JP2017119772A - 光硬化性組成物及び電子部品の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】耐熱性、耐光性、鉛筆硬度、及び密着性が高い硬化物膜を得ることができ、かつ白色顔料が使用されていることにより、光の反射率が高い硬化物膜を得ることができる光硬化性組成物を提供する。【解決手段】本発明に係る光硬化性組成物は、エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーと、フェノール化合物と、白色顔料と、光重合開始剤とを含み、前記フェノール化合物が、アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基を有し、前記フェノール化合物において、前記アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基が、ベンゼン環のフェノール性水酸基に対する２位、４位、及び６位に結合しており、前記エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーの酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。【選択図】図１

Description

本発明は、光の照射により硬化されて用いられる光硬化性組成物に関する。また、本発明は、上記光硬化性組成物を用いる電子部品の製造方法に関する。

プリント配線板を高温のはんだから保護するための保護膜として、ソルダーレジスト膜が広く用いられている。

また、様々な電子部品において、プリント配線板の上面に発光ダイオード（以下、ＬＥＤと略す）チップが搭載されている。ＬＥＤから発せられた光の内、上記プリント配線板の上面側に到達した光も利用するために、プリント配線板の上面に白色ソルダーレジスト膜が形成されていることがある。白色ソルダーレジスト膜は、白色顔料を含む。このような白色ソルダーレジスト膜を形成した場合には、ＬＥＤチップの表面からプリント配線板とは反対側に直接照射される光だけでなく、プリント配線板の上面側に到達し、白色ソルダーレジスト膜により反射された反射光も利用できる。従って、ＬＥＤから生じた光の利用効率を高めることができる。

また、ソルダーレジスト膜用途以外にも、様々な光反射用途において、白色顔料を含む硬化物膜が用いられている。

上記白色ソルダーレジスト膜を形成するための材料の一例として、下記の特許文献１には、１分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、希釈剤（Ｃ）と、酸化チタン（Ｄ）と、エポキシ系熱硬化性化合物（Ｅ）とを含有する光硬化性組成物が開示されている。上記光硬化性組成物は、上記（Ａ）成分として、二官能のエポキシ（メタ）アクリレート（Ａ１）を含有する。

特開２０１１−１５８６２８号公報

従来の光硬化性組成物では、硬化物膜の耐熱性が低くなることがある。また、従来の光硬化性組成物では、硬化物膜の耐光性が低くなることがある。さらに、従来の光硬化性組成物では、硬化物膜の鉛筆硬度が低くなることがある。また更に、従来の光硬化性組成物では、塗布対象部材上に塗布し、硬化物膜を形成したときに、硬化物膜の塗布対象部材に対する密着性が低くなることがある。従来、高い光の反射率と、高い耐熱性と、高い耐光性と、高い鉛筆硬度と、高い密着性とを全て満足することが困難である。

本発明の目的は、耐熱性、耐光性、鉛筆硬度、及び密着性が高い硬化物膜を得ることができ、かつ白色顔料が使用されていることにより、光の反射率が高い硬化物膜を得ることができる光硬化性組成物を提供することである。また、本発明は、上記光硬化性組成物を用いる電子部品の製造方法を提供することも目的とする。

本発明の広い局面によれば、エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーと、フェノール化合物と、白色顔料と、光重合開始剤とを含み、前記フェノール化合物が、アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基を有し、前記フェノール化合物において、前記アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基が、ベンゼン環のフェノール性水酸基に対する２位、４位、及び６位に結合しており、前記エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーの酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、光硬化性組成物が提供される。

本発明に係る光硬化性組成物のある特定の局面では、前記白色顔料１００重量部に対して、前記フェノール化合物の含有量が０．１重量部以上、１０重量部以下である。

本発明に係る光硬化性組成物のある特定の局面では、前記光重合開始剤が、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤と、ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤とを含む。

本発明に係る光硬化性組成物のある特定の局面では、前記エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーが、カルボキシル基を有さない。

本発明に係る光硬化性組成物のある特定の局面では、前記エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーが、エポキシ（メタ）アクリレートである。

本発明に係る光硬化性組成物のある特定の局面では、前記光硬化性組成物は、エチレン性不飽和結合を１個有するモノマーを含む。

本発明に係る光硬化性組成物のある特定の局面では、前記光硬化性組成物は、熱硬化性化合物を含まないか、又は、熱硬化性化合物を５重量％以下で含む。

本発明に係る光硬化性組成物のある特定の局面では、光硬化性組成物は、光照射により硬化されて用いられ、かつ現像を行わずに硬化物膜を形成するために用いられる。

本発明に係る光硬化性組成物は、好ましくは、塗布対象部材の表面上に、部分的にかつ複数の箇所に塗布して用いられる。

本発明に係る光硬化性組成物は、好ましくは、熱硬化剤の作用により熱硬化させて用いられない。

本発明の広い局面によれば、電子部品本体の表面上に、上述した光硬化性組成物を塗布して、組成物層を形成する工程と、前記組成物層に光を照射して、硬化物膜を形成する工程とを備え、前記硬化物膜を形成するために、前記組成物層を現像しない、電子部品の製造方法が提供される。

本発明に係る電子部品の製造方法のある特定の局面では、前記電子部品本体の表面上に、部分的にかつ複数の箇所に、前記光硬化性組成物を塗布する。

本発明に係る電子部品の製造方法のある特定の局面では、前記硬化物膜を形成するために、熱硬化剤の作用により前記組成物層を熱硬化させない。

本発明に係る光硬化性組成物は、エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーと、フェノール化合物と、白色顔料と、光重合開始剤とを含み、上記フェノール化合物が、アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基を有し、上記フェノール化合物において、上記アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基が、ベンゼン環のフェノール性水酸基に対する２位、４位、及び６位に結合しており、上記エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーの酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であるので、耐熱性、耐光性、鉛筆硬度、及び密着性が高い硬化物膜を得ることができ、かつ白色顔料が使用されていることにより、光の反射率が高い硬化物膜を得ることができる。

図１（ａ）〜（ｃ）は、本発明の一実施形態に係る光硬化性組成物を用いて、電子部品を製造する方法の一例を説明するための断面図である。 図２（ａ）〜（ｅ）は、従来の現像型レジスト組成物を用いて、電子部品を製造する方法の一例を説明するための断面図である。

以下、本発明の詳細を説明する。

［光硬化性組成物］
本発明に係る光硬化性組成物は、光の照射により硬化されて用いられ、かつ現像を行わずに硬化物膜を形成するために用いられることが好ましい。本発明に係る光硬化性組成物は、非現像型レジスト光硬化性組成物であることが好ましい。本発明に係る光硬化性組成物を用い、レジスト膜を形成するために現像が行われない場合には、光硬化性組成物は、レジスト膜を形成するために現像を行う現像型レジスト組成物とは異なる。本発明に係る光硬化性組成物では、現像を行わなくても、良好なレジスト膜を得ることができる組成が採用されている。

本発明に係る光硬化性組成物は、（Ａ）エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーと、特定の（Ｃ）フェノール化合物と、（Ｄ）白色顔料と、（Ｅ）光重合開始剤とを含む。本発明に係る光硬化性組成物は、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を１個有するモノマーを含むことが好ましい。本発明に係る光硬化性組成物では、（Ｃ）フェノール化合物は、アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基を有し、（Ｃ）フェノール化合物において、上記アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基が、ベンゼン環のフェノール性水酸基に対する２位、４位、及び６位に結合している。

また、本発明に係る光硬化性組成物では、（Ａ）エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーの酸価は２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。

本発明では、上記の構成が採用されているので、耐熱性、耐光性、鉛筆硬度、及び密着性が高い硬化物膜（レジスト膜など）を形成することができる。本発明では、高い光の反射率と、高い耐熱性と、高い耐光性と、高い鉛筆硬度と、高い密着性とを全て満足することができる。さらに、本発明に係る光硬化性組成物は、（Ｄ）白色顔料を含むので、白色の硬化物膜（レジスト膜など）を形成することができ、光の反射率が高い硬化物膜を得ることができる。硬化物膜が白色であることにより、硬化物膜の光の反射率を高めることができる。

さらに、本発明では、フォトリソグラフィーにおける露光工程及び現像工程などの多くの工程を行わなくても、良好な硬化物膜（レジスト膜など）を形成することができる。露光工程及び現像工程を行わない場合には、廃棄物の量を少なくすることができ、環境負荷を低減できる。さらに、電子部品などの製造コストも低くすることができる。

上記光硬化性組成物は、光の照射により硬化させるために、（Ｆ）熱硬化性化合物を含んでいなくてもよく、熱硬化剤を含んでいなくてもよい。上記光硬化性組成物は、熱硬化剤の作用により熱硬化させて用いられないことが好ましい。上記硬化物膜（レジスト膜など）を形成するために、塗布対象部材の表面上に配置された組成物層（レジスト層など）を熱硬化させなくてもよい。上記硬化物膜を形成するために、塗布対象部材の表面上に配置された組成物層を加熱しなくてもよい。但し、上記組成物層では、低温での加熱が行われてもよい。上記硬化物膜を形成するために、上記組成物層を、２８０℃以上に加熱しないことが好ましく、１８０℃以上に加熱しないことがより好ましく、６０℃以上に加熱しないことが更に好ましい。上記組成物層を加熱する温度が低いほど、電子部品本体などの塗布対象部材の熱劣化を抑えることができる。

本発明において、（Ａ）エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーの酸価は２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、好ましくは１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。上記酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、硬化物膜の耐熱性が悪くなることがある。上記酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、硬化物膜の耐熱性がより一層高くなる。なお、上記光硬化性組成物が（Ａ）エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーを複数種含む場合は、上記酸価は、（Ａ）エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーの混合物の酸価を意味する。

上記酸価は、以下のようにして測定される。

（Ａ）オリゴマー１ｇにアセトン３０ｇを添加し、（Ａ）オリゴマーを均一に溶解し、溶液を得る。なお、（Ａ）オリゴマーに合成溶媒、希釈溶媒等の揮発分が添加されている場合は、上記溶液を得る前に予め、揮発分の沸点よりも１０℃程度高い温度で１〜４時間加熱し、揮発分を除去する。次いで、指示薬であるフェノールフタレインを、得られた溶液に適量添加して、０．１Ｎの水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液を用いて滴定を行う。測定対象である上記溶液（（Ａ）オリゴマーのアセトン溶液）を中和するのに必要なＫＯＨのｍｇ数を算出することで、酸価を求める。

硬化物膜の鉛筆硬度をより一層効果的に高める観点からは、２５℃及び１０ｒｐｍでの光硬化性組成物の粘度は好ましくは１Ｐａ・ｓ以上、より好ましくは５Ｐａ・ｓ以上、好ましくは３０Ｐａ・ｓ以下、より好ましくは２５Ｐａ・ｓ以下である。上記粘度が上記下限以上及び上記上限以下であると、適度な厚みを有する硬化物膜が得られるため、より一層高い鉛筆硬度を有する硬化物膜が得られる。

上記粘度は、Ｅ型粘度計を用いて、２５℃及び１０ｒｐｍの条件で測定される。上記Ｅ型粘度計としては、東機産業社製「ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ−２２」等が挙げられる。

以下、上記光硬化性組成物に含まれる各成分を説明する。

（（Ａ）エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマー）
上記光硬化性組成物に含まれる（Ａ）オリゴマーは、エチレン性不飽和結合を２個以上有する。（Ａ）オリゴマーの使用により、塗布対象部材に対する硬化物膜の密着性が効果的に高くなる。特に（Ｄ）白色顔料の含有量が多い場合に、（Ａ）オリゴマーを用いていないと、硬化物膜の密着性が低くなりやすい傾向がある。（Ａ）オリゴマーを用いることで、（Ｄ）白色顔料の含有量が多くても、硬化物膜の密着性を高めることができる。また、（Ａ）オリゴマーは、カルボキシル基を有さないことが好ましい。（Ａ）オリゴマーがカルボキシル基を有さないことにより、硬化物膜におけるカルボキシル基による悪影響を防ぐことができ、例えば硬化物膜の変色を抑えることができる。（Ａ）オリゴマーは１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

（Ａ）オリゴマーは、光硬化性化合物であることが好ましい。

（Ａ）オリゴマーにおけるエチレン性不飽和結合を含む基としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。効果的に反応を進行させ、剥離及び変色をより一層抑制する観点からは、（メタ）アクリロイル基が好ましい。（Ａ）オリゴマーは、（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。

塗布対象部材に対する硬化物膜の密着性を高める観点からは、（Ａ）オリゴマーは、（Ａ１）エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。硬化物膜の鉛筆硬度を高める観点からは、（Ａ１）エポキシ（メタ）アクリレートは、２官能のエポキシ（メタ）アクリレートと、３官能以上のエポキシ（メタ）アクリレートとを含むことが好ましい。２官能のエポキシ（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリロイル基を２個有することが好ましい。３官能以上のエポキシ（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリロイル基を３個以上有することが好ましい。

（Ａ１）エポキシ（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させて得られる。（Ａ１）エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ基を（メタ）アクリロイル基に変換することにより得ることができる。上記光硬化性組成物は光の照射により硬化させるので、（Ａ１）エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ基を有さないことが好ましい。

（Ａ１）エポキシ（メタ）アクリレートとしては、ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート（例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳ型エポキシ（メタ）アクリレート）、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、アミン変性ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート、カルボン酸無水物変性エポキシ（メタ）アクリレート、及びフェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

２官能のエポキシ（メタ）アクリレートの市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−３８１（日本化薬社製、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート）、ＥＢＥＣＲＹＬ３７０１及びＥＢＥＣＲＹＬ３７０８（ダイセル・オルネクス社製、変性ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート）等が挙げられる。また、３官能以上のエポキシ（メタ）アクリレートの市販品としては、ＥＢＥＣＲＹＬ３６０３（ダイセル・オルネクス社製、ノボラックエポキシアクリレート）等が挙げられる。また、２官能のエポキシ（メタ）アクリレートの水酸基を変性させて、（メタ）アクリロイル基を導入することにより、３官能以上のエポキシ（メタ）アクリレートを得てもよい。

「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基とメタクリロイル基とを示す。「（メタ）アクリル」は、アクリルとメタクリルとを示す。「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートとを示す。

オリゴマーは、モノマーと異なり、モノマーが２以上結びついた多量体である。（Ａ）オリゴマーの重量平均分子量は、好ましくは５００を超え、より好ましくは６００を超え、更に好ましくは８００を超え、特に好ましくは１０００以上、最も好ましくは２０００以上である。（Ａ）オリゴマーの重量平均分子量は、好ましくは１００００以下である。（Ａ）オリゴマーの重量平均分子量が上記下限以上であると、硬化物膜の密着性がより一層高くなり、リフロー後の変色がより一層生じにくくなる。

（Ａ）オリゴマーにおける重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されるポリスチレン換算での重量平均分子量であり、下記の測定装置及び測定条件にて測定することができる。

測定装置：日本ウォーターズ社製「Ｗａｔｅｒｓ ＧＰＣ Ｓｙｓｔｅｍ（Ｗａｔｅｒｓ ２６９０＋Ｗａｔｅｒｓ ２４１４（ＲＩ））」
測定条件カラム：Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＬＦ−Ｇ×１本、Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＬＦ−８０４×２本
移動相：ＴＨＦ １．０ｍＬ／分
サンプル濃度：５ｍｇ／ｍＬ
検出器：示差屈折率検出器（ＲＩＤ）
標準物質：ポリスチレン（ＴＯＳＯＨ社製、分子量：６２０〜５９００００）

剥離及び変色を効果的に抑える観点からは、（Ａ）オリゴマーは、脂環式骨格を有する化合物ではないことが好ましく、脂環式骨格を有するエポキシ（メタ）アクリレートではないことが好ましい。剥離及び変色をより一層抑える観点からは、（Ａ）オリゴマーは、芳香族骨格を有する化合物を含むことが好ましく、芳香族骨格を有するエポキシ（メタ）アクリレートを含むことが好ましい。

剥離及び変色を効果的に抑える観点からは、（Ａ）オリゴマーは、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート又は芳香族骨格を有するエポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましく、ウレタン（メタ）アクリレート、又は芳香族骨格を有するエポキシ（メタ）アクリレートであることがより好ましい。

（Ａ１）エポキシ（メタ）アクリレートは、特に限定されないが、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、ビスフェノールＳ型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、又は脂肪族エポキシ化合物などのエポキシ化合物と、（メタ）アクリル酸とを反応させることにより得られる。

（Ａ１）エポキシ（メタ）アクリレートは、水酸基を有するエポキシ（メタ）アクリレートの水酸基を変性させたエポキシ（メタ）アクリレートであってもよい。この場合には、架橋度を高め、鉛筆硬度を効果的に高めることができる。変性に用いることができる化合物としては、シランカップリング剤、及びイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。上記シランカップリング剤としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、メルカプト基、エポキシ基、アミノ基、スルフィド基、ウレイド基、及びイソシアネート基などの官能基を有する化合物等が挙げられる。光反応性があるので、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、又はメルカプト基を有する化合物が好ましい。イソシアネート基を有するモノマーとしては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、又はメルカプト基を有する化合物等が挙げられる。

上記光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中、（Ａ）オリゴマー及び（Ａ１）エポキシ（メタ）アクリレートの含有量は好ましくは５重量％以上、より好ましくは１０重量％以上、好ましくは４０重量％以下、より好ましくは３０重量％以下である。（Ａ）オリゴマー及び（Ａ１）エポキシ（メタ）アクリレートの含有量が上記下限以上であると、硬化物膜の密着性が効果的に高くなる。また、硬化物膜の密着性を効果的に高める観点から、上記光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中、オリゴマーである２官能のエポキシ（メタ）アクリレートと、オリゴマーである３官能以上のエポキシ（メタ）アクリレートとの合計の含有量は、好ましくは５重量％以上、より好ましくは１０重量％以上、好ましくは４０重量％以下、より好ましくは３０重量％以下である。

上記光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％は、光硬化性組成物が溶剤を含む場合には、光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％を意味し、光硬化性組成物が溶剤を含まない場合には、光硬化性組成物１００重量％を意味する。

（（Ｂ）エチレン性不飽和結合を１個以上有するモノマー（反応性希釈剤））
硬化物膜の密着性を効果的に高め、更に光硬化性組成物の粘度を最適な範囲に制御しやすくする観点からは、上記光硬化性組成物は、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を１個以上有するモノマーを含むことが好ましい。（Ｂ）モノマーは、例えば、反応性希釈剤である。（Ａ）オリゴマーとともに（Ｂ）モノマーを用いることにより、（Ｄ）白色顔料の含有量が多くても、硬化物膜の密着性を効果的に高めることができ、更に光硬化性組成物の粘度を最適な範囲に制御することが容易である。（Ｂ）モノマーの分子量は好ましくは２０００未満であり、より好ましくは８００以下、更に好ましくは６００以下、特に好ましくは５００以下である。（Ｂ）モノマーは、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

（Ｂ）モノマーにおけるエチレン性不飽和結合を含む基としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。効果的に反応を進行させ、剥離及び変色をより一層抑制する観点からは、（メタ）アクリロイル基が好ましい。（Ｂ）モノマーは、（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。

（Ｂ）モノマーとしては、特に限定されず、多価アルコールの（メタ）アクリル酸付加物、多価アルコールのアルキレンオキサイド変性物の（メタ）アクリル酸付加物、ウレタン（メタ）アクリレート、及びポリエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。上記多価アルコールとしては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、ビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加物、及びペンタエリスリトール等が挙げられる。

（Ｂ）モノマーは、（Ｂ１）エチレン性不飽和結合を１個有する化合物を含むことが好ましく、（メタ）アクリロイル基を１個有する化合物を含むことが好ましい。

（Ｂ）モノマーは、エチレン性不飽和結合を２個有する化合物を含んでいてもよく、（Ｂ２）エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物を含んでいてもよい。硬化物膜の密着性を更に一層高める観点からは、（Ｂ）モノマーは、（Ｂ２）エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物を含むことが好ましく、（メタ）アクリロイル基を２個以上有する化合物を含むことが好ましい。

硬化物膜の密着性をより一層高める観点からは、（Ｂ）モノマーは、脂環式化合物を含むか、又は、芳香環又は水酸基を含むことが好ましい。単官能の成分が好ましいが、二官能などの多官能の複数成分が含まれていてもよい。

上記光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中、（Ｂ）モノマー及び（Ｂ２）エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物の含有量は好ましくは５重量％以上、より好ましくは１０重量％以上、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは４０重量％以下である。（Ｂ）モノマー及び（Ｂ２）エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、硬化物膜の密着性が効果的に高くなる。

（特定の（Ｃ）フェノール化合物）
（Ｃ）フェノール化合物は、アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基を有し、（Ｃ）フェノール化合物において、上記アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基が、ベンゼン環のフェノール性水酸基に対する２位、４位、及び６位に結合している。（Ｃ）フェノール化合物は、アルキル基を有していてもよく、トリアゾール骨格含有基を有していてもよく、トリアジン骨格含有基を有していてもよい。（Ｃ）フェノール化合物は、アルキル基、トリアゾール骨格含有基及びトリアジン骨格含有基のうちの２以上の基を有していてもよい。上記アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基が、ベンゼン環のフェノール性水酸基に対して、２位に結合していてもよく、４位に結合していてもよく、６位に結合していてもよい。（Ｃ）フェノール化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

（Ｃ）フェノール化合物としては、例えば、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎ２３４、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６、Ｔｉｎｕｖｉｎ２１３、Ｔｉｎｕｖｉｎ５７１、Ｔｉｎｕｖｉｎ１２０、Ｔｉｎｕｖｉｎ ＰＡ１４４、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ１０３５、Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０９８、Ｉｒｇａｎｏｘ１１３５、Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０、Ｉｒｇａｎｏｘ２４５、Ｉｒｇａｎｏｘ２５９、及びＩｒｇａｎｏｘ２９５等がある。

高い鉛筆硬度と高い耐熱性と高い耐光性とを高レベルで発揮する観点からは、（Ｃ）フェノール化合物は、酸化防止剤であることが好ましく、フェノール系酸化防止剤であることがより好ましく、ヒンダードフェノール系酸化防止剤であることが更に好ましく、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］であることが特に好ましい。

（Ｄ）白色顔料１００重量部に対して、（Ｃ）フェノール化合物の含有量は好ましくは０．１重量部以上、より好ましくは１重量部以上、好ましくは１０重量部以下、より好ましくは６重量部以下である。（Ｃ）フェノール化合物の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、高い鉛筆硬度と高い耐熱性と高い耐光性とが高レベルで発揮される。

（（Ｄ）白色顔料）
上記光硬化性組成物が（Ｄ）白色顔料を含むことにより、光の反射率が高い硬化物膜を形成することができる。（Ｄ）白色顔料の使用によって、（Ｄ）白色顔料以外の充填材のみを用いた場合と比較して、光の反射率が高い硬化物膜が得られる。（Ｄ）白色顔料は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

（Ｄ）白色顔料としては、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン及び酸化マグネシウム等が挙げられる。

硬化物膜の光の反射率をより一層高める観点からは、（Ｄ）白色顔料は、酸化チタン、酸化亜鉛又は酸化ジルコニウムであることが好ましい。この好ましい白色顔料を用いる場合に、酸化チタン、酸化亜鉛及び酸化ジルコニウムの中で、１種又は２種以上の白色顔料を用いることができる。（Ｄ）白色顔料は、酸化チタン又は酸化亜鉛であることが好ましく、酸化チタンであることが好ましく、酸化亜鉛であることが好ましい。（Ｄ）白色顔料は、酸化ジルコニウムであってもよい。

上記酸化チタンは、ルチル型酸化チタンであることが好ましい。ルチル型酸化チタンの使用により、硬化物膜の耐熱性がより一層高くなり、硬化物膜の変色がより一層抑えられる。

上記酸化チタンは、アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタン（アルミニウム酸化物による表面処理物であるルチル型酸化チタン）であることが好ましい。上記アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタンの使用により、硬化物膜の耐熱性がより一層高くなる。

上記アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタンとしては、例えば、ルチル塩素法酸化チタンである石原産業社製「ＣＲ−９０−２」、ルチル塩素法酸化チタンである石原産業社製「ＣＲ−５８」、ルチル塩素法酸化チタンであるデュポン社製「Ｒ−９００」、並びにルチル硫酸法酸化チタンである石原産業社製「Ｒ−６３０」等が挙げられる。

上記酸化亜鉛は、表面処理された酸化亜鉛であることが好ましい。成型体の加工性及び成型体の光の反射率をより一層高める観点からは、上記酸化亜鉛は、珪素、アルミニウム又はジルコニアを含む材料により表面処理されていることが好ましく、珪素を含む材料により表面処理されていることがより好ましい。上記酸化亜鉛は、上記の材料による表面処理物であることが好ましい。上記珪素を含む材料は、シリコーン化合物であることが好ましい。

上記酸化ジルコニウムは、表面処理された酸化ジルコニウムであることが好ましい。硬化物膜の光の反射率をより一層高める観点からは、上記酸化ジルコニウムは、珪素、アルミニウム又はジルコニアを含む材料により表面処理されていることが好ましく、珪素を含む材料により表面処理されていることがより好ましい。上記珪素を含む材料は、シリコーン化合物であることが好ましい。

上記表面処理の方法は特に限定されない。表面処理の方法として、乾式法、湿式法、インテグラルブレンド法、並びに他の公知慣用の表面処理方法を用いることができる。

（Ｄ）白色顔料の平均粒径は、好ましくは０．１μｍ以上、好ましくは４０μｍ以下である。上記平均粒径が上記下限以上及び上記上限以下であると、硬化物膜の光の反射率をより一層高めることができる。

上記光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中、（Ｄ）白色顔料の含有量は、好ましくは３０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上、好ましくは７０重量％以下、より好ましくは６０重量％以下である。（Ｄ）白色顔料の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、硬化物膜の光の反射率がより一層高くなり、上記硬化物膜の密着性がより一層高くなる。上記光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中、（Ｄ）白色顔料の含有量は、５０重量％以上であってもよい。

本発明では、特定の組成が採用されているために、（Ｄ）白色顔料の含有量が多くても、硬化物膜の密着性を高めることができる。例えば、上記光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中、（Ｄ）白色顔料の含有量が５０重量％以上であっても、硬化物膜の密着性が十分に高くなる。

（（Ｅ）光重合開始剤）
上記光硬化性組成物は、（Ｅ）光重合開始剤を含むので、光の照射により光硬化性組成物を硬化させることができる。（Ｅ）光重合開始剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

（Ｅ）光重合開始剤としては、アシルフォスフィンオキサイド、ハロメチル化トリアジン、ハロメチル化オキサジアゾール、イミダゾール、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル、アントラキノン、ベンズアンスロン、ベンゾフェノン、アセトフェノン、チオキサントン、安息香酸エステル、アクリジン、フェナジン、チタノセン、α−アミノアルキルフェノン、オキシム、及びこれらの誘導体が挙げられる。

ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル及びミヒラーズケトン等が挙げられる。ベンゾフェノン系光重合開始剤の市販品としては、ＥＡＢ（保土谷化学社製）等が挙げられる。

アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤の市販品としては、Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）、及びイルガキュア８１９（チバスペシャリティーケミカルズ社製）等が挙げられる。

チオキサントン系光重合開始剤の市販品としては、イソプロピルチオキサントン、及びジエチルチオキサントン等が挙げられる。

アルキルフェノン系光重合開始剤の市販品としては、ダロキュア１１７３、ダロキュア２９５９、イルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア６５１（ＢＡＳＦ社製）、及びエサキュア１００１Ｍ（Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）等が挙げられる。

発泡、剥離及び変色をより一層抑制する観点からは、（Ｅ）光重合開始剤は、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤を含むことが好ましく、アセトフェノン系光重合開始剤と、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤との双方を含むことがより好ましく、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤と、ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤との双方を含むこともより好ましい。

（Ａ）オリゴマーと（Ｂ）モノマーとの合計１００重量部に対して、（Ｅ）光重合開始剤の含有量は好ましくは１重量部以上、より好ましくは３重量部以上、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１５重量部以下である。（Ｅ）光重合開始剤の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、光硬化性組成物を良好に光硬化させることができる。

（Ａ）オリゴマーと（Ｂ）モノマーとの合計１００重量部は、光硬化性組成物が（Ｂ）モノマーを含まない場合には、（Ａ）オリゴマー１００重量部を意味し、光硬化性組成物が（Ｂ）モノマーを含む場合には、（Ａ）オリゴマーと（Ｂ）モノマーとの合計１００重量部を意味する。

（（Ｆ）熱硬化性化合物）
上記光硬化性組成物は、（Ｆ）熱硬化性化合物を含まないか、又は、光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中で（Ｆ）熱硬化性化合物を５重量％以下で含む。本発明では、（Ｆ）熱硬化性化合物を使用する場合には、（Ｆ）熱硬化性化合物の使用量を少なくする。光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中で（Ｆ）熱硬化性化合物の含有量が５重量％以下である組成物と、光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中で（Ｆ）熱硬化性化合物の含有量が例えば１０重量％以上である組成物とでは、硬化物の基本物性が一般に異なる。（Ｆ）熱硬化性化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

（Ｆ）熱硬化性化合物としては、エポキシ化合物等が挙げられる。

上記光硬化性組成物は、エポキシ化合物を含まないか、又は、光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中でエポキシ化合物を５重量％以下で含むことが好ましい。

剥離及び変色をより一層抑制する観点からは、光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中、（Ｆ）熱硬化性化合物の含有量は少ないほどよい。光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中、（Ｆ）熱硬化性化合物の含有量は好ましくは３重量％以下、より好ましくは１重量％以下、更に好ましくは０．５重量％以下、特に好ましくは０重量％（未使用）である。

（（Ｇ）チオール基を１個以上有するチオール基含有化合物）
（Ｇ）チオール基を１個以上有するチオール基含有化合物の使用により、高温下に晒されても、発泡及び剥離が生じ難い硬化物膜を得ることができ、かつ、耐熱性が高い硬化物膜を得ることができることができる。（Ｇ）チオール基含有化合物は窒素原子を有さないことが好ましい。（Ｇ）チオール基含有化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

（Ｇ）チオール基含有化合物としては、メルカプト酢酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸４−メトキシブチル、３−メルカプトプロピオン酸２−エチルヘキシル、３−メルカプトプロピオン酸ｎ−オクチル、３−メルカプトプロピオン酸ステアリル、１，４−ビス（３−メルカプトプロピオニルオキシ）ブタン、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトブチレート）、トリス［２−（３−メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス［２−（３−メルカプトブチリルオキシ）エチル］イソシアヌレート等のメルカプトカルボン酸エステル化合物；エチルメルカプタン、１，２−ジメルカプトエタン、１，３−ジメルカプトプロパン、ｔｅｒｔ−ブチルメルカプタン、ｎ−ドデカンチオール、ｔｅｒｔ−ドデカンチオール等のメルカプトアルカン化合物；２−メルカプトエタノール、４−メルカプト−１−ブタノール等のメルカプトアルコール化合物；チオフェノール、ベンジルチオール、ｍ−トルエンチオール、ｐ−トルエンチオール、２−ナフタレンチオール、２−メルカプトベンゾチアゾール等の含芳香環メルカプタン化合物；（γ−メルカプトプロピル）トリメトキシシラン及び（γ−メルカプトプロピル）トリエトキシシラン等のシラン含有チオール化合物等が挙げられる。

（Ｇ）チオール基含有化合物は、メルカプトカルボン酸エステル化合物であることが好ましく、２級チオール化合物であることがより好ましい。メルカプトカルボン酸エステル化合物を用いると、メルカプトカルボン酸エステル化合物が光硬化時に架橋構造に取り込まれることから、硬化後の揮発成分を抑制することができ、発泡をより一層抑制することができる。２級チオール化合物を用いると、チオール基含有化合物独特の臭気を抑制することができる。

（Ｇ）チオール基含有化合物の具体例としては、ＳＣ有機化学社製のトリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）（ＴＭＭＰ）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＰＥＭＰ）、トリス−［（３−メルカプトプロピオニルオキシ）−エチル］−イソシアヌレート（ＴＥＭＰＩＣ）、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）（ＥＧＭＰ−４）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）等の１級多官能チオール、昭和電工社製のペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）（カレンズＭＴ ＰＥ１）、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチリルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（カレンズＭＴ ＮＲ１）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン（カレンズＭＴ ＢＤ１）等の２級多官能チオール、ＳＣ有機化学社製のβ−メルカプトプロピオン酸（ＢＭＰＡ）、メチル−３−メルカプトプロピオネート（ＭＰＭ）、２−エチルヘキシル−３−メルカプトプロピオネート（ＥＨＭＰ）、ｎ−オクチル−３−メルカプトプロピオネート（ＮＯＭＰ）、メトキシブチル−３−メルカプトプロピオネート（ＭＢＭＰ）、ステアリル−３−メルカプトプロピオネート（ＳＴＭＰ）等の単官能チオール等が挙げられる。

上記光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中、（Ｇ）チオール基含有化合物の含有量は好ましくは０．１重量％以上、より好ましくは０．５重量％以上、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下である。（Ｇ）チオール基含有化合物の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、硬化物膜における発泡、剥離及び変色がより一層抑制される。また、（Ｇ）チオール基含有化合物の含有量が上記上限以下であると、保存中にゲル化が進行しにくい。（Ｇ）チオール基含有化合物の含有量が上記下限以上であると、硬化性がより一層高くなる。

（Ａ）オリゴマーと（Ｂ）モノマーとの合計１００重量部に対して、（Ｇ）チオール基含有化合物の含有量は好ましくは０．２重量部以上、より好ましくは１重量部以上、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下、更に好ましくは６重量部以下である。（Ｇ）チオール基含有化合物の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、硬化物膜における発泡、剥離及び変色がより一層抑制される。また、（Ｇ）チオール基含有化合物の含有量が上記上限以下であると、保存中にゲル化が進行しにくい。（Ｇ）チオール基含有化合物の含有量が上記下限以上であると、硬化性がより一層高くなる。

（他の成分）
高い鉛筆硬度と高い耐熱性とをより一層高レベルで両立する観点からは、上記光硬化性組成物は、消泡剤を含むことが好ましい。

上記消泡剤としては、ＫＳ−６６及びＫＳ−６９（信越化学工業社製）等が挙げられる。

上記光硬化性組成物の溶剤を除く成分１００重量％中、上記消泡剤の含有量は好ましくは０．１重量％以上、より好ましくは０．５重量％以上、好ましくは５重量％以下、より好ましくは３重量％以下である。上記消泡剤の含有量が上記下限以上であると、硬化物膜の均一性が高くなり、硬化物膜の鉛筆硬度がより一層高くなる。

上記光硬化性組成物は、安定化剤を含むことが好ましい。上記光硬化性組成物が安定化剤を含むことで、（Ｇ）チオール基含有化合物を用いていても、保管中のゲル化及び粘度変化がより一層抑えられる。具体的には、安定化剤として、例えば特開平５−１５５９８７号公報、特開２０１２−１７４４８号公報等に記載された化合物を用いることができる。

上記光硬化性組成物は、上述した成分以外に、溶剤、白色顔料以外の無機フィラー、有機フィラー、着色剤、重合禁止剤、連鎖移動剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、界面活性剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、ワックス、マスキング剤、消臭剤、芳香剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤及び密着性付与剤等を含んでいてもよい。上記密着性付与剤としては、シランカップリング剤等が挙げられる。

上記光硬化性組成物は、溶剤を含まないか、又は溶剤を５０重量％以下で含むことが好ましい。溶剤の含有量は少ない方がよい。上記光硬化性組成物１００重量％中、上記溶剤の含有量は好ましくは５重量％以下である。

［電子部品及び電子部品の製造方法］
本発明に係る電子部品の製造方法は、電子部品本体の表面上に、上記光硬化性組成物を塗布して、組成物層を形成する工程と、上記組成物層に光を照射して、硬化物膜を形成する工程とを備える。本発明に係る電子部品の製造方法では、上記硬化物膜を形成するために、上記組成物層を現像しないことが好ましい。上記組成物層がレジスト層であることが好ましく、上記硬化物膜がレジスト膜であることが好ましい。

上記光硬化性組成物は現像を行わずに硬化物膜を形成するために好適に用いられるので、電子部品本体の表面上に、部分的にかつ複数の箇所に、上記光硬化性組成物を塗布することが好ましい。

電子部品本体の熱劣化を防ぐ観点からは、上記硬化物膜を形成するために、熱硬化剤の作用により上記組成物層を熱硬化させないことが好ましい。

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な電子部品の製造方法を説明する。以下に説明する実施形態では、上記組成物層がレジスト層であり、上記硬化物膜がレジスト膜である。レジスト膜を形成するために、非現像型レジスト光硬化性組成物が用いられている。

先ず、図１（ａ）に示すように、塗布対象部材１１を用意する。塗布対象部材１１は、電子部品本体である。塗布対象部材１１として、基板１１Ａが用いられており、基板１１Ａの表面上に複数の電極１１Ｂが配置されている。

次に、図１（ｂ）に示すように、塗布対象部材１１の表面上に、非現像型レジスト光硬化性組成物を塗布して、レジスト層１２（組成物層）を形成する。図１（ｂ）では、塗布対象部材１１の表面上に、部分的にかつ複数の箇所に、上記非現像型レジスト光硬化性組成物を塗布し、複数のレジスト層１２を形成している。具体的には、基板１１Ａの表面上の複数の電極１１Ｂの間に、複数のレジスト層１２を形成している。レジスト層１２は、例えばレジストパターンである。例えば、レジスト層１２は、従来の現像型レジスト組成物を用いることを想定したときに、現像後に残存させて形成されるレジスト層部分に対応する位置にのみに形成されている。レジスト層１２は、従来の現像型レジスト組成物を用い、現像により除去されるレジスト層部分に対応する位置に形成されていない。

光硬化性組成物の塗布方法は、例えば、ディスペンサーによる塗布方法、スクリーン印刷による塗布方法、及びインクジェット装置による塗布方法等が挙げられる。製造効率に優れることから、スクリーン印刷が好ましい。非現像型レジスト光硬化性組成物をパターン印刷することが好ましい。

次に、レジスト層１２に光を照射する。例えば、レジスト層１２の塗布対象部材１１側とは反対側から、レジスト層１２に光を照射する。この結果、図１（ｃ）に示すように、レジスト層１２が光硬化し、レジスト膜２（硬化物膜）が形成される。この結果、塗布対象部材１１（電子部品本体）の表面上に、レジスト膜２が形成された電子部品１が得られる。

なお、図１（ａ）〜（ｃ）を用いて説明したレジスト膜を備える電子部品の製造方法は、一例であり、電子部品の製造方法は、適宜変更することができる。電子部品の製造時に、レジスト膜を形成するために現像は行われないことが好ましい。

なお、従来、現像型レジスト組成物が用いられることが多かった。ネガ型の現像型レジスト組成物を用いる場合には、図２（ａ）に示すように、例えば、基板１１１Ａと、基板１１１Ａの表面上に配置された電極１１１Ｂとを有する塗布対象部材１１１を用意する。次に、図２（ｂ）に示すように、塗布対象部材１１１の表面上に、全体に、レジスト層１１２を形成する。次に、図２（ｃ）に示すように、マスク１１３を介して、電極１１１Ｂ上のレジスト層１１２のみに光を照射する。その後、図２（ｄ）に示すように、現像し、電極１１１Ｂ間に位置するレジスト層１１２を部分的に除去する。レジスト層１１２を部分的に除去した後、残存しているレジスト層１１２を熱硬化させる。この結果、図２（ｅ）に示すように、塗布対象部材１１１（電子部品本体）の表面上に、レジスト膜１０２が形成された電子部品１０１を得る。

このように、現像型レジスト組成物を用いる場合には、レジスト膜の形成効率及び電子部品の製造効率が悪い。さらに、現像を行う必要がある。

これに対して、本発明に係る光硬化性組成物を用いることにより、硬化物膜（レジスト膜など）の形成効率及び電子部品の製造効率を高めることができる。また、現像を行う必要がない。

また、本発明では、電子部品として、上記硬化物膜を光反射層として備える反射板を作製してもよい。

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。

（実施例１，２及び比較例１，２）
（１）非現像型レジスト光硬化性組成物の調製
以下の表１に示す配合成分を以下の表１に示す配合量で配合して、非現像型レジスト光硬化性組成物を調製した。

（２）電子部品の作製
１００ｍｍ×１００ｍｍ×厚さ０．８ｍｍのＦＲ−４に銅箔を積層した基板を用意した。この基板上に、ＭＤ−４Ｓ−ＵＦＦ（３Ｍ社製、番手：１０００）でバフ処理後、スクリーン印刷法により、４００メッシュのポリエステルバイアス製の版を用いて、マスクパターンで非現像型レジスト光硬化性組成物を印刷して、レジスト層を形成した。印刷後、紫外線照射装置を用い、レジスト層に波長３６５ｎｍの紫外線を、照射エネルギーが１５００ｍＪ／ｃｍ^２となるように５００ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線照度で、ベルトコンベアー式露光器に流すことにより照射し、測定サンプルとしてのレジスト膜を得た。得られたレジスト膜の厚みは２０μｍであった。

（評価）
（１）酸価
オリゴマーの酸価を先に記した方法に従って測定した。

（２）粘度
得られた光硬化性組成物について、Ｅ型粘度計：東機産業社製「ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ−２２」を用いて、２５℃及び１０ｒｐｍの条件で粘度を測定した。

［粘度の判定基準］
Ａ：５Ｐａ・ｓ以上、かつ３０Ｐａ・ｓ未満
Ｂ：５Ｐａ・ｓ未満、又は３０Ｐａ・ｓ以上

（３）硬度（鉛筆硬度）
得られた電子部品について、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠して、鉛筆硬度を求めた。

（４）耐熱性
得られた電子部品のレジスト膜について、色彩色度計（コニカミノルタ社製「ＣＲ−４００」）を用いて、初期のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊を測定した。次に、２７０℃のリフロー炉を２回通過させ、高温下に晒した後、リフロー後のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊を測定し、リフロー前後の色差ΔＥを下記式によって求めた。

ΔＥ＝｛（Ｌ^＊ _後−Ｌ^＊ _前）^２＋（ａ^＊ _後−ａ^＊ _前）^２＋（ｂ^＊ _後−ｂ^＊ _前）^２｝^１／２

［耐熱性の判定基準］
○：ΔＥが３未満
×：ΔＥが３以上

（５）耐光性
得られた電子部品のレジスト膜について、色彩色度計（コニカミノルタ社製「ＣＲ−４００」）を用いて、初期のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊を測定した。次に、波長３６５ｎｍの紫外線を、照射エネルギーが２０Ｊ／ｃｍ^２となるように５００ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線照度で、ベルトコンベアー式露光器に複数回流すことにより照射し、高温下に晒した後、リフロー後のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊を測定し、ＵＶ照射前後の色差ΔＥを下記式によって求めた。

ΔＥ＝｛（Ｌ^＊ _後−Ｌ^＊ _前）^２＋（ａ^＊ _後−ａ^＊ _前）^２＋（ｂ^＊ _後−ｂ^＊ _前）^２｝^１／２

［耐光性の判定基準］
○：ΔＥが５未満
×：ΔＥが５以上

（６）密着性（碁盤目試験）
得られた電子部品のレジスト膜について、ＪＩＳ ５６００に従って碁盤目試験を実施し、結果を分類した。

［密着性の判定基準］
○：分類２以下
×：分類３〜５

（７）反射率
得られた電子部品のレジスト膜について、色彩色度計（コニカミノルタ社製「ＣＲ−４００」）を用いて反射率Ｙを測定し、以下の基準で判定した。

［反射率の判定基準］
○：８０％以上
×：８０％未満

組成及び結果を下記の表１に示す。

１…電子部品
２…レジスト膜（硬化物膜）
１１…塗布対象部材（電子部品本体）
１１Ａ…基板
１１Ｂ…電極
１２…レジスト層（組成物層）

Claims (13)

1. エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーと、フェノール化合物と、白色顔料と、光重合開始剤とを含み、
   前記フェノール化合物が、アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基を有し、前記フェノール化合物において、前記アルキル基、トリアゾール骨格含有基又はトリアジン骨格含有基が、ベンゼン環のフェノール性水酸基に対する２位、４位、及び６位に結合しており、
   前記エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーの酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、光硬化性組成物。
2. 前記白色顔料１００重量部に対して、前記フェノール化合物の含有量が０．１重量部以上、１０重量部以下である、請求項１に記載の光硬化性組成物。
3. 前記光重合開始剤が、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤と、ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤とを含む、請求項１又は２に記載の光硬化性組成物。
4. 前記エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーが、カルボキシル基を有さない、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光硬化性組成物。
5. 前記エチレン性不飽和結合を２個以上有するオリゴマーが、エポキシ（メタ）アクリレートである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光硬化性組成物。
6. エチレン性不飽和結合を１個有するモノマーを含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光硬化性組成物。
7. 熱硬化性化合物を含まないか、又は、熱硬化性化合物を５重量％以下で含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光硬化性組成物。
8. 光照射により硬化されて用いられ、かつ現像を行わずに硬化物膜を形成するために用いられる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光硬化性組成物。
9. 塗布対象部材の表面上に、部分的にかつ複数の箇所に塗布して用いられる、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光硬化性組成物。
10. 熱硬化剤の作用により熱硬化させて用いられない、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光硬化性組成物。
11. 電子部品本体の表面上に、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光硬化性組成物を塗布して、組成物層を形成する工程と、
    前記組成物層に光を照射して、硬化物膜を形成する工程とを備え、
    前記硬化物膜を形成するために、前記組成物層を現像しない、電子部品の製造方法。
12. 前記電子部品本体の表面上に、部分的にかつ複数の箇所に、前記光硬化性組成物を塗布する、請求項１１に記載の電子部品の製造方法。
13. 前記硬化物膜を形成するために、熱硬化剤の作用により前記組成物層を熱硬化させない、請求項１１又は１２に記載の電子部品の製造方法。

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