JP2017181816A - Display device, liquid crystal display device, and manufacturing method for display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表示装置、液晶表示装置、及び表示装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a display device, a liquid crystal display device, and a method for manufacturing the display device.
近年、曲面状の表示面を有する液晶表示装置が提案されている(例えば特許文献1)。このような液晶表示装置では、一対の基板(薄膜トランジスタ基板(TFT基板)及びカラーフィルタ基板(CF基板))それぞれが曲面状に湾曲するように形成される。 In recent years, a liquid crystal display device having a curved display surface has been proposed (for example, Patent Document 1). In such a liquid crystal display device, each of a pair of substrates (a thin film transistor substrate (TFT substrate) and a color filter substrate (CF substrate)) is formed to be curved in a curved shape.
ここで、本願発明者らは、曲面状の表示面を有する液晶表示装置のうち特にIPS(In-Place-Switching)方式に代表される横電界方式の液晶表示装置において、表示画面の四隅付近に光漏れ(白浮き)が発生することを見出した。具体的には例えば、表示面側が凸状となるように両基板を曲面状に形成した場合、TFT基板を構成するガラス基板には圧縮応力が働き、CF基板を構成するガラス基板には延伸応力が働く。これにより、両ガラス基板間において、液晶分子に対して斜め方向に位相差が発生する。横電界方式では、液晶分子が両基板に略平行に配置されているため、斜め方向の光(偏光)が上記位相差の影響によりさらに回転する。この結果、偏光の回転が偏光板により相殺されず、光漏れが発生し、黒表示の際に白浮きが視認され易くなる。この光漏れは、ガラス基板面において応力が集中する四隅付近において顕著に現れる。 Here, the inventors of the present application, among liquid crystal display devices having a curved display surface, particularly in a horizontal electric field type liquid crystal display device typified by an IPS (In-Place-Switching) method, are located near the four corners of the display screen. It was found that light leakage (white floating) occurred. Specifically, for example, when both substrates are formed in a curved shape so that the display surface side is convex, compressive stress acts on the glass substrate constituting the TFT substrate, and stretching stress acts on the glass substrate constituting the CF substrate. Work. Thereby, a phase difference is generated in an oblique direction with respect to the liquid crystal molecules between the two glass substrates. In the horizontal electric field method, since the liquid crystal molecules are arranged substantially parallel to both substrates, the oblique light (polarized light) is further rotated by the influence of the phase difference. As a result, the rotation of polarized light is not canceled out by the polarizing plate, light leakage occurs, and white floating is easily seen during black display. This light leakage appears remarkably in the vicinity of the four corners where stress is concentrated on the glass substrate surface.
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、曲面状の表示面を有する表示装置において、表示画面の四隅付近に生じる光漏れを低減することができる表示装置及び表示装置の製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a display device having a curved display surface and a display device and a display device capable of reducing light leakage that occurs near the four corners of the display screen. It is in providing the manufacturing method of.
上記課題を解決するために、本発明に係る表示装置は、曲面状の表示面を有する表示装置であって、第1方向に曲げられた第1基板と、前記第1方向に曲げられ、前記第1基板に対向配置された第2基板と、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせるシール部と、を含み、前記シール部は、前記第1方向に直交する第2方向に延在する第1シール部と、前記第1方向に延在する第2シール部とを含み、前記第1シール部の前記第1方向の幅は、前記第2シール部の前記第2方向の幅よりも大きい、ことを特徴とする。 In order to solve the above problems, a display device according to the present invention is a display device having a curved display surface, which is bent in a first direction, bent in the first direction, A second substrate disposed opposite to the first substrate; and a seal portion that bonds the first substrate and the second substrate; and the seal portion extends in a second direction orthogonal to the first direction. A first seal portion that is present and a second seal portion that extends in the first direction, wherein the width of the first seal portion in the first direction is the width of the second seal portion in the second direction. It is characterized by being larger than.
本発明に係る液晶表示装置では、前記第1シール部の前記第1方向の幅は、前記第2シール部の前記第2方向の幅の1.1〜5.0倍であってもよい。 In the liquid crystal display device according to the present invention, a width of the first seal portion in the first direction may be 1.1 to 5.0 times a width of the second seal portion in the second direction.
また本発明に係る液晶表示装置は、第1方向に曲げられた第1基板と、前記第1方向に曲げられ前記第1基板に対向配置された第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板の間に挟持された液晶層とを含み、曲面状の表示面を有し、前記第1基板及び前記第2基板に略平行な電界を前記液晶層に印加する横電界方式の液晶表示装置であって、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせるシール部を含み、前記シール部は、前記第1方向に直交する第2方向に延在する第1シール部と、前記第1方向に延在する第2シール部とを含み、前記第1シール部の前記第1方向の幅は、前記第2シール部の前記第2方向の幅よりも大きい、ことを特徴とする。 The liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate bent in a first direction, a second substrate bent in the first direction and disposed opposite to the first substrate, the first substrate, and the first substrate. And a liquid crystal layer sandwiched between two substrates, having a curved display surface, and applying an electric field substantially parallel to the first substrate and the second substrate to the liquid crystal layer. An apparatus, comprising: a seal portion for bonding the first substrate and the second substrate, wherein the seal portion extends in a second direction orthogonal to the first direction; A width of the first seal portion in the first direction is greater than a width of the second seal portion in the second direction.
本発明に係る液晶表示装置では、前記第1シール部の前記第1方向の幅は、前記第2シール部の前記第2方向の幅の1.1〜5.0倍であってもよい。 In the liquid crystal display device according to the present invention, a width of the first seal portion in the first direction may be 1.1 to 5.0 times a width of the second seal portion in the second direction.
また本発明に係る表示装置の製造方法は、第1基板を製造する工程と、第2基板を製造する工程と、前記第1基板にシール材を塗布する工程と、前記シール材が塗布された前記第1基板に前記第2基板を貼り合せる工程と、前記シール材を硬化させる工程と、前記第1基板及び前記第2基板を第1方向に曲げる工程と、を含み、前記シール材を塗布する工程では、前記第1方向に直交する第2方向に塗布する第1シール材の前記第1方向の幅が、前記第1方向に塗布する第2シール材の前記第2方向の幅よりも大きくなるように、前記シール材を塗布する、ことを特徴とする。 The display device manufacturing method according to the present invention includes a step of manufacturing a first substrate, a step of manufacturing a second substrate, a step of applying a sealing material to the first substrate, and the sealing material being applied. Applying the sealing material, including bonding the second substrate to the first substrate, curing the sealing material, and bending the first substrate and the second substrate in a first direction. In the step of performing, the width of the first seal material applied in the second direction orthogonal to the first direction is greater than the width of the second seal material applied in the first direction in the second direction. The sealing material is applied so as to be large.
本発明に係る液晶表示装置の製造方法では、前記シール材を塗布する工程では、前記第1シール材を塗布するときの塗布速度を、前記第2シール材を塗布するときの塗布速度よりも遅くしてもよい。 In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, in the step of applying the sealing material, the application speed when applying the first sealing material is slower than the application speed when applying the second sealing material. May be.
本発明に係る液晶表示装置の製造方法では、前記シール材を塗布する工程では、前記第1シール材を塗布するときの塗布回数を、前記第2シール材を塗布するときの塗布回数よりも多くしてもよい。 In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, in the step of applying the sealing material, the number of times of application when applying the first sealing material is larger than the number of times of applying when applying the second sealing material. May be.
本発明に係る液晶表示装置及びその製造方法によれば、曲面状の表示面を有する表示装置において、表示画面の四隅付近に生じる光漏れを低減することができる。 According to the liquid crystal display device and the method for manufacturing the same according to the present invention, in a display device having a curved display surface, it is possible to reduce light leakage that occurs near the four corners of the display screen.
本発明の一実施形態について、図面を用いて以下に説明する。図1は、本実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す図である。液晶表示装置1は、画像を表示する表示パネル10と、表示パネル10を駆動する駆動回路(データ線駆動回路20、ゲート線駆動回路30等)と、駆動回路を制御する制御回路40と、表示パネル10に背面側から光を照射するバックライト装置50とを含んで構成されている。駆動回路は、表示パネル10に設けられてもよい。液晶表示装置1は、表示面側又は背面側が凸状となるように湾曲した曲面状の外形を有している。なお、表示面側又は背面側が凹状になるように湾曲した曲面状の外形の場合も同様である。この場合には、薄膜トランジスタ基板(TFT基板)を構成するガラス基板には延伸応力が働き、カラーフィルタ基板(CF基板)を構成するガラス基板には圧縮応力が働く。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram illustrating a schematic configuration of a liquid crystal display device according to the present embodiment. The liquid crystal display device 1 includes a display panel 10 that displays an image, a drive circuit that drives the display panel 10 (a data line drive circuit 20, a gate line drive circuit 30, and the like), a control circuit 40 that controls the drive circuit, and a display The panel 10 includes a backlight device 50 that emits light from the back side. The drive circuit may be provided in the display panel 10. The liquid crystal display device 1 has a curved outer shape that is curved so that the display surface side or the back surface side is convex. The same applies to a curved outer shape curved so that the display surface side or the back surface side is concave. In this case, stretching stress acts on the glass substrate constituting the thin film transistor substrate (TFT substrate), and compressive stress acts on the glass substrate constituting the color filter substrate (CF substrate).
表示パネル10には、列方向に延在する複数のデータ線11と、行方向に延在する複数のゲート線12とが設けられている。各データ線11と各ゲート線12との各交差部には、薄膜トランジスタ13(TFT)が設けられている。各データ線11及び各ゲート線12は、液晶表示装置1の曲げ方向に応じて湾曲した形状(凸状)に形成される。上記曲げ方向とは、表示面に水平な方向であって、例えば行方向又は列方向をいう。例えば、上記曲げ方向が行方向の場合(後述の図5参照)、データ線11は直線状に形成され、ゲート線12は湾曲状に形成される。また上記曲げ方向が列方向の場合(後述の図6参照)、データ線11は湾曲状に形成され、ゲート線12は直線状に形成される。 The display panel 10 is provided with a plurality of data lines 11 extending in the column direction and a plurality of gate lines 12 extending in the row direction. At each intersection of each data line 11 and each gate line 12, a thin film transistor 13 (TFT) is provided. Each data line 11 and each gate line 12 are formed in a curved shape (convex shape) according to the bending direction of the liquid crystal display device 1. The bending direction is a direction horizontal to the display surface, for example, a row direction or a column direction. For example, when the bending direction is the row direction (see FIG. 5 described later), the data line 11 is formed in a straight line shape, and the gate line 12 is formed in a curved shape. When the bending direction is the column direction (see FIG. 6 described later), the data line 11 is formed in a curved shape, and the gate line 12 is formed in a linear shape.
表示パネル10には、各データ線11と各ゲート線12との各交差部に対応して、複数の画素14がマトリクス状(行方向及び列方向)に配置されている。詳細は後述するが、表示パネル10は、薄膜トランジスタ基板(TFT基板)と、カラーフィルタ基板(CF基板)と、両基板間に挟持された液晶層とを含んでいる。TFT基板には、各画素14に対応して設けられた複数の画素電極15と、各画素14に共通する1つの共通電極16とが設けられている。共通電極16は、1つの画素14又は複数の画素14ごとに分割して配置されていてもよい。 In the display panel 10, a plurality of pixels 14 are arranged in a matrix (row direction and column direction) corresponding to each intersection of each data line 11 and each gate line 12. As will be described in detail later, the display panel 10 includes a thin film transistor substrate (TFT substrate), a color filter substrate (CF substrate), and a liquid crystal layer sandwiched between the substrates. The TFT substrate is provided with a plurality of pixel electrodes 15 provided corresponding to each pixel 14 and one common electrode 16 common to each pixel 14. The common electrode 16 may be divided for each pixel 14 or a plurality of pixels 14.
制御回路40は、外部から入力された入力データ(同期信号、映像信号等)に基づき、データ線駆動回路20及びゲート線駆動回路30の駆動タイミングを制御するための各種の制御信号と、表示パネル10の表示領域に表示する画像に対応する画像データとを出力する。 The control circuit 40 includes various control signals for controlling the drive timing of the data line driving circuit 20 and the gate line driving circuit 30 based on input data (synchronization signal, video signal, etc.) input from the outside, and a display panel The image data corresponding to the image displayed in the 10 display areas is output.
データ線駆動回路20は、制御回路40から入力された制御信号及び画像データに基づいて、各データ線11にデータ信号(データ電圧)を出力する。 The data line drive circuit 20 outputs a data signal (data voltage) to each data line 11 based on the control signal and image data input from the control circuit 40.
ゲート線駆動回路30は、外部から入力された電源電圧と、制御回路40から入力された制御信号とに基づいてゲート信号(ゲート電圧)を生成し、各ゲート線12に出力する。 The gate line driving circuit 30 generates a gate signal (gate voltage) based on a power supply voltage input from the outside and a control signal input from the control circuit 40, and outputs the gate signal to each gate line 12.
図2は、表示パネル10の画素14の構成例を示す平面図である。図3は図2のA−A断面図であり、図4は図2のB−B断面図である。図2〜図4を参照しつつ、画素14の具体的な構成について説明する。 FIG. 2 is a plan view illustrating a configuration example of the pixel 14 of the display panel 10. 3 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. A specific configuration of the pixel 14 will be described with reference to FIGS.
図2において、隣り合う2本のデータ線11と、隣り合う2本のゲート線12とで区画された領域が1つの画素14に相当する。各画素14には、薄膜トランジスタ13が設けられている。薄膜トランジスタ13は、絶縁膜102(図3参照)上に形成された半導体層21と、半導体層21上に形成されたドレイン電極22及びソース電極23とを含んで構成されている(図2参照)。ドレイン電極22はデータ線11に電気的に接続されており、ソース電極23はスルーホール24を介して画素電極15に電気的に接続されている。 In FIG. 2, a region defined by two adjacent data lines 11 and two adjacent gate lines 12 corresponds to one pixel 14. Each pixel 14 is provided with a thin film transistor 13. The thin film transistor 13 includes a semiconductor layer 21 formed on the insulating film 102 (see FIG. 3), and a drain electrode 22 and a source electrode 23 formed on the semiconductor layer 21 (see FIG. 2). . The drain electrode 22 is electrically connected to the data line 11, and the source electrode 23 is electrically connected to the pixel electrode 15 through the through hole 24.
各画素14には、スズ添加酸化インジウム(ITO)等の透明導電膜からなる画素電極15が形成されている。画素電極15は、複数の開口部(スリット)を有しており、ストライプ状に形成されている。開口部の形状は限定されない。各画素14に共通して、表示領域全体にITO等の透明導電膜からなる1つの共通電極16が形成されている。共通電極16における、スルーホール24及び薄膜トランジスタ13のソース電極23に重なる領域には、画素電極15とソース電極23とを電気的に接続させるための開口部(図2の点線囲みに相当)が形成されている。 Each pixel 14 is formed with a pixel electrode 15 made of a transparent conductive film such as tin-added indium oxide (ITO). The pixel electrode 15 has a plurality of openings (slits) and is formed in a stripe shape. The shape of the opening is not limited. In common with each pixel 14, one common electrode 16 made of a transparent conductive film such as ITO is formed over the entire display area. In the common electrode 16, an opening (corresponding to a dotted line in FIG. 2) for electrically connecting the pixel electrode 15 and the source electrode 23 is formed in a region overlapping the through hole 24 and the source electrode 23 of the thin film transistor 13. Has been.
図3に示すように、表示パネル10は、TFT基板100と、CF基板200と、TFT基板100及びCF基板200の間に挟持される液晶層300と、を含んで構成されている。 As shown in FIG. 3, the display panel 10 includes a TFT substrate 100, a CF substrate 200, and a liquid crystal layer 300 sandwiched between the TFT substrate 100 and the CF substrate 200.
TFT基板100では、ガラス基板101上にゲート線12(図4参照)が形成され、ゲート線12を覆うように絶縁膜102が形成されている。絶縁膜102上にはデータ線11(図3参照)が形成され、データ線11を覆うように絶縁膜103が形成されている。絶縁膜103上には共通電極16が形成され、共通電極16を覆うように絶縁膜104が形成されている。絶縁膜104上には画素電極15が形成され、画素電極15を覆うように配向膜105が形成されている。ガラス基板101におけるバックライト装置50側(液晶層300側とは反対側)の面(背面)には偏光板106が貼り付けられている。 In the TFT substrate 100, the gate line 12 (see FIG. 4) is formed on the glass substrate 101, and the insulating film 102 is formed so as to cover the gate line 12. A data line 11 (see FIG. 3) is formed on the insulating film 102, and an insulating film 103 is formed so as to cover the data line 11. A common electrode 16 is formed on the insulating film 103, and an insulating film 104 is formed so as to cover the common electrode 16. A pixel electrode 15 is formed on the insulating film 104, and an alignment film 105 is formed so as to cover the pixel electrode 15. A polarizing plate 106 is attached to the surface (back surface) of the glass substrate 101 on the backlight device 50 side (the side opposite to the liquid crystal layer 300 side).
CF基板200では、ガラス基板201上にブラックマトリクス203及び着色部202(例えば、赤色部、緑色部、青色部)が形成され、これらを覆うようにオーバコート層204が形成されている。オーバコート層204上には配向膜205が形成されている。ガラス基板201における表示面側(液晶層300側とは反対側)の面(表面)には偏光板206が貼り付けられている。画素14を構成する各部の積層構造は、図3及び図4の構成に限定されるものではなく、周知の構成を適用することができる。 In the CF substrate 200, a black matrix 203 and a colored portion 202 (for example, a red portion, a green portion, and a blue portion) are formed on a glass substrate 201, and an overcoat layer 204 is formed so as to cover them. An alignment film 205 is formed on the overcoat layer 204. A polarizing plate 206 is attached to the surface (front surface) of the glass substrate 201 on the display surface side (the side opposite to the liquid crystal layer 300 side). The stacked structure of each part constituting the pixel 14 is not limited to the structure of FIGS. 3 and 4, and a known structure can be applied.
液晶層300には、液晶301が封入されている。液晶301は、誘電率異方性が負のネガ型液晶であってもよいし、誘電率異方性が正のポジ型液晶であってもよい。配向膜105,205は、ラビング配向処理が施された配向膜であってもよいし、光配向処理が施された光配向膜であってもよい。 Liquid crystal 301 is sealed in the liquid crystal layer 300. The liquid crystal 301 may be a negative liquid crystal having a negative dielectric anisotropy or a positive liquid crystal having a positive dielectric anisotropy. The alignment films 105 and 205 may be alignment films that have been subjected to a rubbing alignment process, or may be optical alignment films that have been subjected to a photo-alignment process.
上記のように、液晶表示装置1は、TFT基板100及びCF基板200に略平行な電界を液晶層300に印加する横電界方式の構成を有している。液晶表示装置1は、例えば、IPS(In Plane Switching)方式の構成を有している。 As described above, the liquid crystal display device 1 has a lateral electric field type configuration in which an electric field substantially parallel to the TFT substrate 100 and the CF substrate 200 is applied to the liquid crystal layer 300. The liquid crystal display device 1 has, for example, an IPS (In Plane Switching) system configuration.
液晶表示装置1の駆動方法を簡単に説明する。ゲート線12にはゲート線駆動回路30から走査用のゲート電圧(ゲートオン電圧、ゲートオフ電圧)が供給される。データ線11にはデータ線駆動回路20から映像用のデータ電圧が供給される。ゲート線12にゲートオン電圧が供給されると、薄膜トランジスタ13がオン状態になり、データ線11に供給されたデータ電圧が、ドレイン電極22及びソース電極23を介して画素電極15に伝達される。共通電極16には、共通電極駆動回路(図示せず)から共通電圧(Vcom)が供給される。共通電極16は、絶縁膜104を介して画素電極15に重なっており、画素電極15には、開口部(スリット)が形成されている。これにより、画素電極15から液晶層300を経て画素電極15の開口部を介して共通電極16に至る電界により液晶301が駆動する。液晶301が駆動して液晶層300を透過する光の透過率を制御することにより画像が表示される。なお、カラー表示を行う場合は、縦ストライプ状のカラーフィルタで形成された赤色部、緑色部、青色部等に対応するそれぞれの画素14の画素電極15に接続されたデータ線11に、所望のデータ電圧を供給することにより実現される。液晶表示装置1の駆動方法は上記の方法に限定されず、周知の方法を適用することができる。 A method for driving the liquid crystal display device 1 will be briefly described. A scanning gate voltage (gate on voltage, gate off voltage) is supplied to the gate line 12 from the gate line driving circuit 30. The data line 11 is supplied with a video data voltage from the data line driving circuit 20. When the gate-on voltage is supplied to the gate line 12, the thin film transistor 13 is turned on, and the data voltage supplied to the data line 11 is transmitted to the pixel electrode 15 through the drain electrode 22 and the source electrode 23. A common voltage (Vcom) is supplied to the common electrode 16 from a common electrode drive circuit (not shown). The common electrode 16 overlaps the pixel electrode 15 with the insulating film 104 interposed therebetween, and an opening (slit) is formed in the pixel electrode 15. Thereby, the liquid crystal 301 is driven by the electric field from the pixel electrode 15 through the liquid crystal layer 300 to the common electrode 16 through the opening of the pixel electrode 15. An image is displayed by driving the liquid crystal 301 and controlling the transmittance of light transmitted through the liquid crystal layer 300. In the case of performing color display, the data line 11 connected to the pixel electrode 15 of each pixel 14 corresponding to the red portion, the green portion, the blue portion, etc. formed by the vertical stripe color filter is connected to a desired line. This is realized by supplying a data voltage. The driving method of the liquid crystal display device 1 is not limited to the above method, and a known method can be applied.
図5は、液晶表示装置1の概略構成を示す平面図である。図5では、TFT基板100と、CF基板200と、両基板を貼り合わせるためのシール部60とを示し、他の構成部材は省略している。シール部60は、画像を表示する表示領域の周囲を囲うように枠状に形成されている。シール部60は、例えば光硬化性の樹脂材料から成り、光(例えば紫外線)を照射することによって硬化する。TFT基板100及びCF基板200の間にシール部60を介在させてシール部60を硬化させることにより、TFT基板100及びCF基板200を貼り合わせて固定する。シール部60の内側のTFT基板100及びCF基板200の間には液晶が注入されて封止される。なお、シール部60の内側に液晶を注入するための開口部が、シール部60に設けられていてもよい。 FIG. 5 is a plan view showing a schematic configuration of the liquid crystal display device 1. In FIG. 5, the TFT substrate 100, the CF substrate 200, and the seal portion 60 for bonding the two substrates are shown, and other components are omitted. The seal part 60 is formed in a frame shape so as to surround the periphery of the display area for displaying an image. The seal portion 60 is made of, for example, a photocurable resin material, and is cured by irradiating light (for example, ultraviolet rays). The seal part 60 is interposed between the TFT substrate 100 and the CF substrate 200 to cure the seal part 60, whereby the TFT substrate 100 and the CF substrate 200 are bonded and fixed. Liquid crystal is injected and sealed between the TFT substrate 100 and the CF substrate 200 inside the seal portion 60. In addition, an opening for injecting liquid crystal inside the seal portion 60 may be provided in the seal portion 60.
具体的には図5に示すように、シール部60は、液晶表示装置1の曲げ方向に直交する方向に延在する第1シール部61及び第2シール部62と、液晶表示装置1の曲げ方向に平行する方向に延在する第3シール部63及び第4シール部64とを含んで、枠状に形成されている。第1シール部61及び第2シール部62の幅W1は、第3シール部63及び第4シール部64の幅W2よりも大きくなっている。液晶表示装置1の曲げ方向は、図5に示すように行方向であってもよいし、図6に示すように列方向であってもよい。第1シール部61の幅W1と第2シール部62の幅W1とは、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。また第3シール部63の幅W2と第4シール部64の幅W2とは、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。 Specifically, as shown in FIG. 5, the seal portion 60 includes a first seal portion 61 and a second seal portion 62 extending in a direction orthogonal to the bending direction of the liquid crystal display device 1, and the bending of the liquid crystal display device 1. The third seal portion 63 and the fourth seal portion 64 that extend in a direction parallel to the direction are formed in a frame shape. The width W1 of the first seal portion 61 and the second seal portion 62 is larger than the width W2 of the third seal portion 63 and the fourth seal portion 64. The bending direction of the liquid crystal display device 1 may be a row direction as shown in FIG. 5 or a column direction as shown in FIG. The width W1 of the first seal portion 61 and the width W1 of the second seal portion 62 may be the same as or different from each other. Further, the width W2 of the third seal portion 63 and the width W2 of the fourth seal portion 64 may be the same or different from each other.
図7は、図5に示す液晶表示装置1のC−C断面図である。図7に示す液晶表示装置1は、表示面側が凸状となり、行方向に曲げられた曲面状の外形を有している。例えば、液晶表示装置1は、背面側に曲率中心を取り、曲率半径が500mmの形状を有している。なお、液晶表示装置1は、背面側が凸状となるように湾曲した曲面状の外形を有していてもよい。また、曲率半径の具体的な数値は限定されない。シール部60は、例えば、TFT基板100の配向膜105とCF基板200の配向膜205との間に配置される。 7 is a cross-sectional view taken along the line CC of the liquid crystal display device 1 shown in FIG. The liquid crystal display device 1 shown in FIG. 7 has a curved outer shape that is convex in the display surface side and bent in the row direction. For example, the liquid crystal display device 1 has a shape with a center of curvature on the back side and a radius of curvature of 500 mm. The liquid crystal display device 1 may have a curved outer shape that is curved so that the back side is convex. Moreover, the specific numerical value of a curvature radius is not limited. For example, the seal portion 60 is disposed between the alignment film 105 of the TFT substrate 100 and the alignment film 205 of the CF substrate 200.
次に、表示画面の四隅付近に生じる光漏れについて検証した結果を以下に示す。 Next, the results of verifying light leakage that occurs near the four corners of the display screen are shown below.
図8は、比較例に係る液晶表示装置において、第1シール部61及び第2シール部62の幅W1と、第3シール部63及び第4シール部64の幅W2とが互いに同一である場合の光の透過率分布を示している。図8(b)には、シール部60の幅をW1=W2=0.8mmとし、曲率半径を500mmに設定して行方向に曲げた液晶表示装置において、表示画面の中央から表示画面の右上の領域における光の透過率を測定した結果を示している。図8(b)に示すように、表示画面の中央から141mmの付近をピークとして、その周辺領域において透過率が高くなっていることが分かる。なお、透過率のピーク値は0.002568であり、透過率が0.0005以上となる領域が144mm2であった。すなわち、上記領域において光漏れが多く生じていることが分かる。 FIG. 8 illustrates a case where the width W1 of the first seal portion 61 and the second seal portion 62 and the width W2 of the third seal portion 63 and the fourth seal portion 64 are the same in the liquid crystal display device according to the comparative example. The light transmittance distribution is shown. FIG. 8B shows a liquid crystal display device in which the width of the seal portion 60 is set to W1 = W2 = 0.8 mm, the curvature radius is set to 500 mm, and bent in the row direction, from the center of the display screen to the upper right of the display screen. The result of having measured the transmittance | permeability of the light in the area | region is shown. As shown in FIG. 8B, it can be seen that the transmittance is high in the peripheral region with a peak at about 141 mm from the center of the display screen. The peak value of the transmittance was 0.002568, and the region where the transmittance was 0.0005 or more was 144 mm 2 . That is, it can be seen that a large amount of light leakage occurs in the region.
図9(b)は、上記比較例に係る液晶表示装置を曲げたときのTFT基板とCF基板とのズレ量(T/Cズレ量)を測定した結果を示すグラフである。図9(a)、(b)に示すように、透過率(光漏れ量)が高い領域では、T/Cズレ量が大きいことが分かる。さらに、図10(a)、(b)は、上記比較例に係る液晶表示装置を構成するTFTガラス基板及びCFガラス基板のXY平面における応力分布を示す図である。図10(a)、(b)に示すように、透過率(光漏れ量)が高くT/Cズレ量が大きい領域では、応力が大きいことが分かる。これらのことから、シール部の幅、特には液晶表示装置の曲げ方向に直交する方向に延在するシール部の幅W1(図8(a)参照)が小さい場合は、T/Cズレ量が大きくなり(図9(b)参照)、T/Cズレ量が大きい領域に応力が集中し(図10参照)、この応力変化に起因して生じる位相差の影響により光の透過率(光漏れ量)が高くなることが推察される。 FIG. 9B is a graph showing a result of measuring a deviation amount (T / C deviation amount) between the TFT substrate and the CF substrate when the liquid crystal display device according to the comparative example is bent. As shown in FIGS. 9A and 9B, it can be seen that the T / C deviation amount is large in the region where the transmittance (light leakage amount) is high. Further, FIGS. 10A and 10B are diagrams showing stress distributions on the XY plane of the TFT glass substrate and the CF glass substrate constituting the liquid crystal display device according to the comparative example. As shown in FIGS. 10A and 10B, it can be seen that the stress is large in the region where the transmittance (light leakage amount) is high and the T / C deviation amount is large. For these reasons, when the width of the seal portion, in particular, the width W1 of the seal portion extending in the direction orthogonal to the bending direction of the liquid crystal display device (see FIG. 8A) is small, the T / C deviation amount is small. The stress is concentrated in a region where the amount of T / C deviation is large (see FIG. 10), and the light transmittance (light leakage due to the influence of the phase difference caused by the stress change is increased. It is inferred that the amount is high.
上記の推察に基づき、本実施形態に係る液晶表示装置1では、液晶表示装置1の曲げ方向に直交する方向に延在するシール部(第1シール部61及び第2シール部62)の幅W1が、上記曲げ方向に平行する方向に延在するシール部(第3シール部63及び第4シール部64)の幅W2よりも大きい構成を有している。 Based on the above inference, in the liquid crystal display device 1 according to the present embodiment, the width W1 of the seal portions (the first seal portion 61 and the second seal portion 62) extending in the direction orthogonal to the bending direction of the liquid crystal display device 1. However, it has the structure larger than the width | variety W2 of the seal | sticker part (the 3rd seal | sticker part 63 and the 4th seal | sticker part 64) extended in the direction parallel to the said bending direction.
図11は、本実施形態に係る液晶表示装置1において、第1シール部61及び第2シール部62の幅W1が、第3シール部63及び第4シール部64の幅W2より大きい場合の光の透過率分布を示している。図11(b)には、第1シール部61及び第2シール部62の幅をW1=3.0mm、第3シール部63及び第4シール部64の幅をW2=0.8mmとし、曲率半径を500mmに設定して行方向に曲げた液晶表示装置1において、表示画面の中央から表示画面の右上の領域における光の透過率を測定した結果を示している。ここでは、透過率のピーク値は0.001702であり、透過率が0.0005以上となる領域が51mm2であった。図11(b)に示すように、表示画面の中央から141mmの付近において、透過率が、比較例に係る液晶表示装置の場合(図8(b))と比べて低くなっていることが分かる。すなわち、上記領域において光漏れ量が減少していることが分かる。 FIG. 11 shows the light when the width W1 of the first seal portion 61 and the second seal portion 62 is larger than the width W2 of the third seal portion 63 and the fourth seal portion 64 in the liquid crystal display device 1 according to the present embodiment. The transmittance distribution is shown. In FIG. 11B, the width of the first seal portion 61 and the second seal portion 62 is W1 = 3.0 mm, the width of the third seal portion 63 and the fourth seal portion 64 is W2 = 0.8 mm, and the curvature is In the liquid crystal display device 1 in which the radius is set to 500 mm and bent in the row direction, the result of measuring the light transmittance from the center of the display screen to the upper right region of the display screen is shown. Here, the peak value of the transmittance was 0.001702, and the region where the transmittance was 0.0005 or more was 51 mm 2 . As shown in FIG. 11B, it can be seen that the transmittance is lower in the vicinity of 141 mm from the center of the display screen than in the case of the liquid crystal display device according to the comparative example (FIG. 8B). . That is, it can be seen that the amount of light leakage is reduced in the region.
図12は、第1シール部61及び第2シール部62の幅W1が、0.8mm(比較例に係る液晶表示装置)の場合と、3.0mm(本実施形態に係る液晶表示装置1)の場合のT/Cズレ量を比較したグラフである。図12に示すように、W1=3.0mmの方が基板の全領域に亘ってT/Cズレ量が小さいことが分かる。さらに、図13(a)、(b)は、本実施形態に係る液晶表示装置1を構成するTFTガラス基板及びCFガラス基板のXY平面における応力分布を示す図である。図13(a)、(b)に示すように、W1=3.0mmの方が、W1=0.8mmの場合(比較例に係る液晶表示装置)(図10参照)と比べて、応力が小さいことが分かる。 In FIG. 12, the width W1 of the first seal portion 61 and the second seal portion 62 is 0.8 mm (liquid crystal display device according to a comparative example), and 3.0 mm (liquid crystal display device 1 according to the present embodiment). It is the graph which compared the amount of T / C shift | offset | difference in the case of. As shown in FIG. 12, it can be seen that when W1 = 3.0 mm, the T / C shift amount is smaller over the entire region of the substrate. Further, FIGS. 13A and 13B are diagrams showing stress distributions in the XY plane of the TFT glass substrate and the CF glass substrate constituting the liquid crystal display device 1 according to the present embodiment. As shown in FIGS. 13A and 13B, W1 = 3.0 mm is more stressed than W1 = 0.8 mm (the liquid crystal display device according to the comparative example) (see FIG. 10). I understand that it is small.
以上のことから、液晶表示装置の曲げ方向に直交する方向に延在するシール部の幅W1を大きくする、例えば幅W1を上記曲げ方向に平行する方向に延在するシール部の幅W2よりも大きくすることにより(W1>W2)、T/Cズレ量が小さくなり(図12(b)参照)、ガラス基板における応力が分散し応力集中が生じ難くなるため(図13参照)、光の透過率(光漏れ量)が低くなることが推察される。よって、本実施形態に係る液晶表示装置1によれば、表示画面の四隅付近に生じる光漏れを低減することができる。なお、液晶表示装置1において、第3シール部63及び第4シール部64の幅W2は0.7mm〜1.1mmであることが好ましい。また、第1シール部61及び第2シール部62の幅W1は、幅W2の1.1〜5.0倍であることが好ましい。 From the above, the width W1 of the seal portion extending in the direction orthogonal to the bending direction of the liquid crystal display device is increased. For example, the width W1 is larger than the width W2 of the seal portion extending in the direction parallel to the bending direction. By enlarging (W1> W2), the amount of T / C deviation is reduced (see FIG. 12B), stress in the glass substrate is dispersed and stress concentration is difficult to occur (see FIG. 13). It is presumed that the rate (light leakage amount) becomes low. Therefore, according to the liquid crystal display device 1 according to the present embodiment, light leakage that occurs in the vicinity of the four corners of the display screen can be reduced. In the liquid crystal display device 1, the width W2 of the third seal portion 63 and the fourth seal portion 64 is preferably 0.7 mm to 1.1 mm. Further, the width W1 of the first seal portion 61 and the second seal portion 62 is preferably 1.1 to 5.0 times the width W2.
次に、本実施形態に係る液晶表示装置1の製造方法について説明する。液晶表示装置1の製造工程には、TFT基板製造工程、CF基板製造工程、基板貼り合せ工程、偏光板貼り付け工程、曲げ工程、液晶注入工程が含まれる。 Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 1 according to the present embodiment will be described. The manufacturing process of the liquid crystal display device 1 includes a TFT substrate manufacturing process, a CF substrate manufacturing process, a substrate bonding process, a polarizing plate bonding process, a bending process, and a liquid crystal injection process.
TFT基板製造工程では、横電界方式(IPS方式)の構成を実現するための周知の工程を適用することができる。例えば、ガラス基板101の第1面上に、ゲート線12となる金属材料をスパッタにより成膜してホトエッチング工程でパターン化する。これにより、平面パターンとしてゲート線12が形成される。次に、化学気層成長法CVDにより、ゲート線12を覆うように絶縁膜102を積層し、絶縁膜102上に半導体層21を積層する。さらに半導体層21上に、データ線11となる金属材料をスパッタで成膜する。データ線11とソース電極23とをハーフトーン露光を用いて同時に形成する。次に、データ線11とソース電極23とを覆うように、CVDにより絶縁膜103を積層する。次に、絶縁膜103上にITOを成膜した後、ホトエッチング加工により共通電極16を形成する。次に、共通電極16を覆うように、CVDにより絶縁膜104を形成する。また、絶縁膜103及び絶縁膜104をドライエッチング加工して、ソース電極23に達するスルーホール24を形成する。絶縁膜104上及びスルーホール24内に、スパッタによりITOを成膜した後、ホトエッチング加工により画素電極15を形成する。画素電極15は、スリットを有するパターンに加工する。画素電極15の一部は、ソース電極23上に直接成膜する。これにより、画素電極15とソース電極23とが電気的に接続される。 In the TFT substrate manufacturing process, a well-known process for realizing a configuration of a lateral electric field system (IPS system) can be applied. For example, a metal material to be the gate line 12 is formed on the first surface of the glass substrate 101 by sputtering and patterned by a photoetching process. Thereby, the gate line 12 is formed as a planar pattern. Next, the insulating film 102 is stacked so as to cover the gate line 12 by chemical vapor deposition CVD, and the semiconductor layer 21 is stacked on the insulating film 102. Further, a metal material to be the data line 11 is formed on the semiconductor layer 21 by sputtering. The data line 11 and the source electrode 23 are simultaneously formed using halftone exposure. Next, an insulating film 103 is laminated by CVD so as to cover the data line 11 and the source electrode 23. Next, after depositing ITO on the insulating film 103, the common electrode 16 is formed by photo-etching. Next, an insulating film 104 is formed by CVD so as to cover the common electrode 16. Further, the insulating film 103 and the insulating film 104 are dry-etched to form a through hole 24 that reaches the source electrode 23. After the ITO film is formed on the insulating film 104 and in the through hole 24 by sputtering, the pixel electrode 15 is formed by photoetching. The pixel electrode 15 is processed into a pattern having a slit. A part of the pixel electrode 15 is directly formed on the source electrode 23. Thereby, the pixel electrode 15 and the source electrode 23 are electrically connected.
CF基板製造工程では、例えば、ガラス基板201の第1面上に、カラーフィルタ202とブラックマトリクス203とを形成する。 In the CF substrate manufacturing process, for example, the color filter 202 and the black matrix 203 are formed on the first surface of the glass substrate 201.
基板貼り合せ工程では、TFT基板製造工程において製造されたTFT基板100にシール材(シール部60)を塗布する工程と、液晶材料を滴下するODF工程と、シール材が塗布されたTFT基板100に、CF基板製造工程において製造されたCF基板200を位置合わせして貼り合わせる工程と、シール材に光を照射して硬化させる工程とを行う。 In the substrate bonding step, a step of applying a sealing material (sealing part 60) to the TFT substrate 100 manufactured in the TFT substrate manufacturing step, an ODF step of dropping a liquid crystal material, and a TFT substrate 100 coated with the sealing material The CF substrate 200 manufactured in the CF substrate manufacturing process is aligned and bonded, and the sealing material is irradiated with light and cured.
ここで、シール材を塗布する工程では、液晶表示装置1の曲げ方向に直交する方向に延在するシール材(第1シール部61及び第2シール部62)を塗布するときの塗布速度を、上記曲げ方向に平行する方向に延在するシール材(第3シール部63及び第4シール部64)を塗布するときの塗布速度よりも遅くする。また、シール材を塗布する他の方法として、液晶表示装置1の曲げ方向に直交する方向に延在するシール材(第1シール部61及び第2シール部62)を塗布するときの塗布回数を、上記曲げ方向に平行する方向に延在するシール材(第3シール部63及び第4シール部64)を塗布するときの塗布回数よりも多くする。これにより、第1シール部61及び第2シール部62の幅W1を、第3シール部63及び第4シール部64の幅W2よりも大きくすることができる。なおシール材を塗布する方法は、上記方法に限定されず、W1>W2を満たすようにシール材を塗布すればよい。 Here, in the step of applying the sealing material, the application speed when applying the sealing material (the first seal portion 61 and the second seal portion 62) extending in the direction orthogonal to the bending direction of the liquid crystal display device 1 is as follows. The coating speed is slower than the coating speed when the sealing material (the third seal portion 63 and the fourth seal portion 64) extending in the direction parallel to the bending direction is applied. As another method of applying the sealing material, the number of times of application when applying the sealing material (the first seal portion 61 and the second seal portion 62) extending in the direction orthogonal to the bending direction of the liquid crystal display device 1 is set. The number of times of application is larger than the number of times of application of the sealing material (the third seal part 63 and the fourth seal part 64) extending in a direction parallel to the bending direction. Accordingly, the width W1 of the first seal portion 61 and the second seal portion 62 can be made larger than the width W2 of the third seal portion 63 and the fourth seal portion 64. Note that the method for applying the sealing material is not limited to the above method, and the sealing material may be applied so as to satisfy W1> W2.
偏光板貼り付け工程では、ガラス基板101の第1面とは反対側の第2面上に偏光板106を貼り付けるとともに、ガラス基板201の第1面とは反対側の第2面上に偏光板206を貼り付ける。 In the polarizing plate attaching step, the polarizing plate 106 is attached on the second surface opposite to the first surface of the glass substrate 101, and the polarized light is applied on the second surface opposite to the first surface of the glass substrate 201. A plate 206 is pasted.
曲げ工程では、貼り合わされたTFT基板100及びCF基板200を所望の一軸方向(例えば行方向又は列方向)に曲げる。曲げ方法は、限定されず、治具を用いてもよいし、熱収縮フィルムを用いてもよい。 In the bending step, the bonded TFT substrate 100 and CF substrate 200 are bent in a desired uniaxial direction (for example, a row direction or a column direction). The bending method is not limited, and a jig may be used or a heat shrink film may be used.
その後、バックライト装置等の組立工程、検査工程等を経て、液晶表示装置1が完成する。 Thereafter, the liquid crystal display device 1 is completed through an assembly process and an inspection process of the backlight device and the like.
以上の説明では、横電界方式(IPS方式)の液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限定されない。上述したシール部60の構成及びシール部60の塗布方法は、横電界方式以外の液晶表示装置や有機EL表示装置等の各種の表示装置に適用することもできる。 In the above description, a horizontal electric field type (IPS type) liquid crystal display device is taken as an example, but the present invention is not limited to this. The configuration of the seal portion 60 and the application method of the seal portion 60 described above can also be applied to various display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices other than the lateral electric field method.
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で上記各実施形態から当業者が適宜変更した形態も本発明の技術的範囲に含まれることは言うまでもない。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to said each embodiment, The form suitably changed by those skilled in the art from said each embodiment within the range which does not deviate from the meaning of this invention. Needless to say, it is included in the technical scope of the present invention.
1 液晶表示装置、10 表示パネル、20 データ線駆動回路、30 ゲート線駆動回路、40 制御回路、50 バックライト装置、60 シール部、61 第1シール部、62 第2シール部、63 第3シール部、64 第4シール部、11 データ線、12 ゲート線、13 薄膜トランジスタ、14 画素、15 画素電極、16 共通電極、100 薄膜トランジスタ基板、101 ガラス基板、106 偏光板、200 カラーフィルタ基板、201 ガラス基板、206 偏光板、300 液晶層。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Liquid crystal display device, 10 Display panel, 20 Data line drive circuit, 30 Gate line drive circuit, 40 Control circuit, 50 Backlight apparatus, 60 Seal part, 61 1st seal part, 62 2nd seal part, 63 3rd seal Part, 64 4th seal part, 11 data line, 12 gate line, 13 thin film transistor, 14 pixel, 15 pixel electrode, 16 common electrode, 100 thin film transistor substrate, 101 glass substrate, 106 polarizing plate, 200 color filter substrate, 201 glass substrate , 206 Polarizing plate, 300 Liquid crystal layer.
Claims (7)
第1方向に曲げられた第1基板と、
前記第1方向に曲げられ、前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせるシール部と、を含み、
前記シール部は、前記第1方向に直交する第2方向に延在する第1シール部と、前記第1方向に延在する第2シール部とを含み、
前記第1シール部の前記第1方向の幅は、前記第2シール部の前記第2方向の幅よりも大きい、
ことを特徴とする表示装置。 A display device having a curved display surface,
A first substrate bent in a first direction;
A second substrate bent in the first direction and disposed opposite to the first substrate;
A seal portion for bonding the first substrate and the second substrate;
The seal portion includes a first seal portion extending in a second direction orthogonal to the first direction, and a second seal portion extending in the first direction,
A width of the first seal portion in the first direction is larger than a width of the second seal portion in the second direction;
A display device characterized by that.
ことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 The width of the first seal portion in the first direction is 1.1 to 5.0 times the width of the second seal portion in the second direction.
The display device according to claim 1.
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせるシール部を含み、
前記シール部は、前記第1方向に直交する第2方向に延在する第1シール部と、前記第1方向に延在する第2シール部とを含み、
前記第1シール部の前記第1方向の幅は、前記第2シール部の前記第2方向の幅よりも大きい、
ことを特徴とする液晶表示装置。 A first substrate bent in a first direction; a second substrate bent in the first direction and disposed opposite to the first substrate; and a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate A horizontal electric field type liquid crystal display device that has a curved display surface and applies an electric field substantially parallel to the first substrate and the second substrate to the liquid crystal layer,
A seal portion for bonding the first substrate and the second substrate;
The seal portion includes a first seal portion extending in a second direction orthogonal to the first direction, and a second seal portion extending in the first direction,
A width of the first seal portion in the first direction is larger than a width of the second seal portion in the second direction;
A liquid crystal display device characterized by the above.
ことを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。 The width of the first seal portion in the first direction is 1.1 to 5.0 times the width of the second seal portion in the second direction.
The liquid crystal display device according to claim 3.
第2基板を製造する工程と、
前記第1基板にシール材を塗布する工程と、
前記シール材が塗布された前記第1基板に前記第2基板を貼り合せる工程と、
前記シール材を硬化させる工程と、
前記第1基板及び前記第2基板を第1方向に曲げる工程と、
を含み、
前記シール材を塗布する工程では、前記第1方向に直交する第2方向に塗布する第1シール材の前記第1方向の幅が、前記第1方向に塗布する第2シール材の前記第2方向の幅よりも大きくなるように、前記シール材を塗布する、
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 Manufacturing a first substrate;
Manufacturing a second substrate;
Applying a sealing material to the first substrate;
Bonding the second substrate to the first substrate coated with the sealing material;
Curing the sealing material;
Bending the first substrate and the second substrate in a first direction;
Including
In the step of applying the sealing material, the width of the first direction of the first sealing material applied in the second direction orthogonal to the first direction is the second width of the second sealing material applied in the first direction. Apply the sealing material to be larger than the width in the direction,
A manufacturing method of a display device characterized by the above.
ことを特徴とする請求項5に記載の表示装置の製造方法。 In the step of applying the sealing material, the application speed when applying the first sealing material is slower than the application speed when applying the second sealing material.
The method for manufacturing a display device according to claim 5.
ことを特徴とする請求項5に記載の表示装置の製造方法。 In the step of applying the sealing material, the number of times of application when applying the first sealing material is made larger than the number of times of application when applying the second sealing material.
The method for manufacturing a display device according to claim 5.
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