JP2017115142A - α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、及びそれを用いたα−オレフィン重合体の製造方法 - Google Patents
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- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 title claims abstract description 92
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 title claims abstract description 78
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 title abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 214
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 130
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 52
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 52
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 claims abstract description 42
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 38
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 18
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 claims description 16
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 7
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 51
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 88
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 49
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 49
- 239000000047 product Substances 0.000 description 47
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 33
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 31
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 31
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical class CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 22
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 19
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 18
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 18
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 15
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 13
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 11
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 11
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 10
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 10
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 7
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 7
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 6
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 6
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 5
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- QRHCILLLMDEFSD-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C=C QRHCILLLMDEFSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 5
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- RGHIYOCUMCUWAQ-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(methoxymethyl)-2,5-dimethylhexane Chemical compound COCC(COC)(CC(C)C)C(C)C RGHIYOCUMCUWAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 4
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 4
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 4
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 4
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 4
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 4
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 4
- 150000002901 organomagnesium compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 4
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C=C GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 3
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 3
- QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC[CH2-] QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- BEDHCUAJOBASSZ-UHFFFAOYSA-N (2-cyclopentyl-1,3-dimethoxypropan-2-yl)cyclopentane Chemical compound C1CCCC1C(COC)(COC)C1CCCC1 BEDHCUAJOBASSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical class C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUAMLBIYJDPGFU-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethoxypropane Chemical compound COCCCOC UUAMLBIYJDPGFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxaluminane Chemical compound C[Al]1CCCCO1 AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJZBADSJNSFVDO-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(methoxymethyl)-2,4-dimethylpentane Chemical compound COCC(C(C)C)(C(C)C)COC FJZBADSJNSFVDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PVWCLOAAEFMTLH-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(methoxymethyl)-2,6-dimethylheptane Chemical compound COCC(COC)(CC(C)C)CC(C)C PVWCLOAAEFMTLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWINORFLMHROGF-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(methoxymethyl)fluorene Chemical compound C1=CC=C2C(COC)(COC)C3=CC=CC=C3C2=C1 ZWINORFLMHROGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003088 Ti−O−Ti Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N diheptyl phthalate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCC JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MGWAVDBGNNKXQV-UHFFFAOYSA-N diisobutyl phthalate Chemical compound CC(C)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(C)C MGWAVDBGNNKXQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 2
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L magnesium stearate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XDKQUSKHRIUJEO-UHFFFAOYSA-N magnesium;ethanolate Chemical compound [Mg+2].CC[O-].CC[O-] XDKQUSKHRIUJEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MEPSBRTXOHFWCF-UHFFFAOYSA-N (2-cyclohexyl-1,3-dimethoxypropan-2-yl)cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(COC)(COC)C1CCCCC1 MEPSBRTXOHFWCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAGGTOBQMQHXON-GGWOSOGESA-N (2e,6e)-octa-2,6-diene Chemical compound C\C=C\CC\C=C\C LAGGTOBQMQHXON-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical class C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- PPTXVXKCQZKFBN-UHFFFAOYSA-N (S)-(-)-1,1'-Bi-2-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(C3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 PPTXVXKCQZKFBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFMBYFXYRLFVPN-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis[methoxy(phenyl)methyl]indene Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C1(C(OC)C=1C=CC=CC=1)C(OC)C1=CC=CC=C1 UFMBYFXYRLFVPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMJDPQOSUIDSGE-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethoxy-6-methylheptane Chemical compound COCCC(OC)CCC(C)C HMJDPQOSUIDSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCTKUNIIBPPKNV-UHFFFAOYSA-N 1,8-dichloro-9,9-bis(methoxymethyl)fluorene Chemical compound C12=CC=CC(Cl)=C2C(COC)(COC)C2=C1C=CC=C2Cl SCTKUNIIBPPKNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZGYJLJMTYSGCS-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2-(methoxymethyl)-3,3-dimethylbutane Chemical compound COCC(C(C)(C)C)COC WZGYJLJMTYSGCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGMVWDKVVMVTTM-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2-(methoxymethyl)-3-methylbutane Chemical compound COCC(C(C)C)COC NGMVWDKVVMVTTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- WMZURKKTJQPBOJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,6,6-pentamethylheptane-3,5-dione Chemical compound CC(C)(C)C(=O)C(C)C(=O)C(C)(C)C WMZURKKTJQPBOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDAYPNRUDRHPCA-UHFFFAOYSA-N 2,7-dicyclopentyl-9,9-bis(methoxymethyl)fluorene Chemical compound C1=C2C(COC)(COC)C3=CC(C4CCCC4)=CC=C3C2=CC=C1C1CCCC1 LDAYPNRUDRHPCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOPLHDNLGYOSPG-UHFFFAOYSA-N 2-butylbutanedioic acid Chemical compound CCCCC(C(O)=O)CC(O)=O WOPLHDNLGYOSPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCRZWYDXIGCFKO-UHFFFAOYSA-N 2-butylpropanedioic acid Chemical compound CCCCC(C(O)=O)C(O)=O MCRZWYDXIGCFKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRWZZZWJMFNZIK-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-methyloxirane Chemical compound CC1OC1Cl LRWZZZWJMFNZIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BHPDSAAGSUWVMP-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(methoxymethyl)-2,6-dimethylheptane Chemical compound COCC(C(C)C)(COC)CCC(C)C BHPDSAAGSUWVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWLWBZJFQCTHEY-UHFFFAOYSA-N 3,6-dicyclohexyl-1,1-bis(phenoxymethyl)indene Chemical compound C1=C(C2CCCCC2)C2=CC=C(C3CCCCC3)C=C2C1(COC=1C=CC=CC=1)COC1=CC=CC=C1 CWLWBZJFQCTHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIDOLXWEDVJZTP-UHFFFAOYSA-N 3-(methoxymethyl)-4,4-dimethylpentan-2-one Chemical compound COCC(C(C)=O)C(C)(C)C DIDOLXWEDVJZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-ene Chemical compound CC(C)C=C YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVEYETJZOMJKNK-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(ethoxymethyl)-2,6-dimethylheptane Chemical compound CCOCC(CC(C)C)(CC(C)C)COCC VVEYETJZOMJKNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOLQDDKBJWHVQK-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(methoxymethyl)heptane Chemical compound CCCC(CCC)(COC)COC WOLQDDKBJWHVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXABOXSKCIQAJG-UHFFFAOYSA-N 5,5-bis(1-butoxyethyl)cyclopenta-1,3-diene Chemical compound CCCCOC(C)C1(C(C)OCCCC)C=CC=C1 ZXABOXSKCIQAJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRTBYBXYAMVODR-UHFFFAOYSA-N 6-but-3-enyldeca-1,5,9-trien-5-ylsilane Chemical compound C(CC=C)C(=C(CCC=C)CCC=C)[SiH3] PRTBYBXYAMVODR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGQOPBZMDMTUQK-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(methoxymethyl)-1,2,3,4-tetrahydrofluorene Chemical compound C12=CC=CC=C2C(COC)(COC)C2=C1CCCC2 MGQOPBZMDMTUQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005047 Allyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- LMLIDOFTEYQSOI-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH2]C=C.Cl[SiH2]Cl Chemical compound C(=C)[SiH2]C=C.Cl[SiH2]Cl LMLIDOFTEYQSOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Chemical class 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 229910014299 N-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- DCOLOVHTJKNUOI-UHFFFAOYSA-J [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg++].[Mg++] Chemical class [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg++].[Mg++] DCOLOVHTJKNUOI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- FYXKZNLBZKRYSS-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1C(Cl)=O FYXKZNLBZKRYSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- XRJBMOBWWDKSDQ-UHFFFAOYSA-N benzhydryl(ethenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C([SiH2]C=C)C1=CC=CC=C1 XRJBMOBWWDKSDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- JOLHDOIRWLQVQK-UHFFFAOYSA-N bis(but-3-enyl)-bis(ethenyl)silane Chemical compound C=CCC[Si](C=C)(C=C)CCC=C JOLHDOIRWLQVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRDFSGGCDXPYGP-UHFFFAOYSA-N bis(but-3-enyl)-dichlorosilane Chemical compound C=CCC[Si](Cl)(Cl)CCC=C LRDFSGGCDXPYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEFJPHZMYGPNNE-UHFFFAOYSA-N bis(but-3-enyl)-diethylsilane Chemical compound C=CCC[Si](CC)(CC)CCC=C BEFJPHZMYGPNNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEOXQBFDUJFMJV-UHFFFAOYSA-N bis(but-3-enyl)-dimethylsilane Chemical compound C=CCC[Si](C)(C)CCC=C KEOXQBFDUJFMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEWNYCHGVUXYJL-UHFFFAOYSA-N bis(but-3-enyl)-prop-1-enylsilane Chemical compound C(CC=C)[SiH](C=CC)CCC=C HEWNYCHGVUXYJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRTVQZIYEIZFSS-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](C=C)(C=C)CC=C GRTVQZIYEIZFSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRMHUZLFQVKRNB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1 JRMHUZLFQVKRNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZJIRPYRADNXPV-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)silane Chemical class C=C[SiH2]C=C MZJIRPYRADNXPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMSZNCMIJVNSPB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)silicon Chemical compound C=C[Si]C=C PMSZNCMIJVNSPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical class [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- NRNWSZYMJQBZBH-UHFFFAOYSA-N bromo-tris(but-3-enyl)silane Chemical compound C=CCC[Si](Br)(CCC=C)CCC=C NRNWSZYMJQBZBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAYLCKGXJNKSFB-UHFFFAOYSA-N bromo-tris(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](Br)(CC=C)CC=C RAYLCKGXJNKSFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- FOOFODDUBAXCGQ-UHFFFAOYSA-N but-1-enyl(dimethyl)silane Chemical compound C[SiH](C=CCC)C FOOFODDUBAXCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKFXFKJOPKXFRJ-UHFFFAOYSA-N but-3-enyl-chloro-methylsilane Chemical compound C[SiH](Cl)CCC=C AKFXFKJOPKXFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBLEGLAZLZLDP-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-diethylsilane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)C=C OVBLEGLAZLZLDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NELRINSZCVVEAD-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[SiH](Cl)C=C NELRINSZCVVEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMQNPINUXNVGGV-UHFFFAOYSA-N chloro-tris(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](Cl)(CC=C)CC=C LMQNPINUXNVGGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000004737 colorimetric analysis Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N deca-1,9-diene Chemical compound C=CCCCCCCC=C NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 150000004796 dialkyl magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- PLSBPHGDWLGQNV-UHFFFAOYSA-N dibromo-bis(but-3-enyl)silane Chemical compound C=CCC[Si](Br)(Br)CCC=C PLSBPHGDWLGQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002380 dibutyl phthalate Drugs 0.000 description 1
- VTEHVUWHCBXMPI-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](Cl)(Cl)CC=C VTEHVUWHCBXMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPBGVRDEQPIMFO-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-ethylsilane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)C=C JPBGVRDEQPIMFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCEQUKAYVABWTE-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-prop-2-enylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CC=C YCEQUKAYVABWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical class OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRXCNBOBSNGCHE-UHFFFAOYSA-N diethyl-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](CC)(CC)CC=C BRXCNBOBSNGCHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N dihydroxyacetone Chemical class OCC(=O)CO RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDSFBVVBFMKMRF-UHFFFAOYSA-N dimethyl-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](C)(C)CC=C ZDSFBVVBFMKMRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000676 disease causative agent Toxicity 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- XVSBWQYHSLNOCU-UHFFFAOYSA-N ethenyl(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)C=C XVSBWQYHSLNOCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQSBKDJPSOMMRZ-UHFFFAOYSA-N ethenyl(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]C=C IQSBKDJPSOMMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBWGDHDXAMFADB-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethyl)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)C=C HBWGDHDXAMFADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHFDYSCYAKOCRA-UHFFFAOYSA-N ethenyl(tripentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](CCCCC)(CCCCC)C=C PHFDYSCYAKOCRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVOIHGSHJGMSMZ-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=C)C1=CC=CC=C1 OVOIHGSHJGMSMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAVNDESSHRPRRF-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethyl-methylsilane Chemical compound CC[Si](C)(CC)C=C BAVNDESSHRPRRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDEZCOQKJSRQNN-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C1=CC=CC=C1 QDEZCOQKJSRQNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYYDRQRUUNENNH-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethyl-prop-2-enylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)CC=C XYYDRQRUUNENNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVRMMBMHPUQBCH-UHFFFAOYSA-N ethenyl-methyl-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](C)(CC=C)C=C TVRMMBMHPUQBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCPCLEKQVMKXJM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(diethyl)alumane Chemical compound CCO[Al](CC)CC GCPCLEKQVMKXJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSZILDZTMGVOMV-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(ethoxymethyl)-3,3-dimethylbutanoate Chemical compound CCOCC(C(C)(C)C)C(=O)OCC DSZILDZTMGVOMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 235000010933 magnesium salts of fatty acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001778 magnesium salts of fatty acids Substances 0.000 description 1
- 235000019359 magnesium stearate Nutrition 0.000 description 1
- YHNWUQFTJNJVNU-UHFFFAOYSA-N magnesium;butane;ethane Chemical compound [Mg+2].[CH2-]C.CCC[CH2-] YHNWUQFTJNJVNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- JFCCVNTYPIUJDJ-UHFFFAOYSA-N methyl-tris(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](C)(CC=C)CC=C JFCCVNTYPIUJDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005078 molybdenum compound Substances 0.000 description 1
- 150000002752 molybdenum compounds Chemical class 0.000 description 1
- GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I molybdenum pentachloride Chemical compound Cl[Mo](Cl)(Cl)(Cl)Cl GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003541 multi-stage reaction Methods 0.000 description 1
- MOBAUGYLXJCSAW-UHFFFAOYSA-N n,n,n',n',2,2-hexamethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CN(C)CC(C)(C)CN(C)C MOBAUGYLXJCSAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930015698 phenylpropene Natural products 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- AKRQMTFHUVDMIL-UHFFFAOYSA-N tetrakis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](CC=C)(CC=C)CC=C AKRQMTFHUVDMIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N trichloro(prop-2-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC=C HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVGQCVJXVAMCPM-UHFFFAOYSA-N triethyl(prop-2-enyl)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)CC=C SVGQCVJXVAMCPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYWCXWRMUZYRPH-UHFFFAOYSA-N trimethyl(prop-2-enyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CC=C HYWCXWRMUZYRPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFXVBWRMVZPLFK-UHFFFAOYSA-N trioctylalumane Chemical compound CCCCCCCC[Al](CCCCCCCC)CCCCCCCC LFXVBWRMVZPLFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGYBZRLIGGGIJT-UHFFFAOYSA-N tris(but-3-enyl)-chlorosilane Chemical compound C=CCC[Si](Cl)(CCC=C)CCC=C CGYBZRLIGGGIJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCIPTRUGDUOINJ-UHFFFAOYSA-N tris(but-3-enyl)-ethylsilane Chemical compound C=CCC[Si](CC)(CCC=C)CCC=C HCIPTRUGDUOINJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNOMWZIFXMPTRC-UHFFFAOYSA-N tris(but-3-enyl)-methylsilane Chemical compound C=CCC[Si](C)(CCC=C)CCC=C QNOMWZIFXMPTRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUDSHRFJYWYREN-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)-prop-2-enylsilane Chemical compound C=CC[Si](C=C)(C=C)C=C SUDSHRFJYWYREN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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Abstract
Description
このように利用用途が非常に広く多岐にわたるために、ポリオレフィンにおいては、それらの用途面から、多種の性質においての改良、向上が求め続けられ、それらの要望に応じるために、主として重合触媒の改良による技術開発が展開されてきた。
具体的には、マグネシウム化合物を触媒担持体としてチタン及びハロゲンを必須成分として含有する固体触媒成分を使用した触媒が開発された。さらに、電子供与性化合物を使用して触媒活性と立体規則性を高めた触媒(例えば、特許文献1参照。)、その後には、特定の有機ケイ素化合物を使用して、触媒活性や立体規則性をさらに高めた触媒も提案もされている(例えば、特許文献2、3参照。)。
また、特定の有機ケイ素化合物の他に、ビニル基やアリル基のようなアルケニル基を有する特殊な構造のケイ素化合物を併用することで、触媒活性や立体規則性がさらに向上するだけでなく、分子量調節剤として用いられる水素のレスポンスが良化するなどの性能向上も提案されている(例えば、特許文献4〜6参照。)。
さらに、マグネシウム源に特定のジアルコキシマグネシウムを用いることにより、得られるポリマーの嵩密度が高く、粒子性状を改善し、ポリマーの生産性を上げる技術も、提案されている(例えば、特許文献7参照。)。
その結果、本発明者らは、チタン、マグネシウム、ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分として含有する成分(A1)に、アルケニル基を有するシラン化合物(A2)とアルコキシシラン化合物(A3)と有機アルミニウム化合物(A4)を接触処理した後に3日以上の待機時間を経過することにより、触媒活性、ポリマー密度、粒子性状(特に、ポリマー嵩密度(BD))、がいずれも良好な性能を示す重合触媒が得られることを見出し、これらの知見に基づき、本発明を完成するに至った。
α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)の製造方法であって、
下記の成分(A1)、(A2)、(A3)及び(A4)を不活性溶媒中で接触させて接触生成物を生成させ、
前記接触生成物を不活性溶媒で洗浄せず、かつ(A1)〜(A4)全成分が初めて接触した時点を起点として、3日以上180日以内の待機時間を置いて熟成することを特徴とする、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)の製造方法が提供される。
成分(A1):チタン、マグネシウム、ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分として含有する固体成分
成分(A2):アルケニル基を有するシラン化合物
成分(A3):アルコキシシラン化合物[但し、アルケニル基を有するシラン化合物とは異なる。]
成分(A4):有機アルミニウム化合物
α−オレフィン重合用固体触媒成分(Ab)の製造方法であって、
下記の成分(A1)、(A2)、(A3)及び(A4)を不活性溶媒中で接触させて接触生成物を生成させ、
前記接触生成物を不活性溶媒で洗浄しない状態で、エチレン性不飽和炭化水素と接触させ、予備重合処理して予備重合処理生成物を生成させ、
前記予備重合処理生成物を不活性溶媒で洗浄せず、かつ(A1)〜(A4)全成分が初めて接触した時点を起点として3日以上180日以内の待機時間を置いて熟成することを特徴とする、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Ab)の製造方法が提供される。
成分(A1):チタン、マグネシウム、ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分として含有する固体成分
成分(A2):アルケニル基を有するシラン化合物
成分(A3):アルコキシシラン化合物[但し、アルケニル基を有するシラン化合物とは異なる。]
成分(A4):有機アルミニウム化合物
第1乃至第6のいずれかに記載の製造方法によって製造されたα−オレフィン重合用固体触媒成分、並びに任意の下記の成分(B)、および/または任意の下記の成分(C)を構成成分とする重合用触媒に、α−オレフィンを接触させて重合させることを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法が提供される。
成分(B):有機アルミニウム化合物
成分(C):アルコキシシラン化合物[但し、アルケニル基を有するシラン化合物とは異なる。]
また、本発明により製造されるα−オレフィン重合用固体触媒成分を用いたα−オレフィン重合用触媒にて、重合されるα−オレフィン重合体は、ポリマー密度、およびポリマー嵩密度(BD)が高く、優れた粒子性状を有するものである。
したがって、本発明によるα−オレフィン重合体は、プラントでの生産性が高く、しかも安定的に生産することができ、さらに、より機械強度の高いポリマーとなる。
1.α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)の製造方法
本発明(第1発明)は、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)の製造方法である。この製造方法は、下記の成分(A1)、(A2)、(A3)及び(A4)を不活性溶媒中で接触させて接触生成物を生成させ、接触生成物を不活性溶媒で洗浄せず、かつ(A1)〜(A4)全成分が初めて接触した時点を起点として、3日以上180日以内の待機時間を置いて熟成することを特徴とする。
成分(A1):チタン、マグネシウム、ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分として含有する固体成分
成分(A2):アルケニル基を有するシラン化合物
成分(A3):アルコキシシラン化合物[但し、アルケニル基を有するシラン化合物とは異なる。]
成分(A4):有機アルミニウム化合物
以下に各構成成分を詳述する。
本発明で用いる成分(A1)は、チタン、マグネシウム、ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分として含有する固体成分である。ここで、「必須成分として含有する」ということは、挙示の4成分以外に、本発明の効果を損なわない範囲で任意の成分を任意の形態で含んでもよいことを示すものである。
本発明に係る成分(A1)で用いるチタンのチタン源としては、任意のチタン化合物(A1a)を用いることができる。チタン化合物の代表的な例としては、特開平3−234707号公報に開示されている化合物を挙げることができる。
チタンの価数に関しては、4価、3価、2価、0価の任意の価数を持つチタン化合物を用いることができるが、好ましくは4価および3価のチタン化合物、更に好ましくは4価のチタン化合物を用いることが好ましい。
また、3価のチタン化合物の具体例としては、三塩化チタンに代表されるハロゲン化チタン化合物類を挙げることができる。三塩化チタンは、水素還元型、金属アルミニウム還元型、金属チタン還元型、有機アルミニウム還元型、など、公知の任意の方法で製造された化合物を用いることができる。
上記のチタン化合物類は、単独で用いるだけではなく、複数の化合物を併用することも可能である。また、上記チタン化合物類の混合物や平均組成式がそれらの混合された式となる化合物(例えば、Ti(OBu)mCl4−m;0<m<4などの化合物)、フタル酸エステル等のその他の化合物との錯化物(例えば、Ph(CO2Bu)2・TiCl4などの化合物)、などを用いることができる。
本発明に係る成分(A1)で用いるマグネシウムのマグネシウム源としては、任意のマグネシウム化合物(A1b)を用いることができる。マグネシウム化合物の代表的な例としては、特開平3−234707号公報に開示されている化合物を挙げることができる。
一般的には、塩化マグネシウムに代表されるハロゲン化マグネシウム化合物類、ジエトキシマグネシウムに代表されるアルコキシマグネシウム化合物類、金属マグネシウム、酸化マグネシウムに代表されるオキシマグネシウム化合物類、水酸化マグネシウムに代表されるヒドロキシマグネシウム化合物類、ブチルマグネシウムクロライドに代表されるグリニャール化合物類、ブチルエチルマグネシウムに代表される有機マグネシウム化合物類、炭酸マグネシウムやステアリン酸マグネシウムに代表される無機酸及び有機酸のマグネシウム塩化合物類、及びそれらの混合物や平均組成式がそれらの混合された式となる化合物(例えば、Mg(OEt)mCl2−m;0<m<2などの化合物)、などを用いることができる。
この中で好ましいのは、塩化マグネシウム、ジエトキシマグネシウム、金属マグネシウム、ブチルマグネシウムクロライドである。
本発明に係る成分(A1)で用いるハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、沃素、及びそれらの混合物を用いることができる。この中で塩素が特に好ましい。
ハロゲンは、上記のチタン源となるチタン化合物及び/又はマグネシウム源となるマグネシウム化合物から供給されるのが一般的であるが、その他のハロゲン化合物(A1c)より供給することもできる。その他のハロゲン化合物の代表的な例としては、四塩化ケイ素に代表されるハロゲン化ケイ素化合物類、塩化アルミニウムに代表されるハロゲン化アルミニウム化合物類、1,2−ジクロロエタンやベンジルクロライドに代表されるハロゲン化有機化合物類、トリクロロボランに代表されるハロゲン化ボラン化合物類、五塩化リンに代表されるハロゲン化リン化合物類、六塩化タングステンに代表されるハロゲン化タングステン化合物類、五塩化モリブデンに代表されるハロゲン化モリブデン化合物類、などを挙げることができる。これらの化合物は、単独で用いるだけでなく、併用することも可能である。この中で、四塩化ケイ素が特に好ましい。
本発明に係る成分(A1)で用いる電子供与性化合物(A1d)としては、任意のものを用いることができる。電子供与性化合物の代表的な例としては、特開2004−124090号公報に開示されている化合物を挙げることができる。
一般的には、有機酸及び無機酸並びにそれらの誘導体(エステル、酸無水物、酸ハライド、アミド)化合物類、エーテル化合物類、ケトン化合物類、アルデヒド化合物類、アルコール化合物類、アミン化合物類、などを用いることが好ましい。
これらのカルボン酸化合物類及びスルホン酸化合物類は、芳香族・脂肪族に関わらず、マレイン酸の様に、分子中の任意の位置に任意の数だけ不飽和結合を有してもよい。
エステルの構成要素であるアルコールとしては、脂肪族及び芳香族アルコールを用いることができる。これらのアルコールの中でも、エチル基、ブチル基、イソブチル基、ヘプチル基、オクチル基、ドデシル基等の炭素数1〜20の脂肪族の炭化水素基からなるアルコールが好ましい。更に炭素数2〜12の脂肪族の炭化水素基からなるアルコールが好ましい。また、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、等の脂環式の炭化水素基からなるアルコールを用いることもできる。
アミドの構成要素であるアミンとしては、脂肪族及び芳香族アミンを用いることができる。これらのアミンの中でも、アンモニア、エチルアミンやジブチルアミンに代表される脂肪族アミン、アニリンやベンジルアミンに代表される芳香族の炭化水素基を分子内に有するアミン、などを好ましい化合物として例示することができる。
無機酸の誘導体化合物としては、上記無機酸のエステルを用いることが好ましい。テトラエトキシシラン(ケイ酸エチル)、テトラブトキシシラン(ケイ酸ブチル)、リン酸トリブチル、などを具体例として挙げることができる。
アルデヒド化合物類としては、プロピオンアルデヒドに代表される脂肪族アルデヒド化合物類、ベンズアルデヒドに代表される芳香族アルデヒド化合物類、などを例示することができる。
アルコール化合物類としては、ブタノールや2−エチルヘキサノールに代表される脂肪族アルコール化合物類、フェノールやクレゾールに代表されるフェノール誘導体化合物類、グリセリンや1,1’−ビス−2−ナフトールに代表される脂肪族若しくは芳香族の多価アルコール化合物類、などを例示することができる。
これらの中で好ましいのは、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジヘプチルに代表されるフタル酸エステル化合物類、フタロイルジクロライドに代表されるフタル酸ハライド化合物類、2−n−ブチル−マロン酸ジエチルの様な2位に一つ又は二つの置換基を有するマロン酸エステル化合物類、2−n−ブチル−コハク酸ジエチルの様な2位に一つ又は二つの置換基若しくは2位と3位にそれぞれ一つ以上の置換基を有するコハク酸エステル化合物類、2−イソプロピル−2−イソブチル−1,3−ジメトキシプロパンや2−イソプロピル−2−イソペンチル−1,3−ジメトキシプロパンの様な2位に一つ又は二つの置換基を有する1,3−ジメトキシプロパンに代表される脂肪族多価エーテル化合物類、9,9−ビス(メトキシメチル)フルオレンに代表される芳香族の炭化水素基を分子内に有する多価エーテル化合物類などである。
本発明に係る成分(A1)を構成する各成分の使用量は、本発明の効果を損なわない範囲で任意のものでありうるが、一般的には、次の範囲内が好ましい。
各成分の接触条件は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の条件を用いることができる。一般的には、不活性ガス雰囲気下又は不活性溶媒中で、接触させることが好ましく、さらに次の条件が好ましい。
接触温度は、−50〜200℃程度、好ましくは0〜150℃である。接触方法としては、不活性溶媒中で撹拌により、接触させる方法、などを例示することができる。
塩化マグネシウムに代表されるハロゲン化マグネシウム化合物とチタン化合物とを共粉砕することにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する方法である。電子供与性化合物を、同時に又は別工程で、粉砕しても良い。粉砕機としては、回転ボールミルや振動ミル等の任意の粉砕機を用いることができる。粉砕方法としては、溶媒を用いない乾式粉砕法だけでなく、不活性溶媒共存下で共粉砕する湿式粉砕法を用いることもできる。
塩化マグネシウムに代表されるハロゲン化マグネシウム化合物とチタン化合物とを不活性溶媒中で接触処理を行うことにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する方法である。電子供与性化合物を、同時に又は別工程で、接触処理しても良い。チタン化合物として四塩化チタンなどの液状の化合物を用いる場合は、不活性溶媒なしで接触処理することもできる。また、必要に応じて、ハロゲン化ケイ素化合物等の任意成分を、同時に又は別工程で、接触させても良い。接触温度に特に制限はないが、90℃〜130℃程度の比較的高い温度に加熱して接触処理する方が好ましい場合が多い。
塩化マグネシウムに代表されるハロゲン化マグネシウム化合物を電子供与性化合物と接触させることにより溶解し、生じた溶解液と析出剤を接触させて析出反応を起こすことにより粒子形成を行う工程を含む方法である。
溶解に用いる電子供与性化合物の例としては、アルコール化合物類、エポキシ化合物類、リン酸エステル化合物類、アルコキシ基を有するケイ素化合物類、アルコキシ基を有するチタン化合物類、エーテル化合物類、などを挙げることができる。析出剤の例としては、ハロゲン化チタン化合物類、ハロゲン化ケイ素化合物類、塩化水素、ハロゲン含有炭化水素化合物類、Si−H結合を有するシロキサン化合物類(ポリシロキサン化合物類を含む)、アルミニウム化合物類、などを例示することができる。溶解液と析出剤の接触方法としては、溶解液に析出剤を添加しても良いし、析出剤に溶解液を添加しても良い。溶解、析出のどちらの工程でもチタン化合物を用いない場合は、析出反応により形成した粒子を更にチタン化合物と接触させることにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する。更に必要に応じて、こうして形成した粒子を、ハロゲン化チタン化合物類、ハロゲン化ケイ素化合物類、電子供与性化合物、などの任意成分と接触させても良い。この際、電子供与性化合物は、溶解に用いるものとは異なっていても良いし、同じであっても良い。これらの任意成分の接触順序については、特に制限はなく、独立工程として接触させても良いし、溶解、析出、チタン化合物類との接触の際に一緒に接触させることもできる。また、溶解、析出、任意成分との接触、のいずれの工程においても、不活性溶媒が存在しても良い。
溶解析出法と同様に塩化マグネシウムに代表されるハロゲン化マグネシウム化合物を電子供与性化合物と接触させることにより溶解し、生じた溶解液を主に物理的な手法により造粒する工程を含む方法である。
溶解に用いる電子供与性化合物の例は、溶解析出法の例に同じである。造粒手法の例としては、高温の溶解液を低温の不活性溶媒中に滴下する方法、高温の気相部に向かって溶解液をノズルから噴き出して乾燥する方法、低温の気相部に向かって溶解液をノズルから噴き出して冷却する方法、などを挙げることができる。造粒により形成した粒子をチタン化合物と接触させることにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する。更に、必要に応じて、こうして形成した粒子を、ハロゲン化ケイ素化合物類、電子供与性化合物、などの任意成分と接触させても良い。この際、電子供与性化合物は、溶解に用いるものとは異なっていても良いし、同じであっても良い。これらの任意成分の接触順序については、特に制限はなく、独立工程として接触させても良いし、溶解やチタン化合物との接触の際に一緒に接触させることもできる。また、溶解、チタン化合物類との接触、任意成分との接触、のいずれの工程においても、不活性溶媒が存在しても良い。
ハロゲンを含有しないマグネシウム化合物に対して、ハロゲン化剤を接触させてハロゲン化する工程を含む方法である。
ハロゲンを含有しないマグネシウム化合物の例としては、アルコキシマグネシウム化合物類、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、脂肪酸のマグネシウム塩、などを挙げることができる。ジアルコキシマグネシウム化合物類を用いる場合は、金属マグネシウムとアルコールとの反応により系中で調製したものを用いることもできる。この調製法を用いる場合は、出発原料であるハロゲンを含まないマグネシウム化合物の段階で造粒等により粒子形成を行うのが一般的である。ハロゲン化剤の例としては、ハロゲン化チタン化合物類、ハロゲン化ケイ素化合物類、ハロゲン化リン化合物類、などを挙げることができる。ハロゲン化剤として、ハロゲン化チタン化合物類を用いない場合は、ハロゲン化により形成したハロゲン含有マグネシウム化合物を更にチタン化合物と接触させることにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する。こうして形成した粒子を、電子供与性化合物と接触させる。更に必要に応じて、こうして形成した粒子をハロゲン化チタン化合物類、ハロゲン化ケイ素化合物類、などの任意成分と接触させても良い。これらの任意成分の接触順序については、特に制限はなく、独立工程として接触させても良いし、ハロゲンを含まないマグネシウム化合物のハロゲン化やチタン化合物類との接触の際に一緒に接触させることもできる。また、ハロゲン化、チタン化合物類との接触、任意成分との接触、のいずれの工程においても、不活性溶媒が存在しても良い。
ブチルマグネシウムクロライドに代表されるグリニャール化合物、ジアルキルマグネシウム化合物などの有機マグネシウム化合物類の溶液に析出剤を接触させる工程を含む方法である。
析出剤の例としては、チタン化合物類、ケイ素化合物類、塩化水素、などを挙げることができる。析出剤としてチタン化合物を用いない場合は、析出反応により形成した粒子を更にチタン化合物と接触させることにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する。こうして形成した粒子を、電子供与性化合物と接触させる。更に必要に応じて、こうして形成した粒子をハロゲン化チタン化合物類、ハロゲン化ケイ素化合物類などの任意成分と接触させても良い。これらの任意成分の接触順序については、特に制限はなく、独立工程として接触させても良いし、析出やチタン化合物類との接触の際に一緒に接触させることもできる。また、析出、チタン化合物類との接触、任意成分との接触、のいずれの工程においても、不活性溶媒が存在しても良い。
有機マグネシウム化合物類の溶液、若しくは、マグネシウム化合物を電子供与性化合物で溶解した溶液を、無機化合物の担体、若しくは、有機化合物の担体に含浸させる工程を含む方法である。
有機マグネシウム化合物類の例は、有機マグネシウム化合物からの析出法の例に同じである。マグネシウム化合物の溶解に用いる電子供与性化合物は、ハロゲンを含んでいても含んでいなくても良い。電子供与性化合物の例は溶解析出法の例に同じである。マグネシウム化合物がハロゲンを含んでいない場合には、後述するハロゲン化チタン化合物類やハロゲン化ケイ素化合物類などの任意成分と接触させてハロゲンを成分(A1)に含有させる。
無機化合物の担体の例としては、シリカ、アルミナ、マグネシア、などを挙げることができる。有機化合物の担体の例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、などを挙げることができる。含浸処理後の担体粒子は、析出剤との化学反応や乾燥等の物理的処理によりマグネシウム化合物を析出させて固定化する。析出剤の例は、溶解析出法の例に同じである。析出剤としてチタン化合物を用いない場合は、こうして形成した粒子を更にチタン化合物と接触させることにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する。更に必要に応じて、こうして形成した粒子をハロゲン化チタン化合物類やハロゲン化ケイ素化合物類などの任意成分と接触させても良く、電子供与性化合物と接触させても良い。これらの任意成分の接触順序については特に制限はなく、独立工程として接触させても良いし、含浸、析出、乾燥、チタン化合物類との接触の際に一緒に接触させることもできる。また、含浸、析出、チタン化合物類との接触、任意成分との接触、のいずれの工程においても、不活性溶媒が存在しても良い。
上記(i)〜(vii)に記載した方法を組み合わせて用いることもできる。組み合わせの例としては、「塩化マグネシウムを電子供与性化合物と共粉砕した後にハロゲン化チタン化合物類と加熱処理する方法」、「塩化マグネシウム化合物を電子供与性化合物と共粉砕した後に別の電子供与性化合物を用いて溶解し、更に析出剤を用いて析出する方法」、「ジアルコキシマグネシウム化合物を電子供与性化合物により溶解し、ハロゲン化チタン化合物類と接触させることにより析出させると同時にマグネシウム化合物をハロゲン化する方法」、「ジアルコキシマグネシウム化合物に二酸化炭素を接触させることにより、炭酸エステルマグネシウム化合物類を生成すると同時に溶解し、形成した溶解液をシリカに含浸させ、その後塩化水素と接触させることによりマグネシウム化合物をハロゲン化すると同時に析出固定化し、更にハロゲン化チタン化合物類と接触させることによりチタン化合物を担持する方法」、などを挙げることができる。
アルケニル基を有するシラン化合物は、モノシラン(SiH4)の水素原子の少なくとも一つがアルケニル基(好ましくは炭素数2〜10のアルケニル基)に置き換えられた構造を示すものである。そして残りの水素原子はそのままか、水素原子のうちのいくつかが、ハロゲン(好ましくは塩素)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜12の炭化水素基)、アリール基(好ましくはフェニル基)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12のアルコキシ基)、その他で置き換えられた構造を示すものである。
本発明に用いられるアルケニル基を有するシラン化合物(A2)としては、特開平3−234707号公報、特開2003−292522号公報、および特開2006−169283号公報に開示された化合物等を用いることができる。
これらの中でも、トリメチルビニルシラン、トリクロロビニルシラン、ジメチルジビニルシラン等のビニルシラン化合物(ビニル基を有するシラン化合物)が好ましく、ジメチルジビニルシラン等のジビニルシラン化合物(二個のビニル基を有するシラン化合物)がより好ましい。
アルケニル基を有するシラン化合物(A2)は、単独で用いるだけでなく、複数の化合物を併用することもできる。
アルケニル基を有するシラン化合物(A2)の使用量は、成分(A1)を構成するチタン成分に対するモル比(アルケニル基を有するシラン化合物(A2)のモル数/チタン原子のモル数)で、好ましくは0.001〜1,000の範囲内であり、より好ましくは0.01〜100の範囲内である。
本発明で用いられるアルコキシシラン化合物(A3)としては、一般的には、下記一般式(1)にて表される化合物等を用いることが好ましい。
R1R2 mSi(OR3)n ・・・(1)
(式中、R1は、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表す。R2は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表す。R3は、炭化水素基を表す。0≦m≦2,1≦n≦3,m+n=3を示す。)
R1が炭化水素基である場合は、一般に炭素数1〜20、好ましくは炭素数3〜10のものである。R1として用いることのできる炭化水素基の具体的な例としては、n−プロピル基に代表される直鎖状脂肪族炭化水素基、i−プロピル基やt−ブチル基に代表される分岐状脂肪族炭化水素基、シクロペンチル基やシクロヘキシル基に代表される脂環式炭化水素基、フェニル基に代表される芳香族炭化水素基、などを挙げることができる。より好ましくは、R1として分岐状脂肪族炭化水素基または脂環式炭化水素基を用いることが好ましく、とりわけ、i−プロピル基、i−ブチル基、t−ブチル基、テキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、などを用いることが好ましい。
R1がヘテロ原子含有炭化水素基である場合は、ヘテロ原子が、窒素、酸素、硫黄、リン、ケイ素から選ばれることが好ましく、とりわけ、窒素又は酸素であることが好ましい。R1のヘテロ原子含有炭化水素基の骨格構造としては、R1が炭化水素基である場合の例示から選ぶことが好ましい。とりわけ、N,N−ジエチルアミノ基、キノリノ基、イソキノリノ基、などが好ましい。
R2として用いることのできるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、沃素、などを例示することができる。
R2が炭化水素基である場合は、一般に炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10のものである。R2として用いることのできる炭化水素基の具体的な例としては、メチル基やエチル基に代表される直鎖状脂肪族炭化水素基、i−プロピル基やt−ブチル基に代表される分岐状脂肪族炭化水素基、シクロペンチル基やシクロヘキシル基に代表される脂環式炭化水素基、フェニル基に代表される芳香族炭化水素基、などを挙げることができる。中でも、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、テキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、などを用いることが好ましい。
R2がヘテロ原子含有炭化水素基である場合は、R1がヘテロ原子含有炭化水素基である場合の例示から選ぶことが好ましい。とりわけ、N,N−ジエチルアミノ基、キノリノ基、イソキノリノ基、などが好ましい。
mの値が2の場合、二つあるR2は、同一であっても異なっても良い。また、mの値に関わらず、R2は、R1と同一であっても異なってもよい。
本発明に用いられる有機アルミニウム化合物(A4)としては、一般的には、下記一般式(2)にて表される化合物等を用いることが好ましい。
R1 aAlXb(OR2)c …(2)
(式中、R1は炭化水素基を表す。Xはハロゲン原子または水素原子を表す。R2は炭化水素基またはAlによる架橋基を表す。1≦a≦3、0≦b≦2、0≦c≦2、a+b+c=3である。)
一般式(2)中、Xは、ハロゲン原子または水素原子である。Xとして用いることのできるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、沃素、などを例示することができる。この中で、塩素が特に好ましい。
一般式(2)中、R2は、炭化水素基またはAlによる架橋基である。R2が炭化水素基である場合には、R1の炭化水素基の例示と同じ群からR2を選択することができる。また、有機アルミニウム化合物(A4)として、メチルアルモキサンに代表されるアルモキサン化合物類を用いることも可能であり、その場合R2は、Alによる架橋基を表す。
有機アルミニウム化合物(A4)は、単独で用いるだけでなく、複数の化合物を併用することもできる。
有機アルミニウム化合物(A4)の使用量は、成分(A1)を構成するチタン成分に対するモル比(アルミニウム原子のモル数/チタン原子のモル数)で、好ましくは0.1〜100の範囲内であり、より好ましくは1〜50の範囲内である。
本発明では、成分(A1)に対して、少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)等の任意成分を任意の方法で接触させてもよい。
本発明で用いることのできる少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)としては、特開平3−294302号公報及び特開平8−333413号公報に開示された化合物等を用いることができる。一般的には、下記一般式(3)にて表される化合物を用いることが好ましい。
R8O−C(R7)2−C(R6)2−C(R7)2−OR8 ・・・(3)
(式中、R6及びR7は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれる。R8は、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表す。)
R6として用いることのできる炭化水素基は、一般に炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10のものである。R6として用いることのできる炭化水素基の具体的な例としては、n−プロピル基に代表される直鎖状脂肪族炭化水素基、i−プロピル基やt−ブチル基に代表される分岐状脂肪族炭化水素基、シクロペンチル基やシクロヘキシル基に代表される脂環式炭化水素基、フェニル基に代表される芳香族炭化水素基、などを挙げることができる。より好ましくは、R6として分岐状脂肪族炭化水素基または脂環式炭化水素基を用いることが好ましく、とりわけ、i−プロピル基、i−ブチル基、i−ペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、などを用いることが好ましい。
二つのR6は、結合して一つ以上の環を形成してもよい。この際、環構造中に2個又は3個の不飽和結合を含むシクロポリエン系構造を取ることもできる。また、他の環式構造と縮合していてもよい。単環式、複環式、縮合の有無に関わらず、環上に炭化水素基を置換基として1つ以上有していてもよい。環上の置換基は、一般に炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10のものである。具体的な例としては、n−プロピル基に代表される直鎖状脂肪族炭化水素基、i−プロピル基やt−ブチル基に代表される分岐状脂肪族炭化水素基、シクロペンチル基やシクロヘキシル基に代表される脂環式炭化水素基、フェニル基に代表される芳香族炭化水素基、などを挙げることができる。
一般式(3)中、R8は、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表す。具体的には、R8は、R6が炭化水素基である場合の例示から選ぶことができる。好ましくは、炭素数1〜6の炭化水素基であることが好ましく、更に好ましくはアルキル基であることが好ましい。最も好ましくはメチル基である。
R6〜R8がヘテロ原子含有炭化水素基である場合は、ヘテロ原子が、窒素、酸素、硫黄、リン、ケイ素から選ばれることが好ましい。また、R6〜R8が炭化水素基であるか、ヘテロ原子含有炭化水素基であるかに関わらず、任意にハロゲンを含んでいてもよい。R6〜R8がヘテロ原子及び/又はハロゲンを含む場合、その骨格構造は、炭化水素基である場合の例示から選ばれることが好ましい。また、R6〜R8は、お互いに同一であっても、異なっても良い。
少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)は、単独で用いるだけでなく、複数の化合物を併用することもできる。
また、少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)は、成分(A1)中の必須成分である電子供与性化合物(A1d)として用いられる多価エーテル化合物と同一であっても異なってもよい。
少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)の使用量は、成分(A1)を構成するチタン成分に対するモル比(少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)のモル数/チタン原子のモル数)で、好ましくは0.01〜10,000の範囲内であり、より好ましくは0.5〜500の範囲内である。
(6−1)接触生成物
本発明におけるα−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)は、まず前述の成分(A1)に対して、アルケニル基を有するシラン化合物(A2)、アルコキシシラン化合物(A3)、及び有機アルミニウム化合物(A4)を接触させて、接触生成物を得る工程を経るものである。この際、本発明の効果を損なわない範囲で少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)等の他の任意成分を任意の方法で接触させてもよい。
接触温度は、−50〜200℃程度、好ましくは−10〜100℃、更に好ましくは0〜70℃、とりわけ好ましくは10℃〜60℃である。接触方法としては、不活性溶媒中で接触させさえすれば制限はなく、回転ボールミルや振動ミルなどによる機械的な方法、および撹拌により接触させる方法、などを例示することができる。好ましくは、不活性溶媒の存在下に撹拌により接触させる方法を用いることが好ましい。
好ましい不活性溶媒としては、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素化合物、トルエンなどの芳香族炭化水素化合物、などを例示することができる。これらの溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせて使用できる。
手順(ii):成分(A1)にアルケニル基を有するシラン化合物(A2)及びアルコキシシラン化合物(A3)を接触させた後、有機アルミニウム化合物(A4)を接触させる方法。
手順(iii):成分(A1)にアルコキシシラン化合物(A3)を接触させ、次いでアルケニル基を有するシラン化合物(A2)を接触させた後、有機アルミニウム化合物(A4)を接触させる方法。
手順(iv):全ての化合物を同時に接触させる方法。
また、先に各成分の使用量の好ましい範囲を示したが、これは1回当たりに接触させる使用量であり、複数回使用するときは、1回の使用量が前述した使用量の範囲内を目安として、何回接触させてもよい。
本発明においては、接触生成物を、一定時間待機させて熟成することが必須要件である。熟成により、接触生成物は、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)へと変換する。また一定の待機時間をおくとことで触媒活性と水素応答性がより向上するという効果が得られる。
本発明において、まず成分(A1)中の電子供与性化合物が成分(A4)の有機アルミニウム化合物との反応を経て成分(A1)の外に抽出され、その空隙に成分(A3)アルコキシシラン化合物が補われることで高活性かつ高立体規則性の重合触媒の元となる接触生成物に至ると考えられる。ただし、この際、(A4)によるチタンの還元が同時に進行し、これが過剰に還元されたチタン種を発生させることは好ましくない。この過剰な還元を抑制するために成分(A2)のアルケニル基を有するシラン化合物が効果的な働きをしており、チタンへの速やかな配位を通じて(A4)からの攻撃からチタンを守ると考えられる。
さらに、後述するように、成分(A1)〜(A4)の接触処理の後に、エチレン性不飽和化合物による予備重合工程を加え固体成分(A)中のチタン濃度を下げることで、チタンの過還元をさらに遅くすることが可能ではないかと考えた。
今回発明者らが得た実験結果は、上記の仮説に沿って説明できるものであり、待機時間1日目以降望ましい反応が副反応よりも早い速度で進行し続けていることを示し、また予備重合操作を加えることでその効果がより顕著になることを示した。
これらの結果として発明者らは、洗浄工程を回避し、従来常識に反する程に長時間の待機時間を確保することで、より高性能な重合触媒成分の発明に到達することが出来た。
本発明(第2発明)は、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Ab)の製造方法である。この製造方法は、下記の成分(A1)、(A2)、(A3)及び(A4)を不活性溶媒中で接触させて接触生成物を生成させ、
前記接触生成物を不活性溶媒で洗浄しない状態で、エチレン性不飽和炭化水素と接触させ、予備重合処理して予備重合処理生成物を生成させ、
前記予備重合処理生成物を不活性溶媒で洗浄せず、かつ(A1)〜(A4)全成分が初めて接触した時点を起点として3日以上180日以内の待機時間を置いて熟成することを特徴とする。
成分(A1):チタン、マグネシウム、ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分として含有する固体成分
成分(A2):アルケニル基を有するシラン化合物
成分(A3):アルコキシシラン化合物[但し、アルケニル基を有するシラン化合物とは異なる。]
成分(A4):有機アルミニウム化合物
予備重合におけるエチレン性不飽和炭化水素としては、特開2004−124090号公報に開示された化合物等を用いることができる。具体的な化合物の例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、3−メチル−1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、などに代表されるオレフィン類、スチレン、α−メチルスチレン、アリルベンゼン、クロロスチレン、などに代表されるスチレン類似化合物、及び、1,3−ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、1,5−ヘキサジエン、2,6−オクタジエン、ジシクロペンタジエン、1,3−シクロヘキサジエン、1,9−デカジエン、ジビニルベンゼン類、などに代表されるジエン化合物類、などを挙げることができる。中でも、エチレン、プロピレン、3−メチル−1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、スチレン、ジビニルベンゼン類、などが特に好ましい。
エチレン性不飽和炭化水素は、単独で用いるだけでなく、複数の化合物を併用することもできる。
接触生成物1グラムあたりの基準で、予備重合量は0.001〜100gの範囲内であり、好ましくは0.1〜50g、より好ましくは0.5〜10gの範囲内である。
予備重合時の反応温度は、好ましくは−150〜150℃であり、より好ましくは0〜100℃である。そして、予備重合時の反応温度は、本重合のときの重合温度よりも低くすることが好ましい。反応は、一般的に撹拌下に行うことが好ましく、そのときヘキサン、ヘプタン等の不活性溶媒を存在させることもできる。予備重合は、複数回行っても良く、この際用いるモノマーは、同一であっても、異なってもよい。
本発明のα−オレフィン重合用固体触媒成分(Ab)の製造方法においては、待機時間には、予備重合処理に要する時間を含めないとすることができる。
また、待機時の触媒の様態は、成分(A1)〜成分(A4)を接触させて、その後、予備重合処理し、予備重合処理完了直後にモノマーのみを除いた状態のままの、予備重合処理生成物(A+)の不活性溶媒スラリーであることが好ましい。ただし液量を調整するための希釈、濃縮、またはデカンテーション、の各操作は行っても良い。これらの操作を行う場合、予備重合処理生成物(A+)の濃度変化が0.01倍以上100倍以下であることが好ましく、0.1倍以上10倍以内であることがより好ましい。また濃度を変じない分割等の操作は自由に行ってよい。
本発明において、α−オレフィン重合用触媒としては、上記のα−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)又は(Ab)を用いることが必須要件であり、有機アルミニウム化合物(B)、及びアルコキシシラン化合物(C)を任意成分として接触させても良い。
本発明において用いることのできる有機アルミニウム化合物(B)としては、特開2004−124090号公報に開示された化合物等を用いることができる。好ましくは、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)又は(Ab)を調製する際の成分である有機アルミニウム化合物(A4)における例示と同じ群から選択することができる。触媒成分として用いることのできる有機アルミニウム化合物(B)が、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)又は(Ab)を調製する際に用いることのできる有機アルミニウム化合物(A4)と同一であっても、異なってもよい。
有機アルミニウム化合物(B)は、単独で用いるだけでなく、複数の化合物を併用することもできる。
本発明のα−オレフィン重合用触媒において、任意成分として用いられるアルコキシシラン化合物(C)としては、特開2004−124090号公報に開示された化合物等を用いることができる。好ましくは、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)又は(Ab)を調製する際の成分であるアルコキシシラン化合物(A3)における例示と同じ群から選択することができる。
また、ここで使用されるアルコキシシラン化合物(C)は、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)又は(Ab)を調製する際に用いることのできるアルコキシシラン化合物(A3)と同一であっても異なってもよい。
アルコキシシラン化合物(C)は、単独で用いるだけでなく、複数の化合物を併用することもできる。
本発明においては、触媒としてα−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)又は(Ab)を用いることが必須要件であるが、有機アルミニウム化合物(B)、及びアルコキシシラン化合物(C)等の任意成分を用いることができ、本発明の効果を損なわない範囲で、下記に説明する少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)などの任意成分を用いることができる。
本発明の触媒において任意成分として用いられる少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)としては、特開平3−294302号公報および特開平8−333413号公報に開示された化合物等を用いることができる。好ましくは、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)又は(Ab)において用いられる少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)における例示と同じ群から選択することができる。この際、触媒の任意成分として用いられる少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)が、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)又は(Ab)を調製する際に任意成分として用いられる少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)と同一であっても、異なってもよい。
少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)は、単独で用いるだけでなく、複数の化合物を併用することもできる。
本発明の効果を損なわない限り、上記のアルコキシシラン化合物(C)、及び、少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)以外の成分を、触媒の任意成分として、用いることができる。例えば、特開2004−124090号公報に開示された様に、分子内にC(=O)N結合を有する化合物(E)を挙げることができ、化合物(E)を用いることにより、CXSの様な非晶性成分の生成を抑制することができる。具体的には、テトラメチルウレア、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1−エチル−2−ピロリジノン、などを好ましい例として挙げることができる。また、ジエチル亜鉛の様なAl以外の金属原子を持つ有機金属化合物を用いることもできる。
分子内にC(=O)N結合を有する化合物(E)を用いる場合の使用量は、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)又は(Ab)を構成するチタン成分に対するモル比(分子内にC(=O)N結合を有する化合物(E)のモル数/チタン原子のモル数)で、好ましくは0.001〜1,000の範囲内であり、より好ましくは0.05〜500の範囲内である。
本発明のα−オレフィン重合用触媒を使用するα−オレフィンの重合は、炭化水素溶媒を用いるスラリー重合、実質的に溶媒を用いない液相無溶媒重合または気相重合などに適用される。スラリー重合の場合の重合溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、などの炭化水素溶媒が用いられる。
特に、本発明のα−オレフィン重合用触媒を使用するα−オレフィンの重合は、内部に水平軸周りに回転する攪拌機を有する横型反応器を用いて気相重合することが好ましい。
採用される重合方法は、連続式重合、回分式重合又は多段式重合などいかなる方法でもよい。重合温度は、通常30〜200℃程度、好ましくは50〜150℃である。分子量調節剤として水素を用いることができる。
本発明のα−オレフィン重合用触媒を用いて重合するα−オレフィンは、下記一般式で表されるものである。
R−CH=CH2 …(4)
(式中、Rは、炭素数1〜20の炭化水素基であり、分岐を有してもよい。)
中でも、α−オレフィンの単独重合およびブロック共重合が好ましく、特にプロピレンの単独重合および1段目がプロピレンの単独重合であるブロック共重合が最も好ましい。
本発明により重合されるα−オレフィン重合体のインデックスについては、特に制限はなく、各種用途に合わせて、適宜調節することができる。
一般的には、α−オレフィン重合体のMFRは、好ましくは0.01〜10,000g/10分の範囲内であり、より好ましくは0.1〜1,000g/10分の範囲内である。
また、α−オレフィン重合体の非晶性成分である冷キシレン可溶分(CXS)の量は、用途によって好ましい範囲が異なるのが一般的である。射出成形用途などの高い剛性が好まれる用途に対しては、CXSの量は好ましくは0.01〜3.0重量%の範囲内であり、より好ましくは0.05〜1.5重量%の範囲内、さらに好ましくは0.1〜1.0重量%の範囲内である。
ここで、MFR、CXSの値は、下記実施例の中で定められた手法により測定する値である。
本発明により得られるポリマー粒子のポリマー嵩密度(パウダー嵩密度)は、好ましくは0.40〜0.55g/mlの範囲内、より好ましくは0.42〜0.52g/mlである。
ここで、ポリマー嵩密度は、下記実施例の中で定められた手法により、測定する値である。
(1)〔各種物性の測定〕
(1−1)MFR:
タカラ社製メルトインデクサーを用い、JIS K6921に基づき、230℃、21.18N(2.16kg)の条件で評価した。
(1−2)ポリマー嵩密度:
パウダー試料の嵩密度をASTM D1895−69に準ずる装置を使用し測定した。
(1−3)CXS:
試料(約5g)を140℃のp−キシレン(300ml)中に一度完全に溶解させた。その後23℃まで冷却し、23℃で12時間ポリマーを析出させた。析出したポリマーを濾別した後、濾液からp−キシレンを蒸発させた。p−キシレンを蒸発させた後に残ったポリマーを100℃で2時間減圧乾燥した。乾燥後のポリマーを秤量し、試料に対する重量%としてCXSの値を得た。
(1−4)密度:
MFR測定時に得られた押出ストランドを用い、JIS K7112 D法に準拠して密度勾配管法で測定を行った。
(1−5)Ti含量:
試料を精確に秤量し、加水分解した上で比色法を用いて測定した。予備重合後の試料については、予備重合ポリマーを除いた重量を用いて含量を計算した。
(1−6)ケイ素化合物含量:
試料を精確に秤量し、メタノールで分解した。ガスクロマトグラフィーを用いて標準サンプルと比較することにより、得られたメタノール溶液中のケイ素化合物濃度を求めた。メタノール中のケイ素化合物濃度と試料の重量から、試料に含まれるケイ素化合物の含量を計算した。予備重合後の試料については、予備重合ポリマーを除いた重量を用いて含量を計算した。
[実施例1]
(2−1)成分(A1)の調製
撹拌装置を備えた容量10Lのオートクレーブを充分に窒素で置換し、精製したトルエン2Lを導入した。ここに、室温で、Mg(OEt)2を200g、TiCl4を1L添加した。温度を90℃に上げて、フタル酸ジ−n−ブチルを50ml導入した。その後、温度を110℃に上げて3時間反応を行った。反応生成物を精製したトルエンで充分に洗浄した。次いで、精製したトルエンを導入して全体の液量を2Lに調整した。室温でTiCl4を1L添加し、温度を110℃に上げて2時間反応を行った。反応生成物を精製したトルエンで充分に洗浄した。次いで、精製したトルエンを導入して全体の液量を2Lに調整した。室温でTiCl4を1L添加し、温度を110℃に上げて2時間反応を行った。反応生成物を精製したトルエンで充分に洗浄した。更に、精製したn−ヘプタンを用いて、トルエンをn−ヘプタンで置換し、成分(A1)のスラリーを得た。このスラリーの一部をサンプリングして乾燥した。分析したところ、成分(A1)のTi含量は2.7wt%であった。
次に精製したn−ヘプタンを導入して、成分(A1)4gの濃度が20g/Lとなる様に液レベルを調整し、成分(A2)としてジメチルジビニルシランを1.0mL、成分(A3)として(i−Pr)2Si(OMe)2を0.14mL、成分(A4)としてトリエチルアルミニウムのn−ヘプタン希釈液をトリエチルアルミニウムとして1.7g添加した。この添加した時点を待機時間の起点とした。その後30℃で2時間反応を行うことで、接触生成物である固体成分(A)を含むスラリーを得た。
上記で得られた予備重合処理生成物(A+)を含むスラリーを室温・窒素雰囲気下で3日間、撹拌させない状態で待機させることで、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Ab)を含むスラリーを得た。
撹拌及び温度制御装置を有する内容積3.0Lのステンレス鋼製オートクレーブを真空下で加熱乾燥し、室温まで冷却してプロピレン置換した後、成分(B)としてトリエチルアルミニウムを550mg、成分(C)として(i−Pr)2Si(OMe)2を85.1mg、及び水素を8,000ml導入し、次いで、液体プロピレンを750g導入して、内部温度を70℃に合わせた後に、上記のα−オレフィン重合用固体触媒成分(Ab)を5mg圧入して、プロピレンを重合させた。1時間後にエタノールを10ml圧入して重合を停止した。ポリマーを乾燥して秤量した。結果を表1に示す。
実施例1の待機時間を9日とした以外は、全く同様に行った。結果を表1に示す。
実施例1の待機時間を14日とした以外は、全く同様に行った。結果を表1に示す。
実施例1の待機時間を29日とした以外は、全く同様に行った。結果を表1に示す。
実施例1の待機時間を50日とした以外は、全く同様に行った。結果を表1に示す。
実施例1の待機時間を1日とした以外は、全く同様に行った。結果を表2に示す。
予備重合処理生成物(A+)の調製時、予備重合終了直後に予備重合処理生成物(A+)を精製したn−ヘプタンで充分に洗浄し元のレベルの液量になるようn−ヘプタンを導入したスラリーを9日間待機させた点以外は、実施例2と全く同様に行った。結果を表2に示す。
固体成分(A)の調製時、成分(A2)および成分(A3)を使用しなかった点以外は実施例2と全く同様に行った。結果を表2に示す。この例において、トリエチルアルミニウムを1.7g添加した時点を待機期間の起点とした。
実施例1の(2−2)において、ジメチルジビニルシランの代わりにトリメチルビニルシラン(2.0mL)を使用し待機時間を9日とした以外は、全く同様に行った。得られた予備重合処理生成物(A+)は、固体成分1g当たり2.25gのポリプロピレンを含んでいた。
また、重合は、実施例1と同様の方法で行った。結果を表3に示す。
実施例6の待機時間を1日とした以外は、全く同様に行った。結果を表3に示す。
実施例1の(2−2)において、(i−Pr)2Si(OMe)2の代わりにt−BuMeSi(OEt)2(0.14mL)を使用し待機時間を9日とした以外は、全く同様に行った。得られた予備重合処理生成物(A+)は、固体成分1g当たり2.02gのポリプロピレンを含んでいた。
また、重合は、実施例1と同様の方法で行った。結果を表3に示す。
実施例7の待機時間を1日とした以外は、全く同様に行った。結果を表3に示す。
実施例6の待機時間を50日とした以外は、全く同様に行った。結果を表3に示す。
実施例7の待機時間を50日とした以外は、全く同様に行った。結果を表3に示す。
表1、2から明らかなように、実施例1〜9及び比較例1〜5を対比検討することにより、本発明の触媒の触媒活性が全般にわたり比較例に対して優れるものであることがわかる。
具体的には、実施例1〜5と比較例1から、適切な待機時間を設定することにより、触媒の触媒活性および水素応答性が大幅に向上していることが分かる。またポリマーの嵩密度から、粒子性状も改善していることがわかる。
また実施例2と比較例2から、上記の待機時間による効果を発揮するためには、接触生成物である固体成分(A)、予備重合処理生成物(A+)を洗浄しないことが必要であると判る。
また実施例2と比較例3から、上記の待機時間による効果を発揮するためには、(A2)および(A3)成分の存在が必要であることが判る。
また、実施例6及び実施例8と比較例4から、本発明に係る(A2)成分を変更した場合でも、同等の性能が発現することが確認できると判る。
また、実施例7及び実施例9と比較例5から、本発明に係る(A3)成分を変更した場合でも、同等の性能が発現することが確認できると判る。
従って、本発明の各実施例の触媒は、立体規則性などの基本性能を高レベルにて維持したまま、極めて高い触媒活性および水素応答性を有する触媒であり、各比較例に比して、優れた結果が得られているといえる。
また、本発明の触媒を用いて得られたα−オレフィン重合体、特にポリプロピレンは、自動車部品や家電部品に代表される射出成形用途、二軸延伸フィルムに代表される押出成形用途、並びに、スパンボンドに代表される繊維等に好適に用いることができる。
Claims (7)
- α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)の製造方法であって、
下記の成分(A1)、(A2)、(A3)及び(A4)を不活性溶媒中で接触させて接触生成物を生成させ、
前記接触生成物を不活性溶媒で洗浄せず、かつ(A1)〜(A4)全成分が初めて接触した時点を起点として、3日以上180日以内の待機時間を置いて熟成することを特徴とする、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Aa)の製造方法。
成分(A1):チタン、マグネシウム、ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分として含有する固体成分
成分(A2):アルケニル基を有するシラン化合物
成分(A3):アルコキシシラン化合物[但し、アルケニル基を有するシラン化合物とは異なる。]
成分(A4):有機アルミニウム化合物 - α−オレフィン重合用固体触媒成分(Ab)の製造方法であって、
下記の成分(A1)、(A2)、(A3)及び(A4)を不活性溶媒中で接触させて接触生成物を生成させ、
前記接触生成物を不活性溶媒で洗浄しない状態で、エチレン性不飽和炭化水素と接触させ、予備重合処理して予備重合処理生成物を生成させ、
前記予備重合処理生成物を不活性溶媒で洗浄せず、かつ(A1)〜(A4)全成分が初めて接触した時点を起点として3日以上180日以内の待機時間を置いて熟成することを特徴とする、α−オレフィン重合用固体触媒成分(Ab)の製造方法。
成分(A1):チタン、マグネシウム、ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分として含有する固体成分
成分(A2):アルケニル基を有するシラン化合物
成分(A3):アルコキシシラン化合物[但し、アルケニル基を有するシラン化合物とは異なる。]
成分(A4):有機アルミニウム化合物 - 待機時間が7日以上90日以内であることを特徴とする、請求項1又は2に記載のα−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法。
- 成分(A2)がビニルシラン化合物である、請求項1又は2に記載のα−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法。
- 成分(A2)がジビニルシラン化合物である、請求項1又は2に記載のα−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法。
- 待機時間中、前記接触生成物又は前記予備重合処理生成物は、一日当たりの平均温度が0℃以上60℃以下の範囲に維持されることを特徴とする、請求項1又は2に記載のα−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の製造方法によって製造されたα−オレフィン重合用固体触媒成分、並びに任意の下記の成分(B)、および/または任意の下記の成分(C)を構成成分とする重合用触媒に、α−オレフィンを接触させて重合させることを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法。
成分(B):有機アルミニウム化合物
成分(C):アルコキシシラン化合物[但し、アルケニル基を有するシラン化合物とは異なる。]
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015247337 | 2015-12-18 | ||
JP2015247337 | 2015-12-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017115142A true JP2017115142A (ja) | 2017-06-29 |
JP6714869B2 JP6714869B2 (ja) | 2020-07-01 |
Family
ID=59056657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016244213A Active JP6714869B2 (ja) | 2015-12-18 | 2016-12-16 | α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、及びそれを用いたα−オレフィン重合体の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10526427B2 (ja) |
EP (1) | EP3392277B1 (ja) |
JP (1) | JP6714869B2 (ja) |
CN (1) | CN108368192B (ja) |
BR (1) | BR112018012332B1 (ja) |
TW (1) | TWI686410B (ja) |
WO (1) | WO2017104817A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6577964B2 (ja) * | 2015-01-30 | 2019-09-18 | 東邦チタニウム株式会社 | オレフィン類重合触媒の製造方法およびオレフィン類重合体の製造方法 |
JP6809374B2 (ja) * | 2016-05-23 | 2021-01-06 | 日本ポリプロ株式会社 | α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、及びそれを用いたα−オレフィン重合体の製造方法 |
WO2019094216A1 (en) * | 2017-11-13 | 2019-05-16 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Catalyst components for propylene polymerization |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56136806A (en) * | 1980-03-29 | 1981-10-26 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Storage of solid titanium catalyst component containing highly active magnesium |
US4342856A (en) * | 1980-11-14 | 1982-08-03 | El Paso Polyolefins Company | Propylene polymerization process and product |
JPS58138706A (ja) | 1982-02-12 | 1983-08-17 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | オレフイン系重合体の製造方法 |
JPS61171715A (ja) | 1985-01-24 | 1986-08-02 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | プロピレン共重合体の製造法 |
JPH0735410B2 (ja) * | 1986-01-31 | 1995-04-19 | 三菱油化株式会社 | オレフィンの立体規則性重合用触媒 |
JP2709633B2 (ja) * | 1989-08-18 | 1998-02-04 | 東燃株式会社 | α―オレフィン重合用触媒成分 |
US5177043A (en) | 1989-08-18 | 1993-01-05 | Tonen Chemical Corporation | α-olefin polymerization catalyst component |
JP2709634B2 (ja) * | 1989-08-18 | 1998-02-04 | 東燃株式会社 | α―オレフィン重合用触媒成分 |
JP2874934B2 (ja) | 1990-02-08 | 1999-03-24 | 三菱化学株式会社 | α‐オレフィン重合体の製造 |
JP2945066B2 (ja) | 1990-04-13 | 1999-09-06 | 三井化学株式会社 | オレフィン重合用固体状チタン触媒成分、オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
JPH072923A (ja) | 1993-06-15 | 1995-01-06 | Mitsubishi Chem Corp | オレフィンの重合法 |
JP3409263B2 (ja) * | 1993-09-07 | 2003-05-26 | 東邦チタニウム株式会社 | エチレン−プロピレン共重合体ゴム製造用固体触媒成分 |
JP3258226B2 (ja) | 1995-02-13 | 2002-02-18 | 東邦チタニウム株式会社 | オレフィン類重合用固体触媒成分および触媒 |
US5965478A (en) | 1995-02-13 | 1999-10-12 | Toho Titanium Co., Ltd. | Solid catalyst component and catalyst for polymerization of olefins |
IT1274250B (it) | 1995-02-21 | 1997-07-15 | Himont Inc | Dieteri utilizzabili nella preparazione di catalizzatori ziegler-natta |
JPH1180235A (ja) | 1997-09-02 | 1999-03-26 | Mitsubishi Chem Corp | α−オレフィン重合用触媒成分、触媒およびα−オレフィンの重合方法 |
JP4099344B2 (ja) | 2002-04-08 | 2008-06-11 | 日本ポリプロ株式会社 | α−オレフィン重合用固体触媒及びα−オレフィンの重合方法 |
JP4085733B2 (ja) * | 2002-08-06 | 2008-05-14 | 住友化学株式会社 | α−オレフィン重合触媒およびα−オレフィン共重合体の製造方法 |
JP4195724B2 (ja) | 2002-09-11 | 2008-12-10 | 日本ポリプロ株式会社 | α−オレフィン重合用触媒及びそれを用いるα−オレフィン重合体の製造方法 |
EP1661917A1 (en) * | 2004-11-26 | 2006-05-31 | Saudi Basic Industries Corporation (Sabic) | Process for the preparation of a catalyst component for the polymerization of an olefin |
JP4803636B2 (ja) | 2004-12-13 | 2011-10-26 | 東邦チタニウム株式会社 | オレフィン類重合用固体触媒成分および触媒並びにこれを用いたオレフィン類重合体又は共重合体の製造方法 |
WO2006064718A1 (ja) | 2004-12-13 | 2006-06-22 | Toho Catalyst Co., Ltd. | オレフィン類重合用固体触媒成分および触媒並びにこれを用いたオレフィン類重合体又は共重合体の製造方法 |
JP4975295B2 (ja) * | 2005-10-14 | 2012-07-11 | 日本ポリプロ株式会社 | α−オレフィン重合用触媒及びα−オレフィン重合体の製造方法 |
EP1980576B1 (en) * | 2006-02-03 | 2015-07-22 | Japan Polypropylene Corporation | Propylene polymer, method for production of the propylene polymer, propylene polymer composition, and molded article manufactured from the composition |
KR100723367B1 (ko) * | 2006-04-19 | 2007-05-30 | 삼성토탈 주식회사 | 올레핀 중합 및 공중합 방법 |
JP2008308558A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分及びその製造方法、α−オレフィン重合用触媒、α−オレフィン重合体の製造方法 |
JP2009024074A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Japan Polypropylene Corp | ポリプロピレンの製造方法 |
JP5337421B2 (ja) * | 2008-07-23 | 2013-11-06 | 日本ポリプロ株式会社 | α−オレフィン重合用触媒及びそれを用いたα−オレフィン重合体又は共重合体の製造方法 |
JP2013227545A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-11-07 | Japan Polyethylene Corp | パイプ及び継手用ポリエチレン並びにその成形体 |
JP6577964B2 (ja) * | 2015-01-30 | 2019-09-18 | 東邦チタニウム株式会社 | オレフィン類重合触媒の製造方法およびオレフィン類重合体の製造方法 |
-
2016
- 2016-12-16 BR BR112018012332-3A patent/BR112018012332B1/pt active IP Right Grant
- 2016-12-16 CN CN201680074317.7A patent/CN108368192B/zh active Active
- 2016-12-16 EP EP16875791.2A patent/EP3392277B1/en active Active
- 2016-12-16 WO PCT/JP2016/087595 patent/WO2017104817A1/ja active Application Filing
- 2016-12-16 TW TW105141950A patent/TWI686410B/zh active
- 2016-12-16 US US16/063,042 patent/US10526427B2/en active Active
- 2016-12-16 JP JP2016244213A patent/JP6714869B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6714869B2 (ja) | 2020-07-01 |
EP3392277A1 (en) | 2018-10-24 |
EP3392277B1 (en) | 2024-04-24 |
BR112018012332A2 (ja) | 2018-12-04 |
CN108368192A (zh) | 2018-08-03 |
US10526427B2 (en) | 2020-01-07 |
TWI686410B (zh) | 2020-03-01 |
TW201741351A (zh) | 2017-12-01 |
CN108368192B (zh) | 2020-09-11 |
WO2017104817A1 (ja) | 2017-06-22 |
EP3392277A4 (en) | 2019-01-16 |
BR112018012332B1 (pt) | 2022-04-05 |
US20180362673A1 (en) | 2018-12-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191009 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200520 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |