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JP2017212806A - 電力変換回路 - Google Patents

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JP2017212806A
JP2017212806A JP2016104006A JP2016104006A JP2017212806A JP 2017212806 A JP2017212806 A JP 2017212806A JP 2016104006 A JP2016104006 A JP 2016104006A JP 2016104006 A JP2016104006 A JP 2016104006A JP 2017212806 A JP2017212806 A JP 2017212806A
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circuit
winding
bridge
semiconductor switches
adjacent
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JP2016104006A
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健一 ▲高▼木
健一 ▲高▼木
Kenichi Takagi
俊太郎 井上
Shuntaro Inoue
俊太郎 井上
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Abstract

【課題】複数の入出力ポートを有し、ポート間で電力伝送が可能であるとともに、比較的簡易な制御で不要な電力伝送を抑制し得る電力変換回路を提供する。
【解決手段】ハーフブリッジ回路26と、ハーフブリッジ回路26を挟むように左右にそれぞれ形成される、ハーフブリッジ回路26に少なくとも一端が接続された第1の巻線が巻回されたギャップ無しコア22、及びハーフブリッジ回路26に少なくとも一端が接続された第2の巻線が巻回されたギャップ有りコア24とを有する基板20が左右互い違いとなるように複数個積層される。積層方向に隣接する2つのハーフブリッジ回路間で絶縁型DC/DCコンバータあるいは非絶縁型DC/DCコンバータを構成する。
【選択図】図7

Description

本発明は電力変換回路に関する。
従来から、磁気結合リアクトルを利用した電力変換回路が提案されている。
特許文献1には、両側フルブリッジ回路の正負極間と、トランス両側巻線のセンタータップに直流ポートが存在し、1つの回路に合計4つの直流ポートを生成でき、かつ左右のポート間で絶縁された電力伝送が可能なマルチポート回路構成が記載されている。1次側変換回路と2次側変換回路はトランスで磁気結合され、1次側変換回路内の2つの入出力ポートはリアクトルで電気的に接続され、2次側変換回路内の2つの入出力ポートもリアクトルで電気的に接続される。1次側変換回路内及び2次側変換回路内の2つの入出力ポート間の非絶縁電力伝送は、それぞれブリッジ回路を構成する半導体スイッチのオン時間(時比率:デューティ)により制御され、1次側変換回路と2次側変換回路の間の絶縁電力伝送は、両変換回路間の位相差により制御される。
特開2011−193713号公報
ところで、近年において、ハイブリッド自動車やプラグインハイブリッド自動車等では、燃費改善を目的とした入出力の多様化や、電源モジュール化及び共通化による冗長性向上とコスト削減が求められている。具体的には、12V系補機に加えて電流ストレスが相対的に小さい48V系補機や、太陽光、熱電変換などの各種発電デバイスの搭載による燃費改善、自動運転等を考慮した冗長性向上と部品共有化、定格電圧・電力の異なる車種間での部品共有化等であり、多様な入出力を有する電源システムを、任意にかつ冗長性良く形成することのできる回路構成が求められている。
従来のマルチポート回路において、3つ以上のフルブリッジ回路で1つのトランスコアを共通し、相互に励磁しあう構成とすることで、4ポート以上の多入出力電源システムを構成することができる。但し、1つのフルブリッジ回路で励磁された磁束が、トランスコアを共有するその他複数のフルブリッジ回路の巻線に起電圧を生成するので、どれか1つのフルブリッジ回路間の位相差をずらすと、その他複数のフルブリッジ回路間で同時に電力が伝送されてしまう問題がある。
図17は、回路1〜回路4の合計4つのフルブリッジ回路が、トランスコアを共有して相互に励磁しあう回路構成を示す。図において、破線Aは4つの回路でトランスコアを共有していることを示す。
また、図18は、図17の回路構成における回路1〜回路4のトランス巻線両端電圧を示す。図18(a)は回路1のトランス巻線両端電圧、図18(b)は回路2のトランス巻線両端電圧、図18(c)は回路3のトランス巻線両端電圧、図18(d)は回路4のトランス巻線両端電圧を示す。各回路間の位相差を制御することでトランス両端子間に電位差を生成し電力を伝送する。例えば、回路2の位相を回路1に対して進めると、回路1と回路2との間で電力を伝送することができるが、同時に、回路2と回路3、回路2と回路4との間にも位相差が生じてしまうため、回路2から回路1,3,4に向けて同時に電力が伝送されてしまう。
このような同時電力伝送を抑制するためには、合計n個のフルブリッジ回路間の位相差(n−1)個を同時に変調させる必要があるが、制御が複雑になるとともに、不要な電力伝送が生じると効率が低下してしまう。
本発明の目的は、複数の入出力ポートを有し、ポート間で電力伝送が可能であるとともに、比較的簡易な制御で不要な電力伝送を抑制し得る電力変換回路を提供することにある。
本発明は、ハーフブリッジ回路と、ハーフブリッジ回路を挟むように左右にそれぞれ形成される、ハーフブリッジ回路に少なくとも一端が接続された第1の巻線が巻回されたギャップ無しコア、及びハーフブリッジ回路に少なくとも一端が接続された第2の巻線が巻回されたギャップ有りコアとを有する基板が左右互い違いとなるように複数個積層され、積層方向に隣接する2つのハーフブリッジ回路間で絶縁型DC/DCコンバータあるいは非絶縁型DC/DCコンバータを構成する電力変換回路である。
本発明の1つの実施形態では、積層方向に隣接する第1の巻線及び第2の巻線の両端がそれぞれのハーフブリッジ回路に接続され、第1の巻線及び第2の巻線が隣接する2つのハーフブリッジ回路を磁気結合するトランスとして動作し、隣接する2つのハーフブリッジ回路間で絶縁型DC/DCコンバータを構成する。
本発明の他の実施形態では、ハーフブリッジ回路は、端子間に接続された第1のコンデンサと、第1のコンデンサに並列接続される、互いに直列された2つの半導体スイッチと、2つの半導体スイッチに並列接続される、互いに直列された第2及び第3のコンデンサと、を備え、第1の巻線の一端は、積層方向に隣接する第1及び第2のハーフブリッジ回路のうちの第1のハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、他端は第1のハーフブリッジ回路の第2及び第3のコンデンサの中点に接続され、第2の巻線の一端は第2のハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、他端は第2のハーフブリッジ回路の第2及び第3のコンデンサの中点に接続される。
本発明のさらに他の実施形態では、積層方向に隣接する2つのハーフブリッジ回路間の位相差を制御する制御回路を備える。
本発明のさらに他の実施形態では、積層方向に隣接する第1の巻線及び第2の巻線の他端はそれぞれのハーフブリッジ回路に接続されず、第1の巻線の他端及び第2の巻線の他端は第1の層間接続線で互いに接続され、かつ、隣接する2つのハーフブリッジ回路の負極母線は第2の層間接続線で互いに接続され、第1の巻線及び第2の巻線が隣接する2つのハーフブリッジ回路を接続するリアクトルとして動作し、隣接する2つのハーフブリッジ回路間で非絶縁型DC/DCコンバータを構成する。
本発明のさらに他の実施形態では、ハーフブリッジ回路は、端子間に接続された第1のコンデンサと、第1のコンデンサに並列接続される、互いに直列された2つの半導体スイッチと、2つの半導体スイッチに並列接続される、互いに直列された第2及び第3のコンデンサとを備え、第1の巻線の一端は、積層方向に隣接する第1及び第2のハーフブリッジ回路のうちの第1のハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、第2の巻線の一端は第2のハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、第1の巻線及び第2の巻線の他端は層間接続線で互いに接続される。
本発明のさらに他の実施形態では、ハーフブリッジ回路は、端子間に接続された第1のコンデンサと、第1のコンデンサに並列接続される、互いに直列された2つの半導体スイッチと、2つの半導体スイッチに並列接続される、互いに直列された第2及び第3のコンデンサとを備え、複数個積層される各基板は、第1の巻線及び第2の巻線の一端がハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、第1の巻線及び第2の巻線の他端が第2及び第3のコンデンサの中点に接続される第1の回路構成と、第1の巻線及び第2の巻線の一端がハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、第1の巻線及び第2の巻線の他端のいずれか一方が第2及び第3のコンデンサの中点に接続され、いずれか他方がハーフブリッジ回路に接続されない第2の回路構成と、第1の巻線及び第2の巻線の一端がハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、第1の巻線及び第2の巻線の他端が第2及び第3のコンデンサの中点に接続されない第3の回路構成のいずれかである。
本発明によれば、特定の基板を複数個積層することにより、積層方向に隣接する2つのハーフブリッジ回路間で絶縁型DC/DCコンバータあるいは非絶縁型DC/DCコンバータを構成することができる。積層する基板の個数を増加することで、任意の入出力ポートを追加することが可能であり、要求されるポート数や定格電圧・電力が異なる電源システムに対して、軽微な変更でシステムを構成することができる。また、本発明によれば、基本回路を共通化しているので、部品コストが削減される。
実施形態の基本回路構成図である。 実施形態の電力変換回路の構成図である。 実施形態の位相差制御説明図である。 実施形態の基本回路のレイアウト図(平面図)である。 実施形態の基本回路のレイアウト図(断面図)である。 実施形態の基本回路のレイアウト図(斜視図)である。 実施形態の積層構造の断面図である。 実施形態の積層構造の分解斜視図である。 実施形態の等価回路図である。 他の実施形態の基本回路のレイアウト図(平面図)である。 他の実施形態の積層構造の断面図である。 他の実施形態の等価回路図である。 シミュレーション回路図である。 シミュレーション位相差制御説明図である。 シミュレーション結果説明図(その1)である。 シミュレーション結果説明図(その2)である。 従来回路の構成図である。 従来回路の位相差説明図である。
以下、図面に基づき本発明の実施形態について説明する。本実施形態の電力変換回路は、例えばハイブリッド自動車や電気自動車等の電動車両に搭載され得るが、これに限定されない。
まず、本実施形態の基本原理について説明する。
複数のフルブリッジ回路が、トランスコアを共有して相互に励磁しあう回路構成では、多入出力電源システムを構成することができるものの、1つのフルブリッジ回路で励磁された磁束が、トランスコアを共有するその他複数のフルブリッジ回路の巻線に起電圧を生成するので、どれか1つのフルブリッジ回路間の位相差をずらすと、その他複数のフルブリッジ回路間で同時に電力が伝送されてしまう。
そこで、本実施形態では、トランスコアを共有して相互に励磁し合う回路構成ではなく、1つの基板にハーフブリッジ回路を備える基本の回路構成を形成し、この基板を複数個積層し、積層方向に隣接する2つのハーフブリッジ回路間で電力伝送を行うようにしたものである。
基本の回路構成にはコア及びコアに巻回される巻線が形成され、当該巻線とハーフブリッジ回路との接続方法によって、当該巻線はトランス巻線あるいはリアクトル巻線として機能する。積層方向に隣接する2つの巻線がトランス巻線として機能すると、隣接する2つのハーフブリッジ回路はトランス巻線で磁気結合され、非絶縁型DC/DCコンバータとして機能する。隣接する2つのハーフブリッジ回路間の位相差を制御することで、隣接する2つのハーフブリッジ回路間で電力伝送される。このとき、隣接する2つのハーフブリッジ回路のそれぞれのデューティは同一である。他方、積層方向に隣接する2つの巻線がリアクトル巻線として機能すると、隣接する2つのハーフブリッジ回路はリアクトル巻線で電気的に接続され、絶縁型DC/DCコンバータとして機能する。隣接する2つのハーフブリッジ回路間のデューティを制御することで、隣接する2つのハーフブリッジ回路間で電力伝送される。
基本の回路構成を有する基板を任意の数だけ積層することで、隣接する2つのハーフブリッジ回路を任意の数だけ形成することができ、冗長性良く多入出力電源システムが得られる。そして、隣接する2つのハーフブリッジ回路間において磁気/電気結合しているので、どれか1つのハーフブリッジ回路間の位相差をずらせても、その他のハーフブリッジ回路間での電力伝送に影響を与えない。すなわち、隣接する各ハーフブリッジ回路間での電力伝送は、互いに独立した位相差で制御できる。
隣接する2つのハーフブリッジ回路間をトランスで磁気結合して絶縁型DC/DCコンバータを構成する場合、トランスの漏れインダクタンスを所望の値に調整する必要がある。本実施形態では、基本の回路構成として、ハーフブリッジ回路を挟むように2つのコアを形成し、一方はギャップ無しのコアとし、他方はギャップ有りのコアとする。すなわち、基本の回路構成を、
ギャップ無しのコア/ハーフブリッジ回路/ギャップ有りのコア
とし、ギャップ無しのコア及びギャップ有りのコアにそれぞれ巻線を巻回する。これらの基板を複数個積層する際に左右互い違いに積層する。例えば、3個積層された基板を第1、第2、第3基板とすると、第1の基板のギャップ無しのコアと第2の基板のギャップ有りコアとが隣接対向し、第2の基板のギャップ有りのコアと第3の基板のギャップ無しのコアとが隣接対向する。第1の基板のギャップ無しのコアと第2の基板のギャップ有りのコアと第3の基板のギャップ無しのコアはそれぞれ当接して磁気回路が形成され、かつ、第2の基板のコアはギャップ有りのコアであるため、このギャップ長を調整することでトランスの漏れインダクタンスが調整される。
以下、本実施形態について具体的に説明する。
図1は、本実施形態において用いられる3種類の基本回路の回路構成を示す。図1(A)は基本回路Aの回路構成、図1(B)は基本回路Bの回路構成、図1(C)は基本回路Cの回路構成である。
基本回路A(10A)は、ハーフブリッジ回路であり、2つの半導体スイッチS1,S2と、3つのコンデンサC1,C2,C3と、2つのトランス片側巻線Tr1,Tr2を有して構成される。正極母線と負極母線の間に2つの半導体スイッチS1,S2が互いに直列に接続される。半導体スイッチS1,S2にはそれぞれダイオードが並列接続される。また、正極母線と負極母線の間にはコンデンサC1、及び互いに直列接続されたコンデンサC2,C3が接続され、2つの半導体スイッチS1,S2の中点と、2つのコンデンサC2,C3の中点との間に2つのトランス片側巻線Tr1,Tr2が接続される。半導体スイッチS1,S2は、例えばMOSトランジスタであるが、これに限定されない。
基本回路B(10B)も、ハーフブリッジ回路であり、2つの半導体スイッチS1,S2と、3つのコンデンサC1,C2,C3と、1つのトランス片側巻線Tr1、1つのリアクトル巻線Re1を有して構成される。正極母線と負極母線の間に2つの半導体スイッチS1,S2が互いに直列に接続される。半導体スイッチS1,S2にはそれぞれダイオードが並列接続される。また、正極母線と負極母線の間にはコンデンサC1、及び互いに直列接続されたコンデンサC2,C3が接続され、2つの半導体スイッチS1,S2の中点と、2つのコンデンサC2,C3の中点との間に1つのトランス片側巻線Tr1が接続され、2つの半導体スイッチS1,S2の中点にリアクトル巻線Re1の一端が接続される。基本回路Aとの相違点は、リアクトル巻線Re1である。
基本回路C(10C)も、ハーフブリッジ回路であり、2つの半導体スイッチS1,S2と、3つのコンデンサC1,C2,C3と、2つのリアクトル巻線Re1,Re2を有して構成される。正極母線と負極母線の間に2つの半導体スイッチS1,S2が互いに直列に接続される。半導体スイッチS1,S2にはそれぞれダイオードが並列接続される。また、正極母線と負極母線の間にはコンデンサC1、及び互いに直列接続されたコンデンサC2,C3が接続され、2つの半導体スイッチS1,S2の中点にリアクトル巻線Re1,Re2の一端が接続される。基本回路Bとの相違点は、リアクトル巻線Re2である。
本実施形態では、これら3種類の基本回路を、互いに磁気的/電気的に接続することで、任意の直流ポート数を有する多入出力の電力変換回路(電源システム)を構成する。
基本回路A、基本回路B、基本回路Cの組合せは任意であり、基本回路Aのみの組合せ、基本回路Bのみの組合せ、基本回路Cのみの組合せ、基本回路Aと基本回路Bの組合せ、基本回路Aと基本回路Cの組合せ、基本回路Bと基本回路Cの組合せ、基本回路Aと基本回路Bと基本回路Cの組合せ等である。
図2は、基本回路A、基本回路B、基本回路Cの組合せの一例を示す。基本回路A〜基本回路Cを全て用いる組合せである。
回路10は、2つの半導体スイッチS1,S2と3つのコンデンサC1,C2,C3を有するハーフブリッジ回路であり、2つの半導体スイッチS1,S2の中点と2つのコンデンサC2,C3の中点との間にトランス片側巻線Trが接続される。回路10は、基本回路Aのうちの一方のトランス片側巻線が省略された回路であり、基本回路Aと同視できる。
回路10に隣接して基本回路Aとしての回路10Aが回路10に接続される。回路10Aの2つのトランス片側巻線Tr1,Tr2は、回路10のトランス片側巻線Trと磁気結合する。後述の回路11についても同様である。
また、回路10Aに隣接して基本回路Bとしての回路10Bが回路10Aに接続される。回路10Bのトランス片側巻線Tr1は、回路10Aのトランス片側巻線Tr1,Tr2と磁気結合する。
また、回路10Bに隣接して基本回路Cとしての回路10Cが回路10Bに接続される。回路10Cのリアクトル巻線Re1は、回路10Bのリアクトル巻線Re1として共有される。回路10Bと回路10Cは電気的に接続される。
回路10,10A,10B,10Cのそれぞれのポートには、負荷や電源が接続される。各回路のポート電圧をそれぞれV1,V2,V3,V4とすると、回路10と回路10A間の位相差を制御することで回路10と回路10A間で電力が伝送される。また、回路10Aと回路10B間の位相差を制御することで回路10Aと回路10B間で電力が伝送される。また、回路10Bと回路10C間の位相差を制御することで回路10Bと回路10C間で電力が伝送される。具体的には、回路10の位相を回路10Aに対して進み位相とすることで回路10から回路10Aに電力が伝送され、逆に、回路10Aの位相を回路10に対して進み位相とすることで回路10Aから回路10に電力が伝送される。
同様にして、任意の数だけ直流ポートを追加することができる。図では、回路10Cに隣接して基本回路Bとしての回路10Bが回路10Cに接続、さらにこの回路10Bに隣接して回路10と同様の回路構成の回路11が回路10Bに接続される。回路10Bのリアクトル巻線Re1は回路10Cのリアクトル巻線Re2として共有され電気的に接続される。また、回路10Bのトランス片側巻線Tr1は、回路11のトランス片側巻線Trと磁気結合する。回路10B,回路11のポート電圧をそれぞれVn−1、Vnとすると、回路10Bと回路11間の位相差を制御することで回路10Bと回路11間で電力が伝送される。
図2の回路では、回路10と回路10A、回路10Aと回路10B、回路10Bと回路11のように隣接する回路が磁気的に接続されているので、隣接する回路間の電力を互いに独立した位相差で制御することができる。
図3は、電力伝送を制御するための位相差算出ロジックを示す。図2の回路において各回路間で電力伝送を制御する制御回路のロジックである。制御回路は、CPU、ROM、RAM、及び入出力インタフェースを備えるマイコンで構成し得る。制御回路は、各回路におけるハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチのスイッチング制御を行うべく、各回路間の位相差指令を算出する。位相差は、磁気結合された2つのハーフブリッジ回路のスイッチング周期の位相差であり、トランス巻線の両端電圧波形の位相差である(図18参照)。回路10と回路10A間の電力伝送のための位相差指令値φ1,2は、回路10Aの電圧指令値V2と電圧V2との偏差から、比例ゲイン及び積分ゲインを用いたPI(比例積分)制御により算出される。回路10Aと回路10B間の電力伝送のための位相差指令値φ2,3は、回路10Bの電圧指令値V3と電圧V3との偏差から、比例ゲイン及び積分ゲインを用いたPI制御により算出される。同様に、回路10Bと回路11間の電力伝送のための位相差指令値φn−1,nは、回路11の電圧指令値Vnと電圧Vnとの偏差から、比例ゲイン及び積分ゲインを用いたPI制御により算出される。ここで、アスタリスク(*)は、指令値であることを示す。
なお、制御回路は、複数のCPUで構成されて各CPUが分担処理してもよく、あるいは制御回路の機能の一部を専用のハードウェアで実現してもよい。
次に、基本回路A〜基本回路Cを組み合わせる具体的な構成について説明する。図2を例にとると、回路10と回路10Aはトランス片側巻線Tr,Tr1,Tr2により磁気的に接続されて電力伝送するので、絶縁型DC/DCコンバータが形成されている。回路10Aと回路10Bについても同様である。他方、回路10Bと回路10Cはリアクトル巻線Re1により電気的に接続されて電力伝送するので、非絶縁型DC/DCコンバータが形成されている。従って、基本回路A〜基本回路Cを組み合わせて任意の直流ポート数を有する多入出力の電力変換回路(電源システム)を構成するためには、これら絶縁型DC/DCコンバータと非絶縁型DC/DCコンバータを簡易かつ効率的に形成する必要がある。
図4〜図6は、本実施形態で用いられる基本回路のレイアウトを示す。図4は平面図、図5は断面図、図6は斜視図である。
矩形状の基板20の一面側(これを表面側とする)に、ギャップ無しコア22及びギャップ有りコア24が形成され、ギャップ無しコア22とギャップ有りコア24の間にハーフブリッジ回路26が形成される。ハーフブリッジ回路26は、既述したように、2つの半導体スイッチS1,S2及び3つのコンデンサC1,C2,C3を備える。また、基板20の他面側(これを裏面側とする)に、ギャップ無しコア22及びギャップ有りコア24の脚部がそれぞれ形成される。基板20の裏面側であってギャップ無しコア22の脚部には巻線28が巻回され、ギャップ有りコア24の脚部には巻線30が巻回される。巻線28の一端は、2つの半導体スイッチS1,S2の中点に接続され、他端はコンデンサC2,C3の中点に接続される。また、巻線30の一端も、2つの半導体スイッチS1,S2の中点に接続され、他端はコンデンサC2,C3の中点に接続される。従って、図4〜図6に示された基本回路のレイアウトは、巻線28,30がトランス片側巻線Tr1,Tr2として機能すると、図1の基本回路Aを実現し得る。
他方、巻線28とハーフブリッジ回路26との接点32を切り離すことで、巻線28はリアクトル巻線Re1として機能し得る。このとき、図4〜図6に示された基本回路のレイアウトは、図1の基本回路Bを実現し得る。
また、巻線28とハーフブリッジ回路26との接点32及び巻線30とハーフブリッジ回路26との接点34を切り離すことで、巻線28及び巻線30はリアクトル巻線Re1,Re2として機能し得る。このとき、図4〜図6に示された基本回路のレイアウトは、図1の基本回路Cを実現し得る。
図7及び図8は、基本回路のレイアウトを複数層積層した構成例を示す。図7は断面図、図8は分解斜視図である。
1層目に基本回路のレイアウトを配置し、2層目は1層目の裏面側と2層目の表面側が対向するように、かつ、1層目のギャップ無しコア22と2層目のギャップ有りコア24が対向し、1層目のギャップ有りコア24と2層目のギャップ有りコア24が対向するように積層する。つまり、1層目と2層目は、基板20の長手方向を左右方向とした場合に、左右が逆になるように積層する。従って、1層目のギャップ無しコア22の裏面側の脚部は2層目のギャップ有りコア24の表面に当接し、1層目のギャップ有りコア24の裏面側の脚部は2層目のギャップ無しコア22の表面に当接する。また、3層目は、1層目と同じ向きに積層する。すなわち、3層目は2層目の裏面側と3層目の表面側が対向するように、かつ、2層目のギャップ無しコア22と3層目のギャップ有りコア24が対向し、2層目のギャップ有りコア24と3層目のギャップ有りコア24が対向するように積層する。つまり、2層目と3層目は、左右が逆になるように積層する。2層目のギャップ無しコア22の裏面側の脚部は3層目のギャップ有りコア24の表面に当接し、2層目のギャップ有りコア24の裏面側の脚部は3層目のギャップ無しコア22の表面に当接する。4層目は2層目と同じ向きに積層する。以下、同様にして、n−1層とn層を左右が逆になるように積層する。
4層目のギャップ無しコア22と5層目のギャップ有りコア24の部分40に着目すると、4層目のギャップ無しコア22の脚部に巻回された巻線28はトランス片側巻線Tr1として機能し、この4層目のギャップ無しコア22に対向して当接された5層目のギャップ有りコア24の脚部に巻回された巻線30もトランス片側巻線Tr2として機能するから、これらは図2における回路10と回路10Aとの磁気結合回路、あるいは回路10A同士の磁気結合回路として機能する。
図9は、4層目と5層目の部分40(図7を参照)の等価回路を示す。4層目のハーフブリッジ回路26に巻線28からなるトランス片側巻線Tr1が接続され、5層目のハーフブリッジ回路26に巻線30からなるトランス片側巻線Tr2が接続され、これらがトランスを形成して4層目と5層目の間で絶縁型DC/DCコンバータが形成される。すなわち、4層目のギャップ無しコア22と5層目のギャップ有りコア24と6層目のギャップ無しコア22が互いに当接しこれらのコア同士で磁気回路が形成され、4層目の巻線28と5層目の巻線30がトランスを構成する。5層目のギャップ有りコア24のギャップ長を調整することで、トランスの漏れインダクタンス量を調整することができる。
図10及び図11は、基本回路のレイアウトを複数層積層した他の構成例を示す。図10は平面図、図11は断面図である。
図10は、2層目及び3層目の基本回路のレイアウト図である。2層目において、巻線28とハーフブリッジ回路26との接点32において巻線28を切り離す。また、3層目において、巻線30とハーフブリッジ回路26との接点34において巻線30を切り離す。そして、2層目の巻線28と3層目の巻線30を層間接続線36で接続するとともに、2層目の負極と3層目の負極を層間接続線38で接続する。
図11において、2層目のギャップ無しコア22の裏面側の脚部と、3層目のギャップ有りコア24の表面が当接する。但し、2層目のギャップ無しコア22の裏面側の脚部の一方にリアクトル用ギャップ42を形成し、3層目のギャップ有りコア24との間にスペース(ギャップ)を形成する。2層目のギャップ無しコア22の脚部に巻回された巻線28の一端と、3層目のギャップ有りコア24の脚部に巻回された巻線30の一端は、層間接続線36で接続される。2層目の巻線28の他端は2層目のハーフブリッジ回路26の半導体スイッチS1,S2の中点に接続され、3層目の巻線30の他端は3層目のハーフブリッジ回路26の半導体スイッチS1,S2の中点に接続される。
図12は、図11における2層目と3層目の部分50の等価回路を示す。2層目のハーフブリッジ回路26に巻線28からなるリアクトル巻線Re1が接続され、3層目のハーフブリッジ回路26に巻線30からなるリアクトル巻線Re1が接続され、2層目の負極母線と3層目の負極母線は層間接続線38で接続される。これらにより2層目と3層目の間で非絶縁型DC/DCコンバータが形成される。
以上のようにして、基本回路のレイアウトを複数層積層することで、上下に隣接する層間において図9に示すような絶縁型DC/DCコンバータ、及び図12に示すような非絶縁型DC/DCコンバータが実現する。図9は、回路10Aと回路10Bの間等の磁気的接続に相当し、図12は、回路10Bと回路10Cの間等の電気的接続に相当する。従って、基本回路のレイアウトを複数層積層し、適宜、層間接続線で接続することで、図2に示す回路構成が実現する。
次に、本実施形態のコンピュータシミュレーション結果を示す。図13は、シミュレーションに用いた回路構成を示す。回路10に回路10Aが磁気的に接続され、回路10Aに第2の回路10Aが磁気的に接続され、第2の回路10Aに回路11が磁気的に接続される絶縁型DC/DCコンバータの例である。回路10Aは基本回路Aの構成であり、回路10,11も既述したように基本回路Aと同視できる構成であるから、図13は基本回路Aを4つ磁気的に接続した例である。回路10の端子間電圧をV1in、回路10Aの端子間電圧をV2out、第2の回路10Aの端子間電圧をV3out、回路11の端子間電圧をV4outとし、回路10に電源を接続し、回路10A、第2の回路10A、回路11から負荷を引くシミュレーションを実施した。
図14は、回路10と回路10A間の位相差φ1,2、回路10Aと第2の回路10A間の位相差φ2,3、第2の回路10Aと回路11間の位相差φ3,4の算出ロジックを示す。位相差φ1,2は、回路10Aの電圧指令値V2と電圧V2(V2out)の差分をPI制御して算出される。他の位相差についても同様である。
図15は、シミュレーションの結果を示す。回路10A、第2の回路10A、回路11の負荷をそれぞれP2,P3,P4とし、それぞれの回路の負荷、出力電圧、位相差指令の時間変化を示す。負荷P2は、期間Iで増大し、期間II、IIIで一定となる。負荷P3は、期間I,IIでゼロ、期間IIIで増大し、期間IV,Vで一定となる。負荷P4は、期間I〜IVでゼロ、期間Vで増大し、期間VIで一定となる。出力電圧は、回路10A、第2の回路10B、回路11のポート出力電圧である。位相差指令は、回路10と回路10Aの間の位相差指令φ1,2、回路10Aと第2の回路10Aの間の位相差指令φ2,3、第2の回路10Aと回路11の間の位相差指令φ3,4である。
また、図16は、図15のあるタイミング(20.00msec)近傍での回路10、回路10A、第2の回路10A、回路11のトランス両端電圧及びトランス電流の時間変化を示す。回路10のトランス両端電圧及びトランス電流をV1及びi1、回路10Aのトランス両端電圧及びトランス電流をV2及びi2、第2の回路10Aのトランス両端電圧及びトランス電流をV3及びi3、回路11のトランス両端電圧及びトランス電流をV4及びi4とする。回路10のトランス両端電圧V1に対し、V2,V3,V4がこの順に大きな遅れ量を持って位相差が存在する。これは、このタイミングにおける図15の位相差指令の大小関係からも明らかである。
期間Iでは、回路10Aの負荷P2が増加し、回路10Aの出力電圧V2outを一定に保つように位相差φ1,2が増加する。
期間IIでは、回路10Aの負荷P2は一定であり、位相差φ1,2も一定である。
期間IIIでは、第2の回路10Aの負荷P3が増加し、第2の回路10Aの出力電圧V3outを一定に保つように位相差φ2,3が増加する。また、負荷P3は、回路10Aを介して回路10から第2の回路10Aに供給されるため、位相差φ1,2も合わせて増加する。
期間Vでは、回路11の負荷P4が増加し、回路11の出力電圧Vout4を一定に保つように位相差φ3,4が増加する。また、負荷P4は、回路10A、第2の回路10Aを介して回路10から回路11に供給されるため、位相差φ1,2及び位相差φ2,3も合わせて増加する。結局、位相差φ1,2、φ2,3、φ3,4が増加する。
各期間における負荷変動(P2,P3,P4の増大)において、各回路の出力電圧V2out、V3out、V4outは一定に保たれており、簡易な位相差制御だけで電力伝送を行うことができ、かつ、位相差φ1,2*を増加させると第2の回路10Aあるいは回路11に不要な電力が伝送されてしまうことはなく、不要な電力伝送を抑制できる。
10A,10B,10C 基本回路、20 基板、22 ギャップ無しコア、24 ギャップ有りコア、26 ハーフブリッジ回路、28 巻線(ギャップ無しコア側)、30 巻線(ギャップ有りコア側)、32,34 接点、36,38 層間接続線、40,50 積層構造の部分。

Claims (7)

  1. ハーフブリッジ回路と、
    ハーフブリッジ回路を挟むように左右にそれぞれ形成される、ハーフブリッジ回路に少なくとも一端が接続された第1の巻線が巻回されたギャップ無しコア、及びハーフブリッジ回路に少なくとも一端が接続された第2の巻線が巻回されたギャップ有りコアと、
    を有する基板が左右互い違いとなるように複数個積層され、積層方向に隣接する2つのハーフブリッジ回路間で絶縁型DC/DCコンバータあるいは非絶縁型DC/DCコンバータを構成する電力変換回路。
  2. 請求項1に記載の電力変換回路において、
    積層方向に隣接する第1の巻線及び第2の巻線の両端がそれぞれのハーフブリッジ回路に接続され、第1の巻線及び第2の巻線が隣接する2つのハーフブリッジ回路を磁気結合するトランスとして動作し、隣接する2つのハーフブリッジ回路間で絶縁型DC/DCコンバータを構成する電力変換回路。
  3. 請求項2に記載の電力変換回路において、
    ハーフブリッジ回路は、
    端子間に接続された第1のコンデンサと、
    第1のコンデンサに並列接続される、互いに直列された2つの半導体スイッチと、
    2つの半導体スイッチに並列接続される、互いに直列された第2及び第3のコンデンサと、
    を備え、
    第1の巻線の一端は、積層方向に隣接する第1及び第2のハーフブリッジ回路のうちの第1のハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、他端は第1のハーフブリッジ回路の第2及び第3のコンデンサの中点に接続され、第2の巻線の一端は第2のハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、他端は第2のハーフブリッジ回路の第2及び第3のコンデンサの中点に接続される電力変換回路。
  4. 請求項2,3のいずれかに記載の電力変換回路において、
    積層方向に隣接する2つのハーフブリッジ回路間の位相差を制御する制御回路
    を備える電力変換回路。
  5. 請求項1に記載の電力変換回路において、
    積層方向に隣接する第1の巻線及び第2の巻線の他端はそれぞれのハーフブリッジ回路に接続されず、第1の巻線の他端及び第2の巻線の他端は第1の層間接続線で互いに接続され、かつ、隣接する2つのハーフブリッジ回路の負極母線は第2の層間接続線で互いに接続され、第1の巻線及び第2の巻線が隣接する2つのハーフブリッジ回路を接続するリアクトルとして動作し、隣接する2つのハーフブリッジ回路間で非絶縁型DC/DCコンバータを構成する電力変換回路。
  6. 請求項5に記載の電力変換回路において、
    ハーフブリッジ回路は、
    端子間に接続された第1のコンデンサと、
    第1のコンデンサに並列接続される、互いに直列された2つの半導体スイッチと、
    2つの半導体スイッチに並列接続される、互いに直列された第2及び第3のコンデンサと、
    を備え、
    第1の巻線の一端は、積層方向に隣接する第1及び第2のハーフブリッジ回路のうちの第1のハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、第2の巻線の一端は第2のハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、第1の巻線及び第2の巻線の他端は層間接続線で互いに接続される電力変換回路。
  7. 請求項1に記載の電力変換回路において、
    ハーフブリッジ回路は、
    端子間に接続された第1のコンデンサと、
    第1のコンデンサに並列接続される、互いに直列された2つの半導体スイッチと、
    2つの半導体スイッチに並列接続される、互いに直列された第2及び第3のコンデンサと、
    を備え、
    複数個積層される各基板は、
    第1の巻線及び第2の巻線の一端がハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、第1の巻線及び第2の巻線の他端が第2及び第3のコンデンサの中点に接続される第1の回路構成と、
    第1の巻線及び第2の巻線の一端がハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、第1の巻線及び第2の巻線の他端のいずれか一方が第2及び第3のコンデンサの中点に接続され、いずれか他方がハーフブリッジ回路に接続されない第2の回路構成と、
    第1の巻線及び第2の巻線の一端がハーフブリッジ回路の2つの半導体スイッチの中点に接続され、第1の巻線及び第2の巻線の他端が第2及び第3のコンデンサの中点に接続されない第3の回路構成
    のいずれかである電力変換回路。
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