JP2017171557A - cover glass - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はカバーガラスに関し、特に、カバーガラスの側面の強度も向上したカバーガラスに関する。 The present invention relates to a cover glass, and more particularly, to a cover glass having improved side glass strength.
デジタルカメラ、携帯電話または携帯情報端末ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）等のフラットパネルディスプレイ装置やタッチパネルディスプレイ装置において、ディスプレイの保護および美観を高めるために、画像表示部分よりも広い領域となるように薄い板状のカバーガラスをディスプレイの前面に配置することが行われている。ガラスは理論強度が高いものの、傷が付くことで強度が大幅に低下するため、強度が求められるカバーガラスには、イオン交換等によりガラス表裏面に圧縮応力層を形成した化学強化ガラスが用いられている。 In a flat panel display device or a touch panel display device such as a digital camera, a mobile phone, or a personal digital assistant PDA (Personal Digital Assistants), a thin plate that has a wider area than the image display portion in order to enhance display protection and aesthetics. A glass cover glass is placed on the front of the display. Although the glass has a high theoretical strength, the strength is greatly reduced by scratching. Therefore, a chemically strengthened glass with a compressive stress layer formed on the front and back surfaces of the glass by ion exchange is used for the cover glass that requires strength. ing.
カバーガラスの表面に高い硬度や耐傷性が求められる場合、耐衝撃性を有する層がその最表層に成膜されることがある。例えば、強化ガラスの表面に非対称耐衝撃性を有するコーティングを備えた強化ガラス積層体が知られている（特許文献１）。 When high hardness and scratch resistance are required on the surface of the cover glass, a layer having impact resistance may be formed on the outermost layer. For example, a tempered glass laminate having a coating having asymmetric impact resistance on the surface of tempered glass is known (Patent Document 1).
特許文献１に記載の強化ガラス積層体は自動車又は航空機の窓への応用を想定しており、厚いガラス板が用いられ、主面が強化されていればよい。一方で、携帯電話または携帯情報端末ＰＤＡといった電子端末用のカバーガラスや、車載表示装置用のカバーガラスにおいては、近年、電子端末や表示装置の筐体よりも前面にはみ出し、端部に曲面加工がなされた、２．５Ｄタイプや擬似３Ｄタイプ、３Ｄタイプ等と呼ばれる形状のカバーガラスが上市されている。該カバーガラスは平坦部のみならず、その外周縁にある側面部も表面に露出している。そのため、該側面部も平坦部と同様に強化処理がなされる必要がある。
The tempered glass laminate described in
しかしながら、強度向上のためのコーティングは従来スパッタリングによって形成されることが一般的であり、該スパッタリングはガラス板主面に対して正面方向にターゲット材料が位置する。そのため、ターゲット粒子のガラス板への堆積方向はガラス板の主面に対して垂直となり、側面部の端部（末端）まで覆われるようにコーティングすることはできなかった。そのため、コーティングされなかったガラス板の側面部の端部における強度が低く、例えば電子端末や表示装置を落とした場合に、強度の低い当該箇所を起点に破損することが多い。
また、当該コーティングの厚みの違いにより、該カバーガラスへの映り込みが発生する場合があった。
However, the coating for improving the strength is generally formed by sputtering conventionally, and the target material is located in the front direction with respect to the main surface of the glass plate. For this reason, the deposition direction of the target particles on the glass plate is perpendicular to the main surface of the glass plate, and the coating cannot be performed so as to cover the end portion (terminal end) of the side surface portion. Therefore, the strength at the end portion of the side surface of the uncoated glass plate is low. For example, when an electronic terminal or a display device is dropped, the glass plate is often damaged starting from the low strength portion.
In addition, reflection on the cover glass may occur due to a difference in thickness of the coating.
そこで本発明では、平坦部のみならず、平坦部の外周縁に設けられた側面部の端部（末端）の強度にも優れたカバーガラスであって、かつ映りこみの少ない低反射のアンチグレア膜となる無機膜が積層されたカバーガラスを提供することを目的とする。 Therefore, in the present invention, a low-reflection anti-glare film that is excellent in the strength of not only the flat portion but also the end portion (terminal end) of the side surface portion provided on the outer peripheral edge of the flat portion and that is less reflected. An object of the present invention is to provide a cover glass having an inorganic film laminated thereon.
本発明者らは鋭意研鑽を積んだ結果、カバーガラスの平坦部の全面と平坦部の外周縁に設けられた側面部の表面側から裏面側にかけて連続的に無機膜を積層し、かつ前記無機膜の膜厚を一定にすることにより、平坦部のみならず、側面部の端部（末端）の強度にも優れ、かつ映りこみの少ない低反射カバーガラスが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of earnest study, the present inventors continuously laminated an inorganic film from the front side to the back side of the side part provided on the entire surface of the flat part of the cover glass and the outer peripheral edge of the flat part, and the inorganic By making the film thickness constant, the present inventors have found that a low-reflective cover glass having excellent strength at the end (terminal) of the side surface as well as the flat portion and less reflection is obtained. It came to be completed.
すなわち、本発明は下記＜１＞〜＜７＞に関するものである。
＜１＞
平坦部及び前記平坦部の外周縁に設けられた側面部を有するガラス板と、前記ガラス板に積層された無機物からなる無機膜とを含むカバーガラスであって、
前記無機膜は、前記ガラス板の前記平坦部の表面側の全面に積層され、かつ、前記側面部の少なくとも一部の領域において表面側から裏面側にかけて連続的に積層されており、
前記無機膜の膜厚が一定である、カバーガラス。
＜２＞
前記側面部が面取りされた形状である、前記＜１＞に記載のカバーガラス。
＜３＞
前記側面部が裏面側に湾曲している、前記＜１＞に記載のカバーガラス。
＜４＞
前記無機膜がＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｔａ及びＺｒからなる群より選ばれる少なくとも１の窒化物又は酸化物からなる膜である、前記＜１＞〜＜３＞のいずれか１に記載のカバーガラス。
＜５＞
前記ガラス板が表層に圧縮応力層を有する化学強化ガラス板である、前記＜１＞〜＜４＞のいずれか１に記載のカバーガラス。
＜６＞
電子端末用である、前記＜１＞〜＜５＞のいずれか１に記載のカバーガラス。
＜７＞
車載表示装置用である、前記＜１＞〜＜５＞のいずれか１に記載のカバーガラス。
That is, the present invention relates to the following <1> to <7>.
<1>
A cover glass comprising a flat plate and a glass plate having a side surface provided on the outer periphery of the flat portion, and an inorganic film made of an inorganic material laminated on the glass plate,
The inorganic film is laminated on the entire surface side of the flat portion of the glass plate, and continuously laminated from the surface side to the back surface side in at least a part of the side surface portion,
A cover glass in which the film thickness of the inorganic film is constant.
<2>
The cover glass according to <1>, wherein the side surface has a chamfered shape.
<3>
The cover glass according to <1>, wherein the side surface portion is curved on the back surface side.
<4>
The cover glass according to any one of <1> to <3>, wherein the inorganic film is a film made of at least one nitride or oxide selected from the group consisting of Si, Al, Ti, Ta, and Zr. .
<5>
The cover glass according to any one of <1> to <4>, wherein the glass plate is a chemically strengthened glass plate having a compressive stress layer as a surface layer.
<6>
The cover glass according to any one of <1> to <5>, which is for an electronic terminal.
<7>
The cover glass according to any one of the above <1> to <5>, which is for an in-vehicle display device.
本発明によれば、カバーガラスの平坦部のみならず、平坦部の外周縁に設けられた側面部の端部（末端）の強度も向上することができる。さらには映りこみの少ない低反射のカバーガラスとすることができる。そのため、電子端末や表示装置の筐体よりも前面にはみ出し、端部に曲面加工がなされた、２．５Ｄタイプや擬似３Ｄタイプ、３Ｄタイプ等と呼ばれる形状のカバーガラスとして用いた際、表面に露出している面の全面の強度に優れ、さらには映りこみの少ないアンチグレア効果を有するカバーガラスを提供することができる。 According to the present invention, not only the flat part of the cover glass but also the strength of the end part (terminal) of the side part provided on the outer peripheral edge of the flat part can be improved. Furthermore, it can be a low-reflection cover glass with little reflection. Therefore, when used as a cover glass with a shape called 2.5D type, pseudo 3D type, 3D type, etc., which protrudes from the front of the housing of the electronic terminal or display device and has a curved surface at the end. It is possible to provide a cover glass having an anti-glare effect that is excellent in the strength of the entire exposed surface and is less reflected.
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施することができる。
また本明細書において数値範囲を示す「〜」とは、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the following embodiments, and can be arbitrarily modified without departing from the gist of the present invention.
In the present specification, “to” indicating a numerical range is used in the sense of including the numerical values described before and after the numerical value as a lower limit value and an upper limit value.
＜カバーガラス＞
本発明に係るカバーガラスは、平坦部及び前記平坦部の外周縁に設けられた側面部を有するガラス板と、前記ガラス板に積層された無機物からなる無機膜とを含むカバーガラスであって、前記無機膜は、前記ガラス板の前記平坦部の表面側の全面に積層され、かつ、前記側面部の少なくとも一部の領域において表面側から裏面側にかけて連続的に積層されており、さらには前記無機膜の膜厚が一定であることを特徴とする。
なお本明細書では、筐体にカバーガラスが取り付けられた際に表面に露出する側を、「表面側」と称し、筐体側に位置する側を「裏面側」と称する。
<Cover glass>
The cover glass according to the present invention is a cover glass including a glass plate having a flat portion and a side surface portion provided on an outer periphery of the flat portion, and an inorganic film made of an inorganic material laminated on the glass plate, The inorganic film is laminated on the entire surface of the flat portion of the glass plate, and is continuously laminated from the front surface side to the back surface side in at least a part of the side surface portion. The inorganic film has a constant film thickness.
In this specification, the side exposed to the surface when the cover glass is attached to the housing is referred to as “front surface side”, and the side located on the housing side is referred to as “back surface side”.
例えばカバーガラスが面取りされていない矩形のガラス板からなる場合、本発明に係るカバーガラスは表面側の第１主面と裏面側の第２主面と４つの端面とを有し、第１主面の全面が無機膜で覆われ、さらに、４つの端面の少なくとも一部の領域において表面側から裏面側にかけて連続して無機膜で覆われている。この場合、平坦部とは第１主面及び第２主面を意味し、側面部とは４つの端面を意味する。 For example, when the cover glass is made of a rectangular glass plate that is not chamfered, the cover glass according to the present invention has a first main surface on the front surface side, a second main surface on the back surface side, and four end surfaces. The entire surface is covered with an inorganic film, and is further covered with an inorganic film continuously from the front surface side to the back surface side in at least some regions of the four end surfaces. In this case, a flat part means a 1st main surface and a 2nd main surface, and a side part means four end surfaces.
カバーガラスは、側面部が面取りされた形状、又は、側面部が裏面側に湾曲している形状が好ましい。
側面部が面取りされた形状のカバーガラス３としては、例えば図１に示すような曲面を有する形状（２．５Ｄタイプ）が挙げられる。この場合、「平坦部」とは、図１における上方の平坦部分である符号ａよりも中心側を意味し、「側面部」とは曲面部分である符号ａからｂにかけての領域を意味する。この側面部は、平坦部の表面側の外周縁に設けられる。矩形のカバーガラス３からなる場合、この側面部は４つ存在し、少なくとも一つの側面部が面取り加工されている。
その他、テーパー状や、曲線と直線の組合せにより面取りされた形状等が挙げられる。
The cover glass preferably has a shape in which the side surface portion is chamfered or a shape in which the side surface portion is curved toward the back surface side.
Examples of the
Other examples include a tapered shape and a chamfered shape by a combination of a curved line and a straight line.
側面部が裏面側に湾曲しているカバーガラス３とは、例えば図２に示すような形状（擬似３Ｄタイプ、３Ｄタイプ）が挙げられる。この場合、「平坦部」とは、図２における上方の平坦部分である符号ａよりも中心側を意味し、「側面部」とは曲面部分のうち、符号ａからｂにかけての領域を意味する。この側面部は、平坦部の表面側の外周縁に設けられる。矩形のカバーガラス３からなる場合、この側面部は４つ存在し、少なくとも一つの側面部が裏面側に湾曲加工されている。
また、図２において湾曲している曲面が、直角に曲がっていてもよい。
Examples of the
Further, the curved surface curved in FIG. 2 may be bent at a right angle.
（ガラス）
本発明に係るカバーガラスを構成するガラス板の厚さは、その用途から１ｍｍ以下が好ましく、０．８ｍｍ以下が好ましく、０．６ｍｍ以下がより好ましい。
また下限は０．２ｍｍ以上が好ましく、０．３ｍｍ以上がより好ましい。
(Glass)
The thickness of the glass plate constituting the cover glass according to the present invention is preferably 1 mm or less, preferably 0.8 mm or less, and more preferably 0.6 mm or less in view of its use.
The lower limit is preferably 0.2 mm or more, more preferably 0.3 mm or more.
ガラス板のガラスの種類は特に限定されないが、化学強化（イオン交換）処理を行い、表層に圧縮応力層を有する化学強化ガラス板とすることが好ましい。イオン交換を行う場合、ガラス板はリチウム及びナトリウムの少なくともいずれか一方を含むことが好ましく、ナトリウムを含むことがより好ましい。これは、化学強化処理におけるイオン交換する工程において、ガラスの表面をイオン交換し、圧縮応力が残留する表面層を形成させるためである。 Although the kind of glass of a glass plate is not specifically limited, It is preferable to set it as the chemically strengthened glass plate which performs a chemical strengthening (ion exchange) process and has a compression stress layer in the surface layer. When performing ion exchange, it is preferable that a glass plate contains at least any one of lithium and sodium, and it is more preferable that sodium is included. This is because, in the step of ion exchange in the chemical strengthening treatment, the surface of the glass is ion exchanged to form a surface layer in which compressive stress remains.
具体的には、ガラス転移点以下の温度でイオン交換によりガラス板表面のイオン半径が小さなアルカリ金属イオン（Ｌｉイオン、Ｎａイオン）をイオン半径のより大きいアルカリイオン（Ｎａイオン、Ｋイオン）に置換する。これにより、ガラスの表層に圧縮応力が残留し、ガラスの面強度が向上する。 Specifically, alkali metal ions (Li ions, Na ions) having a small ion radius on the glass plate surface are replaced with alkali ions (Na ions, K ions) having a larger ion radius by ion exchange at a temperature below the glass transition point. To do. Thereby, compressive stress remains in the surface layer of the glass, and the surface strength of the glass is improved.
ガラス板のガラス組成は特に限定されないが、例えばアルミシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラス又はソーダライムガラス等を好ましく用いることができる。
具体的なガラス組成を以下に示す。
Although the glass composition of a glass plate is not specifically limited, For example, an aluminum silicate glass, an aluminoborosilicate glass, a soda lime glass, etc. can be used preferably.
A specific glass composition is shown below.
（ｉ）モル％で表示した組成で、ＳｉＯ２を５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３を２〜２５％、Ｌｉ２Ｏを０〜１０％、Ｎａ２Ｏを０〜１８％、Ｋ２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜５％およびＺｒＯ２を０〜５％を含むガラス、
（ｉｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を５０〜７４％、Ａｌ２Ｏ３を１〜１０％、Ｎａ２Ｏを６〜１４％、Ｋ２Ｏを３〜１１％、ＭｇＯを２〜１５％、ＣａＯを０〜６％およびＺｒＯ２を０〜５％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７５％以下、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２〜２５％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が７〜１５％であるガラス、
（ｉｉｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６８〜８０％、Ａｌ２Ｏ３を４〜１０％、Ｎａ２Ｏを５〜１５％、Ｋ２Ｏを０〜１％、ＭｇＯを４〜１５％およびＺｒＯ２を０〜１％含有するガラス、
（ｉｖ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６７〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４％、Ｎａ２Ｏを７〜１５％、Ｋ２Ｏを１〜９％、ＭｇＯを６〜１４％およびＺｒＯ２を０〜１．５％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７１〜７５％、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２〜２０％であり、ＣａＯを含有する場合その含有量が１％未満であるガラス、
（ｖ）質量％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６５〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を０．１〜５％、ＭｇＯを１〜６％、ＣａＯを１〜１５％含有し、Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１０〜１８％であるガラス、
（ｖｉ）質量％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６５〜７２％、Ａｌ２Ｏ３を３．４〜８．６％、ＭｇＯを３．３〜６％、ＣａＯを６．５〜９％、Ｎａ２Ｏを１３〜１６％、Ｋ２Ｏを０〜１％、ＴｉＯ２を０〜０．２％、Ｆｅ２Ｏ３を０．０１〜０．１５％、ＳＯ３を０．０２〜０．４％含有し、（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ａｌ２Ｏ３が１．８〜５．０であるガラス、
（ｖｉｉ）質量％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６０〜７２％、Ａｌ２Ｏ３を１〜１０％、ＭｇＯを５〜１２％、ＣａＯを０．１〜５％、Ｎａ２Ｏを１３〜１９％、Ｋ２Ｏを０〜５％含有し、ＲＯ／（ＲＯ＋Ｒ２Ｏ）が０．２０以上、０．４２以下（式中、ＲＯとはアルカリ土類金属酸化物、Ｒ２Ｏはアルカリ金属酸化物を示す。）であるガラス。
(I) 50% to 80% of SiO 2 , 2 to 25% of Al 2 O 3 , 0 to 10% of Li 2 O, 0 to 18% of Na 2 O, K 2 O with a composition expressed in mol% 0 to 10%, MgO 0 to 15%, CaO 0 to 5% and ZrO 2 0 to 5% glass,
(Ii) The composition expressed in mol% is SiO 2 50-74%, Al 2 O 3 1-10%, Na 2 O 6-14%, K 2 O 3-11%,
(Iii) The composition expressed in mol% is SiO 2 68-80%, Al 2 O 3 4-10%, Na 2 O 5-15%, K 2 O 0-1%, MgO 4 15% and glass containing ZrO 2 0 to 1%,
Composition viewed in (iv) mol%, a SiO 2 67 to 75%, the Al 2 O 3 0~4%, 7~15 % of Na 2 O, 1 to 9% of K 2 O, MgO 6 14 to 15% and ZrO 2 to 0 to 1.5%, the total content of SiO 2 and Al 2 O 3 is 71 to 75%, the total content of Na 2 O and K 2 O is 12 to 20 %, A glass whose content is less than 1% when containing CaO,
(V) composition which in wt% of the SiO 2 65 to 75%, the Al 2 O 3 0.1 to 5%, the
Composition viewed in (vi) mass%, a SiO 2 65 to 72%, the Al 2 O 3 from 3.4 to 8.6%, the MgO from 3.3 to 6%, the CaO 6.5 to 9% Na 2 O 13-16%, K 2 O 0-1%, TiO 2 0-0.2%, Fe 2 O 3 0.01-0.15%, SO 3 0.02- 0.4% glass with (Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 of 1.8 to 5.0,
(Vii) 60% to 72% of SiO 2 , 1 to 10% of Al 2 O 3 , 5 to 12% of MgO, 0.1 to 5% of CaO, and 13 of Na 2 O are represented by mass%. -19%, 0 to 5% of K 2 O, RO / (RO + R 2 O) is 0.20 or more and 0.42 or less (wherein RO is an alkaline earth metal oxide, R 2 O is A glass which is an alkali metal oxide.
ガラス板の製造方法は特に限定されず、所望のガラス原料を連続溶融炉に投入し、ガラス原料を好ましくは１５００〜１６００℃で加熱溶融し、清澄した後、成形装置に供給した上で溶融ガラスを板状に成形し、徐冷することにより製造することができる。
図１に示すような側面部が面取りされた形状とする場合には、得られた板状のガラス板に対して、面取り機を用いて研磨すること、ブラシ研磨すること等により面取りすることができる。
図２に示すような、側面部が一方の側に湾曲している形状とする場合には、溶融ガラスを成形する際に、板状ではなく型に入れて成形、徐冷を行ってもよいし、研削機を用いて研削することにより成形してもよい。
The method for producing the glass plate is not particularly limited, and a desired glass raw material is charged into a continuous melting furnace, and the glass raw material is preferably heated and melted at 1500 to 1600 ° C., clarified, and then supplied to a molding apparatus. Can be produced by forming the plate into a plate shape and slowly cooling it.
In the case where the side portion as shown in FIG. 1 is chamfered, the obtained plate-like glass plate can be chamfered by polishing using a chamfering machine, brush polishing, or the like. it can.
In the case where the side surface portion is curved to one side as shown in FIG. 2, when forming the molten glass, it may be molded and gradually cooled in a mold instead of a plate shape. However, it may be formed by grinding using a grinder.
なお、ガラスの成形には種々の方法を採用することができる。例えば、ダウンドロー法（例えば、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウン法およびリドロー法等）、フロート法、ロールアウト法およびプレス法等の様々な成形方法を採用することができる。 Various methods can be employed for forming the glass. For example, various forming methods such as a down draw method (for example, an overflow down draw method, a slot down method and a redraw method), a float method, a roll-out method, and a press method can be employed.
（無機膜）
本発明に係るカバーガラス３は、図５及び図６に示すように、ガラス板１の平坦部の表面側の全面と、側面部の少なくとも一部の領域において表面側から裏面側にかけて（符号ａからｂにかけて）連続的に、一定の膜厚の無機物からなる無機膜２が積層されている。
「側面部の少なくとも一部の領域において表面側から裏面側にかけて連続的に無機膜２が積層されている」とは、無機膜２が表面側から裏面側に少なくとも一部の領域で途切れることなく、符号ａからｂにかけて形成されていることを意味する。よって、無機膜２が側面部の長手方向の総ての領域で形成されている必要は必ずしもない。もちろん、無機膜２は平坦部の外周縁のすべて（平面視矩形のガラス板１の場合は４つの端面のすべて）に形成されてもよいし、側面部の長手方向（外周縁に沿った方向）における一部に形成されてもよい。例えば、矩形のガラス板１において、４つの端面のうち１面、２面、又は３面のみの全面に形成されてもよい。また端面のうち１面の長手方向に沿った一部の領域に形成されてもよいが、その場合においても、無機膜２は該領域の符号ａからｂにかけて一定の膜厚で連続的に形成されている。
(Inorganic film)
As shown in FIGS. 5 and 6, the
“The
無機膜はカバーガラスを電子端末や表示装置等の筐体に取り付けた際に、該筐体よりも前面にはみ出して露出している面の全面が無機膜で覆われていることが好ましい。すなわち、平坦部の表面側と、平坦部の外周縁に設けられた側面部のすべての領域が露出する場合には、平坦部の表面側の全面と側面部の全面に、無機膜が積層されていることが好ましい。また、平坦部の表面側と、側面部の一部の領域が露出する場合には、平坦部の表面側の全面と側面部の該露出している領域の表面側から裏面側にかけて一定の膜厚で連続的に、無機膜が積層されていることが好ましい。
無機膜が積層されている部分の無機膜の膜厚は一定であり、それにより、アンチグレア効果を奏することができる。
When the cover film is attached to a housing such as an electronic terminal or a display device, it is preferable that the entire surface of the inorganic film that protrudes from the front surface and is exposed is covered with the inorganic film. That is, when all the regions of the surface portion of the flat portion and the side surface portion provided on the outer peripheral edge of the flat portion are exposed, the inorganic film is laminated on the entire surface side of the flat portion and the entire surface of the side surface portion. It is preferable. Further, when the surface side of the flat part and a part of the side part are exposed, a certain film is formed from the entire surface side of the flat part and the surface side to the back side of the exposed part of the side part. It is preferable that the inorganic films are laminated continuously in thickness.
The thickness of the inorganic film in the portion where the inorganic film is laminated is constant, so that an antiglare effect can be achieved.
無機物からなる膜としては、好ましくはＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｔａ及びＺｒからなる群より選ばれる１以上の窒化物又は酸化物からなる膜が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上を用いてもよく、また、無機膜は単層が積層されていても複数層が積層されていてもよい。
無機膜を積層することにより、該無機膜で積層された部分の耐擦傷性を向上し、強度を向上することができる。また、無機膜の組成によって、カバーガラスの反射率を低下させるなどの効果を付与することもできる。
カバーガラス表面に積層されている無機膜の有無は走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）でガラスの断面を観察することによって、確認することができる。
The film made of an inorganic material is preferably a film made of one or more nitrides or oxides selected from the group consisting of Si, Al, Ti, Ta, and Zr. These may be used alone or in combination of two or more. The inorganic film may be a single layer or a plurality of layers.
By laminating the inorganic film, the scratch resistance of the portion laminated with the inorganic film can be improved and the strength can be improved. Moreover, effects, such as reducing the reflectance of a cover glass, can also be provided with the composition of an inorganic film.
The presence or absence of the inorganic film laminated on the cover glass surface can be confirmed by observing the cross section of the glass with a scanning electron microscope (SEM).
カバーガラスの耐擦傷性の向上の観点から、窒化ケイ素（ＳｉＮＸ）がより好ましく用いられる。また、カバーガラスへの低反射性（アンチグレア効果）の付与の観点からは、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を含むことがより好ましい。窒化ケイ素からなる膜及び酸化ケイ素からなる膜が少なくとも１層ずつ積層された、複数層からなる無機膜であってもよい。 From the viewpoint of improving the scratch resistance of the cover glass, silicon nitride (SiN x ) is more preferably used. Further, from the viewpoint of imparting low reflectivity (antiglare effect) to the cover glass, it is more preferable to include silicon oxide (SiO 2 ). It may be an inorganic film composed of a plurality of layers in which a film made of silicon nitride and a film made of silicon oxide are laminated one by one.
無機膜は単層が積層された単膜であっても、複数層が積層された積層膜であってもよい。該膜の合計の厚みは４００〜３０００ｎｍが好ましい。４００ｎｍ以上とすることにより、優れた耐擦傷性を得ることができる。該膜の合計の厚みは８５０ｎｍ以上がより好ましく、１０００ｎｍ以上とすることがさらに好ましい。また、カバーガラスに求められる光透過率を得る観点から、２０００ｎｍ以下がより好ましい。 The inorganic film may be a single film in which a single layer is laminated or a laminated film in which a plurality of layers are laminated. The total thickness of the film is preferably 400 to 3000 nm. By setting the thickness to 400 nm or more, excellent scratch resistance can be obtained. The total thickness of the film is more preferably 850 nm or more, and further preferably 1000 nm or more. Moreover, 2000 nm or less is more preferable from a viewpoint of obtaining the light transmittance calculated | required by a cover glass.
複数層が積層された積層膜である場合、各層の厚みは５〜２５０ｎｍの膜が３層以上積層されることが好ましい。各層の厚みが２５０ｎｍ超であると、各層あたりの圧縮応力または引張応力が大きくなりカバーガラスに反りが生じやすくなる。一方、各層の厚みが２５０ｎｍ以下とすると、各層あたりの圧縮応力または引張応力が小さくなり、それら各層が複数積層されても、カバーガラスに反りが生じにくい。
また積層数はガラスの割れ抑制効果の点から２０層以上が好ましく、４０層以上がより好ましい。また積層膜の分布制御の点から１００層以下が好ましく、８０層以下がより好ましい。
なお、無機膜の厚みや単層ごとの厚みはＸ線反射率法（Ｘ−ｒａｙ−Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｒｙ：ＸＲＲ）によって測定した周期（Δθ）から求めることができる。簡易的には走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）でガラスの断面を観察することによって、層の厚みを確認することも可能である。
無機膜の組成はＸ線光電子分光法（Ｘ−ｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）により同定することができる。
In the case of a laminated film in which a plurality of layers are laminated, it is preferable that three or more films each having a thickness of 5 to 250 nm are laminated. When the thickness of each layer is more than 250 nm, the compressive stress or tensile stress per layer increases, and the cover glass tends to warp. On the other hand, if the thickness of each layer is 250 nm or less, the compressive stress or tensile stress per layer becomes small, and even if a plurality of these layers are laminated, the cover glass is unlikely to warp.
The number of laminated layers is preferably 20 layers or more, more preferably 40 layers or more from the viewpoint of the effect of suppressing the cracking of the glass. Moreover, 100 or less layers are preferable from the point of distribution control of laminated film, and 80 or less layers are more preferable.
Note that the thickness of the inorganic film and the thickness of each single layer can be obtained from the period (Δθ) measured by the X-ray reflectivity method (XRR). In a simple manner, the thickness of the layer can be confirmed by observing a cross section of the glass with a scanning electron microscope (SEM).
The composition of the inorganic film can be identified by X-ray photoelectron spectroscopy (X-ray Photoelectron Spectroscopy).
無機膜の成膜方法は特に制限されず、例えば静電コート法や後反応スパッタ法等を用いることができる。
静電コート法を行う際には、静電気を印加する（電場をかける）ことにより、無機膜を、ガラス板の側面部の端部（末端）にまで成膜し、かつ、塗布される無機膜の厚みを一定にすることができる。すなわち、図３又は図４に示した符号ａからｃ及び符号ｃからｂの領域についても、平坦部と同じ膜厚で無機膜を成膜することができる。また、前処理として大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理をしてもよい。
後反応スパッタ法では、無機膜を積層する際に、平坦部と側面部それぞれに対向する別々のターゲットを準備し、それぞれの成膜条件を別々に制御し、それぞれに調整可能な分布修正板を備えたスパッタリング装置を利用することにより、平坦部と側面部における無機膜の膜厚を均等にすることができる。
後反応スパッタ法や、静電コート法により、ガラス板１の側面部の表面側から裏面側にかけて連続的に、かつ、一定の膜厚で、無機膜２を積層することができるようになる。すなわち、平坦部及び側面部の符号ａからｂの領域全体に渡って、連続的かつ均等な膜厚で無機膜２を積層することができるようになる（図５及び図６参照。）。
The method for forming the inorganic film is not particularly limited, and for example, an electrostatic coating method or a post-reaction sputtering method can be used.
When performing the electrostatic coating method, an inorganic film is formed up to the end (terminal) of the side surface of the glass plate by applying static electricity (applying an electric field) and applied. The thickness can be made constant. That is, an inorganic film can be formed with the same film thickness as that of the flat portion in the regions a to c and c to b shown in FIG. Moreover, you may perform an atmospheric pressure plasma process and a corona discharge process as pre-processing.
In the post-reaction sputtering method, when laminating the inorganic film, prepare separate targets facing the flat part and the side part, control each film formation condition separately, and adjust the distribution correction plate that can be adjusted to each. By using the provided sputtering apparatus, the film thickness of the inorganic film in the flat part and the side part can be made uniform.
By the post-reaction sputtering method or the electrostatic coating method, the
無機膜として、例えば窒化ケイ素膜を成膜する場合には、シリコンターゲットとしてｐ−Ｓｉを用い、窒素雰囲気下でスパッタリングを行う。スパッタリングの成膜時間やスパッタ電力、ガス流量、基板温度等を変えることにより、得られる膜の膜厚や結晶構造、特性等が変化するので、適宜調整して最適な条件にて行う。 For example, when a silicon nitride film is formed as the inorganic film, p-Si is used as a silicon target and sputtering is performed in a nitrogen atmosphere. The film thickness, crystal structure, characteristics, and the like of the resulting film change by changing the sputtering film formation time, sputtering power, gas flow rate, substrate temperature, and the like, so that the conditions are adjusted appropriately and performed under optimum conditions.
＜カバーガラスの評価方法＞
本発明に係るカバーガラスは、フラットパネルディスプレイ装置やタッチパネルディスプレイ装置におけるカバーガラスに好適に用いることができる。特に携帯電話や携帯情報端末ＰＤＡといった電子端末用のカバーガラスや、車載表示装置用のカバーガラスにより好適に用いることができ、中でも筐体よりも前面にはみ出し、側面部の表面側から裏面側にかけて、すなわち、側面部の端部（末端）まで曲面加工がなされた、２．５Ｄタイプや擬似３Ｄタイプ、３Ｄタイプ等と呼ばれる形状のカバーガラスによりさらに好適に用いることができる。
<Evaluation method of cover glass>
The cover glass which concerns on this invention can be used suitably for the cover glass in a flat panel display apparatus or a touch panel display apparatus. In particular, it can be suitably used for a cover glass for an electronic terminal such as a mobile phone or a portable information terminal PDA, or a cover glass for an in-vehicle display device. That is, the cover glass having a shape called a 2.5D type, a pseudo 3D type, a 3D type, or the like that has been curved to the end (terminal) of the side surface can be used more suitably.
（耐擦傷性）
カバーガラスの耐擦傷性はトラバース式摩耗試験機を用いて行うことができる。具体的には、研磨布（Ｇ＃３２０（ＪＩＳ Ｒ６２５１：２００６規格適合品））を貼り付けた試験子と試料との間に接触荷重を与えて往復運動摩擦を行い、膜表面への傷の有無を確認する。傷の有無は目視で傷を観察することで評価することができる。観察の結果、傷は３本以下が好ましく、傷がないことがより好ましい。
往復の幅は４０ｍｍで、往復の数は５０回、荷重は１００ｇ、摩耗面積は１ｃｍ２として実施する。
(Abrasion resistance)
The abrasion resistance of the cover glass can be performed using a traverse type abrasion tester. Specifically, a contact load is applied between the test piece to which the polishing cloth (G # 320 (JIS R6251: 2006 standard compliant product)) is attached and the sample is subjected to reciprocating friction, and scratches on the film surface are observed. Check for presence. The presence or absence of scratches can be evaluated by visually observing the scratches. As a result of observation, the number of scratches is preferably 3 or less, and more preferably no scratch.
The reciprocation width is 40 mm, the number of reciprocations is 50, the load is 100 g, and the wear area is 1 cm 2 .
（試験条件）
研磨布：Ｇ＃３２０（ＪＩＳ Ｒ６２５１：２００６規格適合品）、
荷重：１００ｇ、
往復の幅：４０ｍｍ、
往復の数：５０回、
摩耗面積：１ｃｍ２。
(Test conditions)
Polishing cloth: G # 320 (JIS R6251: 2006 standard compliant product),
Load: 100g
Reciprocal width: 40mm,
Number of round trips: 50 times
Wear area: 1 cm 2 .
（映りこみ特性評価／低反射性）
蛍光灯下に設置された台の上に、防眩層付き曲げ基材を、防眩層側を上にして置き、防眩層付き曲げ基材への蛍光灯の映り込みを目視により観察し、平坦部での均質性、平坦部と湾曲部での均質性などを下記の基準で判定する。
○：膜ムラや欠点がなく均質である。
△：若干の膜ムラや欠点はあるものの全体としては均一である。
×：不均一である。または膜が形成できていない部位がある。
(Reflection characteristics evaluation / low reflectivity)
Place the bending base with an antiglare layer on the table placed under the fluorescent lamp with the antiglare layer side up, and visually observe the reflection of the fluorescent lamp on the bending base with the antiglare layer. The homogeneity at the flat part and the homogeneity at the flat part and the curved part are determined according to the following criteria.
○: There is no film unevenness and no defects, and it is homogeneous.
Δ: Even though there are some film irregularities and defects, it is uniform as a whole.
X: Non-uniform. Or there is a site where a film cannot be formed.
（低反射性）
分光器（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ―４１００）を用いて、平坦部と側面部の入射角５度の可視光反射率と、その色味を測定することで測定する。
(Low reflectivity)
Using a spectroscope (U-4100, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), the visible light reflectance at an incident angle of 5 degrees between the flat part and the side part and the color are measured.
以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
本実施例における各種評価は上述の評価方法により行った。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these.
Various evaluations in this example were performed by the above-described evaluation methods.
＜実施例１＞
（化学強化ガラスの準備）
ステンレススチール（ＳＵＳ）製のカップに硝酸カリウム９７００ｇ、炭酸カリウム８９０ｇ、硝酸ナトリウム４００ｇを加え、マントルヒーターで４５０℃まで加熱して、炭酸カリウム濃度が６ｍｏｌ％、ナトリウム濃度が１００００重量ｐｐｍの溶融塩を調製した。
１００ｍｍ×１００ｍｍ×０．５６ｍｍのアルミノシリケートガラスＡ（比重２．４８）を用意し、２００〜４００℃に予熱した後、４５０℃の溶融塩に２時間浸漬し、イオン交換処理した後、室温付近まで冷却することにより化学強化処理を行った。得られた化学強化ガラスは水洗いし、次の工程に供した。
ガラス組成（モル％表示）：ＳｉＯ２ ６４．４％、Ａｌ２Ｏ３ ８．０％、Ｎａ２Ｏ １２．５％、Ｋ２Ｏ ４．０％、ＭｇＯ １０．５％、ＣａＯ ０．１％、ＳｒＯ ０．１％、ＢａＯ ０．１％、ＺｒＯ２ ０．５％
<Example 1>
(Preparation of chemically strengthened glass)
Add 9700 g of potassium nitrate, 890 g of potassium carbonate and 400 g of sodium nitrate to a stainless steel (SUS) cup and heat to 450 ° C with a mantle heater to prepare a molten salt with a potassium carbonate concentration of 6 mol% and a sodium concentration of 10,000 ppm by weight. did.
Aluminosilicate glass A (specific gravity 2.48) of 100 mm x 100 mm x 0.56 mm is prepared, preheated to 200-400 ° C, immersed in a molten salt at 450 ° C for 2 hours, and subjected to ion exchange treatment, then around room temperature The chemical strengthening process was performed by cooling to. The obtained chemically strengthened glass was washed with water and subjected to the next step.
Glass composition (in mol%): SiO 2 64.4%, Al 2 O 3 8.0%, Na 2 O 12.5%, K 2 O 4.0%, MgO 10.5%, CaO 0.1 %, SrO 0.1%, BaO 0.1%, ZrO 2 0.5%
次いで６．０重量％の硝酸をビーカーに用意し、ウォーターバスを用いて４０℃に温度調整を行った。前記化学強化工程で得られたガラスを、調製した硝酸中に１２０秒間浸漬させ、酸処理を行った。その後、該ガラスは水洗いした。 Next, 6.0 wt% nitric acid was prepared in a beaker, and the temperature was adjusted to 40 ° C. using a water bath. The glass obtained in the chemical strengthening step was immersed in the prepared nitric acid for 120 seconds to perform acid treatment. Thereafter, the glass was washed with water.
次に、４．０重量％の水酸化ナトリウム水溶液をビーカーに用意し、ウォーターバスを用いて４０℃に温度調整を行った。酸に接触させる工程の後に洗浄したガラスを、調製した水酸化ナトリウム水溶液中に１２０秒間浸漬させ、アルカリ処理を行った。その後、該ガラスは水洗いした。その後、エアブローにより乾燥した。
以上により、化学強化ガラス板を得た。
Next, a 4.0 wt% aqueous sodium hydroxide solution was prepared in a beaker, and the temperature was adjusted to 40 ° C. using a water bath. The glass washed after the step of contacting with an acid was immersed in the prepared aqueous sodium hydroxide solution for 120 seconds to perform alkali treatment. Thereafter, the glass was washed with water. Then, it dried by air blow.
Thus, a chemically strengthened glass plate was obtained.
（面取り加工・湾曲加工）
曲げ基材として、湾曲部と平坦部を備えた形状のアルミノシリケートガラス（ドラゴントレイル（登録商標）；旭硝子社製、サイズ：ｘ＝１５０ｍｍ、ｙ＝１００ｍｍ（曲げ深さｈ＝１０ｍｍ）、厚さｔ＝１．１ｍｍのガラス基板）を用意した。前記曲げ基材について化学強化処理を行い、ＣＳ７５０ＭＰａ，ＤＯＬ２８μｍの圧縮応力層を形成した。該ガラスの表面を酸化セリウム分散水で洗浄後、イオン交換水でリンスし、乾燥させ、湾曲部と平坦部を備えた化学強化ガラス板を得た。
(Chamfering / curving)
Aluminosilicate glass having a curved portion and a flat portion as a bending base (Dragon Trail (registered trademark); manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., size: x = 150 mm, y = 100 mm (bending depth h = 10 mm), thickness t = 1.1 mm glass substrate) was prepared. The bending base material was subjected to chemical strengthening treatment to form a compressive stress layer of CS750 MPa and DOL 28 μm. The glass surface was washed with cerium oxide-dispersed water, rinsed with ion-exchanged water, and dried to obtain a chemically strengthened glass plate having a curved portion and a flat portion.
（無機膜の形成）
次いで、得られた化学強化ガラス板の表面側の平坦部と、外周縁に設けられた側面部に後反応スパッタ法により窒化ケイ素膜と酸化ケイ素膜の積層成膜を実施した。
窒化ケイ素膜の各単膜の厚みは６〜１６２ｎｍとし、酸化ケイ素膜の各単膜の厚みは５〜４２ｎｍとした。酸化ケイ素膜と窒化ケイ素膜の成膜を複数回交互に行い、これらが交互に成膜された、酸化ケイ素膜４５層、窒化ケイ素膜４５層からなる合計の膜厚が３０００ｎｍの、無機物からなる無機膜が形成されたカバーガラスを得た。
平坦部に対向したターゲットと、傾斜部に対向したターゲットを備え、それぞれに調整可能な分布修正板を備えたスパッタリング装置を用いて製造した。平坦部に対向したターゲットと、傾斜部に対向したターゲットにおける成膜条件を別々に制御し、それぞれの分布修正板を別々に調整し、同時に成膜を行うことで製造した。
(Formation of inorganic film)
Next, a laminated film of a silicon nitride film and a silicon oxide film was formed by a post-reaction sputtering method on the flat part on the surface side of the obtained chemically strengthened glass plate and the side part provided on the outer peripheral edge.
The thickness of each single film of the silicon nitride film was 6 to 162 nm, and the thickness of each single film of the silicon oxide film was 5 to 42 nm. The silicon oxide film and the silicon nitride film are alternately formed a plurality of times, and these are alternately formed, and the total film thickness of the silicon oxide film 45 layers and the silicon nitride film 45 layers is made of an inorganic material having a thickness of 3000 nm. A cover glass on which an inorganic film was formed was obtained.
It was manufactured using a sputtering apparatus provided with a target facing the flat part and a target facing the inclined part, each equipped with an adjustable distribution correction plate. It was manufactured by separately controlling the film formation conditions on the target facing the flat part and the target facing the inclined part, adjusting each distribution correction plate separately, and simultaneously performing film formation.
窒化ケイ素膜の成膜時の後反応スパッタ条件は下記のとおりである。
・ターゲット：ｐ−Ｓｉターゲット
・成膜ガス：Ａｒ （流量５０ｓｃｃｍ）
・スパッタ電力（平坦部対向ターゲット）：６ｋＷ
・スパッタ電力（側面部対向ターゲット）：８ｋＷ
・窒化源ガス：Ｎ２ （流量１００ｓｃｃｍ）
・窒化源電力：１ｋＷ
・基板温度：常温
・成膜レート：０．２ｎｍ／ｍｉｎ．
Post-reaction sputtering conditions at the time of forming the silicon nitride film are as follows.
-Target: p-Si target-Deposition gas: Ar (flow rate 50 sccm)
・ Sputtering power (flat part facing target): 6kW
・ Sputtering power (side facing target): 8 kW
Nitriding source gas: N 2 (flow rate 100 sccm)
・ Nitriding source power: 1kW
-Substrate temperature: normal temperature-Deposition rate: 0.2 nm / min.
酸化ケイ素膜（低屈折率材料からなる膜）成膜時の後反応スパッタ条件は下記のとおりである。
・ターゲット：ｐ−Ｓｉターゲット
・成膜ガス：Ａｒ （流量４０ｓｃｃｍ）
・スパッタ電力（平坦部対向ターゲット）：６ｋＷ
・スパッタ電力（側面部対向ターゲット）：８ｋＷ
・酸化源ガス：Ｏ２ （流量１００ｓｃｃｍ）
・酸化源電力：１ｋＷ
・基板温度：常温
・成膜レート：０．３ｎｍ／ｍｉｎ．
Post-reaction sputtering conditions at the time of forming the silicon oxide film (film made of a low refractive index material) are as follows.
-Target: p-Si target-Deposition gas: Ar (flow rate 40 sccm)
・ Sputtering power (flat part facing target): 6kW
・ Sputtering power (side facing target): 8 kW
Oxidation source gas: O 2 (flow rate 100 sccm)
・ Oxidation source power: 1kW
-Substrate temperature: normal temperature-Deposition rate: 0.3 nm / min.
上記方法で得られた窒化ケイ素膜と酸化ケイ素膜の積層成膜されたカバーガラスに対して、平坦部と側面部の断面ＳＥＭ評価により各部分の膜厚を評価した結果、カバーガラスの平坦部の表面側前面に積層され、かつ、外周縁に設けられた側面部にも表面側から裏面側にかけて膜厚が一定で連続的に成膜され、膜を耐擦傷性よく成膜されていた。 As a result of evaluating the film thickness of each part by cross-sectional SEM evaluation of the flat part and the side part with respect to the cover glass formed by lamination of the silicon nitride film and the silicon oxide film obtained by the above method, the flat part of the cover glass The film was deposited continuously with a constant film thickness from the front side to the back side, and the film was formed with good scratch resistance.
＜比較例１＞
平坦部に対向する一種類のターゲットのみを用いて、側面部も含めて成膜を実施すること以外は、実施例１と同じである。
上記方法で得られた窒化ケイ素膜と酸化ケイ素膜の積層成膜されたカバーガラスに対して、平坦部と側面部の断面ＳＥＭ評価により各部分の膜厚を評価した結果、カバーガラスの平坦部の表面側前面に積層された膜厚は一定に成膜されていたが、側面部の膜厚が一定ではなく、平坦部に比べて薄い成膜となっていた。
<Comparative Example 1>
Example 1 is the same as Example 1 except that only one type of target facing the flat part is used to form the film including the side part.
As a result of evaluating the film thickness of each part by cross-sectional SEM evaluation of the flat part and the side part with respect to the cover glass formed by lamination of the silicon nitride film and the silicon oxide film obtained by the above method, the flat part of the cover glass Although the film thickness laminated | stacked on the surface side front surface of this was formed into a film uniformly, the film thickness of the side part was not constant, and it was thin film formation compared with the flat part.
上記で得られたカバーガラスについて各種評価を行なった。カバーガラスにおける平坦部の表面側の耐擦傷性及び映りこみ特性／低反射性、側面部の表面側の耐擦傷性及び映りこみ特性／低反射性の評価結果を表１に示す。表中、目視外観が○とは（耐擦傷性）に記載した観察の結果、目視で傷が無いことを示し、△とは傷が１〜３本であることを示し、×とは傷が４本以上であることを示す。 Various evaluation was performed about the cover glass obtained above. Table 1 shows the evaluation results of the scratch resistance and reflection characteristics / low reflection on the surface side of the flat part of the cover glass, and the scratch resistance and reflection characteristics / low reflection on the surface side of the side part. In the table, the visual appearance is ○ as a result of the observation described in (Abrasion resistance), as a result of visual observation, there is no visual scratch, Δ is 1 to 3 scratches, and × is a scratch. 4 or more.
評価結果における反射率の比は１．０に近いほど均質な低反射膜であることを示している。 The closer the reflectance ratio in the evaluation results is to 1.0, the more uniform the low reflection film.
以上の結果より、従来のスパッタ方式では、ターゲットに対して平行でない面を備えるガラス基板の場合、ターゲットに対して並行でない面に積層される膜厚が平坦部と比べて薄くなる。その結果、膜厚が一定でないことにより、膜が薄い領域の強度が低下し、また、反射率が平坦部と側面部で異なるため、カバーガラスとして映り込み特性が不均一になる。
一方、本発明の複数のターゲットを用いる方式では、平坦部と側面部に一定の膜厚で連続的に積層成膜できることで、耐割性が高く、映り込み特性が優れたカバーガラスを得ることができる。
From the above results, in the conventional sputtering method, in the case of a glass substrate having a surface that is not parallel to the target, the film thickness laminated on the surface that is not parallel to the target is thinner than the flat portion. As a result, since the film thickness is not constant, the strength of the thin film region is reduced, and the reflectance is different between the flat part and the side part, so that the reflection characteristics are non-uniform as the cover glass.
On the other hand, in the method using a plurality of targets of the present invention, a cover glass having high splitting resistance and excellent reflection characteristics can be obtained by continuously laminating a film with a constant film thickness on the flat part and the side part. Can do.
本発明によれば、電子端末用や車載表示装置用等のカバーガラスであって、筐体よりも前面にはみ出し、端部に曲面加工がなされた、２．５Ｄタイプや擬似３Ｄタイプ、３Ｄタイプ等と呼ばれる形状のカバーガラスにおいて、表面に露出した面の全面の強度に優れ、かつ映りこみの少ない優れたカバーガラスを得ることができる。 According to the present invention, 2.5D type, pseudo 3D type, and 3D type cover glass for electronic terminals, in-vehicle display devices, etc., which protrudes from the front of the housing and has a curved surface at the end. In the cover glass having a shape called “etc.”, an excellent cover glass having excellent overall strength of the surface exposed on the surface and less reflection can be obtained.
１ ガラス板
２ 無機膜
３ カバーガラス
1
Claims (7)
前記無機膜は、前記ガラス板の前記平坦部の表面側の全面に積層され、かつ、前記側面部の少なくとも一部の領域において表面側から裏面側にかけて連続的に積層されており、
前記無機膜の膜厚が一定である、カバーガラス。 A cover glass comprising a flat plate and a glass plate having a side surface provided on the outer periphery of the flat portion, and an inorganic film made of an inorganic material laminated on the glass plate,
The inorganic film is laminated on the entire surface side of the flat portion of the glass plate, and continuously laminated from the surface side to the back surface side in at least a part of the side surface portion,
A cover glass in which the film thickness of the inorganic film is constant.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016062200A JP2017171557A (en) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | cover glass |
| CN201720299977.7U CN206736102U (en) | 2016-03-25 | 2017-03-24 | Protective glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016062200A JP2017171557A (en) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | cover glass |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017171557A true JP2017171557A (en) | 2017-09-28 |
Family
ID=59972710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016062200A Pending JP2017171557A (en) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | cover glass |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2017171557A (en) |
| CN (1) | CN206736102U (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108529856A (en) * | 2018-05-25 | 2018-09-14 | Oppo广东移动通信有限公司 | The manufacturing method of shell, electronic device and shell |
-
2016
- 2016-03-25 JP JP2016062200A patent/JP2017171557A/en active Pending
-
2017
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN206736102U (en) | 2017-12-12 |
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