JP2017220483A - 真空チャック及び真空チャックの製造方法 - Google Patents
真空チャック及び真空チャックの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017220483A JP2017220483A JP2016111674A JP2016111674A JP2017220483A JP 2017220483 A JP2017220483 A JP 2017220483A JP 2016111674 A JP2016111674 A JP 2016111674A JP 2016111674 A JP2016111674 A JP 2016111674A JP 2017220483 A JP2017220483 A JP 2017220483A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- seal member
- vacuum chuck
- annular recess
- wall
- suction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 23
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 40
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 32
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 19
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 claims description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 3
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
基板を吸着して保持する吸着台と、環状の弾性素材からなるシール部材とを備える真空チャックであって、
前記吸着台には、
前記吸着台の表面に開口する開口部を有する吸引経路と、
前記表面から窪み且つ前記開口部を囲うように環状に形成された環状凹部と、
が設けられ、
前記シール部材は、前記環状凹部に嵌合され、
前記真空チャックは、前記吸引経路からの吸引によって、前記吸着台の表面と前記基板と前記シール部材とで画成される空間を負圧として負圧領域を形成することにより、前記吸着台の表面に前記基板を吸着保持するように構成されているものであり、
前記シール部材の内周面であって前記環状凹部に嵌合される嵌合部の少なくとも一部分は、前記環状凹部の内側の側壁である内壁の径よりも小径に形成された小径部であり、
前記シール部材は、前記小径部を押し広げるようにして前記内壁に嵌合されていることを特徴とする。
表面に開口する開口部を有する吸引経路と、前記表面から窪み且つ前記開口部を囲うように環状に形成された環状凹部と、が設けられた吸着台と、
前記環状凹部に嵌合する環状の弾性素材からなるシール部材と、
を備え、
前記吸引経路からの吸引によって、前記吸着台の前記表面と前記吸着台に載置される基板と前記シール部材とで画成される空間を負圧として負圧領域を形成することにより、前記吸着台の前記表面に前記基板を吸着保持するように構成されている真空チャックの製造方法であって、
前記シール部材の内周面であって前記環状凹部に嵌合される少なくとも一部分を、前記環状凹部の内側の側壁である内壁の径よりも小径に形成するシール部材の製造工程と、
前記シール部材の小径に形成された小径部を押し広げて前記内壁に嵌合させることにより前記シール部材を前記環状凹部に嵌合させるシール部材の取付工程とを有することを特徴とする。
図1から図4を参照して、本発明の真空チャックの第1実施形態を説明する。図1を参照して、第1実施形態の真空チャック1は、厚みが比較的薄い(例えば1mm〜2mm程度)略円板状のセラミックスからなる吸着台2を備えている。吸着台2は、炭化珪素、窒化アルミニウム、アルミナまたは窒化ケイ素などを主原料とする無機質固体粉末を焼成することにより作製される。
図5、図6及び図7を参照して、本発明の真空チャックの第2実施形態について説明する。なお、第2実施形態において第1実施形態と同一のものは同一の符号を付して説明を省略する。
図8を参照して、本発明の第3実施形態の真空チャック1を説明する。第3実施形態の真空チャック1は、シール部材7の嵌合部8が環状凹部6に嵌合される前から傾斜部9が傾斜している点を除いて第1実施形態のものと同一に構成されている。
次に図9を参照して、本発明の第4実施形態の真空チャック1を説明する。第4実施形態の真空チャック1は、シール部材7の嵌合部8が環状凹部6に嵌合される前から傾斜部9が径方向外側へ拡径するように広がっており、かつ、嵌合部8も傾斜部9と同一の傾斜角度で傾斜している点を除いて、第2実施形態のものと同一に構成されている。
次に図10A及び図10Bを参照して、本発明の第5実施形態の真空チャック1を説明する。第5実施形態の真空チャック1においては、下端から上端にかけて同一の径のシール部材7の下端部に位置する嵌合部8は、下方に向かって肉厚が厚くなるように肉厚に形成された肉厚部とされている。シール部材7の嵌合部8には、環状(Oリング形状のみならずC字形状を含む)の差込部材12が取り付けられている。図10Aに分解して示すように、差込部材12はシール部材7の径よりも大径に形成されており、環状凹部6に圧入できるように、環状凹部6と略同一径に形成されている。
上述した実施形態以外にも、シール部材7および環状凹部6のそれぞれの形状がさまざまに変更されてもよい。たとえば、シール部材7が略円形状の断面を有し、その上端部が吸着台2の表面2a(吸着平面)よりも上方に突出しているトーラス状に形成されていてもよい。同じく、環状凹部6が下底よりも短い上底が上側にある略台形状の断面を有するように形成されていてもよい。環状凹部6の底面よりも上側の開口部の幅が小さいため、環状凹部6がシール部材7をしっかりと保持することができ、シール部材7の環状凹部6からの脱落を防止することができる。
2 吸着台
2a 表面(吸着面、吸着平面)
3 吸引経路
3a 開口部
4 リフトピン
5 リフト孔
6 環状凹部
6a 内壁
6b 外壁
7 シール部材
8 嵌合部
9 傾斜部
10 受入部(第1実施形態)
10’ 受入部(第2実施形態)
11 固定部材
12 差込部材
12a 差込溝
W ウエハ(基板)
C 搬送アーム
Claims (8)
- 基板を吸着して保持する吸着台と、環状の弾性素材からなるシール部材とを備える真空チャックであって、
前記吸着台には、
前記吸着台の表面に開口する開口部を有する吸引経路と、
前記表面から窪み且つ前記開口部を囲うように環状に形成された環状凹部と、
が設けられ、
前記シール部材は、前記環状凹部に嵌合され、
前記真空チャックは、前記吸引経路からの吸引によって、前記吸着台の表面と前記基板と前記シール部材とで画成される空間を負圧として負圧領域を形成することにより、前記吸着台の表面に前記基板を吸着保持するように構成されているものであり、
前記シール部材の内周面であって前記環状凹部に嵌合される嵌合部の少なくとも一部分は、前記環状凹部の内側の側壁である内壁の径よりも小径に形成された小径部であり、
前記シール部材は、前記小径部を押し広げるようにして前記内壁に嵌合されていることを特徴とする真空チャック。 - 請求項1記載の真空チャックであって、
前記環状凹部には、前記内壁との間で前記シール部材を挟んで固定する環状の固定部材が嵌合されていることを特徴とする真空チャック。 - 請求項1又は請求項2に記載の真空チャックであって、
前記環状凹部は、前記内壁に対向する外側の側壁である外壁を備え、
前記環状凹部には、前記外壁と前記シール部材の外周面との間に位置させて固定部材が嵌合され、
前記固定部材は、前記外壁で支えられることによって、前記内壁との間で前記シール部材を挟んで固定していることを特徴とする真空チャック。 - 請求項1から請求項3の何れか1項に記載の真空チャックであって、
前記シール部材は、
前記環状凹部に嵌合する嵌合部と、
前記嵌合部から前記吸着台の中央に向かって傾斜して前記吸着台の表面よりも上方へ延びる傾斜部と、
を備え、
前記傾斜部は、前記嵌合部が前記内壁に嵌合される前では傾斜しておらず、前記嵌合部の上端から上方へ延びて前記嵌合部と同一径に形成されており、
前記傾斜部は、前記嵌合部が前記内壁に嵌合されるときに押し広げられることにより、前記嵌合部が広がると共に前記傾斜部の下端部も共に押し広げられて、上方に向かうに従って次第に縮径するように傾斜していることを特徴とする真空チャック。 - 請求項1から請求項4の何れか1項に記載の真空チャックであって、
前記シール部材は、
前記環状凹部に嵌合する嵌合部と、
前記嵌合部から前記吸着台の中央に向かって傾斜して前記吸着台の表面よりも上方へ延びる傾斜部と、
を備え、
前記傾斜部は、前記基板が前記吸着台に吸着されるときに前記基板に押されるようにして弾性的に内側へ傾倒可能であり、
前記吸着台の表面には、前記環状凹部の径方向内側の開口端縁部に位置させて、傾倒する前記傾斜部を受け入れ可能に窪んだ環状の受入部が設けられていることを特徴とする真空チャック。 - 請求項1から請求項3の何れか1項に記載の真空チャックであって、
前記シール部材は、
前記環状凹部に嵌合する嵌合部と、
前記嵌合部から上方へ向かって次第に拡径するように傾斜しながら前記吸着台の表面よりも上方へ延びる傾斜部と、
を備え、
前記傾斜部は、前記基板が前記吸着台に吸着されるときに前記基板に押されるようにして弾性的に外側へ傾倒可能であり、
前記吸着台の表面には、前記環状凹部の径方向外側の開口端縁部に位置させて、傾倒する前記傾斜部を受け入れ可能に窪んだ環状の受入部が設けられていることを特徴とする真空チャック。 - 請求項1、請求項4から請求項6の何れか1項に記載の真空チャックであって、
前記シール部材の下端部には、下方に向かって肉厚が厚くなる肉厚部が形成され、
前記シール部材の下端部には、前記肉厚部が差し込まれる前記肉厚部と同一形状の差込溝を備える、前記シール部材とは別部材の差込部材が取り付けられ、
前記シール部材は、前記差込部材を介して前記環状凹部に固定されていることを特徴とする真空チャック。 - 表面に開口する開口部を有する吸引経路と、前記表面から窪み且つ前記開口部を囲うように環状に形成された環状凹部と、が設けられた吸着台と、
前記環状凹部に嵌合する環状の弾性素材からなるシール部材と、
を備え、
前記吸引経路からの吸引によって、前記吸着台の前記表面と前記吸着台に載置される基板と前記シール部材とで画成される空間を負圧として負圧領域を形成することにより、前記吸着台の前記表面に前記基板を吸着保持するように構成されている真空チャックの製造方法であって、
前記シール部材の内周面であって前記環状凹部に嵌合される少なくとも一部分を、前記環状凹部の内側の側壁である内壁の径よりも小径に形成するシール部材の製造工程と、
前記シール部材の小径に形成された小径部を押し広げて前記内壁に嵌合させることにより前記シール部材を前記環状凹部に嵌合させるシール部材の取付工程とを有することを特徴とする真空チャックの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016111674A JP6725326B2 (ja) | 2016-06-03 | 2016-06-03 | 真空チャック及び真空チャックの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016111674A JP6725326B2 (ja) | 2016-06-03 | 2016-06-03 | 真空チャック及び真空チャックの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017220483A true JP2017220483A (ja) | 2017-12-14 |
JP6725326B2 JP6725326B2 (ja) | 2020-07-15 |
Family
ID=60657768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016111674A Active JP6725326B2 (ja) | 2016-06-03 | 2016-06-03 | 真空チャック及び真空チャックの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6725326B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020072238A (ja) * | 2018-11-02 | 2020-05-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
CN112309947A (zh) * | 2019-07-29 | 2021-02-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种吸附装置、曝光台、光刻设备及吸附方法 |
JP2021024048A (ja) * | 2019-08-07 | 2021-02-22 | 佐々木工機株式会社 | 固定用冶具 |
JP7482825B2 (ja) | 2021-04-19 | 2024-05-14 | 三菱電機株式会社 | 検査装置、半導体基板の検査方法、半導体基板の製造方法、および半導体装置の製造方法 |
JP7564586B1 (ja) | 2023-12-27 | 2024-10-09 | Aiメカテック株式会社 | 基板保持装置、及び基板処理装置 |
JP7636281B2 (ja) | 2021-07-05 | 2025-02-26 | 株式会社ディスコ | 板状ワークを吸引保持するチャックテーブル、チャックテーブルを備える加工装置、及び加工装置を用いた板状ワークの加工方法 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS44413Y1 (ja) * | 1964-05-27 | 1969-01-10 | ||
JPS5869939U (ja) * | 1981-11-06 | 1983-05-12 | 株式会社東芝 | 保持装置 |
JPS5917159U (ja) * | 1982-07-27 | 1984-02-02 | 株式会社東芝 | 真空チヤツク装置 |
JPS59187147U (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-12 | 日本電信電話株式会社 | シリコンウエハ真空吸着盤 |
JPS6240367U (ja) * | 1985-08-30 | 1987-03-10 | ||
JPS62100835U (ja) * | 1985-12-16 | 1987-06-26 | ||
JPS6426648U (ja) * | 1987-07-08 | 1989-02-15 | ||
JPH03289154A (ja) * | 1990-04-05 | 1991-12-19 | Toshiba Corp | 半導体ウエーハチャック装置 |
JP2004228453A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2005528794A (ja) * | 2002-05-31 | 2005-09-22 | エイエスエム・ナトゥール・インコーポレーテッド | 全面電気化学めっきのためにウェハの裏側をシールする方法及び装置 |
JP2006038069A (ja) * | 2004-07-26 | 2006-02-09 | Nok Corp | 密封装置 |
JP2011032938A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Starlite Co Ltd | 温度補償型シール装置 |
JP2014203967A (ja) * | 2013-04-04 | 2014-10-27 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル |
CN105161449A (zh) * | 2014-05-30 | 2015-12-16 | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | 晶圆固定装置 |
US20160154313A1 (en) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Holding device, lithography apparatus, and method for manufacturing item |
-
2016
- 2016-06-03 JP JP2016111674A patent/JP6725326B2/ja active Active
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS44413Y1 (ja) * | 1964-05-27 | 1969-01-10 | ||
JPS5869939U (ja) * | 1981-11-06 | 1983-05-12 | 株式会社東芝 | 保持装置 |
JPS5917159U (ja) * | 1982-07-27 | 1984-02-02 | 株式会社東芝 | 真空チヤツク装置 |
JPS59187147U (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-12 | 日本電信電話株式会社 | シリコンウエハ真空吸着盤 |
JPS6240367U (ja) * | 1985-08-30 | 1987-03-10 | ||
JPS62100835U (ja) * | 1985-12-16 | 1987-06-26 | ||
JPS6426648U (ja) * | 1987-07-08 | 1989-02-15 | ||
JPH03289154A (ja) * | 1990-04-05 | 1991-12-19 | Toshiba Corp | 半導体ウエーハチャック装置 |
JP2005528794A (ja) * | 2002-05-31 | 2005-09-22 | エイエスエム・ナトゥール・インコーポレーテッド | 全面電気化学めっきのためにウェハの裏側をシールする方法及び装置 |
JP2004228453A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2006038069A (ja) * | 2004-07-26 | 2006-02-09 | Nok Corp | 密封装置 |
JP2011032938A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Starlite Co Ltd | 温度補償型シール装置 |
JP2014203967A (ja) * | 2013-04-04 | 2014-10-27 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル |
CN105161449A (zh) * | 2014-05-30 | 2015-12-16 | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | 晶圆固定装置 |
US20160154313A1 (en) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Holding device, lithography apparatus, and method for manufacturing item |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020072238A (ja) * | 2018-11-02 | 2020-05-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP7291470B2 (ja) | 2018-11-02 | 2023-06-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
CN112309947A (zh) * | 2019-07-29 | 2021-02-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种吸附装置、曝光台、光刻设备及吸附方法 |
CN112309947B (zh) * | 2019-07-29 | 2024-07-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种吸附装置、曝光台、光刻设备及吸附方法 |
JP2021024048A (ja) * | 2019-08-07 | 2021-02-22 | 佐々木工機株式会社 | 固定用冶具 |
JP7297211B2 (ja) | 2019-08-07 | 2023-06-26 | 佐々木工機株式会社 | 固定用冶具 |
JP7482825B2 (ja) | 2021-04-19 | 2024-05-14 | 三菱電機株式会社 | 検査装置、半導体基板の検査方法、半導体基板の製造方法、および半導体装置の製造方法 |
JP7636281B2 (ja) | 2021-07-05 | 2025-02-26 | 株式会社ディスコ | 板状ワークを吸引保持するチャックテーブル、チャックテーブルを備える加工装置、及び加工装置を用いた板状ワークの加工方法 |
JP7564586B1 (ja) | 2023-12-27 | 2024-10-09 | Aiメカテック株式会社 | 基板保持装置、及び基板処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6725326B2 (ja) | 2020-07-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6725326B2 (ja) | 真空チャック及び真空チャックの製造方法 | |
CN107851604B (zh) | 真空吸附构件及真空吸附方法 | |
WO2017086333A1 (ja) | 真空チャック | |
TWI690017B (zh) | 基板保持裝置 | |
JP2009117567A (ja) | 真空チャック | |
JP6325933B2 (ja) | 真空チャック | |
JP6789006B2 (ja) | 真空吸着装置 | |
KR102071123B1 (ko) | 기판유지장치, 기판유지부재 및 기판유지방법 | |
JP7021969B2 (ja) | 真空吸着部材および真空吸着方法 | |
JP6894772B2 (ja) | 真空チャック | |
JP6680649B2 (ja) | 真空吸着部材 | |
WO2019163214A1 (ja) | ウエハ保持台 | |
JP6581495B2 (ja) | 基板保持装置 | |
JP7125326B2 (ja) | 基板保持部材 | |
JP6711721B2 (ja) | 真空吸着部材 | |
CN107180783B (zh) | 承载盘组件及具有该承载盘组件的机械手臂 | |
WO2017104732A1 (ja) | 基板保持装置、基板保持部材および基板保持方法 | |
JP6519724B1 (ja) | ウエハ保持台 | |
JP7260984B2 (ja) | 基板保持部材 | |
JP2017199790A (ja) | 真空吸着部材 | |
JP2023098194A (ja) | 基板保持部材 | |
JP2020072099A (ja) | 基板保持部材 | |
JP2020136474A (ja) | 基板保持部材および基板保持機構 | |
JP2020035929A (ja) | 基板保持部材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200623 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200625 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6725326 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |