JP2017110172A - 膜形成用組成物、ハードコートフィルム、偏光板、及び親水化ハードコートフィルムの製造方法 - Google Patents
膜形成用組成物、ハードコートフィルム、偏光板、及び親水化ハードコートフィルムの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017110172A JP2017110172A JP2015247995A JP2015247995A JP2017110172A JP 2017110172 A JP2017110172 A JP 2017110172A JP 2015247995 A JP2015247995 A JP 2015247995A JP 2015247995 A JP2015247995 A JP 2015247995A JP 2017110172 A JP2017110172 A JP 2017110172A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- hard coat
- carbon atoms
- hydrogen atom
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 73
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title claims abstract description 39
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 64
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 47
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 47
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 47
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 37
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims abstract description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 122
- 238000003475 lamination Methods 0.000 abstract description 9
- 239000012788 optical film Substances 0.000 abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 78
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 27
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 24
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 23
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 21
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 16
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- -1 EO modified phosphoric acid Chemical class 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 8
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- MNSWITGNWZSAMC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)C(C(F)(F)F)OC(=O)C=C MNSWITGNWZSAMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 4
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N (n-propan-2-yloxycarbonylanilino) acetate Chemical compound CC(C)OC(=O)N(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 3
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N (2s,3r)-butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C[C@H](C(O)=O)[C@H](C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 0 *C(C(F)(F)F)c1ccc(C=C)cc1 Chemical compound *C(C(F)(F)F)c1ccc(C=C)cc1 0.000 description 1
- IZPIZCAYJQCTNG-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-phenylpropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(C(F)(F)F)(O)C1=CC=CC=C1 IZPIZCAYJQCTNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QERNPKXJOBLNFM-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentane Chemical compound CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)F QERNPKXJOBLNFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDVGNKIUXZQTFD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)COC(=O)C=C JDVGNKIUXZQTFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-(2-phenylpropan-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPKQPPJQTZJZDB-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCOC(=O)C=C VPKQPPJQTZJZDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUKRIOLKOHUUBM-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCOC(=O)C=C QUKRIOLKOHUUBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 3-Vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1C(C=C)CCC2OC21 SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C(=C)C)CCC2OC21 FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- 206010011469 Crying Diseases 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 239000007877 V-601 Substances 0.000 description 1
- FYYIUODUDSPAJQ-XVBQNVSMSA-N [(1S,6R)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-3-yl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CC[C@H]2O[C@H]2C1 FYYIUODUDSPAJQ-XVBQNVSMSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000032900 absorption of visible light Effects 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N cyano prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OC#N NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N cyclohexylcyclohexane Chemical group C1CCCCC1C1CCCCC1 WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 125000005487 naphthalate group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000007767 slide coating Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical class O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
- B32B27/304—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl halide (co)polymers, e.g. PVC, PVDC, PVF, PVDF
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/22—Esters containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
- C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
- C08F265/06—Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/056—Forming hydrophilic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D127/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D127/02—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C09D127/12—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C09D127/20—Homopolymers or copolymers of hexafluoropropene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
- C09D133/16—Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
- G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
- G02B5/305—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2551/00—Optical elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2800/00—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed
- C08F2800/20—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed as weight or mass percentages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/026—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from the reaction products of polyepoxides and unsaturated monocarboxylic acids, their anhydrides, halogenides or esters with low molecular weight
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G81/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers in the absence of monomers, e.g. block polymers
- C08G81/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers in the absence of monomers, e.g. block polymers at least one of the polymers being obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C08G81/024—Block or graft polymers containing sequences of polymers of C08C or C08F and of polymers of C08G
- C08G81/025—Block or graft polymers containing sequences of polymers of C08C or C08F and of polymers of C08G containing polyether sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2301/00—Characterised by the use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
- C08J2301/08—Cellulose derivatives
- C08J2301/10—Esters of organic acids
- C08J2301/12—Cellulose acetate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2433/14—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2433/14—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
- C08J2433/16—Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2203/00—Applications
- C08L2203/16—Applications used for films
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/03—Viewing layer characterised by chemical composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/03—Viewing layer characterised by chemical composition
- C09K2323/035—Ester polymer, e.g. polycarbonate, polyacrylate or polyester
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/05—Bonding or intermediate layer characterised by chemical composition, e.g. sealant or spacer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
また、セルロースアシレートフィルムを支持体とし、その上にハードコート層を有するハードコートフィルムは、偏光板保護フィルムとして用いられる場合には、水酸化ナトリウム水溶液などで鹸化処理されてから、偏光子と貼り合わされるのが一般的である(たとえば特許文献1参照)。
また、特許文献3には、透明性、低吸湿性に優れ、かつ耐熱性、機械強度が良好な含フッ素ポリマーが記載されている。
ハードコート層表面に、他の層を形成するための樹脂組成物を塗布することで他の層を積層する場合、ハードコート層表面の親水性が低いと、他の層を形成するための樹脂組成物が濡れ広がらずにはじいてしまったり、他の層に厚みムラが発生したりするという問題がある。
通常、面状均一性の観点からハードコート層に添加されるレベリング剤は、含フッ素ポリマーなどの疎水性を有する界面活性剤であるため、ハードコート層表面は親水性が低くなっている。
したがって、ハードコート層の面状均一性と他の層との積層性のトレードオフが問題となる。
また、特許文献3には、透明性、低吸湿性に優れ、かつ耐熱性、機械強度が良好なポリマーを得ることができることが記載されているが、他の層との積層性に関してはなんら記載されていない。
したがって、本発明の膜形成用組成物から形成された膜(下層)の上に他の膜(上層)を積層する場合に、上層膜形成用組成物を塗布してもはじかれずに、下層との密着性に優れた、均一な上層を形成することができると考えられる。
また、タッチパネル用途で表面パネルとディスプレイモジュールを、光学樹脂(OCR)を間に充填して貼り合わせる場合においても、ディスプレイモジュール表面のハードコート層に本発明の膜形成用組成物を用いることで、OCRの濡れ性、接着性を向上できることが分かった。
下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する重合体と、硬化性化合物とを含む膜形成用組成物。
<2>
上記重合体が、更に下記一般式(II)で表される繰り返し単位を有する、<1>に記載の膜形成用組成物。
<3>
上記重合体中のフッ素原子の含有率が、上記重合体の全質量に対して、5質量%以上80質量%以下である、<1>又は<2>に記載の膜形成用組成物。
<4>
上記重合体中の上記一般式(I)で表される繰り返し単位の含有率が、上記重合体の全質量に対して、3〜100質量%である、<1>〜<3>のいずれか一項に記載の膜形成用組成物。
<5>
<1>〜<4>のいずれか一項に記載の膜形成用組成物から形成された膜を有するハードコートフィルム。
<6>
<5>に記載のハードコートフィルムを有する偏光板。
<7>
支持体上に<1>〜<4>のいずれか一項に記載の膜形成用組成物を塗工してハードコートフィルムを形成する工程と、
上記ハードコートフィルムをアルカリ処理する工程と、
を有する親水化ハードコートフィルムの製造方法。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくとも一方」の意味で使用される。(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイル基なども同様である。
本発明の膜形成用組成物は、一般式(I)で表される繰り返し単位を有する重合体と、硬化性化合物とを含む。
一般式(I)で表される繰り返し単位を有する重合体(以下、「含フッ素重合体」ともいう)について説明する。
一般式(I)のR2及びR4は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基を表すことが好ましく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜20のパーハロアルキル基を表すことがより好ましく、水素原子、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を表すことが更に好ましく、水素原子又はフッ素原子を表すことが特に好ましく、フッ素原子を表すことが最も好ましい。
R2及びR4は更に置換基を有していてもよく、置換基としては、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、及びアミノ基が挙げられ、ヒドロキシル基、又はハロゲン原子が好ましい。
R3が置換基を表す場合の置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基(好ましくは炭素原子数2〜6のアルケニル基)、アリール基(好ましくはフェニル基)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、及びこれらの基を組み合わせて得られる基が挙げられる。
R3は水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜20のアルキル基を表すことが好ましく、水素原子、フッ素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基を表すことがより好ましく、水素原子又はフッ素原子を表すことが特に好ましく、水素原子を表すことが最も好ましい。
R22は更に置換基を有してもよく、置換基としては、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アミノ基、及びカルボキシル基が挙げられ、ヒドロキシル基が好ましい。
nとqの和は1〜30であることが好ましく、1〜25であることがより好ましい。
なお、含フッ素重合体の重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により下記の条件で測定された値である。
[溶離液] テトラヒドロフラン(THF)
[装置名] EcoSEC HLC−8320GPC(東ソー社製)
[カラム] TSKgel SuperHZM−H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ200(東ソー社製))
[カラム温度] 40℃
[流速] 0.35ml/min
フッ素含率は、含フッ素重合体の全質量に対する含フッ素重合体に含まれるフッ素原子の質量の比率である。
含フッ素重合体は2種以上の繰り返し単位を含む場合、ランダム共重合体でもよいし、ブロック共重合体でもよい。
本発明の膜形成用組成物は硬化性化合物を含む。
硬化性化合物とは、何らかのエネルギー付与により反応を生起し、硬化する化合物であれば特に制限はないが、特に、熱、紫外線(UV)又は放射線によって硬化する化合物であることが好ましい。このような硬化性化合物を含有することで、本発明の膜形成用組成物をハードコート層形成用組成物として好適に用いることができる。
本発明の膜形成用組成物における硬化性化合物の含有量は、膜形成用組成物の全固形分(溶剤を除いた全成分)を100質量%とした場合に、40〜90質量%であることが好ましく、45〜85質量%であることがより好ましく、50〜80質量%がであることが更に好ましい。
硬化性化合物としては、分子内に、エチレン性不飽和二重結合基及びエポキシ基の少なくとも一方を有する化合物が好ましく、以下に説明する(b)分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物、及び(c)分子内に1個以上のエポキシ基を有する化合物が好ましい例として挙げられる。
本発明の膜形成用組成物は、硬化性化合物として、(b)分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物(「化合物(b)」ともいう)を含むことが好ましい。
エチレン性不飽和二重結合基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基及び−C(O)OCH=CH2が好ましく、特に好ましくは(メタ)アクリロイル基である。硬化性化合物がエチレン性不飽和二重結合基を3個以上有することによって、高い硬度を維持することができ、耐湿熱性も付与する事ができる。
化合物(b)は、本発明の膜形成用組成物の全固形分(溶剤を除いた全成分)を100質量%とした場合に、40〜80質量%含有されることが好ましいが、45〜75質量%がより好ましく、50〜70質量%が更に好ましい。含有量が40質量%以上であると十分な硬度を得る事ができる。
化合物(b)のエチレン性不飽和結合性基当量は、80〜110がより好ましく、80〜100が更に好ましい。
本発明の膜形成用組成物は、硬化性化合物として、(c)分子内に1個以上のエポキシ基を有する化合物(「化合物(c)」ともいう)を含むことも好ましい。
化合物(c)が有するエポキシ基の数は1個以上であれば、特に限定されない。
化合物(c)の分子量は、300以下であることが好ましく、250以下がより好ましく、200以下が更に好ましい。また、膜形成時の揮発を抑制する観点から、化合物(c)の分子量は100以上であることが好ましく、150以上であることがより好ましい。
化合物(c)は、分子内に1個の脂環式エポキシ基と1個のエチレン性不飽和二重結合基とを有し、分子量が300以下である化合物であることがより好ましい。エポキシ基が脂環式であって、分子量を300以下であると、硬度悪化を防止する効果を向上させることができる。
化合物(c)が有し得るエチレン性不飽和二重結合基は特に限定されないが、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基及び−C(O)OCH=CH2が好ましく、特に好ましくは(メタ)アクリロイル基である。
化合物(c)が、エチレン性不飽和二重結合基を有することにより、化合物(b)と併用した場合に化合物(b)との結合力が付与されるため、硬度悪化が防止でき、また、湿熱耐久時の泣き出しを抑制できる。
無機微粒子としてはシリカ粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。中でもシリカ粒子が好ましい。なお、無機微粒子は表面処理されていてもよい。
無機微粒子としては、(d)エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合基との反応性を有する無機微粒子(「無機微粒子(d)」ともいう)が好ましい。
本発明の膜形成用組成物が無機微粒子(d)を含有することで、得られる膜の親水性を向上させることができる。また、得られる膜の硬化収縮量を低減できるため、カールを低減できる。更に、無機微粒子(d)はエポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合基との反応性を有するため、膜の鉛筆硬度を向上させることが可能である。
無機微粒子(d)の平均1次粒径は、10nm〜100nmが好ましく、更に好ましくは10〜60nmである。微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
無機微粒子(d)の形状は、球形、非球形を問わないが、2〜10個の無機微粒子が連結した非球形が硬度付与の観点で好ましい。数個が鎖状に連結した無機微粒子を用いる事によって、強固な粒子ネットワーク構造を形成して、硬度が向上すると推定している。
本発明の膜形成用組成物は、紫外線吸収剤を含むことが好ましい。
本発明の膜形成用組成物により形成される膜は、たとえば偏光板又は液晶表示用部材等に使用することができるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。紫外線吸収剤は1種のみ用いても良いし、2種以上を併用しても良い。例えば、特開2001−72782号公報や特表2002−543265号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
本発明の膜形成用組成物は、溶剤を含むことが好ましい。溶剤としては、硬化性化合物の溶解性、無機微粒子の分散性、塗工時の乾燥性等を考慮し、適宜種類を選択して用いることができる。溶剤としては有機溶剤が好ましく、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、カーボネート系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。
本発明の膜形成用組成物の固形分濃度は20〜80質量%であることが好ましく、30〜75質量%であることがより好ましく、40〜70質量%であることが特に好ましい。
本発明の膜形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、特に限定されないが、ラジカル重合開始剤及びカチオン重合開始剤などが挙げられる。
ラジカル重合開始剤としては、特に限定されないが、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤などが挙げられる。
カチオン重合開始剤としては、特に限定されないが、オニウム化合物、有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物などが挙げられる。
重合開始剤の含有量は、本発明の膜形成用組成物の全固形分を100質量%とした場合に、0.1〜10質量%の範囲であることが好ましく、1〜5質量%がより好ましく、2〜4質量%が更に好ましい。
本発明の膜形成用組成物は、本発明の効果を発揮できる範囲内で、上記含フッ素重合体以外の風ムラ防止剤を含有してもよい。
上記風ムラ防止剤としては、公知のフッ素系界面活性剤、及びシリコーン系界面活性剤が挙げられる。
本発明の膜形成用組成物から形成された膜を有する光学フィルムについて説明する。
上記光学フィルムは、支持体上に、本発明の膜形成用組成物から形成された膜を有するものであることが好ましい。
支持体としては、可視光(波長400〜800nm)の平均の透過率が80%以上の透明支持体が好ましく、ガラスやポリマーフィルムを用いることができる。支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレート(例えば、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート)、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリレート、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、(メタ)アクリルニトリル、脂環式構造を有するポリマー(ノルボルネン系樹脂(たとえば、アートン:商品名、JSR社製)、非晶質ポリオレフィン(たとえば、ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製))、などが挙げられる。
本発明の光学フィルムの支持体としては、セルロースアシレートフィルムが好ましい。
支持体は膜形成用組成物から膜を形成した後剥離される仮支持体であってもよい。
支持体の膜厚は、1μm〜1000μm程度あればよく、モバイル用途に合わせて薄層化することもできるため、1μm〜100μmが更に好ましく、1μm〜25μmがより好ましい。
本発明のハードコートフィルムは、光学フィルムの好ましい形態のひとつであり、本発明の膜形成用組成物から形成される膜がハードコート層である場合である。本発明の膜形成用組成物に含まれる硬化性化合物として、前述の(b)分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を用いることなどにより、ハードコート層とすることができる。
本発明のハードコートフィルムは、一般に、最も単純な構成では、支持体上に、本発明の膜形成用組成物を塗工することによりハードコート層を形成した構成である。
本発明のハードコートフィルムはハードコート層以外の他の層を有してもよい。他の層としては、たとえば、低屈折率層、防眩層、帯電防止層、高屈折率層、中屈折率層、などが挙げられる。
本発明の膜形成用組成物から形成された膜を下層として、その表面に塗布成膜で他の層(上層)を形成する際の、上層形成用の塗布液の溶剤としては、幅広い溶剤を使用できる。
また、本発明のハードコートフィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合には、ハードコート層の厚みは3〜10μmであることが好ましい。
支持体上に本発明の膜形成用組成物を塗布する方法としては、特に限定されないが、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法やエクストルージョンコート法(ダイコート法)(特開2003−164788号明細書参照)、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
支持体上に本発明の膜形成用組成物を塗布した後に、乾燥、硬化することにより、膜を形成することができる。
本発明では、電離放射線による照射と、照射の前、照射と同時又は照射後の熱処理とを組み合わせることにより、硬化することが有効である。
その他、電離放射線硬化時に同時に熱処理を行う工程も好ましい。
本発明においては、上記のとおり、電離放射線による照射と組み合わせて熱処理を行うことが好ましい。熱処理は、ハードコートフィルムの支持体、ハードコート層を含めた構成層を損なうものでなければ特に制限はないが、好ましくは40〜150℃、更に好ましくは40〜80℃である。
熱処理に要する時間は、使用成分の分子量、その他成分との相互作用、粘度などにより異なるが、15秒〜1時間、好ましくは20秒〜30分、最も好ましくは30秒〜5分である。
電離放射線の種類については、特に制限はなく、X線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が好ましく用いられる。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより10mJ/cm2〜1000mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。
本発明の偏光板は、本発明のハードコートフィルムを有するものであり、少なくとも1枚の本発明のハードコートフィルムを偏光板保護フィルムとして有するものであることが好ましい。また、アルカリ処理を施した親水化ハードコートフィルムと、偏光子とが貼りあわされたものであることが好ましい。
アルカリ処理を施した親水化ハードコートフィルムと偏光子を貼り合わせるために使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
本発明は、支持体上に本発明の膜形成用組成物を塗工してハードコートフィルムを形成する工程と、
上記ハードコートフィルムをアルカリ処理する工程と、
を有する親水化ハードコートフィルムの製造方法にも関する。
ハードコートフィルムをアルカリ処理する方法としては、ハードコートフィルムをアルカリ水溶液に浸漬する方法などが挙げられる。
なお、本発明における「親水化」とは、アルカリ処理後のハードコートフィルムの表面の水に対する親和性がアルカリ処理前と比較してより高くなることを意味しており、水に溶解するレベルの親和性を示すものではない。具体的には、親水化ハードコートフィルムの表面の水の接触角は、75°以下であることが好ましく、60°以下であることがより好ましく、50°以下であることが特に好ましい。
アルカリ処理において用いられるアルカリ水溶液としては、特に限定されないが、水酸化ナトリウム(NaOH)水溶液などが挙げられる。
アルカリ処理は、セルロースアシレートフィルムを偏光子と貼り合わせる場合に一般的に行われている鹸化処理と同様である。
(重合体B−1の合成)
攪拌機、温度計、還流冷却管、及び窒素ガス導入管を備えた200ミリリットル三口フラスコに、メチルエチルケトン10.0gを仕込んで、78℃まで昇温した。次いで、ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート(HFIP)16.00g(72ミリモル)、AME−400(日油株式会社製)4.00g(8.3ミリモル)、メチルエチルケトン10.0g及び「V−601」(和光純薬(株)製)5.34gからなる混合溶液を、180分で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、さらに5時間攪拌を続け、重合体B−1のメチルエチルケトン溶液43.0gを得た。重合体B−1の重量平均分子量(Mw)は3,900(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(EcoSEC HLC−8320GPC(東ソー社製))により溶離液THF、流速0.35ml/min、温度40℃の測定条件にてポリスチレン換算で算出、使用カラムはTSKgel SuperHZM−H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ200(東ソー社製))であった。また、得られた重合体の1H−NMR(Nuclear Magnetic Resonance)スペクトルにて構造を同定し、重合体に含まれる繰り返し単位の組成比を決定した。
(含フッ素共重合体B−1〜B−16の合成)
モノマーの種類及び各モノマーの全モノマーに対する質量比率(モノマー組成比)をそれぞれ表1に示したように変更したこと以外は合成例1と同様にして、重合体B−2〜B−16を合成した。
(化合物Aの合成)
特表2008−503469号公報の[0093]の記載にしたがって、以下に示す化合物Aを合成した。
合成例2で用いたHFIPを上記化合物Aに変更したこと以外は合成例2と同様にして、重合体B−17を合成した。
(化合物Bの合成)
合成例2で用いたHFIPを上記化合物Bに、AME−400を50PEP−300に変更したこと以外は合成例2と同様にして、重合体B−18を合成した。
(化合物Cの合成)
合成例2で用いたHFIPを上記化合物Cに、FAAC−6をFAMAC−4に変更したこと以外は合成例2と同様にして、重合体B−19を合成した。
(重合体C−1〜C−5の合成)
モノマーの種類及びモノマー組成比をそれぞれ下記表1に示したように変更したこと以外は、合成例1と同様にして、重合体C−1〜C−5を合成した。
C4F9:2−(パーフルオロブチル)エチルアクリレート
C2F5:2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルアクリラート
C2F4H:2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート
C8F17:2−(パーフルオロオクチル)エチルアクリレート
C4F8H:1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルアクリレート
AME−400:ブレンマーAME−400(日油株式会社製)
PME−1000:ブレンマーPME−1000(日油株式会社製)
AE−200:ブレンマーAE−200(日油株式会社製)
ブレンマーGLM:ブレンマーGLM(日油株式会社製)
FAAC−6:2−(パーフルオロヘキシル)エチルアクリレート(ユニマテック株式会社製)
MMA:メタクリル酸メチル
50PEP−300:ポリエチレングリコール−プロピレングリコール−モノメタクリレート(日油株式会社製)
FAMAC−4:(2−パーフルオロブチル)エチルメタクリレート(ユニマテック株式会社製)
下記の組成となるように、各成分を混合し、固形分濃度が約55質量%となるハードコート層塗布液(膜形成用組成物)A−1を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ハードコート層塗布液A−1の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
DPHA(dipenthaerythiritol hexa acrylate):KAYARD DPHA(日本化薬(株)製)(6官能)
29.6質量部
イルガキュア184:アルキルフェノン系光重合開始剤(BASF製)
2.20質量部
3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート:サイクロマーM100((株)ダイセル製、分子量196) 13.8質量部
化合物1 0.55質量部
重合体B−1 0.06質量部
MEK−AC−2140Z(平均粒径10〜20nm、球形シリカ微粒子(日産化学工業(株)製)) 8.25質量部
Tinuvin928:ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(BASF製)
0.55質量部
メチルエチルケトン 16.7質量部
メチルイソブチルケトン 19.8質量部
酢酸メチル: 8.5質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物1:
重合体B−1を、下記表2に記載の重合体に替えた以外は上記ハードコート層塗布液A−1と同様にして、ハードコート層塗布液A−2〜A−24を調製した。
ロール形態から巻き出したTJ25(富士フイルム株式会社製、ロール形態、80μm厚さのトリアセチルセルロースフィルム)を支持体とし、支持体上にハードコート層塗布液A−1〜A−24を塗工し、ハードコートフィルムS−1〜S−24を作製した。
具体的には、支持体上に、特開2006−122889号公報実施例1記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度30m/分の条件で各塗布液を塗布して塗布層を得、これを60℃で150秒乾燥の後、更に窒素パージ下酸素濃度約0.1体積%で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量500mJ/cm2の紫外線を照射して、乾燥後の塗布層を硬化させてハードコート層を形成した後、巻き取った。
ハードコート層の膜厚は、接触式の膜厚計を用いてハードコートフィルムの膜厚を測定し、そこから同様に測定した支持体厚みを引いて算出した。ハードコートフィルムS−1〜S−24の全てにおいて、ハードコート層の膜厚は、6.0μmであった。
ハードコートフィルムの支持体表面のうち、ハードコート層側とは反対側の面(裏面)の反射を防止するため、裏面を黒色マーカーで塗りつぶした後に、拡散板が前面に取りつけられた3波長蛍光灯下でハードコートフィルムのおもて面(ハードコート層側の表面)を観察した。おもて面からハードコートフィルムを目視しで観察し、下記評価基準にて評価した。
下記評価基準でA〜C評価を合格とした。
A:干渉縞はなかった。
B:干渉縞はごく僅かにみられるが、気にならない
C:干渉縞がところどころにみられるが、製品として許容されるものであった。
D:干渉縞が強く発生し、問題になる。
作製したハードコートフィルムを、45℃に保った1.5mol/LのNaOH水溶液に2分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、30℃の0.1mol/Lの硫酸水溶液に15秒浸漬した後、更に100秒間、流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを3回繰り返し、水を落とした後に90℃の乾燥ゾーンに60秒間滞留させて乾燥し、ハードコートフィルムをアルカリ処理(鹸化処理)した。
接触角計[“CA−X”型接触角計、協和界面科学(株)製]を用い、乾燥状態(20℃、相対湿度65%)で、液体として純水を使用して3μLの液滴を針先に作り、これをアルカリ処理したハードコートフィルムのハードコート層表面に接触させてハードコート層上に液滴を作った。滴下後10秒間経過した時点でのハードコート層と液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体が存在する側の角度を測定し、接触角とした。その結果を以下の基準で評価し、A〜Cを合格、Dを不合格とした。
A:接触角が50°以下
B:接触角が50°を超え60°以下
C:接触角が60°を超え75°以下
D:接触角が75°を超える
Claims (7)
- 前記重合体中のフッ素原子の含有率が、前記重合体の全質量に対して、5質量%以上80質量%以下である、請求項1又は2に記載の膜形成用組成物。
- 前記重合体中の前記一般式(I)で表される繰り返し単位の含有率が、前記重合体の全質量に対して、3〜100質量%である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の膜形成用組成物。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の膜形成用組成物から形成された膜を有するハードコートフィルム。
- 請求項5に記載のハードコートフィルムを有する偏光板。
- 支持体上に請求項1〜4のいずれか一項に記載の膜形成用組成物を塗工してハードコートフィルムを形成する工程と、
前記ハードコートフィルムをアルカリ処理する工程と、
を有する親水化ハードコートフィルムの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015247995A JP6586363B2 (ja) | 2015-12-18 | 2015-12-18 | 膜形成用組成物、ハードコートフィルム、偏光板、及び親水化ハードコートフィルムの製造方法 |
PCT/JP2016/086622 WO2017104549A1 (ja) | 2015-12-18 | 2016-12-08 | 膜形成用組成物、ハードコートフィルム、偏光板、及び親水化ハードコートフィルムの製造方法 |
US16/005,845 US10641938B2 (en) | 2015-12-18 | 2018-06-12 | Film forming composition, hardcoat film, polarizing plate, and method for manufacturing hydrophilized hardcoat film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015247995A JP6586363B2 (ja) | 2015-12-18 | 2015-12-18 | 膜形成用組成物、ハードコートフィルム、偏光板、及び親水化ハードコートフィルムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017110172A true JP2017110172A (ja) | 2017-06-22 |
JP6586363B2 JP6586363B2 (ja) | 2019-10-02 |
Family
ID=59056685
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015247995A Active JP6586363B2 (ja) | 2015-12-18 | 2015-12-18 | 膜形成用組成物、ハードコートフィルム、偏光板、及び親水化ハードコートフィルムの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10641938B2 (ja) |
JP (1) | JP6586363B2 (ja) |
WO (1) | WO2017104549A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2020111128A1 (ja) * | 2018-11-30 | 2021-10-07 | ダイキン工業株式会社 | 防曇塗料用組成物 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112920046A (zh) * | 2021-01-26 | 2021-06-08 | 宁波南大光电材料有限公司 | 甲基丙烯酸六氟异丙酯及其制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01106001A (ja) * | 1987-10-20 | 1989-04-24 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光フアイバー鞘材用樹脂組成物 |
JP2002249706A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | コーティング用組成物 |
JP2004155847A (ja) * | 2002-11-05 | 2004-06-03 | Kanto Denka Kogyo Co Ltd | 不飽和二重結合を含有する含フッ素共重合体及びこれを含む組成物 |
JP2007246715A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Fujifilm Corp | 塗布組成物、光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板及びそれらを用いたディスプレイ装置 |
JP2011225846A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Fujifilm Corp | ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2013245289A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Dic Corp | 反射防止塗料組成物及び反射防止フィルム |
JP2014137454A (ja) * | 2013-01-16 | 2014-07-28 | Jsr Corp | ポジ型感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法、半導体素子、並びに表示素子 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4474114B2 (ja) | 2003-05-07 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | フルオロ脂肪族基含有ポリマーを含む組成物、フィルム、偏光板 |
JP2005248116A (ja) | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Dainippon Ink & Chem Inc | 含フッ素密着性向上剤 |
JP4520377B2 (ja) | 2005-07-05 | 2010-08-04 | 富士フイルム株式会社 | 含フッ素共重合体およびその製造方法 |
-
2015
- 2015-12-18 JP JP2015247995A patent/JP6586363B2/ja active Active
-
2016
- 2016-12-08 WO PCT/JP2016/086622 patent/WO2017104549A1/ja active Application Filing
-
2018
- 2018-06-12 US US16/005,845 patent/US10641938B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01106001A (ja) * | 1987-10-20 | 1989-04-24 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光フアイバー鞘材用樹脂組成物 |
JP2002249706A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | コーティング用組成物 |
JP2004155847A (ja) * | 2002-11-05 | 2004-06-03 | Kanto Denka Kogyo Co Ltd | 不飽和二重結合を含有する含フッ素共重合体及びこれを含む組成物 |
JP2007246715A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Fujifilm Corp | 塗布組成物、光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板及びそれらを用いたディスプレイ装置 |
JP2011225846A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Fujifilm Corp | ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2013245289A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Dic Corp | 反射防止塗料組成物及び反射防止フィルム |
JP2014137454A (ja) * | 2013-01-16 | 2014-07-28 | Jsr Corp | ポジ型感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法、半導体素子、並びに表示素子 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2020111128A1 (ja) * | 2018-11-30 | 2021-10-07 | ダイキン工業株式会社 | 防曇塗料用組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10641938B2 (en) | 2020-05-05 |
WO2017104549A1 (ja) | 2017-06-22 |
JP6586363B2 (ja) | 2019-10-02 |
US20180292589A1 (en) | 2018-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6728581B2 (ja) | 光吸収異方性膜、3次元光吸収異方性膜及びその製造方法 | |
KR101931212B1 (ko) | 광학 필름, 방현성 필름 및 편광판 | |
JP2020060760A (ja) | 偏光板用保護フィルム及びそれを用いた偏光板 | |
JP2006058574A (ja) | ハードコートフィルム | |
JP2008197320A (ja) | 防眩性コーティング組成物、防眩フィルムおよびその製造方法 | |
JPWO2004016689A1 (ja) | 光硬化性含フッ素ポリマーを含む光学材料および光硬化性含フッ素樹脂組成物 | |
JP2012078541A (ja) | 光学フィルム、偏光板、画像表示装置、及び光学フィルムの製造方法 | |
JP2012234170A (ja) | 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、塗布組成物 | |
US20210284862A1 (en) | Antireflective Laminate | |
CN107207753B (zh) | 硬涂薄膜、偏振片、液晶显示装置及硬涂薄膜的制造方法 | |
JPWO2018003996A1 (ja) | 眼鏡レンズの製造方法 | |
JP6586363B2 (ja) | 膜形成用組成物、ハードコートフィルム、偏光板、及び親水化ハードコートフィルムの製造方法 | |
JP7198683B2 (ja) | 積層体 | |
KR20160037117A (ko) | 광학 필름 및 그것을 구비한 편광판, 액정 표시 장치, 및 광학 필름의 제조 방법 | |
KR20210038423A (ko) | 적층체 | |
JP6574731B2 (ja) | 光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP5732415B2 (ja) | 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、塗布組成物 | |
KR102126317B1 (ko) | 적층 필름 및 그 제조 방법, 편광판, 액정 패널, 및 액정 표시 장치 | |
WO2016043241A1 (ja) | 偏光板 | |
WO2019221268A1 (ja) | 防曇性積層体およびその製造方法 | |
JP7276783B2 (ja) | ラジカル系接着剤組成物、接着剤層、偏光板および画像表示装置 | |
KR20230000955A (ko) | 광학 적층체 및 표시 장치 | |
WO2017057526A1 (ja) | ハードコートフィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2016080880A (ja) | 偏光子付き位相差フィルムの製造方法、及び位相差フィルムの評価方法 | |
JP2005283656A (ja) | 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、およびそれを用いた画像表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20170123 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190416 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190613 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190903 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190909 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6586363 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |