JP2017165795A - Photosetting composition - Google Patents
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Abstract
【課題】透過率が高く、高い防眩性を有する防眩性シートを提供すること。【解決手段】水酸基を有するアクリル化合物Ａ、エポキシ化合物Ｂ、光ラジカル重合開始剤Ｃおよび光カチオン重合開始剤Ｄを含有してなる光硬化性組成物であって、アクリル化合物Ａ１００質量部と光ラジカル重合開始剤Ｃ５質量部からなる混合物をＸ’、エポキシ化合物Ｂ１００質量部と光カチオン重合開始剤Ｄ３質量部からなる混合物をＹ’、混合物Ｘ’に波長３６５ｎｍでの照度５００ｍＷ／ｃｍ2の光を照射してから貯蔵弾性率が一定となるまでの時間をｔＸ、混合物Ｙ’に波長３６５ｎｍでの照度５００ｍＷ／ｃｍ2の光を照射してから貯蔵弾性率が一定となるまでの時間をｔＹ、１／ｔＸを硬化速度Ｘ、１／ｔＹを硬化速度Ｙとした際に、Ｙ／Ｘ＝０．００５〜０．５であることを特徴とする光硬化性組成物。【選択図】 なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antiglare sheet having high transmittance and high antiglare property. A photocurable composition containing an acrylic compound A having a hydroxyl group, an epoxy compound B, a photoradical polymerization initiator C and a photocationic polymerization initiator D, wherein 100 parts by mass of the acrylic compound A and a photoradical The mixture consisting of 5 parts by mass of the polymerization initiator C is X', the mixture consisting of 100 parts by mass of the epoxy compound B and the photocationic polymerization initiator D3 parts by mass is Y', and the mixture X'is irradiated with light having an illuminance of 500 mW / cm2 at a wavelength of 365 nm. The time until the storage elasticity becomes constant is tX, and the time from irradiating the mixture Y'with light having an illuminance of 500 mW / cm2 at a wavelength of 365 nm to the time until the storage elasticity becomes constant is tY, 1 /. A photocurable composition characterized by Y / X = 0.005 to 0.5, where tX is the curing rate X and 1 / tY is the curing rate Y. [Selection diagram] None
Description
本発明は、光硬化性組成物およびその硬化膜、防眩性シートならびに表示装置に関する。 The present invention relates to a photocurable composition, a cured film thereof, an antiglare sheet, and a display device.
従来、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等の表示装置は、該表示装置表面に外部からの明るい光源の光が入射した場合、該光源の写り込みや人物等の影等の写り込みにより、画面の視認性が著しく妨げられる。
そのため、前記表示装置表面には、画面の視認性向上を目的として、表示装置表面の反射光を拡散し、入射光の正反射を抑制して、写り込みを防ぐための（防眩性を有する）微細表面凹凸構造を有する防眩層が形成されている。
Conventionally, in a display device such as a liquid crystal display (LCD), when light from a bright light source from the outside is incident on the surface of the display device, the visibility of the screen is reflected by the reflection of the light source or the shadow of a person or the like. Is significantly hindered.
Therefore, on the display device surface, for the purpose of improving the visibility of the screen, the reflected light from the display device surface is diffused, and regular reflection of incident light is suppressed to prevent reflection (having antiglare properties). ) An antiglare layer having a fine surface uneven structure is formed.
このような微細表面凹凸構造を有する防眩層を表示装置表面に形成させる方法としては、表面凹凸構造の微細化が容易なことや該表示装置表面への防眩層の形成が容易なことから、硬化樹脂中に微粒子を分散させたものを表示装置表面に塗布し、該樹脂を硬化させる方法が主流となっている（例えば、特許文献１）。
この方法は、例えば、紫外線硬化型樹脂等の硬化型樹脂中に無機微粒子（例えば、炭酸カルシウム粒子、酸化チタン粒子、シリカ粒子等）や有機微粒子（アクリル系ポリマー粒子、シリコーン系ポリマー粒子等）を分散させた塗料を表示装置表面に塗布し、硬化させることにより表示装置表面に微細表面凹凸構造を有する防眩層を形成するものである。
As a method of forming such an antiglare layer having a fine surface concavo-convex structure on the surface of the display device, the surface concavo-convex structure can be easily miniaturized and the antiglare layer can be easily formed on the display device surface. A method in which fine particles are dispersed in a cured resin is applied to the surface of a display device and the resin is cured (for example, Patent Document 1).
In this method, for example, inorganic fine particles (eg, calcium carbonate particles, titanium oxide particles, silica particles) and organic fine particles (acrylic polymer particles, silicone polymer particles, etc.) are contained in a curable resin such as an ultraviolet curable resin. An antiglare layer having a fine surface uneven structure is formed on the surface of the display device by applying the dispersed paint to the surface of the display device and curing it.
しかし、前記方法で形成された防眩層を有する表示装置においては、硬化型樹脂中での前記微粒子の分散不良等により、防眩層に十分な防眩性が発現しなかったり、また、防眩層の透明性が低下したり、外観不良等の問題が生じることがある。
更に、時間の経過に伴い硬化樹脂中に分散させていた微粒子が防眩層表面へ浮き出てしまい表示装置表面に形成された防眩層の防眩性能が低下したり、また、表面へ浮き出た微粒子自身が外観不良（例えば、表面の汚れ等）の原因となってしまう場合もある。
However, in a display device having an antiglare layer formed by the above method, the antiglare layer does not exhibit sufficient antiglare property due to poor dispersion of the fine particles in the curable resin or the like. The transparency of the glare layer may decrease, and problems such as poor appearance may occur.
Furthermore, the fine particles dispersed in the cured resin with the passage of time have floated to the surface of the antiglare layer and the antiglare performance of the antiglare layer formed on the surface of the display device has deteriorated, or has also floated to the surface. In some cases, the fine particles themselves may cause poor appearance (for example, surface contamination).
また、転写法を用いて、表示装置表面に積層させて使用する微細表面凹凸構造を有する防眩性フィルムを形成させる方法も提案されている（例えば、特許文献２）。
この方法は、表面に凹凸形状が形成されている賦型フィルムを用いて、該賦型フィルムに硬化樹脂を流し込み該硬化樹脂を硬化させて、凹凸形状を硬化させた樹脂に写し取ることにより防眩性フィルムを形成させるものである。
しかし、賦型フィルムに硬化させた樹脂が付着してしまい、凹凸形状を写し取ることができず所望の防眩性が得られなかったり、また、前記賦型フィルムを何回も使用することで該賦型フィルムの表面凹凸形状が変化してしまったり、更には、作業性が煩雑であるという問題がある。
In addition, a method of forming an antiglare film having a fine surface uneven structure used by being laminated on the surface of a display device by using a transfer method has been proposed (for example, Patent Document 2).
This method uses an shaping film having a concavo-convex shape formed on the surface, casts a cured resin into the shaping film, cures the cured resin, and copies it to the cured resin. An adhesive film is formed.
However, the cured resin adheres to the shaped film, and the uneven shape cannot be copied and the desired anti-glare property cannot be obtained, or the used film can be used many times. There is a problem that the uneven shape of the surface of the shaping film is changed, and furthermore, the workability is complicated.
そのため、無機又は有機微粒子を用いることなく、微細表面凹凸構造を有する防眩性シートを簡便に製造できる方法が要望されている。 Therefore, there is a demand for a method capable of easily producing an antiglare sheet having a fine surface uneven structure without using inorganic or organic fine particles.
本発明は、上記記載の従来技術の有する課題を鑑みてなされたものであり、透過率が高く、高い防眩性を有する防眩性シートを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object thereof is to provide an antiglare sheet having high transmittance and high antiglare properties.
本発明者らは、前記問題を解決するため鋭意検討した結果、本発明に至った。
すなわち、本発明は、水酸基を有するアクリル化合物Ａ、エポキシ化合物Ｂ、光ラジカル重合開始剤Ｃおよび光カチオン重合開始剤Ｄを含有してなる光硬化性組成物であって、アクリル化合物Ａ１００質量部と光ラジカル重合開始剤Ｃ５質量部からなる混合物をＸ’、エポキシ化合物Ｂ１００質量部と光カチオン重合開始剤Ｄ３質量部からなる混合物をＹ’、混合物Ｘ’に波長３６５ｎｍでの照度５００ｍＷ／ｃｍ2の光を照射してから貯蔵弾性率が一定となるまでの時間をｔＸ、混合物Ｙ’に波長３６５ｎｍでの照度５００ｍＷ／ｃｍ2の光を照射してから貯蔵弾性率が一定となるまでの時間をｔＹ、１／ｔＸを硬化速度Ｘ、１／ｔＹを硬化速度Ｙとした際に、Ｙ／Ｘ＝０．００５〜０．５であることを特徴とする光硬化性組成物に関する。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have reached the present invention.
That is, the present invention is a photocurable composition comprising an acrylic compound A having a hydroxyl group, an epoxy compound B, a photo radical polymerization initiator C, and a photo cationic polymerization initiator D, and comprising 100 parts by mass of the acrylic compound A, X ′ is a mixture composed of 5 parts by mass of photoradical polymerization initiator C, Y ′ is a mixture composed of 100 parts by mass of epoxy compound B and 3 parts by mass of photocationic polymerization initiator D, and the mixture X ′ has an illuminance of 500 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm. TX is the time from when the light is irradiated until the storage elastic modulus becomes constant, and the time from when the mixture Y ′ is irradiated with light having an illuminance of 500 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm until the storage elastic modulus becomes constant The present invention relates to a photocurable composition characterized in that Y / X = 0.005 to 0.5, where tY and 1 / tX are the curing speed X and 1 / tY is the curing speed Y.
また、本発明は、上記光硬化性組成物の硬化膜に関する。 Moreover, this invention relates to the cured film of the said photocurable composition.
また、本発明は、前記硬化膜表面が凹凸を有し、凹凸の平均高さが２０ｎｍ〜５０００ｎｍ、凹凸の平均間隔が１００ｎｍ〜５００００ｎｍである上記硬化膜に関する。 Moreover, this invention relates to the said cured film whose said cured film surface has an unevenness | corrugation, the average height of an unevenness | corrugation is 20 nm-5000 nm, and the average space | interval of an unevenness | corrugation is 100 nm-50000 nm.
また、本発明は、基材に、上記硬化膜を配置してなる防眩性シートに関する。 Moreover, this invention relates to the anti-glare sheet | seat formed by arrange | positioning the said cured film to a base material.
また、本発明は、上記防眩性シートが具備されてなる表示装置に関する。 The present invention also relates to a display device comprising the antiglare sheet.
本発明により、透過率が高く、高い防眩性を有する防眩性シートを得ることができる。 According to the present invention, an antiglare sheet having high transmittance and high antiglare properties can be obtained.
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例（代表例）であり、本発明はその要旨を超えない限りこれらの内容に特定されない。 Embodiments of the present invention will be described in detail below, but the description of the constituent elements described below is an example (representative example) of an embodiment of the present invention, and the present invention does not exceed the gist thereof. Not specific to the content.
＜水酸基を有するアクリル化合物Ａ＞
本発明における「水酸基を有するアクリル化合物」とは分子内に１つまたは２つ以上の水酸基を含む（メタ）アクリレート化合物である。
水酸基を有するアクリル化合物としては、共栄社化学株式会社製ライトエステルＨＯ−２５０（Ｎ）、ライトエステルＨＯＰ（Ｎ）、ライトエステルＨＯＡ（Ｎ）、ライトエステルＨＯＰ−Ａ（Ｎ）、ライトエステルＨＯ−ＭＳ（Ｎ）、ライトエステルＨＯ−ＨＨ（Ｎ）、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ（Ｎ）、ライトアクリレートＨＯＡ−ＨＨ、ライトアクリレートＨＯＢ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＳ、日本化成株式会社製１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、大阪有機化学工業株式会社製ビスコート＃２１００、ビスコート＃８０２、ダイセル株式会社製Ｅｂｅｃｒｙｌ１１１、Ｅｂｅｃｒｙｌ１１２、新中村化学株式会社製ＮＫエステル７０２Ａ、ＮＫエステル４０１Ｐ、ナガセ化成株式会社製デナコールアクリレートＤＡ−１１１、ＢＡＳＦ社製ブタンジオールモノアクリレート、日本油脂株式会社製ブレンマーＡＰ−４００、ブレンマーＡＰ−５５０、ブレンマーＡＰ−８００等が挙げられる。これらは、単独で又は２種以上を併用することができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
<Acrylic compound A having a hydroxyl group>
The “acrylic compound having a hydroxyl group” in the present invention is a (meth) acrylate compound containing one or more hydroxyl groups in the molecule.
As an acrylic compound having a hydroxyl group, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. light ester HO-250 (N), light ester HOP (N), light ester HOA (N), light ester HOP-A (N), light ester HO-MS (N), light ester HO-HH (N), HOA-MPL, HOA-MPE (N), light acrylate HOA-HH, light acrylate HOB-A, HOA-MS, 1,4-cyclohexane manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd. Dimethanol monoacrylate, Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. Biscoat # 2100, Biscoat # 802, Daicel Corporation Ebecryl 111, Ebecryl 112, Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. NK Ester 702A, NK Ester 401P, Nagase Kasei Co., Ltd. Denacol Acrylate D -111, BASF Corp. butanediol monoacrylate, Nippon Oil & Fats Co., Ltd. Blemmer AP-400, Blemmer AP-550, include the Brenmer AP-800 and the like. These may be used alone or in combination of two or more, but are not necessarily limited thereto.
アクリル化合物が水酸基を含有することにより、水酸基による分子内水素結合による重合場での官能基濃度の上昇が期待できる。また、水酸基に隣接するＣ−Ｈ結合が切断されやすくなり、ラジカル発生により酸素阻害の抑制が期待できる。さらに、アクリル化合物が水酸基を有することにより、エポキシ化合物の硬化を促進させる助触媒的機能を有しているため好ましい。 When the acrylic compound contains a hydroxyl group, an increase in the functional group concentration in the polymerization field due to intramolecular hydrogen bonding due to the hydroxyl group can be expected. In addition, the C—H bond adjacent to the hydroxyl group is easily cleaved, and the inhibition of oxygen inhibition can be expected by radical generation. Furthermore, the acrylic compound having a hydroxyl group is preferable because it has a co-catalytic function for promoting the curing of the epoxy compound.
水酸基を有するアクリル化合物Ａの含有量としては、組成物中２０〜８０％であることが好ましい。２０％以上とすることで酸素阻害の抑制効果が期待でき、８０％以下とすることにより塗膜物性を確保できる。 The content of the acrylic compound A having a hydroxyl group is preferably 20 to 80% in the composition. The effect of suppressing oxygen inhibition can be expected by setting it to 20% or more, and the coating film properties can be secured by setting it to 80% or less.
＜エポキシ化合物Ｂ＞
本発明における「エポキシ化合物Ｂ」とは、分子内にエポキシ基を有する化合物であり、分子内に複数のエポキシ基を有する化合物であることが好ましい。エポキシ化合物Ｂは、硬化速度の観点から、グリシジル基を含有するエポキシ化合物であることが好ましい。
エポキシ化合物Ｂとしては、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＡＤ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ナフタレン型エポキシ化合物、アントラセン型エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物などが挙げられ、製品名としては、例えば、三菱化学社製ｊｅｒ１５２、ｊｅｒ１５７Ｓ７０、ｊｅｒ８０６、ｊｅｒ８０７、ｊｅｒ８２７、ｊｅｒ８２８、ｊｅｒ８３４、ｊｅｒ１００１、ｊｅｒ１２５６、ｊｅｒ４００４Ｐ、ｊｅｒ４００５Ｐ、ｊｅｒ４００７Ｐ、ｊｅｒ４０１０Ｐ、ｊｅｒ４２５０、ｊｅｒ４２７５、ＹＸ４０００、ＹＬ６８１０、ＹＬ９８３Ｕ、ＤＩＣ社製ＥＰＩＣＬＯＮ １５２、ＥＰＩＣＬＯＮ １５３、ＥＰＩＣＬＯＮ １５３−６０Ｔ、ＥＰＩＣＬＯＮ １５３−６０Ｍ、ＥＰＩＣＬＯＮ １１２１Ｎ−８０Ｍ、ＥＰＩＣＬＯＮ １１２３Ｐ−７３Ｍ、ＥＰＩＣＬＯＮ ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ ８３０−Ｓ、ＥＰＩＣＬＯＮ ８３０−ＬＶＰ、ＥＰＩＣＬＯＮ ８３５、ＥＰＩＣＬＯＮ ８３５−ＬＶ、ＥＰＩＣＬＯＮ ８４０、ＥＰＩＣＬＯＮ ８４０−Ｓ、ＥＰＩＣＬＯＮ ８５０、ＥＰＩＣＬＯＮ ８５０−Ｓ、ＥＰＩＣＬＯＮ ８５０−ＣＲＰ、ＥＰＩＣＬＯＮ ８５０−ＬＣ、ＥＰＩＣＬＯＮ ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ ８６０−９０Ｘ、ＥＰＩＣＬＯＮ １０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ １０５０−７０Ｘ、ＥＰＩＣＬＯＮ １０５０−７５Ｘ、ＥＰＩＣＬＯＮ １０５５、ＥＰＩＣＬＯＮ １０５５−７５Ｘ、ＥＰＩＣＬＯＮ ＨＭ−０９１、ＥＰＩＣＬＯＮ ＨＭ−０９１−４０ＡＸ、ＥＰＩＣＬＯＮ ＨＭ−１０１、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―６９５、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―７７５、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―７４０−８０Ｍ、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―７７０−７０Ｍ、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―８６５、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ―８６５−８０Ｍ、ナガセケムテックス社製デナコールＥＸ−１４１、デナコールＥＸ−１４５、デナコールＥＸ−１４６、デナコールＥＸ−１４７、デナコールＥＸ−２０１、デナコールＥＸ−２０３、デナコールＥＸ−７１１、デナコールＥＸ−７２１、デナコールＥＸ−７３１、デナコールＥＸ−６１１、デナコールＥＸ−６１２、デナコールＥＸ−６１４、デナコールＥＸ−６１４Ｂ、デナコールＥＸ−６２２、デナコールＥＸ−４１１、デナコールＥＸ−２１１、デナコールＥＸ−２１２、デナコールＥＸ−２５２、デナコールＥＸ−８１０、デナコールＥＸ−８１１、デナコールＥＸ−８５０、デナコールＥＸ−８５１、デナコールＥＸ−８２１、デナコールＥＸ−８３０、デナコールＥＸ−８３２、デナコールＥＸ−８４１、デナコールＥＸ−８６１、デナコールＥＸ−９１１、９４１、９２０、９３１、デナコールＥＸ−１１１、デナコールＥＸ−１２１、デナコールＥＸ−１７１、デナコールＥＸ−１９２、デナレックスＲ−４５ＥＰＴ、
新日鉄住金化学社製ＹＤ−１１５、ＹＤ−１１５Ｇ、ＹＤ−１１５ＣＡ、ＹＤ−１１８Ｔ、ＹＤ−１２７、ＹＤ−１２８、ＹＤ−１２８Ｇ、ＹＤ−１２８Ｓ、ＹＤ−１２８ＣＡ、ＹＤ−１３４、ＹＤ−０１１、ＹＤ−０１２、ＹＤ−０１３、ＹＤ−０１４、ＹＤ−０１７、ＹＤ−０１９、ＹＤ−０２０Ｇ、ＹＤ−７０１１Ｒ、ＹＤ−９０１、ＹＤ−９０２、ＹＤ−９０３Ｎ、ＹＤ−９０４、ＹＤ−９０７、ＹＤ−６０２０、ＵＤＦ−１７０、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４、ＹＤＰＮ−６３８、ＹＤＣＮ−７００−３、ＹＤＣＮ−７００−５、ＹＤＣＮ−７００−７、ＹＤＣＮ−７００−１０、ＹＤＣＮ−７０４、ＹＤＣＮ−７０４Ａ、株式会社アデカ社製ＥＤ−５０２、ＥＤ−５０９Ｅ、ＥＤ−５０３、ＥＤ−５０３Ｇ、ＥＤ−５０６、ＥＤ−５２３Ｔ、ＥＤ−５０５、四日市合成社製ＤＹ−ＢＰ、ＣＹ−ＢＰ、エポゴーセＥＮ、エポゴーセＡＮ、エポゴーセ２ＥＨ、エポゴーセＨＤ（Ｍ）、エポゴーセＨＤ（Ｄ）、共栄社化学社製エポライトＭ−１２３０、エポライト４０Ｅ、エポライト１００Ｅ、エポライト２００Ｅ、エポライト４００Ｅ、エポライト７０Ｐ、エポライト２００Ｐ、４００、エポライト１５００ＮＰ、エポライト１６００、エポライト８０ＭＦ、エポライト１００ＭＦ、エポライト４０００、日油社製エポオールＭ、エポオールＥＨ、エポオールＬ−４１、エポオールＳＫ、エポオールＥ−４００、エポオールＥ−１０００、エポオールＰ−２００、エポオールＮＰＧ−１００などが挙げられる。これらは、単独で又は２種以上を併用することができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
<Epoxy compound B>
The “epoxy compound B” in the present invention is a compound having an epoxy group in the molecule, and is preferably a compound having a plurality of epoxy groups in the molecule. The epoxy compound B is preferably an epoxy compound containing a glycidyl group from the viewpoint of curing speed.
As epoxy compound B, bisphenol A type epoxy compound, bisphenol AD type epoxy compound, bisphenol F type epoxy compound, phenol novolac type epoxy compound, cresol novolac type epoxy compound, naphthalene type epoxy compound, anthracene type epoxy compound, biphenyl type epoxy compound Product names include, for example, jer152, jer157S70, jer806, jer807, jer827, jer828, jer834, jer1001, jer1256, jer4004P, jer4005P, jer4007P, jer4010P, jer4250, Y4275, X4, YL983U, EPICLON 152 made by DIC, EPICL ON 153, EPICLON 153-60T, EPICLON 153-60M, EPICLON 1121N-80M, EPICLON 1123P-73M, EPICLON 830, EPICLON 830-S, EPICLON 830-LVP, EPICLON 835LON 835LV40 S, EPICLON 850, EPICLON 850-S, EPICLON 850-CRP, EPICLON 850-LC, EPICLON 860, EPICLON 860-90X, EPICLON 1050, EPICLON 1050-70X, EPICLON 1050-75X, EPICLON 105L HM-091, EP CLON HM-091-40AX, EPICLON HM-101, EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-670, EPICLON N-673, EPICLON N-680, EPICLON N-695, EPICLON N-740, EPICLON N-740 770, EPICLON N-775, EPICLON N-740-80M, EPICLON N-770-70M, EPICLON N-865, EPICLON N-865-80M, Nagase ChemteX Corp. Denacol EX-141, Denacol EX-145, Denacol EX -146, Denacol EX-147, Denacol EX-201, Denacol EX-203, Denacol EX-711, Denacol EX-721, Denacol EX-7 1, Denacol EX-611, Denacol EX-612, Denacol EX-614, Denacol EX-614B, Denacol EX-622, Denacol EX-411, Denacol EX-211, Denacol EX-212, Denacol EX-252, Denacol EX- 810, Denacol EX-811, Denacol EX-850, Denacol EX-851, Denacol EX-821, Denacol EX-830, Denacol EX-832, Denacol EX-841, Denacol EX-861, Denacol EX-911, 941, 920 931, Denacol EX-111, Denacol EX-121, Denacol EX-171, Denacol EX-192, Denalex R-45EPT,
YD-115, YD-115G, YD-115CA, YD-118T, YD-127, YD-128, YD-128G, YD-128S, YD-128CA, YD-134, YD-011, YD manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. -012, YD-013, YD-014, YD-017, YD-019, YD-020G, YD-7011R, YD-901, YD-902, YD-903N, YD-904, YD-907, YD-6020 , UDF-170, YDF-2001, YDF-2004, YDPN-638, YDCN-700-3, YDCN-700-5, YDCN-700-7, YDCN-700-10, YDCN-704, YDCN-704A, stock ED-502, ED-509E, ED-503, ED-503G, ED-50 manufactured by Adeka Company , ED-523T, ED-505, DY-BP, CY-BP manufactured by Yokkaichi Chemical Co., Ltd., Epogose EN, Epogose AN, Epogose 2EH, Epogose HD (M), Epogose HD (D), Epolite M-1230 manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. , Epolite 40E, Epolite 100E, Epolite 200E, Epolite 400E, Epolite 70P, Epolite 200P, 400, Epolite 1500NP, Epolite 1600, Epolite 80MF, Epolite 100MF, Epolite 4000, Epool M, Epool EH, Epool L-41 Epool SK, Epool E-400, Epool E-1000, Epool P-200, Epool NPG-100 and the like. These may be used alone or in combination of two or more, but are not necessarily limited thereto.
エポキシ化合物Ｂは相溶性の観点から、４０℃で液状（粘度が２００００ｍＰａ・ｓ以下）であることが好ましい。また、水酸基を有するアクリル化合物Ａと混合した際に相溶するものが好ましい。 Epoxy compound B is preferably liquid at 40 ° C. (viscosity is 20000 mPa · s or less) from the viewpoint of compatibility. Moreover, what is compatible when mixed with the acrylic compound A having a hydroxyl group is preferable.
＜光ラジカル重合開始剤Ｃ＞
光ラジカル重合開始剤Ｃとしては特に制限はなく、例えば、ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７、１８４、０７、６５１、１７００、１８００、８１９、３６９、２６１、ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、日本シイベルヘグナー社製エザキュアーＫＩＰ１５０、ＴＺＴ、日本化薬株式会社製カヤキュアＢＭＳ、カヤキュアＤＭＢＩ等が挙げられる。
<Photoradical polymerization initiator C>
There is no restriction | limiting in particular as radical photopolymerization initiator C, For example, IRGACURE127,184,07,651,1700,1800,819,369,261 made from BASF, TPO, DAROCUR1173, EZacure KIP150, TZT made from Japan Siebel Hegner, Japan Examples include Kayacure BMS and Kayacure DMBI manufactured by Kayaku Co., Ltd.
光ラジカル重合開始剤Ｃの配合割合は、水酸基含有アクリル化合物Ａ、エポキシ化合物Ｂの合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部であり、１〜５質量部であることが好ましい。 The blending ratio of the radical photopolymerization initiator C is 0.01 to 10 parts by mass and preferably 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the hydroxyl group-containing acrylic compound A and the epoxy compound B.
＜光カチオン重合開始剤Ｄ＞
光カチオン重合開始剤Ｄとしては、例えば、ダイセル・サイテック社製ＵＶＡＣＵＲＥ１５９０、サンアプロ社製ＣＰＩ−１１０Ｐなどのスルホニウム塩や、ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０、和光純薬工業社製ＷＰＩ−１１３、ローディア・ジャパン社製Ｒｐ−２０７４等のヨードニウム塩が挙げられる。
<Photocationic polymerization initiator D>
Examples of the cationic photopolymerization initiator D include sulfonium salts such as UVACURE 1590 manufactured by Daicel-Cytec and CPI-110P manufactured by San Apro, IRGACURE 250 manufactured by BASF, WPI-113 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, and Rhodia Japan. Examples include iodonium salts such as Rp-2074.
光カチオン重合開始剤Ｄの配合割合は、水酸基含有アクリル化合物Ａ、エポキシ化合物Ｂの合計１００質量部に対して、０．５〜１０質量部であり、０．５〜５質量部であることが好ましい。 The mixing ratio of the cationic photopolymerization initiator D is 0.5 to 10 parts by mass and 0.5 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the hydroxyl group-containing acrylic compound A and the epoxy compound B. preferable.
本発明における光硬化性組成物は、上記主剤および重合開始剤に加え、重合禁止剤、重合開始助剤、紫外線吸収剤、可塑剤、着色剤、酸化防止剤、消泡剤、可塑剤等の各種の公知の添加剤を、必要に応じて、本発明の効果を阻害しない範囲内で含むことができる。 The photocurable composition in the present invention includes a polymerization inhibitor, a polymerization initiation assistant, an ultraviolet absorber, a plasticizer, a colorant, an antioxidant, an antifoaming agent, a plasticizer and the like in addition to the above main agent and polymerization initiator. Various known additives can be included within the range that does not impair the effects of the present invention, if necessary.
＜硬化膜＞
本発明では、光硬化性組成物を光硬化させて硬化膜を得ることができる。硬化膜は、光硬化性組成物をガラスなどの透光性基板上に光硬化性組成物を塗布し、紫外線や電子線等の光照射を施し硬化させることによって得られる。
塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロッドまたはワイヤーバー、アプリケーターなどを用いた方法および、マイクログラビアコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティング、カーテンコーティング、リップコーティング、スロットコーティングまたはスピンコーティングなどの各種コーティング方法を用いることができる。
<Curing film>
In the present invention, the photocurable composition can be photocured to obtain a cured film. The cured film is obtained by applying the photocurable composition on a light-transmitting substrate such as glass and applying light irradiation such as ultraviolet rays or electron beams to cure the photocurable composition.
As a coating method, a known method can be used, for example, a method using a rod or wire bar, an applicator, etc., and micro gravure coating, gravure coating, die coating, curtain coating, lip coating, slot coating or spin coating. Various coating methods such as can be used.
硬化膜は、後述する硬化速度に差があることにより、硬化後の表面に凹凸構造が形成される。また、凹凸構造のオーダーは組成比によっても制御することが可能である。
硬化膜は接着剤、粘着剤、艶消し、反射防止、防眩性シート等として使用できる。
The cured film has a concavo-convex structure on the surface after curing due to the difference in the curing speed described later. The order of the concavo-convex structure can also be controlled by the composition ratio.
The cured film can be used as an adhesive, pressure-sensitive adhesive, matte, antireflection, antiglare sheet and the like.
本発明における硬化膜表面の凹凸構造を、「凹凸の平均高さ」および「凹凸の平均間隔」として定義する。「凹凸の平均高さ」および「凹凸の平均間隔」は、非接触式のレーザー顕微鏡、白色干渉顕微鏡、接触式では走査型プローブ顕微鏡等の測定装置により測定することが出来る。 The uneven structure on the surface of the cured film in the present invention is defined as “average height of unevenness” and “average interval of unevenness”. The “average height of unevenness” and “average interval of unevenness” can be measured by a measuring device such as a non-contact type laser microscope, a white interference microscope, or a contact type scanning probe microscope.
「凹凸の平均高さ」は、前述した測定装置により得られた表面形状の粗さ曲線から、その平均線の方向に基準長さ（例えば数十μｍ程度）だけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線から縦方向に測定した最も高い山頂から１０番目までの山頂の標高（Ｙｐ）の絶対値の平均値と、最も低い谷底から１０番目までの谷底の標高（Ｙｖ）の絶対値の平均値との和を「凹凸の平均高さ」という。「凹凸の平均高さ」は、２０〜５０００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ以上であることにより防眩性を確保でき、５０００ｎｍ以下であることにより塗膜外観が良好となる。より好ましくは１００〜３０００ｎｍであり、さらに好ましくは２００〜２０００ｎｍである。 The “average height of the irregularities” is extracted from the roughness curve of the surface shape obtained by the above-described measuring apparatus by a reference length (for example, about several tens of μm) in the direction of the average line. The average value of the absolute value of the altitude (Yp) of the top from the highest peak to the tenth peak measured in the vertical direction and the average value of the absolute value of the altitude (Yv) of the bottom from the lowest valley to the tenth The sum is called the “average height of irregularities”. The “average height of the unevenness” is preferably 20 to 5000 nm, and when it is 20 nm or more, antiglare properties can be secured, and when it is 5000 nm or less, the appearance of the coating film becomes good. More preferably, it is 100-3000 nm, More preferably, it is 200-2000 nm.
「凹凸の平均間隔」は、前述した測定装置により同様に求めることができ、得られた表面形状の基準領域（例えば数十μｍ四方）について、隣り合う凸部同士又は隣り合う凹部同士の間隔を測り、その分布によって凹凸の間隔分布状態を求めることができる。本発明における硬化膜表面の凹凸の間隔分布は、１００〜５００００ｎｍであることが好ましく、１００ｎｍ以上であることにより防眩性を確保でき、５００００ｎｍ以下であることにより塗膜の形状安定性を確保できる。より好ましくは５００〜４５０００ｎｍであり、さらに好ましくは１０００〜４００００ｎｍである。 The “average unevenness interval” can be obtained in the same manner by the above-described measuring apparatus, and for the obtained reference region (for example, several tens of μm square) of the surface shape, the interval between adjacent convex portions or adjacent concave portions is determined. The distance distribution state of the unevenness can be obtained from the measured distribution. In the present invention, the unevenness distribution of the surface of the cured film is preferably 100 to 50000 nm. When it is 100 nm or more, antiglare property can be secured, and when it is 50000 nm or less, shape stability of the coating film can be secured. . More preferably, it is 500-45000 nm, More preferably, it is 1000-40000 nm.
＜硬化速度＞
本発明では、光重合性ラジカル開始剤Ｃを含む、水酸基を有するアクリル化合物Ａおよび、重合性カチオン開始剤Ｄを含むエポキシ化合物Ｂが光硬化する速度を硬化速度Ｘ、Ｙと定義する。硬化速度は、光照射装置（例えば浜松ホトニクス社製ＬＩＧＨＴＮＩＮＣＵＲＥスポット光源 ＬＣ８）を装着した粘弾性測定装置（例えば、アントンパール社製ＭＣＲ３０２）を用いて測定することが出来る。
<Curing speed>
In the present invention, the rate at which the acrylic compound A having a hydroxyl group containing the photopolymerizable radical initiator C and the epoxy compound B containing the polymerizable cation initiator D are photocured is defined as curing rates X and Y. The curing speed can be measured using a viscoelasticity measuring device (for example, MCR302 manufactured by Anton Paar) equipped with a light irradiation device (for example, LIGHTNINCURE spot light source LC8 manufactured by Hamamatsu Photonics).
光重合性ラジカル開始剤Ｃを含む水酸基含有アクリル化合物Ａの硬化速度Ｘ、または
前記光重合性カチオン開始剤Ｄを含むエポキシ化合物Ｂの硬化速度Ｙとの間に硬化速度の差があるため、硬化膜は凹凸形状を有する。硬化速度の比Ｙ／Ｘは、０．００５〜０．５であることが好ましく、０．００５以上とすることで塗膜の安定性を確保でき、０．５以下とすることで凹凸形状の形成に必要な硬化速度の差が得られる。より好ましい範囲は０．０１〜０．３であり、さらに好ましくは０．０５〜０．２５である。
Since there is a difference in curing speed between the curing speed X of the hydroxyl group-containing acrylic compound A containing the photopolymerizable radical initiator C or the curing speed Y of the epoxy compound B containing the photopolymerizable cationic initiator D, The film has an uneven shape. The ratio Y / X of the curing rate is preferably 0.005 to 0.5, and the stability of the coating film can be ensured by setting it to 0.005 or more. A difference in curing speed required for formation is obtained. A more preferable range is 0.01 to 0.3, and a more preferable range is 0.05 to 0.25.
以下に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。特に明記しない限り、「部」は「質量部」を表し、「％」は質量％を示す。 EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the following examples do not limit the scope of rights of the present invention. Unless otherwise specified, “part” represents “part by mass” and “%” represents mass%.
（実施例１）
水酸基を有するアクリル化合物Ａとして４−ヒドロキシブチルアクリレート（ＨＢＡ）を２０部、エポキシ化合物ＢとしてＹＬ９８３Ｕ（三菱化学株式会社製液状エポキシ）を８０部混合し、更に、光ラジカル重合開始剤としてＤＡＲＯＣＵＲ１１７３をＨＢＡ２０部に対して２．５部、ＣＰＩ−１１０ＰをＹＬ９８３Ｕ８０部に対して４部加え溶解させ、光硬化性組成物を得た。
次いで、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタラートフィルム（東洋紡社製Ａ４１００）に、アプリケーターを用いて、塗布後の塗膜の厚さが５０μｍになるように光硬化性組成物を塗布した。
活性エネルギー線照射装置（東芝社製３．６ｋＷ×２灯ＵＶ照射装置）を用いて、光源はメタルハライドランプ、出力１２０Ｗ／ｃｍ2、最大照度５００ｍＷ／ｃｍ2、積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線露光を行い硬化膜を得た。
Example 1
20 parts of 4-hydroxybutyl acrylate (HBA) is mixed as the acrylic compound A having a hydroxyl group, 80 parts of YL983U (liquid epoxy manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) is mixed as the epoxy compound B, and DAROCUR1173 is mixed with HBA20 as a radical photopolymerization initiator. 2.5 parts and 4 parts of CPI-110P with respect to 80 parts of YL983U were dissolved to obtain a photocurable composition.
Next, the photocurable composition was applied to a polyethylene terephthalate film (A4100 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm using an applicator so that the thickness of the coated film after application was 50 μm.
Using an active energy ray irradiation device (Toshiba 3.6 kW x 2 lamp UV irradiation device), the light source is a metal halide lamp, output 120 W / cm 2 , maximum illumination 500 mW / cm 2 , integrated light quantity 2000 mJ / cm 2 and UV exposure To obtain a cured film.
（実施例２〜実施例１１）
アクリル化合物Ａおよびエポキシ化合物Ｂの種類および量、光重合性ラジカル開始剤Ｃおよび光重合性カチオン開始剤Ｄの量を変えた以外は、実施例１と同様にして、光硬化性組成物および硬化膜をそれぞれ得た（表１）。
(Example 2 to Example 11)
The photocurable composition and curing were carried out in the same manner as in Example 1 except that the types and amounts of the acrylic compound A and the epoxy compound B, and the amounts of the photopolymerizable radical initiator C and the photopolymerizable cationic initiator D were changed. Each membrane was obtained (Table 1).
以下、実施例および比較例で使用した材料の略号を示す。
＜水酸基を有するアクリル化合物Ａ＞
ＨＢＡ：４−ヒドロキシブチルアクリレート
ＨＥＡ：２―ヒドロキシエチルアクリレート
ＨＰＡ：３−ヒドロキシプロピルアクリレート
ＣＨＤＭＭＡ：１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート
ビスコート＃８０２：トリペンタエリスリトールアクリレート、モノ及びジペンタエリスリトールアクリレート、ポリペンタエリスリトールアクリレート混合物（大阪有機化学工業株式会社製ビスコート＃８０２）
＜エポキシ化合物Ｂ＞
ＹＬ９８３Ｕ：液状ビスＦ型エポキシ樹脂（三菱化学社製）
ＹＸ８０００：液状水添エポキシ樹脂（三菱化学社製）
ＥＸ２１１：ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル
ＣＥＬ２０２１Ｐ：３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
＜水酸基を有しないアクリル化合物＞
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
＜光ラジカル重合開始剤＞
ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）
＜光カチオン重合開始剤＞
ＣＰＩ−１１０Ｐ：ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロホスフェート（サンアプロ社製ＣＰＩ−１１０Ｐ）
Hereinafter, abbreviations of materials used in Examples and Comparative Examples are shown.
<Acrylic compound A having a hydroxyl group>
HBA: 4-hydroxybutyl acrylate HEA: 2-hydroxyethyl acrylate HPA: 3-hydroxypropyl acrylate CHDMMA: 1,4-cyclohexanedimethanol monoacrylate biscoat # 802: tripentaerythritol acrylate, mono and dipentaerythritol acrylate, poly Pentaerythritol acrylate mixture (Biscoat # 802 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
<Epoxy compound B>
YL983U: Liquid bis F type epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation)
YX8000: Liquid hydrogenated epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation)
EX211: Neopentylglycol diglycidyl ether CEL2021P: 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl 3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate <Acrylic compound having no hydroxyl group>
TMPTA: trimethylolpropane triacrylate <photo radical polymerization initiator>
DAROCUR1173: 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (DAROCUR1173 manufactured by BASF)
<Photocationic polymerization initiator>
CPI-110P: Bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluorophosphate (CPI-110P manufactured by San Apro)
＜評価＞
硬化膜の凹凸形状、全光線透過率、ヘーズ、光沢度、防眩性、硬化速度の測定方法について説明する。
<Evaluation>
The measurement method of the uneven | corrugated shape of a cured film, a total light transmittance, haze, glossiness, anti-glare property, and a cure rate is demonstrated.
（硬化膜の凹凸形状）
硬化膜表面の「凹凸の平均高さ」、「凹凸の平均間隔」は、走査型プローブ顕微鏡（オックスフォード・インストゥルメンツ社製の製品名「アサイラムリサーチＭＦＰ−３Ｄ」等）を用いて求めた。即ち、得られた表面形状の粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さ９０μｍだけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線から縦方向に測定した最も高い山頂から１０番目までの山頂の標高（Ｙｐ）の絶対値の平均値と、最も低い谷底から１０番目までの谷底の標高（Ｙｖ）の絶対値の平均値との和を「凹凸の平均高さ」とした。
(Uneven shape of cured film)
The “average height of unevenness” and “average interval of unevenness” on the surface of the cured film were determined using a scanning probe microscope (product name “Asylum Research MFP-3D” manufactured by Oxford Instruments Inc.). That is, a reference length of 90 μm is extracted in the direction of the average line from the obtained roughness curve of the surface shape, and the elevation (Yp) from the highest peak to the tenth peak measured in the vertical direction from the average line of the extracted part (Yp ) And the average value of the absolute values of the altitudes (Yv) of the bottom valley from the lowest valley bottom to the tenth valley were defined as the “average height of the unevenness”.
また、硬化膜表面の「凹凸の平均間隔」も同様の装置を用いて求めた。即ち、得られた表面形状の９０μｍ×９０μｍの領域について、隣り合う凸部同士又は隣り合う凹部同士の間隔を測り、それらの平均値を算出することで凹凸の平均間隔を求めた。 Further, the “average interval of unevenness” on the surface of the cured film was determined using the same apparatus. That is, with respect to the 90 μm × 90 μm region of the obtained surface shape, the interval between adjacent convex portions or adjacent concave portions was measured, and the average value thereof was calculated to obtain the average interval between the concave and convex portions.
（全光線透過率、ヘーズ）
全光線透過率については、ＪＩＳ Ｋ７３７５：２００８に準拠し、ヘーズについてはＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠して日本電色工業社製ＮＤＨ−２０００ヘーズメーターを用いて測定した。
(Total light transmittance, haze)
The total light transmittance was measured in accordance with JIS K7375: 2008, and the haze was measured in accordance with JIS K7136: 2000 using an NDH-2000 haze meter manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
（光沢度）
光沢度は、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７に準拠してＢＹＫ社製マイクロトリグロスμ（測定角度６０°）を用いて測定した。
評価基準
◎：６０°光沢度が３０未満（極めて良好）
○：６０°光沢度が３０以上７５未満（良好）
△：６０°光沢度が７５以上９０未満（使用可能）
×：６０°光沢度が９０以上（不良）
(Glossiness)
The glossiness was measured using BYK's Micro Trigloss μ (measurement angle 60 °) in accordance with JIS Z8741: 1997.
Evaluation Criteria A: 60 ° gloss is less than 30 (very good)
○: 60 ° glossiness of 30 or more and less than 75 (good)
Δ: 60 ° glossiness of 75 or more and less than 90 (can be used)
×: 60 ° glossiness of 90 or more (defect)
（防眩性）
防眩性は、ルーバーの無いむきだしの蛍光灯（三菱オスラム社製ＦＨＦ３２ＥＸ−Ｎ−Ｈ）を硬化膜に写し、その正反射光での眩しさおよび蛍光灯の映り込みを目視にて以下の基準に従って評価した。
評価基準
◎：眩しさが感じられず、蛍光灯の映り込みが全くみられない（極めて良好）
○：眩しさが感じられず、蛍光灯の映り込みがわずかにみられる（良好）
△：眩しさがわずかに感じられ、蛍光灯の映り込みがわずかにみられる（使用可能）
×：眩しさが感じられ、蛍光灯の映り込みがみられる（不良）
(Anti-glare)
The anti-glare property is obtained by copying a bare fluorescent lamp with no louver (FHF32EX-N-H manufactured by Mitsubishi OSRAM) onto a cured film, and visually observing the glare in the specular reflection light and the reflection of the fluorescent lamp as follows. Evaluated according to.
Evaluation standard ◎: Dazzle is not felt and no reflection of fluorescent light is seen (very good)
○: Dazzle is not felt, and there is a slight reflection of fluorescent light (good)
△: Slight glare and slight reflection of fluorescent light (available)
X: Dazzle is felt and reflection of fluorescent light is observed (defect)
（硬化速度）
アクリル化合物Ａ１００部と光ラジカル重合開始剤ＣとしてＤＡＲＯＣＵＲ１１７３の５部とからなる混合物Ｘ’、エポキシ化合物Ｂ１００部と光カチオン重合開始剤ＤとしてＣＰＩ−１１０Ｐ３部とからなる混合物Ｙ’を、それぞれ表３に記載した配合量に従って調製した。
上記各混合物を、光照射装置（浜松ホトニクス社製ＬＩＧＨＴＮＩＮＧＣＵＲＥスポット光源 ＬＣ８）を装着した粘弾性測定装置（アントンパール社製ＭＣＲ３０２）の測定箇所に０．１ｇ乗せ、ギャップ位置まで測定治具を接近させ、測定箇所からはみ出した混合物を拭き取った後、貯蔵弾性率の測定を開始した。貯蔵弾性率が安定した事を確認した後、上記光照射装置より光照射を行いながら貯蔵弾性率が一定になるまで貯蔵弾性率を測定した。光照射条件は、空気雰囲気下、温度２５℃、相対湿度５０％にて、波長３６５ｎｍでの照度５００ｍＷ／ｃｍ2の光を、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2になるまで照射した。測定終了後、照射時間に対する貯蔵弾性率をプロットし、照射時間−貯蔵弾性率曲線のグラフを得た。得られたグラフより、光を照射してから（光照射を開始した時刻をｔ０とする）、貯蔵弾性率が一定になるまでの照射時間−貯蔵弾性率曲線の勾配と、貯蔵弾性率が一定になった勾配との交点（光照射を開始してから貯蔵弾性率が一定となった時刻）における時刻を求めた（この時刻をｔ１とした）。ｔ１−ｔ０によって算出される値（光を照射してから貯蔵弾性率が一定となるまでの時間）を光照射時間ｔとした。
混合物Ｘ’に波長３６５ｎｍでの照度５００ｍＷ／ｃｍ2の光を照射してから貯蔵弾性率が一定となるまでの時間をｔＸ、混合物Ｙ’に波長３６５ｎｍでの照度５００ｍＷ／ｃｍ2の光を照射してから貯蔵弾性率が一定となるまでの時間をｔＹ、１／ｔＸを硬化速度Ｘ、１／ｔＹを硬化速度Ｙとし、Ｙ／Ｘを算出した。
(Curing speed)
Table 3 shows a mixture X ′ composed of 100 parts of an acrylic compound A and 5 parts of DAROCUR1173 as a photoradical polymerization initiator C, and a mixture Y ′ composed of 100 parts of an epoxy compound B and 3 parts of CPI-110P as a photocationic polymerization initiator D. It was prepared according to the blending amount described in 1.
0.1 g of each of the above mixtures is placed on a measurement point of a viscoelasticity measuring device (MCR302, manufactured by Anton Paar) equipped with a light irradiation device (LIGHTNINGCURE spot light source LC8, manufactured by Hamamatsu Photonics), and a measuring jig is brought close to the gap position. After wiping off the mixture protruding from the measurement location, measurement of the storage modulus was started. After confirming that the storage elastic modulus was stable, the storage elastic modulus was measured until the storage elastic modulus became constant while irradiating light from the light irradiation device. The light irradiation conditions were as follows: light in an air atmosphere at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50% was irradiated with light having an illuminance of 500 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm until the integrated light quantity reached 1000 mJ / cm 2 . After completion of the measurement, the storage elastic modulus with respect to the irradiation time was plotted to obtain a graph of the irradiation time-storage elastic modulus curve. From the obtained graph, the gradient of the irradiation time-storage elastic modulus curve until the storage elastic modulus becomes constant after the light irradiation (the time when the light irradiation is started is assumed to be t0), and the storage elastic modulus are constant. The time at the intersection with the gradient (the time when the storage elastic modulus became constant after the start of light irradiation) was obtained (this time was defined as t1). The value calculated by t1−t0 (the time from when the light was irradiated until the storage elastic modulus became constant) was defined as the light irradiation time t.
The time from when the mixture X ′ is irradiated with light having an illuminance of 500 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm to when the storage elastic modulus becomes constant is tX, and the mixture Y ′ is irradiated with light having an illuminance of 500 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm. Then, the time until the storage elastic modulus becomes constant was set to tY, 1 / tX was set to the curing speed X, and 1 / tY was set to the curing speed Y, and Y / X was calculated.
＜測定条件＞
測定治具 ＰＰ１０ Ｄｉｓｐｏ
周波数 ｆ＝１０Ｈｚ
ギャップ ｄ＝０．０２ｍｍ
温度 ２５℃
＜光照射条件＞
波長 ３６５ｎｍ（スペクトル分布−０１Ａタイプ）
照度 ５００ｍＷ／ｃｍ2（波長３６５ｎｍ）
積算光量 １０００ｍＪ／ｃｍ2
<Measurement conditions>
Measuring jig PP10 Dispo
Frequency f = 10Hz
Gap d = 0.02mm
Temperature 25 ° C
<Light irradiation conditions>
Wavelength 365nm (spectrum distribution-01A type)
Illuminance 500 mW / cm 2 (wavelength 365 nm)
Integrated light quantity 1000mJ / cm 2
実施例１〜１１では、所定の凹凸形状を有することにより、硬化膜が防眩性を有することを確認した。一方、比較例１ではアクリルが水酸基を持つが、Ｙ／Ｘが０．００５未満であるため、充分な防眩性は得られなかった。また、比較例２では、アクリルが水酸基を持たず、Ｙ／Ｘが０．００５未満であるため、充分な防眩性は得られなかった。 In Examples 1 to 11, it was confirmed that the cured film had antiglare properties by having a predetermined uneven shape. On the other hand, in Comparative Example 1, although acrylic has a hydroxyl group, since Y / X is less than 0.005, sufficient antiglare property was not obtained. Further, in Comparative Example 2, since acrylic has no hydroxyl group and Y / X is less than 0.005, sufficient antiglare property was not obtained.
本発明によれば、無機又は有機微粒子を用いることなく、透過率が高く、高い防眩性を有する防眩性シートを提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to provide an antiglare sheet having high transmittance and high antiglare properties without using inorganic or organic fine particles.
Claims (5)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016049309A JP6844111B2 (en) | 2016-03-14 | 2016-03-14 | Photocurable composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016049309A JP6844111B2 (en) | 2016-03-14 | 2016-03-14 | Photocurable composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017165795A true JP2017165795A (en) | 2017-09-21 |
| JP6844111B2 JP6844111B2 (en) | 2021-03-17 |
Family
ID=59908771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016049309A Active JP6844111B2 (en) | 2016-03-14 | 2016-03-14 | Photocurable composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6844111B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017179161A (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 株式会社Adeka | Curable composition, manufacturing method of cured article and the cured article |
| WO2021111568A1 (en) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | Shock-absorbing film, photocurable resin composition, sheet material, and image display device |
| JP2022025619A (en) * | 2020-07-29 | 2022-02-10 | 三菱ケミカル株式会社 | Hardened film and laminate, and manufacturing method of these items |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008260879A (en) * | 2007-04-13 | 2008-10-30 | Okura Ind Co Ltd | Active energy ray-curable adhesive composition, polarizing plate using the same, and method for producing the same |
| JP2014501939A (en) * | 2010-11-10 | 2014-01-23 | エルジー・ケム・リミテッド | Optical element |
| JP2015040278A (en) * | 2013-08-23 | 2015-03-02 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | Active energy ray-polymerizable resin composition and laminate |
| JP2017082168A (en) * | 2015-10-30 | 2017-05-18 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | Optical active energy ray polymerizable adhesive and optical laminate |
-
2016
- 2016-03-14 JP JP2016049309A patent/JP6844111B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008260879A (en) * | 2007-04-13 | 2008-10-30 | Okura Ind Co Ltd | Active energy ray-curable adhesive composition, polarizing plate using the same, and method for producing the same |
| JP2014501939A (en) * | 2010-11-10 | 2014-01-23 | エルジー・ケム・リミテッド | Optical element |
| JP2015040278A (en) * | 2013-08-23 | 2015-03-02 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | Active energy ray-polymerizable resin composition and laminate |
| JP2017082168A (en) * | 2015-10-30 | 2017-05-18 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | Optical active energy ray polymerizable adhesive and optical laminate |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017179161A (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 株式会社Adeka | Curable composition, manufacturing method of cured article and the cured article |
| WO2021111568A1 (en) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | Shock-absorbing film, photocurable resin composition, sheet material, and image display device |
| JP2022025619A (en) * | 2020-07-29 | 2022-02-10 | 三菱ケミカル株式会社 | Hardened film and laminate, and manufacturing method of these items |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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