JP2017135277A - Backup device control method and substrate processing apparatus - Google Patents
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Abstract
【課題】生産性の低減を抑制しつつ基板リフト時の衝撃を回避すること。【解決手段】バックアップ装置200で基板Pを基板停止位置から基板処理位置にリフトする際には、バックアップ装置200の担持部材(担持部材(203、204))が基板Pの下面に当接するまでの離反区間(H0−H1)では、予め高速側に設定される初動速度V1に担持部材の速度を上げて基板Pを上昇させる。担持部材が当該基板Pに接触する時点から当該基板Pが搬送コンベア103の上方に離れるまでの受渡区間(H1−H2)では、予め低速側に設定される受取速度V1担持部材の速度を下げて基板Pを上昇させる。担持部材が受渡区間T2を越えて当該基板Pを上昇する区間(H2−H3)では、受取速度V1よりも高速側に設定されるリフト速度V2に担持部材の速度を上げて基板Pを上昇させる。【選択図】図3An object of the present invention is to avoid an impact during substrate lift while suppressing a reduction in productivity. When a backup device 200 lifts a substrate P from a substrate stop position to a substrate processing position, the support member (supporting members (203, 204)) of the backup device 200 is in contact with the lower surface of the substrate P. In the separation section (H0-H1), the substrate P is raised by increasing the speed of the support member to the initial movement speed V1 set in advance on the high speed side. In the delivery section (H1-H2) from the time when the carrier member contacts the substrate P to the time when the substrate P is separated above the transport conveyor 103, the speed of the receiving speed V1 carrier member set in advance on the low speed side is decreased. The substrate P is raised. In the section (H2-H3) in which the carrying member moves up the substrate P beyond the delivery section T2, the speed of the carrying member is increased to the lift speed V2 set on the higher speed side than the receiving speed V1 to raise the substrate P. . [Selection] Figure 3
Description
本発明は、バックアップ装置の制御方法及び基板処理装置に関する。 The present invention relates to a backup device control method and a substrate processing apparatus.
生産ラインに基板を搬送し、当該生産ラインの搬送コンベアに設定される基板停止位置ごとに基板をリフトし(持ち上げ)て、基板停止位置の上方に設定された基板処理位置で所定の処理を実行する際、基板支持装置が用いられる。例えば、特許文献1に採用されている基板支持装置は、基板停止位置の下方に間隔を隔てて臨む高さと基板処理位置に基板をリフトする高さとの間で昇降可能な担持部材(バックアップピンやバックアッププレート等で構成されるユニットを単一の部材として総称したもの)を含むバックアップ装置を有する。バックアップ装置は、担持部材を所定速度で上昇し、基板停止位置の上方に設定される基板処理位置に基板を支持する。
The substrate is transported to the production line, the substrate is lifted (lifted) at each substrate stop position set on the transport conveyor of the production line, and predetermined processing is executed at the substrate processing position set above the substrate stop position. In doing so, a substrate support device is used. For example, the substrate support apparatus adopted in
基板には、フレキシブル基板等、比較的薄く、反りが生じやすいものも少なくない。そのような基板をバックアップ装置でリフトする際に、バックアップ装置の担持部材を基板に衝合させると、衝合時の衝撃で基板上に実装されている部品に悪影響を与える恐れがある。特に、ウエハからダイシングされたベアチップ(半導体チップ)が実装されている基板の場合、ベアチップのバンプが相当小さく(例えば、30μm〜50μm)、フラックスを塗布して止めていても、僅かな振動や衝撃で位置ずれ等を来す恐れがある。そのため、従来のバックアップ装置で基板をリフトした場合には、担持部材が基板に当接したときの衝撃等によってベアチップに悪影響を与えるおそれがあった。 Many of the substrates are relatively thin and easily warped, such as a flexible substrate. When such a substrate is lifted by the backup device, if the support member of the backup device is brought into contact with the substrate, there is a possibility that the components mounted on the substrate are adversely affected by the impact at the time of the contact. In particular, in the case of a substrate on which a bare chip (semiconductor chip) diced from a wafer is mounted, the bump of the bare chip is considerably small (for example, 30 μm to 50 μm), and even if a flux is applied and stopped, slight vibration or impact There is a risk of misalignment. Therefore, when the substrate is lifted by the conventional backup device, there is a possibility that the bare chip may be adversely affected by an impact or the like when the carrying member comes into contact with the substrate.
一方、衝撃を回避するためにバックアップ装置が基板をリフトする速度を下げれば、衝撃そのものは回避できるものの、タクトが長くなり、生産性が低下するおそれがあった。 On the other hand, if the speed at which the backup device lifts the substrate to reduce the impact is lowered, the impact itself can be avoided, but the tact time becomes longer and the productivity may be lowered.
本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであり、生産性の低減を抑制しつつ基板リフト時の衝撃を回避することのできるバックアップ装置の制御方法及び基板処理装置を提供することを課題としている。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and it is an object of the present invention to provide a backup device control method and a substrate processing apparatus capable of avoiding an impact during substrate lift while suppressing a reduction in productivity. It is said.
上記課題を解決するために、本発明は、基板を搬送する搬送コンベアの搬送経路上に設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置を用いて、前記基板停止位置にある基板を前記基板処理位置にリフトする際のバックアップ装置の制御方法において、前記担持部材が前記停止位置にある基板の下方から当該基板の下面に接する前までの離反期間では、予め高速側に設定される初動速度まで前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させるステップと、前記担持部材が当該基板に接触する時点から当該基板が前記搬送コンベアの上方に離れるまでの受渡区間では、予め低速側に設定される受取速度に前記担持部材が上昇する速度を下げて当該基板を上昇させるステップと、前記担持部材が前記受渡区間を越えて当該基板を上昇する区間では、前記受取速度よりも高速側に設定されるリフト速度に前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させるステップとを備えていることを特徴とするバックアップ装置の制御方法である。 In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a substrate between a substrate stop position set on a transfer path of a transfer conveyor for transferring a substrate and a substrate processing position set above the substrate stop position. In a control method of a backup device when a substrate at the substrate stop position is lifted to the substrate processing position by using a backup device including a support member that can be moved up and down, the support member from below the substrate at the stop position. In the separation period before coming into contact with the lower surface of the substrate, the step of raising the substrate by raising the speed at which the carrying member rises to an initial moving speed set in advance on the high speed side, and the carrying member contacts the substrate In the delivery section from the point in time until the substrate is separated above the transport conveyor, the speed at which the carrier member ascends is lowered to the receiving speed set in advance on the low speed side. In the step of raising the substrate and in the section in which the carrier member raises the substrate beyond the delivery section, the speed at which the carrier member rises to a lift speed set higher than the receiving speed is increased. And a step of raising the substrate.
また、本発明の別の態様は、基板を搬送する搬送経路に沿って基板を搬送する搬送コンベアと、前記搬送コンベアに設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置と、前記バックアップ装置を制御する制御装置であって、前記基板停止位置にある基板を前記基板処理位置にリフトする際において、前記担持部材が前記停止位置にある基板の下方から当該基板の下面に接する前までの離反期間では、予め高速側に設定される初動速度まで前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させ、前記担持部材が当該基板に接触する時点から当該基板が前記搬送コンベアの上方に離れるまでの受渡区間では、予め低速側に設定される受取速度に前記担持部材が上昇する速度を下げて当該基板を上昇させ、前記担持部材が前記受渡区間を越えて当該基板を上昇する区間では、前記受取速度よりも高速側に設定されるリフト速度に前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させるように前記バックアップ装置を制御する前記制御装置とを備えていることを特徴とする基板処理装置である。 In another aspect of the present invention, a transport conveyor for transporting a substrate along a transport path for transporting a substrate, a substrate stop position set in the transport conveyor, and a substrate processing set above the substrate stop position A backup device including a supporting member capable of moving the substrate up and down between positions, and a control device for controlling the backup device, wherein when the substrate at the substrate stop position is lifted to the substrate processing position, In the separation period from the lower side of the substrate at the stop position to the time when it comes into contact with the lower surface of the substrate, the substrate is raised by increasing the speed at which the supporting member is raised to the initial speed set in advance on the high speed side. In the delivery section from the time when the carrying member contacts the substrate to the time when the substrate is separated above the transfer conveyor, the receiving speed set in advance on the low speed side is In the section where the holding member lowers the speed at which the holding member rises and raises the substrate, and the carrier member raises the substrate beyond the delivery section, the carrying member is set to a lift speed set higher than the receiving speed. A substrate processing apparatus comprising: the control device that controls the backup device so as to raise the substrate at a higher speed.
これらの態様では、基板停止位置から基板処理位置に基板をリフトする際に、担持部材が基板に接触していない状態や、担持部材によって基板が支持されている状態、すなわち、基板に対する衝撃が生じにくい区間では、基板を高速で上昇するとともに、基板に衝撃が加わり得る区間では、担持部材が上昇する速度を下げてゆっくりと基板を上昇することができるので、基板への衝撃を回避しつつ、可及的速やかに基板を基板処理位置に上昇することができる。 In these aspects, when the substrate is lifted from the substrate stop position to the substrate processing position, the carrier member is not in contact with the substrate, or the substrate is supported by the carrier member, that is, an impact to the substrate occurs. In difficult sections, the substrate can be raised at high speed, and in sections where impact can be applied to the substrate, the support member can be lowered slowly and the substrate can be slowly raised, so avoiding impact on the substrate, The substrate can be raised to the substrate processing position as quickly as possible.
上述した基板処理装置において、前記制御装置は、前記基板が前記受渡区間を越えて上昇する区間では、前記初動速度よりも遅く前記受取速度よりも早い中速度まで前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇するように前記バックアップ装置を制御するよう構成されていることが好ましい。その場合には、基板が受渡区間を越えて上昇する区間では、初動速度よりも低い中速度で上昇するので、担持部材が基板を基板処理位置に上昇する際に基板に作用する慣性を比較的小さく抑制することができる。すなわち、衝撃を回避するためだけであるならば、担持部材が基板を持ち上げてからの速度は、速い方が好ましいが、速度が高くなればなるほど、基板や基板に実装された部品に作用する慣性も高くなる。特に、基板に実装された部品の全質量に対して、基板の剛性が相対的に小さい場合には、そのような慣性によって基板に悪影響を与えるおそれがある。これに対して、本態様のように、基板を初動速度よりも低い速度で上昇すれば、慣性による悪影響をも回避することが可能となるのである。一方、この中速度は、受取速度よりも速く設定されているので、基板をリフトした後の搬送時間の短縮を図ることも可能となる。 In the substrate processing apparatus described above, the control device increases a speed at which the carrier member ascends to a medium speed that is slower than the initial movement speed and faster than the receiving speed in a section in which the substrate rises beyond the delivery section. It is preferable that the backup device is controlled to raise the substrate. In that case, in the section where the substrate rises beyond the delivery section, it rises at a medium speed lower than the initial movement speed, so that the inertia acting on the substrate when the carrier member raises the substrate to the substrate processing position is relatively low. It can be suppressed small. That is, if it is only for avoiding an impact, it is preferable that the speed after the supporting member lifts the board is higher, but the higher the speed, the more the inertia acting on the board and the components mounted on the board. Also gets higher. In particular, when the rigidity of the board is relatively small with respect to the total mass of the components mounted on the board, such inertia can adversely affect the board. On the other hand, if the substrate is raised at a speed lower than the initial movement speed as in this embodiment, it is possible to avoid adverse effects due to inertia. On the other hand, since the medium speed is set faster than the receiving speed, it is possible to shorten the transport time after the substrate is lifted.
また上述した各基板処理装置において、前記基板処理位置に基板を位置決めするように、基板の上縁を受けて前記担持部材との間で当該基板を挟み込んで前記基板処理位置にロックするロック片をさらに備え、前記制御装置は、基板処理位置に上昇されている基板の上縁が前記ロック片に当接し始める高さから当該基板が前記基板処理位置に到着するまでのロック区間では、低速側に設定されるロック速度に前記担持部材が上昇する速度を下げて当該基板を上昇するように前記バックアップ装置を制御するよう構成されていることが好ましい。その場合には、ロック片で基板を挟圧する仕様の場合においても、ロック片に基板が当接するときの衝撃を回避し、基板への悪影響を抑制しつつ、高速で基板を基板停止位置から基板処理位置に上昇することができる。 Further, in each of the above-described substrate processing apparatuses, a lock piece that receives the upper edge of the substrate and sandwiches the substrate with the support member and locks the substrate processing position so as to position the substrate at the substrate processing position. The control device further includes a lower speed side in a lock section from the height at which the upper edge of the substrate raised to the substrate processing position starts to contact the lock piece until the substrate reaches the substrate processing position. It is preferable that the backup device is controlled so as to raise the substrate by lowering the speed at which the carrier member ascends to a set lock speed. In that case, even in the case of the specification in which the substrate is clamped with the lock piece, the substrate is moved from the substrate stop position at a high speed while avoiding an impact when the substrate comes into contact with the lock piece and suppressing adverse effects on the substrate. Can rise to the processing position.
本発明のさらに別の態様は、基板を搬送する搬送コンベアの搬送経路上に設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置を用いて、前記基板処理位置にある前記基板を前記基板停止位置に降下させて当該搬送コンベアに受け渡す際のバックアップ装置の制御方法において、前記基板処理位置にある基板を担持している前記担持部材が降下し始めてから当該担持部材が担持している基板が前記搬送コンベアに着地する前までの初期降下区間では、高速側の降下速度まで前記担持部材が降下する速度を上げて当該基板を降下させるステップと、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し始めてから前記担持部材が基板から離れるまでの受渡区間では、低速側の受渡速度に前記担持部材が降下する速度を下げて当該担持部材を降下させるステップと、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し終えた後の離反区間では、高速側の復帰速度に前記担持部材が降下する速度を上げて当該担持部材を降下させるステップとを備えていることを特徴とするバックアップ装置の制御方法である。 According to still another aspect of the present invention, the substrate can be moved up and down between a substrate stop position set on a transfer path of a transfer conveyor that transfers the substrate and a substrate processing position set above the substrate stop position. In the control method of the backup device when the substrate at the substrate processing position is lowered to the substrate stop position and delivered to the transfer conveyor using a backup device including a supporting member, the substrate at the substrate processing position is In the initial descending section from when the carrying member that has been carried begins to descend to before the substrate carried by the carrying member has landed on the conveyor, the speed at which the carrying member descends to the lowering speed on the high speed side is set. A step of raising and lowering the substrate, and a delivery section from when the descending substrate starts to land on the transfer conveyor to when the carrier member leaves the substrate The step of lowering the carrying member by lowering the speed at which the carrying member descends to the delivery speed on the low speed side, and the return on the high speed side in the separation section after the lowered substrate has landed on the conveyor And a step of lowering the support member by increasing the speed at which the support member descends to a speed.
また、本発明のさらに別の態様は、基板を搬送する搬送経路に沿って基板を搬送する搬送コンベアと、前記搬送コンベアに設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置と、前記バックアップ装置を制御する制御装置であって、前記基板処理位置にある前記基板を前記基板停止位置に降下させて当該搬送コンベアに受け渡す際において、前記基板処理位置にある基板を担持している前記担持部材が降下し始めてから当該担持部材が担持している基板が前記搬送コンベアに着地する前までの初期降下区間では、高速側の降下速度まで前記担持部材が降下する速度を上げて当該基板を降下させ、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し始めてから前記担持部材が基板から離れるまでの受渡区間では、低速側の受渡速度に前記担持部材が降下する速度を下げて当該担持部材を降下させ、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し終えた後の離反区間では、高速側の復帰速度に前記担持部材が降下する速度を上げて当該担持部材を降下させるように前記バックアップ装置を制御する前記制御装置とを備えていることを特徴とする基板処理装置である。 Still another aspect of the present invention provides a transport conveyor for transporting a substrate along a transport path for transporting a substrate, a substrate stop position set on the transport conveyor, and a substrate set above the substrate stop position. A backup device including a support member capable of moving the substrate up and down between the processing positions and a control device for controlling the backup device, wherein the substrate at the substrate processing position is lowered to the substrate stop position An initial lowering section from when the carrying member carrying the substrate at the substrate processing position starts to descend to before the substrate carried by the carrying member lands on the carrying conveyor when delivering to the carrying conveyor Then, increase the speed at which the support member descends to the high-speed side descending speed to lower the board, and have the descending board started to land on the conveyor? In the delivery section until the carrier member is separated from the substrate, the carrier member is lowered by lowering the speed at which the carrier member is lowered to the delivery speed on the low speed side, and the lowered substrate has finished landing on the transport conveyor. And a control device for controlling the backup device so as to lower the carrier member by increasing the speed at which the carrier member descends to a high-speed return speed in a later separation section. It is a processing device.
これらの態様では、基板処理位置から基板停止位置に基板を降下させる際に、基板が搬送コンベアと当接しない区間では、担持部材を可及的に高速で駆動して、処理時間の短縮を図ることができるとともに、基板が搬送コンベアに着地し、担持部材から搬送コンベアに基板を受け渡すときには、速度を低減して基板への衝撃を回避することが可能となる。よって、これらの態様においても、基板への衝撃を回避しつつ、可及的速やかに基板を基板処理位置に上昇することができる。 In these aspects, when the substrate is lowered from the substrate processing position to the substrate stop position, the supporting member is driven as fast as possible in a section where the substrate does not contact the transfer conveyor to shorten the processing time. In addition, when the substrate lands on the conveyor and passes the substrate from the carrying member to the conveyor, it is possible to reduce the speed and avoid the impact on the substrate. Therefore, also in these embodiments, the substrate can be raised to the substrate processing position as quickly as possible while avoiding an impact on the substrate.
以上説明したように、本発明によれば、担持部材による基板の上昇時又は基板の下降時において、基板への衝撃を回避しつつ、可及的速やかに基板を昇降することができる結果、生産性の低減を抑制しつつ基板リフト時の衝撃を回避することができるという顕著な効果を奏する。 As described above, according to the present invention, when the substrate is raised or lowered by the support member, the substrate can be lifted and lowered as quickly as possible while avoiding an impact on the substrate. The remarkable effect that the impact at the time of a substrate lift can be avoided, suppressing the fall of property is exhibited.
本発明のさらなる特徴、目的、構成、並びに作用効果は、添付図面と併せて読むべき以下の詳細な説明から容易に理解できるであろう。 Further features, objects, configurations, and advantages of the present invention will be readily understood from the following detailed description that should be read in conjunction with the accompanying drawings.
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態について説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
本実施形態に係る部品実装装置Mは、ダイシングされたウエハWからベアチップCを取り出してプリント配線板(PWB;Printed Wiring Board)等の基板P上に実装(搭載)するとともに、電子部品等を基板P上に実装することが可能ないわゆる複合型の基板処理装置である。なお、基板処理装置としては、部品実装装置に限らず、プリント基板Pにはんだペーストを塗布するスクリーン印刷装置や、実装後の基板の上面を撮像して検査する検査装置が例示される。 The component mounting apparatus M according to the present embodiment takes out the bare chip C from the diced wafer W and mounts (mounts) it on a substrate P such as a printed wiring board (PWB), and also mounts electronic components on the substrate. This is a so-called composite substrate processing apparatus that can be mounted on P. The substrate processing apparatus is not limited to the component mounting apparatus, and examples include a screen printing apparatus that applies a solder paste to the printed board P and an inspection apparatus that images and inspects the upper surface of the mounted board.
また、図示の例では、基板Pは、比較的剛性のあるプリント基板であるが、プリント基板Pの他、薄く形状が可変の(可撓性のある)フレキシブル基板や、プリント基板とフレキシブル基板とからなるリジッドフレキシブル基板であってもよい。 In the illustrated example, the board P is a relatively rigid printed board. However, in addition to the printed board P, a flexible board having a thin and variable shape (flexible), a printed board and a flexible board, A rigid flexible substrate may be used.
以下の説明では、方向を明確にするため、部品実装装置Mが加工する基板Pを搬送する水平方向をX軸方向とし、X軸方向と直交する水平方向をY軸方向とし、垂直方向をZ軸方向とするXYZ直角座標系を用いることとする。また、Y軸方向の一方(図1の下側に対応する方向)を仮に前方とする。 In the following description, in order to clarify the direction, the horizontal direction for transporting the substrate P processed by the component mounting apparatus M is defined as the X-axis direction, the horizontal direction orthogonal to the X-axis direction is defined as the Y-axis direction, and the vertical direction is defined as Z. An XYZ rectangular coordinate system for the axial direction is used. One of the Y-axis directions (the direction corresponding to the lower side in FIG. 1) is assumed to be the front.
図1を参照して、部品実装装置Mは、Y軸方向に長く延びる平面視略長方形の基台1を有し、この基台1の幅方向(X軸方向)に沿って延びる搬送コンベア2を有している。搬送コンベア2は、X軸方向(基板搬送経路PH)に沿って基板Pを搬送する装置である。
With reference to FIG. 1, the component mounting apparatus M includes a
搬送コンベア2には、基板Pを一次停止し、ベアチップCや電子部品の実装を実行するために、搬送方向に間隔を隔てて二つの実装作業位置S1、S2が設定されている。これらの実装作業位置S1、S2に対応し、搬送コンベア2は、複数のコンベアユニット21〜23で具体化されている。各コンベアユニット21〜23は、基板搬送経路PH上において、二つの実装作業位置S1、S2に対応して分断されており、コンベアユニット21とコンベアユニット22との間、及びコンベアユニット22とコンベアユニット23との間には、詳しくは後述する基板支持装置100がそれぞれ連設している。各コンベアユニット21〜23は、モータ3(搬送経路PHの下流端のコンベアユニット23のもののみを図示)や図略のセンサを備えた構成になっており、上流側のコンベアユニット(21、22)から基板Pを受け渡されて基板Pを対応する実装作業位置(S1、S2)の基板停止位置に停止するとともに、加工後の基板Pを下流側のコンベアユニット(22、23)に受け渡す機能を有する。モータ3は、ベルトコンベアを双方向に駆動することができ、図1の右から左にも左から右にも基板Pを搬送し得る。本実施形態では、基板Pが左から右に搬送されるものとする。なお、基板支持装置100は、上流側のコンベアユニット(21又は22)から基板Pを受け渡されて基板Pを対応する実装作業位置(S1又はS2)の基板停止位置に停止し、この基板停止位置の上方に設定される基板処理位置に基板Pを浮揚して当該基板処理位置にて部品の実装作業に基板Pを供する。基板Pの実装作業後においては、基板支持装置100は、基板処理位置から基板停止位置に基板Pを戻すとともに、加工後の基板Pを下流側のコンベアユニット(22、23)に受け渡す機能を有する。この基板支持装置100の詳細については後述する。
Two mounting work positions S1 and S2 are set on the
基台1の上には、搬送コンベア2の前方に配置されたウエハ収納装置10と、搬送コンベア2の後方に配置され、ウエハ収納装置10からウエハWを受け取って支持するウエハ支持装置11と、ウエハ支持装置11のウエハヘッド12からベアチップCを受け取る吸着ノズル14を有する部品実装ユニット13と、吸着ノズル14が受け取ったベアチップCのバンプ形成面を撮像する固定カメラ15と、撮像後のベアチップCのバンプ形成面にフラックスを塗布するフラックス塗布装置16と、ベアチップCの実装後に実装される電子部品を供給する電子部品供給装置17とを備えている。
On the
これら各部の制御は、制御装置40によって制御される。制御装置40は、CPUや各種メモリ、HDD等を備えている。この制御装置40には、図外の入力装置が電気的に接続されており、オペレータによる各種情報がこの入力装置の操作に基づき入力される。また、制御装置40には、モータ3等の各種駆動モータに内蔵される図外のエンコーダ等の位置検出手段からの出力信号も入力される。さらに制御装置40には、搬送コンベア2のモータ3を含む各種駆動モータ、固定カメラ15等がそれぞれ電気的に接続されている。よって、制御装置40は、搬送コンベア2をはじめとする各機構の動作を統括的に制御することができる。なお、制御装置40には、設定手段としての設定部41が機能的に設けられており、この設定部41によって、制御装置40は、第1の実装作業位置S1及び第2の実装作業位置S2の一方から他方に基板Pの搬送方向を設定するように構成されている。具体的には、モータ3の回転方向が右回り又は左回りに択一的に設定され、関連する部位の上流側及び下流側の関係が逆に変更され、前後方向の関係が同一となるように設定される。
Control of these units is controlled by the
制御装置40の制御により、ウエハWのベアチップCを基板Pに実装する場合、又は電子部品供給装置17(図1参照)の供給部品を実装する場合、部品実装装置Mは、各実装作業位置S1、S2に設置された基板支持装置100上で所定の実装作業(処理の一例)を実行する。なお、上述した各機構のさらに詳細な構成等については、例えば本件出願人が先に提案した出願(例えば特開2014−203916号公報)に詳細に記載されているので、その詳細については省略する。
When the bare chip C of the wafer W is mounted on the substrate P by the control of the
また、ベアチップCの実装動作や電子部品の実装動作において、制御装置40は、基板支持装置100も併せて制御する。
Further, in the mounting operation of the bare chip C and the mounting operation of the electronic component, the
次に、基板支持装置100について説明する。第1の実装作業位置S1に設置される基板支持装置100と、第2の実装作業位置S2に設置される基板支持装置100は、何れも同一仕様の装置であるので、ここで、一方についてのみ説明する。
Next, the
図2を参照して、基板支持装置100は、基台1の上に載置されるベース板101と、ベース板101に立設されて対をなし、互いにY軸方向に対向して搬送コンベア2の一部を構成するコンベアユニット102と、コンベアユニット102の内側に固定される搬送コンベア103と、コンベアユニット102の上部に配置され、搬送コンベア103の上方に臨むロック片104と、コンベアユニット102の間に配置され、搬送コンベア103に搬送される基板Pに対し、下方から臨むバックアップ装置200とを備えている。
Referring to FIG. 2, a
ベース板101はX軸方向に長い平面視長方形状をなしている。
The
コンベアユニット102は、Y軸方向の両側にそれぞれ縦向きに配置される一対のユニット片111、112によって構成され、搬送経路PHに沿って搬送コンベア2の一部を構成している。
The
搬送コンベア103は、対応するユニット片111、112ごとに設けられ、その内壁側上部寄りに取り付けられている。各搬送コンベア103は、図略のプーリや、同プーリによってコンベアユニット102のX軸方向に周回する無端ベルトで具体化されている。これら左右の搬送コンベア103は基板Pの基板幅方向の両側で当該基板Pの縁部下面を支え、図2に示す基板停止位置(図3、図4の高さH2参照)にて基板Pを水平な姿勢に支える機能を担っている。
The
コンベアユニット102に設けられた各ロック片104は、対応するコンベアユニット102の上方に取り付けられ、一部を当該コンベアユニット102の内壁側に突出させて、その下面を搬送コンベア103の上面に臨ませている。
Each
次に、バックアップ装置200について説明する。
Next, the
バックアップ装置200は、ベース板101に設置されている。具体的には、バックアップ装置200は、ベース板101の中央に固定される昇降装置201と、この昇降装置201の上面から昇降する昇降軸202と、昇降軸202の上部に設けられたバックアッププレート203と、バックアッププレート203の上面に立設された複数のバックアップピン204とを備えている。
The
昇降装置201は、モータ210と、モータ210のエンコーダ211と、モータ210の回転力をZ軸方向の平行運動に変換して昇降軸202に伝達する図略の動力伝達機構とを有しており、モータ210をいずれかの駆動方向に駆動することによって、択一的に昇降軸202を上昇させ、下降させることができるように構成されている。
The
バックアッププレート203は、マトリックス状に配置されたピン装着孔を上面に有する板状の構造体であり、昇降軸202と一体的に昇降する。
The
バックアップピン204は、バックアッププレート203のピン装着孔に選択的に植設され、Z軸に沿って同一高さで突出している。
The backup pins 204 are selectively implanted in the pin mounting holes of the
これらバックアッププレート203やバックアップピン204は、基板停止位置の下方に間隔を隔てて基板Pに臨む初期高さH0と基板処理位置に基板をリフトするロック終了高さH4との間で昇降可能な担持部材を構成する。
The
これらの構成により、バックアップ装置200は、搬送コンベア2に設定される基板停止位置に停止する基板Pに対し、間隔を隔てて下方から臨む初期高さH0と、基板停止位置の上方に設定された基板処理位置に基板Pをリフトするリフト高さH4との間で昇降する。
With these configurations, the
ところで、基板Pとして、フレキシブル基板やリジッドフレキシブル基板を採用した場合、基板Pには下反りが生じて、途中部が下方に湾曲していることがしばしば生じる。また、そのような下反りは、ベアチップCを搭載した後においては、より生じやすくなる。かかる場合においても、基板Pや基板Pに搭載されたベアチップCに悪影響を及ぼさないようにするため、本実施形態においては、制御上、初期高さH0からロック終了高さH4までの間に、離反高さH1、受渡高さH2、ロック開始高さH3が設定される。 By the way, when a flexible substrate or a rigid flexible substrate is adopted as the substrate P, the substrate P is often warped and the middle portion is often bent downward. Further, such downward warping is more likely to occur after the bare chip C is mounted. Even in such a case, in order to prevent adverse effects on the substrate P and the bare chip C mounted on the substrate P, in the present embodiment, in the control, between the initial height H0 and the lock end height H4, A separation height H1, a delivery height H2, and a lock start height H3 are set.
次に、図2を参照して、初期高さH0、離反高さH1、受渡高さH2、ロック開始高さH3、ロック終了高さH4について説明する。 Next, the initial height H0, the separation height H1, the delivery height H2, the lock start height H3, and the lock end height H4 will be described with reference to FIG.
初期高さH0は、バックアップピン204が下限まで降下しているときの高さであり、バックアップピン204のホームポジションのときの高さである。バックアップピン204が初期高さH0にあるとき、各バックアップピン204の高さHは、図2に示すように、基板停止位置にある基板Pよりも下方から間隔を隔てて基板Pの下面に臨む高さに設定されている。
The initial height H0 is the height when the
離反高さH1は、バックアップピン204がZ軸方向に伸張する過程で、初期高さH0から当該基板Pの下面に接する前までの高さである。なお、バックアップピン204が初期高さH0と離反高さH1との間を移動する区間を以下の説明では、離反区間(H0−H1)という。
The separation height H <b> 1 is a height from the initial height H <b> 0 to before contacting the lower surface of the substrate P in the process in which the
受渡高さH2は、バックアップピン204の上昇時においては、バックアップピン204が離反高さH1からさらに上昇することにより、基板停止位置にある基板Pが搬送コンベア2の一部であるコンベアユニット102の上方から離れるときまでの高さをいい、バックアップピン204の降下時においては、降下している基板Pがコンベアユニット102の上面に着座を開始し始める高さをいう。なお、バックアップピン204が離反高さH1と受渡高さH2との間で移動する区間を以下の説明では、受渡区間(H1−H2)という。
When the
ロック開始高さH3は、バックアップピン204の上昇時においては、受渡高さH2からリフトされた基板Pの一部がロック片104に当接し、ロック片104とバックアップピン204との間で基板Pの挟圧が開始される位置であり、バックアップピン204の降下時においては、ロック片104との間でロックされていた基板Pのロック解除が完了する位置をいう。以下の説明では、バックアップピン204が受渡高さH2とロック開始高さH3との間で移動する区間をリフト区間(H2−H3)という。
The lock start height H3 is such that when the
ロック終了高さH4は、バックアップピン204の上昇時においては、ロック開始高さH3にリフトされた基板Pがバックアップピン204とロック片104との間でロックされる位置であり、バックアップピン204の降下時においては、ロックされている基板Pのロック解除が開始される位置である。以下の説明では、バックアップピン204がロック開始高さH3とロック終了高さH4との間で移動する区間をロック区間(H3−H4)という。
The lock end height H4 is a position where the substrate P lifted to the lock start height H3 is locked between the
なお、各バックアップピン204が何れの高さH0〜H4にあるかについて、初期高さH0、受渡高さH2については、モータ210のエンコーダ211の出力に基づいて、検出することができる。また、離反高さH1、ロック開始高さH3については、予め「基板の最大反り量」というパラメータを持たせることにより、演算することが可能となる。「基板の最大反り量」は、これまでの加工実績に基づいて、「これくらい反った基板Pが来るかも知れない」、という統計的・実験的データに基付いて導出されるパラメータである。このような「基板の最大反り量」パラメータや安全率に基づいて、離反高さH1、ロック開始高さH3を設定しておき、当該高さH1、H3のところで、モータ210が減速するように設定される。また、個々の基板Pの反り量や変形の態様は、様々であるので、予め、モータ201の駆動量に基づいて、基板Pにバックアップピン204が接触し始めると推定される位置とそれに対する安全率を設定しておき、該設定値に基づいて、所定のタイミングで各区間に対応するようにモータ201を制御してもよい。
Note that the height H0 to H4 of each
次に、制御装置40の制御により、基板Pを基板停止位置と基板処理位置との間で昇降する際の制御について説明する。
Next, control when the substrate P is moved up and down between the substrate stop position and the substrate processing position under the control of the
図3(A)〜(F)を参照して、まず、基板Pを基板停止位置から基板処理位置にリフトする過程では、制御装置40は、初期高さH0にあるバックアップピン204の上昇を開始し、初動速度V0まで加速しながら離反高さH1まで移動させる。この初動速度V0は、比較的高速側(図示の例では10mm/秒)に設定される。すなわち、離反期間(H0−H1)においては、バックアップピン204は、基板Pと接触しておらず、移動速度に拘わらず、基板Pに影響を与えることはない。そのため、比較的高速でバックアップピン204を上昇させて、移動時間の短縮を図っているのである。
Referring to FIGS. 3A to 3F, first, in the process of lifting the substrate P from the substrate stop position to the substrate processing position, the
次に、制御装置40は、バックアップピン204が離反高さH1に到着する直前から減速し、比較的低速(図示の例では、2mm/秒)の受取速度V1に減速させた後、バックアップピン204が受渡区間(H1−H2)を通過するまで受渡速度を維持して基板Pの下面にバックアップピン204を当接させる。これにより、基板Pに反りが生じている場合においても、バックアップピン204は、ゆっくりと基板Pの下面を押し上げ、基板P上に実装されたベアチップCや電子部品に影響を与えることなく、基板Pのリフトを開始する。
Next, the
次に、制御装置40は、バックアップピン204が受渡区間(H1−H2)を通過した後は、受取速度V1よりも速く初動速度V0よりも遅い中速度(図示の例では、6mm/秒)に設定されたリフト速度V2でバックアップピン204を上昇させる。リフト速度V2は、基板Pや基板Pに実装されるベアチップC又は電子部品の点数等に基づき、適宜設定されるものである。リフト速度V2を中速度に設定する必要は必ずしも必須ではないが、基板Pの種類によっては、好ましい速度である。
Next, after the
すなわち、基板Pに作用する衝撃を回避するためだけであるならば、バックアップピン204が基板Pを持ち上げてからの速度は、速い方が好ましい。しかしながら、速度が高くなればなるほど、基板や基板に実装された部品に作用する慣性も高くなるため、基板Pを搬送する速度がベアチップC等の保持力に対し、相対的に速すぎる場合には、ベアチップC等に作用する慣性によって、基板P上の実装状態に悪影響を及ぼすことが懸念される場合がある。特に、基板に実装された部品の全質量に対して、基板の剛性が相対的に小さい場合には、そのような慣性によって基板に悪影響を与えるおそれがある。これに対して、本実施形態のように、基板Pを初動速度V0よりも低い速度で上昇すれば、慣性による悪影響をも回避することが可能となるのである。一方、この中速度は、受取速度V1よりも早く設定されているので、基板Pをリフトした後の搬送時間の短縮を図ることも可能となる。
That is, if it is only to avoid an impact acting on the substrate P, it is preferable that the speed after the
次に、制御装置40は、バックアップピン204がリフト区間(H2−H3)に到着する直前から減速し、再び比較的低速のロック速度V3に減速させた後、バックアップピン204がロック終了高さH4に到達するまでバックアップピン204をロック区間(H3−H4)において上昇させる。これにより、基板Pに反りが生じている場合においても、バックアップピン204は、ゆっくりと基板Pの下面を押し上げ、基板P上に実装されたベアチップCや電子部品に影響を与えることなく、ロック片104との間で基板Pを基板処理位置にロックすることができる。図2で説明した実装作業は、基板Pが図3(E)に示す基板処理位置にロックされている状態で実施される。
Next, the
次に、図4(A)〜(F)を参照して、基板Pを基板処理位置から基板停止位置に降下し、搬送コンベア2の一部としてのコンベアユニット102に受け渡す過程では、制御装置40は、ロック位置に基板Pをリフトアップしているバックアップピン204を所定の中速度(図示の例では、リフト速度V2と同じ6mm/秒)に設定された降下速度V4になるまで、モータ210の回転速度を高めながら降下動作を開始する。これにより、基板Pに過大な慣性を作用させることなく、処理後の基板Pを降下させることが可能になる。降下速度V4でバックアップピン204が降下する区間は、図示の例では、ロック区間(H3−H4)及びリフト区間(H2−H3)であり、本実施例では、これらの区間が初期降下期間である。
Next, referring to FIGS. 4A to 4F, in the process of lowering the substrate P from the substrate processing position to the substrate stop position and delivering it to the
次に、制御装置40は、リフト区間(H2−H3)の直前でバックアップピン204が降下する速度を抑制し、所定の低速度(図示の例では、リフト速度V2と同じ6mm/秒)に設定された降下速度V4)に減速された受渡速度V5に下げ、ゆっくりと基板Pがコンベアユニット102上に着座を開始するようにバックアップピン204を降下させる。これにより、基板Pは、実装後のベアチップC等に悪影響を与えることなく、基板Pを搬送コンベア103に受け渡すことが可能となる。
Next, the
バックアップピン204がさらに降下し、基板Pの下面から完全に離反した後は、制御装置40は、高速側の速度(図示の例では、初動速度V0と同じ10mm/秒)に設定された復帰速度V6で降下させる。この離反期間(H0−H1)においては、バックアップピン204は、基板Pと接触しておらず、移動速度に拘わらず、基板Pに影響を与えることはない。そのため、比較的高速でバックアップピン204を降下させて、移動時間の短縮を図っているのである。
After the
なお、上述した例では、初動速度V0と復帰速度V6とが同じ高速(10mm/秒)に設定されており、受取速度V1と受渡速度V5とロック速度V3とが同じ低速(2mm/秒)に設定されており、リフト速度V2と降下速度V4とが同じ中速(6mm/秒)に設定されているが、これらは、それぞれの駆動態様に応じて個別に設定されていてもよい。 In the example described above, the initial movement speed V0 and the return speed V6 are set to the same high speed (10 mm / second), and the reception speed V1, the delivery speed V5, and the lock speed V3 are the same low speed (2 mm / second). Although the lift speed V2 and the descent speed V4 are set to the same medium speed (6 mm / second), these may be set individually according to each driving mode.
以上説明したように、本実施形態においては、担持部材(バックアッププレート203や担持部材204等で構成されるユニットを単一の部品として表すもの。以下、「担持部材(203、204)」と称する。)を含むバックアップ装置200を用いて、基板停止位置にある基板Pを基板処理位置にリフトする際の制御手段を提供することができる。
As described above, in the present embodiment, the supporting member (a unit constituted by the
同手段によれば、担持部材(203、204)が初期高さH0から当該基板Pの下面に接する前までの離反期間(H0−H1)では、予め高速側に設定される初動速度V0に担持部材(203、204)の速度を上げて基板Pを上昇させ、担持部材(203、204)が当該基板Pに接触する時点から当該基板Pが搬送コンベア2の上方に離れるまでの受渡区間(H1−H2)では、予め低速側に設定される受取速度V1に担持部材(203、204)の速度を下げて基板Pを上昇させ、担持部材(203、204)が受渡区間(H1−H2)を越えて当該基板Pを上昇する区間(図示の例では、少なくともリフト区間(H2−H3)では、受取速度V1よりも高速側に設定されるリフト速度V2に担持部材(203、204)の速度を上げて基板Pを上昇させることが可能となる。 According to this means, during the separation period (H0-H1) from the initial height H0 to the time when the supporting members (203, 204) are in contact with the lower surface of the substrate P, the supporting members (203, 204) are supported at the initial movement speed V0 set in advance on the high speed side. The speed of the members (203, 204) is increased to raise the substrate P, and the delivery section (H1) from when the carrier member (203, 204) contacts the substrate P until the substrate P is separated above the transfer conveyor 2 -H2), the substrate P is raised by lowering the speed of the holding member (203, 204) to the receiving speed V1 set in advance on the low speed side, and the holding member (203, 204) moves the delivery section (H1-H2). In a section where the substrate P is lifted over (in the example shown, at least in the lift section (H2-H3), the speed of the carrier member (203, 204) is set to the lift speed V2 set on the higher speed side than the receiving speed V1. Raise It is possible to increase the substrate P.
このため本実施形態では、基板停止位置から基板処理位置に基板Pをリフトする際に、担持部材(203、204)が基板Pに接触していない状態や、担持部材(203、204)によって基板Pが支持されている状態、すなわち、基板Pに対する衝撃が生じにくい区間(図示の例では、離反区間(H0−H1)やリフト区間(H2−H3))では、基板Pを高速で上昇するとともに、基板Pに衝撃が加わり得る区間(図示の例では、受渡区間(H1−H2)やロック区間(H3−H4))では、担持部材(203、204)が上昇する速度を下げてゆっくりと基板Pを上昇することができるので、基板Pへの衝撃を回避しつつ、可及的速やかに基板Pを基板処理位置に上昇することができる。 For this reason, in the present embodiment, when the substrate P is lifted from the substrate stop position to the substrate processing position, the substrate is not in contact with the substrate P or the substrate is moved by the support member (203, 204). In a state where P is supported, that is, in a section in which impact to the substrate P is unlikely to occur (in the illustrated example, the separation section (H0-H1) or the lift section (H2-H3)), the substrate P is raised at a high speed. In the section where the impact can be applied to the substrate P (in the illustrated example, the delivery section (H1-H2) and the lock section (H3-H4)), the substrate is slowly lowered by lowering the speed at which the support members (203, 204) are raised. Since P can be raised, the substrate P can be raised to the substrate processing position as quickly as possible while avoiding an impact on the substrate P.
特に本実施形態に係る制御装置40は、受渡区間(H1−H2)を越えて上昇する区間、すなわち、リフト区間(H2−H3)では、初動速度V0よりも遅く受取速度V1よりも早い中速度に設定されたリフト速度V2で基板Pを上昇するようにバックアップ装置を制御するよう構成されている。そのため本実施形態では、担持部材(203、204)が基板Pを基板処理位置に上昇する際に基板Pに作用する慣性を比較的小さく抑制することができる。すなわち、衝撃を回避するためだけであるならば、担持部材(203、204)が基板Pを持ち上げてからの速度は、速い方が好ましいが、速度が高くなればなるほど、基板Pや基板Pに実装された部品に作用する慣性も高くなる。特に、基板Pに実装された部品の全質量に対して、基板Pの剛性が相対的に小さい場合には、そのような慣性によって基板Pに悪影響を与えるおそれがある。これに対して、本実施形態のように、基板Pを初動速度V0よりも低い速度で上昇すれば、慣性による悪影響をも回避することが可能となるのである。一方、この中速度は、受取速度V1よりも速く設定されているので、基板Pをリフトした後の搬送時間の短縮を図ることも可能となる。
In particular, the
また本実施形態では、基板処理位置に基板Pを位置決めするように、基板Pの上縁を受けて担持部材(203、204)との間で当該基板Pを挟み込んで基板処理位置にロックするロック片104をさらに備え、制御装置40は、基板処理位置に上昇されている基板Pの上縁がロック片104に当接し始める高さからリフト高さH4までのロック区間(H3−H4)では、低速側に設定されるロック速度V3で基板Pを上昇するようにバックアップ装置を制御するよう構成されている。そのため本実施形態では、ロック片104で基板Pを挟圧する仕様の場合においても、ロック片104に基板Pが当接するときの衝撃を回避し、基板Pへの悪影響を抑制しつつ、高速で基板Pを基板停止位置から基板処理位置に上昇することができる。
Further, in the present embodiment, a lock that receives the upper edge of the substrate P and sandwiches the substrate P between the holding members (203, 204) and locks it to the substrate processing position so as to position the substrate P at the substrate processing position. The
次に、基板Pを基板処理位置から基板停止位置に降下させる局面において、基板Pに作用する衝撃等を可及的に回避しつつ、比較的高速に降下させる手段を構成している。 Next, in the phase where the substrate P is lowered from the substrate processing position to the substrate stop position, a means for lowering the substrate P at a relatively high speed while avoiding an impact acting on the substrate P as much as possible is configured.
同手段では、リフト高さH4にある担持部材(203、204)が降下し始めてから当該担持部材(203、204)が担持している基板Pが搬送コンベア2に着地する前までの初期降下区間(本実施形態では、ロック区間(H3−H4)及びリフト区間(H2−H3)までの区間)では、高速側の降下速度に当該担持部材(203、204)の速度を下げて基板Pを降下させ、降下している基板Pが搬送コンベア2に着地し始めてから担持部材(203、204)が基板Pから離れるまでの受渡区間(H1−H2)では、低速側の受渡速度V5に担持部材(203、204)の速度を下げて当該担持部材(203、204)を降下させ、降下している基板Pが搬送コンベア2に着地し終えた後の離反区間(H0−H1)では、高速側の復帰速度V6に担持部材(203、204)の速度を上げて当該担持部材(203、204)を降下させている。
In this means, the initial lowering section from when the supporting members (203, 204) at the lift height H4 start to descend to before the substrate P carried by the supporting members (203, 204) lands on the
このため本実施形態では、基板処理位置から基板停止位置に基板Pを降下させる際に、基板Pが搬送コンベア2と当接しない区間(ロック区間(H3−H4)及びリフト区間(H2−H3)までの区間)では、担持部材(203、204)を可及的に高速で駆動して、処理時間の短縮を図ることができるとともに、基板Pが搬送コンベア2に着地し、担持部材(203、204)から搬送コンベア2に基板Pを受け渡すときには、速度を低減して基板Pへの衝撃を回避することが可能となる。よって、これらの態様においても、基板Pへの衝撃を回避しつつ、可及的速やかに基板Pを基板処理位置に上昇することができる。
For this reason, in the present embodiment, when the substrate P is lowered from the substrate processing position to the substrate stop position, the section in which the substrate P does not contact the transport conveyor 2 (the lock section (H3-H4) and the lift section (H2-H3). Until the carrier member (203, 204) is driven as fast as possible to shorten the processing time, and the substrate P is landed on the
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることはいうまでもない。 The present invention is not limited to the embodiment described above, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
2 搬送コンベア
40 制御装置
100 基板支持装置
104 ロック片
200 バックアップ装置
203 バックアッププレート(担持部材の要素例)
204 バックアップピン(担持部材の要素例)
210 モータ
211 エンコーダ
C ベアチップ
H0 初期高さ
H1 離反高さ
H2 受渡高さ
H3 ロック開始高さ
H4 ロック終了高さ
(H0−H1) 離反区間
(H1−H2) 受渡区間
(H2−H3) リフト区間
(H3−H4) ロック区間
P 基板
PH 基板搬送経路
S1 実装作業位置
S2 実装作業位置
V0 初動速度(高速側の速度)
V1 受取速度(低速側の速度)
V2 リフト速度(中速側の速度)
V3 ロック速度(低速側の速度)
V4 降下速度(中速側の速度)
V5 受渡速度(低速側の速度)
V6 復帰速度(高速側の速度)
W ウエハ
2
204 Backup pin (element example of support member)
210
V1 receiving speed (low speed side)
V2 Lift speed (medium speed side)
V3 Lock speed (low speed side)
V4 descending speed (medium speed side)
V5 delivery speed (low speed)
V6 Return speed (speed on the high speed side)
W wafer
Claims (6)
前記担持部材が前記停止位置にある基板の下方から当該基板の下面に接する前までの離反期間では、予め高速側に設定される初動速度まで前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させるステップと、
前記担持部材が当該基板に接触する時点から当該基板が前記搬送コンベアの上方に離れるまでの受渡区間では、予め低速側に設定される受取速度に前記担持部材が上昇する速度を下げて当該基板を上昇させるステップと、
前記担持部材が前記受渡区間を越えて当該基板を上昇する区間では、前記受取速度よりも高速側に設定されるリフト速度に前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させるステップと
を備えていることを特徴とするバックアップ装置の制御方法。 Using a backup device including a support member capable of moving the substrate up and down between a substrate stop position set on a transfer path of a transfer conveyor for transferring the substrate and a substrate processing position set above the substrate stop position In the control method of the backup device when lifting the substrate at the substrate stop position to the substrate processing position,
In the separation period from the lower side of the substrate at the stop position to the time when it comes into contact with the lower surface of the substrate, the substrate is raised by increasing the speed at which the supporting member is raised to the initial speed set in advance on the high speed side. Step to
In the delivery section from the time when the carrier member contacts the substrate to the time when the substrate leaves the upper part of the conveyor, the speed at which the carrier member rises is reduced to a reception speed set in advance on the low speed side. Step to raise,
In a section in which the carrier member lifts the substrate beyond the delivery section, a step of raising the substrate by increasing a speed at which the carrier member rises to a lift speed set higher than the receiving speed. A backup device control method comprising:
前記基板処理位置にある基板を担持している前記担持部材が降下し始めてから当該担持部材が担持している基板が前記搬送コンベアに着地する前までの初期降下区間では、高速側の降下速度まで前記担持部材が降下する速度を上げて当該基板を降下させるステップと、
降下している基板が前記搬送コンベアに着地し始めてから前記担持部材が基板から離れるまでの受渡区間では、低速側の受渡速度に前記担持部材が降下する速度を下げて当該担持部材を降下させるステップと、
降下している基板が前記搬送コンベアに着地し終えた後の離反区間では、高速側の復帰速度に前記担持部材が降下する速度を上げて当該担持部材を降下させるステップと
を備えていることを特徴とするバックアップ装置の制御方法。 Using a backup device including a support member capable of moving the substrate up and down between a substrate stop position set on a transfer path of a transfer conveyor for transferring the substrate and a substrate processing position set above the substrate stop position In the control method of the backup device when lowering the substrate at the substrate processing position to the substrate stop position and delivering it to the transfer conveyor,
In the initial descending section from when the carrying member carrying the substrate at the substrate processing position starts to descend to before the substrate carried by the carrying member lands on the transfer conveyor, the descending speed on the high speed side is reached. Increasing the speed at which the carrier member descends and lowering the substrate;
In the delivery section from when the descending substrate starts to land on the conveyor, until the carrier member is separated from the substrate, the step of lowering the carrier member by lowering the speed at which the carrier member descends to the low-speed delivery speed. When,
In a separation section after the descending substrate has landed on the conveyor, the step of lowering the supporting member by increasing the speed at which the supporting member descends to the return speed on the high speed side is provided. A control method for a backup device.
前記搬送コンベアに設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置と、
前記バックアップ装置を制御する制御装置であって、前記基板停止位置にある基板を前記基板処理位置にリフトする際において、前記担持部材が前記停止位置にある基板の下方から当該基板の下面に接する前までの離反期間では、予め高速側に設定される初動速度まで前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させ、前記担持部材が当該基板に接触する時点から当該基板が前記搬送コンベアの上方に離れるまでの受渡区間では、予め低速側に設定される受取速度に前記担持部材が上昇する速度を下げて当該基板を上昇させ、前記担持部材が前記受渡区間を越えて当該基板を上昇する区間では、前記受取速度よりも高速側に設定されるリフト速度に前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させるように前記バックアップ装置を制御する前記制御装置と
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 A transport conveyor for transporting the substrate along a transport path for transporting the substrate;
A backup device including a support member capable of moving the substrate up and down between a substrate stop position set on the transfer conveyor and a substrate processing position set above the substrate stop position;
A control device for controlling the backup device, wherein when the substrate at the substrate stop position is lifted to the substrate processing position, before the support member contacts the lower surface of the substrate from below the substrate at the stop position. In the separation period up to the initial movement speed set in advance on the high speed side, the speed at which the carrying member rises is increased to raise the board, and the board comes into contact with the board from the time when the carrying member contacts the board. In the delivery section until it is separated upward, the substrate is raised by lowering the speed at which the carrying member rises to a receiving speed set in advance on the low speed side, and the carrying member raises the substrate beyond the delivery section. In the section, the back-up is performed so as to raise the substrate by raising the speed at which the support member rises to a lift speed set at a higher speed than the receiving speed. The substrate processing apparatus characterized by and a said control device for controlling the location.
前記制御装置は、前記基板が前記受渡区間を越えて上昇する区間では、前記初動速度よりも遅く前記受取速度よりも早い中速度まで前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇するように前記バックアップ装置を制御する
ことを特徴とする基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 3,
In the section in which the substrate rises beyond the delivery section, the control device raises the substrate by raising the speed at which the carrying member rises to a medium speed that is slower than the initial movement speed and faster than the receiving speed. And controlling the backup device.
前記基板処理位置に基板を位置決めするように、基板の上縁を受けて前記担持部材との間で当該基板を挟み込んで前記基板処理位置にロックするロック片をさらに備え、
前記制御装置は、基板処理位置に上昇されている基板の上縁が前記ロック片に当接し始める高さから当該基板が前記基板処理位置に到着するまでのロック区間では、低速側に設定されるロック速度に前記担持部材が上昇する速度を下げて当該基板を上昇するように前記バックアップ装置を制御する
ことを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus of Claim 3 or 4,
A locking piece for receiving the upper edge of the substrate and sandwiching the substrate with the support member so as to position the substrate at the substrate processing position and locking the substrate processing position;
The control device is set to a low speed side in the lock section from the height at which the upper edge of the substrate raised to the substrate processing position starts to contact the lock piece until the substrate reaches the substrate processing position. The substrate processing apparatus, wherein the back-up device is controlled so as to raise the substrate by lowering a speed at which the support member ascends to a lock speed.
前記搬送コンベアに設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置と、
前記バックアップ装置を制御する制御装置であって、前記基板処理位置にある前記基板を前記基板停止位置に降下させて当該搬送コンベアに受け渡す際において、前記基板処理位置にある基板を担持している前記担持部材が降下し始めてから当該担持部材が担持している基板が前記搬送コンベアに着地する前までの初期降下区間では、高速側の降下速度まで前記担持部材が降下する速度を上げて当該基板を降下させ、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し始めてから前記担持部材が基板から離れるまでの受渡区間では、低速側の受渡速度に前記担持部材が降下する速度を下げて当該担持部材を降下させ、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し終えた後の離反区間では、高速側の復帰速度に前記担持部材が降下する速度を上げて当該担持部材を降下させるように前記バックアップ装置を制御する前記制御装置と
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
A transport conveyor for transporting the substrate along a transport path for transporting the substrate;
A backup device including a support member capable of moving the substrate up and down between a substrate stop position set on the transfer conveyor and a substrate processing position set above the substrate stop position;
A control device that controls the backup device, and carries the substrate at the substrate processing position when the substrate at the substrate processing position is lowered to the substrate stop position and delivered to the transfer conveyor. In the initial lowering section from when the carrying member starts to descend to before the substrate carried by the carrying member lands on the transfer conveyor, the speed at which the carrying member descends is increased to the lowering speed on the high speed side. In the delivery section from when the lowered substrate starts to land on the conveyor, the carrier member lowers the speed at which the carrier member descends to the lower delivery speed. In the separation section after the lowered substrate has landed on the conveyor, the speed at which the carrier member descends is increased to the return speed on the high speed side. The substrate processing apparatus characterized by and a said control device for controlling the backup device so as to drop the bearing member.
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