JP2018046231A - プリント配線板 - Google Patents
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Abstract
【課題】 信頼性の高いプリント配線板の提供【解決手段】 実施形態のプリント配線板は、第1導体回路48Aと第1導体回路48Aに隣接する第2導体回路48Bを有する第1導体層48と、第1導体回路48Aと第2導体回路48B間のスペースSPを充填すると共に第1導体層48上に形成されている樹脂絶縁層50と、樹脂絶縁層50上に形成されている第2導体層58を有する。そして、第1導体層48の厚みT1は1μm以上、15μm以下であり、スペースSPの幅Sは2μm以上、7μm以下であり、樹脂絶縁層50は複数の無機粒子を含み、複数の無機粒子の平均粒子径D1は0.05μm以上、1.0μm以下であり、樹脂絶縁層50中に含まれる無機粒子の量は35w%以上、75w%以下である。【選択図】 図1
Description
本発明は、無機粒子を含有する樹脂絶縁層を有するプリント配線板に関する。
特許文献1は無機粒子を含む層間絶縁層を有するプリント配線板を開示している。特許文献1では、無機フィラーの含有量は25〜55wt%である。
[特許文献1の課題]
特許文献1は、8段落で、無機フィラーの含有量と導体回路間のボイドについて述べている。8段落によれば、特許文献1は導体回路間のボイドの原因を無機フィラーの含有量と考えていると推察される。そのため、ボイドを改善する方法として、無機フィラーの含有量の範囲を狭くする方法以外の検討が行われていないと予想される。
特許文献1は、8段落で、無機フィラーの含有量と導体回路間のボイドについて述べている。8段落によれば、特許文献1は導体回路間のボイドの原因を無機フィラーの含有量と考えていると推察される。そのため、ボイドを改善する方法として、無機フィラーの含有量の範囲を狭くする方法以外の検討が行われていないと予想される。
[特許文献1の課題を解決するための手段]
本発明に係るプリント配線板は、第1導体回路と前記第1導体回路に隣接する第2導体回路を有する第1導体層と、前記第1導体回路と前記第2導体回路間のスペースを充填すると共に前記第1導体層上に形成されている樹脂絶縁層と、前記樹脂絶縁層上に形成されている第2導体層と、を有する。そして、前記第1導体層の厚みは1μm以上、15μm以下であり、前記スペースの幅は2μm以上、7μm以下であり、前記樹脂絶縁層は複数の無機粒子を含み、前記複数の無機粒子の平均粒子径は0.05μm以上、1.0μm以下であり、前記樹脂絶縁層中に含まれる前記無機粒子の量は35w%以上、75w%以下である。
本発明に係るプリント配線板は、第1導体回路と前記第1導体回路に隣接する第2導体回路を有する第1導体層と、前記第1導体回路と前記第2導体回路間のスペースを充填すると共に前記第1導体層上に形成されている樹脂絶縁層と、前記樹脂絶縁層上に形成されている第2導体層と、を有する。そして、前記第1導体層の厚みは1μm以上、15μm以下であり、前記スペースの幅は2μm以上、7μm以下であり、前記樹脂絶縁層は複数の無機粒子を含み、前記複数の無機粒子の平均粒子径は0.05μm以上、1.0μm以下であり、前記樹脂絶縁層中に含まれる前記無機粒子の量は35w%以上、75w%以下である。
本発明の実施形態のプリント配線板の樹脂絶縁層に含まれる無機粒子の平均粒子径は0.05μm以上、1.0μm以下である。そのため、樹脂絶縁層の粘度は高くなりやすい。更に、第1導体回路と前記第2導体回路間のスペースの幅は2μm以上、7μm以下であるので、第1導体回路と第2導体回路間のスペースが狭い。従って、第1導体回路と第2導体回路間のスペースに樹脂絶縁層を充填することが難しい。しかしながら、第1導体層の厚みが1μm以上、15μm以下であるので、第1導体層回路や第2導体回路の厚みが薄い。従って、樹脂絶縁層の粘度が高くても、第1導体回路と第2導体回路間のスペースに樹脂絶縁層を充填することが容易になる。第1導体回路と第2導体回路間のスペースにボイドが生じ難い。
[実施形態]
図1(C)は実施形態のプリント配線板10を示す。
プリント配線板10は、第1面F1と第1面F1と反対側の第2面S1とを有する樹脂絶縁層50と樹脂絶縁層50を挟む第1導体層48と第2導体層58と樹脂絶縁層50を貫通し第1導体層48と第2導体層58を接続するビア導体60を有する。
図1(C)は実施形態のプリント配線板10を示す。
プリント配線板10は、第1面F1と第1面F1と反対側の第2面S1とを有する樹脂絶縁層50と樹脂絶縁層50を挟む第1導体層48と第2導体層58と樹脂絶縁層50を貫通し第1導体層48と第2導体層58を接続するビア導体60を有する。
第1導体層48は第1面F1上に形成されていて、樹脂絶縁層50内に埋まっている。第1導体層48は厚みT1を有する。厚みT1は1μm以上、15μm以下である。厚みT1の例は6μmである。
第1導体層48は第1導体回路48Aと第1導体回路48Aに隣接する第2導体回路48Bを有する。第1導体回路48Aと第2導体回路48Bとの間にスペースSPが存在する。第1導体回路48Aと第2導体回路48Bとの間の距離がスペースSPの距離(幅)Sである。幅Sは2μm以上、7μm以下である。幅Sの例は4μmである。幅Sは5μm以下であることが好ましい。プリント配線板10が小さくなる。
樹脂絶縁層50はスペースSPを充填している。さらに、樹脂絶縁層50は第1導体層48と第2導体層58の間に形成されている。樹脂絶縁層50は第1導体層48上に形成されている。
樹脂絶縁層50は、無機粒子と樹脂で形成される。樹脂絶縁層50は添加剤として、硬化剤等を含んでもよい。但し、樹脂絶縁層50は繊維からなる補強材を含まないことが好ましい。繊維からなる補強材の例はガラスクロスやガラス繊維や樹脂繊維である。樹脂絶縁層50は球形の無機粒子以外の補強材を含まないことが好ましい。
樹脂絶縁層50は、複数の無機粒子を含む。無機粒子の例はシリカやアルミナである。樹脂絶縁層50に含まれる無機粒子の平均粒子径D1は0.05μm以上、1μm以下である。複数の無機粒子の内、最大な無機粒子の径(最大粒子径)D2は1.2μm以上、1.8μm以下である。樹脂絶縁層50中に含まれる無機粒子の含有量は35wt%以上、75w%である。
樹脂絶縁層50は厚みT2を有する。厚みT2は第1導体層48と第2導体層58との間の距離ある。厚みT2は3μm以上、15μm以下である。厚みT2の例は8μmである。厚みT2は、4.5μm以上、10.5μm以下であることが好ましい。
第2導体層58は第2面S1上に形成されていて、第2面S1から突出している。
実施形態のプリント配線板では、樹脂絶縁層50に含まれる無機粒子の平均粒子径D1が小さい。最大粒子径D2が小さい。そのため、樹脂絶縁層50がスペースSP内と第1導体層48上に形成される時、樹脂絶縁層50の粘度が高くなりやすい。更に、第1導体回路48Aと第2導体回路48B間のスペースは2μm以上、7μm以下であるので、第1導体回路48Aと第2導体回路48B間のスペースが狭い。従って、第1導体回路48Aと第2導体回路48B間のスペースに樹脂絶縁層50を充填することが難しい。しかしながら、第1導体層48の厚みT1が1μm以上、15μm以下であるので、第1導体回路48Aや第2導体回路48Bの厚みT1が薄い。厚みT1は7.5μm以下であることが好ましい。従って、樹脂絶縁層50の粘度が高くても、第1導体回路48Aと第2導体回路48B間のスペースSPに樹脂絶縁層50を充填することが容易になる。第1導体回路48Aと第2導体回路48B間のスペースに形成されている樹脂絶縁層50内にボイドが生じ難い。また、樹脂絶縁層50の厚みT2は3μm以上、15μm以下なので、厚みT2が薄い。そのため、圧力等の力がスペースSP内の樹脂絶縁層50に伝わりやすい。従って、スペースSP内の樹脂絶縁層50内にボイドが残り難い。また、スペースSP内の樹脂絶縁層50内にボイドが入ったとしても、ボイドが外部に移動しやすい。
図1は実施形態に係るプリント配線板10の製造方法を示している。
基板30上に第1導体回路48Aと第2導体回路48Bを含む第1導体層48が形成される(図1(A))。実施形態では、第1導体層48の厚みT1は2μm以上、12μm以下である。プリント配線板10を薄くすることができる。別の実施形態では、厚みT1は5μmである。第1導体回路48Aと第2導体回路48Bとの間のスペースSPの幅Sは3μm以上、7μm以下である。幅Sは、3μm以上、5μm以下であることが好ましい。実施形態では、幅Sは5μmである。
樹脂絶縁層50を形成するための樹脂フィルム50αが準備される。樹脂フィルム50αが第1導体層48と基板30上に加熱プレスで積層される。この時、樹脂フィルム50αが柔らかくなるので、スペースSPに樹脂フィルム50αが充填される(図1(B))。その後、樹脂フィルム50αが硬化する。スペースSP内と第1導体層48上に樹脂絶縁層50が形成される。例えば、厚みT2は6μmであり、樹脂絶縁層50中の無機粒子の含有量は70wt%である。無機粒子は、シリカであり、無機粒子の形は球である。径D1は0.07μmであり、径D2は、1.5μmである。
基板30上に第1導体回路48Aと第2導体回路48Bを含む第1導体層48が形成される(図1(A))。実施形態では、第1導体層48の厚みT1は2μm以上、12μm以下である。プリント配線板10を薄くすることができる。別の実施形態では、厚みT1は5μmである。第1導体回路48Aと第2導体回路48Bとの間のスペースSPの幅Sは3μm以上、7μm以下である。幅Sは、3μm以上、5μm以下であることが好ましい。実施形態では、幅Sは5μmである。
樹脂絶縁層50を形成するための樹脂フィルム50αが準備される。樹脂フィルム50αが第1導体層48と基板30上に加熱プレスで積層される。この時、樹脂フィルム50αが柔らかくなるので、スペースSPに樹脂フィルム50αが充填される(図1(B))。その後、樹脂フィルム50αが硬化する。スペースSP内と第1導体層48上に樹脂絶縁層50が形成される。例えば、厚みT2は6μmであり、樹脂絶縁層50中の無機粒子の含有量は70wt%である。無機粒子は、シリカであり、無機粒子の形は球である。径D1は0.07μmであり、径D2は、1.5μmである。
樹脂絶縁層50にCO2レーザで開口52が形成される。その後、セミアディティブ法で樹脂絶縁層50の第2面S1上に第2導体層58が形成される。同時に、開口52内に第1導体層48と第2導体層58を接続するビア導体60が形成される(図1(C))。
基板30は導体層と樹脂絶縁層とビア導体を有する回路基板でもよい。あるいは、基板30はプリント配線板10を形成するためのキャリアでもよい。基板30がキャリアであると、キャリアは除去され、図1(D)に示されるプリント配線板(別例のプリント配線板)10が得られる。
10 プリント配線板
30 基板
48 第1導体層
50 樹脂絶縁層
50α 樹脂フィルム
58 第2導体層
30 基板
48 第1導体層
50 樹脂絶縁層
50α 樹脂フィルム
58 第2導体層
Claims (5)
- 第1導体回路と前記第1導体回路に隣接する第2導体回路を有する第1導体層と、
前記第1導体回路と前記第2導体回路間のスペースを充填すると共に前記第1導体層上に形成されている樹脂絶縁層と、
前記樹脂絶縁層上に形成されている第2導体層と、を有するプリント配線板であって、
前記第1導体層の厚みは1μm以上、15μm以下であり、前記スペースの幅は2μm以上、7μm以下であり、前記樹脂絶縁層は複数の無機粒子を含み、前記複数の無機粒子の平均粒子径は0.05μm以上、1.0μm以下であり、前記樹脂絶縁層中に含まれる前記無機粒子の量は35w%以上、75w%以下である。 - 請求項1のプリント配線板であって、前記無機粒子の最大粒子径は1.8μm以下である。
- 請求項1のプリント配線板であって、前記樹脂絶縁層の厚みは3μm以上、15μm以下である。
- 請求項3のプリント配線板であって、前記樹脂絶縁層の厚みは10μm以下である。
- 請求項1のプリント配線板であって、前記樹脂絶縁層は繊維からなる補強材を含まない。
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