished while adjusting the distance between the board body and the polishing roll.

請求項10に記載の発明は、請求項6から9のいずれか1項に記載の軟質シート研磨装置であって、前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離を測定する距離測定手段と、前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整する間隔調整手段と、を備え、前記距離測定手段が測定した前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離に基づいて、前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整しながら前記被研磨軟質シートを研磨するように構成されていることを特徴とする。   A tenth aspect of the invention is the soft sheet polishing apparatus according to any one of the sixth to ninth aspects, wherein the distance measuring means measures the relative distance between the polishing roll and the surface of the soft sheet to be polished. And an interval adjusting means for adjusting an interval between the platen body and the polishing roll, and based on the relative distance between the polishing roll and the surface of the soft sheet to be polished measured by the distance measuring means. The soft sheet to be polished is configured to be polished while adjusting the distance between the board body and the polishing roll.

この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、被研磨軟質シート表面との相対距離に基づいて、定盤本体と研磨ロールの間隔を調整しながら被研磨軟質シートを研磨するので、被研磨軟質シートを効率的に所望の厚さの軟質シートに研磨することができる。   According to the soft sheet manufacturing method and the soft sheet polishing apparatus according to the present invention, the soft sheet to be polished is polished while adjusting the distance between the surface plate body and the polishing roll based on the relative distance from the surface of the soft sheet to be polished. The soft sheet to be polished can be efficiently polished into a soft sheet having a desired thickness.

この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、被研磨軟質シートを高精度に研磨することが可能となり、高品質な軟質シートを効率的に製造することができる。   According to the soft sheet manufacturing method and the soft sheet polishing apparatus according to the present invention, the soft sheet to be polished can be polished with high accuracy, and a high-quality soft sheet can be efficiently manufactured.

本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置の概略構成を説明する正面図である。It is a front view explaining schematic structure of the polishing pad polisher concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置の概略構成を説明する平面図である。It is a top view explaining the schematic structure of the polishing pad polisher concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置の概略構成を説明する側面図である。It is a side view explaining the schematic structure of the polishing pad polisher concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る研磨パッド保持定盤の概略構成を説明する図であり、図2において矢視IV−IVで示す縦断面図である。It is a figure explaining schematic structure of the polishing pad holding surface plate which concerns on one Embodiment of this invention, and is a longitudinal cross-sectional view shown by arrow IV-IV in FIG. 本発明の一実施形態に係る研磨パッド保持定盤を構成する石定盤基部の概略構成を説明する平面図である。It is a top view explaining the schematic structure of the stone surface plate base which comprises the polishing pad holding surface plate which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置を構成する研磨ロールの概略構成を説明する縦断面図である。It is a longitudinal section explaining the schematic structure of the polishing roll which constitutes the polishing pad polisher concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る研磨パッド製造方法の概略を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the outline of the polishing pad manufacturing method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置の動作の概略を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the outline of operation | movement of the polishing pad polishing apparatus which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、図1〜図8を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
図1〜図3は、本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置の概略構成を説明する図である。
図1〜図3において、符号100は研磨パッド研磨装置(軟質シート研磨装置)を、符号20は研磨パッド保持定盤(軟質シート保持定盤)を、符号40は研磨ロールを、符号Pは研磨パッド(被研磨軟質シート)を示している。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
1 to 3 are diagrams illustrating a schematic configuration of a polishing pad polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
1 to 3, reference numeral 100 is a polishing pad polishing apparatus (soft sheet polishing apparatus), reference numeral 20 is a polishing pad holding surface plate (soft sheet holding surface plate), reference numeral 40 is a polishing roll, and reference numeral P is polishing. A pad (a soft sheet to be polished) is shown.

研磨パッド研磨装置(軟質シート研磨装置)100は、図1〜図3に示すように、例えば、研磨装置本体10と、研磨対象の研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを保持する研磨パッド保持定盤(軟質シート保持定盤)20と、研磨ロール駆動ユニット30と、研磨ロール40と、レーザ変位センサ(距離測定手段)50と、減圧ポンプ(減圧手段)60と、吸引手段65と、冷却水供給ユニット(不図示)と、制御部(不図示)とを備えている。   As shown in FIGS. 1 to 3, the polishing pad polishing apparatus (soft sheet polishing apparatus) 100 is, for example, a polishing pad holding constant for holding a polishing apparatus body 10 and a polishing pad (soft sheet to be polished) P to be polished. Panel (soft sheet holding surface plate) 20, polishing roll drive unit 30, polishing roll 40, laser displacement sensor (distance measuring means) 50, decompression pump (decompression means) 60, suction means 65, cooling water A supply unit (not shown) and a controller (not shown) are provided.

そして、研磨パッド研磨装置100は、研磨ロール40を軸線O1周りに矢印R1方向に回転駆動させながら、研磨パッド保持定盤20に保持させた研磨パッドPと相対移動させて、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを研磨して、完成品の研磨パッド(軟質シート、不図示)を製造するようになっている。   The polishing pad polishing apparatus 100 moves the polishing roll 40 relative to the polishing pad P held on the polishing pad holding surface plate 20 while rotationally driving the polishing roll 40 around the axis O1 in the direction of the arrow R1, so that the polishing pad By polishing the soft sheet (P), a finished polishing pad (soft sheet, not shown) is manufactured.

研磨装置本体10は、図1、図2、図3に示すように、例えば、研磨装置本体フレーム11と、定盤移動台車12と、定盤移動台車駆動部(相対移動駆動部)13とを備えている。   As shown in FIGS. 1, 2, and 3, the polishing apparatus body 10 includes, for example, a polishing apparatus body frame 11, a surface plate moving carriage 12, and a surface plate moving carriage drive unit (relative movement drive unit) 13. I have.

研磨装置本体フレーム11は、例えば、矩形に形成されたフレーム本体111と、フレーム本体111の上部に配置されたレール112とを備え、レール112上には定盤移動台車12が配置されている。   The polishing apparatus main body frame 11 includes, for example, a frame main body 111 formed in a rectangular shape, and a rail 112 disposed on the upper portion of the frame main body 111, and a surface plate moving carriage 12 is disposed on the rail 112.

定盤移動台車12は、台車本体121と、台車本体121の下部に配置されレール112に対して回転可能とされて、レール112に沿って台車本体121を移動可能とする駆動車輪122とを備えている。
また、定盤移動台車12の上部には、研磨パッド保持定盤20が取り付けられている。
The surface plate moving trolley 12 includes a trolley main body 121 and drive wheels 122 that are disposed below the trolley main body 121 and are rotatable with respect to the rail 112 so that the trolley main body 121 can move along the rail 112. ing.
A polishing pad holding surface plate 20 is attached to the upper portion of the surface plate moving carriage 12.

定盤移動台車駆動部(相対移動駆動部)13は、例えば、モータ(回転駆動部)131と、ボールねじとを備えていて、ボールねじは、ねじ本体132と、ねじ受け部133とを有している。   The surface plate moving carriage drive unit (relative movement drive unit) 13 includes, for example, a motor (rotation drive unit) 131 and a ball screw, and the ball screw includes a screw body 132 and a screw receiving unit 133. doing.

そして、ねじ本体132は、第1端がモータ131と接続され、第2端がフレーム本体111に設けられた軸受(不図示)と接続されていて、モータ131を回転駆動することにより、矢印R2方向に回転可能とされている。   The screw body 132 has a first end connected to the motor 131 and a second end connected to a bearing (not shown) provided on the frame body 111. By rotating the motor 131, the arrow R2 It can be rotated in the direction.

ねじ受け部133は、例えば、定盤移動台車12の下部に取付けられていて、巡回可能とされねじ本体132との摩擦抵抗を小さくするための複数のボールが内蔵されていて、ねじ受け部133とねじ本体132とは、軸線O2方向に相対移動可能かつ軸線O2周りに回転可能に装着されている。   The screw receiving portion 133 is attached to, for example, the lower portion of the surface plate moving carriage 12 and has a plurality of balls that can be circulated to reduce frictional resistance with the screw main body 132. The screw main body 132 is mounted so as to be relatively movable in the direction of the axis O2 and rotatable about the axis O2.

このような構成により、モータ(回転駆動部)131を矢印R2方向に回転させることによって、定盤移動台車12を矢印T1方向に往復移動させることが可能とされている。   With such a configuration, by rotating the motor (rotation drive unit) 131 in the arrow R2 direction, the surface plate moving carriage 12 can be reciprocated in the arrow T1 direction.

以下、図4、図5を参照して、一実施形態に係る研磨パッド保持定盤20の概略構成について説明する。
図4は、一実施形態に係る研磨パッド保持定盤20の概略構成を説明する縦断面図であり、図5は、研磨パッド保持定盤20を構成する石定盤基部21の概略構成を説明する平面図である。
Hereinafter, the schematic configuration of the polishing pad holding surface plate 20 according to the embodiment will be described with reference to FIGS. 4 and 5.
FIG. 4 is a longitudinal sectional view illustrating a schematic configuration of the polishing pad holding surface plate 20 according to the embodiment, and FIG. 5 illustrates a schematic configuration of a stone surface plate base 21 constituting the polishing pad holding surface plate 20. FIG.

研磨パッド保持定盤(軟質シート保持定盤)20は、図1〜図3に示すように、定盤移動台車12の上部に配置されている。
また、研磨パッド保持定盤20は、図4に示すように、例えば、石定盤基部21と、石定盤基部21の上面に配置された定盤本体22とを備えている。
The polishing pad holding surface plate (soft sheet holding surface plate) 20 is arranged on the upper portion of the surface plate moving carriage 12 as shown in FIGS.
Further, as shown in FIG. 4, the polishing pad holding surface plate 20 includes, for example, a stone surface plate base 21 and a surface plate body 22 disposed on the upper surface of the stone surface plate base 21.

石定盤基部21は、図5に示すように、例えば、石定盤基部21の上面に形成され石定盤基部21の外周を囲繞する矩形の縁部211と、縁部211の内方に形成された研磨パッド保持定盤20の幅方向に伸びる複数の溝部と、この複数の凹部と直交(交差)して形成された複数の溝部により画成された減圧空気を流通させるための減圧流路21Uと、減圧流路21Uの間に形成され上方に向かって突出し頂部が平坦に形成された複数の切頭凸部212と、石定盤基部21の上面の中央部に形成された減圧用吸引孔21Hとを備えている。   As shown in FIG. 5, the stone surface plate base 21 is formed on the top surface of the stone surface plate base 21 and has a rectangular edge 211 surrounding the outer periphery of the stone surface plate base 21, and inward of the edge 211. The reduced pressure flow for circulating the reduced pressure air defined by the plurality of grooves extending in the width direction of the formed polishing pad holding surface plate 20 and the plurality of grooves formed orthogonal to (crossing) the plurality of recesses. A plurality of truncated convex portions 212 formed between the passage 21U and the decompression flow passage 21U and projecting upward and having a flat top portion, and a decompression portion formed at the center of the upper surface of the stone surface base 21 And a suction hole 21H.

この実施形態では、石定盤基部21は、花崗岩等の通気性が低く、減衰能が高い材料によって形成されている。なお、石定盤基部21の材質は、花崗岩に限定されず任意に設定することができる。   In this embodiment, the stone surface plate base 21 is made of a material having low air permeability and high damping capacity such as granite. In addition, the material of the stone surface base 21 is not limited to granite and can be arbitrarily set.

減圧用吸引孔21Hは、例えば、一端が減圧流路21U内に開口するとともに他端が石定盤基部21の下方に開口し、減圧用吸引孔21Hの他端に減圧ポンプ(減圧手段)60が接続されて、減圧流路21U内の空気60Vを減圧ポンプ60に向かって吸引して減圧流路21U内を減圧することが可能とされている。
なお、減圧ポンプ(減圧手段)60としては、真空ポンプ等、周知の減圧ポンプを使用することができる。
The decompression suction hole 21H has, for example, one end opened in the decompression flow path 21U and the other end opened below the stone surface plate base 21, and the decompression pump (decompression means) 60 is connected to the other end of the decompression suction hole 21H. Is connected, and the air 60V in the decompression flow path 21U can be sucked toward the decompression pump 60 to decompress the inside of the decompression flow path 21U.
As the decompression pump (decompression unit) 60, a known decompression pump such as a vacuum pump can be used.

縁部211は、例えば、切頭凸部の平坦部と面一に形成されていて、定盤本体22の下面外周を支持するとともに、上面にエポキシ樹脂25が塗布されることで、石定盤基部21と定盤本体22が接着されるとともに石定盤基部21と定盤本体22の間が縁部211においてシールされ、外方から減圧流路21Uに空気が流入するのを抑制して減圧状態を維持可能に構成されている。   The edge portion 211 is formed, for example, flush with the flat portion of the truncated convex portion, supports the outer periphery of the lower surface of the surface plate main body 22, and is coated with an epoxy resin 25 on the upper surface, so that the stone surface plate The base 21 and the platen main body 22 are bonded together, and the space between the stone platen base 21 and the platen main body 22 is sealed at the edge 211 to suppress the inflow of air from the outside into the pressure-reducing channel 21U. The state can be maintained.

切頭凸部212は、図5に示すように、例えば、平面視矩形とされ減圧流路21Uによって形成される立上壁部と立上壁部の上部に位置される平坦な頂部とを備えていて、頂部に定盤本体22が保持されるようになっている。   As shown in FIG. 5, the truncated convex portion 212 includes, for example, an upright wall portion that is rectangular in plan view and is formed by the decompression flow path 21 </ b> U, and a flat top portion that is positioned above the upright wall portion. The surface plate main body 22 is held at the top.

また、切頭凸部212は、上面にスペーサ24が配置されて、スペーサ24の周囲にエポキシ樹脂25が充填されていて、エポキシ樹脂25を介して定盤本体22が接着されていて、石定盤基部21が定盤本体22を接着、保持するようになっている。
ここで、スペーサ24は、エポキシ樹脂25の充填厚さを確保して充分な接着力を確保するものである。
Further, the truncated convex portion 212 has the spacer 24 arranged on the upper surface, the periphery of the spacer 24 is filled with the epoxy resin 25, the surface plate body 22 is bonded via the epoxy resin 25, and The board base 21 adheres and holds the surface plate main body 22.
Here, the spacer 24 ensures a sufficient adhesive force by securing the filling thickness of the epoxy resin 25.

定盤本体22は、例えば、3次元多孔質体により形成されている。
ここで、3次元多孔質体とは、例えば、スポンジ状の3次元網目構造を有していて、この3次元網目構造に形成された空隙を通じて、定盤本体22の内部を空気が任意の方向に流通可能とされている。なお、3次元網目構造が、規則性を有するか不規則であるかは任意に設定することができる。
The surface plate body 22 is formed of, for example, a three-dimensional porous body.
Here, the three-dimensional porous body has, for example, a sponge-like three-dimensional network structure, and air passes through the gap formed in the three-dimensional network structure in the air in any direction. It is possible to circulate. Note that whether the three-dimensional network structure has regularity or irregularity can be arbitrarily set.

また、この実施形態では、3次元多孔質体として、例えば、アルミナ(Al)系セラミックスからなる多孔質セラミックスが用いられている。
この多孔質セラミックスは、例えば、熱膨張率(線膨張率):1〜5×10−6/K、気孔率約40%、平均気孔径:約20μmであることが好適である。
In this embodiment, for example, porous ceramics made of alumina (Al 2 O 3 ) -based ceramics are used as the three-dimensional porous body.
The porous ceramics preferably has, for example, a thermal expansion coefficient (linear expansion coefficient) of 1 to 5 × 10 −6 / K, a porosity of about 40%, and an average pore diameter of about 20 μm.

このような構成を採用することにより、定盤本体22の内部を減圧することによって、研磨側面22Fに研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを吸着保持することが可能とされている。
また、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pと定盤本体22の間に気泡が残留するのを防止できる。
By adopting such a configuration, it is possible to adsorb and hold the polishing pad (soft sheet to be polished) P on the polishing side surface 22F by reducing the pressure inside the surface plate body 22.
Further, it is possible to prevent bubbles from remaining between the polishing pad (soft polishing sheet) P and the surface plate body 22.

また、このような構成とすることにより、上面(研磨側面)22Fに研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを吸着させた状態で、石定盤基部21の減圧流路21U内の空気を減圧用吸引孔21Hを介して吸引することで、定盤本体22の内部を減圧した際に、定盤本体22の石定盤基部21側(下面側)を除く4つの側面から空気が吸引されたとしても、4つの側面を密閉しない状態で研磨パッドPが保持された状態で定盤本体22内部の減圧状態を維持することが可能とされ、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを研磨側面22Fに安定して吸着保持することができるようになっている。   In addition, with such a configuration, the air in the decompression flow path 21U of the stone surface plate base 21 is used for decompression in a state where the polishing pad (soft polishing sheet) P is adsorbed to the upper surface (polishing side surface) 22F. By sucking through the suction hole 21H, when the inside of the surface plate body 22 is depressurized, air is sucked from the four side surfaces of the surface plate body 22 except the stone surface plate base 21 side (lower surface side). In addition, it is possible to maintain the reduced pressure inside the surface plate body 22 in a state where the polishing pad P is held without sealing the four side surfaces, and the polishing pad (soft sheet to be polished) P is used as the polishing side surface 22F. It can be stably adsorbed and held.

研磨ロール駆動ユニット30は、図1〜図3に示すように、例えば、研磨装置本体10と所定の位置関係とされたベース部31と、ベース部31の上部に配置される研磨ロール間隔調整部(間隔調整手段)32と、研磨ロール間隔調整部32の上部に配置され研磨ロール40の回転軸44が挿入されて研磨ロール40を回転可能に支持する軸受ブロック33と、伝達手段(不図示)を介して研磨ロール40と接続される研磨ロール駆動モータ(回転駆動部、不図示)とを備え、研磨ロール40を軸線O1回りに回転駆動するようになっている。   As shown in FIGS. 1 to 3, the polishing roll drive unit 30 includes, for example, a base portion 31 that is in a predetermined positional relationship with the polishing apparatus main body 10, and a polishing roll interval adjustment unit that is disposed above the base portion 31. (Spacing adjusting means) 32, a bearing block 33 that is disposed above the polishing roll spacing adjusting section 32 and in which the rotating shaft 44 of the polishing roll 40 is inserted to rotatably support the polishing roll 40, and transmission means (not shown) And a polishing roll drive motor (rotation drive unit, not shown) connected to the polishing roll 40 through the rotation roller, and the polishing roll 40 is driven to rotate about the axis O1.

研磨ロール間隔調整部(間隔調整手段)32は、例えば、ボールねじ等の微動手段を備えていて、研磨ロール40を上下方向(矢印T2方向)に高精度に移動するようになっている。   The polishing roll interval adjusting section (interval adjusting means) 32 includes fine movement means such as a ball screw, for example, and moves the polishing roll 40 in the vertical direction (arrow T2 direction) with high accuracy.

また、この実施形態では、左右の研磨ロール間隔調整部(間隔調整手段)32は、例えば、光リンクによって接続されていて、研磨ロール40は軸線O1の左右側で同期して上下方向に移動するようになっている。
このように名構成とすることにより、研磨ロール間隔調整部32は、定盤本体22の研磨側面22Fと研磨ロール40の表面の間隔を正確に調整することが可能とされている。
In this embodiment, the left and right polishing roll interval adjusting units (interval adjusting means) 32 are connected by, for example, an optical link, and the polishing roll 40 moves in the vertical direction in synchronization with the left and right sides of the axis O1. It is like that.
By using the name configuration in this way, the polishing roll interval adjusting unit 32 can accurately adjust the interval between the polishing side surface 22F of the surface plate body 22 and the surface of the polishing roll 40.

レーザ変位センサ(距離測定手段)50は、図1〜図3に示すように、例えば、定盤本体22の移動方向と直交する幅方向に配置される3つ(複数)のレーザ変位センサ51、52、53を備えている。   As shown in FIGS. 1 to 3, the laser displacement sensors (distance measuring means) 50 are, for example, three (plural) laser displacement sensors 51 arranged in the width direction orthogonal to the moving direction of the surface plate main body 22. 52 and 53 are provided.

レーザ変位センサ51、52、53は、研磨パッドPの表面にレーザビームを照射して、レーザビームが反射される時間を計測することによって、レーザ変位センサ51、52、53から研磨パッドPまでの距離を計測するようになっている。   The laser displacement sensors 51, 52, 53 irradiate the surface of the polishing pad P with a laser beam and measure the time during which the laser beam is reflected, so that the laser displacement sensors 51, 52, 53 to the polishing pad P are measured. It is designed to measure distance.

また、計測したレーザ変位センサ51、52、53から研磨パッドPまでの距離は、制御部(不図示)に送られて、制御部において、研磨ロール40と研磨パッドPの表面の間隔を算出するようになっている。   The measured distances from the laser displacement sensors 51, 52, 53 to the polishing pad P are sent to a control unit (not shown), and the control unit calculates the distance between the surface of the polishing roll 40 and the polishing pad P. It is like that.

また、制御部は、算出した研磨ロール40と研磨パッドPの表面の間隔に基づいて、研磨ロール間隔調整部(間隔調整手段)32における調整量(矢印T2方向の移動量)を算出して指示するようになっている。   Further, the control unit calculates and indicates the adjustment amount (movement amount in the direction of the arrow T2) in the polishing roll interval adjustment unit (interval adjustment unit) 32 based on the calculated interval between the polishing roll 40 and the surface of the polishing pad P. It is supposed to be.

冷却水供給ユニット(冷却水供給手段、不図示)は、例えば、研磨ロール40と定盤本体22に吸着保持された研磨パッドPの研磨部(摺接部)近傍に冷却水を供給することで、研磨で発生した熱を逃がすようになっている。
冷却水供給手段としては、例えば、冷却水を還流させる形式、供給した冷却水を系外に排出される形式(例えば、水道水)等、周知の種々の冷却水供給ユニットを用いることが可能である。
The cooling water supply unit (cooling water supply means, not shown) supplies cooling water to, for example, the vicinity of the polishing portion (sliding contact portion) of the polishing pad P adsorbed and held by the polishing roll 40 and the surface plate body 22. The heat generated by polishing is released.
As the cooling water supply means, for example, various well-known cooling water supply units such as a form for circulating the cooling water and a form for discharging the supplied cooling water out of the system (for example, tap water) can be used. is there.

次に、図6を参照して、研磨ロール40の概略構成について説明する。
図6は、研磨ロール40の概略構成を説明する縦断面図である。
研磨ロール40は、図6に示すように、円筒形状に形成されたロール胴部41と、ロール胴部41の第1端側に配置される端板42と、ロール胴部41の第2端側に配置される端板43と、回転軸44と、回転軸44の周囲にらせん状に形成されたスクリューコンベア45とを備えている。また、胴部41の表面には、ダイヤモンド砥粒(不図示)が電着されている。
Next, a schematic configuration of the polishing roll 40 will be described with reference to FIG.
FIG. 6 is a longitudinal sectional view illustrating a schematic configuration of the polishing roll 40.
As shown in FIG. 6, the polishing roll 40 includes a roll body 41 formed in a cylindrical shape, an end plate 42 disposed on the first end side of the roll body 41, and a second end of the roll body 41. An end plate 43 disposed on the side, a rotation shaft 44, and a screw conveyor 45 formed in a spiral shape around the rotation shaft 44 are provided. Further, diamond abrasive grains (not shown) are electrodeposited on the surface of the body portion 41.

また、回転軸44は、端板42及び端板43を貫通してロール胴部41の第1端側から第2端側にわたって配置されている。
また、回転軸44は、その第1端面から軸方向に伸びロール胴部41内の第1端側に開口する孔44Aと、第2端面から軸方向に伸びロール胴部41内の第2端側に開口する孔44Bとを有している。なお、孔44Aと孔44Bとは、回転軸44内では連通していない。
The rotating shaft 44 passes through the end plate 42 and the end plate 43 and is disposed from the first end side to the second end side of the roll body portion 41.
The rotating shaft 44 extends in the axial direction from the first end surface thereof, and has a hole 44A that opens in the first end side in the roll body portion 41 and extends in the axial direction from the second end surface, and the second end in the roll body portion 41. And a hole 44B opened to the side. Note that the hole 44A and the hole 44B do not communicate with each other within the rotating shaft 44.

そして、研磨ロール40を軸線O1周りに矢印R1方向に回転すると、回転軸44の第1端面から孔44Aを介してロール胴部41内に冷却水が流入し、この冷却水がスクリューコンベア45によってロール胴部41の内部を第1端側から第2端側に移動することによってロール胴部41の表面を冷却するようになっている。
そして、冷却水は孔44Bを介して回転軸44内に移動して、その後、回転軸44の第2端面から系外に排出されるようになっている。
Then, when the polishing roll 40 is rotated in the direction of the arrow R1 around the axis O1, cooling water flows into the roll body 41 from the first end surface of the rotating shaft 44 through the hole 44A. The surface of the roll body 41 is cooled by moving the inside of the roll body 41 from the first end side to the second end side.
Then, the cooling water moves into the rotary shaft 44 through the hole 44B, and is then discharged out of the system from the second end face of the rotary shaft 44.

また、図1〜図3に示すように、研磨ロール40は、吸引手段65によって、研磨パッドPを研磨したときに発生する粉塵を吸引するようになっている。
吸引手段65は、図1〜図3に示すように、例えば、吸引フード651と、吸引ブロア652とを備えている。
吸引フード651は、例えば、研磨ロール40の外方を上方から覆うとともに下方に開口部が形成されていて、定盤本体22に保持された研磨パッドPの研磨ロール40が摺接可能とされている。
Moreover, as shown in FIGS. 1 to 3, the polishing roll 40 sucks dust generated when the polishing pad P is polished by the suction means 65.
As shown in FIGS. 1 to 3, the suction means 65 includes, for example, a suction hood 651 and a suction blower 652.
The suction hood 651, for example, covers the outside of the polishing roll 40 from above and has an opening formed below, so that the polishing roll 40 of the polishing pad P held by the surface plate body 22 can be slidably contacted. Yes.

ここで、下方に形成された開口部は、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pとの間隔が、例えば、10mm程度とされている。
また、吸引フード651は、吸引ダクトを介して吸引ブロア652に接続されている。
Here, the gap between the opening formed below and the polishing pad (soft sheet to be polished) P is, for example, about 10 mm.
The suction hood 651 is connected to a suction blower 652 through a suction duct.

吸引ブロア652は、周知の吸引手段を適用することが可能であり、吸引ブロア652を作動させることによって、研磨ロール40が研磨して発生した粉塵等を吸引フード651で捕集して、吸引空気65Vとともに吸引ダクトを介して吸引ブロア652に吸引するようになっている。   As the suction blower 652, a known suction means can be applied. By operating the suction blower 652, dust generated by the polishing roll 40 being polished is collected by the suction hood 651, and suction air is collected. Along with 65V, the suction blower 652 is sucked through a suction duct.

制御部(不図示)は、例えば、研磨ロール駆動ユニット30、レーザ変位センサ(距離測定手段)50、減圧ポンプ(減圧手段)60、吸引手段65、冷却水供給ユニット(不図示)と接続されていて、予め設定した手順に基づいて、研磨ロール40の回転駆動、定盤移動台車12の移動を制御するとともに、上述のようにレーザ変位センサ(距離測定手段)50の計測値に基づいて研磨ロール40を矢印T2方向に移動するようになっている。
また、制御部(不図示)は、減圧ポンプ60、吸引手段65、冷却水供給ユニット(不図示)を制御するようになっている。
The control unit (not shown) is connected to, for example, the polishing roll drive unit 30, a laser displacement sensor (distance measuring means) 50, a decompression pump (decompression means) 60, a suction means 65, and a cooling water supply unit (not shown). Then, based on a preset procedure, the rotational drive of the polishing roll 40 and the movement of the surface plate moving carriage 12 are controlled, and the polishing roll is based on the measured value of the laser displacement sensor (distance measuring means) 50 as described above. 40 is moved in the direction of arrow T2.
The control unit (not shown) controls the decompression pump 60, the suction means 65, and the cooling water supply unit (not shown).

次に、図7を参照して、研磨パッド研磨装置100による研磨パッドの製造方法について説明する。研磨パッド研磨装置100による研磨パッドの製造は、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを研磨して完成品の研磨パッド(不図示)とする。
図7は、一実施形態に係る研磨パッド製造方法の概略を説明するフローチャートである。
Next, with reference to FIG. 7, the manufacturing method of the polishing pad by the polishing pad polishing apparatus 100 will be described. In the manufacture of the polishing pad by the polishing pad polishing apparatus 100, the polishing pad (soft sheet to be polished) P is polished to obtain a finished polishing pad (not shown).
FIG. 7 is a flowchart for explaining an outline of a polishing pad manufacturing method according to an embodiment.

(1)まず、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを保持していない定盤本体22と研磨ロール40によって研磨し共加工する(S01)。
定盤本体22と研磨ロール40を共加工することによって、定盤本体22を矢印T1方向に移動させた際に、研磨ロール40と定盤本体22の間隔がいずれの場所でも一定となる。
(1) First, the surface plate body 22 not holding the polishing pad (soft polishing sheet) P and the polishing roll 40 are polished and co-processed (S01).
By co-processing the surface plate main body 22 and the polishing roll 40, when the surface plate main body 22 is moved in the direction of the arrow T1, the interval between the polishing roll 40 and the surface plate main body 22 becomes constant at any location.

(2)次に、研磨ロール40と共加工された定盤本体22を減圧ポンプ60によって吸引し、定盤本体22の研磨側面22Fに研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを吸着保持させる(S02)。 (2) Next, the surface plate body 22 co-processed with the polishing roll 40 is sucked by the vacuum pump 60, and the polishing pad (soft material to be polished) P is adsorbed and held on the polishing side surface 22F of the surface plate body 22 (S02). ).

(3)次いで、研磨ロール40を回転駆動させながら定盤本体22と相対移動させて研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを研磨する(S03)。
S03においては、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pが所定の厚みに到達するまで研磨する。
(3) Next, the polishing pad 40 is rotated relative to the surface plate body 22 while being rotationally driven to polish the polishing pad (soft polishing sheet) P (S03).
In S03, polishing is performed until the polishing pad (soft sheet to be polished) P reaches a predetermined thickness.

以下、図8を参照して、研磨パッド研磨装置100による研磨パッド(被研磨軟質シート)Pの研磨について説明する。図8は、一実施形態に係る研磨パッド研磨装置100の動作の概略を説明する概念図である。   Hereinafter, with reference to FIG. 8, polishing of the polishing pad (soft sheet to be polished) P by the polishing pad polishing apparatus 100 will be described. FIG. 8 is a conceptual diagram illustrating an outline of the operation of the polishing pad polishing apparatus 100 according to one embodiment.

(1)まず、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを定盤本体22の研磨側面22Fに配置する。
(2)減圧ポンプ60を作動させて、定盤本体22の内部を吸引して、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを定盤本体22の研磨側面22Fに吸着保持する。
このとき、研磨ロール40の表面と研磨パッド(被研磨軟質シート)Pとは所定の間隔に設定されている。
(3)研磨ロール40を、矢印R1方向に回転させるとともに、定盤移動台車駆動部(相対移動駆動部)13のねじ本体132を矢印R2方向に回転させて、定盤移動台車12を矢印T1方向に往復移動させる。
(4)研磨ロール40を、矢印T2方向に下降させて、研磨ロール40を研磨パッドPに摺接研磨パッドPを研磨する。
また、レーザ変位センサ50によって検出した変位に基づいて、研磨ロール40を矢印T2方向に移動させて、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pの厚さがを完成品の研磨パッドとなるまで研磨する。
このようにして、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pから完成品の研磨パッドが製造される。
(1) First, the polishing pad (soft sheet to be polished) P is disposed on the polishing side surface 22F of the surface plate body 22.
(2) The decompression pump 60 is operated to suck the inside of the surface plate body 22, and the polishing pad (soft material to be polished) P is adsorbed and held on the polishing side surface 22 </ b> F of the surface plate body 22.
At this time, the surface of the polishing roll 40 and the polishing pad (soft polishing sheet) P are set at a predetermined interval.
(3) The polishing roll 40 is rotated in the direction of the arrow R1, and the screw body 132 of the surface plate moving carriage driving unit (relative movement driving unit) 13 is rotated in the direction of the arrow R2, so that the surface plate moving carriage 12 is moved to the arrow T1. Move back and forth in the direction.
(4) The polishing roll 40 is lowered in the direction of arrow T2, and the polishing roll 40 is slidably contacted with the polishing pad P to polish the polishing pad P.
Further, based on the displacement detected by the laser displacement sensor 50, the polishing roll 40 is moved in the direction of the arrow T2, and the polishing pad (soft material to be polished) P is polished until the thickness of the polishing pad becomes a finished polishing pad. .
In this way, a finished polishing pad is manufactured from the polishing pad (soft sheet to be polished) P.

一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置100によれば、三次元多孔質体によって形成された定盤本体22の内部を減圧して、定盤本体22の研磨側面22Fに配置した研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを吸着保持するので、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを容易かつ安定して保持させることができる。   According to the polishing pad manufacturing method and the polishing pad polishing apparatus 100 according to the embodiment, the inside of the surface plate body 22 formed of the three-dimensional porous body is decompressed and disposed on the polishing side surface 22F of the surface plate body 22. Since the polishing pad (soft polishing sheet) P is adsorbed and held, the polishing pad (soft polishing sheet) P can be held easily and stably.

また、 一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置100によれば、定盤本体22の研磨側面22Fに研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを吸着保持することで、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pと定盤本体22の間から気泡が確実に除去され、その状態で研磨ロール40と研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを相対移動させて研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを研磨するので、研磨後の研磨パッド(軟質シート)Pに凹凸が発生するのが抑制されて、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを高精度に研磨することができる。
その結果、高品質な研磨パッド(軟質シート)を効率的に製造することができ、ひいては、研磨パッド(軟質シート)を製造する際の生産性を向上することができる。
In addition, according to the polishing pad manufacturing method and the polishing pad polishing apparatus 100 according to the embodiment, the polishing pad (soft material to be polished) P is adsorbed and held on the polishing side surface 22F of the surface plate body 22, so Air bubbles are reliably removed from between the polishing soft sheet) P and the surface plate body 22, and in this state, the polishing roll 40 and the polishing pad (soft polishing sheet) P are moved relative to each other to polish the polishing pad (soft polishing sheet) P. Therefore, the occurrence of unevenness on the polished polishing pad (soft sheet) P is suppressed, and the polishing pad (soft sheet to be polished) P can be polished with high accuracy.
As a result, a high-quality polishing pad (soft sheet) can be efficiently manufactured, and as a result, productivity in manufacturing the polishing pad (soft sheet) can be improved.

一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置100によれば、三次元多孔質体が多孔質セラミックスであるので、研磨圧等により変形するのが抑制され、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを安定して研磨することができる。
また、定盤本体22が経年変化により摩耗、劣化することが抑制され、長期間にわたって安定した品質を確保することができる。
According to the polishing pad manufacturing method and the polishing pad polishing apparatus 100 according to the embodiment, since the three-dimensional porous body is porous ceramic, deformation due to polishing pressure or the like is suppressed, and the polishing pad (soft sheet to be polished) ) P can be stably polished.
Moreover, it is possible to suppress the wear and deterioration of the surface plate body 22 due to secular change, and to ensure stable quality over a long period of time.

一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置100によれば、定盤本体22を堅固な石定盤基部21に保持させて研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを研磨するので、定盤本体22がしっかりと保持されるとともに、高い減衰能を確保することができ、外部の振動によって研磨パッド(軟質シート)の研磨品質が影響されるのを抑制することができる。
その結果、研磨パッド(軟質シート)の研磨品質を効率的に向上することができる。
According to the polishing pad manufacturing method and polishing pad polishing apparatus 100 according to the embodiment, the polishing pad (soft sheet to be polished) P is polished by holding the surface plate main body 22 on the solid stone surface plate base 21. While the board body 22 is firmly held, high damping ability can be secured, and the influence of the polishing quality of the polishing pad (soft sheet) due to external vibration can be suppressed.
As a result, the polishing quality of the polishing pad (soft sheet) can be improved efficiently.

一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置100によれば、定盤本体22と研磨ロール40とが共加工されているので、定盤本体22と研磨ロール40の間隔が均一な間隔に維持されて、研磨品質がばらつくのを抑制することができる。
その結果、研磨パッド(軟質シート)の研磨精度を向上することができる。
According to the polishing pad manufacturing method and the polishing pad polishing apparatus 100 according to the embodiment, since the surface plate body 22 and the polishing roll 40 are co-processed, the space between the surface plate body 22 and the polishing roll 40 is uniform. Thus, variation in polishing quality can be suppressed.
As a result, the polishing accuracy of the polishing pad (soft sheet) can be improved.

一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置100によれば、研磨ロール40と研磨パッド(被研磨軟質シート)Pの表面との相対距離に基づいて、定盤本体22と研磨ロール40の間隔を調整しながら研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを研磨するので、研磨パッド(被研磨軟質シート)Pを効率的に所望の厚さの研磨パッド(軟質シート)に研磨することができる。   According to the polishing pad manufacturing method and the polishing pad polishing apparatus 100 according to one embodiment, the surface plate main body 22 and the polishing roll 40 are based on the relative distance between the polishing roll 40 and the surface of the polishing pad (soft polishing target sheet) P. Since the polishing pad (soft sheet to be polished) P is polished while adjusting the distance between the two, the polishing pad (soft sheet to be polished) P can be efficiently polished into a polishing pad (soft sheet) having a desired thickness. .

なお、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の変更をすることが可能である。
すなわち、軟質シート研磨装置の構成については、本発明の目的の範囲内で任意に設定することができる。
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention.
That is, the configuration of the soft sheet polishing apparatus can be arbitrarily set within the scope of the object of the present invention.

例えば、上記実施の形態においては、定盤本体22が、熱膨張率(線膨張率):1〜5×10−6/K、気孔率約40%、平均気孔径:約20μmのアルミナ(Al)系セラミックスからなる多孔質セラミックスにより形成されている場合について説明したが、上記以外の性質を有するアルミナ(Al)系セラミックスの他、ジルコニア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミをはじめとする他の種類の多孔質セラミックスを任意に設定することができる。 For example, in the above embodiment, the platen body 22 is made of alumina (Al with a thermal expansion coefficient (linear expansion coefficient) of 1 to 5 × 10 −6 / K, a porosity of about 40%, and an average pore diameter of about 20 μm. The case of being formed of porous ceramics made of 2 O 3 ) -based ceramics has been described. In addition to alumina (Al 2 O 3 ) -based ceramics having properties other than those described above, zirconia, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride Other types of porous ceramics such as can be arbitrarily set.

また、3次元多孔質体は、多孔質セラミックスに限定されることなく、アルミニウム、ステンレス鋼をはじめとする種々の金属材料やその他の材質からなる3次元多孔質体を用いることも可能である。   The three-dimensional porous body is not limited to porous ceramics, and a three-dimensional porous body made of various metal materials such as aluminum and stainless steel and other materials can also be used.

また、上記実施形態においては、被研磨軟質シートとして研磨パッドPを研磨して、製造する場合について説明したが、研磨パッドPに代えて、例えば、プラスチックス、ビニル、ゴム等からなる被研磨軟質シートを研磨してもよく、被研磨軟質シートの材質形態については任意に設定することができる。   In the above embodiment, the case where the polishing pad P is polished and manufactured as the soft soft sheet to be polished has been described. However, instead of the polishing pad P, the soft soft target made of plastics, vinyl, rubber or the like is used. The sheet may be polished, and the material form of the polished soft sheet can be arbitrarily set.

また、上記実施形態においては、研磨パッド保持定盤(軟質シート保持定盤)20が、石定盤基部21を備える場合について説明したが、石定盤基部21を備えるかどうかについては任意に設定することができる。   Moreover, in the said embodiment, although the polishing pad holding | maintenance surface plate (soft sheet holding | maintenance surface plate) 20 demonstrated the case provided with the stone surface plate base 21, it sets arbitrarily whether the stone surface plate base 21 is provided. can do.

また、上記実施形態においては、石定盤基部21に直交配置された溝により形成された減圧流路21Uによって、平面視矩形の切頭凸部212が形成されている場合について説明したが、減圧流路21U、切頭凸部212をどのような形態とするか、切頭凸部212を配置するかどうかは任意に設定することができる。   Moreover, although the said embodiment demonstrated the case where the truncated convex part 212 of planar view rectangle was formed by the pressure reduction flow path 21U formed of the groove | channel orthogonally arranged by the stone surface plate base 21, pressure reduction The form of the flow path 21U and the truncated convex portion 212 and whether the truncated convex portion 212 is arranged can be arbitrarily set.

また、上記実施形態においては、研磨ロール40と定盤本体22を共加工する場合について説明したが、研磨ロール40と定盤本体22を共加工するかどうかは任意に設定することができる。   Moreover, in the said embodiment, although the case where the grinding roll 40 and the surface plate main body 22 were co-processed was demonstrated, whether the grinding roll 40 and the surface plate main body 22 are co-processed can be set arbitrarily.

また、上記実施形態においては、研磨パッド保持定盤20が研磨ロール40に対して移動する場合について説明したが、研磨パッド保持定盤20が研磨ロール40のいずれを移動させるか双方を移動させるは、任意に設定することができる。   Moreover, in the said embodiment, although the case where the polishing pad holding | maintenance surface plate 20 moved with respect to the polishing roll 40 was demonstrated, which of the polishing roll 40 the polishing pad holding | maintenance surface plate 20 moves moves both. Can be set arbitrarily.

また、上記実施形態においては、レーザ変位センサ(距離測定手段)50の計測結果に基づいて研磨ロール40を昇降する場合について説明したが、レーザ変位センサ50をはじめとする距離測定手段を用いるかどうかについては、任意に設定することができる。   In the above embodiment, the case where the polishing roll 40 is moved up and down based on the measurement result of the laser displacement sensor (distance measuring means) 50 has been described, but whether or not the distance measuring means including the laser displacement sensor 50 is used. About can be set arbitrarily.

また、上記実施の形態においては、研磨ロール40が電着されたダイヤモンド砥粒を備えている場合について説明したが、ダイヤモンド砥粒が電着された研磨ロールに代えて、ダイヤモンド以外の砥粒が表面に分散配置された研磨ロールやサンドペーパ等のシート状研磨材が貼着された研磨ロールを用いてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the case where the polishing roll 40 was provided with the diamond abrasive grain electrodeposited was demonstrated, it replaced with the polishing roll electrodeposited with the diamond abrasive grain, and abrasive grains other than diamond were used. You may use the polishing roll by which sheet-like abrasives, such as the polishing roll distributed on the surface, and sandpaper, were stuck.

この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、被研磨軟質シートを高精度に研磨することにより高品質な軟質シートを製造することができるので産業上利用可能である。   According to the soft sheet manufacturing method and the soft sheet polishing apparatus according to the present invention, a high-quality soft sheet can be manufactured by polishing the soft sheet to be polished with high accuracy, so that it is industrially applicable.

O1 軸線(研磨ロール)
O2 軸線(ねじ本体)
P 研磨パッド(被研磨軟質シート)
13 研磨パッド保持定盤駆動部(相対移動駆動部)
20 研磨パッド保持定盤(軟質シート保持定盤)
21 石定盤基部
212 切頭凸部
21U 減圧流路
22 定盤本体
22F 研磨側面
32 研磨ロール間隔調整部(間隔調整手段)
50、51、52、53 レーザ変位センサ(距離測定手段)
60 減圧ポンプ(減圧手段)
65 吸引装置
100 研磨パッド研磨装置(軟質シート研磨装置)
O1 axis (polishing roll)
O2 axis (screw body)
P Polishing pad (soft sheet to be polished)
13 Polishing pad holding surface plate drive unit (relative movement drive unit)
20 Polishing pad holding surface plate (soft sheet holding surface plate)
21 stone surface plate base 212 truncated convex portion 21U decompression flow path 22 surface plate main body 22F polishing side surface 32 polishing roll interval adjusting portion (interval adjusting means)
50, 51, 52, 53 Laser displacement sensor (distance measuring means)
60 Pressure reducing pump (pressure reducing means)
65 Suction Device 100 Polishing Pad Polishing Device (Soft Sheet Polishing Device)

Claims (10)

三次元多孔質体によって形成された定盤本体の内部を減圧して、前記定盤本体の研磨側面に配置した被研磨軟質シートを吸引して保持し、
回転された研磨ロールと前記定盤本体に保持された被研磨軟質シートとを相対移動させることにより、前記被研磨軟質シートを研磨して軟質シートを製造することを特徴とする軟質シート製造方法。
Depressurize the inside of the platen body formed by the three-dimensional porous body, and suck and hold the polished soft sheet placed on the polishing side of the platen body,
A method for producing a soft sheet, comprising: producing a soft sheet by polishing the rotated soft sheet by relatively moving a rotated polishing roll and a soft soft sheet held on the platen body.
請求項1に記載の軟質シート製造方法であって、
前記三次元多孔質体として多孔質セラミックスを用いることを特徴とする軟質シート製造方法。
The soft sheet manufacturing method according to claim 1,
A method for producing a flexible sheet, comprising using porous ceramics as the three-dimensional porous body.
請求項1又は2に記載の軟質シート製造方法であって、
前記定盤本体を石定盤基部に保持させて前記被研磨軟質シートを研磨することを特徴とする軟質シート製造方法。
The soft sheet manufacturing method according to claim 1 or 2,
A soft sheet manufacturing method comprising polishing the soft sheet to be polished while holding the base plate body on a stone base plate base.
請求項1から3のいずれか1項に記載の軟質シート製造方法であって、
前記定盤本体と前記研磨ロールとは共加工されていることを特徴とする軟質シート製造方法。
The soft sheet manufacturing method according to any one of claims 1 to 3,
The method for producing a flexible sheet, wherein the surface plate main body and the polishing roll are co-processed.
請求項1から4のいずれか1項に記載の軟質シート製造方法であって、
前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離に基づいて、前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整しながら前記被研磨軟質シートを研磨することを特徴とする軟質シート製造方法。
The soft sheet manufacturing method according to any one of claims 1 to 4,
A soft sheet manufacturing method comprising polishing the soft sheet to be polished while adjusting a distance between the main body and the polishing roll based on a relative distance between the polishing roll and the surface of the soft sheet to be polished.
定盤本体を有し、前記定盤本体の研磨側面に軟質シートを保持する軟質シート保持定盤と、
前記軟質シート保持定盤に対して回転しながら相対移動可能とされる研磨ロールと、
前記研磨ロールを回転駆動する回転駆動部と、
前記軟質シート保持定盤と前記研磨ロールとを相対移動する相対移動駆動部と、
前記定盤本体の内部を減圧する減圧手段と、
を備え、
前記定盤本体は三次元多孔質体によって形成され、
前記減圧手段によって前記定盤本体の内部を減圧することにより、前記研磨側面に配置された軟質シートを吸引して保持するように構成されていることを特徴とする軟質シート研磨装置。
A soft sheet holding surface plate that has a surface plate body and holds a soft sheet on the polishing side of the surface plate body;
A polishing roll capable of relative movement while rotating with respect to the soft sheet holding surface plate,
A rotation drive unit for rotating the polishing roll;
A relative movement drive unit that relatively moves the soft sheet holding surface plate and the polishing roll;
Decompression means for decompressing the interior of the platen body,
With
The platen body is formed of a three-dimensional porous body,
A soft sheet polishing apparatus configured to suck and hold the soft sheet disposed on the polishing side surface by decompressing the inside of the platen body by the decompression means.
請求項6に記載の軟質シート研磨装置であって、
三次元多孔質体は、
多孔質セラミックスにより形成されていることを特徴とする軟質シート研磨装置。
The soft sheet polishing apparatus according to claim 6,
Three-dimensional porous material
A soft sheet polishing apparatus characterized by being made of porous ceramics.
請求項6又は7に記載の軟質シート研磨装置であって、
前記軟質シート保持定盤は、
前記定盤本体を保持する石定盤基部を備えていることを特徴とする軟質シート研磨装置。
The soft sheet polishing apparatus according to claim 6 or 7,
The flexible sheet holding surface plate is
A soft sheet polishing apparatus comprising a stone surface plate base for holding the surface plate body.
請求項6から8のいずれか1項に記載の軟質シート研磨装置であって、
前記定盤本体と前記研磨ロールとは、共加工されていることを特徴とする軟質シート研磨装置。
The soft sheet polishing apparatus according to any one of claims 6 to 8,
The soft sheet polishing apparatus, wherein the surface plate main body and the polishing roll are co-processed.
請求項6から9のいずれか1項に記載の軟質シート研磨装置であって、
前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離を測定する距離測定手段と、
前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整する間隔調整手段と、
を備え、
前記距離測定手段が測定した前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離に基づいて、前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整しながら前記被研磨軟質シートを研磨するように構成されていることを特徴とする軟質シート研磨装置。
The soft sheet polishing apparatus according to any one of claims 6 to 9,
A distance measuring means for measuring a relative distance between the polishing roll and the surface of the soft sheet to be polished;
An interval adjusting means for adjusting an interval between the platen body and the polishing roll;
With
Based on the relative distance between the polishing roll and the surface of the soft sheet to be polished measured by the distance measuring means, the soft sheet to be polished is polished while adjusting the distance between the surface plate body and the polishing roll. A soft sheet polishing apparatus characterized by being made.
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